JP2010018688A - Light absorbing composition - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an infrared ray-absorbing composition which absorbs light in a near-infrared region, does not absorb light in a region of 400-700 nm, and has excellent invisibility and high fastness, and to provide materials coated with the same (information recording materials, filters or the like). <P>SOLUTION: A light absorbing composition contains a compound represented by general formula (1) and a dithiol metal complex compound. In the formula (1), R<SP>1</SP>represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group; R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>each independently represents a hydrogen atom or a substituent, wherein at least one of R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>is an electron-withdrawing group and R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>may be linked to form a ring; and R<SP>4</SP>represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, substituted boron and a metal atom, and may be covalently or coordinately bonded to R<SP>1</SP>and/or R<SP>3</SP>. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は光吸収性組成物に関し、特に、近赤外領域に吸収を有し、かつ可視域に吸収を有さない赤外線吸収組成物に関する。   The present invention relates to a light-absorbing composition, and particularly relates to an infrared-absorbing composition that has absorption in the near-infrared region and has no absorption in the visible region.

近赤外吸収色素は、プラズマディスプレイパネル(PDP)やCCD用の赤外線カットフィルムや熱線遮蔽フィルムとしての光学フィルタ用途や、追記型光ディスク(CD−R)やフラッシュ溶融定着材料としての光熱変換材料用途、セキュリティーインクや、不可視バーコードインクとしての情報表示材料として用いられており、特に近赤外色素に特徴的な性能として、近赤外領域に強い吸収を有することに併せて、目に見えないと言う不可視性への高い要求がある。また、同時に色素全般に要求される性能として高い堅牢性が要求されている。   Near-infrared absorbing dyes are used as optical filters for plasma display panels (PDP) and infrared cut films for CCDs and heat ray shielding films, and for photothermal conversion materials as write-once optical discs (CD-R) and flash fusion fixing materials. It is used as an information display material as security ink and invisible barcode ink, and is invisible in addition to having strong absorption in the near infrared region, particularly as a characteristic characteristic of near infrared pigments There is a high demand for invisibility. At the same time, high fastness is required as a performance required for all dyes.

400nm〜700nmの領域に吸収をほとんど持たない不可視性に優れる色素としては、第一にシアニンメチン色素やそのJ会合体が挙げられるが、長いメチン共役鎖は、フレキシブルであるため異性化に伴う吸収形の変化や熱や酸素、求核剤との反応による分解が起こりやすく、堅牢性が低い。
剛直な骨格をもち高堅牢な近赤外吸収色素としては、日本触媒(株)から上市されているバナジルナフタロシアニン色素やBASF(株)から上市されているクオータリレン色素があるが、バナジルフタロシアニンは不可視性が不十分である。一方、クオータリレンは溶液など分子分散状態では良好な不可視性を有するものの、濃度を上げると会合により可視域に吸収を生じ、不可視性が失われ、使用形態が限定される。
不可視性に優れ、赤外領域を広くカバーする色素としては、日本化薬(株)等から上市されているジインモニウム色素があるが、還元されやすく、堅牢性は不十分であり、使用形態が限定されてしまう。
このように、現在、不可視性と堅牢性とを両立する近赤外色素は上市されておらず、これら性能を両立する近赤外色素の開発が望まれている。
Examples of dyes with excellent invisibility that hardly absorb in the region of 400 nm to 700 nm include cyanine methine dyes and J-aggregates thereof, but long methine conjugated chains are flexible and have absorption forms accompanying isomerization. It is easy to decompose due to changes in heat and reaction with heat, oxygen, and nucleophiles, and has low robustness.
Highly robust near-infrared absorbing dyes with a rigid skeleton include vanadyl naphthalocyanine dyes marketed by Nippon Shokubai Co., Ltd. and quartertalylene dyes marketed by BASF Corporation, but vanadyl phthalocyanine is invisible. Insufficient sex. On the other hand, although quarterrylene has good invisibility in a molecular dispersion state such as a solution, when the concentration is increased, absorption occurs in the visible region due to association, the invisibility is lost, and the usage form is limited.
As a dye that has excellent invisibility and covers the infrared region widely, there are diimonium dyes marketed by Nippon Kayaku Co., Ltd., etc., but they are easy to be reduced, their fastness is insufficient, and their usage is limited. It will be.
Thus, currently, no near-infrared dye that achieves both invisibility and fastness has been put on the market, and the development of a near-infrared dye that satisfies these performances is desired.

また、新規赤外色素としてピロロピロール系色素が知られている(例えば非特許文献1を参照)。非特許文献1では、赤外蛍光色素を目指し検討した結果が記載されており、ホウ素錯体化し、分子の剛直性を挙げることで、高い蛍光量子収率を達成することが記載されている。また、この骨格群に特徴的な蛍光色素を応用した例として有機エレクトロルミネッセンス素子への応用が知られている(例えば特許文献1〜3を参照)。
一般に、強い蛍光を発するには、蛍光色素を濃度消光を起こさない希薄状態で用い、ホスト材料を共蒸着を行い分子分散状態で使用される。また、このような蛍光色素は、一般に耐光性が低いことが知られている。
Further, pyrrolopyrrole dyes are known as novel infrared dyes (see, for example, Non-Patent Document 1). Non-Patent Document 1 describes the results of studies aimed at infrared fluorescent dyes, and describes that a high fluorescence quantum yield is achieved by increasing the molecular rigidity by boron complexation. Moreover, the application to an organic electroluminescent element is known as an example which applied the fluorescent dye characteristic to this skeleton group (for example, refer patent documents 1-3).
In general, in order to emit strong fluorescence, a fluorescent dye is used in a dilute state that does not cause concentration quenching, and a host material is co-deposited and used in a molecular dispersion state. Such fluorescent dyes are generally known to have low light resistance.

不可視性と堅牢性とを両立する近赤外色素組成物をピロロピロール系色素で達成するためには、堅牢性(特に光堅牢性)の改善が重要な課題であり、特に分子分散した分散物の塗布物や、アモルファス状態の塗布膜(アモルファス膜)での耐光性の改善が望まれていた。また、ピロロピロール系色素は、微粒子として用いた場合には耐光性が向上することが知られているが、さらなる耐光性の改善が望まれていた。   In order to achieve near-infrared dye compositions that achieve both invisibility and fastness with pyrrolopyrrole dyes, improvement of fastness (especially light fastness) is an important issue, especially molecularly dispersed dispersions It has been desired to improve the light resistance of the coated material and the amorphous coated film (amorphous film). Further, pyrrolopyrrole dyes are known to have improved light resistance when used as fine particles, but further improvement in light resistance has been desired.

特許第3704748号公報Japanese Patent No. 3704748 特開2003−027049号公報JP 2003-027049 A 国際公開WO2003/048268号パンフレットInternational Publication WO2003 / 048268 Pamphlet 「アンゲバンテ・ヘミー・インターナショナル・エディション・オブ・イングリッシュ(Angewante Chemie International Edition of English)」,第46巻,第3750〜3753ページ(2007年)“Angewante Chemie International Edition of English”, Volume 46, pages 3750-3753 (2007)

本発明の目的は、近赤外領域に吸収を有し、400〜700nmの領域に吸収を有さない不可視性に優れた高堅牢な赤外線吸収性組成物を提供することであり、その塗布物(情報記録記録物やフィルタ等)を提供することである。   An object of the present invention is to provide a highly robust infrared-absorbing composition having absorption in the near-infrared region and excellent in invisibility that has no absorption in the 400-700 nm region. (Information recording records, filters, etc.).

本発明の課題は、下記の手段によって解決された。
[1]下記一般式(1)で表される化合物とジチオール金属錯体化合物とを含む光吸収性組成物。

Figure 2010018688
(式中、R1はアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。R2及びR3は各々独立に水素原子または置換基を表し、少なくとも一方は電子吸引性基であり、R2及びR3は結合して環を形成しても良い。R4は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素、金属原子を表し、R1及び/又はR3と共有結合もしくは配位結合しても良い。) The problems of the present invention have been solved by the following means.
[1] A light-absorbing composition comprising a compound represented by the following general formula (1) and a dithiol metal complex compound.
Figure 2010018688
(In the formula, R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group .R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, at least one of an electron withdrawing group, R 2 and R 3 may be bonded to form a ring, and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a substituted boron or a metal atom, and is covalently bonded or coordinated with R 1 and / or R 3. May be combined.)

[2]前記ジチオール金属錯体化合物が下記一般式(A)で表される化合物である、[1]項に記載の光吸収性組成物。

Figure 2010018688
(式中、Ra1及びRa2は、各々独立にアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、チオ基、又はシアノ基を表し、Ra1とRa2とが連結して環構造を形成しても良く、形成された環は、飽和環もしくは不飽和環のいずれであっても良い。nは2又は3の整数を表す。Mは金属原子を表す。Zaは0、1−、2−を表す。また、Zaが1−、2−を表すとき、YはZaの電荷を中和するカチオン化合物を表す。) [2] The light-absorbing composition according to item [1], wherein the dithiol metal complex compound is a compound represented by the following general formula (A).
Figure 2010018688
(Wherein R a1 and R a2 each independently represents an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a thio group, or a cyano group, and R a1 and R a2 may be linked to form a ring structure. The ring formed may be either a saturated ring or an unsaturated ring, n represents an integer of 2 or 3, M represents a metal atom, Za represents 0, 1-, 2-. In addition, when Za represents 1- or 2-, Y represents a cationic compound that neutralizes the charge of Za.)

[3]前記一般式(A)で表される化合物が下記一般式(A1)で表される化合物である、[2]項に記載の光吸収性組成物。

Figure 2010018688
(式中、Ra1、Ra2、Ra3、Ra4は、各々独立にアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、チオ基、又はシアノ基を表し、Ra1とRa2ないしRa3とRa4が連結して環構造を形成しても良く、形成された環は、飽和環もしくは不飽和環のいずれであっても良い。Mは金属原子を表す。Zaは0、1−、2−を表す。また、Zaが1−、2−を表すとき、YはZaの電荷を中和するカチオン化合物を表す。) [3] The light-absorbing composition according to item [2], wherein the compound represented by the general formula (A) is a compound represented by the following general formula (A1).
Figure 2010018688
(Wherein R a1 , R a2 , R a3 and R a4 each independently represents an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a thio group, or a cyano group, and R a1 and R a2 or R a3 and R a4 May be linked to form a ring structure, and the formed ring may be either a saturated ring or an unsaturated ring, M represents a metal atom, Za represents 0, 1 or 2; In addition, when Za represents 1- or 2-, Y represents a cationic compound that neutralizes the charge of Za.)

[4]前記一般式(A)で表される化合物が下記一般式(A2)〜(A5)のいずれかで表される化合物である、[2]項に記載の光吸収性組成物。

Figure 2010018688
(前記一般式(A2)〜(A5)中、R11は置換基を表し、mは1〜4の整数を表す。複数のR11は同一でも異なっていても良い。EWGは電子吸引性基を表す。Arはアリール基またはヘテロアリール基を表す。R12及びR13は各々独立にアリール基、ヘテロアリール基、又はアルキル基を表す。nは2又は3の整数を表す。Mは金属原子を表す。Zaは0、1−、2−を表す。また、Zaが1−、2−を表すとき、YはZaの電荷を中和するカチオン化合物を表す。) [4] The light-absorbing composition according to item [2], wherein the compound represented by the general formula (A) is a compound represented by any one of the following general formulas (A2) to (A5).
Figure 2010018688
(In the general formulas (A2) to (A5), R 11 represents a substituent, m represents an integer of 1 to 4. A plurality of R 11 may be the same or different. EWG represents an electron-withdrawing group. Ar represents an aryl group or a heteroaryl group, R 12 and R 13 each independently represents an aryl group, a heteroaryl group, or an alkyl group, n represents an integer of 2 or 3, and M represents a metal atom. Za represents 0, 1-, 2-. When Za represents 1-, 2-, Y represents a cationic compound that neutralizes the charge of Za.)

[5]前記一般式(1)におけるR3がヘテロ環である、[1]〜[4]のいずれか1項に記載の光吸収性組成物。
[6]前記一般式(1)で表される化合物が分子分散している、[1]〜[5]のいずれか1項に記載の光吸収性組成物。
[7]アモルファス状態である、[6]項に記載の光吸収性組成物。
[8]前記一般式(1)で表される化合物からなる微粒子を含む、[1]〜[5]のいずれか1項に記載の光吸収性組成物。
[5] The light-absorbing composition according to any one of [1] to [4], wherein R 3 in the general formula (1) is a heterocycle.
[6] The light-absorbing composition according to any one of [1] to [5], wherein the compound represented by the general formula (1) is molecularly dispersed.
[7] The light-absorbing composition according to item [6], which is in an amorphous state.
[8] The light-absorbing composition according to any one of [1] to [5], including fine particles composed of the compound represented by the general formula (1).

[9][1]〜[8]のいずれか1項に記載の光吸収性組成物であって、700nm以上1000nm以下の赤外線を吸収する、赤外線吸収性組成物。
[10]前記一般式(1)で表される化合物が下記一般式(2)で表される化合物である、[9]項に記載の赤外線吸収性化合物。

Figure 2010018688
(式中、Z1はアリール環もしくはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。R5は炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、炭素数1〜20のカルバモイル基、ハロゲン原子、又はシアノ基のいずれか1つを表し、R5とZ1とが結合して縮合環を形成しても良い。R22及びR23は各々独立にシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜20の含窒素ヘテロアリール基を表し、又はR22及びR23が結合して環状酸性核を表す。R4は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20ヘテロアリール基、金属原子、又は置換基としてハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、もしくは炭素数4〜20のヘテロアリール基を有する置換ホウ素を表し、R23と共有結合もしくは配位結合を有しても良い。また、当該化合物は更に置換基を有しても良い。) [9] The light-absorbing composition according to any one of [1] to [8], which absorbs infrared rays of 700 nm to 1000 nm.
[10] The infrared absorbing compound according to item [9], wherein the compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following general formula (2).
Figure 2010018688
(In the formula, Z 1 represents an atomic group forming an aryl ring or a heteroaryl ring. R 5 is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 20 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 20 carbon atoms. A group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 20 carbon atoms, a carboxyl group, a carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, or a cyano group, and R 5 and Z 1 may be bonded to form a condensed ring, and R 22 and R 23 are each independently a cyano group, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents an alkyl or arylsulfinyl group having from 10 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having from 3 to 20 carbon atoms, or R 22 and R 23 are bonded to each other to represent a cyclic acidic nucleus, wherein R 4 represents a hydrogen atom, 1 to carbon atoms 20 alkyl groups, C6-C20 aryl group, C4-C20 heteroaryl group, metal atom, or halogen atom as a substituent, C1-C10 alkyl group, C6-C20 aryl group, or C4-C4 Represents a substituted boron having ˜20 heteroaryl groups, and may have a covalent bond or a coordinate bond with R 23. In addition, the compound may further have a substituent.

