JP5539706B2 - Prepreg, metal foil-clad laminate, and printed wiring board - Google Patents

Prepreg, metal foil-clad laminate, and printed wiring board Download PDF

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Description

本発明は、プリプレグ、金属張箔積層板、及びプリント配線板に関する。   The present invention relates to a prepreg, a metal-clad foil laminate, and a printed wiring board.

電子機器用のプリント配線板材料には、熱的及び電気的特性に加え、化学的及び物理的特性に優れることが要求され、このようなプリント配線板材料としてエポキシ樹脂が広く使用されてきた。さらに、プリント配線板には、火災に対する安全性も求められる。そのため、エポキシ樹脂として、例えば、ハロゲン化処理を施したエポキシ樹脂が使用されていた。しかしながら、火災やリサイクル加熱工程時において有害ガスを発生する恐れがあるため、環境負荷低減を目的とし、ハロゲン元素を含有していないエポキシ樹脂への要求が高まっているのが実情である。   Printed wiring board materials for electronic devices are required to have excellent chemical and physical characteristics in addition to thermal and electrical characteristics, and epoxy resins have been widely used as such printed wiring board materials. Furthermore, fire safety is also required for printed wiring boards. Therefore, for example, an epoxy resin subjected to a halogenation treatment has been used as the epoxy resin. However, since there is a risk of generating harmful gases during a fire or recycling heating process, there is a growing demand for epoxy resins that do not contain halogen elements for the purpose of reducing environmental impact.

更に、プリント配線板へ半田付けする際に使用する半田として、鉛フリー半田を利用することが急速に広まっている。しかしながら、鉛フリー半田を用いる際には、従来の半田付け温度よりも高温にする必要がある。そのため、プリント配線板材料が軟化し、膨張率が大きくなり、膨れを生じる現象や、プリント配線板材料の熱分解によってガスが発生し、膨れを生じる現象が見られるようになり、例えば、プリント配線板の回路が断線するといった問題が生じる。   Furthermore, the use of lead-free solder is rapidly spreading as solder used when soldering to a printed wiring board. However, when using lead-free solder, it is necessary to make it higher than the conventional soldering temperature. For this reason, the printed wiring board material is softened, the expansion rate is increased, and a phenomenon that causes blistering, and a phenomenon that gas is generated due to thermal decomposition of the printed wiring board material, causing blistering. There arises a problem that the circuit of the board is disconnected.

一方で、近年の電気・電子材料分野の急速な発展に伴い、電子機器には、小型化、高機能化が求められており、プリント配線板としては、高集積化が求められている。ところが、高集積化したことにより、単位面積当たりの発熱量が増加し、通電時にプリント配線板にかかる温度が一層高温化する。そのため、通電時と切電時との温度差が大きくなり、例えば、剥離やクラックが発生するといった問題が生じる。   On the other hand, with rapid development in the field of electrical and electronic materials in recent years, electronic devices are required to be downsized and highly functional, and printed circuit boards are required to be highly integrated. However, the high integration increases the amount of heat generated per unit area, and the temperature applied to the printed wiring board during energization is further increased. Therefore, the temperature difference between energization and de-energization becomes large, and for example, a problem that peeling or cracking occurs occurs.

これらの問題を解決するために、プリント配線板を構成する材料の一つであるエポキシ樹脂を改良する方法が提案されている。その一例として、エポキシ樹脂と、シリコーン樹脂を併用する方法がある。例えば、特許文献1〜3にはエポキシ樹脂とアルコキシシラン部分縮合物を脱アルコール縮合反応せしめて得られるアルコキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂を使用する方法が提案されている。特許文献4には、エポキシ樹脂と4官能アルコキシシラン化合物を含有したワニスを使用する方法が提案されている。   In order to solve these problems, a method of improving an epoxy resin which is one of materials constituting a printed wiring board has been proposed. As an example, there is a method of using an epoxy resin and a silicone resin in combination. For example, Patent Documents 1 to 3 propose a method of using an alkoxy group-containing silane-modified epoxy resin obtained by subjecting an epoxy resin and an alkoxysilane partial condensate to a dealcoholization condensation reaction. Patent Document 4 proposes a method of using a varnish containing an epoxy resin and a tetrafunctional alkoxysilane compound.

特開2002−212262号公報JP 2002-212262 A 特開2003−037368号公報JP 2003-037368 A 特開2003−048955号公報JP 2003-048955 A 特開2004−335661号公報JP 2004-335661 A

しかしながら、特許文献1,2,4に記載されているアルコキシル基含有エポキシ樹脂を、アルコキシル基とエポキシ樹脂を結合させるような化合物の添加をせずに積層板を作製した場合、エポキシ樹脂とアルコキシシラン間での結合形成が不十分となり、難燃性が低下する傾向にある。   However, when a laminated board is produced without adding an alkoxyl group-containing epoxy resin described in Patent Documents 1, 2, and 4 without adding a compound that binds the alkoxyl group and the epoxy resin, the epoxy resin and the alkoxysilane The bond formation between the layers becomes insufficient, and the flame retardancy tends to decrease.

また、特許文献1,3に記載されているアルコキシル基含有エポキシ樹脂を使用した場合、例えば、鉛フリー半田を用いての半田付けにおいて、樹脂中に含有されるアルコキシル基が脱アルコール反応を起こし、これによって発生した揮発性ガスが基板に膨れを生じさせ、回路が切断し、しばしば電気的なショート不良を生じさせる場合がある。   Moreover, when using the alkoxyl group-containing epoxy resin described in Patent Documents 1 and 3, for example, in soldering using lead-free solder, the alkoxyl group contained in the resin causes a dealcoholization reaction, The volatile gas generated by this causes the substrate to swell, the circuit is cut off, and often an electrical short circuit may occur.

特許文献2,4に記載されているアルコキシル基含有エポキシ樹脂を使用した場合、例えば、硬化工程において樹脂中に含有されるアルコキシル基が脱アルコール反応を起こすことで揮発性ガスを生じ、ボイド(気泡)が発生する傾向にある。そのため、プリント配線板とした際には、前記ボイドが層間の導通を担うスルーホールを形成するための穴と絶縁されるべき配線パターンとの間を跨ぎ、この穴の壁面に析出する銅めっきがボイド内まで析出することで、スルーホールと配線パターンとの間で、電気的なショート不良を生じる傾向にある。   When the alkoxyl group-containing epoxy resin described in Patent Documents 2 and 4 is used, for example, the alkoxyl group contained in the resin undergoes a dealcoholization reaction in the curing step to generate a volatile gas, resulting in voids (bubbles) ). Therefore, when a printed wiring board is used, the voids straddle between a hole for forming a through hole for conducting conduction between layers and a wiring pattern to be insulated, and copper plating deposited on the wall surface of the hole Precipitating into the void tends to cause an electrical short defect between the through hole and the wiring pattern.

特許文献4に記載されているエポキシ樹脂と4官能アルコキシシランの混合物を使用する場合、硬化工程前にエポキシ樹脂とアルコキシシランを混合しただけでは、エポキシ樹脂と4官能アルコキシシラン間での結合形成が不十分となり、クラックを生じる傾向にある。このように、従来公知の技術では、硬化時のボイドが発生せず、耐熱性、難燃性、クラック耐性を全て満足するプリント配線板材料は得られていなかった。   When the mixture of the epoxy resin and the tetrafunctional alkoxysilane described in Patent Document 4 is used, the bond formation between the epoxy resin and the tetrafunctional alkoxysilane can be achieved only by mixing the epoxy resin and the alkoxysilane before the curing step. It tends to be insufficient and cause cracks. As described above, conventionally known techniques do not generate voids during curing, and a printed wiring board material that satisfies all of heat resistance, flame retardancy, and crack resistance has not been obtained.

本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、硬化時のボイドが発生せず、耐熱性、難燃性、クラック耐性に優れたプリプレグ、金属箔張積層板、及びプリント配線板を提供することを主な目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a prepreg, a metal foil-clad laminate, and a printed wiring board that do not generate voids during curing and have excellent heat resistance, flame retardancy, and crack resistance. The main purpose.

本発明者は、特定のアルコキシシラン化合物を、ある特定の比率で混合し、エポキシ樹脂と共に、共加水分解縮合することによって得られる樹脂組成物と、硬化剤と、基材と、を含有するプリプレグとすることで、上記課題を解決できることを見出し、本発明をなすに至った。   The present inventor has prepared a prepreg containing a resin composition obtained by mixing a specific alkoxysilane compound at a specific ratio and co-hydrolyzing with an epoxy resin, a curing agent, and a base material. As a result, the present inventors have found that the above problems can be solved, and have made the present invention.

即ち、本発明は以下の通りである。
〔1〕
(A)エポキシ樹脂と、下記式(1)で表されるアルコキシシラン化合物と、を共加水分解縮合させて得られる樹脂組成物であって、

