JP6115593B2 - Thermosetting silicone resin sheet having phosphor-containing layer and phosphor-free layer, light-emitting device manufacturing method using the same, and sealed light-emitting semiconductor device - Google Patents

Thermosetting silicone resin sheet having phosphor-containing layer and phosphor-free layer, light-emitting device manufacturing method using the same, and sealed light-emitting semiconductor device Download PDF

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Description

本発明は、LED素子のチップ表面に積層させ接着することでLEDの青色光及び紫外光の波長を変換させることが可能な、少なくとも蛍光体含有層および蛍光体非含有層のシリコーン樹脂層を有する熱硬化型シリコーン樹脂シート、それを使用する発光装置の製造方法、並びに該発光装置に関する。   The present invention has at least a phosphor-containing layer and a phosphor-free layer silicone resin layer capable of converting the wavelength of blue light and ultraviolet light of an LED by being laminated and bonded to the chip surface of the LED element. The present invention relates to a thermosetting silicone resin sheet, a method for producing a light emitting device using the same, and the light emitting device.

発光ダイオード(LED)の分野では波長変換のために蛍光体を使用することは知られている(特許文献1)。シリコーン樹脂は耐光性に優れることからLED素子を封止、保護のために被覆する材料として注目されている(特許文献2)。   In the field of light emitting diodes (LEDs), it is known to use a phosphor for wavelength conversion (Patent Document 1). Silicone resin is attracting attention as a material for sealing and protecting LED elements because of its excellent light resistance (Patent Document 2).

一般に、白色LEDでは、蛍光体を分散させたシリコーン樹脂やエポキシ樹脂でLEDチップを被覆するなどの方法により蛍光体をチップ近傍に分散させて青色光を擬似白色光に変換させている。しかし蛍光体の樹脂層中での分散が不均一であったり偏りがあったりすると色ずれが起こりやすいため、均一な白色光を作り出すには蛍光体が被覆樹脂層中に均一に分散することが必要である。そのために、例えば、蛍光体を含有するシリコーン樹脂組成物をスクリーン印刷する方法が検討されている。また、組成物をチップに施与後に蛍光体を沈降によりチップ近傍に均一に分散させるとともに、そうして得られる蛍光体分散層の上に透明ないし半透明な保護層を形成する方法等が検討されている。しかし、この方法は得られる蛍光体分散層と保護透明層との品質の安定性が不十分である上に製造工程が複雑化する問題があった。また、従来、蛍光体を含有する熱硬化性シリコーン樹脂シートをLED素子上に貼り付け、硬化させた後、透明樹脂を注型し保護層を形成することが行われていた。この方法も製造工程が複雑であるという問題がある(特許文献3)。   In general, in a white LED, the phosphor is dispersed in the vicinity of the chip by a method such as coating the LED chip with a silicone resin or an epoxy resin in which the phosphor is dispersed to convert blue light into pseudo white light. However, if the dispersion of the phosphor in the resin layer is non-uniform or uneven, a color shift is likely to occur. Therefore, in order to create uniform white light, the phosphor may be uniformly dispersed in the coating resin layer. is necessary. Therefore, for example, a method of screen printing a silicone resin composition containing a phosphor has been studied. In addition, after applying the composition to the chip, the phosphor is uniformly dispersed in the vicinity of the chip by sedimentation, and a method of forming a transparent or translucent protective layer on the phosphor dispersion layer thus obtained is studied. Has been. However, this method has a problem that the quality of the obtained phosphor dispersion layer and the protective transparent layer is insufficiently stable and the manufacturing process becomes complicated. In addition, conventionally, a thermosetting silicone resin sheet containing a phosphor is attached on an LED element and cured, and then a transparent resin is cast to form a protective layer. This method also has a problem that the manufacturing process is complicated (Patent Document 3).

また、LED等においては、LED素子を被覆する樹脂層には高い耐熱性、耐紫外線性等も求められる。さらに、従来の製造装置でかかる蛍光体が均一に分散した樹脂層を形成することができると好都合である。   Moreover, in LED etc., high heat resistance, ultraviolet-ray resistance, etc. are calculated | required by the resin layer which coat | covers an LED element. Furthermore, it is advantageous that a resin layer in which such phosphors are uniformly dispersed can be formed by a conventional manufacturing apparatus.

特表2005−524737号公報JP 2005-524737 A 特開2004−339482号公報JP 2004-339482 A 特開2009−094351号公報JP 2009-094351 A

そこで、本発明の課題は、LED素子表面に容易に蛍光体を均一分散させることができる熱硬化性シリコーン樹脂シートを提供することである。   Then, the subject of this invention is providing the thermosetting silicone resin sheet which can disperse | distribute fluorescent substance uniformly on the LED element surface easily.

本発明は上記課題を解決するものとして、第一に、
常温で可塑性の固体もしくは半固体の状態の蛍光体を含有する熱硬化性シリコーン樹脂組成物からなる層(2)と、常温で可塑性の固体もしくは半固体の状態で透明若しくは半透明な熱硬化性シリコーン樹脂組成物からなる層(1)とを含む熱硬化性シリコーン樹脂シートを提供する。
As the present invention solves the above problems, first,
A layer (2) comprising a thermosetting silicone resin composition containing a phosphor in a solid or semisolid state that is plastic at room temperature, and a thermosetting property that is transparent or translucent in a plastic solid or semisolid state at room temperature A thermosetting silicone resin sheet comprising a layer (1) comprising a silicone resin composition is provided.

本発明の熱硬化性シリコーン樹脂シートは、LED素子表面に貼付、熱により硬化、封止することができる。   The thermosetting silicone resin sheet of the present invention can be applied to the surface of the LED element and cured and sealed by heat.

さらに、本発明は、第二に、LED素子の表面に、上記の熱硬化性シリコーン樹脂シートを配置し、該樹脂シートを加熱硬化させることにより、蛍光体含有硬化シリコーン樹脂層と蛍光体を含有しない硬化シリコーン樹脂層を有する硬化物でLED素子表面を被覆、封止する、LED素子を有する発光装置の製造方法をも提供する。   Furthermore, the present invention secondly includes the phosphor-containing cured silicone resin layer and the phosphor by disposing the thermosetting silicone resin sheet on the surface of the LED element and heating and curing the resin sheet. The manufacturing method of the light-emitting device which has a LED element which coat | covers and seals the LED element surface with the hardened | cured material which has a cured silicone resin layer which does not perform is also provided.

さらに、また、本発明は、該製造方法により得られる、蛍光体含有硬化シリコーン樹脂層と蛍光体を含有しない硬化シリコーン樹脂層を有する硬化物でLED素子が封止された発光装置を提供する。   Furthermore, this invention provides the light-emitting device by which the LED element was sealed with the hardened | cured material which has the hardening silicone resin layer which does not contain the fluorescent substance containing hardening silicone resin layer and fluorescent substance obtained by this manufacturing method.

上記本発明の熱硬化性シリコーン樹脂シートの特に好適な実施形態としては、
前記の層(2)が、
As a particularly preferred embodiment of the thermosetting silicone resin sheet of the present invention,
Said layer (2) is

(A)実質的にR1SiO1.5単位、R2 2SiO単位、及びR3 a4 bSiO(4-a-b)/2単位からなり(ここで、R1、R2、及びR3は独立にメチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、又はフェニル基を示し、R4は独立にビニル基又はアリル基を示し、aは0、1又は2で、bは1又は2で、かつa+bは2又は3である。)、上記R2 2SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個である、樹脂構造のオルガノポリシロキサン、 (A) substantially consisting of R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 units (where R 1 , R 2 , and R 3 are Independently represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group, R 4 independently represents a vinyl group or an allyl group, a is 0, 1 or 2, b is 1 or 2, and a + b is 2 or 3.), an organopolysiloxane having a resin structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated, and the number of repetitions thereof is 5 to 300;

(B)実質的にR1SiO1.5単位、R2 2SiO単位、及びR3 cdSiO(4-c-d)/2単位からなり(ここで、R1、R2及びR3は独立に上記の通りであり、cは0、1又は2で、dは1又は2で、かつc+dは2又は3である。)、
上記R2 2SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個である、樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン:
(A)成分中のビニル基及びアリル基の合計に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子のモル比で0.1〜4.0となる量、
(B) substantially composed of R 1 SiO 1.5 unit, R 2 2 SiO unit, and R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 unit (where R 1 , R 2 and R 3 are independently As described above, c is 0, 1 or 2, d is 1 or 2, and c + d is 2 or 3.)
Organohydrogenpolysiloxane having a resin structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions thereof is 5 to 300:
(A) The quantity which becomes 0.1-4.0 by the molar ratio of the hydrogen atom couple | bonded with the silicon atom in (B) component with respect to the sum total of the vinyl group and allyl group in a component,

(C)白金族金属系触媒:硬化有効量、及び
(D)蛍光体
を含有する熱硬化型シリコーン樹脂組成物からなり、
(C) a platinum group metal catalyst: a curing effective amount, and (D) a thermosetting silicone resin composition containing a phosphor,

前記の層(1)が、
(A)実質的にR1SiO1.5単位、R2 2SiO単位、及びR3 a4 bSiO(4-a-b)/2単位を含んでなり(ここで、R1、R2、及びR3は独立にメチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、又はフェニル基を示し、R4は独立にビニル基又はアリル基を示し、aは0、1又は2で、bは1又は2で、かつa+bは2又は3である。)、上記R2 2SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個である構造を含む樹脂構造のオルガノポリシロキサン、
Said layer (1) is
(A) substantially comprising R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 units (where R 1 , R 2 , and R 3 independently represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group, R 4 independently represents a vinyl group or an allyl group, a is 0, 1 or 2, and b is 1 or 2. A + b is 2 or 3.), an organopolysiloxane having a resin structure including a structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated, and the number of repetitions thereof is 5 to 300,

(B)実質的にR1SiO1.5単位、R2 2SiO単位、及びR3 cdSiO(4-c-d)/2単位を含んでなり(ここで、R1、R2及びR3は独立に上記の通りであり、cは0、1又は2で、dは1又は2で、かつc+dは2又は3である。)、
上記R2 2SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個である、樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン:
(A)成分中のビニル基及びアリル基の合計に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子がモル比で0.1〜4.0となる量、及び
(B) substantially comprising R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 units (where R 1 , R 2 and R 3 are Independently as described above, c is 0, 1 or 2, d is 1 or 2, and c + d is 2 or 3.)
Organohydrogenpolysiloxane having a resin structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions thereof is 5 to 300:
(A) The amount of hydrogen atoms bonded to silicon atoms in component (B) relative to the total of vinyl groups and allyl groups in component (A) in a molar ratio of 0.1 to 4.0, and

(C)白金族金属系触媒:硬化有効量
を含有し、蛍光体を含有しない熱硬化型シリコーン樹脂組成物からなる、熱硬化性シリコーン樹脂シートが挙げられる。
(C) Platinum group metal-based catalyst: A thermosetting silicone resin sheet comprising a thermosetting silicone resin composition containing an effective amount of curing and not containing a phosphor may be mentioned.

本発明の熱硬化性シリコーン樹脂シート(該シートは少なくとも二層を有するものであるが、説明の便宜上、以下、二層熱硬化性シリコーン樹脂シートともいう)は未硬化状態で可塑性の固体又は半固体であるので取り扱い易く作業性が良好であるため、LEDチップ表面に容易に積層させ接着することができる。また、未硬化状態で可塑性の固体又は半固体であるので、充填された蛍光体の分散状態が経時的に安定であり、保管中に樹脂から分離したり沈降したりすることがなく、蛍光体が均一に分散した樹脂層を安定して維持することができる。   The thermosetting silicone resin sheet of the present invention (the sheet has at least two layers, but for convenience of explanation, hereinafter also referred to as a two-layer thermosetting silicone resin sheet) is an uncured plastic solid or semi-solid. Since it is solid, it is easy to handle and has good workability, so it can be easily laminated and bonded to the surface of the LED chip. Also, since it is a plastic solid or semi-solid in an uncured state, the dispersion state of the filled phosphor is stable over time and does not separate from the resin or settle during storage. The resin layer in which is uniformly dispersed can be stably maintained.

本発明の二層熱硬化性シリコーン樹脂シートの場合はこれ一つをLEDチップ表面に貼付することで蛍光体層と保護層(封止層)を同時に形成できることから、生産性も格段に向上し、量産性に優れたものである。二層熱硬化性シリコーン樹脂シートは通常のダイボンドマウンター等のマウント装置でも容易にLEDチップ表面に積層、接着させることができる。
そして、こうして積層した組成物シートを硬化させることで、蛍光体が均一に分散した硬化樹脂層を均一な層厚で効率よく安定に形成することができる。また、得られる蛍光体樹脂層では蛍光体が均一に分散しているので色ずれは起こり難く、演色性が良好で、均一な白色光を得ることができる。
In the case of the two-layer thermosetting silicone resin sheet of the present invention, the phosphor layer and the protective layer (sealing layer) can be formed at the same time by sticking this one on the LED chip surface, so the productivity is also greatly improved. It is excellent in mass productivity. The two-layer thermosetting silicone resin sheet can be easily laminated and adhered to the surface of the LED chip even with a mounting device such as a normal die bond mounter.
Then, by curing the composition sheet thus laminated, a cured resin layer in which the phosphor is uniformly dispersed can be efficiently and stably formed with a uniform layer thickness. Further, in the obtained phosphor resin layer, since the phosphor is uniformly dispersed, color misregistration hardly occurs, the color rendering property is good, and uniform white light can be obtained.

上記の好ましい実施形態の組成物を使用した場合には、硬化物が硬質樹脂でありながら可撓性に優れ、表面のタックが少ない硬化樹脂層を形成する。しかも従来の成型装置でも容易に成型可能であるという利点がある。   When the composition of the preferred embodiment described above is used, a cured resin layer having excellent flexibility and less surface tack is formed while the cured product is a hard resin. In addition, there is an advantage that the conventional molding apparatus can be easily molded.

実施例1で製造した本発明の熱硬化性シリコーン樹脂シートの構造を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing the structure of a thermosetting silicone resin sheet of the present invention produced in Example 1. FIG. セラミックス基板上に配列したLED素子の封止を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining sealing of the LED element arranged on the ceramic substrate. リフレクター内に搭載したLED素子の封止を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining sealing of the LED element mounted in the reflector. フリップチップ方式で接合したLED素子の封止を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining sealing of the LED element joined by the flip chip system.

