JP5563020B2 - Liquid crystal display - Google Patents

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本発明は液晶表示装置において、支柱方式によってTFT基板と対向基板の間隔を規定する技術に関する。   The present invention relates to a technique for defining a distance between a TFT substrate and a counter substrate by a column system in a liquid crystal display device.

液晶表示装置では画素電極や薄膜トランジスタ(TFT)が形成されたTFT基板とカラーフィルタ等が形成された対向基板との間に液晶を充填し、この液晶の分子を電界によって制御することによって画像を形成する。TFT基板と対向基板の間の間隔は数ミクロンと非常に小さい。TFT基板と対向基板の間の間隔を適切に設定することは、液晶による光の透過を制御するためには極めて重要である。   In a liquid crystal display device, liquid crystal is filled between a TFT substrate on which pixel electrodes and thin film transistors (TFTs) are formed and a counter substrate on which color filters are formed, and an image is formed by controlling the molecules of the liquid crystal by an electric field. To do. The distance between the TFT substrate and the counter substrate is as small as several microns. It is extremely important to appropriately set the distance between the TFT substrate and the counter substrate in order to control light transmission by the liquid crystal.

TFT基板と対向基板の間隔は、従来は、ビーズ等を分散することによって行われてきた。しかし、ビーズを分散させると、画素電極が形成された領域にまで、ビーズが分散されることになり、この部分において光が散乱されてコントラストが低下するという問題があった。   Conventionally, the interval between the TFT substrate and the counter substrate has been performed by dispersing beads or the like. However, when the beads are dispersed, the beads are dispersed to the region where the pixel electrode is formed, and there is a problem that light is scattered in this portion and the contrast is lowered.

一方、従来の液晶の充填方法は、TFT基板と対向基板との間をシールし、シールの一部に開口を設け、そこから液晶を注入する方法、およびTFT基板上に液晶を必要量滴下し、その後対向基板をシールして液晶を封止する方法などが開発されている。何れの場合においても、ビーズを分散させる場合は、液晶を滴下する際に、ビーズが移動し、ビーズの多い場所と少ない場所が生ずる。また、ビーズはバックライトの光が透過する画素領域内にも分散され、開口率が低下し、開口率低下の原因となり得る。   On the other hand, the conventional liquid crystal filling method is to seal between the TFT substrate and the counter substrate, provide an opening in a part of the seal, and inject liquid crystal from there, and drop the required amount of liquid crystal on the TFT substrate. Thereafter, a method of sealing the counter substrate and sealing the liquid crystal has been developed. In either case, when the beads are dispersed, when the liquid crystal is dropped, the beads move, and a place with many beads and a place with few beads are generated. Further, the beads are dispersed also in the pixel region through which the light of the backlight is transmitted, and the aperture ratio is lowered, which can cause the aperture ratio to be lowered.

以上のような問題を解決するために、TFT基板と対向基板との間隔を規定する方法として、対向基板上に有機膜による支柱を形成する方法(支柱方式)が開発されている。支柱は、画素電極が存在していない部分すなわち、バックライト等が透過しない部分に設置することが出来る。したがって、輝度(開口率)を低下させることはない。また、支柱は対向基板に固定されているために、液晶を滴下した場合も移動することは無い。したがって、支柱によって間隔を維持する方法は液晶を滴下する方式(液晶滴下封入方式)にも好適である。   In order to solve the above problems, as a method for defining the distance between the TFT substrate and the counter substrate, a method (column system) in which a column made of an organic film is formed on the counter substrate has been developed. The support column can be installed in a portion where the pixel electrode is not present, that is, a portion where the backlight or the like is not transmitted. Therefore, the luminance (aperture ratio) is not reduced. In addition, since the column is fixed to the counter substrate, the column does not move even when the liquid crystal is dropped. Therefore, the method of maintaining the interval by the support is also suitable for a method of dropping liquid crystal (liquid crystal dropping and sealing method).

この支柱は一般的には、対向基板のブラックマトリクス上に形成されている。支柱はアクリル等の樹脂によって形成されるが、従来は、この支柱を形成するために、フォトリソグラフィ工程を1回必要としていた。支柱のためのフォトリソグラフィ工程を無くすために、支柱をカラーフィルタを積層することによって形成する技術が「特許文献1」に記載されている。   This support column is generally formed on a black matrix of a counter substrate. The support is formed of a resin such as acrylic, but conventionally, a photolithography process has been required once to form the support. In order to eliminate the photolithography process for the support, a technique for forming the support by stacking color filters is described in “Patent Document 1”.

一方、カラーフィルタを積層して支柱を形成する場合、支柱部分においては、各色のカラーフィルタの位置を正確に合わせないと支柱の高さがばらついてしまうことになる。この問題点を対策するために、支柱として使用する各カラーフィルタの平面形状を長方形とし、積層するカラーフィルタ毎に、平面形状の長方形の長軸の向きを90度変えることによって、支柱の高さを一定に保つ技術が「特許文献2」に記載されている。   On the other hand, in the case where the column is formed by stacking color filters, the column height varies in the column portion unless the position of the color filter of each color is accurately aligned. In order to prevent this problem, the planar shape of each color filter used as a support column is rectangular, and the length of the support column is changed by changing the major axis of the rectangular shape of the planar shape by 90 degrees for each color filter to be stacked. A technique for maintaining a constant value is described in “Patent Document 2”.

特開平9−49914号公報JP-A-9-49914 特開2003−233064号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-233064

TFT基板と対向基板の間隔は、駆動方式、液晶材料等によって最適な値が存在し、この値は製品毎に異なる、TFT基板と対向基板間隔が適正でないとコントラストが低下する。従来のカラーフィルタを積層することでスペーサを形成する場合は、スペーサの高さは、カラーフィルタの厚さの倍数に固定され、TFT基板と対向基板の間隔を最適な値に設定することが難しかった。   There is an optimum value for the distance between the TFT substrate and the counter substrate depending on the driving method, the liquid crystal material, and the like, and this value varies depending on the product. When forming a spacer by stacking conventional color filters, the height of the spacer is fixed to a multiple of the thickness of the color filter, and it is difficult to set the distance between the TFT substrate and the counter substrate to an optimum value. It was.

また、表示装置では、画像を形成する表示領域の周辺の対向基板に、額縁状に、遮光膜であるブラックマトリクスが形成される。周辺のブラックマトリクスの部分に対応するTFT基板には、表示領域程には配線等が存在していないために、周辺部におけるスペーサは、表示領域におけるスペーサよりも高くしなければならない。しかし、従来技術でのカラーフィルタの積層によるスペーサでは、このように、高さの異なるスペーサを同一液晶表示パネル内に形成することは困難であった。   In the display device, a black matrix, which is a light shielding film, is formed in a frame shape on a counter substrate around a display area where an image is formed. Since the TFT substrate corresponding to the peripheral black matrix portion does not have wiring or the like in the display region, the spacer in the peripheral portion must be higher than the spacer in the display region. However, it is difficult to form spacers with different heights in the same liquid crystal display panel in the conventional spacers formed by stacking color filters.

本発明は、以上のような、問題点を解決して、カラーフィルタをスペーサとして使用しつつ、スペーサの高さを必要に応じて細かく制御することが出来る技術を実現することである。   An object of the present invention is to solve the above problems and to realize a technique capable of finely controlling the height of a spacer as required while using a color filter as a spacer.

一方、液晶表示装置における液晶材料の値段は高く、液晶表示装置のコスト低減のためには、液晶の使用量を低減する必要がある。また、液晶はスペーサ、ガラス、配線等の固形物に比べて熱膨張係数が大きい。液晶表示装置は戸外でも使用されるために、使用温度範囲が広い。したがって、液晶の熱膨張あるいは収縮によって液晶表示パネルの内部は様々なストレスを受けることになる。このような液晶による熱ストレスを緩和するには液晶の量が少ないほうが良い。   On the other hand, the price of the liquid crystal material in the liquid crystal display device is high, and it is necessary to reduce the amount of liquid crystal used in order to reduce the cost of the liquid crystal display device. Liquid crystals have a larger coefficient of thermal expansion than solid materials such as spacers, glass, and wiring. Since the liquid crystal display device is used even outdoors, the operating temperature range is wide. Accordingly, the liquid crystal display panel is subjected to various stresses due to thermal expansion or contraction of the liquid crystal. In order to relieve the thermal stress caused by such liquid crystal, it is better that the amount of liquid crystal is small.

本発明の他の課題は、液晶表示パネル内の液晶の量を低減することによって、液晶表示装置のコストの低減と、液晶表示パネルの、液晶の熱膨張によるストレスを緩和して液晶表示パネルの信頼性を向上させることである。   Another object of the present invention is to reduce the amount of liquid crystal in the liquid crystal display panel, thereby reducing the cost of the liquid crystal display device and alleviating the stress caused by the thermal expansion of the liquid crystal display panel. It is to improve reliability.

本発明は、複数のカラーフィルタを積層することによってスペーサを形成し、スペーサを構成する複数のカラーフィルタの面積を変化させることによってスペーサの高さを木目細かく制御することを特徴とする。   The present invention is characterized in that a spacer is formed by laminating a plurality of color filters, and the height of the spacer is finely controlled by changing the areas of the plurality of color filters constituting the spacer.

また、本発明は高さの異なる第1のスペーサと第2のスペーサを形成し、第1のスペーサまたは第2のスペーサを構成する複数のカラーフィルタの各面積を変化させ、または、複数のカラーフィルタの積層の順番を変化させることによって、第1のスペーサまたは第2のスペーサの高さに差を設けることを特徴とする。   In the present invention, the first spacer and the second spacer having different heights are formed, the areas of the plurality of color filters constituting the first spacer or the second spacer are changed, or the plurality of colors A difference is provided in the height of the first spacer or the second spacer by changing the stacking order of the filters.

さらに本発明は、画像形成に寄与しない画素と画素の間に、カラーフィルタを設置することによって液晶の使用量を減少させることを特徴とする。具体的な手段は次のとおりである。   Furthermore, the present invention is characterized in that the amount of liquid crystal used is reduced by installing a color filter between pixels that do not contribute to image formation. Specific means are as follows.

