JP5650092B2 - Silicone prepreg, silicone resin plate, silicone metal-clad laminate, silicone metal base substrate and LED mounting substrate using the same - Google Patents

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Description

本発明は、プリプレグ、該プリプレグを用いたシリコーン樹脂板、シリコーン金属張積層板、シリコーン金属ベース基板およびLED実装基板に関する。   The present invention relates to a prepreg, a silicone resin plate using the prepreg, a silicone metal-clad laminate, a silicone metal base substrate, and an LED mounting substrate.

電気・電子部品や、LED(以下、発光ダイオードともいう)の実装基板としては、エポキシ樹脂をガラスクロスに含浸させた白色ガラスエポキシ基材が広く使われている。しかし、高融点の鉛フリー半田が採用されたり、部品の発熱や光の影響によりエポキシ樹脂が劣化したりするという問題がある。放熱性を目的とした基材として、絶縁層に無機フィラーを高充填したエポキシ樹脂を用いた金属ベース回路基板も放熱性の良さから使われているが、エポキシ樹脂の劣化や実装部品の半田接続信頼性で大きな課題を残している。   A white glass epoxy base material in which a glass cloth is impregnated with an epoxy resin is widely used as a mounting substrate for electric / electronic components and LEDs (hereinafter also referred to as light emitting diodes). However, there is a problem that lead-free solder having a high melting point is employed, or that the epoxy resin is deteriorated due to heat generation of parts or light. As a base material for heat dissipation, metal base circuit boards using epoxy resin with high filling of inorganic filler in the insulating layer are also used due to good heat dissipation, but deterioration of epoxy resin and solder connection of mounted parts A major issue remains in reliability.

耐熱性が要求される実装基板として、セラミックスも使われてきたが、価格が高く大型基板には対応できない。そこで、耐候性、耐熱性等の特性に優れており、種々の用途に使用されているシリコーン樹脂によるプリプレグ、積層板及び金属張積層板、金属ベース基板がLEDの実装基板または電気電子部品等の実装基板として使用することが検討されている。
しかし、従来の縮合ワニスや付加ワニスを用いて製造されるプリプレグは、取り扱いが不便で製造法が複雑であり、かつ、銅箔等の接着力が弱いという問題があった。
Ceramics have also been used as mounting substrates that require heat resistance, but they are expensive and cannot accommodate large substrates. Therefore, it has excellent characteristics such as weather resistance and heat resistance, and prepregs, laminates and metal-clad laminates, and metal base substrates that are used for various applications such as LED mounting boards or electrical / electronic components Use as a mounting substrate is under consideration.
However, prepregs produced using conventional condensation varnishes and additional varnishes have problems that they are inconvenient to handle and complicated in production method, and have a weak adhesive force such as copper foil.

LEDは、近年の地球環境問題の解決を目指した省エネルギー活動により、青色、白色のLED需要増と技術進歩に伴う一層のLEDの高輝度化が進んできていて、それに対応する周辺材料が必要とされている。   With the recent progress in energy saving activities aimed at solving global environmental problems, LED demands for blue and white LEDs have been increasing, and the brightness of LEDs has further increased along with technological advances. Has been.

なお、本発明に関する従来技術としては、例えば、下記の特許文献に記載されているものが挙げられる。   In addition, as a prior art regarding this invention, what is described in the following patent document is mentioned, for example.

特開2008−213426号公報JP 2008-213426 A 特開2011−127074号公報JP 2011-127074 A 特開2010−89493号公報JP 2010-89493 A

一般に、シリコーンプリプレグ製造のために付加硬化型のシリコーンワニス組成物を用いる場合には、プレキュアーにて該組成物をBステージ化した後、熱プレス機にて金属張積層板を作成するのが一般的であるが、プリプレグの取り扱いが不便で、充分な特性や加工性が得られないという欠点がある。   In general, when using an addition-curing type silicone varnish composition for the production of a silicone prepreg, it is common to prepare a metal-clad laminate with a hot press after the composition is B-staged with a precure. However, there are disadvantages that handling of the prepreg is inconvenient and sufficient characteristics and processability cannot be obtained.

本発明は、可視光領域の反射率が高く、しかも加熱や紫外線による劣化、変色、反射率低下が少なく、更に高い耐熱性及び放熱性、実装部品の半田接続高信頼性を有する基板材料であり、取り扱いが容易なシリコーンプリプレグ、それを使用したシリコーン樹脂板、シリコーン金属張積層板、シリコーン金属ベース基板およびLED実装基板を提供することを目的とする。   The present invention is a substrate material that has a high reflectance in the visible light region, is less susceptible to deterioration due to heating and ultraviolet rays, discoloration, and a decrease in reflectance, and has high heat resistance and heat dissipation, and high reliability of solder connection of mounted components. An object of the present invention is to provide a silicone prepreg that is easy to handle, a silicone resin plate, a silicone metal-clad laminate, a silicone metal base substrate, and an LED mounting substrate using the same.

上記課題を解決するために、本発明によれば、石英ガラスクロスに、
(A)RSiO1.5単位、R SiO単位及びR SiO(4−a−b)/2単位からなり(ここで、R、R及びRは独立に水酸基、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基及びフェニル基のいずれかを示し、Rは独立にビニル基又はアリル基を示し、aは0,1又は2で、bは1又は2で、かつa+bは2又は3である。)、
上記R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜50個である構造を含む樹脂構造のオルガノポリシロキサン、
(B)RSiO1.5単位、R SiO単位及びR SiO(4−c−d)/2単位からなり(ここで、R、R及びRは独立に上記の通りであり、cは0,1又は2で、dは1又は2で、かつc+dは2又は3である。)、
上記R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜50個である構造を含む樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン:(A)成分中のビニル基及びアリル基の合計に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子がモル比で0.1〜4.0となる量、
(C)白金族金属系触媒:有効量、ならびに
(D)充填剤:(A)及び(B)成分の合計100質量部に対して900質量部以下、
を含むシリコーン樹脂組成物を含浸、乾燥させたものであることを特徴とするシリコーンプリプレグを提供する。
In order to solve the above problems, according to the present invention, quartz glass cloth,
(A) R 1 SiO 1.5 unit, R 2 2 SiO unit and R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 unit (where R 1 , R 2 and R 3 are independent) Represents a hydroxyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group or a phenyl group, R 4 independently represents a vinyl group or an allyl group, a is 0, 1 or 2, and b is 1 or 2 And a + b is 2 or 3.)
An organopolysiloxane having a resin structure including a structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions thereof is 5 to 50;
(B) R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units and R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 units (where R 1 , R 2 and R 3 are independently As described above, c is 0, 1 or 2, d is 1 or 2, and c + d is 2 or 3.)
Organohydrogenpolysiloxane having a resin structure including a structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetition is 5 to 50: vinyl group and allyl in component (A) An amount of hydrogen atoms bonded to silicon atoms in the component (B) relative to the total of the groups in a molar ratio of 0.1 to 4.0,
(C) platinum group metal catalyst: effective amount, and (D) filler: 900 parts by mass or less with respect to a total of 100 parts by mass of components (A) and (B),
A silicone prepreg characterized by being impregnated and dried with a silicone resin composition comprising

このような本発明のシリコーンプリプレグを用いれば、可視光領域の反射率が高く、しかも加熱や紫外線による劣化、変色、反射率低下が少なく、更に高い耐熱性及び放熱性、実装部品の半田接続高信頼性を有する基板を得ることができ、特に、LED実装基板の基材として好適に用いることができる。   By using such a silicone prepreg of the present invention, the reflectance in the visible light region is high, and there is little deterioration due to heating or ultraviolet rays, discoloration, and a decrease in reflectance, and further high heat resistance and heat dissipation, high solder connection of mounted components. A substrate having reliability can be obtained, and in particular, it can be suitably used as a base material for an LED mounting substrate.

また、本発明では、前記シリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねて、加熱加圧成形することで製造され、熱伝導率が0.8W/mK以上であることを特徴とするシリコーン樹脂板を提供する。   According to the present invention, there is provided a silicone resin plate characterized by being manufactured by heating and press-molding one or more of the silicone prepregs, and having a thermal conductivity of 0.8 W / mK or more. provide.

このように、本発明のシリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねて、加熱加圧成形したシリコーン樹脂板(以下、シリコーン積層板ともいう)は、熱伝導率0.8W/mK以上を達成することができ、放熱性に優れたシリコーン樹脂板となる。   Thus, a silicone resin plate (hereinafter also referred to as a silicone laminate) obtained by heat-pressing one or a plurality of the silicone prepregs of the present invention achieves a thermal conductivity of 0.8 W / mK or more. It becomes a silicone resin plate excellent in heat dissipation.

また、この場合、前記シリコーン樹脂板は、該シリコーン樹脂板に対して平行な方向の線膨張係数が−100〜100℃の範囲にわたって30ppm/℃以下であることが好ましい。   In this case, the silicone resin plate preferably has a linear expansion coefficient in a direction parallel to the silicone resin plate of 30 ppm / ° C. or less over a range of −100 to 100 ° C.

このように、本発明のシリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねて、加熱加圧成形したシリコーン樹脂板は、耐熱性に優れたものとなる。   Thus, the silicone resin plate obtained by heating and press-molding one or a plurality of the silicone prepregs of the present invention is excellent in heat resistance.

また、本発明では、前記シリコーン樹脂板を使用して作製されたものであることを特徴とするLED実装基板を提供する。   Moreover, in this invention, it is produced using the said silicone resin board, The LED mounting board characterized by the above-mentioned is provided.

このように、本発明のシリコーンプリプレグは、加工性に優れ、各種高輝度LED実装基板材料として好適に使用でき、本発明のシリコーン樹脂板を使用して作製されたLED実装基板は耐熱性、放熱性、耐変色性ならびに、実装部品の半田接続信頼性に優れ、LED輝度も長寿命である。   As described above, the silicone prepreg of the present invention is excellent in processability and can be suitably used as various high-brightness LED mounting substrate materials. The LED mounting substrate manufactured using the silicone resin plate of the present invention has heat resistance and heat dissipation. , Discoloration resistance and solder connection reliability of mounted parts, LED brightness is also long life.

また、本発明では、前記シリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねたものの両面に金属箔を重ねて、加熱加圧成形して製造されるものであることを特徴とするシリコーン金属張積層板を提供する。   According to the present invention, there is provided a silicone metal-clad laminate characterized by being manufactured by stacking metal foils on both sides of one or a plurality of the above-described silicone prepregs, and heating and pressing. provide.

このように、本発明のシリコーンプリプレグは、金属箔との接着性が良好であり、電子・電気部品等の実装基板の作製に好適に用いることができる。   As described above, the silicone prepreg of the present invention has good adhesion to a metal foil, and can be suitably used for producing a mounting substrate such as an electronic / electrical component.

また、本発明では、前記シリコーン金属張積層板を使用して作製されたものであることを特徴とするLED実装基板を提供する。   Moreover, in this invention, it is produced using the said silicone metal clad laminated board, The LED mounting board characterized by the above-mentioned is provided.

このように、金属箔との接着性が保たれたシリコーン金属張積層板は、LED実装基板の作製に好適に用いることができる。   As described above, the silicone metal-clad laminate in which the adhesiveness to the metal foil is maintained can be suitably used for producing an LED mounting substrate.

また、本発明では、前記シリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねたものの片面に金属箔を、残る片面に金属板を重ねて、加熱加圧成形して製造されるものであることを特徴とするシリコーン金属ベース基板を提供する。   In the present invention, the silicone prepreg is produced by heating and pressing with a metal foil on one side and a metal plate on the other side of one or more of the silicone prepregs. A silicone metal base substrate is provided.

このように、本発明のシリコーンプリプレグは、金属箔及び金属板との接着性が良好であり、電子・電気部品等の実装基板の作製に好適に用いることができる。   Thus, the silicone prepreg of the present invention has good adhesion to metal foils and metal plates, and can be suitably used for production of mounting substrates such as electronic / electrical components.

また、前記金属板は、予め接着助剤で処理されたものであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said metal plate is what was processed with the adhesion | attachment adjuvant previously.

このように、予め接着助剤で処理された金属板を用いると、シリコーンプリプレグとの接着性を向上させることができるために好ましい。   Thus, it is preferable to use a metal plate that has been treated with an adhesion aid in advance, because the adhesion to the silicone prepreg can be improved.

また、本発明では、前記シリコーン金属ベース基板を使用して作製されたものであることを特徴とするLED実装基板を提供する。   According to the present invention, there is provided an LED mounting substrate manufactured using the silicone metal base substrate.

このように、金属箔及び金属板との接着性が保たれたシリコーン金属ベース基板は、LED実装基板の作製に好適に用いることができる。   Thus, the silicone metal base substrate in which the adhesiveness with the metal foil and the metal plate is maintained can be suitably used for the production of the LED mounting substrate.

