JP5570948B2 - 基板縦方向揺動装置、基板ステージ装置及びイオン注入装置 - Google Patents

基板縦方向揺動装置、基板ステージ装置及びイオン注入装置 Download PDF

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Description

本発明は、基板縦方向揺動装置、基板ステージ装置及びイオン注入装置に関する。
現在、半導体ウエハなどの基板に、P、As、In、Sbなどのイオンを所定の浸透深さで導入するためにイオン注入装置が用いられている。
図6は従来のイオン注入装置の内部構成図、図7は同内部正面図を示している。
イオン注入装置110は、真空槽111と、基板120を保持する基板ステージ装置130と、イオンを放出するイオン源119とを有している。
基板ステージ装置130は、本体131と、基板120を保持できるように構成された基板保持台121と、基板保持台121を本体131に対して鉛直方向に沿って往復移動させる縦方向移動装置とを有している。
本体131は真空槽111内の所定の位置に固定されている。
ここでは縦方向移動装置は、モーター123と、ボールねじ124と、縦方向移動部材128とを有している。
ボールねじ124の軸は鉛直に向けられて本体131に固定され、縦方向移動部材128はボールねじ124のナットに取り付けられている。
ボールねじ124の軸の一端は磁性流体シール129を介して真空槽111の壁面を気密に貫通し、真空槽111の外側に配置されたモーター123に接続されている。モーター123を駆動させてボールねじ124の軸を左り又は右回りに回転させると、縦方向移動部材128は上下に移動するようになっている。
基板保持台121にはここでは静電吸着機構が設けられ、基板保持台121の表面に基板120を吸着保持できるように構成されている。
基板保持台121は縦方向移動部材128に取り付けられている。縦方向移動部材128が上下に移動すると、基板保持台121に保持された基板120も上下に移動するようになっている。
イオン源119は真空槽111内に配置され、基板ステージ装置130に保持された基板120に向けてイオンを照射できるように構成されている。
イオン源119から放出されたイオンの飛行経路には磁石装置118が配置されている。磁石装置118はイオンの飛行経路に磁場を形成して、イオンの進行方向を曲げて、基板120上でのイオンの照射領域を左右に移動できるようにされている。
磁石装置118によってイオンの照射領域を基板120の横方向の一端から他端まで移動させる横方向移動工程と、基板ステージ装置130によって基板120をイオンの照射領域の幅の長さだけ上方又は下方のいずれか一方向に移動させる縦方向移動工程とを繰り返すことで、照射領域を基板120の左端と右端との間を往復させながら上端から下端まであるいは下端から上端まで走査させることができ、基板120表面全体にイオンを打ち込むことができる。
上述のように従来のイオン注入装置110では、基板保持台121を鉛直方向に沿って所定の加速度で動かすためには、大きな駆動トルクが必要であるため、モーター123を真空槽111の外側に配置しなければならず、真空槽111内のボールねじ124との接続に磁性流体シール129を介して接続する必要があった。そのためイオン注入装置110の構成が複雑になり、コストアップの要因となっていた。また、磁性流体シール129のシール性能が劣化する虞があるため、イオン注入装置110の信頼性を上げることが難しかった。
さらに、モーター123を真空槽111の外側に配置するため、基板ステージ装置130の本体131は自ずと真空槽111内の定位置に固定する必要があり、基板ステージ装置130で基板120を左右に揺動させるように構成することはできなかった。すなわち、基板120上でイオンの照射領域を左右に移動させるためには、大型の磁石装置118と大型のビームラインが必要であり、装置全体が大型となって、コストも膨大になるという問題があった。
特開2009−70886号公報
