JP5602371B2 - Gas wiping device - Google Patents
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本発明は、亜鉛等の溶融金属めっきラインにおける溶融金属めっき設備に用いられるガスワイピング装置に関する。 The present invention relates to a gas wiping apparatus used in a molten metal plating facility in a molten metal plating line of zinc or the like.
この種溶融金属めっきラインにおいては、一般に、焼き鈍し等の前処理を連続的に施し高温に保持したストリップ(被めっき鋼板)を、溶融金属ポット(溶融めっき浴)中のシンクロールに通板して上方へ走行させ、その走行下でめっき付着量(溶融金属厚さ,膜厚)を制御した後、所定の冷却パターンで常温まで冷却する方法が行われている。 In this kind of molten metal plating line, generally, a strip (steel plate to be plated) continuously subjected to pretreatment such as annealing and kept at a high temperature is passed through a sink roll in a molten metal pot (hot plating bath). A method is used in which the plate is run upward, the plating adhesion amount (molten metal thickness, film thickness) is controlled under the run, and then cooled to room temperature with a predetermined cooling pattern.
そして、前記走行下では、ストリップの表面に付着した溶融亜鉛の余剰分が、例えば溶融めっき浴上方に対向設置した一対のワイピングノズル(ガスワイピング装置)から吹き付けられるガスによってワイピングされることによって、所要のめっき付着量に制御されるようになっている(特許文献1参照)。 Under the running, the excess of the molten zinc adhering to the surface of the strip is required, for example, by wiping with a gas blown from a pair of wiping nozzles (gas wiping devices) disposed oppositely above the hot dipping bath. It is designed to be controlled by the amount of plating deposited (see Patent Document 1).
例えば、従来のガスワイピング装置は、図10及び図11に示すように、ノズルヘッダー100の内部からガス供給流路101を通ってワイピングノズル102に供給されたガスは、当該ワイピングノズル102の上リップ103と下リップ104との対向面間で画成されるノズルスリット105より図示しないストリップの板幅方向に一様に吹き出すようになっている。
For example, in the conventional gas wiping apparatus, as shown in FIGS. 10 and 11, the gas supplied from the inside of the
ところが、上述したような従来のガスワイピング装置は、上リップ103と下リップ104とが複数本の鉛直方向固定ボルト106で両者間が一体化される(図11(a)参照)と共に、複数本の水平方向固定ボルト107で両者がノズルヘッダー100側に一体化される(図11(b)参照)構造となっていた。
However, in the conventional gas wiping apparatus as described above, the
そのため、ノズルスリット105のストリップ板幅方向のガス吹き出し幅は固定されることから、当該ガス吹き出し幅はストリップの最大板幅以上に設定されていた。これにより、ストリップの狭い板幅のワイピング時においては、板幅より外側のガスを無駄に消費していると共に、対向する吹出しガス同士が高速で衝突するため騒音や板振動とエッジオーバーコートを生起するという問題点があった。
Therefore, since the gas blowing width in the strip plate width direction of the
そこで、本発明の目的は、ワイピングノズルのリップを鋼板の板幅方向へ移動可能にするという簡単な構造で、ノズルスリットの鋼板板幅方向のガス吹き出し幅やガス吹き出し位置を可変にして、ガスの無駄な消費を無くすと共に騒音や板振動とエッジオーバーコートの発生を抑制できるガスワイピング装置を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is a simple structure in which the lip of the wiping nozzle can be moved in the plate width direction of the steel plate, the gas blowing width and the gas blowing position of the nozzle slit in the plate width direction of the nozzle slit are made variable, and the gas An object of the present invention is to provide a gas wiping apparatus that can eliminate unnecessary consumption and suppress generation of noise, plate vibration, and edge overcoat.
尚、特許文献2や特許文献3には、ワイピングノズルのノズルスリットを画成する一対のリップを相対的に鋼板の板幅方向へ移動可能に構成したものが開示されているが、これらは、一対のリップ形状の相対変位によりノズルスリットのギャップ(リップ間の間隔)を調整するもので、ノズルスリットの鋼板板幅方向のガス吹き出し幅やガス吹き出し位置を可変にするものではない。 In addition, Patent Document 2 and Patent Document 3 disclose a configuration in which a pair of lips defining a nozzle slit of a wiping nozzle are relatively movable in the plate width direction of a steel plate. The gap between the nozzle slits (interval between the lips) is adjusted by the relative displacement of the pair of lip shapes, and the gas blowing width and the gas blowing position of the nozzle slit in the steel plate width direction are not variable.
