JP5582464B2 - Method for producing metal nanosheet, and metal nanosheet - Google Patents

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Description

本発明は、金属ナノシートの製造方法、および当該製造方法により得られた金属ナノシートに関するものである。   The present invention relates to a method for producing a metal nanosheet, and a metal nanosheet obtained by the production method.

ナノシートとは、通常、厚さがナノメートルオーダーであるのに対して、横サイズがその数十倍から数百倍以上という高い異方性を持つ2次元物質である。かかるナノシートは、母相の機能性(導電性、半導体的性質、誘電性等)を継承するだけでなく、触媒反応等に必要な広い比表面積を有する。また、ナノシートは、一次元の量子サイズ効果を発現する等、際立った物性を示すことがある。さらに、ナノシートは、一度分離させたナノシートを機能性ブロックとして再び3次元的に集積化し、熱力学的には達成できない人工超格子状のナノ構造材料を構築することにより、物性・特性を自在に制御できる可能性を秘めている。それ故、ナノシートについては、これまで分子線ビームエピタキシー等の気相合成技術が主流であった超格子アプローチを液相で展開できるため、製品性能だけでなく合成ルートの視点からも、エネルギー・デバイス分野を中心とした産業界から高い関心を集めている。   A nanosheet is a two-dimensional material having a high anisotropy such that the lateral size is several tens to several hundreds or more, while the thickness is usually on the order of nanometers. Such nanosheets not only inherit the functionality of the matrix (conductivity, semiconducting properties, dielectric properties, etc.) but also have a large specific surface area required for catalytic reactions and the like. In addition, the nanosheet may exhibit outstanding physical properties such as a one-dimensional quantum size effect. Furthermore, nanosheets can be reconfigured in three dimensions as functional blocks, once separated nanosheets, to construct physical superlattice-like nanostructured materials that cannot be achieved thermodynamically. It has the potential to be controlled. Therefore, for nanosheets, the superlattice approach, which has so far been the mainstream of gas-phase synthesis techniques such as molecular beam epitaxy, can be developed in the liquid phase. It has attracted a lot of interest from industry, especially in the field.

かかるナノシートの合成方法に関しては、
合成方法(1):分子、イオン等から成長させる方法
合成方法(2):層状化合物を単層剥離する方法
が提案されている。
Regarding the method of synthesizing such nanosheets,
Synthesis method (1): Method of growing from molecules, ions, etc. Synthesis method (2): A method of separating a layered compound into a single layer has been proposed.

これらの合成方法(1)、(2)は、金属化合物のナノシートの合成に向けて検討されてきたものであるが、液相反応を利用して白金や金等といった貴金属のナノシートを製造する技術も提案されている(特許文献1、2参照)   These synthesis methods (1) and (2) have been studied for the synthesis of nanosheets of metal compounds, but a technique for producing nanosheets of noble metals such as platinum and gold using a liquid phase reaction. Has also been proposed (see Patent Documents 1 and 2).

特開2006−228450号公報JP 2006-228450 A 特開2008−57023号公報JP 2008-57023 A

前記した応用展開のためには、ナノシートのラインナップや拡充は必要不可欠である。特に、既存のナノシートとは全く異なった性状を有するナノシートの誕生は、新たなナノシート材料の応用展開を切り開く鍵となることから、その合成手法を含めて先駆的な探索が重要な課題となっている。   For the application development described above, the lineup and expansion of nanosheets is indispensable. In particular, the birth of nanosheets with completely different properties from existing nanosheets is the key to opening up the application development of new nanosheet materials, so pioneering search including their synthesis methods is an important issue. Yes.

しかしながら、金属ナノシートについては、極めて一部の金属について実現されたと報告されているだけで、ナノシートのラインナップや拡充を図るには不十分である。一方、上記の合成方法(2)については、ホスト層の層間に異種イオンや溶媒分子などを挿入させてホスト層を無限膨潤させる必要があるため、従来、ナノシートの出発物質は熱力学的に合成された結晶性の層状化合物(硫化物系、酸化物系、水酸化物系、炭素系)、あるいは自然界に存在する粘土鉱物を前駆体にした金属化合物ナノシートを合成するのに限られており、金属ナノシートを得るための方法としては着目されていないのが現状である。   However, it has only been reported that metal nanosheets have been realized for a very small portion of metal, and this is insufficient for the lineup and expansion of nanosheets. On the other hand, in the above synthesis method (2), since it is necessary to infinitely swell the host layer by inserting different ions or solvent molecules between the layers of the host layer, conventionally, the starting material of the nanosheet has been synthesized thermodynamically. Limited to synthesizing crystalline layered compounds (sulfide-based, oxide-based, hydroxide-based, carbon-based) or metal compound nanosheets with clay minerals existing in nature as precursors, At present, no attention has been paid to methods for obtaining metal nanosheets.

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、金属化合物の層状化合物を前駆体として利用することにより各種の金属ナノシートを製造することのできる金属ナノシートの製造方法、およびかかる方法で製造された金属ナノシートを提供することにある。   In view of the above-described problems, the object of the present invention is to produce a metal nanosheet capable of producing various metal nanosheets by using a layered compound of a metal compound as a precursor, and produced by such a method. It is to provide a metal nanosheet.

上記課題を解決するため、本願発明者らは、鋭意研究した結果、原子拡散を抑制しながらホスト層一枚一枚の還元反応を進行させることにより、層状化合物のラメラ構造を大きく壊すことなく、金属ナノシートあるいはその積層体を得ることができることを知見したものである。本発明はこれらの一連の知見に基づいてなされたものであり、厚みが1nm以下で、シート平面方向における寸法が30nm以上の2次元異方性を兼ね備えた金属ナノシート、およびその製造方法を提供するものである。   In order to solve the above problems, the inventors of the present invention have made extensive studies and, as a result, by proceeding the reduction reaction of each of the host layers while suppressing atomic diffusion, the lamellar structure of the layered compound is not greatly broken, It has been found that a metal nanosheet or a laminate thereof can be obtained. The present invention has been made on the basis of these series of findings, and provides a metal nanosheet having a thickness of 1 nm or less and a two-dimensional anisotropy having a dimension in the sheet plane direction of 30 nm or more, and a method for producing the metal nanosheet. Is.

まず、本発明の金属ナノシートの製造方法は、少なくとも、金属化合物が層状に重なる層状化合物を準備する層状化合物準備工程と、原子拡散を抑制する条件によりトポタクティックな構造相転移を経由して前記金属化合物を還元し、前記層状化合物を前駆体とし、当該層状化合物の前記金属化合物の原子配列を反映した、厚さが1nm以下で、シート平面方向における寸法が30nm以上の金属ナノシートを得る還元工程と、を有し、前記金属化合物は、ルテニウム、チタン、ニオブ、バナジウム、マンガン、コバルト、およびモリブデンのうちのいずれか一つの硫化物、酸化物または水酸化物であることを特徴とする。 First, the method for producing a metal nanosheet according to the present invention includes at least a layered compound preparing step of preparing a layered compound in which the metal compound is layered, and the above-described structural phase transition via a topological structure phase transition depending on conditions for suppressing atomic diffusion. Reduction to obtain a metal nanosheet having a thickness of 1 nm or less and a dimension in the sheet plane direction of 30 nm or more reflecting the atomic arrangement of the metal compound of the layered compound by reducing the metal compound as a precursor a step, was perforated, the metal compound is ruthenium, titanium, niobium, vanadium, manganese, cobalt, and any one of a sulfide of molybdenum, characterized in that an oxide or hydroxide.

本発明によれば、層状化合物を構成する金属化合物を還元することにより、層状化合物を前駆体とする金属ナノシートを製造するという新たな技術であり、各種の金属ナノシートを製造することができる。従って、触媒や薄膜形成材料、塗膜等といった各種分野への応用を図るのに必要なナノシートのラインナップや拡充を大幅に実現することができる。また、本発明によれば、原子拡散を抑制しながらホスト層一枚一枚の還元反応を進行させることができるため、層状化合物のラメラ構造を大きく壊すことなく、金属ナノシートあるいはその積層体を得ることができる。それ故、既存の金属クラスターサイズに匹敵する1nm以下の厚みを有し、シート平面方向には30nm以上、例えば、数μmのサイズを有する金属ナノシートを実現することができる。   According to this invention, it is a new technique of manufacturing the metal nanosheet which makes a layered compound a precursor by reducing the metal compound which comprises a layered compound, and various metal nanosheets can be manufactured. Therefore, it is possible to greatly realize the nanosheet lineup and expansion necessary for application to various fields such as catalysts, thin film forming materials, and coating films. In addition, according to the present invention, since the reduction reaction of each host layer can proceed while suppressing atomic diffusion, a metal nanosheet or a laminate thereof can be obtained without greatly destroying the lamellar structure of the layered compound. be able to. Therefore, a metal nanosheet having a thickness of 1 nm or less comparable to the existing metal cluster size and a size of 30 nm or more, for example, several μm in the sheet plane direction can be realized.

本発明において、前記還元工程では、例えば、前記層状化合物を単層剥離させてなる金属化合物ナノシートの状態、あるいは前記層状化合物の状態で、前記金属化合物を還元して、単層あるいは複層の前記金属ナノシートを得る。   In the present invention, in the reduction step, for example, the metal compound is reduced in the state of a metal compound nanosheet obtained by peeling the layered compound in a single layer, or in the state of the layered compound, so that the single layer or the multilayer is formed. A metal nanosheet is obtained.