以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の熱硬化性シリコーン樹脂シートは少なくとも層(2)と層(1)とからなり、いずれも常温で可塑性の固体もしくは半固体である。ここで、「常温」とは通常の状態における周囲温度を意味し、通常15〜30℃の範囲の温度であり、典型的には25℃である。「半固体」とは可塑性を有し、特定の形状に成形されたときに少なくとも1時間、好ましくは8時間以上その形状を保持し得る物質の状態を云う。したがって、例えば、常温で非常に高い粘度を有する流動性物質が本質的には流動性を有するものの、非常に高い粘度のために少なくとも1時間という短時間では付与された形状に変化(即ち、くずれ)を肉眼では認めることができないとき、その物質は半固体の状態にある。固体又は半固体の状態であるので組成物は取り扱い性がよく作業性が高い。また、層(2)では蛍光体の良好な分散状態が経時的に維持される。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The thermosetting silicone resin sheet of the present invention comprises at least a layer (2) and a layer (1), both of which are plastic solids or semisolids at room temperature. Here, “normal temperature” means an ambient temperature in a normal state, and is usually in the range of 15 to 30 ° C., typically 25 ° C. “Semi-solid” refers to a state of a material that is plastic and can retain its shape when molded into a particular shape for at least 1 hour, preferably 8 hours or longer. Thus, for example, a flowable material having a very high viscosity at room temperature is essentially flowable, but changes to the applied shape in a short time of at least 1 hour (ie, breakage) due to the very high viscosity. ) Cannot be seen with the naked eye, the substance is in a semi-solid state. Since the composition is in a solid or semi-solid state, the composition has good handleability and high workability. In the layer (2), a good dispersion state of the phosphor is maintained over time.

本発明の熱硬化性シリコーン樹脂シートは常温においてそのような可塑性の固体又は半固体の状態であるが、加熱により硬化し始める。その際の硬化過程において、現象としてはまず軟化する。即ち、固体状態の場合は僅かに流動性を示す状態になり、半固体状態の場合は僅かに流動性が高まった状態になる。その後に粘度が再上昇し固体化へ向かう。   The thermosetting silicone resin sheet of the present invention is in such a plastic solid or semi-solid state at room temperature, but begins to be cured by heating. In the curing process, the phenomenon first softens. That is, in the solid state, the fluidity is slightly exhibited, and in the semisolid state, the fluidity is slightly enhanced. After that, the viscosity rises again and goes to solidification.

本発明において、層(2)は蛍光体を含み、LED素子から発光される光の波長を所要の波長に変換する役割を果たすとともに、素子を被覆し保護・封止する。層(1)は素子の保護を高める働きをする。層(1)は透明又は半透明である。本願で、「透明又は半透明」であるとは、少なくとも波長400〜500nmの領域、好ましくは400〜600nm、さらに好ましくは400〜800nmの可視光の領域において光透過率が80%以上であることを意味する。ここで、光透過率は、厚さ100μmの厚さの試料シートのある特定波長の光の入射光強度に対する透過光強度の比I/I(%)(ここでIは入射光の強度、Iは透過光の強度である)により定義される。 In the present invention, the layer (2) contains a phosphor, plays the role of converting the wavelength of light emitted from the LED element into a required wavelength, and covers, protects and seals the element. Layer (1) serves to increase the protection of the device. Layer (1) is transparent or translucent. In the present application, “transparent or translucent” means that the light transmittance is 80% or more in a visible light region of at least a wavelength of 400 to 500 nm, preferably 400 to 600 nm, more preferably 400 to 800 nm. Means. Here, the light transmittance is the ratio I / I 0 (%) of the transmitted light intensity to the incident light intensity of light of a specific wavelength on a sample sheet having a thickness of 100 μm (where I 0 is the intensity of the incident light). , I is the intensity of transmitted light).

層(1)は厚みが、良好な波長変換性能が得られる点で、通常、20〜100μmが好ましく、30〜80μmがより好ましい。蛍光体の粒径、分散濃度にもよるのでそれらを考慮した厚みを選択することが望ましい。蛍光体の量が多すぎると、例えば青色LEDから白色光を得ることが困難になる。また、蛍光体が均一に分散した一定の厚さを得るには形成作業上薄すぎない方がよい。層(2)の厚みは素子保護の点で20〜500μmが好ましく、50〜500μmが好ましい。   The layer (1) preferably has a thickness of 20 to 100 μm, more preferably 30 to 80 μm, in terms of obtaining good wavelength conversion performance. Since it depends on the particle diameter and dispersion concentration of the phosphor, it is desirable to select a thickness in consideration of them. When there is too much quantity of fluorescent substance, it will become difficult to obtain white light from blue LED, for example. Moreover, it is better not to be too thin for the forming operation in order to obtain a constant thickness in which the phosphors are uniformly dispersed. The thickness of the layer (2) is preferably 20 to 500 μm and more preferably 50 to 500 μm in terms of device protection.

以下の記載において、前記の層(1)に使用される組成物を組成物(1)と称し、層(2)に使用される組成物を組成物(2)と称することがある。Meはメチル基、Etはエチル基、Phはフェニル基、そしてViはビニル基を示す。   In the following description, the composition used for the layer (1) may be referred to as the composition (1), and the composition used for the layer (2) may be referred to as the composition (2). Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Ph represents a phenyl group, and Vi represents a vinyl group.

先ず、組成物(1)及び組成物(2)に、上記好適実施形態で使用される成分について説明する。組成物(1)と組成物(2)に共通する成分についての説明は、特記しない限り、組成物(1)及び(2)に当てはまる。   First, the components used in the preferred embodiment for the composition (1) and the composition (2) will be described. The description of the components common to the composition (1) and the composition (2) applies to the compositions (1) and (2) unless otherwise specified.

−(A)樹脂構造のアルケニル基含有オルガノポリシロキサン−
本発明組成物の重要な(A)成分である樹脂構造(即ち、三次元網状構造)のオルガノポリシロキサンは、R1SiO1.5単位、R2 2SiO単位、及びR3 a4 bSiO(4-a-b)/2単位からなり(ここで、R1、R2、及びR3はメチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、又はフェニル基を示し、R4はビニル基又はアリル基を示し、aは0、1又は2で、bは1又は2で、かつa+bは2又は3である。)、
上記R2 2SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個、好ましくは10〜300個、より好ましくは15〜200個、更に好ましくは20〜100個である構造を部分的に含有する樹脂構造のオルガノポリシロキサンである。
-(A) Resin-structured alkenyl group-containing organopolysiloxane-
An organopolysiloxane having a resin structure (that is, a three-dimensional network structure) which is an important component (A) of the composition of the present invention is composed of R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 a R 4 b SiO ( 4-ab) / 2 units (wherein R 1 , R 2 , and R 3 represent a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group, and R 4 represents a vinyl group or an allyl group. A is 0, 1 or 2, b is 1 or 2, and a + b is 2 or 3.
At least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated, and the number of repetitions is 5 to 300, preferably 10 to 300, more preferably 15 to 200, still more preferably 20 to 100. It is an organopolysiloxane having a resin structure partially containing a certain structure.

なお、上記のR2 2SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個である構造とは、一般式(1): The structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions is 5 to 300 is the general formula (1):

Figure 0006115593
Figure 0006115593

(ここで、mは5〜300の整数)
で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサン連鎖構造を意味する。
(A)成分のオルガノポリシロキサン中に存在するR2 2SiO単位全体の少なくとも一部、好ましくは50モル%以上(50〜100モル%)、特には80モル%以上(80〜100モル%)が、分子中でかかる一般式(1)で表される連鎖構造を形成していることが好ましい。
(Where m is an integer from 5 to 300)
The linear diorganopolysiloxane chain structure represented by these is meant.
(A) At least a part of the entire R 2 2 SiO unit present in the organopolysiloxane of the component, preferably 50 mol% or more (50 to 100 mol%), particularly 80 mol% or more (80 to 100 mol%). However, it is preferable to form a chain structure represented by the general formula (1) in the molecule.

(A)成分の分子中においては、R2 2SiO単位はポリマー分子を直鎖状に延伸するように働き、R1SiO1.5単位はポリマー分子を分岐させ或いは三次元網状化させる。R3 a4 bSiO(4-a-b)/2単位の中のR4(ビニル基又はアリル基)は、後述する(B)成分が有するR3 cdSiO(4-c-d)/2単位のケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)とヒドロシリル化付加反応することにより本発明の組成物を硬化させる役割を果たす。 In the molecule of component (A), the R 2 2 SiO unit functions to stretch the polymer molecule in a straight line, and the R 1 SiO 1.5 unit causes the polymer molecule to be branched or three-dimensionally networked. R 4 (vinyl group or allyl group) in the R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 unit is R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 contained in the component (B) described later. It plays a role of curing the composition of the present invention by hydrosilylation addition reaction with a hydrogen atom (ie, SiH group) bonded to the silicon atom of the unit.

(A)成分を構成する必須の三種のシロキサン単位のモル比、即ち、R1SiO1.5単位:R2 2SiO単位:R3 a4 bSiO(4-a-b)/2単位のモル比は、90〜24:75〜9:50〜1、特に70〜28:70〜20:10〜2(但し、合計で100)であることが得られる硬化物の特性上好ましい。 The molar ratio of the three essential siloxane units constituting the component (A), that is, the molar ratio of R 1 SiO 1.5 unit: R 2 2 SiO unit: R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 unit is 90 to 24:75 to 9:50 to 1, particularly 70 to 28:70 to 20:10 to 2 (provided that the total is 100), which is preferable in terms of the properties of the cured product.

3 a4 bSiO(4-a-b)/2単位は、該オルガノポリシロキサン中に、ビニル基及びアリル基が合計で0.001mol/100g以上存在することが好ましく、0.025mol/100g以上がより好ましく、0.03〜0.3mol/100gであることがさらに好ましい。 In the organopolysiloxane, R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 units are preferably present in a total of 0.001 mol / 100 g or more of vinyl groups and allyl groups, and 0.025 mol / 100 g or more. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 0.03-0.3 mol / 100g.

また、この(A)成分のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量は3,000〜1,000,000、特に10,000〜100,000の範囲にあると、該ポリマーは固体もしくは半固体状であり作業性、硬化性などから好適である。   When the weight average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) of this component (A) is in the range of 3,000 to 1,000,000, particularly 10,000 to 100,000, the polymer It is solid or semi-solid and is suitable from the viewpoint of workability and curability.

このような樹脂構造のオルガノポリシロキサンは、各単位の原料となる化合物を、生成ポリマー中で上記三種のシロキサン単位が所要のモル比となるように組み合わせ、例えば酸の存在下で共加水分解縮合を行うことによって合成することができる。   Organopolysiloxane with such a resin structure is a combination of compounds that are raw materials for each unit such that the three siloxane units in the resulting polymer have the required molar ratio, for example, cohydrolytic condensation in the presence of an acid. Can be synthesized.

ここで、R1SiO1.5単位の原料としては、MeSiCl3、EtSiCl3、PhSiCl3、プロピルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン等のクロロシラン類、これらそれぞれのクロロシラン類に対応するメトキシシラン類などのアルコキシシラン類などを例示できる。 Here, as raw materials for R 1 SiO 1.5 unit, chlorosilanes such as MeSiCl 3 , EtSiCl 3 , PhSiCl 3 , propyltrichlorosilane, and cyclohexyltrichlorosilane, and alkoxysilanes such as methoxysilane corresponding to each of these chlorosilanes Etc. can be illustrated.

2 2SiO単位の原料としては、
ClMe2SiO(Me2SiO)SiMe2Cl、
ClMe2SiO(Me2SiO)(PhMeSiO)nSiMe2Cl、
ClMe2SiO(Me2SiO)(Ph2SiO)nSiMe2Cl、
HOMe2SiO(Me2SiO)SiMe2OH、
HOMe2SiO(Me2SiO)(PhMeSiO)nSiMe2OH、
HOMe2SiO(Me2SiO)(Ph2SiO)nSiMe2OH、
MeOMe2SiO(Me2SiO)SiMe2OMe、
MeOMe2SiO(Me2SiO)(PhMeSiO)nSiMe2OMe、
MeOMe2SiO(Me2SiO)(Ph2SiO)nSiMe2OMe
(ここで、m=5〜150の整数(平均値)、n=5〜300の整数(平均値))
等を例示することができる。
As a raw material of the R 2 2 SiO unit,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) n SiMe 2 Cl,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (PhMeSiO) n SiMe 2 Cl,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (Ph 2 SiO) n SiMe 2 Cl,
HOMe 2 SiO (Me 2 SiO) n SiMe 2 OH,
HOMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (PhMeSiO) n SiMe 2 OH,
HOMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (Ph 2 SiO) n SiMe 2 OH,
MeOMe 2 SiO (Me 2 SiO) n SiMe 2 OMe,
MeOMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (PhMeSiO) n SiMe 2 OMe,
MeOMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (Ph 2 SiO) n SiMe 2 OMe
(Where m = an integer of 5 to 150 (average value), n = an integer of 5 to 300 (average value))
Etc. can be illustrated.

また、R3 a4 bSiO(4-a-b)/2単位は、R34SiO単位、R3 24SiO0.5単位、R4 2SiO単位、及びR34 2SiO0.5単位から選ばれる1種のシロキサン単位又は2種以上のシロキサン単位の組み合わせであることを示す。その原料としては、Me2ViSiCl、MeViSiCl2、Ph2ViSiCl、PhViSiCl2等のクロロシラン類、これらのクロロシランのそれぞれに対応するメトキシシラン類等のアルコキシシラン類などを例示することができる。 R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 units are R 3 R 4 SiO units, R 3 2 R 4 SiO 0.5 units, R 4 2 SiO units, and R 3 R 4 2 SiO 0.5 units. 1 type of siloxane units selected from or a combination of 2 or more types of siloxane units. Examples of the raw material include chlorosilanes such as Me 2 ViSiCl, MeViSiCl 2 , Ph 2 ViSiCl, and PhViSiCl 2 , and alkoxysilanes such as methoxysilane corresponding to each of these chlorosilanes.

