JP5587550B2 - 固体表面の封孔処理方法及び電子部品の製造方法 - Google Patents
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Description
θC=−8×10−7x2+0.0188x−18.122
とされる。
孔や溝などの形状が存在する固体表面にガスクラスターイオンビーム(GCIB)を照射すると、表面の平均粗さが小さくなり、平坦化が進行することが知られている。これは孔や溝を塞ぐというよりは孔の直径や溝の幅を広くしていくことによって平均粗さを小さくするものであった。図1はこの様子を模式的に示したものであり、図中、11は固体を示し、12はその固体11の表面に存在する溝を示す。
まず、この発明の固体表面の封孔処理方法を実施するために用いるガスクラスターイオンビーム装置の基本構成を図5を参照して説明する。
シリコン上に通常のフォトリソグラフィー技術を用いて、クロムマスクを厚さ200nmで形成し、シリコンを反応性イオンエッチングによりエッチングして、各種の幅の孔や溝を形成した。孔や溝の深さは2μmとした。クロムマスクを除去し、この試料に次のような条件でガスクラスターイオンビームを照射した。原料ガスとしてアルゴンを用い、20kVに加速して試料の表面に色々な角度で照射した。照射ドーズ量は1.5×1017ions/cm2とした。
[実施例2]
実施例1と同様な方法で、複数の溝を配列形成した試料を作製した。溝の幅は1μm、深さは2μmとし、配列ピッチは6μmとした。この試料に照射角度20度でガスクラスターイオンビームを照射した。照射ドーズ量は1.5×1017ions/cm2とした。
封孔処理前後の表面粗さの評価を原子間力顕微鏡を用いて行った。平均表面粗さ(Ra)は、封孔処理前が0.50μmであり、封孔処理後は0.12μmとなった。このように、封孔処理によって表面粗さは増大せず、むしろ表面粗さが低減することが分かった。
照射角度θが図7に示した封孔処理可能領域でない点を除いて、実施例1と同様な実験を行った。結果は、すべて孔や溝が塞がれていないことがわかった。例として、溝の幅が1600nmで照射角度θが7度での観察結果を図8に示す。ガスクラスターイオンビームの照射により、初期の溝の幅よりも溝の上部は広がり、溝の底の部分は狭まっているが、封孔処理はできていないことがわかる。
Claims (2)
- ガスクラスターイオンビームを用いて固体表面の封孔処理をする方法であって、
前記固体表面の孔や溝の周囲から、前記孔や前記溝に向かって前記固体表面の構成物質を移動させ、前記孔や前記溝の縁に前記構成物質を堆積させて、ひさし状の堆積物を形成することができる臨界照射角度θ C [度]より大きな照射角度で、ガスクラスターイオンビームを少なくとも前記孔や前記溝の周囲に照射することを特徴とし、
前記臨界照射角度θ C [度]は、前記孔の直径もしくは前記溝の幅をx[nm]とした時、
θ C =−8×10 −7 x 2 +0.0188x−18.122
である固体表面の封孔処理方法。 - 請求項1記載の固体表面の封孔処理方法を用いる電子部品の製造方法。
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