JP5601768B2 - Near-infrared absorbing composition, near-infrared absorbing coating material, and production method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、近赤外線吸収組成物、近赤外線吸収塗布物およびそれらの製造方法に関し、詳しくは高い可視光透過率と耐光性及び耐湿熱性とを兼ね備えた近赤外線吸収組成物、近赤外線吸収塗布物およびそれらの製造方法に関する。
The present invention, near-infrared absorbing composition relates near infrared absorbing coating and methods for their preparation, and more particularly high visible light transmittance and light resistance and near-infrared-absorbing composition having both moisture and heat resistance, the near infrared absorbing coating material And a manufacturing method thereof .

近赤外吸収色素は、プラズマディスプレイパネル(PDP)やCCD用の赤外線カットフィルムや熱線遮蔽フィルムとしての光学フィルター用途や、追記型光ディスク(CD−R)やフラッシュ溶融定着材料としての光熱変換材料用途、セキュリティーインクや、不可視バーコードインクとしての情報表示材料として用いられており、特に近赤外色素に特長的な性能として、近赤外領域に強い吸収を有することに併せて、目に見えないという不可視性への高い要求がある。また、同時に色素全般に要求される性能として高い堅牢性が要求されている。   Near-infrared absorbing dyes are used as optical filters as plasma display panels (PDP) and infrared cut films for CCDs and heat ray shielding films, and as light-to-heat conversion materials as write-once optical discs (CD-R) and flash fusion fixing materials. It is used as an information display material as security ink and invisible barcode ink. It is invisible in addition to having strong absorption in the near-infrared region, especially as a characteristic feature of near-infrared pigments. There is a high demand for invisibility. At the same time, high fastness is required as a performance required for all dyes.

400nm〜700nmの波長領域に吸収をほとんど持たない不可視性に優れる色素としては、第一にシアニンメチン色素やそのJ会合体が挙げられるが、長いメチン共役鎖は、フレキシブルであるため異性化に伴う吸収形の変化や熱や酸素、求核剤との反応による分解が起こりやすく、堅牢性が低い。
剛直な骨格をもち高堅牢な近赤外吸収色素としては、日本触媒(株)から上市されているバナジルナフタロシアニン色素やBASF(株)から上市されているクオータリレン色素があるが、バナジルフタロシアニンは不可視性が不十分である。また、クオータリレンは溶液など分子分散状態では良好な不可視性を有するものの、濃度を上げると会合により可視域に吸収を生じ、不可視性が失われ、使用形態が限定される。
不可視性に優れ、赤外領域を広くカバーする色素としては、日本化薬(株)等から上市されているジインモニウム色素があるが、還元されやすく、堅牢性は不十分であり、使用形態が限定されてしまう。
このように、現在、不可視性と堅牢性を両立する近赤外色素は上市されておらず、これら性能を両立する近赤外吸収色素の開発が望まれている。
Examples of dyes with excellent invisibility that have almost no absorption in the wavelength region of 400 nm to 700 nm include cyanine methine dyes and J-aggregates thereof, but long methine conjugated chains are flexible and absorb due to isomerization. Degradation due to changes in shape, reaction with heat, oxygen, and nucleophiles is likely to occur, and the fastness is low.
Highly robust near-infrared absorbing dyes with a rigid skeleton include vanadyl naphthalocyanine dyes marketed by Nippon Shokubai Co., Ltd. and quartertalylene dyes marketed by BASF Corp., but vanadyl phthalocyanine is invisible. Insufficient sex. Further, although quarterrylene has good invisibility in a molecular dispersion state such as a solution, when the concentration is increased, absorption occurs in the visible region due to association, the invisibility is lost, and the use form is limited.
As a dye that has excellent invisibility and covers the infrared region widely, there are diimonium dyes marketed by Nippon Kayaku Co., Ltd., etc., but they are easy to be reduced, their fastness is insufficient, and their usage is limited. Will be.
As described above, no near-infrared dye that achieves both invisibility and fastness has been put on the market, and the development of a near-infrared absorbing dye that achieves both of these performances is desired.

一方、近赤外吸収色素の応用例として、特許文献1又は2には有機顔料を有機溶剤、バインダー樹脂とともに溶解または分散させて、フィルムに塗布することで、近赤外線吸収フィルター機能を有するフィルムを作製した例が知られている。
しかし、この使用態様は、有機溶剤を用いるために、環境への影響が大きいという欠点を有していた。また、製造設備も、防爆設備にする必要があり、高額な設備投資を必要とする方式である。
On the other hand, as an application example of near-infrared absorption dyes, Patent Document 1 or 2 discloses a film having a near-infrared absorption filter function by dissolving or dispersing an organic pigment together with an organic solvent and a binder resin and applying it to the film. Examples of fabrication are known.
However, this mode of use has the disadvantage that it has a large impact on the environment due to the use of an organic solvent. In addition, the manufacturing equipment needs to be explosion-proof equipment, which requires a large capital investment.

さらに、特許文献3又は4に例示されるような水溶性染料を水溶性バインダー、具体的にはゼラチンとともに水に溶解し、フィルムに塗布することで、近赤外線吸収フィルター機能を有するフィルムにしてPDPに利用することが提案されている。
しかし、大量の有機溶剤を用いることなくフィルムに塗布可能な水溶性染料に関しては、耐久性、特に高温高湿度下で、近赤外線吸収能が低下する問題などがあり、改善が求められていた。
特開平11−231126号公報 特開2002−138203号公報 特開平11−109126号公報 特開2001-228324号公報
Further, a water-soluble dye as exemplified in Patent Document 3 or 4 is dissolved in water together with a water-soluble binder, specifically gelatin, and applied to the film to form a film having a near-infrared absorption filter function. It has been proposed to use it.
However, regarding water-soluble dyes that can be applied to a film without using a large amount of organic solvent, there has been a problem that durability, in particular, near-infrared absorptivity decreases under high temperature and high humidity.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-231126 JP 2002-138203 A JP-A-11-109126 JP 2001-228324 A

本発明の目的は、高い不可視性と近赤外線吸収能を有しながら、環境への悪影響が少なく、十分な耐光性と耐湿熱性とを具備する近赤外線吸収組成物、該近赤外線吸収組成物を含有する塗布物、該近赤外線吸収組成物の製造方法および該近赤外線吸収塗布物の製造方法を提供することにある。
An object of the present invention, while having a high invisibility and near infrared absorptivity, less negative environmental effects, the near-infrared-absorbing composition and a sufficient light resistance and moist heat resistance, the near infrared ray absorbing composition It is in providing the coating material to contain , the manufacturing method of this near-infrared absorption composition, and the manufacturing method of this near-infrared absorption coating material .

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、疎水性ポリマーからなるマトリックス(好ましくは、有機樹脂の水性分散物)中に近赤外線吸収化合物を存在させることで、該近赤外線吸収化合物の分解を抑制して耐久性を改善できることを見出した。また、近赤外線吸収化合物を分散微粒子化して用いることで、堅牢性を改善することができることを見出した。さらに、該近赤外線吸収組成物を含む塗布膜を作製する際に加熱乾燥を行うことで、塗布膜の堅牢性を改善することができることを見出した。これら知見に基づいて本発明を完成するに至った。
本発明の課題は、下記の手段により解決された。
<1>下記一般式(1’)で表される近赤外線吸収化合物と疎水性ポリマーとを少なくとも含有する近赤外線吸収組成物。
As a result of intensive studies, the present inventors have made the near-infrared absorbing compound decomposed by allowing the near-infrared absorbing compound to exist in a matrix made of a hydrophobic polymer (preferably an aqueous dispersion of an organic resin). It was found that the durability can be improved by suppressing. Further, it has been found that fastness can be improved by using a near-infrared absorbing compound in the form of dispersed fine particles. Furthermore, it discovered that the fastness of a coating film could be improved by performing heat drying when producing the coating film containing this near-infrared absorption composition. The present invention has been completed based on these findings.
The problems of the present invention have been solved by the following means.
<1> A near-infrared absorbing composition containing at least a near-infrared absorbing compound represented by the following general formula (1 ′) and a hydrophobic polymer.

Figure 0005601768
Figure 0005601768

(式中、R1a及びR1bは同じであっても異なっても良く、各々独立にアルキル基、下記置換基群から選択される置換基を有してもよいアリール基またはヘテロアリール基を表す。R2及びR3は各々独立に水素原子、シアノ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルボキシル基またはヘテロ環基を表し、少なくとも一方はHammettのσp値が0.2以上の電子吸引性基であり、R2及びR3は結合して環を形成しても良い。R4は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素または金属原子を表し、R1a、R1b及び/又はR3と共有結合もしくは配位結合しても良い。)
〔置換基群〕
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、分岐アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基
(Wherein R 1a and R 1b may be the same or different and each independently represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group which may have a substituent selected from the following substituent group) R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom , cyano group, acyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, carboxyl group or heterocyclic group , One is an electron-withdrawing group having a Hammett's σp value of 0.2 or more , and R 2 and R 3 may combine to form a ring, where R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl. Represents a group, a substituted boron or a metal atom, and may be covalently or coordinately bonded to R 1a , R 1b and / or R 3. )
(Substituent group)
Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, branched alkoxy group, aryloxy group, aromatic heterocyclic oxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, Sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, ureido group, hydroxy group, mercapto group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group , Heterocyclic group

<2>前記近赤外線吸収化合物が、水性分散微粒子状態で存在することを特徴とする<1>項に記載の近赤外線吸収組成物。
<3>下記一般式(1)で表される近赤外線吸収化合物と疎水性ポリマーとを少なくとも含有する近赤外線吸収組成物であって、
該近赤外線吸収化合物が、水性分散微粒子状態で存在し、
該微粒子の体積平均粒子径が10nm以上250nm以下であることを特徴とする近赤外線吸収組成物。

Figure 0005601768
(式中、R 1a 及びR 1b は同じであっても異なっても良く、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。R 2 及びR 3 は各々独立に水素原子、シアノ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルボキシル基またはヘテロ環基を表し、少なくとも一方はHammettのσp値が0.2以上の電子吸引性基であり、R 2 及びR 3 は結合して環を形成しても良い。R 4 は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素または金属原子を表し、R 1a 、R 1b 及び/又はR 3 と共有結合もしくは配位結合しても良い。)
<4>前記R 1a 及びR 1b におけるアリール基が、下記置換基群から選択される置換基を有してもよいアリール基であることを特徴とする<3>項に記載の近赤外線吸収組成物。
〔置換基群〕
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、分岐アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基
<5>前記R が置換ホウ素であることを特徴とする<1>〜<4>のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物。
<6>前記近赤外線吸収化合物が、分散剤で分散され、水性分散微粒子状態で存在することを特徴とする<1>〜<5>のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物。
>前記疎水性ポリマーが、有機樹脂の水性分散物を形成してなることを特徴とする<1>のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物。
<2> The near-infrared absorbing composition according to <1>, wherein the near-infrared absorbing compound is present in an aqueous dispersed fine particle state.
<3> A near-infrared absorbing composition containing at least a near-infrared absorbing compound represented by the following general formula (1) and a hydrophobic polymer,
The near-infrared absorbing compound is present in the form of an aqueous dispersion fine particle;
A near-infrared absorbing composition, wherein the fine particles have a volume average particle diameter of 10 nm to 250 nm.
Figure 0005601768
(In the formula, R 1a and R 1b may be the same or different and each independently represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group. R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, Represents an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a carboxyl group, or a heterocyclic group, at least one of which is an electron-withdrawing group having a Hammett σp value of 0.2 or more R 2 and R 3 may combine to form a ring, and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a substituted boron or a metal atom, and R 1a , R 1b and And / or R 3 may be covalently bonded or coordinated.)
<4> The near-infrared absorbing composition according to <3 >, wherein the aryl group in R 1a and R 1b is an aryl group which may have a substituent selected from the following substituent group: object.
(Substituent group)
Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, branched alkoxy group, aryloxy group, aromatic heterocyclic oxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, Sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, ureido group, hydroxy group, mercapto group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group , Heterocyclic group
<5> The near-infrared absorbing composition according to any one of <1> to <4>, wherein R 4 is substituted boron.
<6> The near-infrared absorbing composition according to any one of <1> to <5>, wherein the near-infrared absorbing compound is dispersed in a dispersant and is present in an aqueous dispersed fine particle state.
< 7 > The near-infrared absorbing composition according to any one of <1> to < 6 > , wherein the hydrophobic polymer forms an aqueous dispersion of an organic resin.

>前記疎水性ポリマーが、アクリル樹脂またはウレタン樹脂を含有することを特徴とする<1>〜<>のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物。
>支持体上に、<1>〜<>のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物を用いて形成された近赤外線吸収層を有することを特徴とする近赤外線吸収塗布物。
10>可視光線の吸収率が30%以下であることを特徴とする<9>項に記載の近赤外線吸収塗布物。
11近赤外線吸収化合物と疎水性ポリマーとを少なくとも含有する近赤外線吸収組成物の製造方法であって、
該近赤外線吸収化合物が下記一般式(1)で表される化合物であり、
少なくとも下記工程[1]および[2]を含む近赤外線吸収組成物の製造方法。

Figure 0005601768
(式中、R 1a 及びR 1b は同じであっても異なっても良く、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。R 2 及びR 3 は各々独立に水素原子、シアノ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルボキシル基またはヘテロ環基を表し、少なくとも一方はHammettのσp値が0.2以上の電子吸引性基であり、R 2 及びR 3 は結合して環を形成しても良い。R 4 は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素、金属原子を表し、R 1a 、R 1b 及び/又はR 3 と共有結合もしくは配位結合しても良い。)
[製造工程]
[1]上記近赤外線吸収化合物を水中で分散して水性分散液を得る工程
[2]前記工程で得た近赤外線吸収化合物微粒子の水性分散液に疎水性ポリマーの水性分散物を添加する工程
<12>前記R 1a 及びR 1b におけるアリール基が、下記置換基群から選択される置換基を有してもよいアリール基であることを特徴とする<11>項に記載の近赤外線吸収組成物の製造方法。
〔置換基群〕
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、分岐アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基
<13>前記R が置換ホウ素であることを特徴とする<11>または<12>項に記載の近赤外線吸収組成物の製造方法。
<14>前記近赤外線吸収化合物を、分散剤で分散し、前記近赤外線吸収組成物中に水性分散微粒子状態で存在することを特徴とする<11>〜<13>のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物の製造方法。
<15>前記微粒子の体積平均粒子径が10nm以上250nm以下であることを特徴とする<11>〜<14>のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物の製造方法。
<16>前記疎水性ポリマーが、アクリル樹脂またはウレタン樹脂を含有することを特徴とする<11>〜<15>のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物の製造方法。
<17>支持体上に、<11>〜<16>のいずれか1項に記載の製造方法により得た近赤外線吸収組成物を用いて近赤外線吸収層を形成する工程を有し、該工程において、加熱乾燥を行うことを特徴とする近赤外線吸収塗布物の製造方法。
<18>前記赤外線吸収塗布物の可視光線の吸収率が30%以下であることを特徴とする<17>項に記載の近赤外線吸収塗布物の製造方法。
< 8 > The near-infrared absorbing composition according to any one of <1> to < 7 >, wherein the hydrophobic polymer contains an acrylic resin or a urethane resin.
< 9 > A near-infrared absorbing coated material comprising a near-infrared absorbing layer formed using the near-infrared absorbing composition according to any one of <1> to < 8 > on a support. .
< 10 > The near-infrared absorbing coated article according to < 9 >, wherein the visible light absorption is 30% or less.
< 11 > A method for producing a near-infrared absorbing composition comprising at least a near-infrared absorbing compound and a hydrophobic polymer,
The near-infrared absorbing compound is a compound represented by the following general formula (1),
A method for producing a near-infrared absorbing composition comprising at least the following steps [1] and [2].
Figure 0005601768
(In the formula, R 1a and R 1b may be the same or different and each independently represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group. R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, Represents an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a carboxyl group, or a heterocyclic group, at least one of which is an electron-withdrawing group having a Hammett σp value of 0.2 or more R 2 and R 3 may combine to form a ring, and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a substituted boron, a metal atom, R 1a , R 1b and And / or R 3 may be covalently bonded or coordinated.)
[Manufacturing process]
[1] A step of obtaining an aqueous dispersion by dispersing the near-infrared absorbing compound in water.
[2] A step of adding an aqueous dispersion of a hydrophobic polymer to an aqueous dispersion of near-infrared absorbing compound fine particles obtained in the above step
<12> The near-infrared absorbing composition according to <11 >, wherein the aryl group in R 1a and R 1b is an aryl group which may have a substituent selected from the following substituent group: Manufacturing method.
(Substituent group)
Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, branched alkoxy group, aryloxy group, aromatic heterocyclic oxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, Sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, ureido group, hydroxy group, mercapto group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group , Heterocyclic group
<13> The method for producing a near-infrared absorbing composition according to <11> or <12 >, wherein R 4 is substituted boron.
<14> The <11> to <13>, wherein the near-infrared absorbing compound is dispersed with a dispersant and is present in an aqueous dispersed fine particle state in the near-infrared absorbing composition. Of manufacturing a near infrared ray absorbing composition.
<15> The method for producing a near-infrared absorbing composition according to any one of <11> to <14>, wherein the fine particles have a volume average particle diameter of 10 nm to 250 nm.
<16> The method for producing a near-infrared absorbing composition according to any one of <11> to <15>, wherein the hydrophobic polymer contains an acrylic resin or a urethane resin.
<17> A step of forming a near-infrared absorbing layer using the near-infrared absorbing composition obtained by the production method according to any one of <11> to <16> on a support, The method for producing a near-infrared-absorbing coated article, wherein the drying is performed by heating.
<18> The method for producing a near-infrared-absorbing coating according to <17>, wherein the infrared-absorbing coating has a visible light absorptivity of 30% or less.

