JP5579056B6 - フォトマスクブランク、フォトマスクおよびフォトマスクブランクの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびフォトマスクブランクの製造方法に関する。
一般に、LSI等の高密度半導体集積回路、CCD(電荷結合素子)やLCD(液晶表示素子)用のカラーフィルター、磁気ヘッド等の製造工程では、フォトマスクを使ったフォトリソグラフィー技術を用いて微細加工が行われている。
この微細加工には、石英ガラス、アルミノシリケートガラス等の透光性基板の上に、一般的にはクロム膜等の金属薄膜からなる遮光膜をスパッタまたは真空蒸着等で形成したフォトマスクブランクの遮光膜を所定のパターンに形成したフォトマスクが用いられている。
このフォトマスクブランクより作製されたフォトマスクは、フォトマスクブランク上に形成されたレジスト膜に対し、所望のパターン露光を施す露光工程、フォトマスクブランク上に形成されたレジスト膜に対し所望のパターン露光を施した後に現像液を供給して、現像液に可溶なレジスト膜の部位を溶解し、レジストパターンを形成する現像工程、得られたレジストパターンをマスクとして、硝酸セリウムアンモニウムと過塩素酸の混合水溶液からなるエッチング液を用いたウェットエッチング、塩素ガスを用いたドライエッチング等のエッチングによって、レジストパターンの形成されていない遮光膜が露出した部位を除去し、所定のマスクパターンを透光性基板上に形成するエッチング工程、および、残存したレジストパターンを剥離除去する剥離除去工程を経て製造される。
遮光膜をエッチング工程においてパターニングする間、その遮光膜上に形成されているレジストパターンは十分な膜厚で残っていなければならないが、レジスト膜厚を厚くすると、特に微細なパターンを形成する場合、アスペクト比が大きくなり、パターン倒れなどの問題が生じる。そこで、フォトマスクに形成されるマスクパターンを微細化するためには、フォトマスクブランクに形成されたレジスト膜を薄膜化する必要がある。
この点について、日本国特許公開公報2007−33470号(特許文献1)には、遮光膜の膜厚を100nm以下とし、高いエッチング速度を有するクロム系化合物の膜厚が70%以上を占める構成とすることで、エッチング時間を短縮し、レジストの薄膜化を実現するフォトマスクブランクが開示されている。具体的には、特許文献1には、透光性基板上に、半透明膜、CrON膜、Cr膜およびCrON膜が積層され、上記CrON膜の膜厚が70%以上を占めるフォトマスクブランクが開示されている。
しかしながら、上記CrON膜は波長450nmでの単位膜厚当りの光学濃度を設定しているに過ぎず、ArFエキシマレーザ光以下の露光光について最適化されていない。特に超高NAリソグラフィでは、フォトマスクへの光入射角度が浅くなるため、微細化されたマスクパターン自身が転写像に陰をつくる(シャドウイング)問題が発生する。遮光膜が厚い場合、シャドウイングによる光量低下(コントラスト悪化)の影響が大きい。また断面形状もバラツキ易く、シャドウイングと合わせてCD(Critical Dimension)転写精度を悪化する要因となる。
特許公開公報2007−33470号
上記状況の下、微細なマスクパターンが形成できるフォトマスクブランクが求められている。また、遮光膜上に形成されるレジスト膜を薄く形成でき、結果的にパターン倒れが生じにくく転写精度の良いフォトマスクブランクが求められている。具体的には、レジストパターン倒れを防止するために、レジスト膜が薄膜化されレジストパターンのアスペクト比が低減されることによって、hp45nm、hp32nm以降の世代に求められる解像性を有するフォトマスクが求められている。
フォトマスクブランクにおいてレジスト膜を薄膜化するためには、遮光膜のエッチング時間(ET)を短くする、すなわち遮光膜の構成を変更する必要がある。
エッチング時間(ET)は、エッチング速度(ER)、遮光膜の膜厚(d)および遮光膜パターンの断面角度調整時間(オーバーエッチング時間)(OET)によって決定される。これらの関係は以下のとおりである。
ET=d/ER+OET
=CET+OET・・・(1)
式(1)中、「CET」は、クリアエッチング(ジャストエッチング)時間であり、モニターパターン(一般に数mm角の大きな抜きパターン)のエッチングが基板または位相シフター膜等の下層膜に達する時間である。
エッチング時間(ET)は、エッチング速度(ER)、遮光膜の膜厚(d)および遮光膜パターンの断面角度調整時間(オーバーエッチング時間)(OET)によって決定される。これらの関係は以下のとおりである。
ET=d/ER+OET
=CET+OET・・・(1)
式(1)中、「CET」は、クリアエッチング(ジャストエッチング)時間であり、モニターパターン(一般に数mm角の大きな抜きパターン)のエッチングが基板または位相シフター膜等の下層膜に達する時間である。
したがって、エッチング速度(ER)の高速化、遮光膜膜厚(d)の薄膜化、オーバーエッチング時間(OET)の短縮化等を図ることによって、エッチング時間(ET)の短い遮光膜を有するフォトマスクブランクが求められている。
オーバーエッチング時間(OET)を短縮するためには、ローディングによる断面形状バラツキを低減する必要があるが、エッチング速度(ER)が速すぎるとオーバーエッチング中にUnder−cutが発生し、他方、エッチング速度(ER)が遅すぎるとエッチング時間(ET)長くなってしまう。そこで、縦方向のエッチング速度(各層のエッチング速度)が制御され、結果的に、オーバーエッチング時間(OET)を短縮できる、フォトマスクブランクが求められている。
エッチング速度(ER)の高速化するためには、通常、金属の含有率を低くする必要がある。しかしながら、金属の含有率を低く抑えると、単位膜厚当たりの光学濃度が低下してしまい、結果的に、遮光膜が所定の光学濃度を得るために必要な膜厚が大きくなってしまう。そこで、エッチング速度(ER)は高速であり、かつ、比較的薄い膜厚で充分な光学濃度を有する遮光膜を有するフォトマスクブランクが求められている。
また、たとえば意図していないエッチング(たとえばUnder−cut)等を防止することによって、エッチングした後の遮光膜の断面の角度がパターン密度によらず基板に対して垂直に形成され、さらには、エッチングした後の遮光膜の断面が滑らかな形状に形成されるフォトマスクブランクが求められている。
特に、レジストパターンをマスクにして下層のCr系(含有金属の主成分がCr)の膜をエッチングする場合には、レジストはO2を含むエッチングに対して耐性が低いため、レジスト膜べりが大きく、精度よくエッチングができない。このため、薄膜レジストに対応できるエッチング時間の短いCr系膜を有するフォトマスクブランクが要求される。
[1] ArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクであって、
透光性基板上に、多層構造の薄膜を有し、
前記薄膜の最上層は、クロムと、窒素、酸素および炭素のうち少なくとも一つとを含む材料からなるアモルファス構造であるフォトマスクブランク。
[2] 前記薄膜の最上層の表面粗さは、Raにおいて0.50nm以下である、[1]に記載のフォトマスクブランク。
[3] 前記薄膜の最上層は、クロムの含有量が50atm%以下、窒素と酸素の含有量の合計が40atm%以上である、[1]または[2]に記載のフォトマスクブランク。
[4] 前記薄膜は、前記透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された遮光膜を有し、
表面反射防止層が前記薄膜の最上層である、[1]ないし[3]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[5] 前記裏面反射防止層が、クロムと、窒素、酸素および炭素のうち少なくとも一つとを含む材料からなるアモルファス構造である、[4]に記載のフォトマスクブランク。
[6] 前記遮光膜における遮光層の膜厚は、遮光膜全体の膜厚の30%以下である、[4]または[5]に記載のフォトマスクブランク。
[7] 前記遮光膜における遮光層の膜厚は、裏面反射防止層の膜厚の40%以下である、[4]ないし[6]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[8] 前記薄膜は、遮光膜とエッチングマスク膜とを有し、
エッチングマスク膜が前記薄膜の最上層である、[1]ないし[3] のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[9] 前記薄膜は、位相シフター膜と遮光膜とを有し、
位相シフター膜が透光性基板と遮光膜との間に配置されている、[1]ないし[8]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[10] [1]ないし[9]のいずれかに記載のフォトマスクブランクを用いて作製されるフォトマスク。
透光性基板上に、多層構造の薄膜を有し、
前記薄膜の最上層は、クロムと、窒素、酸素および炭素のうち少なくとも一つとを含む材料からなるアモルファス構造であるフォトマスクブランク。
[2] 前記薄膜の最上層の表面粗さは、Raにおいて0.50nm以下である、[1]に記載のフォトマスクブランク。
[3] 前記薄膜の最上層は、クロムの含有量が50atm%以下、窒素と酸素の含有量の合計が40atm%以上である、[1]または[2]に記載のフォトマスクブランク。
[4] 前記薄膜は、前記透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された遮光膜を有し、
表面反射防止層が前記薄膜の最上層である、[1]ないし[3]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[5] 前記裏面反射防止層が、クロムと、窒素、酸素および炭素のうち少なくとも一つとを含む材料からなるアモルファス構造である、[4]に記載のフォトマスクブランク。
[6] 前記遮光膜における遮光層の膜厚は、遮光膜全体の膜厚の30%以下である、[4]または[5]に記載のフォトマスクブランク。
[7] 前記遮光膜における遮光層の膜厚は、裏面反射防止層の膜厚の40%以下である、[4]ないし[6]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[8] 前記薄膜は、遮光膜とエッチングマスク膜とを有し、
エッチングマスク膜が前記薄膜の最上層である、[1]ないし[3] のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[9] 前記薄膜は、位相シフター膜と遮光膜とを有し、
位相シフター膜が透光性基板と遮光膜との間に配置されている、[1]ないし[8]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[10] [1]ないし[9]のいずれかに記載のフォトマスクブランクを用いて作製されるフォトマスク。
本明細書において、「薄膜」は遮光膜を含み、任意にエッチングマスク膜、位相シフター膜等を含む膜を意味する。
また、本発明のフォトマスクブランクには、レジスト膜が形成されたフォトマスクブランクもレジスト膜が形成されていないフォトマスクブランクも含まれる。したがって、本明細書の「薄膜」は、フォトマスクブランクにレジスト膜が形成されているか否かに拘わらず、レジスト膜を含むものではない。
また、本発明のフォトマスクブランクには、レジスト膜が形成されたフォトマスクブランクもレジスト膜が形成されていないフォトマスクブランクも含まれる。したがって、本明細書の「薄膜」は、フォトマスクブランクにレジスト膜が形成されているか否かに拘わらず、レジスト膜を含むものではない。
本発明の好ましい態様に係るフォトマスクブランクの遮光膜の薄膜化が可能であり、それによってクリアエッチング時間(CET)が短縮されると共に、オーバーエッチング時間(OET)も短縮される。特に、本発明の好ましい態様に係るフォトマスクブランクは、複数層(特に3層)構造の遮光膜において、Cr等の金属の含有率の高い遮光層(吸収層)を設けることによって遮光膜の薄膜化が可能となり、クリアエッチング時間(CET)とオーバーエッチング時間(OET)を短縮できる。
また、本発明の好ましい態様に係るフォトマスクブランクは、高いエッチング速度(ER)の金属(たとえばCr)含有膜(反射防止層)と低いエッチング速度(ER)の金属含有膜(吸収層)とを組み合わせること、さらには、高いエッチング速度(ER)の層と低いエッチング速度(ER)の層との膜厚を所定のバランスにすると共に、低いエッチング速度(ER)の層を所定位置に配置することによって、オーバーエッチング時間(OET)を短縮できる。
本発明の好ましい態様に係るフォトマスクブランクは、クリアエッチング時間(CET)、オーバーエッチング時間(OET)または両者を短縮できることによって、遮光膜上に形成されるレジストを薄くすることができる。これによって、本発明の好ましい態様に係るフォトマスクブランクは、パターン倒れ等の問題が生じにくくなり、微細なマスクパターンが形成できる。
また、本発明の好ましい態様に係るフォトマスクブランクは、金属含有量の異なる複数の層を所定の膜厚で積層する構造を有することによって、遮光膜全体としてエッチング速度(ER)は高速であり、かつ、所定の膜厚で充分な光学濃度を有する遮光膜を有するフォトマスクブランクを提供できる。
また、本発明の好ましい態様に係るフォトマスクブランクは、金属含有量の異なる複数の層を所定の膜厚で積層する構造を有することによって、遮光膜全体としてエッチング速度(ER)は高速であり、かつ、所定の膜厚で充分な光学濃度を有する遮光膜を有するフォトマスクブランクを提供できる。
1 表面反射防止層
2 遮光層
3 裏面反射防止層
5 位相シフター膜
10 透光性基板
2 遮光層
3 裏面反射防止層
5 位相シフター膜
10 透光性基板
1 第1の態様
本発明の第1の態様のフォトマスクブランクは、
ArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクであって、
透光性基板上に、多層構造の薄膜を有し、
前記薄膜の最上層は、クロムと、窒素、酸素および炭素のうち少なくとも一つとを含む材料からなるアモルファス構造であるフォトマスクブランクである。
本発明の第1の態様のフォトマスクブランクは、
ArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクであって、
透光性基板上に、多層構造の薄膜を有し、
前記薄膜の最上層は、クロムと、窒素、酸素および炭素のうち少なくとも一つとを含む材料からなるアモルファス構造であるフォトマスクブランクである。
1.1 透光性基板
透光性基板は透光性を有する基板であれば特に限定されないが、石英ガラス基板、アルミノシリケートガラス基板、フッ化カルシウム基板、フッ化マグネシウム基板等を用いることができる。これらの中でも、石英ガラス基板は平坦度および平滑度が高く、フォトマスクを使用して半導体基板上へのパターン転写を行う場合、転写パターンの歪みが生じにくく高精度のパターン転写が行えるため好ましい。
透光性基板は透光性を有する基板であれば特に限定されないが、石英ガラス基板、アルミノシリケートガラス基板、フッ化カルシウム基板、フッ化マグネシウム基板等を用いることができる。これらの中でも、石英ガラス基板は平坦度および平滑度が高く、フォトマスクを使用して半導体基板上へのパターン転写を行う場合、転写パターンの歪みが生じにくく高精度のパターン転写が行えるため好ましい。
1.2 薄膜
本発明の第1の態様のフォトマスクブランクの薄膜は遮光膜を含み、任意にエッチングマスク膜、位相シフター膜等を含む膜を意味する。当該薄膜は、フォトマスクブランクにレジスト膜が形成されているか否かに拘わらず、レジスト膜を含むものではない。
したがって、薄膜の構成としては、たとえば、(1)Cr系遮光膜からなる膜、(2) 位相シフター膜とCr系遮光膜とからなる膜、(3)遮光膜とCr系エッチングマスク膜とからなる膜、 (4) 位相シフター膜とエッチングストッパー膜と遮光膜とCr系エッチングマスク膜とからなる膜が挙げられる。
本発明の第1の態様のフォトマスクブランクの薄膜は遮光膜を含み、任意にエッチングマスク膜、位相シフター膜等を含む膜を意味する。当該薄膜は、フォトマスクブランクにレジスト膜が形成されているか否かに拘わらず、レジスト膜を含むものではない。