また、特許文献4には、ワイピングノズル内にガスの流れを遮断する遮断ベルトを配置すると共にノズルスリット内に遮断ベルトと一体動可能なサイドプレートを挿入し、遮断ベルトをガス流通室の端部から中央部に向けて進退動させることで、ノズルスリットの鋼板板幅方向のガス吹き出し幅やガス吹き出し位置を可変にするガスワイピング装置が開示されているが、この装置は遮断ベルトやサイドプレート等の部品点数が増大すると共に移動機構を含めて構造が煩雑化するのでコストアップを招来すると共に装置の信頼性に欠けるという欠点がある。 In Patent Document 4, a shut-off belt that shuts off the gas flow is disposed in the wiping nozzle, and a side plate that can move integrally with the shut-off belt is inserted into the nozzle slit, and the shut-off belt is connected to the end of the gas circulation chamber. A gas wiping device is disclosed in which the gas blowing width and gas blowing position in the steel plate width direction of the nozzle slit are made variable by moving the nozzle slit forward and backward from the center portion. As the number of parts increases, the structure including the moving mechanism becomes complicated, leading to an increase in cost and a lack of device reliability.
前記目的を達成するための本発明に係るガスワイピング装置は、
溶融めっき浴から出て上方に向けて走行する鋼板の表,裏面にワイピングノズルからガ
スを吹き付けてめっき付着量を制御するガスワイピング装置において、
前記ワイピングノズルは上リップと下リップとに分割形成され、これら両リップのガス
吹き出し幅方向の上下に違えた相反位置にガス供給流路を部分的に塞ぐ密封面を形成する
と共に、当該両リップを鋼板の板幅方向に移動可能に設け、
前記上リップと下リップとは、前記ガス供給流路を有したガス供給ベース上に鋼板の板幅方向に摺動可能に支持される一方リップ押えにより前記ガス供給ベース上の任意の位置に固定可能になっていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a gas wiping apparatus according to the present invention comprises:
In a gas wiping device that controls the amount of coating by spraying gas from the wiping nozzle to the front and back surfaces of the steel plate that runs upward from the hot dipping bath,
The wiping nozzle is divided into an upper lip and a lower lip, and forms a sealing surface that partially closes the gas supply flow path at opposite positions in the gas blowing width direction of both the lips. Is provided to be movable in the plate width direction of the steel plate ,
The upper lip and the lower lip are supported on the gas supply base having the gas supply flow path so as to be slidable in the plate width direction of the steel plate, and are fixed at arbitrary positions on the gas supply base by a lip presser. It is possible .
また、
前記上リップと下リップのノズルスリット形成用の対向面のそれぞれ常時鋼板の板端近傍に位置する部位に凹み部を形成し、ノズルスリットのギャップが鋼板の板中央部より板端近傍の方が大きくなるようにしたことを特徴とする。
Also,
Each of the opposed surfaces for forming the nozzle slit of the upper lip and the lower lip is formed with a recessed portion at a position that is always located near the plate end of the steel plate, and the gap of the nozzle slit is closer to the plate end than the plate central portion of the steel plate. It is characterized by being made larger.
また、
前記上リップと下リップを前記鋼板の板幅方向へ各々独立して移動させることができる移動機構と、
前記両リップを各々独立して移動させるための駆動手段と、
前記両リップに付設されて前記鋼板の板端部を検出する板端検出センサと、
前記両板端検出センサからの検出信号に基づいて前記両リップを前記鋼板の板端部の位置変化に対応させるべく前記両駆動手段を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする。
Also,
A moving mechanism capable of independently moving the upper lip and the lower lip in the plate width direction of the steel sheet;
Driving means for independently moving the lips;
A plate end detection sensor that is attached to both the lips and detects a plate end of the steel plate;
Control means for controlling the both drive means so as to correspond to the position change of the plate end portion of the steel plate based on the detection signals from the both plate end detection sensors;
It is provided with.
