JP5648782B2 - Film manufacturing apparatus and manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、ハニカム構造を有するフィルムの製造装置および製造方法に関する。   The present invention relates to a manufacturing apparatus and a manufacturing method for a film having a honeycomb structure.

ハニカム構造を有するフィルムは、細胞培養用基材として有用であると考えられている。また、特定の孔径と孔径バラツキをもつハニカム構造のフィルムは、血液濾過膜などとしても利用されることが期待されている。この濾過膜は輸血用の全血から白血球を除去するためなどに用いられる。   A film having a honeycomb structure is considered to be useful as a substrate for cell culture. In addition, a honeycomb structure film having a specific pore size and pore size variation is expected to be used as a blood filtration membrane. This filtration membrane is used to remove leukocytes from whole blood for transfusion.

ところで、近年、種々の病症を治療するためにステントなどの医療用具を体内に留置することが行われている。たとえば、ガンなどで狭窄・閉鎖した胆管や尿管を拡張するための医療用具として胆管ステントや尿管ステントが知られている。   By the way, in recent years, in order to treat various diseases, medical devices such as stents are placed in the body. For example, bile duct stents and ureteral stents are known as medical devices for dilating bile ducts and ureters that have been narrowed or closed with cancer or the like.

これらのステントを用いる場合には、ガンの進行により、一旦拡張した胆管や尿管が再狭窄・閉鎖してしまう場合がある。そこで、これを防ぐために、ステントなどの医療器具の表面に被覆層を設け、この被覆層の存在によりガンの進行を抑制させる試みも提案されている。この被覆層として、周期的なハニカム構造のフィルムを製造しようとする試みが、本出願人により提案されている(特許文献1)。   When these stents are used, the biliary tract and ureter once dilated may be restenotic or closed due to the progression of cancer. In order to prevent this, an attempt has been proposed in which a coating layer is provided on the surface of a medical device such as a stent and the progression of cancer is suppressed by the presence of this coating layer. The applicant has proposed an attempt to manufacture a film having a periodic honeycomb structure as the covering layer (Patent Document 1).

しかしながら、従来のハニカム構造を有するフィルムの製造方法および製造装置では、結露水の水滴を形成する工程において、気体の吹き出し速度が、吹き出し口の幅方向において必ずしも均一ではなく、幅方向に沿って均一に結露水の水滴を作ることが困難である。そのため、幅方向に沿って均一なハニカム構造を有するフィルムを製造することが困難である。   However, in the conventional method and apparatus for producing a film having a honeycomb structure, in the step of forming water droplets of condensed water, the gas blowing speed is not necessarily uniform in the width direction of the blowing port, but is uniform along the width direction. It is difficult to make water droplets of condensed water. Therefore, it is difficult to manufacture a film having a uniform honeycomb structure along the width direction.

特開2009−108163号公報JP 2009-108163 A

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、より広い領域にわたって均一なハニカム構造を有するフィルムを製造することが可能なフィルムの製造装置および製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to provide a film manufacturing apparatus and a manufacturing method capable of manufacturing a film having a uniform honeycomb structure over a wider region.

上記目的を達成するために、本発明に係るフィルムの製造装置は、
所定厚みの溶液膜が形成された基板を保持する基板保持台と、
前記基板保持台の周囲雰囲気を一定の温度および湿度に保つことが可能なチャンバと、
加湿された気体を、前記溶液膜の表面に、当該表面に対して吹き付ける吹出口を持つノズル装置と、
前記気体の吹き付け方向と反対方向で前記溶液膜の表面に平行な方向に前記ノズルを移動させることが可能なノズル移動手段と、
前記基板の温度を制御する基板温度制御手段とを有し、
前記ノズル装置が、
前記ノズル装置内に前記気体を導入する導入口と、
前記導入口および前記吹出口が形成されたケーシングと、
前記ケーシングの内部に、前記気体の吹き付け方向に沿って異なる方向に交互に位置ずれして配置され、前記気体の吹き付け方向に沿って一方の第1端が前記ケーシングの内壁面に固定される固定端となり、前記第1端と反対側の第2端が前記ケーシングの内壁面との間に流路隙間を形成する自由端となる複数の整流板と、を有することを特徴とする。
In order to achieve the above object, a film production apparatus according to the present invention comprises:
A substrate holder for holding a substrate on which a solution film of a predetermined thickness is formed;
A chamber capable of maintaining the ambient atmosphere of the substrate holder at a constant temperature and humidity;
A nozzle device having an outlet for blowing the humidified gas on the surface of the solution film against the surface;
Nozzle moving means capable of moving the nozzle in a direction parallel to the surface of the solution film in a direction opposite to the gas blowing direction;
Substrate temperature control means for controlling the temperature of the substrate,
The nozzle device is
An inlet for introducing the gas into the nozzle device;
A casing in which the inlet and the outlet are formed;
Fixed in which the first end is fixed to the inner wall surface of the casing along the gas blowing direction, and is alternately displaced in different directions along the gas blowing direction in the casing. And a plurality of rectifying plates whose free ends form a flow gap between the second end opposite to the first end and the inner wall surface of the casing.

本発明では、ノズル装置の内部に複数の整流板を、交互に位置ずれするように配置することで、ケーシング内部を流れる加湿気体の流路長さを大きく確保することができる。また、ケーシング内部に導入された加湿気体は、この流路を流れる間に、ケーシングの幅方向に整流され、吹出口からは、ケーシングの幅方向において均一な風量で加湿気体が吹き出される。加湿気体は、溶液膜の表面に平行な気体の流れが存在するように、しかもケーシングの幅方向において均一な風量で吹き付けられる。したがって、より広い領域にわたって均一な性質のフィルムを製造することが可能になる。したがって、製品の歩止まりも向上させることが可能になる。   In the present invention, by arranging the plurality of rectifying plates inside the nozzle device so as to be displaced alternately, it is possible to ensure a large flow path length of the humidified gas flowing inside the casing. Further, the humidified gas introduced into the casing is rectified in the width direction of the casing while flowing through the flow path, and the humidified gas is blown out from the blowout outlet with a uniform air volume in the width direction of the casing. The humidified gas is blown with a uniform air volume in the width direction of the casing so that a gas flow parallel to the surface of the solution film exists. Therefore, it is possible to produce a film having a uniform property over a wider area. Therefore, the yield of products can be improved.

好ましくは、前記複数の整流板同士が、互いに平行に配置される。これにより、ケーシングの幅方向の整流作用が向上する。   Preferably, the plurality of rectifying plates are arranged in parallel to each other. Thereby, the rectification | straightening effect | action of the width direction of a casing improves.

好ましくは、前記流路隙間の幅は、隣接する前記整流板の配置間隔の30〜80%である。流路隙間の幅を所定範囲にすることで、ケーシングの幅方向の整流作用が向上する。   Preferably, the width of the flow path gap is 30 to 80% of the arrangement interval between the adjacent flow straightening plates. By setting the width of the flow passage gap to a predetermined range, the rectifying action in the width direction of the casing is improved.

好ましくは、前記整流板は、前記ケーシング内に3〜10枚で配置される。好ましくは、前記複数の整流板同士が、所定間隔で配置される。このような所定の枚数を、所定間隔で配置することで、ケーシングの幅方向の整流作用が向上する。   Preferably, the current plate is arranged in 3 to 10 sheets in the casing. Preferably, the plurality of rectifying plates are arranged at a predetermined interval. Arranging such a predetermined number of sheets at a predetermined interval improves the rectifying action in the width direction of the casing.

好ましくは、前記導入口は、前記ノズル装置の上部に位置する。これにより、気体の導入が容易であると共に、流路の長さを最大限に長く確保することが可能となる。   Preferably, the introduction port is located in an upper part of the nozzle device. Thereby, introduction of gas is easy and it becomes possible to secure the length of the flow path to the maximum.

好ましくは、前記導入口は、最上層の前記整流板の前記固定端の上方に配置される。導入された加湿気体は、最上層の整流板の固定端付近に当たって、この整流板の自由端に向かって流れるので、ケーシングの幅方向の整流作用が向上する。   Preferably, the introduction port is disposed above the fixed end of the current plate on the uppermost layer. Since the introduced humidified gas hits the vicinity of the fixed end of the uppermost rectifying plate and flows toward the free end of the rectifying plate, the rectifying action in the width direction of the casing is improved.