(1)TFT基板と、対向基板と、前記TFT基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記対向基板には、第1のカラーフィルタによって第1の色を表示する第1の画素と、第2のカラーフィルタによって第2の色を表示する第2の画素と、第3のカラーフィルタによって第3の色を表示する第3の画素とがマトリクス状に形成され、前記対向基板には、前記TFT基板との間隔を規定する第1のスペーサと、前記第1のスペーサよりも高さが低い第2のスペーサが形成され、前記第1のスペーサは複数のカラーフィルタを積層することによって形成され、前記複数のカラーフィルタのうちの下側のカラーフィルタの面積は、前記上側のカラーフィルタの面積よりも大きく、前記第2のスペーサは、複数のカラーフィルタの積層によって形成され、前記複数のカラーフィルタのうちの下側のカラーフィルタの面積は、前記上側のカラーフィルタの面積よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。   (1) A liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a TFT substrate, a counter substrate, and the TFT substrate and the counter substrate. The first color filter is provided on the counter substrate by a first color filter. A first pixel that displays the second color, a second pixel that displays the second color using the second color filter, and a third pixel that displays the third color using the third color filter are arranged in a matrix. The counter substrate is formed with a first spacer for defining a distance from the TFT substrate and a second spacer having a height lower than that of the first spacer, and the first spacer includes a plurality of first spacers. Of the plurality of color filters, the area of the lower color filter is larger than the area of the upper color filter, and the second spacer has a plurality of color filters. Formed by lamination of the filter, the area of the lower color filter among the plurality of color filters, liquid crystal display device, characterized in that less than the area of the upper color filter.

(2)前記第1のスペーサは、3層のカラーフィルタによって形成され、最上層のカラーフィルタの面積が最も小さく、前記第2のスペーサは3層のカラーフィルタによって形成され、最下層のカラーフィルタの面積が最も小さいことを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。   (2) The first spacer is formed by a three-layer color filter, and the area of the uppermost color filter is the smallest, and the second spacer is formed by a three-layer color filter, and the lowermost color filter. The liquid crystal display device according to (1), wherein the area of the liquid crystal display device is the smallest.

(3)前記第2のスペーサは3層のカラーフィルタによって形成され、最下層の層のカラーフィルタが最も面積が小さく、最上層の層のカラーフィルタの面積が最も大きく、中間の層のカラーフィルタの面積は、最下層のカラーフィルタの面積よりも大きく、最上層のカラーフィルタの面積よりも小さいことを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。   (3) The second spacer is formed by three layers of color filters, the color filter of the lowermost layer has the smallest area, the area of the color filter of the uppermost layer is the largest, and the color filter of the intermediate layer The liquid crystal display device according to (1), wherein the area is larger than the area of the lowermost color filter and smaller than the area of the uppermost color filter.

(4)前記第1のスペーサは、縦方向に配列した前記第1の画素の間に形成され、前記第2のスペーサは、縦方向に配列した前記第2の画素の間に形成されていることを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。   (4) The first spacer is formed between the first pixels arranged in the vertical direction, and the second spacer is formed between the second pixels arranged in the vertical direction. (1) The liquid crystal display device according to (1).

(5)TFT基板と、対向基板と、前記TFT基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記対向基板には、第1のカラーフィルタによって第1の色を表示する第1の画素が縦方向に配列し、第2のカラーフィルタによって第2の色を表示する第2の画素が縦方向に配列し、第3のカラーフィルタによって第3の色を表示する第3の画素が縦方向に配列し、前記第1のカラーフィルタは前記第1の画素を覆って縦方向にストライプ状に延在し、前記第2のカラーフィルタは前記第2の画素を覆って縦方向にストライプ状に延在し、前記第3のカラーフィルタは前記第3の画素を覆って縦方向に延在し、前記第1の画素と前記第1の画素の間には、前記第1のカラーフィルタを含む複数のカラーフィルタが積層された第1のスペーサが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。   (5) A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a TFT substrate, a counter substrate, and the TFT substrate and the counter substrate, wherein the first color filter is provided on the counter substrate by a first color filter. Are arranged in the vertical direction, the second color filter is used to display the second color, and the third color filter is used to display the third color. Third pixels arranged in the vertical direction, the first color filter extends in a stripe shape in a vertical direction covering the first pixel, and the second color filter includes the second pixel. The third color filter extends in the vertical direction so as to cover the third pixel, and extends between the first pixel and the first pixel. A plurality of color filters including the first color filter are stacked. The liquid crystal display device, wherein a first spacer is formed.

(6)前記第2の画素と前記第2の画素の間には前記第2のカラーフィルタを含む複数のカラーフィルタによって第2のスペーサが形成され、前記第1のスペーサの高さは、前記第2のスペーサの高さよりも大きいことを特徴とする(5)に記載の液晶表示装置。   (6) A second spacer is formed between the second pixel and the second pixel by a plurality of color filters including the second color filter, and the height of the first spacer is The liquid crystal display device according to (5), which is larger than a height of the second spacer.

(7)前記第1のカラーフィルタは、前記第2の画素と前記第2の画素の間と前記第3の画素と前記第3の画素の間をストライプ状に横方向に延在していることを特徴とする(5)に記載の液晶表示装置。   (7) The first color filter extends in a horizontal direction in a stripe shape between the second pixel and the second pixel, and between the third pixel and the third pixel. (5) The liquid crystal display device according to (5).

(8)前記第1のスペーサは前記第1のカラーフィルタを含む3層のカラーフィルタによって形成され、前記第2のスペーサは前記第2のカラーフィルタを含む3層のカラーフィルタによって形成されていることを特徴とする(7)に記載の液晶表示装置。   (8) The first spacer is formed by a three-layer color filter including the first color filter, and the second spacer is formed by a three-layer color filter including the second color filter. (7) The liquid crystal display device as described above.

(9)前記第3の画素と前記第3の画素の間には、複数のカラーフィルタが積層されていることを特徴とする(8)に記載の液晶表示装置。   (9) The liquid crystal display device according to (8), wherein a plurality of color filters are stacked between the third pixel and the third pixel.

(10)TFT基板と、対向基板と、前記TFT基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記対向基板には、画像を表示する表示領域と、前記表示領域を囲んで額縁状の遮光領域が形成されており、前記対向基板の前記表示領域には、第1のカラーフィルタによって第1の色を表示する第1の画素と、第2のカラーフィルタによって第2の色を表示する第2の画素と、第3のカラーフィルタによって第3の色を表示する第3の画素とがマトリクス状に形成され、前記対向基板の前記額縁状の遮光領域には、前記第1のカラーフィルタ、前記第2のカラーフィルタ、または、前記第3のカラーフィルタによって前記対向基板と前記TFT基板の間隔を規定するスペーサ形成されており、前記スペーサの高さは、前記遮光領域の外側程高さが高いことを特徴とする液晶表示装置。   (10) A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a TFT substrate, a counter substrate, and the TFT substrate and the counter substrate, wherein the counter substrate has a display area for displaying an image and the display A frame-shaped light-shielding region is formed surrounding the region, and the display region of the counter substrate includes a first pixel that displays a first color by a first color filter and a second color filter. A second pixel for displaying the second color and a third pixel for displaying the third color by the third color filter are formed in a matrix, and the frame-shaped light shielding region of the counter substrate has The first color filter, the second color filter, or the third color filter is used to form a spacer that defines a distance between the counter substrate and the TFT substrate. A liquid crystal display device comprising a higher outer as the height of the light shielding region.

(11)前記スペーサを構成する前記第1のカラーフィルタ、前記第2のカラーフィルタ、または、前記第3のカラーフィルタのうちのいずれかは、前記遮光領域の外側程面積が大きいことを特徴とする(10)に記載の液晶表示装置。   (11) One of the first color filter, the second color filter, and the third color filter constituting the spacer has a larger area toward the outer side of the light shielding region. The liquid crystal display device according to (10).

(12)前記スペーサは、前記第1のカラーフィルタ、前記第2のカラーフィルタ、または、前記第3のカラーフィルタのうちの複数によって形成されていることを特徴とする(11)に記載の液晶表示装置。   (12) The liquid crystal according to (11), wherein the spacer is formed of a plurality of the first color filter, the second color filter, or the third color filter. Display device.

本発明は、複数のカラーフィルタを積層することによってスペーサを形成するので、スペーサを形成するためのフォトプロセスを別途必要とせず、また、スペーサを構成する複数のカラーフィルタの面積を変化させるのでスペーサの高さを木目細かく制御することが出来る。   In the present invention, since the spacer is formed by laminating a plurality of color filters, a photo process for forming the spacer is not required separately, and the area of the plurality of color filters constituting the spacer is changed. It is possible to finely control the height of the wood.

また、本発明は高さの異なる第1のスペーサと第2のスペーサを形成するにあたり、第1のスペーサまたは第2のスペーサを構成する複数のカラーフィルタの各面積を変化させ、または、複数のカラーフィルタの積層の順番を変化させることによって、第1のスペーサまたは第2のスペーサの高さに差を設けるので、第1のスペーサおよび第2のスペーサの高さを木目細かく制御することが出来る。   In the present invention, when forming the first spacer and the second spacer having different heights, the areas of the plurality of color filters constituting the first spacer or the second spacer are changed, or a plurality of By changing the stacking order of the color filters, a difference is provided in the height of the first spacer or the second spacer, so that the height of the first spacer and the second spacer can be finely controlled. .

さらに本発明は、画像形成に寄与しない画素と画素の間に、カラーフィルタを設置するので、液晶の使用量を減少させることが出来、液晶表示装置の材料費を低減することが出来る。   Furthermore, according to the present invention, since a color filter is provided between pixels that do not contribute to image formation, the amount of liquid crystal used can be reduced, and the material cost of the liquid crystal display device can be reduced.

