JP5647532B2 - Operational amplifier, driving circuit, driving device, and image forming apparatus - Google Patents

Operational amplifier, driving circuit, driving device, and image forming apparatus Download PDF

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Description

本発明は、MOS容量を位相補償のコンデンサとしてもつ演算増幅器(回路)、駆動装置、および画像形成装置に関し、特に前記演算増幅器を有し、電子写真プリンタにおける発光ダイオードの列、サーマルプリンタにおける発熱抵抗体の列、表示装置における表示装置の列などを、選択的に且つサイクリックに動作させる駆動装置と、前記駆動装置を有する画像形成装置(電子写真プリンタ)に関する。   The present invention relates to an operational amplifier (circuit) having a MOS capacitor as a phase compensation capacitor, a driving apparatus, and an image forming apparatus, and in particular, includes the operational amplifier, a row of light emitting diodes in an electrophotographic printer, and a heating resistor in a thermal printer. The present invention relates to a drive device that selectively and cyclically operates a row of bodies, a row of display devices in a display device, and the like, and an image forming apparatus (electrophotographic printer) having the drive device.

電子写真プリンタなどの画像形成装置には、発光素子を多数配列させて露光部を形成したものがある。発光素子としては、発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)のほか、有機EL(Organic Electro Luminescence)、発光サイリスタなどが用いられている。
発光ダイオードを用いたものでは、駆動装置と発光素子とが1対1、もしくは1対N(N>1)に対応するように設けられ、このLEDのアノード・カソード間に電流を流すか否かにより、発光/非発光の状態を切り替えている。発光状態におけるLEDの光出力は駆動電流値により決まるものであり、この駆動電流を調整することで露光部への露光エネルギー量を調整するようにしている。
前記駆動装置として、MOSトランジスタ(Metal Oxide Semiconductor Transistor)を飽和領域で動作させることで定電流特性をもたせ、LEDの定電流駆動を行なう。この機能のために前記駆動装置には演算増幅器を含む制御回路を備えている。
前記演算増幅器(回路)は、その位相補償のために、その内部にコンデンサを備える必要があり、集積回路装置の製造工程を用いて作成するためには、ポリシリコン膜を絶縁膜を介して多層に形成して前記多層膜の上下層間に生じる容量を用いる方法、ポリシリコン膜とメタル配線膜を絶縁膜を介して形成し前記膜の上下層間に生じる容量を用いる方法、ウェル状に形成した半導体層中のコンデンサ形成予定領域に高濃度の不純物注入を行っておき、ついで該領域の上層に絶縁膜を介して形成したポリシリコン膜を形成しポリシリコン層と前記高濃度不純物注入領域との間に生じる容量を用いる方法などがある。
上記構成を用いたコンデンサにおいては、コンデンサの両端子間に印加される電圧が変化してもその容量値の変動が僅少である利点を有するものの、それを構成するための製造工程が複雑化したり、コンデンサの単位面積当たりの容量値が小さいため所望の容量値を得るためのコンデンサ占有面積が増加するなどして、製造コストが上昇する原因となっていた。
また、コンデンサの別の構成として、MOSトランジスタと同様の構成を用い、前記トランジスタのゲート電極と、前記ゲート電極直下の半導体層との間に生じる静電容量を用いる構成がある。
この構成においては、コンデンサ両端に印加される電圧により容量値が減少する特性を呈し、前記した位相補償の目的を果たせなくなる不具合を生じる。特許文献1には、前記コンデンサの両端に電圧印加することで容量値の変動を防止する構成が開示されている。
Some image forming apparatuses such as electrophotographic printers have an exposure portion formed by arranging a large number of light emitting elements. As a light emitting element, an organic EL (Organic Electro Luminescence), a light emitting thyristor, and the like are used in addition to a light emitting diode (LED: Light Emitting Diode).
In the case of using a light emitting diode, the driving device and the light emitting element are provided so as to correspond to one-to-one or one-to-N (N> 1), and whether or not current flows between the anode and cathode of the LED. Thus, the light emission / non-light emission state is switched. The light output of the LED in the light emission state is determined by the drive current value, and the exposure energy amount to the exposure unit is adjusted by adjusting the drive current.
As the driving device, a MOS transistor (Metal Oxide Semiconductor Transistor) is operated in a saturation region so as to have a constant current characteristic, and the LED is driven at a constant current. For this function, the driving device is provided with a control circuit including an operational amplifier.
The operational amplifier (circuit) needs to be provided with a capacitor for its phase compensation, and in order to produce it using the manufacturing process of the integrated circuit device, a polysilicon film is formed in a multilayer via an insulating film. A method of using a capacitance generated between the upper and lower layers of the multilayer film, a method of using a capacitance generated between the upper and lower layers of the film by forming a polysilicon film and a metal wiring film through an insulating film, and a semiconductor formed in a well shape A high-concentration impurity implantation is performed in a capacitor formation scheduled region in the layer, and then a polysilicon film formed over the region via an insulating film is formed, and between the polysilicon layer and the high-concentration impurity implantation region. There is a method of using the capacity generated in the above.
Capacitors using the above configuration have the advantage that even if the voltage applied between both terminals of the capacitor changes, the capacitance value fluctuates little, but the manufacturing process for configuring it is complicated. In addition, since the capacitance value per unit area of the capacitor is small, the capacitor occupation area for obtaining a desired capacitance value is increased, resulting in an increase in manufacturing cost.
As another configuration of the capacitor, there is a configuration in which a configuration similar to that of a MOS transistor is used and a capacitance generated between the gate electrode of the transistor and a semiconductor layer immediately below the gate electrode is used.
In this configuration, the capacitance value decreases due to the voltage applied to both ends of the capacitor, which causes a problem that the purpose of the phase compensation cannot be achieved. Patent Document 1 discloses a configuration that prevents fluctuations in the capacitance value by applying a voltage across the capacitor.

なお、以下に演算増幅器や、それを用いた駆動装置や画像形成装置について説明するにあたって、そこで使用する用語の定義を以下のようにする。
モノリシック集積回路をIC(Integrated Circuit)とする。
また、正論理、負論理の別に依らず、信号レベルのHighを論理値1に、Lowレベルを論理値0に対応させて記載することがある。
さらに、信号の論理を明確にする必要のある場合には、信号名末尾に−Pを付して正論理信号であることを示し、信号名末尾に−Nを付して負論理信号であることを示す。
またさらに、信号端子名とそれに入出力される信号名とに同一名称を付して説明する場合がある。
個々の発光素子の発光により感光ドラム上に形成される静電潜像、もしくは現像後、あるいは印刷媒体上に転写されたトナー像の各々をドットと称することがある。
それと同様に、前記ドットと対応する個々の発光素子それぞれもドットと呼ぶことがある。
また、LEDヘッドとは、発光素子およびその駆動素子等を配置してなるユニットの一般名称である。
また、被駆動素子の群が電子写真プリンタに用いられたLEDの列であるとして説明する。
In the following description, the terminology used in the operational amplifier, the drive device and the image forming apparatus using the operational amplifier will be defined as follows.
The monolithic integrated circuit is assumed to be an IC (Integrated Circuit).
In addition, the signal level High may be described in correspondence with the logical value 1 and the Low level in correspondence with the logical value 0 regardless of the positive logic or the negative logic.
Further, when it is necessary to clarify the logic of a signal, -P is added to the end of the signal name to indicate a positive logic signal, and -N is added to the end of the signal name to indicate a negative logic signal. It shows that.
Furthermore, there are cases where the same name is given to the signal terminal name and the signal name input / output thereto.
Each of the electrostatic latent image formed on the photosensitive drum by the light emission of each light emitting element or the toner image after development or transferred onto the print medium may be referred to as a dot.
Similarly, each individual light emitting element corresponding to the dot may be referred to as a dot.
The LED head is a general name for a unit in which a light emitting element and its driving element are arranged.
Further, a description will be given assuming that the group of driven elements is an LED array used in an electrophotographic printer.

特開2003−63062号公報JP 2003-63062 A

特許文献1においては、MOS構造からなるコンデンサにバイアス電圧を印加する工夫がなされている。しかしながら、そのためのレベルシフト手段として飽和領域で動作するMOSトランジスタのゲート・ソース間電圧を用いているため、電源電圧が変動し製造条件がばらついた場合においては、飽和領域動作からはずれ、不飽和領域で動作することもあり、安定した回路機能を喪失して正常動作ができなくなり、前記演算増幅器の発振や制御機能の喪失といった不具合現象を起こす可能性があった。   In Patent Document 1, a device for applying a bias voltage to a capacitor having a MOS structure is devised. However, since the voltage between the gate and the source of the MOS transistor operating in the saturation region is used as the level shift means for that purpose, when the power supply voltage fluctuates and the manufacturing conditions vary, the operation shifts from the saturation region. In some cases, a stable circuit function is lost and normal operation cannot be performed, which may cause a malfunction such as oscillation of the operational amplifier or loss of control function.

そこで本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、集積回路装置の製造工程として、集積回路装置の製造工程として、標準的でかつ少ない工程数で形成できるMOS容量を位相補償用コンデンサとして用い、前記コンデンサの安定した動作と、単位面積当たりの静電容量値を充分に確保することで集積回路装置の面積効率に優れた演算増幅器を提供する。また、前記演算増幅器を備えたLEDの駆動回路、駆動装置、さらには該駆動装置を備えた画像形成装置を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention has been made to solve such problems, and as a manufacturing process of an integrated circuit device, a MOS capacitor that can be formed in a standard and a small number of steps as a manufacturing process of an integrated circuit device is phased. Provided is an operational amplifier that is used as a compensation capacitor and has excellent area efficiency of an integrated circuit device by ensuring a stable operation of the capacitor and a sufficient capacitance value per unit area. It is another object of the present invention to provide an LED driving circuit, a driving apparatus, and an image forming apparatus including the operational amplifier.

前記の課題を解決して、本発明の目的を達成するために以下のように構成した。
本発明の演算増幅器(回路)は、第1入力端子と第2入力端子を持つ差動回路と、直列に接続された導電型が異なる2つのトランジスタで構成され、前記差動回路の出力信号を増幅する出力増幅回路と、該出力増幅回路の出力信号を当該出力増幅回路の入力側に帰還して位相補償を行うコンデンサとを備えた演算増幅器であって、前記出力増幅回路の出力信号の電位を変化させるレベルシフト回路をさらに備え、前記レベルシフト回路は、一端が前記出力増幅回路の出力端子に接続されたダイオード素子と、前記ダイオード素子に電流を流すトランジスタとを有し、前記コンデンサは、第1端子が前記出力増幅回路の入力端子に接続され、第2端子が前記ダイオード素子の他端に接続され、前記レベルシフト回路は、前記ダイオード素子の順電圧を前記コンデンサに印加する。
また、本発明の駆動回路として、前記演算増幅器を備えるものとした。
また、本発明の駆動装置として、前記駆動回路を備えるものとした。
また、本発明の画像形成装置として、前記駆動装置を備えるものとした。
In order to solve the above-described problems and achieve the object of the present invention, the present invention is configured as follows.
An operational amplifier (circuit) according to the present invention includes a differential circuit having a first input terminal and a second input terminal, and two transistors of different conductivity types connected in series, and outputs an output signal of the differential circuit. An operational amplifier comprising an output amplifier circuit for amplifying and a capacitor for performing phase compensation by feeding back an output signal of the output amplifier circuit to the input side of the output amplifier circuit, the potential of the output signal of the output amplifier circuit The level shift circuit further includes a diode element having one end connected to the output terminal of the output amplifier circuit, and a transistor for passing a current through the diode element. the first terminal is connected to an input terminal of the output amplifier circuit, the second terminal is connected to the other end of the diode element, said level shift circuit, the order of the diode element Applying a pressure to the condenser.
The drive circuit of the present invention includes the operational amplifier.
Further, the driving device of the present invention includes the driving circuit.
The image forming apparatus according to the present invention includes the driving device.

本発明によれば、集積回路装置の製造工程として、標準的でかつ少ない工程数で形成できるMOS容量を位相補償用コンデンサとして用い、前記コンデンサの安定した動作と、単位面積当たりの静電容量値を充分に確保することで集積回路装置の面積効率に優れた演算増幅器を提供することができる。
また、前記演算増幅器を備えたLEDの駆動回路、駆動装置、さらには該駆動装置を備えた画像形成装置を提供することができる。
According to the present invention, as a manufacturing process of an integrated circuit device, a MOS capacitor that can be formed in a standard and a small number of steps is used as a phase compensation capacitor. By sufficiently ensuring the above, it is possible to provide an operational amplifier with excellent area efficiency of the integrated circuit device.
Further, it is possible to provide an LED driving circuit and driving device including the operational amplifier, and an image forming apparatus including the driving device.

本発明の第1実施形態に係る演算増幅器(回路)の構成を示す回路図である。1 is a circuit diagram showing a configuration of an operational amplifier (circuit) according to a first embodiment of the present invention. 第1実施形態の演算増幅器(回路)に用いられるMOS容量の(a)上面図と(b)断面図である。2A is a top view and FIG. 2B is a cross-sectional view of a MOS capacitor used in the operational amplifier (circuit) of the first embodiment. 第1実施形態の演算増幅器(回路)に用いられるMOS容量の容量値とバイアス電圧の関係を示す特性図である。FIG. 3 is a characteristic diagram showing a relationship between a capacitance value of a MOS capacitor used in the operational amplifier (circuit) of the first embodiment and a bias voltage. 第2実施形態に係る演算増幅器(回路)の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the operational amplifier (circuit) which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る演算増幅器(回路)の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the operational amplifier (circuit) which concerns on 3rd Embodiment. 第3実施形態に係る演算増幅器(回路)の回路定数を付した回路図である。It is a circuit diagram which attached | subjected the circuit constant of the operational amplifier (circuit) which concerns on 3rd Embodiment. 第4実施形態に係る演算増幅器(回路)の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the operational amplifier (circuit) which concerns on 4th Embodiment. 本発明の画像形成装置(プリンタ)のプリンタ制御回路の機能ブロック図である。2 is a functional block diagram of a printer control circuit of the image forming apparatus (printer) of the present invention. FIG. 本発明の画像形成装置(プリンタ)のLEDヘッドの回路構成を示す回路ブロック図である。FIG. 2 is a circuit block diagram illustrating a circuit configuration of an LED head of the image forming apparatus (printer) of the present invention. 本発明の駆動装置(ドライバIC)の構成を示す回路ブロック図である。It is a circuit block diagram which shows the structure of the drive device (driver IC) of this invention. 本発明の駆動装置(ドライバIC)に含まれるメモリ回路(MEM)の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the memory circuit (MEM) contained in the drive device (driver IC) of this invention. 本発明の駆動装置(ドライバIC)に含まれるDRVブロックに対応するLED駆動装置の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the LED drive device corresponding to the DRV block contained in the drive device (driver IC) of this invention. 本発明の駆動装置(ドライバIC)に含まれるCTRLブロックに対応する制御回路の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the control circuit corresponding to the CTRL block contained in the drive device (driver IC) of this invention. 本発明の駆動装置(ドライバIC)に含まれるADJブロックに対応する制御電圧発生回路の構成を示す回路ブロック図である。It is a circuit block diagram which shows the structure of the control voltage generation circuit corresponding to the ADJ block contained in the drive device (driver IC) of this invention. 本発明の画像形成装置(プリンタ)に用いられるLEDヘッドの構成と構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure and structure of an LED head used for the image forming apparatus (printer) of this invention. 本発明の駆動装置(ドライバIC)において、LEDヘッドに対して行われる補正データ転送と印刷データ転送の処理の様子を示すタイムチャートである。6 is a time chart showing how correction data transfer and print data transfer are performed on an LED head in the drive device (driver IC) of the present invention. 本発明の駆動装置(ドライバIC)に含まれるADJブロック、DRVブロック、およびその周辺回路との接続関係を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the connection relationship with the ADJ block, DRV block, and its peripheral circuit which are contained in the drive device (driver IC) of this invention. 本発明の画像形成装置(プリンタ)の概略の構成と構造を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration and structure of an image forming apparatus (printer) according to the present invention. 従来の演算増幅器(回路)の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the conventional operational amplifier (circuit). 従来の演算増幅器(回路)に用いられるMOS構造のコンデンサ(MOS容量)の(a)上面図と(b)断面図である。It is (a) top view and (b) sectional drawing of the capacitor | condenser (MOS capacity) of the MOS structure used for the conventional operational amplifier (circuit).

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
(第1実施形態の演算増幅器)
図1は本発明の第1実施形態の演算増幅器の構成を示す回路図である。
図1の演算増幅器251は、以下の回路要素を備えて構成されている。
1.カレントミラー回路のバイアス電圧発生回路(251a)
2.差動回路(251b)
3.出力増幅回路(251c)
4.レベルシフト回路(251d)
5.コンデンサ(311)
以下に順に説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(Operational Amplifier of First Embodiment)
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of an operational amplifier according to a first embodiment of the present invention.
The operational amplifier 251 shown in FIG. 1 includes the following circuit elements.
1. Bias voltage generation circuit for current mirror circuit (251a)
2. Differential circuit (251b)
3. Output amplifier circuit (251c)
4). Level shift circuit (251d)
5. Capacitor (311)
This will be described in order below.

(1.カレントミラー回路のバイアス電圧発生回路)
カレントミラー回路のバイアス電圧発生回路251aは、P型絶縁ゲート電界効果型トランジスタ(以下、PMOSトランジスタと略す場合もある)301と抵抗素子(抵抗手段)310とを備えて構成されている。
PMOSトランジスタ301のソース電極は正極の電源端子であるVDD端子327に接続され、ゲート電極とドレーン電極とは互いに接続されている。抵抗素子310の一端は負極の電源端子であるグランド328に接続され、他端はPMOSトランジスタ301のドレーン電極に接続されている。前記したようにPMOSトランジスタ301のゲート電極とドレーン電極は互いに接続されているので、PMOSトランジスタ301が飽和領域で動作する電位がPMOSトランジスタ301のドレーン電極、つまりカレントミラー回路のバイアス電圧発生回路の出力端子326に発生する。
また、図1において、グランド328と同一の記号(アース記号、グランド記号)で表記した箇所はすべてグランド電位で接続されている。
なお、チップ内の他の回路からバイアス電圧が供給される場合には、この「カレントミラー回路のバイアス電圧発生回路」は必須要素の回路ではない。
(1. Current mirror circuit bias voltage generation circuit)
The bias voltage generation circuit 251a of the current mirror circuit includes a P-type insulated gate field effect transistor (hereinafter sometimes abbreviated as a PMOS transistor) 301 and a resistance element (resistance means) 310.
The source electrode of the PMOS transistor 301 is connected to a VDD terminal 327 which is a positive power supply terminal, and the gate electrode and the drain electrode are connected to each other. One end of the resistance element 310 is connected to the ground 328 which is a negative power supply terminal, and the other end is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 301. As described above, since the gate electrode and drain electrode of the PMOS transistor 301 are connected to each other, the potential at which the PMOS transistor 301 operates in the saturation region is the drain electrode of the PMOS transistor 301, that is, the output of the bias voltage generation circuit of the current mirror circuit. Occurs at terminal 326.
In FIG. 1, all parts indicated by the same symbol (ground symbol, ground symbol) as the ground 328 are connected at the ground potential.
When a bias voltage is supplied from another circuit in the chip, the “bias voltage generation circuit for the current mirror circuit” is not an essential circuit.

(2.差動回路)
差動回路251bは、PMOSトランジスタ302、305、306と、N型絶縁ゲート電界効果型トランジスタ(以下、NMOSトランジスタと略す場合もある)307、308を備えて構成され、差動回路として機能する。
PMOSトランジスタ302のソース電極はVDD端子327に接続され、ゲート電極はPMOSトランジスタ301のドレーン電極に接続されている。PMOSトランジスタ302も飽和領域で動作しており、PMOSトランジスタ302のドレーン電流はソース・ドレーン間の電圧変動に対する変化量は小さく、ほぼ定電流と見なせる動作をする。
PMOSトランジスタ305のゲート電極は反転入力端子(−入力)321であって、演算増幅器としての第2入力端子321となっている。また、ソース電極はPMOSトランジスタ302のドレーン電極に接続されている。
PMOSトランジスタ306のゲート電極は非反転入力端子(+入力)322であって、演算増幅器251としての第1入力端子322となっている。また、ソース電極はPMOSトランジスタ302のドレーン電極に接続されている。
(2. Differential circuit)
The differential circuit 251b includes PMOS transistors 302, 305, and 306 and N-type insulated gate field effect transistors (hereinafter also abbreviated as NMOS transistors) 307 and 308, and functions as a differential circuit.
The source electrode of the PMOS transistor 302 is connected to the VDD terminal 327, and the gate electrode is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 301. The PMOS transistor 302 is also operating in the saturation region, and the drain current of the PMOS transistor 302 has a small change amount with respect to the voltage fluctuation between the source and the drain, and operates so that it can be regarded as a substantially constant current.
The gate electrode of the PMOS transistor 305 is an inverting input terminal (−input) 321, which is a second input terminal 321 as an operational amplifier. The source electrode is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 302.
The gate electrode of the PMOS transistor 306 is a non-inverting input terminal (+ input) 322 and serves as a first input terminal 322 as the operational amplifier 251. The source electrode is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 302.