[11]前記一般式(1)で表される化合物が下記一般式(3)で表される化合物である、[9]項に記載の赤外線吸収性化合物。

Figure 2010018688
(式中、R31は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数3〜20のヘテロアリール基を表す。R32はシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜10の含窒素ヘテロアリール基を表す。R6及びR7は各々独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基は炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数4〜10のヘテロアリール基を表し、R6及びR7は結合して環を形成してよく、形成する環としては炭素数5〜10の脂環、炭素数6〜10のアリール環、又は炭素数3〜10のヘテロアリール環である。R8及びR9は各々独立に炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、又は炭素数3〜10のヘテロアリール基を表す。Xは酸素原子、イオウ原子、−NR−、−CRR’−を表し、R及びR’は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又は炭素数6〜10のアリール基を表す。)
[12][1]〜[11]のいずれか1項に記載の組成物を含む塗布物。 [11] The infrared absorbing compound according to item [9], wherein the compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following general formula (3).
Figure 2010018688
(In the formula, R 31 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms. R 32 represents a cyano group or an acyl having 1 to 6 carbon atoms. Group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms, wherein R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom. The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represents an aryl group having 6 to 10 carbon atoms or a heteroaryl group having 4 to 10 carbon atoms, and R 6 and R 7 may be bonded to form a ring. The ring is an alicyclic ring having 5 to 10 carbon atoms, an aryl ring having 6 to 10 carbon atoms, or a heteroaryl ring having 3 to 10 carbon atoms, and R 8 and R 9 are each independently alkyl having 1 to 10 carbon atoms. Group, C1-C10 alkoxy group, carbon Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms or a heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms, X represents an oxygen atom, a sulfur atom, -NR-, or -CRR'-, R and R 'represent a hydrogen atom or a carbon number of 1 Represents an alkyl group having 10 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.)
[12] A coated product comprising the composition according to any one of [1] to [11].

本発明の光吸収性組成物は、優れた光吸収特性、高い堅牢性(特に高い耐光性)をすべて満足する性能を有する。特に、前記一般式(1)におけるR3がヘテロ環である組成物は良好な性能を示す。また、前記一般式(1)で表される化合物が前記一般式(2)で表される化合物である光吸収性組成物は、特に優れた不可視性を有する。また、前記一般式(1)で表される化合物が前記一般式(3)で表される化合物である光吸収性組成物は、より高い堅牢性とより高い不可視性とを両立することができる。さらに、本発明の光吸収性組成物は、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物からなる微粒子を含むことにより、より高い堅牢性を示す。
また、本発明の光吸収性組成物は、優れた赤外線吸収能を有し、700nm以上1000nm以下の赤外線を選択的に吸収することができる。
また、本発明の光吸収性組成物および塗布物(インク、トナー、赤外性情報記録物、光熱変換体、フィルタ等)は、優れた赤外線吸収能を有し、優れた不可視性と優れた耐久性とを両立する。
The light-absorbing composition of the present invention has performance that satisfies all of excellent light-absorbing properties and high fastness (particularly high light resistance). In particular, the composition in which R 3 in the general formula (1) is a heterocycle exhibits good performance. Moreover, the light absorptive composition whose compound represented by the said General formula (1) is a compound represented by the said General formula (2) has the especially outstanding invisibility. Moreover, the light-absorbing composition in which the compound represented by the general formula (1) is the compound represented by the general formula (3) can achieve both higher fastness and higher invisibility. . Furthermore, the light-absorbing composition of the present invention exhibits higher fastness by including fine particles composed of the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3).
Moreover, the light absorbing composition of the present invention has an excellent infrared absorbing ability, and can selectively absorb infrared rays of 700 nm to 1000 nm.
In addition, the light-absorbing composition and the coated material of the present invention (ink, toner, infrared information recording material, photothermal converter, filter, etc.) have excellent infrared absorption ability, excellent invisibility and excellent Balances durability.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の光吸収性組成物は、下記一般式(1)で表される化合物とジチオール金属錯体化合物とを含有する。本発明の光吸収性組成物は、優れた赤外線吸収特性、不可視性、堅牢性をすべて満足する性能を有する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The light absorbing composition of the present invention contains a compound represented by the following general formula (1) and a dithiol metal complex compound. The light-absorbing composition of the present invention has performance that satisfies all of excellent infrared absorption characteristics, invisibility and fastness.

〔一般式(1)で表される化合物〕
まず、下記一般式(1)で表される化合物について説明する。

Figure 2010018688
[Compound represented by the general formula (1)]
First, the compound represented by the following general formula (1) will be described.
Figure 2010018688

(式中、R1はアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。R2及びR3は各々独立に水素原子または置換基を表し、少なくとも一方は電子吸引性基であり、R2及びR3は結合して環を形成しても良い。R4は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素、金属原子を表し、R1及び/又はR3と共有結合もしくは配位結合しても良い。) (In the formula, R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group .R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, at least one of an electron withdrawing group, R 2 and R 3 may be bonded to form a ring, and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a substituted boron or a metal atom, and is covalently bonded or coordinated with R 1 and / or R 3. May be combined.)

前記一般式(1)中、R1で表されるアルキル基としては、好ましくは炭素数1〜30(本発明では、「A〜B」は、「A以上B以下」の意味で用いる。)、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。
また、R1で表されるアリール基としては、好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、例えばフェニル、o−メチルフェニル、p−メチルフェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラニル、フェナントリルなどが挙げられる。
1で表されるヘテロアリール基としては、好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12のヘテロアリール基であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、ナフトチアゾリル、ベンズオキサゾリル、m−カルバゾリル基、アゼピニル基などが挙げられる。
前記一般式(1)中の2つのR1は、互いに同一でも異なってもよい。
In the general formula (1), the alkyl group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms (in the present invention, “A to B” is used to mean “A or more and B or less”). More preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclo And propyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like.
The aryl group represented by R 1 is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl or o-methyl. Examples include phenyl, p-methylphenyl, biphenyl, naphthyl, anthranyl, phenanthryl and the like.
The heteroaryl group represented by R 1 is preferably a heteroaryl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, Specific examples include imidazolyl, pyridyl, quinolyl, furyl, thienyl, benzoxazolyl, benzimidazolyl, benzthiazolyl, naphthothiazolyl, benzoxazolyl, m-carbazolyl group, azepinyl group and the like.
Two R 1 in the general formula (1) may be the same as or different from each other.

2及びR3は各々独立に水素原子または置換基を表し、少なくとも一方は電子吸引性基であり、R2及びR3は結合して環を形成しても良い。置換基としては例えば、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラニル、フェナントリルなどが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜10であり、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2−エチルヘキシロキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、芳香族ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられる。)、 R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, at least one of which is an electron-withdrawing group, and R 2 and R 3 may combine to form a ring. Examples of the substituent include an alkyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms such as methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably carbon number). 2-10, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), alkynyl group (preferably having 2-30 carbon atoms, more preferably 2-20 carbon atoms, particularly preferably carbon number). 2-10, for example, propargyl, 3-pentynyl, etc.), aryl group (preferably having 6 carbon atoms) 30, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl, p-methylphenyl, biphenyl, naphthyl, anthranyl, phenanthryl, etc.), amino group (preferably carbon Number 0 to 30, more preferably 0 to 20 carbon atoms, particularly preferably 0 to 10 carbon atoms, including alkylamino group, arylamino group and heterocyclic amino group, such as amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino , Dibenzylamino, diphenylamino, ditolylamino, etc.), an alkoxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms such as methoxy, Ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyloxy, etc.), ants Ruoxy group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyloxy, 1-naphthyloxy, 2-naphthyloxy, etc.) An aromatic heterocyclic oxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include pyridyloxy, pyrazyloxy, pyrimidyloxy, quinolyloxy and the like. ),

アシル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、 An acyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), an alkoxycarbonyl group ( Preferably it has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, and examples thereof include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl and the like, and an aryloxycarbonyl group (preferably having a carbon number). 7 to 30, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl, and acyloxy groups (preferably 2 to 30 carbon atoms, more preferably carbon atoms). 2 to 20, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, for example, acetoxy, benzoyloxy An acylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include acetylamino and benzoylamino). An alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms such as methoxycarbonylamino), aryloxycarbonylamino group (Preferably 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino), sulfonylamino group (preferably 1 carbon atom) To 30, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, Methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.), sulfamoyl groups (preferably having 0 to 30 carbon atoms, more preferably 0 to 20 carbon atoms, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, such as sulfamoyl, methyl And carbamoyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms). For example, carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), alkylthio group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, Methylthio, ethylthio, etc.), ants Ruthio group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenylthio and the like. ),

芳香族ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルチオ、2−ベンズイミゾリルチオ、2−ベンズオキサゾリルチオ、2−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、カルバゾリル基、アゼピニル基などが挙げられる。)、シリル基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。)などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。 Aromatic heterocyclic thio group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as pyridylthio, 2-benzimidazolylthio, 2-benzoxazolyl And sulfonyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl and tosyl). ), Sulfinyl groups (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfinyl, benzenesulfinyl, etc.) A ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, Ureido, methylureido, phenylureido, etc.), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example diethyl phosphorus Acid amide, phenylphosphoric acid amide, etc.), hydroxy group, mercapto group, halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxam An acid group, a sulfino group, a hydrazino group, an imino group, a heterocyclic group (preferably having a carbon number of 1 to 30, more preferably a carbon number of 1 to 12, and examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, Specifically, for example, imidazolyl, pyridyl, quinolyl, furyl, thienyl, piperidyl, morpholino, ben Oxazolyl, benzimidazolyl, benzthiazolyl, carbazolyl group, azepinyl group, etc.), silyl group (preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, Examples thereof include trimethylsilyl and triphenylsilyl). These substituents may be further substituted.

2又はR3で表される電子吸引性基としては、好ましくはHammettのσm値もしくはσp値(シグマパラ値)が0.2以上の電子吸引性基を表し、例えばシアノ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、スルフィニル基、ヘテロ環基などが挙げられる。これら電子吸引性基はさらに置換されていても良い。 The electron-withdrawing group represented by R 2 or R 3 is preferably an electron-withdrawing group having a Hammett σm value or σp value (sigma para value) of 0.2 or more, such as a cyano group, an acyl group, and an alkyl group. Examples thereof include an oxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfamoyl group, a sulfinyl group, and a heterocyclic group. These electron withdrawing groups may be further substituted.

ハメットの置換基定数σ値について説明する。ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために1935年L.P.Hammettにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則に求められた置換基定数にはσp値とσm値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。例えば、J.A.Dean編、「Lange’s Handbook of Chemistry」第12版,1979年(Mc Graw−Hill)や「化学の領域」増刊,122号,96〜103頁,1979年(南光堂)、Chem.Rev.,1991年,91巻,165〜195ページなどに詳しい。本発明におけるハメットの置換基定数σm値もしくはσp値が0.2以上の置換基とは電子求引性基であることを示している。σm値もしくはσp値として好ましくは0.25以上であり、より好ましくは0.3以上であり、特に好ましくは0.35以上である。   Hammett's substituent constant σ value will be described. Hammett's rule is a method described in 1935 by L. E. in order to quantitatively discuss the effect of substituents on the reaction or equilibrium of benzene derivatives. P. A rule of thumb proposed by Hammett, which is widely accepted today. Substituent constants determined by Hammett's rule include σp value and σm value, and these values can be found in many general books. For example, J. et al. A. Dean, “Lange's Handbook of Chemistry”, 12th edition, 1979 (Mc Graw-Hill) and “Areas of Chemistry”, No. 122, 96-103, 1979 (Nankodo), Chem. Rev. 1991, 91, 165-195. In the present invention, a substituent having a Hammett's substituent constant σm value or σp value of 0.2 or more indicates an electron-attracting group. The σm value or σp value is preferably 0.25 or more, more preferably 0.3 or more, and particularly preferably 0.35 or more.

具体例としては、シアノ基(σp=0.66)、カルボキシル基(-COOH:σp=0.45)、アルコキシカルボニル基(-COOMe:σp=0.45)、アリールオキシカルボニル基(-COOPh:σp=0.44)、カルバモイル基(-CONH2:σp=0.36)、アルキルカルボニル基(-COMe:σp=0.50)、アリールカルボニル基(-COPh:σp=0.43)、アルキルスルホニル基(-SO2Me:σp=0.72)、アリールスルホニル基(-SO2Ph:σp=0.68)、または、2−ピリジル基(σm=0.33)、3−ピリジル基(σp=0.25)、4−ピリジル基(σp=0.44)または2−ベンゾチアゾリル(σp=0.29)、2−ベンゾオキサゾリル(σp=0.33)などが挙げられる。本明細書において、Meはメチル基を、Phはフェニル基を表す。なお、括弧内の値は代表的な置換基のσ値をChem.Rev.,1991年,91巻,165〜195ページから抜粋したものである。 Specific examples include cyano group (σp = 0.66), carboxyl group (—COOH: σp = 0.45), alkoxycarbonyl group (—COOMe: σp = 0.45), aryloxycarbonyl group (—COOPh: σp = 0.44), carbamoyl. Group (—CONH 2 : σp = 0.36), alkylcarbonyl group (—COMe: σp = 0.50), arylcarbonyl group (—COPh: σp = 0.43), alkylsulfonyl group (—SO 2 Me: σp = 0.72), aryl A sulfonyl group (—SO 2 Ph: σp = 0.68), a 2-pyridyl group (σm = 0.33), a 3-pyridyl group (σp = 0.25), a 4-pyridyl group (σp = 0.44), or 2-benzothiazolyl (σp = 0.29), 2-benzoxazolyl (σp = 0.33), and the like. In the present specification, Me represents a methyl group, and Ph represents a phenyl group. The values in parentheses are the σ values of typical substituents in Chem. Rev. 1991, Vol. 91, pp. 165-195.