本発明の近赤外線吸収組成物は、高い不可視性と近赤外線吸収能を有しながら、環境への悪影響が少なく、十分な耐光性と耐湿熱性を具備し、該近赤外線吸収組成物を含む塗布物を提供することができる。
また、本発明の近赤外線吸収組成物は、前記近赤外線吸収化合物と前記疎水性ポリマーとの水性分散物を用いることにより、塗設には、有機溶剤系塗布用設備等の煩雑な設備を要しない。加えて、有機溶剤の使用を著しく低減、ないしは、全く使用することなく製造可能であり、有機溶剤系塗布に比べて環境負荷の低減が可能である。
また、本発明の近赤外線吸収塗布物は、高温高湿下で保存後の近赤外線吸収能の低下や光による近赤外線吸収能の低下を抑制することができる。
さらにまた、本発明の近赤外線吸収塗布物は、耐久性にも優れた光学フィルターを低コストで提供することができる。
The near-infrared absorbing composition of the present invention has high invisibility and near-infrared absorbing ability, has little adverse effect on the environment, has sufficient light resistance and moist heat resistance, and includes the near-infrared absorbing composition. Things can be provided.
Further, the near-infrared absorbing composition of the present invention uses an aqueous dispersion of the near-infrared absorbing compound and the hydrophobic polymer, so that complicated equipment such as an organic solvent-based coating equipment is required for coating. do not do. In addition, the use of an organic solvent can be remarkably reduced, or it can be produced without using it at all, and the environmental load can be reduced as compared with organic solvent-based coating.
Moreover, the near-infrared absorption coating material of this invention can suppress the fall of the near-infrared absorptivity after a preservation | save under high temperature and high humidity, and the fall of the near-infrared absorptivity by light.
Furthermore, the near-infrared absorbing coated product of the present invention can provide an optical filter excellent in durability at a low cost.

本発明の近赤外線吸収組成物は、前記一般式(1)で表される近赤外線吸収化合物と疎水性ポリマーとを少なくとも含有することを特徴とする。また適宜その他の材料を含んでもよい。前記疎水性ポリマーからなるマトリックス中に前記近赤外線吸収化合物を存在させることで、該近赤外線吸収化合物の分解を抑制して高堅牢な近赤外線吸収組成物を構成することができる。   The near-infrared absorbing composition of the present invention is characterized by containing at least a near-infrared absorbing compound represented by the general formula (1) and a hydrophobic polymer. Further, other materials may be included as appropriate. By allowing the near-infrared absorbing compound to be present in the matrix made of the hydrophobic polymer, it is possible to constitute a highly robust near-infrared absorbing composition by suppressing decomposition of the near-infrared absorbing compound.

(i)近赤外線吸収化合物
以下、一般式(1)で表される近赤外線吸収化合物について説明する。
(I) Near-infrared absorbing compound Hereinafter, the near-infrared absorbing compound represented by the general formula (1) will be described.

Figure 0005601768
Figure 0005601768

(式中、R1a及びR1bは同じであっても異なっても良く、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。R2及びR3は各々独立に水素原子または置換基を表し、少なくとも一方は電子吸引性基であり、R2及びR3は結合して環を形成しても良い。R4は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素、金属原子を表し、R1a、R1b及び/又はR3と共有結合もしくは配位結合しても良い。) (In the formula, R 1a and R 1b may be the same or different and each independently represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group. R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. And at least one is an electron-withdrawing group, and R 2 and R 3 may combine to form a ring, and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a substituted boron, or a metal atom. And R 1a , R 1b and / or R 3 may be covalently bonded or coordinated.)

一般式(1)中、R1a、R1bで表されるアルキル基としては、好ましくは炭素数1〜30(本発明では、「A〜B」は、「A以上B以下」の意味で用いる。)、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。
また、R1a、R1bで表されるアリール基としては、好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、例えばフェニル、o−メチルフェニル、p−メチルフェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラニル、フェナントリルなどが挙げられる。
1a、R1bで表されるヘテロアリール基としては、好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12のヘテロアリール基であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子である。具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、ナフトチアゾリル、ベンズオキサゾリル、m−カルバゾリル、アゼピニルなどが挙げられる。
一般式(1)中のR1a及びR1bは、互いに同一でも異なってもよい。
In general formula (1), the alkyl group represented by R 1a and R 1b is preferably 1 to 30 carbon atoms (in the present invention, “A to B” is used to mean “A or more and B or less”. ), More preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl. , Cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like.
Moreover, as an aryl group represented by R < 1a> , R <1b >, Preferably it is C6-C30, More preferably, it is C6-C20, Most preferably, it is a C6-C12 aryl group, for example, phenyl, o-methylphenyl, p-methylphenyl, biphenyl, naphthyl, anthranyl, phenanthryl and the like can be mentioned.
The heteroaryl group represented by R 1a and R 1b is preferably a heteroaryl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, It is a sulfur atom. Specific examples include imidazolyl, pyridyl, quinolyl, furyl, thienyl, benzoxazolyl, benzimidazolyl, benzthiazolyl, naphthothiazolyl, benzoxazolyl, m-carbazolyl, azepinyl and the like.
R 1a and R 1b in the general formula (1) may be the same as or different from each other.

2及びR3は各々独立に水素原子または置換基を表し、少なくとも一方は電子吸引性基であり、R2及びR3は結合して環を形成しても良い。置換基としては例えば、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラニル、フェナントリルなどが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜10であり、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2−エチルヘキシロキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、芳香族ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられる。)、 R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, at least one of which is an electron-withdrawing group, and R 2 and R 3 may combine to form a ring. Examples of the substituent include an alkyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms such as methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably carbon number). 2-10, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), alkynyl group (preferably having 2-30 carbon atoms, more preferably 2-20 carbon atoms, particularly preferably carbon number). 2-10, for example, propargyl, 3-pentynyl, etc.), aryl group (preferably having 6 carbon atoms) 30, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl, p-methylphenyl, biphenyl, naphthyl, anthranyl, phenanthryl, etc.), amino group (preferably carbon Number 0 to 30, more preferably 0 to 20 carbon atoms, particularly preferably 0 to 10 carbon atoms, including alkylamino group, arylamino group and heterocyclic amino group, such as amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino , Dibenzylamino, diphenylamino, ditolylamino, etc.), an alkoxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms such as methoxy, Ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyloxy, etc.), ants Ruoxy group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyloxy, 1-naphthyloxy, 2-naphthyloxy, etc.) An aromatic heterocyclic oxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include pyridyloxy, pyrazyloxy, pyrimidyloxy, quinolyloxy and the like. ),

アシル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、 An acyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), an alkoxycarbonyl group ( Preferably it has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, and examples thereof include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl and the like, and an aryloxycarbonyl group (preferably having a carbon number). 7 to 30, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl, and acyloxy groups (preferably 2 to 30 carbon atoms, more preferably carbon atoms). 2 to 20, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, for example, acetoxy, benzoyloxy An acylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include acetylamino and benzoylamino). An alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms such as methoxycarbonylamino), aryloxycarbonylamino group (Preferably 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino), sulfonylamino group (preferably 1 carbon atom) To 30, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, Methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.), sulfamoyl groups (preferably having 0 to 30 carbon atoms, more preferably 0 to 20 carbon atoms, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, such as sulfamoyl, methyl And carbamoyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms). For example, carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), alkylthio group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, Methylthio, ethylthio, etc.), ants Ruthio group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenylthio and the like. ),

芳香族ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルチオ、2−ベンズイミゾリルチオ、2−ベンズオキサゾリルチオ、2−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、カルバゾリル基、アゼピニル基などが挙げられる。)、シリル基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。)などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されていてもよい。 Aromatic heterocyclic thio group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as pyridylthio, 2-benzimidazolylthio, 2-benzoxazolyl And sulfonyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl and tosyl). ), Sulfinyl groups (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfinyl, benzenesulfinyl, etc.) A ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, Ureido, methylureido, phenylureido, etc.), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example diethyl phosphorus Acid amide, phenylphosphoric acid amide, etc.), hydroxy group, mercapto group, halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxam An acid group, a sulfino group, a hydrazino group, an imino group, a heterocyclic group (preferably having a carbon number of 1 to 30, more preferably a carbon number of 1 to 12, and examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, Specifically, for example, imidazolyl, pyridyl, quinolyl, furyl, thienyl, piperidyl, morpholino, ben Oxazolyl, benzimidazolyl, benzthiazolyl, carbazolyl group, azepinyl group, etc.), silyl group (preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, Examples thereof include trimethylsilyl and triphenylsilyl). These substituents may be further substituted.

2又はR3で表される電子吸引性基としては、好ましくはHammettのσp値(シグマパラ値)が0.2以上の電子吸引性基を表し、例えばシアノ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、スルフィニル基、ヘテロ環基などが挙げられる。これら電子吸引性基はさらに置換されていても良い。 The electron-withdrawing group represented by R 2 or R 3 preferably represents an electron-withdrawing group having a Hammett σp value (sigma para value) of 0.2 or more. For example, a cyano group, an acyl group, an alkyloxycarbonyl group Aryloxycarbonyl group, sulfamoyl group, sulfinyl group, heterocyclic group and the like. These electron withdrawing groups may be further substituted.

ハメットの置換基定数σ値について説明する。ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために1935年L.P.Hammettにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則に求められた置換基定数にはσp値とσm値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。例えば、J.A.Dean編、「Lange’s Handbook of Chemistry」第12版,1979年(Mc Graw−Hill)や「化学の領域」増刊,122号,96〜103頁,1979年(南光堂)、Chem.Rev.,1991年,91巻,165〜195ページなどに詳しい。本発明におけるハメットの置換基定数σp値が0.2以上の置換基とは電子求引性基であることを示している。σp値として好ましくは0.25以上であり、より好ましくは0.3以上であり、特に好ましくは0.35以上である。   Hammett's substituent constant σ value will be described. Hammett's rule is a method described in 1935 by L. E. in order to quantitatively discuss the effect of substituents on the reaction or equilibrium of benzene derivatives. P. A rule of thumb proposed by Hammett, which is widely accepted today. Substituent constants determined by Hammett's rule include σp value and σm value, and these values can be found in many general books. For example, J. et al. A. Dean, “Lange's Handbook of Chemistry”, 12th edition, 1979 (Mc Graw-Hill) and “Areas of Chemistry”, No. 122, 96-103, 1979 (Nankodo), Chem. Rev. 1991, 91, 165-195. The substituent having Hammett's substituent constant σp value of 0.2 or more in the present invention is an electron-attracting group. The σp value is preferably 0.25 or more, more preferably 0.3 or more, and particularly preferably 0.35 or more.

具体例としては、シアノ基(0.66)、カルボキシル基(-COOH:0.45)、アルコキシカルボニル基(-COOMe:0.45)、アリールオキシカルボニル基(-COOPh:0.44)、カルバモイル基(-CONH2:0.36)、アルキルカルボニル基(-COMe:0.50)、アリールカルボニル基(-COPh:0.43)、アルキルスルホニル基(-SO2Me:0.72)、またはアリールスルホニル基(-SO2Ph:0.68)などが挙げられる。本明細書において、Meはメチル基を、Phはフェニル基を表す。なお、括弧内の値は代表的な置換基のσp値をChem.Rev.,1991年,91巻,165〜195ページから抜粋したものである。 Specific examples include a cyano group (0.66), a carboxyl group (—COOH: 0.45), an alkoxycarbonyl group (—COOMe: 0.45), an aryloxycarbonyl group (—COOPh: 0.44), and a carbamoyl group (—CONH 2 : 0.36). , An alkylcarbonyl group (—COMe: 0.50), an arylcarbonyl group (—COPh: 0.43), an alkylsulfonyl group (—SO 2 Me: 0.72), an arylsulfonyl group (—SO 2 Ph: 0.68), and the like. In the present specification, Me represents a methyl group, and Ph represents a phenyl group. The values in parentheses are the σp values of typical substituents in Chem. Rev. 1991, Vol. 91, pp. 165-195.