Figure 0005539706
(式中、nは0〜3の整数を表し、R1は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は有機基を表す。また、R2は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。)
前記アルコキシシラン化合物は、
(B)前記式(1)において、nは1〜2の整数であり、R1として、少なくとも1つの環状エーテル基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物と、
(C)前記式(1)において、nは1〜2の整数であり、R1として、少なくとも1つのアリール基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物と、
を含み、かつ、下記式(2)で表される(B)及び(C)の混合指標αが、0.001〜19である樹脂組成物と、
硬化剤と、
基材と、
を含有するプリプレグ;
混合指標α=(αc)/(αb) (2)
(式中、αb:(B)成分の含有量(mol%)、αc:(C)成分の含有量(mol%))。
〔2〕
前記(A)エポキシ樹脂のエポキシ当量は、100〜600g/eqであり、かつ、前記(A)エポキシ樹脂の25℃における粘度は、1000Pa・s以下である、〔1〕に記載のプリプレグ。
〔3〕
前記(A)エポキシ樹脂は、ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂である、〔1〕又は〔2〕に記載のプリプレグ。
〔4〕
前記アルコキシシラン化合物として、
(D)前記式(1)において、nが0である、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物を、更に含む〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載のプリプレグ。
〔5〕
下記式(3)で表される前記アルコキシシラン化合物の混合指標β1が、0.01〜1.4である、〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載のプリプレグ;
混合指標β1={(βn2)/(βn0+βn1)} (3)
(式中、
βn2:前記式(1)において、nが2であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
βn0:前記式(1)において、nが0であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
βn1:前記式(1)において、nが1であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
ここで、0≦{β2=(βn0)/(βn0+βn1+βn2)}≦0.1である)。
〔6〕
下記式(4)で表される、前記(A)エポキシ樹脂と前記アルコキシシラン化合物との混合指標γが、0.02〜15である、〔1〕〜〔5〕のいずれか一項に記載のプリプレグ;
混合指標γ=(γa)/(γs) (4)
(式中、
γa:エポキシ樹脂の質量(g)、
γs:前記式(1)において、nが0〜2の整数であるアルコキシシラン化合物の質量(g))
〔7〕
〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載のプリプレグと、
前記プレプリグに積層された金属箔と、
を少なくとも備える、金属箔張積層板。
〔8〕
〔7〕記載の金属箔張積層板の前記金属箔がエッチング処理された、プリント配線板。 That is, the present invention is as follows.
[1]
(A) A resin composition obtained by cohydrolyzing and condensing an epoxy resin and an alkoxysilane compound represented by the following formula (1),
Figure 0005539706
(In the formula, n represents an integer of 0 to 3, R 1 may be the same or different and represents a hydrogen atom or an organic group. R 2 may be the same or different, and represents a hydrogen atom. Or represents a C1-C8 alkyl group.)
The alkoxysilane compound is
(B) In the formula (1), n is an integer of 1 to 2, and R 1 has at least one kind of alkoxysilane compound having at least one cyclic ether group;
(C) In the formula (1), n is an integer of 1 to 2, and R 1 has at least one aryl group having at least one aryl group;
A blending index α of (B) and (C) represented by the following formula (2) is 0.001 to 19, and a resin composition:
A curing agent;
A substrate;
A prepreg containing
Mixing index α = (αc) / (αb) (2)
(Wherein, αb: content of component (B) (mol%), αc: content of component (C) (mol%)).
[2]
The epoxy equivalent of the (A) epoxy resin is 100 to 600 g / eq, and the viscosity of the (A) epoxy resin at 25 ° C. is 1000 Pa · s or less, according to [1].
[3]
The prepreg according to [1] or [2], wherein the (A) epoxy resin is a polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound.
[4]
As the alkoxysilane compound,
(D) The prepreg according to any one of [1] to [3], further including at least one alkoxysilane compound in which n is 0 in the formula (1).
[5]
The prepreg according to any one of [1] to [4], wherein a mixing index β1 of the alkoxysilane compound represented by the following formula (3) is 0.01 to 1.4;
Mixing index β1 = {(β n2 ) / (β n0 + β n1 )} (3)
(Where
β n2 : the content (mol%) of the alkoxysilane compound in which n is 2 in the formula (1),
β n0 : the content (mol%) of the alkoxysilane compound in which n is 0 in the formula (1),
β n1 : the content (mol%) of the alkoxysilane compound in which n is 1 in the formula (1),
Here, 0 ≦ {β2 = (β n0 ) / (β n0 + β n1 + β n2 )} ≦ 0.1).
[6]
The mixing index γ of the (A) epoxy resin and the alkoxysilane compound represented by the following formula (4) is 0.02 to 15; [1] to [5] Prepregs;
Mixing index γ = (γa) / (γs) (4)
(Where
γa: mass of epoxy resin (g),
γs: the mass (g) of the alkoxysilane compound in which n is an integer of 0 to 2 in the formula (1)
[7]
The prepreg according to any one of [1] to [6],
A metal foil laminated on the prepreg;
A metal foil-clad laminate.
[8]
[7] A printed wiring board obtained by etching the metal foil of the metal foil-clad laminate.

本発明によれば、硬化時のボイドが発生せず、耐熱性、難燃性、クラック耐性に優れた、プリプレグ、金属箔張積層板、及びプリント配線板を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the void at the time of hardening does not generate | occur | produce and can provide the prepreg, the metal foil tension laminated board, and printed wiring board which were excellent in heat resistance, a flame retardance, and crack resistance.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。   Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. The present invention is not limited to the following embodiment, and can be implemented with various modifications within the scope of the gist.

(プレプリグ)
本実施形態のプレプリグは、
(A)エポキシ樹脂と、下記式(1)で表されるアルコキシシラン化合物と、を共加水分解縮合させて得られる樹脂組成物であって、

Figure 0005539706
(式中、nは0〜3の整数を表し、R1は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は有機基を表す。また、R2は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。)
前記アルコキシシラン化合物は、
(B)nは1〜2の整数を表し、R1として、少なくとも1つの環状エーテル基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物と、
(C)nは1〜2の整数を表し、R1として、少なくとも1つのアリール基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物と、
を含み、かつ、下記式(2)で表される(B)及び(C)の混合指標αが、0.001〜19である樹脂組成物と、
硬化剤と
基材と
を含有するプレプリグ;
混合指標α=(αc)/(αb) (2)
(式(2)中、αb:前記(B)成分の含有量(mol%)、αc:前記(C)成分の含有量(mol%))、である。 (Prepreg)
The prepreg of this embodiment is
(A) A resin composition obtained by cohydrolyzing and condensing an epoxy resin and an alkoxysilane compound represented by the following formula (1),
Figure 0005539706
(In the formula, n represents an integer of 0 to 3, R 1 may be the same or different and represents a hydrogen atom or an organic group. R 2 may be the same or different, and represents a hydrogen atom. Or represents a C1-C8 alkyl group.)
The alkoxysilane compound is
(B) n represents an integer of 1 to 2, and as R 1 , at least one alkoxysilane compound having at least one cyclic ether group;
(C) n represents an integer of 1 to 2, and as R 1 , at least one alkoxysilane compound having at least one aryl group;
A blending index α of (B) and (C) represented by the following formula (2) is 0.001 to 19, and a resin composition:
A prepreg containing a curing agent and a substrate;
Mixing index α = (αc) / (αb) (2)
(In the formula (2), αb: content (mol%) of the component (B), αc: content (mol%) of the component (C)).

本発明者は、エポキシ樹脂と、特定のアルコキシシラン化合物とを、共加水分解縮合することによって得られる樹脂組成物と、硬化剤と、基材とを含有するプリプレグ、それにより成型された金属箔張積層板、及びプリント配線板は、ボイド発生によるショート不良を起こす恐れのない優れた信頼性を有し、さらに、耐熱性、難燃性、クラック耐性に優れていることから、一層高い信頼性を達成できることを見出した。   The present inventor has disclosed a prepreg containing a resin composition obtained by cohydrolytic condensation of an epoxy resin and a specific alkoxysilane compound, a curing agent, and a base material, and a metal foil molded thereby. Stretched laminates and printed wiring boards have excellent reliability that does not cause short-circuit failure due to voids, and are further superior in heat resistance, flame retardancy, and crack resistance. I found that I can achieve.

((A)エポキシ樹脂)
本実施形態の(A)エポキシ樹脂とは、後述のアルコキシシラン化合物とその縮合物を除く、分子内にオキシラン環、通常は2個以上のオキシラン環を有する化合物を指し、上述の要件を満たすものであれば、特に限定されない。これらは単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。
((A) Epoxy resin)
The (A) epoxy resin in the present embodiment refers to a compound having an oxirane ring, usually two or more oxirane rings in the molecule, excluding an alkoxysilane compound and a condensate thereof described later, and satisfying the above requirements. If it is, it will not be specifically limited. These may be used alone or in combination.

エポキシ樹脂のエポキシ当量(WPE)は、100〜600g/eqであることが好ましく、より好ましくは100〜500g/eq、さらに好ましくは100〜300g/eqである。エポキシ樹脂と、前記式(1)で表されるアルコキシシラン化合物と、の組成バランスによっては、エポキシ当量(WPE)を100g/eq以上とすることで、未反応の環状エーテル基が残留することを抑制できるため、難燃性がさらに優れる場合があり、600g/eqを以下とすることで、樹脂組成物の流動性が向上し、生産性を向上できる傾向にある。
さらに、金属箔張積層板、及びプリント配線板とした際の耐熱性が一層優れる傾向にあるため、エポキシ樹脂のエポキシ当量は100〜300g/eqであることが特に好ましい。
The epoxy equivalent (WPE) of the epoxy resin is preferably 100 to 600 g / eq, more preferably 100 to 500 g / eq, and still more preferably 100 to 300 g / eq. Depending on the compositional balance of the epoxy resin and the alkoxysilane compound represented by the formula (1), the epoxy equivalent (WPE) may be 100 g / eq or more to leave unreacted cyclic ether groups. Since it can suppress, a flame retardance may be further excellent and it exists in the tendency for the fluidity | liquidity of a resin composition to improve and to improve productivity by making 600 g / eq below.
Furthermore, the epoxy equivalent of the epoxy resin is particularly preferably from 100 to 300 g / eq, since the heat resistance when the metal foil-clad laminate and the printed wiring board are further improved.

エポキシ樹脂は、25℃における粘度が1000Pa・s以下であることが好ましく、より好ましくは500Pa・s以下、さらに好ましくは100Pa・s以下である。エポキシ樹脂の25℃における粘度が1000Pa・s以下であることで、液体としての流動性が向上し、後述するアルコキシシラン化合物との相溶性が良くなる傾向にある。また、25℃における粘度が500Pa・s以下とすることで、基材へ含浸させる効率が向上するため、生産性が良くなる傾向にあり、さらに好ましくは100Pa・s以下である。   The epoxy resin preferably has a viscosity at 25 ° C. of 1000 Pa · s or less, more preferably 500 Pa · s or less, and still more preferably 100 Pa · s or less. When the viscosity of the epoxy resin at 25 ° C. is 1000 Pa · s or less, the fluidity as a liquid is improved and the compatibility with the alkoxysilane compound described later tends to be improved. Further, when the viscosity at 25 ° C. is 500 Pa · s or less, the efficiency of impregnation into the base material is improved, so that the productivity tends to be improved, and more preferably 100 Pa · s or less.

エポキシ樹脂の種類は、特に限定されず、例えば、ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂、芳香族エポキシ樹脂の核水素化物、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂等が挙げられる。それらの中でも、入手が容易であり、目的とする本実施形態の金属張積層板、及びプリント配線板のクラック耐性が良好である観点から、ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂が好ましく、それらの中でもビスフェノールA骨格を持つタイプがより好ましい。また、これらのエポキシ樹脂は、単独で使用しても、複数を組み合わせて用いてもよい。   The type of the epoxy resin is not particularly limited. For example, a polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound, an alicyclic epoxy resin, a polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of various novolak resins, or an aromatic epoxy resin. Nuclei hydrides, heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester epoxy resins, glycidyl amine epoxy resins, epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols, and the like. Among them, a polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound is preferable from the viewpoint of easy availability and good crack resistance of the target metal-clad laminate of the present embodiment and printed wiring board. Of these, a type having a bisphenol A skeleton is more preferable. Moreover, these epoxy resins may be used alone or in combination.

(多官能エポキシ樹脂)
ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではなく、具体的には、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,4’−ビフェノール、テトラメチルビスフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノールS、テトラメチル−4,4’−ビフェノール、ジメチル−4,4’−ビフェニルフェノール、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、2,6−ジ(t−ブチル)ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、1,1−ジ(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエンのポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂等が挙げられる。
(Polyfunctional epoxy resin)
The polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound is not particularly limited, and specifically, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4′-biphenol, tetramethylbisphenol A, dimethyl Bisphenol A, tetramethyl bisphenol F, dimethyl bisphenol F, tetramethyl bisphenol S, dimethyl bisphenol S, tetramethyl-4,4′-biphenol, dimethyl-4,4′-biphenylphenol, 1- (4-hydroxyphenyl)- 2- [4- (1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] propane, 2,2′-methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidene -Bis (3-methyl-6-tert-butyl) Ruphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, 2,6-di (t-butyl) hydroquinone, pyrogallol, phenols having a diisopropylidene skeleton, 1,1-di (4-hydroxyphenyl) fluorene, etc. Examples thereof include phenols having a fluorene skeleton, polyfunctional epoxy resins which are glycidyl etherified products of polyphenol compounds of phenolized polybutadiene.