実施例1の対向基板の要部を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a main part of a counter substrate of Example 1. 実施例1のブラックマトリクスの平面図である。3 is a plan view of a black matrix of Example 1. FIG. 実施例1の赤カラーフィルタの平面図である。2 is a plan view of a red color filter of Example 1. FIG. 実施例1の青カラーフィルタの平面図である。3 is a plan view of a blue color filter of Example 1. FIG. 実施例1の緑カラーフィルタの平面図である。2 is a plan view of a green color filter of Example 1. FIG. 液晶表示パネルの平面図である。It is a top view of a liquid crystal display panel. 対向基板における画素配置を示す図である。It is a figure showing pixel arrangement in a counter substrate. 図1に対応するTFT基板の平面模式図である。It is a plane schematic diagram of the TFT substrate corresponding to FIG. 図8のA−A断面に対応する液晶表示パネルの断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display panel corresponding to the AA cross section of FIG. 実施例2の対向基板の要部を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a main part of a counter substrate of Example 2. 実施例2のブラックマトリクスの平面図である。6 is a plan view of a black matrix of Example 2. FIG. 実施例2の赤カラーフィルタの平面図である。6 is a plan view of a red color filter of Example 2. FIG. 実施例2の青カラーフィルタの平面図である。6 is a plan view of a blue color filter of Example 2. FIG. 実施例2の緑カラーフィルタの平面図である。6 is a plan view of a green color filter of Example 2. FIG. 従来の液晶表示パネルの周辺部の断面である。It is a cross section of the peripheral part of the conventional liquid crystal display panel. 実施例3の液晶表示パネルの周辺部の断面である。6 is a cross section of a peripheral portion of a liquid crystal display panel of Example 3. 実施例4の液晶表示パネルの周辺部の断面である。6 is a cross section of a peripheral portion of a liquid crystal display panel of Example 4. 実施例5の液晶表示パネルの第1スペーサ部分の断面図である。6 is a cross-sectional view of a first spacer portion of a liquid crystal display panel of Example 5. FIG. 実施例6の液晶表示パネルの第1スペーサ部分の断面図である。10 is a cross-sectional view of a first spacer portion of a liquid crystal display panel of Example 6. FIG.

図面を用いて、本発明の詳細な内容を開示する。図6は、本発明が適用される液晶表示装置に使用される液晶表示パネルの平面図である。図6において、TFT基板100と対向基板200が積層されている。TFT基板100と対向基板200は、周辺に形成されたシール部150によって接着しており、シール部150の内部に液晶が封入されている。TFT基板100と対向基板200との間隔はスペーサによって維持されている。なお、本明細書におけるスペーサは、対向基板に形成された支柱であるが、以後この支柱を単にスペーサと呼ぶ。   The detailed contents of the present invention will be disclosed with reference to the drawings. FIG. 6 is a plan view of a liquid crystal display panel used in a liquid crystal display device to which the present invention is applied. In FIG. 6, a TFT substrate 100 and a counter substrate 200 are stacked. The TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are bonded by a seal portion 150 formed in the periphery, and liquid crystal is sealed inside the seal portion 150. The distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is maintained by a spacer. In addition, although the spacer in this specification is a support | pillar formed in the opposing board | substrate, hereafter, this support | pillar is only called a spacer.

TFT基板100は、対向基板200より大きく形成されており、図6の左側および下側のTFT基板100の周辺には、外部から液晶表示パネルに映像信号、電源等を供給するための端子部130が形成されている。対向基板200の大部分には表示領域210が形成されている。表示領域210の周辺にはブラックマトリクスBMによる周辺遮光膜220が額縁状に形成されている。   The TFT substrate 100 is formed to be larger than the counter substrate 200, and a terminal portion 130 for supplying a video signal, power, and the like from the outside to the liquid crystal display panel is provided around the left and lower TFT substrates 100 in FIG. Is formed. A display area 210 is formed on most of the counter substrate 200. A peripheral light shielding film 220 made of a black matrix BM is formed in a frame shape around the display area 210.

図7は、対向基板200の表示領域210における画素の配置を示す例である。図7において、横方向には、赤画素RP、青画素BP、緑画素GPが一定ピッチPxで配置されている。なお赤画素RP、青画素BP、緑画素GP等は、正確には赤画素RP、青画素BP、緑画素GPに対応するBMのホールであるが、複雑な呼称を避けるために、単に、赤画素RP、青画素BP、緑画素GPと呼ぶ。縦方向には同じ色の画素が一定ピッチPyで配置されている。各画素の幅はPwで、各画素の縦径はPhである。横方向のピッチPxは、例えば170.25μm、縦方向のピッチPyは例えば、510.75μmである。一方、画素の幅Pwは143.25μm、画素の縦径Phは410.75μmである。   FIG. 7 is an example showing the arrangement of pixels in the display area 210 of the counter substrate 200. In FIG. 7, in the horizontal direction, red pixels RP, blue pixels BP, and green pixels GP are arranged at a constant pitch Px. The red pixel RP, the blue pixel BP, the green pixel GP, etc. are BM holes corresponding to the red pixel RP, the blue pixel BP, and the green pixel GP, but in order to avoid complicated names, the These are referred to as a pixel RP, a blue pixel BP, and a green pixel GP. In the vertical direction, pixels of the same color are arranged at a constant pitch Py. The width of each pixel is Pw, and the vertical diameter of each pixel is Ph. The horizontal pitch Px is, for example, 170.25 μm, and the vertical pitch Py is, for example, 510.75 μm. On the other hand, the pixel width Pw is 143.25 μm, and the pixel vertical diameter Ph is 410.75 μm.

スペーサは図7に示すように、縦方向の画素間のブラックマトリクスBM上に形成されるので、スペーサの形成のために利用できる領域は、縦方向は100μmである。スペーサが横方向に利用できる幅は特に制約は無い。図7において、スペーサの平面は円形であるが、スペーサの面積を大きくしたい場合は、スペーサの平面形状を楕円形状あるいは、長方形状としても良い。図7においては、スペーサの平面形状のみ記載している。スペーサの縦方向の断面形状は厳密には台形となるが、台形の上部と下部とでは、面積に大きな差は無い。図7に示すスペーサの平面図は、スペーサの上部形状と考えてよい。   As shown in FIG. 7, since the spacer is formed on the black matrix BM between the pixels in the vertical direction, the area that can be used for forming the spacer is 100 μm in the vertical direction. The width that the spacer can be used in the lateral direction is not particularly limited. In FIG. 7, the plane of the spacer is circular. However, when it is desired to increase the area of the spacer, the planar shape of the spacer may be elliptical or rectangular. In FIG. 7, only the planar shape of the spacer is shown. Strictly speaking, the vertical cross-sectional shape of the spacer is a trapezoid, but there is no significant difference in area between the upper and lower portions of the trapezoid. The plan view of the spacer shown in FIG. 7 may be considered as the upper shape of the spacer.

図7において、緑画素GPと緑画素GPの間には第1スペーサ10が、青画素BPと青画素BPの間には第2スペーサ20が形成されているが、赤画素RPと赤画素RPの間にはスペーサは形成されていない。また、第1スペーサ10のほうが第2スペーサ20よりも高さが高い。通常は、第1スペーサ10によってTFT基板100と対向基板200の間隔が規定されている。外部から液晶表示パネルに圧力が加わった場合、第1スペーサ10間のTFT基板100と対向基板200の間隔が小さくなるが、このときに、第2スペーサ20はTFT基板100と接触することによって、TFT基板100あるいは対向基板200の過度の変形を防止する。   In FIG. 7, a first spacer 10 is formed between the green pixel GP and the green pixel GP, and a second spacer 20 is formed between the blue pixel BP and the blue pixel BP. No spacer is formed between them. Further, the height of the first spacer 10 is higher than that of the second spacer 20. Usually, the first spacer 10 defines the distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200. When pressure is applied to the liquid crystal display panel from the outside, the distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 between the first spacers 10 is reduced. At this time, the second spacer 20 comes into contact with the TFT substrate 100, Excessive deformation of the TFT substrate 100 or the counter substrate 200 is prevented.

図8はTFT基板100において、対向基板200に形成されたスペーサが接触する部分を示す概略図である。図8において、横方向には走査線101が延在している。走査線101が存在する部分は、図7において、縦方向の画素と画素の間で横方向に延在するブラックマトリクスBMに対応している。図8において、映像信号線1021が縦方向に延在し、横方向に配列されている。映像信号線1021が形成されている部分は、図7における横方向の画素と画素の間で縦方向に延在するブラックマトリクスBMに対応している。走査線101および映像信号線1021によって区切られた部分に画素電極が形成されている。画素電極の配置位置は、図7における赤画素RP、青画素BP、緑画素GP等に対応している。   FIG. 8 is a schematic view showing a portion of the TFT substrate 100 where the spacer formed on the counter substrate 200 contacts. In FIG. 8, a scanning line 101 extends in the horizontal direction. A portion where the scanning line 101 exists corresponds to the black matrix BM extending in the horizontal direction between the pixels in the vertical direction in FIG. In FIG. 8, video signal lines 1021 extend in the vertical direction and are arranged in the horizontal direction. The portion where the video signal line 1021 is formed corresponds to the black matrix BM extending in the vertical direction between the pixels in the horizontal direction in FIG. Pixel electrodes are formed at portions separated by the scanning lines 101 and the video signal lines 1021. The arrangement positions of the pixel electrodes correspond to the red pixel RP, the blue pixel BP, the green pixel GP, etc. in FIG.

図8において、走査線101上には、第1TFT110と第2TFT120が形成されている。TFTが走査線101上に形成されているのは、走査線101をTFTのゲート電極として利用するためである。映像信号線1021はTFTのソース/ドレイン電極として使用される。図8において、TFTが2個存在している。通常は第1TFT110を使用するが、製造過程において、第1TFT110が不良になった場合に、第2TFT120を使用するように、配線を修正する。なお、第2TFT120は形成しない場合もある。図8に形成されたスルーホール130は、画素電極とTFTを接続するためのものである。図8では、TFT等の位置を示すための平面図であり、詳細配線等は省略されている。   In FIG. 8, a first TFT 110 and a second TFT 120 are formed on the scanning line 101. The TFT is formed on the scanning line 101 in order to use the scanning line 101 as a gate electrode of the TFT. The video signal line 1021 is used as a source / drain electrode of the TFT. In FIG. 8, there are two TFTs. Normally, the first TFT 110 is used, but the wiring is modified so that the second TFT 120 is used when the first TFT 110 becomes defective in the manufacturing process. Note that the second TFT 120 may not be formed. The through hole 130 formed in FIG. 8 is for connecting the pixel electrode and the TFT. In FIG. 8, it is a top view for showing the position of TFT etc., and detailed wiring etc. are abbreviate | omitted.