NMOSトランジスタ307のソース電極はグランド328に接続され、ゲート電極とドレーン電極とは互いに接続され、かつドレーン電極はPMOSトランジスタ305のドレーン電極に接続されている。
NMOSトランジスタ308のソース電極はグランド328に接続され、ゲート電極はNMOSトランジスタ307のゲート電極に接続され、かつドレーン電極はPMOSトランジスタ306のドレーン電極に接続されている。
ここで、2つのPMOSトランジスタ305、306のトランジスタの形状(チャネル幅、チャネル長)は同一に作製されている。
また、2つのNMOSトランジスタ307、308のトランジスタの形状(チャネル幅、チャネル長)は同一に作製されている。また、2つのNMOSトランジスタ307、308のゲート電極は互いに接続されているので、ゲート電極は同電位となっている。
The source electrode of the NMOS transistor 307 is connected to the ground 328, the gate electrode and the drain electrode are connected to each other, and the drain electrode is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 305.
The source electrode of the NMOS transistor 308 is connected to the ground 328, the gate electrode is connected to the gate electrode of the NMOS transistor 307, and the drain electrode is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 306.
Here, the two PMOS transistors 305 and 306 have the same transistor shape (channel width and channel length).
The two NMOS transistors 307 and 308 have the same transistor shape (channel width and channel length). Further, since the gate electrodes of the two NMOS transistors 307 and 308 are connected to each other, the gate electrodes have the same potential.

さて、第1入力端子(非反転入力端子)322と第2入力端子(反転入力端子)321との間に電位差を生じると、その電圧に応じてPMOSトランジスタ306、305のゲート・ソース間電圧が変化する結果、その動作状態が変動して差動回路251bの出力(323)の電位は前記入力端子間の電位差に略比例する電位変化を生じる。   When a potential difference is generated between the first input terminal (non-inverting input terminal) 322 and the second input terminal (inverting input terminal) 321, the gate-source voltages of the PMOS transistors 306 and 305 are changed according to the voltage. As a result of the change, the operating state fluctuates, and the potential of the output (323) of the differential circuit 251b changes in potential substantially proportional to the potential difference between the input terminals.

(3.出力増幅回路)
出力増幅回路251cは、PMOSトランジスタ303と、NMOSトランジスタ309とにより構成されている。
PMOSトランジスタ303のソース電極はVDD端子327に接続され、ゲート電極は前記第1バイアス電圧発生回路251aの出力端子326であるPMOSトランジスタ301のドレーン電極に接続されている。
NMOSトランジスタ309のソース電極はグランド328に接続され、ドレーン電極はPMOSトランジスタ303のドレーン電極に接続され、ゲート電極には前記差動回路251bの出力323が接続されている。
(3. Output amplifier circuit)
The output amplifier circuit 251c includes a PMOS transistor 303 and an NMOS transistor 309.
The source electrode of the PMOS transistor 303 is connected to the VDD terminal 327, and the gate electrode is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 301 which is the output terminal 326 of the first bias voltage generation circuit 251a.
The source electrode of the NMOS transistor 309 is connected to the ground 328, the drain electrode is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 303, and the output 323 of the differential circuit 251b is connected to the gate electrode.

この出力増幅回路251cは、差動回路(251b)の出力駆動能力を増強する回路であって、差動回路(251b)の出力端子(323)の電位が僅かに上昇すると、NMOSトランジスタ309のドレーン電位が大きく低下し、出力端子(323)の電位が僅かに低下すると、NMOSトランジスタ309のドレーン電位が大きく上昇する増幅回路として動作する。   The output amplifier circuit 251c is a circuit that enhances the output drive capability of the differential circuit (251b). When the potential of the output terminal (323) of the differential circuit (251b) is slightly increased, the drain of the NMOS transistor 309 is drained. When the potential is greatly decreased and the potential of the output terminal (323) is slightly decreased, the drain circuit of the NMOS transistor 309 operates as an amplifier circuit that greatly increases.

(4.レベルシフト回路)
レベルシフト回路251dは、PMOSトランジスタ304と、ダイオード312とで構成されている。
PMOSトランジスタ304のソース電極は、VDD端子327に接続され、ゲート電極は前記第1バイアス電圧発生回路251bの出力端子326であるPMOSトランジスタ301のドレーン電極に接続されている。
ダイオード312は、アノード端子はPMOSトランジスタ304のドレーン電極に接続され、カソード端子は演算増幅器251の出力端子324に接続されている。
(4. Level shift circuit)
The level shift circuit 251d includes a PMOS transistor 304 and a diode 312.
The source electrode of the PMOS transistor 304 is connected to the VDD terminal 327, and the gate electrode is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 301 which is the output terminal 326 of the first bias voltage generation circuit 251b.
The diode 312 has an anode terminal connected to the drain electrode of the PMOS transistor 304 and a cathode terminal connected to the output terminal 324 of the operational amplifier 251.

なお、ダイオード312のアノード端子の電位は演算増幅器251の出力端子(324)の電位よりもダイオード312の順電圧分だけ高い電位にある。
また、図17を用いて後述するように、演算増幅器251の出力端子電位と電源VDD電位との電位差は駆動素子であるPMOSトランジスタのゲート・ソース間電圧としている。一方、差動回路251dの出力端子(323)の電位は、NMOSトランジスタ309のゲート・ソース間電圧に等しいことから、端子323の電位に比べ、端子325の電位を高い状態とすることができる。
なお、ダイオード312の順電圧(Vf)はダイオード自身の特性と、順方向電流により決まるものであるが、PMOSトランジスタ304には定電流性の特性が付与され、そのドレーン電流は電源電圧VDDやドレーン端子電位の依存性を軽減することができる。このためダイオードの順電圧を所定値に保ち、典型的な例においては0.6V程度に設定することができる。
Note that the potential of the anode terminal of the diode 312 is higher than the potential of the output terminal (324) of the operational amplifier 251 by the forward voltage of the diode 312.
Further, as will be described later with reference to FIG. 17, the potential difference between the output terminal potential of the operational amplifier 251 and the power supply VDD potential is the gate-source voltage of the PMOS transistor which is a drive element. On the other hand, since the potential of the output terminal (323) of the differential circuit 251d is equal to the gate-source voltage of the NMOS transistor 309, the potential of the terminal 325 can be made higher than the potential of the terminal 323.
The forward voltage (Vf) of the diode 312 is determined by the characteristics of the diode itself and the forward current. However, the PMOS transistor 304 has a constant current characteristic, and the drain current is the power supply voltage VDD or drain. The dependency of the terminal potential can be reduced. For this reason, the forward voltage of the diode can be kept at a predetermined value, and can be set to about 0.6 V in a typical example.

(5.コンデンサ)
コンデンサ311は、MOS容量から構成され、演算増幅器の発振防止などの特性を改善する位相補償に用いられる。
コンデンサ311の一端(P−WELL332、図2)は、第2バイアス電圧発生回路251dの出力であるダイオード312のP側の端子325に接続され、他端(ゲート電極、POLY−Si TOP PLATE336、図2)は差動回路251bの出力端子323に接続されている。
ところで、MOS容量は、図3を用いて後記するように静電容量値Ccが両端の端子に印加される電圧Vbiasによって変化する。したがって、この印加電圧が所定値(詳細は後記する)以上でなければ、必要な静電容量値を確保できず位相補償用のコンデンサの役割を果たせない場合がある。
しかし、コンデンサ311はその第1端子が差動回路251bの出力端子323と、第2端子がダイオード312のアノード端子との間に接続されており、コンデンサ311の第1端子の電位は第2端子の電位よりも低い状態とすることができる。
(5. Capacitor)
The capacitor 311 is composed of a MOS capacitor and is used for phase compensation for improving characteristics such as oscillation prevention of the operational amplifier.
One end (P-WELL 332, FIG. 2) of the capacitor 311 is connected to the P-side terminal 325 of the diode 312 which is the output of the second bias voltage generation circuit 251d, and the other end (gate electrode, POLY-Si TOP PLATE 336, FIG. 2) is connected to the output terminal 323 of the differential circuit 251b.
By the way, as will be described later with reference to FIG. 3, the MOS capacitance changes the capacitance value Cc according to the voltage Vbias applied to the terminals at both ends. Therefore, if the applied voltage is not equal to or higher than a predetermined value (details will be described later), a necessary capacitance value cannot be secured and the role of a phase compensation capacitor may not be achieved.
However, the capacitor 311 has a first terminal connected between the output terminal 323 of the differential circuit 251b and a second terminal connected to the anode terminal of the diode 312. The potential of the first terminal of the capacitor 311 is the second terminal. The potential can be lower than the potential.

なお、コンデンサ311はMOS容量で構成されており、後述するように、その構成は図2により示されるものであり、その静電容量値はコンデンサの両端に印加される電圧値によって変化する。
このため、前記印加電圧が所定範囲にないと必要とする静電容量値を確保できず、演算増幅器の位相補償のコンデンサの役割を果たせない場合がある。
The capacitor 311 is composed of a MOS capacitor. As will be described later, the structure is shown in FIG. 2, and the capacitance value changes depending on the voltage value applied across the capacitor.
For this reason, if the applied voltage is not within a predetermined range, the required capacitance value cannot be ensured, and the function of the phase compensation capacitor of the operational amplifier may not be achieved.

(MOS容量によるコンデンサ)
次にMOS容量によるコンデンサの構造と特性について説明する。
(Capacitor with MOS capacity)
Next, the structure and characteristics of a capacitor with MOS capacitance will be described.

(MOS容量によるコンデンサの構造)
図2は本実施形態で用いているコンデンサ311の構成を示す図であり、図1において示した演算増幅器251において用いられるコンデンサ311に相当する。
従来技術において用いられるものと同様に、本コンデンサはモノリシックIC内に集積されるものであって、MOS(Metal Oxide Semiconductor)構造として形成されており、NMOSトランジスタと同様な構造を備え、NMOSトランジスタ作製時に同時に一括して作製することができる。なお、本コンデンサにより得られる静電容量をMOS容量(MOSキャパシタ)と呼ぶことがある。
図2(a)は、コンデンサ311をIC上面より見た図であり、図2(b)はその一断面図を示している。
図2(b)において、POLY−Si TOP PLATE336はポリシリコンからなる電極であって、コンデンサの第1電極に相当するものである。GATE OXIDE335はゲート酸化膜である。N333はN型不純物の拡散領域であってNMOSトランジスタのソース、ドレーン領域に相当する。
SUBSTRATE331はN型の半導体基板であり、P−WELL332は半導体基板331の中に島状に形成されたPウェル領域である。Silicon Surface
Region334は、シリコン表面領域であって前記Pウェル332領域内にあり、図2のコンデンサの端子間に電圧が印加されると、その電圧値により不純物濃度が変化したり、空乏層が生じたりする。
(Capacitor structure with MOS capacitance)
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the capacitor 311 used in this embodiment, and corresponds to the capacitor 311 used in the operational amplifier 251 shown in FIG.
Similar to the capacitor used in the prior art, this capacitor is integrated in a monolithic IC and is formed as a MOS (Metal Oxide Semiconductor) structure, and has the same structure as an NMOS transistor. Sometimes they can be made simultaneously. Note that the capacitance obtained by this capacitor may be referred to as a MOS capacitor (MOS capacitor).
FIG. 2A is a view of the capacitor 311 as viewed from the top surface of the IC, and FIG. 2B is a cross-sectional view thereof.
In FIG. 2B, POLY-Si TOP PLATE 336 is an electrode made of polysilicon and corresponds to the first electrode of the capacitor. GATE OXIDE 335 is a gate oxide film. N + 333 is an N-type impurity diffusion region and corresponds to the source and drain regions of the NMOS transistor.
SUBSTRATE 331 is an N-type semiconductor substrate, and P-WELL 332 is a P-well region formed in an island shape in the semiconductor substrate 331. Silicon Surface
Region 334 is in the silicon surface region and in the P-well 332 region. When a voltage is applied between the terminals of the capacitor in FIG. 2, the impurity concentration changes or a depletion layer is generated depending on the voltage value. .

なお、図2においては、図示を省略しているが、Pウェル332領域内にはP型不純物を高濃度に注入したP領域を備えており、N領域333と図示しないメタル配線により接続されている。
このN領域333、あるいはPウェル332がコンデンサ311としての第2端子となる。
Field Oxide339はフィールド酸化膜、THICK OXIDE337は層間絶縁のための酸化膜、METAL338はアルミニウムを主材料とするメタル配線である。
なお、図2において、パッシベーション膜等は図示を省略している。
また、図2のMOS構造によるMOS容量はNMOSトランジスタを形成するときの構造を流用しているが、PMOSトランジスタを形成するときの構造を流用してもMOS容量は構成できる。このときPウェル332はN型極性のNウェルに置き換えられる。PウェルやNウェルは極性を考慮せず、一般的に表現する場合は単にウェルと表現する。
Although not shown in FIG. 2, the P well 332 region includes a P + region in which a P-type impurity is implanted at a high concentration, and is connected to the N + region 333 by a metal wiring (not shown). Has been.
The N + region 333 or the P well 332 serves as a second terminal as the capacitor 311.
Field Oxide 339 is a field oxide film, THICK OXIDE 337 is an oxide film for interlayer insulation, and METAL 338 is a metal wiring whose main material is aluminum.
In FIG. 2, the passivation film and the like are not shown.
In addition, the MOS capacitor having the MOS structure shown in FIG. 2 uses the structure used when the NMOS transistor is formed. However, the MOS capacitor can be formed even if the structure used when forming the PMOS transistor is used. At this time, the P-well 332 is replaced with an N-type N-well. The P well and the N well do not consider polarity, and are simply expressed as wells when generally expressed.

コンデンサ311のキャパシタンス(静電容量値)は、第1端子であるポリシリコンからなる電極336と、第2端子となるPウェル332のP領域(332)との間で発生する。両者の間には良質な絶縁体であるゲート酸化膜335と、空乏層の生じるシリコン表面領域334とが介在している。
なお、後述する従来技術における構成との相違は、本実施形態においてはポリシリコン膜336の直下に高濃度(HEAVY)の不純物注入を行っていない点である。
このようにコンデンサ311形成のための格別な工程の濃い(HEAVY)不純物注入を行わない構成としたことで、IC製造時においてコンデンサ311を形成するポリシリコン膜直下に選択的に高濃度な不純物注入するためのフォトマスクを用意する必要が無く、また、このようなフォトマスクを使用するウェハ製造プロセスの工程も省略することができるという利点を生じる。
The capacitance (capacitance value) of the capacitor 311 is generated between an electrode 336 made of polysilicon serving as the first terminal and a P - region (332) of the P well 332 serving as the second terminal. Between them, a gate oxide film 335 which is a high-quality insulator and a silicon surface region 334 where a depletion layer is formed are interposed.
Note that the difference from the configuration in the prior art described later is that in this embodiment, high-concentration (HEAVY) impurity implantation is not performed directly below the polysilicon film 336.
As described above, the high-concentration (HEAVY) impurity implantation in the special process for forming the capacitor 311 is not performed, so that a high-concentration impurity implantation is selectively performed directly under the polysilicon film forming the capacitor 311 during IC manufacturing. Therefore, there is no need to prepare a photomask for this purpose, and there is an advantage that the steps of the wafer manufacturing process using such a photomask can be omitted.

しかしながら、本構成のコンデンサ311においては、不純物濃度が変化したり、空乏層の生じるシリコン表面領域334があるため、コンデンサとしての特性が理想条件からはずれて、Pウェル(P−WELL)332電極と、ポリシリコン336電極との間の電位差が変化した場合に、両電極間で発生するキャパシタンス値が変動するC−V特性を呈することになって本来好ましくない。
なお、図2においては、N拡散領域333を設けずにPウェル332およびPウェル332領域内に設けたP拡散領域(不図示)をコンデンサの第2端子とすることも可能である。
However, in the capacitor 311 of this configuration, the impurity concentration changes or there is a silicon surface region 334 where a depletion layer is generated, so that the characteristics as a capacitor deviate from ideal conditions, and the P-well (P-WELL) 332 electrode and When the potential difference between the polysilicon 336 electrode changes, the capacitance value generated between the two electrodes exhibits a CV characteristic that fluctuates.
In FIG. 2, the P + diffusion region (not shown) provided in the P well 332 and the P well 332 region without providing the N + diffusion region 333 may be used as the second terminal of the capacitor.

(高濃度の不純物注入を行ったコンデンサの構造)
図20は、MOS容量に高濃度の不純物注入を行ったコンデンサの構造を示す図であり、従来の演算増幅器(回路)でよく用いられていた構造である。
図20は、BOTTOM PLATE HEAVY N IMPLANT340を除けば図2で示したコンデンサ311と同じ構成、構造である。したがって同一箇所の説明は省略する。
図20では図2におけるシリコン表面領域334に高濃度の不純物注入を行い、N領域340を形成している。
コンデンサ311のキャパシタンスは、その第1電極であるポリシリコンからなる電極336と、第2電極であるPウェル内にN型不純物を高濃度に注入されたN領域340との間で発生する。両者の間には良質な絶縁体であるゲート酸化膜335が介在している。この構造においては、N型不純物を高濃度に注入されたN領域340があるため空乏層が生じることはない。
(Capacitor structure with high-concentration impurity implantation)
FIG. 20 is a diagram showing the structure of a capacitor in which a high-concentration impurity is implanted into a MOS capacitor, which is a structure often used in a conventional operational amplifier (circuit).
FIG. 20 shows the same configuration and structure as the capacitor 311 shown in FIG. 2 except for BOTTOM PLATE HEAVY N + IMPLANT 340. Therefore, the description of the same part is omitted.
In FIG. 20, high-concentration impurity implantation is performed on the silicon surface region 334 in FIG. 2 to form an N + region 340.
The capacitance of the capacitor 311 is generated between an electrode 336 made of polysilicon, which is the first electrode, and an N + region 340 in which an N-type impurity is implanted at a high concentration in the P well, which is the second electrode. Between them, a gate oxide film 335 which is a high-quality insulator is interposed. In this structure, there is no depletion layer because there is an N + region 340 in which an N-type impurity is implanted at a high concentration.

また、図20のコンデンサ311においてはポリシリコン膜直下の高濃度の不純物注入を行っているため、IC製造時においてコンデンサ311を形成するためのポリシリコン膜直下に選択的に高濃度な不純物注入するためのフォトマスクを必要とし、また、このようなフォトマスクを使用するウェハ製造プロセスの工程も追加する必要があって、製造コストが増加してしまう問題がある。しかし、ウェル側に配置されたN領域333とN型不純物の高濃度注入により得られた反転層340とはチャネルを形成しつつ導通状態を保ち、コンデンサの第1端子(ポリシリコン電極336)と第2端子(N注入層340)との間の電位差が変化した場合でも、両電極間のキャパシタンスの変動は殆ど無く、理想的なコンデンサ特性が得られる。 Further, in the capacitor 311 of FIG. 20, since high concentration impurity implantation is performed directly under the polysilicon film, high concentration impurity implantation is selectively performed directly under the polysilicon film for forming the capacitor 311 during IC manufacturing. Therefore, there is a problem that a manufacturing cost increases because it is necessary to add a process of a wafer manufacturing process using such a photomask. However, the N + region 333 disposed on the well side and the inversion layer 340 obtained by the high concentration implantation of the N-type impurity remain in a conductive state while forming a channel, and the first terminal of the capacitor (polysilicon electrode 336). Even when the potential difference between the first terminal and the second terminal (N + injection layer 340) changes, there is almost no variation in capacitance between the two electrodes, and ideal capacitor characteristics can be obtained.