本発明において、前者の方法を採用する場合、前記層状化合物準備工程を行なった後、前記還元工程の前に、前記層状化合物を単層剥離させて前記金属化合物ナノシートを得る単層剥離工程を行い、前記還元工程では、当該金属化合物ナノシートの状態で前記金属化合物を還元する。   In the present invention, when the former method is employed, after performing the layered compound preparation step, before the reduction step, a single layer peeling step is performed in which the layered compound is peeled off to obtain the metal compound nanosheet. In the reduction step, the metal compound is reduced in the state of the metal compound nanosheet.

この場合、前記単層剥離工程の後、前記還元工程の前に、前記金属化合物ナノシートを堆積させて薄膜を形成する堆積工程を行い、前記還元工程では、前記金属化合物ナノシートの薄膜の状態で前記金属化合物を還元してもよい。   In this case, after the single layer peeling step and before the reduction step, a deposition step of depositing the metal compound nanosheet to form a thin film is performed, and in the reduction step, the metal compound nanosheet is in a thin film state. The metal compound may be reduced.

本発明において、後者の方法を採用する場合、前記還元工程において、前記層状化合物の状態で前記金属化合物を還元して前記金属ナノシートが複数積層した金属ナノシート構造体を得る。この場合、前記還元工程の後、前記ナノシート構造体を単層の前記金属ナノシートに単層剥離させる単層剥離工程を行なってもよい。   In the present invention, when the latter method is adopted, in the reduction step, the metal compound is reduced in the state of the layered compound to obtain a metal nanosheet structure in which a plurality of the metal nanosheets are laminated. In this case, after the reduction step, a single layer peeling step of peeling the nanosheet structure into a single layer of the metal nanosheet may be performed.

本発明において、前記還元工程では、還元性雰囲気下での焼成処理を用いることが好ましい。かかる還元性雰囲気は、例えば、水素含有雰囲気等によって実現することができる。   In the present invention, it is preferable to use a baking treatment in a reducing atmosphere in the reduction step. Such a reducing atmosphere can be realized by, for example, a hydrogen-containing atmosphere.

本発明において、前記還元工程では、還元性溶液を用いた湿式処理を用いてもよい。かかる還元性溶液は、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)等の溶液によって実現することができる。 In the present invention, a wet process using a reducing solution may be used in the reduction step. Such a reducing solution can be realized by a solution such as sodium borohydride (NaBH 4 ).

本発明において、前記金属化合物は、例えば、ルテニウム、チタン、ニオブ、バナジウム、マンガン、コバルト、モリブデン等の金属の硫化物、金属酸化物、金属水酸化物である。また、前記金属化合物は、粘土鉱物であってもよい。   In the present invention, the metal compound is, for example, a sulfide, metal oxide, or metal hydroxide of a metal such as ruthenium, titanium, niobium, vanadium, manganese, cobalt, or molybdenum. The metal compound may be a clay mineral.

本発明によれば、層状化合物を構成する金属化合物を還元することにより、層状化合物を前駆体とする金属ナノシートを製造するという新たな技術であり、各種の金属ナノシートを製造することができる。従って、触媒や薄膜形成材料、塗膜等といった各種分野への応用を図るのに必要なナノシートのラインナップや拡充を大幅に実現することができる。また、本発明によれば、原子拡散を抑制しながらホスト層一枚一枚の還元反応を進行させることができるため、層状化合物のラメラ構造を大きく壊すことなく、金属ナノシートあるいはその積層体を得ることができる。それ故、既存の金属クラスターサイズに匹敵する1nm以下の厚みを有し、シート平面方向には30nm以上、例えば、数μmのサイズを有する金属ナノシートを実現することができる。かかる2次元異方性は、母相の機能性(導電性、半導体的性質、誘電性等)を継承するだけでなく、一次元の量子サイズ効果を発現する等、際立った物性が期待できる。また、本発明を適用した金属ナノシートは、巨大な比表面積を有しているため、触媒としての利用や、薄膜材料やコーティング材としての利用を可能とする。さらに、金属ナノシートは工業的に重要な金属材料として機能性に優れることから、これを用いて作製したナノ構造体は電極や触媒材料等として有用である。   According to this invention, it is a new technique of manufacturing the metal nanosheet which makes a layered compound a precursor by reducing the metal compound which comprises a layered compound, and various metal nanosheets can be manufactured. Therefore, it is possible to greatly realize the nanosheet lineup and expansion necessary for application to various fields such as catalysts, thin film forming materials, and coating films. In addition, according to the present invention, since the reduction reaction of each host layer can proceed while suppressing atomic diffusion, a metal nanosheet or a laminate thereof can be obtained without greatly destroying the lamellar structure of the layered compound. be able to. Therefore, a metal nanosheet having a thickness of 1 nm or less comparable to the existing metal cluster size and a size of 30 nm or more, for example, several μm in the sheet plane direction can be realized. Such two-dimensional anisotropy can be expected not only to inherit the functionality of the matrix (conductivity, semiconducting properties, dielectric properties, etc.), but also to exhibit outstanding physical properties such as a one-dimensional quantum size effect. Moreover, since the metal nanosheet to which the present invention is applied has a huge specific surface area, it can be used as a catalyst, or as a thin film material or a coating material. Furthermore, since a metal nanosheet is excellent in functionality as an industrially important metal material, a nanostructure produced using the metal nanosheet is useful as an electrode or a catalyst material.

本発明の実施の形態1に係る金属ナノシートの製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2に係る金属ナノシートの製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、K型層状酸化ルテニウムを用いた場合の層状化合物準備工程および単層剥離工程の説明図である。In the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Example 1 of this invention, it is explanatory drawing of the layered compound preparation process at the time of using a K-type layered ruthenium oxide, and a single layer peeling process. 本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、Na型層状酸化ルテニウムを用いた場合の層状化合物準備工程および単層剥離工程の説明図である。In the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Example 1 of this invention, it is explanatory drawing of the layered compound preparation process at the time of using Na type layered ruthenium oxide, and a single layer peeling process. 本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法で行なう酸化ルテニウムナノシートの堆積工程の説明図である。It is explanatory drawing of the deposition process of the ruthenium oxide nanosheet performed with the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、酸化ルテニウムナノシートを堆積させた後の様子をAFMにより観察した様子を示す説明図である。In the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Example 1 of this invention, it is explanatory drawing which shows a mode that the mode after depositing a ruthenium oxide nanosheet was observed by AFM. 本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)に対して行なう還元工程の説明図である。It is explanatory drawing of the reduction process performed with respect to the ruthenium oxide nanosheet (K induction | guidance | derivation type) in the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)に還元工程を行なって得た金属ルテニウムナノシートをAFMにより観察した様子を示す説明図である。In the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Example 1 of this invention, it is explanatory drawing which shows a mode that the metal ruthenium nanosheet obtained by performing a reduction | restoration process to a ruthenium oxide nanosheet (K induction type) was observed by AFM. 本発明の実施例1の参考例に係る金属ナノシートの製造方法において、酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)に焼成を行なった後のX線回折パターンを示す説明図である。In the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on the reference example of Example 1 of this invention, it is explanatory drawing which shows the X-ray-diffraction pattern after baking to a ruthenium oxide nanosheet (K induction | guidance | derivation type). 本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、酸化ルテニウムナノシート(Na誘導型)に対して行なう還元工程の説明図である。It is explanatory drawing of the reduction | restoration process performed with respect to the ruthenium oxide nanosheet (Na induction | guidance | derivation type) in the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例2に係る金属ナノシートの製造方法で行なう還元工程の説明図である。It is explanatory drawing of the reduction | restoration process performed with the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Example 2 of this invention. 本発明の実施例3に係る金属ナノシートの製造方法で行なう還元工程の説明図である。It is explanatory drawing of the reduction process performed with the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Example 3 of this invention.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

<実施の形態1>
図1は、本発明の実施の形態1に係る金属ナノシートの製造方法を示す工程図であり、図1(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る金属ナノシートの製造方法において、金属化合物を自己組織化等の手段で堆積させる堆積工程を行なわない場合の工程図、および堆積工程を行なう場合の工程図である。
<Embodiment 1>
FIG. 1 is a process diagram illustrating a method for producing a metal nanosheet according to Embodiment 1 of the present invention, and FIGS. 1 (a) and 1 (b) each illustrate production of a metal nanosheet according to Embodiment 1 of the present invention. In the method, there are a process diagram in the case where a deposition process for depositing a metal compound by means such as self-organization is not performed, and a process chart in a case where a deposition process is performed.

図1(a)に示すように、本形態の金属ナノシートの製造方法では、少なくとも、金属硫化物、金属酸化物、あるいは金属水酸化物等の金属化合物が層状に重なる層状化合物を準備する層状化合物準備工程ST10と、金属化合物を還元して層状化合物を前駆体とする金属ナノシートを得る還元工程ST40とを行なう。層状化合物としては粘土鉱物を用いてもよい。還元工程ST40では、水素含有雰囲気等の還元性雰囲気下での焼成処理や、水素化ホウ素ナトリウム等を含む還元性溶液を用いた湿式処理を用いる。   As shown in FIG. 1A, in the method for producing a metal nanosheet of this embodiment, at least a layered compound for preparing a layered compound in which a metal compound such as a metal sulfide, a metal oxide, or a metal hydroxide is layered is prepared. Preparation step ST10 and reduction step ST40 for reducing the metal compound to obtain a metal nanosheet having a layered compound as a precursor are performed. Clay minerals may be used as the layered compound. In the reduction process ST40, a firing process in a reducing atmosphere such as a hydrogen-containing atmosphere or a wet process using a reducing solution containing sodium borohydride or the like is used.