また、
前記上リップと下リップにバッフルプレートを設置したことを特徴とする。
Also,
Baffle plates are installed on the upper lip and the lower lip.
前記構成の本発明に係るガスワイピング装置によれば、ワイピングノズルを上リップと下リップとに分割形成し、これらの上,下リップを鋼板の板幅方向の異方向に移動させるという簡単な構造で、鋼板の板幅に対応してノズルスリットの鋼板板幅方向のガス吹き出し幅を変更することができると共に、上,下リップを鋼板の板幅方向の同方向に移動させることで前記鋼板の蛇行に対応してノズルスリットの鋼板板幅方向のガス吹き出し位置を変更することもできる。 According to the gas wiping device of the present invention having the above-described configuration, the wiping nozzle is divided into the upper lip and the lower lip, and the upper and lower lips are moved in different directions in the plate width direction of the steel plate. Thus, the gas blowing width in the steel plate width direction of the nozzle slit can be changed corresponding to the plate width of the steel plate, and the upper and lower lips are moved in the same direction in the plate width direction of the steel plate. The gas blowing position in the width direction of the steel plate of the nozzle slit can be changed corresponding to the meandering.
これらの結果、板幅より外側のガスを無駄に消費することや対向する吹出しガス同士が高速で衝突することによる騒音や板振動とエッジオーバーコートの発生を未然に回避することができる。 As a result, it is possible to avoid the generation of noise, plate vibration and edge overcoat due to wasteful consumption of gas outside the plate width and collision of opposed blown gases at high speed.
以下、本発明に係るガスワイピング装置を実施例により図面を用いて詳細に説明する。 Hereinafter, the gas wiping apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1は本発明の実施例1を示す亜鉛等の溶融金属めっきラインにおける溶融金属めっき設備に用いられるガスワイピング装置の概略構成側面図、図2はワイピングノズルの異なった作用状態を示す図3のF−F矢視断面相当図であり、同図(a)はストリップの狭幅時の作用状態図で同図(b)はストリップの広幅時の作用状態図、図3は図2(b)のA−A矢視断面図、図4は図2(b)のB−B矢視断面図、図5は図2(b)のC−C矢視断面図である。 1 is a side view of a schematic configuration of a gas wiping apparatus used in a molten metal plating facility in a molten metal plating line for zinc or the like showing Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing different operating states of a wiping nozzle in FIG. FIG. 4A is a cross-sectional view corresponding to the arrow FF, FIG. 3A is an operation state diagram when the strip is narrow, FIG. 3B is an operation state diagram when the strip is wide, and FIG. 3 is FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 2B, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 2B.
図1に示すように、溶融金属ポット(溶融めっき浴)10から出て上方に向けて走行するストリップ(被めっき鋼板)Sの表,裏面に対向して一対のガスワイピング装置11が設けられ、これらのガスワイピング装置11のワイピングノズル12からストリップSの表面にガスを吹き付けて(図1中矢印参照)めっき付着量(溶融金属厚さ,膜厚)を制御し得るようになっている。尚、図1中にはストリップSの表,裏面の一方側のガスワイピング装置11を示し、他方側のガスワイピング装置11はストリップSを中心に対称に配置される一方側のガスワイピング装置11と同じ構成のものであるので図示は省略する。
As shown in FIG. 1, a pair of
具体的には、前記ガスワイピング装置11において、ノズルヘッダー13の内部からマニホールド14のガス供給流路15を通ってワイピングノズル12に供給されたガスは、当該ワイピングノズル12の上リップ16と下リップ17との対向面16a,17a間で画成されるノズルスリット18よりストリップSの板幅方向に一様に吹き出すようになっている。