上記の中でも、流動性に優れるタイプのものが多く市販され、安価に入手できることや、目的とする本実施形態の金属箔張積層板、及びプリント配線板の耐熱性に優れる傾向にあるため、ビスフェノールA骨格、又はビスフェノールF骨格を有するフェノール類のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂が好ましい。それらの中でも、特に、ビスフェノールA骨格を有するフェノール類のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂が好ましい。   Among the above, bisphenol has many types that are excellent in fluidity and are commercially available and can be obtained at low cost, and the metal foil-clad laminate of the present embodiment and the printed wiring board tend to be excellent in heat resistance. A polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of a phenol having an A skeleton or a bisphenol F skeleton is preferable. Among these, a polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of phenols having a bisphenol A skeleton is particularly preferable.

ビスフェノール骨格を有するフェノール類のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂の代表的な例を下記に示す。   A typical example of a polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of phenols having a bisphenol skeleton is shown below.

Figure 0005539706
Figure 0005539706

エポキシ樹脂として、ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂を使用する場合、これらの繰り返し単位(上記代表的な例を示す化学式中のn)は、特に限定されるものではないが、好ましくは20未満、より好ましくは0.001〜10、さらに好ましくは0.01〜2である。繰り返し単位を0.001以上とすることで、エポキシ樹脂とアルコキシシラン化合物とが反応し、耐熱性が向上する傾向にあり、20以下とすることで、エポキシ樹脂の流動性が向上し、アルコキシシラン化合物との相溶性が向上する傾向にある。上述の耐熱性と流動性のバランスの観点から、繰り返し単位は0.01〜2であることが特に好ましい。   When a polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound is used as the epoxy resin, these repeating units (n in the chemical formula showing the above representative examples) are not particularly limited, but preferably Is less than 20, more preferably 0.001 to 10, and still more preferably 0.01 to 2. When the repeating unit is 0.001 or more, the epoxy resin and the alkoxysilane compound react with each other and the heat resistance tends to be improved. By setting the number to 20 or less, the fluidity of the epoxy resin is improved, and the alkoxysilane. The compatibility with the compound tends to be improved. From the viewpoint of the balance between heat resistance and fluidity described above, the repeating unit is particularly preferably from 0.01 to 2.

(脂環式エポキシ樹脂)
脂環式エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ基を有するエポキシ樹脂であれば、特に限定されるものではなく、例えば、シクロヘキセンオキサイド基、トリシクロデセンオキサイド基、シクロペンテンオキサイド基等を有するエポキシ樹脂が挙げられる。
(Alicyclic epoxy resin)
The alicyclic epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin having an alicyclic epoxy group, and examples thereof include an epoxy resin having a cyclohexene oxide group, a tricyclodecene oxide group, a cyclopentene oxide group, and the like. Can be mentioned.

脂環式エポキシ樹脂の具体例としては、単官能脂環式エポキシ化合物として、4−ビニルエポキシシクロヘキサン、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシルが挙げられる。2官能脂環式エポキシ化合物としては、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルオクチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、1,2,8,9−ジエポキシリモネンが挙げられる。多官能脂環式エポキシ化合物としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキセン付加物等が挙げられる。多官能脂環式エポキシ化合物としては、エポリードGT401、EHPE3150(ダイセル化学工業社製)等が挙げられる。それらの中でも、入手が容易であることや反応性の観点から、2官能脂環式エポキシ化合物が好ましい。具体的には、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートが特に好ましい。   Specific examples of the alicyclic epoxy resin include 4-vinyl epoxycyclohexane, dioctyl epoxyhexahydrophthalate, and di-2-ethylhexyl epoxyhexahydrophthalate as monofunctional alicyclic epoxy compounds. Examples of the bifunctional alicyclic epoxy compound include 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4 -Epoxycyclohexyloctyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) Methyl) adipate, vinylcyclohexene dioxide, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate , Methylene bis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylene glycol di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, ethylene bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), 1,2,8, 9-diepoxy limonene. Examples of the polyfunctional alicyclic epoxy compound include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexene adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. Examples of the polyfunctional alicyclic epoxy compound include Epolide GT401 and EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries). Among these, a bifunctional alicyclic epoxy compound is preferable from the viewpoint of availability and reactivity. Specifically, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxylate is particularly preferable.

脂環式エポキシ樹脂の代表的な例を下記に示す。   Typical examples of the alicyclic epoxy resin are shown below.

Figure 0005539706
Figure 0005539706

Figure 0005539706
Figure 0005539706

(ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂)
ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではなく、例えば、フェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ナフトール類等の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物等が挙げられる。それらの中でも、入手が容易である観点から、フェノール又はクレゾール類等を原料とするノボラック樹脂が好ましい。
(Polyfunctional epoxy resin that is glycidyl etherified product of novolak resin)
The polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of novolak resin is not particularly limited, and examples thereof include phenol, cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, and naphthol. Glycidyl etherification products of various novolac resins such as novolak resins made from various phenols such as phenols, xylylene skeleton-containing phenol novolak resins, dicyclopentadiene skeleton-containing phenol novolak resins, biphenyl skeleton-containing phenol novolak resins, and fluorene skeleton-containing phenol novolak resins. Etc. Among these, from the viewpoint of easy availability, a novolak resin using phenol or cresols as a raw material is preferable.

ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂の代表的な例を下記に示す。   A typical example of a polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of a novolak resin is shown below.

Figure 0005539706
Figure 0005539706

(芳香族エポキシ樹脂の核水素化物)
芳香族エポキシ樹脂の核水素化物としては、特に限定されるものではなく、例えば、フェノール化合物(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,4’−ビフェノール等)のグリシジルエーテル化物、又は各種フェノール(フェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ナフトール類等)の芳香環を核水素化したものや、ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物の核水素化物等が挙げられる。
(Nuclear hydride of aromatic epoxy resin)
The nuclear hydride of the aromatic epoxy resin is not particularly limited. For example, a glycidyl etherified product of a phenol compound (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4′-biphenol, etc.) or various phenols ( Phenol, cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, naphthols, etc.) or hydrogenated glycidyl ethers of novolac resins Is mentioned.

(複素環式エポキシ樹脂)
複素環式エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではなく、例えば、イソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環を有する複素環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
(Heterocyclic epoxy resin)
The heterocyclic epoxy resin is not particularly limited, and examples thereof include heterocyclic epoxy resins having a heterocyclic ring such as an isocyanuric ring and a hydantoin ring.

(グリシジルエステル系エポキシ樹脂)
グリシジルエステル系エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではなく、例えば、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等のカルボン酸類からなるエポキシ樹脂等が挙げられる。
(Glycidyl ester epoxy resin)
The glycidyl ester-based epoxy resin is not particularly limited, and examples thereof include epoxy resins composed of carboxylic acids such as hexahydrophthalic acid diglycidyl ester and tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester.

(グリシジルアミン系エポキシ樹脂)
グリシジルアミン系エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではなく、例えば、アニリン、トルイジン、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン誘導体、ジアミノメチルベンゼン誘導体等のアミン類をグリシジル化したエポキシ樹脂等が挙げられる。
(Glycidylamine epoxy resin)
The glycidylamine epoxy resin is not particularly limited. For example, an epoxy resin obtained by glycidylating amines such as aniline, toluidine, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, diaminodiphenylmethane derivative, and diaminomethylbenzene derivative. Etc.

(ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂)
ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂としては、特に限定されるものではなく、例えば、ブロム化ビスフェノールA、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェノールS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールS、クロル化ビスフェノールA等のハロゲン化フェノール類をグリシジルエーテル化したエポキシ樹脂等が挙げられる。
(Epoxy resin obtained by glycidylation of halogenated phenols)
Epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols are not particularly limited. For example, brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolac, brominated cresol novolac, chlorinated Examples thereof include epoxy resins obtained by glycidyl etherification of halogenated phenols such as bisphenol S and chlorinated bisphenol A.

上述したエポキシ樹脂は、ポリオールを併用することができる。ポリオールとしては、分子中に2個以上のヒドロキシル基を有する化合物であれば、特に限定されず、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,2−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール等が挙げられる。   The epoxy resin mentioned above can use a polyol together. The polyol is not particularly limited as long as it is a compound having 2 or more hydroxyl groups in the molecule. For example, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, 1,2-hexanediol, 1,6- Examples include hexanediol.

(アルコキシシラン化合物)
本実施形態におけるアルコキシシラン化合物とは、1〜4個のアルコキシル基を有するケイ素化合物であり、下記式(1)で表される。
(Alkoxysilane compound)
The alkoxysilane compound in this embodiment is a silicon compound having 1 to 4 alkoxyl groups, and is represented by the following formula (1).

Figure 0005539706
Figure 0005539706

式(1)中、nは0〜3の整数を表し、R1は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は有機基を表す。また、R2は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。 In formula (1), n represents an integer of 0 to 3, and R 1 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group. R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

式(1)におけるR1は、複数の場合、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は有機基を表し、特に限定されないが、有機基としては、後述する環状エーテル基を有する有機基、アリール基を有する有機基の他に、例えば、アルキル基、ビニル基、メタクリル基、メルカプト基、イソシアネート基を有する有機基等が挙げられる。それらの中でも、安価に入手できることから、アルキル基が好ましい。 R 1 in the formula (1) may be the same or different in a plurality of cases and represents a hydrogen atom or an organic group, and is not particularly limited, but examples of the organic group include an organic group having a cyclic ether group described later, aryl In addition to the organic group having a group, examples include an organic group having an alkyl group, a vinyl group, a methacryl group, a mercapto group, and an isocyanate group. Among them, an alkyl group is preferable because it can be obtained at a low cost.

ここで、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、ブチル基(n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、sec−ブチル)、ペンチル基(n−ペンチル、i−ペンチル、ネオペンチル等)、ヘキシル基(n−ヘキシル、i−ヘキシル等)、ヘプチル(n−ヘプチル、i−ヘプチル等)、オクチル基(n−オクチル、i−オクチル、t−オクチル等)、ノニル(n−ノニル、i−ノニル等)、デシル基(n−デシル、i−デシル等)、ドデシル基(n−ドデシル、i−ドデシル等)が挙げられる。これらは、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基のいずれでもよい。   Here, examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, a butyl group (n-butyl, i-butyl, t-butyl, sec-butyl), and a pentyl group (n -Pentyl, i-pentyl, neopentyl, etc.), hexyl group (n-hexyl, i-hexyl, etc.), heptyl (n-heptyl, i-heptyl, etc.), octyl group (n-octyl, i-octyl, t-octyl) Etc.), nonyl (n-nonyl, i-nonyl etc.), decyl group (n-decyl, i-decyl etc.), dodecyl group (n-dodecyl, i-dodecyl etc.). These may be either linear or branched alkyl groups.