本形態において、還元工程ST40では、金属化合物ナノシートの状態で金属化合物を還元して金属ナノシートを得る。このため、層状化合物準備工程ST10を行なった後、還元工程ST40の前に、層状化合物を単層剥離させて金属化合物ナノシートを得る単層剥離工程ST20を行う。   In this embodiment, in the reduction step ST40, the metal compound is reduced in the state of the metal compound nanosheet to obtain a metal nanosheet. For this reason, after performing layered compound preparatory process ST10, before layering process ST40, single layer peeling process ST20 which makes a layered compound peel a single layer, and obtains a metal compound nanosheet is performed.

また、図1(b)に示すように、単層剥離工程ST20の後、還元工程ST40の前に、金属化合物ナノシートを自己組織化的に堆積させて薄膜を形成する堆積工程ST30を行い、還元工程ST40では、金属化合物ナノシートの薄膜の状態で金属化合物を還元して金属ナノシートを得てもよい。   Further, as shown in FIG. 1 (b), after the single layer peeling step ST20, and before the reduction step ST40, a deposition step ST30 is performed in which a metal compound nanosheet is deposited in a self-organized manner to form a thin film. In step ST40, the metal compound may be reduced in the state of a thin film of the metal compound nanosheet to obtain a metal nanosheet.

これらいずれの場合でも、単層剥離工程ST20では、層状化合物の層間に異種イオンあるいは溶媒分子を挿入して層間を広げる無限膨潤化処理(ソフト化学反応)を利用すればよい。   In any of these cases, in the monolayer peeling step ST20, an infinite swelling process (soft chemical reaction) may be used in which different ions or solvent molecules are inserted between layers of the layered compound to expand the layers.

<実施の形態2>
図2は、本発明の実施の形態2に係る金属ナノシートの製造方法を示す工程図である。図2に示すように、本形態では、実施の形態1と同様、少なくとも、金属硫化物、金属酸化物、あるいは金属水酸化物等の金属化合物が層状に重なる層状化合物を準備する層状化合物準備工程ST10と、金属化合物を還元して層状化合物を前駆体とする金属ナノシートを得る還元工程ST40とを行なう。層状化合物としては粘土鉱物を用いてもよい。還元工程ST40では、水素含有雰囲気等の還元性雰囲気下での焼成処理や、水素化ホウ素ナトリウム等を含む還元性溶液を用いた湿式処理を用いる。
<Embodiment 2>
FIG. 2 is a process diagram showing a method for producing a metal nanosheet according to Embodiment 2 of the present invention. As shown in FIG. 2, in this embodiment, as in the first embodiment, a layered compound preparation step of preparing a layered compound in which at least a metal compound such as a metal sulfide, a metal oxide, or a metal hydroxide is layered is prepared. ST10 and reduction step ST40 for obtaining a metal nanosheet using a layered compound as a precursor by reducing the metal compound are performed. Clay minerals may be used as the layered compound. In the reduction process ST40, a firing process in a reducing atmosphere such as a hydrogen-containing atmosphere or a wet process using a reducing solution containing sodium borohydride or the like is used.

本形態において、還元工程ST40では、層状化合物の状態で金属化合物を還元して金属ナノシートが複数積層した金属ナノシート構造体を得る。このため、本形態では、還元工程ST40の後、ナノシート構造体を単層の金属ナノシートに単層剥離させる単層剥離工程ST50を行なえば、単層の金属ナノシートを得ることができる。   In this embodiment, in the reduction step ST40, the metal compound is reduced in the state of a layered compound to obtain a metal nanosheet structure in which a plurality of metal nanosheets are laminated. For this reason, in this embodiment, a single-layer metal nanosheet can be obtained by performing a single-layer peeling step ST50 in which the nanosheet structure is separated into a single-layer metal nanosheet after the reduction step ST40.

また、単層剥離工程ST50を容易に行なうことを目的に、層状化合物準備工程ST10の後、還元工程ST40の前に、層状化合物の層間に異種イオンあるいは溶媒分子を挿入して層間を広げる無限膨潤化処理を行なうことが好ましい。かかる無限膨潤化処理は、還元工程ST40の後に行なってもよく、この場合、超音波処理等を介して金属ナノシート構造体の層間に異種イオンあるいは溶媒分子を挿入して金属ナノシート構造体の層間を広げることになる。   In addition, for the purpose of facilitating the single-layer peeling step ST50, an infinite swelling that expands the layer by inserting different ions or solvent molecules between the layers of the layered compound after the layered compound preparation step ST10 and before the reduction step ST40. It is preferable to perform the conversion process. Such infinite swelling may be performed after the reduction step ST40. In this case, different ions or solvent molecules are inserted between the layers of the metal nanosheet structure via ultrasonic treatment or the like, and the layers of the metal nanosheet structure are inserted. Will spread.

<実施例1>
本発明の実施例1として、図1(b)を参照して説明した実施の形態1に係る方法により、酸化ルテニウム(金属化合物)の層状化合物から金属ルテニウムナノシート(金属ナノシート)を製造する方法を説明する。
<Example 1>
As Example 1 of the present invention, a method for producing a metal ruthenium nanosheet (metal nanosheet) from a layered compound of ruthenium oxide (metal compound) by the method according to Embodiment 1 described with reference to FIG. explain.

[層状化合物準備工程ST10および単層剥離工程ST20]
図3は、本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、K型層状酸化ルテニウムを用いた場合の層状化合物準備工程ST10および単層剥離工程ST20の説明図である。図4は、本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、Na型層状酸化ルテニウムを用いた場合の層状化合物準備工程ST10および単層剥離工程ST20の説明図である。
[Layered Compound Preparation Step ST10 and Single Layer Stripping Step ST20]
FIG. 3 is an explanatory diagram of a layered compound preparation step ST10 and a single layer peeling step ST20 when K-type layered ruthenium oxide is used in the method for manufacturing a metal nanosheet according to Example 1 of the present invention. FIG. 4 is an explanatory diagram of a layered compound preparation step ST10 and a single layer peeling step ST20 when Na-type layered ruthenium oxide is used in the method for producing a metal nanosheet according to Example 1 of the present invention.

図3に示すように、本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法では、K型層状酸化ルテニウム(層状化合物)を用いる。このため、層状化合物準備工程ST10においては、酸化ルテニウムと炭酸カリウムをモル比8:5の割合となるように量り取り、メノウ乳鉢を用いてアセトン中で1時間湿式混合する。次に、錠剤成型器を用いて混合粉末をペレット化した後、ペレットをアルミナボートにのせ、管状炉にてアルゴン流通下で850℃、12時間焼成する。次に、ペレットを粉砕した後、イオン交換蒸留水で洗浄し、上澄み液を取り除く。かかる操作を上澄み液が中性になるまで繰り返したものをK型層状酸化ルテニウム(層状化合物)とする。次に、K型層状酸化ルテニウムに1MのHClを加え、60℃のウォーターバス内で72時間酸処理を行なう。次に、イオン交換蒸留水で洗浄し上澄み液を取り除く。かかる操作を上澄み液が中性になるまで繰り返し、ろ過後に得られた粉末をK誘導型の水素型層状酸化ルテニウム(H0.2RuO2.1・0.9H2O)とする。 As shown in FIG. 3, in the manufacturing method of the metal nanosheet which concerns on Example 1 of this invention, K-type layered ruthenium oxide (layered compound) is used. For this reason, in the layered compound preparation step ST10, ruthenium oxide and potassium carbonate are weighed out in a molar ratio of 8: 5 and wet-mixed in acetone for 1 hour using an agate mortar. Next, after the mixed powder is pelletized using a tablet molding machine, the pellet is placed on an alumina boat and baked at 850 ° C. for 12 hours in a tubular furnace under argon flow. Next, after pulverizing the pellet, the pellet is washed with ion-exchanged distilled water, and the supernatant is removed. What repeated this operation until a supernatant liquid becomes neutral is set as K type | mold layered ruthenium oxide (layered compound). Next, 1M HCl is added to K-type layered ruthenium oxide, and acid treatment is performed in a water bath at 60 ° C. for 72 hours. Next, the supernatant is removed by washing with ion exchange distilled water. This operation is repeated until the supernatant becomes neutral, and the powder obtained after filtration is converted to K-derived hydrogen-type layered ruthenium oxide (H 0.2 RuO 2.1 · 0.9H 2 O).