したがって、薄膜の構成としては、たとえば、(1)Cr系遮光膜からなる膜、(2) 位相シフター膜とCr系遮光膜とからなる膜、(3)遮光膜とCr系エッチングマスク膜とからなる膜、 (4) 位相シフター膜とエッチングストッパー膜と遮光膜とCr系エッチングマスク膜とからなる膜が挙げられる。
本発明の第1の態様のフォトマスクブランクにおいて、薄膜の最上層は、クロムと、窒素、酸素および炭素のうち少なくとも一つとを含む材料からなるアモルファス構造である。
したがって、薄膜がCr系遮光膜からなるフォトマスクブランクでは、遮光膜の最上層がアモルファス構造である。
薄膜が位相シフター膜とCr系遮光膜とがこの順に設けられた膜からなるフォトマスクブランクでは、遮光膜の最上層がアモルファス構造である。
薄膜が遮光膜とCr系エッチングマスク膜とがこの順に設けられた膜からなるフォトマスクブランクでは、薄膜の最上層であるエッチングマスク膜がアモルファス構造である。
薄膜が位相シフター膜とエッチングストッパー膜と遮光膜とCr系エッチングマスク膜とがこの順に設けられた膜からなるフォトマスクブランクでは、薄膜の最上層であるエッチングマスク膜がアモルファス構造である。
したがって、薄膜がCr系遮光膜からなるフォトマスクブランクでは、遮光膜の最上層がアモルファス構造である。
薄膜が位相シフター膜とCr系遮光膜とがこの順に設けられた膜からなるフォトマスクブランクでは、遮光膜の最上層がアモルファス構造である。
薄膜が遮光膜とCr系エッチングマスク膜とがこの順に設けられた膜からなるフォトマスクブランクでは、薄膜の最上層であるエッチングマスク膜がアモルファス構造である。
薄膜が位相シフター膜とエッチングストッパー膜と遮光膜とCr系エッチングマスク膜とがこの順に設けられた膜からなるフォトマスクブランクでは、薄膜の最上層であるエッチングマスク膜がアモルファス構造である。
1.2.1 Cr系遮光膜
本発明の第1の態様のフォトマスクブランクの薄膜がCr系遮光膜を含む場合について説明する。
上記Cr系遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有することが好ましい。遮光膜は、裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層という少なくとも3層を有すればよく、さらに1層以上の層を有してもよい。
裏面反射防止層は、遮光膜を形成する層の中で、遮光層の下側(透光性基板に近い側)に設けられる層である。裏面反射防止層は、遮光膜の遮光性およびエッチング特性を制御する他、反射防止機能や位相シフター膜等との密着性を制御する構成とすること好ましい。裏面反射防止層は、遮光膜が形成された側とは反対側の透光性基板から入射される露光光が、裏面反射防止層により露光光源側に反射して転写特性に影響のない程度に裏面反射率を抑える程度であればよく、ArFエキシマレーザ光の波長に対して40%以下、好ましくは30%以下、さらに好ましくは20%以下が望ましい。
遮光層は、遮光膜を形成する層の中で、裏面反射防止層と表面反射防止層との間に設けられる層である。遮光層は、遮光膜の遮光性およびエッチング特性を制御する。また、多層膜中で最も高い遮光性を有する層であることが好ましい。
表面反射防止層は、遮光膜を形成する層の中で、遮光層の上側(透光性基板に遠い側)に設けられる層である。表面反射防止層は、遮光膜の遮光性およびエッチング特性を制御する他、フォトマスクブランクやフォトマスクにおける洗浄に対する耐薬性を制御する構成とすることが好ましい。また、表面反射防止層は、フォトマスクとして用いた場合に、半導体基板等の被転写物からの反射光が再び被転写物に戻ってパターン精度を悪化させることを防止する効果を奏するものであり、表面反射率は、ArFエキシマレーザ光の波長に対して30%以下、好ましくは25%以下、さらに好ましくは20%以下が望ましい。
本発明の第1の態様のフォトマスクブランクの薄膜がCr系遮光膜を含む場合について説明する。
上記Cr系遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有することが好ましい。遮光膜は、裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層という少なくとも3層を有すればよく、さらに1層以上の層を有してもよい。
裏面反射防止層は、遮光膜を形成する層の中で、遮光層の下側(透光性基板に近い側)に設けられる層である。裏面反射防止層は、遮光膜の遮光性およびエッチング特性を制御する他、反射防止機能や位相シフター膜等との密着性を制御する構成とすること好ましい。裏面反射防止層は、遮光膜が形成された側とは反対側の透光性基板から入射される露光光が、裏面反射防止層により露光光源側に反射して転写特性に影響のない程度に裏面反射率を抑える程度であればよく、ArFエキシマレーザ光の波長に対して40%以下、好ましくは30%以下、さらに好ましくは20%以下が望ましい。
遮光層は、遮光膜を形成する層の中で、裏面反射防止層と表面反射防止層との間に設けられる層である。遮光層は、遮光膜の遮光性およびエッチング特性を制御する。また、多層膜中で最も高い遮光性を有する層であることが好ましい。
表面反射防止層は、遮光膜を形成する層の中で、遮光層の上側(透光性基板に遠い側)に設けられる層である。表面反射防止層は、遮光膜の遮光性およびエッチング特性を制御する他、フォトマスクブランクやフォトマスクにおける洗浄に対する耐薬性を制御する構成とすることが好ましい。また、表面反射防止層は、フォトマスクとして用いた場合に、半導体基板等の被転写物からの反射光が再び被転写物に戻ってパターン精度を悪化させることを防止する効果を奏するものであり、表面反射率は、ArFエキシマレーザ光の波長に対して30%以下、好ましくは25%以下、さらに好ましくは20%以下が望ましい。
表面反射防止層は、クロムと、窒素、酸素および炭素のうち少なくとも一つとを含む材料からなるアモルファス構造を有することが好ましく、さらに裏面反射防止層もアモルファス構造を有することが好ましい。
アモルファスは反応面積が大きいため、エッチング速度を速くすることができるので、前記遮光膜のエッチング時間を短縮することが可能となる。
すなわち、レジストパターンをマスクにしてCr系遮光膜をドライエッチングすると、レジストはO2を含むエッチングに対して耐性が低いため、レジスト膜べりが大きくなるが、前記遮光膜の表面反射防止層および/または裏面反射防止層をアモルファス構造とすることによって、遮光膜のエッチング時間を短縮することができるので、レジストを薄膜化することが可能となる。
また、遮光膜を3層構造として、表面反射防止層および/または裏面反射防止層をエッチング速度の速いアモルファス構造とすることによって、オーバーエッチング時間を短くでき、遮光膜全体のエッチング時間を短縮することができる。
さらに、表面反射防止層および/または裏面反射防止層をアモルファス構造とすることによって、遮光膜の膜応力を小さくすることが可能となる。
すなわち、レジストパターンをマスクにしてCr系遮光膜をドライエッチングすると、レジストはO2を含むエッチングに対して耐性が低いため、レジスト膜べりが大きくなるが、前記遮光膜の表面反射防止層および/または裏面反射防止層をアモルファス構造とすることによって、遮光膜のエッチング時間を短縮することができるので、レジストを薄膜化することが可能となる。
また、遮光膜を3層構造として、表面反射防止層および/または裏面反射防止層をエッチング速度の速いアモルファス構造とすることによって、オーバーエッチング時間を短くでき、遮光膜全体のエッチング時間を短縮することができる。
さらに、表面反射防止層および/または裏面反射防止層をアモルファス構造とすることによって、遮光膜の膜応力を小さくすることが可能となる。
表面反射防止層および裏面反射防止層は、CrOCN(酸化炭化窒化クロム)、CrOC(酸化炭化クロム)、CrON(酸化窒化クロム)、CrN(窒化クロム)のいずれかを主成分とする材料で形成されていることが好ましい。
このようなCr系材料は、酸化した材料ほど塩素系ガスに対するエッチング速度が速くなる。また、酸化した材料ほどではないが、窒化した材料も塩素系ガスに対するエッチング速度が速くなる。
そこで、表面反射防止層および裏面反射防止層のCr含有比率を50atm%以下、より好ましくは40atm%以下、NとOの合計が40atm%以上、より好ましくは50atm%以上と高酸化または高窒化させることが好ましい。Crの含有量が50atm%を越える、もしくはNとOの含有量の合計が40atm%未満であると、遮光膜のエッチング時間が長くなってしまう場合がある。
このようなCr系材料は、酸化した材料ほど塩素系ガスに対するエッチング速度が速くなる。また、酸化した材料ほどではないが、窒化した材料も塩素系ガスに対するエッチング速度が速くなる。
そこで、表面反射防止層および裏面反射防止層のCr含有比率を50atm%以下、より好ましくは40atm%以下、NとOの合計が40atm%以上、より好ましくは50atm%以上と高酸化または高窒化させることが好ましい。Crの含有量が50atm%を越える、もしくはNとOの含有量の合計が40atm%未満であると、遮光膜のエッチング時間が長くなってしまう場合がある。
なお、膜の欠陥品質に優れる観点から、表面反射防止層および裏面反射防止層は、CrOCN、CrOCが好ましい。また、アモルファス構造の形成、応力の制御性(低応力膜を形成可能)の観点からは、CrOCNが好ましい。
表面反射防止層および裏面反射防止層の主成分が、CrOCNまたはCrOCの場合、クロムターゲットを用い、CO2ガスを含む混合ガスを用いることが好ましい。具体的には、CO2ガス、N2ガスおよび希ガスを含む混合気体、または、CO2ガスおよび希ガスを含む混合気体のような、ヒステリシスの小さいガスを用いることが好ましい。
また、DCスパッタにおいて安定的にエッチング速度の速い膜を製造可能とするため、表面反射防止層および裏面反射防止層はメタルモードから反応モードへの移行が始まる付近の条件、または反応モード寄りの条件で成膜されることが好ましい。
詳しくは、図3に示すように、DCスパッタにおいて、プラズマが形成された状態において、縦軸の電圧[V](成膜レートに対応する)と、横軸に示す各ガスの流量との関係を調べる。
横軸に示す各ガスの流量を0から50sccmまで増加させた場合(行きの経路)と、50から0sccmまで減少させた場合(帰りの経路)とは、一致せず、いわゆるヒステリシスを示す。
メタルモードは高電圧(例えば330〜350V)を維持している領域(ArでCrがイオンスパッタされる領域)、遷移領域は電圧が急降下する領域、反応モードは急降下した電圧の急降下後の領域(急降下した電圧290〜310Vを維持している領域)(ガスが活性化し反応性を示す領域)をそれぞれ指す。
メタルモードは、図3(1)における0〜30sccmの領域、図3(2)における0〜25sccmの領域、図3(3)における0〜32sccmの領域である。
遷移領域は、図3(1)における増加モードで35〜50sccmの領域、図3(2)における増加モードで35〜50sccmの領域、図3(3)における増加モードで43〜50sccmの領域である。
反応領域は、図3(1)における減少モードで50〜35sccmの領域、図3(2)における減少モードで50〜35sccmの領域、図3(3)における減少モードで48〜32sccmの領域である。
遷移領域は、図3(1)における増加モードで35〜50sccmの領域、図3(2)における増加モードで35〜50sccmの領域、図3(3)における増加モードで43〜50sccmの領域である。
反応領域は、図3(1)における減少モードで50〜35sccmの領域、図3(2)における減少モードで50〜35sccmの領域、図3(3)における減少モードで48〜32sccmの領域である。
メタルモードでは非常に酸化度、窒化度が低いクロムが成膜され、反応モードでは酸化、窒化度の高いクロムが成膜され、メタルモードと反応モードの中間のモード(メタルモードと反応モードとの遷移領域)では条件が安定しないので通常使用されない。
クロムを酸化、窒化させるガス系は種々あるが、図3(3)に示すように、ヒステリシスが大きいガス系(NOガス+希ガス)を用いた場合、DCスパッタで酸化、窒化されたクロムを反応モードで安定して低欠陥で成膜するのは難しいから好ましくない。O2ガス+希ガスを用いた場合もヒステリシスが大きくなるため好ましくない。
これに対し、図3(1)や図3(2)に示すように、ヒステリシスが小さいガス系を用いた場合(図3(1)では「CO2ガス+希ガス」を用い、図3(2)では「CO2ガス+N2ガス+希ガス」を用いる)、DCスパッタで酸化、窒化されたクロムを反応モード(図3(1)では40〜30sccmの減少モードの領域、図3(2)では35〜25sccmの減少モードの領域)で安定して低欠陥で成膜することができ、しかも得られた酸化、窒化されたクロムはアモルファス構造でエッチング速度の速い膜を製造できる。特に、図3(1)や図3(2)における流量35sccm付近の増加モードと減少モードが若干ずれた箇所(条件)、すなわちメタルモードから反応モードに行きかけるあたりの条件(メタルモードから反応モードへの移行が始まる付近(間際)の条件)で成膜を行うことで、他の条件に比べ相対的にエッチング速度の速い酸化、窒化されたアモルファス構造のクロム膜をDCスパッタで安定して低欠陥で製造できる。
ここで、上記DCスパッタで成膜を行うときのガス圧を0.2Pa以下と低くすると、アモルファスを形成しやすいため好ましい。
また、レジスト塗布前の加熱処理による平坦度変化を防止するため、遮光膜を成膜後、予め150〜300℃で加熱処理を施すことが好ましい。また、多種存在するレジスト材料に対応するには、200℃以上であることが望ましい。300℃を超えるとアモルファス構造でなくなり、結晶質になりやすい。
Cr系遮光膜の場合には、加熱処理後の平坦度は10nm以下であることが好ましい。
本発明に記載する平坦度とはTIR(Total Indicated Reading)で表される表面の反り(変形量)を表す値である。なお、本発明においては6インチ基板の中心における142×142mmのエリア内の測定値をもって平坦度とする。
本発明に記載する平坦度とはTIR(Total Indicated Reading)で表される表面の反り(変形量)を表す値である。なお、本発明においては6インチ基板の中心における142×142mmのエリア内の測定値をもって平坦度とする。
また、表面反射防止層の表面粗さRaが0.50nm以下であると、遮光膜パターンのLER(Line Edge Roughness)を小さくすることができると共に、遮光膜パターンの断面形状も良好にすることができるので好ましい。
なお、本明細書において、表面粗さは、原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定し、10nm角範囲の高さデータをもとに、Ra(中心線表面粗さ)を求めた。
なお、本明細書において、表面粗さは、原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定し、10nm角範囲の高さデータをもとに、Ra(中心線表面粗さ)を求めた。
遮光層は表面反射防止層に比べてエッチング速度が遅いほうが好ましい。したがって、エッチング速度の遅い遮光層の膜厚が全体膜厚の30%以下にすることによって、遮光膜全体のエッチング時間を短縮することができる。遮光層の膜厚が遮光膜全体の膜厚の30%を超えると、遮光膜の膜厚は薄膜化できるが、エッチング速度の速い裏面または表面反射防止層の割合が少なくなるため、エッチング時間を短縮できず好ましくない。
また、遮光層の膜厚が遮光膜全体の膜厚の30%以下とすることによって、遮光層がエッチングされている間に上層の表面反射防止層で発生したローディングによる断面形状のバラツキが緩和される。その後、第1のエッチング速度で裏面反射防止層を高速にエッチングするので、裏面反射防止層をエッチングしている間に表面反射防止層等におけるエッチングが意図されていない部分がさらにエッチングされるのを抑制し、パターンの断面形状を良好とすることができる。さらに、遮光層の導入位置の最適化を図ることにより、断面形状をさらに良好にすることが可能となる。
さらに、遮光層の膜厚を遮光膜全体の膜厚の20%以下、さらには10%以下とすると、さらにエッチング時間が短縮し、断面形状もより良好になるため好ましい。エッチング速度の遅い中間層が厚い場合には中間層での裾引きが大きく、その影響により下層の裏面反射防止層のエッチング面積も狭くなり、トータルエッチング時間が長くなってしまうが、中間層が薄い場合には中間層での裾引きが小さく、下層のエッチングの進行が妨げられず好ましい。
