JP5586254B2 - Organic electroluminescent device, organic electroluminescent device manufacturing method, display device and lighting device - Google Patents

Organic electroluminescent device, organic electroluminescent device manufacturing method, display device and lighting device Download PDF

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Description

本発明は、有機電界発光素子、有機電界発光素子の製造方法、表示装置及び照明装置に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescent element, a method for manufacturing an organic electroluminescent element, a display device, and an illumination device.

有機材料を利用したデバイスとして、有機電界発光素子(以下、有機EL素子ともいう)、有機半導体を利用したトランジスタなどの研究が活発に行われている。特に、有機EL素子は、固体発光型の大面積フルカラー表示素子や安価な大面積な面光源としての照明用途としての発展が期待されている。一般に有機電界発光素子は発光層を含む有機層及び該有機層を挟んだ一対の対向電極から構成される。このような有機電界発光素子に電圧を印加すると、有機層に陰極から電子が注入され陽極から正孔が注入される。この電子と正孔が発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際にエネルギーを光として放出することにより発光が得られる。   As devices using organic materials, researches on organic electroluminescent elements (hereinafter also referred to as organic EL elements), transistors using organic semiconductors, and the like have been actively conducted. In particular, the organic EL element is expected to develop as a lighting application as a solid light-emitting large-area full-color display element or an inexpensive large-area surface light source. In general, an organic electroluminescent element is composed of an organic layer including a light emitting layer and a pair of counter electrodes sandwiching the organic layer. When a voltage is applied to such an organic electroluminescence device, electrons are injected from the cathode and holes are injected from the anode into the organic layer. The electrons and holes recombine in the light emitting layer, and light is emitted by releasing energy as light when the energy level returns from the conduction band to the valence band.

有機電界発光素子の製造において、一対の電極間に設けられる有機層である薄膜を形成する方法としては、蒸着法として真空蒸着、湿式法としてスピンコーティング法、印刷法、インクジェット法等が行われている。   In the production of an organic electroluminescent device, as a method of forming a thin film which is an organic layer provided between a pair of electrodes, vacuum deposition is used as a vapor deposition method, spin coating method, printing method, ink jet method is used as a wet method. Yes.

蒸着法は、真空中で基板上に薄膜を形成する手法であり、このような、蒸着を利用して作製された有機電界発光素子(以下、蒸着型有機EL素子とも言う)は、携帯電話やテレビ等のディスプレイの発光源として実用化されている。
しかしながら、蒸着型有機EL素子の製造における蒸着工程は、蒸着装置に対する設備コストや、材料を蒸着させる際のエネルギーコストが大きく、有機電界発光素子の製造コストを更に低減化することが求められている。
The vapor deposition method is a method of forming a thin film on a substrate in a vacuum, and such an organic electroluminescent element (hereinafter also referred to as a vapor deposition type organic EL element) manufactured by using vapor deposition is used for a mobile phone, It has been put to practical use as a light emission source for displays such as televisions.
However, the vapor deposition process in the production of the vapor deposition type organic EL element has a large equipment cost for the vapor deposition apparatus and an energy cost when vapor depositing the material, and it is required to further reduce the production cost of the organic electroluminescent element. .

湿式法は、蒸着等のドライプロセスでは成膜が困難な高分子の有機化合物も使用可能となり、蒸着法等に比べて製膜方法が簡便であること、塗り分けのためのシャドウマスクや真空装置が不要であり、フレキシブルなディスプレイ等に用いる場合は耐屈曲性や膜強度等の耐久性の点で適している等の利点があり、特に大面積化、高精細化に向いており、今後の大画面有機ELディスプレイに適した手法である。   In the wet method, it is possible to use high molecular organic compounds that are difficult to form in a dry process such as vapor deposition. The film formation method is simpler than vapor deposition, etc. Is not necessary, and there are advantages such as being suitable for durability such as bending resistance and film strength when used for flexible displays, etc., especially for large area and high definition. This is a technique suitable for a large screen organic EL display.

例えば特許文献1,2には、有機EL素子を構成する層が塗布法を用いて作製された有機電界発光素子(以下、塗布型有機EL素子とも言う)が開示されている。
特許文献3には有機層の少なくとも1層は、昇華精製を行った少なくとも1種の有機化合物を含む2種以上の有機化合物を用いてウェットプロセスで形成した有機層を含む素子が開示されている。
また、特許文献4には分散安定剤を塗布分散液に含有させることにより、分散安定性が良好な、有機エレクトロルミネッセンス素子用非水塗布分散液が開示されている。更に、該塗布分散液又は該非水塗布分散液を用いて形成した、高い外部取り出し量子効率を示し、かつ、発光寿命が長い有機EL素子が開示されている。
For example, Patent Documents 1 and 2 disclose an organic electroluminescent element (hereinafter, also referred to as a coating-type organic EL element) in which a layer constituting the organic EL element is manufactured using a coating method.
Patent Document 3 discloses an element in which at least one organic layer includes an organic layer formed by a wet process using two or more organic compounds including at least one organic compound subjected to sublimation purification. .
Patent Document 4 discloses a non-aqueous coating dispersion for an organic electroluminescence element that has good dispersion stability by incorporating a dispersion stabilizer in the coating dispersion. Furthermore, an organic EL device having a high external extraction quantum efficiency and a long emission lifetime, which is formed using the coating dispersion or the non-aqueous coating dispersion, is disclosed.

しかしながら、塗布型有機EL素子には、発光効率及び耐久性が低いという不具合があった。塗布型EL素子で発光効率や素子耐久性の劣化を招く原因としては、不純物が影響していると考えられている。このため、蒸着法による製膜ができない高分子材料については塗布法を採用する場合があったが、蒸着法による製膜が可能な低分子の材料は、より高い素子性能が得られる蒸着法を用いて製膜されるのが一般的であった。   However, the coating type organic EL element has a problem that the light emission efficiency and durability are low. Impurities are considered to be a cause of deterioration in luminous efficiency and element durability in the coating type EL element. For this reason, there are cases where the coating method is adopted for polymer materials that cannot be deposited by vapor deposition, but low molecular weight materials that can be deposited by vapor deposition have a vapor deposition method that provides higher device performance. In general, it was used to form a film.

特開2004−160388号公報JP 2004-160388 A 特開2007−42314号公報JP 2007-42314 A 特開2008−66759号公報JP 2008-66759 A 特開2007−165231号公報JP 2007-165231 A

本発明は、前記従来の問題点を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明は、発光効率及び耐久性に優れ、駆動電圧が低く、製造コストを低減できる有機電界発光素子を提供することを目的とする。
また、本発明は、発光効率及び耐久性に優れ、駆動電圧が低い有機電界発光素子を低い製造コストで製造可能な有機電界発光素子の製造方法を提供することを目的とする。
更に、本発明は、上記有機電界発光素子を具備する表示装置及び照明装置を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the conventional problems and achieve the following objects.
That is, an object of the present invention is to provide an organic electroluminescent device that is excellent in luminous efficiency and durability, has a low driving voltage, and can reduce manufacturing costs.
Another object of the present invention is to provide a method for producing an organic electroluminescent device that can produce an organic electroluminescent device having excellent luminous efficiency and durability and low driving voltage at a low production cost.
Furthermore, an object of this invention is to provide the display apparatus and illuminating device which comprise the said organic electroluminescent element.

すなわち、前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
〔1〕
一対の電極間に発光層及び少なくとも一層の、発光層に隣接する層を有する有機電界発光素子であって、
該少なくとも一層の、発光層に隣接する層が、2種以上の分子量1500以下の低分子化合物を含む液によりスプレー法で形成されたことを特徴とする有機電界発光素子。
〔2〕
前記少なくとも一層の、発光層に隣接する層が正孔輸送層であることを特徴とする〔1〕に記載の有機電界発光素子。
〔3〕
前記2種以上の分子量1500以下の低分子化合物が、第1の低分子化合物と第2の低分子化合物の2種の化合物であり、その混合割合が質量比で20:80〜80:20であることを特徴とする〔1〕又は〔2〕に記載の有機電界発光素子。
〔4〕
前記2種以上の分子量1500以下の低分子化合物が2種以上の正孔輸送材料であることを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔5〕
前記2種以上の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルの差が0.1eV以上0.6eV以下であることを特徴とする〔4〕に記載の有機電界発光素子。
〔6〕
前記2種以上の正孔輸送材料がアリールアミン誘導体又はカルバゾール誘導体であることを特徴とする〔4〕又は〔5〕に記載の有機電界発光素子。
〔7〕
前記少なくとも一層の、発光層に隣接する層が電子輸送層であることを特徴とする〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔8〕
前記電子輸送層が、2種以上の電子輸送材料を含む液により形成されたことを特徴とする〔7〕に記載の有機電界発光素子。
〔9〕
前記2種以上の電子輸送材料の電子親和力の差が0.1eV以上0.6eV以下であることを特徴とする〔8〕に記載の有機電界発光素子。
〔10〕
一対の電極間に発光層及び少なくとも一層の、発光層に隣接する層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、
該少なくとも一層の発光層に隣接する層が、2種以上の分子量1500以下の低分子化合物を含む液によりスプレー法で形成することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。
〔11〕
前記発光層及び前記発光層に隣接する層の各々を、前記スプレー法により形成することを特徴とする〔10〕に記載の有機電界発光素子の製造方法。
〔12〕
〔1〕〜〔9〕に記載の有機電界発光素子、又は、〔10〕又は〔11〕のいずれかに記載の有機電界発光素子の製造方法から得られた有機電界発光素子を具備する表示装置。
〔13〕
〔1〕〜〔9〕のいずれかに記載の有機電界発光素子、又は、〔10〕又は〔11〕のいずれかに記載の有機電界発光素子の製造方法から得られた有機電界発光素子を具備する照明装置。
That is, the means for solving the above problems are as follows.
[1]
An organic electroluminescent device having a light emitting layer and at least one layer adjacent to the light emitting layer between a pair of electrodes,
An organic electroluminescent device, wherein the at least one layer adjacent to the light emitting layer is formed by a spray method using a liquid containing two or more low molecular weight compounds having a molecular weight of 1500 or less.
[2]
The organic electroluminescence device according to [1], wherein the at least one layer adjacent to the light emitting layer is a hole transport layer.
[3]
The two or more kinds of low molecular weight compounds having a molecular weight of 1500 or less are two kinds of compounds of a first low molecular weight compound and a second low molecular weight compound, and the mixing ratio is 20:80 to 80:20 in mass ratio. The organic electroluminescent element as described in [1] or [2], wherein
[4]
The organic electroluminescent element according to any one of [1] to [3], wherein the two or more kinds of low molecular compounds having a molecular weight of 1500 or less are two or more kinds of hole transport materials.
[5]
[4] The organic electroluminescence device as described in [4], wherein the difference in ionization potential between the two or more hole transport materials is 0.1 eV or more and 0.6 eV or less.
[6]
The organic electroluminescence device according to [4] or [5], wherein the two or more hole transport materials are arylamine derivatives or carbazole derivatives.
[7]
The organic electroluminescent element according to any one of [1] to [6], wherein the at least one layer adjacent to the light emitting layer is an electron transport layer.
[8]
The organic electroluminescence device according to [7], wherein the electron transport layer is formed of a liquid containing two or more kinds of electron transport materials.
[9]
The organic electroluminescence device as described in [8], wherein the difference in electron affinity between the two or more electron transport materials is 0.1 eV or more and 0.6 eV or less.
[10]
A method for producing an organic electroluminescent device comprising a light emitting layer and at least one layer adjacent to a light emitting layer between a pair of electrodes,
A method for producing an organic electroluminescence device, wherein a layer adjacent to at least one light emitting layer is formed by a spray method using a liquid containing two or more low molecular weight compounds having a molecular weight of 1500 or less.
[11]
Each of the said light emitting layer and the layer adjacent to the said light emitting layer is formed with the said spray method, The manufacturing method of the organic electroluminescent element as described in [10] characterized by the above-mentioned.
[12]
A display device comprising the organic electroluminescent element according to [1] to [9] or the organic electroluminescent element obtained from the method for producing an organic electroluminescent element according to any one of [10] or [11] .
[13]
The organic electroluminescent element according to any one of [1] to [9], or the organic electroluminescent element obtained from the method for producing an organic electroluminescent element according to any one of [10] or [11] Lighting device.

本発明によれば、発光層に隣接する層を、2種以上の分子量1500以下の低分子化合物を含む液によりスプレー法で形成することにより、熱安定性、発光効率及び耐久性に優れ、駆動電圧が低く、製造コストを低減できる有機電界発光素子を提供できる。
また、本発明によれば、熱安定性、発光効率及び耐久性に優れ、駆動電圧が低い有機電界発光素子を低い製造コストで製造可能な有機電界発光素子の製造方法を提供できる。
更に、本発明によれば、上記有機電界発光素子を具備する表示装置及び照明装置を提供できる。
According to the present invention, the layer adjacent to the light emitting layer is formed by a spray method using a liquid containing two or more kinds of low molecular weight compounds having a molecular weight of 1500 or less, so that it has excellent thermal stability, light emitting efficiency and durability, and is driven. An organic electroluminescent device having a low voltage and capable of reducing manufacturing costs can be provided.
In addition, according to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing an organic electroluminescent element capable of manufacturing an organic electroluminescent element having excellent thermal stability, luminous efficiency and durability and low driving voltage at a low manufacturing cost.
Furthermore, according to this invention, the display apparatus and illuminating device which comprise the said organic electroluminescent element can be provided.

本発明に係る有機EL素子の層構成の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the layer structure of the organic EL element which concerns on this invention. 本発明に係る表示装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the display apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る照明装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the illuminating device which concerns on this invention.

以下、本発明の実施形態に係る有機EL素子について詳細に説明する。   Hereinafter, the organic EL device according to the embodiment of the present invention will be described in detail.

本発明の有機EL素子は、一対の電極間に発光層及び少なくとも一層の、発光層に隣接する層を有する有機電界発光素子であって、
該少なくとも一層の、発光層に隣接する層が、2種以上の分子量1500以下の低分子化合物を含む液によりスプレー法で形成されている。
The organic EL device of the present invention is an organic electroluminescent device having a light emitting layer and at least one layer adjacent to the light emitting layer between a pair of electrodes,
The at least one layer adjacent to the light emitting layer is formed by a spray method using a liquid containing two or more kinds of low molecular compounds having a molecular weight of 1500 or less.

ここで、本発明における低分子化合物とは、不飽和結合を持った化合物(いわゆる重合性モノマー)を、開始剤を使用しつつその不飽和結合を開裂させ、連鎖的に結合を成長させることによって得られる、いわゆるポリマーやオリゴマーではなく、分子量1500以下の一定の分子量を有する化合物(実質的に分子量分布を有さない化合物)である。なお、分子量は、通常、100以上である。   Here, the low molecular weight compound in the present invention refers to a compound having an unsaturated bond (so-called polymerizable monomer) by cleaving the unsaturated bond using an initiator and growing the bond in a chain manner. It is not a so-called polymer or oligomer obtained, but a compound having a constant molecular weight of 1500 or less (a compound having substantially no molecular weight distribution). The molecular weight is usually 100 or more.

これにより、発光層に隣接する層を形成する材料は、ポリマー合成やオリゴマー合成に用いられる重合開始剤、重合停止剤、連鎖移動剤等の化合物に由来する不純物を含まない。これにより、このような不純物が該層の機能を劣化させることを回避できるので、発光効率及び耐久性に優れる有機電界発光素子が得られるものと考えられる。   Thereby, the material which forms the layer adjacent to a light emitting layer does not contain the impurity derived from compounds, such as a polymerization initiator, a polymerization terminator, and a chain transfer agent, which are used for polymer synthesis and oligomer synthesis. Thereby, it is considered that such an impurity can prevent the function of the layer from being deteriorated, so that an organic electroluminescence device excellent in luminous efficiency and durability can be obtained.

分子量1500以下の低分子化合物は、公知の精製方法により、精製されたものであることがより好ましい。これにより、より確実に、不純物が各層の機能を劣化させることを回避できる。公知の精製方法としては、昇華精製法、再結晶精製法、カラム精製法等を挙げることができる。ポリマーやオリゴマーは、繰り返し単位が反応等で意図しない構造を有するようになった場合、このようなポリマーやオリゴマーを精製で除去することは非常に難しいため、その観点からも、分子量1500以下の低分子化合物であることが好ましい。   The low molecular weight compound having a molecular weight of 1500 or less is more preferably purified by a known purification method. Thereby, it can avoid more reliably that an impurity degrades the function of each layer. Known purification methods include a sublimation purification method, a recrystallization purification method, a column purification method, and the like. In the case of a polymer or oligomer, when the repeating unit has an unintended structure due to reaction or the like, it is very difficult to purify such a polymer or oligomer by purification. It is preferably a molecular compound.

分子量1500以下の低分子化合物は、2種以上であり、2〜4種であることが好ましく、2〜3種であることがより好ましく、2種であることが更に好ましい。
分子量1500以下の低分子化合物が2種である場合、第1の低分子化合物と第2の低分子化合物の混合割合は質量比で20:80〜80:20が好ましく、30:70〜70:30がより好ましい。
The number of low molecular compounds having a molecular weight of 1500 or less is 2 or more, preferably 2 to 4, more preferably 2 to 3, and still more preferably 2.
When there are two kinds of low molecular weight compounds having a molecular weight of 1500 or less, the mixing ratio of the first low molecular weight compound and the second low molecular weight compound is preferably 20:80 to 80:20, and 30:70 to 70: 30 is more preferable.

更に、上記構成の本発明の有機EL素子は、駆動電圧を低くできるものである。   Furthermore, the organic EL element of the present invention having the above configuration can reduce the driving voltage.

また、層を構成する材料が溶剤に溶解又は分散された液をスプレー塗布することにより形成されているので、上記したように、蒸着工程を採用する必要が無く、有機EL素子の製造コストを低減できる。   Moreover, since the material constituting the layer is formed by spraying a solution in which a solvent is dissolved or dispersed in the solvent, it is not necessary to employ a vapor deposition process as described above, and the manufacturing cost of the organic EL element is reduced. it can.

図1は、本発明に係る有機EL素子の構成の一例を示している。図1に示される本発明に係る有機電界発光素子10は、支持基板2上において、陽極3と陰極9との間に有機層が挟まれている。より具体的には、有機層は、例えば、陽極上の正孔注入層4と、該正孔注入層4上の正孔輸送層5と、該正孔輸送層5上の発光層6と、該発光層6上の正孔ブロック層7と、該正孔ブロック層7上の電子輸送層8とからなる。   FIG. 1 shows an example of the configuration of an organic EL element according to the present invention. In the organic electroluminescent element 10 according to the present invention shown in FIG. 1, an organic layer is sandwiched between an anode 3 and a cathode 9 on a support substrate 2. More specifically, the organic layer includes, for example, a hole injection layer 4 on the anode, a hole transport layer 5 on the hole injection layer 4, a light emitting layer 6 on the hole transport layer 5, It consists of a hole blocking layer 7 on the light emitting layer 6 and an electron transporting layer 8 on the hole blocking layer 7.