次に、単層剥離工程ST20では、水素型層状酸化ルテニウムに10%TBAOH水溶液をTBA+/H+=5、あるいはTBA+/H+=10の比で加えて、10日間振り続けた後、遠心分離(2000 rpm、30 min)により上澄み液を回収したものを酸化ルテニウムナノシート水分散液とする。すなわち、本形態では、水素型層状酸化ルテニウムをエチルアミンで処理することなく、水素型層状酸化ルテニウムのプロトンに直接反応させて、プロトンをテトラブチルアンモニウムイオンに置換し、層状酸化ルテニウムの層間を拡張させることにより、層状酸化ルテニウムを無限膨潤させる(無限膨潤化処理)。その結果、酸化ルテニウムナノシート(金属化合物ナノシート)が単層剥離するので、酸化ルテニウムナノシートを得ることができる。 Next, in the single layer peeling step ST20, a 10% TBAOH aqueous solution was added to the hydrogen-type layered ruthenium oxide at a ratio of TBA + / H + = 5 or TBA + / H + = 10 and shaken for 10 days. The supernatant recovered by centrifugation (2000 rpm, 30 min) is used as an aqueous dispersion of ruthenium oxide nanosheets. That is, in this embodiment, without reacting hydrogen-type layered ruthenium oxide with ethylamine, the hydrogen-type layered ruthenium oxide is directly reacted with protons of hydrogen-type layered ruthenium oxide, the protons are replaced with tetrabutylammonium ions, and the layers of layered ruthenium oxide are expanded. Thus, the layered ruthenium oxide is infinitely swollen (infinite swelling treatment). As a result, the ruthenium oxide nanosheet (metal compound nanosheet) is peeled off as a single layer, so that the ruthenium oxide nanosheet can be obtained.

(Na型層状酸化ルテニウムを用いた例)
本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、Na型層状酸化ルテニウムを用いる場合、図4に示すように、層状化合物準備工程ST10では、まず、Ru、RuO2、Na2CO3をそれぞれモル比1:3:2で秤量する。次に、RuとRuO2をメノウ乳鉢で粉砕・混合し、その後、Na2CO3を加えて再度、粉砕・混合を行なう。得られた混合粉体を錠剤成型器を用いてペレット化し、Ar雰囲気下で700℃、1時間仮焼成する。次に、ペレットをグローブボックス内でメノウ乳鉢を用いて粉砕・混合する。得られた粉末を再度、錠剤成型器を用いて粉末をペレット化し、Ar雰囲気下で900℃、12時間本焼成したものをNa型層状酸化ルテニウム(層状化合物)とする。次に、層状酸化ルテニウム(ナトリウム型)に過硫酸ナトリウムをNaRuO2:Na2S2O8=1:1 (モル比)となるように加え、1 g(NaRuO2+ Na2S2O8)/200mlの割合で水を加えて酸化させる。
(Example using Na-type layered ruthenium oxide)
In the method for producing a metal nanosheet according to Example 1 of the present invention, when Na-type layered ruthenium oxide is used, as shown in FIG. 4, in the layered compound preparation step ST10, first, Ru, RuO 2 , Na 2 CO 3 are added. Weigh in a molar ratio of 1: 3: 2, respectively. Next, Ru and RuO 2 are pulverized and mixed in an agate mortar, and then Na 2 CO 3 is added and pulverized and mixed again. The obtained mixed powder is pelletized using a tablet molding machine and calcined at 700 ° C. for 1 hour in an Ar atmosphere. Next, the pellet is pulverized and mixed in the glove box using an agate mortar. The obtained powder is again pelletized by using a tablet molding machine, and the main fired material at 900 ° C. for 12 hours in an Ar atmosphere is defined as Na-type layered ruthenium oxide (layered compound). Next, sodium persulfate is added to layered ruthenium oxide (sodium type) so that NaRuO 2 : Na 2 S 2 O 8 = 1: 1 (molar ratio), and 1 g (NaRuO 2 + Na 2 S 2 O 8). ) / Add water at a rate of 200ml to oxidize.

次に、粉体を吸引ろ過で回収した後、1M塩酸を加え、60℃のウォーターバス内で24時間酸処理をする。その後、イオン交換蒸留水で洗浄し上澄み液を取り除くことで得られた粉末をNa誘導型の水素型層状酸化ルテニウム(H0.2RuO2・0.5H2O)とする。 Next, after collecting the powder by suction filtration, 1M hydrochloric acid is added, and acid treatment is performed in a water bath at 60 ° C. for 24 hours. Thereafter, the powder obtained by washing with ion-exchanged distilled water and removing the supernatant is used as Na-derived hydrogen-type layered ruthenium oxide (H 0.2 RuO 2 .0.5H 2 O).

次に、単層剥離工程ST20では、水素型層状酸化ルテニウムに10%TBAOH水溶液をTBA+/H+=1〜10の比で加えて、10日間振り続けた後、遠心分離(2000 rpm、30 min)により上澄み液を回収したものを酸化ルテニウムナノシート(金属化合物ナノシート)の水分散液とした(無限膨潤化処理)。 Next, in the single layer peeling step ST20, a 10% TBAOH aqueous solution is added to the hydrogen-type layered ruthenium oxide at a ratio of TBA + / H + = 1 to 10 and shaken for 10 days, followed by centrifugation (2000 rpm, 30 The supernatant recovered by min) was used as an aqueous dispersion of ruthenium oxide nanosheets (metal compound nanosheets) (infinite swelling treatment).

[自己組織化による堆積工程ST30]
金属化合物ナノシートの堆積方法としては、自己組織化法、ラングミュア−ブロジェット法、電気泳動法等が考案されているが、環境低負荷かつ工業的な観点から容易に単層を取り出すことができるという観点からすると、自己組織化法を採用することが望ましい。図5は、本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法で行なう酸化ルテニウムナノシートの堆積工程ST30の説明図である。図6は、本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、酸化ルテニウムナノシートを堆積させた後の様子を示す説明図であり、図6(a)、(b)は各々、K誘導型の酸化ルテニウムナノシートを堆積させた後の様子をAFM(原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope)により観察した様子を示す説明図、およびNa誘導型の酸化ルテニウムナノシートを堆積させた後の様子をAFMにより観察した様子を示す説明図である。
[Deposition process ST30 by self-organization]
Self-organization method, Langmuir-Blodgett method, electrophoresis method, etc. have been devised as the deposition method of metal compound nanosheets, but it can be easily taken out from the industrial viewpoint with low environmental load. From the viewpoint, it is desirable to adopt the self-organization method. FIG. 5 is an explanatory diagram of a ruthenium oxide nanosheet deposition step ST30 performed by the metal nanosheet manufacturing method according to Example 1 of the present invention. FIG. 6 is an explanatory view showing a state after depositing a ruthenium oxide nanosheet in the method for producing a metal nanosheet according to Example 1 of the present invention, and FIGS. 6 (a) and 6 (b) each show a K induction. Of an AFM (Atomic Force Microscope) after depositing a ruthenium oxide nanosheet of a type, and AFM after depositing a Na-derived ruthenium oxide nanosheet It is explanatory drawing which shows a mode observed by these.

まず、シリコン基板、石英基板、ガラス基板の3種類の基板をHCl/メタノール(30分間)、超純水(30分間)、H2SO4/メタノール(30分間)に浸漬させた後、超純水で中性になるまで洗浄し、超純水中に基板を保存しておく。 First, three types of substrates, a silicon substrate, a quartz substrate, and a glass substrate, were immersed in HCl / methanol (30 minutes), ultrapure water (30 minutes), and H 2 SO 4 / methanol (30 minutes). Wash the substrate with water until it is neutral, and store the substrate in ultrapure water.

次に、上記の基板(シリコン基板、石英基板、ガラス基板)に対して、交互積層法(LBL法)により水素型酸化ルテニウムナノシート(K誘導型およびNa誘導型)を自己組織化により堆積させる堆積工程ST30を行なう。   Next, deposition is carried out on the above substrates (silicon substrate, quartz substrate, glass substrate) by self-organization of hydrogen-type ruthenium oxide nanosheets (K-derivative type and Na-derivative type) by the alternate lamination method (LBL method). Step ST30 is performed.

本形態では、図5(a)、(b)に示すように、基板をポリカチオン水溶液(両親媒性のカチオン性ポリマーの水溶液)に浸漬して正電荷層を形成した後、超純水で3回に分けて基板を洗浄し、窒素ガンで基板上の水滴を飛ばす。   In this embodiment, as shown in FIGS. 5A and 5B, after the substrate is immersed in an aqueous polycation solution (an aqueous solution of an amphiphilic cationic polymer) to form a positive charge layer, The substrate is washed in three steps, and water drops on the substrate are blown with a nitrogen gun.

次に、金属化合物ナノシートのコロイド溶液(酸化ルテニウムナノシートの水分散液)に基板を浸漬した後、3回にわけて超純水で洗浄し、しかる後に、窒素ガンで基板上の水滴を飛ばす。   Next, after immersing the substrate in a colloidal solution of metal compound nanosheets (an aqueous dispersion of ruthenium oxide nanosheets), the substrate is washed three times with ultrapure water, and then water droplets on the substrate are blown off with a nitrogen gun.

その結果、基板上には酸化ルテニウムナノシートの単層膜(薄膜)が形成される。酸化ルテニウムナノシート多層膜(薄膜)を作製する場合は、上記の積層作業を繰り返す。   As a result, a monolayer film (thin film) of ruthenium oxide nanosheets is formed on the substrate. When producing a ruthenium oxide nanosheet multilayer film (thin film), the above laminating operation is repeated.