さらに、R2及びR3が結合して環を形成する場合は、5ないし7員環(好ましくは5ないし6員環)の環を形成し、形成される環としては通常メロシアニン色素で酸性核として用いられるものが好ましく、その具体例としては例えば以下のものが挙げられる。
(a)1,3−ジカルボニル核:例えば1,3−インダンジオン核、1,3−シクロヘキサンジオン、5,5−ジメチル−1,3−シクロヘキサンジオン、1,3−ジオキサン−4,6−ジオンなど。
(b)ピラゾリノン核:例えば1−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、3−メチル−1−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−(2−ベンゾチアゾイル)−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オンなど。
(c)イソオキサゾリノン核:例えば3−フェニル−2−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−イソオキサゾリン−5−オンなど。
(d)オキシインドール核:例えば1−アルキル−2,3−ジヒドロ−2−オキシインドールなど。
(e)2,4,6−トリケトヘキサヒドロピリミジン核:例えばバルビツル酸または2−チオバルビツル酸およびその誘導体など。誘導体としては例えば1−メチル、1−エチル等の1−アルキル体、1,3−ジメチル、1,3−ジエチル、1,3−ジブチル等の1,3−ジアルキル体、1,3−ジフェニル、1,3−ジ(p−クロロフェニル)、1,3−ジ(p−エトキシカルボニルフェニル)等の1,3−ジアリール体、1−エチル−3−フェニル等の1−アルキル−1−アリール体、1,3−ジ(2−ピリジル)等の1,3位ジヘテロ環置換体等が挙げられる。
(f)2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核:例えばローダニンおよびその誘導体など。誘導体としては例えば3−メチルローダニン、3−エチルローダニン、3−アリルローダニン等の3−アルキルローダニン、3−フェニルローダニン等の3−アリールローダニン、3−(2−ピリジル)ローダニン等の3位ヘテロ環置換ローダニン等が挙げられる。
(g)2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン(2−チオ−2,4−(3H,5H)−オキサゾールジオン核:例えば3−エチル−2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオンなど。
(h)チアナフテノン核:例えば3(2H)−チアナフテノン−1,1−ジオキサイドなど。
(i)2−チオ−2,5−チオゾリジンジオン核:例えば3−エチル−2−チオ−2,5−チアゾリジンジオンなど。
(j)2,4−チオゾリジンジオン核:例えば2,4−チアゾリジンジオン、3−エチル−2,4−チアゾリジンジオン、3−フェニル−2,4−チアゾリジンジオンなど。
(k)チアゾリン−4−オン核:例えば4−チアゾリノン、2−エチル−4−チアゾリノンなど。
(l)4−チアゾリジノン核:例えば2−エチルメルカプト−5−チアゾリン−4−オン、2−アルキルフェニルアミノ−5−チアゾリン−4−オンなど。
(m)2,4−イミダゾリジンジオン(ヒダントイン)核:例えば2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−2,4−イミダゾリジンジオンなど。
(n)2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン(2−チオヒダントイン)核:例えば2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオンなど。
(o)イミダゾリン−5−オン核:例えば2−プロピルメルカプト−2−イミダゾリン−5−オンなど。
(p)3,5−ピラゾリジンジオン核:例えば1,2−ジフェニル−3,5−ピラゾリジンジオン、1,2−ジメチル−3,5−ピラゾリジンジオンなど。
(q)ベンゾチオフェン−3−オン核:例えばベンゾチオフェン−3−オン、オキソベンゾチオフェンー3−オン、ジオキソベンゾチオフェンー3−オンなど。
(r)インダノン核:例えば1−インダノン、3−フェニル−1−インダノン、3−メチル−1−インダノン、3,3−ジフェニル−1−インダノン、3,3−ジメチル−1−インダノンなど。
Further, when R 2 and R 3 are combined to form a ring, a 5- to 7-membered ring (preferably a 5- to 6-membered ring) is formed, and the formed ring is usually a merocyanine dye and an acidic nucleus. Are preferably used, and specific examples thereof include the following.
(A) 1,3-dicarbonyl nucleus: For example, 1,3-indandione nucleus, 1,3-cyclohexanedione, 5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione, 1,3-dioxane-4,6- Zeon etc.
(B) pyrazolinone nucleus: for example 1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 3-methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1- (2-benzothiazoyl) -3-methyl-2 -Pyrazolin-5-one and the like.
(C) Isoxazolinone nucleus: For example, 3-phenyl-2-isoxazolin-5-one, 3-methyl-2-isoxazolin-5-one and the like.
(D) Oxindole nucleus: For example, 1-alkyl-2,3-dihydro-2-oxindole and the like.
(E) 2,4,6-triketohexahydropyrimidine nucleus: for example, barbituric acid or 2-thiobarbituric acid and its derivatives. Examples of the derivatives include 1-alkyl compounds such as 1-methyl and 1-ethyl, 1,3-dialkyl compounds such as 1,3-dimethyl, 1,3-diethyl and 1,3-dibutyl, 1,3-diphenyl, 1,3-diaryl compounds such as 1,3-di (p-chlorophenyl) and 1,3-di (p-ethoxycarbonylphenyl), 1-alkyl-1-aryl compounds such as 1-ethyl-3-phenyl, Examples include 1,3-di (2-pyridyl) 1,3-diheterocyclic substituents and the like.
(F) 2-thio-2,4-thiazolidinedione nucleus: for example, rhodanine and its derivatives. Examples of the derivatives include 3-alkylrhodanine such as 3-methylrhodanine, 3-ethylrhodanine and 3-allylrhodanine, 3-arylrhodanine such as 3-phenylrhodanine, and 3- (2-pyridyl) rhodanine. And the like.
(G) 2-thio-2,4-oxazolidinedione (2-thio-2,4- (3H, 5H) -oxazoledione nucleus: for example, 3-ethyl-2-thio-2,4-oxazolidinedione and the like.
(H) Tianaphthenone nucleus: For example, 3 (2H) -thianaphthenone-1,1-dioxide and the like.
(I) 2-thio-2,5-thiozolidinedione nucleus: For example, 3-ethyl-2-thio-2,5-thiazolidinedione and the like.
(J) 2,4-thiozolidinedione nucleus: For example, 2,4-thiazolidinedione, 3-ethyl-2,4-thiazolidinedione, 3-phenyl-2,4-thiazolidinedione and the like.
(K) Thiazolin-4-one nucleus: For example, 4-thiazolinone, 2-ethyl-4-thiazolinone and the like.
(L) 4-thiazolidinone nucleus: for example, 2-ethylmercapto-5-thiazoline-4-one, 2-alkylphenylamino-5-thiazoline-4-one, and the like.
(M) 2,4-imidazolidinedione (hydantoin) nucleus: for example, 2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2,4-imidazolidinedione, etc.
(N) 2-thio-2,4-imidazolidinedione (2-thiohydantoin) nucleus: for example, 2-thio-2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2-thio-2,4-imidazolidinedione Such.
(O) Imidazolin-5-one nucleus: For example, 2-propylmercapto-2-imidazolin-5-one and the like.
(P) 3,5-pyrazolidinedione nucleus: for example, 1,2-diphenyl-3,5-pyrazolidinedione, 1,2-dimethyl-3,5-pyrazolidinedione, and the like.
(Q) Benzothiophen-3-one nucleus: for example, benzothiophen-3-one, oxobenzothiophen-3-one, dioxobenzothiophen-3-one and the like.
(R) Indanone nucleus: For example, 1-indanone, 3-phenyl-1-indanone, 3-methyl-1-indanone, 3,3-diphenyl-1-indanone, 3,3-dimethyl-1-indanone, and the like.

なお、環を形成する場合のR2及びR3のσp値を規定することができないが、本発明においてはR2及びR3にそれぞれ環の部分構造が置換しているとみなして、環形成の場合のσp値を定義することとする。例えば1,3−インダンジオン環を形成している場合、R2及びR3にそれぞれベンゾイル基が置換したものとして考える。 Note that the σp values of R 2 and R 3 in the case of forming a ring cannot be defined, but in the present invention, it is considered that R 2 and R 3 are each substituted with a partial structure of the ring. In this case, the σp value is defined. For example, when a 1,3-indandione ring is formed, it is considered that R 2 and R 3 are each substituted with a benzoyl group.

2及びR3が結合して形成される環としては、好ましくは1,3−ジカルボニル核、ピラゾリノン核、2,4,6−トリケトヘキサヒドロピリミジン核(チオケトン体も含む)、2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核、2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン核、2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン核、2,4−チアゾリジンジオン核、2,4−イミダゾリジンジオン核、2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン核、2−イミダゾリン−5−オン核、3,5−ピラゾリジンジオン核、ベンゾチオフェン−3−オン核、またはインダノン核であり、更に好ましくは1,3−ジカルボニル核、2,4,6−トリケトヘキサヒドロピリミジン核(チオケトン体も含む)、3,5−ピラゾリジンジオン核、ベンゾチオフェン−3−オン核、またはインダノン核である。 The ring formed by combining R 2 and R 3 is preferably a 1,3-dicarbonyl nucleus, a pyrazolinone nucleus, a 2,4,6-triketohexahydropyrimidine nucleus (including a thioketone body), 2- Thio-2,4-thiazolidinedione nucleus, 2-thio-2,4-oxazolidinedione nucleus, 2-thio-2,5-thiazolidinedione nucleus, 2,4-thiazolidinedione nucleus, 2,4-imidazolidinedione nucleus 2-thio-2,4-imidazolidinedione nucleus, 2-imidazolin-5-one nucleus, 3,5-pyrazolidinedione nucleus, benzothiophen-3-one nucleus, or indanone nucleus, more preferably 1,3-dicarbonyl nucleus, 2,4,6-triketohexahydropyrimidine nucleus (including thioketone body), 3,5-pyrazolidinedione nucleus, benzothiophen-3-one nucleus Or the Indanone nucleus.

3はヘテロ環であることが特に好ましい。
一般式(1)中の2つのR2は、互いに同一でも異なってもよく、また、2つのR3は、互いに同一でも異なってもよい。
R 3 is particularly preferably a heterocycle.
Two R 2 in the general formula (1) may be the same or different from each other, and two R 3 may be the same or different from each other.

4で表されるアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基は、R1a、R1bで説明した置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。R4で表される置換ホウ素の置換基は、R2及びR3について上述した置換基と同義であり、好ましくはアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基である。また、R4で表される金属原子は、好ましくは遷移金属、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、又はスズであり、より好ましくはアルミニウム、亜鉛、スズ、バナジウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、パラジウム、イリジウム、又は白金であり、特に好ましくはアルミニウム、亜鉛、バナジウム、鉄、銅、パラジウム、イリジウム、又は白金である。
4は、R1a、R1b及び/又はR3と共有結合もしくは配位結合しても良い。
一般式(1)中の2つのR4は、互いに同一でも異なってもよい。
The alkyl group, aryl group, and heteroaryl group represented by R 4 have the same meanings as the substituents described for R 1a and R 1b , and the preferred ranges are also the same. The substituent of the substituted boron represented by R 4 has the same meaning as the substituent described above for R 2 and R 3 , and is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group. The metal atom represented by R 4 is preferably a transition metal, magnesium, aluminum, calcium, barium, zinc, or tin, and more preferably aluminum, zinc, tin, vanadium, iron, cobalt, nickel, copper Palladium, iridium, or platinum, particularly preferably aluminum, zinc, vanadium, iron, copper, palladium, iridium, or platinum.
R 4 may be covalently bonded or coordinated to R 1a , R 1b and / or R 3 .
Two R 4 in the general formula (1) may be the same as or different from each other.

前記一般式(1)で表される化合物は、好ましくは下記一般式(2)、(3)又は(4)のいずれかで表される近赤外線吸収化合物である。   The compound represented by the general formula (1) is preferably a near-infrared absorbing compound represented by any of the following general formulas (2), (3), or (4).

Figure 0005601768
Figure 0005601768

(式中、Z1a及びZ1bは各々独立にアリール環もしくはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。R5a及びR5bは各々独立に炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、炭素数1〜20のカルバモイル基、ハロゲン原子、又はシアノ基のいずれか1つを表し、R5a又はR5bとZ1a又はZ1bとが結合して縮合環を形成しても良い。R22及びR23は各々独立にシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜20の含窒素ヘテロアリール基を表し、又はR22及びR23が結合して環状酸性核を表す。R4は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、金属原子、又は置換基としてハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、もしくは炭素数4〜20のヘテロアリール基を有する置換ホウ素を表し、R23と共有結合もしくは配位結合を有しても良い。また、当該化合物は更に置換基を有しても良い。) (In the formula, Z 1a and Z 1b each independently represent an atomic group that forms an aryl ring or a heteroaryl ring. R 5a and R 5b each independently represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or 4 to 20 carbon atoms. Heteroaryl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 20 carbon atoms, a carboxyl group, a carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, or cyano Any one of the groups, R 5a or R 5b and Z 1a or Z 1b may combine to form a condensed ring, R 22 and R 23 each independently represent a cyano group, Represents an acyl group having 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, or R 22 and R 23 are bonded Cyclic acid .R 4 representing the nuclei of hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 20 carbon atoms, a metal atom, or a halogen atom as a substituent, the carbon number This represents a substituted boron having an alkyl group of 1 to 10, an aryl group of 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group of 4 to 20 carbon atoms, and may have a covalent bond or a coordinate bond with R 23 . The compound may further have a substituent.)

Figure 0005601768
Figure 0005601768

(式中、R31a及びR31bは各々独立に炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数3〜20のヘテロアリール基を表す。R32はシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜10の含窒素ヘテロアリール基を表す。R6及びR7は各々独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数4〜10のヘテロアリール基を表し、R6及びR7は結合して環を形成してよく、形成する環としては炭素数5〜10の脂環、炭素数6〜10のアリール環、又は炭素数3〜10のヘテロアリール環である。R8及びR9は各々独立に炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、又は炭素数3〜10のヘテロアリール基を表す。Xは酸素原子、イオウ原子、−NR−、−CRR’−を表し、R及びR’は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又は炭素数6〜10のアリール基を表す。) (In the formula, R 31a and R 31b each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms or a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms. R 32 represents a cyano group or a carbon atom. Represents an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms R 6 and R 7 Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a heteroaryl group having 4 to 10 carbon atoms, and R 6 and R 7 are bonded to form a ring. The ring to be formed is an alicyclic ring having 5 to 10 carbon atoms, an aryl ring having 6 to 10 carbon atoms, or a heteroaryl ring having 3 to 10 carbon atoms, wherein R 8 and R 9 are each independently carbon. An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and 1 to 10 carbon atoms Represents an alkoxy group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms, X represents an oxygen atom, a sulfur atom, -NR-, -CRR'-, and R and R 'represent hydrogen Represents an atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.)

Figure 0005601768
Figure 0005601768

(式中、R41a及びR41bは互いに異なる基を表し、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数3〜20のヘテロアリール基を表す。R42はシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜10の含窒素ヘテロアリール基を表す。Z2は−C=N−と共に含窒素ヘテロ5又は6員環を形成する原子団を表し、含窒素ヘテロ環としてはピラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、これらのベンゾ縮環もしくはナフト縮環、又はこれら縮環の複合体を表す。R44は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、金属原子、又は置換基としてハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、もしくは炭素数4〜20のヘテロアリール基を有する置換ホウ素を表し、Z2が形成する含窒素ヘテロ環と共有結合もしくは配位結合を有しても良い。また、当該化合物は更に置換基を有しても良い。) (In the formula, R 41a and R 41b represent different groups, and each represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms. R 42 represents cyano. group represents an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkylsulfinyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms .Z 2 Represents an atomic group that forms a nitrogen-containing hetero 5 or 6-membered ring with —C═N—, and the nitrogen-containing hetero ring includes a pyrazole ring, a thiazole ring, an oxazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, a thiadiazole ring, and a triazole. A ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a benzo-fused ring or a naphtho-fused ring thereof, or a complex of these condensed rings, and R 44 represents a hydrogen atom. Children, alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, heteroaryl groups having 4 to 20 carbon atoms, metal atoms, or halogen atoms as substituents, alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, carbon This represents a substituted boron having an aryl group of 6 to 20 or a heteroaryl group of 4 to 20 carbon atoms, and may have a covalent bond or a coordinate bond with the nitrogen-containing heterocycle formed by Z 2 . The compound may further have a substituent.)

前記一般式(2)について説明する。
前記一般式(2)中、Z1a及びZ1bは各々独立にアリール環もしくはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。形成されるアリール環、ヘテロアリール環は、前記一般式(1)におけるR2及びR3の置換基として説明したアリール基、ヘテロアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。Z1a及びZ1bは同一であることが好ましい。
5a及びR5bは各々独立に炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、炭素数1〜20のカルバモイル基、ハロゲン原子、又はシアノ基のいずれか1つを表す。具体例には、前記一般式(1)におけるR2及びR3で説明した例と同義であり、好ましい範囲も同様である。R5a及びR5bは同一であることが好ましい。
5a又はR5bとZ1a又はZ1bとが結合し縮合環を形成しても良く、該縮合環としてはナフチル環、キノリン環などが挙げられる。
1a又はZ1bが形成するアリール環もしくはヘテロアリール環にR5a又はR5bで表される基を導入することで、不可視性を大きく向上することができる。
The general formula (2) will be described.
In the general formula (2), Z 1a and Z 1b each independently represent an atomic group that forms an aryl ring or a heteroaryl ring. The aryl ring and heteroaryl ring formed are synonymous with the aryl group and heteroaryl group described as the substituents for R 2 and R 3 in the general formula (1), and the preferred ranges are also the same. Z 1a and Z 1b are preferably the same.
R 5a and R 5b are each independently an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, It represents any one of 20 alkoxycarbonyl groups, carboxyl groups, carbamoyl groups having 1 to 20 carbon atoms, halogen atoms, or cyano groups. Specific examples are synonymous with the examples described for R 2 and R 3 in the general formula (1), and preferred ranges are also the same. R 5a and R 5b are preferably the same.
R 5a or R 5b and Z 1a or Z 1b may combine to form a condensed ring, and examples of the condensed ring include a naphthyl ring and a quinoline ring.
By introducing a group represented by R 5a or R 5b into the aryl ring or heteroaryl ring formed by Z 1a or Z 1b , invisibility can be greatly improved.