本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、真空槽内での位置を移動できる基板縦方向揺動装置と、真空槽内で基板を縦方向及び横方向に往復移動できる基板ステージ装置及びイオン注入装置を提供することにある。
上記課題を解決するために本発明は、本体と、基板を保持できるように構成された基板保持台と、前記基板保持台を前記本体に対して鉛直方向に沿って往復移動させる縦方向移動装置と、を有する基板縦方向揺動装置であって、前記縦方向移動装置は、回転軸と、互いに固定されて前記回転軸にそれぞれ取り付けられ、前記回転軸の回転によって互いに上下反対方向にそれぞれ回動する第一、第二の腕部と、前記回転軸から見て互いに逆側に鉛直に配置され、前記本体に固定された第一、第二の縦レールと、前記第一、第二の縦レールと、前記第一、第二の腕部とをそれぞれ連結する第一、第二の連結部材とを有し、前記第一、第二の連結部材は、前記第一、第二の縦レールに沿って上下に移動する第一、第二の縦方向移動部材と、前記第一、第二の腕部の回動動作による移動の鉛直方向の成分を抽出し、前記第一、第二の縦方向移動部材を抽出した移動量移動させる第一、第二の縦方向移動抽出部材とを有し、前記基板保持台は、前記第一の縦方向移動部材に設けられ、前記第二の縦方向移動部材には、前記基板保持台の重さより重い重りが設けられた基板縦方向揺動装置である。
本発明は基板縦方向揺動装置であって、前記第一、第二の縦方向移動抽出部材は、前記第一、第二の縦方向移動部材に水平に固定された第一、第二の横レールと、前記第一、第二の腕部に、前記第一、第二の腕部と前記第一、第二の横レールのいずれか一方又は両方に対して回動可能に取り付けられ、前記第一、第二の横レールに沿って左右に移動する第一、第二の横方向移動部材とを有する基板縦方向揺動装置である。
本発明は基板縦方向揺動装置であって、前記第一、第二の縦方向移動抽出部材は、前記第一、第二の腕部に沿って固定された第一、第二の動径レールと、前記第一、第二の縦方向移動部材に、前記第一、第二の縦方向移動部材と前記第一、第二の動径レールのいずれか一方又は両方に対して回動可能に取り付けられ、前記第一、第二の動径レールに沿って往復移動する第一、第二の動径方向移動部材とを有する基板縦方向揺動装置である。
本発明は基板縦方向揺動装置であって、前記第一、第二の横方向移動部材の取付位置は、前記第一、第二の腕部に沿って変更できるように構成された基板縦方向揺動装置である。
本発明は、基板縦方向揺動装置と、前記基板縦方向揺動装置を水平方向に沿って往復移動させる基板横方向揺動装置と、を有する基板ステージ装置である。
本発明は、真空槽と、基板ステージ装置と、イオンを放出するイオン源と、を有し、前記基板ステージ装置の前記基板縦方向揺動装置は前記真空槽内に配置され、前記イオン源は前記基板縦方向揺動装置の前記基板保持台に保持された基板に向けてイオンを照射できるように構成されたイオン注入装置である。
本発明の縦方向移動装置の動作原理である、いわゆるカウンタバランス機構ついて図5を参照して説明する。
質量M(kg)の移動部材を加速度a(m/sec2)で上昇させるために必要な推力F(N)の大きさはM(g+a)+fであり、加速度aで下降させるために必要な推力Fの大きさはM(g−a)−fである。
ここで、gは重力加速度(m/sec2)、fはレールと移動部材との間の擦動抵抗(N)を示している。
従って、カウンタバランス機構では、質量Mの移動部材を加速度aで上昇加速、下降加速させる場合に必要な推力Fup、Fdownは、
up=M(g+a)+f−(M(g−a)−f)=2(Ma+f)
down=M(g−a)−f−(M(g+a)+f)=−2(Ma+f)
となる。それぞれの場合において反力が作用するため、駆動に必要な推力ではMgが相殺される(減速時、等速時も同様にMgが相殺される)。
すなわち、FupとFdownでは動きの向きで符号は逆転するが、必要な推力の大きさは同じになる。
基板縦方向揺動装置のモーターの負荷を従来より低減できるので、モーターの発熱を抑制でき、モーターを真空槽内に配置して使用できる。
