JP5608662B2 - 多細胞配列を安定、静的かつ再現可能な空間配置に拘束する方法及び装置 - Google Patents
多細胞配列を安定、静的かつ再現可能な空間配置に拘束する方法及び装置 Download PDFInfo
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Description
する。
平坦面を画定するプレート、及び
少なくとも二つの接着パターンのセット
を含み、少なくとも二つの接着パターンが、第一の接着パターン上の細胞が別の接着パターンに到達することを阻止するための本質的に非接着性の介在区域によって互いから十分に分けられており、少なくとも二つの接着パターン及び介在区域によって被覆される面積が、少なくとも2個の動物細胞を接着するのに十分であり、少なくとも二つの接着パターンのセットが非細胞親和性の周辺領域によって隔離されている装置の使用に関する。
平坦面を画定するプレート、及び
少なくとも二つの接着パターンのセット
を含み、少なくとも二つの接着パターンが、第一の接着パターン上の細胞が別の接着パターンに到達することを阻止するための本質的に非接着性の介在区域によって互いから十分に分けられており、少なくとも二つの接着パターン及び介在区域によって被覆される面積が、少なくとも2個の動物細胞を接着するのに十分であり、少なくとも二つの接着パターンのセットが非細胞親和性の周辺領域によって隔離されている装置に関する。
接着する細胞を選択すること、
本発明の適切な装置を選択すること、及び
選択された装置上で細胞を培養すること
を含む方法に関する。
本発明の装置を提供すること、及び
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも1個の細胞に暴露すること
を含む方法に関する。
本発明の装置を提供すること、及び
細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも2個の細胞に暴露すること
を含む方法に関する。
本発明の装置を提供すること、
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも1個の細胞に暴露すること、又は細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも2個の細胞に暴露すること、
接着パターンのセット上で細胞を多細胞配列に増殖させること、及び
多細胞配列中の細胞の細胞形状、細胞の動き及び移動、細胞・細胞相互作用、細胞構造、細胞分化、細胞極性、全体的内部細胞構成、細胞分裂及び/又は任意の機能を観察し、計測すること
を含む方法に関する。
本発明の装置を提供すること、
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも1個の細胞に暴露すること、又は細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも2個の細胞に暴露すること、
試験化合物を多細胞配列中の前記細胞と接触させること、
接着パターン上で細胞を多細胞配列に増殖させること、及び
多細胞配列中の前記細胞の形状、細胞の動き及び移動、細胞・細胞相互作用、細胞構造、全体的内部細胞構成、細胞分化、細胞極性、細胞分裂及び/又は任意の機能を観察すること
を含む方法に関する。
本発明の装置を提供すること、
試験化合物を細胞と接触させること、
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを前記細胞の少なくとも1個に暴露すること、又は細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを前記細胞の少なくとも2個に暴露すること、
接着パターン上で細胞を多細胞配列に増殖させること、及び
多細胞配列中の前記細胞の形状、細胞の動き及び移動、細胞・細胞相互作用、細胞構造、全体的内部細胞構成、細胞分化、細胞極性、細胞分裂及び/又は任意の機能を観察すること
を含む方法に関する。
定義