22及びR23は各々独立にシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜20の含窒素ヘテロアリール基を表し、又はR22及びR23が結合して環状酸性核を表す。具体的には、前記一般式(1)におけるR2及びR3で説明した例と同義であり、好ましい範囲も同様である。R4は前記一般式(1)におけるR4と同義であり、好ましい範囲も同様である。R4はR23と共有結合もしくは配位結合を有しても良い。 R 22 and R 23 are each independently a cyano group, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or 3 to 20 carbon atoms. It represents a nitrogen-containing heteroaryl group, or R 22 and R 23 are combined to represent a cyclic acidic nucleus. Specifically, it is synonymous with the example demonstrated by R < 2 > and R < 3 > in the said General formula (1), and its preferable range is also the same. R 4 has the same meaning as R 4 in the general formula (1), and the preferred range is also the same. R 4 may have a covalent bond or a coordinate bond with R 23 .

前記一般式(2)で表される化合物は更に置換基を有しても良く、該置換基としてはR2及びR3の置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。 The compound represented by the general formula (2) may further have a substituent, and the substituent is synonymous with the substituents of R 2 and R 3 , and the preferred range is also the same.

前記一般式(2)における好ましい組合せとしては、Z1a及びZ1bが各々独立にベンゼン環もしくはピリジン環を形成し、R5a及びR5bが各々独立にアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基であり、R22及びR23が各々独立にヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、又はR22及びR23が結合した環状酸性核であり、R4が水素原子、置換ホウ素、遷移金属原子、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、スズである場合である。特に好ましい組合せとしては、Z1a及びZ1bが共にベンゼン環を形成し、R5a及びR5bが共にアルキル基、ハロゲン原子、又はシアノ基であり、R22及びR23が各々独立に含窒素ヘテロ環基とシアノ基もしくはアルコキシカルボニル基との組合せ、又はR22及びR23が結合した環状酸性核であり、R4が水素原子、置換ホウ素、アルミニウム、亜鉛、バナジウム、鉄、銅、パラジウム、イリジウム、白金である場合である。 As a preferable combination in the general formula (2), Z 1a and Z 1b each independently form a benzene ring or a pyridine ring, and R 5a and R 5b each independently represent an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a cyano group. R 22 and R 23 are each independently a heterocyclic group, a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, or a cyclic acidic nucleus in which R 22 and R 23 are bonded, and R 4 is a hydrogen atom, a substituted boron, This is the case of transition metal atoms, magnesium, aluminum, calcium, barium, zinc, and tin. As a particularly preferred combination, Z 1a and Z 1b together form a benzene ring, R 5a and R 5b are both an alkyl group, a halogen atom, or a cyano group, and R 22 and R 23 are each independently a nitrogen-containing heterocycle. A combination of a cyclic group and a cyano group or an alkoxycarbonyl group, or a cyclic acidic nucleus in which R 22 and R 23 are bonded, and R 4 is a hydrogen atom, substituted boron, aluminum, zinc, vanadium, iron, copper, palladium, iridium This is the case of platinum.

前記一般式(3)について説明する。
一般式(3)中、R31a及びR31bは各々独立に炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数3〜20のヘテロアリール基を表し、具体的には、前記一般式(1)におけるR1a及びR1bで説明した例と同義であり、好ましい範囲も同様である。R31a及びR31bは同一であることが好ましい。
32はシアノ基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜10の含窒素ヘテロアリール基であり、具体的には、前記一般式(1)におけるR2の例と同義であり、好ましい範囲も同様である。
The general formula (3) will be described.
In General Formula (3), R 31a and R 31b each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, specifically, These are synonymous with the examples described for R 1a and R 1b in the general formula (1), and the preferred ranges are also the same. R 31a and R 31b are preferably the same.
R 32 is a cyano group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms. it is the same as examples of R 2 in the formula (1), and preferred ranges are also the same.

6及びR7は各々独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数4〜10のヘテロアリール基であり、具体的には、前記一般式(1)におけるR2及びR3の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同様である。また、R6及びR7は結合して環を形成してよく、形成する環としては炭素数5〜10の脂環、炭素数6〜10のアリール環、炭素数3〜10のヘテロアリール環であり、好ましい例としてはベンゼン環やナフタレン環、ビリジン環などが挙げられる。
6及びR7が置換した5員含窒素ヘテロ環を導入し、更にホウ素錯体とすることで、高い堅牢性、高い不可視性を両立する赤外線吸収色素を実現することができる。
R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a heteroaryl group having 4 to 10 carbon atoms. (1) have the same meanings as examples of the substituents of R 2 and R 3 in the preferred range is also the same. R 6 and R 7 may combine to form a ring, and the ring formed is an alicyclic ring having 5 to 10 carbon atoms, an aryl ring having 6 to 10 carbon atoms, or a heteroaryl ring having 3 to 10 carbon atoms. Preferred examples include a benzene ring, naphthalene ring, and pyridine ring.
By introducing a 5-membered nitrogen-containing heterocycle substituted with R 6 and R 7 and further forming a boron complex, an infrared absorbing dye that achieves both high fastness and high invisibility can be realized.

8及びR9は各々独立に炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数3〜10のヘテロアリール基であり、具体的には、前記一般式(1)におけるR2及びR3の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Xは酸素原子、イオウ原子、−NR−、−CRR’−を表す。R及びR’は各々独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又は炭素数6〜10のアリール基を表し、好ましくは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基である。
R 8 and R 9 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms. to are the same as examples of the substituents R 2 and R 3 in the general formula (1), and preferred ranges are also the same.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, -NR-, or -CRR'-. R and R ′ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group. .

前記一般式(3)における好ましい組合せとしては、R31a及びR31bが各々独立に炭素数1〜10のアルキル基、ベンゼン環もしくはピリジン環であり、R32がシアノ基、アルコキシカルボニル基であり、R6及びR7が結合してベンゼン環もしくはピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環を形成し、R8及びR9が各々独立に炭素原子1〜6のアルキル基、フェニル基、ナフチル基であり、Xが酸素原子、イオウ原子、−NR−、−CRR’−であり、R及びR’が各々独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基である場合である。特に好ましい組合せとしては、R31a及びR31bが共に炭素数1〜10のアルキル基またはベンゼン環であり、R32がシアノ基であり、R6及びR7が結合してベンゼン環もしくはピリジン環であり、R8及びR9が各々独立に炭素原子1〜6のアルキル基、フェニル基、ナフチル基であり、Xが酸素、硫黄である場合である。 As a preferable combination in the general formula (3), R 31a and R 31b are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a benzene ring or a pyridine ring, R 32 is a cyano group, an alkoxycarbonyl group, R 6 and R 7 are bonded to form a benzene ring or a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, and R 8 and R 9 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group, In this case, X is an oxygen atom, a sulfur atom, -NR-, -CRR'-, and R and R 'are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group. As a particularly preferred combination, R 31a and R 31b are both an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a benzene ring, R 32 is a cyano group, and R 6 and R 7 are bonded to form a benzene ring or a pyridine ring. And R 8 and R 9 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, or a naphthyl group, and X is oxygen or sulfur.

前記一般式(4)について説明する。
一般式(4)中、R41a及びR41bは炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数3〜20のヘテロアリール基を表し、具体的には、前記一般式(1)におけるR1a及びR1bで説明した例と同義であり、好ましい範囲も同様である。ただし、R41a及びR41bは互いに異なる基を表す。
42はシアノ基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜10の含窒素ヘテロアリール基であり、具体的には、前記一般式(1)におけるR2の例と同義であり、好ましい範囲も同様である。
2は−C=N−と共に含窒素ヘテロ5又は6員環を形成する原子団を表し、含窒素ヘテロ環としてはピラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、これらのベンゾ縮環もしくはナフト縮環、又はこれら縮環の複合体を表す。
44は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、金属原子または置換基としてハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、もしくは炭素数4〜20のヘテロアリール基を有する置換ホウ素を表し、Z2が形成する含窒素ヘテロ環と共有結合もしくは配位結合を有しても良い。
互いに異なるR41a及びR41bで表される基を導入し、Z2が−C=N−と共に形成する含窒素ヘテロ5又は6員環を導入することで、高い堅牢性および高い不可視性、優れた分散性、高い有機溶媒溶解性を付与することができる。
The general formula (4) will be described.
In the general formula (4), R 41a and R 41b each represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms. It is synonymous with the example demonstrated by R < 1a> and R <1b> in Formula (1), and its preferable range is also the same. However, R 41a and R 41b represent different groups.
R 42 is a cyano group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms. it is the same as examples of R 2 in the formula (1), and preferred ranges are also the same.
Z 2 represents an atomic group that forms a nitrogen-containing hetero 5 or 6-membered ring with —C═N—, and the nitrogen-containing hetero ring includes a pyrazole ring, a thiazole ring, an oxazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, and a thiadiazole ring. , A triazole ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a benzo condensed ring or a naphth condensed ring, or a complex of these condensed rings.
R 44 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 20 carbon atoms, a halogen atom as a metal atom or a substituent, and an alkyl having 1 to 10 carbon atoms. Represents a substituted boron having a group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 4 to 20 carbon atoms, and may have a covalent bond or a coordinate bond with the nitrogen-containing heterocycle formed by Z 2. .
By introducing different groups represented by R 41a and R 41b and introducing a nitrogen-containing hetero 5- or 6-membered ring formed by Z 2 with —C═N—, high robustness and high invisibility are obtained. High dispersibility and high organic solvent solubility can be imparted.

前記一般式(4)における好ましい組合せとしては、R41a及びR41bが各々独立に炭素数1〜10のアルキル基、ベンゼン環もしくはピリジン環であり、R42がシアノ基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルコキシカルボニル基であり、Z2が−C=N−と共にチアゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、又はこれらのベンゾ縮環もしくはナフト縮環を形成し、R44が水素原子、置換ホウ素、遷移金属原子、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、又はスズである場合である。特に好ましい組合せとしては、R41a及びR41bが各々独立に炭素数1〜10のアルキル基またはベンゼン環であり、R42がシアノ基であり、Z2が−C=N−と共にチアゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、又はこれらのベンゾ縮環もしくはナフト縮環を形成し、R44が水素原子、置換ホウ素(置換基としては炭素数1〜10のアルキル基、ベンゼン環、ピリジン環、又はチオフェン環)、アルミニウム、亜鉛、バナジウム、鉄、銅、パラジウム、イリジウム、又は白金である場合である。 As a preferable combination in the general formula (4), R 41a and R 41b are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a benzene ring or a pyridine ring, and R 42 is a cyano group and having 1 to 10 carbon atoms. An alkyl or arylsulfinyl group, an alkoxycarbonyl group, and Z 2 together with —C═N— is a thiazole ring, an oxazole ring, an imidazole ring, a thiadiazole ring, a triazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, or a benzo-condensation thereof. This is a case where a ring or a naphtho condensed ring is formed, and R 44 is a hydrogen atom, a substituted boron, a transition metal atom, magnesium, aluminum, calcium, barium, zinc, or tin. As a particularly preferred combination, R 41a and R 41b each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a benzene ring, R 42 represents a cyano group, Z 2 together with —C═N— represents a thiazole ring, oxazole A ring, an imidazole ring, a triazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, or a benzo condensed ring or a naphth condensed ring thereof, R 44 is a hydrogen atom, a substituted boron (as a substituent, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, A benzene ring, a pyridine ring, or a thiophene ring), aluminum, zinc, vanadium, iron, copper, palladium, iridium, or platinum.

以下に、前記一般式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物(色素化合物)の具体例を示すが、本発明は下記具体例に限定されるものではない。   Specific examples of the compound (dye compound) represented by any one of the general formulas (1) to (4) are shown below, but the present invention is not limited to the following specific examples.

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次に、前記一般式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物の合成法について説明する。
前記一般式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物は、該当するジケトピロロピロール化合物に、活性メチレン化合物を縮合させ、場合によっては、さらに、ホウ素や金属を反応させることで合成することができる。ジケトピロロピロール化合物は、「ハイパフォーマンス・ピグメンツ(High Performance Pigments)」,Wiley−VCH,2002年,160〜163ページに記載の方法で合成でき、より具体的な例としては米国特許第5,969,154号明細書や特開平9−323993号公報に記載の方法で合成できる。また、ジケトピロロピロール化合物と活性メチレン化合物との縮合反応やその後のホウ素化については、非特許文献Angewante Chemie International Edition of English,第46巻,第3750〜3753ページ(2007年)に従って合成できる。ホウ素化試薬はJ.Med.Chem.第3巻356〜360頁(1976年)を参考にして合成することができる。また、例えばブロモカテコールボランは東京化成工業社より購入して使用することができる。
Next, a method for synthesizing the compound represented by any one of the general formulas (1) to (4) will be described.
The compound represented by any one of the general formulas (1) to (4) may be obtained by condensing an active methylene compound with a corresponding diketopyrrolopyrrole compound and, in some cases, further reacting with boron or a metal. Can be synthesized. The diketopyrrolopyrrole compound can be synthesized by the method described in “High Performance Pigments”, Wiley-VCH, 2002, pages 160 to 163. More specific examples include US Pat. No. 5,969. No. 154, and Japanese Patent Laid-Open No. 9-323993. In addition, the condensation reaction between the diketopyrrolopyrrole compound and the active methylene compound and the subsequent boronation can be synthesized in accordance with the non-patent document, Angelwante Chemie International Edition of English, Vol. 46, pages 3750-3653 (2007). Boronating reagents are described in J. Org. Med. Chem. It can be synthesized with reference to Volume 3, pages 356 to 360 (1976). For example, bromocatechol borane can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. and used.

前記一般式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物は、特に限定されないが、好ましくは700〜1050nm、より好ましくは700〜1000nmに吸収極大を有する。前記一般式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物は、波長700nm以上1000nm以下の赤外線を選択的に吸収することが好ましい。
また、前記一般式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物は、モル吸光係数εは特に限定されないが、好ましくは50,000〜300,000であり、より好ましくは100,000〜250,000である。
The compound represented by any one of the general formulas (1) to (4) is not particularly limited, but preferably has an absorption maximum at 700 to 1050 nm, more preferably 700 to 1000 nm. The compound represented by any one of the general formulas (1) to (4) preferably selectively absorbs infrared rays having a wavelength of 700 nm to 1000 nm.
In addition, the compound represented by any one of the general formulas (1) to (4) has a molar extinction coefficient ε that is not particularly limited, but is preferably 50,000 to 300,000, and more preferably 100,000. ~ 250,000.

前記一般式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物は、IR色素として好ましく用いることができる。不可視であるため化合物の色は透明であることが好ましいが、ごくわずかに緑色、灰色に着色していてもよい。   The compound represented by any one of the general formulas (1) to (4) can be preferably used as an IR dye. Since it is invisible, the color of the compound is preferably transparent, but may be slightly colored green or gray.

