JP5599217B2 - Interdigital disc and method for manufacturing interdigital disc - Google Patents

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Description

本発明は、すだれ状円板及びすだれ状円板の製造方法に関する。   The present invention relates to an interdigital disc and a method for manufacturing an interdigital disc.

例えば、半導体デバイスの製造プロセスにおいては、エッチング工程や成膜工程等の多くの工程において各種多様なマスクや金型が利用されている。例えば、特開昭61−267343号公報又は特開平4−44336号公報には、分割予定ラインに対応した開口を有するマスクを形成した後、このマスクを介して半導体ウエーハにエッチングを施して分割予定ラインに溝を形成する方法が開示されている。   For example, in a semiconductor device manufacturing process, various masks and molds are used in many processes such as an etching process and a film forming process. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-267343 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-44336, a mask having an opening corresponding to a planned division line is formed, and then the semiconductor wafer is etched through this mask to be divided. A method for forming a groove in a line is disclosed.

特開昭61−267343号公報JP 61-267343 A 特開平4−44336号公報JP-A-4-44336

このようなマスクは一般的にフォトレジストを用いて作製されるが、ウエーハ毎にマスクを作製する必要があり、手間がかかる上、コストがかかるという問題がある。   Such a mask is generally manufactured using a photoresist. However, it is necessary to manufacture a mask for each wafer, which is troublesome and costly.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、繰り返し使えるマスクとして使用可能なすだれ状円板及びその製造方法を提供することである。   This invention is made | formed in view of such a point, The place made into the objective is providing the interdigital disk which can be used as a reusable mask, and its manufacturing method.

請求項記載の発明によると、すだれ状円板の製造方法であって、円板の一面の中央部に円形凹部を形成するとともに該円形凹部を囲繞する環状凸部を形成するステップと、該円形凹部と該環状凸部が形成された円板の他面から互いに平行な複数の貫通溝を形成するステップと、を備え、前記円形凹部の形成は研削により実施することを特徴とするすだれ状円盤の製造方法が提供される。 According to the first aspect of the invention, the step of forming the annular convex portion surrounding the circular recess with a manufacturing method for interdigital disc, to form a circular recess in the center portion of one surface of the disc, the Forming a plurality of through-grooves parallel to each other from the other surface of the circular plate having the circular concave portion and the annular convex portion, and forming the circular concave portion by grinding. A method for manufacturing a disk is provided.

請求項記載の発明によると、すだれ状円板の製造方法であって、円板の一面に互いに平行な複数の溝を形成するステップと、該一面に前記複数の溝が形成された円板の他面中央部に円形凹部を形成するとともに該円形凹部を囲繞する環状凸部を形成することで、該複数の溝を該円形凹部に表出させて複数の貫通溝を形成するステップと、を備え、前記円形凹部の形成は研削により実施することを特徴とするすだれ状円板の製造方法が提供される。 According to invention of Claim 2 , it is a manufacturing method of the interdigital disc, Comprising: The step which forms a some mutually parallel groove | channel on the one surface of a disc, The disc by which the said some groove | channel was formed in this one surface Forming a plurality of through grooves by exposing the plurality of grooves to the circular recess by forming a circular recess at the center of the other surface and forming an annular protrusion surrounding the circular recess; and And the formation of the circular recess is carried out by grinding .

本発明によると、繰り返し使えるマスクとして使用可能なすだれ状円板及びその製造方法が提供される。形成する貫通溝のピッチを適宜設定することで、異なるチップサイズのウエーハに対応するマスクを製造することができる。   According to the present invention, an interdigital disc that can be used as a reusable mask and a method for manufacturing the same are provided. By appropriately setting the pitch of the through grooves to be formed, it is possible to manufacture masks corresponding to wafers having different chip sizes.