基板縦方向揺動装置のモーターを真空槽内に配置し、磁性流体シールを使わないので、装置の信頼性が向上する。また基板縦方向揺動装置を真空槽内で移動させることができる。
基板を鉛直方向と水平方向にそれぞれ移動できるので、イオンの飛行経路に磁石装置を配置する必要がなく、装置を従来より小型化でき、コストを低減できる。
本発明のイオン注入装置の内部構成図 本発明のイオン注入装置の内部正面図 (a)〜(c):第一、第二の連結部材の構造の第一例を説明するための図 (a)〜(c):第一、第二の連結部材の構造の第二例を説明するための図 カウンタバランス機構の原理を説明するための模式図 従来のイオン注入装置の内部構成図 従来のイオン注入装置の内部正面図
<イオン注入装置の構造>
本発明のイオン注入装置の構造を説明する。図1はイオン注入装置10の内部構成図、図2は同内部正面図を示している。
イオン注入装置10は、真空槽11と、基板20を保持する基板ステージ装置30と、イオンを放出するイオン源19とを有している。
イオン源19は真空槽11内に配置され、基板ステージ装置30に保持された基板20に向けてイオンを照射できるように構成されている。
基板ステージ装置30は、真空槽11内に配置された基板縦方向揺動装置を有している。
基板縦方向揺動装置は、本体31と、基板20を保持できるように構成された基板保持台21と、基板保持台21を本体31に対して鉛直方向に沿って往復移動させる縦方向移動装置とを有している。
ここでは縦方向移動装置は、真空対応の第一のモーター23と、ボールねじ24と、主縦方向移動部材28とを有している。
ボールねじ24の軸は鉛直に向けられて本体31に固定され、主縦方向移動部材28はボールねじ24のナットに取り付けられている。
第一のモーター23は真空槽11内に配置され、ボールねじ24の軸の一端に接続されている。ボールねじ24の軸は真空槽11の壁面を貫通しないので、装置の信頼性が向上する。
真空槽11の外側に配置された制御装置18から制御信号を受けると、第一のモーター23はボールねじ24の軸を左り又は右回りに回転させて、ボールねじ24のナットに取り付けられた主縦方向移動部材28をボールねじ24の軸に沿って上下に移動させるように構成されている。
基板保持台21にはここでは静電吸着機構が設けられ、基板保持台21の表面に基板20を吸着保持できるように構成されている。
基板保持台21は主縦方向移動部材28に取り付けられている。第一のモーター23によって主縦方向移動部材28を上下に移動させると、基板保持台21も一緒に上下に移動するようになっている。
本発明の縦方向移動装置は、回転軸37と、互いに固定されて回転軸37にそれぞれ取り付けられ、回転軸37の回転によって互いに上下反対方向にそれぞれ回動する第一、第二の腕部33a、33bと、回転軸37の中心軸線から見て互いに逆側に鉛直に配置され、本体31に固定された第一、第二の縦レール32a、32bと、第一、第二の縦レール32a、32bと第一、第二の腕部33a、33bとをそれぞれ連結する第一、第二の連結部材とを有している。
回転軸37は本体31に水平に取り付けられ、本体31に対して回転軸37を回動させると、第一、第二の腕部33a、33bはそれぞれ、鉛直な平面内で互いに上下反対方向に回動するようになっている。
第一、第二の連結部材は、第一、第二の縦レール32a、32bに沿って上下に移動する第一、第二の縦方向移動部材34a、34bと、第一、第二の腕部33a、33bの回動動作による移動の鉛直方向の成分を抽出し、第一、第二の縦方向移動部材34a、34bを抽出した移動量移動させる第一、第二の縦方向移動抽出部材とを有している。
ここでは第一、第二の縦方向移動部材34a、34bの第一、第二の縦レール32a、32bと対面する部分には断面が「コ」字形状の溝が設けられ、溝は第一、第二の縦レール32a、32bと嵌合され、第一、第二の縦方向移動部材34a、34bは第一、第二の縦レール32a、32bに沿って上下に移動するようになっている。