(MOS容量のC−V特性)
次に、MOS容量におけるC−V特性について述べる。
図3は図2の構成のコンデンサ311において、その両端に印加されるバイアス電圧と静電容量の特性(C−V特性)を示したグラフである。
図3の横軸は図2のPウェル332側電極を基準としてポリシリコンからなるゲート電極336に印加されるバイアス電圧Vbiasを示し、縦軸はコンデンサ311の静電容量Ccの関係をプロットしており、曲線a(破線部)は低周波数で測定した場合、曲線b(実線部)は高周波にて測定した場合を示している。
いずれの場合においても、図3より明らかなように、バイアス電圧によりコンデンサ容量は大きく変動しており、図20に示した高濃度の不純物注入を行ったコンデンサ構造の場合におけるバイアス電圧によるコンデンサ容量の変動が殆どないのと比べ、際だった相違がある。
(CV characteristics of MOS capacitor)
Next, CV characteristics in the MOS capacitor will be described.
FIG. 3 is a graph showing the characteristics (CV characteristics) of the bias voltage and capacitance applied to both ends of the capacitor 311 having the configuration of FIG.
The horizontal axis of FIG. 3 shows the bias voltage Vbias applied to the gate electrode 336 made of polysilicon with the P well 332 side electrode of FIG. 2 as a reference, and the vertical axis plots the relationship of the capacitance Cc of the capacitor 311. Curve a (dashed line portion) shows a case where measurement is performed at a low frequency, and curve b (solid line portion) shows a case where measurement is performed at a high frequency.
In any case, as apparent from FIG. 3, the capacitance of the capacitor greatly fluctuates depending on the bias voltage, and the capacitance of the capacitor due to the bias voltage in the case of the capacitor structure in which the high concentration impurity implantation shown in FIG. 20 is performed. There is a striking difference compared to little variation.

図3の横軸に示す領域AはコンデンサをMOSトランジスタとして考えたときの蓄積領域に相当し、領域Bは空乏領域に相当し、領域Cは反転領域に相当している。蓄積領域Aにおいてはバイアス電圧が変化しても容量変化が殆どないが、空乏領域Bにおいては大きな容量変動が発生しており、さらに、反転領域Cにおいては特に高周波信号において大きく容量低下する特性であることを示している。
本発明の実施形態においてはコンデンサが容量の値が相対的に大きく、かつ変化の少ない蓄積領域Aで動作するようにコンデンサの両端の端子にバイアス電圧を印加して用いている。
Region A shown on the horizontal axis in FIG. 3 corresponds to an accumulation region when the capacitor is considered as a MOS transistor, region B corresponds to a depletion region, and region C corresponds to an inversion region. In the accumulation region A, there is almost no change in capacitance even when the bias voltage changes, but a large capacitance fluctuation occurs in the depletion region B. Further, in the inversion region C, the capacitance is greatly reduced particularly in a high frequency signal. It shows that there is.
In the embodiment of the present invention, the capacitor is used by applying a bias voltage to both terminals of the capacitor so that the capacitor operates in the accumulation region A having a relatively large capacitance value and little change.

なお、図1におけるダイオード312とMOS容量で構成されたコンデンサ311との関係において、コンデンサ311のMOS構造におけるゲート電極の仕事関数とゲート直下のウェルの仕事関数との差を電圧に換算した値よりも、前記ダイオード素子312のアノードのP拡散の仕事関数とカソードのN拡散の仕事関数との差を電圧換算したダイオード素子312の順方向電圧(順電圧)が大きいことが望ましい。
このとき、MOS容量で構成されたコンデンサ311のゲート電極には、ダイオード素子312によって負のバイアスが印加され、ダイオード素子312の順方向電圧が充分に大きければ、MOS容量で構成されたコンデンサ311は、図3における蓄積領域Aでの動作となり、大きい静電容量値が確保されるので、図1の演算増幅器251は安定した動作をする。
In the relationship between the diode 312 and the capacitor 311 formed of a MOS capacitor in FIG. 1, the difference between the work function of the gate electrode in the MOS structure of the capacitor 311 and the work function of the well immediately below the gate is converted into a voltage. However, it is desirable that the forward voltage of the diode element 312 obtained by converting the difference between the work function of the P + diffusion of the anode of the diode element 312 and the work function of the N + diffusion of the cathode is large.
At this time, a negative bias is applied by the diode element 312 to the gate electrode of the capacitor 311 composed of the MOS capacitor. If the forward voltage of the diode element 312 is sufficiently large, the capacitor 311 composed of the MOS capacitor Since the operation is performed in the storage area A in FIG. 3 and a large capacitance value is secured, the operational amplifier 251 in FIG. 1 operates stably.

(第2実施形態の演算増幅器)
図4は本発明の第2実施形態の演算増幅器の構成を示す回路図である。
図4に示す演算増幅器251Bは、図1で示した第1の実施形態の演算増幅器において、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタを入れ換えた構成の回路である。つまり、図1におけるPMOSトランジスタ301、302、303、304、305、306とNMOSトランジスタ307、308、309は、図4においてはそれぞれNMOSトランジスタ401、402、403、404、405、406とPMOSトランジスタ407、408、409に置き換えられている。また、それにともない電源のVDDとグランドとの接続が逆の構成となっている。
また、ダイオード412は、アノード端子が出力端子424に接続され、カソード端子がNMOSトランジスタのドレーン側である端子425に接続されている。
なお、コンデンサ411をMOS容量で構成する場合には図2のゲート電極の端子336が図4のダイオード412のカソード側の端子425に接続される。また、MOS容量を構成した図2のP−WELL332側の端子が図4の差動回路の出力端子423側に接続される。
以上のPMOSトランジスタとNMOSトランジスタを逆の構成とし、電源も正極と負極を入れ換え、かつダイオードとコンデンサのそれぞれの端子の接続を入れ換えた回路でも演算増幅器としての機能をもつ。
(Operational Amplifier of Second Embodiment)
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of an operational amplifier according to the second embodiment of the present invention.
An operational amplifier 251B illustrated in FIG. 4 is a circuit having a configuration in which the PMOS transistor and the NMOS transistor are interchanged in the operational amplifier according to the first embodiment illustrated in FIG. That is, the PMOS transistors 301, 302, 303, 304, 305, and 306 and the NMOS transistors 307, 308, and 309 in FIG. , 408, and 409. Accordingly, the connection between the power supply VDD and the ground is reversed.
The diode 412 has an anode terminal connected to the output terminal 424 and a cathode terminal connected to a terminal 425 on the drain side of the NMOS transistor.
When the capacitor 411 is formed of a MOS capacitor, the gate electrode terminal 336 of FIG. 2 is connected to the cathode side terminal 425 of the diode 412 of FIG. Further, the terminal on the P-WELL 332 side in FIG. 2 constituting the MOS capacitor is connected to the output terminal 423 side of the differential circuit in FIG.
A circuit in which the above-described PMOS transistor and NMOS transistor are reversed, the power source is switched between the positive electrode and the negative electrode, and the connection between the respective terminals of the diode and the capacitor is also replaced with an operational amplifier function.

(第3実施形態の演算増幅器)
図5は本発明の第3実施形態の演算増幅器の構成を示す回路図である。
図1に示した第1実施形態においては、コンデンサ311の両端に印加される電圧をダイオード312の順電圧相当分を増加させていた。これにより電源電圧が降下する場合においても、コンデンサ311は図3に示す領域Aの範囲内で動作し、静電容量値の低下を防止することができた。ここで示す第3実施形態においては、飽和領域で動作する複数のMOSトランジスタのゲート・ソース間電圧の差によりバイアス電圧を発生する構成としたものである。
図5の演算増幅器251Cにおいて、図1と同様に
1.カレントミラーのバイアス電圧発生回路
2.差動回路
3.出力増幅回路
4.レベルシフト回路(251e)
5.コンデンサ
の構成からなっている。
ここで、「1.カレントミラーのバイアス電圧発生回路」、「2.差動回路」、「3.出力増幅回路」については図1の回路構成と全く同一であるので、説明は省略する。
また、「5.コンデンサ」については接続箇所が1箇所ことなるだけである。
ここで、第3の実施形態の特徴は「4.レベルシフト回路(251e)」にあるので以下に説明する。
(Operational Amplifier of Third Embodiment)
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of an operational amplifier according to the third embodiment of the present invention.
In the first embodiment shown in FIG. 1, the voltage applied across the capacitor 311 is increased by the amount corresponding to the forward voltage of the diode 312. As a result, even when the power supply voltage drops, the capacitor 311 operates within the range of the region A shown in FIG. 3, and the capacitance value can be prevented from lowering. In the third embodiment shown here, a bias voltage is generated by the difference between the gate-source voltages of a plurality of MOS transistors operating in the saturation region.
In the operational amplifier 251C of FIG. 1. Current mirror bias voltage generation circuit 2. Differential circuit Output amplifier circuit 4. Level shift circuit (251e)
5. It consists of a capacitor.
Here, “1. Current mirror bias voltage generation circuit”, “2. Differential circuit”, and “3. Output amplifier circuit” are exactly the same as the circuit configuration of FIG.
In addition, “5. Capacitor” has only one connection point.
Here, the feature of the third embodiment resides in “4. level shift circuit (251e)” and will be described below.

(第3実施形態におけるレベルシフト回路)
レベルシフト回路251eは、PMOSトランジスタ431、432と、NMOSトランジスタ433、434とを備えて構成されている。
PMOSトランジスタ431のソース電極はVDD端子327に接続され、ゲート電極は出力増幅回路251cの出力324であるNMOSトランジスタ309のドレーン電極に接続されている。
NMOSトランジスタ433のソース電極はグランド328に接続され、ゲート電極とドレーン電極は互いに接続されており、かつドレーン電極はPMOSトランジスタ431のドレーン電極に接続されている。
また、PMOSトランジスタ432のソース電極はVDD端子327に接続され、ゲート電極とドレーン電極は互いに接続されている。
NMOSトランジスタ434のソース電極はグランド328に接続され、ゲート電極はNMOSトランジスタ433のゲート電極に接続されており、かつドレーン電極はPMOSトランジスタ432のドレーン電極に接続されている。
(Level shift circuit in the third embodiment)
The level shift circuit 251e includes PMOS transistors 431 and 432 and NMOS transistors 433 and 434.
The source electrode of the PMOS transistor 431 is connected to the VDD terminal 327, and the gate electrode is connected to the drain electrode of the NMOS transistor 309 which is the output 324 of the output amplifier circuit 251c.
The source electrode of the NMOS transistor 433 is connected to the ground 328, the gate electrode and the drain electrode are connected to each other, and the drain electrode is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 431.
The source electrode of the PMOS transistor 432 is connected to the VDD terminal 327, and the gate electrode and the drain electrode are connected to each other.
The source electrode of the NMOS transistor 434 is connected to the ground 328, the gate electrode is connected to the gate electrode of the NMOS transistor 433, and the drain electrode is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 432.

以上のPMOSトランジスタ431、432とNMOSトランジスタ433、434からなるレベルシフト回路のバイアス電圧がどの程度、発生するかの定量的な解析は後記する。ここでは、まずレベルシフト回路のバイアス電圧を所望の電位として発生させる定性的な考え方を簡単に説明する。
ここではMOS容量からなるコンデンサ311の第1端子と第2端子の間に十分(特性が安定する領域となる)な直流レベルの電位差を設けることを考える。コンデンサ311の第1端子はNMOSトランジスタ309のゲート端子に接続されているが、この端子は差動回路251bを構成するNMOSトランジスタ308のドレーン電極に接続されている。したがって、NMOSトランジスタ309のゲート端子電位は、電源VDDとグランド電位間の電位中点よりもグランド電位側にあり、PMOSトランジスタ432のゲート電位は、前記電位中点よりもVDD電位に近い側とすることができる。
A quantitative analysis of how much the bias voltage of the level shift circuit composed of the PMOS transistors 431 and 432 and the NMOS transistors 433 and 434 is generated will be described later. Here, a qualitative idea of generating a bias voltage of the level shift circuit as a desired potential will be briefly described.
Here, it is considered that a sufficient DC level potential difference (becomes a region where characteristics are stable) is provided between the first terminal and the second terminal of the capacitor 311 made of a MOS capacitor. The first terminal of the capacitor 311 is connected to the gate terminal of the NMOS transistor 309, and this terminal is connected to the drain electrode of the NMOS transistor 308 constituting the differential circuit 251b. Therefore, the gate terminal potential of the NMOS transistor 309 is closer to the ground potential side than the potential midpoint between the power supply VDD and the ground potential, and the gate potential of the PMOS transistor 432 is closer to the VDD potential than the potential midpoint. be able to.

このPMOSトランジスタ432のゲート端子電位を上限値に近い値になるべく設定するためにひとつの手法として、PMOSトランジスタ431、432の関係において、チャネル幅やチャネル長の形状を変えて、PMOSトランジスタ432の駆動能力を相対的に高める方法がある。このとき、PMOSトランジスタ432は、飽和領域動作を保ちつつ、PMOSトランジスタ432のドレーン電極の電位を高く安定して確保できる。PMOSトランジスタ432のドレーン電極は端子435でもあるので、このような手法をとればMOS容量からなるコンデンサ311の第1端子と第2端子との間に十分な電位差が確保できて、MOS容量が大きな値で安定した領域で動作する。
なお、図5においては、コンデンサ311の第2端子はPMOSトランジスタ432のドレーン電極に接続されているが、前記したようにPMOSトランジスタ432は、ゲート電極とドレーン電極とが接続されているので、必ず飽和領域で動作する。したがって、飽和領域では定電流動作をするので、特性が安定している。これに対し、従来回路例の図19の演算増幅器のレベルシフト回路においては第1電源端子の電圧VDDからはPMOSトランジスタ1304を介して電位を得るが、PMOSトランジスタ1304のドレーン電極とゲート電極とには直接的な接続関係がないために、電源電圧が変動するとPMOSトランジスタ1304は線形領域に近い動作領域になることがある。したがって、電源電圧が変動した場合には飽和領域と線形領域との間を移動しながら動作をする不安定な領域に入り、特性も変化する可能性があった。
これに対し、図5の第3実施形態のレベルシフト回路は電源電圧が変動した場合においても飽和領域で動作するので、より広範の電源電圧に対し、安定な動作をするという特徴がある。
As one method for setting the gate terminal potential of the PMOS transistor 432 as close as possible to the upper limit value, the channel width and the channel length are changed in relation to the PMOS transistors 431 and 432 to drive the PMOS transistor 432. There are ways to relatively increase ability. At this time, the PMOS transistor 432 can secure a high potential of the drain electrode of the PMOS transistor 432 stably while maintaining the saturation region operation. Since the drain electrode of the PMOS transistor 432 is also the terminal 435, if such a method is used, a sufficient potential difference can be secured between the first terminal and the second terminal of the capacitor 311 made of the MOS capacity, and the MOS capacity is large. Operates in a stable area with values.
In FIG. 5, the second terminal of the capacitor 311 is connected to the drain electrode of the PMOS transistor 432. As described above, the PMOS transistor 432 is connected to the gate electrode and the drain electrode. Operates in the saturation region. Therefore, since the constant current operation is performed in the saturation region, the characteristics are stable. On the other hand, in the level shift circuit of the operational amplifier of FIG. 19 of the conventional circuit example, the potential is obtained from the voltage VDD of the first power supply terminal via the PMOS transistor 1304, but the drain electrode and the gate electrode of the PMOS transistor 1304 are connected to each other. Since there is no direct connection relationship, when the power supply voltage fluctuates, the PMOS transistor 1304 may become an operation region close to a linear region. Therefore, when the power supply voltage fluctuates, it may enter an unstable region that operates while moving between the saturation region and the linear region, and the characteristics may also change.
On the other hand, the level shift circuit of the third embodiment shown in FIG. 5 operates in the saturation region even when the power supply voltage fluctuates. Therefore, the level shift circuit has a feature that it operates stably over a wider range of power supply voltages.

(第3実施形態におけるレベルシフト回路の定量的な説明)
以上において、第3実施形態におけるレベルシフト回路の構成と動作の定性的な説明を行ったが、次に動作を定量的に説明する。
図6は図5において説明した演算増幅器251c、殊に第2バイアス電圧発生回路251eの動作を説明するための図である。
図6においては、PMOSトランジスタ431、432のゲート・ソース間電圧をVgs1、Vgs2として図中に記載しており、前記トランジスタのチャネルを形成するゲート幅W、ゲート長Lの比をPMOSトランジスタ432においてはW/L、PMOSトランジスタ431においてはその1/4に設定して、(1/4)・(W/L)として記載している。
また、前記PMOSトランジスタ431、432のドレーン電流をId1、Id2と、コンデンサ311の第1端子の電位をV1、第2端子の電位をV2と記号して図中に記載している。
(Quantitative description of the level shift circuit in the third embodiment)
In the above, the configuration and operation of the level shift circuit in the third embodiment have been qualitatively described. Next, the operation will be quantitatively described.
FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of the operational amplifier 251c described in FIG. 5, in particular, the second bias voltage generation circuit 251e.
In FIG. 6, the gate-source voltages of the PMOS transistors 431 and 432 are shown as Vgs1 and Vgs2, and the ratio of the gate width W and gate length L forming the channel of the transistor is shown in the PMOS transistor 432. Is set to 1/4 of the W / L and the PMOS transistor 431, and is described as (1/4) · (W / L).
Also, the drain currents of the PMOS transistors 431 and 432 are denoted by Id1 and Id2, the potential of the first terminal of the capacitor 311 is denoted by V1, and the potential of the second terminal is denoted by V2.

なお、NMOSトランジスタ433、434のゲート幅(チャネル幅)、ゲート長(チャネル長)をそれぞれ等しく設定することとすると、両者のゲート端子(電極)、ソース端子(電極)はそれぞれ接続されており、そのゲート・ソース間電圧は等しく、両者はカレントミラーの関係にある。
その結果、NMOSトランジスタ433、434のドレーン電流は略等しいので、これを改めてIdと記号すると、
Id1=Id2=Id
となる。
前記したPMOSトランジスタ432において閾値電圧をVtとし、ゲート・ソース間電圧Vgs2、とドレーン電流Id2の関係を考察すると、一般的によく知られた電子物性の理論から次式が成り立つ。
Id2=(β/2)・(W/L)・(Vgs2−Vt)
上式を変形することで下記が得られる。
Vgs2−Vt={(2/β)・(L/W)・Id2}}(1/2)
同様にPMOSトランジスタ431においても閾値電圧をVtとし、ゲート幅とゲート長の比がPMOSトランジスタ432のそれの1/4に設定されていることに注意すると、次式が成り立つ。
Id1=(β/2)・(1/4)・(W/L)・(Vgs1−Vt)
上式を変形することで下記が得られる。
Vgs1−Vt=2{(2/β)・(L/W)・Id1}}(1/2)
If the gate width (channel width) and gate length (channel length) of the NMOS transistors 433 and 434 are set to be equal to each other, the gate terminals (electrodes) and the source terminals (electrodes) of both are connected, The gate-source voltages are equal, and both are in a current mirror relationship.
As a result, the drain currents of the NMOS transistors 433 and 434 are substantially equal.
Id1 = Id2 = Id
It becomes.
In the above-described PMOS transistor 432, when the threshold voltage is Vt and the relationship between the gate-source voltage Vgs2 and the drain current Id2 is considered, the following equation is established from the well-known theory of electronic physical properties.
Id2 = (β / 2) · (W / L) · (Vgs2-Vt) 2
The following is obtained by modifying the above equation.
Vgs2-Vt = {(2 / β) · (L / W) · Id2}} (1/2)
Similarly, in the PMOS transistor 431, when the threshold voltage is Vt and the ratio of the gate width to the gate length is set to ¼ that of the PMOS transistor 432, the following equation is established.
Id1 = (β / 2) · (1/4) · (W / L) · (Vgs1-Vt) 2
The following is obtained by modifying the above equation.
Vgs1-Vt = 2 {(2 / β) · (L / W) · Id1}} (1/2)

ここで、
ΔV1=Vgs1−Vt
ΔV2=Vgs2−Vt
と定義し、さらにNMOSトランジスタ433、434のドレーン電流は略等しいことに注意して
Id1=Id2=Id
の関係を用いると、
ΔV1=2ΔV2
すなわち
ΔV2=(1/2)ΔV1
を得る。
here,
ΔV1 = Vgs1-Vt
ΔV2 = Vgs2-Vt
Note that the drain currents of the NMOS transistors 433 and 434 are substantially equal. Id1 = Id2 = Id
Using the relationship
ΔV1 = 2ΔV2
That is, ΔV2 = (1/2) ΔV1
Get.