上記液の全量に対する固形分の含有量は特に制限はないが、通常、0.0001質量%〜10質量%であるが、スプレー法の採用を鑑みると、0.0001質量%〜1質量%であることが好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular in solid content with respect to the whole quantity of the said liquid, Usually, although it is 0.0001 mass%-10 mass%, when adoption of the spray method is considered, it is 0.0001 mass%-1 mass%. Preferably there is.

また、少なくとも一層の、発光層に隣接する層は正孔輸送層であることが好ましい。
特に、正孔輸送層の上に直接的に発光層が設けられるとともに、発光層の上に直接的に電子輸送層が設けられる場合は、前記液の溶剤は、同一の有機溶剤であることが好ましく、これにより、各層間の界面の接合がより良好となるせいか、特に、発光効率及び耐久性に優れた有機EL素子が得られやすい。
In addition, at least one layer adjacent to the light emitting layer is preferably a hole transport layer.
In particular, when the light emitting layer is provided directly on the hole transport layer and the electron transport layer is provided directly on the light emitting layer, the solvent of the liquid may be the same organic solvent. Preferably, this makes it possible to obtain an organic EL element excellent in luminous efficiency and durability, in particular, because the bonding at the interface between the layers becomes better.

発光層及び前記発光層に隣接する層の少なくとも1つは、上記液をスプレー法によって塗布することにより形成される。これにより、特に、スプレー法によって形成される層の下層が別の有機層である場合に、上記液の有機溶剤が、この別の有機層を意図しない度合いで溶解するなどして損傷を与える虞れをより確実に低減できるため、発光効率、耐久性及び色再現性がより確実に優れた有機EL素子を得ることができる。また、スプレー法は、他の塗布方法と比較して、溶剤の使用量を抑えやすく、また、乾燥させやすいため、製造コストをより低減できる。更に、スプレー法によれば、スプレー法によって形成される層の下層を損傷することなく、層を形成することができるため、多層の薄膜を形成するのに適している。   At least one of the light emitting layer and the layer adjacent to the light emitting layer is formed by applying the liquid by a spray method. Thereby, particularly when the lower layer of the layer formed by the spray method is another organic layer, the organic solvent of the liquid may be damaged by dissolving the other organic layer to an unintended degree. Since this can be reduced more reliably, it is possible to obtain an organic EL element that is more reliably excellent in luminous efficiency, durability, and color reproducibility. In addition, the spray method can easily reduce the amount of solvent used and can be easily dried as compared with other coating methods, and thus can further reduce the manufacturing cost. Furthermore, the spray method is suitable for forming a multilayer thin film because the layer can be formed without damaging the lower layer of the layer formed by the spray method.

なお、液をスプレー法によって塗布する工程は、換言すれば、液体粒子が気体(キャリアガス)に浮遊してなるエアロゾルを所定面上に噴射することにより、エアロゾルを塗布して層を形成する工程である。エアロゾルの形態は特に限定はされないものの、液体粒子の粒子径は、通常、0.01〜100μmであり、より好ましくは、0.01〜10μmである。上記気体としては、空気、窒素、アルゴン等を挙げることができる。
スプレー法に採用されるスプレー装置としては、公知のものをいずれも使用可能である。
エアロゾルのキャリアガスの流量は、0.1L/分〜100L/分であることが好ましく、0.1L/分〜10L/分であることがより好ましい。
エアロゾルの噴射時間は、各層の得ようとする厚みに準ずるものであり、特に限定されない。
スプレー法によって形成された層は、特に該層の上に別の層が設けられる場合、スプレー法による層形成が完了した後、一定期間、乾燥させることが好ましい。乾燥方法としては、使用する有機溶剤の種類にも依存するが、温度は20〜200℃であることが好ましく、乾燥時間は1分〜10時間であることが好ましい。また、乾燥は、真空乾燥であることが好ましい。
In addition, the step of applying the liquid by the spray method is, in other words, the step of applying the aerosol to form a layer by injecting the aerosol in which the liquid particles are suspended in the gas (carrier gas) onto a predetermined surface. It is. The form of the aerosol is not particularly limited, but the particle size of the liquid particles is usually 0.01 to 100 μm, more preferably 0.01 to 10 μm. Examples of the gas include air, nitrogen, and argon.
Any known spray device can be used for the spray method.
The flow rate of the carrier gas of the aerosol is preferably 0.1 L / min to 100 L / min, and more preferably 0.1 L / min to 10 L / min.
The spraying time of the aerosol conforms to the thickness to be obtained from each layer and is not particularly limited.
The layer formed by the spray method is preferably dried for a certain period after the layer formation by the spray method is completed, particularly when another layer is provided on the layer. As a drying method, although depending on the kind of the organic solvent to be used, the temperature is preferably 20 to 200 ° C., and the drying time is preferably 1 minute to 10 hours. The drying is preferably vacuum drying.

本発明においては、発光層及び前記発光層に隣接する層の少なくとも1つは、上記液をスプレー法によって塗布されるが、他の層の塗布方法は、特に限定されない。例えば、スピン塗布、エアナイフ塗布、バー塗布、ブレード塗布、スライド塗布、カーテン塗布、スプレー法、キャスト法、浸漬法、インクジェット法等によって行うことができる。
なお、例えば、陽極の上に正孔輸送層が直接的に設けられている場合、通常、陽極の材料としては、後述するように、有機溶剤に対して耐性の高い材料が採用できることから、正孔輸送層に関しては、先に例示した液の塗布方法のいずれについても、好適に使用できる。
In the present invention, at least one of the light-emitting layer and the layer adjacent to the light-emitting layer is applied by spraying the above liquid, but the application method of the other layers is not particularly limited. For example, it can be performed by spin coating, air knife coating, bar coating, blade coating, slide coating, curtain coating, spray method, casting method, dipping method, ink jet method and the like.
For example, when the hole transport layer is provided directly on the anode, the material for the anode is normally a material having high resistance to organic solvents as described later. With respect to the hole transport layer, any of the liquid coating methods exemplified above can be suitably used.

しかしながら、上記した利点を鑑み、例えば、発光層及び電子輸送層について、スプレー法を採用する場合は、正孔輸送層についてもスプレー法を採用することにより、塗布方法を統一できるので、結果、製造コストを低減できる。よって、発光層及び前記発光層に隣接する層の各々が前記液をスプレー法によって塗布することにより形成される形態がより好ましく、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層の各々が、前記液をスプレー法によって塗布することにより形成される形態が最も好ましい。   However, in view of the advantages described above, for example, when adopting the spray method for the light-emitting layer and the electron transport layer, the spray method can also be used for the hole transport layer, so that the coating method can be unified. Cost can be reduced. Therefore, a form in which each of the light emitting layer and the layer adjacent to the light emitting layer is formed by applying the liquid by a spray method is more preferable, and each of the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer is the liquid. The form formed by coating by a spray method is most preferable.

前記有機層の層構成は、上記のように、図1を参照しながら説明したが、特に制限はなく、有機EL素子の用途、目的に応じて適宜選択することができる。
また、有機層の形状、大きさ、及び厚み等についても、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
The layer configuration of the organic layer has been described with reference to FIG. 1 as described above, but is not particularly limited and can be appropriately selected according to the application and purpose of the organic EL element.
Moreover, there is no restriction | limiting in particular also about the shape of a organic layer, a magnitude | size, thickness, etc., According to the objective, it can select suitably.

有機EL素子の層構成の具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらの構成に限定されるものではない。   Specific examples of the layer structure of the organic EL element are given below, but the present invention is not limited to these structures.

(1)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(2)陽極/正孔輸送層/発光層/ブロック層/電子輸送層/陰極
(3)陽極/正孔輸送層/発光層/ブロック層/電子輸送層/電子注入層/陰極
(4)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/ブロック層/電子輸送層/陰極
(5)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/ブロック層/電子輸送層/電子注入層/陰極
(1) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode (2) Anode / hole transport layer / light emitting layer / block layer / electron transport layer / cathode (3) Anode / hole transport layer / light emission Layer / block layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode (4) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / block layer / electron transport layer / cathode (5) anode / hole injection layer / Hole transport layer / light emitting layer / block layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode

前記したように、本発明においては、前記発光層に隣接する層が、層を構成する材料が溶剤に溶解又は分散された液を塗布することにより形成されているが、正孔輸送層又は電子輸送層が塗布法により形成されていることが好ましく、正孔輸送層及び電子輸送層が塗布法により形成されていることがより好ましく、発光層、正孔輸送層及び電子輸送層が塗布法により形成されていることが更に好ましい。正孔輸送層と発光層と電子輸送層とを含む連続した複数の層(ただし、この複数の層は有機層の一部又は全部を構成する層である)の各々において、各層を構成する材料が溶剤に溶解又は分散された液を塗布することにより形成されていることがより好ましい。すなわち、正孔輸送層と発光層との間、及び/又は、発光層と電子輸送層との間に、有機層を構成する別の層(上記層構成(2)の場合はブロック層)が介在していても良いが、上記複数の層(上記層構成(2)の場合は、正孔輸送層、発光層、ブロック層、及び、電子輸送層)は、いずれかの層が蒸着法で形成されている場合と比較して、複数の層の一端面から他端面に渡って、各層間の界面の接合が良好であるため、発光効率及び耐久性に優れ、駆動電圧を低減できる有機EL素子が得られる傾向となる。   As described above, in the present invention, the layer adjacent to the light emitting layer is formed by applying a liquid in which the material constituting the layer is dissolved or dispersed in a solvent. The transport layer is preferably formed by a coating method, the hole transport layer and the electron transport layer are more preferably formed by a coating method, and the light-emitting layer, the hole transport layer and the electron transport layer are formed by a coating method. More preferably, it is formed. A material constituting each layer in each of a plurality of continuous layers including a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer (however, the plurality of layers constitute a part or all of the organic layer). Is more preferably formed by applying a solution dissolved or dispersed in a solvent. That is, another layer constituting the organic layer (a block layer in the case of the above layer configuration (2)) is provided between the hole transport layer and the light-emitting layer and / or between the light-emitting layer and the electron transport layer. The plurality of layers (in the case of the layer configuration (2), the hole transport layer, the light-emitting layer, the block layer, and the electron transport layer) may be interposed, and any of the layers is formed by a vapor deposition method. Compared with the case where it is formed, since the interface between each layer is good from one end surface to the other end surface of a plurality of layers, the organic EL that has excellent luminous efficiency and durability and can reduce the driving voltage A device tends to be obtained.

有機層としては特に限定されないが、発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、励起子ブロック層などを有していてもよい。またこれらの各層は、それぞれ他の機能を兼備していても良い。   Although it does not specifically limit as an organic layer, In addition to a light emitting layer, it has a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, a hole block layer, an electron block layer, an exciton block layer, etc. It may be. Each of these layers may have other functions.

本発明は、一対の電極間に発光層及び少なくとも一層の発光層に隣接する層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、
該少なくとも一層の発光層に隣接する層が、2種以上の分子量1500以下の化合物を含む液によりスプレー法で形成することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法にも関する。
有機溶剤としては前記有機溶媒が挙げられる。
また、少なくとも1層の、発光層に隣接する層がスプレー法により形成されており、発光層及び少なくとも1層の、発光層に隣接する層の各々がスプレー法により形成されていることがより好ましい。正孔輸送層及び電子輸送層がスプレー法により形成されていることがより好ましく、発光層、正孔輸送層及び電子輸送層がスプレー法により形成されていることが更に好ましい。正孔輸送層、前記発光層及び前記電子輸送層の少なくとも1つを、前記液をスプレー法によって塗布することにより形成することが好ましく、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層の各々を、前記液をスプレー法によって塗布することにより形成することがより好ましい。
The present invention is a method for producing an organic electroluminescent device having a light emitting layer and a layer adjacent to at least one light emitting layer between a pair of electrodes,
The present invention also relates to a method for manufacturing an organic electroluminescent element, wherein the layer adjacent to the at least one light emitting layer is formed by a spray method using a liquid containing two or more compounds having a molecular weight of 1500 or less.
Examples of the organic solvent include the organic solvents.
More preferably, at least one layer adjacent to the light emitting layer is formed by a spray method, and each of the light emitting layer and at least one layer adjacent to the light emitting layer is formed by a spray method. . The hole transport layer and the electron transport layer are more preferably formed by a spray method, and the light emitting layer, the hole transport layer and the electron transport layer are more preferably formed by a spray method. Preferably, at least one of a hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer is formed by applying the liquid by a spray method, and each of the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer is formed by: More preferably, the liquid is formed by coating by a spray method.

本発明の製造方法において、前記液をスプレー法によって塗布する工程の、好ましい一態様について述べる。
本発明の有機電界発光素子が含む有機層は、以下に記載のいずれかの方法で製膜することができる。これにより、スプレー塗布による有機層を形成するにあたり、キャリアガス(不活性ガス)中の不純物(ハイドロカーボン、アミン、パーティクル)や配管中のパーティクル/オイル等の不純物を除去できるためである。
In the production method of the present invention, a preferred embodiment of the step of applying the liquid by a spray method will be described.
The organic layer included in the organic electroluminescent element of the present invention can be formed by any of the methods described below. Thereby, in forming the organic layer by spray coating, impurities (hydrocarbon, amine, particles) in the carrier gas (inert gas) and impurities such as particles / oil in the pipe can be removed.

本発明の製造方法において、不活性ガスからなるキャリアガスと、酸素濃度100ppm以下、かつ水分含有率100ppm以下の塗布液とを混合したエアロゾルを基板上に堆積させて有機層を積層することが好ましく、該不活性ガスをフィルター処理することが好ましい。
不活性ガスとしては、アルゴン、窒素、ヘリウムなどの公知のガスを用いることができ、アルゴン、窒素を用いることが好ましい。
また、前記エアロゾルを基板上に堆積させて成膜した有機層中に、0.2μmより大きいパーティクルが100μm×100μmあたりに1個未満であることが好ましい。
酸素濃度は100ppm以下、露点−30℃以下の不活性ガスの雰囲気下で、製膜することが好ましい。また、上記の方法により製膜した有機層を、酸素濃度100ppm以下、露点−30℃以下の不活性ガスの雰囲気下で乾燥、又はアニールすることが好ましい。更に、前記塗布液に対し、不溶な有機層に堆積させて有機層を積層することが好ましい。
In the production method of the present invention, it is preferable to deposit an organic layer by depositing an aerosol obtained by mixing a carrier gas composed of an inert gas and a coating solution having an oxygen concentration of 100 ppm or less and a moisture content of 100 ppm or less on a substrate. Preferably, the inert gas is filtered.
As the inert gas, a known gas such as argon, nitrogen, or helium can be used, and argon or nitrogen is preferably used.
Moreover, it is preferable that the number of particles larger than 0.2 μm is less than one per 100 μm × 100 μm in the organic layer formed by depositing the aerosol on the substrate.
It is preferable to form a film in an atmosphere of an inert gas having an oxygen concentration of 100 ppm or less and a dew point of −30 ° C. or less. The organic layer formed by the above method is preferably dried or annealed in an inert gas atmosphere having an oxygen concentration of 100 ppm or less and a dew point of −30 ° C. or less. Furthermore, it is preferable to deposit an organic layer by depositing it on an insoluble organic layer with respect to the coating solution.

次に、本発明の有機EL素子を構成する要素について、詳細に説明する。   Next, the element which comprises the organic EL element of this invention is demonstrated in detail.

(基板)
本発明で使用する基板としては、有機化合物層から発せられる光を散乱又は減衰させない基板であることが好ましい。その具体例としては、ジルコニア安定化イットリウム(YSZ)、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、及びポリ(クロロトリフルオロエチレン)等の有機材料が挙げられる。
例えば、基板としてガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合には、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。有機材料の場合には、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。
(substrate)
The substrate used in the present invention is preferably a substrate that does not scatter or attenuate light emitted from the organic compound layer. Specific examples include zirconia-stabilized yttrium (YSZ), inorganic materials such as glass, polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene phthalate, and polyethylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, and polycycloolefin. , Norbornene resins, and organic materials such as poly (chlorotrifluoroethylene).
For example, when glass is used as the substrate, alkali-free glass is preferably used as the material in order to reduce ions eluted from the glass. Moreover, when using soda-lime glass, it is preferable to use what gave barrier coatings, such as a silica. In the case of an organic material, it is preferable that it is excellent in heat resistance, dimensional stability, solvent resistance, electrical insulation, and workability.

基板の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、基板の形状としては、板状であることが好ましい。基板の構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、2以上の部材で形成されていてもよい。   There is no restriction | limiting in particular about the shape of a board | substrate, a structure, a magnitude | size, It can select suitably according to the use, purpose, etc. of a light emitting element. In general, the shape of the substrate is preferably a plate shape. The structure of the substrate may be a single layer structure, a laminated structure, may be formed of a single member, or may be formed of two or more members.

基板は、無色透明であっても、有色透明であってもよいが、有機発光層から発せられる光を散乱又は減衰等させることがない点で、無色透明であることが好ましい。   The substrate may be colorless and transparent or colored and transparent, but is preferably colorless and transparent in that it does not scatter or attenuate light emitted from the organic light emitting layer.

基板には、その表面又は裏面に透湿防止層(ガスバリア層)を設けることができる。透湿防止層(ガスバリア層)の材料としては、窒化珪素、酸化珪素などの無機物が好適に用いられる。透湿防止層(ガスバリア層)は、例えば、高周波スパッタリング法などにより形成することができる。
熱可塑性基板を用いる場合には、更に必要に応じて、ハードコート層、アンダーコート層などを設けてもよい。
The substrate can be provided with a moisture permeation preventing layer (gas barrier layer) on the front surface or the back surface. As a material for the moisture permeation preventive layer (gas barrier layer), inorganic materials such as silicon nitride and silicon oxide are preferably used. The moisture permeation preventing layer (gas barrier layer) can be formed by, for example, a high frequency sputtering method.
When a thermoplastic substrate is used, a hard coat layer, an undercoat layer, or the like may be further provided as necessary.

(陽極)
陽極は、通常、有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。陽極は、通常、透明陽極として設けられる。
(anode)
The anode usually has a function as an electrode for supplying holes to the organic compound layer, and there is no particular limitation on the shape, structure, size, etc., depending on the use and purpose of the light-emitting element. , Can be appropriately selected from known electrode materials. The anode is usually provided as a transparent anode.