また、遮光層を薄くする一方で、裏面反射防止層の膜厚を厚くすると、パターン断面の角度をより垂直に近い角度で形成することが可能となる。言い換えれば、遮光膜中において、エッチング速度の遅い遮光層の位置を制御することによって、断面形状が良好になり、パターンの再現性を良好にすることができる。
そこで、遮光層の膜厚は、裏面反射防止層の膜厚の40%以下が好ましく、15%以下がさらに好ましい。
そこで、遮光層の膜厚は、裏面反射防止層の膜厚の40%以下が好ましく、15%以下がさらに好ましい。
1.2.2 Cr系エッチングマスク膜
本発明の第1の態様のフォトマスクブランクの薄膜がCr系エッチングマスク膜を含む場合について説明する。
本発明の第1の態様のフォトマスクブランクの薄膜がCr系エッチングマスク膜を含む場合について説明する。
上述の遮光膜をCr系とした場合、レジスト膜をマスクとして遮光膜のドライエッチングを行う際に、レジスト膜もエッチングされて消費されるが、この対策として上述のとおり遮光膜を改善する方法の他に、次の方法がある。
例えば、基板上に、MoSi系遮光膜とCr系エッチングマスク膜とをこの順に設けたフォトマスクブランクを用いる。そして、膜厚の薄いCr系エッチングマスク膜を用いることによって、レジストへの負担が軽減され、Cr系エッチングマスク膜にマスクパターンを転写したときの解像性の低下は改善される。この構成によって、レジスト膜を薄膜化することが可能となる。
しかしながら、レジスト膜厚を100nm以下にしようとすると、パターン形状の悪化が顕著であり、エッチングマスク膜にマスクパターンを転写したときのLERが悪化してしまうため、エッチングマスク膜のエッチング時間を短縮する必要があることを本発明者は見出した。
例えば、基板上に、MoSi系遮光膜とCr系エッチングマスク膜とをこの順に設けたフォトマスクブランクを用いる。そして、膜厚の薄いCr系エッチングマスク膜を用いることによって、レジストへの負担が軽減され、Cr系エッチングマスク膜にマスクパターンを転写したときの解像性の低下は改善される。この構成によって、レジスト膜を薄膜化することが可能となる。
しかしながら、レジスト膜厚を100nm以下にしようとすると、パターン形状の悪化が顕著であり、エッチングマスク膜にマスクパターンを転写したときのLERが悪化してしまうため、エッチングマスク膜のエッチング時間を短縮する必要があることを本発明者は見出した。
エッチングマスク膜として、クロムと、窒素、酸素および炭素のうち少なくとも一つとを含む材料からなるアモルファス構造を有することにより、エッチングマスク膜のエッチング速度を速くすることができ、エッチングマスク膜のエッチング時間を短縮することが可能となるので好ましい。
エッチングマスク膜の好ましい材料、組成比および成膜条件は、上述のCr系遮光膜における表面反射防止層または裏面反射防止層と同様である。
エッチングマスク膜の好ましい材料、組成比および成膜条件は、上述のCr系遮光膜における表面反射防止層または裏面反射防止層と同様である。
また、エッチングマスク膜をアモルファス構造とすることによって、膜応力を小さくすることが可能となる。
また、レジスト塗布前の加熱処理による平坦度変化を防止するため、エッチングマスク膜を成膜後、上述のCr系遮光膜と同様の条件で加熱処理を施すことが好ましい。エッチングマスク膜の場合にも、加熱処理後の平坦度は10nm以下であることが好ましい。
また、レジスト塗布前の加熱処理による平坦度変化を防止するため、エッチングマスク膜を成膜後、上述のCr系遮光膜と同様の条件で加熱処理を施すことが好ましい。エッチングマスク膜の場合にも、加熱処理後の平坦度は10nm以下であることが好ましい。
また、エッチングマスク膜の表面粗さRaが0.50nm以下であると、エッチングマスクパターンのLERを小さくすることができると共に、エッチングマスクパターンの断面形状も良好にすることができるので好ましい。
エッチングマスク膜の膜構造としては、上記膜材料からなる単層とすることが多いが、複数層構造とすることもできる。また、複数層構造では、異なる組成で段階的に形成した複数層構造や、連続的に組成が変化した膜構造とすることができる。
エッチングマスク膜がCr系の材料の場合、エッチングマスク膜の下に設けられる遮光膜は、MoSi系材料であることが好ましい。具体的には、遮光膜は、膜厚が60nm以下であり、遮光層および表面反射防止層がこの順に形成された2層構造、または裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層がこの順に形成された3層構造とすると好ましい。遮光層は、MoSiまたはMoSiNが好ましく、反射防止層は、MoSiON、MoSiNまたはMoSiOが好ましい。また、これらに炭素や水素が含まれていてもよい。遮光層のMo含有量は20〜40atm%が好ましく、反射防止層のMo含有量は、15atm%以下、好ましくは5atm%である。
また、遮光膜は、Ta系の材料でもよい。
また、遮光膜は、Ta系の材料でもよい。
さらに、位相シフター膜を設けることによって、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクとしてもよい。この場合には、透光性基板上に、位相シフター膜、エッチングストッパー膜、上記遮光膜および上記エッチングマスク膜をこの順に設ければよい。位相シフター膜は、MoSiNまたはMoSiONなどのMoSi系膜が好ましく、エッチングストッパー膜は、CrN、CrONなどのCr系膜が好ましい。
2 第2の態様
本発明者の発明者は、透光性基板上に形成された遮光膜の加工を行う際に、
(1)遮光層および表面反射防止層の2層構造では、下層の遮光層をエッチング速度が遅い材料で形成するとオーバーエッチング時間が長く必要になり、トータルエッチング時間が長くなってしまう一方、下層をエッチング速度が速い材料で形成するとクリアエッチング時間は短縮されるがローディングによってオーバーエッチング時間が長くなってしまう場合があるため、2層構造ではエッチング時間を短縮することが困難であること、
(2)オーバーエッチング時間を短くするために、裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層の3層構造とし、最下層の裏面反射防止層に遮光層よりもエッチング速度の速い材料を用いることが好ましいこと、
(3)3層構造とした場合、オーバーエッチング時間を短縮し、さらに遮光膜パターンの断面形状を良好にするために、エッチング速度の遅い中間層の膜厚を全体膜厚の30%以下に調整することが好ましいこと、
を見出し、第1の態様のフォトマスクブランクの発明を完成した。
本発明者の発明者は、透光性基板上に形成された遮光膜の加工を行う際に、
(1)遮光層および表面反射防止層の2層構造では、下層の遮光層をエッチング速度が遅い材料で形成するとオーバーエッチング時間が長く必要になり、トータルエッチング時間が長くなってしまう一方、下層をエッチング速度が速い材料で形成するとクリアエッチング時間は短縮されるがローディングによってオーバーエッチング時間が長くなってしまう場合があるため、2層構造ではエッチング時間を短縮することが困難であること、
(2)オーバーエッチング時間を短くするために、裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層の3層構造とし、最下層の裏面反射防止層に遮光層よりもエッチング速度の速い材料を用いることが好ましいこと、
(3)3層構造とした場合、オーバーエッチング時間を短縮し、さらに遮光膜パターンの断面形状を良好にするために、エッチング速度の遅い中間層の膜厚を全体膜厚の30%以下に調整することが好ましいこと、
を見出し、第1の態様のフォトマスクブランクの発明を完成した。
本発明の第2の態様のArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクは、
透光性基板上に遮光膜を有し、
前記遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
遮光膜全体の膜厚が60nm以下であり、
裏面反射防止層は、金属を含有する膜からなり、第1のエッチング速度を有し、
表面反射防止層は、金属を含有する膜からなり、第3のエッチング速度を有し、
遮光層は、裏面反射防止層または表面反射防止層に含まれる金属と同じ金属を含有する膜からなり、第1のエッチング速度および第3のエッチング速度よりも遅い第2のエッチング速度を有し、
遮光層の膜厚は、遮光膜全体の膜厚の30%以下であることを特徴とするフォトマスクブランクである。
透光性基板上に遮光膜を有し、
前記遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
遮光膜全体の膜厚が60nm以下であり、
裏面反射防止層は、金属を含有する膜からなり、第1のエッチング速度を有し、
表面反射防止層は、金属を含有する膜からなり、第3のエッチング速度を有し、
遮光層は、裏面反射防止層または表面反射防止層に含まれる金属と同じ金属を含有する膜からなり、第1のエッチング速度および第3のエッチング速度よりも遅い第2のエッチング速度を有し、
遮光層の膜厚は、遮光膜全体の膜厚の30%以下であることを特徴とするフォトマスクブランクである。
第2の態様のフォトマスクブランクでは、エッチング速度の遅い遮光層の膜厚が全体膜厚の30%以下であるから、遮光膜全体のエッチング時間を短縮することができる。遮光層の膜厚が遮光膜全体の膜厚の30%を超えると、遮光膜の膜厚は薄膜化できるが、エッチング速度の速い裏面または表面反射防止層の割合が少なくなるため、エッチング時間を短縮できず好ましくない。
また、第2の態様のフォトマスクブランクでは、遮光層の膜厚が遮光膜全体の膜厚の30%以下であるから、遮光層がエッチングされている間に上層の表面反射防止層で発生したローディングによる断面形状のバラツキが緩和される。その後、裏面反射防止層を高速にエッチングするので、裏面反射防止層をエッチングしている間に表面反射防止層等におけるエッチングが意図されていない部分がさらにエッチングされるのを抑制し、パターンの断面形状を良好とすることができる。さらに、遮光層の導入位置の最適化を図ることにより、断面形状をさらに良好にすることが可能となる。
第2の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光層の膜厚を遮光膜全体の膜厚の20%以下、さらには10%以下とすると、さらにエッチング時間が短縮し、断面形状もより良好になるため好ましい。エッチング速度の遅い中間層が厚い場合には中間層での裾引きが大きく、その影響により下層の裏面反射防止層のエッチング面積も狭くなり、トータルエッチング時間が長くなってしまうが、第2の態様のフォトマスクブランクにおいては、中間層が薄い場合には中間層での裾引きが小さく、下層のエッチングの進行が妨げられず好ましい。
また、遮光層を薄くする一方で、下層の裏面反射防止層の膜厚を厚くすると、パターン断面の角度をより垂直に近い角度で形成することが可能となる。言い換えれば、遮光膜中において、エッチング速度の遅い遮光層の位置を制御することによって、断面形状が良好になり、パターンの再現性を良好にすることができる。
そこで、第2の態様のフォトマスクブランクでは、遮光層の膜厚は、裏面反射防止層の膜厚の40%以下が好ましく、15%以下がさらに好ましい。
そこで、第2の態様のフォトマスクブランクでは、遮光層の膜厚は、裏面反射防止層の膜厚の40%以下が好ましく、15%以下がさらに好ましい。
遮光層と表面反射防止層の膜厚比の値が1.0/0.7を越える場合、表面反射防止層が薄くなりすぎて、所望の反射防止機能を有することができなくなる場合があり、また、膜厚比の値が1.0/7.0未満の場合、オーバーエッチング時間の短縮ができなくなる場合がある。
そこで、第2の態様のフォトマスクブランクでは、遮光層と表面反射防止層の膜厚比は、1.0:0.7〜1.0:7.0、より好ましくは1.0:2.0〜1.0:7.0であることが好ましい。このような膜厚比を有することによって、エッチングが意図されていない部分がさらにエッチングされるのを抑制できるため断面形状が良好になり、パターンの再現性を良好にすることができる。
そこで、第2の態様のフォトマスクブランクでは、遮光層と表面反射防止層の膜厚比は、1.0:0.7〜1.0:7.0、より好ましくは1.0:2.0〜1.0:7.0であることが好ましい。このような膜厚比を有することによって、エッチングが意図されていない部分がさらにエッチングされるのを抑制できるため断面形状が良好になり、パターンの再現性を良好にすることができる。
第2の態様のフォトマスクブランクでは、遮光層の膜厚は、前記遮光膜全体の膜厚の0.5%以上、より好ましくは3%以上である。これによって、微細パターンと比較的大きなパターンとではエッチング速度に差が生じるため(マイクロローディング)、遮光層が薄すぎるとマイクロローディングによるCDリニアリティが悪化するが、それを防止することができる。
3 第3の態様
遮光膜を構成する金属を含有する層に酸素を含有させるとエッチング速度が上昇するが、単位膜厚当りの光学濃度が小さくなるため、遮光層の膜厚が厚くなってしまう。また、縦方向にエッチング速度差の無い単一速度の膜はローディングによる断面形状バラツキが発生しやすい。
また、ArFエキシマレーザ光で露光されるフォトマスクの場合、半導体基板等の被転写物からの反射光が再び被転写物に戻ってパターン精度を悪化させるのを防止するために、裏面反射防止層および表面反射防止層を有する構成が好ましい。しかし、この積層構造で遮光膜が一定膜厚(たとえば60nm)以下の制限があるなかで膜設計を行う場合、遮光層の膜厚が厚くなると、裏面または表面反射防止層の膜厚を薄くしなければならないが、単に薄くしただけでは全体の遮光性や反射率等の光学特性が確保されなくなる。
遮光膜を構成する金属を含有する層に酸素を含有させるとエッチング速度が上昇するが、単位膜厚当りの光学濃度が小さくなるため、遮光層の膜厚が厚くなってしまう。また、縦方向にエッチング速度差の無い単一速度の膜はローディングによる断面形状バラツキが発生しやすい。
また、ArFエキシマレーザ光で露光されるフォトマスクの場合、半導体基板等の被転写物からの反射光が再び被転写物に戻ってパターン精度を悪化させるのを防止するために、裏面反射防止層および表面反射防止層を有する構成が好ましい。しかし、この積層構造で遮光膜が一定膜厚(たとえば60nm)以下の制限があるなかで膜設計を行う場合、遮光層の膜厚が厚くなると、裏面または表面反射防止層の膜厚を薄くしなければならないが、単に薄くしただけでは全体の遮光性や反射率等の光学特性が確保されなくなる。
そこで、本発明の第3の態様のArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクは、
透光性基板上に遮光膜を有し、
前記遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
遮光膜全体の膜厚が60nm以下であり、
裏面反射防止層は、金属を含有する膜からなり、第1のエッチング速度を有し、
表面反射防止層は、金属を含有する膜からなり、第3のエッチング速度を有し、
遮光層は、裏面反射防止層または表面反射防止層に含まれる金属と同じ金属および窒素を含有する金属窒化膜からなり、第1のエッチング速度および第3のエッチング速度よりも遅い第2のエッチング速度を有することを特徴とする。
透光性基板上に遮光膜を有し、
前記遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
遮光膜全体の膜厚が60nm以下であり、
裏面反射防止層は、金属を含有する膜からなり、第1のエッチング速度を有し、
表面反射防止層は、金属を含有する膜からなり、第3のエッチング速度を有し、
遮光層は、裏面反射防止層または表面反射防止層に含まれる金属と同じ金属および窒素を含有する金属窒化膜からなり、第1のエッチング速度および第3のエッチング速度よりも遅い第2のエッチング速度を有することを特徴とする。
金属は窒化されることにより、結晶構造の変化または膜密度の低下が生じるため、遮光層が金属窒化膜の第3の態様のフォトマスクブランクは、純金属膜の場合と比較して、引っ張り応力が緩和でき、膜応力の調整が容易になりやすい。
第3の態様のフォトマスクブランクでは、遮光層をエッチング速度の遅い金属窒化膜とすることによって、光学濃度を高く維持しながら遮光膜の薄膜化が可能となる。これにより、積層構造で全体膜厚が一定膜厚以下の所望の光学特性を有する遮光膜を容易に設計することが可能となり、レジスト膜の薄膜化が実現できる。