本発明実施形態に係るすだれ状円板の斜視図である。It is a perspective view of the interdigital disk which concerns on this invention embodiment. 中央部研削工程を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a center part grinding process. 円形凹部及び該円形凹部を囲繞する環状凸部を有する円板の断面図である。It is sectional drawing of the disc which has a circular recessed part and the cyclic | annular convex part surrounding this circular recessed part. 図4(A)はダイシングテープを介して環状フレームで支持された状態の円形凹部及び環状凸部を有する円板の断面図、図4(B)はバックグラインドテープ(BGテープ)を剥離する工程を示す断面図である。4A is a cross-sectional view of a circular plate having a circular concave portion and an annular convex portion supported by an annular frame via a dicing tape, and FIG. 4B is a process of peeling back grinding tape (BG tape). FIG. 図5(A)は第1実施形態の貫通溝形成工程を示す断面図、図5(B)は第2実施形態の貫通溝形成工程を示す断面図である。FIG. 5A is a cross-sectional view showing the through groove forming process of the first embodiment, and FIG. 5B is a cross-sectional view showing the through groove forming process of the second embodiment. 図6(A)は先ダイシング法(DBG)によるハーフカット工程を示す一部断面図、図6(B)は先ダイシング法(DBG)によるチョッパーカット工程を示す一部断面図である。FIG. 6A is a partial cross-sectional view showing a half-cut process by a pre-dicing method (DBG), and FIG. 6B is a partial cross-sectional view showing a chopper-cut process by a pre-dicing method (DBG). 先ダイシング法により複数の平行な溝を形成した後の環状フレームに支持された円板の斜視図である。It is a perspective view of the disc supported by the annular frame after forming a plurality of parallel grooves by the tip dicing method. 保護テープを貼着した状態の環状フレームに支持された円板の斜視図である。It is a perspective view of the disc supported by the annular frame of the state which stuck the protective tape. 研削工程を示す側面図である。It is a side view which shows a grinding process. 研削により円形凹部及び環状凸部を有する円板から保護テープを剥離している状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which has peeled the protective tape from the disk which has a circular recessed part and an annular convex part by grinding.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1(A)を参照すると、本発明第1実施形態に係るすだれ状円板2の斜視図が示されている。すだれ状円板2は、例えばシリコンウエーハから形成され、中央部に円形凹部4を有すると共に外周部に円形凹部4を囲繞する環状凸部6を有している。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Referring to FIG. 1 (A), a perspective view of the interdigital disc 2 according to the first embodiment of the present invention is shown. The interdigital disc 2 is formed of, for example, a silicon wafer, and has a circular concave portion 4 at the center portion and an annular convex portion 6 surrounding the circular concave portion 4 at the outer peripheral portion.

円形凹部4でのすだれ状円板2の厚さは例えば50〜100μmであり、環状凸部6の厚さは例えば600〜800μmである。すだれ状円板2の円形凹部4には、互いに平行な複数の貫通溝8が形成されている。複数の貫通溝8は比較的広いピッチで形成されている。すだれ状円板2の素材はシリコンウエーハに限定されるものではなく、化合物半導体ウエーハ、サファイア、ガラス、SiC、金属等も採用可能である。   The thickness of the interdigital disc 2 in the circular concave portion 4 is, for example, 50 to 100 μm, and the thickness of the annular convex portion 6 is, for example, 600 to 800 μm. A plurality of through grooves 8 parallel to each other are formed in the circular recess 4 of the interdigital disc 2. The plurality of through grooves 8 are formed with a relatively wide pitch. The material of the interdigital disc 2 is not limited to a silicon wafer, and a compound semiconductor wafer, sapphire, glass, SiC, metal, or the like can also be employed.

図1(B)を参照すると、本発明第2実施形態に係るすだれ状円板2Aの斜視図が示されている。本実施形態のすだれ状円板2Aは、凹部4に狭ピッチの互いに平行な複数の貫通溝8を有している。すだれ状円板2Aも、シリコンウエーハ、化合物半導体ウエーハ、サファイア、ガラス、SiC、金属等から形成される。   Referring to FIG. 1B, there is shown a perspective view of an interdigital disc 2A according to a second embodiment of the present invention. The interdigital disc 2A of the present embodiment has a plurality of through grooves 8 parallel to each other at a narrow pitch in the recess 4. The interdigital disc 2A is also formed of a silicon wafer, a compound semiconductor wafer, sapphire, glass, SiC, metal, or the like.

このようなすだれ状円板2,2Aは、例えば半導体ウエーハの分割予定ラインをエッチングするために、繰り返して使えるマスクとして使用可能である。半導体ウエーハの分割予定ラインは格子状に形成されているため、まずマスク2,2Aを用いて第1方向に伸長する分割予定ラインをエッチングした後、マスク2,2Aを90度回転して半導体ウエーハ上に載置し、第2方向に伸長する分割予定ラインをエッチングする。   Such interdigital discs 2 and 2A can be used as a mask that can be used repeatedly, for example, for etching a division planned line of a semiconductor wafer. Since the division lines of the semiconductor wafer are formed in a lattice shape, first, the division lines extending in the first direction are etched using the masks 2 and 2A, and then the masks 2 and 2A are rotated 90 degrees to rotate the semiconductor wafer. The dividing line that is placed on top and extends in the second direction is etched.