図8において、第1TFT110と第2TFT120の間には、対向基板200に形成された第1スペーサ10と対応する位置に、スペーサ台座15が形成されている。TFT基板100と対向基板200を重ね合わせると、TFT基板100に形成されたスペーサ台座15が対向基板200に形成された第1スペーサ10と接触してTFT基板100と対向基板200の適正な間隔が規定される。   In FIG. 8, a spacer pedestal 15 is formed between the first TFT 110 and the second TFT 120 at a position corresponding to the first spacer 10 formed on the counter substrate 200. When the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are overlapped, the spacer pedestal 15 formed on the TFT substrate 100 comes into contact with the first spacer 10 formed on the counter substrate 200 so that an appropriate distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is obtained. It is prescribed.

図9は、TFT基板100と対向基板200とを重ね合わせた場合の、スペーサ付近の断面図である。この断面は、例えば、図8のA−A断面に対応する部分である。図9において、対向基板200には、ブラックマトリクスBMが形成され、その上に赤カラーフィルタR、さらに緑カラーフィルタGが積層されている。緑カラーフィルタGの上には青フィルタによる柱状のスペーサが形成されている。緑カラーフィルタGあるいは青カラーフィルタB等を覆って保護層であるオーバーコート膜OCが形成されている。オーバーコート膜OCの上には、液晶を配向させるための配向膜106が形成されている。   FIG. 9 is a cross-sectional view of the vicinity of the spacer when the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are overlapped. This cross section is, for example, a portion corresponding to the AA cross section of FIG. In FIG. 9, a black matrix BM is formed on the counter substrate 200, and a red color filter R and a green color filter G are stacked thereon. A columnar spacer made of a blue filter is formed on the green color filter G. An overcoat film OC, which is a protective layer, is formed so as to cover the green color filter G or the blue color filter B. On the overcoat film OC, an alignment film 106 for aligning liquid crystals is formed.

TFT基板100の上には、走査線101が形成され、この走査線101はTFT部分においてはゲート電極として作用する。走査線101の上には、ゲート絶縁膜103が形成されている。TFTが形成される部分には、a−Si膜104が形成される。a−Si膜104の上部には、チャネル部を挟んでソース/ドレイン電極(SD電極102)が形成される。a−Si膜104の上にはSD電極102が3個形成されている。この場合、両脇のSD電極102をソースとすると、中央のSD電極102がドレインとなる。あるいはその逆の言い方をする場合もある。a−Si膜104のチャネル部は、TFTの特性を安定させるためのチャネルエッチングが施されている。   A scanning line 101 is formed on the TFT substrate 100, and the scanning line 101 functions as a gate electrode in the TFT portion. A gate insulating film 103 is formed on the scanning line 101. An a-Si film 104 is formed on the portion where the TFT is formed. A source / drain electrode (SD electrode 102) is formed on the a-Si film 104 with the channel portion interposed therebetween. Three SD electrodes 102 are formed on the a-Si film 104. In this case, if the SD electrodes 102 on both sides are the source, the central SD electrode 102 is the drain. Or, the opposite may be said. The channel portion of the a-Si film 104 is subjected to channel etching for stabilizing the TFT characteristics.

2個のTFTの間で、対向基板200に形成されたスペーサと対応する部分には、SD電極102と同じ材料、同じプロセスによって、スペーサ台座15が形成される。このスペーサ台座15には対向基板200に形成された第1スペーサ10が対応して設置される。TFTおよびスペーサ台座15を覆って、パッシベーション膜105がSiNによって形成される。パッシベーション膜105はTFTを保護するための膜である。パッシベーション膜105を覆って配向膜106が形成される。   A spacer pedestal 15 is formed between the two TFTs at a portion corresponding to the spacer formed on the counter substrate 200 by the same material and the same process as the SD electrode 102. The spacer base 15 is provided with the first spacer 10 formed on the counter substrate 200 correspondingly. A passivation film 105 is formed of SiN so as to cover the TFT and the spacer base 15. The passivation film 105 is a film for protecting the TFT. An alignment film 106 is formed so as to cover the passivation film 105.

図9において、対向基板200に形成された第1スペーサ10とTFT基板100に形成されたスペーサ台座15が接触している。スペーサ台座15はSD電極102と同じプロセスで形成された台座メタル1022によって形成されている。第1スペーサ10とスペーサ台座15によってTFT基板100と対向基板200の間隔が規定される。   In FIG. 9, the first spacer 10 formed on the counter substrate 200 and the spacer base 15 formed on the TFT substrate 100 are in contact with each other. The spacer pedestal 15 is formed by a pedestal metal 1022 formed by the same process as the SD electrode 102. The distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is defined by the first spacer 10 and the spacer base 15.

第1スペーサ10に対応して、TFT基板100側にスペーサ台座15を形成することは一例であり、第1スペーサ10のみによってTFT基板100と対向基板200の間隔を規定する場合もあり得る。なお、図7に示す第2スペーサ20に対応する部分のTFT基板100には、図8に示すように、スペーサ台座15は形成されていない。   Forming the spacer pedestal 15 on the TFT substrate 100 side corresponding to the first spacer 10 is an example, and the interval between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 may be defined only by the first spacer 10. In addition, as shown in FIG. 8, the spacer base 15 is not formed in the TFT substrate 100 of the part corresponding to the 2nd spacer 20 shown in FIG.

図9において、TFT基板100と対向基板200の間に液晶が充填されている。図9に示すように、走査線101の形成された部分では、第1スペーサ10以外の場所にも、対向基板200にカラーフィルタが積層されているために、TFT基板100と対向基板200の隙間は小さい。したがって、この領域においては、液晶が充填される量は非常に少ない。   In FIG. 9, liquid crystal is filled between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200. As shown in FIG. 9, in the portion where the scanning line 101 is formed, since the color filter is stacked on the counter substrate 200 at a place other than the first spacer 10, the gap between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is also present. Is small. Therefore, the amount of liquid crystal filled in this region is very small.

液晶によって表示を行うためには、液晶層107は一定の厚みが必要である。このように、液晶層107が一定の厚さを必要とする部分は画素電極が形成された部分である。一方、TFT基板100の走査線101が形成された領域では、液晶層107は表示に寄与しない。したがって、この部分においては、液晶層107の厚さは薄いほうが液晶の使用量を少なく出来る。液晶材料は高価であるので、この部分において、液晶の使用を少なくすることによって材料費を抑制し、液晶表示装置の製造コストを抑えることが出来る。また、液晶の量が少ないことによって、液晶の熱膨張に起因するストレスを緩和することが出来る。   In order to perform display using liquid crystal, the liquid crystal layer 107 needs to have a certain thickness. As described above, the portion where the liquid crystal layer 107 needs a certain thickness is a portion where the pixel electrode is formed. On the other hand, in the region where the scanning line 101 of the TFT substrate 100 is formed, the liquid crystal layer 107 does not contribute to display. Therefore, in this portion, the amount of liquid crystal used can be reduced when the thickness of the liquid crystal layer 107 is small. Since the liquid crystal material is expensive, the material cost can be suppressed by reducing the use of the liquid crystal in this portion, and the manufacturing cost of the liquid crystal display device can be suppressed. In addition, since the amount of liquid crystal is small, stress due to thermal expansion of the liquid crystal can be reduced.

図9に記載した例では、対向基板200には、対向電極は形成されていない。図9の実施例は、液晶分子1071を駆動するための画素電極と対向電極がTFT基板100上に形成されている場合である。このような構成は、液晶分子1071の向きをTFT基板100と平行な方向に回転させることによって制御するいわゆるIPS(In Plane Swithcing)方式の駆動方法において取られている。しかし、以下に述べる本発明は、IPS方式に限らず、対向基板200に対向電極が形成された一般のTN(Twisted Nematic)方式あるいは、VA(Vertical Alignment)方式等においても適用することが出来る。   In the example described in FIG. 9, the counter electrode is not formed on the counter substrate 200. The embodiment of FIG. 9 is a case where a pixel electrode and a counter electrode for driving the liquid crystal molecules 1071 are formed on the TFT substrate 100. Such a configuration is adopted in a so-called IPS (In Plane Swithcing) driving method in which the orientation of the liquid crystal molecules 1071 is controlled by being rotated in a direction parallel to the TFT substrate 100. However, the present invention described below can be applied not only to the IPS system but also to a general TN (Twisted Nematic) system in which a counter electrode is formed on the counter substrate 200 or a VA (Vertical Alignment) system.

図1は本発明の第1の実施例を示す図である。図1(a)は図7の領域Aの詳細図である。図1(b)は、図1(a)のX1−X2断面図、図1(c)は、図1(a)のR1−R2断面図、図1(d)は、図1(a)のB1−B2断面図、図1(e)は、図1(a)のG1−G2断面図である。図1に示す画素電極の形は、実際の画素電極に即して凹凸が記載されている。図1において、縦方向には同一色の画素が配列しており、横方向には異なる色の画素が配列している。   FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention. FIG. 1A is a detailed view of region A in FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line X1-X2 in FIG. 1A, FIG. 1C is a cross-sectional view taken along the line R1-R2 in FIG. 1A, and FIG. B1-B2 sectional view of FIG. 1, FIG.1 (e) is G1-G2 sectional drawing of Fig.1 (a). The shape of the pixel electrode shown in FIG. 1 has irregularities in line with the actual pixel electrode. In FIG. 1, pixels of the same color are arranged in the vertical direction, and pixels of different colors are arranged in the horizontal direction.