従来の成形装置でも容易に成形可能な、本発明の付加硬化型シリコーンプリプレグを使用することにより、従来は存在しなかった、耐熱性、放熱性、耐変色性に優れた新規のLED用基材を容易に得ることができ、高輝度LED実装基板を容易に得ることができる。
本発明のシリコーンプリプレグは、硬質のシリコーン樹脂を石英ガラスクロスに含浸したプリプレグにもかかわらず、可撓性に優れ取り扱いが容易である。特に、該シリコーン樹脂組成物を溶剤に溶解・分散された状態で石英ガラスクロスに含浸させ、該ガラスクロスから前記溶剤を蒸発させて除去した後は、該組成物が可塑性の固体若しくは半固体であるため、Aステージ状態であってもプリプレグとして取り扱うことができ、該組成物を含浸させたプリプレグの保管も容易であり、熱プレスでの成形を容易に行うことができるという利点がある。更に、本発明のシリコーンプリプレグは加工性に優れるため、各種高輝度LED実装基板の作製に好適に用いることができる。また、作製されたLED実装基板は耐熱性、放熱性、耐変色性ならびに、実装部品の半田接続信頼性に優れ、LED輝度も長寿命である。
By using the addition-curable silicone prepreg of the present invention that can be easily molded with conventional molding equipment, a new LED base material with excellent heat resistance, heat dissipation, and discoloration resistance that did not exist before Can be easily obtained, and a high-luminance LED mounting substrate can be easily obtained.
The silicone prepreg of the present invention is excellent in flexibility and easy to handle despite the prepreg obtained by impregnating a quartz glass cloth with a hard silicone resin. In particular, after the silicone resin composition is impregnated into a quartz glass cloth in a state dissolved and dispersed in a solvent and the solvent is removed by evaporation from the glass cloth, the composition is a plastic solid or semi-solid. Therefore, even in the A stage state, it can be handled as a prepreg, the prepreg impregnated with the composition can be easily stored, and there is an advantage that molding by hot pressing can be easily performed. Furthermore, since the silicone prepreg of the present invention is excellent in processability, it can be suitably used for production of various high-brightness LED mounting substrates. Further, the produced LED mounting substrate is excellent in heat resistance, heat dissipation, discoloration resistance, and solder connection reliability of mounted components, and the LED brightness is also long-lived.

本発明のLED実装基板の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the LED mounting board of this invention.

以下、本発明につき更に詳しく説明する。なお、本明細書において、「室温」とは15〜30℃の温度を意味する。「半固体」とは、可塑性を持ちながら流動性を持たない性質を有し、温度・応力・歪みなどの外部からのストレスによって液体又は固体の性質を呈する状態であることを意味する。また、Phはフェニル基、Meはメチル基、Etはエチル基、Viはビニル基を示す。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In the present specification, “room temperature” means a temperature of 15 to 30 ° C. “Semi-solid” means having a property of having plasticity but not fluidity and exhibiting liquid or solid properties due to external stress such as temperature, stress, and strain. Ph represents a phenyl group, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and Vi represents a vinyl group.

[シリコーン樹脂組成物]
本発明のシリコーン樹脂組成物は、下記(A)〜(D)成分を含み、本発明のシリコーン樹脂板を製造するのに好適に使用され、特に、LED実装基板を製造するのに好適に使用される。本発明の組成物は、室温で可塑性の固体もしくは半固体であることが好ましく、室温で可塑性の固体であることがより好ましい。
以下、本発明のシリコーン樹脂組成物に含まれる各成分について説明する。
[Silicone resin composition]
The silicone resin composition of the present invention contains the following components (A) to (D) and is preferably used for manufacturing the silicone resin plate of the present invention, and particularly preferably used for manufacturing an LED mounting board. Is done. The composition of the present invention is preferably a plastic solid or semi-solid at room temperature, and more preferably a plastic solid at room temperature.
Hereinafter, each component contained in the silicone resin composition of the present invention will be described.

以下、本発明について更に詳細に説明する。
−(A)樹脂構造のオルガノポリシロキサン−
本発明の組成物の重要な構成成分の一つである(A)成分は、RSiO1.5単位、R SiO単位及びR SiO(4−a−b)/2単位からなり(ここで、R、R及びRは独立に水酸基、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を示し、Rは独立にビニル基又はアリル基を示し、aは0,1又は2で、bは1又は2で、かつa+bは2又は3である。)、
上記R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜50個、好ましくは8〜40個、更に好ましくは10〜35個である構造を部分的に含有する樹脂構造(即ち、三次元網状構造)のオルガノポリシロキサンである。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
-(A) Organopolysiloxane with resin structure-
The component (A), which is one of the important components of the composition of the present invention, includes R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units and R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 units (wherein R 1 , R 2 and R 3 independently represent a hydroxyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group or a phenyl group, and R 4 independently represents a vinyl group or an allyl group. A is 0, 1 or 2, b is 1 or 2, and a + b is 2 or 3.)
At least a part of the above R 2 2 SiO unit is continuously repeated, and partially contains a structure having a repetition number of 5 to 50, preferably 8 to 40, more preferably 10 to 35. It is an organopolysiloxane having a resin structure (that is, a three-dimensional network structure).

なお、上記のR SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜50個である構造とは、下記一般式(1):

Figure 0005650092
(ここで、mは5〜50の整数)
で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサン連鎖構造を意味する。 The structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions thereof is 5 to 50 is the following general formula (1):
Figure 0005650092
(Where m is an integer from 5 to 50)
The linear diorganopolysiloxane chain structure represented by these is meant.

(A)成分のオルガノポリシロキサン中に存在するR SiO単位全体の少なくとも一部、好ましくは50モル%以上(50〜100モル%)、特には80モル%以上(80〜100モル%)が、分子中でかかる一般式(1)で表される連鎖構造を形成していることが好ましい。 (A) At least a part of the entire R 2 2 SiO unit present in the organopolysiloxane of the component, preferably 50 mol% or more (50 to 100 mol%), particularly 80 mol% or more (80 to 100 mol%) However, it is preferable to form a chain structure represented by the general formula (1) in the molecule.

(A)成分の分子中においては、R SiO単位はポリマー分子を直鎖状に延伸するように働き、RSiO1.5単位はポリマー分子を分岐させ或いは三次元網状化させる。R SiO(4−a−b)/2単位の中のR(独立にビニル基又はアリル基)は、後述する(B)成分が有するR SiO(4−c−d)/2単位のケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)とヒドロシリル化付加反応することにより、本発明の組成物を硬化させる役割を果たす。 In the molecule of the component (A), the R 2 2 SiO unit works to stretch the polymer molecule in a straight line, and the R 1 SiO 1.5 unit branches the polymer molecule or forms a three-dimensional network. R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 R 4 (independently a vinyl group or an allyl group) in the unit is R 3 c H d SiO (4- It serves to cure the composition of the present invention by hydrosilylation addition reaction with hydrogen atoms (ie, SiH groups) bonded to silicon atoms of cd) / 2 units.

(A)成分を構成する必須の三種のシロキサン単位のモル比、即ち、RSiO1.5単位:R SiO単位:R SiO(4−a−b)/2単位のモル比は、90〜24:75〜9:50〜1(但し、合計で100)、特に70〜28:70〜20:10〜2(但し、合計で100)であることが得られる硬化物の特性上好ましい。 (A) Molar ratio of three essential siloxane units constituting the component, that is, R 1 SiO 1.5 units: R 2 2 SiO units: R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 units The molar ratio of 90 to 24:75 to 9:50 to 1 (provided that the total is 100), particularly 70 to 28:70 to 20:10 to 2 (provided that the total is 100). It is preferable from the characteristics of the product.

また、この(A)成分のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量は3,000〜1,000,000、特に10,000〜100,000の範囲にあると、該ポリマーは固体もしくは半固体状であり作業性、硬化性などから好適である。   When the weight average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) of this component (A) is in the range of 3,000 to 1,000,000, particularly 10,000 to 100,000, the polymer It is solid or semi-solid and is suitable from the viewpoint of workability and curability.

このような樹脂構造のオルガノポリシロキサンは、各単位の原料となる化合物を、生成ポリマー中で上記三種のシロキサン単位が所要のモル比となるように組み合わせ、例えば酸の存在下で共加水分解縮合を行うことによって合成することができる。   Organopolysiloxane with such a resin structure is a combination of compounds that are raw materials for each unit such that the three siloxane units in the resulting polymer have the required molar ratio, for example, cohydrolytic condensation in the presence of an acid. Can be synthesized.

ここで、RSiO1.5単位の原料としては、MeSiCl、EtSiCl、PhSiCl、プロピルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン等のクロロシラン類、これらそれぞれのクロロシラン類に対応するメトキシシラン類などのアルコキシシラン類等を例示することができる。 Here, as raw materials for R 1 SiO 1.5 unit, MeSiCl 3 , EtSiCl 3 , PhSiCl 3 , chlorosilanes such as propyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, and alkoxy such as methoxysilane corresponding to each of these chlorosilanes Silanes etc. can be illustrated.

SiO単位の原料としては、
ClMeSiO(MeSiO)SiMeCl、
ClMeSiO(MeSiO)(PhMeSiO)SiMeCl、
ClMeSiO(MeSiO)(PhSiO)SiMeCl、
(HO)MeSiO(MeSiO)SiMe(OH)、
(HO)MeSiO(MeSiO)(PhMeSiO)SiMe(OH)、
(HO)MeSiO(MeSiO)(PhSiO)SiMe(OH)、
(MeO)MeSiO(MeSiO)SiMe(OMe)、
(MeO)MeSiO(MeSiO)(PhMeSiO)SiMe(OMe)、
(MeO)MeSiO(MeSiO)(PhSiO)SiMe(OMe)
(ここで、j=3〜48の整数(平均値)、k=0〜47の整数(平均値)、L=1〜48の整数(平均値)、かつk+L=3〜48の整数(平均値))
等を例示することができる。
As a raw material of the R 2 2 SiO unit,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) j SiMe 2 Cl,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) k (PhMeSiO) L SiMe 2 Cl,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) k (Ph 2 SiO) L SiMe 2 Cl,
(HO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) j SiMe 2 (OH),
(HO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) k (PhMeSiO) L SiMe 2 (OH),
(HO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) k (Ph 2 SiO) L SiMe 2 (OH),
(MeO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) j SiMe 2 (OMe),
(MeO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) k (PhMeSiO) L SiMe 2 (OMe),
(MeO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) k (Ph 2 SiO) L SiMe 2 (OMe)
(Where j = an integer of 3 to 48 (average value), an integer of k = 0 to 47 (average value), an integer of L = 1 to 48 (average value), and an integer of k + L = 3 to 48 (average value))
Etc. can be illustrated.

また、R SiO(4−a−b)/2単位は、RSiO単位、R SiO0.5単位、R SiO単位及びR SiO0.5単位から選ばれる1種のシロキサン単位又は2種以上のシロキサン単位の組み合わせであることを示す。その原料としては、MeViSiCl、MeViSiCl、PhViSiCl、PhViSiCl等のクロロシラン類、これらのクロロシラン類のそれぞれに対応するメトキシシラン類などのアルコキシシラン類等を例示することができる。 R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 units are R 3 R 4 SiO units, R 3 2 R 4 SiO 0.5 units, R 4 2 SiO units and R 3 R 4 2. 1 type of siloxane units selected from 0.5 units of SiO or a combination of two or more types of siloxane units. Examples of the raw material include chlorosilanes such as Me 2 ViSiCl, MeViSiCl 2 , Ph 2 ViSiCl, and PhViSiCl 2 , and alkoxysilanes such as methoxysilane corresponding to each of these chlorosilanes.

なお、本発明において、(A)成分のオルガノポリシロキサンを上記の原料化合物の共加水分解及び縮合により製造する際には、RSiO1.5単位、R SiO単位、R SiO(4−a−b)/2単位又はこれらの2種以上の組み合わせ中に、シラノール基を有するシロキサン単位が含まれる。(A)成分のオルガノポリシロキサンは、かかるシラノール基含有シロキサン単位を、通常、全シロキサン単位に対して10モル%以下(0〜10モル%)程度含有することがある。上記シラノール基含有シロキサン単位としては、例えば、(HO)SiO1.5単位、R2’(HO)SiO単位、(HO)SiO単位、R(HO)SiO単位、R (HO)SiO0.5単位、R3’(HO)SiO0.5単位、R(HO)SiO0.5単位(ここで、R2’およびR3’は水酸基以外の前記でRおよびRについて定義した通りの基であり、Rは前記定義の通りである。)が挙げられる。尚、R、R及びRにおける水酸基とは、上記シラノール基含有シロキサン単位中の水酸基を意味する。 In the present invention, when the organopolysiloxane of component (A) is produced by cohydrolysis and condensation of the above raw material compounds, R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, R 3 a R A siloxane unit having a silanol group is contained in 4 b SiO 2 (4-ab) / 2 units or a combination of two or more thereof. The organopolysiloxane of component (A) usually contains about 10 mol% or less (0 to 10 mol%) of such silanol group-containing siloxane units with respect to the total siloxane units. Examples of the silanol group-containing siloxane unit include (HO) SiO 1.5 unit, R 2 ′ (HO) SiO unit, (HO) 2 SiO unit, R 4 (HO) SiO unit, and R 4 2 (HO). SiO 0.5 unit, R 3 ′ R 4 (HO) SiO 0.5 unit, R 4 (HO) 2 SiO 0.5 unit (where R 2 ′ and R 3 ′ are R 2 other than a hydroxyl group, And R 3 is as defined above, and R 4 is as defined above. Note that the hydroxyl groups in R 1, R 2 and R 3, means a hydroxyl group in the silanol-containing siloxane units.