前記吹出口には、前記気体の流れを変更可能な板状のフラップがさらに配置されても良い。これにより、溶液膜の表面に対する風向きを自由に微調整することが可能となる。   A plate-shaped flap that can change the flow of the gas may be further disposed at the outlet. This makes it possible to freely finely adjust the wind direction with respect to the surface of the solution film.

前記吹出口には、三角錐状の突起物が配置されても良い。これにより、吹出口からは、ケーシングの幅方向においてさらに均一な風量で加湿気体が吹き出される。   A triangular pyramid-shaped protrusion may be arranged at the air outlet. As a result, the humidified gas is blown out from the air outlet with a more uniform air volume in the width direction of the casing.

本発明に係るフィルムの製造方法は、ポリマー溶液から成る所定厚みの前記溶液膜を前記基板上に形成する工程と、加湿された前記気体を、前記ノズル装置から前記溶液膜の表面に、当該表面に対して平行な前記気体の流れが存在するように吹き付け、前記気体の吹き付け方向と反対方向で前記溶液膜の表面に平行な方向に前記ノズルを移動させ、前記溶液膜の表面に、結露による水滴を形成する工程と、前記溶液膜に含まれる溶媒を蒸発させる工程と、前記溶液膜に含まれる水滴を蒸発させる工程と、を有し、前記水滴に対応する空孔をフィルムの内部または表面に形成することを特徴とする。   The method for producing a film according to the present invention includes a step of forming the solution film of a polymer solution having a predetermined thickness on the substrate, and the humidified gas from the nozzle device to the surface of the solution film. The gas flow is parallel to the surface of the solution film, and the nozzle is moved in a direction parallel to the surface of the solution film in a direction opposite to the gas blowing direction. A step of forming water droplets, a step of evaporating a solvent contained in the solution film, and a step of evaporating water droplets contained in the solution film, wherein pores corresponding to the water droplets are formed inside or on the surface of the film. It is characterized by forming in.

図1は、本発明の一実施形態に係るフィルムの製造装置である。FIG. 1 is a film manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示すノズル装置の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the nozzle device shown in FIG. 図3は、図2のIII−III断面図である。3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. 図4は、図1に示すノズル装置の吹出口から加湿気体が吹き出される様子を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing a state in which the humidified gas is blown out from the outlet of the nozzle device shown in FIG. 図5は、結露水の形成過程を示す概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a process of forming condensed water. 図6(A)は、本発明の一実施形態に係るハニカム構造のフィルムの要部断面図、図6(B)は、本発明の他の実施形態に係るハニカム構造のフィルムの要部断面図、図6(C)は、本発明のさらに他の実施形態に係るハニカム構造のフィルムの要部断面図である。6A is a cross-sectional view of a main part of a film having a honeycomb structure according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a cross-sectional view of a main part of a film having a honeycomb structure according to another embodiment of the present invention. FIG. 6C is a cross-sectional view of a main part of a film having a honeycomb structure according to still another embodiment of the present invention. 図7は、図6(A)に示すハニカム構造のフィルムの平面図である。FIG. 7 is a plan view of the honeycomb structured film shown in FIG. 図8は、本発明の他の実施形態に係るノズル装置の斜視図である。FIG. 8 is a perspective view of a nozzle device according to another embodiment of the present invention. 図9は、本発明の他の実施形態に係るノズル装置の斜視図である。FIG. 9 is a perspective view of a nozzle device according to another embodiment of the present invention. 図10(A)〜(C)は、製造されたフィルムを破断試験に用いる工程を示す説明図である。FIGS. 10A to 10C are explanatory views showing a process of using the manufactured film for a break test. 図11は、フィルムの引っ張り試験を説明する模式図である。FIG. 11 is a schematic diagram for explaining a film tensile test. 図12は、破断荷重試験における、膜厚と破断荷重との関係を示すグラフである。FIG. 12 is a graph showing the relationship between the film thickness and the breaking load in the breaking load test. 図13は、破断荷重試験における、膜厚と破断伸度との関係を示すグラフである。FIG. 13 is a graph showing the relationship between film thickness and breaking elongation in a breaking load test. 図14(A)は、実施例におけるフィルムの乾燥状態を示す説明図、図14(B)は、比較例におけるフィルムの乾燥状態を示す説明図である。FIG. 14A is an explanatory view showing the dried state of the film in the example, and FIG. 14B is an explanatory view showing the dried state of the film in the comparative example.

本実施形態のフィルムは、図1に示すフィルムの製造装置10により製造される。この製造装置10は、チャンバ12を有し、そのチャンバ12の内部に、基板14を保持する基板保持台16が固定してある。基板保持台16の下部には、基板温調装置18が装着してある。基板温調装置18の内部には、たとえばペルチェ素子などの冷却素子が装着してあり、電源操作盤24および温度コントローラ22からの電力供給により、基板14の温度を制御するようになっている。   The film of this embodiment is manufactured by the film manufacturing apparatus 10 shown in FIG. The manufacturing apparatus 10 includes a chamber 12, and a substrate holding table 16 that holds the substrate 14 is fixed inside the chamber 12. A substrate temperature adjusting device 18 is attached to the lower part of the substrate holding table 16. A cooling element such as a Peltier element is mounted inside the substrate temperature control device 18, and the temperature of the substrate 14 is controlled by supplying power from the power operation panel 24 and the temperature controller 22.

チャンバ12の内部であって、基板14の上方には、ノズル装置30がX軸方向に移動自在に配置してある。ノズル装置30は、連結具44を介して移動ユニット42に連結してあり、モータ45を回転駆動させて駆動軸48を軸回りに回転させることで、移動ユニット42が、駆動軸ノズル装置30と共に、X軸方向に移動するようになっている。   A nozzle device 30 is disposed inside the chamber 12 and above the substrate 14 so as to be movable in the X-axis direction. The nozzle device 30 is connected to the moving unit 42 via a connector 44, and the moving unit 42 is rotated together with the drive shaft nozzle device 30 by rotating the motor 45 to rotate the drive shaft 48 around the axis. , Move in the X-axis direction.

モータ45は、たとえばステップモータであり、その回転数などを制御することで、ノズル装置30のX軸方向の移動速度、停止位置などを制御することができる。また、ノズル装置30が連結具44を介して移動ユニットに連結してあり、連結具44を回動ヒンジなどで構成することで、X軸に対するノズル装置30の吹出口34から吹き出される気体における主流の吹き出し方向30bの角度を変化させることができる。   The motor 45 is, for example, a step motor, and can control the moving speed, stop position, and the like of the nozzle device 30 in the X-axis direction by controlling the number of rotations thereof. Further, the nozzle device 30 is connected to the moving unit via the connecting tool 44, and the connecting tool 44 is constituted by a rotating hinge or the like, so that the gas blown out from the outlet 34 of the nozzle device 30 with respect to the X axis is used. The angle of the mainstream blowing direction 30b can be changed.

たとえば図1に示す例では、吹き出し方向30bは、ほとんどX軸の方向と平行であるが、X軸に対して、+15度〜−15度の範囲で傾斜させても良い。また、ノズル装置30をX軸方向に移動させる途中において、その角度を変化させるようにしても良い。   For example, in the example shown in FIG. 1, the blowing direction 30b is almost parallel to the direction of the X axis, but may be tilted in the range of +15 degrees to −15 degrees with respect to the X axis. Further, the angle may be changed during the movement of the nozzle device 30 in the X-axis direction.

ノズル装置30の吹出口34から吹き出される気体は、加湿されており、その相対湿度は、好ましくは60〜95%であり、チャンバ12の内部の相対湿度よりは、少し湿度が高いガスが吹き出される。吹出口34から吹き出される気体は、一般には、空気であるが、場合によっては、その他のガスでも良い。加湿された空気は、ノズル装置30の上部に接続してあるダクト46を通してチャンバ12の外部から導入される。   The gas blown out from the air outlet 34 of the nozzle device 30 is humidified, and the relative humidity is preferably 60 to 95%, and a gas having a slightly higher humidity than the relative humidity inside the chamber 12 is blown out. Is done. The gas blown out from the blowout port 34 is generally air, but may be other gas depending on circumstances. The humidified air is introduced from the outside of the chamber 12 through a duct 46 connected to the upper part of the nozzle device 30.