さらに、R2及びR3が結合して環を形成した場合は、5ないし7員環(好ましくは5ないし6員環)の環を形成し、形成される環としては通常メロシアニン色素で酸性核として用いられるものが好ましく、その具体例としては例えば以下のものが挙げられる。
(a)1,3−ジカルボニル核:例えば1,3−インダンジオン核、1,3−シクロヘキサンジオン、5,5−ジメチル−1,3−シクロヘキサンジオン、1,3−ジオキサン−4,6−ジオンなど。
(b)ピラゾリノン核:例えば1−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、3−メチル−1−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−(2−ベンゾチアゾイル)−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オンなど。
(c)イソオキサゾリノン核:例えば3−フェニル−2−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−イソオキサゾリン−5−オンなど。
(d)オキシインドール核:例えば1−アルキル−2,3−ジヒドロ−2−オキシインドールなど。
(e)2,4,6−トリケトヘキサヒドロピリミジン核:例えばバルビツル酸または2−チオバルビツル酸およびその誘導体など。誘導体としては例えば1−メチル、1−エチル等の1−アルキル体、1,3−ジメチル、1,3−ジエチル、1,3−ジブチル等の1,3−ジアルキル体、1,3−ジフェニル、1,3−ジ(p−クロロフェニル)、1,3−ジ(p−エトキシカルボニルフェニル)等の1,3−ジアリール体、1−エチル−3−フェニル等の1−アルキル−1−アリール体、1,3−ジ(2―ピリジル)等の1,3位ジヘテロ環置換体等が挙げられる。
(f)2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核:例えばローダニンおよびその誘導体など。誘導体としては例えば3−メチルローダニン、3−エチルローダニン、3−アリルローダニン等の3−アルキルローダニン、3−フェニルローダニン等の3−アリールローダニン、3−(2−ピリジル)ローダニン等の3位ヘテロ環置換ローダニン等が挙げられる。
(g)2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン(2−チオ−2,4−(3H,5H)−オキサゾールジオン核:例えば3−エチル−2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオンなど。
(h)チアナフテノン核:例えば3(2H)−チアナフテノン−1,1−ジオキサイドなど。
(i)2−チオ−2,5−チオゾリジンジオン核:例えば3−エチル−2−チオ−2,5−チアゾリジンジオンなど。
(j)2,4−チオゾリジンジオン核:例えば2,4−チアゾリジンジオン、3−エチル−2,4−チアゾリジンジオン、3−フェニル−2,4−チアゾリジンジオンなど。
(k)チアゾリン−4−オン核:例えば4−チアゾリノン、2−エチル−4−チアゾリノンなど。
(l)4−チアゾリジノン核:例えば2−エチルメルカプト−5−チアゾリン−4−オン、2−アルキルフェニルアミノ−5−チアゾリン−4−オンなど。
(m)2,4−イミダゾリジンジオン(ヒダントイン)核:例えば2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−2,4−イミダゾリジンジオンなど。
(n)2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン(2−チオヒダントイン)核:例えば2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオンなど。
(o)イミダゾリン−5−オン核:例えば2−プロピルメルカプト−2−イミダゾリン−5−オンなど。
(p)3,5−ピラゾリジンジオン核:例えば1,2−ジフェニル−3,5−ピラゾリジンジオン、1,2−ジメチル−3,5−ピラゾリジンジオンなど。
(q)ベンゾチオフェン−3−オン核:例えばベンゾチオフェン−3−オン、オキソベンゾチオフェン−3−オン、ジオキソベンゾチオフェン−3−オンなど。
(r)インダノン核:例えば1−インダノン、3−フェニル−1−インダノン、3−メチル−1−インダノン、3,3−ジフェニル−1−インダノン、3,3−ジメチル−1−インダノンなど。
Further, when R 2 and R 3 are combined to form a ring, a 5- to 7-membered ring (preferably a 5- to 6-membered ring) is formed, and the formed ring is usually a merocyanine dye and an acidic nucleus. Are preferably used, and specific examples thereof include the following.
(A) 1,3-dicarbonyl nucleus: For example, 1,3-indandione nucleus, 1,3-cyclohexanedione, 5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione, 1,3-dioxane-4,6- Zeon etc.
(B) pyrazolinone nucleus: for example 1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 3-methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1- (2-benzothiazoyl) -3-methyl-2 -Pyrazolin-5-one and the like.
(C) Isoxazolinone nucleus: For example, 3-phenyl-2-isoxazolin-5-one, 3-methyl-2-isoxazolin-5-one and the like.
(D) Oxindole nucleus: For example, 1-alkyl-2,3-dihydro-2-oxindole and the like.
(E) 2,4,6-triketohexahydropyrimidine nucleus: for example, barbituric acid or 2-thiobarbituric acid and its derivatives. Examples of the derivatives include 1-alkyl compounds such as 1-methyl and 1-ethyl, 1,3-dialkyl compounds such as 1,3-dimethyl, 1,3-diethyl and 1,3-dibutyl, 1,3-diphenyl, 1,3-diaryl compounds such as 1,3-di (p-chlorophenyl) and 1,3-di (p-ethoxycarbonylphenyl), 1-alkyl-1-aryl compounds such as 1-ethyl-3-phenyl, Examples include 1,3-di (2-pyridyl) 1,3-diheterocyclic substituents and the like.
(F) 2-thio-2,4-thiazolidinedione nucleus: for example, rhodanine and its derivatives. Examples of the derivatives include 3-alkylrhodanine such as 3-methylrhodanine, 3-ethylrhodanine and 3-allylrhodanine, 3-arylrhodanine such as 3-phenylrhodanine, and 3- (2-pyridyl) rhodanine. And the like.
(G) 2-thio-2,4-oxazolidinedione (2-thio-2,4- (3H, 5H) -oxazoledione nucleus: for example, 3-ethyl-2-thio-2,4-oxazolidinedione and the like.
(H) Tianaphthenone nucleus: For example, 3 (2H) -thianaphthenone-1,1-dioxide and the like.
(I) 2-thio-2,5-thiozolidinedione nucleus: For example, 3-ethyl-2-thio-2,5-thiazolidinedione and the like.
(J) 2,4-thiozolidinedione nucleus: For example, 2,4-thiazolidinedione, 3-ethyl-2,4-thiazolidinedione, 3-phenyl-2,4-thiazolidinedione and the like.
(K) Thiazolin-4-one nucleus: For example, 4-thiazolinone, 2-ethyl-4-thiazolinone and the like.
(L) 4-thiazolidinone nucleus: for example, 2-ethylmercapto-5-thiazoline-4-one, 2-alkylphenylamino-5-thiazoline-4-one, and the like.
(M) 2,4-imidazolidinedione (hydantoin) nucleus: for example, 2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2,4-imidazolidinedione, etc.
(N) 2-thio-2,4-imidazolidinedione (2-thiohydantoin) nucleus: for example, 2-thio-2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2-thio-2,4-imidazolidinedione Such.
(O) Imidazolin-5-one nucleus: For example, 2-propylmercapto-2-imidazolin-5-one and the like.
(P) 3,5-pyrazolidinedione nucleus: for example, 1,2-diphenyl-3,5-pyrazolidinedione, 1,2-dimethyl-3,5-pyrazolidinedione, and the like.
(Q) Benzothiophen-3-one nucleus: for example, benzothiophen-3-one, oxobenzothiophen-3-one, dioxobenzothiophen-3-one and the like.
(R) Indanone nucleus: For example, 1-indanone, 3-phenyl-1-indanone, 3-methyl-1-indanone, 3,3-diphenyl-1-indanone, 3,3-dimethyl-1-indanone, and the like.

なお、環を形成する場合のR2及びR3のσ値を規定することができないが、本発明においてはR2及びR3にそれぞれ環の部分構造が置換しているとみなして、環形成の場合のσ値を定義することとする。例えば1,3−インダンジオン環を形成している場合、R2及びR3にそれぞれベンゾイル基が置換したものとして考える。 In addition, although the σ value of R 2 and R 3 in the case of forming a ring cannot be defined, in the present invention, it is considered that R 2 and R 3 are each substituted with a partial structure of the ring. In this case, the σ value is defined. For example, when a 1,3-indandione ring is formed, it is considered that R 2 and R 3 are each substituted with a benzoyl group.

2及びR3が結合して形成される環としては、好ましくは1,3−ジカルボニル核、ピラゾリノン核、2,4,6−トリケトヘキサヒドロピリミジン核(チオケトン体も含む)、2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核、2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン核、2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン核、2,4−チアゾリジンジオン核、2,4−イミダゾリジンジオン核、2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン核、2−イミダゾリン−5−オン核、3,5−ピラゾリジンジオン核、ベンゾチオフェン−3−オン核、またはインダノン核であり、更に好ましくは1,3−ジカルボニル核、2,4,6−トリケトヘキサヒドロピリミジン核(チオケトン体も含む)、3,5−ピラゾリジンジオン核、ベンゾチオフェン−3−オン核、またはインダノン核である。 The ring formed by combining R 2 and R 3 is preferably a 1,3-dicarbonyl nucleus, a pyrazolinone nucleus, a 2,4,6-triketohexahydropyrimidine nucleus (including a thioketone body), 2- Thio-2,4-thiazolidinedione nucleus, 2-thio-2,4-oxazolidinedione nucleus, 2-thio-2,5-thiazolidinedione nucleus, 2,4-thiazolidinedione nucleus, 2,4-imidazolidinedione nucleus 2-thio-2,4-imidazolidinedione nucleus, 2-imidazolin-5-one nucleus, 3,5-pyrazolidinedione nucleus, benzothiophen-3-one nucleus, or indanone nucleus, more preferably 1,3-dicarbonyl nucleus, 2,4,6-triketohexahydropyrimidine nucleus (including thioketone body), 3,5-pyrazolidinedione nucleus, benzothiophen-3-one nucleus Or the Indanone nucleus.

3はヘテロ環であることが特に好ましい。
前記一般式(1)中の2つのR2は、互いに同一でも異なってもよく、また、2つのR3は、互いに同一でも異なってもよい。
R 3 is particularly preferably a heterocycle.
Two R 2 in the general formula (1) may be the same as or different from each other, and two R 3 may be the same as or different from each other.

4で表されるアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基は、R1で説明した置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。R4で表される置換ホウ素の置換基は、R2及びR3について上述した置換基と同義であり、好ましくはアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基である。また、R4で表される金属原子は、好ましくは遷移金属、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、又はスズであり、より好ましくはアルミニウム、亜鉛、すず、バナジウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、パラジウム、イリジウム、又は白金であり、特に好ましくはアルミニウム、亜鉛、バナジウム、鉄、銅、パラジウム、イリジウム、白金である。
4は、R1及び/又はR3と共有結合もしくは配位結合しても良い。
前記一般式(1)中の2つのR4は、互いに同一でも異なってもよい。
The alkyl group, aryl group, and heteroaryl group represented by R 4 have the same meaning as the substituent described for R 1 , and the preferred range is also the same. The substituent of the substituted boron represented by R 4 has the same meaning as the substituent described above for R 2 and R 3 , and is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group. The metal atom represented by R 4 is preferably a transition metal, magnesium, aluminum, calcium, barium, zinc, or tin, and more preferably aluminum, zinc, tin, vanadium, iron, cobalt, nickel, copper Palladium, iridium, or platinum, particularly preferably aluminum, zinc, vanadium, iron, copper, palladium, iridium, or platinum.
R 4 may be covalently or coordinated with R 1 and / or R 3 .
Two R 4 in the general formula (1) may be the same as or different from each other.

前記一般式(1)で表される化合物は、好ましくは下記一般式(2)又は(3)で表される化合物である。   The compound represented by the general formula (1) is preferably a compound represented by the following general formula (2) or (3).

Figure 2010018688
Figure 2010018688

(式中、Z1はアリール環もしくはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。R5は炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、炭素数1〜20のカルバモイル基、ハロゲン原子、又はシアノ基のいずれか1つを表し、R5とZ1とが結合して縮合環を形成しても良い。R22及びR23は各々独立にシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜20の含窒素ヘテロアリール基を表し、又はR22及びR23が結合して環状酸性核を表す。R4は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20ヘテロアリール基、金属原子、又は置換基としてハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、もしくは炭素数4〜20のヘテロアリール基を有する置換ホウ素を表し、R23と共有結合もしくは配位結合を有しても良い。また、当該化合物は更に置換基を有しても良い。) (In the formula, Z 1 represents an atomic group forming an aryl ring or a heteroaryl ring. R 5 is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 20 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 20 carbon atoms. A group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 20 carbon atoms, a carboxyl group, a carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, or a cyano group, and R 5 and Z 1 may be bonded to form a condensed ring, and R 22 and R 23 are each independently a cyano group, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents an alkyl or arylsulfinyl group having from 10 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having from 3 to 20 carbon atoms, or R 22 and R 23 are bonded to each other to represent a cyclic acidic nucleus, wherein R 4 represents a hydrogen atom, 1 to carbon atoms 20 alkyl groups, C6-C20 aryl group, C4-C20 heteroaryl group, metal atom, or halogen atom as a substituent, C1-C10 alkyl group, C6-C20 aryl group, or C4-C4 Represents a substituted boron having ˜20 heteroaryl groups, and may have a covalent bond or a coordinate bond with R 23. In addition, the compound may further have a substituent.

Figure 2010018688
Figure 2010018688

(式中、R31は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数3〜20のヘテロアリール基を表す。R32はシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜10の含窒素ヘテロアリール基を表す。R6及びR7は各々独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数4〜10のヘテロアリール基を表し、R6及びR7は結合して環を形成してよく、形成する環としては炭素数5〜10の脂環、炭素数6〜10のアリール環、又は炭素数3〜10のヘテロアリール環である。R8及びR9は各々独立に炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、又は炭素数3〜10のヘテロアリール基を表す。Xは酸素原子、イオウ原子、−NR−、−CRR’−を表し、R及びR’は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又は炭素数6〜10のアリール基を表す。) (In the formula, R 31 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms. R 32 represents a cyano group or an acyl having 1 to 6 carbon atoms. Group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms, wherein R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom. Represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a heteroaryl group having 4 to 10 carbon atoms, and R 6 and R 7 may be bonded to form a ring. The ring is an alicyclic ring having 5 to 10 carbon atoms, an aryl ring having 6 to 10 carbon atoms, or a heteroaryl ring having 3 to 10 carbon atoms, and R 8 and R 9 are each independently alkyl having 1 to 10 carbon atoms. Group, C1-C10 alkoxy group, carbon Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms or a heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms, X represents an oxygen atom, a sulfur atom, -NR-, or -CRR'-, R and R 'represent a hydrogen atom or a carbon number of 1 Represents an alkyl group having 10 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.)