−(B)樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン−
本発明の組成物の重要な構成成分の一つである(B)成分は、RSiO1.5単位、R SiO単位及びR SiO(4−c−d)/2単位からなり(ここで、R、R及びRは独立に上記の通りであり、cは0,1又は2で、dは1又は2で、かつc+dは2又は3である。)、
上記R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜50個、好ましくは8〜40個、更に好ましくは10〜35個である直鎖状のシロキサン構造を部分的に含有する樹脂構造(即ち、三次元網状構造)のオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。
-(B) Organohydrogenpolysiloxane with resin structure-
(B) component which is one of the important components of the composition of the present invention includes R 1 SiO 1.5 unit, R 2 2 SiO unit and R 3 c H d SiO (4-cd) / 2. Consisting of units (wherein R 1 , R 2 and R 3 are independently as described above, c is 0, 1 or 2, d is 1 or 2, and c + d is 2 or 3). ,
A linear siloxane structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions is 5 to 50, preferably 8 to 40, more preferably 10 to 35. It is an organohydrogenpolysiloxane having a partially contained resin structure (that is, a three-dimensional network structure).

なお、R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜50個である構造とは、(A)成分に関して上述した通り、(B)成分中に存在するR SiO単位の少なくとも一部、好ましくは50モル%以上(50〜100モル%)、特には80モル%以上(80〜100モル%)が、(B)成分の分子中において前記一般式(1)で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサン連鎖構造を形成していることを意味する。 The structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions is 5 to 50 is present in the component (B) as described above with respect to the component (A). At least a part of the R 2 2 SiO units, preferably 50 mol% or more (50 to 100 mol%), particularly 80 mol% or more (80 to 100 mol%) is the above-mentioned general formula in the molecule of the component (B). It means that the linear diorganopolysiloxane chain structure represented by (1) is formed.

(B)成分の分子中においても、R SiO単位はポリマー分子を直鎖状に延伸するように働き、RSiO1.5単位はポリマー分子を分岐させ或いは三次元網状化させる。R SiO(4−c−d)/2単位の中のケイ素に結合した水素原子は、上述した(A)成分が有するアルケニル基とヒドロシリル化付加反応することにより本発明の組成物を硬化させる役割を果たす。 Also in the molecule of the component (B), the R 2 2 SiO unit works so as to extend the polymer molecule in a straight line, and the R 1 SiO 1.5 unit branches the polymer molecule or forms a three-dimensional network. The hydrogen atom bonded to silicon in the R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 unit undergoes a hydrosilylation addition reaction with the alkenyl group of the component (A) described above, whereby the composition of the present invention. Plays a role in curing.

(B)成分を構成する必須の三種のシロキサン単位のモル比、即ち、RSiO1.5単位:R SiO単位:R SiO(4−c−d)/2単位のモル比は、90〜24:75〜9:50〜1、特に70〜28:70〜20:10〜2(但し、合計で100)であることが得られる硬化物の特性上好ましい。 (B) The molar ratio of the three essential siloxane units constituting the component, that is, R 1 SiO 1.5 units: R 2 2 SiO units: R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 units The molar ratio is preferably 90 to 24:75 to 9:50 to 1, particularly 70 to 28:70 to 20:10 to 2 (however, a total of 100) in view of the properties of the cured product.

また、この(B)成分のGPCによるポリスチレン換算重量平均分子量は3,000〜1,000,000、特に10,000〜100,000の範囲にあることが作業性、硬化物の特性などの点から好適である。   Further, the weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC of the component (B) is in the range of 3,000 to 1,000,000, particularly 10,000 to 100,000, in terms of workability and cured product characteristics. To preferred.

このような樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、各単位の原料となる化合物を、生成ポリマー中で上記三種のシロキサン単位が所要のモル比となるように組み合わせ、例えば酸の存在下で共加水分解を行うことによって合成することができる。   The organohydrogenpolysiloxane having such a resin structure is obtained by combining the compounds used as raw materials for each unit so that the above three types of siloxane units have a required molar ratio in the produced polymer, for example, in the presence of an acid. It can be synthesized by decomposing.

ここで、RSiO1.5単位の原料としては、MeSiCl、EtSiCl、PhSiCl、プロピルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン等のクロロシラン類、これらそれぞれのクロロシラン類に対応するメトキシシラン類などのアルコキシシラン等を例示することができる。 Here, as raw materials for R 1 SiO 1.5 unit, MeSiCl 3 , EtSiCl 3 , PhSiCl 3 , chlorosilanes such as propyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, and alkoxy such as methoxysilane corresponding to each of these chlorosilanes A silane etc. can be illustrated.

SiO単位の原料としては、
ClMeSiO(MeSiO)SiMeCl、
ClMeSiO(MeSiO)(PhMeSiO)SiMeCl、
ClMeSiO(MeSiO)(PhSiO)SiMeCl、
(HO)MeSiO(MeSiO)SiMe(OH)、
(HO)MeSiO(MeSiO)(PhMeSiO)SiMe(OH)、
(HO)MeSiO(MeSiO)(PhSiO)SiMe(OH)、
(MeO)MeSiO(MeSiO)SiMe(OMe)、
(MeO)MeSiO(MeSiO)(PhMeSiO)SiMe(OMe)、
(MeO)MeSiO(MeSiO)(PhSiO)SiMe(OMe)
(ここで、j=3〜48の整数(平均値)、k=0〜47の整数(平均値)、L=1〜48の整数(平均値)、かつk+L=3〜48の整数(平均値))
等を例示することができる。
As a raw material of the R 2 2 SiO unit,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) j SiMe 2 Cl,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) k (PhMeSiO) L SiMe 2 Cl,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) k (Ph 2 SiO) L SiMe 2 Cl,
(HO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) j SiMe 2 (OH),
(HO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) k (PhMeSiO) L SiMe 2 (OH),
(HO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) k (Ph 2 SiO) L SiMe 2 (OH),
(MeO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) j SiMe 2 (OMe),
(MeO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) k (PhMeSiO) L SiMe 2 (OMe),
(MeO) Me 2 SiO (Me 2 SiO) k (Ph 2 SiO) L SiMe 2 (OMe)
(Where j = an integer of 3 to 48 (average value), an integer of k = 0 to 47 (average value), an integer of L = 1 to 48 (average value), and an integer of k + L = 3 to 48 (average value))
Etc. can be illustrated.

また、R SiO(4−c−d)/2単位は、RHSiO単位、R HSiO0.5単位、HSiO単位及びRSiO0.5単位から選ばれる1種のシロキサン単位又は2種以上のシロキサン単位の組み合わせであることを示す。その原料としては、MeHSiCl、MeHSiCl、PhHSiCl、PhHSiCl等のクロロシラン類、これらのクロロシラン類のそれぞれに対応するメトキシシラン類などのアルコキシシラン類等を例示することができる。 The R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 unit is selected from R 3 HSiO units, R 3 2 HSiO 0.5 units, H 2 SiO units, and R 3 H 2 SiO 0.5 units. 1 type of siloxane units or a combination of two or more types of siloxane units. Examples of the raw material include chlorosilanes such as Me 2 HSiCl, MeHSiCl 2 , Ph 2 HSiCl, and PhHSiCl 2 , and alkoxysilanes such as methoxysilanes corresponding to each of these chlorosilanes.

なお、本発明において、(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンを上記の原料化合物の共加水分解及び縮合により製造する際には、RSiO1.5単位、R SiO単位、R SiO(4−c−d)/2単位又はこれらの2種以上の組み合わせ中に、シラノール基を有するシロキサン単位が含まれる。(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、かかるシラノール基含有シロキサン単位を、通常、全シロキサン単位に対して10モル%以下(0〜10モル%)程度含有することがある。上記シラノール基含有シロキサン単位としては、例えば、(HO)SiO1.5単位、R2’(HO)SiO単位、(HO)SiO単位、H(HO)SiO単位、H(HO)SiO0.5単位、R3’H(HO)SiO0.5単位、H(HO)SiO0.5単位(ここで、R2’およびR3’は水酸基以外の前記でRおよびRについて定義した通りの基である。)が挙げられる。尚、R、R及びRにおける水酸基とは、上記シラノール基含有シロキサン単位中の水酸基を意味する。 In the present invention, when the organohydrogenpolysiloxane of component (B) is produced by co-hydrolysis and condensation of the above raw material compounds, R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, R 3 A siloxane unit having a silanol group is contained in c H d SiO (4-cd) / 2 unit or a combination of two or more thereof. The organohydrogenpolysiloxane as the component (B) may usually contain about 10 mol% or less (0 to 10 mol%) of such silanol group-containing siloxane units with respect to the total siloxane units. Examples of the silanol group-containing siloxane unit include (HO) SiO 1.5 unit, R 2 ′ (HO) SiO unit, (HO) 2 SiO unit, H (HO) SiO unit, and H 2 (HO) SiO 0. .5 units, R 3 'H (HO) SiO 0.5 units, H (HO) 2 SiO 0.5 units (wherein, R 2' for and R 3 'R 2 and R 3 in the non-hydroxyl Group as defined). Note that the hydroxyl groups in R 1, R 2 and R 3, means a hydroxyl group in the silanol-containing siloxane units.

(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、(A)成分中のビニル基及びアリル基の合計に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)がモル比で0.1〜4.0となる量、特に好ましくは0.5〜3.0となる量、更に好ましくは0.8〜2.0となる量であることが好ましい。0.1未満では硬化反応が進行せず、シリコーン硬化物を得ることが困難であり、4.0を超えると未反応のSiH基が硬化物中に多量に残存するため、硬化物の物性が経時的に変化する原因となる。   The blending amount of the organohydrogenpolysiloxane of component (B) is such that the hydrogen atoms (SiH groups) bonded to silicon atoms in component (B) with respect to the total of vinyl groups and allyl groups in component (A) are in molar ratio. It is preferable that the amount is 0.1 to 4.0, particularly preferably 0.5 to 3.0, and more preferably 0.8 to 2.0. If it is less than 0.1, the curing reaction does not proceed and it is difficult to obtain a silicone cured product. If it exceeds 4.0, a large amount of unreacted SiH groups remain in the cured product. Causes changes over time.

本発明では、接着性付与のために(A)及び(B)成分の一方又は両方がシラノール基を含有するものであることが好ましい。該シラノール基の量は、(A)成分のオルガノポリシロキサンまたは(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンにおいて全シロキサン単位に対して10モル%以下(0〜10モル%)程度含有することがある。   In the present invention, it is preferable that one or both of the components (A) and (B) contain a silanol group for imparting adhesion. The amount of the silanol group may be about 10 mol% or less (0 to 10 mol%) based on the total siloxane units in the organopolysiloxane of component (A) or the organohydrogenpolysiloxane of component (B). .

−(C)白金族金属系触媒−
この触媒成分は、本発明の組成物の付加硬化反応を生じさせるために配合されるものであり、白金系、パラジウム系、ロジウム系のものがある。該触媒としてはヒドロシリル化反応を促進するものとして従来公知であるいずれのものも使用することができる。コスト等を考慮して、白金、白金黒、塩化白金酸などの白金系のもの、例えば、HPtCl・pHO,KPtCl,KHPtCl・pHO,KPtCl,KPtCl・pHO,PtO・pHO,PtCl・pHO,PtCl,HPtCl・pHO(ここで、pは、正の整数)等や、これらと、オレフィン等の炭化水素、アルコール又はビニル基含有オルガノポリシロキサンとの錯体等を例示することができる。これらの触媒は1種単独でも、2種以上の組み合わせでも使用することができる。
-(C) Platinum group metal catalyst-
This catalyst component is blended in order to cause an addition curing reaction of the composition of the present invention, and there are platinum-based, palladium-based, and rhodium-based ones. As the catalyst, any conventionally known catalyst for promoting the hydrosilylation reaction can be used. In consideration of cost and the like, platinum-based materials such as platinum, platinum black, and chloroplatinic acid, such as H 2 PtCl 6 · pH 2 O, K 2 PtCl 6 , KHPtCl 6 · pH 2 O, K 2 PtCl 4 , K 2 PtCl 4 · pH 2 O, PtO 2 · pH 2 O, PtCl 4 · pH 2 O, PtCl 2 , H 2 PtCl 4 · pH 2 O (where p is a positive integer), etc. And a complex with a hydrocarbon such as olefin, alcohol, or vinyl group-containing organopolysiloxane. These catalysts can be used singly or in combination of two or more.