Specifically, in the
また、前記ワイピングノズル12は、マニホールド14の接合フランジ部19にT字状のスライドベース(ガス供給ベース)20が横向きにボルト結合され、そのガス供給流路21が接合フランジ部19のガス供給流路22を介して前記マニホールド14のガス供給流路15に連通している。尚、スライドベース20のガス供給流路21は集合流路部21aと多孔流路部21b(図2(a)及び図2(b)参照)とからなる。
In the wiping
そして、前記スライドベース20の水平な凸状部20aに、該凸状部20aを上下方向から挟むようにして上述した上リップ16と下リップ17が装着されている。
The above-described
具体的には、上リップ16と下リップ17の根元部が上,下摺動ライナ23A,23Bを介して前記凸状部20aの上,下面にそれぞれ凹凸状態で係合され、スライドベース20に嵌着された上,下静圧パッド(リップ押え)24A,24Bのエアー圧により上リップ16と下リップ17は凸状部20aの上,下面の任意の位置にそれぞれ押付け固定される一方、これらの上,下静圧パッド24A,24Bのエアー圧解放(又は減圧)下で上リップ16と下リップ17は凸状部20aの上,下面上をそれぞれ前記上,下摺動ライナ23A,23Bを介してストリップSの板幅方向にスライド可能になっている。
Specifically, the base portions of the
尚、上,下摺動ライナ23A,23Bにはオイルレスのものを用いるが、LMガイド化を図っても良い。また、上,下静圧パッド24A,24Bには、前記上リップ16と下リップ17の固定時に、当該上,下静圧パッド24A,24B及びスライドベース20の内部通路と図示しない外部配管を介してコンプレッサー等の加圧エアー供給源からのエアー圧が供給されるようになっているが、エアー圧に代えて他の流体圧が供給されても良いし、上,下静圧パッド24A,24Bに代えて機械的な固定手段を用いても良い。
The upper and lower sliding
図2乃至図5に示すように、上リップ16の背面には長手方向にラック(移動機構)25Aが付設され、このラック25Aに噛合するピニオン(移動機構)26Aがガスワイピング装置11の固定部材に適宜の手段で支持された上リップ移動用モータ(駆動手段)27Aの出力軸上に固設されると共に、下リップ17の背面には長手方向にラック(移動機構)25Bが付設され、このラック25Bに噛合するアイドルギア(移動機構)28に、ガスワイピング装置11の固定部材に適宜の手段で支持された下リップ移動用モータ(駆動手段)27Bの出力軸上に固設されたピニオン(移動機構)26Bが噛合している。尚、アイドルギア28はスライドベース20に植設された支持軸29上に回転自在に支持される。
As shown in FIGS. 2 to 5, a rack (moving mechanism) 25A is attached to the back surface of the
従って、上リップ16と下リップ17はそれぞれ独立して任意の方向にスライド可能となる。そして、このスライドに伴い、上リップ16と下リップ17には、スライドベース20におけるガス供給流路21の多孔流路部21bをノズルスリット18の長手方向(ストリップSの板幅方向)において部分的に塞ぐ密封面16A,17Aが、ガス吹き出し幅方向の上下に違えた相反位置にそれぞれ形成される(図4及び図5参照)。
Accordingly, the
また、上リップ16と下リップ17の前記密封面16A,17Aを有する部位においては、それぞれ対応する下リップ17と上リップ16との対向面同士が気密的に密着され、それぞれ側面シールSa,Sbを形成している(図4及び図5参照)。
Moreover, in the part which has the said sealing surfaces 16A and 17A of the
このように構成されるため、例えばストリップSが広幅→狭幅に変更になった場合は、図2(a)に示すように、上リップ16と下リップ17を互いに重なる方向(パスラインの中心に向けて)に相反的(図中矢印参照)にスライドさせることで、ノズルスリット18のストリップ板幅方向のガス吹き出し幅がストリップSの板幅に対応して狭くなる。つまり、スライドベース20における一部の多孔流路部21bからのガスがノズルスリット18から吹き出され、スライドベース20のその他の多孔流路部21bは上リップ16と下リップ17の上述した密封面16A,17Aで閉塞されるのである。
Because of this configuration, for example, when the strip S is changed from wide to narrow, as shown in FIG. 2A, the
逆に、ストリップSが狭幅→広幅に変更になった場合は、図2(b)に示すように、上リップ16と下リップ17を互いに離間する方向(パスラインの中心から離れる方向)に相反的(図中矢印参照)にスライドさせることで、ノズルスリット18のストリップ板幅方向のガス吹き出し幅がストリップSの板幅に対応して広くなる(図示例では最大幅になる)。つまり、スライドベース20における全ての多孔流路部21bからのガスがノズルスリット18から吹き出されるのである。
On the contrary, when the strip S is changed from narrow to wide, as shown in FIG. 2B, the
また、上リップ16と下リップ17をともに同一方向にスライドさせることで、ノズルスリット18のストリップ板幅方向のガス吹き出し幅を変えずに、ストリップ板幅方向のガス吹き出し位置を変更することができる。即ち、ストリップSが蛇行した場合、上リップ16と下リップ17はこれに追従してスライドでき、常に、ストリップSの板幅にノズルスリット18のストリップ板幅方向のガス吹き出し幅を、上述した適正な関係(ガス吹き出し幅と吹き出し位置において)を維持するように対応させられるのである。