後述するように、本実施例の演算増幅器は図14で示される構成の回路に用いられる。
そのため、電源電圧VDDと演算増幅器の出力端子電位との間の電位差を所定値として動作させることができ、典型的な例では前記電位差は約2Vである。
このとき、前記PMOSトランジスタ431のゲート・ソース間電圧Vgs1は2Vであり、PMOSトランジスタ431と432の閾値電圧Vtを1Vとすると、
ΔV2=(1/2)(2−1)=0.5V
である。
一方、
ΔV2=Vgs2−Vt
であるので、
Vgs2=ΔV2+Vt
=0.5+1=1.5V
となる。また、
V2=VDD−Vgs2
=4−1.5=2.5V
となり、
電位V2は演算増幅器の出力端子電位Vcontrol(2V)よりも0.5V高い電位に設定されることが解る。したがって、差動回路の出力端子323よりはさらに高い電位に設定されている。したがって、コンデンサ311の両端の電位差は0.5V以上、確保されていることが解る。
As will be described later, the operational amplifier of this embodiment is used in a circuit having the configuration shown in FIG.
Therefore, the potential difference between the power supply voltage VDD and the output terminal potential of the operational amplifier can be operated as a predetermined value. In a typical example, the potential difference is about 2V.
At this time, the gate-source voltage Vgs1 of the PMOS transistor 431 is 2V, and the threshold voltage Vt of the PMOS transistors 431 and 432 is 1V.
ΔV2 = (1/2) (2-1) = 0.5V
It is.
on the other hand,
ΔV2 = Vgs2-Vt
So
Vgs2 = ΔV2 + Vt
= 0.5 + 1 = 1.5V
It becomes. Also,
V2 = VDD−Vgs2
= 4-1.5 = 2.5V
And
It can be seen that the potential V2 is set to a potential 0.5V higher than the output terminal potential Vcontrol (2V) of the operational amplifier. Therefore, the potential is set higher than that of the output terminal 323 of the differential circuit. Therefore, it can be seen that the potential difference between both ends of the capacitor 311 is secured to 0.5 V or more.

なお、標準の動作条件である電源電圧VDD=5Vの場合について同様に計算すると、
Vgs1、Vgs2はほぼ同様の値であり、
V2=VDD−Vgs2
=5−1.5=3.5V
となり、演算増幅器の出力端子電位Vcontrolは、
Vcontrol=VDD−Vgs1=5−2=3V
コンデンサの第2端子の電位V2は演算増幅器の出力端子電位Vcontrol(3V)よりも0.5V高い電位となっている。
また、コンデンサ311の第1端子の電位は図6のVgs3として示した電位であり、電源電圧VDDの電位が5VとなっていてもVgs3の電圧は大きくは変動しないので、コンデンサ311の両端電圧は先の計算例よりも1V増加することになる。
このように、電源電圧として標準の動作条件であるVDD=5Vにおいては、コンデンサ311の第1端子電位は第2端子電位よりも十分に低くすることができて、その容量値を十分に大きくすることができる。また、電源電圧が低下する場合においても、コンデンサ311の第1端子電位を第2端子電位よりも低くすることができ、所定の容量値を確保することができる。
It is to be noted that the same calculation is performed for the case of the power supply voltage VDD = 5 V, which is a standard operating condition,
Vgs1 and Vgs2 are substantially the same values,
V2 = VDD−Vgs2
= 5-1.5 = 3.5V
The output terminal potential Vcontrol of the operational amplifier is
Vcontrol = VDD−Vgs1 = 5-2 = 3V
The potential V2 at the second terminal of the capacitor is 0.5 V higher than the output terminal potential Vcontrol (3 V) of the operational amplifier.
Further, the potential of the first terminal of the capacitor 311 is the potential indicated as Vgs3 in FIG. 6, and even if the potential of the power supply voltage VDD is 5V, the voltage of Vgs3 does not vary greatly. It will increase by 1V from the previous calculation example.
Thus, when VDD = 5V, which is a standard operating condition as the power supply voltage, the first terminal potential of the capacitor 311 can be made sufficiently lower than the second terminal potential, and the capacitance value is made sufficiently large. be able to. Even when the power supply voltage decreases, the first terminal potential of the capacitor 311 can be made lower than the second terminal potential, and a predetermined capacitance value can be secured.

前記したように電源電圧VDDが標準の動作条件である5Vにおいては、コンデンサ311の両端の電位差を十分に大きくすることができ、図3に示す領域Aで動作させることができて、MOS容量値としても図3に示すCoxに近い容量値が得られる。
そして、電源電圧VDDが一時的に4Vまで低下したケースにおいても、図3の−Vb(=−0.5V)点での特性変動にとどまり、コンデンサの容量値はC1であって、その容量変動は少なく、十分、実用に耐えるものであることが解る。なお、図3においては前記MOSトランジスタのゲート・ソース間電圧の差による電圧(略0.5V)をΔVとして記載している。
第1、第2の実施形態の構成においては、前記電圧はダイオード312の順電圧(略0.6V)により得られたものであったが、第3実施形態の構成においては、形状比の異なる複数のMOSトランジスタのゲート・ソース間電圧の差により、前記電圧(略0.5V)を作成しており、構成方法は異なるものの電圧値は同程度であって同様な効果が得られる。
As described above, when the power supply voltage VDD is 5 V, which is a standard operating condition, the potential difference between both ends of the capacitor 311 can be sufficiently increased, and the operation can be performed in the region A shown in FIG. As a result, a capacitance value close to Cox shown in FIG. 3 can be obtained.
Even in the case where the power supply voltage VDD temporarily decreases to 4V, the characteristic variation at the point −Vb (= −0.5V) in FIG. 3 is limited, and the capacitance value of the capacitor is C1, and the capacitance variation There are few, and it turns out that it can endure practically enough. In FIG. 3, a voltage (approximately 0.5 V) due to the difference between the gate-source voltage of the MOS transistor is shown as ΔV.
In the configurations of the first and second embodiments, the voltage is obtained by the forward voltage (approximately 0.6 V) of the diode 312. However, in the configuration of the third embodiment, the shape ratio is different. The voltage (approximately 0.5 V) is created based on the difference between the gate-source voltages of a plurality of MOS transistors, and the voltage value is similar although the configuration method is different, and the same effect can be obtained.

(第4実施形態の演算増幅器)
図7は本発明の第4の実施形態の演算増幅器の構成を示す回路図である。
図5に示した第3実施形態を変形している。
図7の演算増幅器251Dにおいて、図5と同様に
1.カレントミラーのバイアス電圧発生回路
2.差動回路
3.出力増幅回路
4.レベルシフト回路
5.コンデンサ
の構成からなっている。
ここで、「1.カレントミラーのバイアス電圧発生回路」、「2.差動回路」、「3.出力増幅回路」については図5の回路構成において、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタの構成を入れ替えたものが図7となっている。
また、「4.レベルシフト回路」については図7と図5は同じ回路構成である。
(Operational Amplifier of Fourth Embodiment)
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of an operational amplifier according to the fourth embodiment of the present invention.
The third embodiment shown in FIG. 5 is modified.
In the operational amplifier 251D of FIG. 1. Current mirror bias voltage generation circuit 2. Differential circuit Output amplifier circuit 4. Level shift circuit 5. Consists of a capacitor.
Here, “1. Current mirror bias voltage generation circuit”, “2. Differential circuit”, and “3. Output amplifier circuit” are the circuit configurations of FIG. 5 in which the configurations of the PMOS transistor and the NMOS transistor are interchanged. Is shown in FIG.
As for “4. level shift circuit”, FIG. 7 and FIG. 5 have the same circuit configuration.

つまり、図5におけるPMOSトランジスタ301、302、303、305、306とNMOSトランジスタ307、308、309は、図7においてはそれぞれNMOSトランジスタ501、502、503、505、506とPMOSトランジスタ507、508、509に置き換えられている。また、それにともない電源のVDDとグランドとの接続関係が逆の構成となっている。したがって、図7において、NMOSトランジスタ501と抵抗素子510でカレントミラーのバイアス電圧発生回路が構成され、NMOSトランジスタ502、505、506とPMOSトランジスタ507、508によって差動回路が構成され、NMOSトランジスタ503とPMOSトランジスタ509によって出力増幅回路が構成されている。
また、図5におけるPMOSトランジスタ431、432とNMOSトランジスタ433、434からなるレベルシフト回路は、図7において、それぞれPMOSトランジスタ521、522とNMOSトランジスタ523、524に対応しており、各トランジスタ間の接続関係はそのまま引き継がれている。また電源のVDDとグランドとの接続関係もそのまま引き継がれている。
That is, the PMOS transistors 301, 302, 303, 305, 306 and the NMOS transistors 307, 308, 309 in FIG. 5 are the NMOS transistors 501, 502, 503, 505, 506 and the PMOS transistors 507, 508, 509 in FIG. Has been replaced. Further, the connection relationship between the power supply VDD and the ground is reversed. Therefore, in FIG. 7, the NMOS transistor 501 and the resistance element 510 constitute a current mirror bias voltage generation circuit, and the NMOS transistors 502, 505, 506 and the PMOS transistors 507, 508 constitute a differential circuit, and the NMOS transistor 503 The PMOS transistor 509 constitutes an output amplifier circuit.
Further, the level shift circuit composed of the PMOS transistors 431 and 432 and the NMOS transistors 433 and 434 in FIG. 5 corresponds to the PMOS transistors 521 and 522 and the NMOS transistors 523 and 524 in FIG. 7, respectively. The relationship has been handed over. The connection relationship between the power supply VDD and the ground is also inherited.

なお、図7において、PMOSトランジスタ521と522のトランジスタのチャネルを形成するゲート幅W、ゲート長Lの比をPMOSトランジスタ521においてはW/L、PMOSトランジスタ522においてはその1/4に設定して、(1/4)・(W/L)としている。つまりPMOSトランジスタ522の電流駆動能力はPMOSトランジスタ521の電流駆動能力より低く設定しているので、PMOSトランジスタ522のドレーン電極とNMOSトランジスタ524のドレーン電極との接続点の電位は、電源VDDとグランド電位間の電位中点よりもグランド電位側となる。それに対し、差動回路の出力であるPMOSトランジスタ508のドレーン電極の電位は、電源VDDとグランド電位間の電位中点よりもVDD側となる。したがって、レベルシフト回路としての出力端子であるNMOSトランジスタ524のドレーン電極と差動回路としての出力端子であるPMOSトランジスタ508のドレーン電極との間にコンデンサ511を接続すれば、コンデンサ511の両端には十分なバイアス電圧が印加される。
なお、図7において、「5.コンデンサ」のMOS容量であるコンデンサ511の第2端子は差動回路の出力であるPMOSトランジスタ508のドレーン電極(端子)に接続され、第1端子はNMOSトランジスタ524のドレーン電極に接続する。
In FIG. 7, the ratio of the gate width W and the gate length L forming the channel of the PMOS transistors 521 and 522 is set to W / L in the PMOS transistor 521 and 1/4 of that in the PMOS transistor 522. , (1/4) · (W / L). That is, since the current driving capability of the PMOS transistor 522 is set lower than that of the PMOS transistor 521, the potential at the connection point between the drain electrode of the PMOS transistor 522 and the drain electrode of the NMOS transistor 524 is the power supply VDD and the ground potential. It is on the ground potential side from the midpoint of the potential between them. On the other hand, the potential of the drain electrode of the PMOS transistor 508, which is the output of the differential circuit, is on the VDD side with respect to the potential midpoint between the power supply VDD and the ground potential. Therefore, if the capacitor 511 is connected between the drain electrode of the NMOS transistor 524 serving as an output terminal as a level shift circuit and the drain electrode of the PMOS transistor 508 serving as an output terminal as a differential circuit, both ends of the capacitor 511 are connected. A sufficient bias voltage is applied.
In FIG. 7, the second terminal of the capacitor 511 that is the MOS capacitor of “5. capacitor” is connected to the drain electrode (terminal) of the PMOS transistor 508 that is the output of the differential circuit, and the first terminal is the NMOS transistor 524. Connected to the drain electrode.

次に、以上の演算増幅器を用いた駆動装置や画像形成装置、およびそれに係る各部について、以下の順で説明する。
(1)プリンタ制御部の機能構成
(2)LEDヘッドの構成と回路
(3)LEDヘッドの内部構成
(4)ドライバICの回路構成(駆動装置)
(5)MEMブロックの回路構成
(6)DRVブロックの回路構成
(7)CTRLブロックの回路構成
(8)ADJブロックの回路構成
(9)LEDヘッドの断面構造
(10)LEDヘッドの動作のタイムチャート
(11)ADJブロック、DRVブロック、および周辺回路の接続関係
(12)ADJブロック、DRVブロック、および周辺回路の概略動作
(13)LEDヘッドを用いた画像形成装置
(14)画像形成装置の動作
Next, a driving device and an image forming apparatus using the above operational amplifiers, and respective units related thereto will be described in the following order.
(1) Functional configuration of printer control unit (2) Configuration and circuit of LED head (3) Internal configuration of LED head (4) Circuit configuration of driver IC (drive device)
(5) Circuit configuration of MEM block (6) Circuit configuration of DRV block (7) Circuit configuration of CTRL block (8) Circuit configuration of ADJ block (9) Cross sectional structure of LED head (10) Time chart of operation of LED head (11) Connection relationship between ADJ block, DRV block, and peripheral circuit (12) Schematic operation of ADJ block, DRV block, and peripheral circuit (13) Image forming apparatus using LED head (14) Operation of image forming apparatus

[(1)プリンタ制御部の機能構成]
電子写真プリンタにおけるプリンタ制御部の機能構成について以下に説明する。
電子写真プリンタは、帯電した感光体ドラムをプリント情報に応じて選択的に光照射して静電潜像を形成し、この静電潜像にトナーを付着させる現像を行ってトナー像を形成し、該トナー像を用紙に転写し、定着させる。
図8は、本発明を電子写真プリンタに適用した場合におけるプリンタ制御回路のブロック図である。
なお、本発明の画像形成装置の実施形態として、以下の構成と装置を備える。
図8において、印刷制御部1は、マイクロプロセッサ、ROM、RAM、入出力ポート、タイマ等によって構成される。印刷制御部1は、プリンタの印刷部の内部に配設され、図示しない上位コントローラからの制御信号SG1、ビデオ信号(ドットマップデータを一次元的に配列したもの)SG2等によってプリンタ全体をシーケンス制御し、印刷動作を行なう。印刷制御部1は、制御信号SG1によって印刷指示を受信すると、先ず定着器温度センサ23によってヒータ22aを内蔵した定着器22が使用可能な温度範囲にあるか否かを検出し、該温度範囲になければヒータ22aに通電し、使用可能な温度まで定着器22を加熱する。印刷制御部1は、ドライバ2を介して現像・転写プロセス用モータ(PM)3を回転させ、同時にチヤージ信号SGCによって帯電用高圧電源25をオンにし、現像器27の帯電を行なう。
[(1) Functional configuration of printer control unit]
The functional configuration of the printer control unit in the electrophotographic printer will be described below.
An electrophotographic printer forms an electrostatic latent image by selectively irradiating light on a charged photosensitive drum according to print information, and forms a toner image by developing the toner to adhere to the electrostatic latent image. Then, the toner image is transferred to a sheet and fixed.
FIG. 8 is a block diagram of a printer control circuit when the present invention is applied to an electrophotographic printer.
The image forming apparatus according to an embodiment of the present invention includes the following configuration and apparatus.
In FIG. 8, the print control unit 1 includes a microprocessor, ROM, RAM, input / output port, timer, and the like. The printing control unit 1 is arranged inside the printing unit of the printer, and controls the entire printer in sequence by a control signal SG1, a video signal (one-dimensional arrangement of dot map data) SG2, etc. from a host controller (not shown). Then, a printing operation is performed. When the print control unit 1 receives a print instruction in response to the control signal SG1, the print controller 1 first detects whether or not the fixing device 22 including the heater 22a is within a usable temperature range by using the fixing device temperature sensor 23. If not, the heater 22a is energized to heat the fixing device 22 to a usable temperature. The print control unit 1 rotates the development / transfer process motor (PM) 3 via the driver 2 and simultaneously turns on the high-voltage power supply 25 for charging by the charge signal SGC to charge the developing device 27.

用紙残量センサ8及び用紙サイズセンサ9は、該用紙に合った用紙送りをすることができるように、セットされている図示しない用紙の有無および種類を検出する。ここで、用紙送りモータ(PM)5には、遊星ギア機構が接続されている。印刷制御部1は、ドライバ4を介して双方向に回転させることができるため、モータの回転方向を変えることにより、プリンタ内部の異なる紙送りローラを選択的に駆動することができる。
1ページの印刷開始毎に、用紙送りモータ(PM)5を最初に逆転させて、セットされた用紙を用紙吸入ロセンサ6が検知するまで、予め設定された量だけ送る。続いて、正回転させて用紙をプリンタ内部の印刷機構内に搬送する。
印刷制御部1は、用紙が印刷可能な位置まで到達すると、図示しない画像処理部に対してタイミング信号SG3(主走査同期信号,副走査同期信号を含む)を送信する。
画像処理部は、ページ毎に編集したビデオ信号SG2を印刷制御部1に送信する。印刷制御部1は、受信されたビデオ信号SG2を印刷データ信号HD−DATAとしてLEDヘッド19に転送する。LEDヘッド19は、それぞれ1ドット(ピクセル)の印刷のために設けられたLEDを複数個線上に配列したものである。
The remaining sheet sensor 8 and the sheet size sensor 9 detect the presence and type of a sheet (not shown) that is set so that the sheet can be fed according to the sheet. Here, a planetary gear mechanism is connected to the paper feed motor (PM) 5. Since the print controller 1 can be rotated in both directions via the driver 4, different paper feed rollers inside the printer can be selectively driven by changing the rotation direction of the motor.
Each time printing of one page is started, the paper feed motor (PM) 5 is first reversely rotated, and the set paper is fed by a preset amount until the paper suction sensor 6 detects it. Subsequently, the sheet is rotated forward to convey the sheet into a printing mechanism inside the printer.
When the print control unit 1 reaches a printable position, the print control unit 1 transmits a timing signal SG3 (including a main scanning synchronization signal and a sub-scanning synchronization signal) to an image processing unit (not shown).
The image processing unit transmits the video signal SG2 edited for each page to the print control unit 1. The print control unit 1 transfers the received video signal SG2 to the LED head 19 as a print data signal HD-DATA. The LED head 19 has a plurality of LEDs arranged for printing one dot (pixel) on a line.

そして、印刷制御部1は、1ライン分のビデオ信号SG2を受信すると、LEDヘッド19にラッチ信号HD−LOADを送信し、印刷データ信号HD−DATAをLEDヘッド19内に保持させる。また、印刷制御部1は、画像処理部から次のビデオ信号SG2を受信している最中においても、LEDヘッド19に保持した印刷データ信号HD−DATAについて印刷することができる。なお、クロック信号HD−CLKは、印刷データ信号HD−DATAをLEDヘッド19に送信するためのクロック信号である。
ビデオ信号SG2の送受信は、印刷ライン毎に行われる。LEDヘッド19は、マイナス電位に帯電させられた図示しない感光体ドラム上を照射する。これにより、印刷される情報は、感光体ドラムにおいて電位の上昇したドットとして潜像化される。そして、現像器27は、マイナス電位に帯電させられた画像形成用のトナーが、電気的な吸引力によって各ドットに吸引させられ、トナー像が現像形成される。
When the print control unit 1 receives the video signal SG2 for one line, the print control unit 1 transmits a latch signal HD-LOAD to the LED head 19, and holds the print data signal HD-DATA in the LED head 19. Further, the print control unit 1 can print the print data signal HD-DATA held in the LED head 19 even while receiving the next video signal SG2 from the image processing unit. The clock signal HD-CLK is a clock signal for transmitting the print data signal HD-DATA to the LED head 19.
Transmission / reception of the video signal SG2 is performed for each print line. The LED head 19 irradiates a photosensitive drum (not shown) charged to a negative potential. As a result, the information to be printed is converted into a latent image as dots having an increased potential on the photosensitive drum. In the developing unit 27, the toner for image formation charged to a negative potential is attracted to each dot by an electrical suction force, and a toner image is developed and formed.

その後、該トナー像は、転写器28に送られる。一方、転写用高圧電源26は、転写信号SG4によってプラス電位を転写器28に印加する。転写器28は、感光体ドラムと転写器28との間隔を通過する用紙上に、トナー像を転写する。
転写されたトナー像を有する用紙は、ヒータ22aを内蔵する定着器22に当接して搬送され、該定着器22の熱によって用紙に定着される。この定着された画像を有する用紙は、さらに搬送されてプリンタの印刷機構から用紙排出ロセンサ7を通過して印刷された用紙が外部に排出される。
印刷制御部1は、用紙サイズセンサ9、用紙吸入ロセンサ6の検知に対応して、用紙が転写器28を通過している間だけ転写用高圧電源26からの電圧を転写器28に印加する。
そして、印刷が終了し、用紙が用紙排出ロセンサ7を通過すると、帯電用高圧電源25による現像器27への電圧の印加を終了し、同時に現像・転写プロセス用モータ3の回転を停止させる。
以後、上記の動作を繰り返す。
Thereafter, the toner image is sent to the transfer device 28. On the other hand, the transfer high-voltage power supply 26 applies a positive potential to the transfer device 28 by the transfer signal SG4. The transfer unit 28 transfers the toner image onto a sheet that passes through the interval between the photosensitive drum and the transfer unit 28.
The sheet having the transferred toner image is conveyed in contact with a fixing device 22 having a built-in heater 22a, and is fixed on the sheet by the heat of the fixing device 22. The sheet having the fixed image is further conveyed, and the printed sheet is discharged from the printing mechanism of the printer through the sheet discharge sensor 7 to the outside.
In response to detection by the paper size sensor 9 and the paper suction sensor 6, the print control unit 1 applies a voltage from the transfer high-voltage power supply 26 to the transfer device 28 only while the paper passes through the transfer device 28.
When printing is finished and the paper passes the paper discharge sensor 7, the application of the voltage to the developing device 27 by the charging high-voltage power supply 25 is finished, and at the same time, the rotation of the development / transfer process motor 3 is stopped.
Thereafter, the above operation is repeated.