なお、本発明において、(A)成分のオルガノポリシロキサンが「実質的にR1SiO1.5単位、R2 2SiO単位、及びR3 a4 bSiO(4-a-b)/2単位からなり」とは(A)成分を構成するシロキサン単位の90モル%以上(90〜100モル%)、特には95モル%以上(95〜100モル%)がこれら3種のシロキサン単位であって、0〜10モル%、特には0〜5モル%がその他のシロキサン単位であってもよいことを意味する。具体的には、(A)成分のオルガノポリシロキサンを上記の原料化合物の共加水分解及び縮合により製造する際には、R1SiO1.5単位、R2 2SiO単位及び/又はR3 a4 bSiO(4-a-b)/2単位の他に、シラノール基を有するシロキサン単位が副生することがある。(A)成分のオルガノポリシロキサンは、かかるシラノール基含有シロキサン単位を、通常、全シロキサン単位に対して10モル%以下(0〜10モル%)、好ましくは5モル%以下(0〜5モル%)程度含有するものであってもよい。上記シラノール基含有シロキサン単位としては、例えば、R1(HO)SiO単位、R1(HO)2SiO0.5単位、R2 2(HO)SiO0.5単位、R3 a4 b(HO)SiO(3-a-b)/2単位、R3 a4 b(HO)2SiO(2-a-b)/2単位(ここで、R1〜R4、a及びbは前記の通りである)が挙げられる。 In the present invention, the organopolysiloxane of component (A) is “consisting essentially of R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 units”. Is 90 mol% or more (90 to 100 mol%), particularly 95 mol% or more (95 to 100 mol%) of the siloxane units constituting the component (A), It means that 10 mol%, especially 0 to 5 mol% may be other siloxane units. Specifically, when the organopolysiloxane of component (A) is produced by co-hydrolysis and condensation of the above raw material compounds, R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units and / or R 3 a R 4 b In addition to SiO 2 (4-ab) / 2 units, siloxane units having silanol groups may be by-produced. The organopolysiloxane of the component (A) is usually 10 mol% or less (0 to 10 mol%), preferably 5 mol% or less (0 to 5 mol%) of the silanol group-containing siloxane unit with respect to all siloxane units. ) May be contained. Examples of the silanol group-containing siloxane units include R 1 (HO) SiO units, R 1 (HO) 2 SiO 0.5 units, R 2 2 (HO) SiO 0.5 units, R 3 a R 4 b (HO) SiO ( 3-ab) / 2 units, R 3 a R 4 b (HO) 2 SiO (2-ab) / 2 units (wherein R 1 to R 4 , a and b are as defined above). .

−(B)樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン−
本発明組成物の重要な(B)成分である樹脂構造(即ち、三次元網状構造)のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、実質的にR1SiO1.5単位、R2 2SiO単位、及びR3 cdSiO(4-c-d)/2単位からなり(ここで、R1、R2、R3は上記の通りであり、cは0,1又は2で、dは1又は2で、かつc+dは2又は3である)、
上記R2 2SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個、好ましくは10〜300個、より好ましくは15〜200個、更に好ましくは20〜100個である直鎖状のシロキサン構造を部分的に含有する樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。
-(B) Organohydrogenpolysiloxane with resin structure-
The organohydrogenpolysiloxane having a resin structure (that is, a three-dimensional network structure) which is an important component (B) of the composition of the present invention is substantially composed of R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 c. It consists of H d SiO (4-cd) / 2 units (where R 1 , R 2 , R 3 are as described above, c is 0, 1 or 2, d is 1 or 2, and c + d Is 2 or 3),
At least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated, and the number of repetitions is 5 to 300, preferably 10 to 300, more preferably 15 to 200, still more preferably 20 to 100. It is an organohydrogenpolysiloxane having a resin structure partially containing a certain linear siloxane structure.

なお、R2 2SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個である構造とは、(A)成分に関して上述した通り、(B)成分中に存在するR2 2SiO単位の少なくとも一部、好ましくは50モル%以上(50〜100モル%)、特には80モル%以上(80〜100モル%)が、(B)成分の分子中で、前記一般式(1)で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサン連鎖構造を形成していることを意味する。 The structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions is 5 to 300 is present in the component (B) as described above with respect to the component (A). At least a part of the R 2 2 SiO units, preferably 50 mol% or more (50 to 100 mol%), particularly 80 mol% or more (80 to 100 mol%), It means that a linear diorganopolysiloxane chain structure represented by the formula (1) is formed.

(B)成分の分子中においても、R2 2SiO単位はポリマー分子を直鎖状に延伸するように働き、R1SiO1.5単位はポリマー分子を分岐させ或いは三次元網状化させる。R3 cdSiO(4-c-d)/2単位の中のケイ素に結合した水素原子は、上述した(A)成分が有するアルケニル基とヒドロシリル化付加反応することにより本発明の組成物を硬化させる役割を果たす。 Also in the molecule of the component (B), the R 2 2 SiO unit functions to extend the polymer molecule in a straight line, and the R 1 SiO 1.5 unit causes the polymer molecule to be branched or three-dimensional networked. The hydrogen atom bonded to silicon in the R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 unit reacts with the alkenyl group of the component (A) to cure the composition of the present invention. To play a role.

(B)成分を構成する必須の三種のシロキサン単位のモル比、即ち、R1SiO1.5単位:R2 2SiO単位:R3 cdSiO(4-c-d)/2単位のモル比は、90〜24:75〜9:50〜1、特に70〜28:70〜20:10〜2(但し、合計で100)であることが得られる硬化物の特性上好ましい。 The molar ratio of the three essential siloxane units constituting the component (B), that is, the molar ratio of R 1 SiO 1.5 unit: R 2 2 SiO unit: R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 unit is 90 to 24:75 to 9:50 to 1, particularly 70 to 28:70 to 20:10 to 2 (however, a total of 100) is preferable in terms of the properties of the cured product.

また、この(B)成分のGPCによるポリスチレン換算重量平均分子量は3,000〜1,000,000、特に10,000〜100,000の範囲にあるものが作業性、硬化物の特性などの点から好適である。   In addition, the weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC of the component (B) is in the range of 3,000 to 1,000,000, particularly 10,000 to 100,000, such as workability and cured product characteristics. To preferred.

このような樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、各単位の原料となる化合物を、生成ポリマー中で上記三種のシロキサン単位が所要のモル比となるように組み合わせ、共加水分解を行うことによって合成することができる。   Organohydrogenpolysiloxane with such a resin structure is synthesized by combining the raw materials of each unit so that the above three siloxane units have the required molar ratio in the resulting polymer and performing cohydrolysis. can do.

ここで、R1SiO1.5単位の原料としては、MeSiCl3、EtSiCl3、PhSiCl3、プロピルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシランや、それぞれのクロロシランに対応するメトキシシランなどのアルコキシシラン等が例示できる。 Here, examples of the raw material of the R 1 SiO 1.5 unit include MeSiCl 3 , EtSiCl 3 , PhSiCl 3 , propyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, and alkoxysilanes such as methoxysilane corresponding to each chlorosilane.

2 2SiO単位の原料としては、
ClMe2SiO(Me2SiO)nSiMe2Cl、
ClMe2SiO(Me2SiO)m(PhMeSiO)nSiMe2Cl、
ClMe2SiO(Me2SiO)m(Ph2SiO)nSiMe2Cl、
HOMe2SiO(Me2SiO)nSiMe2OH、
HOMe2SiO(Me2SiO)m(PhMeSiO)nSiMe2OH、
HOMe2SiO(Me2SiO)m(Ph2SiO)nSiMe2OH、
MeOMe2SiO(Me2SiO)nSiMe2OMe、
MeOMe2SiO(Me2SiO)m(PhMeSiO)nSiMe2OMe、
MeOMe2SiO(Me2SiO)m(Ph2SiO)nSiMe2OMe
(ここで、m=5〜150の整数(平均値)、n=5〜300の整数(平均値))
等を例示することができる。
As a raw material of the R 2 2 SiO unit,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) n SiMe 2 Cl,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (PhMeSiO) n SiMe 2 Cl,
ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (Ph 2 SiO) n SiMe 2 Cl,
HOMe 2 SiO (Me 2 SiO) n SiMe 2 OH,
HOMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (PhMeSiO) n SiMe 2 OH,
HOMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (Ph 2 SiO) n SiMe 2 OH,
MeOMe 2 SiO (Me 2 SiO) n SiMe 2 OMe,
MeOMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (PhMeSiO) n SiMe 2 OMe,
MeOMe 2 SiO (Me 2 SiO) m (Ph 2 SiO) n SiMe 2 OMe
(Where m = an integer of 5 to 150 (average value), n = an integer of 5 to 300 (average value))
Etc. can be illustrated.

また、R3 cdSiO(4-c-d)/2単位は、R3HSiO単位、R3 2HSiO0.5単位、H2SiO単位、R32SiO0.5単位から選ばれる1種又は2種以上のシロキサン単位の任意の組み合わせであることを示し、その原料としては、Me2HSiCl、MeHSiCl2、Ph2HSiCl、PhHSiCl2等のクロロシラン類、これらのクロロシラン類に対応するメトキシシラン類などのアルコキシシラン類などを例示することができる。 The R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 unit is one or two selected from R 3 HSiO units, R 3 2 HSiO 0.5 units, H 2 SiO units, and R 3 H 2 SiO 0.5 units. It shows that it is an arbitrary combination of the above siloxane units, and as a raw material thereof, alkoxy such as methoxysilanes corresponding to these chlorosilanes, such as chlorosilanes such as Me 2 HSiCl, MeHSiCl 2 , Ph 2 HSiCl, and PhHSiCl 2 Silanes etc. can be illustrated.

なお、本発明において、(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンが「実質的にR1SiO1.5単位、R2 2SiO単位、及びR3 cdSiO(4-c-d)/2単位からなり」とは(B)成分を構成するシロキサン単位の90モル%以上(90〜100モル%)、特には95モル%以上(95〜100モル%)がこれら3種のシロキサン単位であって、0〜10モル%、特には0〜5モル%がその他のシロキサン単位であってもよいことを意味する。具体的には、(B)成分のオルガノポリシロキサンを上記の原料化合物の共加水分解及び縮合により製造する際には、R1SiO1.5単位、R2 2SiO単位、及びR3 cdSiO(4-c-d)/2単位の他に、シラノール基を有するシロキサン単位が副生することがある。(B)成分のオルガノポリシロキサンは、かかるシラノール基含有シロキサン単位を、通常、全シロキサン単位に対して10モル%以下(0〜10モル%)、好ましくは5モル%以下(0〜5モル%)程度含有するものであってもよい。上記シラノール基含有シロキサン単位としては、例えば、R1(HO)SiO単位、R1(HO)2SiO0.5単位、R2 2(HO)SiO0.5単位、R3 cd(HO)SiO(3-c-d)/2単位、R3 cd(HO)2SiO(2-c-d)/2単位(ここで、R〜R、c及びdは前記の通りである)が挙げられる。 In the present invention, the organohydrogenpolysiloxane of the component (B) consists essentially of “R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 units. ”Means that 90 mol% or more (90 to 100 mol%), particularly 95 mol% or more (95 to 100 mol%) of the siloxane units constituting the component (B) are these three types of siloxane units, It means that -10 mol%, especially 0-5 mol% may be other siloxane units. Specifically, when the organopolysiloxane of component (B) is produced by co-hydrolysis and condensation of the above raw material compounds, R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 c H d SiO In addition to (4-cd) / 2 units, siloxane units having silanol groups may be by-produced. The organopolysiloxane of component (B) is usually 10 mol% or less (0 to 10 mol%), preferably 5 mol% or less (0 to 5 mol%) of the silanol group-containing siloxane unit with respect to all siloxane units. ) May be contained. Examples of the silanol group-containing siloxane units include R 1 (HO) SiO units, R 1 (HO) 2 SiO 0.5 units, R 2 2 (HO) SiO 0.5 units, R 3 c H d (HO) SiO (3 -cd) / 2 units, R 3 c H d (HO) 2 SiO (2-cd) / 2 units (wherein R 1 to R 3 , c and d are as described above).

(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、(A)成分中のビニル基及びアリル基の合計量に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)のモル比で0.1〜4.0となる量、特に好ましくは0.5〜3.0、更に好ましくは0.8〜2.0となる量であることが好ましい。0.1未満では硬化反応が進行せず、シリコーン硬化物を得ることが困難であり、4.0を超えると未反応のSiH基が硬化物中に多量に残存するため、硬化物の物性が経時的に変化する原因となる。   The blending amount of the organohydrogenpolysiloxane of component (B) is the molar ratio of hydrogen atoms (SiH groups) bonded to silicon atoms in component (B) relative to the total amount of vinyl groups and allyl groups in component (A). The amount is 0.1 to 4.0, particularly preferably 0.5 to 3.0, and more preferably 0.8 to 2.0. If it is less than 0.1, the curing reaction does not proceed and it is difficult to obtain a silicone cured product. If it exceeds 4.0, a large amount of unreacted SiH groups remain in the cured product. Causes changes over time.

−(C)白金族金属系触媒−
この触媒成分は、本発明の組成物の付加硬化反応を促進させるために配合されるものであり、白金系、パラジウム系、ロジウム系のものがある。コスト等の見地から白金、白金黒、塩化白金酸などの白金系のもの、例えば、H2PtCl6・mH2O,K2PtCl6,KHPtCl6・mH2O,K2PtCl4,K2PtCl4・mH2O,PtO2・mH2O,(mは、正の整数)等や、これらと、オレフィン等の炭化水素、アルコール又はビニル基含有オルガノポリシロキサンとの錯体等を例示することができる。これらの触媒は一種単独でも、2種以上の組み合わせでも使用することができる。
-(C) Platinum group metal catalyst-
This catalyst component is blended in order to promote the addition curing reaction of the composition of the present invention, and there are platinum-based, palladium-based and rhodium-based ones. From the viewpoint of cost, platinum-based materials such as platinum, platinum black, chloroplatinic acid, for example, H 2 PtCl 6 · mH 2 O, K 2 PtCl 6 , KHPtCl 6 · mH 2 O, K 2 PtCl 4 , K 2 Examples include PtCl 4 · mH 2 O, PtO 2 · mH 2 O, (where m is a positive integer), and complexes thereof with hydrocarbons such as olefins, alcohols, or vinyl group-containing organopolysiloxanes. Can do. These catalysts can be used singly or in combination of two or more.