Further, by sliding both the
これらの結果、本実施例によれば、ストリップSの板幅より外側のガスを無駄に消費することを未然に回避することができ、省エネルギーが図れる。即ち、板幅より外側のガスが減少することにより、ノズル内圧力の一定下ではそれだけガス供給量を減らすことができると共に、逆に、少ないガス供給量でノズル内圧力を高めることができるのである。加えて、ストリップSの板幅より外側で対向する吹出しガス量が減少するので、対向する吹出しガス同士が高速で衝突することによる騒音や板振動とエッジオーバーコートの発生を抑制することができる。 As a result, according to the present embodiment, wasteful consumption of gas outside the plate width of the strip S can be avoided in advance, and energy saving can be achieved. That is, by reducing the gas outside the plate width, it is possible to reduce the gas supply amount as long as the nozzle internal pressure is constant, and conversely, the nozzle internal pressure can be increased with a small gas supply amount. . In addition, since the amount of the blown-out gas facing outside the width of the strip S is reduced, it is possible to suppress the occurrence of noise, plate vibration, and edge overcoat due to collision of the opposed blown gases at high speed.
また、上リップ16と下リップ17にスライドベース20におけるガス供給流路21の多孔流路部21bをノズルスリット18の長手方向において部分的に塞ぐ密封面16A,17Aをそれぞれ形成して当該上リップ16と下リップ17をストリップSの板幅方向にスライドさせることで所期の目的を達成できるので、前述したラック&ピニオンの移動機構やモータの駆動手段等を含めて簡単な構造で済む。
Further, the
図6は本発明の実施例2を示すワイピングノズルの異なった作用状態を示す各々の正面図であり、同図(a)はストリップの狭幅時の作用状態図で同図(b)はストリップの広幅時の作用状態図である。 6A and 6B are front views showing different operating states of the wiping nozzle according to the second embodiment of the present invention. FIG. 6A is an operating state diagram when the strip is narrow, and FIG. 6B is a strip. It is an action state figure at the time of wide.
この実施例は、実施例1における上リップ16と下リップ17のノズルスリット18を形成する対向面16a,17aのそれぞれ常時ストリップSの板端近傍に位置する部位に凹み部16b,17bを形成し、ノズルスリット18のギャップがストリップSの板中央部より板端近傍の方が大きくなるようにした例で、その他の構成は実施例1と同様である。
In this embodiment, the
本実施例によれば、実施例1と同様の作用・効果に加えて、ストリップSの板中央部より板端近傍の方がガス供給量が増え、それだけストリップSの板幅より外側で対向する吹出しガス同士が高速で衝突することの影響が少なくて済み、ワイピング能力の向上でより一層騒音や板振動とエッジオーバーコートの発生を抑制することができる。 According to the present embodiment, in addition to the same operations and effects as in the first embodiment, the amount of gas supply is increased near the plate end of the strip S than in the center portion of the strip S, and the gas supply amount is opposed to the outside of the strip S. The influence of the collision of the blown gases at high speed is small, and the improvement of the wiping capability can further suppress the occurrence of noise, plate vibration and edge overcoat.
図7は本発明の実施例3を示すワイピングノズルの異なった作用状態を示す各々の正面図であり、同図(a)はストリップの狭幅時の作用状態図で同図(b)はストリップの広幅時の作用状態図である。 FIGS. 7A and 7B are front views showing different operating states of the wiping nozzle according to Embodiment 3 of the present invention. FIG. 7A is an operating state diagram when the strip is narrow, and FIG. FIG.