形成する貫通溝8のピッチを適宜設定することで、異なるチップサイズの半導体ウエーハに対応するエッチング用マスクとして利用することができる。更に、円形凹部4の厚みを50μmと薄く形成することで、マスク2,2Aが撓むため、凹凸があるワークのマスクにも適用可能である。   By appropriately setting the pitch of the through grooves 8 to be formed, it can be used as an etching mask corresponding to semiconductor wafers having different chip sizes. Furthermore, since the masks 2 and 2A bend by forming the circular recess 4 to be as thin as 50 μm, it can also be applied to a mask for a workpiece having irregularities.

すだれ状円板2,2Aの他の利用方法としては、すだれ状円板2,2Aを鉄から形成し、この鉄製すだれ状円板2,2Aを電源に接続することで、先ダイシング法により個々のチップに分割したウエーハの裏面にDAF(Die Attach Film)を貼着した後、このDAFをウエーハの分割予定ラインに沿って切断する切断用の電熱線として利用することができる。   Another method of using the interdigital discs 2 and 2A is to form the interdigital discs 2 and 2A from iron, and connect the iron interdigital discs 2 and 2A to a power source, so that the individual dicing method is used. After DAF (Die Attach Film) is attached to the rear surface of the wafer divided into the chips, this DAF can be used as a heating wire for cutting along the planned division line of the wafer.

更に、太陽電池ウエーハを非常に狭ピッチの貫通溝を形成してすだれ状円板とすることで、シースルーの太陽電池を形成することができる。貫通溝の形成時に先端V形状の切削ブレードを使用することで、表面積を増加し、光エネルギーから電力への変換効率を高めることができる。   Furthermore, a see-through solar cell can be formed by forming a very narrow pitch through groove in the solar cell wafer to form a interdigital disk. By using the V-shaped cutting blade at the time of forming the through groove, the surface area can be increased and the conversion efficiency from light energy to electric power can be increased.

以下、このようなすだれ状円板の形成方法について、図2乃至図10を参照して説明する。まず、図2にその要部を示すように、研削装置14の研削ユニット18を使用して、円板10の一面の中央部に円形凹部30を形成し、外周部に円形凹部30を囲繞する環状凸部32を形成する。   Hereinafter, a method for forming such interdigital transducers will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 2, the grinding unit 18 of the grinding device 14 is used to form a circular recess 30 at the center of one surface of the disk 10 and surround the circular recess 30 at the outer periphery. An annular convex portion 32 is formed.

即ち、研削装置14のチャックテーブル16でバックグラインドテープ(BGテープ)を介して円板10を吸引保持する。研削ユニット18は、スピンドルハウジング20中に収容された図示しないモータにより回転駆動されるスピンドル22を有しており、スピンドル22の先端にはホイールマウント24が固定されている。   That is, the disk 10 is sucked and held by the chuck table 16 of the grinding device 14 via the back grind tape (BG tape). The grinding unit 18 has a spindle 22 that is rotationally driven by a motor (not shown) housed in a spindle housing 20, and a wheel mount 24 is fixed to the tip of the spindle 22.

このホイールマウント24に対して先端に複数の研削砥石28を有する研削ホイール26が着脱可能に装着されている。研削ホイール26は被加工物である円板10の直径に対して約半分程度の直径を有している。   A grinding wheel 26 having a plurality of grinding wheels 28 at its tip is detachably attached to the wheel mount 24. The grinding wheel 26 has a diameter of about half of the diameter of the disk 10 that is a workpiece.

円板10としてシリコンウエーハを採用した場合には、チャックテーブル16を矢印17方向に例えば300rpmで回転しつつ、研削ホイール26を矢印27方向に例えば6000rpmで回転しながら円板10の中央部の研削を実施し、中央部に円形凹部30を形成するとともに、外周部に円形凹部30を囲繞する環状凸部32を形成する。研削工程実施後の円板10の断面図が図3に示されている。   When a silicon wafer is used as the disc 10, the center of the disc 10 is ground while the chuck table 16 is rotated in the direction of the arrow 17 at 300 rpm, for example, and the grinding wheel 26 is rotated in the direction of the arrow 27 at 6000 rpm, for example. The circular concave portion 30 is formed in the central portion, and the annular convex portion 32 surrounding the circular concave portion 30 is formed in the outer peripheral portion. A cross-sectional view of the disk 10 after the grinding step is shown in FIG.