チャンバ12の内部は、温度センサ、湿度センサ、圧力センサなどにより、その内部の温度、湿度、圧力が検出され、一定な温度、湿度、圧力に制御される。チャンバ12の内部の温度は、たとえば15〜30°Cであり、その内部の相対湿度は、たとえば10〜95%である。チャンバ12の上部には、プレナムチャンバ12aが装着してあり、ダクト12bを通して導入された一定温度および湿度の空気を、チャンバ12内に向けて層流状態で均一に供給するようになっている。この例では、プレナムチャンバ12aは、チャンバ12との境界に格子状の金属板などが配置してある箱形状を有する。   The temperature, humidity and pressure inside the chamber 12 are detected by a temperature sensor, a humidity sensor, a pressure sensor, etc., and controlled to a constant temperature, humidity and pressure. The temperature inside the chamber 12 is, for example, 15 to 30 ° C., and the relative humidity inside the chamber 12 is, for example, 10 to 95%. A plenum chamber 12 a is mounted on the upper portion of the chamber 12, and air having a constant temperature and humidity introduced through the duct 12 b is uniformly supplied into the chamber 12 in a laminar flow state. In this example, the plenum chamber 12 a has a box shape in which a grid-like metal plate or the like is arranged at the boundary with the chamber 12.

図2に示すように、この実施形態では、長方形状の基板14の外周に沿って、外周縁凸部15が形成してあり、基板14の上面に、後工程にてフィルム2となる溶液膜2aが形成される。重力以外の外力が作用しない状態では、溶液膜2aの表面は、X軸およびY軸に平行であり、鉛直方向のZ軸に垂直である。この実施形態では、Y軸は、基板14の長手方向と平行である。   As shown in FIG. 2, in this embodiment, an outer peripheral convex portion 15 is formed along the outer periphery of the rectangular substrate 14, and the solution film that becomes the film 2 in a later step on the upper surface of the substrate 14. 2a is formed. In a state where no external force other than gravity acts, the surface of the solution film 2a is parallel to the X axis and the Y axis and is perpendicular to the vertical Z axis. In this embodiment, the Y axis is parallel to the longitudinal direction of the substrate 14.

基板14は、たとえばガラス基板、金属基板、シリコン基板などの無機基板で構成されることが好ましいが、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエーテルケトンなどの高分子からなる有機基板でもよい。   The substrate 14 is preferably composed of an inorganic substrate such as a glass substrate, a metal substrate, or a silicon substrate, but may be an organic substrate made of a polymer such as polypropylene, polyethylene, or polyetherketone.

図2に示すように、ノズル装置30における吹出口34の幅W1は、基板14の上面に形成される溶液膜2aの幅W2と同等以上が好ましく、さらに好ましくは基板14のY軸方向の幅と同等以上が好ましい。   As shown in FIG. 2, the width W1 of the air outlet 34 in the nozzle device 30 is preferably equal to or greater than the width W2 of the solution film 2a formed on the upper surface of the substrate 14, and more preferably the width of the substrate 14 in the Y-axis direction. Equivalent or better than is preferable.

図3に示すように、ノズル装置30は、ノズル装置30内に気体を導入する導入口32と、導入口32および吹出口34が形成されたケーシング31とを有している。   As shown in FIG. 3, the nozzle device 30 includes an inlet 32 for introducing gas into the nozzle device 30 and a casing 31 in which the inlet 32 and the outlet 34 are formed.

ケーシング31のZ軸方向の長さ30cは500〜1000mmが好ましく、X軸方向の長さ30dは100〜400mmが好ましい。また、上述した吹出口34の幅W1(図2に示す)は、W1=300〜700mmが好ましい。   The length 30c in the Z-axis direction of the casing 31 is preferably 500 to 1000 mm, and the length 30d in the X-axis direction is preferably 100 to 400 mm. Moreover, as for the width W1 (shown in FIG. 2) of the blower outlet 34 mentioned above, W1 = 300-700 mm is preferable.

ケーシング31の内部には、複数の整流板36が、気体の吹き付け方向30bに沿って交互に位置ずれして配置されている。各整流板36は、気体の吹き付け方向30bに沿って一方の第1端がケーシング31の内壁面31aに固定される固定端36aとなり、第1端と反対側の第2端がケーシング31の内壁面31aとの間に流路隙間38を形成する自由端36bとなっている。   A plurality of rectifying plates 36 are arranged in the casing 31 so as to be alternately displaced along the gas blowing direction 30b. Each rectifying plate 36 has a first end that is fixed to the inner wall surface 31a of the casing 31 along the gas blowing direction 30b, and a second end opposite to the first end. It is the free end 36b which forms the flow-path gap 38 between the wall surfaces 31a.

整流板36同士は、所定間隔30eで配置され、隣接する整流板36同士では、固定端36a(自由端36b)が相互に反対側である。所定間隔30eは20〜100mmが好ましい。また、整流板36同士は、Z軸方向に沿って互いに平行に配置されている。整流板36は、ケーシング31内に3〜10枚で配置されることが好ましい。整流板36のX軸方向の長さ30fは40〜370mmであることが好ましい。流路隙間38の幅30gは、隣接する整流板36同士の間隔30eの30〜80%であることが好ましい。   The rectifying plates 36 are arranged at a predetermined interval 30e, and between the adjacent rectifying plates 36, the fixed ends 36a (free ends 36b) are opposite to each other. The predetermined interval 30e is preferably 20 to 100 mm. The rectifying plates 36 are arranged in parallel to each other along the Z-axis direction. It is preferable that 3 to 10 rectifying plates 36 are arranged in the casing 31. The length 30f of the rectifying plate 36 in the X-axis direction is preferably 40 to 370 mm. The width 30g of the flow path gap 38 is preferably 30 to 80% of the interval 30e between the adjacent rectifying plates 36.

ノズル装置30の上部に位置する導入口32は円筒形をしていることが好ましく、その内径は、流路隙間38の幅30gの80〜400%であることが好ましい。図2に示すように、導入口32は、ノズル装置30の上部に形成されている。さらに、導入口32は、図3に示すように、最上層の整流板36の固定端36aの上方に配置されていることが好ましい。   The introduction port 32 located at the upper part of the nozzle device 30 is preferably cylindrical, and its inner diameter is preferably 80 to 400% of the width 30 g of the flow path gap 38. As shown in FIG. 2, the introduction port 32 is formed in the upper part of the nozzle device 30. Further, as shown in FIG. 3, the introduction port 32 is preferably disposed above the fixed end 36 a of the uppermost rectifying plate 36.

吹出口34のZ軸方向の高さ30hは20〜150mmであることが好ましい。図4に示すように、導入口32から導入された加湿気体は、吹出口34から、ケーシング30の幅方向(図2に示すW1)において均一な風量で吹き出される。   The height 30h in the Z-axis direction of the air outlet 34 is preferably 20 to 150 mm. As shown in FIG. 4, the humidified gas introduced from the inlet 32 is blown out from the outlet 34 with a uniform air volume in the width direction of the casing 30 (W1 shown in FIG. 2).

図5に示すように、ノズル装置30は、吹出口34から吹き出されるガスの主流の吹き出し方向30bに対して反対方向のX軸に沿って移動する。その際には、ノズル装置30の吹出口34の下端と、基板14の外周縁凸部15との隙間h1は、特に限定されないが、0より大きく、好ましくは50cm以内、さらに好ましくは30cm以内、特に好ましくは15cm以内である。この隙間h1が離れすぎると、吹き出し方向30bが溶液膜2aの表面に平行な場合には、吹き出し口30aからの気体が溶液膜2aの表面に当たりにくくなる。   As shown in FIG. 5, the nozzle device 30 moves along the X axis in the opposite direction to the main flow blowing direction 30 b of the gas blown from the blower outlet 34. In that case, the gap h1 between the lower end of the air outlet 34 of the nozzle device 30 and the outer peripheral edge convex portion 15 of the substrate 14 is not particularly limited, but is larger than 0, preferably within 50 cm, more preferably within 30 cm, Particularly preferably, it is within 15 cm. If the gap h1 is too far away, the gas from the blowing port 30a will not easily hit the surface of the solution film 2a when the blowing direction 30b is parallel to the surface of the solution film 2a.