また、第3の態様のフォトマスクブランクによれば、金属窒化膜の第2のエッチング速度は、裏面反射防止層、表面反射防止層のエッチング速度に比べ遅いため、縦方向のエッチングに変化を与えることができる。すなわち、エッチング速度の遅い金属窒化膜がエッチングされている間に、エッチング速度の速い表面反射防止層で発生したローディングによる断面形状のバラツキが緩和される。遮光層のエッチング終了後、第1のエッチング速度で裏面反射防止層を高速にエッチングするので、裏面反射防止層をエッチングしている間に表面反射防止層等においてエッチングが意図されていない部分がさらにエッチングされるのを抑制し、パターンの断面形状を良好とすることができる。
4 第4の態様
(1) 本発明の第4の態様のArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクは、
透光性基板上に遮光膜を有し、
遮光膜は、遮光層と少なくとも一層の反射防止層とを備え、遮光膜全体の光学濃度が1.8〜3.1であり、
遮光層の光学濃度と全ての反射防止層の光学濃度の総和との比が1:5〜1:19であり、
遮光層は、金属を含有する膜からなり、
反射防止層は、遮光層に含まれる金属と同じ金属、NおよびOを含有する膜からなり、NとOの含有量の合計が40〜65atom%であることを特徴とする。
(1) 本発明の第4の態様のArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクは、
透光性基板上に遮光膜を有し、
遮光膜は、遮光層と少なくとも一層の反射防止層とを備え、遮光膜全体の光学濃度が1.8〜3.1であり、
遮光層の光学濃度と全ての反射防止層の光学濃度の総和との比が1:5〜1:19であり、
遮光層は、金属を含有する膜からなり、
反射防止層は、遮光層に含まれる金属と同じ金属、NおよびOを含有する膜からなり、NとOの含有量の合計が40〜65atom%であることを特徴とする。
第4の態様のフォトマスクブランクは、遮光膜全体の光学濃度が1.8〜3.1の範囲において、遮光層の光学濃度と全ての反射防止層の光学濃度の総和との比を1:5〜1:19として、反射防止層によって遮光膜全体の光学濃度の大部分を担う構成としている。光学濃度は、組成および膜厚に依存しているが、反射防止層のNとOの含有量の合計を40〜65atom%としているので、所望の光学濃度を得るためには膜厚は比較的厚くなるが、エッチング速度は速い。これにより、エッチング速度の速い層の膜厚の割合が大きくなるので、エッチング時間の短縮が可能となり、結果的にレジスト膜の薄膜化が可能となる。
第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、前記遮光層の光学濃度に対する反射防止層の光学濃度の比の値が1/5を越えると反射防止層のエッチング速度が遅くなる一方、上記比の値が1/19未満では反射防止層の膜厚が厚くなり過ぎる。また、 第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、反射防止層のN含有量とO含有量との合計が65atom%を超えると膜厚が厚くなる一方、上記合計が40atom%未満ではエッチング速度が遅くなる。
なお、本明細書において、光学濃度(OD)は、下記の関係を満たす。
OD(遮光膜全体)=OD(表面反射防止層)+OD(遮光層)+OD(反射防止層)
また、本明細書において、「単位膜厚当りの光学濃度」は、下記の関係を満たす。
単位膜厚当りのOD(nm−1)=膜(層)のOD/膜(層)厚
OD(遮光膜全体)=OD(表面反射防止層)+OD(遮光層)+OD(反射防止層)
また、本明細書において、「単位膜厚当りの光学濃度」は、下記の関係を満たす。
単位膜厚当りのOD(nm−1)=膜(層)のOD/膜(層)厚
(2) 第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、反射防止層の単位膜厚当りの光学濃度は、0.04nm−1以下であり、遮光層の単位膜厚当りの光学濃度は、0.05nm−1以上あることが好ましい。
前記遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
裏面反射防止層の光学濃度が1.1〜1.3であり、
遮光層の光学濃度が0.1〜0.3であり、
表面反射防止層の光学濃度が0.4〜0.6である態様が含まれる。
当該態様のフォトマスクブランクは、各層の光学濃度をこれらの範囲内にすることにより、所望の膜厚、エッチング速度および光学特性を有する遮光膜を容易に得ることができる。
前記遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
裏面反射防止層の光学濃度が1.1〜1.3であり、
遮光層の光学濃度が0.1〜0.3であり、
表面反射防止層の光学濃度が0.4〜0.6である態様が含まれる。
当該態様のフォトマスクブランクは、各層の光学濃度をこれらの範囲内にすることにより、所望の膜厚、エッチング速度および光学特性を有する遮光膜を容易に得ることができる。
第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、裏面反射防止層の光学濃度が1.1未満の場合には光学濃度が不足するため、各層何れかの膜厚を厚くする必要が生じる一方、該光学濃度が1.3を超える場合にはエッチング速度が遅くなるため、各々薄膜化が困難となる。
また、第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光層の光学濃度が0.1未満の場合には遮光膜全体の光学濃度が不足するため、各層何れかの膜厚を厚くする必要が生じると共に、遮光層での反射が低下するため十分に干渉効果が得られなくなる。その結果、表面反射率が高くなり所望の反射率が得られない。また、遮光層の該光学濃度が0.3を超える場合にはエッチング時間が長くなり、レジスト薄膜化が困難となる。
さらに、第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、表面反射防止層の光学濃度が0.4未満の場合には反射率が低くなりすぎると共に全体膜厚が厚くなり、該光学濃度が0.6を超える場合には反射率が高くなり過ぎる。
(3) 第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
裏面反射防止層の、NとOの含有量の合計が40〜55atom%であり、
遮光層のNとOの含有量の合計が30atom%以下であり、
表面反射防止層のNとOの含有量の合計が45〜65atom%である態様が含まれる。
当該態様のフォトマスクブランクは、各層のNとOの含有量を所定の範囲内にすることにより、所望の膜厚、エッチング速度および光学特性を有する遮光膜を容易に得ることができる。
裏面反射防止層の、NとOの含有量の合計が40〜55atom%であり、
遮光層のNとOの含有量の合計が30atom%以下であり、
表面反射防止層のNとOの含有量の合計が45〜65atom%である態様が含まれる。
当該態様のフォトマスクブランクは、各層のNとOの含有量を所定の範囲内にすることにより、所望の膜厚、エッチング速度および光学特性を有する遮光膜を容易に得ることができる。
第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、裏面反射防止層のNとOの含有量の合計が40atom%未満の場合にはエッチング速度が遅くなり、NとOの含有量の合計が55atom%を超える場合には光学濃度が小さくなり(膜厚が厚くなり)、各々薄膜化が困難となる。
また、第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光層のNとOの含有量の合計が30atom%を超える場合にはエッチング速度が遅くなり、薄膜化が困難となる。
さらに、第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、表面反射防止層のNとOの含有量の合計が45atom%未満の場合にはエッチング速度が遅くなり、NとOの含有量の合計が65atom%を超える場合には光学濃度が小さくなり(膜厚が厚くなり)、各々薄膜化が困難となる。
第4の態様のフォトマスクブランクにおいて、裏面反射防止層の単位膜厚当りの光学濃度は、0.03〜0.04nm−1であり、遮光層の単位膜厚当りの光学濃度は、0.05〜0.06nm−1であることが好ましい。
5 第5の態様
本発明の第5の態様のArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクは、
透光性基板上に遮光膜を有し、
前記遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
裏面反射防止層は、Crのターゲットを用い、不活性ガスが45〜65vol%、CO2ガスが30〜50vol%、N2ガスが1〜15vol%である混合ガス雰囲気中で形成されたCrOCN膜からなり、
遮光層は、Crのターゲットを用い、不活性ガスが70〜90vol%、N2ガスが5〜25vol%である混合ガス雰囲気中で形成されたCrN膜からなり、
表面反射防止層は、Crのターゲットを用い、不活性ガスが40〜60vol%、CO2ガスが25〜45vol%、N2ガスが5〜20vol%である混合ガス雰囲気中で形成されたCrOCN膜からなることを特徴とする。
本発明の第5の態様のArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクは、
透光性基板上に遮光膜を有し、
前記遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
裏面反射防止層は、Crのターゲットを用い、不活性ガスが45〜65vol%、CO2ガスが30〜50vol%、N2ガスが1〜15vol%である混合ガス雰囲気中で形成されたCrOCN膜からなり、
遮光層は、Crのターゲットを用い、不活性ガスが70〜90vol%、N2ガスが5〜25vol%である混合ガス雰囲気中で形成されたCrN膜からなり、
表面反射防止層は、Crのターゲットを用い、不活性ガスが40〜60vol%、CO2ガスが25〜45vol%、N2ガスが5〜20vol%である混合ガス雰囲気中で形成されたCrOCN膜からなることを特徴とする。
第5の態様のフォトマスクブランクは、膜厚が60nm以下で所望の光学特性を有する積層構造のフォトマスクブランクである。
また、第5の態様のフォトマスクブランクにおいて、反射防止層を形成する場合、O2ガスやNOガスを用いることができるが、酸化度の高い膜を形成しようとすると、プラズマを安定化させるため比較的ガス圧の高い状態でスパッタする必要がある。そうすると得られる膜がもろくなり、チャンバー内に付着した膜が剥がれて成膜中の基板に付着するため、欠陥品質が悪化しやすい。
これに対して、CO2ガスを用いた場合には、比較的ガス圧の低い状態で酸化度の制御が可能であり、膜質がもろくならない程度のガス流量下で成膜することができる。
そこで、欠陥品質を良好にするという点から、第5の態様のフォトマスクブランクは、遮光膜を構成する相を形成するために用いる雰囲気ガスとしてCO2ガスを用いることが好ましい。
これに対して、CO2ガスを用いた場合には、比較的ガス圧の低い状態で酸化度の制御が可能であり、膜質がもろくならない程度のガス流量下で成膜することができる。
そこで、欠陥品質を良好にするという点から、第5の態様のフォトマスクブランクは、遮光膜を構成する相を形成するために用いる雰囲気ガスとしてCO2ガスを用いることが好ましい。
(2) 第5の態様のフォトマスクブランクにおいて、裏面反射防止層を形成するための不活性ガスは、10〜30vol%のArガスと、20〜40vol%のHeガスとからなり、表面反射防止層を形成するための不活性ガスは、10〜30vol%のArガスと、20〜40vol%のHeガスとからなる態様が含まれる。
当該態様のフォトマスクブランクによれば、雰囲気ガスにHeガスを入れると、Cr系遮光膜の場合には得られる層の圧縮応力が増すので、膜応力を制御することができ、また、Heガスは、主に膜応力の制御にのみ作用するため、膜応力設計が容易になるので好ましい。
6 第6の態様
(1) 本発明の第6の態様のArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクは、
透光性基板上に遮光膜を有し、
前記遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
裏面反射防止層は、金属の含有量が25〜50atm%、NとOの含有量の合計が35〜65atm%であり、および、光学濃度が1.1〜1.3であり、
遮光層は、金属とNを含み、金属の含有量が50〜90atm%、膜厚が2〜6nm、および、光学濃度が0.1〜0.3であり、
表面反射防止層は、金属の含有量が25〜50atm%、NとOの含有量の合計が45〜65atm%であり、および、光学濃度が0.4〜0.6であることを特徴とする。
(1) 本発明の第6の態様のArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクは、
透光性基板上に遮光膜を有し、
前記遮光膜は、透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層された積層構造を有し、
裏面反射防止層は、金属の含有量が25〜50atm%、NとOの含有量の合計が35〜65atm%であり、および、光学濃度が1.1〜1.3であり、
遮光層は、金属とNを含み、金属の含有量が50〜90atm%、膜厚が2〜6nm、および、光学濃度が0.1〜0.3であり、
表面反射防止層は、金属の含有量が25〜50atm%、NとOの含有量の合計が45〜65atm%であり、および、光学濃度が0.4〜0.6であることを特徴とする。
第6の態様のフォトマスクブランクでは、裏面反射防止層において、金属の含有量が25atm%未満である、もしくは、NとOの含有量の合計が65atm%を越える、遮光層において、金属の含有量が50atm%未満である、または、表面反射防止層において、金属の含有量が25atm%未満である、もしくは、NとOの含有量の合計が65atm%を越えると、遮光膜全体として充分な光学濃度を得ることができない場合がある。他方、裏面反射防止層において、金属の含有量が50atm%を越える、もしくは、NとOの含有量の合計が35atm未満である、遮光層において、金属の含有量が90atm%を越える、または、表面反射防止層において、金属の含有量が50atm%を越える、もしくは、NとOの含有量の合計が45atm%未満であると、遮光膜のエッチング時間が長くなってしまう場合がある。
また、第6の態様のフォトマスクブランクの表面反射防止層において、金属の含有量が50atm%を超える、もしくは、NとOの含有量の合計が45atm%未満であると、表面反射率が高くなりすぎてしまい、ArFエキシマレーザ光に対して要求される20%以下程度の表面反射率が得られなくなってしまうことがある。一方、表面反射防止層において、金属の含有量が25atm%未満である、もしくは、NとOの含有量の合計が65atm%を越えると、欠陥品質が悪化する場合がある。
また、第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光層のNの含有量が3〜25atm%であると、一定の膜厚において比較的大きな光学濃度が得られるので好ましい。
第6の態様のフォトマスクブランクの遮光層において、Nの含有量が3〜25atm%であることが好ましい。さらに、フォトマスクブランクの遮光層において、単位膜厚当たりの光学濃度が0.05〜0.06nm−1であることが好ましい。
第6の態様のフォトマスクブランクの遮光層において、Nの含有量が3〜25atm%であることが好ましい。さらに、フォトマスクブランクの遮光層において、単位膜厚当たりの光学濃度が0.05〜0.06nm−1であることが好ましい。
(2) 第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、裏面反射防止層は、Crの含有量が30〜40atm%、NとOの含有量の合計が40〜55atm%であり、かつ、光学濃度が1.1〜1.3であり、
遮光層は、Crの含有量が50〜90atm%、Nの含有量が3〜25atm%含み、かつ、光学濃度が0.1〜0.3であり、