「凸状エンベロープ」とは、接着パターンを含む最小凸状多角形をいう。「凸状エンベロープによって画定される面積」とは、凸状エンベロープに含まれるゾーンによって被覆される面積をいう。「S」とは、拘束なしに支持体上で真核細胞(たとえばペトリ皿又はカバーガラス上の細胞)によって被覆される表面をいう。「D」とは、前記表面Sを有する円板の直径をいう。
少なくとも一つの接着パターンを有するマスタ鋳型を調製すること、
前記マスタ鋳型からスタンプを調製すること、
前記スタンプを、細胞付着を促進する分子でインク付けすること、
前記インク付けされたスタンプをプレートと接触させること、
プレートの非プリント面を細胞非親和化すること
を含む方法によって調製することができる。
接着する細胞を選択すること、
本発明の適切な装置を選択すること、及び
選択された装置上で細胞を培養すること
を含む方法に関する。
本発明の表面及び少なくとも二つの接着パターンを画定するプレート、好ましくは本発明の装置を提供すること、及び
接着パターンの前記セット上又は前記接着パターン上の培地中で細胞を培養すること
を含む方法に関する。
本発明の表面及び少なくとも二つの接着パターンを画定するプレート、好ましくは本発明の装置を提供すること、及び
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも1個の細胞に暴露すること
を含む方法に関する。
本発明の表面及び少なくとも二つの接着パターンを画定するプレート、好ましくは本発明の装置を提供すること、及び
細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも2個の細胞に暴露すること
を含む方法に関する。
本発明の表面及び少なくとも二つの接着パターンを画定するプレート、好ましくは本発明の装置を提供すること、
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも1個の細胞に暴露すること、又は細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも2個の細胞に暴露すること、
接着パターン上で細胞を増殖させること、及び
細胞の細胞形状、細胞の動き及び移動、細胞・細胞相互作用、細胞構造、細胞分化、細胞極性、全体的内部細胞構成、細胞分裂及び/又は任意の機能を観察すること
を含む方法に関する。
本発明の装置を提供すること、
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも1個の細胞に暴露すること、又は細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも2個の細胞に暴露すること、
試験化合物を前記細胞と接触させること、
接着パターン上で細胞を増殖させること、及び
細胞の細胞形状、細胞の動き及び移動、細胞・細胞相互作用、細胞構造、細胞分化、細胞極性、全体的内部細胞構成、細胞分裂及び/又は任意の機能を観察すること
を含む方法に関する。
本発明の装置を提供すること、
試験化合物を細胞と接触させること、
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態に達することを許すのに十分な期間、プレートを前記細胞の少なくとも1個に暴露すること、又は細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態に達することを許すのに十分な期間、プレートを前記細胞の少なくとも2個に暴露すること、
接着パターン上で細胞を増殖させること、及び
前記細胞の形状、細胞の動き及び移動、細胞・細胞相互作用、細胞構造、全体的内部細胞構成、細胞分化、細胞極性、細胞分裂及び/又は任意の機能を観察すること
を含む。
本発明に記載されるマイクロパターンを作製するためには、いくつかのパターニング法を使用することができる。二つの主要な方法、すなわちマイクロコンタクトプリンティング又はUVパターニングが適合される。マイクロコンタクトプリンティングは、スタンプを用いての接着分子の付着及び細胞非親和性成分による埋め戻し(backfilling)に依存する。UVパターニング法は、基質を細胞非親和性成分でコーティングしたのち、さらに、レーザ又は光学マスクを用いてUV光によって特定のパターンに酸化させることに依存する。ここでは、マイクロコンタクトプリンティング法を詳細に説明する。