図5に示す状態でのX軸に沿ったノズル装置30の移動速度は、吹出口34から吹き出される気体の速度などとの関係で決定され、好ましくは0.1cm/分〜100cm/分である。吹出口34から吹き出される気体の速度は、特に限定されないが、好ましくは0.01m/秒〜5m/秒である。   The moving speed of the nozzle device 30 along the X-axis in the state shown in FIG. 5 is determined in relation to the speed of the gas blown from the blowout port 34, and preferably 0.1 cm / min to 100 cm / min. is there. Although the speed of the gas blown out from the blower outlet 34 is not particularly limited, it is preferably 0.01 m / second to 5 m / second.

図6(A)、図6(B)および図7に示すように、後述する本実施形態のフィルムの製造方法により形成されるフィルム2は、略均一な孔径の空孔4が平面方向に規則正しく周期的に形成してあるハニカム構造のフィルムである。なお、図6(A)に示す実施形態のフィルム2では、空孔4は、平面方向に相互に一部が接触して形成してあり、フィルム2の一方の面のみに開口している。なお、図6(C)に示すように、隣接する空孔4の接触部は、相互に連通していても良い。   As shown in FIGS. 6 (A), 6 (B), and 7, the film 2 formed by the film manufacturing method of the present embodiment, which will be described later, has pores 4 with substantially uniform pore sizes regularly in the plane direction. It is a film having a honeycomb structure formed periodically. In the film 2 of the embodiment shown in FIG. 6 (A), the holes 4 are formed so as to be partially in contact with each other in the plane direction, and are opened only on one surface of the film 2. In addition, as shown in FIG.6 (C), the contact part of the adjacent void | hole 4 may be connected mutually.

後述する本実施形態のフィルムの製造方法の製造条件によっては、図6(A)および図6(C)に示すフィルム2のみではなく、たとえば図6(B)に示すフィルム2を製造することもできる。図6(B)に示すフィルム2では、空孔4は、平面方向に相互に接触せずに形成してあり、フィルム2の両側の面に開口している。   Depending on the manufacturing conditions of the film manufacturing method of this embodiment to be described later, not only the film 2 shown in FIGS. 6A and 6C but also the film 2 shown in FIG. 6B, for example, may be manufactured. it can. In the film 2 shown in FIG. 6B, the holes 4 are formed without contacting each other in the plane direction, and are open on both sides of the film 2.

なお、図6(A)および図6(B)に示すいずれのフィルム2でも、空孔4は、フィルム2の平面方向に沿って一層で形成されることが好ましい。空孔4の平均孔径は、通常0.05〜100μmであり、0.1〜100μmであることが好ましく、0.1〜20μmであることがより好ましく、0.5〜10μmであることがさらに好ましい。このような平均孔径を有する空孔4を有するハニカム構造のフィルム2は、細胞増殖抑制作用に優れている。ただし、この実施形態のフィルム2の用途は、たとえばステントの表面に具備されるフィルムとしての医療用に限定されず、その他の用途に幅広く使うことができる。   In any film 2 shown in FIGS. 6 (A) and 6 (B), the holes 4 are preferably formed in one layer along the plane direction of the film 2. The average pore diameter of the pores 4 is usually 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 0.1 to 20 μm, and further preferably 0.5 to 10 μm. preferable. The honeycomb-structured film 2 having the pores 4 having such an average pore diameter is excellent in the cell growth inhibiting action. However, the use of the film 2 of this embodiment is not limited to medical use as a film provided on the surface of a stent, for example, and can be widely used for other uses.

ここで、孔径とは孔の開口形状に対する最大内接円の直径を指し、例えば、孔の開口形状が実質的に円形状である場合はその円の直径を指し、実質的に楕円形状である場合はその楕円の短径を指し、実質的に正方形状である場合はその正方形の辺の長さを指し、実質的に長方形状である場合はその長方形の短辺の長さを指すものである。当該孔径の測定は走査型電子顕微鏡(SEM)等を用いて行うことができる。   Here, the hole diameter refers to the diameter of the maximum inscribed circle with respect to the opening shape of the hole. For example, when the opening shape of the hole is substantially circular, it refers to the diameter of the circle, and is substantially elliptical. In this case, it refers to the minor axis of the ellipse.If it is substantially square, it refers to the length of the side of the square.If it is substantially rectangular, it refers to the length of the short side of the rectangle. is there. The pore size can be measured using a scanning electron microscope (SEM) or the like.

本実施形態のフィルム2において、空孔4の孔径の変動係数〔=標準偏差÷平均値×100(%)〕が30%以下であることが好ましく、孔径の変動係数が20%以下であることがより好ましい。このような孔径の均一性が高い多孔構造(ハニカム構造)が構成されることにより、より優れた細胞増殖抑制作用を有するフィルム2を得ることができる。   In the film 2 of the present embodiment, the variation coefficient [= standard deviation ÷ average value × 100 (%)] of the pore diameter of the pores 4 is preferably 30% or less, and the variation coefficient of the pore diameter is 20% or less. Is more preferable. By forming such a porous structure (honeycomb structure) with a high uniformity of pore diameter, it is possible to obtain a film 2 having a more excellent cell growth inhibitory effect.

フィルム2を構成する樹脂としては、特に限定されず、非生体分解性樹脂と生体分解性樹脂のいずれも使用できる。生体内において細胞増殖抑制作用を長期間持続させる観点からは、生体内で容易に分解されない非生体分解性樹脂から形成されてなるものが好ましい。   It does not specifically limit as resin which comprises the film 2, Both non-biodegradable resin and biodegradable resin can be used. From the viewpoint of maintaining the cell growth inhibitory action in the living body for a long period of time, those formed from non-biodegradable resins that are not easily decomposed in the living body are preferable.

本発明のフィルム2を構成する樹脂の具体例としては、ポリブタジエン(1,2−ポリブタジエン、1,4−ポリブタジエン)、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体などの共役ジエン系高分子;ポリε−カプロラクトン;ポリウレタン;酢酸セルロース、セルロイド、硝酸セルロース、アセチルセルロース、セロファンなどのセルロース系高分子;ポリアミド6、ポリアミド66、ポリアミド610、ポリアミド612、ポリアミド12、ポリアミド46などのポリアミド系高分子;ポリテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオロエチレン、パーフルオロエチレン−プロピレン共重合体などのフッ素高分子;ポリスチレン、スチレン−エチレン−プロピレン共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン共重合体、塩素化ポリエチレン−アクリロニトリル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリルースチレン共重合体などのスチレン系高分子;ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、エチレン−α−オレフィン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、オレフィン−ビニルアルコール共重合体、ポリメチルペンテンなどのオレフィン系高分子;フェノール樹脂、アミノ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などのホルムアルデヒド系高分子;ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系高分子;エポキシ樹脂;ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリ−2−ヒドロキシエチルアクリレート、メタクリル酸エステル−酢酸ビニル共重合体などの(メタ)アクリル系高分子;ノルボルネン系樹脂;シリコン樹脂;ポリ乳酸、ポリヒドロキシ酪酸、ポリグリコール酸などのヒドロキシカルボン酸の重合体;などが挙げられる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the resin constituting the film 2 of the present invention include polybutadiene (1,2-polybutadiene, 1,4-polybutadiene), polyisoprene, styrene-butadiene copolymer, styrene-isoprene copolymer, acrylonitrile-butadiene. -Conjugated diene polymer such as styrene copolymer; Poly ε-caprolactone; Polyurethane; Cellulose polymer such as cellulose acetate, celluloid, cellulose nitrate, acetylcellulose, cellophane; Polyamide 6, Polyamide 66, Polyamide 610, Polyamide 612 Polyamide polymers such as polyamide 12, polyamide 46; fluorine polymers such as polytetrafluoroethylene, polytrifluoroethylene, perfluoroethylene-propylene copolymer; polystyrene, styrene-ethylene -Propylene copolymer, styrene-ethylene-butylene copolymer, chlorinated polyethylene-acrylonitrile-styrene copolymer, methacrylate-styrene copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer Styrene polymers such as polymers, acrylate-acrylonitrile-styrene copolymers; polyethylene, chlorinated polyethylene, ethylene-α-olefin copolymers, ethylene-vinyl acetate copolymers, ethylene-vinyl chloride copolymers, Olefin polymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, polypropylene, olefin-vinyl alcohol copolymer, polymethylpentene; formaldehyde polymers such as phenol resin, amino resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin; Polyester polymers such as ribylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate; epoxy resin; (meth) such as poly (meth) acrylate, poly-2-hydroxyethyl acrylate, methacrylate-vinyl acetate copolymer Examples thereof include acrylic polymers; norbornene resins; silicon resins; polymers of hydroxycarboxylic acids such as polylactic acid, polyhydroxybutyric acid, and polyglycolic acid. These can be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、細胞増殖抑制作用を有するフィルムを得るためには、共役ジエン系高分子、スチレン系高分子またはポリウレタンの使用がより好ましく、1,2−ポリブタジエンの使用が特に好ましい。   Among these, in order to obtain a film having a cell growth inhibitory action, the use of a conjugated diene polymer, a styrene polymer or polyurethane is more preferred, and the use of 1,2-polybutadiene is particularly preferred.