[(2)LEDヘッドの構成と回路]
次に、LEDヘッド19の構成について説明する。図9は、本発明を適用する図8のLEDヘッド19の構成を示す回路ブロック図である。
本実施形態の説明においては、一例としてA4サイズの用紙に1インチ当たり600ドット(600DPI)の解像度で印刷可能なLEDヘッドについて、その具体的な構成を説明する。
本実施形態では、LED素子の総数は4992ドットであり、これを構成するために26個のLEDアレイチップを配列する。各LEDアレイチップは、各々192個のLED素子を含む。各LED素子のカソードは、グランドに接続され、各LED素子のアノードは、LEDアレイチップと隣接して配置されたドライバICの駆動出力端子とワイヤーボンディング配線等の手法で接続される。
[(2) Configuration and circuit of LED head]
Next, the configuration of the LED head 19 will be described. FIG. 9 is a circuit block diagram showing the configuration of the LED head 19 of FIG. 8 to which the present invention is applied.
In the description of this embodiment, as an example, a specific configuration of an LED head that can be printed on an A4 size paper at a resolution of 600 dots per inch (600 DPI) will be described.
In the present embodiment, the total number of LED elements is 4992 dots, and 26 LED array chips are arranged to constitute this. Each LED array chip includes 192 LED elements. The cathode of each LED element is connected to the ground, and the anode of each LED element is connected to a drive output terminal of a driver IC arranged adjacent to the LED array chip by a method such as wire bonding wiring.

図8に示したように、印刷データ信号HD−DATAは、クロック信号HD−CLKと共にLEDヘッド19に入力される。例えばA4サイズの用紙に印刷可能であり1インチ当たり600ドットの解像度を持つプリンタは、4992ドット分のビットデータが後述するフリップフロップ回路から成るシフトレジスタ中を順次転送される。次に、ラッチ信号HD−LOADがLEDヘッド19に入力される。上記ビットデータは、後述するラッチ回路にラッチされる。続いて、ビットデータと印刷駆動信号HD−STB−Nとによって、発光素子(LED素子)のうち、High(高)レベルであるドットデータに対応するものが点灯される。   As shown in FIG. 8, the print data signal HD-DATA is input to the LED head 19 together with the clock signal HD-CLK. For example, in a printer capable of printing on A4 size paper and having a resolution of 600 dots per inch, bit data for 4992 dots is sequentially transferred through a shift register including a flip-flop circuit described later. Next, the latch signal HD-LOAD is input to the LED head 19. The bit data is latched by a latch circuit described later. Subsequently, the bit data and the print drive signal HD-STB-N turn on the light emitting element (LED element) corresponding to the dot data at the high level.

[(3)LEDヘッドの内部構成]
次に、LEDヘッド内部の構成について説明する。
図9に示すように、LEDアレイチップCHP1、CHP2は、一点鎖線で囲まれる部分であり、LEDアレイチップCHP3〜CHP26は、図示を省略している。ドライバIC(IC1、IC2)は、LEDアレイチップCHP1、CHP2を駆動する。ドライバICは、同一回路により構成され、隣接するドライバICとカスケードに接続されている。なお、ドライバIC(IC3〜IC26)は、図示を省略している。
LED素子31〜38は、LEDアレイチップ毎に192個ずつ配置されている。図9に示すように、印刷データ信号HD−DATA3〜0は、4本の信号線で伝送され、隣接する4つのLED素子(4画素)分のデータを、クロック信号HD−CLK毎に同時に送出する。
このため、図8の印刷制御部1から出力される印刷データ信号HD−DATA3〜0は、クロック信号HD−CLKと共にLEDヘッド19に入力され、前記した4992ドット分のビットデータが後述するフリップフロップ回路からなるシフトレジスタ中を順次転送される。
[(3) Internal structure of LED head]
Next, the configuration inside the LED head will be described.
As shown in FIG. 9, the LED array chips CHP1 and CHP2 are portions surrounded by a one-dot chain line, and the LED array chips CHP3 to CHP26 are not shown. The driver ICs (IC1, IC2) drive the LED array chips CHP1, CHP2. The driver IC is composed of the same circuit and is connected in cascade with the adjacent driver IC. The driver ICs (IC3 to IC26) are not shown.
192 LED elements 31 to 38 are arranged for each LED array chip. As shown in FIG. 9, print data signals HD-DATA 3 to 0 are transmitted through four signal lines, and data for four adjacent LED elements (four pixels) are simultaneously transmitted for each clock signal HD-CLK. To do.
Therefore, the print data signals HD-DATA 3 to 0 output from the print control unit 1 in FIG. 8 are input to the LED head 19 together with the clock signal HD-CLK, and the bit data for 4992 dots described above is a flip-flop described later. The data is sequentially transferred through a shift register including a circuit.

次に、ラッチ信号HD−LOADは、LEDヘッド19に入力される。上記ビットデータは、前記フリップフロップ回路に対応して設けられたラッチ回路にラッチされる。
続いて、印刷駆動信号HD−STB−Nが入力されると、LED素子は、印刷データがHighレベルであるドットデータに対応するものが点灯される。なお、電源電圧VDDは、印加される電源用電圧であり、グランドGNDは、接地電位を示す。基準電圧Vrefは、LED駆動のための駆動電流値を指令する基準電圧であって、LEDヘッド19内に設けられた図示しない基準電圧発生回路により発生される。
また、後述するように、ドライバIC(IC1〜IC26)は、後述するLED駆動装置を備え、LED駆動装置に駆動電流が一定となるように指令電圧を発する、制御電圧発生回路とを備える。制御電圧発生回路には、入力端子VREFからの基準電圧が入力される。
Next, the latch signal HD-LOAD is input to the LED head 19. The bit data is latched in a latch circuit provided corresponding to the flip-flop circuit.
Subsequently, when the print drive signal HD-STB-N is input, LED elements corresponding to dot data whose print data is at a high level are turned on. The power supply voltage VDD is a power supply voltage to be applied, and the ground GND indicates a ground potential. The reference voltage Vref is a reference voltage for instructing a drive current value for LED driving, and is generated by a reference voltage generation circuit (not shown) provided in the LED head 19.
As will be described later, the driver ICs (IC1 to IC26) include an LED drive device described later, and a control voltage generation circuit that issues a command voltage to the LED drive device so that the drive current is constant. A reference voltage from the input terminal VREF is input to the control voltage generation circuit.

図9に示すように、LEDヘッド19(図8)は、多数のLEDアレイチップが搭載される。LED素子に製造ばらつきによる特性変動があると、各LEDアレイチップ間および同一LEDアレイチップ内の各ドット間において、各LED素子は、その発光パワーに変動を生じ、感光ドラムへの露光エネルギー量が異なることになる。
この感光ドラムへの露光エネルギー量が異なる現象は、感光ドラムを現像するときのドット面積の変動となって現れ、印刷濃度にムラを生じる原因となるため望ましくない。
そのため、LED素子の各ドットの駆動電流は、発光パワーが一定になるように調整される。図9のドライバIC(IC1〜IC26)は、後述するようにそのための回路手段を備えている。
As shown in FIG. 9, the LED head 19 (FIG. 8) has a large number of LED array chips mounted thereon. When there is a characteristic variation due to manufacturing variations in LED elements, the LED elements vary in light emission power between LED array chips and between dots in the same LED array chip, and the amount of exposure energy to the photosensitive drum is reduced. Will be different.
This phenomenon in which the amount of exposure energy to the photosensitive drum is different is undesirable because it appears as a variation in dot area when developing the photosensitive drum and causes unevenness in print density.
Therefore, the drive current of each dot of the LED element is adjusted so that the light emission power is constant. The driver ICs (IC1 to IC26) in FIG. 9 are provided with circuit means therefor as will be described later.

[(4)ドライバICの回路構成]
次に本願発明の駆動装置であるドライバICの回路構成について説明する。
したがって、本実施形態の駆動装置は、以下の構成と装置を備える。
図10は、図9のドライバIC(IC1、IC2)の詳細な構成を示す回路ブロック図である。
フリップフロップ回路FFA1〜FFA49、FFB1〜FFB49、FFC1〜FFC49、FFD1〜FFD49は、シフトレジスタを構成している。ラッチ素子LTA1〜LTD1、、、LTA48〜LTD48は、全体でラッチ回路を構成している。
なお、フリップフロップ回路FFA1、FFB1、FFC48、FFD48、ラッチ素子LTA1、LTB1は、図示を省略する。
図10のMEMブロック116は、メモリ回路であり、LEDの光量ばらつき補正の補正データ(ドット補正データ)やLEDアレイチップ毎の光量補正データ(チップ補正データ)もしくはドライバIC毎の固有データが格納される。
DRVブロック117は、LEDの駆動装置であり、SELブロック118は、セレクタ回路である。CTRLブロック115は、制御回路であって、前記補正データをメモリ(MEMブロック116)に対してデータ書き込み時の書き込み指令信号を発生する。
ADJブロック119は、制御電圧発生回路であって、入力端子VREFより入力された基準電圧Vrefに基づいて、LED駆動のための制御電圧を発生させる。
基準電圧Vrefは、図示しないレギュレータ回路等により発生させられ、LEDの全点灯駆動時のような電源電圧が一瞬降下するような状況でも、LED駆動電流が低下しないように所定値を維持する。
[(4) Circuit configuration of driver IC]
Next, the circuit configuration of the driver IC which is the driving device of the present invention will be described.
Therefore, the drive device of this embodiment includes the following configuration and device.
FIG. 10 is a circuit block diagram showing a detailed configuration of the driver IC (IC1, IC2) of FIG.
The flip-flop circuits FFA1 to FFA49, FFB1 to FFB49, FFC1 to FFC49, and FFD1 to FFD49 constitute a shift register. The latch elements LTA1 to LTD1,..., LTA48 to LTD48 constitute a latch circuit as a whole.
Note that illustration of the flip-flop circuits FFA1, FFB1, FFC48, FFD48, and latch elements LTA1, LTB1 is omitted.
The MEM block 116 shown in FIG. 10 is a memory circuit, and stores correction data (dot correction data) for correcting light amount variation of LEDs, light amount correction data for each LED array chip (chip correction data), or unique data for each driver IC. The
The DRV block 117 is an LED driving device, and the SEL block 118 is a selector circuit. The CTRL block 115 is a control circuit, and generates a write command signal for writing the correction data to the memory (MEM block 116).
The ADJ block 119 is a control voltage generation circuit, and generates a control voltage for LED driving based on the reference voltage Vref input from the input terminal VREF.
The reference voltage Vref is generated by a regulator circuit (not shown) or the like, and maintains a predetermined value so that the LED drive current does not decrease even in a situation where the power supply voltage drops momentarily as in the case of driving all the LEDs on.

抵抗器111は、ストローブ端子STBと電源電圧VDDの電源ラインとの間に接続されるプルアップ素子である。
インバータ回路112、113、NAND回路114は、論理素子である。
フリップフロップ回路FFA1〜FFA49は、カスケード接続される。ドライバICのデータ入力端子DATAI0は、フリップフロップ回路FFA1のデータ入力端子Dに接続される。
フリップフロップ回路FFA48、FFA49のデータ出力端子Qは、SELブロック118(セレクタ回路)の入力端子A0、B0に接続される。SELブロック118の出力端子Y0は、ドライバICのデータ出力端子DATAO0に接続される。
同様に、フリップフロップ回路FFB1〜FFB49、FFC1〜FFC49、FFD1〜FFD49もそれぞれカスケード接続される。ドライバICのデータ入力端子DATAI1、DATAI2、DATAI3は、フリップフロップ回路FFB1、FFC1、FFD1のデータ入力端子Dにそれぞれ接続される。
フリップフロップ回路FFB48とFFB49、FFC48とFFC49、FFD48とFFD49の出力端子Qは、SELブロック118のセレクタ回路SELの入力端子A1とB1、A2とB2、A3とB3に接続される。SELブロック118の出力端子Y1、Y2、Y3は、ドライバICのデータ出力端子DATAO1、DATAO2、DATAO3に接続される。
The resistor 111 is a pull-up element connected between the strobe terminal STB and the power supply line of the power supply voltage VDD.
The inverter circuits 112 and 113 and the NAND circuit 114 are logic elements.
The flip-flop circuits FFA1 to FFA49 are cascade-connected. The data input terminal DATAI0 of the driver IC is connected to the data input terminal D of the flip-flop circuit FFA1.
The data output terminals Q of the flip-flop circuits FFA48 and FFA49 are connected to the input terminals A0 and B0 of the SEL block 118 (selector circuit). The output terminal Y0 of the SEL block 118 is connected to the data output terminal DATAO0 of the driver IC.
Similarly, flip-flop circuits FFB1 to FFB49, FFC1 to FFC49, and FFD1 to FFD49 are also cascade-connected. The data input terminals DATAI1, DATAI2, and DATAI3 of the driver IC are connected to data input terminals D of the flip-flop circuits FFB1, FFC1, and FFD1, respectively.
The output terminals Q of the flip-flop circuits FFB48 and FFB49, FFC48 and FFC49, FFD48 and FFD49 are connected to the input terminals A1 and B1, A2 and B2, and A3 and B3 of the selector circuit SEL of the SEL block 118. The output terminals Y1, Y2, and Y3 of the SEL block 118 are connected to the data output terminals DATAO1, DATAO2, and DATAO3 of the driver IC.

したがって、フリップフロップ回路FFA1〜FFA49、FFB1〜FFB49、FFC1〜FFC49、FFD1〜FFD49は、それぞれ49段のシフトレジスタ回路を構成しており、SELブロック118によりシフトレジスタのシフト段数を48段と49段とに切り替えることができる。
これによりドライバICのデータ出力端子DATAO0〜DATAO3は、次段のドライバICのデータ入力端子DATAI0〜DATAI3にそれぞれ接続されることになる。従って、ドライバIC(IC1〜IC26)の全てで構成されるシフトレジスタは、印刷制御部1から初段のドライバICのDRVブロック117に入力される印刷データ信号HD−DATAをクロック信号HD−CLKに同期してシフトさせる48×26段あるいは49×26段のシフトレジスタ回路を構成している。
ドライバICの入力端子STBに入力される印刷駆動信号HD−STB−Nは、負論理のストローブ信号であり、インバータ回路112を介して正論理化されてSTB−P信号が生成され、NAND回路114に入力される。
また、ドライバICの端子LOADより入力されるラッチ信号LOAD−Pは、NAND回路114に入力され、DRVブロック117に対する駆動のオン、オフを制御する信号(DRV−ON−N)が生成される。
Therefore, each of the flip-flop circuits FFA1 to FFA49, FFB1 to FFB49, FFC1 to FFC49, and FFD1 to FFD49 constitutes a 49-stage shift register circuit. And can be switched.
As a result, the data output terminals DATAO0 to DATAO3 of the driver IC are connected to the data input terminals DATAI0 to DATAI3 of the driver IC of the next stage. Therefore, the shift register including all of the driver ICs (IC1 to IC26) synchronizes the print data signal HD-DATA input from the print control unit 1 to the DRV block 117 of the first-stage driver IC with the clock signal HD-CLK. Thus, a shift register circuit of 48 × 26 stages or 49 × 26 stages to be shifted is configured.
The print drive signal HD-STB-N input to the input terminal STB of the driver IC is a negative logic strobe signal, which is converted to positive logic via the inverter circuit 112 to generate an STB-P signal. Entered.
Further, the latch signal LOAD-P input from the terminal LOAD of the driver IC is input to the NAND circuit 114, and a signal (DRV-ON-N) for controlling driving on / off of the DRV block 117 is generated.

[(5)MEMブロックの回路構成]
次に、メモリ回路であるMEMブロックの回路構成について説明する。
図11は、図10に示したMEMブロック116(メモリ回路)の回路構成図である。
なお、本実施形態の構成では、LED光量補正のためのドット補正データは4ビットであり、LED駆動電流をドット毎に16段階に調整することで光量補正を行なう。
図11は、隣接する2個(2ドット)のMEMブロック116(メモリセル回路)を示し、それぞれを破線にて囲まれる左側回路151、右側回路152として区分けして示している。
左側回路151は、奇数番目のドット(例えばドットNo.1)の補正データを格納する。右側回路152は、偶数番目のドット(例えばドットNo.2)の補正データを格納する。
MEMブロック116は、バッファ回路169を備え、補正メモリセルを構成するインバータ回路153〜160と、NMOSトランジスタ161〜168とを備えている。
インバータ回路170は、入力端子がバッファ回路169の出力端子と接続されている。
[(5) Circuit configuration of MEM block]
Next, a circuit configuration of the MEM block that is a memory circuit will be described.
FIG. 11 is a circuit configuration diagram of the MEM block 116 (memory circuit) shown in FIG.
In the configuration of this embodiment, the dot correction data for LED light amount correction is 4 bits, and light amount correction is performed by adjusting the LED drive current in 16 steps for each dot.
FIG. 11 shows two (2 dots) adjacent MEM blocks 116 (memory cell circuits), which are divided into a left circuit 151 and a right circuit 152 surrounded by a broken line.
The left side circuit 151 stores correction data of odd-numbered dots (for example, dot No. 1). The right circuit 152 stores correction data of even-numbered dots (for example, dot No. 2).
The MEM block 116 includes a buffer circuit 169, and includes inverter circuits 153 to 160 that constitute correction memory cells, and NMOS transistors 161 to 168.
The inverter circuit 170 has an input terminal connected to the output terminal of the buffer circuit 169.

また、MEMブロック116は、補正データ入力端子Dと、メモリセル選択端子W0〜W3と、補正データ出力端子Q3〜Q0を備えている。
図11に示すMEMブロック116の補正データ入力端子Dは、図10に示すフリップフロップ回路FFA1、FFB1、FFC1、FFD1、FFA2、、、FFA48、FFB48、FFC48、FFD48等のデータ出力端子Qにそれぞれ接続されている。
また、MEMブロック116のメモリセル選択端子W0〜W3は、CTRLブロック115の制御端子W0〜W3にそれぞれ接続される。
バッファ回路169の入力端子は、補正データ入力端子Dとなっており、バッファ回路169の出力端子は、NMOSトランジスタ161、163、165、167の第1端子に接続されている。
インバータ回路153と154、155と156、157と158、159と160は、それぞれ入力端子と出力端子、出力端子と入力端子が互いに接続され、それぞれがメモリセルを形成している。
The MEM block 116 includes a correction data input terminal D, memory cell selection terminals W0 to W3, and correction data output terminals Q3 to Q0.
The correction data input terminal D of the MEM block 116 shown in FIG. 11 is connected to the data output terminals Q of the flip-flop circuits FFA1, FFB1, FFC1, FFD1, FFA2,. Has been.
Further, the memory cell selection terminals W0 to W3 of the MEM block 116 are connected to the control terminals W0 to W3 of the CTRL block 115, respectively.
The input terminal of the buffer circuit 169 is a correction data input terminal D, and the output terminal of the buffer circuit 169 is connected to the first terminals of the NMOS transistors 161, 163, 165, and 167.
Inverter circuits 153 and 154, 155 and 156, 157 and 158, 159 and 160 have their input terminals and output terminals, and their output terminals and input terminals connected to each other to form memory cells.