それらの中でも、入手が容易であることから、炭素数10以下のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基がより好ましい。また、これらアルキル基の、水素原子又は主鎖骨格の一部又は全部が、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シロキサン基、フッ素等のハロゲン原子、メタクリル基、アクリル基、メルカプト基、アミノ基、ヒドロキシル基からなる群から選択された少なくとも1種の基で置換されていてもよい。   Among these, since it is easily available, an alkyl group having 10 or less carbon atoms is preferable, and a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, a cyclohexyl group. Is more preferable. In addition, hydrogen atoms or a part or all of the main chain skeleton of these alkyl groups are ether groups, ester groups, carbonyl groups, siloxane groups, halogen atoms such as fluorine, methacryl groups, acrylic groups, mercapto groups, amino groups, It may be substituted with at least one group selected from the group consisting of hydroxyl groups.

また、上述の式(1)におけるR2は、複数の場合、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。R2としては、上述の要件を満たすものであれば特に限定されないが、加水分解反応により生じるアルコール類の除去が容易であることから、好ましくは、メチル基、エチル基である。 Also, R 2 in the formula (1) described above, if a plurality, may be identical or different, represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R 2 is not particularly limited as long as it satisfies the above requirements, but is preferably a methyl group or an ethyl group because alcohols generated by the hydrolysis reaction can be easily removed.

((B)成分)
前記式(1)で表されるアルコキシシラン化合物の(B)成分は、式(1)において、nは1〜2の整数であり、R1として、少なくとも1つの環状エーテル基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物である。
((B) component)
The component (B) of the alkoxysilane compound represented by the formula (1), in the formula (1), n is an integer of 1 to 2, and R 1 has at least one cyclic ether group. It is a kind of alkoxysilane compound.

Figure 0005539706
Figure 0005539706

環状エーテル基とは、環状の炭化水素の炭素を酸素で置換したエーテルを有する有機基を指し、通常は3〜6員環の構造を持つ環状エーテル基を意味する。中でも、環歪みエネルギーが大きく、反応性の高い3員環又は4員環の環状エーテル基が好ましく、特に好ましいのは3員環のエーテル基である。   The cyclic ether group refers to an organic group having an ether in which carbon of a cyclic hydrocarbon is substituted with oxygen, and usually means a cyclic ether group having a 3- to 6-membered ring structure. Among them, a 3-membered or 4-membered cyclic ether group having a large ring strain energy and high reactivity is preferable, and a 3-membered ether group is particularly preferable.

環状エーテル基の具体例としては、例えば、β−グリシドキシエチル、γ−グリシドキシプロピル、γ−グリシドキシブチル等の炭素数4以下のオキシグリシジル基が結合したグリシドキアルキル基、グリシジル基、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基、β−(3,4−エポキシシクロヘプチル)エチル基、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)プロピル基、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチル基、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ペンチル基等のオキシラン基を持った炭素数5〜8のシクロアルキル基で置換されたアルキル基等が挙げられる。   Specific examples of the cyclic ether group include, for example, a glycidoxyalkyl group having oxyglycidyl groups having 4 or less carbon atoms such as β-glycidoxyethyl, γ-glycidoxypropyl, γ-glycidoxybutyl, and the like, glycidyl Group, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group, β- (3,4-epoxycycloheptyl) ethyl group, β- (3,4 epoxyepoxycyclohexyl) ) Alkyl substituted with a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms having an oxirane group such as propyl group, β- (3,4-epoxycyclohexyl) butyl group, β- (3,4-epoxycyclohexyl) pentyl group Groups and the like.

上記の中でも、反応性の観点から、β−グリシドキシエチル基、γ−グリシドキシプロピル基、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基等のC1〜C3のアルキル基にオキシグリシジル基が結合したグリシドキシアルキル基、オキシラン基を持ったC5〜C8のシクロアルキル基で置換された炭素数3以下のアルキル基が好ましい。   Among the above, from the viewpoint of reactivity, oxyglycidyl group to C1-C3 alkyl group such as β-glycidoxyethyl group, γ-glycidoxypropyl group, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, etc. A glycidoxyalkyl group to which is bonded, or an alkyl group having 3 or less carbon atoms substituted with a C5-C8 cycloalkyl group having an oxirane group is preferred.

(B)成分の具体例としては、例えば、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジブトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル(メチル)ジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル(フェニル)ジエトキシシラン、2,3−エポキシプロピル(メチル)ジメトキシシラン、2,3−エポキシプロピル(フェニル)ジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2,3−エポキシプロピルトリメトキシシラン、2,3−エポキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。それらの中でも、入手の容易さとエポキシ樹脂との相溶性の観点から、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランが好ましい。これらは単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of the component (B) include, for example, 3-glycidoxypropyl (methyl) dimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl (methyl) diethoxysilane, 3-glycidoxypropyl (methyl) dibutoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (methyl) dimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (phenyl) diethoxysilane, 2,3-epoxypropyl (methyl) dimethoxysilane, 2,3 -Epoxypropyl (phenyl) dimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltributoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Trimethoxysilane, 2- (3,4-epoxy Hexyl) ethyl triethoxysilane, 2,3-epoxypropyl trimethoxysilane, 2,3-epoxy propyl triethoxy silane, and the like. Among these, from the viewpoint of easy availability and compatibility with epoxy resin, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltri Methoxysilane is preferred. These may be used alone or in combination.

((C)成分)
前記式(1)で表されるアルコキシシラン化合物の(C)成分は、式(1)において、nが1〜2の整数であり、R1として、少なくとも1つのアリール基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物である。
((C) component)
The component (C) of the alkoxysilane compound represented by the formula (1) is at least one kind in which n is an integer of 1 to 2 and R 1 has at least one aryl group in the formula (1). This is an alkoxysilane compound.

Figure 0005539706
Figure 0005539706

アリール基とは、芳香族炭化水素(単純芳香環又は多環芳香族炭化水素)から誘導された官能基又は置換基を指す。アリール基としては、これに合致するものであれば、特に限定するものではないが、高次構造における立体障害を考慮すると、フェニル基やベンジル基等が好ましい。   An aryl group refers to a functional group or substituent derived from an aromatic hydrocarbon (simple aromatic ring or polycyclic aromatic hydrocarbon). The aryl group is not particularly limited as long as it matches this, but in consideration of steric hindrance in the higher order structure, a phenyl group, a benzyl group, and the like are preferable.

(C)成分の具体例としては、例えば、ジメトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、フェニルトリエトキシシラン、トリメトキシ[3−(フェニルアミノ)プロピル]シラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。それらの中でも、入手の容易さと流動性の観点から、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシランが好ましい。これらは単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of the component (C) include, for example, dimethoxymethylphenylsilane, diethoxymethylphenylsilane, phenyltriethoxysilane, trimethoxy [3- (phenylamino) propyl] silane, dimethoxydiphenylsilane, diphenyldiethoxysilane, phenyl Examples include trimethoxysilane and N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane. Among these, phenyltriethoxysilane and phenyltrimethoxysilane are preferable from the viewpoint of availability and fluidity. These may be used alone or in combination.

上述した「(B)式(1)において、nが1〜2の整数であり、R1として、少なくとも1つの環状エーテル基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物」と、「(C)式(1)において、nが1〜2の整数であり、R1として、少なくとも1つのアリール基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物」の混合比率は、以下の式(2)で算出される混合指標αで表される。
混合指標α=(αc)/(αb) (2)
なお、式(2)中、
αb:(B)成分の含有量(mol%)、
αc:(C)成分の含有量(mol%)、をそれぞれ表す。
“(B) at least one alkoxysilane compound in which n is an integer of 1 to 2 and R 1 has at least one cyclic ether group in formula (1)”, and “(C) formula In (1), the mixing ratio of “at least one alkoxysilane compound having n as an integer of 1 to 2 and having at least one aryl group as R 1 ” is calculated by the following formula (2). It is represented by a mixing index α.
Mixing index α = (αc) / (αb) (2)
In formula (2),
αb: content of component (B) (mol%),
αc: represents the content (mol%) of the component (C).

本実施形態においては、混合指標αを0.001〜19の範囲とする。混合指標αが0.001未満であると、金属箔張積層板、及びプリント配線板とした際に、耐熱性、及び難燃性が悪化する傾向にある。19を超えると、樹脂組成物の流動性が低下し、エポキシ樹脂との相溶性が悪化する傾向にあり、金属箔張配線板、及びプリント配線板とした際の、耐熱性、及びクラック耐性が悪化する傾向にある。特に、高い耐熱性、難燃性、クラック耐性が要求される場合には、混合指標αは、0.2〜5がより好ましく、0.3〜2がさらに好ましい。   In the present embodiment, the mixing index α is set in the range of 0.001 to 19. When the mixing index α is less than 0.001, the heat resistance and flame retardancy tend to deteriorate when a metal foil-clad laminate and a printed wiring board are used. If it exceeds 19, the fluidity of the resin composition decreases and the compatibility with the epoxy resin tends to deteriorate, and the heat resistance and crack resistance when used as a metal foil-clad wiring board and a printed wiring board are It tends to get worse. In particular, when high heat resistance, flame retardancy, and crack resistance are required, the mixing index α is more preferably 0.2 to 5, and further preferably 0.3 to 2.

((D)成分)
また、本実施形態における樹脂組成物は、上述した(A)〜(C)成分に加え、(D)成分として、上記式(1)におけるR1の個数を表すnがn=0、つまり(OR2)を4個有するアルコキシシラン化合物を更に共加水分解縮合させてもよい。(D)成分としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン等が挙げられる。それらの中でも、比較的安価であることから、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましい。これらは単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。
((D) component)
In addition to the components (A) to (C) described above, the resin composition in the present embodiment includes n as the component (D), where n represents the number of R 1 in the above formula (1), that is, ( An alkoxysilane compound having four OR 2 ) may be further cohydrolyzed and condensed. Examples of the component (D) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, and tetraphenoxysilane. Among these, tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are preferable because they are relatively inexpensive. These may be used alone or in combination.