この実施例は、実施例1における上リップ16と下リップ17のそれぞれ常時ストリップSの板端近傍に位置する部位に板端検出センサ(フォトセンサや2Dレーザセンサ等)30A,30Bを取り付け、この板端検出センサ30A,30Bからの検出信号を入力するマイクロコンピュータ等からなるリップ移動制御用のコントローラ(制御手段)31により上,下リップ移動用モータ27A,27Bを駆動制御するようにした例で、その他の構成は実施例1と同様である。
In this embodiment, plate end detection sensors (photosensor, 2D laser sensor, etc.) 30A and 30B are attached to the portions of the
本実施例によれば、実施例1と同様の作用・効果に加えて、自動でかつ精度良く、ノズルスリット18のストリップ板幅方向のガス吹き出し幅やガス吹き出し位置を調整することができる。 According to the present embodiment, in addition to the same operations and effects as the first embodiment, the gas blowing width and the gas blowing position of the nozzle slit 18 in the strip plate width direction can be adjusted automatically and accurately.
図8は本発明の実施例4を示すワイピングノズルの異なった作用状態を示す各々の正面図であり、同図(a)はストリップの狭幅時の作用状態図で同図(b)はストリップの広幅時の作用状態図である。 FIGS. 8A and 8B are front views showing different operating states of the wiping nozzle according to the fourth embodiment of the present invention. FIG. 8A is an operating state diagram when the strip is narrow, and FIG. It is an action state figure at the time of wide.
この実施例は、実施例1における上リップ16と下リップ17のそれぞれ常時ストリップSの板端近傍に位置する部位に、ストリップSの板幅より外側で対向する吹出しガス同士の衝突を防止するためのバッフルプレート32A,32Bを取り付けた例で、その他の構成は実施例1と同様である。尚、各バッフルプレート32A,32Bは、各々のリップ16,17に対し板幅方向の移動は不能に固定されているが、板幅方向と直角方向に移動可能であると共にストリップSの板端部の板幅方向と直角方向の移動に追従して揺動可能に構成すると好適である。
In this embodiment, the
本実施例によれば、実施例1と同様の作用・効果に加えて、精度良くストリップSの板端とバッフルプレート32A,32Bの端を近接させることができ、バッフルプレート32A,32Bの作用をフルに発揮してより一層エッジオーバーコートの発生を抑制することができる。
According to the present embodiment, in addition to the same operations and effects as in the first embodiment, the plate end of the strip S and the ends of the
図9は本発明の実施例5を示す図2(b)のB−B矢視に相当するワイピングノズルの断面図である。 FIG. 9 is a cross-sectional view of a wiping nozzle corresponding to the arrow BB in FIG. 2 (b), showing Embodiment 5 of the present invention.
この実施例は、実施例1における上リップ16と下リップ17の密封面16A,17Aを、スライドベース20における多孔流路部21bの一部を閉塞する部位からノズルスリット18を形成する対向面16a,17a側に形成した例で、その他の構成は実施例1と同様である。
In this embodiment, the sealing
本実施例によっても、実施例1と同様の作用・効果が得られる。 Also according to the present embodiment, the same operations and effects as those of the first embodiment can be obtained.
尚、本発明は上記各実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、上,下リップやスライドベース及びその凸状部の形状変更等各種変更が可能であることは言うまでもない。また、上記各実施例では、上,下リップの両方を移動させてストリップ板幅方向のガス吹き出し幅とストリップ板幅方向のガス吹き出し位置を可変に構成したが、上,下リップの何れか一方を移動させてストリップ板幅方向のガス吹き出し幅を可変に構成することも可能であることは言うまでもない。 It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and it goes without saying that various modifications such as changes in the shapes of the upper and lower lips, the slide base, and the convex portions thereof are possible without departing from the scope of the present invention. . In each of the above embodiments, both the upper and lower lips are moved to change the gas blowing width in the strip plate width direction and the gas blowing position in the strip plate width direction. It goes without saying that the gas blowing width in the strip plate width direction can be made variable by moving the gas.