NMOSトランジスタ161と162、163と164、165と166、167と168の第2端子間には、それぞれメモリセルが接続される。
インバータ回路170の出力端子は、NMOSトランジスタ162、164、166、168の第1端子に接続されている。
NMOSトランジスタ161、162のゲート端子は、メモリセル選択端子W0に接続される。NMOSトランジスタ163、164のゲート端子は、メモリセル選択端子W1に接続される。NMOSトランジスタ165、166のゲート端子は、メモリセル選択端子W2に接続される。NMOSトランジスタ167、168のゲート端子は、メモリセル選択端子W3に接続される。
インバータ153の出力端子は、補正データ出力端子Q0に接続される。インバータ155の出力端子は、補正データ出力端子Q1に接続される。インバータ157の出力端子は、補正データ出力端子Q2に接続される。インバータ159の出力端子は、補正データ出力端子Q3に接続される。
上記説明は、左側回路151についてのものであるが、右側回路152についても全く同様の構成となっている。
Memory cells are connected between the second terminals of the NMOS transistors 161 and 162, 163 and 164, 165 and 166, and 167 and 168, respectively.
The output terminal of the inverter circuit 170 is connected to the first terminals of the NMOS transistors 162, 164, 166, and 168.
The gate terminals of the NMOS transistors 161 and 162 are connected to the memory cell selection terminal W0. The gate terminals of the NMOS transistors 163 and 164 are connected to the memory cell selection terminal W1. The gate terminals of the NMOS transistors 165 and 166 are connected to the memory cell selection terminal W2. The gate terminals of the NMOS transistors 167 and 168 are connected to the memory cell selection terminal W3.
The output terminal of the inverter 153 is connected to the correction data output terminal Q0. The output terminal of the inverter 155 is connected to the correction data output terminal Q1. The output terminal of the inverter 157 is connected to the correction data output terminal Q2. The output terminal of the inverter 159 is connected to the correction data output terminal Q3.
The above description is for the left circuit 151, but the right circuit 152 has exactly the same configuration.

[(6)DRVブロックの回路構成]
次に、LEDの駆動装置であるDRVブロックについて説明する。
図12は、図10のDRVブロック117を示す回路図である。
DRVブロック117は、LED駆動装置であり、PMOSトランジスタ200〜205と、NMOSトランジスタ206と、NAND回路210〜213とNOR回路207とを備えている。
また、DRVブロック117は、印刷データ入力端子E(負論理)と、LED駆動のオン、オフの指令が入力される入力端子S(負論理)と、入力端子Vと、補正データ入力端子Q0〜Q3と、駆動電流出力端子DOとを備えている。
DRVブロック117の印刷データ入力端子Eは、図10のラッチ素子LTA1〜LTD1、LTA48〜LTD48のQN出力端子と接続される。
また、DRVブロック117の補正データ入力端子Q3〜Q0は、図10のMEMブロック116の補正データ出力端子Q3〜Q0に接続されている。
入力端子Sは、図10のNAND回路114から出力されるLED素子をオン又はオフさせるための指令信号(DRV−ON−N)が入力される。入力端子Vは、図10のADJブロック119からの制御電圧Vcontrolが入力される。駆動電流出力端子DOは、図示しないボンディングワイヤにより、図9のLEDアレイチップCHP1、CHP2のLED素子のアノードに接続される。
[(6) DRV block circuit configuration]
Next, a DRV block that is an LED driving device will be described.
FIG. 12 is a circuit diagram showing the DRV block 117 of FIG.
The DRV block 117 is an LED driving device and includes PMOS transistors 200 to 205, an NMOS transistor 206, NAND circuits 210 to 213, and a NOR circuit 207.
The DRV block 117 includes a print data input terminal E (negative logic), an input terminal S (negative logic) to which an LED drive on / off command is input, an input terminal V, and correction data input terminals Q0 to Q0. Q3 and a drive current output terminal DO are provided.
The print data input terminal E of the DRV block 117 is connected to the QN output terminals of the latch elements LTA1 to LTD1 and LTA48 to LTD48 in FIG.
Further, the correction data input terminals Q3 to Q0 of the DRV block 117 are connected to the correction data output terminals Q3 to Q0 of the MEM block 116 of FIG.
A command signal (DRV-ON-N) for turning on or off the LED element output from the NAND circuit 114 of FIG. 10 is input to the input terminal S. The input terminal V receives the control voltage Vcontrol from the ADJ block 119 of FIG. The drive current output terminal DO is connected to the anodes of the LED elements of the LED array chips CHP1 and CHP2 of FIG. 9 by bonding wires (not shown).

NOR回路207の2個の入力端子は、それぞれ入力端子Sおよび入力端子Eに接続されている。NAND回路210〜213の第1入力端子は、NOR回路207の出力端子に接続されている。また、NAND回路213〜210の第2入力端子は、それぞれDRVブロック117の補正データ入力端子Q3〜Q0に接続されている。
PMOSトランジスタ200〜203のゲート電極は、それぞれNAND回路210〜213の出力端子に接続されている。
また、PMOSトランジスタ200〜204のソース電極は、電源電圧VDDが印加される。PMOSトランジスタ200〜204のドレーン電極は、駆動電流出力端子DOに接続されている。
一方、NAND回路210〜213およびNOR回路207は、電源電圧VDDが印加され、グランド端子がDRVブロック117の入力端子Vと接続され、制御電圧Vcontrolの電位に保たれる。
後述するように電源電圧VDDと制御電圧Vcontrolとの電位差は、PMOSトランジスタ200〜204がオンするときのゲート・ソース間電圧に略等しい。この電位差を変化させることで、PMOSトランジスタ200〜204のドレーン電流を調整することが可能となる。
The two input terminals of the NOR circuit 207 are connected to the input terminal S and the input terminal E, respectively. The first input terminals of the NAND circuits 210 to 213 are connected to the output terminal of the NOR circuit 207. The second input terminals of the NAND circuits 213 to 210 are connected to the correction data input terminals Q3 to Q0 of the DRV block 117, respectively.
The gate electrodes of the PMOS transistors 200 to 203 are connected to the output terminals of the NAND circuits 210 to 213, respectively.
The source voltage VDD is applied to the source electrodes of the PMOS transistors 200 to 204. The drain electrodes of the PMOS transistors 200 to 204 are connected to the drive current output terminal DO.
On the other hand, the NAND circuits 210 to 213 and the NOR circuit 207 are applied with the power supply voltage VDD, the ground terminal is connected to the input terminal V of the DRV block 117, and is maintained at the potential of the control voltage Vcontrol.
As will be described later, the potential difference between the power supply voltage VDD and the control voltage Vcontrol is substantially equal to the gate-source voltage when the PMOS transistors 200 to 204 are turned on. By changing this potential difference, the drain current of the PMOS transistors 200 to 204 can be adjusted.

図14のADJブロック119(制御電圧発生回路)は、基準電圧Vrefに基づいて、図12のDRVブロック117のPMOSトランジスタ200〜204等のドレーン電流が所定値となるように制御電圧Vcontrolを制御する。
さて図12の説明に戻ると、印刷データがオンであり(このとき入力端子EはLowレベル)、入力端子Sについて指令信号DRV−ON−NがLowレベルとなって駆動オンを指令している場合、NOR回路207の出力端子は、Highレベルとなる。このとき補正データ出力端子Q3〜Q0のデータに従い、NAND回路210〜213の出力端子、およびPMOSトランジスタ205とNMOSトランジスタ206とで構成されるインバータの出力端子は、電源電圧VDDの電位あるいは制御電圧Vcontrlの電位となる。
The ADJ block 119 (control voltage generation circuit) in FIG. 14 controls the control voltage Vcontrol based on the reference voltage Vref so that the drain current of the PMOS transistors 200 to 204 in the DRV block 117 in FIG. 12 becomes a predetermined value. .
Returning to the description of FIG. 12, the print data is on (at this time, the input terminal E is at the low level), and the command signal DRV-ON-N for the input terminal S is at the low level to command the drive on. In this case, the output terminal of the NOR circuit 207 is at a high level. At this time, according to the data of the correction data output terminals Q3 to Q0, the output terminals of the NAND circuits 210 to 213 and the output terminal of the inverter composed of the PMOS transistor 205 and the NMOS transistor 206 are at the potential of the power supply voltage VDD or the control voltage Vcontrol. Potential.

PMOSトランジスタ204は、LED素子に主たる駆動電流を供給する主駆動トランジスタであり、PMOSトランジスタ200〜203は、LED素子の駆動電流をドット毎に調整して光量補正するための補助駆動トランジスタである。
主駆動トランジスタ204は、印刷データに従って駆動される。
補助駆動トランジスタ200〜203は、NOR回路207の出力端子がHighレベルである場合、MEMブロック116の出力端子Q3〜Q0の信号レベルに従って選択的に駆動される。
つまり、主駆動トランジスタ204と共に、前記補正データに従って補助駆動トランジスタ200〜203が選択的に駆動され、主駆動トランジスタ204のドレーン電流に、選択された補助駆動トランジスタの各ドレーン電流が加算されて駆動電流として駆動電流出力端子DOからLED素子に供給される。
PMOSトランジスタ200〜203が駆動されている場合、NAND回路210〜213の出力端子は、Lowレベル(すなわち、ほぼ制御電圧Vcontrolに等しいレベル)にあるので、PMOSトランジスタ200〜203のゲート電位は、ほぼ制御電圧Vcontrolに等しくなる。
このとき、PMOSトランジスタ205はオフ状態にあり、NMOSトランジスタ206はオン状態にあって、PMOSトランジスタ204のゲート電位もまたほぼ制御電圧Vcontrolに等しくなる。従って、PMOSトランジスタ200〜204のドレーン電流値を、制御電圧Vcontro1により一括して調整することができる。
このとき、NAND回路210〜213は、電源電圧VDDとグランド電位又は制御電圧Vcontrolの電位とを、それぞれ電源、グランド電位として動作していることになる。
The PMOS transistor 204 is a main drive transistor that supplies a main drive current to the LED element, and the PMOS transistors 200 to 203 are auxiliary drive transistors for adjusting the drive current of the LED element for each dot to correct the light amount.
The main drive transistor 204 is driven according to the print data.
The auxiliary drive transistors 200 to 203 are selectively driven according to the signal levels of the output terminals Q3 to Q0 of the MEM block 116 when the output terminal of the NOR circuit 207 is at a high level.
That is, together with the main drive transistor 204, the auxiliary drive transistors 200 to 203 are selectively driven according to the correction data, and each drain current of the selected auxiliary drive transistor is added to the drain current of the main drive transistor 204 to drive the drive current. Is supplied from the drive current output terminal DO to the LED element.
When the PMOS transistors 200 to 203 are driven, the output terminals of the NAND circuits 210 to 213 are at a low level (that is, a level substantially equal to the control voltage Vcontrol), so that the gate potentials of the PMOS transistors 200 to 203 are approximately It becomes equal to the control voltage Vcontrol.
At this time, the PMOS transistor 205 is in the off state, the NMOS transistor 206 is in the on state, and the gate potential of the PMOS transistor 204 is also substantially equal to the control voltage Vcontrol. Accordingly, the drain current values of the PMOS transistors 200 to 204 can be collectively adjusted by the control voltage Vcontro1.
At this time, the NAND circuits 210 to 213 operate using the power supply voltage VDD and the ground potential or the control voltage Vcontrol as the power supply and the ground potential, respectively.

[(7)CTRLブロックの回路構成]
次に、制御回路であるCTRLブロックの回路構成について説明する。
図13は、図10のCTRLブロック115の構成を示す回路図である。
CTRLブロック115は、フリップフロップ回路221、222、224、225、NOR回路223、AND回路230〜233を備える。
フリップフロップ回路221、222、224、225のリセット端子R(負論理)は、CTRLブロック115のLOAD端子と接続されてラッチ信号LOAD−Pが入力される。フリップフロップ回路221、222のクロック端子は、CTRLブロック115のSTB端子と接続されて、STB−P信号が入力される。フリップフロップ回路221、222のQ出力端子は、NOR回路223の第1入力端子、第2入力端子に接続される。NOR回路223の出力端子は、フリップフロップ回路221のD入力端子と接続されている。
[(7) CTRL block circuit configuration]
Next, the circuit configuration of the CTRL block which is a control circuit will be described.
FIG. 13 is a circuit diagram showing a configuration of the CTRL block 115 of FIG.
The CTRL block 115 includes flip-flop circuits 221, 222, 224, and 225, a NOR circuit 223, and AND circuits 230 to 233.
The reset terminal R (negative logic) of the flip-flop circuits 221, 222, 224, and 225 is connected to the LOAD terminal of the CTRL block 115 and receives the latch signal LOAD-P. The clock terminals of the flip-flop circuits 221 and 222 are connected to the STB terminal of the CTRL block 115 and the STB-P signal is input. The Q output terminals of the flip-flop circuits 221 and 222 are connected to the first input terminal and the second input terminal of the NOR circuit 223. The output terminal of the NOR circuit 223 is connected to the D input terminal of the flip-flop circuit 221.

フリップフロップ回路224、225のクロック端子は、フリップフロップ回路221のQ出力端子に接続される。フリップフロップ回路224のD入力端子は、フリップフロップ回路225のQ出力端子と接続される。フリップフロップ回路225のD入力端子は、フリップフロップ回路224のQN出力端子に接続される。
AND回路233は、第1入力端子がフリップフロップ回路225のQ出力端子に接続され、第2入力端子がフリップフロップ回路224のQN出力端子に接続される。
AND回路232は、第1入力端子がフリップフロップ回路225のQ出力端子に接続され、第2入力端子がフリップフロップ回路224のQ出力端子に接続される。
AND回路231は、第1入力端子がフリップフロップ回路225のQN出力端子に接続され、第2入力端子がフリップフロップ回路224のQ出力端子に接続される。
AND回路230は、第1入力端子がフリップフロップ回路225のQN出力端子に接続され、第2入力端子がフリップフロップ回路224のQN出力端子に接続される。AND回路230〜233の第3入力端子は、フリップフロップ回路222のQ出力端子に接続される。
AND回路230〜233の出力端子は、CTRLブロック115の制御端子W0〜W3とそれぞれ接続される。
CTRLブロック115は、図10のMEMブロック116への書き込み指令信号を送信する。
The clock terminals of the flip-flop circuits 224 and 225 are connected to the Q output terminal of the flip-flop circuit 221. The D input terminal of the flip-flop circuit 224 is connected to the Q output terminal of the flip-flop circuit 225. The D input terminal of the flip-flop circuit 225 is connected to the QN output terminal of the flip-flop circuit 224.
The AND circuit 233 has a first input terminal connected to the Q output terminal of the flip-flop circuit 225 and a second input terminal connected to the QN output terminal of the flip-flop circuit 224.
The AND circuit 232 has a first input terminal connected to the Q output terminal of the flip-flop circuit 225 and a second input terminal connected to the Q output terminal of the flip-flop circuit 224.
The AND circuit 231 has a first input terminal connected to the QN output terminal of the flip-flop circuit 225 and a second input terminal connected to the Q output terminal of the flip-flop circuit 224.
The AND circuit 230 has a first input terminal connected to the QN output terminal of the flip-flop circuit 225 and a second input terminal connected to the QN output terminal of the flip-flop circuit 224. The third input terminals of the AND circuits 230 to 233 are connected to the Q output terminal of the flip-flop circuit 222.
Output terminals of AND circuits 230 to 233 are connected to control terminals W0 to W3 of CTRL block 115, respectively.
The CTRL block 115 transmits a write command signal to the MEM block 116 of FIG.

[(8)ADJブロックの回路構成]
次に、制御電圧発生回路であるADJブロックの回路構成について説明する。
図14は、図10のADJブロック119を示す回路図である。ADJブロック119は、制御電圧発生回路であって、ドライバICチップ毎に1回路ずつ設けられている。
図14に示すように、ADJブロック119は、演算増幅器251、PMOSトランジスタ252、抵抗切り替え回路(RDEC)253を備える。
PMOSトランジスタ252のソースは、電源電圧VDDが印加される。PMOSトランジスタ252のゲートは、演算増幅器251の出力端子に接続されると共にADJブロック119の出力端子Vに接続される。
PMOSトランジスタ252は、図12で示したPMOSトランジスタ200〜204とはゲート長が相等しく構成されている。
[(8) Circuit configuration of ADJ block]
Next, the circuit configuration of the ADJ block which is a control voltage generation circuit will be described.
FIG. 14 is a circuit diagram showing the ADJ block 119 of FIG. The ADJ block 119 is a control voltage generation circuit, and one circuit is provided for each driver IC chip.
As illustrated in FIG. 14, the ADJ block 119 includes an operational amplifier 251, a PMOS transistor 252, and a resistance switching circuit (RDEC) 253.
A power supply voltage VDD is applied to the source of the PMOS transistor 252. The gate of the PMOS transistor 252 is connected to the output terminal of the operational amplifier 251 and to the output terminal V of the ADJ block 119.
The PMOS transistor 252 has the same gate length as the PMOS transistors 200 to 204 shown in FIG.

一方、演算増幅器251の反転入力端子は、ADJブロック119のVREF端子に接続され、基準電圧Vrefが印加される。演算増幅器251の非反転入力端子は、PMOSトランジスタ252のドレーンに接続されるとともに後述する抵抗切り替え回路253の入力端子Rに接続されている。
演算増幅251の出力端子は、PMOSトランジスタ252のゲートに接続されるとともに、ADJブロック119の出力端子Vに接続される。ADJブロック119は、図10のDRVブロック117の入力端子Vに制御電圧Vcontrolを印加する。
また、抵抗切り替え回路253の入力端子S3〜S0は、ADJブロック119の入力端子S3〜S0として、図10のMEMブロック116(最右端)の出力端子Q3〜Q0とそれぞれ接続される。ADJブロック119の抵抗切り替え回路253は、4本の入力端子S3〜S0の信号レベルの16通りの組み合わせに応じて、その内部の抵抗を16段階に切り替えて、入力端子Rとグランド端子間の抵抗値を16段階に調整することができる。
On the other hand, the inverting input terminal of the operational amplifier 251 is connected to the VREF terminal of the ADJ block 119, and the reference voltage Vref is applied. The non-inverting input terminal of the operational amplifier 251 is connected to the drain of the PMOS transistor 252 and to the input terminal R of the resistance switching circuit 253 described later.
The output terminal of the operational amplifier 251 is connected to the gate of the PMOS transistor 252 and to the output terminal V of the ADJ block 119. The ADJ block 119 applies a control voltage Vcontrol to the input terminal V of the DRV block 117 of FIG.
Further, the input terminals S3 to S0 of the resistance switching circuit 253 are connected to the output terminals Q3 to Q0 of the MEM block 116 (rightmost end) in FIG. 10 as the input terminals S3 to S0 of the ADJ block 119, respectively. The resistance switching circuit 253 of the ADJ block 119 switches the internal resistance to 16 levels according to 16 combinations of the signal levels of the four input terminals S3 to S0, and resistance between the input terminal R and the ground terminal. The value can be adjusted in 16 steps.

図14に示すように、演算増幅251と抵抗切り替え回路253とPMOSトランジスタ252は、フィードバック制御回路を構成し、演算増幅器251の非反転入力端子の電位を略基準電圧Vrefと等しくなるように制御する。
このため、図14のPMOSトランジスタ252のドレーン電流(Iref)は、前記抵抗切り替え回路253の抵抗値(例えばR0〜R15と記号する)と、演算増幅器251に入力される基準電圧Vrefとから決定される。
さらに具体的に説明すれば、ADJブロック119の入力端子S3〜S0の論理値が”1111”となって、補正状態が最大と指令されている場合、抵抗切り替え回路253の入力端子Rとグランド端子間の抵抗を示す等価抵抗器の抵抗値R15から、PMOSトランジスタ252のドレーン電流Irefは、
Iref=Vref/R15
と計算される。
一方、入力端子S3〜S0の論理値が”0111”となっていて、補正状態の中心が指令されている場合、抵抗切り替え回路253の等価抵抗器の抵抗値R7から、PMOSトランジスタ252のドレーン電流Irefは、
Iref=Vref/R7
と計算される。
As shown in FIG. 14, the operational amplifier 251, the resistance switching circuit 253, and the PMOS transistor 252 constitute a feedback control circuit, and control the potential of the non-inverting input terminal of the operational amplifier 251 to be substantially equal to the reference voltage Vref. .
For this reason, the drain current (Iref) of the PMOS transistor 252 in FIG. 14 is determined from the resistance value of the resistance switching circuit 253 (for example, represented by R0 to R15) and the reference voltage Vref input to the operational amplifier 251. The
More specifically, when the logical value of the input terminals S3 to S0 of the ADJ block 119 is “1111” and the correction state is commanded to be maximum, the input terminal R and the ground terminal of the resistance switching circuit 253 From the resistance value R15 of the equivalent resistor indicating the resistance between the drain current Iref of the PMOS transistor 252 is
Iref = Vref / R15
Is calculated.
On the other hand, when the logical values of the input terminals S3 to S0 are “0111” and the center of the correction state is commanded, the drain current of the PMOS transistor 252 is determined from the resistance value R7 of the equivalent resistor of the resistance switching circuit 253. Iref is
Iref = Vref / R7
Is calculated.