前記一般式(2)について説明する。
前記一般式(2)中、Z1はアリール環もしくはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。形成されるアリール環、ヘテロアリール環は、前記一般式(1)におけるR2及びR3の置換基として説明したアリール基、ヘテロアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
5は炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、炭素数1〜20のカルバモイル基、ハロゲン原子、又はシアノ基のいずれか1つを表す。具体的には、前記一般式(1)におけるR2及びR3で説明した例と同義であり、好ましい範囲も同様である。
5とZ1とが結合して縮合環を形成しても良く、該縮合環としてはナフチル環、キノリン環などが挙げられる。
1が形成するアリール環もしくはヘテロアリール環にR5で表される基を導入することで、不可視性を大きく向上することができる。
The general formula (2) will be described.
In the general formula (2), Z 1 represents an atomic group forming an aryl ring or a heteroaryl ring. The aryl ring and heteroaryl ring formed are synonymous with the aryl group and heteroaryl group described as the substituents for R 2 and R 3 in the general formula (1), and the preferred ranges are also the same.
R 5 is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 20 carbon atoms, It represents any one of a carboxyl group, a carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, or a cyano group. Specifically, it has the same meaning as in the example described in R 2 and R 3 in formula (1), and preferred ranges are also the same.
R 5 and Z 1 may combine to form a condensed ring, and examples of the condensed ring include a naphthyl ring and a quinoline ring.
By introducing a group represented by R 5 into the aryl ring or heteroaryl ring formed by Z 1 , invisibility can be greatly improved.

22及びR23は各々独立にシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜20の含窒素ヘテロアリール基を表し、又はR22及びR23が結合した環状酸性核を表す。具体的には、前記一般式(1)におけるR2及びR3で説明した例と同義であり、好ましい範囲も同様である。R4は前記一般式(1)におけるR4と同義であり、好ましい範囲も同様である。R4はR23と共有結合もしくは配位結合を有しても良い。 R 22 and R 23 are each independently a cyano group, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkylsulfinyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or the number of 3 to 20 carbon Represents a nitrogen-containing heteroaryl group or a cyclic acidic nucleus in which R 22 and R 23 are bonded. Specifically, it is synonymous with the example demonstrated by R < 2 > and R < 3 > in the said General formula (1), and its preferable range is also the same. R 4 has the same meaning as R 4 in the general formula (1), and the preferred range is also the same. R 4 may have a covalent bond or a coordinate bond with R 23 .

前記一般式(2)で表される化合物は更に置換基を有しても良く、該置換基としてはR2及びR3の置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。 The compound represented by the general formula (2) may further have a substituent, and the substituent is synonymous with the substituents of R 2 and R 3 , and the preferred range is also the same.

前記一般式(2)における好ましい組合せとしては、Z1がベンゼン環もしくはピリジン環を形成し、R5がアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基であり、R22及びR23が各々独立にヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、又はR22及びR23が結合した環状酸性核であり、R4が水素原子、置換ホウ素、遷移金属原子、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、スズである場合である。特に好ましい組合せとしては、Z1がベンゼン環を形成し、R5がアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基であり、R22及びR23が各々独立に含窒素ヘテロ環基とシアノ基もしくはアルコキシカルボニル基との組合せ、又はR22及びR23が結合した環状酸性核であり、R4が水素原子、置換ホウ素、アルミニウム、亜鉛、バナジウム、鉄、銅、パラジウム、イリジウム、白金である場合である。 As a preferable combination in the general formula (2), Z 1 forms a benzene ring or a pyridine ring, R 5 is an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a cyano group, and R 22 and R 23 are each independently A heterocyclic group, a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, or a cyclic acidic nucleus in which R 22 and R 23 are bonded, and R 4 is a hydrogen atom, a substituted boron atom, a transition metal atom, magnesium, aluminum, calcium, barium, This is the case of zinc and tin. As a particularly preferred combination, Z 1 forms a benzene ring, R 5 is an alkyl group, a halogen atom or a cyano group, and R 22 and R 23 are each independently a nitrogen-containing heterocyclic group and a cyano group or an alkoxycarbonyl group. Or a cyclic acidic nucleus in which R 22 and R 23 are bonded, and R 4 is a hydrogen atom, substituted boron, aluminum, zinc, vanadium, iron, copper, palladium, iridium, or platinum.

前記一般式(3)について説明する。
前記一般式(3)中、R31は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数3〜20のヘテロアリール基を表し、具体的には、前記一般式(1)におけるR1で説明した例と同義であり、好ましい範囲も同様である。
32はシアノ基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜10の含窒素ヘテロアリール基であり、具体的には、前記一般式(1)におけるR2の例と同義であり、好ましい範囲も同様である。
The general formula (3) will be described.
In the general formula (3), R 31 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms. 1) has the same meaning as the example described in R 1 in the preferred range is also the same.
R 32 is a cyano group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms. it is the same as examples of R 2 in the formula (1), and preferred ranges are also the same.

6及びR7は各々独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数4〜10のヘテロアリール基を表し、具体的には、前記一般式(1)におけるR2及びR3の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同様である。また、R6及びR7は結合して環を形成してよく、形成する環としては炭素数5〜10の脂環、炭素数6〜10のアリール環、炭素数3〜10のヘテロアリール環であり、好ましい例としてはベンゼン環やナフタレン環、ピリジン環である。
6及びR7が置換した5員含窒素ヘテロ環を導入し、更にホウ素錯体とすることで、高い堅牢性、高い不可視性を両立する赤外線吸収色素を実現することができる。
R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a heteroaryl group having 4 to 10 carbon atoms. are the same as examples of the substituents R 2 and R 3 in formula (1), and preferred ranges are also the same. R 6 and R 7 may combine to form a ring, and the ring formed is an alicyclic ring having 5 to 10 carbon atoms, an aryl ring having 6 to 10 carbon atoms, or a heteroaryl ring having 3 to 10 carbon atoms. Preferred examples include a benzene ring, naphthalene ring, and pyridine ring.
By introducing a 5-membered nitrogen-containing heterocycle substituted with R 6 and R 7 and further forming a boron complex, an infrared absorbing dye that achieves both high fastness and high invisibility can be realized.

8及びR9は各々独立に炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、又は炭素数3〜10のヘテロアリール基を表し、具体的には、前記一般式(1)におけるR2、R3の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Xは酸素原子、イオウ原子、−NR−、−CRR’−を表す。R及びR’は各々独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又は炭素数6〜10のアリール基を表し、好ましくは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基である。
R 8 and R 9 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms; Specifically, it is synonymous with the example of the substituent of R < 2 >, R < 3 > in the said General formula (1), A preferable range is also the same.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, -NR-, or -CRR'-. R and R ′ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group. .

前記一般式(3)における好ましい組合せとしては、R31が炭素数1〜10のアルキル基、又はベンゼン環もしくはピリジン環であり、R32がシアノ基またはアルコキシカルボニル基であり、R6及びR7が結合してベンゼン環もしくはピリジン環、ピラジン環、又はピリミジン環を形成し、R8及びR9が各々独立に炭素原子1〜6のアルキル基、又はフェニル基もしくはナフチル基であり、Xが酸素原子、イオウ原子、−NR−、又は−CRR’−であり、R及びR’が各々独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、又はフェニル基である場合である。特に好ましい組合せとしては、R31が炭素数1〜10のアルキル基、又はベンゼン環であり、R32がシアノ基であり、R6及びR7が結合してベンゼン環もしくはピリジン環であり、R8及びR9が各々独立に炭素原子1〜6のアルキル基、又はフェニル基もしくはナフチル基であり、Xは酸素原子またはイオウ原子である場合である。 As a preferable combination in the general formula (3), R 31 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a benzene ring or a pyridine ring, R 32 is a cyano group or an alkoxycarbonyl group, R 6 and R 7 Are bonded to form a benzene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, or a pyrimidine ring, R 8 and R 9 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, or a naphthyl group, and X is oxygen It is an atom, a sulfur atom, —NR—, or —CRR′—, and R and R ′ are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group. As a particularly preferred combination, R 31 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a benzene ring, R 32 is a cyano group, R 6 and R 7 are combined to form a benzene ring or a pyridine ring, 8 and R 9 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a naphthyl group, and X is an oxygen atom or a sulfur atom.

以下に、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物(色素化合物)の具体例を示すが、本発明は下記具体例に限定されるものではない。   Specific examples of the compound (pigment compound) represented by any one of the general formulas (1) to (3) are shown below, but the present invention is not limited to the following specific examples.

Figure 2010018688
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Figure 2010018688
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Figure 2010018688
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Figure 2010018688
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Figure 2010018688
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次に、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物の合成法について説明する。
前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物は、該当するジケトピロロピロール化合物に、活性メチレン化合物を縮合させ、場合によっては、さらに、ホウ素や金属を反応させることで合成することができる。ジケトピロロピロールは、「ハイパフォーマンス・ピグメンツ(High Performance Pigments)」,Wiley−VCH,2002年,160〜163ページに記載の方法で合成でき、より具体的な例としては米国特許第5,969,154号明細書や特開平9−323993号公報に記載の方法で合成できる。また、ジケトピロロピロールと活性メチレン化合物との縮合反応やその後のホウ素化については、先述の非特許文献1に従って合成できる。
Next, a method for synthesizing the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) will be described.
The compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) can be obtained by condensing an active methylene compound with a corresponding diketopyrrolopyrrole compound and, in some cases, further reacting with boron or a metal. Can be synthesized. Diketopyrrolopyrrole can be synthesized by the method described in “High Performance Pigments”, Wiley-VCH, 2002, pages 160 to 163. More specific examples include US Pat. No. 5,969, It can be synthesized by the methods described in the specification of No. 154 and JP-A-9-323993. The condensation reaction between diketopyrrolopyrrole and an active methylene compound and the subsequent boronation can be synthesized according to Non-Patent Document 1 described above.

前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物は、特に限定されないが、好ましくは700〜1050nm、より好ましくは700〜1000nmに吸収極大を有する。前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物は、波長700nm以上1000nm以下の赤外線を選択的に吸収することが好ましい。
また、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物は、モル吸光係数εは特に限定されないが、好ましくは50,000〜300,000であり、より好ましくは100,000〜250,000である。
The compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) is not particularly limited, but preferably has an absorption maximum at 700 to 1050 nm, more preferably 700 to 1000 nm. It is preferable that the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) selectively absorbs infrared rays having a wavelength of 700 nm to 1000 nm.
In addition, the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) has a molar extinction coefficient ε not particularly limited, but is preferably 50,000 to 300,000, more preferably 100,000. ~ 250,000.

前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物は、IR色素として好ましく用いることができる。不可視であるため化合物の色は透明であることが好ましいが、ごくわずかに緑色、灰色に着色していてもよい。   The compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) can be preferably used as an IR dye. Since it is invisible, the color of the compound is preferably transparent, but may be slightly colored green or gray.

本発明の光吸収性組成物をフィルタ用途等に適用する場合は、散乱の影響を低減させるために、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物を一般に分子分散状態やアモルファス状態で使用することが好ましい。また、微粒子として用いてもよい。本発明の光吸収性組成物は、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物からなる微粒子を含むことにより、より高い堅牢性を示す。
以下に、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物からなる微粒子の調製方法について説明する。
When the light-absorbing composition of the present invention is applied to a filter or the like, the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) is generally in a molecularly dispersed state in order to reduce the influence of scattering. Or in an amorphous state. Further, it may be used as fine particles. The light-absorbing composition of the present invention exhibits higher fastness by including fine particles composed of the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3).
Below, the preparation method of the microparticles | fine-particles which consist of a compound represented by either of said general formula (1)-(3) is demonstrated.

(微粒子の調製方法)
上記した化合物の合成方法によって、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物は粗結晶として得られるが、微粒子として用いる場合、後処理を行うことが好ましい。この後処理の方法としては、例えば、ソルベントソルトミリング、ソルトミリング、ドライミリング、ソルベントミリング、アシッドペースティング等の摩砕処理、溶媒加熱処理などによる微粒子制御工程、樹脂、界面活性剤および分散剤等による表面処理工程が挙げられる。
(Preparation method of fine particles)
The compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) is obtained as a crude crystal by the above-described compound synthesis method. However, when used as fine particles, post-treatment is preferably performed. Examples of post-treatment methods include fine particle control processes such as solvent salt milling, salt milling, dry milling, solvent milling, and acid pasting, solvent heat treatment, resin, surfactant and dispersant, etc. The surface treatment process by.

前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物は、後処理として溶媒加熱処理を行っても良い。溶媒加熱処理に使用される溶媒としては、例えば、水、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、イソプロパノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の極性非プロトン性有機溶媒、氷酢酸、ピリジン、またはこれらの混合物等が挙げられる。これらの後処理によって、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物(顔料)の平均粒子径を0.01μm〜1μmに調整することが好ましい。   The compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) may be subjected to a solvent heat treatment as a post-treatment. Examples of the solvent used in the solvent heat treatment include water, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbon solvents such as chlorobenzene and o-dichlorobenzene, and alcohols such as isopropanol and isobutanol. Examples thereof include solvents, polar aprotic organic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone, glacial acetic acid, pyridine, and mixtures thereof. It is preferable to adjust the average particle size of the compound (pigment) represented by any one of the general formulas (1) to (3) to 0.01 μm to 1 μm by these post-treatments.

〔ジチオール金属錯体〕
次に、ジチオール金属錯体について説明する。
ピロロピロール系色素は、微粒子として用いた場合には耐光性が向上することが知られているので、更に耐光性を向上させようとは当業者は通常考えなかった。さらに、ジチオール錯体を用いることにより、吸収の変化による不可視性の低下や、溶解性の低いジチオール錯体の析出による膜の面状悪化のような懸念点(技術的なデメリット)も考えられたため、当業者はジチオール錯体の採用を想起しなかった。
本発明に用いられるジチオール金属錯体は、少なくとも1つのジチオール化合物を配位子としてもつ金属錯体であり、ジチオール配位子のみからなる金属錯体であっても良いし、他の配位子を同時に含んでいてもよい。他の配位子の好ましい例としては、配位子が2つの窒素原子を介して二座配位しているもの(N,N−二座配位子)が挙げられる。
[Dithiol metal complex]
Next, the dithiol metal complex will be described.
Since pyrrolopyrrole dyes are known to have improved light resistance when used as fine particles, those skilled in the art usually did not think of further improving light resistance. In addition, the use of dithiol complexes also caused concerns (technical demerits) such as a decrease in invisibility due to changes in absorption and deterioration of the film surface due to the deposition of dithiol complexes with low solubility. The vendor did not recall the adoption of dithiol complexes.
The dithiol metal complex used in the present invention is a metal complex having at least one dithiol compound as a ligand, and may be a metal complex consisting of only a dithiol ligand, or may contain other ligands simultaneously. You may go out. Preferable examples of other ligands include those in which the ligand is bidentately coordinated via two nitrogen atoms (N, N-bidentate ligand).