第一、第二の縦方向移動抽出部材は、第一、第二の縦方向移動部材34a、34bに水平に固定された第一、第二の横レール36a、36bと、第一、第二の腕部33a、33bに、第一、第二の腕部33a、33bと第一、第二の横レール36a、36bのいずれか一方又は両方に対して回動可能に取り付けられ、第一、第二の横レール36a、36bに沿って左右に移動する第一、第二の横方向移動部材35a、35bとを有している。
第一、第二の縦方向移動抽出部材の構造の第一の具体例を説明する。
第一、第二の横方向移動部材35a、35bと第一、第二の腕部33a、33bの互いに対面可能な部分にはそれぞれ凸部と凹部が設けられ、凸部と凹部とが嵌合されて、第一、第二の横方向移動部材35a、35bは第一、第二の腕部33a、33bに対して回動可能に取り付けられている。
また第一、第二の横方向移動部材35a、35bの第一、第二の横レール36a、36bと対面可能な部分には断面が「コ」字形状の溝が設けられ、溝は第一、第二の横レール36a、36bと嵌合され、第一、第二の横方向移動部材35a、35bは第一、第二の横レール36a、36bに沿って左右に移動するようになっている。
第一、第二の縦方向移動抽出部材の構造の第二の具体例を説明する。
第一、第二の横方向移動部材35a、35bは凸形状に形成され、凸部を第一、第二の横レール36a、36bと対面できるように向けられて、第一、第二の腕部33a、33bに固定されている。第一、第二の横レール36a、36bの第一、第二の横方向移動部材35a、35bと対面可能な部分には長手方向に沿って溝部が設けられ、第一、第二の横方向移動部材35a、35bの凸部は第一、第二の横レール36a、36bの溝部に直角に挿し込まれている。従って、第一、第二の横方向移動部材35a、35bは第一、第二の横レール36a、36bに対して回動可能に取り付けられ、かつ第一、第二の横レール36a、36bに沿って左右に移動するようになっている。
第一、第二の縦方向移動抽出部材の構造の第三の具体例を説明する。
第一、第二の横方向移動部材35a、35bと第一、第二の腕部33a、33bの互いに対面可能な部分にはそれぞれ第一の凸部と凹部が設けられ、第一の凸部と凹部とが嵌合されている。
さらに第一、第二の横方向移動部材35a、35bの第一、第二の横レール36a、36bと対面可能な部分には第二の凸部が設けられ、第一、第二の横レール36a、36bの第一、第二の横方向移動部材35a、35bと対面可能な部分には長手方向に沿って溝部が設けられ、第一、第二の横方向移動部材35a、35bの第二の凸部は第一、第二の横レール36a、36bの溝部に直角に挿し込まれている。
従って、第一、第二の横方向移動部材35a、35bは第一、第二の腕部33a、33bと第一、第二の横レール36a、36bの両方に対して回動可能に取り付けられ、かつ第一、第二の横レール36a、36bに沿って左右に移動するようになっている。
上記説明では第一、第二の横レール36a、36bは第一、第二の縦方向移動部材34a、34bに水平に固定されていたが、本発明は第一、第二の横レール36a、36bが、第一、第二の縦レール32a、32bと平行でなければ、第一、第二の縦レール32a、32bと交差する向きで固定されている場合も含まれる。
本発明の第一、第二の縦方向移動抽出部材は、上記第一〜第三の具体例のうちいずれの構造でもよいし、第一、第二の横方向移動部材35a、35bが、第一、第二の腕部33a、33bに、第一、第二の腕部33a、33bと第一、第二の横レール36a、36bのいずれか一方又は両方に対して回動可能に取り付けられ、第一、第二の横レール36a、36bに沿って左右に移動するようになっているならば、上記第一〜第三の具体例のいずれかの構造に限定されず、他の構造でもよい。
図3(a)〜(c)を参照し、第一、第二の腕部33a、33bを回転軸37の周りに上下に回動させると、第一、第二の腕部33a、33bの回動動作による移動の水平成分と鉛直成分がそれぞれ抽出され、水平成分の移動量で第一、第二の横方向移動部材35a、35bは第一、第二の横レール36a、36bに沿って左右に移動し、鉛直成分の移動量で第一、第二の縦方向移動部材34a、34bは第一、第二の縦レール32a、32bに沿って上下に移動するようになっている。