本発明の近赤外線吸収組成物において、前記近赤外線吸収化合物の含有量は、赤外線遮蔽効果を有効に得るためには、透明樹脂(バインダー)固形分に対して5質量%以上とすることが好ましく、10質量%以上が好ましい。また、透明樹脂の物性を保つためには、赤外線吸収色素の量を50質量%以下に抑えることが好ましい。   In the near-infrared absorbing composition of the present invention, the content of the near-infrared absorbing compound is preferably 5% by mass or more based on the solid content of the transparent resin (binder) in order to effectively obtain the infrared shielding effect. 10 mass% or more is preferable. In order to maintain the physical properties of the transparent resin, the amount of the infrared absorbing dye is preferably suppressed to 50% by mass or less.

近赤外線吸収層の前記近赤外線吸収化合物は、水性分散微粒子状態で用いることが好ましい。
ここで、水性分散微粒子とは、分散媒としての水に分散させた微粒子をいう。
前記近赤外線吸収化合物を水性分散微粒子状態で用いると、微粒子内部にある化合物同士が会合することにより、前記近赤外線吸収層に高い耐光性と耐湿熱性とを付与できる。
The near-infrared absorbing compound in the near-infrared absorbing layer is preferably used in the form of aqueous dispersed fine particles.
Here, the aqueous dispersed fine particles refer to fine particles dispersed in water as a dispersion medium.
When the near-infrared absorbing compound is used in the form of aqueous dispersed fine particles, the compounds in the fine particles are associated with each other, so that high light resistance and wet heat resistance can be imparted to the near-infrared absorbing layer.

前記近赤外線吸収化合物の水性分散微粒子を作製する際、界面活性剤および分散剤を用いて分散の品質を向上させてもよい。界面活性剤としては、アニオン性、ノニオン性、カチオン性、両イオン性の界面活性剤が挙げられ、いずれの界面活性剤を用いてもよいが、アニオン性または非イオン性の界面活性剤を用いるのが好ましい。アニオン性界面活性剤としては、例えば、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルジアリールエーテルジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ナフタレンスルホン酸フォルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル塩、グリセロールボレイト脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセロール脂肪酸エステル等が挙げられる。   When producing the aqueous dispersed fine particles of the near infrared absorbing compound, the quality of dispersion may be improved by using a surfactant and a dispersant. Examples of the surfactant include anionic, nonionic, cationic and amphoteric surfactants. Any surfactant may be used, but an anionic or nonionic surfactant is used. Is preferred. Examples of the anionic surfactant include fatty acid salts, alkyl sulfate esters, alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, alkyl diaryl ether disulfonates, alkyl phosphates, and polyoxyethylene alkyls. Examples thereof include ether sulfate, polyoxyethylene alkylaryl ether sulfate, naphthalenesulfonic acid formalin condensate, polyoxyethylene alkyl phosphate ester salt, glycerol borate fatty acid ester, polyoxyethylene glycerol fatty acid ester and the like.

ノニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、フッ素系、シリコン系等が挙げられる。   Nonionic surfactants include, for example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene oxypropylene block copolymer, sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin. Examples include fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, polyoxyethylene alkylamines, fluorine-based resins, and silicon-based resins.

水性分散微粒子を作製する分散装置としては、例えば、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、ロールミル、ジェットミル、ペイントシェイカー、アトライター、超音波分散機、ディスパー等が挙げられる。   Examples of the dispersing apparatus for producing the aqueous dispersed fine particles include a ball mill, a sand mill, a bead mill, a roll mill, a jet mill, a paint shaker, an attritor, an ultrasonic disperser, and a disper.

微粒子の体積平均粒子径は10nm以上250nm以下であることが好ましく、20nm以上200nm以下であることがより好ましい。なお、微粒子の体積平均粒子径とは、微粒子そのものの粒子径、又は微粒子に分散剤等の添加物が付着している場合には、添加物が付着した粒子径をいう。
本発明において、微粒子の体積平均粒子径の測定装置には、ナノトラックUPA粒度分析計(UPA−EX150、商品名、日機装社製)を用いることができる。その測定は、微粒子分散体3mlを測定セルに入れ、所定の測定方法に従って行う。なお、測定時に入力するパラメーターとしては、粘度にはインク粘度を、分散粒子の密度には微粒子の密度を用いる。
The volume average particle diameter of the fine particles is preferably 10 nm or more and 250 nm or less, and more preferably 20 nm or more and 200 nm or less. The volume average particle diameter of the fine particles refers to the particle diameter of the fine particles themselves or, in the case where an additive such as a dispersant is attached to the fine particles, the particle diameter to which the additive is attached.
In the present invention, a nanotrac UPA particle size analyzer (UPA-EX150, trade name, manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) can be used as a device for measuring the volume average particle diameter of fine particles. The measurement is performed according to a predetermined measurement method by placing 3 ml of the fine particle dispersion in a measurement cell. As parameters input at the time of measurement, ink viscosity is used as the viscosity, and fine particle density is used as the density of the dispersed particles.

顔料分散物中の粒子の体積平均粒子径が10nm未満である場合には、保存安定性が確保できない場合が存在し、一方、250nmを超える場合には、光学濃度が低くなる場合が存在する。
When the volume average particle diameter of the particles in the pigment dispersion is less than 10 nm, there are cases where the storage stability cannot be ensured, while when it exceeds 250 nm, the optical density may be lowered.

(ii)疎水性ポリマー
本発明の近赤外線吸収組成物は、前述のとおり、疎水性ポリマーを少なくとも含有することを特徴とする。
本発明の近赤外線吸収組成物に用いる前記疎水性ポリマーは1種類を単独で用いてもよいし、必要に応じて2種類以上を混合して使用してもよい。
(Ii) Hydrophobic polymer The near-infrared absorbing composition of the present invention is characterized by containing at least a hydrophobic polymer as described above.
The said hydrophobic polymer used for the near-infrared absorption composition of this invention may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types as needed.

本発明の近赤外線吸収組成物に用いる前記疎水性ポリマーの分子量には特に制限はないが、通常、重量平均分子量で3000〜1000000程度のものが好ましい。重量平均分子量が3000未満のものは塗布層の強度が不十分になる場合があり、1000000を超えるものは塗布面状が悪い場合がある。
本発明に用いる前記疎水性ポリマーは、主成分が水である分散媒(本明細書では溶媒と呼ぶこともある)に疎水性の有機樹脂(ポリマー)が分散された有機樹脂(ポリマー)の水性分散物を形成してなることが好ましい。
前記溶媒中に含まれる水の含量は、30〜100質量%が好ましく、50〜100質量%がより好ましく、70〜100質量%がさらに好ましい。水以外の溶媒としては、メタノールやエタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、アセトンやメチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフランやブチルセロソルブなど、水に溶解性を有する溶剤が好ましく用いられる。
本発明の近赤外線吸収組成物において、前記疎水性ポリマーの含有量(好ましくは前記ポリマーの前記水性分散物の含有量)は、0.2〜10g/m2が好ましい。0.2g/m2未満の場合は、後述の近赤外線吸収塗布物を形成する際に近赤外線吸収層の膜強度や支持体との密着が弱くなる場合があり、10g/m2を超えると塗布性やムラ、高温高湿度下でのヘイズ上昇の問題を生じる場合がある。
疎水性の前記有機樹脂(ポリマー)としては、アクリル樹脂、ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等の種々のポリマーを使用することができる。但し、水溶性のポリマー(ゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロースなど)だけを本発明においてバインダーとして用いることはできない。水溶性のポリマーだけをバインダーとして用いた場合、高温高湿度下での近赤外線吸収化合物が分解する問題がある。近赤外線吸収層に水溶性のポリマーを含有させる場合は、同一層に上記ポリマーの水性分散物が存在する必要があり、好ましくは該水性分散物が固形分として0.2〜10g/m2塗布されていることが好ましく、水溶性のポリマーを添加する場合、その量は0.2g/m2以下であることが好ましい。
後述の近赤外線吸収塗布物を形成する際に、有機樹脂(ポリマー)層の支持体との密着性を良好にする観点から、本発明の近赤外線吸収組成物に硬化剤(例えばカルボジイミド化合物)を含有させ、後述の近赤外線吸収塗布物を形成する際に、前記硬化剤により硬化させてもよい。本発明においては、良好な作業環境の維持、及び大気汚染防止の観点から、前記ポリマーもカルボジイミド化合物などの前記硬化剤も、エマルジョン形態の水性分散物の状態で使用することが好ましい。
また、前記ポリマーは、カルボジイミド化合物などの硬化剤との架橋反応が可能なように、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの架橋性基を含有することが好ましい。なかでも、水酸基及びカルボキシル基がより好ましく、カルボキシル基が特に好ましい。前記ポリマー中の水酸基、カルボキシル基等の前記架橋性基の含有量は、0.0001〜1当量/kgが好ましく、特に0.001〜1当量/kgが好ましい。
Although there is no restriction | limiting in particular in the molecular weight of the said hydrophobic polymer used for the near-infrared absorption composition of this invention, Usually, the thing of about 3000-1 million is preferable at a weight average molecular weight. When the weight average molecular weight is less than 3,000, the strength of the coating layer may be insufficient, and when the weight average molecular weight exceeds 1,000,000, the coated surface may be poor.
The hydrophobic polymer used in the present invention is an aqueous organic resin (polymer) in which a hydrophobic organic resin (polymer) is dispersed in a dispersion medium whose main component is water (sometimes referred to as a solvent in this specification). It is preferable to form a dispersion.
The content of water contained in the solvent is preferably 30 to 100% by mass, more preferably 50 to 100% by mass, and still more preferably 70 to 100% by mass. As the solvent other than water, a solvent having solubility in water such as alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran and butyl cellosolve is preferably used.
In the near-infrared absorbing composition of the present invention, the content of the hydrophobic polymer (preferably the content of the aqueous dispersion of the polymer) is preferably 0.2 to 10 g / m 2 . In the case of less than 0.2 g / m 2, the film strength of the near infrared absorbing layer and the adhesion to the support may be weakened when forming a near infrared absorbing coated material described later, and if it exceeds 10 g / m 2. There may be a problem of applicability, unevenness, and haze increase under high temperature and high humidity.
As the hydrophobic organic resin (polymer), various polymers such as acrylic resin, vinyl resin, polyurethane resin, and polyester resin can be used. However, only water-soluble polymers (gelatin, polyvinyl alcohol, carboxymethyl cellulose, etc.) cannot be used as a binder in the present invention. When only a water-soluble polymer is used as a binder, there is a problem that a near-infrared absorbing compound under high temperature and high humidity is decomposed. When a water-soluble polymer is contained in the near-infrared absorbing layer, an aqueous dispersion of the polymer needs to be present in the same layer, and the aqueous dispersion preferably has a solid content of 0.2 to 10 g / m 2. In the case where a water-soluble polymer is added, the amount is preferably 0.2 g / m 2 or less.
From the viewpoint of improving the adhesion of the organic resin (polymer) layer to the support when forming a near-infrared absorbing coating to be described later, a curing agent (for example, a carbodiimide compound) is added to the near-infrared absorbing composition of the present invention. It may be contained and cured by the curing agent when forming a near infrared absorbing coated material described later. In the present invention, from the viewpoint of maintaining a good working environment and preventing air pollution, the polymer and the curing agent such as a carbodiimide compound are preferably used in the form of an aqueous dispersion in the form of an emulsion.
The polymer preferably contains a crosslinkable group of any of a methylol group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group so that a crosslinking reaction with a curing agent such as a carbodiimide compound is possible. Among these, a hydroxyl group and a carboxyl group are more preferable, and a carboxyl group is particularly preferable. The content of the crosslinkable group such as a hydroxyl group and a carboxyl group in the polymer is preferably 0.0001 to 1 equivalent / kg, particularly preferably 0.001 to 1 equivalent / kg.

アクリル樹脂としては、アクリル酸、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類、メタクリルアミド及びメタクリロニトリルのいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体を挙げることができる。これらの中では、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体が好ましい。例えば、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体を挙げることができる。上記アクリル樹脂は、上記組成を主成分とし、カルボジイミド化合物との架橋反応が可能なように、例えば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの基を有するモノマーを一部使用して得られるポリマーである。   Acrylic resins include acrylic acid esters such as acrylic acid and alkyl acrylate, acrylamide, acrylonitrile, methacrylic acid esters such as methacrylic acid and alkyl methacrylate, and homopolymers of any monomer of methacrylamide and methacrylonitrile. Or the copolymer obtained by superposition | polymerization of 2 or more types of these monomers can be mentioned. Among these, homopolymers of monomers of acrylic acid esters such as alkyl acrylates and methacrylic acid esters such as alkyl methacrylates, or copolymers obtained by polymerization of two or more of these monomers preferable. For example, mention may be made of homopolymers of monomers of acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or copolymers obtained by polymerization of two or more of these monomers. it can. The acrylic resin has the above composition as a main component and, for example, partially uses a monomer having any group of a methylol group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group so that a crosslinking reaction with a carbodiimide compound is possible. The resulting polymer.

上記ビニル樹脂としては、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメチルエーテル、ポリオレフィン、エチレン/ブタジエン共重合体、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル/(メタ)アクリル酸エステル共重合体及びエチレン/酢酸ビニル系共重合体(好ましくはエチレン/酢酸ビニル/(メタ)アクリル酸エステル共重合体)を挙げることができる。これらの中で、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホリマール、ポリオレフィン、エチレン/ブタジエン共重合体及びエチレン/酢酸ビニル系共重合体(好ましくは、エチレン/酢酸ビニル/アクリル酸エステル共重合体)が好ましい。上記ビニル樹脂は、カルボジイミド化合物との架橋反応が可能なように、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメチルエーテル及びポリ酢酸ビニルでは、例えば、ビニルアルコール単位をポリマー中に残すことにより水酸基を有するポリマーとし、他のポリマーについては、例えば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの基を有するモノマーを一部使用することにより架橋可能なポリマーとする。   Examples of the vinyl resin include polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl methyl ether, polyolefin, ethylene / butadiene copolymer, polyvinyl acetate, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, vinyl chloride / ( A meth) acrylic acid ester copolymer and an ethylene / vinyl acetate copolymer (preferably ethylene / vinyl acetate / (meth) acrylic acid ester copolymer) can be mentioned. Among these, polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol, polyvinyl polymer, polyolefin, ethylene / butadiene copolymer and ethylene / vinyl acetate copolymer (preferably ethylene / vinyl acetate / acrylic acid ester copolymer). Is preferred. The vinyl resin can be crosslinked with a carbodiimide compound so that, for example, polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl methyl ether, and polyvinyl acetate leave a vinyl alcohol unit in the polymer. Thus, the polymer having a hydroxyl group is used, and the other polymer is, for example, a crosslinkable polymer by partially using a monomer having any of a methylol group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group.

上記ポリウレタン樹脂としては、ポリヒドロキシ化合物(例、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン)、ポリヒドロキシ化合物と多塩基酸との反応により得られる脂肪族ポリエステル系ポリオール、ポリエーテルポリオール(例、ポリ(オキシプロピレンエーテル)ポリオール、ポリ(オキシエチレン−プロピレンエーテル)ポリオール)、ポリカーボネート系ポリオール、及びポリエチレンテレフタレートポリオールのいずれか一種、あるいはこれらの混合物とポリイソシアネートから誘導されるポリウレタンを挙げることができる。上記ポリウレタン樹脂では、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとの反応後、未反応として残った水酸基をカルボジイミド化合物との架橋反応が可能な官能基として利用することができる。   Examples of the polyurethane resin include polyhydroxy compounds (eg, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylolpropane), aliphatic polyester polyols obtained by reaction of polyhydroxy compounds and polybasic acids, polyether polyols (eg, Polyurethane derived from poly (oxypropylene ether) polyol, poly (oxyethylene-propylene ether) polyol), polycarbonate-based polyol, and polyethylene terephthalate polyol, or a mixture thereof and polyisocyanate can be given. In the polyurethane resin, for example, the hydroxyl group remaining unreacted after the reaction between polyol and polyisocyanate can be used as a functional group capable of crosslinking reaction with a carbodiimide compound.