陽極の材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、又はこれらの混合物が好適に挙げられる。陽極材料の具体例としては、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫(ATO、FTO)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫
(ITO)、酸化亜鉛インジウム(IZO)等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、更にこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとITOとの積層物などが挙げられる。この中で好ましいのは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からはITOが好ましい。
Suitable examples of the material for the anode include metals, alloys, metal oxides, conductive compounds, and mixtures thereof. Specific examples of the anode material include conductive metals such as tin oxide doped with antimony and fluorine (ATO, FTO), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide (IZO). Metals such as oxides, gold, silver, chromium, nickel, and mixtures or laminates of these metals and conductive metal oxides, inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide, polyaniline, polythiophene, polypyrrole, etc. Organic conductive materials, and a laminate of these and ITO. Among these, conductive metal oxides are preferable, and ITO is particularly preferable from the viewpoints of productivity, high conductivity, transparency, and the like.

陽極は、例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式などの中から、陽極を構成する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って、前記基板上に形成することができる。例えば、陽極の材料として、ITOを選択する場合には、陽極の形成は、直流又は高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に従って行うことができる。   The anode is composed of, for example, a wet method such as a printing method and a coating method, a physical method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, and a chemical method such as a CVD and a plasma CVD method. It can be formed on the substrate according to a method appropriately selected in consideration of suitability with the material to be processed. For example, when ITO is selected as the anode material, the anode can be formed according to a direct current or high frequency sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, or the like.

本発明の有機EL素子において、陽極の形成位置としては特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて適宜選択することができるが、前記基板上に形成されるのが好ましい。この場合、陽極は、基板における一方の表面の全部に形成されていてもよく、その一部に形成されていてもよい。   In the organic EL device of the present invention, the formation position of the anode is not particularly limited and can be appropriately selected according to the use and purpose of the light emitting device, but is preferably formed on the substrate. In this case, the anode may be formed on the entire one surface of the substrate, or may be formed on a part thereof.

なお、陽極を形成する際のパターニングとしては、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。   The patterning for forming the anode may be performed by chemical etching such as photolithography, or may be performed by physical etching such as laser, or vacuum deposition or sputtering with a mask overlapped. It may be performed by a lift-off method or a printing method.

陽極の厚みとしては、陽極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常、10nm〜50μm程度であり、50nm〜20μmが好ましい。   The thickness of the anode can be appropriately selected depending on the material constituting the anode and cannot be generally defined, but is usually about 10 nm to 50 μm, and preferably 50 nm to 20 μm.

陽極の抵抗値としては、10Ω/□以下が好ましく、10Ω/□以下がより好ましい。陽極が透明である場合は、無色透明であっても、有色透明であってもよい。透明陽極側から発光を取り出すためには、その透過率としては、60%以上が好ましく、70%以上がより好ましい。 The resistance value of the anode is preferably 10 3 Ω / □ or less, and more preferably 10 2 Ω / □ or less. When the anode is transparent, it may be colorless and transparent or colored and transparent. In order to take out light emission from the transparent anode side, the transmittance is preferably 60% or more, and more preferably 70% or more.

なお、透明陽極については、沢田豊監修「透明電極膜の新展開」シーエムシー刊(1999)に詳述があり、ここに記載される事項を本発明に適用することができる。耐熱性の低いプラスティック基材を用いる場合は、ITO又はIZOを使用し、150℃以下の低温で成膜した透明陽極が好ましい。   The transparent anode is described in detail in the book “New Development of Transparent Electrode Films” published by CMC (1999), supervised by Yutaka Sawada, and the matters described here can be applied to the present invention. In the case of using a plastic substrate having low heat resistance, a transparent anode formed using ITO or IZO at a low temperature of 150 ° C. or lower is preferable.

(陰極)
陰極は、通常、有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
(cathode)
The cathode usually has a function as an electrode for injecting electrons into the organic compound layer, and there is no particular limitation on the shape, structure, size, etc., depending on the use and purpose of the light-emitting element, It can select suitably from well-known electrode materials.

陰極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物などが挙げられる。具体例としてはアルカリ金属(たとえば、Li、Na、K、Cs等)、アルカリ土類金属(たとえばMg、Ca等)、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、及びイッテルビウム等の希土類金属などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、2種以上を好適に併用することができる。   Examples of the material constituting the cathode include metals, alloys, metal oxides, electrically conductive compounds, and mixtures thereof. Specific examples include alkali metals (eg, Li, Na, K, Cs, etc.), alkaline earth metals (eg, Mg, Ca, etc.), gold, silver, lead, aluminum, sodium-potassium alloys, lithium-aluminum alloys, magnesium. -Rare earth metals such as silver alloys, indium and ytterbium. These may be used singly or in combination of two or more from the viewpoint of achieving both stability and electron injection.

これらの中でも、陰極を構成する材料としては、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと0.01質量%〜10質量%のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物(例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など)をいう。   Among these, as a material constituting the cathode, an alkali metal or an alkaline earth metal is preferable from the viewpoint of electron injecting property, and a material mainly composed of aluminum is preferable from the viewpoint of excellent storage stability. The material mainly composed of aluminum is aluminum alone, an alloy of aluminum and 0.01% by mass to 10% by mass of alkali metal or alkaline earth metal, or a mixture thereof (for example, lithium-aluminum alloy, magnesium-aluminum alloy). Etc.).

なお、陰極の材料については、特開平2−15595号公報、特開平5−121172号公報に詳述されており、これらの公報に記載の材料は、本発明においても適用することができる。   The cathode materials are described in detail in JP-A-2-15595 and JP-A-5-121172, and the materials described in these publications can also be applied in the present invention.

陰極の形成方法については、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式などの中から、前記した陰極を構成する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って形成することができる。例えば、陰極の材料として、金属等を選択する場合には、その1種又は2種以上を同時又は順次にスパッタ法等に従って行うことができる。   There is no restriction | limiting in particular about the formation method of a cathode, According to a well-known method, it can carry out. For example, the cathode described above is configured from a wet method such as a printing method or a coating method, a physical method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, or a chemical method such as CVD or plasma CVD method. It can be formed according to a method appropriately selected in consideration of suitability with the material. For example, when a metal or the like is selected as the cathode material, one or more of them can be simultaneously or sequentially performed according to a sputtering method or the like.

陰極を形成するに際してのパターニングは、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。   Patterning when forming the cathode may be performed by chemical etching such as photolithography, physical etching by laser, or the like, or by vacuum deposition or sputtering with the mask overlaid. It may be performed by a lift-off method or a printing method.

本発明において、陰極形成位置は特に制限はなく、有機化合物層上の全部に形成されていてもよく、その一部に形成されていてもよい。
また、陰極と前記有機化合物層との間に、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物、酸化物等による誘電体層を0.1nm〜5nmの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。誘電体層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により形成することができる。
In the present invention, the cathode formation position is not particularly limited, and may be formed on the entire organic compound layer or a part thereof.
Further, a dielectric layer made of an alkali metal or alkaline earth metal fluoride or oxide may be inserted between the cathode and the organic compound layer with a thickness of 0.1 nm to 5 nm. This dielectric layer can also be regarded as a kind of electron injection layer. The dielectric layer can be formed by, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like.

陰極の厚みは、陰極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常10nm〜5μm程度であり、50nm〜1μmが好ましい。
また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を1nm〜10nmの厚さに薄く成膜し、更にITOやIZO等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
The thickness of the cathode can be appropriately selected depending on the material constituting the cathode and cannot be generally defined, but is usually about 10 nm to 5 μm, and preferably 50 nm to 1 μm.
Further, the cathode may be transparent or opaque. The transparent cathode can be formed by depositing a thin cathode material to a thickness of 1 nm to 10 nm and further laminating a transparent conductive material such as ITO or IZO.

(有機層)
本発明における有機層について説明する。本発明の有機EL素子の有機層は、正孔輸送層と発光層と電子輸送層とを含んでいる。
なお、有機層を構成する、上記の層(正孔輸送層、発光層と電子輸送層)以外の他の層としては、前述したごとく、ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
(Organic layer)
The organic layer in the present invention will be described. The organic layer of the organic EL device of the present invention includes a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer.
In addition, as layers other than the above-mentioned layers (hole transport layer, light emitting layer and electron transport layer) constituting the organic layer, as described above, each layer such as a block layer, a hole injection layer, and an electron injection layer Is mentioned.

(発光層)
発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。
本発明における発光層は、非晶質有機半導体を含有する薄膜である。
発光層は発光材料のみで構成されていても良いが、好ましくはホスト材料と発光材料(発光性ドーパントとも称される)の混合層とした構成である。
発光材料は蛍光発光材料でも燐光発光材料であっても良いが、好ましくは、燐光発光材料である。
ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は1種であっても2種以上であっても良く、例えば、電子輸送性のホスト材料と正孔輸送性のホスト材料を混合した構成が挙げられる。更に、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいても良い。
(Light emitting layer)
The light-emitting layer receives holes from the anode, the hole injection layer, or the hole transport layer when an electric field is applied, receives electrons from the cathode, the electron injection layer, or the electron transport layer, and recombines holes and electrons. It is a layer which has the function to provide and to emit light.
The light emitting layer in the present invention is a thin film containing an amorphous organic semiconductor.
The light emitting layer may be composed of only a light emitting material, but preferably has a mixed layer of a host material and a light emitting material (also referred to as a light emitting dopant).
The light emitting material may be a fluorescent light emitting material or a phosphorescent light emitting material, but is preferably a phosphorescent light emitting material.
The host material is preferably a charge transport material. The host material may be one type or two or more types, and examples thereof include a configuration in which an electron transporting host material and a hole transporting host material are mixed. Furthermore, the light emitting layer may include a material that does not have charge transporting properties and does not emit light.

発光層は、色純度を向上させるためや発光波長領域を広げるために2種類以上の発光材料を含有することができる。また、発光層は1層であっても2層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。   The light emitting layer can contain two or more types of light emitting materials in order to improve color purity or to expand the light emission wavelength region. Further, the light emitting layer may be a single layer or two or more layers, and each layer may emit light in different emission colors.

《燐光発光材料》
前記燐光発光材料としては、一般に、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体を挙げることができる。
例えば、該遷移金属原子としては、特に限定されないが、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、金、銀、銅、及び白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、及び白金であり、更に好ましくはイリジウム、白金である。
ランタノイド原子としては、例えばランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、及びルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、及びガドリニウムが好ましい。
<Phosphorescent material>
In general, examples of the phosphorescent material include complexes containing a transition metal atom or a lanthanoid atom.
For example, the transition metal atom is not particularly limited, but preferably includes ruthenium, rhodium, palladium, tungsten, rhenium, osmium, iridium, gold, silver, copper, and platinum, and more preferably rhenium, iridium. And platinum, more preferably iridium and platinum.
Examples of lanthanoid atoms include lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, erbium, thulium, ytterbium, and lutesium. Among these lanthanoid atoms, neodymium, europium, and gadolinium are preferable.

錯体の配位子としては、例えば、G.Wilkinson等著,Comprehensive Coordination Chemistry, Pergamon Press社1987年発行、H.Yersin著,「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」 Springer−Verlag社1987年発行、山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」裳華房社1982年発行等に記載の配位子などが挙げられる。
具体的な配位子としては、好ましくは、ハロゲン配位子(好ましくは塩素配位子)、芳香族炭素環配位子(例えば、好ましくは炭素数5〜30、より好ましくは炭素数6〜30、更に好ましくは炭素数6〜20であり、特に好ましくは炭素数6〜12であり、シクロペンタジエニルアニオン、ベンゼンアニオン、又はナフチルアニオンなど)、含窒素ヘテロ環配位子(例えば、好ましくは炭素数5〜30、より好ましくは炭素数6〜30、更に好ましくは炭素数6〜20であり、特に好ましくは炭素数6〜12であり、フェニルピリジン、ベンゾキノリン、キノリノール、ビピリジル、又はフェナントロリンなど)、ジケトン配位子(例えば、アセチルアセトンなど)、カルボン酸配位子(例えば、好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、更に好ましくは炭素数2〜16であり、酢酸配位子など)、アルコラト配位子(例えば、好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、更に好ましくは炭素数6〜20であり、フェノラト配位子など)、シリルオキシ配位子(例えば、好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、更に好ましくは炭素数3〜20であり、例えば、トリメチルシリルオキシ配位子、ジメチル−tert−ブチルシリルオキシ配位子、トリフェニルシリルオキシ配位子など)、一酸化炭素配位子、イソニトリル配位子、シアノ配位子、リン配位子(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、更に好ましくは炭素数3〜20、特に好ましくは炭素数6〜20であり、例えば、トリフェニルフォスフィン配位子など)、チオラト配位子(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、更に好ましくは炭素数6〜20、例えば、フェニルチオラト配位子など)、フォスフィンオキシド配位子(好ましくは炭素数3〜30、より好ましくは炭素数8〜30、更に好ましくは炭素数18〜30、例えば、トリフェニルフォスフィンオキシド配位子など)であり、より好ましくは、含窒素ヘテロ環配位子である。
上記錯体は、化合物中に遷移金属原子を一つ有してもよいし、また、2つ以上有するいわゆる複核錯体であってもよい。異種の金属原子を同時に含有していてもよい。
Examples of the ligand of the complex include G.I. Wilkinson et al., Comprehensive Coordination Chemistry, Pergamon Press, 1987, H.C. Examples include ligands described in Yersin's "Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds" published by Springer-Verlag 1987, Akio Yamamoto "Organic Metal Chemistry-Fundamentals and Applications-" .
The specific ligand is preferably a halogen ligand (preferably a chlorine ligand) or an aromatic carbocyclic ligand (for example, preferably 5 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 6 carbon atoms). 30, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as cyclopentadienyl anion, benzene anion, or naphthyl anion), nitrogen-containing heterocyclic ligand (for example, preferably Has 5 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 30 carbon atoms, still more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, phenylpyridine, benzoquinoline, quinolinol, bipyridyl, or phenanthroline. Etc.), diketone ligand (for example, acetylacetone), carboxylic acid ligand (for example, preferably 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16 carbon atoms, such as an acetic acid ligand), an alcoholate ligand (for example, preferably 1-30 carbon atoms, more preferably 1-20 carbon atoms, still more preferably Has 6 to 20 carbon atoms, such as phenolate ligand), silyloxy ligand (for example, preferably 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, still more preferably 3 to 20 carbon atoms). , For example, trimethylsilyloxy ligand, dimethyl-tert-butylsilyloxy ligand, triphenylsilyloxy ligand, etc.), carbon monoxide ligand, isonitrile ligand, cyano ligand, phosphorus coordination (Preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, still more preferably 3 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 20 carbon atoms. Fin ligands, etc.), thiolato ligands (preferably 1-30 carbon atoms, more preferably 1-20 carbon atoms, still more preferably 6-20 carbon atoms, such as phenylthiolato ligands), phos A fin oxide ligand (preferably having 3 to 30 carbon atoms, more preferably 8 to 30 carbon atoms, still more preferably 18 to 30 carbon atoms, such as a triphenylphosphine oxide ligand), more preferably , A nitrogen-containing heterocyclic ligand.
The complex may have one transition metal atom in the compound, or may be a so-called binuclear complex having two or more. Different metal atoms may be contained at the same time.

これらの中でも、発光性材料の具体例としては、例えば、US6303238B1、US6097147、WO00/57676、WO00/70655、WO01/08230、WO01/39234A2、WO01/41512A1、WO02/02714A2、WO02/15645A1、WO02/44189A1、WO05/19373A2、特開2001−247859、特開2002−302671、特開2002−117978、特開2003−133074、特開2002−235076、特開2003−123982、特開2002−170684、EP1211257、特開2002−226495、特開2002−234894、特開2001−247859、特開2001−298470、特開2002−173674、特開2002−203678、特開2002−203679、特開2004−357791、特開2006−256999、特開2007−19462、特開2007−84635、特開2007−96259等の特許文献に記載の燐光発光化合物などが挙げられ、中でも、更に好ましい発光性材料としては、Ir錯体、Pt錯体、Cu錯体、Re錯体、W錯体、Rh錯体、Ru錯体、Pd錯体、Os錯体、Eu錯体、Tb錯体、Gd錯体、Dy錯体、及びCe錯体が挙げられる。特に好ましくは、Ir錯体、Pt錯体、又はRe錯体であり、中でも金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも一つの配位様式を含むIr錯体、Pt錯体、又はRe錯体が好ましい。更に、発光効率、駆動耐久性、色度等の観点で、3座以上の多座配位子を含むIr錯体、Pt錯体、又はRe錯体が特に好ましい。   Among these, specific examples of the light-emitting material include, for example, US6303238B1, US6097147, WO00 / 57676, WO00 / 70655, WO01 / 08230, WO01 / 39234A2, WO01 / 41512A1, WO02 / 02714A2, WO02 / 15645A1, and WO02 / 44189A1. , WO 05/19373 A2, JP 2001-247859, JP 2002-302671, JP 2002-117978, JP 2003-133074, JP 2002-235076, JP 2003-123982, JP 2002-170684, EP 12112257, Special JP 2002-226495, JP 2002-234894, JP 2001247478, JP 2001-298470, JP 2002-173 74, JP 2002-203678, JP 2002-203679, JP 2004-357799, JP 2006-256999, JP 2007-19462, JP 2007-84635, JP 2007-96259, and the like. Phosphorescent compounds and the like are mentioned. Among them, more preferable luminescent materials include Ir complex, Pt complex, Cu complex, Re complex, W complex, Rh complex, Ru complex, Pd complex, Os complex, Eu complex, Tb complex. , Gd complex, Dy complex, and Ce complex. Particularly preferred is an Ir complex, a Pt complex, or a Re complex, among which an Ir complex or a Pt complex containing at least one coordination mode of a metal-carbon bond, a metal-nitrogen bond, a metal-oxygen bond, and a metal-sulfur bond. Or Re complexes are preferred. Furthermore, from the viewpoints of luminous efficiency, driving durability, chromaticity, etc., an Ir complex, a Pt complex, or a Re complex containing a tridentate or higher polydentate ligand is particularly preferable.

《蛍光発光材料》
前記蛍光発光材料としては、一般には、ベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、スチリルベンゼン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、ナフタルイミド、クマリン、ピラン、ペリノン、オキサジアゾール、アルダジン、ピラリジン、シクロペンタジエン、ビススチリルアントラセン、キナクリドン、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジン、シクロペンタジエン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン化合物、縮合多環芳香族化合物(アントラセン、フェナントロリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、又はペンタセンなど)、8−キノリノールの金属錯体、ピロメテン錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン、及びこれらの誘導体などを挙げることができる。
<Fluorescent material>
As the fluorescent light-emitting material, generally, benzoxazole, benzimidazole, benzothiazole, styrylbenzene, diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, naphthalimide, coumarin, pyran, perinone, oxadiazole, aldazine, pyralidine, cyclopentadiene, bis Styrylanthracene, quinacridone, pyrrolopyridine, thiadiazolopyridine, cyclopentadiene, styrylamine, aromatic dimethylidin compounds, condensed polycyclic aromatic compounds (such as anthracene, phenanthroline, pyrene, perylene, rubrene, or pentacene), 8-quinolinol Examples thereof include various metal complexes represented by metal complexes, pyromethene complexes and rare earth complexes, organosilanes, and derivatives thereof.