図1、2を参照し、基板保持台21は第一の縦方向移動部材34aに設けられ、第二の縦方向移動部材34bには基板保持台21の重さより重い重さの重り25が設けられている。
従って、基板20と基板保持台21とにかかる重力は重り25にかかる重力と相殺され、第一のモーター23が基板保持台21を上下に移動させるために必要な推力の大きさは、上昇させるときも下降させるときも加速度に比例した同一の大きさになる。
ここでは第一、第二の横方向移動部材35a、35bは、第一、第二の腕部33a、33bに仮固定されており、すなわち第一、第二の横方向移動部材35a、35bの取付位置は第一、第二の腕部33a、33bに沿って変更できるように構成されている。回転軸37の中心と第一、第二の横方向移動部材35a、35bの取付位置との間の距離を伸縮して調整することで、基板20を保持する基板保持台21と重り25との間のバランスのズレを解消できるようになっている。
基板ステージ装置30は、基板縦方向揺動装置を水平方向に沿って往復移動させる基板横方向揺動装置を有している。
基板横方向揺動装置は、第二のモーター13と、横方向移動軸14と、横方向移動レール17とを有している。
横方向移動レール17は、基板縦方向揺動装置の本体31の底面と真空槽11の壁面との間に配置されている。本体31の底面の横方向移動レール17と対面する部分には断面が「コ」字形状の溝が設けられ、溝は横方向移動レール17と嵌合され、本体31は横方向移動レール17に沿って左右に移動するように構成されている。
横方向移動軸14は基板縦方向揺動装置の本体31に水平に固定されている。横方向移動軸14の一端は磁性流体シール15を介して真空槽11の壁面を気密に貫通し、真空槽11の外側に配置された第二のモーター13に接続されている。
第二のモーター13は制御装置18から制御信号を受けると、横方向移動軸14を伸縮させて、基板縦方向揺動装置の本体31を基板保持台21に保持された基板20と一緒に左右に移動させるように構成されている。
基板保持台21と主縦方向移動部材28との間には傾斜調整装置41が配置されている。
傾斜調整装置41は、基板保持台21を基板保持台21表面に平行で水平な回転軸の周りに回動させるように構成されている。
傾斜調整装置41によって基板保持台21を回動させると、基板保持台21に保持された基板20表面の鉛直方向に対する角度が傾けられ、すなわち基板20表面に入射するイオンの入射角度を変更できるようになっている。
本発明の基板縦方向揺動装置の第一、第二の縦方向移動抽出部材は、第一、第二の腕部33a、33bの回動動作による移動の鉛直方向の成分を抽出し、第一、第二の縦方向移動部材34a、34bを抽出した移動量移動させることができるならば、上記構成に限定されない。
第一、第二の縦方向移動抽出部材の第二例の構造を説明する。
図4(a)〜(c)を参照し、第一、第二の縦方向移動抽出部材は、第一、第二の腕部33a、33bに沿って固定された第一、第二の動径レール38a、38bと、第一、第二の縦方向移動部材34a、34bに、第一、第二の縦方向移動部材34a、34bと第一、第二の動径レール38a、38bのいずれか一方又は両方に対して回動可能に取り付けられ、第一、第二の動径レール38a、38bに沿って往復移動する第一、第二の動径方向移動部材39a、39bとを有している。
第一、第二の縦方向移動抽出部材の第二例の構造の第一の具体例を説明する。
第一、第二の動径方向移動部材39a、39bと第一、第二の縦方向移動部材34a、34bの互いに対面可能な部分にはそれぞれ凸部と凹部が設けられ、凸部と凹部とが嵌合されて、第一、第二の動径方向移動部材39a、39bは第一、第二の縦方向移動部材34a、34bに対して回動可能に取り付けられている。
また第一、第二の動径方向移動部材39a、39bの第一、第二の動径レール38a、38bと対面可能な部分には断面が「コ」字形状の溝が設けられ、溝は第一、第二の動径レール38a、38bと嵌合され、第一、第二の動径方向移動部材39a、39bは第一、第二の動径レール38a、38bに沿って往復移動するようになっている。
