JP5612609B2 - イオン注入での強化した低エネルギーイオンビームの伝送 - Google Patents
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Description
Claims (20)
- イオン注入システム内の低エネルギーのビームラインにて用いるプラズマ発生器であって、
放電フェーズの間、所定の時間自身の周りに電場を発生させるように構成されたプラズマエネルギー部と、
上記放電フェーズに所定の時間上記プラズマエネルギー部を活性化し、アフタグローフェーズに上記プラズマエネルギー部を抑制するように構成された制御器とを備えている、プラズマ発生器。 - カスプ場を発生させるカスプ場素子をさらに備え、
上記カスプ場素子は、上記プラズマエネルギー部のアフタグローフェーズを長くするように構成されている、請求項1に記載のプラズマ発生器。 - 上記プラズマエネルギー部は、所定の時間パルスエネルギー場を発生させてプラズマを発生させ、通過するイオンビームのビーム電流を高めるように構成されている、請求項1に記載のプラズマ発生器。
- 上記アフタグローフェーズは、プラズマ密度の関数である所定の時間を含む、請求項1に記載のプラズマ発生器。
- 活性化された上記プラズマエネルギー部は、プラズマを発生させる電場をパルス化することによってイオンビームのイオンの中和を促進し、
上記プラズマエネルギー部の活性喪失は、上記放電フェーズに課せられた電場を弱め、 発生した上記プラズマは、上記アフタグローフェーズに上記イオンビームを中和する、請求項1に記載のプラズマ発生器。 - イオンビームを発生させるように構成されたイオンビーム源と、
発生した上記イオンビームの質量を分析する質量分析器と、
上記イオンビーム発生器の下流に配置されており、通過する上記イオンビームにパルスプラズマ放電を発生させるように構成されたパルスプラズマ発生器と、
上記イオンビームによってイオンが注入される加工品を支持するように構成されたエンドステーションとを備えている、イオン注入システム。 - 上記パルスプラズマ発生器は、衝撃係数で周期的に上記パルスプラズマ放電のパルスを発生させるように構成されている、請求項6に記載のイオン注入システム。
- 上記パルスプラズマ発生器は、
ガス粒子を提供するガス源と、
上記パルスプラズマ放電に上記ガス粒子を励起するためにエネルギー場のパルスを発生させるように構成されたエネルギー部とを備えている、請求項6に記載のイオン注入システム。 - 上記エネルギー場は、無線周波帯およびマイクロ波帯のいずれかにおける静電場または電磁場である、請求項8に記載のイオン注入システム。
- 上記パルスプラズマ発生器は、アフタグローフェーズを引き延ばすために該パルスプラズマ発生器内にカスプ磁場を発生させるように構成された、少なくとも1つのカスプ磁場素子を備えている、請求項6に記載のイオン注入システム。
- 上記パルスプラズマ発生器は、ビーム電流の関数である衝撃係数に基づいてエネルギー場のパルスを発生させるように構成されている、請求項7に記載のイオン注入システム。
- 上記エネルギー場部は、電極を備え、
上記電極は、ガス粒子をイオン化し、上記パルスプラズマ放電を発生させるエネルギー場を発生させ、
上記パルスプラズマ放電は、低いイオンビームエネルギー閾値以下のイオンビームに作用する空間電荷の効力を減少させる中和プラズマを含んでいる、請求項7に記載のイオン注入システム。 - 上記パルスプラズマ発生器は、放電フェーズの間、ビームによって発生した電場を低減することによって上記イオンビームを中和するように構成されるとともに、上記パルスプラズマ放電を発生させることによって所定の期間エネルギー場を発生させるように構成されている、請求項6に記載のイオン注入システム。
- 上記パルスプラズマ発生器は、プラズマ密度が所定の極度に低い値に到達するまで、アフタグローフェーズに所定の期間エネルギー場の発生を妨げるように構成されている、請求項13に記載のイオン注入システム。
- 少なくとも1つのイオン注入特性を測定するように構成された測定部と、
上記測定部および上記パルスプラズマ発生器と機能的に接続された制御器とをさらに備え、
上記制御器は、ビーム電流を含む少なくとも1つのイオン注入特性の測定に応じて、上記パルスプラズマ発生器を調節する、請求項6に記載のイオン注入システム。 - イオン注入システムにおいて加工品にイオンを注入する方法であって、
上記イオン注入システムにおいてイオンビームを発生させる工程と、
放電フェーズの所定の時間に、上記イオンビームが通過する空間内において、プラズマ放電を繰り返しパルス化する工程と、
放電のプラズマ密度が極度に低い値に到達するまで、アフタグローフェーズに上記プラズマ放電の発生を繰り返し停止させる工程とを含む、方法。 - 上記イオンビームに対してプラズマ放電をパルス化する工程は、
上記イオンビームのパスにガスを導入する工程と、
上記イオンビームを中和するために、放電を創出する上記ガスをイオン化するエネルギー場を発生させる工程とを含む、請求項16に記載の方法。 - 上記エネルギー場は、電磁場であり、
上記エネルギー場を発生させる工程は、発生した上記イオンビームのビーム電流の関数である衝撃係数を含んでいる、請求項17に記載の方法。 - 上記アフタグローフェーズを引き延ばすために、上記パルスプラズマ発生器内のカスプ磁場を発生させる工程をさらに含み、
上記所定の時間は、パルス化された上記放電のプラズマ密度の関数である、請求項16に記載の方法。 - 少なくとも1つのイオン注入特性を測定する工程と、
少なくとも1つのイオン注入特性の測定に応じて、上記プラズマ放電のパルス化を調節する工程とをさらに含む、請求項16に記載の方法。
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