(C)成分の配合量は、硬化のための有効量でよく、通常、前記(A)及び(B)成分の合計量に対して白金族金属として質量換算で0.1〜500ppm、特に好ましくは0.5〜100ppmの範囲で使用される。   The compounding amount of the component (C) may be an effective amount for curing, and is usually 0.1 to 500 ppm in terms of mass as a platinum group metal with respect to the total amount of the components (A) and (B), particularly preferably. Is used in the range of 0.5 to 100 ppm.

−(D)蛍光体−
(D)成分の蛍光体は、公知の蛍光体であればいずれのものであってもよく、その配合量は蛍光体含有層(2)を構成する組成物(2)中(A)〜(C)成分の合計100質量部に対して通常、0.1〜300質量部が好ましく、10〜300の範囲がより好ましい。(D)成分の蛍光体の平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。通常その平均粒径が10nm以上であればよく、好適には10nm〜10μm、より好適には10nm〜1μm程度のものが使用される。
-(D) phosphor-
The phosphor of the component (D) may be any phosphor as long as it is a known phosphor, and the blending amount thereof is (A) to (A) in the composition (2) constituting the phosphor-containing layer (2). C) 0.1-300 mass parts is preferable normally with respect to 100 mass parts of total of a component, and the range of 10-300 is more preferable. The average particle diameter of the phosphor of component (D) can be determined as a mass average value D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser light diffraction. In general, the average particle diameter may be 10 nm or more, preferably 10 nm to 10 μm, more preferably about 10 nm to 1 μm.

蛍光物質は、例えば、窒化物系半導体を発光層とする半導体発光ダイオードからの光を吸収し異なる波長の光に波長変換するものであればよい。例えば、Eu、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される、窒化物系蛍光体及び酸窒化物系蛍光体、Eu等のランタノイド系、Mn等の遷移金属系の元素により主に賦活されるアルカリ土類金属ハロゲンアパタイト蛍光体、アルカリ土類金属ホウ酸ハロゲン蛍光体、アルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体、アルカリ土類金属ケイ酸塩蛍光体、アルカリ土類金属硫化物蛍光体、アルカリ土類金属チオガレート蛍光体、アルカリ土類金属窒化ケイ素蛍光体、ゲルマン酸塩蛍光体、又は、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される希土類アルミン酸塩蛍光体、希土類ケイ酸塩蛍光体又はEu等のランタノイド系元素で主に賦活される有機及び有機錯体蛍光体、Ca−Al−Si−O−N系オキシ窒化物ガラス蛍光体等から選ばれる少なくともいずれか1以上であることが好ましい。具体例として、下記の蛍光体を使用することができるが、これに限定されない。以下において、MはSr、Ca、Ba、Mg、Znから選ばれる少なくとも1種の元素であり、XはF、Cl、Br、Iから選ばれる少なくとも1種であり、RはEu、Mn、又はEuとMnとの組合せのいずれかである。   The fluorescent substance may be any substance that absorbs light from a semiconductor light emitting diode having a nitride semiconductor as a light emitting layer and converts the light to light of a different wavelength. For example, it is mainly activated by nitride-based phosphors and oxynitride-based phosphors such as Eu and Ce, lanthanoid-based phosphors such as Eu, and transition metal-based elements such as Mn. Alkaline earth metal halogen apatite phosphor, Alkaline earth metal halogen borate phosphor, Alkaline earth metal aluminate phosphor, Alkaline earth metal silicate phosphor, Alkaline earth metal sulfide phosphor, Alkaline earth Metal thiogallate phosphors, alkaline earth metal silicon nitride phosphors, germanate phosphors, rare earth aluminate phosphors, rare earth silicate phosphors or Eu activated mainly with lanthanoid elements such as Ce At least selected from organic and organic complex phosphors activated mainly by lanthanoid elements such as Ca-Al-Si-ON-oxynitride glass phosphors, etc. It is preferably any one or more. As specific examples, the following phosphors can be used, but are not limited thereto. In the following, M is at least one element selected from Sr, Ca, Ba, Mg, and Zn, X is at least one element selected from F, Cl, Br, and I, and R is Eu, Mn, or Any combination of Eu and Mn.

Eu、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される窒化物系蛍光体は、MSi:Euなどがある。また、MSi:EuのほかMSi10:Eu、M1.8Si0.2:Eu、M0.9Si0.110:Euなどもある。 Nitride-based phosphors mainly activated by lanthanoid elements such as Eu and Ce include M 2 Si 5 N 8 : Eu. In addition to M 2 Si 5 N 8 : Eu, MSi 7 N 10 : Eu, M 1.8 Si 5 O 0.2 N 8 : Eu, M 0.9 Si 7 O 0.1 N 10 : Eu, etc. is there.

Eu、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される酸窒化物系蛍光体は、MSi:Euなどがある。 An oxynitride phosphor mainly activated by a lanthanoid element such as Eu or Ce includes MSi 2 O 2 N 2 : Eu.

Eu等のランタノイド系もしくはMn等の遷移金属系の元素により主に賦活されるアルカリ土類金属ハロゲンアパタイト蛍光体には、M(POX:Rなどがある。 An alkaline earth metal halogen apatite phosphor mainly activated by a lanthanoid-based element such as Eu or a transition metal-based element such as Mn includes M 5 (PO 4 ) 3 X: R.

アルカリ土類金属ホウ酸ハロゲン蛍光体には、MX:R(Mは、Sr、Ca、Ba、Mg、Znから選ばれる少なくとも1種である。Xは、F、Cl、Br、Iから選ばれる少なくとも1種である。Rは、Eu、Mn、EuとMn、のいずれか1以上である。)などがある。 In the alkaline earth metal borate phosphor, M 2 B 5 O 9 X: R (M is at least one selected from Sr, Ca, Ba, Mg, Zn. X is F, Cl, And at least one selected from Br and I. R is Eu, Mn, or any one of Eu and Mn.).

アルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体には、SrAl:R、SrAl1425:R、CaAl:R、BaMgAl1627:R、BaMgAl1612:R、BaMgAl1017:R(Rは、Eu、Mn、EuとMn、のいずれか1種以上である。)などがある。 Alkaline earth metal aluminate phosphors include SrAl 2 O 4 : R, Sr 4 Al 14 O 25 : R, CaAl 2 O 4 : R, BaMg 2 Al 16 O 27 : R, BaMg 2 Al 16 O 12 : R, BaMgAl 10 O 17 : R (R is one or more of Eu, Mn, Eu and Mn).

アルカリ土類金属硫化物蛍光体には、LaS:Eu、YS:Eu、GdS:Euなどがある。 Examples of the alkaline earth metal sulfide phosphor include La 2 O 2 S: Eu, Y 2 O 2 S: Eu, and Gd 2 O 2 S: Eu.

Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される希土類アルミン酸塩蛍光体には、YAl12:Ce、(Y0.8Gd0.2Al12:Ce、Y(Al0.8Ga0.212:Ce、(Y,Gd)(Al,Ga)12の組成式で表されるYAG系蛍光体などがある。また、Yの一部若しくは全部をTb、Lu等で置換したTbAl12:Ce、LuAl12:Ceなどもある。 Examples of rare earth aluminate phosphors mainly activated with lanthanoid elements such as Ce include Y 3 Al 5 O 12 : Ce, (Y 0.8 Gd 0.2 ) 3 Al 5 O 12 : Ce, Y 3 (Al 0.8 Ga 0.2) 5 O 12: Ce, and the like (Y, Gd) 3 (Al , Ga) YAG -based phosphor represented by the composition formula of 5 O 12. Further, there are Tb 3 Al 5 O 12 : Ce, Lu 3 Al 5 O 12 : Ce, etc. in which a part or all of Y is substituted with Tb, Lu or the like.

その他の蛍光体には、ZnS:Eu、ZnGeO:Mn、MGa:Euなどがある。 Other phosphors include ZnS: Eu, Zn 2 GeO 4 : Mn, MGa 2 S 4 : Eu, and the like.

上述の蛍光体は、所望に応じてEuに代えて、又は、Euに加えてTb、Cu、Ag、Au、Cr、Nd、Dy、Co、Ni、Tiから選択される1種以上を含有させることもできる。   The phosphor described above contains at least one selected from Tb, Cu, Ag, Au, Cr, Nd, Dy, Co, Ni, and Ti instead of Eu or in addition to Eu as desired. You can also.

Ca−Al−Si−O−N系オキシ窒化物ガラス蛍光体とは、モル%表示で、CaCOをCaOに換算して20〜50モル%、Alを0〜30モル%、SiOを25〜60モル%、AlNを5〜50モル%、希土類酸化物または遷移金属酸化物を0.1〜20モル%とし、5成分の合計が100モル%となるオキシ窒化物ガラスを母体材料とした蛍光体である。尚、オキシ窒化物ガラスを母体材料とした蛍光体では、窒素含有量が15質量%以下であることが好ましく、希土類酸化物イオンの他に増感剤となる他の希土類元素イオンを希土類酸化物として蛍光ガラス中に0.1〜10モル%の範囲の含有量で共賦活剤として含むことが好ましい。 The Ca—Al—Si—O—N-based oxynitride glass phosphor is expressed in terms of mol%, CaCO 3 is converted to CaO, 20 to 50 mol%, Al 2 O 3 is 0 to 30 mol%, SiO 25 to 60 mol%, AlN 5 to 50 mol%, rare earth oxide or transition metal oxide 0.1 to 20 mol%, and oxynitride glass having a total of 5 components of 100 mol% as a base material This is a phosphor. In the phosphor using oxynitride glass as a base material, the nitrogen content is preferably 15% by mass or less. In addition to the rare earth oxide ion, another rare earth element ion serving as a sensitizer is added to the rare earth oxide. It is preferable to contain as a co-activator in content in the range of 0.1-10 mol% in fluorescent glass.

また、上記蛍光体以外の蛍光体であって、同様の性能、効果を有する蛍光体も使用することができる。   Moreover, it is fluorescent substance other than the said fluorescent substance, Comprising: The fluorescent substance which has the same performance and effect can also be used.

−その他の配合剤−
本発明においての組成物には、上述した成分以外にも、必要に応じて、それ自体公知の各種の添加剤を配合することができる。
・無機充填材:
無機充填材は層(1)及び/又は層(2)の熱膨張係数を低減するためなどの目的で、添加してもよい。無機充填材としては、例えば、ヒュームドシリカ、ヒュームド二酸化チタン、ヒュームドアルミナ等の補強性無機充填材、溶融シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、二酸化チタン、酸化第二鉄、酸化亜鉛等の非補強性無機充填材等を挙げることができる。これらの無機充填材は、合計で、(A)及び(B)成分の合計量100質量部当り100質量部以下(0〜100質量部)の範囲で、かつ本発明の目的、効果を損なわない範囲で適宜配合することができる。
-Other ingredients-
In the composition of the present invention, various additives known per se can be blended as necessary, in addition to the above-described components.
・ Inorganic filler:
The inorganic filler may be added for the purpose of reducing the thermal expansion coefficient of the layer (1) and / or the layer (2). Examples of inorganic fillers include reinforcing inorganic fillers such as fumed silica, fumed titanium dioxide, and fumed alumina, fused silica, alumina, calcium carbonate, calcium silicate, titanium dioxide, ferric oxide, and zinc oxide. And non-reinforcing inorganic fillers. These inorganic fillers in total are in the range of 100 parts by mass or less (0 to 100 parts by mass) per 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B), and do not impair the objects and effects of the present invention. It can mix | blend suitably in the range.

・接着助剤:
また、本発明の組成物には、接着性を付与するため、接着助剤を必要に応じて添加できる。接着助剤としては、例えば、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)、ケイ素原子に結合したアルケニル基(例えばSi−CH=CH2基)、アルコキシシリル基(例えばトリメトキシシリル基)、エポキシ基(例えばグリシドキシプロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基)から選ばれる官能性基を少なくとも2種、好ましくは2種又は3種含有する直鎖状又は環状のケイ素原子数4〜50個、好ましくは4〜20個程度のオルガノシロキサンオリゴマー、下記一般式(2)で示されるオルガノオキシシリル変性イソシアヌレート化合物及び/又はその加水分解縮合物(オルガノシロキサン変性イソシアヌレート化合物)などが挙げられる。
・ Adhesion aid:
Moreover, in order to provide adhesiveness to the composition of this invention, an adhesion assistant can be added as needed. Examples of the adhesion assistant include a hydrogen atom (SiH group) bonded to a silicon atom in one molecule, an alkenyl group (for example, Si—CH═CH 2 group) bonded to a silicon atom, and an alkoxysilyl group (for example, trimethoxysilyl). Group) and an epoxy group (for example, glycidoxypropyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group) a linear or cyclic silicon atom containing at least two, preferably two or three functional groups 4 to 50, preferably about 4 to 20 organosiloxane oligomers, organooxysilyl-modified isocyanurate compound represented by the following general formula (2) and / or hydrolysis condensate thereof (organosiloxane-modified isocyanurate compound) Etc.

Figure 0006115593
Figure 0006115593

〔式中、R19は、下記式(3) [Wherein R 19 represents the following formula (3)

Figure 0006115593
Figure 0006115593

(ここで、R20は水素原子又は炭素原子数1〜6の一価炭化水素基であり、sは1〜6、特に1〜4の整数である。)
で表される有機基、又は脂肪族不飽和結合を含有する一価炭化水素基であるが、R19の少なくとも1個は式(3)の有機基である。〕
(Here, R 20 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and s is an integer of 1 to 6, particularly 1 to 4.)
Or a monovalent hydrocarbon group containing an aliphatic unsaturated bond, at least one of R 19 is an organic group of the formula (3). ]

一般式(2)におけるR19の脂肪族不飽和結合を含有する一価炭化水素基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等の炭素原子数2〜8、特に2〜6のアルケニル基、シクロヘキセニル基等の炭素原子数6〜8のシクロアルケニル基などが挙げられる。また、式(3)におけるR20の一価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等のアルキル基、上記R19について例示したアルケニル基及びシクロアルケニル基、さらにフェニル基等のアリール基などの炭素原子数1〜8、特に1〜6の一価炭化水素基が挙げられ、好ましくはアルキル基である。 Examples of the monovalent hydrocarbon group containing an aliphatic unsaturated bond represented by R 19 in the general formula (2) include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, a pentenyl group, and a hexenyl group. And a cycloalkenyl group having 6 to 8 carbon atoms, such as an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, particularly a cyclohexenyl group, and the like. Examples of the monovalent hydrocarbon group for R 20 in the formula (3) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a cyclohexyl group. alkyl group such as, exemplified alkenyl and cycloalkenyl groups for the above R 19, further monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, particularly 1 to 6 such as an aryl group such as a phenyl group and the like, preferably Is an alkyl group.