表面反射防止層は、Crの含有量が30〜40atm%、NとOの含有量の合計が50〜60atm%であり、かつ、光学濃度が0.4〜0.6である態様が含まれる。
遮光層は、Crの含有量が50〜90atm%、Nの含有量が3〜25atm%含み、かつ、光学濃度が0.1〜0.3であり、
表面反射防止層は、Crの含有量が30〜40atm%、NとOの含有量の合計が50〜60atm%であり、かつ、光学濃度が0.4〜0.6である態様が含まれる。
当該態様のフォトマスクブランクでは、裏面反射防止層において、Crの含有量が30atm%未満である、もしくは、NとOの含有量の合計が55atm%を越える、遮光層において、Crの含有量が50atm%未満である、もしくは、Nの含有量が25atm%を越える、または、表面反射防止層において、Crの含有量が30atm%未満である、もしくは、NとOの含有量の合計が60atm%を越えると、遮光膜全体として充分な光学濃度を得ることができない場合がある。他方、裏面反射防止層において、Crの含有量が40atm%を越える、もしくは、NとOの含有量の合計が40atm%未満である、遮光層において、Crの含有量が90atm%を越える、もしくは、Nの含有量の合計が3atm%未満である、または、表面反射防止層において、Crの含有量が40atm%を越える、もしくは、NとOの含有量の合計が50atm%未満であると、遮光膜のエッチング時間が長くなってしまう場合がある。
(3) 第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜の膜厚が60nm以下である態様が含まれる。
(4) また、第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、裏面反射防止層の厚さが23〜33nm、遮光層の厚さが2〜6nmおよび表面反射防止層の厚さが11〜17nmである態様が含まれる。
当該態様のフォトマスクブランクでは遮光膜の膜厚が60nm以下であることが好ましい。したがって、遮光膜を構成する遮光層の膜厚が大きくなれば、裏面反射防止層と表面反射防止層の合計の膜厚は小さくなる傾向がある一方で、他方、遮光膜を構成する遮光層の膜厚が小さくなれば、裏面反射防止層と表面反射防止層の合計の膜厚は大きくなる傾向がある。また、裏面反射防止層と表面反射防止層は、金属含有量等の組成の性質に基づき、遮光層に比べて、エッチング速度は速いが単位膜厚当たりの光学濃度が小さい傾向がある。
したがって、第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜の膜厚が60nm以下という制限下で、裏面反射防止層が33nmを越える厚さ、かつ、表面反射防止層が17nmを越える厚さであっても、遮光層が2nm未満の厚さであると、遮光膜全体として充分な光学濃度を得ることができない場合がある。他方、遮光膜の膜厚が60nm以下という制限下で、裏面反射防止層が23nm未満の厚さ、かつ、表面反射防止層が11nm未満の厚さであっても、遮光層が17nmを越える厚さであると、遮光膜全体のエッチング時間が長くなってしまう場合がある。
(5) 第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、
裏面反射防止層は、第1のエッチング速度を有し、
表面反射防止層は、第3のエッチング速度を有し、
遮光層は、第1のエッチング速度および第3のエッチング速度よりも遅い第2のエッチング速度を有する態様が含まれる。
裏面反射防止層は、第1のエッチング速度を有し、
表面反射防止層は、第3のエッチング速度を有し、
遮光層は、第1のエッチング速度および第3のエッチング速度よりも遅い第2のエッチング速度を有する態様が含まれる。
7 第1〜第6の態様のフォトマスクブランクにおける好ましい態様
7.1 エッチング速度
第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、「第2のエッチング速度<第1のエッチング速度≦第3のエッチング速度」の関係であると、パターンの断面の角度が垂直に近づくため好ましい。また、第1のエッチング速度<第3のエッチング速度とすれば、さらにパターンの断面の角度が垂直に近づくため好ましい。
7.1 エッチング速度
第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、「第2のエッチング速度<第1のエッチング速度≦第3のエッチング速度」の関係であると、パターンの断面の角度が垂直に近づくため好ましい。また、第1のエッチング速度<第3のエッチング速度とすれば、さらにパターンの断面の角度が垂直に近づくため好ましい。
また、第3のエッチング速度と第2のエッチング速度との比は、1.0:1.1〜1.0:2.0が好ましい。第2のエッチング速度が第1のエッチング速度の2.0倍を超える場合には、反射防止層と遮光層の断面に段差が生じる一方、1.1倍未満の場合には全体のエッチング時間の短縮ができなくなる。また、前記第3のエッチング速度は0.67nm/sec以上であり、前記第2のエッチング速度は0.44nm/sec以下であることが好ましい。
7.2 遮光膜の組成
第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、反射防止層が裏面反射防止層と表面反射防止層を含む場合、裏面反射防止層または表面反射防止層は、Crの含有量が50atm%以下であり、少なくともO、C、Nの何れかを含む層であり、遮光層は、Crの含有量が50atm%以上の膜であることが好ましい。このような構成を有することによって、第2のエッチング速度<第1または第3のエッチング速度の関係を有する膜を容易に形成することができるからである。
第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、反射防止層が裏面反射防止層と表面反射防止層を含む場合、裏面反射防止層または表面反射防止層は、Crの含有量が50atm%以下であり、少なくともO、C、Nの何れかを含む層であり、遮光層は、Crの含有量が50atm%以上の膜であることが好ましい。このような構成を有することによって、第2のエッチング速度<第1または第3のエッチング速度の関係を有する膜を容易に形成することができるからである。
遮光層は、CrN、CrON、CrO、CrC、CrCOまたはCrOCNからなり、CrNまたはCrONがより好ましい。
裏面反射防止層または表面反射防止層がCrOCNからなる場合、Cr−Cr結合成分とCrOxNy成分とが混在する態様が好ましい。また、遮光層がCrNからなる場合、Cr−Cr結合成分が主体であり、CrOxNy成分はわずかである態様が好ましい。CrOxNy成分を多くすることにより、エッチング速度を速くすることが可能となる。
また、炭素はクロム炭化物(Cr−C)が主体であり、その他の成分C−C、C−O、C−Nが混在した状態であることが好ましい。
また、裏面反射防止層と表面反射防止層とは、互いに組成が同一であり、組成比と膜厚が互いに異なることが好ましい。このような構成を有することによって、裏面反射防止層と表面反射防止相を形成する際の雰囲気ガスを同じとすることができるので、遮光膜の成膜工程が容易になるからである。このとき、表面反射防止層は欠陥品質が良好となるように酸化度を調整し、裏面反射防止層は光学濃度を高くしつつ反射率を下げるように調整することが容易である。
7.3 遮光膜の光学濃度
第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、ArFエキシマレーザ光に対する遮光層の単位膜厚当たりの光学濃度が0.05nm−1以上であることが好ましい。
第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、ArFエキシマレーザ光に対する遮光層の単位膜厚当たりの光学濃度が0.05nm−1以上であることが好ましい。
7.4 レジスト膜・Cr系以外のエッチングマスク膜
第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜上に膜厚が200nm以下、より好ましくは150nm以下のレジスト膜を設けてもよい。
第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜上に膜厚が200nm以下、より好ましくは150nm以下のレジスト膜を設けてもよい。
また、第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜上にエッチングマスク膜を設けてもよい。遮光膜がCrを含む場合、ドライエッチング加工は、エッチングガスに塩素および酸素を用いることによって、塩化クロミルの形で昇華させるのが一般的であるが、レジストの主成分は炭素であるから、酸素プラズマに対してレジストは非常に弱い。したがって、エッチングマスク膜を設けることにより、レジスト膜に対する負荷を低減することができるので、レジスト膜を100nm以下とより薄膜化することが可能となる。遮光膜がCrを主成分とする場合には、エッチングマスク膜は選択比が高いSiON、SiN、SiO2、MoSiON、MoSiNなどを5〜20nmの膜厚で設けることが好ましい。また、Siを20%以上含有する有機膜でも膜厚を20〜40nmとすることによって、エッチングマスク膜として設けることができる。
第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜上にエッチングマスク膜を設けることによって、よりレジストの薄膜化が可能となる。具体的には、レジスト膜厚を100nm以下とすると、パターン形状の悪化が顕著であり、エッチングマスク膜にマスクパターンを転写したときのLERが悪化してしまうため、エッチングマスク膜のエッチング時間を短縮する必要があることを本発明者は見出した。上記遮光膜は、エッチング時間が短いため、エッチングマスク膜の膜厚を薄くすることができ、エッチングマスク膜のエッチング時間を短縮することができる。
また、第1の態様の薄膜がCr系遮光膜のフォトマスクブランク、第2〜第6の態様のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜における表面反射防止層または裏面反射防止層がアモルファス構造を有すると、その表面粗さが小さいため、上層のエッチングマスク膜の表面粗さを小さくすることができるので好ましい。その結果、エッチングマスク膜をエッチングしたときの断面形状およびLERが良好となるため、エッチングマスク膜パターンをマスクに下層の遮光膜をエッチングしたときに、遮光膜の断面形状およびLERが悪化するのを防止することができる。
7.5 本発明のフォトマスクブランク等について
本明細書において、「フォトマスクブランク」は、バイナリーマスクブランクおよびハーフトーン型位相シフトマスクブランクを含み、また、「フォトマスク」はバイナリーマスクおよび位相シフトマスクを含む概念である。
本明細書において、「フォトマスクブランク」は、バイナリーマスクブランクおよびハーフトーン型位相シフトマスクブランクを含み、また、「フォトマスク」はバイナリーマスクおよび位相シフトマスクを含む概念である。
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクは、透光性基板と遮光膜との間にハーフトーン型位相シフター膜を有する。
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクは、位相シフター膜の透過率は、2〜40%であることが好ましい。
また、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクでは、遮光膜全体の膜厚が50nm以下であり、位相シフター膜の透過率は、2〜6%であるフォトマスクブランクが好ましい。他方、転写されるパターンの解像性を高めるためには、位相シフター膜の透過率が7〜20%であると好ましい。
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクは、位相シフター膜の透過率は、2〜40%であることが好ましい。
また、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクでは、遮光膜全体の膜厚が50nm以下であり、位相シフター膜の透過率は、2〜6%であるフォトマスクブランクが好ましい。他方、転写されるパターンの解像性を高めるためには、位相シフター膜の透過率が7〜20%であると好ましい。
位相シフター膜を設ける場合、MoSiNまたはMoSiONからなる材料が好ましい。これらの材料からなる位相シフター膜上に、本実施の形態の遮光膜を設けることによって、従来のCr系遮光膜を設ける場合と比較して、位相シフター膜パターンのLERを良好にすることが可能となる。
具体的には、従来のCr系遮光膜はポーラス状柱状構造であり、このためCr系遮光膜パターンのLERが大きくなってしまうので、位相シフター膜がアモルファス構造であるにもかかわらず、位相シフター膜をドライエッチングしたときにCr系遮光膜のLERによって、位相シフター膜パターンのLERが悪化していた。しかしながら、本発明の好ましい態様では、遮光膜における表面反射防止層または裏面反射防止層はアモルファス構造であるため、遮光膜をドライエッチングしたときの遮光膜パターンのLERを小さくすることが可能となる。その結果、遮光膜パターンをマスクに位相シフター膜をドライエッチングしたときに、位相シフター膜パターンのLERを悪化させることなく、位相シフター膜のLERを良好にすることができる。
8 フォトマスクおよびその製造方法
本発明のフォトマスクブランクから得られるフォトマスクとその製造方法について説明する。
本発明のフォトマスクブランクから得られるフォトマスクとその製造方法について説明する。
まず、遮光膜が形成されたフォトマスクブランクにレジストを塗布し、乾燥してレジスト膜を得る。レジストは、使用する描画装置に応じて適切なものを選択する必要があるが、通常使用されるEB描画用としては、芳香族骨格をポリマー中に有するポジ型またはネガ型のレジスト、また、本発明が特に有効に用いられる微細パターン用のフォトマスク製造用としては、化学増幅型レジストを用いることが好ましい。
レジスト膜厚は良好なパターン形状が得られる範囲で、かつエッチングマスクとしての機能を果たし得る範囲である必要があるが、特にArF露光用マスクとして微細なパターンを形成しようとした場合には、膜厚は200nm以下であることが好ましく、更に150nm以下であることが好ましい。なお、シリコン系樹脂を使用したレジストと芳香族系樹脂を使用した下層膜の組み合わせによる2層レジスト法や、芳香族系化学増幅型レジストとシリコン系表面処理剤を組み合わせた表面イメージング法を利用した場合には、更に膜厚を減じることも可能である。塗布条件、乾燥方法については使用するそれぞれのレジストに適する方法を適宜選定する。
なお、微細なレジストパターンの剥がれや、倒れという問題の発生を低減するために、レジストを塗布する前にフォトマスクブランクの表面上に、樹脂層を形成してもよい。また、樹脂層の形成に替えて、レジストを塗布する前に基板(フォトマスクブランク)表面の表面エネルギーを下げるための表面処理を行ってもよい。表面処理の方法としては、たとえば、半導体製造工程で常用されるHMDSやその他の有機珪素系表面処理剤で表面をアルキルシリル化する方法が挙げられる。
次に、レジスト膜が形成されたフォトマスクブランクにおけるレジストへの描画は、EB照射による方法や、光照射による方法があるが、一般的にはEB照射による方法が微細パターンを形成するためには好ましい方法である。化学増幅型レジストを使用した場合には、通常3〜40μC/cm2の範囲のエネルギーにより描画を行い、描画後、加熱処理を行い、その後にレジスト膜を現像処理してレジストパターンを得る。
上記で得たレジストパターンをエッチングマスクとして遮光膜または遮光膜と他の膜(位相シフター膜等)のエッチング加工を行う。エッチング加工は遮光膜(表面層、遮光層、反射防止層等)や他の膜の組成によって公知の塩素系やフッ素系のドライエッチングを用いることができる。
エッチングにより遮光パターンを得た後、レジストを所定の剥離液で剥離すると、遮光膜パターンが形成されたフォトマスクが得られる。
9 パターン転写
本発明のフォトマスクは、開口数がNA>1の露光方法および200nm以下の露光光波長を利用して半導体デザインルールにおけるDRAMハーフピッチ(hp)45nm以降の微細パターンの形成するパターン転写方法において使用されるマスクとして特に有用である。