(C)成分の配合量は、硬化のための有効量でよく、通常、前記(A)成分及び(B)成分の合計量に対して白金族金属として質量換算で0.1〜500ppm、特に好ましくは0.5〜100ppmの範囲である。   The compounding amount of the component (C) may be an effective amount for curing, and is usually 0.1 to 500 ppm in terms of mass as a platinum group metal with respect to the total amount of the component (A) and the component (B). Preferably it is the range of 0.5-100 ppm.

−(D)充填剤−
(D)成分の充填剤は、本発明のシリコーン積層板の線膨張率を下げ且つ該積層板の熱伝導率や強度を向上させることを目的として、本発明の組成物に添加される。(D)成分としては、公知の充填剤であればいずれのものであってもよく、例えば、沈降シリカ、ヒュームドシリカ、溶融シリカ、溶融球状シリカ、結晶性シリカ等のシリカ類、ヒュームド二酸化チタン、炭酸カルシュウム、ケイ酸カルシュウム、二酸化チタン、酸化第二鉄、カーボンブラック、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、三酸化アンチモン、酸化ジルコン、硫化亜鉛、酸化マグネシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。補強性無機質充填剤としては、例えば、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、二酸化チタン、酸化第二鉄、カーボンブラック、酸化亜鉛等が挙げられる。(D)成分は1種単独でも2種類以上を組み合わせても使用することができる。
-(D) Filler-
The filler of component (D) is added to the composition of the present invention for the purpose of lowering the linear expansion coefficient of the silicone laminate of the present invention and improving the thermal conductivity and strength of the laminate. The component (D) may be any known filler, for example, silicas such as precipitated silica, fumed silica, fused silica, fused spherical silica, crystalline silica, fumed titanium dioxide. , Calcium carbonate, calcium silicate, titanium dioxide, ferric oxide, carbon black, aluminum oxide, zinc oxide, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, antimony trioxide, zircon oxide, zinc sulfide, magnesium oxide, barium sulfate Etc. Examples of the reinforcing inorganic filler include calcium carbonate, calcium silicate, titanium dioxide, ferric oxide, carbon black, and zinc oxide. Component (D) can be used alone or in combination of two or more.

(D)成分の配合量は、得られるシリコーン積層板の線膨張率および放熱特性の観点から、(A)および(B)成分の合計100質量部当り900質量部以下(0〜900質量部)の範囲であり、600質量部以下(0〜600質量部)の範囲であることがより好ましい。   The blending amount of the component (D) is 900 parts by mass or less (0 to 900 parts by mass) per 100 parts by mass in total of the components (A) and (B) from the viewpoint of the linear expansion coefficient and heat dissipation characteristics of the resulting silicone laminate. It is more preferable that it is the range of 600 mass parts or less (0-600 mass parts).

本発明のシリコーンプリプレグを、LED実装基板の製造に用いる場合には、下記の(D1)及び場合により(D2)成分を含有する充填剤が(D)成分として好適に用いられる。
・(D1)無機質充填剤
(D1)成分は(D2)成分以外の無機質充填剤であり、本発明のLED実装基板の線膨張率を下げ且つ該基板の熱伝導率を向上させることを目的として、本発明の組成物に添加される。(D1)成分としては、通常、シリコーン樹脂に配合されものを使用することができ、公知の無機質充填剤であればいずれのものであってもよく、例えば、溶融シリカ、溶融球状シリカ、結晶性シリカ等のシリカ類、酸化アルミニウム、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、三酸化アンチモン等が挙げられ、特に、溶融シリカ、溶融球状シリカ、結晶性シリカ、酸化アルミニウムが好ましい。(D1)成分は1種類単独でも2種類以上を組み合わせても使用することができる。(D1)成分の平均粒径及び形状は特に限定されない。(D1)成分の平均粒径は、通常0.5〜50μm、得られるシリコーン樹脂組成物の成形性および流動性からみて、好ましくは1〜10μm、更に好ましくは1〜5μmである。なお、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。
(D1)成分の無機質充填剤は、樹脂と無機質充填剤との結合強度を強くするため、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などのカップリング剤で予め表面処理したものであってもよい。このようなカップリング剤としては、例えば、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β―(3、4―エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン;N−β(アミノエチル)γ―アミノプロピルトリメトキシシラン、γ―アミノプロピルトリエトキシシラン、N―フェニル―γ―アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン;γ―メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどを用いることが好ましい。なお、表面処理に用いるカップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではない。
また、(D1)成分の無機質充填剤は、該無機質充填剤を有機溶剤に分散させたスラリー状態でも本発明の組成物に添加することができる。
When the silicone prepreg of the present invention is used for the production of an LED mounting substrate, the following (D1) and optionally a filler containing a component (D2) are preferably used as the component (D).
-(D1) Inorganic filler The (D1) component is an inorganic filler other than the (D2) component, for the purpose of lowering the linear expansion coefficient of the LED mounting substrate of the present invention and improving the thermal conductivity of the substrate. Added to the composition of the present invention. As the component (D1), those blended in a silicone resin can be used, and any known inorganic filler may be used. For example, fused silica, fused spherical silica, crystalline Examples thereof include silicas such as silica, aluminum oxide, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, antimony trioxide, and the like, and fused silica, fused spherical silica, crystalline silica, and aluminum oxide are particularly preferable. The component (D1) can be used alone or in combination of two or more. The average particle diameter and shape of the component (D1) are not particularly limited. The average particle diameter of the component (D1) is usually 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm, from the viewpoint of moldability and fluidity of the resulting silicone resin composition. In addition, an average particle diameter can be calculated | required as mass average value D50 (or median diameter) in the particle size distribution measurement by a laser beam diffraction method.
The inorganic filler as component (D1) may be surface-treated with a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent in order to increase the bond strength between the resin and the inorganic filler. Examples of such a coupling agent include epoxy functional groups such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Alkoxyfunctional silanes; amino-functional alkoxysilanes such as N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane; γ-mercaptopropyl It is preferable to use a mercapto functional alkoxysilane such as trimethoxysilane. The amount of coupling agent used for the surface treatment and the surface treatment method are not particularly limited.
Moreover, the inorganic filler of the component (D1) can be added to the composition of the present invention even in a slurry state in which the inorganic filler is dispersed in an organic solvent.

(D1)成分の配合量は、得られるLED実装基板の線膨張率および熱伝導率の観点から、(A)および(B)成分の合計100質量部あたり600質量部以下(0〜600質量部)の範囲であることが好ましく、10〜600質量部、特には50〜500質量部の範囲であることがより好ましい。   The blending amount of the component (D1) is 600 parts by mass or less (0 to 600 parts by mass) per 100 parts by mass in total of the components (A) and (B) from the viewpoint of the linear expansion coefficient and the thermal conductivity of the obtained LED mounting substrate. ), Preferably 10 to 600 parts by mass, more preferably 50 to 500 parts by mass.

・(D2)白色顔料
(D2)成分は白色顔料であり、得られる硬化物を白色にするための白色着色剤として用いられる。(D2)成分は、得られるLED実装基板が光を反射することが必要である場合には、該シリコーン実装基板の光反射率を上げることを目的として、本発明の組成物に添加されるが、特に光を反射することを必要としないLED実装基板を得る場合には本発明の組成物に添加されないこともある。ここで、「シリコーン実装基板が光を反射することが必要である」とは、後述のとおり、該シリコーン実装基板は光反射率が全可視光領域にわたって好ましくは80%以上(即ち、80〜100%)であることをいう。(D2)成分としては、従来から一般的に使用されている公知の白色顔料であれば制限なく使用できるが、好適には二酸化チタン、酸化ジルコン、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、硫酸バリウムまたはこれらの2種以上の組み合わせが用いられる。該組み合わせとしては、二酸化チタンと具体的に例示された他の白色顔料の少なくとも1種との組み合わせが挙げられる。これらのうち、二酸化チタン、酸化マグネシウムがより好ましく、二酸化チタンが更により好ましい。二酸化チタンの結晶形はルチル型、アナタース型、ブルカイト型のどれでも構わないが、ルチル型が好ましく使用される。
白色顔料は、平均粒径が0.05〜10.0μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜5.0μmである。また、(D2)成分の白色顔料と(A)および(B)成分の樹脂成分ならびに(D1)成分の無機質充填剤との混合性および分散性を高めるため、(D2)成分の白色顔料を、Alの水酸化物、Siの水酸化物などの水酸化物等で予め表面処理してもよい。なお、平均粒径は、上述のとおり、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。(D2)成分は1種類単独でも2種類以上を組み合わせても使用することができる。
-(D2) White pigment (D2) A component is a white pigment, and is used as a white coloring agent for making the hardened | cured material obtained white. The component (D2) is added to the composition of the present invention for the purpose of increasing the light reflectivity of the silicone mounting substrate when the obtained LED mounting substrate needs to reflect light. In particular, when obtaining an LED mounting substrate that does not need to reflect light, it may not be added to the composition of the present invention. Here, “the silicone mounting substrate needs to reflect light” means that, as described later, the silicone mounting substrate preferably has a light reflectance of 80% or more over the entire visible light region (that is, 80 to 100). %). As the component (D2), any known white pigment that has been conventionally used can be used without limitation, but preferably titanium dioxide, zircon oxide, zinc sulfide, zinc oxide, magnesium oxide, barium sulfate or A combination of two or more of these is used. Examples of the combination include a combination of titanium dioxide and at least one other white pigment specifically exemplified. Of these, titanium dioxide and magnesium oxide are more preferred, and titanium dioxide is even more preferred. The crystal form of titanium dioxide may be any of the rutile type, anatase type, and brookite type, but the rutile type is preferably used.
The white pigment preferably has an average particle size of 0.05 to 10.0 μm, more preferably 0.1 to 5.0 μm. In order to improve the mixing and dispersibility of the white pigment of component (D2), the resin component of components (A) and (B) and the inorganic filler of component (D1), the white pigment of component (D2) Surface treatment may be performed in advance with a hydroxide such as Al hydroxide or Si hydroxide. In addition, as above-mentioned, an average particle diameter can be calculated | required as the mass average value D50 (or median diameter) in the particle size distribution measurement by a laser beam diffraction method. The component (D2) can be used alone or in combination of two or more.

(D2)成分の配合量は、(A)および(B)成分の合計100質量部当り1〜300質量部であることが好ましく、3〜200質量部であることがより好ましく、10〜150質量部であることが特に好ましい。該配合量が1質量部未満では、得られる硬化物の白色度が十分とはならない場合がある。該配合量が300質量部を超えると、本発明のLED実装基板の線膨張率を下げ且つ該基板の放熱特性を向上させることを目的として添加される(D1)成分の無機質充填剤の全無機質充填剤に占める割合が低くなりすぎる場合がある。なお、(D2)成分の白色顔料の量は、シリコーン樹脂組成物全体において1〜50質量%の範囲であることが好ましく、5〜30質量%の範囲であることがより好ましく、10〜30質量%の範囲であることが更により好ましい。   The amount of component (D2) is preferably 1 to 300 parts by weight, more preferably 3 to 200 parts by weight, and more preferably 10 to 150 parts by weight per 100 parts by weight of the total of components (A) and (B). Part is particularly preferred. When the blending amount is less than 1 part by mass, the whiteness of the obtained cured product may not be sufficient. When the blending amount exceeds 300 parts by mass, the total inorganic content of the inorganic filler of component (D1) added for the purpose of lowering the linear expansion coefficient of the LED mounting substrate of the present invention and improving the heat dissipation characteristics of the substrate. The proportion of the filler may be too low. In addition, it is preferable that the quantity of the white pigment of (D2) component is the range of 1-50 mass% in the whole silicone resin composition, It is more preferable that it is the range of 5-30 mass%, 10-30 mass Even more preferably, it is in the range of%.

―その他の成分―
本発明の組成物には、上述した(A)〜(D)成分以外にも、必要に応じて、それ自体公知の各種の添加剤を配合することができる。
―Other ingredients―
In addition to the components (A) to (D) described above, various additives known per se can be blended with the composition of the present invention as necessary.