研削工程を実施した後に、図4(A)に示すように、外周部が環状フレーム34に装着されたダイシングテープ36に円板10の円形凹部30側を固着する。次いで、図4(B)に示すように、BGテープ12を円板10から剥離する。   After performing the grinding process, as shown in FIG. 4A, the circular recess 30 side of the disk 10 is fixed to the dicing tape 36 whose outer peripheral portion is mounted on the annular frame 34. Next, as shown in FIG. 4B, the BG tape 12 is peeled from the disk 10.

次に、図5(A)を参照して、貫通溝形成工程の第1実施形態について説明する。切削装置40のチャックテーブル42でダイシングテープ36を介して円形凹部30の形成された円板10を吸引保持し、クランプ44で環状フレーム34をクランプすることにより環状フレーム34を固定する。これにより、円板10の他面、即ち円形凹部30が形成されていないほうの面が上方に露出される。   Next, a first embodiment of the through groove forming step will be described with reference to FIG. The disc 10 in which the circular recess 30 is formed is sucked and held by the chuck table 42 of the cutting device 40 via the dicing tape 36, and the annular frame 34 is clamped by the clamp 44 to fix the annular frame 34. Thereby, the other surface of the disk 10, that is, the surface on which the circular recess 30 is not formed is exposed upward.

チャックテーブル42でダイシングテープ36を介して円板10の円形凹部30を吸引保持するために、チャックテーブル42の直径は円形凹部30の直径よりも僅かばかり小さい直径であるのが好ましい。   In order for the chuck table 42 to suck and hold the circular recess 30 of the disk 10 via the dicing tape 36, the diameter of the chuck table 42 is preferably slightly smaller than the diameter of the circular recess 30.

このように円板10をチャックテーブル42で吸引保持した状態で、切削ブレード46を矢印47方向に回転しながら矢印48方向に切削ブレード46とチャックテーブル42を相対移動することにより、円板10の他面の一端から他端に渡り凹部30をフルカットできるが環状凸部32をフルカットしない深さの貫通溝を形成する。   With the disk 10 sucked and held by the chuck table 42 as described above, the cutting blade 46 and the chuck table 42 are moved relative to each other in the direction of the arrow 48 while rotating the cutting blade 46 in the direction of the arrow 47, thereby A through groove having a depth that can fully cut the concave portion 30 from one end to the other end of the other surface but does not fully cut the annular convex portion 32 is formed.

切削ブレード46を所定ピッチでインデックス送りしながら、互いに平行な複数の貫通溝を形成することにより、図1に示すようなすだれ状円板2,2Aを製造することができる。   By forming a plurality of through-grooves parallel to each other while indexing the cutting blade 46 at a predetermined pitch, the interdigital discs 2 and 2A as shown in FIG. 1 can be manufactured.

次に、図5(B)を参照して、第2実施形態の貫通溝形成工程について説明する。本実施形態の貫通溝形成工程では、円板10の円形凹部30に対応する他面にのみ円形凹部30をフルカットする深さの溝を形成する。   Next, with reference to FIG. 5B, the through groove forming process of the second embodiment will be described. In the through groove forming step of the present embodiment, a groove having a depth that fully cuts the circular recess 30 is formed only on the other surface corresponding to the circular recess 30 of the disk 10.

即ち、切削ブレード46を矢印47方向に回転しながら矢印50方向に下降して円板10の円形凹部30に対応する他面に切り込ませ、切削ブレード46とチャックテーブル42を矢印52方向に相対移動して、円形凹部30に貫通溝を形成し、環状凸部32の手前で切削ブレード46を矢印54で示すように上昇する。換言すると、チョッパートラバース加工を実施する。   That is, while the cutting blade 46 is rotated in the direction of the arrow 47, the cutting blade 46 is lowered in the direction of the arrow 50 and cut into the other surface corresponding to the circular concave portion 30 of the disk 10, and the cutting blade 46 and the chuck table 42 are relative to each other in the direction of the arrow 52. By moving, a through groove is formed in the circular concave portion 30, and the cutting blade 46 is raised as indicated by an arrow 54 before the annular convex portion 32. In other words, chopper traverse processing is performed.