さらに、入力端子S3〜S0の論理値が”0000”となっていて、補正状態の最小が指令されている場合、抵抗切り替え回路253の等価抵抗器の抵抗値R0から、PMOSトランジスタ252のドレーン電流Irefは、
Iref=Vref/R0
と計算される。
前述したように、図12のPMOSトランジスタ200〜204とPMOSトランジスタ252とは、ゲート長が相等しく構成される。これらのトランジスタは飽和領域で動作するように制御されているので、各トランジスタはカレントミラーの関係となり、PMOSトランジスタ200〜204がオンとなるとき、上記の計算に従うドレーン電流Irefを生じる。
この結果、入力端子S3〜S0に与える論理値状態により、ドレーン電流Irefを16段階に調整することができ、図12のPMOSトランジスタ200〜204のドレーン電流もまた16段階に調整することができる。
Further, when the logical values of the input terminals S3 to S0 are “0000” and the minimum correction state is instructed, the drain current of the PMOS transistor 252 is determined from the resistance value R0 of the equivalent resistor of the resistance switching circuit 253. Iref is
Iref = Vref / R0
Is calculated.
As described above, the PMOS transistors 200 to 204 and the PMOS transistor 252 in FIG. 12 are configured to have the same gate length. Since these transistors are controlled to operate in the saturation region, the transistors are in a current mirror relationship, and when the PMOS transistors 200 to 204 are turned on, the drain current Iref according to the above calculation is generated.
As a result, the drain current Iref can be adjusted to 16 levels according to the logical value states applied to the input terminals S3 to S0, and the drain currents of the PMOS transistors 200 to 204 in FIG. 12 can also be adjusted to 16 levels.

[(9)LEDヘッドの断面構造]
次にLEDヘッドの断面構造について説明する。
図15は、LEDヘッド19の構成、構造を概略的に示す断面図である。
図15に示すように、LEDヘッド19は、ベース部材291と、べース部材291にて固定されたプリント配線板280と、柱状の光学素子を多数配列してなるロッドレーンズアレイ292と、ロッドレーンズアレイ292を保持するホルダ293と、プリント基板280、ベース部材291、及び、ホルダ293を固定するクランプ部材294、295とで構成される。
なお、ICチップ281は、前述した駆動装置等が集積されたものであり、LEDアレイ282は、ICチップ281と対向して配置される。両者間を接続するボンディングワイヤ等は、図示を省略している。
[(9) Cross-sectional structure of LED head]
Next, the cross-sectional structure of the LED head will be described.
FIG. 15 is a cross-sectional view schematically showing the configuration and structure of the LED head 19.
As shown in FIG. 15, the LED head 19 includes a base member 291, a printed wiring board 280 fixed by the base member 291, a rod lane array 292 formed by arranging a large number of columnar optical elements, A holder 293 that holds the lanes array 292, a printed circuit board 280, a base member 291, and clamp members 294 and 295 that fix the holder 293 are configured.
The IC chip 281 is obtained by integrating the above-described driving device and the like, and the LED array 282 is disposed to face the IC chip 281. A bonding wire or the like for connecting the two is not shown.

[(10)LEDヘッドの動作のタイムチャート]
次に、LEDヘッドの動作のタイムチャートについて説明する。
図16は、プリンタの電源投入後に、実施形態の構成のLEDヘッド19に対して行われる補正データ転送処理と、その後に行われる印刷データ転送のようすを示すタイムチャートである。補正データの転送開始に先立ち、引き続くデータ転送が補正データであることを示すため、ラッチ信号HD−LOADをHighレベルにする(A部)。
次に、1ドットあたりbit3〜bit0の4ビットからなる補正データのうち、bit3の印刷データ信号HD−DATA3〜0をクロック信号HD−CLKに同期して入力して、図10のフリップフロップ回路(FFA1〜FFD48)で構成されるシフトレジスタ中ヘシフト入力する。シフト入力が完了すると、B部に示すように印刷駆動信号HD−STB−Nが3パルス入力され、図13に示した回路の動作が行われる。
図16の信号Q1、Q2は、図13のフリップフロップ回路221、222のQ出力端子からの信号を示す。以下同様に、信号Q3は、フリップフロップ回路225のQ出力端子からの信号を示し、信号Q4は、フリップフロップ回路224のQ出力信号を示す。
[(10) Time chart of LED head operation]
Next, a time chart of the operation of the LED head will be described.
FIG. 16 is a time chart showing a correction data transfer process performed on the LED head 19 having the configuration of the embodiment after the printer is turned on, and a print data transfer performed thereafter. Prior to the start of transfer of correction data, the latch signal HD-LOAD is set to a high level to indicate that the subsequent data transfer is correction data (A part).
Next, among the correction data consisting of 4 bits of bit 3 to bit 0 per dot, the print data signal HD-DATA 3 to 0 of bit 3 is inputted in synchronization with the clock signal HD-CLK, and the flip-flop circuit ( The shift is input to the shift register composed of FFA1 to FFD48). When the shift input is completed, three pulses of the print drive signal HD-STB-N are input as shown in part B, and the operation of the circuit shown in FIG. 13 is performed.
Signals Q1 and Q2 in FIG. 16 indicate signals from the Q output terminals of the flip-flop circuits 221 and 222 in FIG. Similarly, the signal Q3 indicates a signal from the Q output terminal of the flip-flop circuit 225, and the signal Q4 indicates the Q output signal of the flip-flop circuit 224.

信号W3〜W0は、図13のAND回路233〜230の出力端子からの信号を示す。
図16のB部において、印刷駆動信号HD−STB−Nの1パルス目が入力されるとF部に示すようにQ1信号が発生し、印刷駆動信号HD−STB−Nの2パルス目で、G部に示すようにQ2信号が発生する。
また、Q1信号が立ち上がると、Q3信号は状態反転し、例えばO部のようにQ3信号はHighレベルに遷移している。
また、A部に示すように、ラッチ信号HD−LOADがLowレベルの場合、図10のフリップフロップ回路221〜225は、リセット状態となり、Q出力端子がLowレベルになる。
図16に示すように、信号W3〜W0は、信号Q2に引き続いて発生する。S部のように、信号W3が発生し、ついで信号W2、W1、W0がそれぞれ順に発生する。
信号W3〜W0の各パルス信号が発生すると、図10のMEMブロック116にデータの書き込みが行われ、信号W3〜W0のパルス信号によりメモリ素子へのデータ書き込みが行われる。
Signals W3 to W0 indicate signals from the output terminals of the AND circuits 233 to 230 in FIG.
In the B part of FIG. 16, when the first pulse of the print drive signal HD-STB-N is input, a Q1 signal is generated as shown in the F part, and at the second pulse of the print drive signal HD-STB-N, The Q2 signal is generated as shown in part G.
Further, when the Q1 signal rises, the state of the Q3 signal is inverted, and for example, the Q3 signal transitions to a high level as in the O section.
Further, as shown in part A, when the latch signal HD-LOAD is at the low level, the flip-flop circuits 221 to 225 in FIG. 10 are in the reset state, and the Q output terminal is at the low level.
As shown in FIG. 16, signals W3 to W0 are generated subsequent to signal Q2. As in the S section, the signal W3 is generated, and then the signals W2, W1, and W0 are sequentially generated.
When each pulse signal of the signals W3 to W0 is generated, data is written to the MEM block 116 in FIG. 10, and data is written to the memory element by the pulse signals of the signals W3 to W0.

上述した過程をへて、補正データのbit3〜bit0のすべてのデータ書き込みが完了すると、W部のようにラッチ信号HD−LOADをLowレベルにして、印刷データの転送が可能な状態に遷移する。
前述したラッチ信号HD−LOADがLowレベルになると、図13のフリップフロップ回路221、222、224、225は、リセットされてQ出力端子が再びLowレベルになる。
ついで、X部で印刷データが転送され、Y部のラッチ信号HD−LOADの信号パルスにより、シフトレジスタ(FFA1〜FFD1、、、FFA48〜FFD48)にシフト入力されたデータをラッチ素子(LTA1〜LTDL、、、LTA48〜LTD48)ヘラッチする。
さらに、Z部のように印刷駆動信号HD−STB−NがLowレベルに遷移して、LED素子の発光駆動が行われる。印刷駆動信号HD−STB−NがLowレベルの場合、LED素子は点灯し、印刷駆動信号HD−STB−NがHighレベルの場合、LED素子は消灯する。
When all the data writing of the correction data bit3 to bit0 is completed through the above-described process, the latch signal HD-LOAD is set to the low level as in the W section, and the print data can be transferred.
When the above-described latch signal HD-LOAD becomes low level, the flip-flop circuits 221, 222, 224, and 225 of FIG. 13 are reset and the Q output terminal becomes low level again.
Next, the print data is transferred in the X section, and the data shifted in the shift registers (FFA1 to FFD1,. ,,, LTA48 to LTD48).
Further, as in the Z section, the print drive signal HD-STB-N transitions to the Low level, and the LED element is driven to emit light. When the print drive signal HD-STB-N is at the low level, the LED element is turned on, and when the print drive signal HD-STB-N is at the high level, the LED element is turned off.

[(11)ADJブロック、DRVブロック、および周辺回路との接続関係]
次に、ADJブロック、DRVブロック、および周辺回路との接続関係について説明する。
図17は、図10のADJブロック119、DRVブロック117、およびその周辺回路との接続関係を示す図である。
図17に示すように、ADJブロック119は、破線にて囲まれた部分であり、その他の箇所は図10に示したドライバIC回路のうちから、図17では代表して1ドット分について記載されている。
[(11) Connection relationship with ADJ block, DRV block, and peripheral circuit]
Next, the connection relationship with the ADJ block, DRV block, and peripheral circuits will be described.
FIG. 17 is a diagram illustrating a connection relationship between the ADJ block 119, the DRV block 117, and peripheral circuits in FIG.
As shown in FIG. 17, the ADJ block 119 is a portion surrounded by a broken line, and the other portions are representatively shown for one dot in the driver IC circuit shown in FIG. 10 in FIG. 17. ing.

また、図14の抵抗切り替え回路253(RDEC)について、その内部を簡略化した等価抵抗器Rrefとして示す。等価抵抗器Rrefの一端は、PMOSトランジスタ252のドレーン及び演算増輻器251の非反転入力に接続され、等価抵抗器Rrefの他端は、グランド電位のラインに接続されている。
また、演算増幅器251は、制御電圧Vcontrolを出力する。
図17におけるその他の回路において、NAND回路210は、図12に示したDRVブロック117のNAND回路210のみを代表して示している。PMOSトランジスタについても図12のDRVブロック117のPMOSトランジスタ200のみを代表として記載している。
なお、LED素子441は、図9のLEDヘッド19のLED素子31〜38のひとつを示している。
入力端子VREFは、図示しない基準電圧回路より発生される基準電圧Vrefが印加される。基準電圧Vrefは、演算増幅器251の反転入力端子に印加される。
前述したように、演算増幅器251とPMOSトランジスタ252と等価抵抗器Rrefとによる回路は、フィードバック制御回路を構成している。等価抵抗器Rrefに流れる電流IrefすなわちPMOSトランジスタ252に流れる電流は、電源電圧VDDによらず基準電圧Vrefと等価抵抗器Rrefの抵抗値のみにより決定される。
Further, the resistance switching circuit 253 (RDEC) of FIG. 14 is shown as a simplified equivalent resistor Rref. One end of the equivalent resistor Rref is connected to the drain of the PMOS transistor 252 and the non-inverting input of the operational amplifier 251, and the other end of the equivalent resistor Rref is connected to the ground potential line.
The operational amplifier 251 outputs a control voltage Vcontrol.
In the other circuits in FIG. 17, the NAND circuit 210 represents only the NAND circuit 210 of the DRV block 117 shown in FIG. As the PMOS transistor, only the PMOS transistor 200 of the DRV block 117 of FIG. 12 is described as a representative.
The LED element 441 is one of the LED elements 31 to 38 of the LED head 19 of FIG.
A reference voltage Vref generated from a reference voltage circuit (not shown) is applied to the input terminal VREF. The reference voltage Vref is applied to the inverting input terminal of the operational amplifier 251.
As described above, the circuit including the operational amplifier 251, the PMOS transistor 252, and the equivalent resistor Rref forms a feedback control circuit. The current Iref flowing through the equivalent resistor Rref, that is, the current flowing through the PMOS transistor 252 is determined only by the reference voltage Vref and the resistance value of the equivalent resistor Rref regardless of the power supply voltage VDD.

[(12)ADJブロック、DRVブロック、および周辺回路の概略動作]
次に、ADJブロック、DRVブロック、および周辺回路の概略の動作について説明する。
図17において、前述したようにNAND回路210の電源はVDDであり、NAND回路210のグランドは演算増幅器251の出力に接続されており、Vcontro1なる電位となっている。その結果、LED401の消灯時にはNAND回路210の出力電位は電源VDD電位に略等しい値であり、LED401の点灯時にはNAND回路210の出力電位は前記したVcontrol電位と略等しい値となる。
なお、PMOSトランジスタ200の動作を簡単に説明する。該トランジスタのゲート幅(チャネル幅)をW、ゲート長(チャネル長)をL、ゲート・ソース間電圧をVgs、閾値電圧をVt、ドレーン電流をIdと表記すると、該トランジスタが飽和領域で動作しているときには、ドレーン電流Idは次式で示される、
Id=(β/2)・(W/L)・(Vgs−Vt)
ここでβは定数である。
上式で示されるように、ドレーン電流すなわちLED441の駆動電流は前記ゲート・ソース間電圧Vgsを調整することで変化させることができる。
[(12) Schematic operation of ADJ block, DRV block, and peripheral circuit]
Next, schematic operations of the ADJ block, the DRV block, and the peripheral circuit will be described.
In FIG. 17, as described above, the power supply of the NAND circuit 210 is VDD, and the ground of the NAND circuit 210 is connected to the output of the operational amplifier 251 and has a potential of Vcontro1. As a result, when the LED 401 is turned off, the output potential of the NAND circuit 210 is substantially equal to the power supply VDD potential, and when the LED 401 is turned on, the output potential of the NAND circuit 210 is substantially equal to the aforementioned Vcontrol potential.
The operation of the PMOS transistor 200 will be briefly described. When the gate width (channel width) of the transistor is W, the gate length (channel length) is L, the gate-source voltage is Vgs, the threshold voltage is Vt, and the drain current is Id, the transistor operates in the saturation region. The drain current Id is given by:
Id = (β / 2) · (W / L) · (Vgs−Vt) 2
Here, β is a constant.
As shown in the above equation, the drain current, that is, the drive current of the LED 441 can be changed by adjusting the gate-source voltage Vgs.

図17に示したように、演算増幅器251の出力端子電圧VcontrolはLED駆動時におけるPMOS200のゲート端子電位に略等しく、PMOS200のゲート・ソース間電圧Vgsは
Vgs=VDD−Vcontrol
となっている。
ところが、特許文献1に示した従来構成の演算増幅器(図19)においては、PMOSトランジスタ1320のゲート・ソース間電圧をレベルシフト電圧として用いており、該電圧値が比較的大きく、基板バイアス効果の影響を受ける構成においては、とりわけ大きな電圧値となってしまう。
そのためコンデンサ1311の第2端子の電位は、演算増幅器の出力端子電位よりも相当高い電位となって、PMOSトランジスタ1304のドレーン・ソース間電圧を減少させ、該素子の動作を飽和領域から線形領域に移行させてしまい、特に電源電圧の低下時においてその回路動作を困難にしていた。一方、図1、図4、図5、図7の構成においては、前述したレベルシフト電圧が過剰となることはなく、従来構成の場合に比べて低い電源電圧においても動作させることができるようになった。
As shown in FIG. 17, the output terminal voltage Vcontrol of the operational amplifier 251 is substantially equal to the gate terminal potential of the PMOS 200 during LED driving, and the gate-source voltage Vgs of the PMOS 200 is Vgs = VDD−Vcontrol.
It has become.
However, in the conventional operational amplifier shown in Patent Document 1 (FIG. 19), the gate-source voltage of the PMOS transistor 1320 is used as the level shift voltage, and the voltage value is relatively large, and the substrate bias effect is reduced. In the affected configuration, the voltage value is particularly large.
Therefore, the potential of the second terminal of the capacitor 1311 is considerably higher than the output terminal potential of the operational amplifier, the drain-source voltage of the PMOS transistor 1304 is decreased, and the operation of the element is changed from the saturation region to the linear region. The circuit operation is difficult, especially when the power supply voltage is lowered. On the other hand, in the configurations of FIG. 1, FIG. 4, FIG. 5, and FIG. 7, the level shift voltage described above does not become excessive, and can be operated even at a lower power supply voltage than in the conventional configuration. became.

[(13)LEDヘッドを用いた画像形成装置]
次に、LEDヘッドを用いた画像形成装置について説明する。前記した発光素子アレイは、電子写真プリンタの露光工程で光源として利用することができる。以下に、その一例としてタンデムカラープリンタを取り上げ、図18を用いて説明する。
図18は,本発明の駆動装置を搭載したLEDヘッドを用いた画像形成装置を説明する概略の構成を示した断面図である。
図18において、画像形成装置600は、ブラック(K)、イエロー(Y)、マゼンタ(M)およびシアン(C)の各色の画像を各々に形成する4つのプロセスユニット601〜604を有し、これらが記録媒体605の搬送経路の上流側から順に配置されている。これらプロセスユニット601〜604の内部構成は共通しているため、例えばマゼンタのプロセスユニット603を例に取り、これらの内部構成を説明する。
[(13) Image forming apparatus using LED head]
Next, an image forming apparatus using an LED head will be described. The light emitting element array described above can be used as a light source in an exposure process of an electrophotographic printer. Hereinafter, a tandem color printer will be taken up as an example and will be described with reference to FIG.
FIG. 18 is a cross-sectional view showing a schematic configuration for explaining an image forming apparatus using an LED head equipped with the driving device of the present invention.
In FIG. 18, an image forming apparatus 600 includes four process units 601 to 604 that respectively form black (K), yellow (Y), magenta (M), and cyan (C) images. Are arranged in order from the upstream side of the conveyance path of the recording medium 605. Since the internal configurations of these process units 601 to 604 are common, the internal configuration will be described using, for example, the magenta process unit 603 as an example.

プロセスユニット603には、像担持体としての感光体ドラム603aが矢印方向に回転可能に配置され、この感光体ドラム603aの周囲には、その回転方向の上流側から順に、感光体ドラム603aの表面に電荷を供給して帯電させる帯電装置603b、及び帯電された感光体ドラム603aの表面に選択的に光を照射して静電潜像を形成する露光装置603cが配設される。露光装置603cとしては、前述のLEDヘッド(19)が用いられる。
さらに、静電潜像が形成された感光体ドラム603aの表面に、マゼンタ(所定色)のトナーを付着させて顕像を発生させる現像装置603d、及び感光体ドラム603a上のトナーの顕像を転写した際に残留したトナーを除去するクリーニング装置603eが配設される。なお、これら各装置に用いられているドラム又はローラは、図示しない駆動源からギアなどを経由して動力が伝達され回転する。
In the process unit 603, a photosensitive drum 603a as an image carrier is rotatably arranged in the direction of the arrow. Around the photosensitive drum 603a, the surface of the photosensitive drum 603a is sequentially arranged from the upstream side in the rotation direction. A charging device 603b for supplying a charge to the surface of the photosensitive drum 603a and an exposure device 603c for selectively irradiating the surface of the charged photosensitive drum 603a to form an electrostatic latent image are disposed. As the exposure device 603c, the above-described LED head (19) is used.
Further, a developing device 603d for generating a visible image by attaching magenta (predetermined color) toner to the surface of the photosensitive drum 603a on which the electrostatic latent image is formed, and a visible image of the toner on the photosensitive drum 603a. A cleaning device 603e is provided to remove toner remaining after the transfer. The drums or rollers used in these devices rotate by receiving power from a drive source (not shown) via gears.