・接着助剤
本発明の組成物には、接着性を付与するため、接着助剤(接着性付与剤)を必要に応じて添加できる。接着助剤は1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。接着助剤としては、例えば、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)、ケイ素原子に結合したアルケニル基(例えばSi−CH=CH基)、アルコキシシリル基(例えばトリメトキシシリル基)、エポキシ基(例えばグリシドキシプロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基)から選ばれる官能性基を少なくとも2種、好ましくは2種又は3種含有する直鎖状又は環状のケイ素原子数4〜50個、好ましくは4〜20個程度のオルガノシロキサンオリゴマー、下記一般式(2)で示されるオルガノオキシシリル変性イソシアヌレート化合物、その加水分解縮合物(オルガノシロキサン変性イソシアヌレート化合物)及びこれらの2種以上の組み合わせなどが挙げられる。
-Adhesion aid An adhesive aid (adhesion imparting agent) can be added to the composition of the present invention as necessary in order to impart adhesiveness. The adhesion assistant can be used alone or in combination of two or more. Examples of the adhesion assistant include a hydrogen atom (SiH group) bonded to a silicon atom in one molecule, an alkenyl group (for example, Si—CH═CH 2 group) bonded to a silicon atom, and an alkoxysilyl group (for example, trimethoxysilyl). Group) and an epoxy group (for example, glycidoxypropyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group) a linear or cyclic silicon atom containing at least two, preferably two or three functional groups 4 to 50, preferably about 4 to 20 organosiloxane oligomers, organooxysilyl-modified isocyanurate compound represented by the following general formula (2), hydrolysis condensate thereof (organosiloxane-modified isocyanurate compound) and these Or a combination of two or more thereof.

Figure 0005650092
(式中、Rは、下記式(3)
Figure 0005650092
(In the formula, R 5 represents the following formula (3)

Figure 0005650092
(ここで、Rは水素原子又は炭素原子数1〜6の一価炭化水素基であり、vは1〜6、特に1〜4の整数である。)
で表される有機基、又は脂肪族不飽和結合を含有する一価炭化水素基であるが、Rの少なくとも1個は式(3)の有機基である。)
Figure 0005650092
(Here, R 6 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and v is an integer of 1 to 6, particularly 1 to 4.)
Or a monovalent hydrocarbon group containing an aliphatic unsaturated bond, at least one of R 5 is an organic group of the formula (3). )

一般式(2)におけるRの脂肪族不飽和結合を含有する一価炭化水素基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等の炭素原子数2〜8、特に2〜6のアルケニル基、シクロヘキセニル基等の炭素原子数6〜8のシクロアルケニル基などが挙げられる。また、式(3)におけるRの一価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、上記Rについて例示したアルケニル基及びシクロアルケニル基、さらにフェニル基等のアリール基などの炭素原子数1〜8、特に1〜6の一価炭化水素基が挙げられ、好ましくはアルキル基である。 Examples of the monovalent hydrocarbon group containing an aliphatic unsaturated bond represented by R 5 in the general formula (2) include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, a pentenyl group, and a hexenyl group. And a cycloalkenyl group having 6 to 8 carbon atoms, such as an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, particularly a cyclohexenyl group, and the like. Examples of the monovalent hydrocarbon group for R 6 in the formula (3) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. C 1-8, especially 1-6 monovalent hydrocarbon groups such as alkyl groups, cycloalkyl groups such as cyclohexyl groups, alkenyl groups and cycloalkenyl groups exemplified for R 5 above, and aryl groups such as phenyl groups. And preferably an alkyl group.

さらに、接着助剤としては、1,5−ビス(グリシドキシプロピル)−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、並びに、下記式に示される化合物が例示される。   Furthermore, examples of the adhesion assistant include 1,5-bis (glycidoxypropyl) -1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and compounds represented by the following formula.

Figure 0005650092
(式中、g及びhは各々0〜50の範囲の整数であって、しかもg+hが2〜50、好ましくは4〜20を満足するものである。)
Figure 0005650092
(In the formula, g and h are each integers in the range of 0 to 50, and g + h satisfies 2 to 50, preferably 4 to 20.)

Figure 0005650092
Figure 0005650092

Figure 0005650092
Figure 0005650092

上記の有機ケイ素化合物の内、得られる硬化物に特に良好な接着性をもたらす化合物は、一分子中にケイ素原子結合アルコキシ基と、アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素原子(SiH基)とを有する有機ケイ素化合物である。   Among the above-mentioned organosilicon compounds, compounds that provide particularly good adhesion to the resulting cured product are organic compounds having a silicon atom-bonded alkoxy group and an alkenyl group or silicon atom-bonded hydrogen atom (SiH group) in one molecule. It is a silicon compound.

接着助剤の配合量は、(A)成分100質量部に対して、通常10質量部以下(即ち、0〜10質量部)、好ましくは0.1〜8質量部、より好ましくは0.2〜5質量部程度である。該配合量が多すぎると硬化物の硬度に悪影響を及ぼしたり表面タック性を高めたりする恐れがある。   The compounding amount of the adhesion assistant is usually 10 parts by mass or less (that is, 0 to 10 parts by mass), preferably 0.1 to 8 parts by mass, more preferably 0.2 to 100 parts by mass of the component (A). About 5 parts by mass. If the amount is too large, the hardness of the cured product may be adversely affected or surface tackiness may be increased.

・硬化抑制剤
本発明で用いるシリコーン樹脂組成物には必要に応じて適宜硬化抑制剤を配合することができる。硬化抑制剤は1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。硬化抑制剤としては、例えば、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンのようなビニル基高含有オルガノポリシロキサン、トリアリルイソシアヌレート、アルキルマレエート、アセチレンアルコール類及びそのシラン変性物及びシロキサン変性物、ハイドロパーオキサイド、テトラメチルエチレンジアミン、ベンゾトリアゾール及びこれらの混合物からなる群から選ばれる化合物等が挙げられる。硬化抑制剤は(A)成分100質量部当り通常0.001〜1.0質量部、好ましくは0.005〜0.5質量部添加される。
-Cure inhibitor A cure inhibitor can be suitably mix | blended with the silicone resin composition used by this invention as needed. The curing inhibitor can be used singly or in combination of two or more. Examples of the curing inhibitor include, for example, organopolysiloxanes having a high vinyl group such as tetramethyltetravinylcyclotetrasiloxane, triallyl isocyanurate, alkyl maleate, acetylene alcohols and their silane-modified products and siloxane-modified products, Examples thereof include compounds selected from the group consisting of oxide, tetramethylethylenediamine, benzotriazole, and mixtures thereof. The curing inhibitor is usually added in an amount of 0.001 to 1.0 part by mass, preferably 0.005 to 0.5 part by mass, per 100 parts by mass of the component (A).

−調製−
本発明で用いるシリコーン樹脂組成物は、所要の成分を均一に混合することによって調製される。通常は、硬化が進行しないように2液に分けて保存され、使用時に2液を混合して硬化を行う。勿論、前述したアセチレンアルコール等の硬化抑制剤を少量添加して1液として用いることもできる。また、本発明のシリコーン樹脂組成物は、(A)〜(C)成分を均一に混合してベース組成物を得て、このベース組成物にトルエン、キシレン、ヘプタン等の溶剤を加えた後、更に(D)成分を添加することにより、溶液または分散液として調製してもよい。
-Preparation-
The silicone resin composition used in the present invention is prepared by uniformly mixing required components. Usually, it is stored in two liquids so that the curing does not proceed, and the two liquids are mixed and cured at the time of use. Of course, a small amount of the above-mentioned curing inhibitor such as acetylene alcohol can be added and used as one liquid. In addition, the silicone resin composition of the present invention is obtained by uniformly mixing the components (A) to (C) to obtain a base composition, and adding a solvent such as toluene, xylene, heptane to the base composition, Furthermore, you may prepare as a solution or a dispersion liquid by adding (D) component.

[シリコーンプリプレグ]
本発明のシリコーンプリプレグは、上記(A)〜(D)成分を含有してなるシリコーン樹脂組成物を溶剤に溶解・分散された状態で石英ガラスクロスに含浸させ、次に、該石英ガラスクロスを乾燥して、前記溶剤を蒸発させて除去し得ることができる。
[Silicone prepreg]
The silicone prepreg of the present invention is impregnated into a quartz glass cloth in a state where the silicone resin composition containing the components (A) to (D) is dissolved and dispersed in a solvent. Upon drying, the solvent can be removed by evaporation.

−溶剤−
溶剤は、上述したシリコーン樹脂組成物を溶解・分散させることができ、かつ、該組成物が未硬化または半硬化の状態に保持される温度で蒸発させることができるものであれば特に限定されず、例えば、沸点が50〜200℃、好ましくは80〜150℃の溶剤が挙げられる。本発明のLED装置用プリプレグを製造する場合には、上述したシリコーン樹脂組成物を溶解・分散させることができ、かつ、該組成物が未硬化または半硬化の状態に保持される温度で蒸発させることができるものであれば特に限定されず、例えば、沸点が50〜150℃、好ましくは60〜100℃の溶剤が挙げられる。溶剤の具体例としては、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系非極性溶剤;エーテル類等が挙げられる。溶剤の使用量は、上述したシリコーン樹脂組成物が溶解・分散し、得られた溶液または分散液を石英ガラスクロスに含浸させることができる量であれば、特に制限されず、該シリコーン樹脂組成物100質量部に対して、好ましくは、10〜200質量部、より好ましくは20〜100質量部である。LED装置用シリコーンプリプレグを製造する場合には、上述したシリコーン樹脂組成物が溶解・分散し、得られた溶液または分散液を石英ガラスクロスに含浸させることができる量であれば、特に制限されず、該シリコーン樹脂組成物100質量部に対して、好ましくは、10〜200質量部、より好ましくは50〜100質量部である。
-Solvent-
The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve and disperse the above-described silicone resin composition and can be evaporated at a temperature at which the composition is maintained in an uncured or semi-cured state. For example, the solvent whose boiling point is 50-200 degreeC, Preferably it is 80-150 degreeC is mentioned. When the prepreg for an LED device of the present invention is produced, the above-described silicone resin composition can be dissolved and dispersed and evaporated at a temperature at which the composition is maintained in an uncured or semi-cured state. The solvent is not particularly limited as long as it can be used, and examples thereof include a solvent having a boiling point of 50 to 150 ° C, preferably 60 to 100 ° C. Specific examples of the solvent include hydrocarbon nonpolar solvents such as toluene, xylene, hexane, and heptane; ethers and the like. The amount of the solvent used is not particularly limited as long as the above-described silicone resin composition can be dissolved and dispersed and the obtained solution or dispersion can be impregnated into quartz glass cloth, and the silicone resin composition is not limited. Preferably it is 10-200 mass parts with respect to 100 mass parts, More preferably, it is 20-100 mass parts. When producing a silicone prepreg for an LED device, there is no particular limitation as long as the above-described silicone resin composition can be dissolved and dispersed and the obtained solution or dispersion can be impregnated into quartz glass cloth. The amount is preferably 10 to 200 parts by mass, more preferably 50 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silicone resin composition.

そして、石英ガラスクロスを上述したシリコーン樹脂組成物の溶液または分散液に含浸させ、乾燥炉中で好ましくは50〜150℃、より好ましくは60〜120℃で溶剤を除去することにより、シリコーンプリプレグを得る。本発明のシリコーンプリプレグは、硬質のシリコーン樹脂を石英ガラスクロスに含浸したプリプレグにもかかわらず、可撓性に優れ取り扱いが容易である。特に、該シリコーン樹脂組成物を溶剤に溶解・分散された状態で石英ガラスクロスに含浸させ、該ガラスクロスから前記溶剤を蒸発させて除去した後のシリコーンプリプレグは、保管が容易であり、熱プレスでの成型を容易に行うことができるという利点がある。本発明のシリコーンプリプレグは加工性に優れ、各種高輝度LED実装基板として好適に使用できる。また、このLED実装基板は耐熱性、放熱性、耐変色性ならびに、実装部品の半田接続信頼性に優れ、LED輝度も長寿命である。   Then, the silica glass cloth is impregnated with the above-described solution or dispersion of the silicone resin composition, and the solvent is removed preferably in a drying furnace at 50 to 150 ° C., more preferably 60 to 120 ° C. obtain. The silicone prepreg of the present invention is excellent in flexibility and easy to handle despite the prepreg obtained by impregnating a quartz glass cloth with a hard silicone resin. In particular, the silicone prepreg after impregnating quartz glass cloth with the silicone resin composition dissolved and dispersed in a solvent and evaporating and removing the solvent from the glass cloth is easy to store and hot press There is an advantage that molding can be easily performed. The silicone prepreg of the present invention is excellent in processability and can be suitably used as various high-brightness LED mounting substrates. Moreover, this LED mounting board is excellent in heat resistance, heat dissipation, discoloration resistance, and solder connection reliability of mounted components, and the LED brightness is also long-lived.

また、上記(A)〜(D)成分を含むシリコーン樹脂組成物は、石英ガラスに含浸させ乾燥させることで、無アルカリガラスクロス、高引張強度のTガラスクロスを使用する場合に比べて、アルカリ分の溶出が全くないため、シリコーン樹脂中のシロキサン結合を損なうことがなく、それによってシリコーンプリプレグと金属との接着性を低下させることがない。したがって、金属箔との接着性が優れるプリプレグを得ることができるため、金属箔との接着性が保たれたシリコーン金属張積層板やシリコーン金属ベース基板を得ることができる。しかも、石英ガラスは熱膨張係数が小さく、耐熱性が高く、熱伝導率も良いので、極めて高品質のシリコーンプリプレグを形成することができる。   Further, the silicone resin composition containing the components (A) to (D) is impregnated with alkali glass cloth and high tensile strength T glass cloth by impregnating quartz glass and drying. Since there is no elution of the minute, the siloxane bond in the silicone resin is not impaired, and thereby the adhesion between the silicone prepreg and the metal is not lowered. Therefore, since a prepreg having excellent adhesion to the metal foil can be obtained, a silicone metal-clad laminate or a silicone metal base substrate that maintains the adhesion to the metal foil can be obtained. In addition, quartz glass has a small coefficient of thermal expansion, high heat resistance, and good thermal conductivity, so that an extremely high quality silicone prepreg can be formed.