本発明に用いられるジチオール金属錯体は、好ましくはジチオール配位子のみからなる金属錯体であり、特に好ましくは、下記一般式(A)で表されるジチオール金属錯体である。   The dithiol metal complex used in the present invention is preferably a metal complex consisting only of a dithiol ligand, and particularly preferably a dithiol metal complex represented by the following general formula (A).

Figure 2010018688
Figure 2010018688

(式中、Ra1及びRa2は、各々独立にアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、チオ基、又はシアノ基を表し、Ra1とRa2とが連結して環構造を形成しても良く、形成された環は、飽和環もしくは不飽和環のいずれであっても良い。nは2又は3の整数を表す。Mは金属原子を表す。Zaは0、1−、2−を表す。また、Zaが1−、2−を表すとき、YはZaの電荷を中和するカチオン化合物を表す。) (Wherein R a1 and R a2 each independently represents an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a thio group, or a cyano group, and R a1 and R a2 may be linked to form a ring structure. The ring formed may be either a saturated ring or an unsaturated ring, n represents an integer of 2 or 3, M represents a metal atom, Za represents 0, 1-, 2-. In addition, when Za represents 1- or 2-, Y represents a cationic compound that neutralizes the charge of Za.)

前記一般式(A)において、Ra1及びRa2で表されるアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基は、前記一般式(1)におけるR2及びR3で表される置換基の例として説明したアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
本発明における「チオ基」は、イオウ原子で結合する一価の置換基を意味し、具体的には、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基やチオエステル基を表す。
前記一般式(A)中、Mは、好ましくは遷移金属であり、より好ましくはCr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Mo、Pd、Ptである。Yで表されるカチオン化合物としては、好ましくはアンモニウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、オキソニウムカチオン、スルホニウムカチオン、セレノニウムカチオン、金属カチオンが挙げられるが、特に4級アンモニウムカチオン、ピリジニウムカチオンが好ましい。
Description In formula (A), the alkyl group represented by R a1 and R a2, aryl group, examples of heteroaryl groups include substituents represented by R 2 and R 3 in formula (1) And the preferred range is also the same.
The “thio group” in the present invention means a monovalent substituent bonded with a sulfur atom, and specifically represents an alkylthio group, an arylthio group, an aromatic heterocyclic thio group or a thioester group.
In the general formula (A), M is preferably a transition metal, more preferably Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Mo, Pd, or Pt. Preferred examples of the cation compound represented by Y include an ammonium cation, a pyridinium cation, a phosphonium cation, an oxonium cation, a sulfonium cation, a selenonium cation, and a metal cation, and a quaternary ammonium cation and a pyridinium cation are particularly preferable.

前記一般式(A)で表される化合物は、下記一般式(A1)で表される化合物であることが好ましい。   The compound represented by the general formula (A) is preferably a compound represented by the following general formula (A1).

Figure 2010018688
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前記一般式(A1)におけるRa1、Ra2、Ra3、Ra4は、各々独立にアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、チオ基、又はシアノ基を表し、前記一般式(A)におけるRa1及びRa2と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ra1とRa2ないしRa3とRa4が連結して環構造を形成しても良く、形成された環は、飽和環もしくは不飽和環のいずれであっても良い。前記一般式(A1)におけるM、Za及びYは、前記一般式(A)におけるM、Za及びYと同義であり、好ましい範囲も同様である。 R a1, R a2, R a3 , R a4 in Formula (A1) each independently represent an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, thio group, or a cyano radical, R in the general formula (A) It has the same meaning as a1 and R a2, and preferred ranges are also the same. R a1 and R a2 or R a3 and R a4 may be linked to form a ring structure, and the formed ring may be either a saturated ring or an unsaturated ring. M, Za and Y in the general formula (A1) have the same meanings as M, Za and Y in the general formula (A), and preferred ranges thereof are also the same.

また、前記一般式(A)で表される化合物は、下記一般式(A2)〜(A5)のいずれかで表される化合物であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the compound represented by the said general formula (A) is a compound represented by either of the following general formula (A2)-(A5).

Figure 2010018688
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前記一般式(A2)〜(A5)中、R11は置換基を表し、前記一般式(1)におけるR2又はR3で表される置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同様である。mは1〜4の整数を表し、複数のRが置換していても良い。EWGは電子吸引性基を表し、前記一般式(1)におけるR2又はR3で表される電子吸引性基と同義であり、好ましい範囲も同様である。EWGの好ましい具体例としては、シアノ基、フルオロアルキル基(トリフルオロメチル基等)が挙げられる。Arはアリール基またはヘテロアリール基を表し、前記一般式(1)におけるR2又はR3で表される置換基の例として説明されるアリール基またはヘテロアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。R12及びR13は各々独立にアリール基、ヘテロアリール基、又はアルキル基を表し、前記一般式(1)におけるR2又はR3で表される置換基の例として説明されるアリール基、ヘテロアリール基、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同様である。前記一般式(A2)〜(A5)におけるn、M、Za及びYは、前記一般式(A)におけるn、M、Za及びYと同義であり、好ましい範囲も同様である。 In the general formulas (A2) to (A5), R 11 represents a substituent, which is synonymous with the examples of the substituent represented by R 2 or R 3 in the general formula (1), and the preferred range is also the same. is there. m represents an integer of 1 to 4, and a plurality of R may be substituted. EWG represents an electron-withdrawing group and is synonymous with the electron-withdrawing group represented by R 2 or R 3 in the general formula (1), and the preferred range is also the same. Preferable specific examples of EWG include a cyano group and a fluoroalkyl group (such as a trifluoromethyl group). Ar represents an aryl group or a heteroaryl group, and is synonymous with the aryl group or heteroaryl group described as an example of the substituent represented by R 2 or R 3 in the general formula (1), and the preferred range is also the same. It is. R 12 and R 13 each independently represents an aryl group, a heteroaryl group, or an alkyl group, and an aryl group, a hetero group described as an example of the substituent represented by R 2 or R 3 in the general formula (1) It is synonymous with an aryl group and an alkyl group, and its preferable range is also the same. N, M, Za and Y in the general formulas (A2) to (A5) have the same meanings as n, M, Za and Y in the general formula (A), and preferred ranges thereof are also the same.

以下に、前記一般式(A)で表されるジチオール金属錯体の具体例を示すが、本発明は下記具体例に限定されるものではない。   Specific examples of the dithiol metal complex represented by the general formula (A) are shown below, but the present invention is not limited to the following specific examples.

Figure 2010018688
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Figure 2010018688
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Figure 2010018688
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さらに、本発明に用いることができるジチオール金属錯体の具体例としては、特開平1−114801号、特開昭64−74272号、特開昭62−39682号、特開昭61−80106号、特開昭61−42585号、特開昭61−32003号等の各公報に記載の化合物が挙げられる。   Further, specific examples of the dithiol metal complex that can be used in the present invention include JP-A 1-1114801, JP-A 64-74272, JP-A 62-39682, and JP-A 61-80106. Examples thereof include compounds described in JP-A 61-42585 and JP-A 61-32003.

本発明に用いられるジチオール金属錯体は、例えば「ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ(Journal of American Chemical Society)」第95巻、第6970〜6979ページ(1973)や、特開昭61−32003号、特開昭61−42585号、特開昭61−57674号、特開昭61−71503号、特開昭61−80106号、特開昭64−75568号の各公報等の記載を参照して調製することができる。また、例示化合物A−21〜A−26は試薬メーカーから市販されており、これを入手することもできる。   Examples of the dithiol metal complex used in the present invention include “Journal of the American Chemical Society” Vol. 95, pp. 6970-6969 (1973), and JP-A 61- Refer to the descriptions in each of Japanese Patent Nos. 32003, 61-42585, 61-57674, 61-71503, 61-80106, 64-75568, etc. Can be prepared. Moreover, exemplary compound A-21-A-26 is marketed from the reagent maker, and this can also be obtained.

〔組成物〕
次に、本発明の光吸収性組成物について説明する。
本発明の光吸収性組成物は、水系であっても非水系であってもよい。
(水系組成物)
本発明の光吸収性組成物が水系組成物である場合、前記一般式(1)で表される化合物および前記ジチオール金属錯体化合物を分散する水性の液体としては、水を主成分とし、所望により親水性有機溶剤を添加した混合物を用いることができる。
〔Composition〕
Next, the light absorbing composition of the present invention will be described.
The light absorbing composition of the present invention may be aqueous or non-aqueous.
(Aqueous composition)
When the light-absorbing composition of the present invention is an aqueous composition, the aqueous liquid in which the compound represented by the general formula (1) and the dithiol metal complex compound are dispersed is mainly composed of water, and if desired. A mixture to which a hydrophilic organic solvent is added can be used.

前記親水性有機溶剤としては,例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等の多価アルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールものブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテートトリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル等のグリコール誘導体、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポリエチレンイミン、テトラメチルプロピレンジアミン等のアミン、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、アセトニトリル、アセトン等が挙げられる。   Examples of the hydrophilic organic solvent include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, sec-butanol, t-butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol and other alcohols, ethylene glycol, diethylene glycol Polyhydric alcohols such as triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thiodiglycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol mono Ethyl ether, ethylene glycol butyl ether, diethylene glycol mono Chill ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol diacetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate triethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monophenyl ether Glycol derivatives such as ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, polyethyleneimine, tetramethylpropylenediamine Such as amine, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-2-pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1 , 3-dimethyl-2-imidazolidinone, acetonitrile, acetone and the like.

さらに、本発明の光吸収性組成物には水性樹脂を含んでいてもよい。水性樹脂としては,水に溶解する水溶解性の樹脂,水に分散する水分散性の樹脂,コロイダルディスパーション樹脂、またはそれらの混合物が挙げられる。水性樹脂の具体例としては、アクリル系,スチレン−アクリル系,ポリエステル系,ポリアミド系,ポリウレタン系,フッ素系等の樹脂が挙げられる。   Furthermore, the light-absorbing composition of the present invention may contain an aqueous resin. Examples of the aqueous resin include a water-soluble resin that dissolves in water, a water-dispersible resin that disperses in water, a colloidal dispersion resin, or a mixture thereof. Specific examples of the aqueous resin include acrylic, styrene-acrylic, polyester, polyamide, polyurethane, and fluorine resins.

本発明において用いられる水分散性の樹脂は、主成分が水である分散媒(本明細書では溶媒と呼ぶこともある)に疎水性の合成樹脂が分散された分散物である。
溶媒中に含まれる水の含量は、30%〜100%が好ましく、50%〜100%がより好ましい。水以外の溶媒としては、メタノールやエタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、アセトンやメチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフランやブチルセロソルブなど、水に溶解性を有する溶剤が好ましく用いられる。
合成樹脂(ポリマー)としては、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等、ポリアミド樹脂、フッ素系樹脂など種々のポリマーを使用することができる。また、水溶性の樹脂としてはゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロースなどが挙げられる。
The water-dispersible resin used in the present invention is a dispersion in which a hydrophobic synthetic resin is dispersed in a dispersion medium whose main component is water (sometimes referred to as a solvent in this specification).
The content of water contained in the solvent is preferably 30% to 100%, more preferably 50% to 100%. As the solvent other than water, a solvent having solubility in water such as alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran and butyl cellosolve is preferably used.
As the synthetic resin (polymer), various polymers such as an acrylic resin, a styrene-acrylic resin, a vinyl resin, a polyurethane resin, a polyester resin, a polyamide resin, and a fluorine resin can be used. Examples of the water-soluble resin include gelatin, polyvinyl alcohol, and carboxymethyl cellulose.

アクリル樹脂としては、アクリル酸、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類、メタクリルアミド及びメタクリロニトリルのいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体を挙げることができる。これらの中では、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体が好ましい。例えば、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体を挙げることができる。上記アクリル樹脂は、上記組成を主成分とし、カルボジイミド化合物との架橋反応が可能なように、例えば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの基を有するモノマーを一部使用して得られるポリマーである。   Acrylic resins include acrylic acid esters such as acrylic acid and alkyl acrylate, acrylamide, acrylonitrile, methacrylic acid esters such as methacrylic acid and alkyl methacrylate, and homopolymers of any monomer of methacrylamide and methacrylonitrile. Or the copolymer obtained by superposition | polymerization of 2 or more types of these monomers can be mentioned. Among these, homopolymers of monomers of acrylic acid esters such as alkyl acrylates and methacrylic acid esters such as alkyl methacrylates, or copolymers obtained by polymerization of two or more of these monomers preferable. For example, mention may be made of homopolymers of monomers of acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or copolymers obtained by polymerization of two or more of these monomers. it can. The acrylic resin has the above composition as a main component and, for example, partially uses a monomer having any group of a methylol group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group so that a crosslinking reaction with a carbodiimide compound is possible. The resulting polymer.

上記ビニル樹脂としては、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメチルエーテル、ポリオレフィン、エチレン/ブタジエン共重合体、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル/(メタ)アクリル酸エステル共重合体及びエチレン/酢酸ビニル系共重合体(好ましくはエチレン/酢酸ビニル/(メタ)アクリル酸エステル共重合体)を挙げることができる。これらの中で、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホリマール、ポリオレフィン、エチレン/ブタジエン共重合体及びエチレン/酢酸ビニル系共重合体(好ましくは、エチレン/酢酸ビニル/アクリル酸エステル共重合体)が好ましい。上記ビニル樹脂は、カルボジイミド化合物との架橋反応が可能なように、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメチルエーテル及びポリ酢酸ビニルでは、例えば、ビニルアルコール単位をポリマー中に残すことにより水酸基を有するポリマーとし、他のポリマーについては、例えば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの基を有するモノマーを一部使用することにより架橋可能なポリマーとする。   Examples of the vinyl resin include polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl methyl ether, polyolefin, ethylene / butadiene copolymer, polyvinyl acetate, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, vinyl chloride / ( A meth) acrylic acid ester copolymer and an ethylene / vinyl acetate copolymer (preferably ethylene / vinyl acetate / (meth) acrylic acid ester copolymer) can be mentioned. Among these, polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol, polyvinyl polymer, polyolefin, ethylene / butadiene copolymer and ethylene / vinyl acetate copolymer (preferably ethylene / vinyl acetate / acrylic acid ester copolymer). Is preferred. The vinyl resin can be crosslinked with a carbodiimide compound so that, for example, polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl methyl ether, and polyvinyl acetate leave a vinyl alcohol unit in the polymer. Thus, the polymer having a hydroxyl group is used, and the other polymer is, for example, a crosslinkable polymer by partially using a monomer having any of a methylol group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group.