また、フィルム2を構成する樹脂には、両親媒性物質を添加してもよい。添加する両親媒性物質としては、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールブロック共重合体;アクリルアミドポリマーを主鎖骨格とし疎水性側鎖としてドデシル基と親水性側鎖としてラクトース基またはカルボキシル基を併せ持つ両親媒性樹脂;ヘパリンやデキストラン硫酸、核酸(DNAやRNA)などのアニオン性高分子と長鎖アルキルアンモニウム塩とのイオンコンプレックス;ゼラチン、コラーゲン、アルブミンなどの水溶性タンパク質を親水性基とした両親媒性樹脂;ポリ乳酸−ポリエチレングリコールブロック共重合体、ポリε−カプロラクトン−ポリエチレングリコールブロック共重合体、ポリリンゴ酸−ポリリンゴ酸アルキルエステルブロック共重合体などの両親媒性樹脂;などが挙げられる。   Further, an amphiphilic substance may be added to the resin constituting the film 2. The amphiphilic substance to be added is a polyethylene glycol-polypropylene glycol block copolymer; an amphiphilic resin having an acrylamide polymer as a main chain skeleton and a dodecyl group as a hydrophobic side chain and a lactose group or a carboxyl group as a hydrophilic side chain. An ion complex of an anionic polymer such as heparin, dextran sulfate, and nucleic acid (DNA or RNA) and a long-chain alkylammonium salt; an amphiphilic resin having a water-soluble protein such as gelatin, collagen or albumin as a hydrophilic group; And amphiphilic resins such as a polylactic acid-polyethylene glycol block copolymer, a polyε-caprolactone-polyethylene glycol block copolymer, and a polymalic acid-polymalic acid alkyl ester block copolymer.

本実施形態では、このようなハニカム構造のフィルム2の厚みは、特に限定されないが、0.05〜100μmであるのがより好ましく、0.5〜20μmであるのが更に好ましい。   In the present embodiment, the thickness of the film 2 having such a honeycomb structure is not particularly limited, but is more preferably 0.05 to 100 μm, and further preferably 0.5 to 20 μm.

次に、本発明の一実施形態に係るフィルムの製造方法について説明する。まず、図1に示すチャンバ12の内部の温度および湿度を一定に制御する。チャンバ12の内部の温度および湿度の範囲については、上述したとおりである。   Next, the manufacturing method of the film which concerns on one Embodiment of this invention is demonstrated. First, the temperature and humidity inside the chamber 12 shown in FIG. 1 are controlled to be constant. The temperature and humidity ranges inside the chamber 12 are as described above.

次に、チャンバ12の内部において、図5に示すように、基板14の表面に、溶液膜2aを形成する。溶液膜2aは、ポリマー溶液を基板14の表面に塗布あるいは流し込むことにより形成される。その時には、図1に示す温調装置18による基板14の冷却は行わず、基板14の温度は、チャンバ12の内部温度と略同じである。溶液膜2aの当初膜厚t0は、2〜10mm、さらに好ましくは3〜7mm程度である。   Next, as shown in FIG. 5, a solution film 2 a is formed on the surface of the substrate 14 inside the chamber 12. The solution film 2 a is formed by applying or pouring a polymer solution onto the surface of the substrate 14. At that time, the substrate 14 is not cooled by the temperature control device 18 shown in FIG. 1, and the temperature of the substrate 14 is substantially the same as the internal temperature of the chamber 12. The initial film thickness t0 of the solution film 2a is about 2 to 10 mm, more preferably about 3 to 7 mm.

溶液膜2aを形成するためのポリマー溶液には、非水溶性の有機溶媒が含まれる。   The polymer solution for forming the solution film 2a contains a water-insoluble organic solvent.

有機溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタンなどの飽和炭化水素系溶媒;シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒;ジエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒;二硫化炭素;などが挙げられる。これらの有機溶媒は1種単独で、あるいはこれらの2種以上からなる混合溶媒として使用することができる。   Examples of the organic solvent include halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform and methylene chloride; saturated hydrocarbon solvents such as n-pentane, n-hexane and n-heptane; alicyclic hydrocarbon solvents such as cyclopentane and cyclohexane Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ketone solvents such as diethyl ketone and methyl isobutyl ketone; carbon disulfide; These organic solvents can be used alone or as a mixed solvent composed of two or more of these.

有機溶媒に溶解する樹脂の濃度は、好ましくは0.01〜10重量%、より好ましくは0.05〜5重量%である。樹脂濃度が0.01重量%より低いと得られるフィルムの力学的強度が不足し望ましくない。また、樹脂濃度が10重量%以上では、所望の多孔構造(ハニカム構造)が得られなくなるおそれがある。   The concentration of the resin dissolved in the organic solvent is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.05 to 5% by weight. If the resin concentration is lower than 0.01% by weight, the resulting film has insufficient mechanical strength, which is not desirable. If the resin concentration is 10% by weight or more, a desired porous structure (honeycomb structure) may not be obtained.

溶液膜2aには、両親媒性物質を樹脂組成物中に添加することが好ましい。なかでも、水に対して溶解性が低く、有機溶解に可溶である、両親媒性樹脂(以下「Cap樹脂」という。)を添加することが好ましい。   It is preferable that an amphiphilic substance is added to the resin film in the solution film 2a. Among them, it is preferable to add an amphiphilic resin (hereinafter referred to as “Cap resin”) that has low solubility in water and is soluble in organic dissolution.

このような両親媒性物質を添加することで、水滴の融合が抑えられ安定化するので、孔径の均一性がさらに向上した多孔構造を有する部材を得ることができる。両親媒性物質を添加する量は、樹脂:両親媒性物質の重量比で99:1〜50:50であることが好ましい。   By adding such an amphiphilic substance, fusion of water droplets is suppressed and stabilized, and thus a member having a porous structure with further improved pore diameter uniformity can be obtained. The amount of the amphiphilic substance added is preferably 99: 1 to 50:50 by weight ratio of resin: amphiphile.

溶液膜2aを形成した後、図1に示す温調装置18により基板14を冷却する。基板14の冷却温度は、溶液膜2aの表面が、ノズル30の吹き出し口30aから吹き出される気体の露点以下となるように決定される。   After forming the solution film 2a, the substrate 14 is cooled by the temperature control device 18 shown in FIG. The cooling temperature of the substrate 14 is determined so that the surface of the solution film 2 a is equal to or lower than the dew point of the gas blown out from the outlet 30 a of the nozzle 30.