(その他のアルコキシシラン化合物)
本実施形態における樹脂組成物は、上述した(B)〜(D)成分以外の式(1)で表されるアルコキシシラン化合物を更に共加水分解縮合させてもよい。そのような化合物としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メトキシジメチルビニルシラン、トリメトキシビニルシラン、ビス(2−クロロエトキシ)メチルシラン、エトキシトリメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメトキシメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、3−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、クロロメチルジエトキシメチルシラン、メチルトリス(エチルメチルケトオキシム)シラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメトキシイソプロポキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、3−[ジメトキシ(メチル)シリル]プロパン−1−チオール、トリメトキシ(プロピル)シラン、(3−メルカプトプロピル)トリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ブトキシトリメチルシラン、ブチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メトキシルトリエトキシシラン、トリエトキシビニルシラン、ジエトキシジエチルシラン、ジメトキシルジプロポキシシラン、エチルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、3−ブロモプロピルトリエトキシシラン、3−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、ヘキシロキシトリメチルシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、イソシアン酸3−(トリエトキシシリル)プロピル、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メトキシトリプロピルシラン、ジブトキシジメチルシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、オクチルオキシトリメチルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、3−(2−アミノエチルアミノ)プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルオキシトリメチルシラン、ジエトキシドデシルメチルシラン等が挙げられる。
(Other alkoxysilane compounds)
In the resin composition in the present embodiment, the alkoxysilane compound represented by the formula (1) other than the components (B) to (D) described above may be further cohydrolyzed and condensed. Examples of such compounds include dimethyldimethoxysilane, dimethylethoxysilane, hydroxymethyltrimethylsilane, methoxytrimethylsilane, methyltrimethoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, methoxydimethylvinylsilane, trimethoxyvinylsilane, bis (2-chloro Ethoxy) methylsilane, ethoxytrimethylsilane, diethoxymethylsilane, ethyltriethoxysilane, dimethoxymethyl-3,3,3-trifluoropropylsilane, ethoxydimethylvinylsilane, 3-chloropropyldimethoxymethylsilane, chloromethyldiethoxymethylsilane , Methyltris (ethylmethylketoxime) silane, trimethylpropoxysilane, trimethoxyisopropoxysilane, diethoxydi Tilsilane, 3- [dimethoxy (methyl) silyl] propane-1-thiol, trimethoxy (propyl) silane, (3-mercaptopropyl) trimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, diethoxymethylvinylsilane, butoxytrimethylsilane, Butyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methoxyltriethoxysilane, triethoxyvinylsilane, diethoxydiethylsilane, dimethoxyldipropoxysilane, ethyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane Allyltriethoxysilane, 3-bromopropyltriethoxysilane, 3-allylaminopropyltrimethoxysilane, hexyloxytrimethylsilane, propyltriethoxysilane, Xyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (triethoxysilyl) propyl isocyanate, 3-ureidopropyltriethoxysilane, Methoxytripropylsilane, dibutoxydimethylsilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropoxysilane, octyloxytrimethylsilane, pentyltriethoxysilane, 3- (2-aminoethylamino) propyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, Examples include 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, dodecyloxytrimethylsilane, and diethoxydodecylmethylsilane.

本実施形態において、アルコキシシラン化合物の「nが2であるアルコキシシラン化合物」、「nが1であるアルコキシシラン化合物」及び「nが0であるアルコキシシラン化合物」の混合比率は、以下の式(3)で算出される混合指標β1で表される。
混合指標β1={(βn2)/(βn0+βn1)} (3)
なお、上記式(3)中、
βn2:式(1)において、nが2であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
βn0:式(1)において、nが0であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
βn1:式(1)において、nが1であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
をそれぞれ示し、0≦{β2=(βn0)/(βn0+βn1+βn2)}≦0.1である。
In this embodiment, the mixing ratio of the “alkoxysilane compound in which n is 2”, the “alkoxysilane compound in which n is 1”, and the “alkoxysilane compound in which n is 0” of the alkoxysilane compound is represented by the following formula ( It is represented by the mixture index β1 calculated in 3).
Mixing index β1 = {(β n2 ) / (β n0 + β n1 )} (3)
In the above formula (3),
β n2 : the content (mol%) of the alkoxysilane compound in which n is 2 in formula (1),
β n0 : the content (mol%) of the alkoxysilane compound in which n is 0 in formula (1),
β n1 : content (mol%) of an alkoxysilane compound in which n is 1 in formula (1),
And 0 ≦ {β2 = (β n0 ) / (β n0 + β n1 + β n2 )} ≦ 0.1.

本実施形態における樹脂組成物において、混合指標β1は、好ましくは0.01〜1.4、より好ましくは0.03〜1.2、さらに好ましくは0.05〜1.0である。混合指標β1を0.01以上とすることで、樹脂組成物の流動性が向上し、樹脂組成物と硬化剤の混合物をより効率的に基材へ含浸させることができるため、生産性が良くなる傾向にある。また、混合指標β1を1.4以下とすることで、金属箔張積層板、及びプリント配線板とした際、耐熱性、クラック耐性が向上する傾向にある。特に、樹脂組成物の流動性、耐熱性、及びクラック耐性のバランスを良くするには、混合指標β1が、0.03〜1.2であることがより好ましく、0.05〜1.0であることがさらに好ましい。なお、β2を0以上0.1以下とすることで、樹脂組成物の粘度が極度に上昇することを抑制でき、樹脂組成物の取り扱い性を向上させることができる。β2の値が小さいほど、樹脂組成物の粘度が低減する傾向にある。   In the resin composition in the present embodiment, the mixing index β1 is preferably 0.01 to 1.4, more preferably 0.03 to 1.2, and still more preferably 0.05 to 1.0. By setting the mixing index β1 to 0.01 or more, the fluidity of the resin composition is improved, and the substrate can be more efficiently impregnated with the mixture of the resin composition and the curing agent. Tend to be. Moreover, when the mixture index β1 is set to 1.4 or less, the heat resistance and crack resistance tend to be improved when the metal foil-clad laminate and the printed wiring board are obtained. In particular, in order to improve the balance of fluidity, heat resistance, and crack resistance of the resin composition, the mixing index β1 is more preferably 0.03 to 1.2, and 0.05 to 1.0. More preferably it is. In addition, it can suppress that the viscosity of a resin composition raises extremely by making (beta) 2 0 or more and 0.1 or less, and can improve the handleability of a resin composition. As the β2 value is smaller, the viscosity of the resin composition tends to decrease.

本実施形態における(A)エポキシ樹脂とアルコキシシラン化合物の「nが0〜2の整数であるアルコキシシラン化合物」の混合比率は、以下の式(4)で算出される混合指標γで表される。
混合指標γ=(γa)/(γs) (4)
なお、上記式(4)中、
γa:エポキシ樹脂の質量(g)、
γs:式(1)において、nが0〜2の整数であるアルコキシシラン化合物の質量(g)、である。
The mixing ratio of (A) epoxy resin and alkoxysilane compound “alkoxysilane compound in which n is an integer of 0 to 2” in the present embodiment is represented by a mixing index γ calculated by the following formula (4). .
Mixing index γ = (γa) / (γs) (4)
In the above formula (4),
γa: mass of epoxy resin (g),
γs: the mass (g) of the alkoxysilane compound in which n is an integer of 0 to 2 in formula (1).

混合指標γは、好ましくは0.02〜15であり、より好ましくは0.04〜7、さらに好ましくは0.08〜5である。混合指標γを0.02以上とすることで、金属箔張積層板、及びプリント配線板とした際の、クラック耐性が向上する傾向にあり、15以下とすることで、金属箔張積層板、及びプリント配線板とした際の、耐熱性、及び難燃性が向上する傾向にある。特に、耐熱性、難燃性、及びクラック耐性のバランスを良くするには、混合指標γが、0.04〜7であることがより好ましく、0.08〜5であることがさらに好ましい。   The mixing index γ is preferably 0.02 to 15, more preferably 0.04 to 7, and still more preferably 0.08 to 5. When the mixing index γ is 0.02 or more, crack resistance tends to be improved when the metal foil-clad laminate and the printed wiring board are set, and by being 15 or less, the metal foil-clad laminate, And when it is set as a printed wiring board, it exists in the tendency for heat resistance and a flame retardance to improve. In particular, in order to improve the balance of heat resistance, flame retardancy, and crack resistance, the mixing index γ is more preferably 0.04 to 7, and further preferably 0.08 to 5.

上述した(A)エポキシ樹脂と、上述した式(1)で表されるアルコキシシラン化合物とを共加水分解縮合させて得られる、本実施形態における樹脂組成物のエポキシ当量(WPE)は、100〜700g/eqであることが好ましく、より好ましくは120〜500g/eq、さらに好ましくは150〜400g/eqである。エポキシ当量(WPE)100g/eq以上とすることで、未反応の環状エーテル基が残留することを抑制することができるため、難燃性に優れる傾向にあり、700g/eq以下とすることで、硬化物の架橋構造を密に形成できるため、クラック耐性に優れる傾向にある。また、エポキシ当量が120〜500g/eqとすることで、金属箔張積層板、及びプリント配線板とした際の耐熱性が一層優れる傾向にあり、より好ましくは150〜400g/eqである。   The epoxy equivalent (WPE) of the resin composition in the present embodiment obtained by cohydrolyzing and condensing the above-described (A) epoxy resin and the alkoxysilane compound represented by the above formula (1) is 100 to 100. It is preferable that it is 700 g / eq, More preferably, it is 120-500 g / eq, More preferably, it is 150-400 g / eq. By setting the epoxy equivalent (WPE) to 100 g / eq or more, it is possible to suppress the remaining unreacted cyclic ether group, so that the flame retardancy tends to be excellent, and by setting it to 700 g / eq or less, Since the crosslinked structure of the cured product can be formed densely, it tends to be excellent in crack resistance. Moreover, it exists in the tendency for the heat resistance at the time of setting it as a metal foil tension laminated board and a printed wiring board because epoxy equivalent shall be 120-500 g / eq, More preferably, it is 150-400 g / eq.

本実施形態において、上述した(A)エポキシ樹脂と、上述した式(1)で表されるアルコキシシラン化合物とを共加水分解縮合させて得られる樹脂組成物の25℃における粘度は1000Pa・s以下の液体であることが好ましく、より好ましくは500Pa・s以下、さらに好ましくは100Pa・s以下の液体である。25℃における粘度が1000Pa・s以下であることで、液体としての流動性が向上し、後述する硬化剤や添加剤等の他の物質との混合性が良くなる傾向にある。また、25℃における粘度が500Pa・s以下であることで、基材へ含浸させる効率が向上するため、生産性が良くなる傾向にあり、さらに好ましくは100Pa・s以下である。   In this embodiment, the viscosity at 25 ° C. of the resin composition obtained by cohydrolyzing and condensing the above-described (A) epoxy resin and the above-described alkoxysilane compound represented by the formula (1) is 1000 Pa · s or less. The liquid is preferably 500 Pa · s or less, more preferably 100 Pa · s or less. When the viscosity at 25 ° C. is 1000 Pa · s or less, the fluidity as a liquid is improved, and the miscibility with other substances such as curing agents and additives described later tends to be improved. Further, when the viscosity at 25 ° C. is 500 Pa · s or less, the efficiency of impregnation into the base material is improved, so that the productivity tends to be improved, and more preferably 100 Pa · s or less.

(共加水分解縮合工程)
本実施形態において、まず、上述した(A)エポキシ樹脂と、上述した式(1)で表されるアルコキシシラン化合物とを共加水分解縮合させて樹脂組成物を得ることができる。本実施形態における「共加水分解縮合」とは、エポキシ樹脂存在下で行う加水分解縮合反応を意味し、エポキシ樹脂非共存下における反応とは明確に区別される。
(Cohydrolysis condensation process)
In the present embodiment, first, the resin composition can be obtained by cohydrolyzing and condensing the above-described (A) epoxy resin and the above-described alkoxysilane compound represented by the formula (1). The “cohydrolytic condensation” in the present embodiment means a hydrolysis condensation reaction performed in the presence of an epoxy resin, and is clearly distinguished from a reaction in the absence of an epoxy resin.