これらの中でも、発光材料の具体例としては、特開2009−16579号公報の段落[0054]〜[0064]に例示の具体化合物、特開2008−218972号公報の段落[0059]〜[0068]に例示の具体化合物、及び、後述する実施例で使用した発光材料1などを挙げることができるが、適宜、選択されるものであるため、これらに限定されるものではない。   Among these, specific examples of the light emitting material include specific compounds exemplified in paragraphs [0054] to [0064] of JP2009-16579A, and paragraphs [0059] to [0068] of JP2008-218972A. Specific examples of the compound and the light-emitting material 1 used in Examples described later can be given, but are not limited to these because they are appropriately selected.

発光層中の発光材料は、発光層中に一般的に発光層を形成する全化合物質量に対して、0.1質量%〜50質量%含有されるが、耐久性、外部量子効率の観点から1質量%〜50質量%含有されることが好ましく、2質量%〜40質量%含有されることがより好ましい。   The light emitting material in the light emitting layer is contained in an amount of 0.1% by mass to 50% by mass with respect to the total mass of the compound generally forming the light emitting layer in the light emitting layer, but from the viewpoint of durability and external quantum efficiency. The content is preferably 1% by mass to 50% by mass, and more preferably 2% by mass to 40% by mass.

発光層の厚さは、特に限定されるものではないが、通常、2nm〜500nmであるのが好ましく、中でも、外部量子効率の観点で、3nm〜200nmであるのがより好ましく、5nm〜100nmであるのが更に好ましい。   Although the thickness of the light emitting layer is not particularly limited, it is usually preferably 2 nm to 500 nm, more preferably 3 nm to 200 nm, and more preferably 5 nm to 100 nm from the viewpoint of external quantum efficiency. More preferably.

<ホスト材料>
本発明に用いられるホスト材料としては、正孔輸送性に優れる正孔輸送性ホスト材料(正孔輸送性ホストと記載する場合がある)及び電子輸送性に優れる電子輸送性ホスト材料(電子輸送性ホストと記載する場合がある)を用いることができる。
<Host material>
As the host material used in the present invention, a hole-transporting host material excellent in hole-transporting property (sometimes referred to as a hole-transporting host) and an electron-transporting host material excellent in electron-transporting property (electron-transporting property) May be described as a host).

《正孔輸送性ホスト》
本発明に用いられる正孔輸送性ホストとしては、具体的には、例えば、以下の材料を挙げることができる。
ピロール、インドール、カルバゾール、アザインドール、アザカルバゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、ポリアリールアルカン、ピラゾリン、ピラゾロン、フェニレンジアミン、アリールアミン、アミノ置換カルコン、スチリルアントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、シラザン、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、有機シラン、カーボン膜、及び、それらの誘導体等が挙げられる。
好ましくは、インドール誘導体、カルバゾール誘導体、芳香族第三級アミン化合物、チオフェン誘導体であり、より好ましくは、分子内にカルバゾール基を有するものが好ましい。
《Hole-transporting host》
Specific examples of the hole-transporting host used in the present invention include the following materials.
Pyrrole, indole, carbazole, azaindole, azacarbazole, triazole, oxazole, oxadiazole, pyrazole, imidazole, thiophene, polyarylalkane, pyrazoline, pyrazolone, phenylenediamine, arylamine, amino-substituted chalcone, styrylanthracene, fluorenone, hydrazone , Stilbene, silazane, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, aromatic dimethylidin compounds, organic silanes, carbon films, and derivatives thereof.
Preferred are indole derivatives, carbazole derivatives, aromatic tertiary amine compounds, and thiophene derivatives, and more preferred are those having a carbazole group in the molecule.

《電子輸送性ホスト》
本発明に用いられる発光層内の電子輸送性ホストとしては、耐久性向上、駆動電圧低下の観点から、電子親和力Eaが2.5eV以上3.5eV以下であることが好ましく、2.6eV以上3.4eV以下であることがより好ましく、2.8eV以上3.3eV以下であることが更に好ましい。また、耐久性向上、駆動電圧低下の観点から、イオン化ポテンシャルIpが5.7eV以上7.5eV以下であることが好ましく、5.8eV以上7.0eV以下であることがより好ましく、5.9eV以上6.5eV以下であることが更に好ましい。
《Electron transporting host》
The electron transporting host in the light emitting layer used in the present invention preferably has an electron affinity Ea of 2.5 eV or more and 3.5 eV or less from the viewpoint of improving durability and lowering driving voltage. More preferably, it is 0.4 eV or less, and further preferably 2.8 eV or more and 3.3 eV or less. Further, from the viewpoint of improving durability and reducing driving voltage, the ionization potential Ip is preferably 5.7 eV or more and 7.5 eV or less, more preferably 5.8 eV or more and 7.0 eV or less, and 5.9 eV or more. More preferably, it is 6.5 eV or less.

このような電子輸送性ホストとしては、具体的には、例えば、以下の材料を挙げることができる。
ピリジン、ピリミジン、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾ−ル、オキサゾ−ル、オキサジアゾ−ル、フルオレノン、アントラキノジメタン、アントロン、ジフェニルキノン、チオピランジオキシド、カルボジイミド、フルオレニリデンメタン、ジスチリルピラジン、フッ素置換芳香族化合物、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン、及びそれらの誘導体(他の環と縮合環を形成してもよい)、8−キノリノ−ル誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾ−ルやベンゾチアゾ−ルを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等を挙げることができる。
Specific examples of such an electron transporting host include the following materials.
Pyridine, pyrimidine, triazine, imidazole, pyrazole, triazole, oxazole, oxadiazol, fluorenone, anthraquinodimethane, anthrone, diphenylquinone, thiopyran dioxide, carbodiimide, fluorenylidenemethane, distyrylpyrazine, Fluorine-substituted aromatic compounds, heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as naphthaleneperylene, phthalocyanines, and derivatives thereof (which may form condensed rings with other rings), metal complexes and metals of 8-quinolinol derivatives Examples thereof include various metal complexes represented by metal complexes having phthalocyanine, benzoxazole or benzothiazol as a ligand.

電子輸送性ホストとして好ましくは、金属錯体、アゾール誘導体(ベンズイミダゾール誘導体、イミダゾピリジン誘導体等)、アジン誘導体(ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体等)であり、中でも、本発明においては耐久性の点から金属錯体化合物が好ましい。金属錯体化合物(A)は金属に配位する少なくとも1つの窒素原子又は酸素原子又は硫黄原子を有する配位子をもつ金属錯体がより好ましい。
金属錯体中の金属イオンは特に限定されないが、好ましくはベリリウムイオン、マグネシウムイオン、アルミニウムイオン、ガリウムイオン、亜鉛イオン、インジウムイオン、錫イオン、白金イオン、又はパラジウムイオンであり、より好ましくはベリリウムイオン、アルミニウムイオン、ガリウムイオン、亜鉛イオン、白金イオン、又はパラジウムイオンであり、更に好ましくはアルミニウムイオン、亜鉛イオン、又はパラジウムイオンである。
Preferred examples of the electron transporting host include metal complexes, azole derivatives (benzimidazole derivatives, imidazopyridine derivatives, etc.), and azine derivatives (pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, etc.). To metal complex compounds are preferred. The metal complex compound (A) is more preferably a metal complex having a ligand having at least one nitrogen atom, oxygen atom or sulfur atom coordinated to the metal.
The metal ion in the metal complex is not particularly limited, but is preferably beryllium ion, magnesium ion, aluminum ion, gallium ion, zinc ion, indium ion, tin ion, platinum ion, or palladium ion, more preferably beryllium ion, Aluminum ion, gallium ion, zinc ion, platinum ion, or palladium ion, and more preferably aluminum ion, zinc ion, or palladium ion.

前記金属錯体中に含まれる配位子としては種々の公知の配位子が有るが、例えば、「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」、Springer−Verlag社、H.Yersin著、1987年発行、「有機金属化学−基礎と応用−」、裳華房社、山本明夫著、1982年発行等に記載の配位子が挙げられる。   There are various known ligands contained in the metal complex. For example, “Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds”, Springer-Verlag, H.C. Examples include the ligands described in Yersin, published in 1987, “Organometallic Chemistry: Fundamentals and Applications”, Sakai Hanafusa, Yamamoto Akio, published in 1982, and the like.

前記配位子として、好ましくは含窒素ヘテロ環配位子(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数3〜15であり、単座配位子であっても2座以上の配位子であっても良い。好ましくは2座以上6座以下の配位子である。また、2座以上6座以下の配位子と単座の混合配位子も好ましい。
配位子としては、例えばアジン配位子(例えば、ピリジン配位子、ビピリジル配位子、ターピリジン配位子などが挙げられる。)、ヒドロキシフェニルアゾール配位子(例えば、ヒドロキシフェニルベンズイミダゾール配位子、ヒドロキシフェニルベンズオキサゾール配位子、ヒドロキシフェニルイミダゾール配位子、ヒドロキシフェニルイミダゾピリジン配位子などが挙げられる。)、アルコキシ配位子(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2−エチルヘキシロキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ配位子(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシ、2,4,6−トリメチルフェニルオキシ、4−ビフェニルオキシなどが挙げられる。)、
The ligand is preferably a nitrogen-containing heterocyclic ligand (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 3 to 15 carbon atoms, and a monodentate ligand. Alternatively, it may be a bidentate or higher ligand, preferably a bidentate or higher and a hexadentate or lower ligand, or a bidentate or higher and lower 6 or lower ligand and a monodentate mixed ligand. preferable.
Examples of the ligand include an azine ligand (for example, pyridine ligand, bipyridyl ligand, terpyridine ligand, etc.), a hydroxyphenylazole ligand (for example, hydroxyphenylbenzimidazole coordination). And a hydroxyphenyl benzoxazole ligand, a hydroxyphenyl imidazole ligand, a hydroxyphenylimidazopyridine ligand, etc.), an alkoxy ligand (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom). To 20, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyloxy), aryloxy ligands (preferably 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6-20 carbon atoms, particularly preferably 6-12 carbon atoms, for example phenyl Carboxymethyl, 1-naphthyloxy, 2-naphthyloxy, 2,4,6-trimethylphenyl oxy, and 4-biphenyloxy and the like.),

ヘテロアリールオキシ配位子(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、及びキノリルオキシなどが挙げられる。)、アルキルチオ配位子(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ配位子(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、ヘテロアリールチオ配位子(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルチオ、2−ベンズイミゾリルチオ、2−ベンズオキサゾリルチオ、及び2−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。)、シロキシ配位子(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数3〜25、特に好ましくは炭素数6〜20であり、例えば、トリフェニルシロキシ基、トリエトキシシロキシ基、及びトリイソプロピルシロキシ基などが挙げられる。)、芳香族炭化水素アニオン配位子(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜25、特に好ましくは炭素数6〜20であり、例えばフェニルアニオン、ナフチルアニオン、及びアントラニルアニオンなどが挙げられる。)、芳香族ヘテロ環アニオン配位子(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数2〜25、特に好ましくは炭素数2〜20であり、例えばピロールアニオン、ピラゾールアニオン、ピラゾールアニオン、トリアゾールアニオン、オキサゾールアニオン、ベンゾオキサゾールアニオン、チアゾールアニオン、ベンゾチアゾールアニオン、チオフェンアニオン、及びベンゾチオフェンアニオンなどが挙げられる。)、インドレニンアニオン配位子などが挙げられ、好ましくは含窒素ヘテロ環配位子、アリールオキシ配位子、ヘテロアリールオキシ基、又はシロキシ配位子であり、更に好ましくは含窒素ヘテロ環配位子、アリールオキシ配位子、シロキシ配位子、芳香族炭化水素アニオン配位子、又は芳香族ヘテロ環アニオン配位子である。   Heteroaryloxy ligand (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include pyridyloxy, pyrazyloxy, pyrimidyloxy, and quinolyloxy. ), An alkylthio ligand (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylthio and ethylthio), arylthio ligands (Preferably 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenylthio), heteroarylthio ligand (preferably 1 carbon atom) To 30, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as pyridylthio 2-benzimidazolylthio, 2-benzoxazolylthio, 2-benzthiazolylthio, etc.), siloxy ligands (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 3 to 25 carbon atoms, Particularly preferably, it has 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a triphenylsiloxy group, a triethoxysiloxy group, and a triisopropylsiloxy group.), An aromatic hydrocarbon anion ligand (preferably a carbon number of 6 to 6). 30, more preferably 6 to 25 carbon atoms, particularly preferably 6 to 20 carbon atoms, such as a phenyl anion, a naphthyl anion, an anthranyl anion, etc.), an aromatic heterocyclic anion ligand (preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 25 carbon atoms, particularly preferably 2 to 20 carbon atoms. Anion, pyrazole anion, pyrazole anion, triazole anion, oxazole anion, benzoxazole anion, thiazole anion, benzothiazole anion, thiophene anion, benzothiophene anion, etc.), indolenine anion ligand, etc. Preferably it is a nitrogen-containing heterocyclic ligand, aryloxy ligand, heteroaryloxy group, or siloxy ligand, more preferably a nitrogen-containing heterocyclic ligand, aryloxy ligand, siloxy ligand , An aromatic hydrocarbon anion ligand, or an aromatic heterocyclic anion ligand.

金属錯体電子輸送性ホストの例としては、例えば特開2002−235076、特開2004−214179、特開2004−221062、特開2004−221065、特開2004−221068、特開2004−327313等に記載の化合物が挙げられる。   Examples of the metal complex electron transporting host are described in, for example, JP-A No. 2002-235076, JP-A No. 2004-214179, JP-A No. 2004-221106, JP-A No. 2004-221665, JP-A No. 2004-221068, JP-A No. 2004-327313, etc. The compound of this is mentioned.

また、本発明におけるホスト材料の含有量は、特に限定されるものではないが、発光効率、駆動電圧の観点から、発光層を形成する全化合物質量に対して15質量%以上95質量%以下であることが好ましい。   Further, the content of the host material in the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of light emission efficiency and driving voltage, it is 15% by mass or more and 95% by mass or less based on the total compound mass forming the light emitting layer. Preferably there is.

また、本発明に用いられるホスト材料は、ガラス転移点が50℃以上150℃以下であることが好ましい。より好ましくは、ガラス転移点が60℃以上150℃以下である。ホスト材料のガラス転移点が50℃未満では、素子の耐熱性の点で好ましくなく、150℃を越えると製膜後の熱処理が困難になる点で好ましくない。   The host material used in the present invention preferably has a glass transition point of 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. More preferably, the glass transition point is 60 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. If the glass transition point of the host material is less than 50 ° C., it is not preferable in terms of the heat resistance of the device, and if it exceeds 150 ° C., it is not preferable in that heat treatment after film formation becomes difficult.

これらの中でも、本発明におけるホスト材料の具体例としては、特開2009−16579号公報の段落[0079]〜[0083]に例示の具体化合物、及び、後述する実施例で使用したホスト材料1などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Among these, specific examples of the host material in the present invention include the specific compounds exemplified in paragraphs [0079] to [0083] of JP-A-2009-16579, and the host material 1 used in the examples described later. However, it is not limited to these.

(正孔注入層、正孔輸送層)
正孔注入層、正孔輸送層は、陽極又は陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。
本発明においては、少なくとも一層の、発光層に隣接する層は正孔輸送層であることが好ましく、2種以上の分子量1500以下の低分子化合物が2種以上の正孔輸送材料であることが好ましい。二種以上の化合物を混合する事により、陽極からの正孔注入性、及び発光層への正孔注入性の優れた塗布型の正孔注入層を提供することができる。また、低分子化合物を2種以上混合する事により、結晶化等の熱安定性を大幅に増す事ができ、素子の熱安定性を向上させる事が可能となる。
2種以上の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルの差が0.1eV以上0.6eV以下であることが好ましく、0.2eV以上0.5eV以下であることがより好ましい。
塗布型素子において、正孔注入層として一般的にはPEDOT/PSSやアリールアミン系ポリマー、スターバーストアミン型等の材料が用いられるが、これらはイオン化ポテンシャルが小さい。このため、ITO等の陽極からの正孔注入障壁は小さいが、発光層への正孔注入障壁が大きく、駆動電圧上昇、耐久性悪化の要因となる。正孔注入層と発光層の間に階段層を設け、正孔注入を促進する事も可能であるが、イオン化ポテンシャルの差が0.1eV以上0.6eV以下である2種以上の正孔輸送材料を用いることにより、層の数を減らすことができ、よりコストを低減することができる。
(Hole injection layer, hole transport layer)
The hole injection layer and the hole transport layer are layers having a function of receiving holes from the anode or the anode side and transporting them to the cathode side.
In the present invention, at least one layer adjacent to the light emitting layer is preferably a hole transport layer, and two or more kinds of low molecular weight compounds having a molecular weight of 1500 or less are two or more kinds of hole transport materials. preferable. By mixing two or more kinds of compounds, it is possible to provide a coating type hole injection layer excellent in hole injection from the anode and hole injection into the light emitting layer. Further, by mixing two or more kinds of low molecular compounds, the thermal stability such as crystallization can be greatly increased, and the thermal stability of the device can be improved.
The difference in ionization potential between the two or more hole transport materials is preferably 0.1 eV or more and 0.6 eV or less, and more preferably 0.2 eV or more and 0.5 eV or less.
In the coating type element, a material such as PEDOT / PSS, an arylamine polymer, or a starburst amine type is generally used as the hole injection layer, but these have a low ionization potential. For this reason, the hole injection barrier from the anode such as ITO is small, but the hole injection barrier to the light emitting layer is large, which causes an increase in driving voltage and deterioration in durability. Although it is possible to provide a step layer between the hole injection layer and the light emitting layer to promote hole injection, two or more kinds of hole transports having a difference in ionization potential of 0.1 eV to 0.6 eV By using the material, the number of layers can be reduced and the cost can be further reduced.

具体的には、ピロール誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、チオフェン誘導体、有機シラン誘導体、カーボン、等を含有する層であることが好ましい。
本発明においては、2種以上の正孔輸送材料がアリールアミン誘導体又はカルバゾール誘導体を含むことが好ましく、アリールアミン誘導体及びカルバゾール誘導体を含むことが好ましい。この理由は、これらの材料が正孔輸送性が大きく、かつ安定であるためである。
Specifically, pyrrole derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, styryl Anthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, aromatic dimethylidin compounds, phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, thiophene derivatives, organosilane derivatives, carbon, And the like.
In the present invention, the two or more hole transport materials preferably contain an arylamine derivative or a carbazole derivative, and preferably contain an arylamine derivative and a carbazole derivative. This is because these materials have a large hole transport property and are stable.