[シリコーン樹脂板]
本発明のシリコーン樹脂板は、上述した(A)〜(D)成分を有するシリコーン樹脂組成物を石英ガラスクロスに含浸、乾燥させたシリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねたものを、加熱加圧成形したものである。
[Silicone resin plate]
The silicone resin plate of the present invention is prepared by heating one or a plurality of laminated silicone prepregs impregnated with quartz glass cloth and dried with the silicone resin composition having the components (A) to (D) described above. It is pressure-molded.

本発明のシリコーン樹脂板は、該シリコーン樹脂板に対して平行な方向(以下XY軸方向という)の線膨張係数が−100〜100℃の範囲にわたって好ましくは30ppm/℃以下、より好ましくは20ppm/℃以下である。また、本発明のシリコーン樹脂板は、熱伝導率0.8W/mK以上(25℃)を達成することができ、放熱性に優れたシリコーン樹脂板となる。   The silicone resin plate of the present invention preferably has a linear expansion coefficient in a direction parallel to the silicone resin plate (hereinafter referred to as XY axis direction) in the range of −100 to 100 ° C., preferably 30 ppm / ° C. or less, more preferably 20 ppm / It is below ℃. Further, the silicone resin plate of the present invention can achieve a thermal conductivity of 0.8 W / mK or more (25 ° C.), and becomes a silicone resin plate excellent in heat dissipation.

−シリコーン樹脂板の製造方法−
本発明のシリコーン樹脂板は、
上記(A)〜(D)成分を含有してなるシリコーン樹脂組成物を溶剤に溶解・分散された状態で石英ガラスクロスに含浸させ、
次に、該石英ガラスクロスから前記溶剤を蒸発させて除去し、プリプレグを得て、次に、得られたプリプレグを絶縁層の厚みに応じた枚数を重ね、加熱加圧硬化(成形)させることにより得ることができる。ここで、(D)成分として、(A)及び(B)成分の合計100質量部に対して600質量部以下(0〜600質量部)の(D1)成分と、場合により(A)及び(B)成分の合計100質量部に対して1〜300質量部の(D2)成分とを含有する充填剤を用いることにより、本発明のLED実装基板用シリコーン樹脂板を得ることができる。
-Manufacturing method of silicone resin plate-
The silicone resin plate of the present invention is
A quartz glass cloth is impregnated with the silicone resin composition containing the components (A) to (D) dissolved and dispersed in a solvent,
Next, the solvent is evaporated and removed from the quartz glass cloth to obtain a prepreg, and then the obtained prepreg is stacked in a number corresponding to the thickness of the insulating layer and cured by heating and pressing (molding). Can be obtained. Here, as the component (D), the component (D1) of 600 parts by mass or less (0 to 600 parts by mass) with respect to a total of 100 parts by mass of the components (A) and (B), and optionally (A) and ( By using a filler containing 1 to 300 parts by mass of the component (D2) with respect to 100 parts by mass of the total component B), the silicone resin plate for an LED mounting substrate of the present invention can be obtained.

[シリコーン金属張積層板]
また、本発明では、上記シリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねたものの両面に金属箔を重ねて、加熱加圧成形したものであるシリコーン金属張積層板を提供する。具体的には、上記シリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねたものの両面に金属箔を重ねて、5〜50MPaの圧力、70〜180℃の温度の範囲で真空プレス機等を用いて加熱加圧成形により金属張積層板が製造される。
金属箔としては特に限定されないが、電気的、経済的に銅箔が好ましく用いられる。この金属張積層板をサブトラクト法や穴あけ加工などの通常用いられる方法により加工することで印刷配線板を得ることができる。
[Silicone metal-clad laminate]
In addition, the present invention provides a silicone metal-clad laminate obtained by heating and pressing a metal foil on both sides of one or a plurality of the above-described silicone prepregs. Specifically, one or a plurality of the above-mentioned silicone prepregs are laminated with metal foil on both sides, and heated with a vacuum press or the like at a pressure of 5 to 50 MPa and a temperature of 70 to 180 ° C. A metal-clad laminate is produced by pressure forming.
Although it does not specifically limit as metal foil, Copper foil is used preferably electrically and economically. A printed wiring board can be obtained by processing this metal-clad laminate by a commonly used method such as subtracting or drilling.

[シリコーン金属ベース基板]
また、本発明では、シリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねたものの片面に金属箔を、残る片面に金属板を重ねて、加熱加圧成形して製造されるものであることを特徴とするシリコーン金属ベース基板を提供する。
本発明の金属ベース基板は、銅箔等の金属箔、プリプレグから成形された絶縁層、金属板で構成される。銅箔と金属板の間に必要厚さに応じた絶縁層として、プリプレグ枚数を重ね、前記同様の加熱加圧で製造される。
金属板は、特に限定されないが、放熱性や絶縁層との接着性から、アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケルおよびそれらの合金が好ましく選択され、熱伝導性、重量および価格の問題からアルミニウムおよびアルミニウム合金が好ましく用いられる。更に絶縁層との接着性を改善させる表面処理を必要により、予め金属板に施すことができる。金属板の厚みは、特に限定されないが0.3〜4.0mmが好ましく用いられる。
[Silicone metal base substrate]
Moreover, in the present invention, one or more of the silicone prepregs are stacked, and the metal foil is stacked on one side, and the metal plate is stacked on the other side, and is manufactured by heating and pressing. A silicone metal base substrate is provided.
The metal base substrate of the present invention includes a metal foil such as a copper foil, an insulating layer formed from a prepreg, and a metal plate. As the insulating layer according to the required thickness between the copper foil and the metal plate, the number of prepregs is stacked and manufactured by the same heat and pressure as described above.
The metal plate is not particularly limited, but aluminum, copper, iron, zinc, nickel and alloys thereof are preferably selected from the viewpoint of heat dissipation and adhesion to the insulating layer, and aluminum and copper are considered from the viewpoint of thermal conductivity, weight and price. Aluminum alloys are preferably used. Furthermore, if necessary, a surface treatment for improving the adhesion to the insulating layer can be applied to the metal plate in advance. Although the thickness of a metal plate is not specifically limited, 0.3-4.0 mm is used preferably.

尚、上記本発明のシリコーン樹脂板、シリコーン金属張積層板及びシリコーン金属ベース基板において、プリプレグから成形される石英ガラスクロスとシリコーン樹脂からなる絶縁層の厚さは、本発明のシリコーン樹脂板、シリコーン金属箔張積層板及びシリコーン金属ベース基板の用途等に応じて適宜選択すればよく、特に限定されないが、好ましくは20〜2,000μm、より好ましくは50〜1,000μmである。   In the silicone resin plate, silicone metal-clad laminate, and silicone metal base substrate of the present invention, the thickness of the insulating layer made of quartz glass cloth and silicone resin formed from the prepreg is the same as that of the silicone resin plate, silicone of the present invention. What is necessary is just to select suitably according to the use etc. of a metal foil tension laminated board and a silicone metal base board, Although it does not specifically limit, Preferably it is 20-2,000 micrometers, More preferably, it is 50-1,000 micrometers.

[LED実装基板]
また、本発明では、上記のシリコーン樹脂板、シリコーン金属張積層板、シリコーン金属ベース基板を、LED用基材として使用して作製されたものであることを特徴とするLED実装基板を提供する。
このような本発明のLED実装基板は、LED用基材と、該基材上に実装されたLEDチップとを備える。前記LED用基材の厚さは、該高輝度LED用基材の用途や該プリプレグの製造に用いる石英ガラスクロスの厚さ等に応じて適宜選択すればよく、特に限定されないが、好ましくは50〜2,000μm、より好ましくは60〜1,000μmである。
[LED mounting board]
The present invention also provides an LED mounting substrate produced by using the above-described silicone resin plate, silicone metal-clad laminate, and silicone metal base substrate as LED base materials.
Such an LED mounting substrate of the present invention includes an LED base material and an LED chip mounted on the base material. The thickness of the substrate for LED may be appropriately selected according to the use of the substrate for high-brightness LED, the thickness of the quartz glass cloth used for the production of the prepreg, and the like. ˜2,000 μm, more preferably 60 to 1,000 μm.

図1は本発明のシリコーン樹脂板を使用したLED実装基板の一例を示す断面図である。図1に示すLED実装基板1において、本発明のシリコーン樹脂板(シリコーン樹脂積層板)2上には陽極と陰極とからなる電極パターン3が作製され、電極パターン3の一方の電極にダイボンディングペースト4を介してLEDチップ5がダイボンディングされている。LEDチップ5と電極パターン3の他方の電極との間にはボンディングワイヤー6が接続されている。電極パターン3の一部、LEDチップ5およびボンディングワイヤー6は透明封止体7によって封止されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an LED mounting substrate using the silicone resin plate of the present invention. In the LED mounting substrate 1 shown in FIG. 1, an electrode pattern 3 composed of an anode and a cathode is formed on a silicone resin plate (silicone resin laminate) 2 of the present invention, and a die bonding paste is applied to one electrode of the electrode pattern 3. LED chip 5 is die-bonded via 4. A bonding wire 6 is connected between the LED chip 5 and the other electrode of the electrode pattern 3. A part of the electrode pattern 3, the LED chip 5 and the bonding wire 6 are sealed with a transparent sealing body 7.

電極パターン3は、公知の方法で作製すれば良い。例えば、本発明の、シリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねたものの片面又は両面に銅箔を重ねて、加熱加圧成形して製造される銅張積層基板に対してエッチング等を行うことにより、シリコーン樹脂板2(絶縁層)上に電極パターン3を作製することができる。ダイボンディングペースト4としては、例えば、銀ペースト等が挙げられる。ボンディングワイヤー6としては、例えば、金線等が挙げられる。透明封止体7は、例えば、シリコーン封止剤、エポキシ封止剤等の公知の封止剤を、適宜所望の形状に成型して、硬化させることにより設けることができる。   What is necessary is just to produce the electrode pattern 3 by a well-known method. For example, by performing etching or the like on a copper-clad laminated substrate manufactured by heating and press-molding a copper foil on one side or both sides of one or a plurality of silicon prepregs of the present invention, which are laminated. The electrode pattern 3 can be produced on the silicone resin plate 2 (insulating layer). Examples of the die bonding paste 4 include a silver paste. An example of the bonding wire 6 is a gold wire. The transparent sealing body 7 can be provided by, for example, forming a known sealing agent such as a silicone sealing agent or an epoxy sealing agent into a desired shape and curing it.

以下、合成例、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記例で重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算値である。   EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example, an Example, and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example. In the following examples, the weight average molecular weight is a polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC).

(合成例1)
−ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A1)−
PhSiClで示されるオルガノシラン:1142.1g(87.1モル%)、ClMeSiO(MeSiO)33SiMeCl:529g(3.2モル%)、MeViSiCl:84.6g(9.7モル%)をトルエン溶媒に溶解後、水中に滴下し、共加水分解し、更に水洗、アルカリ洗浄にて中和、脱水後、溶剤をストリップし、ビニル基含有樹脂(A1)を合成した。この樹脂は、重量平均分子量62,000、融点60℃の固体であった。このもののビニル基含有量は、0.05モル/100gである。
(Synthesis Example 1)
-Vinyl group-containing organopolysiloxane resin (A1)-
Organosilane represented by PhSiCl 3 : 1142.1 g (87.1 mol%), ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) 33 SiMe 2 Cl: 529 g (3.2 mol%), MeViSiCl 2 : 84.6 g (9. 7 mol%) was dissolved in a toluene solvent, dropped into water, co-hydrolyzed, neutralized by water washing and alkali washing, dehydrated, and the solvent was stripped to synthesize a vinyl group-containing resin (A1). This resin was a solid having a weight average molecular weight of 62,000 and a melting point of 60 ° C. The vinyl group content of this product is 0.05 mol / 100 g.