その直後に、あるいは同時に、ノズル装置30を、図5に示す基板14におけるX軸方向に沿って一方の外周縁凸部15の位置付近から、ノズル装置30の吹出口34の吹き出し方向30bと反対方向のX軸に沿って他方の外周縁凸部15に向けて移動させる。同時に、吹出口34からの加湿された気体の吹き出しも開始する。ノズル装置30の移動速度は、前述したとおりである。   Immediately or simultaneously, the nozzle device 30 is opposite to the blowing direction 30b of the outlet 34 of the nozzle device 30 from the vicinity of the position of the one outer peripheral convex portion 15 along the X-axis direction in the substrate 14 shown in FIG. It moves toward the other outer periphery convex part 15 along the X-axis of a direction. At the same time, the blowing of the humidified gas from the outlet 34 is also started. The moving speed of the nozzle device 30 is as described above.

図5に示すように、ノズル装置30の移動に連れて、吹出口34から吹き出された加湿された気体は、溶液膜2aの表面に当たり、そこで露点以下に冷やされ、結露水の水滴4aが発生し、溶液膜2aの表面に徐々に形成される。ノズル装置30がX軸方向に沿って吹き出し方向30bと反対方向に移動することで、図2に示すように、溶液膜2aの表面において、結露水の水滴4aが形成されている領域が拡がる。その結果、結露水が生じている表面部分と、まだ結露水が形成されていない表面部分との境界が、ノズル30の移動に連れて徐々に移動し、水滴間や水滴のクラスター間に働く圧縮応力を逃がしやすい。   As shown in FIG. 5, as the nozzle device 30 moves, the humidified gas blown from the blower outlet 34 hits the surface of the solution film 2a, where it is cooled below the dew point, and water droplets 4a of condensed water are generated. And gradually formed on the surface of the solution film 2a. As the nozzle device 30 moves in the direction opposite to the blowing direction 30b along the X-axis direction, the region where the water droplets 4a of condensed water are formed on the surface of the solution film 2a is expanded as shown in FIG. As a result, the boundary between the surface portion where the condensed water is generated and the surface portion where the condensed water is not formed gradually moves as the nozzle 30 moves, and the compression works between the water droplets or between the water droplet clusters. Easy to release stress.

図5の二点鎖線に示すように、ノズル装置30の吹出口34が、基板14においてX軸方向の他方の端部に位置する外周縁凸部15まで移動した後には、ノズル装置30は、さらにX軸に沿って移動し続け、図1に示すように、ノズル装置30は、基板14からX軸方向に離れた位置で停止する。ただし、その後も、吹出口34からは、加湿された気体を吹き出し続けることが好ましい。   As shown by the two-dot chain line in FIG. 5, after the outlet 34 of the nozzle device 30 has moved to the outer peripheral convex portion 15 located at the other end portion in the X-axis direction on the substrate 14, the nozzle device 30 is Further, the nozzle device 30 continues to move along the X axis, and the nozzle device 30 stops at a position away from the substrate 14 in the X axis direction, as shown in FIG. However, it is preferable to continue blowing the humidified gas from the outlet 34 after that.

図2に示す溶液膜2aの全面に結露水による水滴4aの膜が1層形成された段階では、ノズル装置30は、基板14からX軸方向に離れた位置にあり、図1に示す温調装置18により、基板の温度を、露点付近の温度に上昇させる。チャンバ12の内部温度は、一定温度と湿度に保持される。   At the stage where one layer of the water droplet 4a made of condensed water is formed on the entire surface of the solution film 2a shown in FIG. 2, the nozzle device 30 is located away from the substrate 14 in the X-axis direction, and the temperature control shown in FIG. The apparatus 18 raises the temperature of the substrate to a temperature near the dew point. The internal temperature of the chamber 12 is maintained at a constant temperature and humidity.

その状態では、溶液膜2aに含まれる溶媒が蒸発し、しかも、水滴4aは、ほとんど蒸発しない。そのため、溶液膜2aの厚みt0が減少し、水滴4aは、溶液膜2aの内部に取り込まれる。   In this state, the solvent contained in the solution film 2a evaporates, and the water droplet 4a hardly evaporates. Therefore, the thickness t0 of the solution film 2a decreases, and the water droplet 4a is taken into the solution film 2a.

溶液膜2aの厚みt0が水滴4aの外径と同程度になった段階で、図1に示す温調装置18により、基板14の温度を上げて、水滴4aを蒸発させる。その結果、図5に示す水滴4aに相当する部分が図6(A)または図6(B)に示す空孔4となり、基板の温度を上げるタイミングなどを調節することにより、図6(A)または図6(B)に示すようなハニカム構造のフィルム2を製造することが可能になる。なお、結露による水滴4aが溶液膜2aの表面に形成された後には、基板の温度は、段階的に上げることが好ましい。また、以上の一連の動作は、チャンバ12の内部で行われることが好ましい。   At the stage where the thickness t0 of the solution film 2a becomes approximately the same as the outer diameter of the water droplet 4a, the temperature of the substrate 14 is raised by the temperature adjusting device 18 shown in FIG. 1 to evaporate the water droplet 4a. As a result, the portion corresponding to the water droplet 4a shown in FIG. 5 becomes the hole 4 shown in FIG. 6 (A) or FIG. 6 (B). By adjusting the timing for raising the temperature of the substrate, etc., FIG. Alternatively, it becomes possible to manufacture a film 2 having a honeycomb structure as shown in FIG. In addition, after the water droplet 4a by dew condensation is formed on the surface of the solution film 2a, it is preferable to raise the temperature of the substrate stepwise. The series of operations described above is preferably performed inside the chamber 12.

基板14の表面に、たとえば図6(A)または図6(B)に示すようなハニカム構造のフィルム2を製造した後、このフィルム2は、基板14と共に、チャンバ12から取り出される。その後に、基板14からフィルム2が取り除かれる。なお、チャンバ12の内部で、基板14からフィルム2を取り除いても良い。   For example, after the film 2 having a honeycomb structure as shown in FIG. 6A or 6B is manufactured on the surface of the substrate 14, the film 2 is taken out from the chamber 12 together with the substrate 14. Thereafter, the film 2 is removed from the substrate 14. Note that the film 2 may be removed from the substrate 14 inside the chamber 12.

フィルム2は、その後に、延伸されても良い。あるいは、その他のフィルムと積層されても良い。また、基板14が樹脂基板である場合には、フィルム2の製造過程において、基板14と一体化して積層することも可能である。   The film 2 may then be stretched. Or you may laminate | stack with another film. Further, when the substrate 14 is a resin substrate, it can be laminated integrally with the substrate 14 in the manufacturing process of the film 2.

本実施形態では、ノズル装置30の内部に複数の整流板36を、交互に位置ずれするように配置することで、ケーシング31内部を流れる加湿気体の流路長さを大きく確保することができる。ケーシング31内部に導入された加湿気体は、この流路を流れる間に、ケーシング31の幅方向に均一に整流され、吹出口34からは、ケーシング31の吹出口34の幅W1方向において均一な風速で加湿気体が吹き出される。加湿気体は、溶液膜2aの表面に平行な気体の流れが存在するように、しかもケーシング31の幅方向において均一な風速で吹き付けられる。したがって、より広い領域にわたって均一なハニカム構造のフィルム2を製造することが可能になる。また、製品の歩止まりも向上させることが可能になる。   In the present embodiment, by arranging the plurality of rectifying plates 36 in the nozzle device 30 so as to be alternately displaced, the flow path length of the humidified gas flowing inside the casing 31 can be ensured to be large. The humidified gas introduced into the casing 31 is uniformly rectified in the width direction of the casing 31 while flowing through the flow path, and from the outlet 34, the air velocity is uniform in the width W1 direction of the outlet 34 of the casing 31. The humidified gas is blown out. The humidified gas is blown at a uniform wind speed in the width direction of the casing 31 so that a gas flow parallel to the surface of the solution film 2a exists. Therefore, it becomes possible to manufacture the film 2 having a uniform honeycomb structure over a wider area. In addition, the yield of products can be improved.

また、複数の整流板同士が、互いに平行に配置されることより、導入口から吹出口にわたって、安定した幅30iの流路を確保することができ、効率的に加湿気体を吹き出すことが可能となる。   Further, since the plurality of rectifying plates are arranged in parallel to each other, a stable flow path with a width of 30 i can be secured from the inlet to the outlet, and the humidified gas can be efficiently blown out. Become.