使用される方法は、好みの基質の上にタンパク質をプリントするためのマイクロフィーチャを有するエラストマースタンプの使用に基づく。プロセス全体は、三つの主要部分に細分することができる。第一の部分は、スタンプを製造するために使用されるシリコンマスタの製作を記載する。第二の部分は、ポリジメチルシロキサン(PDMS)スタンプの製作及び使用を記載する。スタンプを細胞外マトリックスタンパク質でインク付けし、乾燥させる。その後、タンパク質を、組織培養ポリスチレン皿又はポリスチレン(PS)の薄い層で被覆されたガラススライド上にプリントする。非プリント区域はポリ−L−リシン−ポリエチレングリコール(PLL−PEG)で埋め戻される(back-filled)。
材料
試薬
アセトン
現像液LDD26W(Shipley, Coventry, UK)
クロロトリメチルシラン(Sigma-Aldrich, Saint Quentin Fallavier, France)
光学マスク(Deltamask, Netherlands)
フォトレジストSPR220-7.0(Shipley)
シリコンウェーハ100mm(MEMC Spa, Italia, ref GPHVXB6F)
フォトレジスト層コーティング
1.シリコンウェーハを、アセトン中10分間の音波処理によって清浄し、ろ過空気流又は窒素流で乾燥させた。
2.シリコンウェーハをスピンコータに配置した。表面の2/3をフォトレジストで被覆した。その後、フォトレジストを毎分2000回転で1分間スピンコートした。
3.ウェーハ及びフォトレジストを、ホットプレート上、115℃で3分間ベーキングした。室温に戻すため、ウェーハをベンチ上で15分間放置した。これらの三つの工程の結果、シリコンウェーハ上に厚さ9ミクロンのフォトレジスト層が得られた。
4.フォトレジスト層及び光学マスクをマスク露光装置(mask aligner)とで接触状態に配置し、UV灯(UV光源405nm、UV出力6mW/cm2)で45秒間照射した。
5.純粋な現像液中、フォトレジストを2分間現像し、蒸留水浴に移してすすぎ、露光を止めた。照射区域は現像液に溶解した(選択したフォトレジストがポジであったため。ネガのレジストであれば反対の結果が得られたであろう)。これがマイクロフィーチャ(micro-features)を創製した。その後、得られたレジストマスタ型をろ過空気流で乾燥させた。
6.スタンプ製作中のPDMSの強力な接着を防ぐため、レジストマスタをシラン化した。レジストマスタを、クロロトリメチルシラン数滴を含む小さなビーカの近くで真空乾燥機に入れた。クロロトリメチルシラン蒸気が形成しやすくなるよう、真空を30分間加えた。その後、乾燥機を閉じ、レジストマスタを蒸気の存在下に夜通し放置した。
7.レジストマスタを100℃のオーブンに30分間入れて、マスタ表面におけるシラン編成を完了させた。
マイクロパターニングのために二つの基質、すなわち、最高の光学的品質を保証するガラススライド及び組織培養処理されたポリスチレン(TCPS)皿を提供した。タンパク質接着はガラス上よりも酸化PS上のほうがはるかに良好であるため、ガラススライドを薄いPS層でコートした。
試薬
ポリジメチルシロキサン(PDMS)(Sylgard 184キット、1kg、Dow Corning)
フィブロネクチン(F1141、Sigma)
AP6000
ポリスチレン(Acros)
トルエン
ガラススライド
TCPS
自家製レジストマスタ(前記部分を参照)又はカスタム市販マスタ(Biotray, Lyon, France)
水
ファルコンチューブ
PLL−g−PEG(SurfaceSolutions, Switzerland)
パラフィルム
スタンプ製作
1.PDMS及び硬化剤(いずれもSylgard 184キットに含まれる)を、プラスチックビーカ中、10/1の比で混合した。これが気泡形成を誘発した。
2.PDMSミックスを真空下にガス抜きして気泡を除去した。期間は真空度によって異なった。
3.厚さ2mmのガス抜きしたPDMSミックス層をレジストマスタ上に流し込み、オーブン中60℃で2時間硬化させた。
4.PDMS層をやさしく剥離させた。