本発明の有機EL素子の正孔注入層あるいは正孔輸送層には、電子受容性ドーパントを含有させることができる。正孔注入層、あるいは正孔輸送層に導入する電子受容性ドーパントとしては、電子受容性で有機化合物を酸化する性質を有すれば、無機化合物でも有機化合物でも使用できる。   An electron-accepting dopant can be contained in the hole injection layer or the hole transport layer of the organic EL device of the present invention. As the electron-accepting dopant introduced into the hole-injecting layer or the hole-transporting layer, an inorganic compound or an organic compound can be used as long as it has an electron-accepting property and oxidizes an organic compound.

具体的には、無機化合物は塩化第二鉄や塩化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、五塩化アンチモンなどのハロゲン化金属、五酸化バナジウム、及び三酸化モリブデンなどの金属酸化物などが挙げられる。   Specifically, examples of the inorganic compound include metal halides such as ferric chloride, aluminum chloride, gallium chloride, indium chloride, and antimony pentachloride, and metal oxides such as vanadium pentoxide and molybdenum trioxide.

有機化合物の場合は、置換基としてニトロ基、ハロゲン、シアノ基、トリフルオロメチル基などを有する化合物、キノン系化合物、酸無水物系化合物、フラーレンなどを好適に用いることができる。
この他にも、特開平6−212153、特開平11−111463、特開平11−251067、特開2000−196140、特開2000−286054、特開2000−315580、特開2001−102175、特開2001−160493、特開2002−252085、特開2002−56985、特開2003−157981、特開2003−217862、特開2003−229278、特開2004−342614、特開2005−72012、特開2005−166637、特開2005−209643等に記載の化合物を好適に用いることが出来る。
In the case of an organic compound, a compound having a nitro group, halogen, cyano group, trifluoromethyl group or the like as a substituent, a quinone compound, an acid anhydride compound, fullerene, or the like can be preferably used.
In addition, JP-A-6-212153, JP-A-11-111463, JP-A-11-251067, JP-A-2000-196140, JP-A-2000-286054, JP-A-2000-315580, JP-A-2001-102175, JP-A-2001-2001. -160493, JP2002-252085, JP2002-56985, JP2003-157981, JP2003-217862, JP2003-229278, JP2004-342614, JP2005-72012, JP20051666667 The compounds described in JP-A-2005-209643 and the like can be preferably used.

このうちヘキサシアノブタジエン、ヘキサシアノベンゼン、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、p−フルオラニル、p−クロラニル、p−ブロマニル、p−ベンゾキノン、2,6−ジクロロベンゾキノン、2,5−ジクロロベンゾキノン、1,2,4,5−テトラシアノベンゼン、1,4−ジシアノテトラフルオロベンゼン、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキノン、p−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、o−ジニトロベンゼン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロナフトキノン、1,3−ジニトロナフタレン、1,5−ジニトロナフタレン、9,10−アントラキノン、1,3,6,8−テトラニトロカルバゾール、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,3,5,6−テトラシアノピリジン、又はフラーレンC60が好ましく、ヘキサシアノブタジエン、ヘキサシアノベンゼン、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、p−フルオラニル、p−クロラニル、p−ブロマニル、2,6−ジクロロベンゾキノン、2,5−ジクロロベンゾキノン、2,3−ジクロロナフトキノン、1,2,4,5−テトラシアノベンゼン、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキノン、又は2,3,5,6−テトラシアノピリジンがより好ましく、テトラフルオロテトラシアノキノジメタンが特に好ましい。   Among these, hexacyanobutadiene, hexacyanobenzene, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, tetrafluorotetracyanoquinodimethane, p-fluoranyl, p-chloranil, p-bromanyl, p-benzoquinone, 2,6-dichlorobenzoquinone, 2 , 5-dichlorobenzoquinone, 1,2,4,5-tetracyanobenzene, 1,4-dicyanotetrafluorobenzene, 2,3-dichloro-5,6-dicyanobenzoquinone, p-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, o-dinitrobenzene, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone, 1,3-dinitronaphthalene, 1,5-dinitronaphthalene, 9,10-anthraquinone, 1,3,6,8-tetranitrocarbazole, 2,4,7-trinitro-9- Luenone, 2,3,5,6-tetracyanopyridine, or fullerene C60 is preferred, and hexacyanobutadiene, hexacyanobenzene, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, tetrafluorotetracyanoquinodimethane, p-fluoranyl, p- Chloranil, p-bromanyl, 2,6-dichlorobenzoquinone, 2,5-dichlorobenzoquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone, 1,2,4,5-tetracyanobenzene, 2,3-dichloro-5,6-dicyano Benzoquinone or 2,3,5,6-tetracyanopyridine is more preferred, and tetrafluorotetracyanoquinodimethane is particularly preferred.

これらの電子受容性ドーパントは、単独で用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。電子受容性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、正孔輸送層材料に対して0.01質量%〜50質量%であることが好ましく、0.05質量%〜20質量%であることが更に好ましく、0.1質量%〜10質量%であることが特に好ましい。   These electron-accepting dopants may be used alone or in combination of two or more. Although the usage-amount of an electron-accepting dopant changes with kinds of material, it is preferable that it is 0.01 mass%-50 mass% with respect to hole transport layer material, and it is 0.05 mass%-20 mass%. It is further more preferable and it is especially preferable that it is 0.1 mass%-10 mass%.

正孔注入層、正孔輸送層の厚さは、駆動電圧を下げるという観点から、各々500nm以下であることが好ましい。
正孔輸送層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。また、正孔注入層の厚さとしては、0.1nm〜200nmであるのが好ましく、0.5nm〜100nmであるのがより好ましく、1nm〜100nmであるのが更に好ましい。
正孔注入層、正孔輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
The thicknesses of the hole injection layer and the hole transport layer are each preferably 500 nm or less from the viewpoint of lowering the driving voltage.
The thickness of the hole transport layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and still more preferably 10 nm to 100 nm. In addition, the thickness of the hole injection layer is preferably 0.1 nm to 200 nm, more preferably 0.5 nm to 100 nm, and still more preferably 1 nm to 100 nm.
The hole injection layer and the hole transport layer may have a single-layer structure composed of one or more of the materials described above, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions. .

(電子注入層、電子輸送層)
電子注入層、電子輸送層は、陰極又は陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。
本発明においては、少なくとも一層の発光層に隣接する層が電子輸送層であることが好ましい。また、電子輸送層が、2種以上の電子輸送材料を含む液により形成されたことが好ましい。二種以上の化合物を混合する事により、陰極からの電子注入性、及び発光層への電子注入性の優れた塗布型の電子注入層を提供することができる。
2種以上の電子輸送材料の電子親和力の差が0.1eV以上0.6eV以下であることが好ましく、0.2eV以上0.5eV以下であることがより好ましい。
具体的には、ピリジン誘導体、キノリン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、フタラジン誘導体、フェナントロリン誘導体、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、シロールに代表される有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
(Electron injection layer, electron transport layer)
The electron injection layer and the electron transport layer are layers having a function of receiving electrons from the cathode or the cathode side and transporting them to the anode side.
In the present invention, it is preferable that at least one layer adjacent to the light emitting layer is an electron transport layer. Moreover, it is preferable that the electron carrying layer was formed with the liquid containing 2 or more types of electron carrying materials. By mixing two or more compounds, it is possible to provide a coating type electron injection layer excellent in electron injection from the cathode and electron injection into the light emitting layer.
The difference in electron affinity between two or more electron transport materials is preferably 0.1 eV or more and 0.6 eV or less, and more preferably 0.2 eV or more and 0.5 eV or less.
Specifically, pyridine derivatives, quinoline derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, phthalazine derivatives, phenanthroline derivatives, triazine derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone Derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyrylpyrazine derivatives, naphthalene, perylene and other aromatic ring tetracarboxylic acid anhydrides, phthalocyanine derivatives, 8-quinolinol derivative metal complexes, Metal phthalocyanines, various metal complexes represented by metal complexes with benzoxazole and benzothiazole as ligands, organosilane derivatives represented by siloles Body, or the like is preferably a layer containing.

本発明の有機EL素子の電子注入層あるいは電子輸送層には、電子供与性ドーパントを含有させることができる。電子注入層、あるいは電子輸送層に導入される電子供与性ドーパントとしては、電子供与性で有機化合物を還元する性質を有していればよく、Liなどのアルカリ金属、Mgなどのアルカリ土類金属、希土類金属を含む遷移金属や還元性有機化合物などが好適に用いられる。金属としては、特に仕事関数が4.2eV以下の金属が好適に使用でき、具体的には、Li、Na、K、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Y、Cs、La、Sm、Gd、及びYbなどが挙げられる。また、還元性有機化合物としては、例えば、含窒素化合物、含硫黄化合物、含リン化合物などが挙げられる。この他にも、特開平6−212153、特開2000−196140、特開2003−68468、特開2003−229278、特開2004−342614等に記載の材料を用いることが出来る。   The electron injection layer or the electron transport layer of the organic EL device of the present invention can contain an electron donating dopant. The electron donating dopant introduced into the electron injecting layer or the electron transporting layer only needs to have an electron donating property and a property of reducing an organic compound, such as an alkali metal such as Li or an alkaline earth metal such as Mg. Transition metals including rare earth metals and reducing organic compounds are preferably used. As the metal, a metal having a work function of 4.2 eV or less can be preferably used. Specifically, Li, Na, K, Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Cs, La, Sm, Gd , And Yb. Examples of the reducing organic compound include nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds, and phosphorus-containing compounds. In addition, materials described in JP-A-6-212153, JP-A-2000-196140, JP-A-2003-68468, JP-A-2003-229278, JP-A-2004-342614, and the like can be used.

これらの電子供与性ドーパントは、単独で用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。電子供与性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、電子輸送層材料に対して0.1質量%〜99質量%であることが好ましく、1.0質量%〜80質量%であることが更に好ましく、2.0質量%〜70質量%であることが特に好ましい。   These electron donating dopants may be used alone or in combination of two or more. The amount of the electron donating dopant varies depending on the type of material, but is preferably 0.1% by mass to 99% by mass, and 1.0% by mass to 80% by mass with respect to the electron transport layer material. Is more preferable, and 2.0 mass% to 70 mass% is particularly preferable.

電子注入層、電子輸送層の厚さは、駆動電圧を下げるという観点から、各々500nm以下であることが好ましい。
電子輸送層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。また、電子注入層の厚さとしては、0.1nm〜200nmであるのが好ましく、0.2nm〜100nmであるのがより好ましく、0.5nm〜50nmであるのが更に好ましい。
電子注入層、電子輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
The thicknesses of the electron injection layer and the electron transport layer are each preferably 500 nm or less from the viewpoint of lowering the driving voltage.
The thickness of the electron transport layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and still more preferably 10 nm to 100 nm. In addition, the thickness of the electron injection layer is preferably 0.1 nm to 200 nm, more preferably 0.2 nm to 100 nm, and still more preferably 0.5 nm to 50 nm.
The electron injection layer and the electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.

(正孔ブロック層)
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として、正孔ブロック層を設けることができる。
正孔ブロック層を構成する化合物の例としては、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(フェノラート)アルミニウム等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。
正孔ブロック層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。
正孔ブロック層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
(Hole blocking layer)
The hole blocking layer is a layer having a function of preventing holes transported from the anode side to the light emitting layer from passing through to the cathode side. In the present invention, a hole blocking layer can be provided as an organic compound layer adjacent to the light emitting layer on the cathode side.
Examples of the compound constituting the hole blocking layer include aluminum complexes such as bis (2-methyl-8-quinolinolato) (phenolate) aluminum, triazole derivatives, 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10. -Phenanthroline derivatives such as phenanthroline, and the like.
The thickness of the hole blocking layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and still more preferably 10 nm to 100 nm.
The hole blocking layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.

(電子ブロック層)
電子ブロック層は、陰極側から発光層に輸送された電子が、陽極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陽極側で隣接する有機化合物層として、電子ブロック層を設けることができる。
電子ブロック層を構成する化合物の例としては、例えば前述の正孔輸送材料として挙げたものが適用できる。
電子ブロック層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。
正孔ブロック層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
(Electronic block layer)
The electron blocking layer is a layer having a function of preventing electrons transported from the cathode side to the light emitting layer from passing through to the anode side. In the present invention, an electron blocking layer can be provided as the organic compound layer adjacent to the light emitting layer on the anode side.
As examples of the compound constituting the electron blocking layer, for example, those mentioned as the hole transport material described above can be applied.
The thickness of the electron blocking layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and even more preferably 10 nm to 100 nm.
The hole blocking layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.

(材料の精製)
有機電界発光素子の有機層を構成する材料は、精製したものを用いることが好ましく、少なくとも1つ以上の材料がゾーンメルト法により精製した材料であることがより好ましい。ゾーンメルト法は昇華精製が難しい、分解しやすい、昇華温度の高い、又は比較的高分子量である材料の精製が容易である。湿式製膜法に適した材料はアモルファス性が高く、昇華精製が難しく、昇華により精製を行うと素子性能が低下する場合がある。
(Purification of materials)
As the material constituting the organic layer of the organic electroluminescent element, it is preferable to use a purified material, and it is more preferable that at least one material is a material purified by a zone melt method. The zone melt method is difficult to purify by sublimation, easily decomposes, easily purifies a material having a high sublimation temperature, or a relatively high molecular weight. A material suitable for the wet film forming method has high amorphousness and is difficult to be purified by sublimation. When purification is performed by sublimation, device performance may be lowered.

ゾーンメルト法による精製と湿式製膜を組み合わせることで、性能の高い素子が実現できる。特に、スプレー塗布と組み合わせることで、より耐久性と効率の高い素子が実現できる。
また、少なくとも1つ以上の材料がゾーンメルト法により精製した材料であり、湿式製膜法(好ましくはスプレー塗布法)により作製した有機電界発光素子であることがより好ましい。
ゾーンメルト精製が効率的にできる材料は、形成した層の界面に乱れがなく、きれいに(平滑に)形成することができる。これは、ゾーンメルト精製のほうが昇華精製よりも精製温度が低いためである。塗布プロセス温度は通常ゾーンメルト精製の温度に、より近い。すなわち、ゾーンメルト精製が効率的にできる材料のほうが、塗布プロセスにおいても配列乱れの少ない膜が形成できる。膜の配列乱れが少ないと、作製した有機電界発光素子の発光効率の向上、耐久性の向上が期待される。
前記材料のTgは、100℃〜400℃の範囲であることが好ましい。また、材料が、電荷注入材料、電荷輸送材料、ホスト材料、発光材料であることが好ましく、カルバソール誘導体、アリールアミン誘導体、又は金属錯体であることがより好ましい。
A device with high performance can be realized by combining purification by the zone melt method and wet film formation. In particular, by combining with spray coating, a more durable and efficient device can be realized.
Further, at least one or more materials are materials purified by a zone melt method, and an organic electroluminescent element produced by a wet film forming method (preferably a spray coating method) is more preferable.
A material that can be efficiently subjected to zone melt purification can be formed cleanly (smoothly) without any disturbance at the interface of the formed layer. This is because zone melt purification has a lower purification temperature than sublimation purification. The coating process temperature is usually closer to that of zone melt purification. That is, a material that can efficiently perform zone melt purification can form a film with less disorder in the coating process. When there is little disorder of the arrangement of the film, it is expected to improve the light emission efficiency and durability of the produced organic electroluminescence device.
The Tg of the material is preferably in the range of 100 ° C to 400 ° C. The material is preferably a charge injection material, a charge transport material, a host material, or a light emitting material, and more preferably a carbazole derivative, an arylamine derivative, or a metal complex.

(保護層)
本発明において、有機EL素子全体は、保護層によって保護されていてもよい。保護層に含まれる材料としては、水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。
その具体例としては、In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Ti、Ni等の金属、MgO、SiO、SiO、Al、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe、Y、TiO等の金属酸化物、SiN、SiN等の金属窒化物、MgF、LiF、AlF、CaF等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも1種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率1%以上の吸水性物質、吸水率0.1%以下の防湿性物質等が挙げられる。
(Protective layer)
In the present invention, the entire organic EL element may be protected by a protective layer. As a material contained in the protective layer, any material may be used as long as it has a function of preventing materials that promote device deterioration such as moisture and oxygen from entering the device.
Specific examples thereof include metals such as In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, Ti, and Ni, MgO, SiO, SiO 2 , Al 2 O 3 , GeO, NiO, CaO, BaO, and Fe 2 O. 3 , metal oxides such as Y 2 O 3 , TiO 2 , metal nitrides such as SiN x , SiN x O y , metal fluorides such as MgF 2 , LiF, AlF 3 , CaF 2 , polyethylene, polypropylene, polymethyl Monomer mixture containing methacrylate, polyimide, polyurea, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polydichlorodifluoroethylene, copolymer of chlorotrifluoroethylene and dichlorodifluoroethylene, tetrafluoroethylene and at least one comonomer Copolymer obtained by copolymerization, cyclic in the copolymer main chain Examples thereof include a fluorine-containing copolymer having a structure, a water-absorbing substance having a water absorption of 1% or more, and a moisture-proof substance having a water absorption of 0.1% or less.

保護層の形成方法については、特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、MBE(分子線エピタキシ)法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法(高周波励起イオンプレーティング法)、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、ガスソースCVD法、コーティング法、印刷法、転写法を適用できる。   The method for forming the protective layer is not particularly limited, and for example, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, MBE (molecular beam epitaxy), cluster ion beam, ion plating, plasma polymerization (high frequency) Excited ion plating method), plasma CVD method, laser CVD method, thermal CVD method, gas source CVD method, coating method, printing method, transfer method can be applied.

(封止)
更に、本発明の有機EL素子は、封止容器を用いて素子全体を封止してもよい。また、封止容器と発光素子の間の空間に水分吸収剤又は不活性液体を封入してもよい。水分吸収剤としては、特に限定されることはないが、例えば、酸化バリウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、五酸化燐、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、フッ化セシウム、フッ化ニオブ、臭化カルシウム、臭化バナジウム、モレキュラーシーブ、ゼオライト、及び酸化マグネシウム等を挙げることができる。不活性液体としては、特に限定されることはないが、例えば、パラフィン類、流動パラフィン類、パーフルオロアルカンやパーフルオロアミン、パーフルオロエーテル等のフッ素系溶剤、塩素系溶剤、及びシリコーンオイル類が挙げられる。
(Sealing)
Furthermore, the organic EL device of the present invention may be sealed using a sealing container. Further, a moisture absorbent or an inert liquid may be sealed in a space between the sealing container and the light emitting element. Although it does not specifically limit as a moisture absorber, For example, barium oxide, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, phosphorus pentoxide, calcium chloride, magnesium chloride, copper chloride Cesium fluoride, niobium fluoride, calcium bromide, vanadium bromide, molecular sieve, zeolite, and magnesium oxide. The inert liquid is not particularly limited, and examples thereof include paraffins, liquid paraffins, fluorinated solvents such as perfluoroalkane, perfluoroamine, and perfluoroether, chlorinated solvents, and silicone oils. Can be mentioned.