(合成例2)
−ヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B1)−
PhSiClで示されるオルガノシラン:1142.1g(87.1モル%)、ClMeSiO(MeSiO)33SiMeCl:529g(3.2モル%)、MeHSiCl:69g(9.7モル%)をトルエン溶媒に溶解後、水中に滴下し、共加水分解し、更に水洗、アルカリ洗浄にて中和、脱水後、溶剤をストリップし、ヒドロシリル基含有樹脂(B1)を合成した。この樹脂は、重量平均分子量58,000、融点58℃の固体であった。このもののヒドロシリル基含有量は、0.05モル/100gである。
(Synthesis Example 2)
-Hydrosilyl group-containing organopolysiloxane resin (B1)-
Organosilane represented by PhSiCl 3 : 1142.1 g (87.1 mol%), ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) 33 SiMe 2 Cl: 529 g (3.2 mol%), MeHSiCl 2 : 69 g (9.7 mol) %) Was dissolved in a toluene solvent, dropped into water, co-hydrolyzed, neutralized by water washing and alkali washing, dehydrated, and then the solvent was stripped to synthesize a hydrosilyl group-containing resin (B1). This resin was a solid having a weight average molecular weight of 58,000 and a melting point of 58 ° C. The hydrosilyl group content of this product is 0.05 mol / 100 g.

(合成例3)
−ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A2)−
PhSiClで示されるオルガノシラン:1142.1g(87.1モル%)、ClMeSiO(MeSiO)33SiMeCl:529g(3.2モル%)、MeViSiCl:72.3g(9.7モル%)をトルエン溶媒に溶解後、水中に滴下し、共加水分解し、更に水洗、アルカリ洗浄にて中和、脱水後、溶剤をストリップし、ビニル基含有樹脂(A2)を合成した。この樹脂は、重量平均分子量63,000、融点63℃の固体であった。このもののビニル基含有量は、0.05モル/100gである。
(Synthesis Example 3)
-Vinyl group-containing organopolysiloxane resin (A2)-
Organosilane represented by PhSiCl 3 : 1142.1 g (87.1 mol%), ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) 33 SiMe 2 Cl: 529 g (3.2 mol%), Me 2 ViSiCl: 72.3 g (9 0.7 mol%) was dissolved in a toluene solvent, dropped into water, cohydrolyzed, neutralized by water washing and alkali washing, dehydrated, and then the solvent was stripped to synthesize a vinyl group-containing resin (A2). . This resin was a solid having a weight average molecular weight of 63,000 and a melting point of 63 ° C. The vinyl group content of this product is 0.05 mol / 100 g.

(合成例4)
−ヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B2)−
PhSiClで示されるオルガノシラン:1142.1g(87.1モル%)、ClMeSiO(MeSiO)33SiMeCl:529g(3.2モル%)、MeHSiCl:56.7g(9.7モル%)をトルエン溶媒に溶解後、水中に滴下し、共加水分解し、更に水洗、アルカリ洗浄にて中和、脱水後、溶剤をストリップし、ヒドロシリル基含有樹脂(B2)を合成した。この樹脂は、重量平均分子量57,000、融点56℃の固体であった。このもののヒドロシリル基含有量は、0.05モル/100gである。
(Synthesis Example 4)
-Hydrosilyl group-containing organopolysiloxane resin (B2)-
Organosilane represented by PhSiCl 3 : 1142.1 g (87.1 mol%), ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) 33 SiMe 2 Cl: 529 g (3.2 mol%), Me 2 HSiCl: 56.7 g (9 0.7 mol%) was dissolved in a toluene solvent, dropped into water, co-hydrolyzed, neutralized by water washing and alkali washing, dehydrated, stripped of the solvent, and a hydrosilyl group-containing resin (B2) was synthesized. . This resin was a solid having a weight average molecular weight of 57,000 and a melting point of 56 ° C. The hydrosilyl group content of this product is 0.05 mol / 100 g.

(実施例1)
合成例1で得られたビニル基含有樹脂(A1):189g、合成例2で得られたヒドロシリル基含有樹脂(B1):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸の1質量%オクチルアルコール溶液:0.1gを加え、60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌してベース組成物を得た。このベース組成物に、下記式で表される接着助剤6gと溶剤としてトルエンを400g加え、さらにアルミナ(商品名:アドマファインAO―502、平均粒子径:約0.6μm、(株)アドマテックス製)を473gと酸化チタン(商品名:PF−691、平均粒子径:約0.2μm、石原産業製)47gとを加えて、シリコーン樹脂組成物のトルエン分散液を調製した。

Figure 0005650092
Example 1
Vinyl group-containing resin (A1) obtained in Synthesis Example 1: 189 g, hydrosilyl group-containing resin (B1) obtained in Synthesis Example 2: 189 g, acetylene alcohol-based ethynylcyclohexanol as a reaction inhibitor: 0.2 g, A 1 mass% octyl alcohol solution of chloroplatinic acid: 0.1 g was added, and the mixture was thoroughly stirred with a planetary mixer heated to 60 ° C. to obtain a base composition. To this base composition, 6 g of an adhesion assistant represented by the following formula and 400 g of toluene as a solvent were added, and alumina (trade name: Admafine AO-502, average particle size: about 0.6 μm, Admatechs Co., Ltd.) 473 g of titanium oxide (trade name: PF-691, average particle size: about 0.2 μm, manufactured by Ishihara Sangyo) was added to prepare a toluene dispersion of the silicone resin composition.
Figure 0005650092

このトルエン分散液に石英ガラスクロス(信越石英製、厚さ:100μm)を含浸させた後、110℃で10分熱風乾燥機によりトルエンを蒸発させ石英ガラスクロスのプリプレグ1を得た。該プリプレグを熱プレス機にて150℃で30分間加圧成型後、更にこれを150℃で1時間2次硬化させてシリコーン積層板を得た。   After impregnating this toluene dispersion with quartz glass cloth (made by Shin-Etsu quartz, thickness: 100 μm), toluene was evaporated by a hot air dryer at 110 ° C. for 10 minutes to obtain a prepreg 1 of quartz glass cloth. The prepreg was subjected to pressure molding at 150 ° C. for 30 minutes with a hot press, and then secondarily cured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a silicone laminate.

1.機械的特性
得られたシリコーン積層板について、JIS K 6251に準拠し、引張強さ(0.2mm厚)を測定した。
1. Mechanical properties The obtained silicone laminate was measured for tensile strength (0.2 mm thickness) according to JIS K 6251.

2.熱伝導率
キセノンフラッシュアナライザー(NETZSCH社製LFA447)を用い、レーザーフラッシュ法にて測定した。
2. Thermal conductivity was measured by a laser flash method using a xenon flash analyzer (LFA447 manufactured by NETZSCH).

3.線膨張係数
得られたシリコーン積層板(0.2mm厚)について、JIS K 7197に従って熱機械分析(TMA)測定法により、−100〜100℃の範囲にわたって、該積層板に対して平行な方向(XY軸方向)の線膨張係数を測定した。
3. Linear expansion coefficient With respect to the obtained silicone laminate (0.2 mm thickness), a direction parallel to the laminate over a range of −100 to 100 ° C. by a thermomechanical analysis (TMA) measurement method according to JIS K 7197 ( The linear expansion coefficient in the XY axis direction) was measured.

4.IRリフロー試験
上記と同様にして、上記トルエン分散液を上記石英ガラスクロスに含浸させ、トルエンを蒸発させた。トルエンを蒸発させた後のプリプレグを銅箔(福田金属製、厚さ:35μm)2枚の間に挟み、熱プレス機にて150℃で30分間加圧成型して成型品を得、更にこれを150℃で1時間2次硬化させて銅張積層基板(0.3mm厚)を得た。この銅張積層基板に対してIRリフロー装置(商品名:リフローソルダリング装置、(株)タムラ製作所製)により260℃、10秒間のIRリフロー処理を行って、銅箔が剥離したかどうかを確認した。
4). IR reflow test In the same manner as described above, the toluene dispersion was impregnated into the quartz glass cloth, and toluene was evaporated. The prepreg after evaporation of toluene was sandwiched between two copper foils (Fukuda Metal, thickness: 35 μm) and molded by pressing at 150 ° C. for 30 minutes with a hot press to obtain a molded product. Was secondarily cured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a copper-clad laminate (0.3 mm thick). The copper-clad laminate is subjected to an IR reflow treatment at 260 ° C. for 10 seconds using an IR reflow device (trade name: Reflow Soldering Device, manufactured by Tamura Corporation) to confirm whether the copper foil has peeled off. did.

5.光反射率
得られたシリコーン積層基板について、全可視光領域にわたって光反射率を測定した。また、得られたシリコーン積層基板に対して上記IRリフロー装置により260℃、60秒間のIRリフロー処理を行った後、全可視光領域にわたって光反射率を測定した。更に、得られたシリコーン積層基板に対して波長365nm、強度30mW/cmの紫外線を120℃で24時間照射した後、全可視光領域にわたって光反射率を測定した。なお、光反射率は、光反射率測定機X−rite 8200(積分球分光光度計、X−rite社(US)製)を用いて測定した。
5. Light reflectivity The light reflectivity of the obtained silicone laminated substrate was measured over the entire visible light region. Moreover, after performing IR reflow processing for 60 seconds and 260 degreeC with respect to the obtained silicone laminated substrate with the said IR reflow apparatus, the light reflectivity was measured over all visible light area | regions. Furthermore, after irradiating the obtained silicone laminated substrate with ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm and an intensity of 30 mW / cm 2 at 120 ° C. for 24 hours, the light reflectance was measured over the entire visible light region. The light reflectivity was measured using a light reflectometer X-rite 8200 (integral sphere spectrophotometer, manufactured by X-rite (US)).

これらの各測定結果を表1に示す。 These measurement results are shown in Table 1.

(実施例2)
実施例1において、合成例1で得られたビニル基含有樹脂(A1)および合成例2で得られたヒドロシリル基含有樹脂(B1)の代わりに、それぞれ合成例3で得られたビニル基含有樹脂(A2)および合成例4で得られたヒドロシリル基含有樹脂(B2)を用いた以外は実施例1と同様にして、石英ガラスのプリプレグ2を作製し、シリコーン積層基板および銅張積層基板を得、評価した。結果を表1に示す。
(Example 2)
In Example 1, instead of the vinyl group-containing resin (A1) obtained in Synthesis Example 1 and the hydrosilyl group-containing resin (B1) obtained in Synthesis Example 2, the vinyl group-containing resins obtained in Synthesis Example 3 respectively. A quartz glass prepreg 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the hydrosilyl group-containing resin (B2) obtained in (A2) and Synthesis Example 4 was used, and a silicone laminated substrate and a copper clad laminated substrate were obtained. ,evaluated. The results are shown in Table 1.

(実施例3)
実施例1および、実施例2で得られたプリプレグ1及びプリプレグ2を銅箔(福田金属製、厚さ:35μm)とアルミ板で挟んで加熱加圧して成型する際に、アルミ板(Al5052―H34)を事前に下記式で表される接着助剤の10%トルエン溶液を塗付、乾燥したアルミ板を使用した。プレス条件は実施例1と同様にして、150℃で30分間加圧成型して成型品を得、更にこれを150℃で1時間2次硬化させて金属ベース基板を得た。アルミ板とシリコーンプリプレグの接着状態は良好でプリプレグ部分で母材破壊を起こしていた。
Example 3
When the prepreg 1 and prepreg 2 obtained in Example 1 and Example 2 were sandwiched between a copper foil (made by Fukuda Metal Co., Ltd., thickness: 35 μm) and an aluminum plate and molded by heating and pressing, an aluminum plate (Al5052- H34) was applied in advance with a 10% toluene solution of an adhesion assistant represented by the following formula, and a dried aluminum plate was used. The pressing conditions were the same as in Example 1 and pressure molded at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a molded product, which was further secondarily cured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a metal base substrate. The adhesion between the aluminum plate and the silicone prepreg was good, and the base material was destroyed at the prepreg portion.

Figure 0005650092
Figure 0005650092

(比較例1)
実施例1において、石英ガラスクロス(信越石英製、厚さ:100μm)の代わりに、ガラスクロスWEA―116E(日東紡製、厚さ:100μm、Eガラス)を用いた。トルエン分散液を該ガラスクロスに含浸させた後、110℃で10分熱風乾燥機によりトルエンを蒸発させプリプレグ3を作製した。該プリプレグを熱プレス機にて150℃で30分間加圧成型後、更にこれを180℃で1時間2次硬化させてシリコーン樹脂板を得た。
実施例1と同様にして、シリコーン樹脂板および銅張積層基板を得、評価した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, glass cloth WEA-116E (manufactured by Nittobo, thickness: 100 μm, E glass) was used instead of the quartz glass cloth (made by Shin-Etsu quartz, thickness: 100 μm). After impregnating the glass cloth with a toluene dispersion, toluene was evaporated by a hot air dryer at 110 ° C. for 10 minutes to prepare prepreg 3. The prepreg was subjected to pressure molding at 150 ° C. for 30 minutes with a hot press, and then secondarily cured at 180 ° C. for 1 hour to obtain a silicone resin plate.
In the same manner as in Example 1, a silicone resin plate and a copper clad laminated substrate were obtained and evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 0005650092
Figure 0005650092

(注)
*1:ビニル基含有樹脂中のケイ素原子結合ビニル基に対するヒドロシリル基含有樹脂中のケイ素原子結合水素原子のモル比
(note)
* 1: Molar ratio of silicon-bonded hydrogen atoms in hydrosilyl group-containing resin to silicon-bonded vinyl groups in vinyl group-containing resin

(実施例4)
実施例3で作製した金属ベース基板で、アルミ板(Al5052―H34)を接着助剤で処理しないアルミ板を使用して、プレス条件は実施例1と同様にして、150℃で30分間加圧成型して成型品を得、更にこれを150℃で1時間2次硬化させて金属ベース基板を得た。アルミ板とシリコーンプリプレグの接着状態は実施例3に比べて劣り、界面剥離を起こすこともあった。
Example 4
Using the metal base substrate manufactured in Example 3 and using an aluminum plate (Al5052-H34) that is not treated with an adhesion aid, press conditions are the same as in Example 1 and pressurized at 150 ° C. for 30 minutes. Molding was performed to obtain a molded product, which was then secondarily cured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a metal base substrate. The adhesion state of the aluminum plate and the silicone prepreg was inferior to that of Example 3, and interface peeling sometimes occurred.