さらに、接着助剤としては、1,5−グリシドキシプロピル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1−グリシドキシプロピル−5−トリメトキシシリルエチル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン等、並びに、下記式に示される化合物が例示される。   Further, as adhesion assistants, 1,5-glycidoxypropyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1-glycidoxypropyl-5-trimethoxysilylethyl-1,3,5 , 7-tetramethylcyclotetrasiloxane, and the compounds represented by the following formulas are exemplified.

Figure 0006115593
Figure 0006115593

(式中、g及びhは各々0〜50の範囲の正の整数であって、しかもg+hが2〜50、好ましくは4〜20を満足するものである。) (In the formula, g and h are each a positive integer in the range of 0 to 50, and g + h satisfies 2 to 50, preferably 4 to 20.)

Figure 0006115593
Figure 0006115593

Figure 0006115593
Figure 0006115593

上記の有機ケイ素化合物の内、得られる硬化物に特に良好な接着性をもたらす化合物としては、一分子中にケイ素原子結合アルコキシ基と、アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素原子(SiH基)とを有する有機ケイ素化合物である。   Among the above-mentioned organosilicon compounds, compounds having particularly good adhesion to the resulting cured product have a silicon atom-bonded alkoxy group and an alkenyl group or silicon atom-bonded hydrogen atom (SiH group) in one molecule. It is an organosilicon compound.

接着助剤の配合量は、(A)成分100質量部に対して、通常10質量部以下(即ち、0〜10質量部)、好ましくは0.1〜8質量部、より好ましくは0.2〜5質量部程度配合することができる。多すぎると硬化物の硬度に悪影響を及ぼしたり表面タック性を高めたりする恐れがある。   The compounding amount of the adhesion assistant is usually 10 parts by mass or less (that is, 0 to 10 parts by mass), preferably 0.1 to 8 parts by mass, more preferably 0.2 to 100 parts by mass of the component (A). About 5 parts by mass can be blended. If the amount is too large, the hardness of the cured product may be adversely affected and surface tackiness may be increased.

さらに必要に応じて本発明の熱硬化性シリコーン樹脂シートが常温で固体ないし半固体を維持し液状にならない程度に液状シリコーン成分を添加することができる。このような液状シリコーン成分としては、常温(25℃)で粘度1〜100,000mPa・s程度のものが好ましく、例えばビニルシロキサン、ハイドロジェンシロキサン、アルコキシシロキサン、ハイドロキシシロキサン及びこれらの混合物が挙げられ、添加量はシリコーン組成物シートが常温で固体ないし半固体を維持することが条件であり、通常シリコーン組成物シート全体に対して50質量%以下である。   Further, if necessary, a liquid silicone component can be added to such an extent that the thermosetting silicone resin sheet of the present invention maintains a solid or semi-solid at room temperature and does not become liquid. As such a liquid silicone component, those having a viscosity of about 1 to 100,000 mPa · s at normal temperature (25 ° C.) are preferable, and examples thereof include vinyl siloxane, hydrogen siloxane, alkoxy siloxane, hydroxy siloxane, and mixtures thereof. The addition amount is a condition that the silicone composition sheet maintains a solid or semi-solid at room temperature, and is usually 50% by mass or less based on the entire silicone composition sheet.

・反応抑制剤:
本発明の組成物には必要に応じて適宜反応抑制剤を配合することができる。反応抑制剤はヒドロシリル化による硬化反応を抑制し、保存性を改善する目的で添加する。該反応抑制剤としては、例えば、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンのようなビニル基高含有オルガノポリシロキサン、トリアリルイソシアヌレート、アルキルマレエート、アセチレンアルコール類及びそのシラン変性物及びシロキサン変性物、ハイドロパーオキサイド、テトラメチルエチレンジアミン、ベンゾトリアゾール及びこれらの混合物からなる群から選ばれる化合物等が挙げられる。反応抑制剤は(A)成分100質量部当り通常0.001〜1.0質量部、好ましくは0.005〜0.5質量部添加される。
・ Reaction inhibitors:
A reaction inhibitor can be appropriately added to the composition of the present invention as necessary. The reaction inhibitor is added for the purpose of suppressing the curing reaction due to hydrosilylation and improving the storage stability. Examples of the reaction inhibitor include high vinyl group-containing organopolysiloxanes such as tetramethyltetravinylcyclotetrasiloxane, triallyl isocyanurate, alkyl maleate, acetylene alcohols and their silane-modified products and siloxane-modified products, Examples thereof include compounds selected from the group consisting of peroxide, tetramethylethylenediamine, benzotriazole, and mixtures thereof. The reaction inhibitor is usually added in an amount of 0.001 to 1.0 part by mass, preferably 0.005 to 0.5 part by mass, per 100 parts by mass of the component (A).

本発明の組成物の一典型例として、実質的に(A)〜(D)成分からなる蛍光体含有シリコーン樹脂シートと実質的に(A)〜(C)成分からなる透明あるいは半透明なシリコーン樹脂シートが貼り合わされた二層のシリコーン樹脂シートが挙げられる。   As a typical example of the composition of the present invention, a phosphor-containing silicone resin sheet consisting essentially of components (A) to (D) and a transparent or translucent silicone consisting essentially of components (A) to (C) A two-layer silicone resin sheet on which a resin sheet is bonded may be mentioned.

−調製及び硬化条件−
本発明のシリコーン樹脂シートの製造に使用される組成物(2)は、(A)〜(D)成分及び必要に応じて配合される任意成分、あるいは組成物(1)は(A)〜(C)成分及び必要に応じて配合される任意成分を均一に混合することによって、それぞれ、蛍光体の含有、あるいは非含有のシリコーン樹脂組成物を調製する。通常は、硬化が進行しないように2液に分けて保存され、使用時に2液を混合して次工程に移される。勿論、前述したアセチレンアルコール等の反応抑制剤を少量添加して1液として用いることもできる。
-Preparation and curing conditions-
The composition (2) used for the production of the silicone resin sheet of the present invention includes the components (A) to (D) and optional components blended as necessary, or the composition (1) comprises (A) to ( C) A silicone resin composition containing or not containing a phosphor is prepared by uniformly mixing the component and optional components blended as necessary. Usually, the two liquids are stored so that the curing does not proceed, and the two liquids are mixed at the time of use and transferred to the next step. Of course, a small amount of a reaction inhibitor such as acetylene alcohol described above can be added and used as one liquid.

本発明の二層積層シリコーン樹脂シートを製造するには、この蛍光体含有シリコーン樹脂組成物(2)と蛍光体を含有しない透明な熱硬化性シリコーン樹脂組成物(1)を個別に剥離フィルム上にフィルムコータや熱プレス機でシート状に加工する。
通常、蛍光体を含有するシリコーン樹脂組成物はフィルムコータなどで好ましくは20〜100μmのシート厚みでシート状に加工する。
In order to produce the two-layer laminated silicone resin sheet of the present invention, the phosphor-containing silicone resin composition (2) and the transparent thermosetting silicone resin composition (1) containing no phosphor are individually separated on a release film. Then, it is processed into a sheet with a film coater or hot press.
Usually, the phosphor-containing silicone resin composition is processed into a sheet shape with a film coater or the like, preferably with a sheet thickness of 20 to 100 μm.

一方、蛍光体を含まない透明なシリコーン樹脂組成物(1)は同様な方法でシート状に加工するが、シートの厚みは好ましくは20〜500μmである。薄すぎると、外力から素子や素子とリードを電気的に接続する金線を保護することができない。保護層としては500μmの厚みがあれば十分で、厚すぎると、それ以上の効果は期待できずコスト面から望ましいものではない。   On the other hand, the transparent silicone resin composition (1) containing no phosphor is processed into a sheet by the same method, but the thickness of the sheet is preferably 20 to 500 μm. If it is too thin, the gold wire that electrically connects the element and the element to the lead cannot be protected from external force. As the protective layer, a thickness of 500 μm is sufficient, and if it is too thick, no further effect can be expected, which is not desirable from the viewpoint of cost.

ここで、それぞれ個別に成型加工した二種類のシリコーン樹脂シートを熱ラミネータや熱プレスで貼り合わせることで上下面に剥離フィルムを有する二層シリコーン樹脂シートを製造することができる。さらに他の方法としては蛍光体含有シリコーン樹脂組成物(2)で先にフィルムを作成しその上に再度蛍光体非含有の透明な熱硬化性シリコーン樹脂組成物をスプレーコート、フィルムコータや熱プレス機でシート状に加工し作成できる。製造した二層シリコーン樹脂シートは通常冷凍して保存する。   Here, a two-layer silicone resin sheet having release films on the upper and lower surfaces can be produced by bonding two types of individually molded silicone resin sheets with a thermal laminator or a hot press. As another method, a phosphor-containing silicone resin composition (2) is first used to form a film, and then a phosphor-free transparent thermosetting silicone resin composition is spray-coated again on the film coater or hot press. Can be processed into a sheet with a machine. The produced two-layer silicone resin sheet is usually frozen and stored.

ここで得られた二層の熱硬化性シリコーン樹脂シートを用いてLED素子を封止する方法としては下記方法が例示される。   The following method is illustrated as a method of sealing an LED element using the two-layered thermosetting silicone resin sheet obtained here.

例えば、図2(Aは本発明のシート11を、LED素子3を搭載したセラミックス基板5に貼付しようとしている状態を概念的に示す断面図で、Bは貼付した状態を概念的に示す断面図である)で示されるような外部接続端子(図示略)を有するセラミックス基板5上に青色LED3を樹脂ダイボンド材で接合した後、外部接続端子とLED素子3を、金線4を使用して接続する。この形式のLED装置を封止するには本発明の二層シリコーン樹脂シートを、LED搭載基板全体が被覆できるように貼付し、加熱してLED素子全体を硬化封止する。   For example, FIG. 2 (A is a cross-sectional view conceptually showing a state in which the sheet 11 of the present invention is being applied to the ceramic substrate 5 on which the LED element 3 is mounted, and B is a cross-sectional view conceptually showing the attached state. After the blue LED 3 is bonded to the ceramic substrate 5 having an external connection terminal (not shown) as shown by a resin die bond material, the external connection terminal and the LED element 3 are connected using the gold wire 4. To do. In order to seal this type of LED device, the two-layer silicone resin sheet of the present invention is stuck so that the entire LED mounting substrate can be covered, and heated to cure and seal the entire LED element.

本発明のシリコーン樹脂シート11は加熱することで硬化するが硬化過程で一旦軟化しその後に粘度の上昇、固体化に向かうので、金線4上に貼付しても金線4にダメージを与えることなく封止することができる。通常、この方式で封止した複数のLED3を搭載した基板5はシリコーン樹脂シートで被覆し、硬化封止したあとダイシングし個片化する。外部端子との接続が金線の変わりに金バンプなどで接合するLED装置においても金線接続の場合同様に封止することができる。   Although the silicone resin sheet 11 of the present invention is cured by heating, it softens once during the curing process, and then increases in viscosity and solidifies, and therefore damages the gold wire 4 even if it is applied on the gold wire 4. It can seal without. Usually, the substrate 5 on which a plurality of LEDs 3 sealed in this manner are mounted is coated with a silicone resin sheet, cured and sealed, and then diced into individual pieces. An LED device in which the connection with the external terminal is joined by a gold bump or the like instead of the gold wire can be sealed in the same manner in the case of the gold wire connection.

また、リフレクター6内に搭載されたLED素子の場合は図3(Aは本発明のシート11を、LED素子3を搭載した外部リード7に貼付しようとしている状態を概念的に示す断面図で、Bは貼付した状態を概念的に示す断面図である)で示されるように二層からなるシリコーン樹脂シート11をLED素子3と外部リード7とを接続した金線4が被覆されるように貼付し、加熱し硬化封止する。
また、透明なシリコーン保護層も同時に硬化できることから、従来の蛍光体を含有する注型用シリコーン樹脂を流し込んで、蛍光体を沈降させ硬化させる方式に比べ色ずれもなく、均一な白色光を効率よく生産できる。
Further, in the case of the LED element mounted in the reflector 6, FIG. 3 (A is a cross-sectional view conceptually showing a state in which the sheet 11 of the present invention is to be attached to the external lead 7 mounted with the LED element 3, (B is a cross-sectional view conceptually showing the state of being affixed.) As shown in FIG. 2, the two-layer silicone resin sheet 11 is affixed so that the gold wire 4 connecting the LED element 3 and the external lead 7 is covered. Then, it is heated and cured and sealed.
In addition, since the transparent silicone protective layer can be cured at the same time, there is no color shift compared to a conventional method in which a silicone resin for casting containing a phosphor is poured and the phosphor is allowed to settle and cure. Can be produced well.

硬化しシリコーン樹脂は高い硬度と表面タックのない可撓性硬化物を形成し、蛍光体を含有したシリコーン樹脂層と透明なシリコーン樹脂層からなっているため、LEDから発光する青色を色ずれもなく、均一な白色光に変換することができる。   The cured silicone resin forms a flexible cured product with high hardness and no surface tack, and consists of a silicone resin layer containing a phosphor and a transparent silicone resin layer. And can be converted into uniform white light.

フリップチップ形式で基板とLED素子を接合する場合は、図4に示されるようにあらかじめLED素子3と外部リード7を金バンプ9などで接合した後、シリカなどを含有するシリコーン樹脂やエポキシ樹脂からなるアンダーフィル材8を注入し、硬化させ、バンプ9と素子3の保護を行う。その後、二層からなるシリコーン樹脂シート11を貼付し、加熱することでシートを硬化させる。蛍光体を含有するシリコーン樹脂層2と透明なシリコーン樹脂層1の厚みで色合いや封止形状を制御することができる。   When the substrate and the LED element are bonded in a flip-chip format, as shown in FIG. 4, after the LED element 3 and the external lead 7 are bonded in advance with a gold bump 9 or the like, a silicon resin or an epoxy resin containing silica or the like is used. The underfill material 8 is injected and cured to protect the bumps 9 and the elements 3. Then, the silicone resin sheet 11 which consists of two layers is stuck, and a sheet | seat is hardened by heating. The hue and sealing shape can be controlled by the thickness of the silicone resin layer 2 containing the phosphor and the transparent silicone resin layer 1.