本実施形態における「共加水分解縮合」とは、脱水を伴わない還流工程と、それに続く脱水縮合工程との、少なくとも2つの工程により構成されている。「脱水を伴わない還流工程」とは、共加水分解のために配合した水や溶媒、及び、反応中に生じる、アルコキシシラン化合物由来の水や溶媒を、反応溶液に戻しながら反応を行う工程である。その方法は特に限定されないが、通常は、反応容器上部に冷却管を取り付け、生じた水や溶媒をリフラックスさせながら、反応を行う。「脱水縮合工程」とは、配合した水や溶媒、及び、上記「脱水を伴わない還流工程」で生じた水や溶媒を、除去しながら縮合反応を行う工程である。その方法は特に限定されないが、通常は、ロータリーエバポレータ等を用いて減圧蒸留することで、反応を行う。   The “cohydrolytic condensation” in the present embodiment is composed of at least two steps of a reflux step without dehydration and a subsequent dehydration condensation step. The “refluxing process without dehydration” is a process in which water and a solvent blended for cohydrolysis and water and a solvent derived from an alkoxysilane compound generated during the reaction are reacted while being returned to the reaction solution. is there. Although the method is not particularly limited, the reaction is usually carried out while attaching a cooling pipe to the upper part of the reaction vessel and refluxing the generated water or solvent. The “dehydration condensation step” is a step in which the condensation reaction is performed while removing the blended water and solvent and the water and solvent generated in the “refluxing step without dehydration”. The method is not particularly limited, but usually the reaction is carried out by distillation under reduced pressure using a rotary evaporator or the like.

共加水分解縮合反応時の加熱温度は、好ましくは130℃以下、より好ましくは0〜120℃、さらに好ましくは0〜100℃である。130℃以下とすることで、樹脂組成物の変質を抑制できる傾向にある。また、共加水分解縮合の反応時間は、加熱温度により適宜選択されるが、未反応物質の残留量を低減させるためには、0.5時間以上であることが好ましく、より好ましくは1時間以上である。また、樹脂組成物の変性を抑えるためには、24時間以下であることが好ましく、より好ましく12時間以下である。   The heating temperature during the cohydrolysis condensation reaction is preferably 130 ° C. or lower, more preferably 0 to 120 ° C., and still more preferably 0 to 100 ° C. By setting the temperature to 130 ° C. or lower, there is a tendency that deterioration of the resin composition can be suppressed. The reaction time for cohydrolysis condensation is appropriately selected depending on the heating temperature, but in order to reduce the residual amount of unreacted substances, it is preferably 0.5 hours or more, more preferably 1 hour or more. It is. Moreover, in order to suppress modification | denaturation of a resin composition, it is preferable that it is 24 hours or less, More preferably, it is 12 hours or less.

本実施形態の樹脂組成物は、上述した(A)エポキシ樹脂とアルコキシシラン化合物との共加水分解縮合の際、加水分解縮合触媒を加えて行ってもよい。加水分解縮合触媒とは、従来公知の加水分解縮合反応を促進させるものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、金属(リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、亜鉛、アルミニウム、チタン、コバルト、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、ヒ素、セリウム、ホウ素、カドミウム、マンガン、ビスマス等)、有機金属(リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、亜鉛、アルミニウム、チタン、コバルト、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、ヒ素、セリウム、ホウ素、カドミウム、マンガン、ビスマス等の有機酸化物、有機酸塩、有機ハロゲン化物、アルコキシド等)、無機塩基(水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、有機塩基(アンモニア、水酸化テトラメチルアンモニウム等)等が挙げられる。それらの中でも、反応促進効果と樹脂の保存安定性のバランスの観点から、チタン又は錫の有機金属が好ましい。上記有機金属の中でも、有機錫が好ましい。   The resin composition of this embodiment may be performed by adding a hydrolysis-condensation catalyst during the co-hydrolysis condensation of the above-described (A) epoxy resin and alkoxysilane compound. The hydrolysis condensation catalyst is not particularly limited as long as it promotes a conventionally known hydrolysis condensation reaction. For example, a metal (lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium, calcium, barium, Strontium, zinc, aluminum, titanium, cobalt, germanium, tin, lead, antimony, arsenic, cerium, boron, cadmium, manganese, bismuth, etc., organic metals (lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium, calcium, barium) Strontium, zinc, aluminum, titanium, cobalt, germanium, tin, lead, antimony, arsenic, cerium, boron, cadmium, manganese, bismuth and other organic oxides, organic acid salts, organic halides, alkoxides, etc.), inorganic bases Magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, barium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, cesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, etc.), organic base (Ammonia, tetramethylammonium hydroxide, etc.). Among these, from the viewpoint of the balance between the reaction promoting effect and the storage stability of the resin, an organic metal of titanium or tin is preferable. Among the above organic metals, organic tin is preferable.

有機錫とは、錫原子に少なくとも一つの有機基が結合しているものを指し、構造としては、モノ有機錫、ジ有機錫、トリ有機錫、テトラ有機錫等が挙げられ、それらの中でも、ジ有機錫が好ましい。   Organotin refers to those in which at least one organic group is bonded to a tin atom, and examples of the structure include monoorganotin, diorganotin, triorganotin, tetraorganotin, etc. Among them, Diorganotin is preferred.

有機錫としては、例えば、モノブチル錫トリクロライド、モノブチル錫オキサイド、モノオクチル錫トリクロライド、テトラn−オクチルチン、テトラn−ブチルチン、ジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジバーサテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫オキシラウレート、ジブチル錫ステアレート、ジブチル錫ジオレート、ジブチル錫・ケイ素エチル反応物、ジブチル錫塩とシリケートの化合物、ジオクチル錫塩とシリケートの化合物、ジブチル錫ビス(アセチルアセトネート)、ジブチル錫ビス(エチルマレート)、ジブチル錫ビス(ブチルマレート)、ジブチル錫ビス(2−エチルヘキシルマレート)、ジブチル錫ビス(ベンジルマレート)、ジブチル錫ビス(ステアリルマレート)、ジブチル錫ビス(オレイルマレート)、ジブチル錫マレート、ジブチル錫ビス(O−フェニルフェノキサイド)、ジブチル錫ビス(2−エチルヘキシルメルカプトアセテート)、ジブチル錫ビス(2−エチルヘキシルメルカプトプロピオネート)、ジブチル錫ビス(イソノニル3−メルカプトプロピオネート)、ジブチル錫ビス(イソオクチルチオグリコレート)、ジブチル錫ビス(3−メルカプトプロピオネート)、ジオクチル錫オキサイド、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクチル錫ジドデシルメルカプト、ジオクチル錫バーサテート、ジオクチル錫ジステアレート、ジオクチル錫ビス(エチルマレート)、ジオクチル錫ビス(オクチルマレート)、ジオクチル錫マレート、ジオクチル錫ビス(イソオクチルチオグリコレート)、ジオクチル錫ビス(2−エチルヘキシルメルカプトアセテート)、ジブチル錫ジメトキサイド、ジブチル錫ジエトキサイド、ジブチル錫ジブトキサイド、ジオクチル錫ジメトキサイド、ジオクチル錫ジエトキサイド、ジオクチル錫ジブトキサイド、オクチル酸錫、ステアリン酸錫等が挙げられる。上記の中でも、反応促進効果の観点から、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジメトキサイド、ジブチル錫ジエトキサイド、ジブチル錫ジブトキサイド、ジオクチル錫ジメトキサイド、ジオクチル錫ジエトキサイド、ジオクチル錫ジブトキサイドが好ましい。   Examples of organic tin include monobutyltin trichloride, monobutyltin oxide, monooctyltin trichloride, tetra n-octyltin, tetra n-butyltin, dibutyltin oxide, dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin diversate, dibutyl Tin dilaurate, dibutyltin oxylaurate, dibutyltin stearate, dibutyltin dioleate, dibutyltin / silicon ethyl reactant, dibutyltin salt and silicate compound, dioctyltin salt and silicate compound, dibutyltin bis (acetylacetonate) , Dibutyltin bis (ethyl malate), dibutyltin bis (butylmalate), dibutyltin bis (2-ethylhexylmalate), dibutyltin bis (benzylmalate), dibutyltin bis (stearylmalate) ), Dibutyltin bis (oleyl malate), dibutyltin malate, dibutyltin bis (O-phenylphenoxide), dibutyltin bis (2-ethylhexyl mercaptoacetate), dibutyltin bis (2-ethylhexyl mercaptopropionate) ), Dibutyltin bis (isononyl 3-mercaptopropionate), dibutyltin bis (isooctylthioglycolate), dibutyltin bis (3-mercaptopropionate), dioctyltin oxide, dioctyltin dilaurate, dioctyltin diacetate , Dioctyltin dioctate, dioctyltin didodecyl mercapto, dioctyltin versatate, dioctyltin distearate, dioctyltin bis (ethyl maleate), dioctyltin bis (octylmalate), dioctyltin maleate Dioctyl tin bis (isooctyl thioglycolate), dioctyl tin bis (2-ethylhexyl mercaptoacetate), dibutyl tin dimethoxide, dibutyl tin diethoxide, dibutyl tin dibutoxide, dioctyl tin dimethoxide, dioctyl tin diethoxide, dioctyl tin dibutoxide, octyl acid Examples thereof include tin and tin stearate. Among these, from the viewpoint of the reaction promotion effect, dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dioctyltin diacetate, dibutyltin dimethoxide, dibutyltin diethoxide, dibutyltin dibutoxide, dioctyltin dimethoxide, dioctyltin dietoxide, dioctyl Tin dibutoxide is preferred.

これらの加水分解縮合触媒は単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。例えば、有機酸錫とアルカリ系有機錫を組み合わせて使用したり、錫等の有機酸塩で反応させた後に、無機塩基で処理したりすることも可能である。この場合の無機塩基としては、必要に応じ、樹脂組成物から固液分離による除去が容易であることから、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム等の多価カチオンの水酸化物が好ましい。   These hydrolytic condensation catalysts may be used alone or in combination. For example, organic acid tin and alkaline organic tin can be used in combination, or after reacting with an organic acid salt such as tin, it can be treated with an inorganic base. As an inorganic base in this case, water of polyvalent cation such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, barium hydroxide and the like can be easily removed from the resin composition by solid-liquid separation if necessary. Oxides are preferred.

加水分解縮合触媒の添加量は特に限定されるものではないが、好ましい添加量は、上述の式(1)における(OR2)に対する比率である混合指標δから求めることができる。ここで、混合指標δは、以下の式(5)で表される。
混合指標δ=(δe)/(δs) (5)
式(5)中、
δe:加水分解縮合触媒の添加量(mol数)、
δs:式(1)における(OR2)の量(mol数)、をそれぞれ表す。
The addition amount of the hydrolysis-condensation catalyst is not particularly limited, but the preferable addition amount can be obtained from the mixing index δ which is a ratio to (OR 2 ) in the above formula (1). Here, the mixing index δ is expressed by the following formula (5).
Mixing index δ = (δe) / (δs) (5)
In formula (5),
δe: addition amount of hydrolytic condensation catalyst (mol number),
δs: represents the amount (number of moles) of (OR 2 ) in formula (1).