また、画像形成装置600は、その下部に、紙などの記録媒体605を堆積した状態で収納する用紙カセット606を装着し、その上方には記録媒体605を1枚ずつ分離させて搬送するためのホッピングローラ607が配設されている。さらに、記録媒体605の搬送方向における、ホッピングローラ607の下流側にはピンチローラ608、609と共に記録媒体605を挟持することによって、記録媒体を搬送する搬送ローラ610、及び、記録媒体605の斜行を修正し、プロセスユニット601に搬送するレジストローラ611を配設している。これらのホッピングローラ607、搬送ローラ610、及び、レジストローラ611は図示されない駆動源からギア等を経由して動力が伝達され回転する。
プロセスユニット601〜604の各感光体ドラムに対向する位置には、それぞれ半導電性のゴム等によって形成された転写ローラ612が配設されている。これら転写ローラ612には、感光ドラム603a上に付着されたトナーによる顕像を記録媒体605に転写する転写時に、感光体ドラム601a〜604aの表面電位と、これら各転写ローラ612の表面電位に電位差を持たせるための電圧が印加されている。
In addition, the image forming apparatus 600 has a paper cassette 606 for storing a recording medium 605 such as paper stacked in a lower portion thereof, and a recording medium 605 is separated and transported one by one above the paper cassette 606. A hopping roller 607 is provided. Further, by sandwiching the recording medium 605 together with the pinch rollers 608 and 609 on the downstream side of the hopping roller 607 in the conveying direction of the recording medium 605, the conveying roller 610 that conveys the recording medium, and the skew of the recording medium 605 And a registration roller 611 to be conveyed to the process unit 601 is disposed. The hopping roller 607, the conveying roller 610, and the registration roller 611 are rotated by being transmitted with power from a driving source (not shown) via a gear or the like.
Transfer rollers 612 made of semiconductive rubber or the like are disposed at positions facing the respective photosensitive drums of the process units 601 to 604. The transfer roller 612 has a potential difference between the surface potential of the photosensitive drums 601a to 604a and the surface potential of each of the transfer rollers 612 at the time of transferring the visible image by the toner attached on the photosensitive drum 603a to the recording medium 605. A voltage is applied to provide

定着装置613は、加熱ローラとバックアップローラとを有し、記録媒体605上に転写されたトナーを加圧・加熱することによって定着する。この下流の排出ローラ614、615は、定着装置613から排出された記録媒体605を、排出部のピンチローラ616、617と共に挟持し、記録媒体スタッカ部618に搬送する。これら定着装置613、排出ローラ614等は図示しない駆動源からギアなどを経由して動力が伝達され回転される。   The fixing device 613 includes a heating roller and a backup roller, and fixes the toner transferred on the recording medium 605 by pressurizing and heating. The downstream discharge rollers 614 and 615 sandwich the recording medium 605 discharged from the fixing device 613 together with the pinch rollers 616 and 617 of the discharge unit and convey the recording medium 605 to the recording medium stacker unit 618. The fixing device 613, the discharge roller 614, and the like are rotated by transmission of power from a drive source (not shown) via gears.

[(14)画像形成装置の動作]
次に前記構成の画像形成装置600の動作を説明する。
まず、用紙カセット606に堆積した状態で収納されている記録媒体605がホッピングローラ607によって、上から1枚ずつ分離されて搬送される。続いて、この記録媒体605は、搬送ローラ610、レジストローラ611及びピンチローラ608、609に挟持されて、プロセスユニット601の感光体ドラム601aと転写ローラ612の間に搬送される。その後、記録媒体605は、感光体ドラム601a及び転写ローラ612に挟持され、その記録面にトナー像が転写されると同時に感光体ドラム601aの回転によって搬送される。
同様にして、記録媒体605は、順次プロセスユニット602〜604を通過し、その通過過程で、各露光装置601c〜604cにより形成された静電潜像を、現像装置601d〜604dによって現像した各色のトナー像がその記録面に順次転写され、重ね合わせられる。そして、その記録面上に各色のトナー像が重ね合わせられた後、定着装置613によってトナー像が定着された記録媒体605は、排出ローラ614、615及びピンチローラ616、617に挟持されて、画像形成装置600の外部の記録媒体スタッカ部618に排出される。以上の過程を経て、カラー画像が記録媒体605上に形成される。
[(14) Operation of image forming apparatus]
Next, the operation of the image forming apparatus 600 having the above configuration will be described.
First, the recording medium 605 stored in a stacked state in the paper cassette 606 is separated and transported one by one from the top by the hopping roller 607. Subsequently, the recording medium 605 is sandwiched between the conveyance roller 610, the registration roller 611, and the pinch rollers 608 and 609 and is conveyed between the photosensitive drum 601 a of the process unit 601 and the transfer roller 612. Thereafter, the recording medium 605 is sandwiched between the photosensitive drum 601a and the transfer roller 612, and a toner image is transferred to the recording surface thereof and is simultaneously conveyed by the rotation of the photosensitive drum 601a.
Similarly, the recording medium 605 sequentially passes through the process units 602 to 604, and the electrostatic latent images formed by the exposure devices 601c to 604c in the passing process are developed for the respective colors developed by the developing devices 601d to 604d. The toner images are sequentially transferred onto the recording surface and superimposed. Then, after the toner images of the respective colors are superimposed on the recording surface, the recording medium 605 on which the toner image is fixed by the fixing device 613 is sandwiched between the discharge rollers 614 and 615 and the pinch rollers 616 and 617, and the image is transferred. The recording medium is ejected to a recording medium stacker unit 618 outside the forming apparatus 600. Through the above process, a color image is formed on the recording medium 605.

以上の様に、本実施の形態の画像形成装置によれば、前述したLEDヘッドを採用するためスペース効率及び光取り出し効率に優れた高品質の画像形成装置(プリンタ、コピー機など)を提供することができる。即ち、実施形態例のLEDヘッドを用いることにより、上記説明したフルカラーの画像形成装置に限らず、モノクロ、マルチカラーの画像形成装置においても効果が得られるが、特に露光装置を数多く必要とするフルカラーの画像形成装置において一層大きな効果が得られる。   As described above, according to the image forming apparatus of the present embodiment, since the above-described LED head is employed, a high-quality image forming apparatus (printer, copier, etc.) excellent in space efficiency and light extraction efficiency is provided. be able to. That is, by using the LED head of the embodiment, the effect can be obtained not only in the above-described full-color image forming apparatus but also in a monochrome or multi-color image forming apparatus. In the image forming apparatus, a greater effect can be obtained.

(その他の応用分野)
本発明は前記の実施形態に限定されるものではない。以下に例をあげる。
以上において、MOS容量はNMOSトランジスタを構成する構造で、MOS容量を説明したが、PMOSトランジスタを構成する構造でMOS容量を構成してもよい。また、同じ集積回路のなかでの複数個の演算増幅器において、NMOSトランジスタを構成する構造でのMOS容量も備えるものと、PMOSトランジスタを構成する構造でのMOS容量も備えるものとを混在させてもよい。このとき、設計の自由度があがるとともに、より安定した、目的にそった演算増幅器を多種、備えられる。
(Other application fields)
The present invention is not limited to the embodiment described above. Here are some examples:
In the above description, the MOS capacitor has been described as a structure that constitutes an NMOS transistor, and the MOS capacitor has been described. However, the MOS capacitor may be constituted as a structure that constitutes a PMOS transistor. In addition, in a plurality of operational amplifiers in the same integrated circuit, it is possible to mix the one having a MOS capacitor with a structure constituting an NMOS transistor and the one having a MOS capacitor having a structure constituting a PMOS transistor. Good. At this time, the degree of freedom in design is improved, and various operational amplifiers that are more stable and suitable for the purpose can be provided.

また、図7の第4の実施形態は図5の第3の実施形態において、カレントミラー用のバイアス電圧発生回路、差動回路、出力増幅回路のみをPMOSトランジスタとNMOSトランジスタを入れ替えて構成したものであるが、レベルシフト回路、MOS容量の関係においてもすべてP、Nの関係を逆に構成してもよい。   The fourth embodiment in FIG. 7 is the same as the third embodiment in FIG. 5 except that only the bias voltage generating circuit for the current mirror, the differential circuit, and the output amplifier circuit are replaced with the PMOS transistor and the NMOS transistor. However, the relationship between P and N may be reversed in the relationship between the level shift circuit and the MOS capacitance.

また、図1、図4、図5、図6、図7において、カレントミラー用のバイアス電圧発生回路としてPMOSトランジスタと抵抗の直列接続回路を用いているが、これは説明を簡略化するためのものであって、電源電圧変化や温度変化による影響を軽減できる構成を備えたものとすることもできる。   1, 4, 5, 6, and 7, a series connection circuit of a PMOS transistor and a resistor is used as a bias voltage generation circuit for a current mirror, but this is for simplifying the description. It is also possible to provide a configuration that can reduce the influence of changes in power supply voltage and temperature.

また、図1、図4、図5、図6、図7においてコンデンサはMOS容量であることで説明したが、MOS容量の構造をとらないコンデンサであっても、図1、図4、図5、図6、図7で示した演算増幅器はそのまま使用できる。   1, 4, 5, 6, and 7, it has been described that the capacitor is a MOS capacitor. However, even if the capacitor does not have the structure of the MOS capacitor, FIG. 1, FIG. 4, FIG. The operational amplifiers shown in FIGS. 6 and 7 can be used as they are.

また、図1、図4において、ダイオードは1個の場合を示したが、2個以上の複数個のダイオードを直列に使用してもよい。   1 and 4 show the case where there is one diode, two or more diodes may be used in series.

また、以上においてはLEDを光源として用いられる発光素子に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限らず他の被駆動素子、例えば有機EL素子や発熱抵抗体への電圧印加制御を行なう場合にも適用可能である。例えば有機EL素子のアレイで構成される有機ELヘッドを供えたプリンタや発熱抵抗体の列で構成されるサーマルプリンタにおいて利用することができる。   Further, the case where the LED is applied to a light emitting element used as a light source has been described above. However, the present invention is not limited to this, and voltage application control to other driven elements such as an organic EL element and a heating resistor is performed. It is also applicable to cases. For example, it can be used in a printer provided with an organic EL head composed of an array of organic EL elements or a thermal printer composed of a row of heating resistors.

さらに表示素子、例えば列状或いはマトリクス状に配列された表示素子の駆動にも適用可能である。   Furthermore, the present invention can also be applied to driving display elements, for example, display elements arranged in rows or matrices.

また、本発明は、2端子構造を備えたLED等の被駆動素子に限らず、3端子構造を備えた発光サイリスタのほか、第1と第2の2つのゲート端子を備えた4端子サイリスタSCS:(Silicon)Semiconductor Controlled Switchを駆動する場合にも適用可能である。   The present invention is not limited to a driven element such as an LED having a two-terminal structure, but is a light emitting thyristor having a three-terminal structure, and a four-terminal thyristor SCS having first and second gate terminals. : (Silicon) It is also applicable when driving a Semiconductor Controlled Switch.

またさらに、本発明は同一構成要素の連続的配置からなる被駆動素子列の駆動装置に限定されるものではなく、複数もしくは単数の駆動端子出力を備えた任意形状のICチップ(集積回路装置)に広く応用することが可能なことは勿論である。   Still further, the present invention is not limited to a driving device for driven element arrays having a continuous arrangement of the same components, but an IC chip (integrated circuit device) having an arbitrary shape having a plurality or a single driving terminal output. Of course, it can be widely applied to.

19 LEDヘッド
115 制御回路(CTRL)
116 メモリ回路(MEM)
117 LED駆動装置(DRV)
119 制御電圧発生回路(ADJ)
200、252、301〜309、407〜409、411、412、414、431、432、507〜509、521、522 PMOSトランジスタ
401〜406、413、433、434、501〜503、505、506、523、524 NMOSトランジスタ
310、410、442、510 抵抗素子(抵抗手段)
311、411、511 コンデンサ
312、412、441 ダイオード
251 演算増幅器
251a カレントミラー用のバイアス電圧発生回路
251b 差動回路
327 第1電源端子
328 第2電源端子
600 画像形成装置
IC1〜IC26 ドライバIC(駆動装置)
19 LED head 115 control circuit (CTRL)
116 Memory circuit (MEM)
117 LED drive unit (DRV)
119 Control voltage generation circuit (ADJ)
200, 252, 301-309, 407-409, 411, 412, 414, 431, 432, 507-509, 521, 522 PMOS transistors 401-406, 413, 433, 434, 501-503, 505, 506, 523 524 NMOS transistors 310, 410, 442, 510 Resistance element (resistance means)
311, 411, 511 Capacitors 312, 412, 441 Diode 251 Operational amplifier 251 a Bias voltage generation circuit 251 b for current mirror Differential circuit 327 First power supply terminal 328 Second power supply terminal 600 Image forming device IC1 to IC26 Driver IC (Drive device) )

Claims (10)

第1入力端子と第2入力端子を持つ差動回路と、直列に接続された導電型が異なる2つのトランジスタで構成され、前記差動回路の出力信号を増幅する出力増幅回路と、該出力増幅回路の出力信号を当該出力増幅回路の入力側に帰還して位相補償を行うコンデンサとを備えた演算増幅器であって、
前記出力増幅回路の出力信号の電位を変化させるレベルシフト回路をさらに備え、
前記レベルシフト回路は、一端が前記出力増幅回路の出力端子に接続されたダイオード素子と、前記ダイオード素子に電流を流すトランジスタとを有し、
前記コンデンサは、第1端子が前記出力増幅回路の入力端子に接続され、第2端子が前記ダイオード素子の他端に接続され、
前記レベルシフト回路は、前記ダイオード素子の順電圧を前記コンデンサに印加することを特徴とする演算増幅器。
A differential circuit having a first input terminal and a second input terminal; an output amplifier circuit configured to amplify an output signal of the differential circuit, the output amplifier circuit including two transistors of different conductivity types connected in series ; An operational amplifier including a capacitor for performing phase compensation by feeding back an output signal of the circuit to the input side of the output amplifier circuit;
A level shift circuit for changing the potential of the output signal of the output amplifier circuit;
The level shift circuit includes a diode element having one end connected to the output terminal of the output amplifier circuit, and a transistor that allows current to flow through the diode element.
The capacitor has a first terminal connected to the input terminal of the output amplifier circuit, a second terminal connected to the other end of the diode element,
Said level shift circuit, an operational amplifier, characterized by applying a forward voltage of the diode element to the capacitor.
前記レベルシフト回路が備えるトランジスタは、第1導電型のトランジスタであり、ソース電極は、第1電源端子に接続され、ドレーン電極は、前記ダイオード素子の一端に接続されたことを特徴とする請求項1に記載の演算増幅器。The transistor included in the level shift circuit is a first conductivity type transistor, a source electrode is connected to a first power supply terminal, and a drain electrode is connected to one end of the diode element. The operational amplifier according to 1. 前記レベルシフト回路が備えるトランジスタは、第2導電型のトランジスタであり、ソース電極は、グランドに接続され、ドレーン電極は、前記ダイオード素子の一端に接続されたことを特徴とする請求項1に記載の演算増幅器。The transistor included in the level shift circuit is a second conductivity type transistor, a source electrode is connected to a ground, and a drain electrode is connected to one end of the diode element. Operational amplifier. 第1入力端子と第2入力端子を持つ差動回路と、前記差動回路の出力信号を増幅する出力増幅回路と、該出力増幅回路の出力信号を当該出力増幅回路の入力側に帰還して位相補償を行うコンデンサとを備えた演算増幅器であって、
前記出力増幅回路の出力信号の電位を変化させるレベルシフト回路をさらに備え、
前記レベルシフト回路は、第1電源端子にソース電極を接続した第1導電型の第1トランジスタと、第2トランジスタと、グランドにソース電極を接続した第2導電型の第3トランジスタと、第4トランジスタとを備え、
前記第1トランジスタと前記第3トランジスタとのそれぞれのドレーン電極が互いに接続され、前記第2トランジスタと前記第4トランジスタとのそれぞれのドレーン電極が互いに接続され、
前記第3トランジスタのゲート電極は、当該第3トランジスタのドレーン電極と前記第4トランジスタのゲート電極に接続され、前記第2トランジスタのゲート電極とドレーン電極とは互いに接続され、前記第1トランジスタのゲート電極は前記出力増幅回路の出力端子に接続され、
前記コンデンサは、第1端子が前記出力増幅回路の入力端子に接続され、第2端子が前記レベルシフト回路の出力である前記第2トランジスタのドレーン電極に接続され、
前記レベルシフト回路は、カレントミラー回路の異なる電流密度で動作する前記第3トランジスタと前記第4トランジスタとのゲート・ソース間電圧の電位差を前記コンデンサに印加することを特徴とする演算増幅器。
A differential circuit having a first input terminal and a second input terminal; an output amplifier circuit for amplifying an output signal of the differential circuit; and an output signal of the output amplifier circuit is fed back to the input side of the output amplifier circuit. An operational amplifier comprising a capacitor for phase compensation,
A level shift circuit for changing the potential of the output signal of the output amplifier circuit;
The level shift circuit includes: a first conductivity type first transistor having a source electrode connected to a first power supply terminal; a second transistor; a second conductivity type third transistor having a source electrode connected to ground; With a transistor,
The drain electrodes of the first transistor and the third transistor are connected to each other, the drain electrodes of the second transistor and the fourth transistor are connected to each other,
The gate electrode of the third transistor is connected to the drain electrode of the third transistor and the gate electrode of the fourth transistor, the gate electrode and the drain electrode of the second transistor are connected to each other, and the gate of the first transistor The electrode is connected to the output terminal of the output amplifier circuit,
The capacitor has a first terminal connected to an input terminal of the output amplifier circuit, a second terminal connected to a drain electrode of the second transistor that is an output of the level shift circuit,
Said level shift circuit, an operational amplifier, characterized by applying a potential difference between the gate-source voltage of the third transistors operating at different current densities of mosquitoes rent mirror circuit and the fourth transistor to the capacitor.
前記第1トランジスタと前記第2トランジスタとの間において、トランジスタのゲート幅とゲート長との比が互いに異なることを特徴とする請求項に記載の演算増幅器。 Wherein between the first transistor and the second transistor, the operational amplifier according to claim 4, characterized in that the ratio of the gate width to the gate length of the transistor are different from each other. 前記コンデンサは、MOS構造からなることを特徴とする請求項1乃至請求項の何れか一項に記載の演算増幅器。 The capacitor, an operational amplifier according to any one of claims 1 to 5, characterized in that a MOS structure. 第1入力端子と第2入力端子を持つ差動回路と、前記差動回路の出力信号を増幅する出力増幅回路と、該出力増幅回路の出力信号を当該出力増幅回路の入力側に帰還して位相補償を行うコンデンサとを備えた演算増幅器であって、
前記出力増幅回路の出力信号の電位を変化させるレベルシフト回路をさらに備え、
前記コンデンサは、ゲート電極の仕事関数とゲート直下のウェルの仕事関数との差を電圧換算した値よりも、ダイオード素子のアノードのP 拡散の仕事関数とカソードのN 拡散との差を電圧換算したダイオード素子の順方向電圧が大きいMOS構造を有し、
前記レベルシフト回路は、前記ダイオード素子の順電圧を前記コンデンサに印加することを特徴とする演算増幅器。
A differential circuit having a first input terminal and a second input terminal; an output amplifier circuit for amplifying an output signal of the differential circuit; and an output signal of the output amplifier circuit is fed back to the input side of the output amplifier circuit. An operational amplifier comprising a capacitor for phase compensation,
A level shift circuit for changing the potential of the output signal of the output amplifier circuit;
The capacitor has a voltage difference between the work function of the P + diffusion of the anode of the diode element and the N + diffusion of the cathode, rather than a value obtained by converting the difference between the work function of the gate electrode and the work function of the well immediately below the gate. It has a MOS structure with a large forward voltage of the converted diode element,
Said level shift circuit, an operational amplifier, characterized by applying a forward voltage of the diode element to the capacitor.
発光ダイオードを駆動する駆動回路であって、
請求項1乃至請求項の何れか一項に記載の演算増幅器を備えたことを特徴とする駆動回路。
A drive circuit for driving a light emitting diode,
Driving circuit, characterized in that it comprises an operational amplifier according to any one of claims 1 to 7.
発光ダイオードを駆動する駆動装置であって、
請求項に記載の駆動回路を備えたことを特徴とする駆動装置。
A driving device for driving a light emitting diode,
A drive apparatus comprising the drive circuit according to claim 8 .
電子写真を印刷する装置であって、
請求項に記載の駆動装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。
An apparatus for printing electrophotography,
An image forming apparatus comprising the driving device according to claim 9 .
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JP2017108176A (en) * 2017-03-08 2017-06-15 キヤノン株式会社 Semiconductor device, solid state image sensor, and imaging system
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Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH05129844A (en) * 1991-11-01 1993-05-25 Citizen Watch Co Ltd Cmos operational amplifier
JP3145650B2 (en) * 1997-03-26 2001-03-12 セイコーインスツルメンツ株式会社 Operational amplifier phase compensation circuit and operational amplifier using the same
JP4273562B2 (en) * 1999-03-29 2009-06-03 ソニー株式会社 Amplifier circuit
JP2003063062A (en) * 2001-08-23 2003-03-05 Oki Data Corp Control voltage generating circuit, and printhead and printer using the same
JP2008252029A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
JP4847486B2 (en) * 2008-03-25 2011-12-28 株式会社沖データ Drive circuit, LED head, and image forming apparatus

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