図1(b)、図1(d)、図1(e)に示すように、緑画素GPと緑画素GPの間に第1スペーサ10が、青画素BPと青画素BPの間に第2スペーサ20が形成されている。これらのスペーサはカラーフィルタによって形成されている。図1(b)に示すように、第1スペーサ10のほうが第2スペーサ20よりも高い。   As shown in FIGS. 1B, 1D, and 1E, the first spacer 10 is provided between the green pixel GP and the green pixel GP, and the second spacer is provided between the blue pixel BP and the blue pixel BP. A spacer 20 is formed. These spacers are formed by color filters. As shown in FIG. 1B, the first spacer 10 is higher than the second spacer 20.

図1(b)に示すように、第1スペーサ10では、ブラックマトリクスBMの上に、赤カラーフィルタRが積層され、さらにその上に緑カラーフィルタGが積層されている。緑カラーフィルタGの上には青カラーフィルタBが柱状に積層されることでスペーサが形成されている。そしてその上にオーバーコート膜OCが形成されている。   As shown in FIG. 1B, in the first spacer 10, a red color filter R is laminated on the black matrix BM, and a green color filter G is further laminated thereon. On the green color filter G, a blue color filter B is stacked in a columnar shape to form a spacer. An overcoat film OC is formed thereon.

一方、図1(b)に示すように、第2スペーサ20部においては、ブラックマトリクスBM上に、先ず、柱状に赤カラーフィルタRによって形成され、その上に青カラーフィルタB、緑カラーフィルタGが積層される。そしてその上にオーバーコート膜OCが形成されている。   On the other hand, as shown in FIG. 1B, in the second spacer 20 portion, first, a columnar red color filter R is formed on a black matrix BM, and a blue color filter B and a green color filter G are formed thereon. Are stacked. An overcoat film OC is formed thereon.

第1スペーサ10が第2スペーサ20よりも高くなるのは次の理由による。第1スペーサ10も第2スペーサ20も3層のカラーフィルタが積層されて形成されることは同じである。第1スペーサ10と第2スペーサ20が異なる点は、第1スペーサ10においては、柱上のスペーサは最後に形成されるのに対し、第2スペーサ20は柱上のスペーサが最初に形成される点である。カラーフィルタは感光性の有機樹脂に顔料が分散されたものであるが、フォトリソグラフィによって加工する前は液体状である。第2スペーサ20においては、下層に柱状の赤のカラーフィルタを形成するので、その上に緑および青のカラーフィルタを積層すると、レベリング効果によって柱状形状の上のカラーフィルタが薄くなる。一方、第1スペーサ10においては、柱状形状を最後に形成するために、第2スペーサ20で生じたような、上層膜のレベリング効果は生じない。このために、第1スペーサ10のほうが第2スペーサ20よりも高さが高くなる。   The reason why the first spacer 10 is higher than the second spacer 20 is as follows. It is the same that the first spacer 10 and the second spacer 20 are formed by stacking three color filters. The difference between the first spacer 10 and the second spacer 20 is that in the first spacer 10, the spacer on the pillar is formed last, whereas in the second spacer 20, the spacer on the pillar is formed first. Is a point. The color filter is obtained by dispersing a pigment in a photosensitive organic resin, but is in a liquid state before being processed by photolithography. In the second spacer 20, a columnar red color filter is formed in the lower layer. Therefore, when the green and blue color filters are stacked on the second spacer 20, the color filter on the columnar shape becomes thin due to the leveling effect. On the other hand, in the first spacer 10, since the columnar shape is formed last, the leveling effect of the upper layer film as generated in the second spacer 20 does not occur. For this reason, the height of the first spacer 10 is higher than that of the second spacer 20.

図1(c)は、図1(a)のR1−R2断面図である。図1(c)に示すように、この部分では、ブラックマトリクスBM上には赤カラーフィルタRと緑カラーフィルタGの2層のみが積層されている。したがって、この部分の高さは、図1におけるB1−B2断面、G1−G2断面等に比して低い。   FIG.1 (c) is R1-R2 sectional drawing of Fig.1 (a). As shown in FIG. 1C, in this portion, only two layers of a red color filter R and a green color filter G are stacked on the black matrix BM. Therefore, the height of this portion is lower than the B1-B2 cross section, the G1-G2 cross section, etc. in FIG.

図1(d)は、図1(a)のB1−B2断面である。これは、第2スペーサ20の断面形状である。この部分では、ブラックマトリクスBM上に赤カラーフィルタR、緑カラーフィルタG、青カラーフィルタBの順に3層のカラーフィルタが形成されているが、赤カラーフィルタRは柱状に形成されている。したがって、レベリング効果によって赤カラーフィルタR上の緑カラーフィルタG、青カラーフィルタB等は膜厚が小さくなっていることは、前述で説明したとおりである。   FIG. 1D is a B1-B2 cross section of FIG. This is the cross-sectional shape of the second spacer 20. In this portion, three layers of color filters are formed in the order of the red color filter R, the green color filter G, and the blue color filter B on the black matrix BM, but the red color filter R is formed in a column shape. Therefore, as described above, the green color filter G, the blue color filter B, and the like on the red color filter R have a reduced film thickness due to the leveling effect.

図1(e)は、図1(a)のG1−G2断面図であり、第1スペーサ10の断面形状を示している。図1(e)において、ブラックマトリクスBM上には、赤カラーフィルタR、緑カラーフィルタG、青カラーフィルタBの3層が形成されている。図1(e)においては、最後に積層される青カラーフィルタBを柱状に形成するので、赤カラーフィルタR、緑カラーフィルタG等にはレベリング効果を生じない。したがって、図1(e)に示す第1スペーサ10の方が、図1(d)に示す第2スペーサ20よりも高さが高くなる。   FIG. 1E is a G1-G2 cross-sectional view of FIG. 1A and shows a cross-sectional shape of the first spacer 10. In FIG. 1E, three layers of a red color filter R, a green color filter G, and a blue color filter B are formed on the black matrix BM. In FIG. 1E, since the blue color filter B to be stacked last is formed in a columnar shape, no leveling effect is produced in the red color filter R, the green color filter G, and the like. Accordingly, the height of the first spacer 10 shown in FIG. 1E is higher than that of the second spacer 20 shown in FIG.

図2〜図5は、図1に示す対向基板200を形成するプロセスを示す図である。図2に示すように、先ず、ブラックマトリクスBMを形成して画素を規定する。ブラックマトリクスBMは対向基板200全体に遮光膜を塗付した後、エッチングによって画素電極に対応する部分から遮光膜を除去することによって形成する。ブラックマトリクスBMの横方向に延在する帯状の部分に対応する部分には、TFT基板100において、走査線101が形成される。   2-5 is a figure which shows the process of forming the opposing board | substrate 200 shown in FIG. As shown in FIG. 2, first, a black matrix BM is formed to define pixels. The black matrix BM is formed by applying a light shielding film to the entire counter substrate 200 and then removing the light shielding film from a portion corresponding to the pixel electrode by etching. A scanning line 101 is formed on the TFT substrate 100 in a portion corresponding to a strip-like portion extending in the horizontal direction of the black matrix BM.

図3は、R画素およびブラックマトリクスBM上に赤カラーフィルタRを形成した状況を示す。赤画素RP上に赤カラーフィルタRが存在すれば、カラーフィルタ本来の役割を果たすことが出来るが、本実施例においては、赤カラーフィルタRをスペーサとして、あるいは、液晶の材料節約のために使用するので、赤画素RP以外の部分にも赤カラーフィルタRを形成している。すなわち赤カラーフィルタRを縦方向にストライプ状に形成することによって、赤画素RP間の液晶の充填量を節約する。   FIG. 3 shows a situation in which the red color filter R is formed on the R pixel and the black matrix BM. If the red color filter R exists on the red pixel RP, the original function of the color filter can be achieved. In this embodiment, the red color filter R is used as a spacer or for saving the material of the liquid crystal. For this reason, the red color filter R is also formed in portions other than the red pixel RP. That is, by forming the red color filter R in a stripe shape in the vertical direction, the liquid crystal filling amount between the red pixels RP can be saved.

また、青画素BP間の円形状の赤カラーフィルタRと、緑画素GP間の、横に長い帯状の赤カラーフィルタRは、各々、第2スペーサ20、第1スペーサ10の一部と成っている。図3において、青画素BP間の赤カラーフィルタRの平面を円形状として、緑画素GP間の赤カラーフィルタRの面積よりも小さくすることによって、青画素BP間に形成される第2スペーサ20の高さを緑画素GP間に形成される第1スペーサ10の高さよりも小さくする。   Also, a circular red color filter R between the blue pixels BP and a horizontally long strip-shaped red color filter R between the green pixels GP are part of the second spacer 20 and the first spacer 10, respectively. Yes. In FIG. 3, the plane of the red color filter R between the blue pixels BP is circular, and is smaller than the area of the red color filter R between the green pixels GP, whereby the second spacer 20 formed between the blue pixels BP. Is made smaller than the height of the first spacer 10 formed between the green pixels GP.

次に図4に示すように、緑カラーフィルタGを形成する。図が複雑になることを避けるために図4では赤カラーフィルタRが省略されているが、緑カラーフィルタGは図3で形成された赤カラーフィルタRの上に形成される。図4において、緑カラーフィルタGは緑画素GP間を連続して縦方向にストライプ状に形成される。さらに、緑カラーフィルタGは青画素BP間、および、赤画素RP間に形成されたブラックマトリクスBMを覆うように、横方向に延在するように形成される。青画素BPと青画素BPの間は第2スペーサ20の一部となり、赤画素RPと赤画素RPの間は液晶材料を節約するための充填材となる。   Next, as shown in FIG. 4, a green color filter G is formed. Although the red color filter R is omitted in FIG. 4 to avoid the complexity of the drawing, the green color filter G is formed on the red color filter R formed in FIG. In FIG. 4, the green color filter G is formed in a stripe shape in the vertical direction continuously between the green pixels GP. Further, the green color filter G is formed to extend in the horizontal direction so as to cover the black matrix BM formed between the blue pixels BP and between the red pixels RP. A portion between the blue pixel BP and the blue pixel BP becomes a part of the second spacer 20, and a space between the red pixel RP and the red pixel RP becomes a filler for saving liquid crystal material.