本発明に係るガスワイピング装置は、製鉄プロセスラインに適用することができる。 The gas wiping apparatus according to the present invention can be applied to an iron manufacturing process line.
10 溶融金属ポット(溶融めっき浴)
11 ガスワイピング装置
12 ワイピングノズル
13 ノズルヘッダー
14 マニホールド
15 ガス供給流路
16 上リップ
16A 密封面
16a 対向面
16b 凹み部
17 下リップ
17A 密封面
17a 対向面
17b 凹み部
18 ノズルスリット
19 接合フランジ部
20 スライドベース(ガス供給ベース)
20a 凸状部
21 ガス供給流路
21a 集合流路部
21b 多孔流路部
22 ガス供給流路
23A 上摺動ライナ
23B 下摺動ライナ
24A 上静圧パッド(リップ押え)
24B 下静圧パッド(リップ押え)
25A,25B ラック(移動機構)
26A,26B ピニオン(移動機構)
27A 上リップ移動用モータ(駆動手段)
27B 下リップ移動用モータ(駆動手段)
28 アイドルギア
29 支持軸
30A,30B 板端検出センサ
31 リップ移動制御用のコントローラ(制御手段)
32A,32B バッフルプレート
S ストリップ(被めっき鋼板)
Sa,Sb 側面シール
10 Molten metal pot (hot dip plating bath)
DESCRIPTION OF
24B Lower Static Pressure Pad (Lip Presser)
25A, 25B rack (moving mechanism)
26A, 26B pinion (moving mechanism)
27A Upper lip moving motor (driving means)
27B Lower lip movement motor (drive means)
28
32A, 32B Baffle plate S Strip (plate to be plated)
Sa, Sb Side seal
Claims (4)
前記ワイピングノズルは上リップと下リップとに分割形成され、これら両リップのガス吹き出し幅方向の上下に違えた相反位置にガス供給流路を部分的に塞ぐ密封面を形成すると共に、当該両リップを鋼板の板幅方向に移動可能に設け、
前記上リップと下リップとは、前記ガス供給流路を有したガス供給ベース上に鋼板の板幅方向に摺動可能に支持される一方リップ押えにより前記ガス供給ベース上の任意の位置に固定可能になっている
ことを特徴とするガスワイピング装置。 In a gas wiping device that controls the amount of coating by spraying gas from the wiping nozzle to the front and back surfaces of the steel plate that runs upward from the hot dipping bath,
The wiping nozzle is divided into an upper lip and a lower lip, and forms a sealing surface that partially closes the gas supply flow path at opposite positions in the gas blowing width direction of both the lips. Is provided to be movable in the plate width direction of the steel plate ,
The upper lip and the lower lip are supported on the gas supply base having the gas supply flow path so as to be slidable in the plate width direction of the steel plate, and are fixed at arbitrary positions on the gas supply base by a lip presser. A gas wiping device characterized in that it is possible .
ことを特徴とする請求項1に記載のガスワイピング装置。 Each of the opposed surfaces for forming the nozzle slit of the upper lip and the lower lip is formed with a recessed portion at a position that is always located near the plate end of the steel plate, and the gap of the nozzle slit is closer to the plate end than the plate central portion of the steel plate. The gas wiping device according to claim 1 , wherein the gas wiping device is made larger.
前記両リップを各々独立して移動させるための駆動手段と、
前記両リップに付設されて前記鋼板の板端部を検出する板端検出センサと、
前記両板端検出センサからの検出信号に基づいて前記両リップを前記鋼板の板端部の位置変化に対応させるべく前記両駆動手段を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載のガスワイピング装置。 A moving mechanism capable of independently moving the upper lip and the lower lip in the plate width direction of the steel sheet;
Driving means for independently moving the lips;
A plate end detection sensor that is attached to both the lips and detects a plate end of the steel plate;
Control means for controlling the both drive means so as to correspond to the position change of the plate end portion of the steel plate based on the detection signals from the both plate end detection sensors;
The gas wiping apparatus according to claim 1 or 2 , further comprising:
ことを特徴とする請求項1,2又は3に記載のガスワイピング装置。 The gas wiping apparatus according to claim 1, 2 or 3 , wherein baffle plates are installed on the upper lip and the lower lip.
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