なお、二層シリコーン樹脂シートのLED素子上への圧着は、通常、室温〜300℃以下で、10MPa以下(通常0.01〜10MPa)の加圧下で行うことができ、好ましくは5MPa以下(例えば0.1〜5MPa)、特には0.5〜5MPaである。   The pressure-bonding of the two-layer silicone resin sheet onto the LED element can be usually performed at room temperature to 300 ° C. under a pressure of 10 MPa or less (usually 0.01 to 10 MPa), preferably 5 MPa or less (for example, 0.1-5 MPa), in particular 0.5-5 MPa.

本発明の二層シリコーン樹脂シートは前述したようにAステージ(未反応)状態のシリコーン樹脂でできているため、上記温度で容易に軟化し、その後固体化する。そのため、金線で接続されているようなLEDも金線を変形させることなく封止することができる。   Since the two-layer silicone resin sheet of the present invention is made of an A-stage (unreacted) silicone resin as described above, it is easily softened at the above temperature and then solidified. Therefore, an LED connected by a gold wire can be sealed without deforming the gold wire.

Aステージ(未反応状態)で加熱時の粘度が低くなりすぎる場合、あらかじめ50℃〜100℃の温度雰囲気下で希望する粘度になるまで放置し、反応を進めることができる。これは本発明の範囲内で自由に選択できる内容である。   When the viscosity at the time of heating becomes too low in the A stage (unreacted state), the reaction can proceed by leaving it in advance in a temperature atmosphere of 50 ° C. to 100 ° C. until the desired viscosity is reached. This is a content that can be freely selected within the scope of the present invention.

また、二層を形成するシリコーン樹脂組成物(2)と(1)は同一種類の組成物であることがもっとも望ましい。組成物(2)と(1)とが同一組成でない場合には、望ましくはそれぞれの樹脂組成物の軟化温度の差が10℃以内にあることが好ましく、5℃以内であることがより好ましい。ただ、軟化温度が大きくずれていてもLEDの構造によっては問題とならない場合もある。ここで、「軟化温度」とは、樹脂が軟化する温度で軟化点であり各種方法があるが、本発明においてはSII社製のSS6100のような装置を用い、サーモメカニカルアナリシス(TMA)でペネトレーション法(針が樹脂に埋まっていく過程を測定し、試料の変形から軟化温度を測定する方法)により測定される軟化温度を意味する。シリコーン樹脂組成物(2)及び(1)の軟化温度は通常35〜100℃、好ましくは40〜80℃の範囲である。   The silicone resin compositions (2) and (1) forming the two layers are most preferably the same type of composition. When the compositions (2) and (1) are not the same composition, the difference in softening temperature between the respective resin compositions is preferably within 10 ° C., more preferably within 5 ° C. However, even if the softening temperature is greatly deviated, there may be no problem depending on the structure of the LED. Here, the “softening temperature” is a temperature at which the resin softens, and there are various methods. In the present invention, an apparatus such as SS6100 manufactured by SII is used, and thermomechanical analysis (TMA) is used for penetration. This means the softening temperature measured by the method (a method of measuring the process in which the needle is buried in the resin and measuring the softening temperature from the deformation of the sample). The softening temperature of the silicone resin compositions (2) and (1) is usually 35 to 100 ° C, preferably 40 to 80 ° C.

硬化は、通常50〜200℃、特に70〜180℃で1〜30分、特に2〜10分である。また、50〜200℃、特に70〜180℃で0.1〜10時間、特に1〜4時間のポストキュアを行うことができる。   Curing is usually 50-200 ° C., in particular 70-180 ° C., for 1-30 minutes, in particular 2-10 minutes. Further, post-curing can be performed at 50 to 200 ° C., particularly 70 to 180 ° C. for 0.1 to 10 hours, particularly 1 to 4 hours.

以下、合成例、調製例、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記例で粘度は25℃の値である。また、重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算値である。   EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example, a preparation example, an Example, and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example. In the following examples, the viscosity is a value of 25 ° C. The weight average molecular weight is a polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC).

[合成例1]
−ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A1)−
PhSiCl3で示されるオルガノシラン:27mol、ClMe2SiO(Me2SiO)33SiMe2Cl:1mol、MeViSiCl2:3molをトルエン溶媒に溶解後、水中に滴下し、共加水分解し、更に水洗、アルカリ洗浄にて中和、脱水後、溶剤をストリップし、ビニル基含有樹脂(A1)を合成した。この樹脂は、構成するシロキサン単位及び[-SiMe2O-(Me2SiO)33-SiMe22/2]で表される構造の構成比が式:[PhSiO3/2]0.27[-SiMe2O-(Me2SiO)33-SiMe22/2] 0.01[MeViSiO2/2] 0.03で示される。この樹脂の重量平均分子量は62,000、融点は60℃であった。
[Synthesis Example 1]
-Vinyl group-containing organopolysiloxane resin (A1)-
Organosilane represented by PhSiCl 3 : 27 mol, ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) 33 SiMe 2 Cl: 1 mol, MeViSiCl 2 : 3 mol was dissolved in toluene solvent, dropped into water, co-hydrolyzed, further washed with water, alkali After neutralization and dehydration by washing, the solvent was stripped to synthesize a vinyl group-containing resin (A1). This resin has a constitutional ratio of a siloxane unit and a structure represented by [—SiMe 2 O— (Me 2 SiO) 33 —SiMe 2 O 2/2 ] represented by the formula: [PhSiO 3/2 ] 0.27 [ -SiMe 2 O- (Me 2 SiO) 33 -SiMe 2 O 2/2 ] 0.01 [MeViSiO 2/2 ] 0.03 . This resin had a weight average molecular weight of 62,000 and a melting point of 60 ° C.

[合成例2]
−ヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B1)−
PhSiCl3で示されるオルガノシラン:27mol、ClMe2SiO(Me2SiO)33SiMe2Cl:1mol、MeHSiCl2:3molをトルエン溶媒に溶解後、水中に滴下し、共加水分解し、更に水洗、アルカリ洗浄にて中和、脱水後、溶剤をストリップし、ヒドロシリル基含有樹脂(B1)を合成した。この樹脂は、構成するシロキサン単位及び[-SiMe2O-(Me2SiO)33-SiMe22/2]で表される構造の構成比が式:[PhSiO3/2]0.27[-SiMe2O-(Me2SiO)33-SiMe22/2] 0.01[MeViSiO2/2] 0.03で示される。この樹脂の重量平均分子量は58,000、融点は58℃であった。
[Synthesis Example 2]
-Hydrosilyl group-containing organopolysiloxane resin (B1)-
Organosilane represented by PhSiCl 3 : 27 mol, ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) 33 SiMe 2 Cl: 1 mol, MeHSiCl 2 : 3 mol were dissolved in toluene solvent, dropped into water, co-hydrolyzed, further washed with water, alkali After neutralization and dehydration by washing, the solvent was stripped to synthesize a hydrosilyl group-containing resin (B1). This resin has a constitutional ratio of a siloxane unit and a structure represented by [—SiMe 2 O— (Me 2 SiO) 33 —SiMe 2 O 2/2 ] represented by the formula: [PhSiO 3/2 ] 0.27 [ -SiMe 2 O- (Me 2 SiO) 33 -SiMe 2 O 2/2 ] 0.01 [MeViSiO 2/2 ] 0.03 . This resin had a weight average molecular weight of 58,000 and a melting point of 58 ° C.

[合成例3]
−ビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A2)−
PhSiCl3で示されるオルガノシラン:27mol、ClMe2SiO(Me2SiO)33SiMe2Cl:1mol、Me2ViSiCl:3molをトルエン溶媒に溶解後、水中に滴下し、共加水分解し、更に水洗、アルカリ洗浄にて中和、脱水後、溶剤をストリップし、ビニル基含有樹脂(A2)を合成した。この樹脂は、構成するシロキサン単位及び[-SiMe2O-(Me2SiO)33-SiMe22/2]で表される構造の構成比が式:[PhSiO3/2]0.27[-SiMe2O-(Me2SiO)33-SiMe22/2] 0.01[MeViSiO1/2] 0.03で示される。この樹脂の重量平均分子量は63,000、融点は63℃であった。
[Synthesis Example 3]
-Vinyl group-containing organopolysiloxane resin (A2)-
Organosilane represented by PhSiCl 3 : 27 mol, ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) 33 SiMe 2 Cl: 1 mol, Me 2 ViSiCl: 3 mol dissolved in toluene solvent, dropped into water, cohydrolyzed, further washed with water, After neutralization and dehydration by alkali washing, the solvent was stripped to synthesize a vinyl group-containing resin (A2). This resin has a constitutional ratio of a siloxane unit and a structure represented by [—SiMe 2 O— (Me 2 SiO) 33 —SiMe 2 O 2/2 ] represented by the formula: [PhSiO 3/2 ] 0.27 [ -SiMe 2 O- (Me 2 SiO) 33 -SiMe 2 O 2/2 ] 0.01 [Me 2 ViSiO 1/2 ] 0.03 . This resin had a weight average molecular weight of 63,000 and a melting point of 63 ° C.

[合成例4]
−ヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B2)−
PhSiCl3で示されるオルガノシラン:27mol、ClMe2SiO(Me2SiO)33SiMe2Cl:1mol、Me2HSiCl:3molをトルエン溶媒に溶解後、水中に滴下し、共加水分解し、更に水洗、アルカリ洗浄にて中和、脱水後、溶剤をストリップし、ヒドロシリル基含有樹脂(B2)を合成した。この樹脂は、構成するシロキサン単位及び[-SiMe2O-(Me2SiO)33-SiMe22/2]で表される構造の構成比が式:[PhSiO3/2]0.27[-SiMe2O-(Me2SiO)33-SiMe22/2] 0.01[MeHSiO1/2] 0.03で示される。この樹脂の重量平均分子量は57,000、融点は56℃であった。
[Synthesis Example 4]
-Hydrosilyl group-containing organopolysiloxane resin (B2)-
Organosilane represented by PhSiCl 3 : 27 mol, ClMe 2 SiO (Me 2 SiO) 33 SiMe 2 Cl: 1 mol, Me 2 HSiCl: 3 mol dissolved in toluene solvent, dropped into water, cohydrolyzed, further washed with water, After neutralization and dehydration by alkali washing, the solvent was stripped to synthesize a hydrosilyl group-containing resin (B2). This resin has a constitutional ratio of a siloxane unit and a structure represented by [—SiMe 2 O— (Me 2 SiO) 33 —SiMe 2 O 2/2 ] represented by the formula: [PhSiO 3/2 ] 0.27 [ -SiMe 2 O- (Me 2 SiO) 33 -SiMe 2 O 2/2 ] 0.01 [Me 2 HSiO 1/2 ] 0.03 . This resin had a weight average molecular weight of 57,000 and a melting point of 56 ° C.

[調製例1]
(組成物(2)の調製例)
合成例1のビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A1):189g、合成例2のヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B1):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1gを加えたベース組成物90質量部に対して、さらに粒径5μm(平均粒径)の蛍光体(YAG)を10質量部加え60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物(2)を調製した。この組成物(2)は、25℃において可塑性の固体であった。得られた組成物の軟化点をTMAによるペネトレーション法[使用装置:SII社製SS6100]で測定したところ、60℃であった。
[Preparation Example 1]
(Preparation example of composition (2))
Vinyl group-containing organopolysiloxane resin (A1) of Synthesis Example 1: 189 g, hydrosilyl group-containing organopolysiloxane resin (B1) of Synthesis Example 2: 189 g, acetylene alcohol-based ethynylcyclohexanol as a reaction inhibitor: 0.2 g, Octyl alcohol modified solution of chloroplatinic acid: 90 parts by mass of the base composition to which 0.1 g was added, and 10 parts by mass of a phosphor (YAG) having a particle size of 5 μm (average particle size) was added and heated to 60 ° C. The resulting mixture was thoroughly stirred with a planetary mixer to prepare a silicone resin composition (2). This composition (2) was a plastic solid at 25 ° C. It was 60 degreeC when the softening point of the obtained composition was measured by the penetration method by TMA [Use apparatus: SS6100 by SII company].

〔調製例2〕
(組成物(1)の調製例)
合成例1のビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(A1):189g、合成例2のヒドロシリル基含有オルガノポリシロキサン樹脂(B1):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物(1)を調製した。この組成物(1)は、25℃において可塑性の固体であった。得られた組成物の軟化点を調製例1と同様にして測定したところ、62℃であった。
[Preparation Example 2]
(Preparation example of composition (1))
Vinyl group-containing organopolysiloxane resin (A1) of Synthesis Example 1: 189 g, hydrosilyl group-containing organopolysiloxane resin (B1) of Synthesis Example 2: 189 g, acetylene alcohol-based ethynylcyclohexanol as a reaction inhibitor: 0.2 g, Octyl alcohol-modified solution of chloroplatinic acid: The composition to which 0.1 g was added was thoroughly stirred with a planetary mixer heated to 60 ° C. to prepare a silicone resin composition (1). This composition (1) was a plastic solid at 25 ° C. It was 62 degreeC when the softening point of the obtained composition was measured like preparation example 1. FIG.

[調製例3]
合成例1で調製したシリコーン樹脂組成物に代えて、繰り返し単位数5〜300個の直鎖状ジオルガノポリシロキサン連鎖構造を含有せず常温で液体のビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂を主剤とする市販の付加反応硬化型シリコーンワニスであるKJR−632(商品名、信越化学工業(株)製)90質量部に対して、実施例1と同じ粒径5μm(平均粒径)の蛍光体(YAG)10質量部を加えた後、60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく攪拌した組成物を製造した。
[Preparation Example 3]
Instead of the silicone resin composition prepared in Synthesis Example 1, the main component is a vinyl group-containing organopolysiloxane resin that does not contain a linear diorganopolysiloxane chain structure having 5 to 300 repeating units and is liquid at room temperature. A phosphor (YAG) having the same particle diameter of 5 μm (average particle diameter) as in Example 1 with respect to 90 parts by mass of KJR-632 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which is a commercially available addition reaction curable silicone varnish. ) After adding 10 parts by mass, a well-stirred composition was produced with a planetary mixer heated to 60 ° C.

