JP5551107B2 - 荷電粒子線照射装置 - Google Patents
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- 被照射体に荷電粒子線を照射する照射部と、前記照射部から照射される荷電粒子線の照射範囲を設定するコリメータとを備えた荷電粒子線照射装置において、
前記コリメータの開口部に対して光を照射するための複数の光源部と、
前記照射部と前記コリメータとの間に配置され、前記複数の光源部から出射された光をそれぞれ前記コリメータの開口部に向けて反射させる複数の凹面鏡と、
前記複数の凹面鏡を前記荷電粒子線の照射軸に対して進退方向に移動させる駆動部とを備え、
前記光源部は、前記凹面鏡で反射される光の照射範囲外において前記凹面鏡の焦点位置に配置されており、
前記複数の凹面鏡は、前記複数の光源部から出射された光をそれぞれ前記コリメータの開口部に対して平行光となるように反射させることを特徴とする荷電粒子線照射装置。 - 前記凹面鏡は、前記複数の凹面鏡で反射された各平行光の断面積の合計が前記コリメータの開口部の面積よりも大きくなるような寸法を有していることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線照射装置。
- 前記コリメータは、前記被照射体毎に製作され、前記被照射体の照射目標物の形状及び寸法に合った開口部を有する被照射体コリメータと、前記被照射体コリメータと前記照射部との間に配置され、形状及び寸法が可変の開口部を有するマルチリーフコリメータとを有し、
前記複数の凹面鏡は、前記複数の光源部から出射された光をそれぞれ反射させることにより、当該光を前記マルチリーフコリメータの開口部を通過させて前記被照射体コリメータの開口部に照射させることを特徴とする請求項1または2記載の荷電粒子線照射装置。 - 前記マルチリーフコリメータの開口部を撮像する撮像部を更に備え、
前記撮像部は、前記複数の凹面鏡と共に移動可能となるように設けられていることを特徴とする請求項3記載の荷電粒子線照射装置。
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