より具体的には、ポリカチオンとしてポリビニルアミン14%と、ポリビニルアルコール86%との共重合体(以下PVA共重合(polyvinohol)共重合体という)1wt%水溶液を用いる。まず、表面を親水化した基板(シリコン基板、石英基板、ガラス基板)をPVA共重合体水溶液に10分間浸すことで、基板表面をポリカチオンでコーティングする。   More specifically, a 1 wt% aqueous solution of a copolymer of polyvinylamine 14% and polyvinyl alcohol 86% (hereinafter referred to as a PVA copolymer (polyvinohol) copolymer) is used as a polycation. First, a substrate having a hydrophilic surface (silicon substrate, quartz substrate, glass substrate) is immersed in an aqueous solution of PVA copolymer for 10 minutes to coat the substrate surface with polycation.

次に、アニオン性である酸化ルテニウムナノシートのコロイド溶液に基板を浸すことにより自己組織化的に酸化ルテニウムナノシートを基板上に吸着させ、酸化ルテニウムナノシート単層膜を作製する。かかる方法によれば、ナノシート被覆率が85%以上の条件で基板に酸化ルテニウムナノシートを堆積させることができる。   Next, the ruthenium oxide nanosheet is adsorbed on the substrate in a self-organized manner by immersing the substrate in a colloidal solution of ruthenium oxide nanosheets that are anionic to produce a ruthenium oxide nanosheet monolayer film. According to this method, the ruthenium oxide nanosheet can be deposited on the substrate under the condition that the nanosheet coverage is 85% or more.

かかる堆積工程ST30において、酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)の水分散液の濃度は0.3g・L-1、pHは11、浸漬時間は20分である。かかる条件によれば、図6(a)に示すように、横サイズがサブミクロンから数ミクロン、厚みが約1.2〜1.4 nm程度の酸化ルテニウムナノシートが基板上に単層の薄膜の状態で吸着される。 In the deposition step ST30, the concentration of the ruthenium oxide nanosheet (K-derived type) in the aqueous dispersion is 0.3 g · L −1 , the pH is 11, and the immersion time is 20 minutes. Under such conditions, as shown in FIG. 6A, the ruthenium oxide nanosheet having a lateral size of submicron to several microns and a thickness of about 1.2 to 1.4 nm is adsorbed on the substrate in the form of a single layer thin film. The

一方、酸化ルテニウムナノシート(Na誘導型)を用いる場合、堆積工程ST30において、酸化ルテニウムナノシート水分散液の濃度は0.3g・L-1、pHは11、浸漬時間は20分である。かかる条件によれば、図6(b)に示すように、横サイズがサブミクロンから数ミクロン、厚みが約1.2〜1.5 nm程度の酸化ルテニウムナノシートが基板上に単層の薄膜の状態で吸着される。 On the other hand, when the ruthenium oxide nanosheet (Na-derived type) is used, in the deposition step ST30, the concentration of the ruthenium oxide nanosheet aqueous dispersion is 0.3 g · L −1 , the pH is 11, and the immersion time is 20 minutes. Under such conditions, as shown in FIG. 6B, the ruthenium oxide nanosheet having a lateral size of submicron to several microns and a thickness of about 1.2 to 1.5 nm is adsorbed on the substrate in the form of a single layer thin film. The

このように本形態では、自己組織化反応によって酸化ルテニウムナノシート(アニオン性のナノシート)を吸着させる際、基板表面上に形成される正電荷層がPVA共重合体からなり、かかるPVA共重合体は、カチオン部(NH2 +)、親水部(OH)および疎水部(−CH2−CH2−)を備えた両親媒性である。このため、石英基板表面やガラス基板表面等といった親水性表面にナノシートとポリマーとの複合薄膜を形成することができる。また、PET(Polyethylene terephthalate)基板表面やPE(Polyethylene)フィルム表面等といった疎水性表面にもナノシートとポリマーとの複合薄膜を形成することができる。さらに、カチオン部、親水部および疎水部を備えた共重合体ポリマー(PVA共重合体)を用いたため、カチオン部、親水部および疎水部の割合を変えれば、正電荷層の電荷密度を調整することができる。 As described above, in this embodiment, when ruthenium oxide nanosheets (anionic nanosheets) are adsorbed by a self-assembly reaction, the positive charge layer formed on the substrate surface is made of a PVA copolymer, and the PVA copolymer is , Amphiphilic with a cationic part (NH 2 + ), a hydrophilic part (OH) and a hydrophobic part (—CH 2 —CH 2 —). For this reason, the composite thin film of a nanosheet and a polymer can be formed on a hydrophilic surface such as a quartz substrate surface or a glass substrate surface. Moreover, the composite thin film of a nanosheet and a polymer can also be formed on a hydrophobic surface such as a PET (Polyethylene terephthalate) substrate surface or a PE (Polyethylene) film surface. Further, since a copolymer polymer (PVA copolymer) having a cation part, a hydrophilic part and a hydrophobic part is used, the charge density of the positive charge layer is adjusted by changing the ratio of the cation part, the hydrophilic part and the hydrophobic part. be able to.

[還元工程ST40]
図7は、本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)に対して行なう還元工程ST40の説明図であり、図7(a)、(b)は各々、還元工程前の酸化ルテニウムナノシートのX線回折パターンを示す説明図、および酸化ルテニウムナノシートに各種温度で還元工程を行なった後のX線回折パターンを示す説明図である。図8は、本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において、酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)に還元工程を行なって得た金属ルテニウムナノシートをAFMにより観察した様子を示す説明図であり、図8(a)、(b)は、基板上に形成された金属ルテニウムナノシートの5μm角の部分を観察した様子を示す説明図、および3μm角の部分を観察した様子を示す説明図である。
[Reduction Step ST40]
FIG. 7 is an explanatory diagram of a reduction step ST40 performed on a ruthenium oxide nanosheet (K-derived type) in the method for producing a metal nanosheet according to Example 1 of the present invention, and FIGS. It is explanatory drawing which shows the X-ray-diffraction pattern of a ruthenium oxide nanosheet before a reduction process, respectively, and explanatory drawing which shows the X-ray-diffraction pattern after performing a reduction | restoration process at various temperatures to a ruthenium oxide nanosheet. FIG. 8 is an explanatory view showing a state in which a metal ruthenium nanosheet obtained by performing a reduction process on a ruthenium oxide nanosheet (K-derived type) is observed by AFM in the method for producing a metal nanosheet according to Example 1 of the present invention. FIGS. 8A and 8B are an explanatory diagram showing a state where a 5 μm square portion of a metal ruthenium nanosheet formed on a substrate is observed, and an explanatory diagram showing a state where a 3 μm square portion is observed. .

なお、図9は、本発明の実施例1の参考例に係る金属ナノシートの製造方法において、酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)に焼成を行なった後のX線回折パターンを示す説明図であり、図9(a)、(b)各々は、酸化ルテニウムナノシートを酸素含有雰囲気下で焼成したときの説明図、および酸化ルテニウムナノシートを不活性雰囲気下で焼成したときの説明図である。   FIG. 9 is an explanatory diagram showing an X-ray diffraction pattern after firing the ruthenium oxide nanosheet (K induction type) in the metal nanosheet manufacturing method according to the reference example of Example 1 of the present invention. 9A and 9B are an explanatory diagram when the ruthenium oxide nanosheet is fired in an oxygen-containing atmosphere, and an explanatory diagram when the ruthenium oxide nanosheet is fired in an inert atmosphere.

まず、未焼成の酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)の単層膜のin-plane回折パターン(図7(a)参照)は、2次元斜格子で帰属することができた。格子定数をリファインしたところ、a=0.5610(8) nm、b=0.5121(6) nm、γ=109.4(2)°となった。   First, the in-plane diffraction pattern (see FIG. 7A) of a single layer film of unfired ruthenium oxide nanosheets (K induction type) could be attributed by a two-dimensional oblique lattice. When the lattice constant was refined, a = 0.5610 (8) nm, b = 0.5121 (6) nm, and γ = 109.4 (2) °.

次に、酸化ルテニウムナノシートの単層膜を、5℃/minの昇温速度でそれぞれ200、300、400、500、600、700、800、900℃まで加熱し、到達した温度で2時間保持した後、自然冷却した。その際、還元雰囲気下(実施例)、酸素含有雰囲気下(参考例)、不活性雰囲気下(参考例)で焼成を行なった。   Next, the monolayer film of the ruthenium oxide nanosheet was heated to 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, and 900 ° C., respectively, at a temperature rising rate of 5 ° C./min, and held at the reached temperature for 2 hours. After that, it was naturally cooled. At that time, firing was performed in a reducing atmosphere (Example), an oxygen-containing atmosphere (Reference Example), and an inert atmosphere (Reference Example).

(還元雰囲気下での焼成/実施例)
まず、還元雰囲気としての水素ガスフロー下で酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)の単層膜を焼成したところ、図7(b)に示すように、200℃ではナノシートの回折線が消失し、ブロードな2本のピークが検出された。これらの2本のピークはそれぞれ金属ルテニウム(六方晶a ≒0.27 nm)の(1 0 0)と(1 1 0)に帰属できることから、基板に対してa軸が水平方向に配向している、つまり基板に対してc軸が垂直配向した金属ルテニウムが生成していることが示唆された。
(Firing under reducing atmosphere / Example)
First, when a monolayer film of a ruthenium oxide nanosheet (K-derived type) was fired under a hydrogen gas flow as a reducing atmosphere, the diffraction line of the nanosheet disappeared at 200 ° C. as shown in FIG. Two peaks were detected. Since these two peaks can be attributed to (1 0 0) and (1 1 0) of the metal ruthenium (hexagonal crystal a ≈ 0.27 nm), the a axis is oriented in the horizontal direction with respect to the substrate. In other words, it was suggested that metal ruthenium with the c-axis oriented perpendicular to the substrate was generated.