また、酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミ等による無機封止やアクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ゴム系樹脂、エステル系樹脂等による樹脂封止にて封止する方法も好適に用いられる。   Also, seal with inorganic sealing with silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, etc. or resin sealing with acrylic resin, epoxy resin, fluororesin, silicon resin, rubber resin, ester resin, etc. A method of stopping is also preferably used.

(封止接着剤)
本発明に用いられる封止接着剤は、端部よりの水分や酸素の侵入を防止する機能を有する。
<素材>
前記封止接着剤の材料としては、前記樹脂封止層で用いる材料と同じものを用いることができる。中でも、水分防止の点からエポキシ系の接着剤が好ましく、中でも光硬化型接着剤あるいは熱硬化型接着剤が好ましい。
(Sealing adhesive)
The sealing adhesive used in the present invention has a function of preventing intrusion of moisture and oxygen from the end portion.
<Material>
As the material of the sealing adhesive, the same material as that used for the resin sealing layer can be used. Among these, epoxy adhesives are preferable from the viewpoint of moisture prevention, and among them, a photocurable adhesive or a thermosetting adhesive is preferable.

また、上記材料にフィラーを添加することも好ましい。
封止剤に添加されているフィラーとしては、SiO、SiO(酸化ケイ素)、SiON(酸窒化ケイ素)又はSiN(窒化ケイ素)等の無機材料が好ましい。フィラーの添加により、封止剤の粘度が上昇し、加工適正が向上し、及び耐湿性が向上する。
It is also preferable to add a filler to the above material.
The filler added to the sealant is preferably an inorganic material such as SiO 2 , SiO (silicon oxide), SiON (silicon oxynitride) or SiN (silicon nitride). By adding the filler, the viscosity of the sealant is increased, the processing suitability is improved, and the moisture resistance is improved.

<封止接着剤の処方>
・ポリマー組成、濃度
封止接着剤としては特に限定されることはなく、前記のものを用いることができる。
例えば光硬化型エポキシ系接着剤としては長瀬ケムテック(株)製のXNR5516を挙げることができる。
・厚み
封止接着剤の塗布厚みは1μm以上1mm以下であることが好ましい。これよりも薄いと封止接着剤を均一に塗れなくなり好ましくない。またこれよりも厚いと、水分が侵入する道筋が広くなり好ましくない。
<封止方法>
本発明においては、上記封止接着剤をディスペンサー等により任意量塗布し、塗布後第2基板を重ねて、硬化させることにより機能素子を得ることができる。
<Prescription of sealing adhesive>
-Polymer composition, density | concentration It does not specifically limit as a sealing adhesive agent, The said thing can be used.
For example, XNR5516 manufactured by Nagase Chemtech Co., Ltd. can be cited as a photo-curable epoxy adhesive.
-Thickness The coating thickness of the sealing adhesive is preferably 1 μm or more and 1 mm or less. If it is thinner than this, the sealing adhesive cannot be applied uniformly, which is not preferable. On the other hand, if it is thicker than this, the route through which moisture invades becomes wide, which is not preferable.
<Sealing method>
In the present invention, a functional element can be obtained by applying an arbitrary amount of the sealing adhesive with a dispenser or the like, and stacking and curing the second substrate after application.

(駆動)
本発明の有機EL素子は、陽極と陰極との間に直流(必要に応じて交流成分を含んでもよい)電圧(通常2ボルト〜15ボルト)、又は直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。
本発明の有機EL素子の駆動方法については、特開平2−148687号、同6−301355号、同5−29080号、同7−134558号、同8−234685号、同8−241047号の各公報、特許第2784615号、米国特許5828429号、同6023308号の各明細書、等に記載の駆動方法を適用することができる。
(Drive)
The organic EL device of the present invention obtains light emission by applying a direct current (which may include an alternating current component if necessary) voltage (usually 2 to 15 volts) or a direct current between the anode and the cathode. be able to.
Regarding the driving method of the organic EL device of the present invention, each of JP-A-2-148687, JP-A-6-301355, JP-A-5-290080, JP-A-7-134558, JP-A-8-234658, and JP-A-8-2441047. The driving methods described in the publications, Japanese Patent No. 2784615, US Pat. Nos. 5,828,429 and 6023308, and the like can be applied.

本発明の発光素子は、種々の公知の工夫により、光取り出し効率を向上させることができる。例えば、基板表面形状を加工する(例えば微細な凹凸パターンを形成する)、基板・ITO層・有機層の屈折率を制御する、基板・ITO層・有機層の膜厚を制御すること等により、光の取り出し効率を向上させ、外部量子効率を向上させることが可能である。   The light-emitting element of the present invention can improve the light extraction efficiency by various known devices. For example, by processing the substrate surface shape (for example, forming a fine concavo-convex pattern), controlling the refractive index of the substrate / ITO layer / organic layer, controlling the film thickness of the substrate / ITO layer / organic layer, etc. It is possible to improve light extraction efficiency and external quantum efficiency.

本発明の発光素子は、陽極側から発光を取り出す、いわゆる、トップエミッション方式であっても良い。   The light-emitting element of the present invention may be a so-called top emission type in which light emission is extracted from the anode side.

本発明における有機EL素子は、共振器構造を有しても良い。例えば、透明基板上に、屈折率の異なる複数の積層膜よりなる多層膜ミラー、透明又は半透明電極、発光層、及び金属電極を重ね合わせて有する。発光層で生じた光は多層膜ミラーと金属電極を反射板としてその間で反射を繰り返し共振する。
別の好ましい態様では、透明基板上に、透明又は半透明電極と金属電極がそれぞれ反射板として機能して、発光層で生じた光はその間で反射を繰り返し共振する。共振構造を形成するためには、2つの反射板の有効屈折率、反射板間の各層の屈折率と厚みから決定される光路長を所望の共振波長の得るのに最適な値となるよう調整される。第1の態様の場合の計算式は特開平9−180883号明細書に記載されている。第2の態様の場合の計算式は特開2004−127795号明細書に記載されている。
The organic EL element in the present invention may have a resonator structure. For example, a multilayer mirror made of a plurality of laminated films having different refractive indexes, a transparent or translucent electrode, a light emitting layer, and a metal electrode are superimposed on a transparent substrate. The light generated in the light emitting layer resonates repeatedly with the multilayer mirror and the metal electrode as a reflection plate.
In another preferred embodiment, a transparent or translucent electrode and a metal electrode each function as a reflecting plate on a transparent substrate, and light generated in the light emitting layer repeats reflection and resonates between them. In order to form a resonant structure, the optical path length determined from the effective refractive index of the two reflectors and the refractive index and thickness of each layer between the reflectors is adjusted to an optimum value to obtain the desired resonant wavelength. Is done. The calculation formula in the case of the first embodiment is described in JP-A-9-180883. The calculation formula in the case of the second aspect is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-127795.

有機ELディスプレイをフルカラータイプのものとする方法としては、例えば「月刊ディスプレイ」、2000年9月号、33頁〜37頁に記載されているように、色の3原色(青色(B)、緑色(G)、赤色(R))に対応する光をそれぞれ発光する有機EL素子を基板上に配置する3色発光法、白色発光用の有機EL素子による白色発光をカラーフィルターを通して3原色に分ける白色法、青色発光用の有機EL素子による青色発光を蛍光色素層を通して赤色(R)及び緑色(G)に変換する色変換法、などが知られている。
また、上記方法により得られる異なる発光色の有機EL素子を複数組み合わせて用いることにより、所望の発光色の平面型光源を得ることができる。例えば、青色及び黄色の発光素子を組み合わせた白色発光光源、青色、緑色、赤色の発光素子を組み合わせた白色発光光源、等である。
For example, as described in “Monthly Display”, September 2000, pages 33 to 37, a method for making an organic EL display of a full color type includes three primary colors (blue (B) and green). (G), red light (R)), a three-color light emitting method in which organic EL elements that emit light corresponding to red (R) are arranged on a substrate, and white light emitted by a white light emitting organic EL element into three primary colors through a color filter. And a color conversion method in which blue light emission by an organic EL element for blue light emission is converted into red (R) and green (G) through a fluorescent dye layer are known.
Moreover, the planar light source of a desired luminescent color can be obtained by using combining the organic EL element of the different luminescent color obtained by the said method. For example, a white light-emitting light source that combines blue and yellow light-emitting elements, a white light-emitting light source that combines blue, green, and red light-emitting elements.

(応用)
本発明の有機EL素子及び製造方法は、デジタルスチルカメラのディスプレイ、携帯電話ディスプレイ、パーソナルデジタルアシスタント(PDA)、コンピュータディスプレイ、自動車の情報ディスプレイ、TVモニター、あるいは一般照明を含む広い分野で幅広い分野で応用される。
(application)
The organic EL device and manufacturing method of the present invention are used in a wide range of fields including digital still camera displays, mobile phone displays, personal digital assistants (PDAs), computer displays, automobile information displays, TV monitors, or general lighting. Applied.

(表示装置)
次に、図2を参照して本発明の実施形態に係る表示装置について説明する。
図2は、本発明の実施形態に係る表示装置の一例を概略的に示した断面図である。
図2に示すように、本発明の実施形態に係る表示装置20は、透明基板(支持基板)2、有機EL素子10、封止容器16等を具備している。
(Display device)
Next, a display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of the display device according to the embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 2, the display device 20 according to the embodiment of the present invention includes a transparent substrate (support substrate) 2, an organic EL element 10, a sealing container 16, and the like.

有機EL素子10は、基板2上に、陽極(第一電極)3、有機層11、陰極(第二電極)9が順次積層されて構成されている。また、陰極9上には、保護層12が積層されており、更に、保護層12上には接着層14を介して封止容器16が設けられている。なお、各電極3、9の一部、隔壁、絶縁層等は省略されている。
ここで、接着層14としては、前記した封止接着剤からなる層であることが好ましい。
このような表示装置20は、有機EL素子10からの発光を、基板2の陽極3とは反対側の面を表示面として、表示するものである。
The organic EL element 10 is configured by sequentially laminating an anode (first electrode) 3, an organic layer 11, and a cathode (second electrode) 9 on a substrate 2. A protective layer 12 is laminated on the cathode 9, and a sealing container 16 is provided on the protective layer 12 with an adhesive layer 14 interposed therebetween. In addition, a part of each electrode 3 and 9, a partition, an insulating layer, etc. are abbreviate | omitted.
Here, the adhesive layer 14 is preferably a layer made of the sealing adhesive described above.
Such a display device 20 displays light emitted from the organic EL element 10 with the surface opposite to the anode 3 of the substrate 2 as a display surface.

(照明装置)
次に、図3を参照して本発明の実施形態に係る照明装置について説明する。
図3は、本発明の実施形態に係る照明装置の一例を概略的に示した断面図である。
本発明の実施形態に係る照明装置40は、図3に示すように、前述した有機EL素子10と、光散乱部材30とを備えている。より具体的には、照明装置40は、有機EL素子10の基板2と光散乱部材30とが接触するように構成されている。
光散乱部材30は、光を散乱できるものであれば特に制限されないが、図3においては、透明基板31に微粒子32が分散した部材とされている。透明基板31としては、例えば、ガラス基板を好適に挙げることができる。微粒子32としては、透明樹脂微粒子を好適に挙げることができる。ガラス基板及び透明樹脂微粒子としては、いずれも、公知のものを使用できる。このような照明装置40は、有機EL素子10からの発光が光散乱部材30の光入射面30Aに入射されると、入射光を光散乱部材30により散乱させ、散乱光を光出射面30Bから照明光として出射するものである。
(Lighting device)
Next, an illumination device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of a lighting device according to an embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 3, the illumination device 40 according to the embodiment of the present invention includes the organic EL element 10 and the light scattering member 30 described above. More specifically, the lighting device 40 is configured such that the substrate 2 of the organic EL element 10 and the light scattering member 30 are in contact with each other.
The light scattering member 30 is not particularly limited as long as it can scatter light. In FIG. 3, the light scattering member 30 is a member in which fine particles 32 are dispersed on a transparent substrate 31. As the transparent substrate 31, for example, a glass substrate can be preferably cited. As the fine particles 32, transparent resin fine particles can be preferably exemplified. As the glass substrate and the transparent resin fine particles, known ones can be used. In such an illuminating device 40, when light emitted from the organic EL element 10 is incident on the light incident surface 30A of the light scattering member 30, the incident light is scattered by the light scattering member 30, and the scattered light is emitted from the light emitting surface 30B. It is emitted as illumination light.

以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の主旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
(塗布液の調製)
あらかじめ減圧乾燥(200℃×1時間、0.1気圧)したモレキュラーシーブス4A/8Xを20質量%添加し、1時間放置した。窒素置換されたグローブボックス(露点―68度、酸素濃度10ppm)内で窒素バブリングによる脱酸素処理を行い、フィルター(孔径0.2μm、PTFEメンブレンフィルター)処理することで、塗布液を調製した。
(スプレー塗布機)
グローブボックス(露点−45℃、酸素濃度50ppm)内に設置した、スプレー塗布機に、窒素(純度99.9%、露点−40℃以下)を供給源とし、ガスフィルター:SFB100−02(SMC株式会社製品名)を介して接続した。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, reagents, substance amounts and ratios, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following specific examples.
(Preparation of coating solution)
20% by mass of molecular sieves 4A / 8X previously dried under reduced pressure (200 ° C. × 1 hour, 0.1 atm) was added and left for 1 hour. A deoxygenation treatment by nitrogen bubbling was performed in a nitrogen-substituted glove box (dew point -68 degrees, oxygen concentration 10 ppm), and a filter (pore size 0.2 μm, PTFE membrane filter) treatment was performed to prepare a coating solution.
(Spray application machine)
A spray coating machine installed in a glove box (dew point −45 ° C., oxygen concentration 50 ppm) is supplied with nitrogen (purity 99.9%, dew point −40 ° C. or less) as a supply source, gas filter: SFB100-02 (SMC stock) Connected via company product name).

〔実施例1〕
酸化インジウム錫(ITOと略記する)蒸着層を有するガラス基板(ジオマテック(株)製、表面抵抗10Ω/□、サイズ:0.5mm厚み、2.5cm角)を洗浄容器に入れ、2−プロパノール中で超音波洗浄した後、30分間UV−オゾン処理を行った。この透明陽極上にスプレー法により下記層を、順次、設けた。なお、各層の形成において、エアロゾルのキャリアガスを窒素ガスとし、キャリアガス量を1L/分とした。また、エアロゾルにおける液体粒子の粒子径を1μmに設定した。
[Example 1]
A glass substrate (manufactured by Geomat Co., Ltd., surface resistance 10Ω / □, size: 0.5 mm thickness, 2.5 cm square) having a vapor deposition layer of indium tin oxide (abbreviated as ITO) is placed in a cleaning container, After ultrasonic cleaning with, UV-ozone treatment was performed for 30 minutes. The following layers were sequentially provided on the transparent anode by a spray method. In forming each layer, the aerosol carrier gas was nitrogen gas, and the amount of carrier gas was 1 L / min. Further, the particle diameter of the liquid particles in the aerosol was set to 1 μm.

(1)正孔輸送層(50nm):スプレー法により、下記正孔輸送材1及び正孔輸送材2
(質量比:50/50)のジクロロメタン溶液(固形分濃度:1質量%)を、得られる正孔輸送層の厚みが50nmとなる量で、透明陽極上に塗布した後、70℃,1時間の真空乾燥を行った。なお、正孔輸送材1及び正孔輸送材2は、昇華精製により精製がなされたものを使用した。正孔輸送材1と正孔輸送材2のイオン化ポテンシャルの差:△Ip=0.4eVであった。
(1) Hole transport layer (50 nm): The following hole transport material 1 and hole transport material 2 are formed by a spray method.
After applying a dichloromethane solution (solid content concentration: 1% by mass) of (mass ratio: 50/50) on the transparent anode in such an amount that the thickness of the resulting hole transport layer is 50 nm, 70 ° C., 1 hour Was vacuum dried. In addition, as the hole transport material 1 and the hole transport material 2, those purified by sublimation purification were used. Difference in ionization potential between hole transport material 1 and hole transport material 2: ΔIp = 0.4 eV.

(2)発光層(40nm):スプレー法により、ホスト材料1:CDBP及び発光材料1:化合物Aを質量比95:5で含有するキシレン溶液(固形分濃度:0.6質量%)を、得られる発光層の厚みが40nmとなる量で、正孔輸送層上に塗布した後、100℃,1時間の真空乾燥を行った。なお、ホスト材料1及び発光材料1は、それぞれ、昇華精製により精製がなされたものを使用した。 (2) Light-emitting layer (40 nm): A xylene solution (solid content concentration: 0.6% by mass) containing the host material 1: CDBP and the light-emitting material 1: compound A at a mass ratio of 95: 5 is obtained by a spray method. After coating on the hole transport layer in such an amount that the resulting light emitting layer had a thickness of 40 nm, vacuum drying was performed at 100 ° C. for 1 hour. In addition, as the host material 1 and the light emitting material 1, those purified by sublimation purification were used.

(3)電子輸送層(30nm):基板を大気に曝露することなく真空蒸着装置へ取り付けた。また、モリブデン製抵抗加熱ボートにBAlqを入れたものを真空蒸着装置に取り付け、真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、前記ボートに通電して加熱してPBD(2−(4−ビフェニルイル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール)を蒸着速度0.2nm/秒で前記発光層上に蒸着して、膜厚30nmの電子輸送層を形成した。 (3) Electron transport layer (30 nm): The substrate was attached to a vacuum deposition apparatus without being exposed to the atmosphere. Further, a molybdenum resistance heating boat with BAlq placed therein is attached to a vacuum deposition apparatus, and after the vacuum chamber is depressurized to 4 × 10 −4 Pa, the boat is energized and heated to heat PBD (2- (4- Biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole) is vapor-deposited on the light-emitting layer at a vapor deposition rate of 0.2 nm / second to form an electron transport layer having a thickness of 30 nm. Formed.