本発明のフォトマスクは、開口数がNA>1の露光方法および200nm以下の露光光波長を利用して半導体デザインルールにおけるDRAMハーフピッチ(hp)45nm以降の微細パターンの形成するパターン転写方法において使用されるマスクとして特に有用である。
本発明のフォトマスクブランクは、フォトマスクブランク上に100nm未満の線幅のレジストパターンを形成するために用いられるものである場合に特に有効である。このようなフォトマスクブランクとしては、OPC構造を有するマスクが挙げられる。このOPCマスクでは、本パターンの解像性を向上させる目的で本パターンの周囲に設けられる補助パターンの幅が最も狭いため、これらのパターンを有するフォトマスクを用いたパターン転写に、特に有用である。
以下、実施例を用いて、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
[実施例1]
(フォトマスクブランクの作製)
本実施例では、透光性基板10上に位相シフター膜5と3つの層からなる遮光膜とが設けられたハーフトーン型位相シフトマスクブランクを製造した(図1参照)。
(フォトマスクブランクの作製)
本実施例では、透光性基板10上に位相シフター膜5と3つの層からなる遮光膜とが設けられたハーフトーン型位相シフトマスクブランクを製造した(図1参照)。
まず、サイズ6インチ角、厚さ0.25インチの石英ガラスからなる透光性基板10上に、枚葉式スパッタ装置を用い、Mo、SiおよびNを主たる構成要素とする単層で構成されたArFエキシマレーザー(波長193nm)用ハーフトーン型位相シフター膜5を形成した(膜厚69nm)。
表1にも示すように、スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は以下のとおりであった。
スパッタターゲット:MoとSiとの混合ターゲット(Mo:Si=8:92mol%)
スパッタガス:ArとN2とHeとの混合ガス雰囲気(Ar:9sccm、N2:81sccm、He:76sccm)
放電中のガス圧:0.3Pa
印加電力:2.8kW
表1にも示すように、スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は以下のとおりであった。
スパッタターゲット:MoとSiとの混合ターゲット(Mo:Si=8:92mol%)
スパッタガス:ArとN2とHeとの混合ガス雰囲気(Ar:9sccm、N2:81sccm、He:76sccm)
放電中のガス圧:0.3Pa
印加電力:2.8kW
ArFエキシマレーザー(波長193nm)において、得られた位相シフター膜5の透過率はそれぞれ5.5%、位相シフト量が約180°であった。
次に、位相シフター膜5を形成した装置と同様のスパッタ装置を用い、CrOCNからなる裏面反射防止層3を形成した(膜厚30nm)。スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は表1に示すとおりであった。
その後、裏面反射防止層3を形成した装置と同様のスパッタ装置を用い、CrNからなる遮光層2を形成した(膜厚4nm)。スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は表1に示すとおりであった。
さらに、遮光層2を形成した装置と同様のスパッタ装置を用い、CrOCNからなる表面反射防止層1を形成した(膜厚14nm)。スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は表1に示すとおりであった。
なお、表1におけるスパッタガスの流量は、体積百分率に換算すると、以下のとおりになる。
表面反射防止層1:Ar=21.0vol%、CO2=36.8vol%、N2=10.5vol%、He=31.6vol%
遮光層2:Ar=83.3vol%、N2=16.7vol%
裏面反射防止層3:Ar=22.0vol%、CO2=38.9vol%、N2=5.6vol%、He=33.3vol%
表面反射防止層1:Ar=21.0vol%、CO2=36.8vol%、N2=10.5vol%、He=31.6vol%
遮光層2:Ar=83.3vol%、N2=16.7vol%
裏面反射防止層3:Ar=22.0vol%、CO2=38.9vol%、N2=5.6vol%、He=33.3vol%
このようにして、石英ガラスからなる透光性基板上に位相シフター膜5、裏面反射防止層3、遮光層2、表面反射防止層1が順に積層されたフォトマスクブランクが得られた。裏面反射防止層3、遮光層2および表面反射防止層1からなる遮光膜における波長193.4nmの光に対する光学濃度(OD)は1.9であった。また、各層における光学濃度は表1に示すとおりであった。
また、得られたフォトマスクブランクの表面反射防止層1と遮光層2と裏面反射防止層3の組成と原子数密度をRBS(Rutherford Backscattering Spectrometry)により分析した。RBSは、面密度(atms/cm2)に対する表面組成を深さ方向に分析する手法であり、層毎の膜厚が既知であれば、原子数密度(atms/cm3)を以下の式から算出することができる。
原子数密度=面密度/膜厚
上記手法により、表面反射防止層1の原子数密度を算出した。
原子数密度=面密度/膜厚
上記手法により、表面反射防止層1の原子数密度を算出した。
その結果、表面反射防止層1(膜厚14nm)の膜組成は、Crが34atom%、Cが11atom%、Oが39atom%およびNが16atom%であった。また、表面反射防止層1のクロム比は、C/Crが0.3、O/Crが1.2、N/Crが0.5であった。さらに、表面反射防止層1の原子数密度は、10.5×1022atms/cm3であった。
遮光層2(膜厚4nm)の膜組成は、Crが少なくとも64atom%以上、Nが少なくとも8atom%以上であった。
また、裏面反射防止層3(膜厚30nm)の膜組成は、Crが36atom%、Cが15atom%、Oが39atom%およびNが9atom%であった。また、裏面反射防止層3のクロム比は、C/Crが0.4、O/Crが1.1、N/Crが0.3であった。
また、得られたフォトマスクブランクの断面をTEM(透過型電子顕微鏡)およびX線回折装置(XRD)で観察したところ、表面反射防止層1はグレインサイズが1〜2nmのアモルファス構造であった。原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面粗さを測定したところ、Ra=0.45nmであった。
本実施例で得られたフォトマスクブランクに濃度50ppmのオゾン水を流量1.4L/分で60分間スイングアームにて揺動させながら基板表面に供給し、遮光膜の膜厚、表面反射率および光学濃度の変化量を各々測定して耐薬性の評価を行った。
その結果、遮光膜の膜厚はオゾン水の噴霧によって変化しなかった。また、表面反射率は、波長193nmの光では+0.82%変化した。遮光膜の光学濃度は、−0.04変化した。
また、本実施例の表面反射防止層1と全く同じ層を、スパッタリングによってガラス基板に直接形成し、表面反射防止層1に濃度50ppmのオゾン水を60分間噴霧することによる反射率の変化量を測定した。なお、本実施例における測定では、分光光度計(日立ハイテクノロジー製:U−4100)にてオゾン水噴霧前後にて反射スペクトルを測定し、その変化量を計算した。
その結果、波長193nmの光では+0.7%、257nmの光では+1.5%、365nmでは+2.0%、488nmでは+1.2%変化した。本明細書中、「+」は反射率の増加、「−」は反射率の減少を表す。
このように、本実施例の遮光膜は、オゾン処理に対して高い耐薬性を有していることが確認された。
このように、本実施例の遮光膜は、オゾン処理に対して高い耐薬性を有していることが確認された。
(フォトマスクの作製)
得られたフォトマスクブランク上に、電子線描画(露光)用化学増幅型ポジレジスト(PRL009:富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)をスピンコート法により膜厚が150nmとなるように塗布した。形成されたレジスト膜に対し、電子線描画装置を用いて所望のパターン描画を行った後、所定の現像液で現像してレジストパターンを形成した。
得られたフォトマスクブランク上に、電子線描画(露光)用化学増幅型ポジレジスト(PRL009:富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)をスピンコート法により膜厚が150nmとなるように塗布した。形成されたレジスト膜に対し、電子線描画装置を用いて所望のパターン描画を行った後、所定の現像液で現像してレジストパターンを形成した。
次に、上記レジストパターンに沿って、裏面反射防止層3、遮光層2および表面反射防止層1からなる遮光膜のドライエッチングを行って、遮光膜パターンを形成した。ドライエッチングガスとしてはCl2とO2(Cl2:O2=4:1)との混合ガスを用いた。
上記遮光膜のドライエッチングにおいて、各層のエッチング速度は表1のとおりであった。遮光膜全体のクリアエッチング時間は84.5secであり、後述の比較例1と比べて8%程度の短縮が確認された。また、SEM(Scanning Electron Microscopy)を用いて遮光膜パターンを断面観察したところ、遮光膜の断面の角度が基板に対して垂直に形成され良好であった。さらに、オーバーエッチング時間を短くしても垂直な断面形状が得られ、トータルエッチング時間は比較例1と比べて20%程度短縮可能であることが確認された。
上記遮光膜のドライエッチングにおいて、各層のエッチング速度は表1のとおりであった。遮光膜全体のクリアエッチング時間は84.5secであり、後述の比較例1と比べて8%程度の短縮が確認された。また、SEM(Scanning Electron Microscopy)を用いて遮光膜パターンを断面観察したところ、遮光膜の断面の角度が基板に対して垂直に形成され良好であった。さらに、オーバーエッチング時間を短くしても垂直な断面形状が得られ、トータルエッチング時間は比較例1と比べて20%程度短縮可能であることが確認された。
次に、上記レジストパターンおよび遮光膜パターンをマスクに、位相シフター膜のエッチングを行って、位相シフター膜パターンを形成した。この位相シフター膜のエッチングにおいては、上記遮光膜パターンの断面形状が影響するが、遮光膜パターンの断面形状が良好であるために、位相シフター膜パターンの断面形状も良好となった。
その後、残存するレジストパターンを剥離して、再度レジスト膜を塗布し、転写領域内の不要な遮光膜パターンを除去するためのパターン露光を行った後、該レジスト膜を現像してレジストパターンを形成した。次いで、ウェットエッチングを行って、不要な遮光膜パターンを除去し、残存するレジストパターンを剥離して、フォトマスクを得た。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は良好であり、遮光膜パターンの解像性は60nm(DRAM hp32nmに相当)未満であった。
その後、残存するレジストパターンを剥離して、再度レジスト膜を塗布し、転写領域内の不要な遮光膜パターンを除去するためのパターン露光を行った後、該レジスト膜を現像してレジストパターンを形成した。次いで、ウェットエッチングを行って、不要な遮光膜パターンを除去し、残存するレジストパターンを剥離して、フォトマスクを得た。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は良好であり、遮光膜パターンの解像性は60nm(DRAM hp32nmに相当)未満であった。
[実施例2]
本実施例では、透光性基板10上に3つの層からなる遮光膜が設けられたバイナリーマスクブランクを製造した(図2参照)。
すなわち、スパッタリングの条件を表1に示すとおりに設定した以外は実施例1と同じ条件で反応性スパッタリングを行った。
本実施例では、透光性基板10上に3つの層からなる遮光膜が設けられたバイナリーマスクブランクを製造した(図2参照)。
すなわち、スパッタリングの条件を表1に示すとおりに設定した以外は実施例1と同じ条件で反応性スパッタリングを行った。
なお、表1におけるスパッタガスの流量は、体積百分率に換算すると、以下のとおりになる。
表面反射防止層1:Ar=21.0vol%、CO2=36.8vol%、N2=10.5vol%、He=31.6vol%
遮光層2:Ar=30.8vol%、NO=23.1vol%、He=46.2vol%
裏面反射防止層3:Ar=23.5vol%、CO2=29.4vol%、N2=11.8vol%、He=35.3vol%
表面反射防止層1:Ar=21.0vol%、CO2=36.8vol%、N2=10.5vol%、He=31.6vol%
遮光層2:Ar=30.8vol%、NO=23.1vol%、He=46.2vol%
裏面反射防止層3:Ar=23.5vol%、CO2=29.4vol%、N2=11.8vol%、He=35.3vol%
このようにして、図2に示すような、石英ガラスからなる透光性基板10上に裏面反射防止層3、遮光層2、表面反射防止層1が順に積層されたフォトマスクブランクが得られた。なお、裏面反射防止層3、遮光層2および表面反射防止層1からなる遮光膜における波長193.4nmの光に対する光学濃度(OD)は3であった。また、各層における光学濃度は表1に示すとおりであった。
次に、実施例1と同様に、得られた表面反射防止層1、遮光層2および裏面反射防止層3の組成と表面反射防止層1の原子数密度をRBSにより分析した。
その結果、表面反射防止層1(膜厚14nm)の膜組成は、Crが32atom%、Cが16atom%、Oが37atom%およびNが16atom%であった。また、表面反射防止層1のクロム比は、C/Crが0.5、O/Crが1.2、N/Crが0.5であった。さらに、表面反射防止層1の原子数密度は、11.0×1022atms/cm3であった。
遮光層2(膜厚25nm)の膜組成は、Crが87atom%、Oが9atom%およびNが4atom%であった。また、遮光層2のクロム比は、O/Crが0.1、N/Crが0.05であった。
また、裏面反射防止層3(膜厚25nm)の膜組成は、Crが49atom%、Cが11atom%、Oが26atom%およびNが14atom%であった。また、裏面反射防止層3のクロム比は、C/Crが0.2、O/Crが0.5、N/Crが0.3であった。
また、得られたフォトマスクブランクの断面をTEM(透過型電子顕微鏡)およびX線回折装置(XRD)で観察したところ、表面反射防止層1はグレインサイズが1〜2nmのアモルファス構造であった。原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面粗さを測定したところ、Ra=0.28nmであった。
本実施例で得られたフォトマスクブランクに濃度50ppmのオゾン水を流量1.4L/分で60分間スイングアームにて揺動させながら基板表面に供給し、遮光膜の膜厚、表面反射率および光学濃度の変化量を各々測定して耐薬性の評価を行った。
その結果、遮光膜の膜厚はオゾン水の噴霧によって変化しなかった。また、表面反射率は、波長193nmの光では−0.02%変化した。遮光膜の光学濃度は、−0.06変化した。
また、本実施例の表面反射防止層1と全く同じ層を、スパッタリングによってガラス基板に直接形成し、実施例1と同様の測定方法で、表面反射防止層1に濃度50ppmのオゾン水を60分間噴霧することによる反射率の変化量を測定した。
その結果、波長193nmの光では+0.5%、257nmの光では+2.1%、365nmでは+5.3%、488nmでは+4.6%変化した。
このように、本実施例の遮光膜は、オゾン処理に対して高い耐薬性を有していることが確認された。
このように、本実施例の遮光膜は、オゾン処理に対して高い耐薬性を有していることが確認された。
得られたフォトマスクブランク上に、電子線描画(露光)用化学増幅型ポジレジスト(PRL009:富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)をスピンコート法により膜厚が200nmとなるように塗布した。形成されたレジスト膜に対し、電子線描画装置を用いて所望のパターン描画を行った後、所定の現像液で現像してレジストパターンを形成した。
次に、上記レジストパターンに沿って、裏面反射防止層3、遮光層2および表面反射防止層1からなる遮光膜のドライエッチングを行って、遮光膜パターンを形成した。ドライエッチングガスとしてはCl2とO2(Cl2:O2=4:1)との混合ガスを用いた。その後、残存するレジストパターンを剥離して、フォトマスクを得た。