さらに加熱温度を上げると、c軸配向した金属ルテニウムの回折線が強くなっており、結晶性が良くなっていることが示された。このとき、(1 0 1)の回折線が検出されるようになり、多結晶成分の金属ルテニウムもわずかに生成していることがわかった。   When the heating temperature was further increased, the diffraction line of c-axis-oriented metal ruthenium became stronger, indicating that the crystallinity was improved. At this time, the diffraction line of (1 0 1) came to be detected, and it was found that a small amount of polycrystalline metal ruthenium was also generated.

また、図8(a)、(b)に示した200℃で金属化した薄膜のAFMによる形状像から、元のナノシートの内部で小さなシート状物質が生成していることがわかった。同観察像から50 nm以下のシートサイズと約0.8 nmの厚みを持った金属ルテニウムナノ結晶(金属ルテニウムナノシート)であることがわかった。この観測された厚みは、従来知られている種々の酸化物ナノシートのそれと比べ非常に薄く、酸素をリリースし金属化を反映したものと解釈することができる。   Further, from the shape image of the thin film metallized at 200 ° C. shown in FIGS. 8A and 8B by AFM, it was found that a small sheet-like substance was generated inside the original nanosheet. From the observed image, it was found that the metal ruthenium nanocrystal (metal ruthenium nanosheet) had a sheet size of 50 nm or less and a thickness of about 0.8 nm. This observed thickness is much thinner than that of various conventionally known oxide nanosheets and can be interpreted as reflecting the release of oxygen and metallization.

また、小さな異方性ナノ結晶が生成する理由として、a = 0.5610(8) nm、b = 0.5121(6) nm、γ=109.4(2)°の2次元格子定数を有する酸化ルテニウムナノシートから、a≒0.27nmの六方格子を持つc軸配向の金属ルテニウムが生成する際、激しいシートサイズの収縮・破断を伴うためであると考えられる。   The reason why small anisotropic nanocrystals are formed is that a ruthenium oxide nanosheet having a two-dimensional lattice constant of a = 0.5610 (8) nm, b = 0.5121 (6) nm, and γ = 109.4 (2) ° This is presumably because c-axis-oriented metal ruthenium having a hexagonal lattice of ≈0.27 nm is accompanied by severe sheet size shrinkage and breakage.

(酸素含有雰囲気下での焼成/参考例)
これに対して、空気フロー下で酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)の単層膜を焼成したところ、図9(a)に示すように、200℃までは変化が見られなかったが、300℃で加熱したところナノシートの回折線に加え多結晶のルチル型RuO2に帰属される回折線が観測された。このルチル型RuO2の回折線の強度は、加熱温度(≦700℃)の上昇に伴って大きくなり、ナノシートの回折線は消失した。さらに、800℃以上加熱したところ、ルチル型RuO2の回折線が極端に弱くなり、900℃まで至ると完全に回折線が消失した。これは大気下で酸化されることによって揮発性のRuO4が生成したものと考えることができる。この結果から、大気下の焼成過程ではナノシートが一度多結晶のルチル型RuO2に相転移し、その後RuO2が酸化され揮発性のRuO4が生成することが示唆された。
(Baking in an oxygen-containing atmosphere / Reference example)
On the other hand, when the monolayer film of ruthenium oxide nanosheet (K induction type) was baked under air flow, no change was seen up to 200 ° C. as shown in FIG. In addition to the nanosheet diffraction lines, diffraction lines belonging to polycrystalline rutile RuO 2 were observed. The intensity of the rutile RuO 2 diffraction line increased with increasing heating temperature (≦ 700 ° C.), and the nanosheet diffraction line disappeared. Furthermore, when heated to 800 ° C. or higher, the rutile RuO 2 diffraction line became extremely weak, and when reaching 900 ° C., the diffraction line disappeared completely. This can be considered that volatile RuO 4 was generated by oxidation in the atmosphere. This result suggests that the nanosheet once undergoes phase transition to polycrystalline rutile-type RuO 2 during firing in the atmosphere, and then RuO 2 is oxidized to produce volatile RuO 4 .

(不活性雰囲気下での焼成/参考例)
また、不活性雰囲気としてのアルゴンガスフロー下で酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)の単層膜を焼成したところ、図9(b)に示すように、200℃までは変化が見られなかったが、300℃で加熱したところナノシートの回折線がほとんど消失した。さらに400℃以上加熱すると多結晶のルチル型RuO2に帰属される回折線が観測され、温度が800℃に至るまで強度が増加した。加熱温度が900℃になると、多結晶の金属ルテニウムに帰属される回折パターンが観測された。つまり、ナノシートが一度多結晶のルチル型RuO2に相転移し、その後RuO2が還元され多結晶の金属ルテニウムが生成することがわかった。
(Baking in an inert atmosphere / reference example)
In addition, when a monolayer film of ruthenium oxide nanosheet (K induction type) was baked under an argon gas flow as an inert atmosphere, no change was seen up to 200 ° C. as shown in FIG. 9B. When heated at 300 ° C., the diffraction lines of the nanosheet almost disappeared. Furthermore, when heated above 400 ° C, diffraction lines attributed to polycrystalline rutile RuO 2 were observed, and the intensity increased until the temperature reached 800 ° C. When the heating temperature reached 900 ° C., a diffraction pattern attributed to polycrystalline metal ruthenium was observed. In other words, it was found that the nanosheet once transformed into polycrystalline rutile-type RuO 2 , and then RuO 2 was reduced to produce polycrystalline metal ruthenium.

[実施例1の主な効果]
以上説明したように、実施例1での酸化ルテニウムナノシートの還元温度は、不活性雰囲気の場合の900℃と比べて非常に低く、生成した金属ルテニウムがc軸配向している点において興味深い。原子が2次元に束縛された酸化チタンナノシート単層膜では、大気下の加熱において800℃まで構造を保つという安定性を有し、さらに900℃以上の加熱でc軸配向アナターゼを生成するという特異な結晶成長を示すことが知られている。これは原子の熱による拡散によって説明されている。
[Main effects of Example 1]
As described above, the reduction temperature of the ruthenium oxide nanosheet in Example 1 is very low compared to 900 ° C. in the case of an inert atmosphere, and is interesting in that the produced metal ruthenium is c-axis oriented. Titanium oxide nanosheet monolayer film in which atoms are constrained in two dimensions has the stability of maintaining the structure up to 800 ° C when heated in the atmosphere, and also generates c-axis oriented anatase when heated above 900 ° C It is known to show a good crystal growth. This is explained by atomic thermal diffusion.

かかるケースと比べると、酸化ルテニウムナノシートはいずれの雰囲気においても構造変化を起こす温度は200℃〜300℃と極端に低いため、原子の熱による拡散は少ないものと捉えることができる。そのため、少なからず起きる酸素のリリースによるシートサイズの収縮・破断によっても、大きく原子が動くことなく元のシート構造あるいは層状構造を反映した金属ナノシートが生成するものと考えられる。同時に、これは同じ元素種の出発物質でもその2次元構造の違いによって、生成する金属ナノシートの横サイズを変えられることを示している。   Compared to such a case, since the temperature at which the ruthenium oxide nanosheet undergoes structural change in any atmosphere is extremely low, 200 ° C. to 300 ° C., it can be considered that the diffusion of atoms due to heat is small. For this reason, it is considered that metal nanosheets reflecting the original sheet structure or layered structure are generated without significant movement of atoms even when the sheet size shrinks or breaks due to the release of oxygen. At the same time, this shows that even the starting material of the same element type can change the lateral size of the resulting metal nanosheet due to the difference in its two-dimensional structure.

なお、本例では、酸化ルテニウムに対して低温還元焼成を行なったが、ケミカルな還元剤を用いたソフトな条件下で酸化物、水酸化物、硫化物等のナノシートを金属化することで、トポタクティックな反応を誘発し、新しい金属ナノシートを生み出すことができると考えられる。また、水酸化物でしか作れないナノシートを金属化して金属ナノシートを製造した後、金属ナノシートを再酸化すれば、新しい酸化物ナノシートの合成が可能となる。   In this example, low-temperature reduction firing was performed on ruthenium oxide, but by softening a nanosheet of oxide, hydroxide, sulfide, etc. under soft conditions using a chemical reducing agent, It is thought that a topological reaction can be induced and a new metal nanosheet can be produced. In addition, if a nanosheet that can only be made of hydroxide is metallized to produce a metal nanosheet, then the metal nanosheet is re-oxidized, whereby a new oxide nanosheet can be synthesized.