最後に図5に示すように、青カラーフィルタBを形成する。図5では、図を複雑化しないために、赤カラーフィルタRと緑カラーフィルタGが省略されているが、緑カラーフィルタGは緑カラーフィルタGの上に形成される。図5において、青画素BP間のBM上も青カラーフィルタBが覆うように、青カラーフィルタBは縦方向にストライプ状に形成されている。これによって、青画素BP間に充填されるはずの液晶材料を節約することが出来る。また、緑画素GPと緑画素GPの間には、青カラーフィルタBを円形状に形成することによって、青カラーフィルタBが第1スペーサ10の一部となる。円形状の青カラーフィルタBを最上層に形成することによって、第1スペーサ10は第2スペーサ20よりも高くすることが出来ることは、前述の説明で述べたとおりである。   Finally, as shown in FIG. 5, a blue color filter B is formed. In FIG. 5, the red color filter R and the green color filter G are omitted for the sake of simplicity, but the green color filter G is formed on the green color filter G. In FIG. 5, the blue color filter B is formed in a stripe shape in the vertical direction so that the blue color filter B covers the BM between the blue pixels BP. Thereby, the liquid crystal material that should be filled between the blue pixels BP can be saved. Further, the blue color filter B becomes a part of the first spacer 10 by forming the blue color filter B in a circular shape between the green pixel GP and the green pixel GP. As described above, the first spacer 10 can be made higher than the second spacer 20 by forming the circular blue color filter B in the uppermost layer.

以上の例では、第1スペーサ10と第2スペーサ20の高さの差を、柱状形状のカラーフィルタの上層に形成されるカラーフィルタのレベリング効果を利用して形成した。スペーサの高さに差を持たせる方法として、上層のカラーフィルタのレベリング効果を用いる他に、カラーフィルタによって形成されるスペーサ自体の面積を変えることによって行うことも出来る。   In the above example, the difference in height between the first spacer 10 and the second spacer 20 is formed using the leveling effect of the color filter formed on the upper layer of the columnar color filter. As a method of giving a difference in the height of the spacer, in addition to using the leveling effect of the upper color filter, it can be performed by changing the area of the spacer itself formed by the color filter.

すなわち、カラーフィルタは液状のものを塗付してこれを感光することによって、所定の形状に形成する。この場合、カラーフィルタの面積が大きいほうが加工後の高さが大きくなる。したがって、図3あるいは、図5に示す円形状のカラーフィルタの面積を変えることによって第1スペーサ10あるいは第2スペーサ20の高さを変化させることが出来る。このように、本発明によれば、スペーサの高さを変化させるための自由度を多く持つことが出来る。   That is, the color filter is formed in a predetermined shape by applying a liquid material and exposing it to light. In this case, the height after processing becomes larger as the area of the color filter is larger. Therefore, the height of the first spacer 10 or the second spacer 20 can be changed by changing the area of the circular color filter shown in FIG. 3 or FIG. Thus, according to the present invention, it is possible to have a large degree of freedom for changing the height of the spacer.

図10は本発明の第2の実施例を示す図である。図10(a)は、図7の領域Aの詳細図である。図10(b)は、図10(a)のX1−X2断面図、図10(c)は、図10(a)のR1−R2断面図、図10(d)は、図10(a)のB1−B2断面図、図10(e)は、図10(a)のG1−G2断面図である。図10の画素電極の形は、実際の画素電極に即して凹凸が記載されている。図10において、縦方向には同一色の画素が配列しており、横方向には異なる色の画素が配列している。   FIG. 10 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. FIG. 10A is a detailed view of region A in FIG. 10B is a cross-sectional view taken along the line X1-X2 of FIG. 10A, FIG. 10C is a cross-sectional view taken along the line R1-R2 of FIG. 10A, and FIG. B1-B2 sectional view of FIG. 10, FIG.10 (e) is G1-G2 sectional drawing of Fig.10 (a). The shape of the pixel electrode in FIG. 10 has irregularities in line with the actual pixel electrode. In FIG. 10, pixels of the same color are arranged in the vertical direction, and pixels of different colors are arranged in the horizontal direction.

図10(b)、図10(d)、図10(e)に示すように、緑画素GPと緑画素GPの間に第1スペーサ10が、青画素BPと青画素BPの間に第2スペーサ20が形成されている。これらのスペーサはカラーフィルタによって形成されている。図1(b)に示すように、第1スペーサ10のほうが第2スペーサ20よりも高い。   As shown in FIGS. 10B, 10D, and 10E, the first spacer 10 is provided between the green pixel GP and the green pixel GP, and the second spacer is provided between the blue pixel BP and the blue pixel BP. A spacer 20 is formed. These spacers are formed by color filters. As shown in FIG. 1B, the first spacer 10 is higher than the second spacer 20.

本実施例が実施例1と異なる点は、第2スペーサ20の高さと第1スペーサ10の高さとの差を、実施例1におけるよりも大きくしたことである。これは、第2スペーサ20を実施例1とは異なる方法で形成し、第2スペーサ20の高さをより小さくしていることによる。図10において、緑画素GP間に形成されている第1スペーサ10の形状と構成は実施例1と同様である。これに対して本実施例では、図10(a)に示すように、青画素BP間の第2スペーサ20は、平面が円形上の赤カラーフィルタRに平面が円形状の緑カラーフィルタGを積層した上に、青カラーフィルタBを積層して形成されている。   The difference between the present embodiment and the first embodiment is that the difference between the height of the second spacer 20 and the height of the first spacer 10 is made larger than in the first embodiment. This is because the second spacer 20 is formed by a method different from that in the first embodiment, and the height of the second spacer 20 is made smaller. In FIG. 10, the shape and configuration of the first spacer 10 formed between the green pixels GP are the same as those in the first embodiment. On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 10A, the second spacer 20 between the blue pixels BP includes a red color filter R having a circular plane and a green color filter G having a circular plane. A blue color filter B is stacked on the stacked layers.

図10(b)および図10(d)に示すように、第2スペーサ20では、円柱状に形成された赤カラーフィルタR上に、やはり円柱上に緑カラーフィルタGを形成する。本実施例において、青画素BP間の円柱状の緑カラーフィルタGの面積は、実施例1における緑カラーフィルタGの面積よりも小さいために、緑カラーフィルタGの厚さは実施例1の場合よりも小さくなる。   As shown in FIGS. 10B and 10D, in the second spacer 20, a green color filter G is formed on the red color filter R formed in a columnar shape and also on the column. In this embodiment, since the area of the cylindrical green color filter G between the blue pixels BP is smaller than the area of the green color filter G in the first embodiment, the thickness of the green color filter G is the same as that in the first embodiment. Smaller than.

図11〜図14は、図10に示す対向基板200を形成するプロセスを示す図である。   11 to 14 are diagrams showing a process of forming the counter substrate 200 shown in FIG.

図11および図12は、実施例1における図2および図3と同様である。本実施例が実施例1と異なる点は、図13における緑カラーフィルタGの形状である。図13に示すように、青画素BP間に形成される緑カラーフィルタGの平面図は円形であり、実施例1における緑カラーフィルタGよりも面積が小さい。したがって、本実施例において形成される緑カラーフィルタGの高さは実施例1で形成される緑カラーフィルタGの高さよりも小さくなる。その後、図14に示すように、青カラーフィルタBを形成することは実施例1と同様であるので説明は省略する。   11 and 12 are the same as FIGS. 2 and 3 in the first embodiment. This embodiment is different from the first embodiment in the shape of the green color filter G in FIG. As shown in FIG. 13, the plan view of the green color filter G formed between the blue pixels BP is circular and has a smaller area than the green color filter G in the first embodiment. Therefore, the height of the green color filter G formed in the present embodiment is smaller than the height of the green color filter G formed in the first embodiment. Thereafter, as shown in FIG. 14, the formation of the blue color filter B is the same as that of the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.

なお、赤画素RPと赤画素RP間のブラックマトリクスBMの上には、赤カラーフィルタRのみが形成されている点は実施例1と異なる。その他の構成および効果は実施例1において説明したのと同様である。   Note that only the red color filter R is formed on the black matrix BM between the red pixel RP and the red pixel RP, which is different from the first embodiment. Other configurations and effects are the same as those described in the first embodiment.

このように、本実施例においては、最初に円柱状のカラーフィルタを形成することによる上層のカラーフィルタのレベリング効果に加え、積層されるカラーフィルタの面積を変えることによって第2スペーサ20の最終的な高さを変えている。一方、第1スペーサ10の高さをさらに大きくしたい場合は、最上層に形成される円柱状の緑カラーフィルタGの面積を大きくすれば良い。   As described above, in this embodiment, in addition to the leveling effect of the upper color filter by first forming the columnar color filter, the area of the color filter to be stacked is changed to change the final color of the second spacer 20. Changing the height. On the other hand, when it is desired to further increase the height of the first spacer 10, the area of the cylindrical green color filter G formed in the uppermost layer may be increased.

図6に示すように、液晶表示パネルの対向基板200における表示領域210の外側には、額縁状に周辺遮光膜220がブラックマトリクスBMによって形成されている。周辺遮光膜220に対応するTFT基板100側は、TFTあるいはそのための配線等が形成された配線領域140の外側となっており、TFT基板100と対向基板200との間隙は表示領域210に比べて大きい。したがって、周辺遮光膜220の部分に表示領域210と同じ高さのスペーサを形成すると、TFT基板100と対向基板200の距離が小さくなり、例えば、図15に示すように、周辺部において、TFT基板100が変形する。図15は、周辺スペーサ30をストライプ状、またはベタ状に形成された赤カラーフィルタRと柱状に形成された青カラーフィルタBによって構成している例である。図15においては、赤カラーフィルタRと青カラーフィルタBの厚さは表示領域における厚さと同じである。図15は、TFT基板100が変形する場合を示しているが、図15とは逆に、対向基板200側が変形する場合もある。   As shown in FIG. 6, a peripheral light shielding film 220 is formed by a black matrix BM in a frame shape outside the display area 210 in the counter substrate 200 of the liquid crystal display panel. The TFT substrate 100 side corresponding to the peripheral light-shielding film 220 is outside the wiring region 140 where the TFT or wiring for it is formed, and the gap between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is larger than that of the display region 210. large. Therefore, when a spacer having the same height as the display region 210 is formed in the peripheral light shielding film 220, the distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is reduced. For example, as shown in FIG. 100 is deformed. FIG. 15 shows an example in which the peripheral spacer 30 is composed of a red color filter R formed in a stripe shape or a solid shape and a blue color filter B formed in a column shape. In FIG. 15, the thicknesses of the red color filter R and the blue color filter B are the same as those in the display area. FIG. 15 shows a case where the TFT substrate 100 is deformed, but the counter substrate 200 side may be deformed, contrary to FIG.