5.選択されたマイクロパターン形を含む対象領域は、簡単な顕微鏡の下、透過光を用いて視覚的に見つけることができる。外科用メス(scalpel)を用いて約1cm2のスタンプを手作業でくり抜いた。
ここで記載される基質は、ポリスチレン(PS)で被覆されなければならないガラススライドであった。TCPS皿はそのままの状態で使用することができる。
6.ガラススライドをエタノールで洗浄した。場合によっては、エタノール中で音波処理して除塵を最適化することもできる。ろ過空気流で乾燥させるか、フードの下で乾燥させた。
7.ガラススライドをスピンコータ上に配置した。接着促進剤AP6000数滴をガラスに付着させ、100rpmで10秒間スピンコートし(スライドを被覆するため)、次いで1000rpmで20秒間スピンコートした(薄層を形成するため)。スピンコートののち、AP6000層は乾燥していた。
8.PSのトルエン溶液(2%)数滴を、AP6000で被覆されたガラスに付着させ、100rpmで10秒間スピンコートし(スライドを被覆するため)、次いで1000rpmで20秒間スピンコートした(薄層を形成するため)。スピンコートののち、AP6000層は乾燥していた。
9.PBS中50μg/mLのフィブロネクチン1滴20μLを1cm2スタンプのマイクロ構造化面に付着させた。PDMSは、疎水性であるため、ピペットマンの先端を用いて滴をスタンプの各隅まで動かすことによって強制的に滴を延展させる必要があった。スタンプの表面には優しく触れた。インク付けを30分間実施して、フィブロネクチンをPDMSに吸着させた(この期間はおそらく短縮される)
10.この工程は、工程9におけるタンパク質吸着の間に実施することができる。PS層を有するガラススライドを基質として使用する場合、スライドをプラズマクリーナに入れる。ポンプを起動してチャンバ中に真空を発生させた。弱い酸素流を開放した。振動する電場を30Wで10秒間印加した。TCPS皿を基質として使用する場合、皿は、絶対的なプラズマ酸化を要さず、そのままの状態でプリントすることができるが、ガラススライドに関して記載したものと同じプラズマ処理がプリント及びパシベーション効率を大きく改善した。
11.工程9ののち、フィブロネクチンの滴を吸い取り、PBSの大きな滴を表面に加えたのち、乾燥させた。この工程を2回繰り返して未吸着フィブロネクチンを除去した。
12.PBSの滴を吸い取り、フードの気流の下、スタンプを数秒〜1分間乾燥させた。反射光で見て表面が乾燥状態に見えると、そのスタンプはプリント準備完了状態であった。
13.ひとたび乾燥すると、スタンプをピンセットでとり、ひっくり返して、マイクロ構造化面が基質(TCPS皿又はPS層を有するガラス)と接触するように配置した。ピンセットで手早く軽い圧を加えて、スタンプと基質との間の良好な接触を保証した。スタンプを基質と接触させて1分間放置した。
14.スタンプを取り出し、ファルコンチューブ中で水に浸漬した。
15.プリントした基質をPLL−PEG溶液、Hepes中0.1mg/mL、10mM、pH7.4に30分間浸漬した。PLL−PEGの量を最小限にするために、100μLの滴を基質上に配置し、パラフィルム片で被覆した。
16.PLL−Pegグラフト中、スタンプを清浄した。スタンプを入れたチューブを60℃に加熱し、超音波浴中で15分間音波処理した。その後、スタンプを純粋なアルコール中で15分間音波処理した。
17.清浄なスタンプをフード下で1時間乾燥させたのち、そのパッケージに戻した。
18.PLL−PEGグラフト基質をPBSで2分間及び10分間の2回洗浄した。
材料
試薬
PBS
トリプシンEDTA
DMEM又はDMEM−F12
SVF
ペニシリン
ストレプトマイシン
1.接着細胞をPBS中で洗浄し、トリプシンEDTAによってフラスコから剥離させた。
2.完全培地(DMEM又はDMEM−F12+10%SVF+1%ペニシリン及びストレプトマイシン)をフラスコに加え、捕集した細胞を1500rpmで3分間遠心分離処理した。
3.上澄みを除去し、細胞を培地中に50000個/mLで再懸濁した。
4.細胞溶液をマイクロパターニングされた基質(ガラススライド又はTCPS皿)に加えた。最終密度は1cm2あたり約10000個であるべきである。全体をインキュベータに入れた。