上記ポリウレタン樹脂としては、ポリヒドロキシ化合物(例、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン)、ポリヒドロキシ化合物と多塩基酸との反応により得られる脂肪族ポリエステル系ポリオール、ポリエーテルポリオール(例、ポリ(オキシプロピレンエーテル)ポリオール、ポリ(オキシエチレン−プロピレンエーテル)ポリオール)、ポリカーボネート系ポリオール、及びポリエチレンテレフタレートポリオールのいずれか一種、あるいはこれらの混合物とポリイソシアネートから誘導されるポリウレタンを挙げることができる。上記ポリウレタン樹脂では、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとの反応後、未反応として残った水酸基をカルボジイミド化合物との架橋反応が可能な官能基として利用することができる。   Examples of the polyurethane resin include polyhydroxy compounds (eg, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylolpropane), aliphatic polyester polyols obtained by reaction of polyhydroxy compounds and polybasic acids, polyether polyols (eg, Polyurethane derived from poly (oxypropylene ether) polyol, poly (oxyethylene-propylene ether) polyol), polycarbonate-based polyol, and polyethylene terephthalate polyol, or a mixture thereof and polyisocyanate can be given. In the polyurethane resin, for example, the hydroxyl group remaining unreacted after the reaction between polyol and polyisocyanate can be used as a functional group capable of crosslinking reaction with a carbodiimide compound.

上記ポリエステル樹脂としては、一般にポリヒドロキシ化合物(例、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン)と多塩基酸との反応により得られるポリマーが使用される。上記ポリエステル樹脂では、例えば、ポリオールと多塩基酸との反応終了後、未反応として残った水酸基、カルボキシル基をカルボジイミド化合物との架橋反応が可能な官能基として利用することができる。もちろん、水酸基等の官能基を有する第三成分を添加してもよい。   As the polyester resin, generally used is a polymer obtained by reacting a polyhydroxy compound (eg, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylolpropane) with a polybasic acid. In the above-mentioned polyester resin, for example, the hydroxyl group and carboxyl group remaining unreacted after the reaction between the polyol and the polybasic acid can be used as a functional group capable of crosslinking reaction with the carbodiimide compound. Of course, a third component having a functional group such as a hydroxyl group may be added.

なお、ポリマーの水性分散物の分散状態としては、ポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持つもの等、いずれでもよい。なお、ポリマーの水性分散物(または単に水分散物と呼ぶ)については、「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))等に記載されている。分散粒子の平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜1000nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限はなく、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。   The dispersion state of the aqueous dispersion of the polymer may be one in which the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion polymerized, micelle-dispersed, or partially hydrophilic in the polymer molecule. Any of them may be used. For aqueous dispersions of polymers (or simply referred to as aqueous dispersions), “Synthetic resin emulsions (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Shuppankai (1978)),“ Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Kataoka, Y., Suzuki, K., Kasahara, K., published by Kobunshi Kagaku Kai (1993)), “Synthetic Latex Chemistry (Muroichi Soichi, published by Kobunshi Kagaku Kai (1970))”, etc. The average particle size is preferably in the range of about 1 to 50000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm, and the particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and even those having a wide particle size distribution have a monodispersed particle size distribution. It may be a thing.

なお、水分散物としては下記のような市販ポリマーを用いてもよい。
スーパフレックス830、460、870、420、420NS(第一工業製薬製ポリウレタン)、ボンディック1370NS、1320NS、ハイドランHw140SF、WLS201、WLS202、WLS213(大日本インキ化学工業製ポリウレタン)、オレスターUD350、UD500、UD600(三井化学製ポリウレタン)、ネオレッツR972、R966、R9660(楠本化成製ポリウレタン)、ファインテックスEs650、Es2200(大日本インキ化学工業製ポリエステル)、バイロナールMD1100、MD1400、MD1480(東洋紡製ポリエステル)、ジュリマーET325、ET410、AT−613、SEK301(日本純薬製アクリル)、ボンコートAN117、AN226(大日本インキ化学工業製アクリル)、ラックスターDS616、DS807(大日本インキ化学工業製スチレン−ブタジエンゴム)、ニッポールLX110、LX206、LX426、LX433(日本ゼオン製スチレン−ブタジエンゴム)、ニッポールLX513、LX1551、LX550、LX1571(日本ゼオン製アクリロニトリル−ブタジエンゴム)。
In addition, you may use the following commercially available polymers as an aqueous dispersion.
Superflex 830, 460, 870, 420, 420NS (Polyurethane made by Daiichi Kogyo Seiyaku), Bondick 1370NS, 1320NS, Hydran Hw140SF, WLS201, WLS202, WLS213 (Polyurethane made by Dainippon Ink & Chemicals), Olester UD350, UD500, UD600 (Mitsui Chemicals Polyurethane), Neoletz R972, R966, R9660 (Enomoto Kasei Polyurethane), Finetex Es650, Es2200 (Dainippon Ink Chemicals Polyester), Vironal MD1100, MD1400, MD1480 (Toyobo Polyester), Julimer ET325 ET410, AT-613, SEK301 (Nippon Pure Chemicals Acrylic), Boncoat AN117, AN226 (Dai Nippon Ink Industrial acrylic), Luckstar DS616, DS807 (Styrene-butadiene rubber manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), Nippon LX110, LX206, LX426, LX433 (Nippon Zeon styrene-butadiene rubber), Nippon LX513, LX1551, LX550, LX1571 ( Nippon Zeon acrylonitrile-butadiene rubber).

本発明の組成物のバインダとして用いるポリマーは1種類を単独で用いてもよいし、必要に応じて2種類以上を混合して使用してもよい。   As the polymer used as the binder of the composition of the present invention, one kind may be used alone, or two or more kinds may be mixed and used as necessary.

近赤外線吸収層のバインダとして用いられるポリマーの分子量には特に制限はないが、通常、重量平均分子量で3,000〜1,000,000程度のものが好ましい。重量平均分子量が3,000未満のものは塗布層の強度が不十分になる場合があり、1,000,000を超えるものは塗布面状が悪い場合がある。   Although there is no restriction | limiting in particular in the molecular weight of the polymer used as a binder of a near-infrared absorption layer, Usually, the thing of about 3,000-1,000,000 is preferable at a weight average molecular weight. When the weight average molecular weight is less than 3,000, the strength of the coating layer may be insufficient, and when it exceeds 1,000,000, the coated surface may be poor.

さらに,微粒子の分散および画像の品質を向上させるため,界面活性剤および分散剤を用いてもよい。界面活性剤としては、アニオン性,ノニオン性,カチオン性,両イオン性の界面活性剤が挙げられ、いずれの界面活性剤を用いてもよいが、アニオン性または非イオン性の界面活性剤を用いるのが好ましい。アニオン性界面活性剤としては,例えば、脂肪酸塩,アルキル硫酸エステル塩,アルキルベンゼンスルホン酸塩,アルキルナフタレンスルホン酸塩,ジアルキルスルホコハク酸塩,アルキルジアリールエーテルジスルホン酸塩,アルキルリン酸塩,ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩,ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩,ナフタレンスルホン酸フォルマリン縮合物,ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル塩,グリセロールボレイト脂肪酸エステル,ポリオキシエチレングリセロール脂肪酸エステル等が挙げられる。   Further, a surfactant and a dispersant may be used in order to improve fine particle dispersion and image quality. Examples of the surfactant include anionic, nonionic, cationic, and amphoteric surfactants. Any surfactant may be used, but an anionic or nonionic surfactant is used. Is preferred. Examples of anionic surfactants include fatty acid salts, alkyl sulfate esters, alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, alkyl diaryl ether disulfonates, alkyl phosphates, and polyoxyethylene alkyls. Examples thereof include ether sulfate, polyoxyethylene alkylaryl ether sulfate, naphthalene sulfonic acid formalin condensate, polyoxyethylene alkyl phosphate ester salt, glycerol borate fatty acid ester, polyoxyethylene glycerol fatty acid ester and the like.

ノニオン性界面活性剤としては,例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル,ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル,ポリオキシエチレンオキシプロピレンブロックコポリマー,ソルビタン脂肪酸エステル,ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル,ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル,グリセリン脂肪酸エステル,ポリオキシエチレン脂肪酸エステル,ポリオキシエチレンアルキルアミン,フッ素系,シリコン系等が挙げられる。   Nonionic surfactants include, for example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene oxypropylene block copolymer, sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin Examples include fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, polyoxyethylene alkylamines, fluorine-based resins, and silicon-based materials.

(非水系組成物)
本発明の光吸収性組成物が非水系組成物である場合、当該組成物は、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物とジチオール金属錯体化合物とを非水系ビヒクルに分散してなる。
非水系ビヒクルに使用される樹脂は、例えば、石油樹脂、カゼイン、セラック、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、ニトロセルロース、セルロースアセテートブチレート、環化ゴム、塩化ゴム、酸化ゴム、塩酸ゴム、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、エポキシ樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコン樹脂、フッ素樹脂、乾性油、合成乾性油、スチレン/マレイン酸樹脂、スチレン/アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂塩素化ポリプロピレン、ブチラール樹脂、塩化ビニリデン樹脂等が挙げられる。非水系ビヒクルとして、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を用いてもよい。
(Non-aqueous composition)
When the light-absorbing composition of the present invention is a non-aqueous composition, the composition contains a compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) and a dithiol metal complex compound in a non-aqueous vehicle. Dispersed.
Resins used in non-aqueous vehicles are, for example, petroleum resins, casein, shellac, rosin modified maleic resin, rosin modified phenolic resin, nitrocellulose, cellulose acetate butyrate, cyclized rubber, chlorinated rubber, oxidized rubber, hydrochloric acid rubber , Phenolic resin, alkyd resin, polyester resin, unsaturated polyester resin, amino resin, epoxy resin, vinyl resin, vinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, acrylic resin, methacrylic resin, polyurethane resin, silicone resin, fluorine resin , Drying oil, synthetic drying oil, styrene / maleic resin, styrene / acrylic resin, polyamide resin, polyimide resin, polyester resin, benzoguanamine resin, melamine resin, urea resin chlorinated polypropylene, butyral resin, vinylidene chloride resin, etc. It is below. A photocurable resin or a thermosetting resin may be used as the non-aqueous vehicle.

また、非水系ビヒクルに使用される溶剤としては、例えば、トルエンやキシレン、メトキシベンゼン等の芳香族系溶剤、酢酸エチルや酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル系溶剤、エトキシエチルプロピオネート等のプロピオネート系溶剤、メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、ヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクタム、N−メチル−2−ピロリドン、アニリン、ピリジン等の窒素化合物系溶剤、γ−ブチロラクトン等のラクトン系溶剤、カルバミン酸メチルとカルバミン酸エチルの48:52の混合物のようなカルバミン酸エステル等が挙げられる。   Examples of the solvent used in the non-aqueous vehicle include aromatic solvents such as toluene, xylene, and methoxybenzene, and acetates such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate. Solvents, propionate solvents such as ethoxyethyl propionate, alcohol solvents such as methanol and ethanol, ether solvents such as butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc. Ketone solvents, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, N, N-dimethylformamide, γ-butyrolactam, N Methyl-2-pyrrolidone, aniline, nitrogen compound-based solvent such as pyridine, a lactone-based solvents such as γ- butyrolactone, carbamic acid esters such as a mixture of 48:52 of methyl carbamate and ethyl carbamate acid.

前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物を微粒子として用いる場合、本発明の組成物は、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物からなる微粒子と、ジチオール金属錯体化合物と、水系または非水系の媒体とを、分散装置を用いて分散することで得られる。使用できる分散装置としては、例えば、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、ロールミル、ジェットミル、ペイントシェイカー、アトライター、超音波分散機、ディスパー等が挙げられる。   When the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) is used as fine particles, the composition of the present invention is obtained from the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3). The obtained fine particles, the dithiol metal complex compound, and the aqueous or non-aqueous medium are dispersed by using a dispersing device. Examples of the dispersing device that can be used include a ball mill, a sand mill, a bead mill, a roll mill, a jet mill, a paint shaker, an attritor, an ultrasonic disperser, and a disper.

本発明において、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物からなる微粒子を用いる場合、当該微粒子の体積平均粒子径は10nm以上250nm以下であることが好ましい。なお、微粒子の体積平均粒子径とは、微粒子そのものの粒子径、又は微粒子に分散剤等の添加物が付着している場合には、添加物が付着した粒子径をいう。本発明において、微粒子の体積平均粒子径の測定装置には、ナノトラックUPA粒度分析計(UPA−EX150、商品名、日機装社製)を用いることができる。その測定は、微粒子分散体3mlを測定セルに入れ、所定の測定方法に従って行う。なお、測定時に入力するパラメーターとしては、粘度にはインク粘度を、分散粒子の密度には顔料の密度を用いる。   In the present invention, when using fine particles comprising the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3), the volume average particle size of the fine particles is preferably 10 nm or more and 250 nm or less. The volume average particle diameter of the fine particles refers to the particle diameter of the fine particles themselves or, in the case where an additive such as a dispersant is attached to the fine particles, the particle diameter to which the additive is attached. In the present invention, a nanotrac UPA particle size analyzer (UPA-EX150, trade name, manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) can be used as a device for measuring the volume average particle diameter of fine particles. The measurement is performed according to a predetermined measurement method by placing 3 ml of the fine particle dispersion in a measurement cell. As parameters input at the time of measurement, the ink viscosity is used as the viscosity, and the pigment density is used as the density of the dispersed particles.

より好ましい体積平均粒子径は、20nm以上250nm以下であり、更に好ましくは30nm以上230nm以下である。顔料分散物中の粒子の数平均粒子径が10nm未満である場合には、保存安定性が確保できない場合が存在し、一方、250nmを超える場合には、光学濃度が低くなる場合が存在する。   A more preferable volume average particle diameter is 20 nm or more and 250 nm or less, and further preferably 30 nm or more and 230 nm or less. When the number average particle size of the particles in the pigment dispersion is less than 10 nm, there are cases where the storage stability cannot be ensured, whereas when it exceeds 250 nm, the optical density may be lowered.

本発明の光吸収性組成物における前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物の含有量は、0.1〜35質量%の範囲であることが好ましく、0.1〜25質量%の範囲であることがより好ましい。濃度が0.1質量%に満たないと、十分な色濃度が得られない場合がある。濃度が35質量%を超えると、分散安定性が低下する場合がある。
また、本発明の光吸収性組成物における前記ジチオール金属錯体化合物の含有量は、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される化合物に対して1〜100質量%であることが好ましく、5〜50質量%であることがより好ましい。
The content of the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) in the light-absorbing composition of the present invention is preferably in the range of 0.1 to 35% by mass, More preferably, it is in the range of ˜25 mass%. If the density is less than 0.1% by mass, sufficient color density may not be obtained. If the concentration exceeds 35% by mass, the dispersion stability may decrease.
Moreover, content of the said dithiol metal complex compound in the light absorptive composition of this invention is 1-100 mass% with respect to the compound represented by either of the said General formula (1)-(3). Is preferable, and it is more preferable that it is 5-50 mass%.