このように、基板が周辺において、変形すると、その影響が表示領域210におよび、表示領域210周辺において、コントラストが低下するという現象を生ずる。このような現象を防止するためには、周辺遮光膜220部において、周辺スペーサ30の高さを表示領域210のスペーサよりも大きくしてやるのが良い。この場合、周辺遮光膜220のスペーサの高さを表示領域210に対して急に変化させると、ガラス基板に対するストレス等が発生する。   As described above, when the substrate is deformed in the periphery, the influence is exerted on the display region 210 and the contrast is decreased in the periphery of the display region 210. In order to prevent such a phenomenon, it is preferable to make the height of the peripheral spacer 30 larger than that of the display region 210 in the peripheral light shielding film 220. In this case, if the height of the spacer of the peripheral light shielding film 220 is suddenly changed with respect to the display area 210, stress or the like is generated on the glass substrate.

本実施例では、図16に示すように、周辺遮光膜220の部分に形成される周辺スペーサ30において、柱状に形成されるスペーサの面積を周辺に行くほど大きくすることによって、周辺に行くほど柱状スペーサの高さを大きくしている。すなわち、図16においては、周辺スペーサ30はストライプ状に形成された赤カラーフィルタRとその上に形成された緑の柱状カラーフィルタによって構成されているが、緑の柱状カラーフィルタの面積を周辺に行くほど大きくすることによって、結果的に、周辺に行くほど周辺スペーサ30の高さを高くしている。本実施例よって容易に周辺スペーサ30の高さを変化させることができ、表示領域210の周辺部におけるコントラストの低下を防止するとともに、TFT基板100あるいは対向基板200の機械的なストレスを緩和することが出来る。   In the present embodiment, as shown in FIG. 16, in the peripheral spacer 30 formed in the peripheral light shielding film 220, the area of the spacer formed in a columnar shape is increased toward the periphery, and the columnar shape is increased toward the periphery. The height of the spacer is increased. That is, in FIG. 16, the peripheral spacer 30 is composed of a red color filter R formed in a stripe shape and a green columnar color filter formed thereon, but the area of the green columnar color filter is around the periphery. As the result, the height of the peripheral spacer 30 is increased toward the periphery. According to the present embodiment, the height of the peripheral spacer 30 can be easily changed, and a decrease in contrast in the peripheral portion of the display region 210 can be prevented, and mechanical stress of the TFT substrate 100 or the counter substrate 200 can be reduced. I can do it.

本実施例は実施例3で説明した、表示領域210の外側の周辺遮光膜220部分においてTFT基板100と対向基板200の間隙が大きくなることによる表示領域210における周辺のコントラストの低下と、TFT基板100あるいは対向基板200のストレスを防止する他の構成を与えるものである。   In the present embodiment, as described in the third embodiment, the peripheral contrast in the display region 210 is reduced due to the gap between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 being increased in the peripheral light shielding film 220 outside the display region 210, and the TFT substrate. 100 or another structure for preventing the stress of the counter substrate 200 is provided.

図17に本実施例の構成を示す。図17において、対向基板200の周辺遮光膜220には、3層のカラーフィルタからなる周辺スペーサ30が形成されている。3層のカラーフィルタを使用することによって、本実施例における周辺スペーサ30の高さは実施例3における周辺スペーサよりも高くなっている。また、本実施例において、緑カラーフィルタGおよび青カラーフィルタBを柱状スペーサとしている。そして、柱状の緑カラーフィルタGの面積を周辺に行くほど大きくすることによって、基板周辺側のスペーサの高さを徐々に大きくしている。   FIG. 17 shows the configuration of this embodiment. In FIG. 17, a peripheral spacer 30 made of three layers of color filters is formed on the peripheral light shielding film 220 of the counter substrate 200. By using a three-layer color filter, the height of the peripheral spacer 30 in this embodiment is higher than that in the third embodiment. In this embodiment, the green color filter G and the blue color filter B are columnar spacers. The height of the spacer on the peripheral side of the substrate is gradually increased by increasing the area of the columnar green color filter G toward the periphery.

図17は、緑カラーフィルタGの面積および高さを変化させているが、スペーサの高さを周辺部においてより大きく変化させたい場合は、柱状の青カラーフィルタBの面積を変えることも出来る。したがって、本実施例においては、周辺のスペーサの高さを変えたい場合に、より設計の自由度を持つことが出来る。   Although the area and height of the green color filter G are changed in FIG. 17, the area of the columnar blue color filter B can be changed when it is desired to change the height of the spacer more greatly in the peripheral portion. Therefore, in this embodiment, when it is desired to change the height of the peripheral spacers, it is possible to have a higher degree of design freedom.

実施例1〜実施例4は対向基板200に液晶を駆動する対向電極201が形成されていない場合を例にとって説明した。しかし、本発明は、対向基板200に対向電極201が形成されている場合の構成に対しても適用できることは先に述べたとおりである。図18はこの構成の例を示す。図18は説明のために、スペーサが形成された部分の断面のみを示す。また、図18は、図7における第1スペーサ10の部分のみを取り出したものである。図18に示す部分以外の構成は、実施例1または、実施例2で説明したものと同様である。   In the first to fourth embodiments, the case where the counter electrode 201 for driving the liquid crystal is not formed on the counter substrate 200 has been described as an example. However, as described above, the present invention can also be applied to a configuration in which the counter electrode 201 is formed on the counter substrate 200. FIG. 18 shows an example of this configuration. FIG. 18 shows only a cross section of a portion where a spacer is formed for the sake of explanation. FIG. 18 shows only the first spacer 10 in FIG. Configurations other than the portions shown in FIG. 18 are the same as those described in the first or second embodiment.

図18では、対向基板200が下側で、TFT基板100が上側に配置されている。TFT基板100に形成された配線、TFT等は省略されている。図18において、対向基板200にはブラックマトリクスBMが形成され、ブラックマトリクスBMの両側には青画素BPあるいは赤画素RPが形成されている。ブラックマトリクスBMの上には、赤カラーフィルタR、緑カラーフィルタG、青カラーフィルタBが積層されている。スペーサの高さは、スペーサの面積を変えることによって調整できることは実施例1および実施例2で説明したとおりである。   In FIG. 18, the counter substrate 200 is disposed on the lower side, and the TFT substrate 100 is disposed on the upper side. Wirings, TFTs, and the like formed on the TFT substrate 100 are omitted. In FIG. 18, a black matrix BM is formed on the counter substrate 200, and blue pixels BP or red pixels RP are formed on both sides of the black matrix BM. A red color filter R, a green color filter G, and a blue color filter B are stacked on the black matrix BM. As described in the first and second embodiments, the height of the spacer can be adjusted by changing the area of the spacer.

本実施例では、対向基板200のオーバーコート膜OCの上に対向電極201が形成されている。対向電極201が柱状スペーサの上にまで形成されていると、TFT基板100とスペーサが接触した際、配向膜106が破壊したりすると、対向電極201とTFT基板100に形成された配線とが接触して、対向電極201とTFT基板100に形成された配線とがショートする可能性がある。本実施例ではこの危険を防止するために、図18に示すように、対向電極201を、スペーサの部分には形成しないようにしている。このように構成することによって、対向基板200に対向電極201を形成する場合にも本発明を実施することが出来る。   In this embodiment, the counter electrode 201 is formed on the overcoat film OC of the counter substrate 200. When the counter electrode 201 is formed even on the columnar spacers, when the alignment film 106 is broken when the TFT substrate 100 and the spacer are in contact, the counter electrode 201 and the wiring formed on the TFT substrate 100 are in contact with each other. As a result, the counter electrode 201 and the wiring formed on the TFT substrate 100 may be short-circuited. In this embodiment, in order to prevent this danger, the counter electrode 201 is not formed on the spacer portion as shown in FIG. With this configuration, the present invention can be implemented even when the counter electrode 201 is formed on the counter substrate 200.

以上は、対向基板200に対向電極201が形成されている場合の、第1スペーサ10について本発明を適用する場合を説明したが、第2スペーサ20に適用する場合も同様である。すなわち、第2スペーサ20は第1スペーサ10よりも高さを低くするが、これは、第2スペーサ20においては、カラーフィルタの層を2層にする、あるいは、柱状カラーフィルタの面積を第1スペーサ10の場合よりも小さくすること等によって実現することが出来る。   Although the case where the present invention is applied to the first spacer 10 in the case where the counter electrode 201 is formed on the counter substrate 200 has been described above, the same applies to the case where the present invention is applied to the second spacer 20. That is, the height of the second spacer 20 is lower than that of the first spacer 10, but this is because the second spacer 20 has two color filter layers or the area of the columnar color filter is the first. It can be realized by making it smaller than the case of the spacer 10.

図19は本発明をいわゆるVA方式の液晶表示装置に適用する例である。図19は説明のために、スペーサが形成された部分の断面のみを示している。また、図19は、図7における第1スペーサ10の部分のみを取り出したものである。図19に示す部分以外の構成は、実施例1または、実施例2で説明したものと同様である。   FIG. 19 shows an example in which the present invention is applied to a so-called VA liquid crystal display device. FIG. 19 shows only a cross section of a portion where a spacer is formed for the sake of explanation. FIG. 19 shows only the portion of the first spacer 10 in FIG. The configuration other than the portion shown in FIG. 19 is the same as that described in the first or second embodiment.