切削ブレード46を所定のピッチでインデックス送りしながら次々とチョッパートラバース加工を実施することにより、円板10の凹部30に互いに平行な複数の貫通溝を形成することができる。   By performing chopper traverse processing one after another while feeding the cutting blade 46 at a predetermined pitch, a plurality of through grooves parallel to each other can be formed in the concave portion 30 of the disk 10.

このようにチョッパートラバース加工を用いて製造したすだれ状円板は環状凸部32に溝が形成されないため、円板10の他面の一端から他端に渡り凹部をフルカットできるが環状凸部32をフルカットしない深さの貫通溝を形成して製造したすだれ状円板に比べて強度が高い。   Since the interdigital disc manufactured using the chopper traverse process in this manner does not have a groove formed in the annular convex portion 32, the concave portion can be fully cut from one end to the other end of the other surface of the disc 10, but the annular convex portion 32. The strength is higher than that of an interdigital disc manufactured by forming a through-groove having a depth that does not fully cut.

次に図6乃至図10を参照して、本発明第2実施形態のすだれ状円板の製造方法について説明する。本実施形態の製造方法は、先ダイシング法(DBG)を採用した製造方法である。   Next, with reference to FIG. 6 thru | or FIG. 10, the manufacturing method of the interdigital disk of 2nd Embodiment of this invention is demonstrated. The manufacturing method of this embodiment is a manufacturing method that employs a pre-dicing method (DBG).

まず、図6(A)を参照して、第1実施形態のハーフカット溝形成工程について説明する。切削装置40のチャックテーブル42Aで円板10を吸引保持し、切削ブレード46を矢印47方向に回転しながら円板10の端部に切り込ませ、切削ブレード46とチャックテーブル42Aを矢印48方向に相対移動しながら円板10にハーフカット溝を形成する。   First, the half-cut groove forming step of the first embodiment will be described with reference to FIG. The disk 10 is sucked and held by the chuck table 42A of the cutting device 40, the cutting blade 46 is rotated in the direction of the arrow 47 and cut into the end of the disk 10, and the cutting blade 46 and the chuck table 42A are moved in the direction of the arrow 48. A half cut groove is formed in the disk 10 while relatively moving.

切削ブレード46を所定ピッチでインデックス送りしながら、円板10の全面にハーフカット溝を形成する。ハーフカット溝56形成後の円板10の斜視図が図7に示されている。   Half-cut grooves are formed on the entire surface of the disk 10 while feeding the cutting blade 46 at a predetermined pitch. A perspective view of the disk 10 after the half-cut groove 56 is formed is shown in FIG.

次に、図6(B)を参照して、第2実施形態のハーフカット溝形成工程について説明する。本実施形態のハーフカット溝形成工程は、チョッパーカットにより実施する。   Next, with reference to FIG. 6 (B), the half cut groove | channel formation process of 2nd Embodiment is demonstrated. The half cut groove forming step of the present embodiment is performed by chopper cutting.

即ち、切削ブレード46を矢印47方向に回転しながら矢印50方向に下降して円板10の端部から所定距離内側に切り込ませ、切削ブレード46とチャックテーブル42Aを矢印52方向に相対移動させてハーフカット溝を形成し、円板10の多端部から所定距離の位置で切削ブレード46を矢印54方向に引き上げる。切削ブレード46を所定ピッチでインデックス送りしながら互いに平行な複数のハーフカット溝をチョッパートラバースカットにより形成する。   That is, while rotating the cutting blade 46 in the direction of the arrow 47, the cutting blade 46 is lowered in the direction of the arrow 50 and cut inward from the end of the disk 10 by a predetermined distance. Thus, a half-cut groove is formed, and the cutting blade 46 is pulled up in the direction of the arrow 54 at a position a predetermined distance from the multiple ends of the disk 10. A plurality of parallel half-cut grooves are formed by chopper traverse cut while indexing the cutting blade 46 at a predetermined pitch.