[調製例4]
合成例1で調製したビニル基含有オルガノポリシロキサン(A1)に代えて、繰り返し単位数5〜300個の直鎖状ジオルガノポリシロキサン連鎖構造を含有せず常温で液体のビニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂を主剤とする市販の付加反応硬化型シリコーンワニスであるKJR−632L−1(商品名、信越化学工業(株)製)70質量部に対して、実施例1と同じ粒径5μm(平均粒径)の蛍光体(YAG)30質量部を加えた後、60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく攪拌した組成物を製造した。
[Preparation Example 4]
Instead of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A1) prepared in Synthesis Example 1, a vinyl group-containing organopolysiloxane that does not contain a linear diorganopolysiloxane chain structure having 5 to 300 repeating units and is liquid at room temperature The same particle size of 5 μm (average particle size) as in Example 1 with respect to 70 parts by mass of KJR-632L-1 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which is a commercially available addition reaction curable silicone varnish mainly composed of resin. (Diameter) phosphor (YAG) 30 parts by mass was added, and then a well-stirred composition was produced with a planetary mixer heated to 60 ° C.

〔実施例1〕
(1)蛍光体含有シリコーン樹脂シートの作製
調製例1の組成物(2)を、フッ素樹脂コートしたPETフィルム(剥離フィルム)2枚の間に挟み、熱プレス機を用いて80℃で5tの圧力下で5分間圧縮成型を行い、両面にPETフィルムが付着した厚さ50μmのシート状に成形した。
[Example 1]
(1) Production of phosphor-containing silicone resin sheet The composition (2) of Preparation Example 1 was sandwiched between two fluororesin-coated PET films (peeling films), and 5 t at 80 ° C. using a heat press. Compression molding was performed for 5 minutes under pressure to form a sheet having a thickness of 50 μm with PET films attached on both sides.

(2)透明シリコーン樹脂シートの作製
調製例2の組成物(1)を、PETフィルム(加圧用ベースフィルム)とフッ素樹脂コートしたPETフィルム(剥離フィルム)との間に挟み、熱プレス機を用いて80℃で5tの圧力下で5分間圧縮成型を行い、二つの面にそれぞれのフィルムが付着した厚さ100μmのシート状に成形した。
(2) Production of transparent silicone resin sheet The composition (1) of Preparation Example 2 was sandwiched between a PET film (pressurizing base film) and a fluororesin-coated PET film (peeling film), and a hot press was used. Then, compression molding was performed at 80 ° C. under a pressure of 5 t for 5 minutes to form a sheet having a thickness of 100 μm with the respective films attached to the two surfaces.

(3)二層シリコーン樹脂シートの作製
(1)で作製した蛍光体含有シリコーン樹脂シートの片方の剥離フィルムを剥がし、(2)で作製した透明シリコーン樹脂シートの剥離フィルムを剥がし、それぞれのシートの樹脂露出面を合わせて、貼り合わせ装置を使用して、40℃の温度で加圧しボイドや隙間もない状態で貼り合わせた。得られた二層シリコーン樹脂シートは、図1に示すように、蛍光体含有シリコーン樹脂層2側にフッ素樹脂コートしたPETフィルム10bが貼付され、透明なシリコーン樹脂層1側にPETフィルム10aが貼付された、シート11である。
(3) Preparation of two-layer silicone resin sheet The release film on one side of the phosphor-containing silicone resin sheet prepared in (1) is peeled off, and the release film of the transparent silicone resin sheet prepared in (2) is peeled off. The resin exposed surfaces were put together and pressed together at a temperature of 40 ° C. using a bonding apparatus, and bonded together without any voids or gaps. As shown in FIG. 1, the obtained two-layer silicone resin sheet has a fluororesin-coated PET film 10b attached to the phosphor-containing silicone resin layer 2 side, and a PET film 10a attached to the transparent silicone resin layer 1 side. Is the sheet 11.

〔調製例5〕
(組成物(2)の調製例)
合成例3のビニル基含有樹脂(A2):189g、合成例4のヒドロシリル基含有樹脂(B2):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1gを加えたベース組成物70質量部に対して、さらに粒径5μm(平均粒径)の蛍光体(YAG)を30質量部加えた後、これらを60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。得られた組成物の軟化点を調製例1と同様にして測定したところ、65℃であった。
[Preparation Example 5]
(Preparation example of composition (2))
Vinyl group-containing resin (A2) of synthesis example 3: 189 g, hydrosilyl group-containing resin (B2) of synthesis example 4: 189 g, acetylene alcohol-based ethynylcyclohexanol as a reaction inhibitor: 0.2 g, octyl alcohol of chloroplatinic acid Denaturing solution: After adding 70 parts by mass of phosphor (YAG) having a particle size of 5 μm (average particle size) to 70 parts by mass of the base composition to which 0.1 g was added, these were heated to 60 ° C. The mixture was thoroughly stirred with a planetary mixer to prepare a silicone resin composition. This composition was a plastic solid at 25 ° C. When the softening point of the obtained composition was measured in the same manner as in Preparation Example 1, it was 65 ° C.

〔調製例6〕
(組成物(1)の調製例)
合成例3のビニル基含有樹脂(A2):189g、合成例4のヒドロシリル基含有樹脂 (B2):189g、反応抑制剤としてアセチレンアルコール系のエチニルシクロヘキサノール:0.2g、塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液:0.1gを加えた組成物を60℃に加温したプラネタリーミキサーでよく撹拌し、シリコーン樹脂組成物を調製した。この組成物は、25℃において可塑性の固体であった。得られた組成物の軟化点を調製例1と同様にして測定したところ、63℃であった。
[Preparation Example 6]
(Preparation example of composition (1))
Vinyl group-containing resin (A2) of Synthesis Example 3: 189 g, Hydrosilyl group-containing resin of Synthesis Example 4 (B2): 189 g, acetylene alcohol-based ethynylcyclohexanol as a reaction inhibitor: 0.2 g, octyl alcohol of chloroplatinic acid Denaturing solution: The composition to which 0.1 g was added was thoroughly stirred with a planetary mixer heated to 60 ° C. to prepare a silicone resin composition. This composition was a plastic solid at 25 ° C. The softening point of the obtained composition was measured in the same manner as in Preparation Example 1 and found to be 63 ° C.

〔実施例2〕
(1)蛍光体含有シリコーン樹脂シートの作製
調製例5の組成物を、フッ素樹脂コートしたPETフィルム(剥離フィルム)2枚の間に挟み、熱プレス機を用いて80℃で5tの圧力下で5分間圧縮成型を行い、両面にPETフィルムが付着した厚さ70μmのフィルム状に成形した。
[Example 2]
(1) Production of phosphor-containing silicone resin sheet The composition of Preparation Example 5 was sandwiched between two fluororesin-coated PET films (peeling films), and was heated at 80 ° C. under a pressure of 5 t using a hot press machine. Compression molding was performed for 5 minutes to form a film having a thickness of 70 μm with PET films attached on both sides.

(2)透明シリコーン樹脂シートの作製
調製例6の組成物を、PETフィルム(加圧用ベースフィルム)とフッ素樹脂コートしたPETフィルム(剥離フィルム)との間に挟み、熱プレス機を用いて80℃で5tの圧力下で5分間圧縮成型を行い、二つの面にそれぞれのフィルムが付着した厚さ125μmのシート状に成形した。
(2) Production of transparent silicone resin sheet The composition of Preparation Example 6 was sandwiched between a PET film (pressing base film) and a fluororesin-coated PET film (peeling film), and then heated at 80 ° C. using a hot press machine. Then, compression molding was performed for 5 minutes under a pressure of 5 t, and each sheet was molded into a sheet having a thickness of 125 μm with the respective films attached to the two surfaces.

(3)二層シリコーン樹脂シートの作製
(1)で作製した蛍光体含有シリコーン樹脂シートの片方の剥離フィルムと(2)で作製した透明シリコーン樹脂シートの剥離フィルムをはがし、それぞれのシートの樹脂露出面を合わせて、貼り合わせ装置(熱ラミネーション)を使用して、40℃の温度で加圧しボイドや隙間もない状態で貼り合わせた。得られた二層シリコーン樹脂シートは蛍光体含有シリコーン樹脂側にフッ素樹脂コートしたPETフィルムが、透明なシリコーン樹脂側にPETフィルムからなるシートである。
(3) Preparation of two-layer silicone resin sheet Peel off one release film of the phosphor-containing silicone resin sheet prepared in (1) and the release film of the transparent silicone resin sheet prepared in (2), and resin exposure of each sheet The surfaces were combined, and bonded using a bonding apparatus (thermal lamination) at a temperature of 40 ° C. without voids or gaps. The obtained two-layer silicone resin sheet is a sheet in which a fluororesin-coated PET film on the phosphor-containing silicone resin side and a PET film on the transparent silicone resin side.

〔実施例3〕
(セラミックス基板LED素子の封止)
実施例1で得られた二層熱硬化性シリコーン樹脂シートを図4のAで示されるように剥離フィルムごとチップサイズに切断して小片化した。得られたシート片の片面から剥離フィルムを剥がした後、露出した蛍光体含有シリコーン樹脂面がLEDチップに接触するようにGaN系LED素子3上に載せた後、他方の片面から剥離フィルムを除去した。次に、150℃で5分間加熱したところ、LED素子上でシリコーン樹脂シートが一旦軟化し素子全体を被覆、硬化した蛍光体含有樹脂層2と透明シリコーン樹脂層1を形成した。更にこれを150℃で60分間加熱して2次硬化させた。この様にして得られた蛍光体含有シリコーン樹脂層2と透明シリコーン樹脂層1で被覆されたフリップチップ構造の発光半導体(LED)装置を作製した。図中、9は金バンプ、8はシリカを60質量%含有するシリコーンアンダーフィル材である。試料のLEDを3個用意し、それぞれを発光させて色度座標を大塚電子製LED光学特性モニタ(LE-3400)により測定した。3個についての測定値の平均値を得た。
Example 3
(Ceramic substrate LED element sealing)
The two-layer thermosetting silicone resin sheet obtained in Example 1 was cut into chips with the release film as shown in FIG. After peeling the release film from one side of the obtained sheet piece, after placing it on the GaN-based LED element 3 so that the exposed phosphor-containing silicone resin surface is in contact with the LED chip, the release film is removed from the other side of the sheet piece. did. Next, when it heated at 150 degreeC for 5 minute (s), the silicone resin sheet once softened on the LED element, the whole element was coat | covered, and the fluorescent substance containing resin layer 2 and the transparent silicone resin layer 1 which were hardened were formed. Further, this was heated at 150 ° C. for 60 minutes to be secondarily cured. A light emitting semiconductor (LED) device having a flip chip structure coated with the phosphor-containing silicone resin layer 2 and the transparent silicone resin layer 1 thus obtained was produced. In the figure, 9 is a gold bump, and 8 is a silicone underfill material containing 60% by mass of silica. Three sample LEDs were prepared, each of which was made to emit light, and the chromaticity coordinates were measured with an LED optical property monitor (LE-3400) manufactured by Otsuka Electronics. The average value of the measured values for three was obtained.

〔実施例4〕
(リフレクター内に搭載したLED素子の封止)
実施例2で得られた二層熱硬化性シリコーン樹脂シートを用いて、図3で示されるリフレクター6に搭載したGaN系LED素子3の封止を行うため、剥離フィルムごとチップサイズに切断して小片化した。LED素子3はリフレクター6内にシリコーン樹脂ダイボンド材で接着、搭載し、LED素子3と外部電極(図示略)とは金線4で接続した。
Example 4
(Encapsulation of LED elements mounted in the reflector)
In order to seal the GaN-based LED element 3 mounted on the reflector 6 shown in FIG. 3 using the two-layer thermosetting silicone resin sheet obtained in Example 2, the entire release film is cut into a chip size. Small pieces. The LED element 3 was bonded and mounted in a reflector 6 with a silicone resin die bond material, and the LED element 3 and an external electrode (not shown) were connected by a gold wire 4.

得られたシート片11の片面から剥離フィルムを剥がし、露出した蛍光体含有シリコーン樹脂層2の表面がLEDチップ3に接触するようにGaN系LED素子3上に載せた後、他方の片面側の剥離フィルムを除去した。次に、150℃で5分間加熱したところ、LED素子3上にシリコーン樹脂シート11が図3のBに示されるように、素子全体を被覆、硬化して蛍光体含有樹脂層2と透明シリコーン樹脂層1を形成した。更にこれを150℃で60分間加熱して2次硬化させた。この様にして得られた蛍光体含有シリコーン樹脂層2と透明シリコーン樹脂層1で被覆されたリフレクター搭載の発光半導体(LED)装置を作製した(図3のB)。試料のLEDを3個用意し、それぞれを発光させて色度座標を大塚電子製LED光学特性モニタ(LE-3400)により測定した。3個についての測定値の平均値を得た。   The release film is peeled off from one side of the obtained sheet piece 11 and placed on the GaN-based LED element 3 so that the exposed surface of the phosphor-containing silicone resin layer 2 is in contact with the LED chip 3. The release film was removed. Next, when heated at 150 ° C. for 5 minutes, the silicone resin sheet 11 was coated and cured on the LED element 3 as shown in FIG. 3B, and the phosphor-containing resin layer 2 and the transparent silicone resin were cured. Layer 1 was formed. Further, this was heated at 150 ° C. for 60 minutes to be secondarily cured. A reflector-mounted light-emitting semiconductor (LED) device coated with the phosphor-containing silicone resin layer 2 and the transparent silicone resin layer 1 thus obtained was produced (B in FIG. 3). Three sample LEDs were prepared, each of which was made to emit light, and the chromaticity coordinates were measured with an LED optical property monitor (LE-3400) manufactured by Otsuka Electronics. The average value of the measured values for three was obtained.