本発明の組成物の用途としては、画像、特に不可視画像を形成するための画像記録材料やフィルタ用途、光熱変換材料用途が挙げられ、具体的には、赤外線カットフィルタやインクジェット方式記録材料を始めとして、感熱記録材料、感圧記録材料、電子写真方式を用いる記録材料、転写式ハロゲン化銀感光材料、印刷インク、記録ペン、フラッシュ定着用光熱変換材料や光照射溶融接着剤等があり、好ましくは、フィルタ用途、インクジェット方式記録材料、感熱記録材料、電子写真方式を用いる記録材料である。   Applications of the composition of the present invention include image recording materials and filter applications for forming images, particularly invisible images, and photothermal conversion material applications. Specific examples include infrared cut filters and inkjet recording materials. As heat-sensitive recording materials, pressure-sensitive recording materials, recording materials using electrophotography, transfer-type silver halide photosensitive materials, printing inks, recording pens, photothermal conversion materials for flash fixing, light irradiation melting adhesives, etc. Is a recording material using a filter, an ink jet recording material, a heat sensitive recording material, and an electrophotographic method.

以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, this invention is not limited to these.

合成例1
[例示化合物(D−1)の調製]
下記スキームに従って、例示化合物(D−1)を調製した。

Figure 2010018688
Synthesis example 1
[Preparation of Exemplified Compound (D-1)]
Exemplified compound (D-1) was prepared according to the following scheme.
Figure 2010018688

まず、ジケトピロロピロール(DPP)を、4−(2−エチルヘキシルオキシ)ベンゾニトリルを原料にして、米国特許第5,969,154号明細書に記載された方法に従って、合成した。   First, diketopyrrolopyrrole (DPP) was synthesized according to the method described in US Pat. No. 5,969,154 using 4- (2-ethylhexyloxy) benzonitrile as a raw material.

ジケトピロロピロール3グラム(1モル当量)とピリジンアセトニトリル1.6グラム(2.5モル当量)をトルエン60mL中で攪拌し、オキシ塩化リン6.5グラム(8モル当量)を加えて4時間加熱還流した。室温に冷却してクロロホルム50mLと水20mLを加え、さらに30分攪拌した。分液操作により有機層を取り出し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)で精製し、さらにクロロホルム/アセトニトリル溶媒を用いて再結晶し、目的化合物(D−1)を3グラム、収率77%で得た。
1H−NMR(CDCl3):δ0.9−1.0(m,12H),1.3−1.6(m,16H),1.8(m,2H),3.95(d,4H),7.0(t,2H),7.1(d,4H),7.6(m,4H),7.7(d,4H),8.45(d,2H)
3 grams (1 molar equivalent) of diketopyrrolopyrrole and 1.6 grams (2.5 molar equivalent) of pyridine acetonitrile are stirred in 60 mL of toluene, and 6.5 grams (8 molar equivalents) of phosphorus oxychloride are added for 4 hours. Heated to reflux. After cooling to room temperature, 50 mL of chloroform and 20 mL of water were added, and the mixture was further stirred for 30 minutes. The organic layer was taken out by a liquid separation operation and washed with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (solvent chloroform), and further recrystallized using a chloroform / acetonitrile solvent to obtain 3 g of the target compound (D-1) in a yield of 77%.
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.9-1.0 (m, 12H), 1.3-1.6 (m, 16H), 1.8 (m, 2H), 3.95 (d, 4H), 7.0 (t, 2H), 7.1 (d, 4H), 7.6 (m, 4H), 7.7 (d, 4H), 8.45 (d, 2H)

合成例2
(例示化合物(D−25)の調製)
前記スキームに従い例示化合物(D−25)を調製した。
例示化合物(D−1)0.75グラム(1モル当量)とクロロジフェニルホウ素0.5グラム(2.5モル当量)をオルトジクロロベンゼン20mL中で3時間加熱還流した。室温に冷却して水10mLを加えた後、分液操作により有機層を取り出し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム溶媒)で精製し、さらにクロロホルム/メタノール溶媒を用いて再結晶し、目的化合物(D−25)を0.58グラム、収率53%で得た。
1H−NMR(CDCl3):δ0.9−1.0(m,12H),1.3−1.6(m,16H),1.8(m,2H),3.75(d,4H),6.35(d,4H),6.65(d,4H),6.7(t,2H),7.1−7.2(m,20H),7.35(d,2H),7.45(t,2H),7.8(d,2H)
Synthesis example 2
(Preparation of exemplary compound (D-25))
Exemplified compound (D-25) was prepared according to the above scheme.
0.75 gram (1 molar equivalent) of exemplary compound (D-1) and 0.5 gram (2.5 molar equivalent) of chlorodiphenyl boron were heated to reflux in 20 mL of orthodichlorobenzene for 3 hours. After cooling to room temperature and adding 10 mL of water, the organic layer was taken out by a liquid separation operation, washed with an aqueous sodium bicarbonate solution, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (chloroform solvent) and recrystallized using chloroform / methanol solvent to obtain 0.58 g of the target compound (D-25) in a yield of 53%. It was.
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.9-1.0 (m, 12H), 1.3-1.6 (m, 16H), 1.8 (m, 2H), 3.75 (d, 4H), 6.35 (d, 4H), 6.65 (d, 4H), 6.7 (t, 2H), 7.1-7.2 (m, 20H), 7.35 (d, 2H) ), 7.45 (t, 2H), 7.8 (d, 2H)

実施例1
(膜サンプル(S−1)の作製)
「ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ(Journal of American Chemical Society)」第87巻、第1483〜1489ページ(1965)に記載された方法を参照して、ジチオール金属錯体化合物(例示化合物(A−10))を合成した。
クロロホルム1mLに、例示化合物(D−25)10mgおよび例示化合物(A−10)1mgを溶解し、フィルタろ過を行い、組成物サンプル(S1)を作製した。作製した組成物サンプル(S1)をガラス基板上にスピンコート(500ppm,10秒−−1000ppm,20秒)して、膜サンプル(S−1)を作製した。なお、ガラス基板は、純水で超音波洗浄した後にアセトン洗浄したものを用いた。膜サンプル(S−1)は、例示化合物(D−25)からなるアモルファス膜である。
Example 1
(Production of membrane sample (S-1))
Referring to the method described in “Journal of the American Chemical Society” Vol. 87, pages 1483 to 1489 (1965), a dithiol metal complex compound (exemplary compound ( A-10)) was synthesized.
10 mg of the exemplary compound (D-25) and 1 mg of the exemplary compound (A-10) were dissolved in 1 mL of chloroform, and filtered to prepare a composition sample (S1). The produced composition sample (S1) was spin-coated (500 ppm, 10 seconds--1000 ppm, 20 seconds) on a glass substrate to produce a film sample (S-1). In addition, the glass substrate used what was cleaned with acetone after ultrasonically cleaning with pure water. The film sample (S-1) is an amorphous film made of the exemplified compound (D-25).

(膜サンプル(S−0)の作製)
例示化合物(D−25)10mgのみをクロロホルムに溶解したこと以外は上記と同様にして、比較用の組成物サンプル(S0)を作製し、比較用の膜サンプル(S−0)を作製した。膜サンプル(S−0)は、例示化合物(D−25)からなるアモルファス膜である。
(Production of membrane sample (S-0))
A comparative composition sample (S0) was prepared in the same manner as above except that only 10 mg of the exemplary compound (D-25) was dissolved in chloroform, and a comparative film sample (S-0) was prepared. The film sample (S-0) is an amorphous film made of the exemplified compound (D-25).

(評価)
上記膜サンプル(S−1)及び(S−0)について、分光光度計(島津製作所製、商品名、UVPC−3100)を用いて膜吸収スペクトルを測定した。測定結果を、それぞれ極大吸収波長λmaxで規格化し、重ね合わせて図1に示す。図1中、横軸は波長を、縦軸は規格化した吸収強度を示す。
図1の結果から明らかなように、膜サンプル(S−1)及び(S−0)の極大吸収波長はほぼ同じ波長であり、また、両者の吸収スペクトルは可視領域の波長400〜700nmにおいてほとんど変化していなかった。このことから、両者はいずれも不可視性が良好で、ジチオール金属錯体化合物による不可視性への影響はないことがわかった。
(Evaluation)
About the said film | membrane sample (S-1) and (S-0), the film | membrane absorption spectrum was measured using the spectrophotometer (The Shimadzu Corporation make, brand name, UVPC-3100). The measurement results are normalized by the maximum absorption wavelength λmax, and are shown in FIG. In FIG. 1, the horizontal axis represents wavelength, and the vertical axis represents normalized absorption intensity.
As is clear from the results of FIG. 1, the maximum absorption wavelengths of the film samples (S-1) and (S-0) are almost the same wavelength, and both absorption spectra are almost in the visible region of wavelength 400 to 700 nm. It did not change. From this, it was found that both of them had good invisibility and there was no influence on the invisibility by the dithiol metal complex compound.

次に、膜サンプル(S−1)及び(S−0)に、メリーゴーランド型耐光試験機(イーグルエンジニアリング社製、セルテスト機III型(商品名);Schott製WG320フィルタ(商品名)付き)を用いて照度17万lxのキセノン光を照射し、例示化合物(D−25)の残存率を下式に従って算出した。
残存率%=100×(照射後の吸収強度)/(照射前の吸収強度)
なお、吸収強度は、前記一般式(1)で表される化合物の紫外線吸収スペクトルの極大吸収波長で測定した値である。結果を図2に示す。図2中、横軸はXe光照射時間(時間)を、縦軸は残存率(%)を示す。
図2の結果から明らかなように、比較例の膜サンプル(S−0)では18時間照射後には残存率が20%程度であったのに対し、本発明の膜サンプル(S−1)では48時間照射し続けても残存率が40%程度であった。このことから、本発明の膜サンプル(S−1)は耐光性に優れることがわかった。
Next, on the membrane samples (S-1) and (S-0), a merry-go-round type light resistance tester (manufactured by Eagle Engineering Co., Ltd., cell test machine type III (trade name); with Schott WG320 filter (trade name)) The sample was irradiated with xenon light having an illuminance of 170,000 lx, and the residual ratio of the exemplary compound (D-25) was calculated according to the following formula.
Residual rate% = 100 × (absorption intensity after irradiation) / (absorption intensity before irradiation)
The absorption intensity is a value measured at the maximum absorption wavelength of the ultraviolet absorption spectrum of the compound represented by the general formula (1). The results are shown in FIG. In FIG. 2, the horizontal axis represents the Xe light irradiation time (hour), and the vertical axis represents the remaining rate (%).
As is clear from the results of FIG. 2, in the film sample (S-0) of the comparative example, the residual rate was about 20% after 18 hours of irradiation, whereas in the film sample (S-1) of the present invention, Even after 48 hours of irradiation, the residual rate was about 40%. From this, it was found that the film sample (S-1) of the present invention was excellent in light resistance.

以上の結果から、本発明の光吸収性組成物およびその塗布膜は、近赤外領域に吸収を有し、可視領域(400〜700nm)に吸収を有さず不可視性に優れ、しかも耐光性にも優れることがわかる。   From the above results, the light-absorbing composition of the present invention and the coating film thereof have absorption in the near-infrared region, no absorption in the visible region (400 to 700 nm), excellent invisibility, and light resistance. It turns out that it is excellent.

実施例2
(膜サンプル(S−2)〜(S−7)の作製)
実施例1における前記一般式(1)で表される化合物(例示化合物(D−25))の種類、並びに前記一般式(2)で表される化合物(例示化合物(A−10))の種類および含有量を下記表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして膜サンプル(S−2)〜(S−7)を作製した。膜サンプル(S−2)〜(S−7)は、前記一般式(1)で表される化合物からなるアモルファス膜である。なお、本実施例で用いた前記一般式(1)で表される化合物は、合成例1と同様にして調製した。また、前記一般式(2)で表される化合物は、「ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ(Journal of American Chemical Society)」第95巻、第6970〜6979ページ(1973)や、特開昭61−32003号、特開昭61−42585号、特開昭61−57674号、特開昭61−71503号、特開昭61−80106号、特開昭64−75568号の各公報などに記載された方法を参照して合成した。
Example 2
(Production of membrane samples (S-2) to (S-7))
The kind of compound (Exemplary Compound (D-25)) represented by General Formula (1) in Example 1 and the kind of Compound (Exemplary Compound (A-10)) represented by General Formula (2) in Example 1 Membrane samples (S-2) to (S-7) were produced in the same manner as in Example 1 except that the content was changed as shown in Table 1 below. The film samples (S-2) to (S-7) are amorphous films made of the compound represented by the general formula (1). The compound represented by the general formula (1) used in this example was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1. In addition, the compound represented by the general formula (2) includes “Journal of the American Chemical Society” Vol. 95, pages 6970-6969 (1973), and the like. JP-A 61-32003, JP-A 61-42585, JP-A 61-57674, JP-A 61-71503, JP-A 61-80106, JP-A 64-75568, etc. Was synthesized with reference to the method described in 1.

(膜サンプル(S−8)及び(S−9)の作製)
1.微粒子分散液の調製
例示化合物(D−25)10質量部および分散剤としてドデシルベンゼンスルホン酸(DBS)2質量部に水を加え500質量部とした。これに更に0.1mmφのジルコニアビーズ500質量部を添加し、遊星型ボールミルにて300rpmで5時間処理を行い、微細粒子の水分散液を作製した。
その後、前記水分散物からビーズを濾過で分離し、ナノトラックUPA粒度分析計(UPA−EX150、商品名、日機装社製)を用いて例示化合物(D−25)からなる微粒子の粒径を測定したところ、平均粒径は0.06μmであった。
(Production of membrane samples (S-8) and (S-9))
1. Preparation of Fine Particle Dispersion Water was added to 10 parts by mass of the exemplary compound (D-25) and 2 parts by mass of dodecylbenzenesulfonic acid (DBS) as a dispersant to give 500 parts by mass. To this was further added 500 parts by mass of 0.1 mmφ zirconia beads, followed by treatment with a planetary ball mill at 300 rpm for 5 hours to prepare an aqueous dispersion of fine particles.
Thereafter, the beads are separated from the aqueous dispersion by filtration, and the particle size of the fine particles comprising the exemplified compound (D-25) is measured using a Nanotrac UPA particle size analyzer (UPA-EX150, trade name, manufactured by Nikkiso Co., Ltd.). As a result, the average particle size was 0.06 μm.