5.細胞株ごとに異なる所与の時間(HeLa−B及びMDCKの場合は1時間)ののち、細胞の十分に大きな割合がマイクロパターンに付着していることを顕微鏡下で確認した。
6.皿の片側から培地を流し、他方の側で吸引することによって非接着細胞を除去した。
7.付着した細胞をインキュベータに戻して完全に延展させた。
8.1時間後、細胞を固定又は録画することができる。
MCF10A細胞、乳房上皮細胞を、それらを培養したフラスコから剥離させ、マイクロパターンのアレイ上で平板培養した。様々な形のマイクロパターンを試験した。その上に付着した細胞を有するマイクロパターニングされた基質を、インキュベータに入れた倒立電動顕微鏡に配置して細胞を37℃に維持する。個々の細胞を選択し、それらの位置を記録した。5分ごとに位相差で画像を撮影することによって細胞挙動を録画した。細胞分裂後は、娘細胞の挙動を観察した。目的は、細胞が安定かつ再現可能な構成をとる形を特定し、下にあるマイクロパターンに対する細胞接触面の向きを計測することであった。
Claims (22)
- 少なくとも2個の相互作用する細胞を、機械的に安定かつ再現可能なコンホメーションを有する細胞配列に接着するための装置の使用であって、
平坦面を画定するプレート、及び
少なくとも二つの接着パターンのセット
を含み、少なくとも二つの接着パターンが、第一の接着パターン上の細胞が別の接着パターンに到達することを阻止するための非接着性の介在区域によって互いから十分に分けられており、少なくとも二つの接着パターン及び介在区域によって被覆される面積が、少なくとも2個の動物細胞を接着するのに十分であり、少なくとも二つの接着パターンのセットが非細胞親和性の周辺領域によって隔離されており、
二つの接着パターンの間の距離が2/3D〜4/3D(Dは、表面Sを有する円板の直径であり、Sは、拘束なしに支持体上で細胞によって被覆される表面である)であり、
介在区域が、二つの接着パターンの間に位置する幅1/4D未満の一つの接着ゾーンを含む装置の使用。 - 前記二つの接着パターンの間の距離が、3/4D〜5/4Dである、請求項1記載の使用。
- 各細胞のための接着パターンによって被覆される面積が細胞表面Sの80%未満である、請求項1又は2記載の使用。
- 前記一つの接着ゾーンが二つの接着パターンを接続する、請求項1〜3のいずれか1項記載の使用。
- 二つの接着パターンのセットが、以下の形態、すなわちC、X、H、Z及びΠの一つを有する、請求項1〜4のいずれか1項記載の使用。
- 接着パターンが、一つの接続された接着面及び/又はいくつかの不連続な接着面で形成されている、請求項1〜5のいずれか1項記載の使用。
- 装置が、少なくとも二つの接着パターンの少なくとも2セットを含む、請求項1〜6のいずれか1項記載の使用。
- 対象化合物をスクリーニングする、対象遺伝子を特定する、又は細胞機能不全を診断するための、請求項1〜7のいずれか1項記載の装置の使用。
- 少なくとも2個の相互作用する細胞を、機械的に安定かつ再現可能なコンホメーションを有する細胞配列に接着するための装置であって、
平坦面を画定するプレート、及び
少なくとも二つの接着パターンのセット
を含み、少なくとも二つの接着パターンが、第一の接着パターン上の細胞が別の接着パターンに到達することを阻止するための非接着性の介在区域によって互いから十分に分けられており、少なくとも二つの接着パターン及び介在区域によって被覆される面積が、少なくとも2個の動物細胞を接着するのに十分であり、少なくとも二つの接着パターンのセットが非細胞親和性の周辺領域によって隔離されており、
二つの接着パターンの間の距離が2/3D〜4/3D(Dは、表面Sを有する円板の直径であり、Sは、拘束なしに支持体上で細胞によって被覆される表面である)であり、
介在区域が、二つの接着パターンの間に位置する幅1/4D未満の一つの接着ゾーンを含む、装置。 - 前記二つの接着パターンの間の距離が、3/4D〜5/4Dである、請求項9記載の装置。
- 各細胞のための接着パターンによって被覆される面積が細胞表面Sの80%未満である、請求項9又は10記載の装置。
- 前記一つの接着ゾーンが二つの接着パターンを接続する、請求項9〜11のいずれか1項記載の装置。