上記遮光膜のドライエッチングにおいて、各層のエッチング速度は表1のとおりであった。また、実施例1と同様に遮光膜パターンを観察したところ、ややテーパーがあるが、遮光膜の断面の角度が基板に対して垂直に形成され良好であった。さらに、オーバーエッチング時間を短くしても垂直な断面形状が得られ、トータルエッチング時間を比較例2と比べて25%程度短縮可能であることが確認された。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は良好であり、遮光膜パターンの解像性は70nm(DRAM hp45nmに相当)未満であった。
上記遮光膜のドライエッチングにおいて、各層のエッチング速度は表1のとおりであった。また、実施例1と同様に遮光膜パターンを観察したところ、ややテーパーがあるが、遮光膜の断面の角度が基板に対して垂直に形成され良好であった。さらに、オーバーエッチング時間を短くしても垂直な断面形状が得られ、トータルエッチング時間を比較例2と比べて25%程度短縮可能であることが確認された。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は良好であり、遮光膜パターンの解像性は70nm(DRAM hp45nmに相当)未満であった。
[実施例3]
本実施例では、実施例2において、遮光層2の成膜条件および膜厚、裏面反射防止層の膜厚を変更する以外は、実施例2と同様のバイナリーマスクブランクを製造した。
すなわち、スパッタリングの条件を表1に示すとおりに設定した以外は実施例2と同じ条件で反応性スパッタリングを行った。
本実施例では、実施例2において、遮光層2の成膜条件および膜厚、裏面反射防止層の膜厚を変更する以外は、実施例2と同様のバイナリーマスクブランクを製造した。
すなわち、スパッタリングの条件を表1に示すとおりに設定した以外は実施例2と同じ条件で反応性スパッタリングを行った。
なお、表1におけるスパッタガスの流量は、体積百分率に換算すると、以下のとおりになる。
表面反射防止層1:Ar=21.0vol%、CO2=36.8vol%、N2=10.5vol%、He=31.6vol%
遮光層2:Ar=27.2vol%、NO=18.2vol%、He=54.5vol%
裏面反射防止層3:Ar=23.5vol%、CO2=29.4vol%、N2=11.8vol%、He=35.3vol%
表面反射防止層1:Ar=21.0vol%、CO2=36.8vol%、N2=10.5vol%、He=31.6vol%
遮光層2:Ar=27.2vol%、NO=18.2vol%、He=54.5vol%
裏面反射防止層3:Ar=23.5vol%、CO2=29.4vol%、N2=11.8vol%、He=35.3vol%
このようにして、図2に示すような、石英ガラスからなる透光性基板10上に裏面反射防止層3、遮光層2、表面反射防止層1が順に積層されたフォトマスクブランクが得られた。なお、裏面反射防止層3、遮光層2および表面反射防止層1からなる遮光膜における波長193.4nmの光に対する光学濃度(OD)は3.1であった。また、各層における光学濃度は表1に示すとおりであった。
また、得られたフォトマスクブランクの断面をTEM(透過型電子顕微鏡)およびX線回折装置(XRD)で観察したところ、表面反射防止層1はグレインサイズが1〜2nmのアモルファス構造であった。原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面粗さを測定したところ、Ra=0.28nmであった。
また、実施例2と同様に、フォトマスクブランクの耐薬性の評価を行い、遮光膜の膜厚、表面反射率および光学濃度の変化量を各々測定した。
その結果、遮光膜の膜厚はオゾン水の噴霧によって変化しなかった。また、表面反射率は、波長193nmの光では−0.02%変化した。遮光膜の光学濃度は、−0.06変化した。
このように、本実施例の遮光膜は、オゾン処理に対して高い耐薬性を有していることが確認された。
その結果、遮光膜の膜厚はオゾン水の噴霧によって変化しなかった。また、表面反射率は、波長193nmの光では−0.02%変化した。遮光膜の光学濃度は、−0.06変化した。
このように、本実施例の遮光膜は、オゾン処理に対して高い耐薬性を有していることが確認された。
その後、実施例2と同様にして、フォトマスクを得た。
上記遮光膜のドライエッチングにおいて、各層のエッチング速度は表1のとおりであった。また、実施例1と同様に遮光膜パターンを観察したところ、遮光膜の断面の角度が基板に対して垂直に形成され良好であった。さらに、オーバーエッチング時間を短くしても垂直な断面形状が得られ、トータルエッチング時間を比較例2と比べて25%程度短縮可能であることが確認された。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は良好であり、遮光膜パターンの解像性は70nm(DRAM hp45nmに相当)未満であった。
上記遮光膜のドライエッチングにおいて、各層のエッチング速度は表1のとおりであった。また、実施例1と同様に遮光膜パターンを観察したところ、遮光膜の断面の角度が基板に対して垂直に形成され良好であった。さらに、オーバーエッチング時間を短くしても垂直な断面形状が得られ、トータルエッチング時間を比較例2と比べて25%程度短縮可能であることが確認された。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は良好であり、遮光膜パターンの解像性は70nm(DRAM hp45nmに相当)未満であった。
[比較例1]
本比較例では、2つの層からなる遮光膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクを製造した。
具体的には、インライン型スパッタ装置を用い、実施例1と同様の位相シフター膜上に、遮光層を形成した。スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は以下のとおりであった。
スパッタターゲット:Cr
スパッタガス:ArとN2とHeとの混合ガス雰囲気(Ar:30sccm、N2:30sccm、He:40sccm)
放電中のガス圧:0.2Pa
印加電力:0.8kW
本比較例では、2つの層からなる遮光膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクを製造した。
具体的には、インライン型スパッタ装置を用い、実施例1と同様の位相シフター膜上に、遮光層を形成した。スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は以下のとおりであった。
スパッタターゲット:Cr
スパッタガス:ArとN2とHeとの混合ガス雰囲気(Ar:30sccm、N2:30sccm、He:40sccm)
放電中のガス圧:0.2Pa
印加電力:0.8kW
その後、遮光層の上に表面反射防止層を形成した。スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は以下のとおりであった。
スパッタターゲット:クロム(Cr)
スパッタガス:アルゴン(Ar)とメタン(CH4)との混合ガス(CH4:3.5体積%)、NOおよびHeが混合されたガス(Ar+CH4:65sccm、NO:3sccm、He:40sccm)
放電中のガス圧:0.3Pa
印加電力:0.3kW
スパッタターゲット:クロム(Cr)
スパッタガス:アルゴン(Ar)とメタン(CH4)との混合ガス(CH4:3.5体積%)、NOおよびHeが混合されたガス(Ar+CH4:65sccm、NO:3sccm、He:40sccm)
放電中のガス圧:0.3Pa
印加電力:0.3kW
このようにして、石英ガラスからなる透光性基板上に、位相シフター膜、遮光層および表面反射防止層が順に積層された遮光膜厚48nmのフォトマスクブランクが得られた。なお、遮光層および表面反射防止層からなる遮光膜における波長193.4nmの光に対する光学濃度(O.D.)は1.9であった。
次に、実施例1と同様に、得られた表面反射防止層および遮光層の組成と、表面反射防止層の原子数密度をRBSにより分析した。
その結果、表面反射防止層(膜厚24nm)の膜組成は、Crが34atom%、Оが32atom%およびNが23atom%であった。また、表面反射防止層のクロム比は、О/Crが0.9およびN/Crが0.7であった。さらに、表面反射防止層の原子数密度は、7.4×1022atms/cm3であった。
遮光層(膜厚24nm)の膜組成は、Crが59atom%およびNが39atom%であった。また、遮光層のクロム比は、N/Crが0.7であった。
なお、インライン型スパッタ装置を用いたため、遮光層および表面反射防止層は各々膜厚方向に組成が傾斜した傾斜膜であった。したがって、上記膜組成は平均値である。
その結果、表面反射防止層(膜厚24nm)の膜組成は、Crが34atom%、Оが32atom%およびNが23atom%であった。また、表面反射防止層のクロム比は、О/Crが0.9およびN/Crが0.7であった。さらに、表面反射防止層の原子数密度は、7.4×1022atms/cm3であった。
遮光層(膜厚24nm)の膜組成は、Crが59atom%およびNが39atom%であった。また、遮光層のクロム比は、N/Crが0.7であった。
なお、インライン型スパッタ装置を用いたため、遮光層および表面反射防止層は各々膜厚方向に組成が傾斜した傾斜膜であった。したがって、上記膜組成は平均値である。
また、得られたフォトマスクブランクの断面をTEM(透過型電子顕微鏡)およびX線回折装置(XRD)で観察したところ、表面反射防止層は密度の低いポーラス状柱状構造であった。原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面粗さを測定したところ、Ra=0.70nmであった。
さらに、実施例1と同様に、本比較例で得られたフォトマスクブランクの耐薬性の評価を行った。
その結果、遮光膜の膜厚はオゾン水の噴霧によって、膜厚が5.8nm減少した。また、表面反射率は、波長193nmの光では+2.72%変化した。遮光膜の光学濃度は、−0.38変化した。
その結果、遮光膜の膜厚はオゾン水の噴霧によって、膜厚が5.8nm減少した。また、表面反射率は、波長193nmの光では+2.72%変化した。遮光膜の光学濃度は、−0.38変化した。
また、本比較例の表面反射防止層と全く同じ層を、スパッタリングによってガラス基板に直接形成し、実施例1と同様の測定方法で、反射率の変化量を測定した。
その結果、波長193nmの光では+2.5%(19.8%→22.3%)、257nmの光では+9.1%(16.4%→25.5%)、365nmでは+13.9%(19.9%→33.8%)、488nmでは+11.0%(29.9%→40.9%)変化した。
これにより、実施例1と2に比べて、本比較例の遮光膜は、オゾン処理に対して耐薬性が低いことが確認された。
その結果、波長193nmの光では+2.5%(19.8%→22.3%)、257nmの光では+9.1%(16.4%→25.5%)、365nmでは+13.9%(19.9%→33.8%)、488nmでは+11.0%(29.9%→40.9%)変化した。
これにより、実施例1と2に比べて、本比較例の遮光膜は、オゾン処理に対して耐薬性が低いことが確認された。
実施例1と同様に、得られたフォトマスクブランク上に、電子線描画(露光)用化学増幅型ポジレジストを膜厚が150nmとなるように塗布し、実施例1と同様にしてフォトマスクを得た。
上記遮光膜のドライエッチングにおいて、エッチング速度は実施例1よりも遅かった。遮光膜全体のクリアエッチング時間は92.0secであった。また、実施例1と同様に遮光膜パターンを観察したところ、遮光膜の断面の角度が基板に対して垂直に形成されなかった。このため、位相シフター膜パターンの断面形状も良好ではなかった。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は悪く、エッチング不良により、遮光膜パターンの解像性は80nm以上であった。
上記遮光膜のドライエッチングにおいて、エッチング速度は実施例1よりも遅かった。遮光膜全体のクリアエッチング時間は92.0secであった。また、実施例1と同様に遮光膜パターンを観察したところ、遮光膜の断面の角度が基板に対して垂直に形成されなかった。このため、位相シフター膜パターンの断面形状も良好ではなかった。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は悪く、エッチング不良により、遮光膜パターンの解像性は80nm以上であった。
[比較例2]
本比較例では、遮光膜を2つの層からなる遮光膜を有するバイナリーマスクブランクを製造した。
具体的には、インライン型スパッタ装置を用い、透光性基板上に、遮光層を形成した。スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は以下のとおりであった。
スパッタターゲット:Cr
スパッタガス:ArとN2とHeとの混合ガス雰囲気(Ar:72sccm、N2:28sccm)
放電中のガス圧:0.3Pa
印加電力:0.6kW
本比較例では、遮光膜を2つの層からなる遮光膜を有するバイナリーマスクブランクを製造した。
具体的には、インライン型スパッタ装置を用い、透光性基板上に、遮光層を形成した。スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は以下のとおりであった。
スパッタターゲット:Cr
スパッタガス:ArとN2とHeとの混合ガス雰囲気(Ar:72sccm、N2:28sccm)
放電中のガス圧:0.3Pa
印加電力:0.6kW
その後、遮光層の上に表面反射防止層を形成した。スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は以下のとおりであった。
スパッタターゲット:クロム(Cr)
スパッタガス:アルゴン(Ar)とメタン(CH4)との混合ガス(CH4:8体積%)、NOおよびHeが混合されたガス(Ar+CH4:105sccm、NO:3sccm)
放電中のガス圧:0.3Pa
印加電力:1.1kW
スパッタターゲット:クロム(Cr)
スパッタガス:アルゴン(Ar)とメタン(CH4)との混合ガス(CH4:8体積%)、NOおよびHeが混合されたガス(Ar+CH4:105sccm、NO:3sccm)
放電中のガス圧:0.3Pa
印加電力:1.1kW
このようにして、石英ガラスからなる透光性基板上に遮光層および表面反射防止層が順に積層された遮光膜厚73nmのフォトマスクブランクが得られた。なお、遮光層および表面反射防止層からなる遮光膜における波長193.4nmの光に対する光学濃度(O.D.)は3.0であった。
次に、実施例1と同様に、得られた表面反射防止層および遮光層の組成と、表面反射防止層の原子数密度をRBSにより分析した。
その結果、表面反射防止層の膜組成は、Crが48atom%、ОおよびNの合計が50atom%であった。遮光層2の膜組成は、Crが60atom%、ОおよびNの合計が30atom%であった。なお、インライン型スパッタ装置を用いたため、遮光層および表面反射防止層は各々膜厚方向に組成が傾斜した傾斜膜であった。したがって、上記膜組成は平均値である。
その結果、表面反射防止層の膜組成は、Crが48atom%、ОおよびNの合計が50atom%であった。遮光層2の膜組成は、Crが60atom%、ОおよびNの合計が30atom%であった。なお、インライン型スパッタ装置を用いたため、遮光層および表面反射防止層は各々膜厚方向に組成が傾斜した傾斜膜であった。したがって、上記膜組成は平均値である。
また、得られたフォトマスクブランクの断面をTEM(透過型電子顕微鏡)およびX線回折装置(XRD)で観察したところ、表面反射防止層は密度の低いポーラス状柱状構造であった。原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面粗さを測定したところ、Ra=0.60nmであった。
さらに、実施例1と同様に、本比較例で得られたフォトマスクブランクの耐薬性の評価を行った。
その結果、当該フォトマスクブランクの遮光膜の膜厚はオゾン水の噴霧によって、膜厚が4.2nm減少した。また、表面反射率は、波長193nmの光では+5.30%変化した。遮光膜の光学濃度は、−2.60変化した。