混合指標δは、好ましくは0.0005〜5、より好ましくは0.001〜1、さらに好ましくは0.005〜0.5である。樹脂組成物の組成によっては、混合指標δが0.0005以上とすることで、加水分解縮合の促進効果を得ることができ、5以下とすることで、環状エーテル基の開環を抑制できる傾向にある。   The mixing index δ is preferably 0.0005 to 5, more preferably 0.001 to 1, and still more preferably 0.005 to 0.5. Depending on the composition of the resin composition, when the mixing index δ is 0.0005 or more, an effect of promoting hydrolysis condensation can be obtained, and when it is 5 or less, the ring opening of the cyclic ether group tends to be suppressed. It is in.

本実施形態の樹脂組成物を共加水分解縮合により得る工程において、水の添加量は特に限定されるものではないが、好ましい添加量は、上述の式(1)における(OR2)に対する比率である混合指標εから求めることができる。
ここで、混合指標εは、以下の式(6)で表される。
混合指標ε=(εw)/(εs) (6)
式(6)中、
εw:水の添加量(mol数)、
εs:式(1)における(OR2)の量(mol数)を、それぞれ表す。
In the step of obtaining the resin composition of the present embodiment by cohydrolysis condensation, the amount of water added is not particularly limited, but the preferred amount added is a ratio to (OR 2 ) in the above formula (1). It can be obtained from a certain mixing index ε.
Here, the mixing index ε is expressed by the following formula (6).
Mixing index ε = (εw) / (εs) (6)
In formula (6),
εw: amount of water added (in mol),
εs: represents the amount (mol number) of (OR 2 ) in formula (1).

混合指標εは、好ましくは0.1〜5、より好ましくは0.2〜3、さらに好ましくは0.3〜1.5である。混合指標εを0.1以上とすることで、加水分解反応が進行しない現象を抑制することができ、混合指標εを5以下とすることで、環状エーテル基の開環を抑制できる傾向にある。上述した共加水分解縮合における水の添加は、アルコキシシラン化合物の加水分解が主たる目的であるので、「脱水を伴わない還流工程」で行う必要がある。その添加のタイミングは、特に限定されず、最初に添加してもよいし、フィードポンプ等を用いて、反応中に徐々に添加してもよい。   The mixing index ε is preferably 0.1 to 5, more preferably 0.2 to 3, and still more preferably 0.3 to 1.5. When the mixing index ε is 0.1 or more, a phenomenon in which the hydrolysis reaction does not proceed can be suppressed, and when the mixing index ε is 5 or less, the ring opening of the cyclic ether group tends to be suppressed. . The addition of water in the co-hydrolysis condensation described above is mainly performed by hydrolysis of the alkoxysilane compound, and therefore needs to be performed in the “refluxing process without dehydration”. The timing of the addition is not particularly limited, and may be added first or gradually during the reaction using a feed pump or the like.

本実施形態の共加水分解縮合反応は、無溶剤でも、溶剤中でも行うことができる。溶媒としては、エポキシ樹脂とアルコキシシラン化合物を溶解可能であり、これらに対して非活性である有機溶媒であれば、特に限定されず、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アニソール等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン等の芳香族水素系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;メタノール、エタノール、ブタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、1種又は2種以上の混合物として用いることもできる。   The cohydrolysis condensation reaction of the present embodiment can be performed without a solvent or in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it is an organic solvent that can dissolve an epoxy resin and an alkoxysilane compound and is inactive to them, and examples thereof include dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, and 1,4-dioxane. 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ether solvents such as anisole; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone; hexane, Aliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, heptane, octane, isooctane; toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, ethylbenzene Ethyl acetate, ester solvents such as butyl acetate; aromatic hydrocarbon-based solvent such as methanol, ethanol, butanol, isopropanol, n- butanol, butyl cellosolve, alcohol-based solvents such as butyl carbitol. These solvents can also be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

それらの中でも、反応中のエポキシ基の開環を抑制する観点から、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、エーテル系溶媒を50質量%以上含む溶媒がより好ましく、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種又は2種以上の混合溶媒がさらに好ましく、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランが特に好ましい。また入手が容易であることから、メタノール、エタノール、ブタノール、イソプロパノール、n−ブタノール等のアルコール系溶媒も好ましい。   Among these, from the viewpoint of suppressing the ring opening of the epoxy group during the reaction, ether solvents, ketone solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, and aromatic hydrocarbon solvents are preferable, and the ether solvent is 50% by mass or more. More preferable is a solvent containing, at least one or more mixed solvents selected from the group consisting of 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and propylene glycol dimethyl ether are more preferable, and 1,4-dioxane and tetrahydrofuran are particularly preferable. preferable. Also, alcohol solvents such as methanol, ethanol, butanol, isopropanol, and n-butanol are preferable because they are easily available.

溶剤の添加量は、共加水分解縮合反応に供されるエポキシ樹脂とアルコキシシラン化合物の合計質量に対して、好ましくは0.01〜20倍量、より好ましくは0.02〜15倍量、さらに好ましくは0.03〜10倍量である。溶剤の添加量により樹脂組成物の分子量を制御することが可能であるため、上述の添加量の範囲とすることで、適正な分子量、ひいては適性粘度の樹脂組成物を得ることができる。   The amount of the solvent added is preferably 0.01 to 20 times, more preferably 0.02 to 15 times, and more preferably 0.02 to 15 times the total mass of the epoxy resin and alkoxysilane compound subjected to the cohydrolysis condensation reaction. The amount is preferably 0.03 to 10 times. Since the molecular weight of the resin composition can be controlled by the addition amount of the solvent, a resin composition having an appropriate molecular weight and, therefore, an appropriate viscosity can be obtained by setting the range of the addition amount described above.

(硬化剤)
本実施形態の硬化剤としては、例えば、ノボラック型フェノール樹脂、アミン系硬化剤、イミダゾール類、ジシアンジアミド及びその誘導体、酸及び酸無水物系硬化剤、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂、ビスフェノール類、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデヒドとの重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物との重合物、フェノール類と芳香族ジメチロールとの重縮合物、又はビスメトキシメチルビフェニルとナフトール類若しくはフェノール類との縮合物等、ビフェノール類及びこれらの変性物、3フッ化ホウ素−アミン錯体、グアニジン誘導体等を用いることができる。これらは単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。これら硬化剤の中には、硬化速度や硬化条件等について相乗効果を示す組み合わせが多く、硬化促進及び配合量の低減のためには、複数を組み合わせて使用することが好ましい。それらの中でも、分子内に活性水素を有するものが適しているとの観点から、ノボラック型フェノール樹脂、アミン系硬化剤、イミダゾール類、ジシアンジアミド及びその誘導体がより好ましく、ノボラック型フェノール樹脂が特に好ましい。さらに、ノボラック型フェノール樹脂を使用する場合は、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5、トリフェニルホスフィン等の有機ホスフィン等と併用すると、更に優れた効果が得られる可能性がある。
(Curing agent)
As the curing agent of the present embodiment, for example, synthesized from a novolak type phenol resin, an amine curing agent, imidazoles, dicyandiamide and its derivatives, an acid and acid anhydride curing agent, a dimer of linolenic acid, and ethylenediamine. Polyamide resins, bisphenols, phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and various aldehydes, polymers of phenols and various diene compounds, phenols Use of polycondensates of dimethylol with aromatic dimethylol, condensates of bismethoxymethylbiphenyl with naphthols or phenols, biphenols and their modified products, boron trifluoride-amine complexes, guanidine derivatives, etc. Can . These may be used alone or in combination. Among these curing agents, there are many combinations that exhibit a synergistic effect with respect to the curing speed, curing conditions, and the like, and it is preferable to use a plurality in combination in order to accelerate curing and reduce the blending amount. Among these, from the viewpoint that those having active hydrogen in the molecule are suitable, novolak-type phenol resins, amine-based curing agents, imidazoles, dicyandiamide and derivatives thereof are more preferable, and novolak-type phenol resins are particularly preferable. Further, when a novolac type phenol resin is used, organic compounds such as 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7, 1,5-diazabicyclo (4.3.0) nonene-5, triphenylphosphine, etc. When used in combination with phosphine or the like, a further excellent effect may be obtained.

ノボラック型フェノール樹脂は、軟化点が100〜150℃で、水酸基当量が95〜110g/eqのものが好ましい。軟化点が150℃以下とすることで、樹脂組成物と硬化剤の混合液を効率よく基材へ含浸させることができ、100℃以上とすることで、金属箔張積層板、及びプリント配線板に優れた耐熱性、難燃性を付与できる。また、水酸基当量をかかる範囲とすることで、金属箔張積層板、及びプリント配線板に優れた耐熱性を付与できる。   The novolak type phenol resin preferably has a softening point of 100 to 150 ° C. and a hydroxyl group equivalent of 95 to 110 g / eq. By setting the softening point to 150 ° C. or less, the substrate can be efficiently impregnated with the mixed liquid of the resin composition and the curing agent. By setting the softening point to 100 ° C. or more, the metal foil-clad laminate and the printed wiring board Excellent heat resistance and flame retardancy can be imparted. Moreover, the heat resistance excellent in the metal foil tension laminated board and the printed wiring board can be provided by making a hydroxyl group equivalent into this range.

また、ノボラック型フェノール樹脂の添加量は、樹脂組成物に含まれる環状エーテル基1当量に対して、好ましくは0.2〜2当量、より好ましくは0.5〜1.5当量、さらに好ましくは0.7〜1.3当量である。添加量を0.2当量以上とすることで、未反応の環状エーテル基が残留することを抑制できるため、耐熱性を向上させることができ、2当量以下とすることで、未反応のノボラック型フェノール樹脂が残留することを抑制できるため、耐熱性を向上させることができる。   Further, the addition amount of the novolac type phenol resin is preferably 0.2 to 2 equivalents, more preferably 0.5 to 1.5 equivalents, and still more preferably with respect to 1 equivalent of the cyclic ether group contained in the resin composition. 0.7 to 1.3 equivalents. Since it can suppress that an unreacted cyclic ether group remains by making addition amount into 0.2 equivalent or more, heat resistance can be improved, and unreacted novolak type can be made into 2 equivalent or less. Since it can suppress that a phenol resin remains, heat resistance can be improved.