〔比較例1〕
GaN系LED素子をリフレクター6内にシリコーン樹脂ダイボンド材で接着、搭載し、LED素子3と外部電極とは金線4で接合した。次に調製例4で製造したシリコーン樹脂組成物をリフレクター内全体が被覆できる量注入し、60℃で30分、120℃で1時間、更に150℃で1時間硬化させることで発光半導体装置を作製した。試料のLEDを3個用意し、それぞれを発光させて色度座標を大塚電子製LED光学特性モニタ(LE-3400)により測定した。3個についての測定値の平均値を得た。
[Comparative Example 1]
A GaN-based LED element was bonded and mounted in the reflector 6 with a silicone resin die bond material, and the LED element 3 and the external electrode were joined with a gold wire 4. Next, the silicone resin composition produced in Preparation Example 4 is injected in such an amount that the entire reflector can be covered, and cured at 60 ° C. for 30 minutes, 120 ° C. for 1 hour, and further at 150 ° C. for 1 hour to produce a light emitting semiconductor device. did. Three sample LEDs were prepared, each of which was made to emit light, and the chromaticity coordinates were measured with an LED optical property monitor (LE-3400) manufactured by Otsuka Electronics. The average value of the measured values for three was obtained.

<特性評価>
・二層シリコーンシート内での蛍光体の分散性
実施例1および2で製造した10cm角の2層シリコーンシートを120℃で30分、150℃で1時間硬化させた後、1cm角に切り出した100個の小片の切断面の蛍光体層の厚みと透明層の厚みを顕微鏡で測定した。その結果、実施例1の二層シリコーンシートの場合、蛍光体層の厚みは48〜51μm、透明層の厚みは98〜102μm、実施例2のシートの場合は蛍光体層が67〜71μm、透明層の厚みは122〜126μmの範囲に制御されていた。
<Characteristic evaluation>
-Dispersibility of phosphor in two-layer silicone sheet The 10-cm square two-layer silicone sheet produced in Examples 1 and 2 was cured at 120 ° C for 30 minutes and 150 ° C for 1 hour, and then cut into 1-cm squares. The thickness of the phosphor layer on the cut surface of 100 pieces and the thickness of the transparent layer were measured with a microscope. As a result, in the case of the two-layer silicone sheet of Example 1, the thickness of the phosphor layer was 48 to 51 μm, the thickness of the transparent layer was 98 to 102 μm, and in the case of the sheet of Example 2, the phosphor layer was 67 to 71 μm and transparent. The layer thickness was controlled in the range of 122-126 μm.

・二層シリコーンシート間の接着力
蛍光体層と透明層をそれぞれ形成する蛍光体含有及び非含有の二種のシリコーンシート同士の接着力を測定するため実施例1,2のシリコーンシートを120℃で30分、150℃で1時間硬化させた。その後、蛍光体層と透明層とを引き剥がそうとしたが完全に接着しており、蛍光体層及び透明層において凝集破壊した。
-Adhesive strength between two-layer silicone sheets In order to measure the adhesive strength between two types of silicone-containing and non-containing phosphors that respectively form a phosphor layer and a transparent layer, the silicone sheets of Examples 1 and 2 were measured at 120 ° C. For 30 minutes at 150 ° C. for 1 hour. Thereafter, the phosphor layer and the transparent layer were tried to be peeled off, but they were completely adhered, and the phosphor layer and the transparent layer were agglomerated and broken.

・発光半導体装置内の蛍光体の分散性
蛍光体の発光半導体装置内での分散性を確認するため、実施例4と比較例1で作製したリフレクター内に搭載した発光半導体装置をそれぞれ10個切断し、断面の蛍光体の素子上の厚みを顕微鏡で測定した。その結果、二層シリコーンシートを使用した実施例4の場合は素子上に蛍光体が48〜51μmで均一に分散していたのに対し、比較例1の場合は沈降が不十分で素子上部100μm程度のところから蛍光体が存在し、素子に近づくほど蛍光体の密度が高くなっていた。蛍光体の分散状態としては不均一な状態であった。
-Dispersibility of the phosphor in the light emitting semiconductor device In order to confirm the dispersibility of the phosphor in the light emitting semiconductor device, 10 light emitting semiconductor devices mounted in the reflector manufactured in Example 4 and Comparative Example 1 were cut. And the thickness on the element of the fluorescent substance of a cross section was measured with the microscope. As a result, in the case of Example 4 using a two-layer silicone sheet, the phosphor was uniformly dispersed at 48 to 51 μm on the element, whereas in the case of Comparative Example 1, the sedimentation was insufficient and the upper part of the element was 100 μm. The phosphor was present at a certain level, and the density of the phosphor was higher as the distance from the device was closer. The dispersion state of the phosphor was not uniform.

・色度座標の測定
実施例3,4と比較例1で作製した発光半導体装置を各々3個用意し、それぞれを発光させて大塚電子製LED光学特性モニタ(LE-3400)により色度座標のバラツキを測定した。3個についての測定値の平均値を得た。
(注:u’:CIE1976色度座標。JIS Z8726に記載の求め方による。)
-Measurement of chromaticity coordinates Three light emitting semiconductor devices prepared in Examples 3 and 4 and Comparative Example 1 were prepared, each of which was made to emit light, and the chromaticity coordinates were measured by an Otsuka Electronics LED optical characteristic monitor (LE-3400). Variation was measured. The average value of the measured values for three was obtained.
(Note: u ': CIE 1976 chromaticity coordinates. According to the method described in JIS Z8726.)

Figure 0006115593
Figure 0006115593

(*)JIS Z8729: L*u*v表色系 (*) JIS Z8729: L * u * v color system

本発明の二層シリコーンシートを用いることにより、均一で色ずれのない発光半導体装置を得ることができた。   By using the two-layer silicone sheet of the present invention, a uniform light-emitting semiconductor device without color misregistration could be obtained.

[参考例1]
(1)透明シリコーン樹脂シートの作製
調製例2の組成物を、2枚の剥離フィルムの間に挟み、熱プレス機を用いて80℃で5tの圧力下で5分間圧縮成型を行い、二つの面にそれぞれのフィルムが付着した厚さ100μmのシート状に成形した。
[Reference Example 1]
(1) Production of transparent silicone resin sheet The composition of Preparation Example 2 was sandwiched between two release films, and compression-molded for 5 minutes at 80 ° C under a pressure of 5 t using a hot press machine. Each surface was molded into a sheet having a thickness of 100 μm.

・光透過率の測定
参考例1で作成した厚さ100μmのサンプルシートをガラス板にラミネートし、光透過率を分光光度計U−4100(日立ハイテック社製)を用い、走査速度200nm/min、走査波長範囲300nm〜800nmにて測定した。450nm及び750nmにおける光透過率の測定結果を表2に示す。
Measurement of light transmittance The sample sheet having a thickness of 100 μm prepared in Reference Example 1 was laminated on a glass plate, and the light transmittance was measured using a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Tech), with a scanning speed of 200 nm / min, Measurement was performed in a scanning wavelength range of 300 nm to 800 nm. Table 2 shows the measurement results of light transmittance at 450 nm and 750 nm.

Figure 0006115593
Figure 0006115593

表2から、実施例1で製造したシートの層(2)は高い透明性を有することがわかる。   From Table 2, it can be seen that the layer (2) of the sheet produced in Example 1 has high transparency.

本発明の熱硬化性シリコーン樹脂シートはLED素子等の光発光素子の被覆、封止、光発光装置の製造に有用である。   The thermosetting silicone resin sheet of the present invention is useful for coating and sealing light emitting elements such as LED elements, and for manufacturing light emitting devices.

1:蛍光体を含有しない透明なシリコーン樹脂層
2:蛍光体を含有するシリコーン樹脂層
3:LED素子
4:金線
5:外部電極を有するセラミックス基板
6:リフレクター
7:外部リード
8:アンダーフィル材
9:金バンプ
10a、10b:剥離フィルム
11:二層シリコーン樹脂シート
1: Transparent silicone resin layer not containing phosphor 2: Silicone resin layer containing phosphor 3: LED element 4: Gold wire 5: Ceramic substrate having external electrode 6: Reflector 7: External lead 8: Underfill material 9: Gold bumps 10a, 10b: Release film 11: Two-layer silicone resin sheet

Claims (4)

LED素子の表面に、蛍光体を含有する熱硬化性シリコーン樹脂組成物からなる常温で可塑性の固体もしくは半固体の状態の下記層(2)と、透明若しくは半透明な熱硬化性シリコーン樹脂組成物からなる常温で可塑性の固体もしくは半固体の状態の下記層(1)とを含み、層(2)及び層(1)それぞれの軟化温度の差が10℃以内である熱硬化性シリコーン樹脂シートを、層(2)及び層(1)のいずれも未反応状態で、該LED素子、層(2)、層(1)の順序で配置し、該樹脂シートを加熱硬化させることにより、蛍光体含有硬化シリコーン樹脂層(2)と蛍光体を含有しない硬化シリコーン樹脂層(1)とを有する硬化物でLED素子表面を被覆、封止する、LED素子を有する発光装置の製造方法。
層(2):
(A)実質的にRSiO1.5単位、R SiO単位、及びR SiO(4−a−b)/2単位からなり(ここで、R、R、及びRは独立にメチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、又はフェニル基を示し、Rは独立にビニル基又はアリル基を示し、aは0、1又は2で、bは1又は2で、かつa+bは2又は3である。)、上記R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個である、樹脂構造のオルガノポリシロキサン、
(B)実質的にRSiO1.5単位、R SiO単位、及びR SiO(4−c−d)/2単位からなり(ここで、R、R及びRは独立に上記の通りであり、cは0、1又は2で、dは1又は2で、かつc+dは2又は3である。)、
上記R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個である、樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン:
(A)成分中のビニル基及びアリル基の合計に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子のモル比で0.1〜4.0となる量、
(C)白金族金属系触媒:硬化有効量、及び
(D)蛍光体
を含有する熱硬化型シリコーン樹脂組成物
層(1):
(A)実質的にRSiO1.5単位、R SiO単位、及びR SiO(4−a−b)/2単位を含んでなり(ここで、R、R、及びRは独立にメチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、又はフェニル基を示し、Rは独立にビニル基又はアリル基を示し、aは0、1又は2で、bは1又は2で、かつa+bは2又は3である。)、上記R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個である構造を含む樹脂構造のオルガノポリシロキサン、
(B)実質的にRSiO1.5単位、R SiO単位、及びR SiO(4−c−d)/2単位を含んでなり(ここで、R、R及びRは独立に上記の通りであり、cは0、1又は2で、dは1又は2で、かつc+dは2又は3である。)、
上記R SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜300個である、樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン:
(A)成分中のビニル基及びアリル基の合計に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子がモル比で0.1〜4.0となる量、及び
(C)白金族金属系触媒:硬化有効量
を含有し、蛍光体を含有しない熱硬化型シリコーン樹脂組成物
The following layer (2), which is made of a thermosetting silicone resin composition containing a phosphor on the surface of the LED element and is in a solid or semisolid state at room temperature, and a transparent or translucent thermosetting silicone resin composition A thermosetting silicone resin sheet comprising the following layer (1) in a plastic solid or semi-solid state at room temperature, wherein the difference in softening temperature between the layer (2) and the layer (1) is within 10 ° C. The layer (2) and the layer (1) are all in an unreacted state , arranged in the order of the LED element, the layer (2), and the layer (1), and the resin sheet is heat-cured to contain a phosphor. The manufacturing method of the light-emitting device which has a LED element which coat | covers and seals the LED element surface with the hardened | cured material which has a cured silicone resin layer (2) and the cured silicone resin layer (1) which does not contain fluorescent substance.
Layer (2):
(A) consisting essentially of R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 units (where R 1 , R 2 , And R 3 independently represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group, R 4 independently represents a vinyl group or an allyl group, a is 0, 1 or 2, and b is 1 or 2 and a + b is 2 or 3.) An organopolysiloxane having a resin structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated, and the number of repetitions thereof is 5 to 300.
(B) consisting essentially of R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 units (where R 1 , R 2 and R 3 is independently as described above, c is 0, 1 or 2, d is 1 or 2, and c + d is 2 or 3.
Organohydrogenpolysiloxane having a resin structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions thereof is 5 to 300:
(A) The quantity which becomes 0.1-4.0 by the molar ratio of the hydrogen atom couple | bonded with the silicon atom in (B) component with respect to the sum total of the vinyl group and allyl group in a component,
(C) Platinum group metal catalyst: effective amount of curing, and (D) thermosetting silicone resin composition containing phosphor Layer (1):
(A) substantially comprising R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 a R 4 b SiO (4-ab) / 2 units (where R 1 , R 2 and R 3 independently represent a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group, R 4 independently represents a vinyl group or an allyl group, a is 0, 1 or 2, and b is 1 or 2 and a + b is 2 or 3.), a resin structure comprising a structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated, and the number of repetitions is 5 to 300. Organopolysiloxane,
(B) substantially comprising R 1 SiO 1.5 units, R 2 2 SiO units, and R 3 c H d SiO (4-cd) / 2 units (where R 1 , R 2 And R 3 is independently as described above, c is 0, 1 or 2, d is 1 or 2, and c + d is 2 or 3.),
Organohydrogenpolysiloxane having a resin structure in which at least a part of the R 2 2 SiO unit is continuously repeated and the number of repetitions thereof is 5 to 300:
(A) The amount of hydrogen atoms bonded to silicon atoms in component (B) relative to the total of vinyl groups and allyl groups in component (A) in a molar ratio of 0.1-4.0, and (C) platinum group metal system Catalyst: Thermosetting silicone resin composition containing an effective amount of curing and no phosphor
蛍光体を含有する層(2)の厚みが20〜100μmであり、蛍光体を含まない透明もしくは半透明な層(1)の厚みが20〜500μmである請求項1に係る発光装置の製造方法。   The method for manufacturing a light emitting device according to claim 1, wherein the layer (2) containing the phosphor has a thickness of 20 to 100 µm, and the transparent or translucent layer (1) not containing the phosphor has a thickness of 20 to 500 µm. . 層(2)において、(A)〜(C)成分の合計100質量部に対して(D)成分の蛍光体が0.1〜300質量部である請求項1又は2に係る発光装置の製造方法。   In the layer (2), the phosphor of the component (D) is 0.1 to 300 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the components (A) to (C). Method. 層(2)において、(D)成分の蛍光体の粒径が10nm以上である請求項1〜3のいずれか1項に係る発光装置の製造方法。   The method for manufacturing a light emitting device according to any one of claims 1 to 3, wherein in the layer (2), the particle size of the phosphor of the component (D) is 10 nm or more.
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