- 二つの接着パターンのセットが、以下の形態、すなわちC、X、H、Z及びΠの一つを有する、請求項9〜12のいずれか1項記載の装置。
- 接着パターンが、一つの接続された接着面及び/又はいくつかの不連続な接着面で形成されている、請求項9〜13のいずれか1項記載の装置。
- 装置が、少なくとも二つの接着パターンの少なくとも2セットを含む、請求項9〜14のいずれか1項記載の装置。
- 少なくとも2個の相互作用する細胞を、機械的に安定かつ再現可能なコンホメーションを有する多細胞配列に接着する方法であって、
接着する細胞を選択すること、
請求項9〜15のいずれか1項記載の適切な装置を選択すること、及び
選択された装置上で細胞を培養すること
を含む方法。 - いかなる拘束もない支持体上で細胞によって被覆された表面を測定して、細胞のサイズを測定し、細胞のサイズに基づいて装置を選択することを含む、請求項16記載の方法。
- 少なくとも2個の細胞を、平面上、機械的平衡状態を有する多細胞配列に固定化する方法であって、
請求項9〜15のいずれか1項記載の装置を提供すること、及び
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも1個の細胞に暴露すること
を含む方法。 - 少なくとも2個の細胞を、平面上、機械的平衡状態を有する多細胞配列に固定化する方法であって、
請求項9〜15のいずれか1項記載の装置を提供すること、及び
細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも2個の細胞に暴露すること
を含む方法。 - 多細胞配列中の細胞の細胞形状、細胞の動き及び移動、細胞・細胞相互作用、細胞構造、細胞分化、細胞極性、全体的内部細胞構成、細胞分裂及び/又は任意の機能を研究する方法であって、
請求項9〜15のいずれか1項記載の装置を提供すること、
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも1個の細胞に暴露すること、又は細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも2個の細胞に暴露すること、
接着パターンのセット上で細胞を多細胞配列に増殖させること、及び
多細胞配列中の細胞の細胞形状、細胞の動き及び移動、細胞・細胞相互作用、細胞構造、細胞分化、細胞極性、全体的内部細胞構成、細胞分裂及び/又は任意の機能を観察し、計測すること
を含む方法。 - 生物学的に活性な化合物を選択する方法であって、
請求項9〜15のいずれか1項記載の装置を提供すること、
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも1個の細胞に暴露すること、又は細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを少なくとも2個の細胞に暴露すること、
試験化合物を多細胞配列中の前記細胞と接触させること、
接着パターン上で細胞を多細胞配列に増殖させること、及び
多細胞配列中の前記細胞の形状、細胞の動き及び移動、細胞・細胞相互作用、細胞構造、全体的内部細胞構成、細胞分化、細胞極性、細胞分裂及び/又は任意の機能を観察すること
を含む方法。 - 生物学的に活性な化合物を選択する方法であって、
請求項9〜15のいずれか1項記載の装置を提供すること、
試験化合物を細胞と接触させること、
細胞が、接着パターンの前記セット上で少なくとも2個の細胞に分裂し、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを前記細胞の少なくとも1個に暴露すること、又は細胞が、前記接着パターンそれぞれに接着し、機械的平衡状態を有する多細胞配列に達することを許すのに十分な期間、プレートを前記細胞の少なくとも2個に暴露すること、
接着パターン上で細胞を多細胞配列に増殖させること、及び
多細胞配列中の前記細胞の形状、細胞の動き及び移動、細胞・細胞相互作用、細胞構造、全体的内部細胞構成、細胞分化、細胞極性、細胞分裂及び/又は任意の機能を観察すること
を含む方法。
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