図19では、対向基板200が下側で、TFT基板100が上側に配置されている。TFT基板100に形成された配線、TFT等は省略されている。図19において、対向基板200にはブラックマトリクスBMが形成され、ブラックマトリクスBMの両側には緑画素GPあるいは赤画素RPが形成されている。ブラックマトリクスBMの上には、赤カラーフィルタR、緑カラーフィルタG、青カラーフィルタBが積層されている。スペーサの高さは、スペーサの面積を変えることによって調整できることは実施例1および実施例2で説明したとおりである。   In FIG. 19, the counter substrate 200 is disposed on the lower side and the TFT substrate 100 is disposed on the upper side. Wirings, TFTs, and the like formed on the TFT substrate 100 are omitted. In FIG. 19, a black matrix BM is formed on the counter substrate 200, and green pixels GP or red pixels RP are formed on both sides of the black matrix BM. A red color filter R, a green color filter G, and a blue color filter B are stacked on the black matrix BM. As described in the first and second embodiments, the height of the spacer can be adjusted by changing the area of the spacer.

本実施例では、スペーサの上にリブ205が設けられている。このリブ205は、画素電極上にも延設して形成され、画素電極上では、液晶分子を傾むかせ、視野角を広げる機能を有する。図19において、スペーサの高さは赤カラーフィルタR、緑カラーフィルタG、青カラーフィルタBを積層することによって形成されていることは実施例1等と同様である。また、スペーサの高さは、スペーサを構成するカラーフィルタの面積を制御する、あるいは、カラーフィルタの積層の方法によるレベリングを利用して制御することが出来ることは実施例1で説明したとおりである。   In this embodiment, a rib 205 is provided on the spacer. The rib 205 is also formed so as to extend over the pixel electrode, and has a function of inclining liquid crystal molecules and widening the viewing angle on the pixel electrode. In FIG. 19, the height of the spacer is formed by laminating a red color filter R, a green color filter G, and a blue color filter B, as in the first embodiment. In addition, as described in the first embodiment, the height of the spacer can be controlled by controlling the area of the color filter constituting the spacer or by using leveling by a method of stacking the color filters. .

本実施例が実施例5と異なる点は、対向基板200に形成された対向電極201をカラーフィルタによるスペーサの上にまで形成している点である。すなわち、本実施例においては、カラーフィルタによるスペーサの上に対向電極201を形成しても、TFT基板100との間に、配向膜106に加えて、リブ205が存在しているために、対向電極201とTFT基板100に形成された配線とがショートする確率は非常に小さいために、このような構成をとることが出来る。   The difference between the present embodiment and the fifth embodiment is that the counter electrode 201 formed on the counter substrate 200 is formed even on the spacers of the color filters. In other words, in this embodiment, even if the counter electrode 201 is formed on the spacer by the color filter, the rib 205 exists in addition to the alignment film 106 between the TFT substrate 100 and the counter electrode 201. Since the probability of a short circuit between the electrode 201 and the wiring formed on the TFT substrate 100 is very small, such a configuration can be adopted.

このように、VA方式においても、本発明を適用することが出来る。以上は、図7における第1スペーサ10について説明したが、第2スペーサ20についても同様に実現できることは実施例5で説明したとおりである。   Thus, the present invention can also be applied to the VA system. Although the first spacer 10 in FIG. 7 has been described above, the second spacer 20 can be similarly realized as described in the fifth embodiment.

10 第1スペーサ、15 スペーサ台座、20 第2スペーサ、30 周辺スペーサ、100 TFT基板、101 走査線、102 SD電極、103 ゲート絶縁膜、104 a−Si、105 パッシベーション膜、106 配向膜、107 液晶層、130 端子部、150 シール部、200 対向基板、201 対向電極、205 リブ、210 表示領域、220 周辺遮光、1021 映像信号線、1022 台座メタル、R 赤カラーフィルタ、G 緑カラーフィルタ、B 青カラーフィルタ、RP 赤画素、GP 緑画素、BP 青画素、BM ブラックマトリクス、OC オーバーコート膜。   10 First spacer, 15 Spacer base, 20 Second spacer, 30 Peripheral spacer, 100 TFT substrate, 101 Scan line, 102 SD electrode, 103 Gate insulating film, 104 a-Si, 105 Passivation film, 106 Alignment film, 107 Liquid crystal Layer, 130 terminal portion, 150 seal portion, 200 counter substrate, 201 counter electrode, 205 rib, 210 display area, 220 peripheral shading, 1021 video signal line, 1022 base metal, R red color filter, G green color filter, B blue Color filter, RP red pixel, GP green pixel, BP blue pixel, BM black matrix, OC overcoat film.

Claims (9)

TFT基板と、対向基板と、前記TFT基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記対向基板には、第1のカラーフィルタによって第1の色を表示する第1の画素が縦方向に配列し、第2のカラーフィルタによって第2の色を表示する第2の画素が縦方向に配列し、第3のカラーフィルタによって第3の色を表示する第3の画素が縦方向に配列し、
前記第1のカラーフィルタは前記第1の画素を覆って縦方向にストライプ状に延在し、
前記第2のカラーフィルタは前記第2の画素を覆って縦方向にストライプ状に延在し、前記第3のカラーフィルタは前記第3の画素を覆って縦方向に延在し、
前記第1の画素と前記第1の画素の間には、前記第1のカラーフィルタを含む複数のカラーフィルタが積層された第1のスペーサが形成され、
第2の画素と前記第2の画素の間には前記第2のカラーフィルタを含む複数のカラーフィルタによって第2のスペーサが形成され、
前記第1のカラーフィルタは、前記第2の画素と前記第2の画素の間に、平面が円形状に形成され、
前記第1のスペーサを構成する前記複数のカラーフィルタのうちの下側のカラーフィルタの面積は、前記上側のカラーフィルタの面積よりも大きく、
前記第2のスペーサを構成する前記複数のカラーフィルタのうちの下側のカラーフィルタの面積は、前記上側のカラーフィルタの面積よりも小さく、
前記下側のカラーフィルタは前記複数のカラーフィルタのうちの最下層のカラーフィルタであり、前記上側のカラーフィルタは前記複数のカラーフィルタのうちの最上層のカラーフィルタであり、
前記第1のスペーサの高さは、前記第2のスペーサの高さよりも大きく、
前記第3のカラーフィルタは、前記第1の画素と前記第1の画素の間と前記第3の画素と前記第3の画素の間をストライプ状に横方向に延在していることを特徴とする液晶表示装置。
A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a TFT substrate, a counter substrate, and the TFT substrate and the counter substrate,
On the counter substrate, first pixels that display the first color by the first color filter are arranged in the vertical direction, and second pixels that display the second color by the second color filter are arranged in the vertical direction. The third pixels displaying the third color by the third color filter are arranged in the vertical direction,
The first color filter extends in a stripe shape in a vertical direction covering the first pixel,
The second color filter covers the second pixel and extends in a stripe shape in the vertical direction, and the third color filter covers the third pixel and extends in the vertical direction,
Between the first pixel and the first pixel, a first spacer in which a plurality of color filters including the first color filter are stacked is formed,
A second spacer is formed between the second pixel and the second pixel by a plurality of color filters including the second color filter,
The first color filter has a circular plane formed between the second pixel and the second pixel,
The area of the lower color filter of the plurality of color filters constituting the first spacer is larger than the area of the upper color filter,
The area of the lower color filter of the plurality of color filters constituting the second spacer is smaller than the area of the upper color filter,
The lower color filter is a lowermost color filter of the plurality of color filters, and the upper color filter is an uppermost color filter of the plurality of color filters;
The height of the first spacer, much larger than the height of the second spacer,
The third color filter extends in a horizontal direction in a stripe shape between the first pixel and the first pixel and between the third pixel and the third pixel. A liquid crystal display device.
前記対向基板には対向電極が形成され、
前記第1のスペーサ部分に前記対向電極が形成されていないことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
A counter electrode is formed on the counter substrate,
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the counter electrode is not formed on the first spacer portion.
前記対向基板には対向電極が形成され、
前記第1のスペーサ部分に前記対向電極が形成され、
前記第1のスペーサ上にリブが設けられていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
A counter electrode is formed on the counter substrate,
The counter electrode is formed on the first spacer portion;
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a rib is provided on the first spacer.
前記第3のカラーフィルタは、前記第2の画素と前記第2の画素の間に、平面が円形状に形成されている請求項1ないし3の何れかに記載の液晶表示装置。   4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the third color filter has a circular plane formed between the second pixel and the second pixel. 5. 前記第2のカラーフィルタは、前記第1の画素と前記第1の画素の間に、平面が円形状に形成されている請求項4に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the second color filter has a circular plane formed between the first pixel and the first pixel. 前記第2の画素と前記第2の画素の間に平面が円形状に形成された前記第3のカラーフィルタの面積は、前記第2の画素と前記第2の画素の間に平面が円形状に形成された前記第1のカラーフィルタの面積より小さいことを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置。   The area of the third color filter in which a plane is formed in a circular shape between the second pixel and the second pixel is such that the plane is circular between the second pixel and the second pixel. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the liquid crystal display device has an area smaller than an area of the first color filter formed on the substrate. 前記TFT基板には、画素電極と対向電極が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a pixel electrode and a counter electrode are formed on the TFT substrate. 前記第1のスペーサは前記第1のカラーフィルタを含む3層のカラーフィルタによって形成され、前記第2のスペーサは前記第2のカラーフィルタを含む3層のカラーフィルタによって形成されていることを特徴とする請求項1ないし6の何れかに記載の液晶表示装置。   The first spacer is formed by a three-layer color filter including the first color filter, and the second spacer is formed by a three-layer color filter including the second color filter. A liquid crystal display device according to claim 1. 前記第3の画素と前記第3の画素の間には、複数のカラーフィルタが積層されていることを特徴とする請求項1ないし6の何れに記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a plurality of color filters are stacked between the third pixel and the third pixel.
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