(実施例5)
合成例1で得られたビニル基含有樹脂(A1):189g、合成例2で得られたヒドロシリル基含有樹脂(B1):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸の1質量%オクチルアルコール溶液:0.1g、下記式で表される接着助剤:6gを加え、60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌してベース組成物を得た。このベース組成物に、溶剤としてトルエンを400g加え、さらにシリカ(商品名:アドマファインE5/24C、平均粒子径:約3μm、(株)アドマテックス製)378gと酸化チタン(商品名:PF−691、平均粒子径:約0.2μm、石原産業製)38gとを加えて、シリコーン樹脂組成物のトルエン分散液を調製した。このトルエン分散液に石英ガラスクロス(信越石英製、厚さ:100μm)を含浸させた後、110℃で10分熱風乾燥機によりトルエンを蒸発させ石英ガラスクロスのプリプレグを得た。該プリプレグを熱プレス機にて150℃で30分間加圧成型後、更にこれを150℃で1時間2次硬化させてシリコーン積層板を得た。
(Example 5)
Vinyl group-containing resin (A1) obtained in Synthesis Example 1: 189 g, hydrosilyl group-containing resin (B1) obtained in Synthesis Example 2: 189 g, acetylene alcohol-based ethynylcyclohexanol as a reaction inhibitor: 0.2 g, A 1% by mass octyl alcohol solution of chloroplatinic acid: 0.1 g, an adhesion assistant represented by the following formula: 6 g was added, and the mixture was stirred well with a planetary mixer heated to 60 ° C. to obtain a base composition. To this base composition, 400 g of toluene was added as a solvent, and 378 g of silica (trade name: Admafine E5 / 24C, average particle size: about 3 μm, manufactured by Admatechs) and titanium oxide (trade name: PF-691). , Average particle size: about 0.2 μm, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) was added to prepare a toluene dispersion of the silicone resin composition. After impregnating this toluene dispersion with quartz glass cloth (made by Shin-Etsu quartz, thickness: 100 μm), toluene was evaporated by a hot air dryer at 110 ° C. for 10 minutes to obtain a prepreg of the quartz glass cloth. The prepreg was subjected to pressure molding at 150 ° C. for 30 minutes with a hot press, and then secondarily cured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a silicone laminate.

Figure 0005650092
Figure 0005650092

熱伝導率、線膨張係数の測定、および、IRリフロー試験、光反射率測定は実施例1と同様に行った。また、半田接続試験を以下のように行った。これらの各測定結果を、後述する比較例2の白色エポキシアルミ板の結果と共に表2に示す。
6.半田接続試験
基板にLEDパッケージを半田接続して温度サイクル試験を行い、断面写真にて、半田接続状況や半田のクラック発生状況を500サイクル毎に観察した。
温度サイクル条件は−40℃にて15分保持、次に125℃まで昇温し15分保持
をした。−40℃〜125℃を1サイクルとする連続運転温度サイクルによる加速促進試験を行った。
The measurement of thermal conductivity, linear expansion coefficient, IR reflow test, and light reflectance measurement were performed in the same manner as in Example 1. In addition, a solder connection test was performed as follows. These measurement results are shown in Table 2 together with the results of the white epoxy aluminum plate of Comparative Example 2 described later.
6). Solder connection test The LED package was solder-connected to the substrate, a temperature cycle test was performed, and a solder connection state and a crack generation state of the solder were observed every 500 cycles in a cross-sectional photograph.
Temperature cycle condition is held at -40 ° C for 15 minutes, then raised to 125 ° C and held for 15 minutes
Did. An acceleration acceleration test was performed by a continuous operation temperature cycle in which -40 ° C to 125 ° C is one cycle.

Figure 0005650092
Figure 0005650092

(注)
*1:ビニル基含有樹脂中のケイ素原子結合ビニル基に対するヒドロシリル基含有樹脂中のケイ素原子結合水素原子のモル比
(note)
* 1: Molar ratio of silicon-bonded hydrogen atoms in hydrosilyl group-containing resin to silicon-bonded vinyl groups in vinyl group-containing resin

(比較例2)
市販の金属ベース基板である高充填剤添加の白色エポキシアルミ板を用いてLED実装基板を作製し、以下のように点灯試験を行った。実施例3で作成した金属ベース基板の点灯試験結果と共に、結果を表3に示す。
(Comparative Example 2)
An LED mounting substrate was prepared using a white epoxy aluminum plate with a high filler added, which is a commercially available metal base substrate, and a lighting test was performed as follows. The results are shown in Table 3 together with the lighting test results of the metal base substrate prepared in Example 3.

7.点灯試験
図1に示すLED装置を作製して点灯試験を行った。図1において、電極パターン3は、上記のとおりにして作製した銅張積層基板をエッチングすることにより作製した。ダイボンディングペースト4としてKJR−632DA−1(信越化学(株)製)を用いて、青色LEDチップ5(波長450nm)をダイボンディングした。ボンディングワイヤー6としては金線を用いた。透明封止体7は、電極パターン3の一部、LEDチップ5およびボンディングワイヤー6をシリコーン樹脂コート剤(商品名:KJR−9022、信越化学(株)製)でキャスティングコートすることにより作製した(硬化条件:150℃、4時間)。点灯試験は、このようにして得たLED装置を投入電流150mAで連続点灯しシリコーン積層基板の変色の有無を観察することにより行った。結果を表3に示す。
7). Lighting test The LED device shown in FIG. 1 was produced and a lighting test was performed. In FIG. 1, the electrode pattern 3 was produced by etching the copper-clad laminate produced as described above. The blue LED chip 5 (wavelength 450 nm) was die-bonded using KJR-632DA-1 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as the die-bonding paste 4. A gold wire was used as the bonding wire 6. The transparent encapsulant 7 was prepared by casting a part of the electrode pattern 3, the LED chip 5 and the bonding wire 6 with a silicone resin coating agent (trade name: KJR-9022, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ( Curing conditions: 150 ° C., 4 hours). The lighting test was performed by continuously lighting the LED device thus obtained at an input current of 150 mA and observing whether the silicone laminated substrate was discolored. The results are shown in Table 3.

Figure 0005650092
Figure 0005650092

本発明のシリコーンプリプレグを用いれば、可視光領域の反射率が高く、しかも加熱や紫外線による劣化、変色、反射率低下が少なく、更に高い耐熱性及び放熱性、実装部品の半田接続高信頼性を有する基板材料を得ることができ、特に、LED実装基板のLED用基材として好適に用いることができることが判った。   When the silicone prepreg of the present invention is used, the reflectance in the visible light region is high, there is little deterioration due to heating or ultraviolet rays, discoloration, and a decrease in reflectance, and further high heat resistance and heat dissipation, and high reliability of solder connection of mounted components. It was found that the substrate material can be obtained, and in particular, it can be suitably used as an LED base material for an LED mounting substrate.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に含有される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. It is contained in the technical range.

1…LED実装基板、 2…シリコーン樹脂板。 3…電極パターン、 4…ダイボンディングペースト、 5…LEDチップ、 6…ボンディングワイヤー、 7…透明封止体。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... LED mounting board, 2 ... Silicone resin board. DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 ... Electrode pattern, 4 ... Die bonding paste, 5 ... LED chip, 6 ... Bonding wire, 7 ... Transparent sealing body.

Claims (9)

石英ガラスクロスに、
(A)RSiO1.5単位、R SiO単位及びR SiO(4−a−b)/2単位からなり(ここで、R、R及びRは独立に水酸基、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基及びフェニル基のいずれかを示し、Rは独立にビニル基又はアリル基を示し、aは0,1又は2で、bは1又は2で、かつa+bは2又は3である。)、
上記R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜50個である構造を含む樹脂構造のオルガノポリシロキサン、
(B)RSiO1.5単位、R SiO単位及びR SiO(4−c−d)/2単位からなり(ここで、R、R及びRは独立に上記の通りであり、cは0,1又は2で、dは1又は2で、かつc+dは2又は3である。)、
上記R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜50個である構造を含む樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン:(A)成分中のビニル基及びアリル基の合計に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子がモル比で0.1〜4.0となる量、
(C)白金族金属系触媒:前記(A)成分及び(B)成分の合計量に対して白金族金属として質量換算で0.1〜500ppm、ならびに
(D)充填剤:(A)及び(B)成分の合計100質量部に対して900質量部以下、
を含むシリコーン樹脂組成物を含浸、乾燥させたものであることを特徴とするシリコーンプリプレグ。
To quartz glass cloth,
(A) R 1 SiO 1.5 unit, R 2 2 SiO unit and R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 unit (where R 1 , R 2 and R 3 are independent) Represents a hydroxyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group or a phenyl group, R 4 independently represents a vinyl group or an allyl group, a is 0, 1 or 2, and b is 1 or 2 And a + b is 2 or 3.)
An organopolysiloxane having a resin structure including a structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions thereof is 5 to 50;
(B) R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units and R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 units (where R 1 , R 2 and R 3 are independently As described above, c is 0, 1 or 2, d is 1 or 2, and c + d is 2 or 3.)
Organohydrogenpolysiloxane having a resin structure including a structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetition is 5 to 50: vinyl group and allyl in component (A) An amount of hydrogen atoms bonded to silicon atoms in the component (B) relative to the total of the groups in a molar ratio of 0.1 to 4.0,
(C) Platinum group metal catalyst: 0.1 to 500 ppm in terms of mass as a platinum group metal with respect to the total amount of the components (A) and (B) , and (D) fillers: (A) and ( B) 900 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass in total of the components,
A silicone prepreg obtained by impregnating and drying a silicone resin composition comprising
請求項1に記載のシリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねて、加熱加圧成形することで製造され、熱伝導率が0.8W/mK以上であることを特徴とするシリコーン樹脂板。   A silicone resin plate produced by heating and press-molding one or more of the silicone prepregs according to claim 1 and having a thermal conductivity of 0.8 W / mK or more. 請求項2に記載のシリコーン樹脂板であり、該シリコーン樹脂板に対して平行な方向の線膨張係数が−100〜100℃の範囲にわたって30ppm/℃以下であることを特徴とするシリコーン樹脂板。   It is a silicone resin board of Claim 2, Comprising: The linear expansion coefficient of the direction parallel to this silicone resin board is 30 ppm / degrees C or less over the range of -100-100 degreeC, The silicone resin board characterized by the above-mentioned. 請求項2又は請求項3に記載のシリコーン樹脂板を使用して作製されたものであることを特徴とするLED実装基板。   An LED mounting substrate, which is manufactured using the silicone resin plate according to claim 2 or 3. 請求項1に記載のシリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねたものの両面に金属箔を重ねて、加熱加圧成形して製造されるものであることを特徴とするシリコーン金属張積層板。   A silicone metal-clad laminate, wherein one or more of the silicone prepregs according to claim 1 are laminated and metal foil is laminated on both sides and heated and pressed. 請求項5に記載のシリコーン金属張積層板を使用して作製されたものであることを特徴とするLED実装基板。   6. An LED mounting board produced using the silicone metal-clad laminate according to claim 5. 請求項1に記載のシリコーンプリプレグを1枚、又は複数枚重ねたものの片面に金属箔を、残る片面に金属板を重ねて、加熱加圧成形して製造されるものであることを特徴とするシリコーン金属ベース基板。   One or more of the silicone prepregs according to claim 1 are laminated, and a metal foil is laminated on one side, and a metal plate is laminated on the other side, and is produced by heating and pressing. Silicone metal base substrate. 前記金属板は、予め接着助剤で処理されたものであることを特徴とする請求項7に記載のシリコーン金属ベース基板。   The silicone metal base substrate according to claim 7, wherein the metal plate is previously treated with an adhesion aid. 請求項7又は8に記載のシリコーン金属ベース基板を使用して作製されたものであることを特徴とするLED実装基板。
9. An LED mounting substrate produced using the silicone metal base substrate according to claim 7 or 8.
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