2.微粒子分散膜の作製
得られた水分散物にゼラチン水溶液を添加し、ゼラチン下塗りしたポリエチレンテレフタレート(PET)板に塗布し、例示化合物(D−25)微粒子のゼラチン分散膜を作製した(膜サンプル(S−8))。得られたゼラチン膜の吸収スペクトルを測定し、例示化合物(D−25)の吸収のλmax光学濃度が1.5となるよう水分散物濃度を調節した。また、例示化合物(D−25)を例示化合物(D−10)に代えたこと以外は同様にして、膜サンプル(S−9)を作製した。
2. Preparation of Fine Particle Dispersion Film An aqueous gelatin solution was added to the obtained aqueous dispersion and applied to a polyethylene terephthalate (PET) plate coated with gelatin to prepare a gelatin dispersion film of fine particles of the exemplified compound (D-25) (film sample ( S-8)). The absorption spectrum of the obtained gelatin film was measured, and the aqueous dispersion concentration was adjusted so that the λmax optical density of absorption of the exemplary compound (D-25) was 1.5. A membrane sample (S-9) was produced in the same manner except that the exemplified compound (D-25) was replaced with the exemplified compound (D-10).

(評価)
膜サンプル(S−0)〜(S−9)について、耐光性および不可視性の評価を行った。
メリーゴーランド型耐光試験機(イーグルエンジニアリング社製、セルテスト機III型(商品名);Schott製WG320フィルタ(商品名)付き)を用いて照度17万lxのXe光を照射し、Xe光照射14時間後の赤外線吸収スペクトルの極大吸収波長で透過率を測定し、実施例1と同様にして残存率を算出した。結果を表1に示す。
また、不可視性の評価は目視により行い、膜サンプル(S−0)に比べて着色が見られる場合を×、膜サンプル(S−0)と同等の着色度である場合を○、膜サンプル(S−0)に比べて着色度が低く透明性が高い場合を◎と評価した。
(Evaluation)
The film samples (S-0) to (S-9) were evaluated for light resistance and invisibility.
Irradiate Xe light with an illuminance of 170,000 lx using a merry-go-round type light resistance tester (manufactured by Eagle Engineering, cell test machine type III (trade name); with Schott WG320 filter (trade name)), and irradiated with Xe light for 14 hours The transmittance was measured at the maximum absorption wavelength of the later infrared absorption spectrum, and the residual rate was calculated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
The invisibility is evaluated by visual inspection. The case where coloring is observed as compared with the membrane sample (S-0) is ×, the case where the coloring degree is equivalent to that of the membrane sample (S-0) is ○, and the membrane sample ( A case where the degree of coloring was low and the transparency was high compared to S-0) was evaluated as ◎.

Figure 2010018688
Figure 2010018688

表1の結果から明らかなように、比較例の膜サンプル(S−0)は、残存率が30%と低かった。これに対し、本発明の膜サンプル(S−1)〜(S−9)は、膜サンプル(S−0)と同等の着色度であり、不可視性が良好で、かつ、残存率も75%以上と高く耐光性にも優れることがわかった。このことから本発明の光吸収性組成物を用いたアモルファス膜は耐光性に優れることがわかった。
また、膜サンプル(S−1)と膜サンプル(S−2)とを対比すると、ジチオール金属錯体化合物の含有量を増加させた膜サンプル(S−2)では、不可視性は維持したまま、耐光性が更に向上することがわかった。また、例示化合物(D−25)又は(D−10)の微粒子を用いた分散膜サンプル(S−9)及び(S−10)は、さらに不可視性が優れ、しかも残存率は95%及び98%と非常に高く、特に耐光性に優れることがわかった。
As is clear from the results in Table 1, the film rate of the comparative example (S-0) was as low as 30%. On the other hand, the membrane samples (S-1) to (S-9) of the present invention have the same degree of coloring as the membrane sample (S-0), good invisibility, and a residual rate of 75%. It was found that the light resistance was high and excellent in light resistance. From this, it was found that the amorphous film using the light absorbing composition of the present invention was excellent in light resistance.
Further, when the film sample (S-1) and the film sample (S-2) are compared, the film sample (S-2) in which the content of the dithiol metal complex compound is increased, while maintaining the invisibility, the light resistance It was found that the property was further improved. Further, the dispersion film samples (S-9) and (S-10) using fine particles of the exemplified compound (D-25) or (D-10) are further invisible, and the residual ratio is 95% and 98%. %, Which was very high, and was particularly excellent in light resistance.

前記一般式(1)で表される化合物とジチオール金属錯体化合物とを含む本発明の光吸収性組成物およびそれを使用した塗布物は、良好な赤外線吸収性と不可視性とを有し、高い耐光性を有する。本発明の光吸収性組成物は、フィルタやインク等のマーカー、産業用光熱変換材料として応用できる。   The light-absorbing composition of the present invention containing the compound represented by the general formula (1) and the dithiol metal complex compound and the coating material using the same have good infrared absorption and invisibility, and high Light resistance. The light absorbing composition of the present invention can be applied as a marker such as a filter or an ink, or an industrial photothermal conversion material.

図1は、膜サンプル(S−1)及び膜サンプル(S−0)の膜吸収スペクトルを表す。FIG. 1 shows membrane absorption spectra of the membrane sample (S-1) and the membrane sample (S-0). 図2は、膜サンプル(S−1)及び膜サンプル(S−0)の耐光性評価の結果のグラフである。FIG. 2 is a graph showing the results of light resistance evaluation of the film sample (S-1) and the film sample (S-0).

Claims (12)

下記一般式(1)で表される化合物とジチオール金属錯体化合物とを含む光吸収性組成物。
Figure 2010018688
(式中、R1はアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。R2及びR3は各々独立に水素原子または置換基を表し、少なくとも一方は電子吸引性基であり、R2及びR3は結合して環を形成しても良い。R4は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素、金属原子を表し、R1及び/又はR3と共有結合もしくは配位結合しても良い。)
The light absorptive composition containing the compound represented by following General formula (1), and a dithiol metal complex compound.
Figure 2010018688
(In the formula, R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group .R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, at least one of an electron withdrawing group, R 2 and R 3 may be bonded to form a ring, and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a substituted boron or a metal atom, and is covalently bonded or coordinated with R 1 and / or R 3. May be combined.)
前記ジチオール金属錯体化合物が下記一般式(A)で表される化合物である、請求項1記載の光吸収性組成物。
Figure 2010018688
(式中、Ra1及びRa2は、各々独立にアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、チオ基、又はシアノ基を表し、Ra1とRa2とが連結して環構造を形成しても良く、形成された環は、飽和環もしくは不飽和環のいずれであっても良い。nは2又は3の整数を表す。Mは金属原子を表す。Zaは0、1−、2−を表す。また、Zaが1−、2−を表すとき、YはZaの電荷を中和するカチオン化合物を表す。)
The light absorptive composition of Claim 1 whose said dithiol metal complex compound is a compound represented by the following general formula (A).
Figure 2010018688
(Wherein R a1 and R a2 each independently represents an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a thio group, or a cyano group, and R a1 and R a2 may be linked to form a ring structure. The ring formed may be either a saturated ring or an unsaturated ring, n represents an integer of 2 or 3, M represents a metal atom, Za represents 0, 1-, 2-. In addition, when Za represents 1- or 2-, Y represents a cationic compound that neutralizes the charge of Za.)
前記一般式(A)で表される化合物が下記一般式(A1)で表される化合物である、請求項2記載の光吸収性組成物。
Figure 2010018688
(式中、Ra1、Ra2、Ra3、Ra4は、各々独立にアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、チオ基、又はシアノ基を表し、Ra1とRa2ないしRa3とRa4が連結して環構造を形成しても良く、形成された環は、飽和環もしくは不飽和環のいずれであっても良い。Mは金属原子を表す。Zaは0、1−、2−を表す。また、Zaが1−、2−を表すとき、YはZaの電荷を中和するカチオン化合物を表す。)
The light-absorbing composition according to claim 2, wherein the compound represented by the general formula (A) is a compound represented by the following general formula (A1).
Figure 2010018688
(Wherein R a1 , R a2 , R a3 and R a4 each independently represents an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a thio group, or a cyano group, and R a1 and R a2 or R a3 and R a4 May be linked to form a ring structure, and the formed ring may be either a saturated ring or an unsaturated ring, M represents a metal atom, Za represents 0, 1 or 2; In addition, when Za represents 1- or 2-, Y represents a cationic compound that neutralizes the charge of Za.)
前記一般式(A)で表される化合物が下記一般式(A2)〜(A5)のいずれかで表される化合物である、請求項2記載の光吸収性組成物。
Figure 2010018688
(前記一般式(A2)〜(A5)中、R11は置換基を表し、mは1〜4の整数を表す。複数のR11は同一でも異なっていても良い。EWGは電子吸引性基を表す。Arはアリール基またはヘテロアリール基を表す。R12及びR13は各々独立にアリール基、ヘテロアリール基、又はアルキル基を表す。nは2又は3の整数を表す。Mは金属原子を表す。Zaは0、1−、2−を表す。また、Zaが1−、2−を表すとき、YはZaの電荷を中和するカチオン化合物を表す。)
The light-absorbing composition according to claim 2, wherein the compound represented by the general formula (A) is a compound represented by any one of the following general formulas (A2) to (A5).
Figure 2010018688
(In the general formulas (A2) to (A5), R 11 represents a substituent, m represents an integer of 1 to 4. A plurality of R 11 may be the same or different. EWG represents an electron-withdrawing group. Ar represents an aryl group or a heteroaryl group, R 12 and R 13 each independently represents an aryl group, a heteroaryl group, or an alkyl group, n represents an integer of 2 or 3, and M represents a metal atom. Za represents 0, 1-, 2-. When Za represents 1-, 2-, Y represents a cationic compound that neutralizes the charge of Za.)
前記一般式(1)におけるR3がヘテロ環である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光吸収性組成物。 The light absorptive composition of any one of Claims 1-4 whose R < 3 > in the said General formula (1) is a heterocyclic ring. 前記一般式(1)で表される化合物が分子分散している、請求項1〜5のいずれか1項に記載の光吸収性組成物。   The light-absorbing composition according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (1) is molecularly dispersed. アモルファス状態である、請求項6記載の光吸収性組成物。   The light-absorbing composition according to claim 6, which is in an amorphous state. 前記一般式(1)で表される化合物からなる微粒子を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の光吸収性組成物。   The light absorptive composition of any one of Claims 1-5 containing the microparticles | fine-particles which consist of a compound represented by the said General formula (1). 請求項1〜8のいずれか1項に記載の光吸収性組成物であって、700nm以上1000nm以下の赤外線を吸収する、赤外線吸収性組成物。   It is a light absorptive composition given in any 1 paragraph of Claims 1-8, Comprising: An infrared absorptive composition which absorbs 700 nm or more and 1000 nm or less infrared rays. 前記一般式(1)で表される化合物が下記一般式(2)で表される化合物である、請求項9記載の赤外線吸収性化合物。
Figure 2010018688
(式中、Z1はアリール環もしくはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。R5は炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、炭素数1〜20のカルバモイル基、ハロゲン原子、又はシアノ基のいずれか1つを表し、R5とZ1とが結合して縮合環を形成しても良い。R22及びR23は各々独立にシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜20の含窒素ヘテロアリール基を表し、又はR22及びR23が結合して環状酸性核を表す。R4は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数4〜20ヘテロアリール基、金属原子、又は置換基としてハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、もしくは炭素数4〜20のヘテロアリール基を有する置換ホウ素を表し、R23と共有結合もしくは配位結合を有しても良い。また、当該化合物は更に置換基を有しても良い。)
The infrared absorbing compound according to claim 9, wherein the compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following general formula (2).
Figure 2010018688
(In the formula, Z 1 represents an atomic group forming an aryl ring or a heteroaryl ring. R 5 is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 4 to 20 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 20 carbon atoms. A group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 20 carbon atoms, a carboxyl group, a carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, or a cyano group, and R 5 and Z 1 may be bonded to form a condensed ring, and R 22 and R 23 are each independently a cyano group, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents an alkyl or arylsulfinyl group having from 10 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having from 3 to 20 carbon atoms, or R 22 and R 23 are bonded to each other to represent a cyclic acidic nucleus, wherein R 4 represents a hydrogen atom, 1 to carbon atoms 20 alkyl groups, C6-C20 aryl group, C4-C20 heteroaryl group, metal atom, or halogen atom as a substituent, C1-C10 alkyl group, C6-C20 aryl group, or C4-C4 Represents a substituted boron having ˜20 heteroaryl groups, and may have a covalent bond or a coordinate bond with R 23. In addition, the compound may further have a substituent.
前記一般式(1)で表される化合物が下記一般式(3)で表される化合物である、請求項9記載の赤外線吸収性化合物。
Figure 2010018688
(式中、R31は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数3〜20のヘテロアリール基を表す。R32はシアノ基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアルキルもしくはアリールスルフィニル基、又は炭素数3〜10の含窒素ヘテロアリール基を表す。R6及びR7は各々独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基は炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数4〜10のヘテロアリール基を表し、R6及びR7は結合して環を形成してよく、形成する環としては炭素数5〜10の脂環、炭素数6〜10のアリール環、又は炭素数3〜10のヘテロアリール環である。R8及びR9は各々独立に炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、又は炭素数3〜10のヘテロアリール基を表す。Xは酸素原子、イオウ原子、−NR−、−CRR’−を表し、R及びR’は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又は炭素数6〜10のアリール基を表す。)
The infrared absorbing compound according to claim 9, wherein the compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following general formula (3).
Figure 2010018688
(In the formula, R 31 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms. R 32 represents a cyano group or an acyl having 1 to 6 carbon atoms. Group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl or arylsulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a nitrogen-containing heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms, wherein R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom. The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represents an aryl group having 6 to 10 carbon atoms or a heteroaryl group having 4 to 10 carbon atoms, and R 6 and R 7 may be bonded to form a ring. The ring is an alicyclic ring having 5 to 10 carbon atoms, an aryl ring having 6 to 10 carbon atoms, or a heteroaryl ring having 3 to 10 carbon atoms, and R 8 and R 9 are each independently alkyl having 1 to 10 carbon atoms. Group, C1-C10 alkoxy group, carbon Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms or a heteroaryl group having 3 to 10 carbon atoms, X represents an oxygen atom, a sulfur atom, -NR-, or -CRR'-, R and R 'represent a hydrogen atom or a carbon number of 1 Represents an alkyl group having 10 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.)
請求項1〜11のいずれか1項に記載の組成物を含む塗布物。   The coating material containing the composition of any one of Claims 1-11.
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