ハーフカット溝形成工程終了後、図8に示すように複数のハーフカット溝56を有する円板10上に保護テープ58を貼着する。次いで、保護テープ58の貼着された円板10をダイシングテープ36から剥離し、図9に示すように、研削装置14のチャックテーブル16で円板10の保護テープ58側を吸引保持する。   After completion of the half-cut groove forming step, a protective tape 58 is stuck on the disc 10 having a plurality of half-cut grooves 56 as shown in FIG. Next, the disk 10 to which the protective tape 58 is adhered is peeled from the dicing tape 36, and the protective tape 58 side of the disk 10 is sucked and held by the chuck table 16 of the grinding device 14, as shown in FIG.

そして、図2に示した研削工程と同様に、円板10の中央部をハーフカット溝56が表出するまで研削して円形凹部30を形成し、円形凹部30の外周側に円形凹部30を囲繞する環状凸部32を残存させる。次いで、図10に示すように、保護テープ58を円板50から剥離することにより、図1に示すようなすだれ状円板2,2Aを製造することができる。   Then, similarly to the grinding step shown in FIG. 2, the circular recess 30 is formed by grinding the central portion of the disk 10 until the half-cut groove 56 is exposed, and the circular recess 30 is formed on the outer peripheral side of the circular recess 30. The surrounding annular protrusion 32 is left. Next, as shown in FIG. 10, by peeling off the protective tape 58 from the disc 50, the interdigital discs 2 and 2A as shown in FIG. 1 can be manufactured.

上述した実施形態では、研削により円形凹部4を形成しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば研磨又はエッチングにより円形凹部を形成するようにしてもよい。   In the embodiment described above, the circular concave portion 4 is formed by grinding. However, the present invention is not limited to this, and the circular concave portion may be formed by polishing or etching, for example.

また、貫通溝形成工程は切削ブレードによる切削に限定されるものではなく、レーザビームによるアブレーション加工又はウィータージェット加工により貫通溝を形成するようにしてもよい。   Further, the through groove forming step is not limited to cutting with a cutting blade, and the through groove may be formed by laser beam ablation processing or wetter jet processing.

2,2A すだれ状円板
4 円形凹部
6 環状凸部
8 貫通溝
10 円板
16 チャックテーブル
18 研削ユニット
26 研削ホイール
30 円形凹部
32 環状凸部
34 環状フレーム
36 ダイシングテープ
42 チャックテーブル
46 切削ブレード
56 ハーフカット溝
58 保護テープ
2,2A Interdigital disc 4 Circular concave portion 6 Annular convex portion 8 Through groove 10 Disc 16 Chuck table 18 Grinding unit 26 Grinding wheel 30 Circular concave portion 32 Annular convex portion 34 Annular frame 36 Dicing tape 42 Chuck table 46 Cutting blade 56 Half Cut groove 58 protective tape

Claims (2)

すだれ状円板の製造方法であって、
円板の一面の中央部に円形凹部を形成するとともに該円形凹部を囲繞する環状凸部を形成するステップと、
該円形凹部と該環状凸部が形成された円板の他面から互いに平行な複数の貫通溝を形成するステップと、を備え
前記円形凹部の形成は研削により実施することを特徴とするすだれ状円盤の製造方法。
A method of manufacturing a interdigital disc,
Forming a circular recess at the center of one surface of the disk and forming an annular protrusion surrounding the circular recess;
Comprising forming a plurality of parallel through-grooves with each other from the other surface of the disc circular recess and the annular protrusion is formed, a,
The method of manufacturing the interdigital transducer is characterized in that the circular recess is formed by grinding .
すだれ状円板の製造方法であって、
円板の一面に互いに平行な複数の溝を形成するステップと、
該一面に前記複数の溝が形成された円板の他面中央部に円形凹部を形成するとともに該円形凹部を囲繞する環状凸部を形成することで、該複数の溝を該円形凹部に表出させて複数の貫通溝を形成するステップと、を備え、
前記円形凹部の形成は研削により実施することを特徴とするすだれ状円板の製造方法。
A method of manufacturing a interdigital disc,
Forming a plurality of grooves parallel to each other on one surface of the disk;
A circular concave portion is formed at the center of the other surface of the disk having the plurality of grooves formed on the one surface, and an annular convex portion surrounding the circular concave portion is formed, whereby the plurality of grooves are displayed on the circular concave portion. And a step of forming a plurality of through-grooves ,
The method of manufacturing the interdigital transducer is characterized in that the circular recess is formed by grinding .
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