その結果、当該フォトマスクブランクの遮光膜の膜厚はオゾン水の噴霧によって、膜厚が4.2nm減少した。また、表面反射率は、波長193nmの光では+5.30%変化した。遮光膜の光学濃度は、−2.60変化した。
実施例2と同様に、得られたフォトマスクブランク上に、電子線描画(露光)用化学増幅型ポジレジストを膜厚が200nmとなるように塗布し、実施例2と同様にしてフォトマスクを得た。
上記遮光膜のドライエッチングにおいて、エッチング速度は実施例2よりも遅かった。また、実施例1と同様に遮光膜パターンを観察したところ、実施例2に比べて、遮光膜の断面の角度が基板に対して垂直に形成されなかった。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は悪く、エッチング不良により、遮光膜パターンの解像性は80nm以上であった。
上記遮光膜のドライエッチングにおいて、エッチング速度は実施例2よりも遅かった。また、実施例1と同様に遮光膜パターンを観察したところ、実施例2に比べて、遮光膜の断面の角度が基板に対して垂直に形成されなかった。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は悪く、エッチング不良により、遮光膜パターンの解像性は80nm以上であった。
[実施例4]
本実施例では、遮光膜をCr系からMoSi系に変え、該遮光膜上にCr系エッチングマスク膜が設けられたバイナリーマスクブランクを製造した。遮光膜として、MoSiON膜(裏面反射防止層)、MoSi膜(遮光層)、MoSiON膜(表面反射防止層)を、エッチングマスク膜としてCrOCN膜を、それぞれ形成した。
本実施例では、遮光膜をCr系からMoSi系に変え、該遮光膜上にCr系エッチングマスク膜が設けられたバイナリーマスクブランクを製造した。遮光膜として、MoSiON膜(裏面反射防止層)、MoSi膜(遮光層)、MoSiON膜(表面反射防止層)を、エッチングマスク膜としてCrOCN膜を、それぞれ形成した。
具体的には、MoとSiとの混合ターゲット(Mo:Si=21mol%:79mol%)を用いArとO2とN2とHeとの混合ガス雰囲気(ガス流量比 Ar:O2:N2:He=5:4:49:42)で、ガス圧0.2Pa、DC電源の電力を3.0kWとして、モリブデン、シリコン、酸素、窒素からなる膜(Mo:13.0atm%、Si:36.3atm%、O:3.1atm%、N:47.7atm%)を7nmの膜厚で形成し、MoSiON膜(裏面反射防止層)を形成した。
次いで、Mo:Si=21mol%:79mol%のターゲットを用い、Arをスパッタリングガス圧0.1Pa、DC電源の電力を2.0kWで、モリブデンおよびシリコンからなる膜(Mo:21.0atm%、Si:79.0atm%)を30nmの膜厚で形成し、MoSi膜(遮光層)を形成した。
次いで、Mo:Si=21mol%:79mol%のターゲットを用い、Arをスパッタリングガス圧0.1Pa、DC電源の電力を2.0kWで、モリブデンおよびシリコンからなる膜(Mo:21.0atm%、Si:79.0atm%)を30nmの膜厚で形成し、MoSi膜(遮光層)を形成した。
次いで、Mo:Si=4mol%:96mol%のターゲットを用い、ArとO2とN2とHe(ガス流量比 Ar:O2:N2:He=6:5:11:16)で、ガス圧0.1Pa、DC電源の電力を3.0kWで、モリブデン、シリコン、酸素、窒素からなる膜(Mo:2.6atm%、Si:57.1atm%、O:15.9atm%、N:24.1atm%)を15nmの膜厚で形成し、MoSiON膜(表面反射防止層)を形成した。
遮光膜の合計膜厚は52nmとした。遮光膜の光学濃度(OD)はArFエキシマレーザ露光光の波長193nmにおいて3.0であった。
その後、実施例1の表面反射防止層と同じ条件で、CrOCN(Cr:34atm%、C:11atm%、O:39atm%、N:16atm%)からなるエッチングマスク膜を膜厚15nmで形成した。
以上のようにして、本実施例のフォトマスクブランクを作製した。
遮光膜の合計膜厚は52nmとした。遮光膜の光学濃度(OD)はArFエキシマレーザ露光光の波長193nmにおいて3.0であった。
その後、実施例1の表面反射防止層と同じ条件で、CrOCN(Cr:34atm%、C:11atm%、O:39atm%、N:16atm%)からなるエッチングマスク膜を膜厚15nmで形成した。
以上のようにして、本実施例のフォトマスクブランクを作製した。
得られたフォトマスクブランクの断面をTEM(透過型電子顕微鏡)およびX線回折装置(XRD)で観察したところ、エッチングマスク膜はグレインサイズが1〜2nmのアモルファス構造であった。原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面粗さを測定したところ、Ra=0.45nmであった。
フォトマスクブランクのエッチングマスク膜の上に、電子線描画(露光)用化学増幅型ポジレジスト(PRL009:富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)をスピンコート法により膜厚が100nmとなるように塗布した。
次に、レジスト膜に対し、電子線描画装置を用いて所望のパターンの描画を行った後、所定の現像液で現像してレジストパターンを形成した。次に、レジストパターンをマスクとして、エッチングマスク膜のドライエッチングを行った。ドライエッチングガスとして、Cl2とO2の混合ガス(Cl2:O2=4:1)を用いた。
次いで、残留したレジストパターンを薬液により剥離除去した。
次いで、エッチングマスク膜パターンをマスクにして、遮光膜を、SF6とHeの混合ガスを用い、ドライエッチングを行い、遮光膜パターンを形成した。
次いで、エッチングマスク膜パターンを、Cl2とO2の混合ガスでドライエッチングによって剥離し、所定の洗浄を施してフォトマスクを得た。
次に、レジスト膜に対し、電子線描画装置を用いて所望のパターンの描画を行った後、所定の現像液で現像してレジストパターンを形成した。次に、レジストパターンをマスクとして、エッチングマスク膜のドライエッチングを行った。ドライエッチングガスとして、Cl2とO2の混合ガス(Cl2:O2=4:1)を用いた。
次いで、残留したレジストパターンを薬液により剥離除去した。
次いで、エッチングマスク膜パターンをマスクにして、遮光膜を、SF6とHeの混合ガスを用い、ドライエッチングを行い、遮光膜パターンを形成した。
次いで、エッチングマスク膜パターンを、Cl2とO2の混合ガスでドライエッチングによって剥離し、所定の洗浄を施してフォトマスクを得た。
このフォトマスクの作製例では、エッチングマスク膜パターンを形成後、レジストパターンを剥離除去したが、これは、その次のプロセスで遮光膜に遮光膜パターンを形成する際、マスクパターンの側壁高さ(=エッチングマスク膜パターンの側壁高さ)が低い方が、CD精度をより高く、マイクロローディングをより小さくすることができ、より加工精度に優れるためである。なお、そこまでの加工精度が要求されないフォトマスクを作製する場合やエッチングマスク膜にも露光光に対する反射防止の役割を持たせたい場合においては、レジストパターンを遮光膜パターンが形成された後に剥離除去するようにしてもよい。
得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は良好であり、また、エッチングマスク膜のLERも良好であり、得られたフォトマスクにおける遮光膜パターンの解像性は40nm(DRAM hp22nmに相当)未満であった。
[実施例5]
本実施例は、遮光膜に関し、MoSiON膜(裏面反射防止層)を形成しなかったこと、遮光膜におけるMoSi膜(遮光層)及びMoSiON膜(表面反射防止層)に関し、下記条件で成膜を行い、MoSi膜(遮光層)をMoSiN膜(遮光層)に変え、その膜厚及び膜中のSi含有率を変化させたこと、MoSiON膜(表面反射防止層)の膜厚を変化させたこと、遮光膜の合計膜厚を変化させたこと、を除き、実施例4と同様である。
遮光膜におけるMoSiN膜(遮光層)は、モリブデン、シリコンおよび窒素からなる膜(Mo:7.1atm%、Si:71.7atm%、N:18.2atm%)を52nmの膜厚で形成した。また、遮光膜におけるMoSiON膜(表面反射防止層)は、モリブデン、シリコン、酸素、窒素からなる膜(Mo:2.6atm%、Si:57.1atm%、O:15.9atm%、N:24.1atm%)を8nmの膜厚で形成した。
遮光膜の合計膜厚は60nmとした。遮光膜の光学濃度(OD)はArFエキシマレーザ露光光の波長193nmにおいて3.0であった。
本実施例は、遮光膜に関し、MoSiON膜(裏面反射防止層)を形成しなかったこと、遮光膜におけるMoSi膜(遮光層)及びMoSiON膜(表面反射防止層)に関し、下記条件で成膜を行い、MoSi膜(遮光層)をMoSiN膜(遮光層)に変え、その膜厚及び膜中のSi含有率を変化させたこと、MoSiON膜(表面反射防止層)の膜厚を変化させたこと、遮光膜の合計膜厚を変化させたこと、を除き、実施例4と同様である。
遮光膜におけるMoSiN膜(遮光層)は、モリブデン、シリコンおよび窒素からなる膜(Mo:7.1atm%、Si:71.7atm%、N:18.2atm%)を52nmの膜厚で形成した。また、遮光膜におけるMoSiON膜(表面反射防止層)は、モリブデン、シリコン、酸素、窒素からなる膜(Mo:2.6atm%、Si:57.1atm%、O:15.9atm%、N:24.1atm%)を8nmの膜厚で形成した。
遮光膜の合計膜厚は60nmとした。遮光膜の光学濃度(OD)はArFエキシマレーザ露光光の波長193nmにおいて3.0であった。
その後、クロムターゲットを使用し、ArとNOをスパッタリングガス圧0.2Pa(ガス流量比 Ar:NO:He=18:80:32)とし、DC電源の電力を1.8kWとして、CrON膜(膜中のCr含有率:35原子%)からなるエッチングマスク膜を15nmで形成した。
以上のようにして、本実施例のバイナリーマスクブランクを作製した。
以上のようにして、本実施例のバイナリーマスクブランクを作製した。
得られたフォトマスクブランクの断面をTEM(透過型電子顕微鏡)およびX線回折装置(XRD)で観察したところ、エッチングマスク膜はグレインサイズが1〜2nmのアモルファス構造であった。原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面粗さを測定したところ、Ra=0.48nmであった。
実施例4と同様にして、フォトマスクを得た。得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は良好であり、また、エッチングマスク膜のLERも良好であり、得られたフォトマスクにおける遮光膜パターンの解像性は40nm(DRAM hp22nmに相当)未満であった。
実施例4と同様にして、フォトマスクを得た。得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は良好であり、また、エッチングマスク膜のLERも良好であり、得られたフォトマスクにおける遮光膜パターンの解像性は40nm(DRAM hp22nmに相当)未満であった。
[比較例3]
本比較例は、エッチングマスク膜をCrNに変えたことを除き、実施例5と同様である。すなわち、クロムターゲットを使用し、ArとN2をスパッタリングガス圧0.2Pa(ガス流量比 Ar:N2:He=18:18:32)とし、DC電源の電力を1.8kWで、CrN膜(膜中のCr含有率:90原子%)からなるエッチングマスク膜を15nmで形成した。
また、得られたフォトマスクブランクの断面をTEM(透過型電子顕微鏡)およびX線回折装置(XRD)で観察したところ、表面反射防止層は密度の低いポーラス状柱状構造であった。原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面粗さを測定したところ、Ra=0.70nmであった。
実施例4と同様にして、フォトマスクを得た。得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は悪く、また、エッチングマスク膜のLERも大きく、得られたフォトマスクにおける遮光膜パターンの解像性は70nm以上であった。
本比較例は、エッチングマスク膜をCrNに変えたことを除き、実施例5と同様である。すなわち、クロムターゲットを使用し、ArとN2をスパッタリングガス圧0.2Pa(ガス流量比 Ar:N2:He=18:18:32)とし、DC電源の電力を1.8kWで、CrN膜(膜中のCr含有率:90原子%)からなるエッチングマスク膜を15nmで形成した。
また、得られたフォトマスクブランクの断面をTEM(透過型電子顕微鏡)およびX線回折装置(XRD)で観察したところ、表面反射防止層は密度の低いポーラス状柱状構造であった。原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面粗さを測定したところ、Ra=0.70nmであった。
実施例4と同様にして、フォトマスクを得た。得られたフォトマスクに対して、解像性評価を行った。レジスト膜の解像性は悪く、また、エッチングマスク膜のLERも大きく、得られたフォトマスクにおける遮光膜パターンの解像性は70nm以上であった。
本発明の好ましい態様に係るフォトマスクブランクは、シャドウイングを抑制することができるから高NAリソグラフィに用いることができ、短波長の露光光のリソグラフィに用いることもできる。したがって、本発明の好ましい態様に係るフォトマスクブランクを用いることによって、極めて微細なマスクパターンが形成できる。
また、本発明の好ましい態様に係るフォトマスクブランクは、たとえば、超高NA−ArFリソグラフィにてhp45nm、hp32nm世代以降のフォトマスクブランクに適用できる。
Claims (9)
- ArFエキシマレーザ光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクであって、
透光性基板上に位相シフター膜および遮光膜をこの順に有し、
前記遮光膜は、前記透光性基板に近い側から裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層が順に積層され、
前記遮光層は、クロムおよび窒素を含み、クロムの含有量が50atm%以上であり、
前記表面反射防止層および裏面反射防止層は、クロム、窒素、酸素および炭素を含む材料からなるアモルファス構造であり、
前記表面反射防止層および裏面反射防止層は、クロムの含有量が40atm%以下であり、裏面反射防止層の窒素と酸素の合計含有量が表面反射防止層の窒素と酸素の合計含有量よりも少なく、
前記遮光膜全体の膜厚が60nm以下であり、
前記遮光層と表面反射防止層の膜厚比は、1.0:2.0〜1.0:7.0であり、
遮光層の膜厚は、裏面反射防止層の膜厚の15%以下であるフォトマスクブランク。 - 前記表面反射防止層のクロムの含有量が30〜40atm%、窒素と酸素の含有量の合計が50〜60atm%である、請求項1に記載のフォトマスクブランク。
- 前記表面反射防止層は、クロムターゲットを用いてCO2ガスを含む混合ガス中で、メタルモードから反応モードへの移行が始まる付近の条件、または反応モードよりの条件でDCスパッタすることによって形成される、請求項1または2に記載のフォトマスクブランク。
- 前記表面反射防止層の表面粗さは、Raにおいて0.50nm以下である、請求項1ないし3のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
- 前記裏面反射防止層の膜厚は、前記表面反射防止層の膜厚よりも厚い、請求項1ないし4のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
- 前記裏面反射防止層のクロムの含有量が30〜40atm%、窒素と酸素の含有量の合計が40〜55atm%である、請求項1ないし5のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
- 前記遮光膜上にレジスト膜を有する、請求項1ないし6のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
- 請求項1ないし7のいずれかに記載のフォトマスクブランクを用いて作製されるフォトマスク。
- 請求項8に記載のフォトマスクを用いて半導体基板上にパターン転写を行う半導体集積回路の製造方法。
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