第一、第二の縦方向移動抽出部材の構造の第二の具体例を説明する。
第一、第二の動径方向移動部材39a、39bは凸形状に形成され、凸部を第一、第二の動径レール38a、38bと対面できるように向けられて、第一、第二の縦方向移動部材34a、34bに固定されている。第一、第二の動径レール38a、38bの第一、第二の動径方向移動部材39a、39bと対面可能な部分には長手方向に沿って溝部が設けられ、第一、第二の動径方向移動部材39a、39bの凸部は第一、第二の動径レール38a、38bの溝部に直角に挿し込まれている。従って、第一、第二の動径方向移動部材39a、39bは第一、第二の動径レール38a、38bに対して回動可能に取り付けられ、かつ第一、第二の動径レール38a、38bに沿って往復移動するようになっている。
第一、第二の縦方向移動抽出部材の構造の第三の具体例を説明する。
第一、第二の動径方向移動部材39a、39bと第一、第二の縦方向移動部材34a、34bの互いに対面可能な部分にはそれぞれ第一の凸部と凹部が設けられ、第一の凸部と凹部とが嵌合されている。
さらに第一、第二の動径方向移動部材39a、39bの第一、第二の動径レール38a、38bと対面可能な部分には第二の凸部が設けられ、第一、第二の動径レール38a、38bの第一、第二の動径方向移動部材39a、39bと対面可能な部分には長手方向に沿って溝部が設けられ、第一、第二の動径方向移動部材39a、39bの第二の凸部は第一、第二の動径レール38a、38bの溝部に直角に挿し込まれている。
従って、第一、第二の動径方向移動部材39a、39bは第一、第二の縦方向移動部材34a、34bと第一、第二の動径レール38a、38bの両方に対して回動可能に取り付けられ、かつ第一、第二の動径レール38a、38bに沿って往復移動するようになっている。
上記説明では第一、第二の動径レール38a、38bは第一、第二の腕部33a、33bに沿って固定されていたが、本発明は第一、第二の動径レール38a、38bが、第一、第二の縦レール32a、32bと平行にならなければ、第一、第二の腕部33a、33bと交差する向きで固定されている場合も含まれる。
本発明の第一、第二の縦方向移動抽出部材の第二例は、上記第一〜第三の具体例のうちいずれの構造でもよいし、第一、第二の動径方向移動部材39a、39bが、第一、第二の縦方向移動部材34a、34bに、第一、第二の縦方向移動部材34a、34bと第一、第二の動径レール38a、38bのいずれか一方又は両方に対して回動可能に取り付けられ、第一、第二の動径レール38a、38bに沿って左右に移動するようになっているならば、上記第一〜第三の具体例のいずれかの構造に限定されず、他の構造でもよい。
図4(a)〜(c)を参照し、第一、第二の腕部33a、33bを回転軸37の周りに上下に回動させると、第一、第二の腕部33a、33bの回動動作による移動の動径方向成分と鉛直成分がそれぞれ抽出され、動径方向成分の移動量で第一、第二の動径方向移動部材39a、39bは第一、第二の動径レール38a、38bに沿って往復移動し、鉛直成分の移動量で第一、第二の縦方向移動部材34a、34bは第一、第二の縦レール32a、32bに沿って上下に移動するようになっている。
<イオン注入装置を用いたイオン注入方法>
本発明のイオン注入装置10を用いたイオン注入方法を説明する。
基板保持台21上に、最初にイオンを照射する位置である始点位置と、始点位置からイオンの照射領域を左右に移動させる横方向移動工程と、上方又は下方のいずれか一方向に移動させる縦方向移動工程とを繰り返して、基板20表面全体を走査させた後、イオンの照射領域の移動を終了する位置である終点位置とをあらかじめ定めておく。
真空槽11に不図示の真空排気装置を接続して、真空槽11内を真空排気する。以後真空排気を継続して真空槽11内の真空雰囲気を維持する。
真空槽11内の真空雰囲気を維持したまま、不図示の搬送ロボットにより真空槽11内に基板20を搬入し、基板20を基板保持台21に保持させる。