さらに、流路隙間の幅30gを所定範囲にすることで、流路抵抗が小さくなり、整流作用が向上する。   Furthermore, by setting the width 30g of the flow passage gap to a predetermined range, the flow passage resistance is reduced and the rectifying action is improved.

また、所定枚数の整流板36を、所定間隔で配置することで、ケーシング31内部で結露が起きることを防止しつつ整流作用を向上させることができる。   Further, by arranging the predetermined number of rectifying plates 36 at predetermined intervals, it is possible to improve the rectifying action while preventing condensation from occurring inside the casing 31.

しかも、導入口32を、ノズル装置30の上部に位置することにより、気体の導入が容易になると共に、流路の長さを最大限に長く確保することが可能となる。   Moreover, the introduction of the introduction port 32 at the upper part of the nozzle device 30 facilitates the introduction of gas and ensures the maximum length of the flow path.

また、導入口32は、最上層の整流板36の固定端36aの上方に配置される。導入された加湿気体は、最上層の整流板36の固定端36a付近に当たって、この整流板36の自由端36bに向かって流れるので、整流作用が向上する。   The introduction port 32 is disposed above the fixed end 36 a of the uppermost rectifying plate 36. Since the introduced humidified gas hits the vicinity of the fixed end 36a of the uppermost rectifying plate 36 and flows toward the free end 36b of the rectifying plate 36, the rectifying action is improved.

また、図8に示すように、吹出口34には、気体の流れを変更可能な板状のフラップ33がさらに配置されても良い。これにより、溶液膜2aの表面に対する風向きを自由に微調整することが可能となる。   Further, as shown in FIG. 8, a plate-like flap 33 that can change the flow of gas may be further arranged at the outlet 34. This makes it possible to freely finely adjust the wind direction with respect to the surface of the solution film 2a.

また、図9に示すように、吹出口34には、三角錐状の突起物35が配置されても良い。これにより、吹出口34からは、ケーシング31の吹出口31の幅W1方向においてさらに均一な風量で加湿気体が吹き出される。   Further, as shown in FIG. 9, a triangular pyramid-shaped protrusion 35 may be disposed at the air outlet 34. As a result, the humidified gas is blown out from the air outlet 34 with a more uniform air volume in the width W1 direction of the air outlet 31 of the casing 31.

以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
実施例1
Hereinafter, although this invention is demonstrated based on a more detailed Example, this invention is not limited to these Examples.
Example 1

ケーシング31のZ軸方向の長さ30cを750mmとし、X軸方向の長さ30dを200mmとし、吹出口34の幅W1を500mmとした。整流板36同士の所定間隔30eを50mmとし、ケーシング31内に6枚を配置した。整流板36のX軸方向の長さ30fは170mmとし、吹出口34のZ軸方向の高さ30hを90mmとし、導入口32の直径を70mmとし、流路隙間30gを30mmとし、流路のZ軸方向の幅30iを410mmとして、ノズル装置30を製造した。   The length 30c in the Z-axis direction of the casing 31 was 750 mm, the length 30d in the X-axis direction was 200 mm, and the width W1 of the air outlet 34 was 500 mm. The predetermined interval 30e between the rectifying plates 36 was set to 50 mm, and six sheets were arranged in the casing 31. The length 30f of the rectifying plate 36 in the X-axis direction is 170 mm, the height 30h of the outlet 34 in the Z-axis direction is 90 mm, the diameter of the inlet 32 is 70 mm, the flow gap 30g is 30 mm, The nozzle device 30 was manufactured by setting the width 30i in the Z-axis direction to 410 mm.

本実施例のフィルム2を以下のようにして作製した。すなわち、1,2-ポリブタジエン(商品名 RB820 JSR社製)と、Cap樹脂(重量平均分子量:62,000、数平均分子量:21,000)とを重量比20:1の割合で混合した後にクロロホルムに溶解し、濃度2.0mg/mLの樹脂溶液を調製した。   The film 2 of this example was produced as follows. That is, 1,2-polybutadiene (trade name, manufactured by RB820 JSR) and Cap resin (weight average molecular weight: 62,000, number average molecular weight: 21,000) were mixed at a weight ratio of 20: 1, and then chloroform was mixed. And a resin solution having a concentration of 2.0 mg / mL was prepared.

調製した樹脂溶液を、図5に示す基板14の上にキャストし、次いで、チャンバ12の内部を25℃、相対湿度50%の雰囲気下で、相対湿度65%の高湿度空気を、ノズル装置30の吹出口34から吹き出した。また同時に、ノズル装置30を、図5に示すように、吹き出し方向30bと反対方向に移動させた。   The prepared resin solution is cast on the substrate 14 shown in FIG. 5, and then, the inside of the chamber 12 is placed in an atmosphere of 25 ° C. and a relative humidity of 50%, and high-humidity air with a relative humidity of 65% is applied to the nozzle device 30. From the air outlet 34. At the same time, the nozzle device 30 was moved in the direction opposite to the blowing direction 30b as shown in FIG.

ノズル装置30の吹出口34から吹き出される加湿空気の速度とノズル装置30の移動速度とを制御し、図10(A)に示すフィルム試料20を製造した。フィルム試料20のX軸方向の長さは430mm、Y軸方向の幅は295mmであった。このフィルム試料20から、図10(A)に示す位置から、試験用試料21〜24を切り出した。   The film sample 20 shown in FIG. 10A was manufactured by controlling the speed of the humidified air blown from the outlet 34 of the nozzle device 30 and the moving speed of the nozzle device 30. The film sample 20 had a length in the X-axis direction of 430 mm and a width in the Y-axis direction of 295 mm. From the film sample 20, test samples 21 to 24 were cut out from the positions shown in FIG.

試験用試料21〜24それぞれについて、図10(B)に示すように、膜厚の測定を行った。図10(B)に示す試験用試料24では、6カ所の膜厚測定箇所24nの位置で、フィルム試料の膜厚の測定を行った。膜厚は、3Dレーザー顕微鏡(キーエンス社製:VK8710)を用いて測定した。試験用試料21〜23についても、同様にして膜厚の測定を行った。結果を表1に示す。   For each of the test samples 21 to 24, the film thickness was measured as shown in FIG. In the test sample 24 shown in FIG. 10B, the film thickness of the film sample was measured at six film thickness measurement locations 24n. The film thickness was measured using a 3D laser microscope (manufactured by Keyence Corporation: VK8710). For the test samples 21 to 23, the film thickness was measured in the same manner. The results are shown in Table 1.

Figure 0005648782
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次に、フィルム膜の試験用試料21〜24を用いて、引張試験を行った。引張試験に用いた引張用試料24a(図10(C)に示す)は、図10(B)に示す試験用試料24を、図10(C)に示す寸法で切り出し、そのうちの5個でサンプリングを行い、評価に用いた。引張用試料21a〜23aも同様にしてサンプリングを行った。引張用試料24aの長さは50mmであり、幅は20mmであった。   Next, a tensile test was performed using the film membrane test samples 21 to 24. Tensile sample 24a (shown in FIG. 10C) used for the tensile test was obtained by cutting test sample 24 shown in FIG. 10B with the dimensions shown in FIG. 10C and sampling five of them. And used for evaluation. The tensile samples 21a to 23a were sampled in the same manner. The tensile sample 24a had a length of 50 mm and a width of 20 mm.

引張試験にはレオメーターを用いた。試験用試料24については、図11に示すように、引張用試料をシリコンパッキン50で挟んで、チャック間距離10mmの状態で、レオメーターにセットした。速度20mm/minで、引張用試料が破断するまで図11に示す矢印方向へ引張った。引張用試料が破断に至った時の破断荷重の測定を行った。結果を図12および表2に示す。また、引張用試料が破断に至った時の破断伸度の測定を行った。結果を図13および表3に示す。   A rheometer was used for the tensile test. With respect to the test sample 24, as shown in FIG. 11, the tensile sample was sandwiched between silicon packings 50 and set in a rheometer with a distance between chucks of 10 mm. The sample was pulled in the arrow direction shown in FIG. 11 at a speed of 20 mm / min until the tensile sample broke. The breaking load was measured when the tensile sample reached breaking. The results are shown in FIG. In addition, the elongation at break when the tensile sample was broken was measured. The results are shown in FIG.