[酸化ルテニウムナノシート(Na誘導型)に対する還元工程ST40]
図10は、本発明の実施例1に係る金属ナノシートの製造方法において酸化ルテニウムナノシート(Na誘導型)に対して行なう還元工程の説明図であり、図10(a)、(b)、(c)は各々、還元工程前の酸化ルテニウムのX線回折パターンを示す説明図、酸化ルテニウムに還元工程を行なって得た金属ルテニウムナノシートの5μm角の部分をAFMにより観察した様子を示す説明図、および3μm角の部分をAFMにより観察した様子を示す説明図である。
[Reduction Step ST40 for Ruthenium Oxide Nanosheet (Na-Induced Type)]
FIG. 10 is an explanatory diagram of a reduction process performed on a ruthenium oxide nanosheet (Na-derived type) in the method for producing a metal nanosheet according to Example 1 of the present invention, and FIGS. 10 (a), 10 (b), and 10 (c). ) Is an explanatory view showing an X-ray diffraction pattern of ruthenium oxide before the reduction step, an explanatory view showing a state where a 5 μm square portion of the metal ruthenium nanosheet obtained by performing the reduction step on ruthenium oxide is observed by AFM, and It is explanatory drawing which shows a mode that the part of 3 micrometers square was observed by AFM.

上記実施例では、K誘導型の酸化ルテニウムナノシートに対する還元工程ST40を説明したが、Na誘導型の酸化ルテニウムナノシートに対して還元工程ST40を行なった場合でも、略同様な結果を得ることができる。Na誘導型の酸化ルテニウムナノシートの単層膜を焼成するにあたっては、水素ガス雰囲気下で5℃/minの昇温速度でそれぞれ200、 300、400、500、600、700、800、900℃まで加熱し、到達した温度で2時間保持した後自然冷却した。   In the above embodiment, the reduction step ST40 for the K-derived ruthenium oxide nanosheet has been described, but substantially the same results can be obtained even when the reduction step ST40 is performed on the Na-derived ruthenium oxide nanosheet. When firing a monolayer film of Na-derived ruthenium oxide nanosheets, it is heated to 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, and 900 ° C, respectively, at a heating rate of 5 ° C / min in a hydrogen gas atmosphere. The mixture was kept at the reached temperature for 2 hours and then naturally cooled.

まず、未焼成の酸化ルテニウムナノシート(Na誘導型)の単層膜のin-plane回折パターンは、図10(a)に示すとおりであり、2次元六方格子で帰属することができた。格子定数をリファインしたところ、a=0.2929(6)nmとなった。これを還元雰囲気となる水素ガスフロー下で焼成し、AFM観察を行った結果を図10(b)、(c)に示す。   First, the in-plane diffraction pattern of the unbaked ruthenium oxide nanosheet (Na-derived type) single-layer film was as shown in FIG. 10A, and could be attributed to a two-dimensional hexagonal lattice. When the lattice constant was refined, a = 0.929 (6) nm was obtained. This was baked under a hydrogen gas flow serving as a reducing atmosphere, and the results of AFM observation are shown in FIGS. 10 (b) and 10 (c).

図10(b)、(c)に示すように、焼成後、元のナノシートの外形を保った厚み0.8nm程度の金属ルテニウムナノシートが形成されていることが示唆される。この厚さの減少は、K誘導型の酸化ルテニウムナノシートの単層膜を加熱した際にも観測されており、還元によって酸素がリリースされたものと考えることができる。   As shown in FIGS. 10B and 10C, it is suggested that after firing, a metal ruthenium nanosheet having a thickness of about 0.8 nm maintaining the original shape of the nanosheet is formed. This decrease in thickness is also observed when a single-layer film of a K-induced ruthenium oxide nanosheet is heated, and it can be considered that oxygen is released by reduction.

ここで、K誘導型の酸化ルテニウムナノシートの単層膜から出発した場合と比べて、Na誘導型の酸化ルテニウムナノシートの単層膜から出発した場合には、ナノシート内での顕著な収縮・破断が見られていない。これは、Na誘導型の酸化ルテニウムナノシートの2次元六方格子が、金属ルテニウムのa軸の格子定数(a≒0.27 nm)と比較的近いため、トポタクティックなメタル化(μmの金属ナノシートの生成)が引き起こされたものと考察することができる。   Here, when starting from a single-layer film of Na-derived ruthenium oxide nanosheets compared to a case of starting from a single-layer film of K-derived ruthenium oxide nanosheets, significant shrinkage / breakage within the nanosheets occurs. Not seen. This is because the two-dimensional hexagonal lattice of Na-derived ruthenium oxide nanosheets is relatively close to the a-axis lattice constant of metal ruthenium (a≈0.27 nm), so topological metallization (production of μm metal nanosheets) ) Was caused.

<実施例2>
図11を参照しながら、本発明の実施例2として、図1(a)を参照して説明した実施の形態1に係る方法により、金属ルテニウムナノシート(金属ナノシート)を製造する方法を説明する。図11は、本発明の実施例2に係る金属ナノシートの製造方法で行なう還元工程の説明図であり、図11(a)、(b)は各々、還元工程後の金属ルテニウムナノシートのX線回折パターンを示す説明図、金属ルテニウムナノシートをAFMにより観察した様子を示す説明図である。なお、本例でも、層状化合物準備工程ST10および単層剥離工程ST20については実施例1と同様であるため、それらの説明を省略する。
<Example 2>
As Example 2 of the present invention, a method for producing a metal ruthenium nanosheet (metal nanosheet) by the method according to Embodiment 1 described with reference to FIG. 1A will be described with reference to FIG. FIG. 11 is an explanatory diagram of a reduction process performed in the method for producing a metal nanosheet according to Example 2 of the present invention, and FIGS. 11A and 11B are each an X-ray diffraction pattern of the metal ruthenium nanosheet after the reduction process. It is explanatory drawing which shows a pattern, and the explanatory view which shows a mode that the metal ruthenium nanosheet was observed by AFM. In this example as well, the layered compound preparation step ST10 and the single layer peeling step ST20 are the same as those in Example 1, and thus the description thereof is omitted.

本例では、K誘導型の酸化ルテニウムナノシートのコロイド溶液をガラス上に滴下し乾燥することにより、酸化ルテニウムナノシートが基板上に複数層、累積した配向性の酸化ルテニウムナノシート再積層体薄膜を作製した。これを還元雰囲気となる水素ガスフロー下で200℃焼成したところ、金属光沢を有する薄膜試料が生成した(還元工程ST40)。   In this example, a colloidal solution of K-derived ruthenium oxide nanosheets was dropped on glass and dried to produce a multi-layered ruthenium oxide nanosheet restacked thin film of oriented ruthenium oxide nanosheets on the substrate. . When this was baked at 200 ° C. under a hydrogen gas flow serving as a reducing atmosphere, a thin film sample having a metallic luster was produced (reducing step ST40).

図11(a)に示す焼成後の薄膜試料のXRDパターンには、基板として用いたガラスのハロと、42°付近に一本のピークが観測された。42°のピークは金属ルテニウムの(0 0 2)に相当することから、基板法線方向にc軸が配向していることが示唆された。このc軸配向の金属ルテニウム薄膜試料のSEM観察を行ったところ、図11(b)に示すように、ナノスケールの厚みの板状物質(金属ルテニウムシート)が多数観測された。前述の通りSEM観察からでは生成した金属ルテニウム板一枚の正確な厚みを見積もることは困難であるが、観察視野から直接見積もるとおよそ数十nm程度の厚みであった。   In the XRD pattern of the thin film sample after firing shown in FIG. 11A, a glass halo used as a substrate and a single peak at around 42 ° were observed. The 42 ° peak corresponds to (0 0 2) of the metal ruthenium, suggesting that the c-axis is oriented in the normal direction of the substrate. When SEM observation of this c-axis oriented metal ruthenium thin film sample was performed, as shown in FIG. 11B, a large number of nanoscale-thick plate materials (metal ruthenium sheets) were observed. As described above, it is difficult to estimate the exact thickness of a single metal ruthenium plate produced by SEM observation, but the thickness was about several tens of nanometers when estimated directly from the observation field of view.

以上、これらの結果から、酸化ルテニウムナノシートのコロイド溶液をガラス上に滴下し乾燥して得た酸化ルテニウムナノシートも、低温で還元させた場合、層状に連なった配向性の金属ルテニウムシートとなることが明らかとなった。   As described above, from these results, ruthenium oxide nanosheets obtained by dropping a colloidal solution of ruthenium oxide nanosheets onto glass and drying can also become oriented metal ruthenium sheets layered when reduced at low temperatures. It became clear.

<実施例3>
図12を参照しながら、本発明の実施例3として、図2を参照して説明した実施の形態2に係る方法により、金属ルテニウムナノシート(金属ナノシート)を製造する方法を説明する。図12は、本発明の実施例3に係る金属ナノシートの製造方法で行なう還元工程の説明図であり、図12(a)、(b)は各々、還元工程後の層状化合物(層状酸化ルテニウム)のX線回折パターンを示す説明図、および層状化合物に還元工程を行なって得た金属ルテニウムナノシート構造体をAFMにより観察した様子を示す説明図である。なお、本例でも、層状化合物準備工程ST10については実施例1と同様であるため、それらの説明を省略する。
<Example 3>
As Example 3 of the present invention, a method for producing a metal ruthenium nanosheet (metal nanosheet) by the method according to Embodiment 2 described with reference to FIG. 2 will be described with reference to FIG. FIG. 12 is an explanatory diagram of a reduction process performed in the method for producing a metal nanosheet according to Example 3 of the present invention. FIGS. 12A and 12B are each a layered compound (layered ruthenium oxide) after the reduction process. It is explanatory drawing which shows X-ray diffraction pattern of this, and explanatory drawing which shows a mode that the metal ruthenium nanosheet structure obtained by performing a reduction | restoration process to a layered compound was observed with AFM. Also in this example, the layered compound preparation step ST10 is the same as that in Example 1, and therefore the description thereof is omitted.