イオン源19から放出されたイオンが基板保持台21上の始点位置に入射するように基板保持台21を移動させて静止させる。
イオン源19から基板20に向けてイオンの照射を開始して、基板保持台21上の始点位置にイオンを入射させる。
上述したように基板縦方向揺動装置は左右に移動するように構成されており、横方向移動工程として、制御装置18から基板横方向揺動装置の第二のモーター13に制御信号を送って、基板縦方向揺動装置を左右に移動させると、イオンの照射領域が基板20の横方向の一端から他端まで移動するように、基板20は左右に移動する。
このとき重り25は基板20と左右同じ方向に移動する。重り25にかかる重力の向きは左右の移動方向と直角なので、重り25にかかる重力は第二のモーター13の負荷にはならない。
次いで、縦方向移動工程として、制御装置18から基板縦方向揺動装置の第一のモーター23に制御信号を送って、基板保持台21を本体31に対して鉛直方向に移動させると、イオンの照射領域が基板20上で照射領域の幅の長さだけ上方又は下方のいずれか一方向に移動するように、基板20は鉛直方向に移動する。
このとき重り25は基板20と上下反対の方向に移動し、基板20にかかる重力と重り25にかかる重力とのバランスが取られる。そのため、第一のモーター23の負荷は従来より低減され、第一のモーター23の発熱が抑制される。従って、第一のモーター23を真空槽11内に配置して使用しても問題は生じない。
制御装置18には、上記横方向移動工程と縦方向移動工程とを繰り返して、イオンの照射領域を終点位置に到達させるようにプログラムされている。
制御装置18のプログラムに従って基板20を移動させると、イオンの照射領域は基板20の左端と右端との間を往復しながら基板20の縦方向の一端から他端まで走査して、基板20表面全体にイオンが注入される。
イオンの照射領域を終点位置まで移動させた後、イオン源19からのイオンの放出を停止する。基板保持台21による基板20の吸着保持を解除して、真空槽11内の真空雰囲気を維持したまま、不図示の搬送ロボットにより基板20を真空槽11から搬出する。
基板保持台21には、基板20を基板20表面に平行に回転させる不図示の基板回転装置が設けられていてもよい。
この場合、制御装置18には、まず始点位置から横方向移動工程と第一の縦方向移動工程とを繰り返して、イオンの照射領域を基板20の縦方向の中央の位置まで移動させた後、基板20を上下反転させ、次いで、横方向移動工程と第一の縦方向移動工程とは上下逆向きの第二の縦方向移動工程とを繰り返して、終点位置に到達させるようにプログラムする。
制御装置18のプログラムに従って基板20を移動させると、イオンの照射領域は基板20の左端と右端との間を往復しながら基板20の縦方向の一端から他端まで走査して、基板20表面全体にイオンが注入される。
この場合には、基板20を縦方向に移動させるのに必要な移動経路の長さは前述の半分でよく、従って装置の大きさを小型化することができる。
10……イオン注入装置
11……真空槽
19……イオン源
20……基板
21……基板保持台
25……重り
30……基板ステージ装置
31……本体
32a、32b……第一、第二の縦レール
33a、33b……第一、第二の腕部
34a、34b……第一、第二の縦方向移動部材
35a、35b……第一、第二の横方向移動部材
36a、36b……第一、第二の横レール
37……回転軸
38a、38b……第一、第二の動径レール
39a、39b……第一、第二の動径方向移動部材

Claims (6)

  1. 本体と、
    基板を保持できるように構成された基板保持台と、
    前記基板保持台を前記本体に対して鉛直方向に沿って往復移動させる縦方向移動装置と、
    を有する基板縦方向揺動装置であって、
    前記縦方向移動装置は、
    回転軸と、
    互いに固定されて前記回転軸にそれぞれ取り付けられ、前記回転軸の回転によって互いに上下反対方向にそれぞれ回動する第一、第二の腕部と、
    前記回転軸から見て互いに逆側に鉛直に配置され、前記本体に固定された第一、第二の縦レールと、