上記ポリエステル樹脂としては、一般にポリヒドロキシ化合物(例、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン)と多塩基酸との反応により得られるポリマーが挙げられる。上記ポリエステル樹脂では、例えば、ポリオールと多塩基酸との反応終了後、未反応として残った水酸基、カルボキシル基をカルボジイミド化合物との架橋反応が可能な官能基として利用することができる。勿論、水酸基等の官能基を有する第三成分を添加してもよい。   As said polyester resin, the polymer obtained by reaction of a polyhydroxy compound (for example, ethylene glycol, propylene glycol, glycerol, trimethylol propane) and a polybasic acid is mentioned generally. In the above-mentioned polyester resin, for example, the hydroxyl group and carboxyl group remaining unreacted after the reaction between the polyol and the polybasic acid can be used as a functional group capable of crosslinking reaction with the carbodiimide compound. Of course, a third component having a functional group such as a hydroxyl group may be added.

上記ポリマーの中で、アクリル樹脂及びポリウレタン樹脂が好ましく、特にポリウレタン樹脂が好ましい。   Among the above polymers, acrylic resins and polyurethane resins are preferable, and polyurethane resins are particularly preferable.

尚、前記ポリマーの前記水性分散物の分散状態としては、前記ポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持つもの等いずれでもよい。なお、本発明におけるポリマーの水性分散物(または単に水分散物と呼ぶ)については「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」等に記載されている。分散粒子の平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜1000nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限はなく、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。   Incidentally, the dispersion state of the aqueous dispersion of the polymer may be one in which the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion polymerized, micelle-dispersed, or partially hydrophilic in the polymer molecule. Any one having a simple structure may be used. In addition, about the polymer aqueous dispersion (or simply referred to as the aqueous dispersion) in the present invention, “synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Shuppankai (1978))”, “application of synthetic latex ( Sugimura Takaaki, Kataoka Ikuo, Suzuki Junichi, edited by Kasahara Keiji, published by Kobunshi Publishing Co., Ltd. (1993)), “Synthetic Latex Chemistry (written by Soichi Muroi, published by Kobunshi Publishing Co., Ltd. (1970))”, etc. Yes. The average particle size of the dispersed particles is preferably 1 to 50000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.

なお、前記水分散物としては下記のような市販ポリマーを用いてもよい。
スーパフレックス830、460、870、420、420NS(第一工業製薬製ポリウレタン)、ボンディック1370NS、1320NS、ハイドランHw140SF、WLS201、WLS202、WLS213(大日本インキ化学工業製ポリウレタン)、オレスターUD350、UD500、UD600(三井化学製ポリウレタン)、ネオレッツR972、R966、R9660(楠本化成製ポリウレタン)、ファインテックスEs650、Es2200(大日本インキ化学工業製ポリエステル)、バイロナールMD1100、MD1400、MD1480(東洋紡製ポリエステル)、ジュリマーET325、ET410、AT−613、SEK301(日本純薬製アクリル)、ボンコートAN117、AN226(大日本インキ化学工業製アクリル)、ラックスターDS616、DS807(大日本インキ化学工業製スチレン−ブタジエンゴム)、ニッポールLX110、LX206、LX426、LX433(日本ゼオン製スチレン−ブタジエンゴム)、ニッポールLX513、LX1551、LX550、LX1571(日本ゼオン製アクリロニトリル−ブタジエンゴム)(いずれも商品名)。
In addition, as the aqueous dispersion, the following commercially available polymers may be used.
Superflex 830, 460, 870, 420, 420NS (Polyurethane made by Daiichi Kogyo Seiyaku), Bondick 1370NS, 1320NS, Hydran Hw140SF, WLS201, WLS202, WLS213 (Polyurethane made by Dainippon Ink & Chemicals), Olester UD350, UD500, UD600 (Mitsui Chemicals Polyurethane), Neoletz R972, R966, R9660 (Enomoto Kasei Polyurethane), Finetex Es650, Es2200 (Dainippon Ink Chemicals Polyester), Bironal MD1100, MD1400, MD1480 (Toyobo Polyester), Julimer ET325 ET410, AT-613, SEK301 (Nippon Pure Chemicals Acrylic), Boncoat AN117, AN226 (Dai Nippon Ink Industrial acrylic), Luckstar DS616, DS807 (Dainippon Ink & Chemicals styrene-butadiene rubber), Nippon LX110, LX206, LX426, LX433 (Nippon Zeon styrene-butadiene rubber), Nippon LX513, LX1551, LX550, LX1571 ( Zeon Nippon Acrylonitrile-Butadiene Rubber) (all trade names).

(iii)塗布膜
以下、本発明の近赤外線吸収塗布物(以下、近赤外線吸収塗布膜ということもある。)について説明する。
本発明の近赤外線吸収塗布膜は、前記近赤外線吸収化合物と前記ポリマーの前記水性分散物を含有する前記近赤外線吸収組成物を調製し、前記近赤外線吸収組成物を支持体上に塗布してなる近赤外線吸収層を形成することで作製できる。
前記近赤外線吸収層の塗布方法としては、例えばディップコート法、ローラーコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法などを選択できる。これらのコート法は連続加工を行うことができ、バッチ式の蒸着法などに比べて生産性が優れている。また、薄く均一な塗膜を形成できるスピンコート法も採用し得る。
塗布層を担持した支持体(例えば、ポリエステル等のプラスチックフィルム)は、逐次二軸延伸前、同時二軸延伸前、一軸延伸後で再延伸前、あるいは二軸延伸後のいずれであってもよい。塗布液を塗布するプラスチック支持体の表面は、あらかじめ紫外線照射処理、コロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理を施しておくことが好ましい。
なお、前記近赤外線吸収層は2層以上設けてもよい。近赤外線吸収層の膜厚は、1層当たり、近赤外線遮蔽効果を有効に得るために、0.1μm以上が好ましく、成膜時の溶媒が残留しにくい、成膜の操作性が容易であるなどの点から10μm以下が好ましく、特に0.3〜3μmであることが好ましい。
(Iii) Coating film Hereinafter, the near-infrared absorbing coating material of the present invention (hereinafter sometimes referred to as a near-infrared absorbing coating film) will be described.
The near-infrared absorbing coating film of the present invention is prepared by preparing the near-infrared absorbing composition containing the near-infrared absorbing compound and the aqueous dispersion of the polymer, and applying the near-infrared absorbing composition on a support. It can produce by forming the near-infrared absorption layer which becomes.
As a method for applying the near infrared absorbing layer, for example, a dip coating method, a roller coating method, a spray coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a die coating method, or the like can be selected. These coating methods can perform continuous processing, and are more productive than batch-type vapor deposition methods. Also, a spin coating method that can form a thin and uniform coating film can be employed.
The support (for example, a plastic film such as polyester) carrying the coating layer may be any of before successive biaxial stretching, before simultaneous biaxial stretching, after uniaxial stretching and before re-stretching, or after biaxial stretching. . The surface of the plastic support to which the coating solution is applied is preferably subjected to surface treatment such as ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment, glow discharge treatment, etc. in advance.
Two or more near infrared absorption layers may be provided. The film thickness of the near-infrared absorbing layer is preferably 0.1 μm or more in order to effectively obtain the near-infrared shielding effect per layer, the solvent during film formation hardly remains, and film formation operability is easy. In view of the above, it is preferably 10 μm or less, particularly preferably 0.3 to 3 μm.

本発明の近赤外線吸収塗布膜を作製する際には、塗設後に加熱乾燥を行うことが好ましい。加熱乾燥により、ポリマー同士が融着し、該塗布膜の耐光性と耐湿熱性を向上することができる。加熱乾燥条件として特に制限はないが具体的には、100〜150℃、1〜10分が好ましく、100〜130℃、1〜5分がより好ましい。   When producing the near-infrared absorbing coating film of the present invention, it is preferable to heat and dry after coating. By heat drying, the polymers are fused to each other, and the light resistance and heat-and-moisture resistance of the coating film can be improved. Although there is no restriction | limiting in particular as heat drying conditions, Specifically, 100-150 degreeC and 1-10 minutes are preferable, and 100-130 degreeC and 1-5 minutes are more preferable.

本発明の近赤外線吸収塗布膜を透明支持体に塗設して光学フィルターを作製する場合、支持体としては、プラスチックフィルム、プラスチック板、およびガラス板などを用いることができる。
上記プラスチックフィルムおよびプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、およびポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、EVAなどのポリオレフィン類;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂;その他、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリサルホン(PSF)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)などを用いることができる。
本発明においては、透明性、耐熱性、取り扱いやすさおよび価格の点から、上記プラスチックフィルムはポリエチレンテレフタレートフィルム又はトリアセチルセルロース(TAC)であることが好ましい。
When an optical filter is produced by coating the near-infrared absorbing coating film of the present invention on a transparent support, a plastic film, a plastic plate, a glass plate, or the like can be used as the support.
Examples of the raw material for the plastic film and plastic plate include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene, EVA; polyvinyl chloride, Vinyl resins such as polyvinylidene chloride; polyether ether ketone (PEEK), polysulfone (PSF), polyether sulfone (PES), polycarbonate (PC), polyamide, polyimide, acrylic resin, triacetyl cellulose (TAC) Etc. can be used.
In the present invention, the plastic film is preferably a polyethylene terephthalate film or triacetyl cellulose (TAC) from the viewpoints of transparency, heat resistance, ease of handling, and price.

例えばディスプレイ用の近赤外線吸収フィルターなど、透明性が要求される用途には、支持体の透明性は高いことが好ましい。この場合におけるプラスチックフィルムまたはプラスチック板の全可視光透過率は70〜100%が好ましく、さらに好ましくは85〜100%であり、特に好ましくは90〜100%である。また、本発明では、前記プラスチックフィルムおよびプラスチック板として本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
本発明におけるプラスチックフィルムおよびプラスチック板は、単層で用いることもできるが、2層以上を組み合わせた多層フィルムとして用いることも可能である。
For applications where transparency is required, such as near infrared absorption filters for displays, it is preferable that the support is highly transparent. In this case, the total visible light transmittance of the plastic film or plastic plate is preferably 70 to 100%, more preferably 85 to 100%, and particularly preferably 90 to 100%. Moreover, in this invention, what was colored to such an extent that the objective of this invention is not disturbed can also be used as the said plastic film and a plastic board.
The plastic film and plastic plate in the present invention can be used as a single layer, but can also be used as a multilayer film in which two or more layers are combined.

本発明における支持体としてガラス板を用いる場合、その種類は特に限定されないが、ディスプレイ用電磁波シールド膜の用途として用いる場合、表面に強化層を設けた強化ガラスを用いることが好ましい。強化ガラスは、強化処理していないガラスに比べて破損を防止できる可能性が高い。さらに、風冷法により得られる強化ガラスは、万一破損してもその破砕破片が小さく、かつ端面も鋭利になることはないため、安全上好ましい。   When a glass plate is used as the support in the present invention, the type thereof is not particularly limited. However, when used as an application of an electromagnetic wave shielding film for display, it is preferable to use tempered glass having a tempered layer on the surface. There is a high possibility that tempered glass can prevent breakage compared to glass that has not been tempered. Furthermore, the tempered glass obtained by the air cooling method is preferable from the viewpoint of safety because even if it is broken, the crushed pieces are small and the end face is not sharp.

本発明の近赤外線吸収塗布物は、近赤外線領域における吸収率が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましい。また可視光領域(450nm〜650nm)の吸収率が30%以下(好ましくは20〜0%)であることが好ましい。
ここで、吸収率とは、λmaxにおける吸光度を100%としたときの、測定波長における吸光度を百分率で表した値をいう。
The near infrared absorption coating material of the present invention preferably has an absorptance in the near infrared region of 50% or more, more preferably 70% or more. Moreover, it is preferable that the absorptivity of visible region (450 nm-650 nm) is 30% or less (preferably 20-0%).
Here, the absorptance is a value representing the absorbance at the measurement wavelength as a percentage when the absorbance at λmax is 100%.

(iv)その他の機能層
本発明の近赤外線吸収塗布膜に、必要に応じてさらに別の機能性を付与してもよい。又は近赤外線吸収層とは別に機能性を有する機能層を設けていてもよい。この機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレイ用電磁波シールド材用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防止層や、ノングレアー層またはアンチグレア層(共にぎらつき防止機能を有する)、特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層、指紋などの汚れを除去しやすい機能を有した防汚層、傷のつき難いハードコート層、衝撃吸収機能を有する層、ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層などを設けることができる。これらの機能層は、銀塩含有層と支持体とを挟んで反対側の面に設けてもよく、あるいは同一面側に設けてもよい。
(Iv) Other functional layers Further functionality may be imparted to the near-infrared absorbing coating film of the present invention as required. Alternatively, a functional layer having functionality may be provided separately from the near-infrared absorbing layer. This functional layer can have various specifications for each application. For example, as an electromagnetic shielding material for a display, an antireflection layer provided with an antireflection function by adjusting a refractive index or a film thickness, a non-glare layer or an antiglare layer (both have a glare prevention function), a specific wavelength region Layers that have a color tone adjustment function that absorbs visible light, antifouling layers that have the ability to easily remove dirt such as fingerprints, hard-coat layers that are difficult to scratch, layers that have an impact absorption function, and glass scattering when glass is broken A layer having a prevention function or the like can be provided. These functional layers may be provided on the opposite surface across the silver salt-containing layer and the support, or may be provided on the same surface side.

(反射防止性・防眩性)
透光性電磁波シールド膜には、外光反射を抑制するための反射防止(AR:アンチリフレクション)性、または、鏡像の映り込みを防止する防眩(AG:アンチグレア)性、またはその両特性を備えた反射防止防眩(ARAG)性のいずれかの機能性を付与することが好ましい。
これらの性能により、照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなってしまうのを防止できる。また、膜表面の可視光線反射率が低くすることにより、映り込み防止だけではなく、コントラスト等を向上させることができる。反射防止性・防眩性を有する機能性フィルムを透光性電磁波シールド膜に貼付した場合の可視光線反射率は、2%以下であることが好ましく、より好ましくは1.3%以下、さらに好ましくは0.8%以下である。
(Anti-reflection and anti-glare properties)
The translucent electromagnetic wave shielding film has anti-reflection (AR: anti-reflection) properties to suppress external light reflection, or anti-glare (AG: anti-glare) properties to prevent the reflection of mirror images, or both characteristics. It is preferable to provide any of the antireflection antiglare (ARAG) properties provided.
With these performances, it is possible to prevent the display screen from becoming difficult to see due to the reflection of a lighting fixture or the like. Further, by reducing the visible light reflectance of the film surface, not only the reflection can be prevented but also the contrast and the like can be improved. When the functional film having antireflection properties and antiglare properties is attached to the translucent electromagnetic wave shielding film, the visible light reflectance is preferably 2% or less, more preferably 1.3% or less, and still more preferably Is 0.8% or less.

上記のような機能性フィルムは、適当な透明基材上に反射防止性・防眩性を有する機能層を設けることにより形成することができる。
反射防止層としては、例えば、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば1/4波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を2層以上多層積層したもの等で形成することができる。
The functional film as described above can be formed by providing a functional layer having antireflection properties and antiglare properties on a suitable transparent substrate.
As the antireflection layer, for example, a fluorine-based transparent polymer resin, magnesium fluoride, a silicon-based resin, a thin film of silicon oxide, or the like formed as a single layer with an optical film thickness of, for example, a quarter wavelength, a different refractive index, It may be formed of a multi-layered laminate of thin films of inorganic compounds such as metal oxides, fluorides, silicides, nitrides, sulfides, or organic compounds such as silicon resins, acrylic resins, and fluorine resins. it can.