(4)電子注入層(1nm):真空蒸着法により、LiFを、得られる電子注入層
の厚みが1nmとなる量で、電子輸送層上に堆積させた。
(5)陰極(100nm):真空蒸着法により、アルミニウム(Al)を、得られる陰極の厚みが100nmとなる量で、電子注入層上に堆積させた。
(4) Electron injection layer (1 nm): LiF was deposited on the electron transport layer in an amount such that the thickness of the resulting electron injection layer was 1 nm by vacuum evaporation.
(5) Cathode (100 nm): Aluminum (Al) was deposited on the electron injection layer in an amount such that the thickness of the obtained cathode was 100 nm by vacuum deposition.

作製した積層体を、アルゴンガスで置換したグローブボックス内に入れ、ステンレス製の封止缶及び紫外線硬化型の接着剤(長瀬ケムテック(株)製のXNR5516)用いて封止することにより、実施例1の有機EL素子を作製した。   The prepared laminate was put in a glove box substituted with argon gas and sealed with a stainless steel sealing can and an ultraviolet curable adhesive (XNR5516 manufactured by Nagase Chemtech Co., Ltd.). 1 organic EL element was produced.

〔実施例2、3及び比較例1〜2〕
実施例1において、正孔輸送層の正孔輸送材1及び正孔輸送材2の質量比を表1に記載の割合に換えた以外は実施例1と同様の手順を行うことにより、実施例2、3及び比較例1〜2の有機EL素子を形成した。
[Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2]
In Example 1, the same procedure as in Example 1 was performed except that the mass ratio of the hole transport material 1 and the hole transport material 2 in the hole transport layer was changed to the ratio shown in Table 1. 2, 3 and the organic EL element of Comparative Examples 1-2 was formed.

〔比較例3〕
実施例1において、正孔輸送層を以下の正孔輸送層に置き換えた以外は、実施例1と同様の手順を行うことにより、比較例3の有機EL素子を形成した。
(1)正孔輸送層(50nm):基板を大気に曝露することなく真空蒸着装置へ取り付けた。また、モリブデン製抵抗加熱ボートにそれぞれ正孔輸送材1と正孔輸送材2を設置した。真空槽を4×10−5Paまで減圧した後、前記ボートに通電して加熱して正孔輸送材1と正孔輸送材2の重量比が50:50になるように蒸着速度を調整し、前記基板上に蒸着して、膜厚50nmの正孔輸送層を形成した。
[Comparative Example 3]
In Example 1, the organic EL element of the comparative example 3 was formed by performing the same procedure as Example 1 except having replaced the hole transport layer with the following hole transport layers.
(1) Hole transport layer (50 nm): The substrate was attached to a vacuum deposition apparatus without being exposed to the atmosphere. Moreover, the hole transport material 1 and the hole transport material 2 were installed in the molybdenum resistance heating boat, respectively. After depressurizing the vacuum chamber to 4 × 10 −5 Pa, the boat is energized and heated to adjust the deposition rate so that the weight ratio of the hole transport material 1 and the hole transport material 2 is 50:50. The hole transport layer having a film thickness of 50 nm was formed by vapor deposition on the substrate.

〔比較例4〕
実施例1において、正孔輸送層を以下の正孔輸送層に置き換えた以外は、実施例1と同様の手順を行うことにより、比較例3の有機EL素子を形成した。
(1)正孔輸送層(50nm):スピンコート法により、下記正孔輸送材1及び正孔輸送材2(質量比:50/50)のジクロロメタン溶液(固形分濃度:1質量%)を、得られる正孔輸送層の厚みが50nmとなる量で、透明陽極上に塗布した後、70℃,1時間の真空乾燥を行った。なお、正孔輸送材1及び正孔輸送材2は、昇華精製により精製がなされたものを使用した。
[Comparative Example 4]
In Example 1, the organic EL element of the comparative example 3 was formed by performing the same procedure as Example 1 except having replaced the hole transport layer with the following hole transport layers.
(1) Hole transport layer (50 nm): A dichloromethane solution (solid content concentration: 1% by mass) of the following hole transport material 1 and hole transport material 2 (mass ratio: 50/50) by spin coating, After coating on the transparent anode in such an amount that the thickness of the resulting hole transport layer was 50 nm, vacuum drying was performed at 70 ° C. for 1 hour. In addition, as the hole transport material 1 and the hole transport material 2, those purified by sublimation purification were used.

Figure 0005586254
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(有機EL素子の評価)
得られた実施例及び比較例の有機EL素子を下記の評価基準で評価した。評価結果を表1に示す。
(Evaluation of organic EL elements)
The obtained organic EL elements of Examples and Comparative Examples were evaluated according to the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Table 1.

<発光効率>
作製した有機EL素子をKEITHLEY製ソ−スメジャ−ユニット2400型を用いて、直流電圧を発光素子に印加し、輝度1000cd/mに発光させた。その発光スペクトルと光量をトプコン社製輝度計SR−3を用いて測定し、発光スペクトル、光量と測定時の電流から外部量子効率を計算した。
<Luminous efficiency>
A DC voltage was applied to the light emitting element using the source measure unit 2400 type manufactured by KEITHLEY, and the produced organic EL element was caused to emit light with a luminance of 1000 cd / m 2 . The emission spectrum and the amount of light were measured using a luminance meter SR-3 manufactured by Topcon Corporation, and the external quantum efficiency was calculated from the emission spectrum, the amount of light and the current at the time of measurement.

<駆動電圧>
作製した有機EL素子をKEITHLEY製ソ−スメジャ−ユニット2400型を用いて、直流電圧を発光素子に印加し、発光輝度1000cd/mに到達する電圧を駆動電圧として評価した。
<Drive voltage>
A DC voltage was applied to the light emitting element using the source measurement unit 2400 type manufactured by KEITHLEY, and the voltage reaching the light emission luminance of 1000 cd / m 2 was evaluated as a driving voltage.

<耐久性>
作製した有機EL素子をKEITHLEY製ソ−スメジャ−ユニット2400型を用いて、直流電圧を発光素子に印加し、初期輝度1000cd/mの条件で連続駆動試験を行い、輝度が半減した時間(輝度が500cd/mとなるまでの時間)を耐久時間を求め、比較例1を基準としてその相対値で比較した。
<Durability>
The produced organic EL device was subjected to a continuous drive test under a condition of initial luminance of 1000 cd / m 2 by applying a DC voltage to the light emitting device using a KEITHLEY source measure unit 2400 type. For the endurance time to obtain 500 cd / m 2, and the relative values were compared using Comparative Example 1 as a reference.

Figure 0005586254
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〔実施例4〜6及び比較例5〜6〕
実施例1において、正孔輸送材を表2に記載の正孔輸送材3及び正孔輸送材4に換え、表2の割合に換えた以外は実施例1と同様の手順を行うことにより、実施例4〜6及び比較例の有機EL素子を形成した。正孔輸送材3と正孔輸送材4のイオン化ポテンシャルの差:△Ipは0.3eVであった。
なお、輝度半減時間については。比較例5を基準として、相対比較を行った。
[Examples 4 to 6 and Comparative Examples 5 to 6]
In Example 1, the hole transporting material was changed to the hole transporting material 3 and the hole transporting material 4 listed in Table 2, and the same procedure as in Example 1 was performed except that the ratio in Table 2 was changed. The organic EL elements of Examples 4 to 6 and Comparative Example were formed. Difference in ionization potential between the hole transport material 3 and the hole transport material 4: ΔIp was 0.3 eV.
In addition, about brightness half time. Relative comparison was performed on the basis of Comparative Example 5.

〔比較例7〕
比較例3において、正孔輸送材を表2に記載の正孔輸送材3及び正孔輸送材4に換えた以外は比較例3と同様の手順を行うことにより、比較例7の有機EL素子を形成した。
〔比較例8〕
比較例4において、正孔輸送材を表2に記載の正孔輸送材3及び正孔輸送材4に換えた以外は比較例4と同様の手順を行うことにより、比較例8の有機EL素子を形成した。
[Comparative Example 7]
In Comparative Example 3, the same procedure as in Comparative Example 3 was performed except that the hole transporting material was changed to the hole transporting material 3 and the hole transporting material 4 shown in Table 2, so that the organic EL element of Comparative Example 7 was used. Formed.
[Comparative Example 8]
In Comparative Example 4, the same procedure as in Comparative Example 4 was performed except that the hole transporting material was changed to the hole transporting material 3 and the hole transporting material 4 shown in Table 2, so that the organic EL device of Comparative Example 8 was used. Formed.

Figure 0005586254
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Figure 0005586254
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〔実施例7〕
実施例1において、正孔輸送材1及び正孔輸送材2を下記正孔輸送材1及び正孔輸送材5に換えた以外は実施例1と同様の手順を行うことにより、実施例7の有機EL素子を形成した。正孔輸送材1と正孔輸送材5のイオン化ポテンシャルの差:△Ipは0.2eVであった。
Example 7
In Example 1, the same procedure as in Example 1 was performed except that the hole transport material 1 and the hole transport material 2 were replaced with the following hole transport material 1 and hole transport material 5, whereby An organic EL element was formed. Difference in ionization potential between hole transport material 1 and hole transport material 5: ΔIp was 0.2 eV.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

〔実施例8〕
実施例1において、正孔輸送材1及び正孔輸送材2を下記正孔輸送材1及び正孔輸送材6に換えた以外は実施例1と同様の手順を行うことにより、実施例8の有機EL素子を形成した。正孔輸送材1と正孔輸送材6のイオン化ポテンシャルの差:△Ipは0.1eVであった。
Example 8
In Example 1, the same procedure as in Example 1 was performed except that the hole transport material 1 and the hole transport material 2 were replaced with the following hole transport material 1 and hole transport material 6, whereby Example 8 An organic EL element was formed. Difference in ionization potential between the hole transport material 1 and the hole transport material 6: ΔIp was 0.1 eV.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

〔実施例9〕
実施例1において、正孔輸送材1及び正孔輸送材2を下記正孔輸送材1及び正孔輸送材7に換えた以外は実施例1と同様の手順を行うことにより、実施例9の有機EL素子を形成した。正孔輸送材1と正孔輸送材7のイオン化ポテンシャルの差:△Ipは0.6eVであった。
なお、(実施例7〜9)の輝度半減時間については、比較例1を基準として、相対比較を行った。
Example 9
In Example 1, the same procedure as in Example 1 was performed except that the hole transport material 1 and the hole transport material 2 were replaced with the following hole transport material 1 and hole transport material 7, whereby Example 9 An organic EL element was formed. Difference in ionization potential between hole transport material 1 and hole transport material 7: ΔIp was 0.6 eV.
In addition, about the brightness | luminance half time of (Examples 7-9), relative comparison was performed on the basis of the comparative example 1. FIG.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

Figure 0005586254
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〔比較例9〕
実施例1において、正孔輸送層の正孔輸送材1及び正孔輸送材2を下記正孔輸送材1及び正孔輸送材8(PTPDES2:ケミプロ化成製、質量平均分子量:15,000)に換えた以外は実施例1と同様の手順を行うことにより、比較例9の有機EL素子を形成した。正孔輸送材1と正孔輸送材8のイオン化ポテンシャルの差:△Ipは0.1eVであった。
なお、輝度半減時間については。比較例1を基準として、相対比較を行った。
[Comparative Example 9]
In Example 1, the hole transport material 1 and the hole transport material 2 of the hole transport layer were changed to the following hole transport material 1 and hole transport material 8 (PTPDES 2: manufactured by Chemipro Kasei Co., Ltd., mass average molecular weight: 15,000). The organic EL element of Comparative Example 9 was formed by performing the same procedure as in Example 1 except that the change was made. Difference in ionization potential between hole transport material 1 and hole transport material 8: ΔIp was 0.1 eV.
In addition, about brightness half time. Relative comparison was performed using Comparative Example 1 as a reference.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

Figure 0005586254
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〔比較例10〕
実施例1において、正孔輸送層の正孔輸送材1及び正孔輸送材2を下記正孔輸送材2及び正孔輸送材8(PTPDES2:ケミプロ化成製、質量平均分子量:15,000)に換えた以外は実施例1と同様の手順を行うことにより、比較例10の有機EL素子を形成した。正孔輸送材2と正孔輸送材8のイオン化ポテンシャルの差:△Ipは0.5eVであった。
なお、輝度半減時間については。比較例1を基準として、相対比較を行った。
[Comparative Example 10]
In Example 1, the hole transport material 1 and the hole transport material 2 of the hole transport layer were changed to the following hole transport material 2 and hole transport material 8 (PTPDES 2: manufactured by Chemipro Kasei Co., Ltd., mass average molecular weight: 15,000). The organic EL element of the comparative example 10 was formed by performing the same procedure as Example 1 except having changed. Difference in ionization potential between the hole transport material 2 and the hole transport material 8: ΔIp was 0.5 eV.
In addition, about brightness half time. Relative comparison was performed using Comparative Example 1 as a reference.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

Figure 0005586254
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〔実施例10〕
実施例1において、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層を、以下の正孔輸送層及び電子輸送層に置き換えた以外は、実施例1と同様の手順を行うことにより、実施例10の有機EL素子を形成した。電子輸送材1と電子輸送材2との電子親和力の差:△Eaは0.4eVであった。
Example 10
In Example 1, except that the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer were replaced with the following hole transport layer and electron transport layer, the same procedure as in Example 1 was performed, whereby An organic EL element was formed. Difference in electron affinity between the electron transport material 1 and the electron transport material 2: ΔEa was 0.4 eV.

(1)正孔輸送層(50nm):スプレー法により、PEDOT−PSS溶液((ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホン酸ドープ体)/(バイエル社製AI4083、質量平均分子量:100,000))の水溶液(固形分濃度:1質量%)を、得られる正孔輸送層の厚みが50nmとなる量で、透明陽極上に塗布した後、150℃、5時間の真空乾燥を行った。
(2)発光層(40nm):スプレー法により、下記ホスト2及び発光材2を質量比95:5で含有するキシレン溶液(固形分濃度:1質量%)を、得られる発光層の厚みが40nmとなる量で、正孔輸送層上に塗布した後、100℃,1時間の真空乾燥を行った。なお、ホスト材料1及び発光材料1は、それぞれ、昇華精製により精製がなされたものを使用した。
(3)電子輸送層(30nm):スプレー法により、電子輸送材1と電子輸送材2を質量比50:50で含有するトルエン溶液(固形分濃度:1質量%)を、得られる電子輸送層の厚みが30nmとなる量で、発光層上に塗布した後、100℃,1時間の真空乾燥を行った。なお、電子輸送材1と電子輸送材2は、それぞれ、昇華精製により精製がなされたものを使用した。
(1) Hole transport layer (50 nm): An aqueous solution of a PEDOT-PSS solution ((polyethylenedioxythiophene-polystyrene sulfonic acid dope) / (Bayer's AI4083, mass average molecular weight: 100,000)) by a spray method. (Solid content concentration: 1% by mass) was applied onto the transparent anode in such an amount that the resulting hole transport layer had a thickness of 50 nm, and then vacuum dried at 150 ° C. for 5 hours.
(2) Light-emitting layer (40 nm): A xylene solution (solid content concentration: 1% by mass) containing the following host 2 and light-emitting material 2 at a mass ratio of 95: 5 is obtained by a spray method. After coating on the hole transport layer in such an amount, vacuum drying was performed at 100 ° C. for 1 hour. In addition, as the host material 1 and the light emitting material 1, those purified by sublimation purification were used.
(3) Electron transport layer (30 nm): an electron transport layer obtained by a toluene solution (solid content concentration: 1% by mass) containing the electron transport material 1 and the electron transport material 2 at a mass ratio of 50:50 by a spray method. After coating on the light emitting layer in such an amount that the thickness of the film became 30 nm, vacuum drying was performed at 100 ° C. for 1 hour. In addition, as the electron transport material 1 and the electron transport material 2, those purified by sublimation purification were used.

〔実施例11、12及び比較例11〜12〕
実施例10において、電子輸送層の電子輸送材1と電子輸送材2の質量比を表6に記載の割合に換えた以外は実施例10と同様の手順を行うことにより、実施例11、12及び比較例11〜12の有機EL素子を形成した。
[Examples 11 and 12 and Comparative Examples 11 to 12]
In Example 10, the same procedure as in Example 10 was performed except that the mass ratio of the electron transport material 1 and the electron transport material 2 in the electron transport layer was changed to the ratio shown in Table 6, so that Examples 11 and 12 were performed. And the organic EL element of Comparative Examples 11-12 was formed.

〔比較例13〕
実施例10において、電子輸送層を以下の電子輸送層に置き換えた以外は、実施例10と同様の手順を行うことにより、比較例13の有機EL素子を形成した。
(3)電子輸送層(30nm):基板を大気に曝露することなく真空蒸着装置へ取り付けた。また、モリブデン製抵抗加熱ボートにそれぞれ電子輸送材1と電子輸送材2を設置した。真空槽を4×10−5Paまで減圧した後、前記ボートに通電して加熱して電子輸送材1と電子輸送材2の重量比が50:50になるように蒸着速度を調整し、前記基板上に蒸着して、膜厚30nmの電子輸送層を形成した。
〔比較例14〕
実施例10において、電子輸送層を以下の電子輸送層に置き換えた以外は、実施例10と同様の手順を行うことにより、比較例14の有機EL素子を形成した。
(3)電子輸送層(50nm):スピンコート法により、電子輸送材1及び電子輸送材2(質量比:50/50)のトルエン溶液(固形分濃度:1質量%)を、得られる正孔輸送層の厚みが30nmとなる量で、発光上に塗布した後、100℃,1時間の真空乾燥を行った。なお、電子輸送材1及び電子輸送材2は、昇華精製により精製がなされたものを使用した。
なお、輝度半減時間については。比較例11を基準として、相対比較を行った。
[Comparative Example 13]
In Example 10, the organic EL element of the comparative example 13 was formed by performing the same procedure as Example 10 except having replaced the electron carrying layer with the following electron carrying layers.
(3) Electron transport layer (30 nm): The substrate was attached to a vacuum deposition apparatus without being exposed to the atmosphere. Moreover, the electron transport material 1 and the electron transport material 2 were installed in the resistance heating boat made from molybdenum, respectively. After depressurizing the vacuum chamber to 4 × 10 −5 Pa, the boat is energized and heated to adjust the deposition rate so that the weight ratio of the electron transport material 1 and the electron transport material 2 is 50:50, It vapor-deposited on the board | substrate and formed the 30-nm-thick electron carrying layer.
[Comparative Example 14]
In Example 10, the organic EL element of the comparative example 14 was formed by performing the same procedure as Example 10 except having replaced the electron carrying layer with the following electron carrying layers.
(3) Electron transport layer (50 nm): Holes obtained from a toluene solution (solid content concentration: 1% by mass) of electron transport material 1 and electron transport material 2 (mass ratio: 50/50) by spin coating. After coating on light emission in such an amount that the thickness of the transport layer was 30 nm, vacuum drying was performed at 100 ° C. for 1 hour. In addition, the electron transport material 1 and the electron transport material 2 used what was refine | purified by sublimation refinement | purification.
In addition, about brightness half time. Relative comparison was performed using Comparative Example 11 as a reference.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

Figure 0005586254
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〔実施例13〕
実施例10において、電子輸送層の電子輸送材1と及び電子輸送材2を下記電子輸送層の電子輸送材2及び電子輸送材3に換えた以外は実施例10と同様の手順を行うことにより、実施例13の有機EL素子を形成した。電子輸送材2と電子輸送材3の電子親和力の差:△Eaは0.2eVであった。
Example 13
In Example 10, the same procedure as in Example 10 was performed, except that the electron transport material 1 and the electron transport material 2 of the electron transport layer were replaced with the electron transport material 2 and the electron transport material 3 of the following electron transport layer. The organic EL device of Example 13 was formed. Difference in electron affinity between the electron transport material 2 and the electron transport material 3: ΔEa was 0.2 eV.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

〔実施例14〕
実施例10において、電子輸送層の電子輸送材1及び電子輸送材2を下記電子輸送層の電子輸送材1及び電子輸送材3に換えた以外は実施例10と同様の手順を行うことにより、実施例14の有機EL素子を形成した。電子輸送材1と電子輸送材3の電子親和力の差:△Eaは0.6eVであった。
Example 14
In Example 10, the same procedure as in Example 10 was performed except that the electron transport material 1 and the electron transport material 2 of the electron transport layer were replaced with the electron transport material 1 and the electron transport material 3 of the following electron transport layer. The organic EL element of Example 14 was formed. Difference in electron affinity between the electron transport material 1 and the electron transport material 3: ΔEa was 0.6 eV.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

〔実施例15〕
実施例10において、電子輸送層の電子輸送材1及び電子輸送材2を下記電子輸送層の電子輸送材3及び電子輸送材4に換えた以外は実施例10と同様の手順を行うことにより、実施例15の有機EL素子を形成した。電子輸送材3と電子輸送材4の電子親和力の差:△Eaは0.1eVであった。
なお、(実施例13〜15)の輝度半減時間については。比較例11を基準として、相対比較を行った。
Example 15
In Example 10, the same procedure as in Example 10 was performed except that the electron transport material 1 and the electron transport material 2 of the electron transport layer were replaced with the electron transport material 3 and the electron transport material 4 of the following electron transport layer, The organic EL element of Example 15 was formed. Difference in electron affinity between the electron transport material 3 and the electron transport material 4: ΔEa was 0.1 eV.
In addition, about the brightness | luminance half time of (Examples 13-15). Relative comparison was performed using Comparative Example 11 as a reference.