Figure 0005648782
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比較例
図3に示すノズル装置30の中に、整流板36を配置しなかった以外は、実施例1と同様の条件にて、図10(A)に示すフィルム試料を製造した。フィルム試料から作成した試験用試料21’〜24’について、実施例1と同様にして膜厚の測定を行った。結果を表1に示す。同様にして引張試験を行い、破断荷重の測定を行った。結果を図12および表2に示す。また、破断伸度の測定を行った。結果を図13および表3に示す。
Comparative Example A film sample shown in FIG. 10A was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the rectifying plate 36 was not arranged in the nozzle device 30 shown in FIG. The film thickness was measured in the same manner as in Example 1 for the test samples 21 ′ to 24 ′ prepared from the film samples. The results are shown in Table 1. Similarly, a tensile test was performed to measure the breaking load. The results are shown in FIG. In addition, the elongation at break was measured. The results are shown in FIG.

これらの結果から、実施例1では、厚い膜厚のフィルム試料を得ることができると共に、膜厚のバラツキ(標準偏差)が小さく、全面に渡って均一な厚さのフィルムを得ることが確認できた。また、実施例1では、フィルムが破断しにくく、全ての試料において破断荷重が基準値25gf以上の値を達成していることが判明した。また実施例1では、比較例1に比較し、破断伸度が高く、全ての試料において基準値500%を大幅に超えていることが判明した。   From these results, it can be confirmed that in Example 1, a film sample having a thick film thickness can be obtained, and a film having a uniform thickness over the entire surface can be obtained with small variations in film thickness (standard deviation). It was. Further, in Example 1, it was found that the film was not easily broken, and the breaking load was achieved at a reference value of 25 gf or more in all samples. Moreover, in Example 1, compared with the comparative example 1, it turned out that the elongation at break is high and it exceeds the reference value 500% in all the samples.

さらに、目視観察によって、フィルム試料20の乾燥状態を観察した。図14(B)に示す比較例1に比較して、図14(A)に示すように、実施例1では、幅方向(Y軸方向)に沿ってほぼ均等に乾燥状態が分布する様子を確認することができた。   Furthermore, the dry state of the film sample 20 was observed by visual observation. Compared to Comparative Example 1 shown in FIG. 14 (B), as shown in FIG. 14 (A), in Example 1, the state in which the dry state is distributed almost evenly along the width direction (Y-axis direction) is shown. I was able to confirm.

2a…溶液膜
12…チャンバ
14…基板
16…基板保持台
30…ノズル装置
31…ケーシング
32…導入口
33…フラップ
35…突起物
34…吹出口
36…整流板
36a…固定端
36b…自由端
38…流路隙間
2a ... Solution film 12 ... Chamber 14 ... Substrate 16 ... Substrate holding base 30 ... Nozzle device 31 ... Casing 32 ... Inlet 33 ... Flaps 35 ... Projections 34 ... Air outlet 36 ... Current plate 36a ... Fixed end 36b ... Free end 38 ... channel gap

Claims (10)

所定厚みの溶液膜が形成された基板を保持する基板保持台と、
前記基板保持台の周囲雰囲気を一定の温度および湿度に保つことが可能なチャンバと、
加湿された気体を、前記溶液膜の表面に、当該表面に対して吹き付ける吹出口を持つノズル装置と、
前記気体の吹き付け方向と反対方向で前記溶液膜の表面に平行な方向に前記ノズル装置を移動させることが可能なノズル移動手段と、
前記基板の温度を制御する基板温度制御手段とを有し、
前記ノズル装置が、
前記ノズル装置内に前記気体を導入する導入口と、
前記導入口および前記吹出口が形成されたケーシングと、
前記ケーシングの内部に、前記気体の吹き付け方向に沿って異なる方向に交互に位置ずれして配置され、前記気体の吹き付け方向に沿って一方の第1端が前記ケーシングの内壁面に固定される固定端となり、前記第1端と反対側の第2端が前記ケーシングの内壁面との間に流路隙間を形成する自由端となる複数の整流板と、を有することを特徴とするフィルムの製造装置。
A substrate holder for holding a substrate on which a solution film of a predetermined thickness is formed;
A chamber capable of maintaining the ambient atmosphere of the substrate holder at a constant temperature and humidity;
A nozzle device having an outlet for blowing the humidified gas on the surface of the solution film against the surface;
Nozzle moving means capable of moving the nozzle device in a direction parallel to the surface of the solution film in a direction opposite to the gas blowing direction;
Substrate temperature control means for controlling the temperature of the substrate,
The nozzle device is
An inlet for introducing the gas into the nozzle device;
A casing in which the inlet and the outlet are formed;
Fixed in which the first end is fixed to the inner wall surface of the casing along the gas blowing direction, and is alternately displaced in different directions along the gas blowing direction. And a plurality of rectifying plates that are free ends that form a flow gap between the second end opposite to the first end and the inner wall surface of the casing. apparatus.
前記複数の整流板同士が、所定間隔で配置されることを特徴とする請求項1に記載のフィルムの製造装置。   The apparatus for producing a film according to claim 1, wherein the plurality of rectifying plates are arranged at a predetermined interval. 前記複数の整流板同士が、互いに平行に配置されることを特徴とする請求項1または2に記載のフィルムの製造装置。   The apparatus for producing a film according to claim 1, wherein the plurality of rectifying plates are arranged in parallel to each other. 前記流路隙間の幅は、隣接する前記整流板の配置間隔の30〜80%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のフィルムの製造装置。   The width | variety of the said flow-path gap | interval is 30 to 80% of the arrangement | positioning space | interval of the said adjacent baffle plate, The film manufacturing apparatus in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記整流板は、前記ケーシング内に3〜10枚で配置されることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のフィルムの製造装置。   The said baffle plate is arrange | positioned by 3-10 sheets in the said casing, The manufacturing apparatus of the film in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記導入口は、前記ノズル装置の上部に位置することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のフィルムの製造装置。   The film manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the introduction port is located in an upper part of the nozzle device. 前記導入口は、最上層の前記整流板の前記固定端の上方に配置されることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のフィルムの製造装置。   The said inlet is arrange | positioned above the said fixed end of the said baffle plate of the uppermost layer, The manufacturing apparatus of the film in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 前記吹出口には、前記気体の流れを変更可能な板状のフラップがさらに配置されることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のフィルムの製造装置。   The apparatus for producing a film according to claim 1, wherein a plate-like flap capable of changing the flow of the gas is further disposed at the outlet. 前記吹出口には、三角錐状の突起物が配置されることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のフィルムの製造装置。   The apparatus for producing a film according to claim 1, wherein a triangular pyramid-shaped protrusion is disposed at the air outlet. 請求項1〜9のいずれかに記載のフィルムの製造装置を用いて、
ポリマー溶液から成る所定厚みの前記溶液膜を前記基板上に形成する工程と、
加湿された前記気体を、前記ノズル装置から前記溶液膜の表面に、当該表面に対して平行な前記気体の流れが存在するように吹き付け、前記気体の吹き付け方向と反対方向で前記溶液膜の表面に平行な方向に前記ノズルを移動させ、前記溶液膜の表面に、結露による水滴を形成する工程と、
前記溶液膜に含まれる溶媒を蒸発させる工程と、
前記溶液膜に含まれる水滴を蒸発させる工程と、を有し、
前記水滴に対応する空孔をフィルムの内部または表面に形成することを特徴とするフィルムの製造方法。
Using the film production apparatus according to claim 1,
Forming the solution film of a predetermined thickness comprising a polymer solution on the substrate;
The humidified gas is sprayed from the nozzle device onto the surface of the solution film so that the gas flow parallel to the surface exists, and the surface of the solution film is opposite to the gas blowing direction. Moving the nozzle in a direction parallel to the surface, forming water droplets due to condensation on the surface of the solution film; and
Evaporating the solvent contained in the solution film;
Evaporating water droplets contained in the solution film,
A method for producing a film, wherein pores corresponding to the water droplets are formed in or on the film.
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