本例では、還元雰囲気となる水素ガスフロー下で水素型酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)の層状化合物を、還元雰囲気となる水素ガスフロー下で200℃焼成する(還元工程ST40)。その結果、金属光沢を有する粉体試料が生成した。図12(a)に示した焼成後の試料のXRDパターンは金属ルテニウムの単相で帰属された。   In this example, a layered compound of a hydrogen-type ruthenium oxide nanosheet (K-derived type) is fired at 200 ° C. under a hydrogen gas flow serving as a reducing atmosphere (reducing step ST40). As a result, a powder sample having a metallic luster was produced. The XRD pattern of the fired sample shown in FIG. 12A was attributed to a single phase of metal ruthenium.

この粉体のSEM観察を行ったところ(図12(b)参照)、元の層状構造を反映した板状ルテニウム(金属ルテニウムナノシート構造体)が観測された。SEM観察から、金属ルテニウムナノシート構造体はおよそ数十nmから数百nm程度の厚みであることが示唆された。   When SEM observation of this powder was performed (see FIG. 12B), plate-like ruthenium (metal ruthenium nanosheet structure) reflecting the original layered structure was observed. SEM observations suggest that the metal ruthenium nanosheet structure has a thickness of about several tens to several hundreds of nm.

これらの結果から水素型酸化ルテニウムナノシート(K誘導型)の層状化合物を200℃程度の低温で還元することでも、層状に連なった金属ルテニウムシートが得られることが明らかとなった。   From these results, it became clear that a layered metal ruthenium sheet can also be obtained by reducing a layered compound of a hydrogen-type ruthenium oxide nanosheet (K-derived type) at a low temperature of about 200 ° C.

また、金属ルテニウムナノシート構造体については液中で超音波を印加すれば、金属ルテニウムナノシート構造体の各層に水分子(溶媒分子)が挿入される結果、金属ルテニウムナノシート構造体からは単層のルテニウムナノシートが製造されることになる(単層剥離工程ST50)。   In addition, with respect to the metal ruthenium nanosheet structure, when ultrasonic waves are applied in the liquid, water molecules (solvent molecules) are inserted into each layer of the metal ruthenium nanosheet structure. As a result, the metal ruthenium nanosheet structure has a single layer of ruthenium. A nanosheet will be manufactured (single layer peeling process ST50).

(他の実施例)
上記実施例では、金属化合物ナノシートとして酸化ルテニウムナノシートを用いて、金属ルテニウムナノシートを得る場合を説明したが、チタン酸化物、ニオブ酸化物、バナジウム酸化物、マンガン酸化物、コバルト酸化物、モリブデン酸化物等の他の金属酸化物ナノシートから金属ナノシートを得るのに本発明を適用してもよい。また、金属酸化物ナノシートに限らず、金属硫化物や金属水酸化物等の金属化合物の層状化合物から金属ナノシートを得るのに本発明を適用してもよく、さらには、粘土鉱物からなる層状化合物から金属ナノシートを得るのに本発明を適用してもよい。
(Other examples)
In the above embodiment, the case where a metal ruthenium oxide nanosheet is used as a metal compound nanosheet to obtain a metal ruthenium nanosheet has been described. However, titanium oxide, niobium oxide, vanadium oxide, manganese oxide, cobalt oxide, and molybdenum oxide. The present invention may be applied to obtain metal nanosheets from other metal oxide nanosheets. In addition, the present invention may be applied to obtain metal nanosheets from layered compounds of metal compounds such as metal sulfides and metal hydroxides, not limited to metal oxide nanosheets. The present invention may be applied to obtain metal nanosheets from the above.

ST10 層状化合物準備工程
ST20、ST50 単層剥離工程
ST30 堆積工程
ST40 還元工程
ST10 Layered compound preparation step ST20, ST50 Single layer peeling step ST30 Deposition step ST40 Reduction step

Claims (10)

少なくとも、
金属化合物が層状に重なる層状化合物を準備する層状化合物準備工程と、
原子拡散を抑制する条件によりトポタクティックな構造相転移を経由して前記金属化合物を還元し、前記層状化合物を前駆体とし、当該層状化合物の層状構造を反映した、厚さが1nm以下で、シート平面方向における寸法が30nm以上の金属ナノシートを得る還元工程と、
を有し、
前記金属化合物は、ルテニウム、チタン、ニオブ、バナジウム、マンガン、コバルト、およびモリブデンのうちのいずれか一つの硫化物、酸化物または水酸化物であることを特徴とする金属ナノシートの製造方法。
at least,
A layered compound preparation step of preparing a layered compound in which the metal compound is layered;
The metal compound is reduced via a topotactic structural phase transition under the condition of suppressing atomic diffusion, the layered compound is used as a precursor, and the thickness is 1 nm or less reflecting the layered structure of the layered compound. A reduction step of obtaining a metal nanosheet having a dimension in the sheet plane direction of 30 nm or more;
I have a,
The metal compound is a sulfide, oxide, or hydroxide of any one of ruthenium, titanium, niobium, vanadium, manganese, cobalt, and molybdenum .
前記還元工程では、前記層状化合物を単層剥離させてなる金属化合物ナノシートの状態、あるいは前記層状化合物の状態で、前記金属化合物を還元することを特徴とする請求項1に記載の金属ナノシートの製造方法。   2. The metal nanosheet production according to claim 1, wherein in the reduction step, the metal compound is reduced in a state of a metal compound nanosheet obtained by exfoliating the layered compound or a state of the layered compound. Method. 前記層状化合物準備工程を行なった後、前記還元工程の前に、前記層状化合物を単層剥離させて前記金属化合物ナノシートを得る単層剥離工程を行い、
前記還元工程では、当該金属化合物ナノシートの状態で前記金属化合物を還元することを特徴とする請求項2に記載の金属ナノシートの製造方法。
After performing the layered compound preparation step, before the reduction step, perform a single layer peeling step to peel the layered compound to obtain the metal compound nanosheet,
The method for producing a metal nanosheet according to claim 2, wherein the metal compound is reduced in the state of the metal compound nanosheet in the reduction step.
前記単層剥離工程の後、前記還元工程の前に、前記金属化合物ナノシートを堆積させて薄膜を形成する堆積工程を行い、
前記還元工程では、前記金属化合物ナノシートの薄膜の状態で前記金属化合物を還元することを特徴とする請求項3に記載の金属ナノシートの製造方法。
After the single layer peeling step, before the reduction step, perform a deposition step of depositing the metal compound nanosheet to form a thin film,
The method for producing a metal nanosheet according to claim 3, wherein, in the reduction step, the metal compound is reduced in a state of a thin film of the metal compound nanosheet.
前記還元工程では、前記層状化合物の状態で前記金属化合物を還元して前記金属ナノシートが複数積層した金属ナノシート構造体を得ることを特徴とする請求項2に記載の金属ナノシートの製造方法。   3. The method for producing a metal nanosheet according to claim 2, wherein in the reduction step, the metal compound is reduced in a state of the layered compound to obtain a metal nanosheet structure in which a plurality of the metal nanosheets are laminated. 前記還元工程の後、前記金属ナノシート構造体を単層の前記金属ナノシートに単層剥離させる単層剥離工程を行なうことを特徴とする請求項5に記載の金属ナノシートの製造方法。 The method for producing a metal nanosheet according to claim 5, wherein after the reduction step, a single-layer peeling step of peeling the metal nanosheet structure into a single-layer metal nanosheet is performed. 前記還元工程では、還元性雰囲気下での焼成処理を行なうことを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の金属ナノシートの製造方法。   The method for producing a metal nanosheet according to any one of claims 1 to 6, wherein in the reduction step, a firing treatment is performed in a reducing atmosphere. 前記還元工程では、還元性溶液を用いた湿式処理を行なうことを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の金属ナノシートの製造方法。   The method for producing a metal nanosheet according to any one of claims 1 to 6, wherein in the reduction step, wet processing using a reducing solution is performed. 前記金属化合物は、ルテニウムの硫化物酸化物または水酸化物あることを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載の金属ナノシートの製造方法。 The metal compounds, sulfides ruthenium, method for producing a metal nanosheet according to any one of claims 1 to 8, characterized in that an oxide or hydroxide. 前駆体として用いた層状化合物を構成する金属化合物還元生成物からなる金属ナノシートであって、
前記金属化合物は、ルテニウム、チタン、ニオブ、バナジウム、マンガン、コバルト、およびモリブデンのうちのいずれか一つの硫化物、酸化物または水酸化物であり、
前記金属化合物が、原子拡散を抑制する条件によりトポタクティックな構造相転移を経由して還元されることによって、前記層状化合物の層状構造を反映し、かつ、厚さが1nm以下で、シート平面方向における寸法が30nm以上であることを特徴とする金属ナノシート。
A metal nanosheet comprising a reduction product of a metal compound constituting the layered compound used as a precursor,
The metal compound is a sulfide, oxide or hydroxide of any one of ruthenium, titanium, niobium, vanadium, manganese, cobalt, and molybdenum;
The metal compound is reduced via a topological structural phase transition under conditions that suppress atomic diffusion, thereby reflecting the layered structure of the layered compound and having a thickness of 1 nm or less and a sheet plane. A metal nanosheet having a dimension in a direction of 30 nm or more.
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