    前記第一、第二の縦レールと、前記第一、第二の腕部とをそれぞれ連結する第一、第二の連結部材とを有し、
    前記第一、第二の連結部材は、
    前記第一、第二の縦レールに沿って上下に移動する第一、第二の縦方向移動部材と、
    前記第一、第二の腕部の回動動作による移動の鉛直方向の成分を抽出し、前記第一、第二の縦方向移動部材を抽出した移動量移動させる第一、第二の縦方向移動抽出部材とを有し、
    前記基板保持台は、前記第一の縦方向移動部材に設けられ、前記第二の縦方向移動部材には、前記基板保持台の重さより重い重りが設けられた基板縦方向揺動装置。
  2. 前記第一、第二の縦方向移動抽出部材は、
    前記第一、第二の縦方向移動部材に水平に固定された第一、第二の横レールと、
    前記第一、第二の腕部に、前記第一、第二の腕部と前記第一、第二の横レールのいずれか一方又は両方に対して回動可能に取り付けられ、前記第一、第二の横レールに沿って左右に移動する第一、第二の横方向移動部材とを有する請求項1記載の基板縦方向揺動装置。
  3. 前記第一、第二の縦方向移動抽出部材は、
    前記第一、第二の腕部に沿って固定された第一、第二の動径レールと、
    前記第一、第二の縦方向移動部材に、前記第一、第二の縦方向移動部材と前記第一、第二の動径レールのいずれか一方又は両方に対して回動可能に取り付けられ、前記第一、第二の動径レールに沿って往復移動する第一、第二の動径方向移動部材とを有する請求項1記載の基板縦方向揺動装置。
  4. 前記第一、第二の横方向移動部材の取付位置は、前記第一、第二の腕部に沿って変更できるように構成された請求項2記載の基板縦方向揺動装置。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の基板縦方向揺動装置と、
    前記基板縦方向揺動装置を水平方向に沿って往復移動させる基板横方向揺動装置と、
    を有する基板ステージ装置。
  6. 真空槽と、
    請求項5記載の基板ステージ装置と、
    イオンを放出するイオン源と、
    を有し、
    前記基板ステージ装置の前記基板縦方向揺動装置は前記真空槽内に配置され、
    前記イオン源は前記基板縦方向揺動装置の前記基板保持台に保持された基板に向けてイオンを照射できるように構成されたイオン注入装置。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6276644A (ja) * 1985-09-30 1987-04-08 Toshiba Corp 露光装置の縦型移動テーブル装置
JPH0644619Y2 (ja) * 1989-02-28 1994-11-16 高野ベアリング株式会社 平行開閉チャック装置
JPH077114Y2 (ja) * 1989-11-09 1995-02-22 日新電機株式会社 把持装置
JP3233619B2 (ja) * 1999-07-30 2001-11-26 川崎重工業株式会社 産業用ロボット
JP4049168B2 (ja) * 2005-05-24 2008-02-20 日新イオン機器株式会社 イオンビーム照射装置
US7812325B2 (en) * 2006-09-28 2010-10-12 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Implanting with improved uniformity and angle control on tilted wafers
JP2008266929A (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Alpha Corp 電気錠
JP2009070886A (ja) * 2007-09-11 2009-04-02 Ulvac Japan Ltd イオン注入方法及びイオン注入装置

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