防眩性層としては、0.1μm〜10μm程度の微少な凹凸の表面状態を有する層から形成することができる。具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂に、シリカ、有機珪素化合物、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを塗布、硬化することにより形成することが可能である。
粒子の平均粒径は、1〜40μm程度が好ましい。
また、防眩性層としては、上記の熱硬化型または光硬化型樹脂を塗布した後、所望のグロス値または表面状態を有する型を押しつけ硬化することによっても形成することができる。
防眩性層を設けた場合の透光性電磁波シールド膜のヘイズは0.5%以上20%以下であることが好ましく、より好ましくは1%以上10%以下である。ヘイズが小さすぎると防眩性が不十分であり、ヘイズが大きすぎると透過像鮮明度が低くなる傾向がある。
The antiglare layer can be formed from a layer having a minute uneven surface state of about 0.1 μm to 10 μm. Specifically, acrylic, silicon-based resin, melamine-based resin, urethane-based resin, alkyd-based resin, fluorine-based resin and other thermosetting or photo-curable resins, silica, organosilicon compounds, melamine, acrylic, etc. It is possible to form by coating and curing an ink in which particles of the inorganic compound or organic compound are dispersed.
The average particle size of the particles is preferably about 1 to 40 μm.
The antiglare layer can also be formed by applying the thermosetting or photocurable resin and pressing and curing a mold having a desired gloss value or surface state.
When the antiglare layer is provided, the haze of the translucent electromagnetic wave shielding film is preferably 0.5% or more and 20% or less, more preferably 1% or more and 10% or less. If the haze is too small, the antiglare property is insufficient, and if the haze is too large, the transmitted image sharpness tends to be low.

(ハードコート性)
近赤外線吸収フィルターに耐擦傷性を付加するために、機能性フィルムがハードコート性を有していることも好適である。ハードコート層としてはアクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂等が挙げられるが、その種類も形成方法も特に限定されない。ハードコート層の厚さは、1〜50μm程度であることが好ましい。ハードコート層上に上記の反射防止層および/または防眩層を形成すると、耐擦傷性・反射防止性および/または防眩性を有する機能性フィルムが得られ好適である。
ハードコート性が付与された透光性電磁波シールド膜の表面硬度は、JIS(K―5400)に従った鉛筆硬度が少なくともHであることが好ましく、より好ましくは2H、さらに好ましくは3H以上である。
本発明において、透明支持体を挟んで近赤外線吸収層の反対側に、電磁波シールド層、ハードコート層、反射防止層および防眩性層の少なくとも1つを有することが好ましい。すなわち、透明支持体の一方の面に、近赤外線吸収層を先ず形成する。その後、透明支持体の他方の面に、電磁波シールド層、ハードコート層、反射防止層および防眩性層の少なくとも1つを形成する。なお、これらの全ての層を形成することが好ましい。
(Hard coat property)
In order to add scratch resistance to the near-infrared absorbing filter, it is also preferable that the functional film has a hard coat property. Examples of the hard coat layer include acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, thermosetting resins such as fluorinated resins, and photocurable resins. There is no particular limitation. The thickness of the hard coat layer is preferably about 1 to 50 μm. When the antireflection layer and / or the antiglare layer is formed on the hard coat layer, a functional film having scratch resistance, antireflection property and / or antiglare property is preferably obtained.
The surface hardness of the translucent electromagnetic wave shielding film to which hard coat properties are imparted is preferably a pencil hardness according to JIS (K-5400) of at least H, more preferably 2H, and even more preferably 3H or more. .
In the present invention, it is preferable to have at least one of an electromagnetic wave shielding layer, a hard coat layer, an antireflection layer and an antiglare layer on the opposite side of the near infrared absorption layer with the transparent support interposed therebetween. That is, a near-infrared absorption layer is first formed on one surface of the transparent support. Thereafter, at least one of an electromagnetic wave shielding layer, a hard coat layer, an antireflection layer and an antiglare layer is formed on the other surface of the transparent support. It is preferable to form all these layers.

(防汚性)
近赤外線吸収フィルターが防汚性を有していると、指紋等の汚れ防止や汚れが付いたときに簡単に取り除くことができるので好適である。
防汚性を有する機能性フィルムは、例えば透明基材上に防汚性を有する化合物を付与することにより得られる。防汚性を有する化合物としては、水および/または油脂に対して非濡性を有する化合物であればよく、例えばフッ素化合物やケイ素化合物が挙げられる。フッ素化合物として具体的には商品名オプツール(ダイキン社製)等が挙げられ、ケイ素化合物としては、商品名タカタクォンタム(日本油脂社製)等が挙げられる。
(Anti-fouling property)
It is preferable that the near-infrared absorbing filter has antifouling property because it can prevent fingerprints and the like and can be easily removed when they are attached.
The functional film having antifouling properties can be obtained, for example, by applying a compound having antifouling properties on a transparent substrate. The compound having antifouling property may be a compound having non-wetting properties with respect to water and / or fats and oils, and examples thereof include fluorine compounds and silicon compounds. Specific examples of the fluorine compound include trade name OPTOOL (manufactured by Daikin), and examples of the silicon compound include trade name Takata Quantum (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.).

(紫外線カット性)
近赤外線吸収フィルターには、後述する色素や透明基材の劣化等を防ぐ目的で紫外線カット性を付与することが好ましい。紫外線カット性を有する機能性フィルムは、透明基材自体に紫外線吸収剤を含有させる方法や透明基材上に紫外線吸収層を設けることにより形成することができる。
色素を保護するのに必要な紫外線カット能としては、波長380nmより短い紫外線領域の透過率が、20%以下、好ましくは10%以下、更に好ましくは5%以下である。紫外線カット性を有する機能性フィルムは、紫外線吸収剤や紫外線を反射または吸収する無機化合物を含有する層を透明基材上に形成することにより得られる。紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系やベンゾフェノン系等、従来公知のものを使用でき、その種類・濃度は、分散または溶解させる媒体への分散性・溶解性、吸収波長・吸収係数、媒体の厚さ等から決まり、特に限定されるものではない。
(UV-cutting property)
The near-infrared absorbing filter is preferably imparted with UV-cutting properties for the purpose of preventing deterioration of a dye and a transparent substrate described later. The functional film having ultraviolet cut-off property can be formed by a method in which the transparent substrate itself contains an ultraviolet absorber or by providing an ultraviolet absorbing layer on the transparent substrate.
As the ultraviolet ray cutting ability necessary for protecting the dye, the transmittance in the ultraviolet region shorter than the wavelength of 380 nm is 20% or less, preferably 10% or less, more preferably 5% or less. A functional film having ultraviolet cut-off properties can be obtained by forming a layer containing an ultraviolet absorber or an inorganic compound that reflects or absorbs ultraviolet rays on a transparent substrate. Conventionally known UV absorbers such as benzotriazoles and benzophenones can be used, and their types and concentrations are dispersibility / solubility in the medium to be dispersed or dissolved, absorption wavelength / absorption coefficient, thickness of the medium. It is determined from the above and is not particularly limited.

なお、紫外線カット性を有する機能性フィルムは、可視光線領域の吸収が少なく、著しく可視光線透過率が低下したり黄色等の色を呈したりすることがないことが好ましい。
また、機能性フィルムに後述する色素を含有する層が形成されている場合は、その層よりも外側に紫外線カット性を有する層が存在することが好ましい。
In addition, it is preferable that the functional film which has ultraviolet cut-off property has little absorption of visible light region, and does not remarkably reduce visible light transmittance, or exhibit colors, such as yellow.
Moreover, when the layer containing the pigment | dye mentioned later is formed in the functional film, it is preferable that the layer which has ultraviolet-cut property exists outside the layer.

以上に詳細に説明したように、本発明の赤外線吸収性組成物、及びそれを用いた塗布膜は、例えば、プラズマディスプレイ用フィルターとして、プラズマディスプレイの輝度を著しく損なわずに、ディスプレイから放射される800〜1000nm付近の近赤外線線を効率よくカットし、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を防ぐことができる光学フィルターとして用いることができる。あるいは、耐光性と耐湿熱性に優れた近赤外線吸収フィルターを低環境負荷かつ低コストで提供することが出来る。   As described in detail above, the infrared-absorbing composition of the present invention and the coating film using the same are radiated from the display as a filter for plasma display, for example, without significantly impairing the brightness of the plasma display. It can be used as an optical filter that can efficiently cut near-infrared rays in the vicinity of 800-1000 nm, prevent adverse effects on wavelengths used by remote control of peripheral electronic devices, transmission optical communication, etc., and prevent their malfunction. . Or the near-infrared absorption filter excellent in light resistance and heat-and-moisture resistance can be provided with low environmental load and low cost.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

合成例1
[例示化合物(D−17)の調製]
下記スキームに従って、例示化合物(D−17)を調製した。
Synthesis example 1
[Preparation of Exemplified Compound (D-17)]
Exemplified compound (D-17) was prepared according to the following scheme.

Figure 0005601768
Figure 0005601768

まず、ジケトピロロピロール化合物(DPP)を、4−(2−エチルヘキシルオキシ)ベンゾニトリルを原料にして、米国特許第5,969,154号明細書に記載された方法に従って、合成した。   First, a diketopyrrolopyrrole compound (DPP) was synthesized according to a method described in US Pat. No. 5,969,154 using 4- (2-ethylhexyloxy) benzonitrile as a raw material.

ジケトピロロピロール化合物3グラム(1モル当量)とピリジンアセトニトリル1.6グラム(2.5モル当量)をトルエン60mL中で攪拌し、オキシ塩化リン6.5グラム(8モル当量)を加えて4時間加熱還流した。室温(25℃)に冷却してクロロホルム50mLと水20mLを加え、さらに30分攪拌した。分液操作により有機層を取り出し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)で精製し、さらにクロロホルム/アセトニトリル溶媒を用いて再結晶し、目的化合物(D−17)を3.3グラム、収率70%で得た。
1H−NMR(CDCl3):δ0.9−1.0(m,12H),1.35−1.6(m,16H),1.8(m,2H),3.95(d,4H),7.1(d,4H),7.4−7.5(m,4H),7.7(d,4H),7.75(d,2H),8.0(d,2H)
3 grams (1 molar equivalent) of a diketopyrrolopyrrole compound and 1.6 grams (2.5 molar equivalent) of pyridine acetonitrile are stirred in 60 mL of toluene, and 6.5 grams of phosphorus oxychloride (8 molar equivalents) are added. Heated to reflux for hours. After cooling to room temperature (25 ° C.), 50 mL of chloroform and 20 mL of water were added, and the mixture was further stirred for 30 minutes. The organic layer was taken out by a liquid separation operation and washed with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (solvent chloroform) and recrystallized using chloroform / acetonitrile solvent to obtain 3.3 g of the target compound (D-17) in a yield of 70%. It was.
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.9-1.0 (m, 12H), 1.35-1.6 (m, 16H), 1.8 (m, 2H), 3.95 (d, 4H), 7.1 (d, 4H), 7.4-7.5 (m, 4H), 7.7 (d, 4H), 7.75 (d, 2H), 8.0 (d, 2H) )

合成例2
[例示化合物(D−10)の調製]
前記スキームに従い例示化合物(D−10)を調製した。
ジフェニルボリン酸2−アミノメチルエステル(1.4g、3モル当量)のトルエン溶液(1.2M)に塩化チタン(0.9mL、3モル当量)を添加し、30分間、外接温度100℃で攪拌した。次に、例示化合物(D−17)(2.3g)のトルエン混合液(0.2M)を添加し、さらに2時間加熱還流条件で攪拌した。室温まで冷やし、メタノールを加えたところ、結晶が析出したため、これをろ別し、クロロホルム/メタノールで再結晶を行い、例示化合物(D−10)を3.0g、収率93%で得た。
λmaxはクロロホルム中で779nmであった。モル吸収係数は、クロロホルム中、2.06×105dm3/mol・cmであった。
1H−NMR(CDCl3):δ0.9−1.0(m,12H),1.35−1.6(m,16H),1.8(m,2H),3.85(d,4H),6.45(s,8H),7.0(d,4H),7.15(m12H),7.2(m,2H),7.25(m,4H+4H),7.5(m,2H)
Synthesis example 2
[Preparation of Exemplary Compound (D-10)]
Exemplified compound (D-10) was prepared according to the above scheme.
Titanium chloride (0.9 mL, 3 molar equivalents) was added to a toluene solution (1.2 M) of diphenylborinic acid 2-aminomethyl ester (1.4 g, 3 molar equivalents) and stirred for 30 minutes at an external temperature of 100 ° C. did. Next, the toluene compound liquid (0.2M) of exemplary compound (D-17) (2.3g) was added, and also it stirred on heating-reflux conditions for 2 hours. When the mixture was cooled to room temperature and methanol was added, crystals were precipitated. The crystals were separated by filtration and recrystallized from chloroform / methanol to obtain 3.0 g of Exemplified Compound (D-10) in a yield of 93%.
λmax was 779 nm in chloroform. The molar absorption coefficient was 2.06 × 10 5 dm 3 / mol · cm in chloroform.
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.9-1.0 (m, 12H), 1.35-1.6 (m, 16H), 1.8 (m, 2H), 3.85 (d, 4H), 6.45 (s, 8H), 7.0 (d, 4H), 7.15 (m12H), 7.2 (m, 2H), 7.25 (m, 4H + 4H), 7.5 ( m, 2H)

合成例3
[例示化合物(D−28)の調製]
例示化合物(D−28)を、原料を代えたこと以外は前記と同様にして調製した。構造同定した1H−NMRを示す。
例示化合物(D−28)
1H−NMR(CDCl3):1.9(s,6H),6.65(d,2H),6.7−6.8(m,6H),6.95(m,8H),7.0−7.1(m,4H),7.25−7.35(m,12H),7.5(m,2H),7.85(d,2H)
λmaxはクロロホルム中で752nmであった。モル吸収係数は、クロロホルム中、1.53×105dm3/mol・cmであった。
なお、例示化合物(D−10)、(D−17)の溶液吸収スペクトルを図1に示す。
例示化合物(D−10)、(D−17)及び(D−28)はいずれも近赤外光の吸収性に優れ、400〜500nmの吸収が小さく、不可視性が更に優れることがわかった。
Synthesis example 3
[Preparation of exemplary compound (D-28)]
Exemplified compound (D-28) was prepared in the same manner as described above except that the raw materials were changed. 1 H-NMR whose structure has been identified is shown.
Exemplary compound (D-28)
1 H-NMR (CDCl 3 ): 1.9 (s, 6H), 6.65 (d, 2H), 6.7-6.8 (m, 6H), 6.95 (m, 8H), 7 0.0-7.1 (m, 4H), 7.25-7.35 (m, 12H), 7.5 (m, 2H), 7.85 (d, 2H)
λmax was 752 nm in chloroform. The molar absorption coefficient was 1.53 × 10 5 dm 3 / mol · cm in chloroform.
In addition, the solution absorption spectrum of exemplary compound (D-10) and (D-17) is shown in FIG.
It was found that the exemplified compounds (D-10), (D-17) and (D-28) are all excellent in near-infrared light absorption, have a small absorption at 400 to 500 nm, and are further excellent in invisibility.