Figure 0005586254
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Figure 0005586254
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〔比較例15〕
実施例10において、電子輸送層の電子輸送材1及び電子輸送材2を上記電子輸送層の電子輸送材3のみに換えた以外は実施例10と同様の手順を行うことにより、比較例12の有機EL素子を形成した。
[Comparative Example 15]
In Example 10, the same procedure as in Example 10 was performed, except that the electron transport material 1 and the electron transport material 2 of the electron transport layer were replaced with only the electron transport material 3 of the electron transport layer, whereby Comparative Example 12 An organic EL element was formed.

〔比較例16〕
実施例10において、電子輸送層の電子輸送材1及び電子輸送材2を上記電子輸送層の電子輸送材4のみに換えた以外は実施例10と同様の手順を行うことにより、比較例13の有機EL素子を形成した。
なお、(比較例15〜16)の輝度半減時間については。比較例11を基準として、相対比較を行った。
[Comparative Example 16]
In Example 10, the same procedure as in Example 10 was performed except that the electron transport material 1 and the electron transport material 2 in the electron transport layer were replaced with only the electron transport material 4 in the electron transport layer, whereby Comparative Example 13 An organic EL element was formed.
In addition, about the brightness | luminance half time of (Comparative Examples 15-16). Relative comparison was performed using Comparative Example 11 as a reference.

Figure 0005586254
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〔実施例16〕
(熱安定性試験)
実施例1,2,3の有機EL素子及び比較例1,2の有機EL素子について、それぞれ110℃で24時間熱処理し、その前後での発光効率及び駆動電圧を評価した。その結果を表9に示した。
Example 16
(Thermal stability test)
The organic EL elements of Examples 1, 2, and 3 and the organic EL elements of Comparative Examples 1 and 2 were each heat-treated at 110 ° C. for 24 hours, and the light emission efficiency and driving voltage before and after that were evaluated. The results are shown in Table 9.

Figure 0005586254
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実施例1〜3のEL素子は正孔輸送材1と正孔輸送材2が混合されているため、110℃で熱処理しても、外部量子効率、駆動電圧共に変動が少ない。一方、比較例1、比較例2素子は正孔輸送材1又は正孔輸送材2が単独で用いられており、これらのTgより高い温度で熱処理をすることにより、外部量子効率、駆動電圧が大幅に悪化した。(Tg(正孔輸送材1):95℃、Tg(正孔輸送材2):97℃)   In the EL elements of Examples 1 to 3, since the hole transport material 1 and the hole transport material 2 are mixed, even when heat treatment is performed at 110 ° C., both the external quantum efficiency and the driving voltage are small. On the other hand, in Comparative Example 1 and Comparative Example 2, the hole transport material 1 or the hole transport material 2 is used alone, and heat treatment is performed at a temperature higher than these Tg, so that the external quantum efficiency and the driving voltage are increased. Deteriorated significantly. (Tg (hole transport material 1): 95 ° C., Tg (hole transport material 2): 97 ° C.)

〔実施例201〕
(ゾーンメルト法による精製)
直径10mmパイレックス(登録商標)管に下記化合物201−1を10g入れ、油回転ポンプを用いて10Paで真空封入する。
Example 201
(Purification by zone melt method)
10 g of the following compound 201-1 is put into a 10 mm diameter Pyrex (registered trademark) tube, and vacuum sealed at 10 Pa using an oil rotary pump.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

つぎに、下降型ゾーンメルト法により1cm/minの移動速度、溶融帯4cmにて下降させることで精製を行った。得られた化合物を不活性雰囲気下にて、取り出し、遮光、不活性雰囲気下にて保管した。
同様にして、化合物201−2をゾーンメルト法により精製した。
Next, it refine | purified by making it descend | fall at the moving speed | rate of 1 cm / min and the melting zone of 4 cm by the descending zone melt method. The obtained compound was taken out under an inert atmosphere, stored in a light-shielded, inert atmosphere.
Similarly, compound 201-2 was purified by the zone melt method.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

(正孔輸送層塗布液201の調製)
化合物201−1を5質量部と、化合物201−2を5質量部とを、電子工業用キシレン(関東化学製)990質量部に溶解し、正孔輸送層塗布液201を調製した。
(Preparation of hole transport layer coating solution 201)
5 parts by mass of the compound 201-1 and 5 parts by mass of the compound 201-2 were dissolved in 990 parts by mass of xylene for electronic industry (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) to prepare a hole transport layer coating solution 201.

(有機EL素子201の作製)
25mm×25mm×0.7mmのガラス基板上にITOを150nmの厚さで蒸着し製膜したものを透明支持基板とした。この透明支持基板をエッチング、洗浄した。
このITOガラス基板上に、PTPDES−2(ケミプロ化成製)を2質量部と、シクロヘキサノンを98質量部に溶解した塗布液をスピンコートし、乾燥することで正孔注入層を成膜した(膜厚約40nm)。
その上に、正孔輸送層塗布液201を用いて、スプレー塗布により成膜し、正孔輸送層とした(膜厚約20nm)。乾燥は、真空下にて120℃、1時間行った。
次いで、その上に、真空蒸着法により、ホスト材としてCBPを、発光材料としてIr(ppy)を重量比で95:5となるように、発光層を成膜した。
次いで、その上に、真空蒸着法にてBAlqを膜厚40nmに蒸着し電子注入層とした。そして、この上にフッ化リチウムを1nm蒸着し、更に金属アルミニウムを70nm蒸着し、陰極とした。
作製した積層体を、アルゴンガスで置換したグロ−ブボックス内に入れ、ステンレス製の封止缶及び紫外線硬化型の接着剤(XNR5516HV、長瀬チバ(株)製)を用いて封止した。
(Preparation of organic EL element 201)
A transparent support substrate was obtained by depositing ITO to a thickness of 150 nm on a 25 mm × 25 mm × 0.7 mm glass substrate. This transparent support substrate was etched and washed.
On this ITO glass substrate, a coating solution in which 2 parts by mass of PTPDES-2 (manufactured by Chemipro Kasei) and 98 parts by mass of cyclohexanone were spin-coated and dried to form a hole injection layer (film) Thickness about 40 nm).
On top of this, a film was formed by spray coating using the hole transport layer coating solution 201 to form a hole transport layer (film thickness of about 20 nm). Drying was performed under vacuum at 120 ° C. for 1 hour.
Next, a light emitting layer was formed thereon by a vacuum deposition method so that CBP as a host material and Ir (ppy) 3 as a light emitting material were in a weight ratio of 95: 5.
Next, BAlq was vapor-deposited thereon with a film thickness of 40 nm by a vacuum vapor deposition method to form an electron injection layer. And 1 nm of lithium fluoride was vapor-deposited on this, and also metal aluminum was vapor-deposited 70 nm, and it was set as the cathode.
The produced laminate was put in a glove box substituted with argon gas, and sealed with a stainless steel sealing can and an ultraviolet curable adhesive (XNR5516HV, manufactured by CHIBA NAGASE Co., Ltd.).

Figure 0005586254
Figure 0005586254

〔比較例201−1〕
(正孔輸送層塗布液201−1の調製)
化合物201−1を10質量部と電子工業用キシレン(関東化学製)990質量部に混合、溶解し、正孔輸送層塗布液201−1を調製した。
(比較有機EL素子201−1の作製)
正孔輸送層塗布液を201−1に変更した以外には、実施例201と同様に有機EL素子201−1を作製した。
[Comparative Example 201-1]
(Preparation of hole transport layer coating solution 201-1)
Compound 201-1 was mixed and dissolved in 10 parts by mass and 990 parts by mass of xylene for electronics industry (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) to prepare a hole transport layer coating solution 201-1.
(Preparation of comparative organic EL element 201-1)
An organic EL element 201-1 was produced in the same manner as in Example 201 except that the hole transport layer coating solution was changed to 201-1.

〔比較例201−2〕
(正孔輸送層塗布液201−2の調製)
化合物202−1を10質量部と電子工業用キシレン(関東化学製)990質量部に混合、溶解し、正孔輸送層塗布液201−1を調製した。
(比較有機EL素子201−2の作製)
正孔輸送層塗布液を201−2に変更した以外には、実施例201と同様に有機EL素子201−2を作製した。
[Comparative Example 201-2]
(Preparation of hole transport layer coating solution 201-2)
Compound 202-1 was mixed and dissolved in 10 parts by mass and 990 parts by mass of xylene for electronics industry (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) to prepare a hole transport layer coating solution 201-1.
(Preparation of comparative organic EL element 201-2)
An organic EL element 201-2 was produced in the same manner as in Example 201 except that the hole transport layer coating solution was changed to 201-2.

〔素子評価〕
得られた素子に対し、上述の評価基準にて外部量子効率と素子耐久性の評価を行った。なお、評価結果は下記表10に比較例201−2の値を基準に、相対値で示した。
(Element evaluation)
The obtained devices were evaluated for external quantum efficiency and device durability according to the above-described evaluation criteria. In addition, the evaluation result was shown by the relative value on the basis of the value of Comparative Example 201-2 in the following Table 10.

Figure 0005586254
Figure 0005586254

ゾーンメルト精製した化合物を用いて、2種混合した正孔輸送層を用いることで、外部量子効率と素子耐久性が向上するのを確認できた。   It was confirmed that the external quantum efficiency and device durability were improved by using a hole transport layer obtained by mixing two kinds of compounds obtained by zone melt purification.

2 基板
3 陽極
4 正孔注入層
5 正孔輸送層
6 発光層
7 正孔ブロック層
8 電子輸送層
9 陰極
10 有機EL素子
11 封止容器
12 保護層
14 接着層
20 表示装置
30 光散乱部材
30A 光入射面
30B 光出射面
31 透明基板
32 微粒子
40 照明装置
2 Substrate 3 Anode 4 Hole injection layer 5 Hole transport layer 6 Light emitting layer 7 Hole blocking layer 8 Electron transport layer 9 Cathode 10 Organic EL element 11 Sealing container 12 Protective layer 14 Adhesive layer 20 Display device 30 Light scattering member 30A Light entrance surface 30B Light exit surface 31 Transparent substrate 32 Fine particles 40 Illumination device

Claims (10)

一対の電極間に発光層及び少なくとも一層の、発光層に隣接する層を有する有機電界発光素子であって、
該少なくとも一層の、発光層に隣接する層が、2種以上の分子量1500以下の低分子化合物を含む液によりスプレー法で形成されており、
前記2種以上の分子量1500以下の低分子化合物が2種以上の正孔輸送材料であり、
前記2種以上の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルの差が0.1eV以上0.6eV以下であり、
前記2種以上の正孔輸送材料がアリールアミン誘導体またはカルバゾール誘導体であることを特徴とする有機電界発光素子。
An organic electroluminescent device having a light emitting layer and at least one layer adjacent to the light emitting layer between a pair of electrodes,
The at least one layer adjacent to the light emitting layer is formed by a spray method using a liquid containing two or more kinds of low molecular compounds having a molecular weight of 1500 or less ,
The two or more kinds of low molecular weight compounds having a molecular weight of 1500 or less are two or more kinds of hole transport materials,
The difference in ionization potential between the two or more hole transport materials is 0.1 eV or more and 0.6 eV or less,
2. The organic electroluminescence device according to claim 2, wherein the two or more hole transport materials are arylamine derivatives or carbazole derivatives .
前記少なくとも一層の、発光層に隣接する層が正孔輸送層であることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。   The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the at least one layer adjacent to the light emitting layer is a hole transport layer. 前記2種以上の分子量1500以下の低分子化合物が、第1の低分子化合物と第2の低分子化合物の2種の化合物であり、その混合割合が質量比で20:80〜80:20であることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機電界発光素子。   The two or more kinds of low molecular weight compounds having a molecular weight of 1500 or less are two kinds of compounds of a first low molecular weight compound and a second low molecular weight compound, and the mixing ratio is 20:80 to 80:20 in mass ratio. The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the organic electroluminescent element is provided. 前記少なくとも一層の、発光層に隣接する層が電子輸送層であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の有機電界発光素子。The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the at least one layer adjacent to the light emitting layer is an electron transport layer. 前記電子輸送層が、2種以上の電子輸送材料を含む液により形成されたことを特徴とする請求項4に記載の有機電界発光素子。The organic electroluminescent element according to claim 4, wherein the electron transport layer is formed of a liquid containing two or more kinds of electron transport materials. 前記2種以上の電子輸送材料の電子親和力の差が0.1eV以上0.6eV以下であることを特徴とする請求項5に記載の有機電界発光素子。The organic electroluminescence device according to claim 5, wherein a difference in electron affinity between the two or more electron transport materials is 0.1 eV or more and 0.6 eV or less. 一対の電極間に発光層及び少なくとも一層の、発光層に隣接する層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、A method for producing an organic electroluminescent device comprising a light emitting layer and at least one layer adjacent to a light emitting layer between a pair of electrodes,
該少なくとも一層の発光層に隣接する層が、2種以上の分子量1500以下の低分子化合物を含む液によりスプレー法で形成されており、The layer adjacent to the at least one light emitting layer is formed by a spray method using a liquid containing two or more low molecular weight compounds having a molecular weight of 1500 or less,
前記2種以上の分子量1500以下の低分子化合物が2種以上の正孔輸送材料であり、The two or more kinds of low molecular weight compounds having a molecular weight of 1500 or less are two or more kinds of hole transport materials,
前記2種以上の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルの差が0.1eV以上0.6eV以下であり、The difference in ionization potential between the two or more hole transport materials is 0.1 eV or more and 0.6 eV or less,
前記2種以上の正孔輸送材料がアリールアミン誘導体またはカルバゾール誘導体であることを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。The method for producing an organic electroluminescent device, wherein the two or more hole transport materials are arylamine derivatives or carbazole derivatives.
前記発光層及び前記発光層に隣接する層の各々を、前記スプレー法により形成することを特徴とする請求項7に記載の有機電界発光素子の製造方法。8. The method of manufacturing an organic electroluminescent element according to claim 7, wherein each of the light emitting layer and the layer adjacent to the light emitting layer is formed by the spray method. 請求項1〜6のいずれかに記載の有機電界発光素子、又は、請求項7または8に記載の有機電界発光素子の製造方法から得られた有機電界発光素子を具備する表示装置。A display device comprising the organic electroluminescent element according to claim 1 or the organic electroluminescent element obtained from the method for producing an organic electroluminescent element according to claim 7 or 8. 請求項1〜6のいずれかに記載の有機電界発光素子、又は、請求項7または8に記載の有機電界発光素子の製造方法から得られた有機電界発光素子を具備する照明装置。The illuminating device which comprises the organic electroluminescent element in any one of Claims 1-6, or the organic electroluminescent element obtained from the manufacturing method of the organic electroluminescent element of Claim 7 or 8.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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CN104247076B (en) * 2012-04-20 2017-03-01 株式会社半导体能源研究所 Light-emitting component, light-emitting device, electronic equipment and illuminator
EP2688117A1 (en) * 2012-07-20 2014-01-22 Solvay Sa Process for forming a layer of an organic electronic device
JP2014187283A (en) * 2013-03-25 2014-10-02 Kaneka Corp Organic el device
TWI577070B (en) * 2014-10-27 2017-04-01 Lg 化學股份有限公司 Organic electroluminescent element
MY197350A (en) * 2016-05-31 2023-06-14 Philip Morris Products Sa Fluid permeable heater assembly for aerosol-generating systems
US20240114786A1 (en) * 2019-10-04 2024-04-04 Idemitsu Kosan Co.,Ltd. Organic electroluminescence device and electronic apparatus
WO2022209812A1 (en) * 2021-03-31 2022-10-06 出光興産株式会社 Organic electroluminescent element, electronic device and composition

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4961412B2 (en) * 2003-11-10 2012-06-27 淳二 城戸 ORGANIC ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC ELEMENT
WO2007049631A1 (en) * 2005-10-28 2007-05-03 Nissan Chemical Industries, Ltd. Charge-transporting varnish for spray or inkjet application
JP4718372B2 (en) * 2006-05-19 2011-07-06 旭化成株式会社 Electronic device manufacturing method and electronic device
JP5244378B2 (en) * 2007-12-21 2013-07-24 株式会社日立製作所 Organic light emitting display
US8617722B2 (en) * 2008-02-22 2013-12-31 Showa Denko K.K. Polymer compound and organic electroluminescence element using the same

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