実施例1
(近赤外線吸収化合物の水性分散微粒子の製造)
下記表1に示す種類及び質量部の、近赤外線吸収化合物と分散剤とに、水を加え500質量部とした。これにさらに0.1mmφのジルコニアビーズを500質量部添加し、遊星型ボールミルにて300rpmで5時間処理を行い、微細粒子からなる水性分散液を作製した。
その後、前記水性分散液からビーズを濾過で分離し、水性分散液A−1〜A−5を得た。ナノトラックUPA粒度分析計(UPA−EX150、商品名、日機装社製)によって水性分散液A中の微細粒子の粒径を測定した。平均粒径を下記表1に示す。
Example 1
(Production of aqueous dispersed fine particles of near-infrared absorbing compound)
Water was added to the near-infrared absorbing compound and dispersant of the types and parts by mass shown in Table 1 below to make 500 parts by mass. To this was further added 500 parts by mass of 0.1 mmφ zirconia beads, followed by treatment at 300 rpm for 5 hours with a planetary ball mill to prepare an aqueous dispersion composed of fine particles.
Thereafter, beads were separated from the aqueous dispersion by filtration to obtain aqueous dispersions A-1 to A-5. The particle size of the fine particles in the aqueous dispersion A was measured with a Nanotrac UPA particle size analyzer (UPA-EX150, trade name, manufactured by Nikkiso Co., Ltd.). The average particle size is shown in Table 1 below.

Figure 0005601768
Figure 0005601768

(近赤外線吸収膜の作製)
水性分散液A−1〜A−5に、下記表2に示す種類のポリマーを添加して、全体を100質量部とした塗布原液に純水を加えて濃度を調整し、ポリエチレンテレフタレート(PET)板に塗布した。さらに、下記表2に示す乾燥方法にて塗布膜を乾燥し、近赤外線吸収膜B−1〜B−17を作製した。なお、塗布液濃度は、得られた膜の吸収スペクトルを測定し、近赤外線吸収化合物のλmaxにおける光学濃度が1.5となるよう調整した。
図2に、近赤外線吸収膜B−4の吸収スペクトルを示す。
図2から明らかなように、λmaxは848nmであり、良好な赤外光吸収性が得られた。また、400〜700nmにほとんど吸収を有せず、優れた不可視性を有することがわかる。
(Preparation of near infrared absorption film)
Polyethylene terephthalate (PET) was added to aqueous dispersions A-1 to A-5 by adding the types of polymers shown in Table 2 below, adjusting the concentration by adding pure water to the coating stock solution with a total of 100 parts by mass. It was applied to the plate. Furthermore, the coating film was dried by the drying method shown in Table 2 below, and near-infrared absorbing films B-1 to B-17 were produced. The coating solution concentration was adjusted by measuring the absorption spectrum of the obtained film so that the optical density at λmax of the near-infrared absorbing compound was 1.5.
FIG. 2 shows an absorption spectrum of the near-infrared absorbing film B-4.
As is apparent from FIG. 2, λmax was 848 nm, and good infrared light absorptivity was obtained. It can also be seen that the film has almost no absorption at 400 to 700 nm and has excellent invisibility.

(耐光性試験)
得られた近赤外線吸収膜B−1〜B−17を、それぞれ22万ルクスのキセノンランプにて72時間照射した。近赤外線吸収膜B−1〜B−17の分光極大吸収波長における吸光度を測定し、光照射前のそれに対する残存比を求め、耐光性を評価した。結果を下記表2に示す。
(Light resistance test)
The obtained near-infrared absorbing films B-1 to B-17 were each irradiated with a 220,000 lux xenon lamp for 72 hours. The absorbance at the spectral maximum absorption wavelength of the near-infrared absorbing films B-1 to B-17 was measured, the residual ratio to that before light irradiation was determined, and the light resistance was evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(耐湿熱性試験)
得られた各近赤外線吸収膜B−1〜B−17を、60℃90%RTの湿熱試験機内に120時間、設置した。各近赤外線吸収膜B−1〜B−17の分光極大吸収波長における吸光度を測定し、湿熱試験前のそれに対する残存比を求め、耐湿熱性を評価した。結果を下記表2に示す。
(Moisture and heat resistance test)
Each of the obtained near-infrared absorbing films B-1 to B-17 was placed in a wet heat tester at 60 ° C. and 90% RT for 120 hours. The absorbance at the spectral maximum absorption wavelength of each near-infrared absorbing film B-1 to B-17 was measured, the residual ratio to that before the wet heat test was determined, and the wet heat resistance was evaluated. The results are shown in Table 2 below.

Figure 0005601768
Figure 0005601768

表2から明らかなように、本発明の近赤外線吸収膜B−3〜B−6、B−8、B−9、B−11、B−12、B−14、B−15、B−17は、いずれも良好な耐光性、耐湿熱性を示した。特に、ウレタン樹脂からなるバインダーを用いて、加熱乾燥(130℃5分)を行って得た近赤外線吸収膜B−4、B−12、B−15はいずれも、極めて高い耐光性と耐湿熱性を示した。   As is apparent from Table 2, the near-infrared absorbing films B-3 to B-6, B-8, B-9, B-11, B-12, B-14, B-15, B-17 of the present invention. Both exhibited good light resistance and wet heat resistance. In particular, the near-infrared absorbing films B-4, B-12, and B-15 obtained by heating and drying (130 ° C. for 5 minutes) using a binder made of a urethane resin all have extremely high light resistance and moisture and heat resistance. showed that.

以上の結果、本発明の近赤外線吸収組成物およびそれにより得られた近赤外線吸収膜は、良好な近赤外線吸収性と不可視性を有すると共に高い耐光性と耐湿熱性を有する、という優れた特徴を有し、光学フィルターや情報記録材料として応用できることがわかる。   As a result of the above, the near-infrared absorbing composition of the present invention and the near-infrared absorbing film obtained thereby have excellent characteristics of having good near-infrared absorptivity and invisibility as well as high light resistance and moist heat resistance. It can be seen that it can be applied as an optical filter or an information recording material.

図1は、例示化合物D−10及びD−28の溶液吸収スペクトルを表す。FIG. 1 shows the solution absorption spectra of Exemplified Compounds D-10 and D-28. 図2は、実施例1で作製した近赤外線吸収膜B−4の吸収スペクトルを表す。FIG. 2 shows an absorption spectrum of the near-infrared absorbing film B-4 produced in Example 1.

Claims (18)

下記一般式(1’)で表される近赤外線吸収化合物と疎水性ポリマーとを少なくとも含有する近赤外線吸収組成物。
Figure 0005601768
(式中、R1a及びR1bは同じであっても異なっても良く、各々独立にアルキル基、下記置換基群から選択される置換基を有してもよいアリール基またはヘテロアリール基を表す。R2及びR3は各々独立に水素原子、シアノ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルボキシル基またはヘテロ環基を表し、少なくとも一方はHammettのσp値が0.2以上の電子吸引性基であり、R2及びR3は結合して環を形成しても良い。R4は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素または金属原子を表し、R1a、R1b及び/又はR3と共有結合もしくは配位結合しても良い。)
〔置換基群〕
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、分岐アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基
A near-infrared absorbing composition containing at least a near-infrared absorbing compound represented by the following general formula (1 ′) and a hydrophobic polymer.
Figure 0005601768
(Wherein R 1a and R 1b may be the same or different and each independently represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group which may have a substituent selected from the following substituent group) R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom , cyano group, acyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, carboxyl group or heterocyclic group , One is an electron-withdrawing group having a Hammett's σp value of 0.2 or more , and R 2 and R 3 may combine to form a ring, where R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl. Represents a group, a substituted boron or a metal atom, and may be covalently or coordinately bonded to R 1a , R 1b and / or R 3. )
(Substituent group)
Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, branched alkoxy group, aryloxy group, aromatic heterocyclic oxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, Sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, ureido group, hydroxy group, mercapto group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group , Heterocyclic group
前記近赤外線吸収化合物が、水性分散微粒子状態で存在することを特徴とする請求項1に記載の近赤外線吸収組成物。   The near-infrared absorbing composition according to claim 1, wherein the near-infrared absorbing compound is present in an aqueous dispersed fine particle state. 下記一般式(1)で表される近赤外線吸収化合物と疎水性ポリマーとを少なくとも含有する近赤外線吸収組成物であって、A near-infrared absorbing composition containing at least a near-infrared absorbing compound represented by the following general formula (1) and a hydrophobic polymer,
該近赤外線吸収化合物が、水性分散微粒子状態で存在し、The near-infrared absorbing compound is present in the form of an aqueous dispersion fine particle;
該微粒子の体積平均粒子径が10nm以上250nm以下であることを特徴とする近赤外線吸収組成物。A near-infrared absorbing composition, wherein the fine particles have a volume average particle diameter of 10 nm to 250 nm.
Figure 0005601768
Figure 0005601768
(式中、R(Wherein R 1a1a 及びRAnd R 1b1b は同じであっても異なっても良く、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。RMay be the same or different and each independently represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group. R 22 及びRAnd R 3Three は各々独立に水素原子、シアノ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルボキシル基またはヘテロ環基を表し、少なくとも一方はHammettのσp値が0.2以上の電子吸引性基であり、REach independently represents a hydrogen atom, a cyano group, an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a carboxyl group or a heterocyclic group, at least one of which is a Hammett σp value Is an electron withdrawing group of 0.2 or more, and R 22 及びRAnd R 3Three は結合して環を形成しても良い。RMay combine to form a ring. R 4Four は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素または金属原子を表し、RRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a substituted boron or a metal atom, and R 1a1a 、R, R 1b1b 及び/又はRAnd / or R 3Three と共有結合もしくは配位結合しても良い。)And may be covalently bonded or coordinately bonded. )
前記RR 1a1a 及びRAnd R 1b1b におけるアリール基が、下記置換基群から選択される置換基を有してもよいアリール基であることを特徴とする請求項3に記載の近赤外線吸収組成物。The near-infrared absorbing composition according to claim 3, wherein the aryl group in is an aryl group which may have a substituent selected from the following substituent group.
〔置換基群〕(Substituent group)
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、分岐アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, branched alkoxy group, aryloxy group, aromatic heterocyclic oxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, Sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, ureido group, hydroxy group, mercapto group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group , Heterocyclic group
前記RR 4 が置換ホウ素であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物。Is a substituted boron, The near-infrared absorption composition of any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記近赤外線吸収化合物が、分散剤で分散され、水性分散微粒子状態で存在することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物。The near-infrared absorbing composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the near-infrared absorbing compound is dispersed with a dispersant and is present in an aqueous dispersed fine particle state. 前記疎水性ポリマーが、有機樹脂の水性分散物を形成してなることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物。 Wherein the hydrophobic polymer is, near-infrared absorbing composition according to any one of claims 1-6, characterized by comprising forming an aqueous dispersion of organic resin. 前記疎水性ポリマーが、アクリル樹脂またはウレタン樹脂を含有することを特徴とする請求項1〜のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物。 The near-infrared absorbing composition according to any one of claims 1 to 7 , wherein the hydrophobic polymer contains an acrylic resin or a urethane resin. 支持体上に、請求項1〜のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物を用いて形成された近赤外線吸収層を有することを特徴とする近赤外線吸収塗布物。 It has a near-infrared absorption layer formed using the near-infrared absorption composition of any one of Claims 1-8 on a support body, The near-infrared absorption coating material characterized by the above-mentioned. 可視光線の吸収率が30%以下であることを特徴とする請求項に記載の近赤外線吸収塗布物。 The near-infrared absorbing coating material according to claim 9 , wherein the visible light absorption rate is 30% or less. 近赤外線吸収化合物と疎水性ポリマーとを少なくとも含有する近赤外線吸収組成物の製造方法であって、A method for producing a near-infrared absorbing composition comprising at least a near-infrared absorbing compound and a hydrophobic polymer,
該近赤外線吸収化合物が下記一般式(1)で表される化合物であり、The near-infrared absorbing compound is a compound represented by the following general formula (1),
少なくとも下記工程[1]および[2]を含む近赤外線吸収組成物の製造方法。A method for producing a near-infrared absorbing composition comprising at least the following steps [1] and [2].
Figure 0005601768
Figure 0005601768
(式中、R(Wherein R 1a1a 及びRAnd R 1b1b は同じであっても異なっても良く、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。RMay be the same or different and each independently represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group. R 22 及びRAnd R 3Three は各々独立に水素原子、シアノ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルボキシル基またはヘテロ環基を表し、少なくとも一方はHammettのσp値が0.2以上の電子吸引性基であり、REach independently represents a hydrogen atom, a cyano group, an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a carboxyl group or a heterocyclic group, at least one of which is a Hammett σp value Is an electron withdrawing group of 0.2 or more, and R 22 及びRAnd R 3Three は結合して環を形成しても良い。RMay combine to form a ring. R 4Four は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素、金属原子を表し、RRepresents a hydrogen atom, alkyl group, aryl group, heteroaryl group, substituted boron, metal atom, R 1a1a 、R, R 1b1b 及び/又はRAnd / or R 3Three と共有結合もしくは配位結合しても良い。)And may be covalently bonded or coordinately bonded. )
[製造工程][Manufacturing process]
[1]上記近赤外線吸収化合物を水中で分散して水性分散液を得る工程[1] A step of obtaining an aqueous dispersion by dispersing the near-infrared absorbing compound in water.
[2]前記工程で得た近赤外線吸収化合物微粒子の水性分散液に疎水性ポリマーの水性分散物を添加する工程[2] A step of adding an aqueous dispersion of a hydrophobic polymer to an aqueous dispersion of near-infrared absorbing compound fine particles obtained in the above step
前記RR 1a1a 及びRAnd R 1b1b におけるアリール基が、下記置換基群から選択される置換基を有してもよいアリール基であることを特徴とする請求項11に記載の近赤外線吸収組成物の製造方法。The method for producing a near-infrared absorbing composition according to claim 11, wherein the aryl group in is an aryl group which may have a substituent selected from the following substituent group.
〔置換基群〕(Substituent group)
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、分岐アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, branched alkoxy group, aryloxy group, aromatic heterocyclic oxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, Sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, ureido group, hydroxy group, mercapto group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group , Heterocyclic group
前記RR 4 が置換ホウ素であることを特徴とする請求項11または12に記載の近赤外線吸収組成物の製造方法。Is a substituted boron, The manufacturing method of the near-infrared absorption composition of Claim 11 or 12 characterized by the above-mentioned. 前記近赤外線吸収化合物を、分散剤で分散し、前記近赤外線吸収組成物中に水性分散微粒子状態で存在することを特徴とする請求項11〜13のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物の製造方法。The near-infrared absorbing composition according to any one of claims 11 to 13, wherein the near-infrared absorbing compound is dispersed with a dispersant and is present in an aqueous dispersed fine particle state in the near-infrared absorbing composition. Manufacturing method. 前記微粒子の体積平均粒子径が10nm以上250nm以下であることを特徴とする請求項11〜14のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物の製造方法。The method for producing a near-infrared absorbing composition according to claim 11, wherein a volume average particle diameter of the fine particles is 10 nm or more and 250 nm or less. 前記疎水性ポリマーが、アクリル樹脂またはウレタン樹脂を含有することを特徴とする請求項11〜15のいずれか1項に記載の近赤外線吸収組成物の製造方法。The said hydrophobic polymer contains an acrylic resin or a urethane resin, The manufacturing method of the near-infrared absorption composition of any one of Claims 11-15 characterized by the above-mentioned. 支持体上に、請求項11〜16のいずれか1項に記載の製造方法により得た近赤外線吸収組成物を用いて近赤外線吸収層を形成する工程を有し、該工程において、加熱乾燥を行うことを特徴とする近赤外線吸収塗布物の製造方法。It has the process of forming a near-infrared absorption layer using the near-infrared absorption composition obtained by the manufacturing method of any one of Claims 11-16 on a support body, In this process, heat drying is carried out. A method for producing a near-infrared-absorbing coated product, comprising: 前記赤外線吸収塗布物の可視光線の吸収率が30%以下であることを特徴とする請求項17に記載の近赤外線吸収塗布物の製造方法。18. The method for producing a near-infrared absorbing coating material according to claim 17, wherein the visible light absorptivity of the infrared absorbing coating material is 30% or less.
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