アミン系硬化剤の具体例としては、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジプロピレントリアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、1,3,6−トリスアミノメチルヘキサン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、ポリエーテルジアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、メンセンジアミン、イソフォロンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン、N−アミノエチルピペラジン、メタキシリレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、芳香族ジアミン共融混合物、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラスピロ[5.5]ウンデカン、ポリアミンエポキシ樹脂アダクト、ポリアミン−エチレンオキシド−プロピレンオキシドアダクト、シアノエチル化ポリアミン、ケチミン化合物、直鎖状ジアミン、直鎖状第3アミン、テトラメチルグアニジン、アルキル−tert−モノアミン、トリエタノールアミン、ピペリジン、N,N’−ジメチルピペラジン、トリエチレンジアミン、ピリジン、ピコリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールのトリ−2−エチルヘキシル酸塩、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジメチルベンジルアミン、ジメチルヘキシルアミン、ジメチルアミノメチルフェノール、ジメチルアミノp−クレゾール等が挙げられる。それらの中でも、他の硬化剤との相乗効果の観点から、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールが好ましい。   Specific examples of the amine curing agent include, for example, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, dipropylenetriamine, bis (hexamethylene) triamine, 1,3,6-trisaminomethylhexane, trimethylhexamethylenediamine, Polyetherdiamine, diethylaminopropylamine, mensendiamine, isophoronediamine, bis (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane, N-aminoethylpiperazine, metaxylylenediamine, metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone , Aromatic diamine eutectic mixture, 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraspiro [5.5] undecane, polyamine epoxy resin adduct, Liamine-ethylene oxide-propylene oxide adduct, cyanoethylated polyamine, ketimine compound, linear diamine, linear tertiary amine, tetramethylguanidine, alkyl-tert-monoamine, triethanolamine, piperidine, N, N'-dimethylpiperazine , Triethylenediamine, pyridine, picoline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5, benzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) ) Phenol, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, tri-2-ethylhexylate of 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, dimethylcyclohexylamine, dimethylbenzylamine, dimethylhexyl Amine, dimethylaminomethyl phenol, dimethylamino p- cresol. Among these, from the viewpoint of a synergistic effect with other curing agents, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7,1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5, 2- (Dimethylaminomethyl) phenol and 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol are preferred.

イミダゾール類の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−n−ヘプチルイミダゾール、2−n−ウンデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジ(ヒドロキシメチル)イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニル−4,5−ジ〔(2’−シアノエトキシ)メチル〕イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1')〕エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−(2’−n−ウンデシルイミダゾリル)エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1')〕エチル−s−トリアジン、2−メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジンのイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。それらの中でも、入手が容易であることから、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾールが好ましい。   Specific examples of imidazoles include 2-methylimidazole, 2-n-heptylimidazole, 2-n-undecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole. 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n -Undecylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2 -Phenyl-4,5-di (hydroxymethyl) imidazole, -(2-cyanoethyl) -2-phenyl-4,5-di [(2'-cyanoethoxy) methyl] imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazolium trimellitate, 1- (2-cyanoethyl) -2-phenylimidazolium trimellitate, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl] -(1 ')] ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- (2'-n-undecylimidazolyl) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl- 4'-methylimidazolyl- (1 ')] ethyl-s-triazine, isocyanuric acid adduct of 2-methylimidazole, isocyanuric acid addition of 2-phenylimidazole , 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- - (1 ')] isocyanuric acid adduct of ethyl -s- triazine. Among them, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazole are preferable because they are easily available.

ジシアンジアミドの誘導体の具体例としては、例えば、o−トリルビグアニリド、α−2,5−ジメチルビグアニド、α,ω−ジフェニルビグアニド、5−ヒドロキシナフチル−1−ビグアニド、α,α‘−ビスグアニルグアニジノジフェニルエーテル、フェニルビグアニド、p−クロルフェニルビグアニド、α−ベンジルビグアニド、α,ω−ジメチルビグアニド、α,α’−ヘキサメチレンビス〔ω−(p−クロルフェニル)〕ビグアニド、o−トリルビグアニド亜鉛塩、ジフェニルビグアニド鉄塩、フェニルビグアニド銅塩、ビグアニドニッケル塩、エチレンビスビグアニド塩酸塩、ラウリルビグアニド塩酸塩、フェニルビグアニドオキサレート等が挙げられる。   Specific examples of derivatives of dicyandiamide include, for example, o-tolylbiguanide, α-2,5-dimethylbiguanide, α, ω-diphenylbiguanide, 5-hydroxynaphthyl-1-biguanide, α, α'-bisguanylguanidino. Diphenyl ether, phenyl biguanide, p-chlorophenyl biguanide, α-benzyl biguanide, α, ω-dimethyl biguanide, α, α'-hexamethylenebis [ω- (p-chlorophenyl)] biguanide, o-tolyl biguanide zinc salt, Examples include diphenyl biguanide iron salt, phenyl biguanide copper salt, biguanide nickel salt, ethylene bis biguanide hydrochloride, lauryl biguanide hydrochloride, phenyl biguanide oxalate and the like.

酸及び酸無水物系硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、3,4,5,6−テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、「4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸=70/30(質量比)」、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、「メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物/ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物」、テトラプロペニル無水コハク酸、オクテニルコハク酸無水物、2,5−ジケトテトラヒドロフラン等が挙げられる。それらの中でも、ポットライフが長く発熱が少ないため、脂環式酸無水物が好ましい。脂環式酸無水物の具体例としては、例えば、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。   Examples of acid and acid anhydride curing agents include phthalic anhydride, succinic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride , Hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, “4-methylhexahydro Phthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride = 70/30 (mass ratio) ”, 4-methylhexahydrophthalic anhydride,“ methylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride / bicyclo [ 2.2.1] Heptane-2,3-dicarboxylic anhydride ", tetrapropenyl succinic anhydride, octenyl Haq anhydride, 2,5-di-keto tetrahydrofuran. Among them, alicyclic acid anhydrides are preferred because of their long pot life and little heat generation. Specific examples of the alicyclic acid anhydride include, for example, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and the like.

(基材)
本実施形態の基材は、各種プリント配線板材料に用いられている公知のものを使用することができる。例えば、Fガラス、Dガラス、Sガラス、NEガラス、Tガラス、Eガラス、Qガラス等のガラス繊維、アルミナ、アスベスト、ボロン、シリカアルミナガラス、チラノ、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア等の無機繊維、ポリアミド、芳香族ポリアミド、全芳香族ポリアミド等のポリアミド繊維、ポリエステル、芳香族ポリエステル、全芳香族ポリエステル等のポリエステル繊維、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン、カーボン、セルロース、テトラフルオロエチレン、クラフト紙、コットンリンター紙、リンターとクラフトパルプの混抄紙等の有機繊維及びそれらの混合物等が挙げられる。それらの中でも、強度、吸水率、入手が容易である観点から、ガラス繊維が好ましい。
(Base material)
The base material of this embodiment can use the well-known thing used for various printed wiring board materials. For example, glass fibers such as F glass, D glass, S glass, NE glass, T glass, E glass, and Q glass, inorganic fibers such as alumina, asbestos, boron, silica alumina glass, Tyranno, silicon carbide, silicon nitride, and zirconia Polyamide fiber such as polyamide, aromatic polyamide, wholly aromatic polyamide, polyester fiber such as polyester, aromatic polyester, wholly aromatic polyester, polyether ether ketone, polyether imide, polyether sulfone, carbon, cellulose, tetra Examples thereof include organic fibers such as fluoroethylene, kraft paper, cotton linter paper, mixed paper of linter and kraft pulp, and mixtures thereof. Among these, glass fiber is preferable from the viewpoint of strength, water absorption, and availability.

基材の形状は、特に限定されず、織布、不織布、ロービング、チョップドストランドマット、サーフェシングマット等が挙げられる。また、上記材質及び形状は、目的とする成型物の用途や性能により選択され、必要により単独もしくは2種類以上の材質及び形状からの使用が可能である。基材の厚みには特に限定はないが、通常は0.01〜0.5mm程度のものを、目的の積層板の厚さに合わせて使用することができる。また、基材は樹脂成分との親和性を高めるためシランカップリング剤、シリコーン化合物などで表面処理したものや機械的に開繊処理を施したものが耐熱性や耐湿性、加工性の面から好適である。   The shape of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include woven fabric, nonwoven fabric, roving, chopped strand mat, and surfacing mat. Moreover, the said material and shape are selected by the use and performance of the target molding, and if necessary, it can be used alone or from two or more types of materials and shapes. Although there is no limitation in particular in the thickness of a base material, Usually, the thing about 0.01-0.5 mm can be used according to the thickness of the target laminated board. In addition, from the viewpoint of heat resistance, moisture resistance, and workability, the base material should be surface-treated with a silane coupling agent, a silicone compound, etc., or mechanically opened to improve the affinity with the resin component. Is preferred.

(添加剤)
本実施形態の樹脂組成物、樹脂組成物と硬化剤の混合物、及びその硬化物には、本実施形態の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、各種有機樹脂、無機充填剤、着色剤、レベリング剤、滑剤、界面活性剤、シリコーン系化合物、希釈剤(反応性希釈剤、非反応性希釈剤等)、酸化防止剤、光安定剤等を適宜添加することができる。また、その他に樹脂用の添加剤(可塑剤、難燃剤、安定剤、帯電防止剤、耐衝撃強化剤、発泡剤、抗菌・防カビ剤、導電性フィラー、防曇剤、架橋剤等)として供される物質を、配合してもよい。
(Additive)
In the resin composition of the present embodiment, the mixture of the resin composition and the curing agent, and the cured product thereof, various organic resins, inorganic fillers, and colorants are used in accordance with the purpose within a range not impairing the effects of the present embodiment. Leveling agents, lubricants, surfactants, silicone compounds, diluents (reactive diluents, non-reactive diluents, etc.), antioxidants, light stabilizers, and the like can be added as appropriate. In addition, as additives for plastics (plasticizers, flame retardants, stabilizers, antistatic agents, impact resistance enhancers, foaming agents, antibacterial / antifungal agents, conductive fillers, antifogging agents, crosslinking agents, etc.) The provided material may be blended.

ここで、有機樹脂としては、特に限定されるものではなく、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。それらの中でも、エポキシ樹脂等の反応性の高い有機基を有するものが好ましい。   Here, the organic resin is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy resin, an acrylic resin, a polyester resin, and a polyimide resin. Among them, those having a highly reactive organic group such as an epoxy resin are preferable.

無機充填材としては、例えば、シリカ類(溶融破砕シリカ、結晶破砕シリカ、球状シリカ、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ、沈降性シリカ等)シリコンカーバイド、窒化珪素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、マイカ、タルク、クレー、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸リチウムアルミニウム、珪酸ジルコニウム、チタン酸バリウム、硝子繊維、炭素繊維、二硫化モリブデン等が挙げられる。それらの中でも、シリカ類、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、珪酸カルシウム等が好ましく、硬化物の物性を更に考慮すると、シリカ類がより好ましい。これらの無機充填材は単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。   Examples of inorganic fillers include silicas (melted crushed silica, crystal crushed silica, spherical silica, fumed silica, colloidal silica, precipitated silica, etc.) silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, calcium carbonate, magnesium carbonate, sulfuric acid Barium, calcium sulfate, mica, talc, clay, aluminum oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium silicate, aluminum silicate, lithium aluminum silicate, zirconium silicate, barium titanate, glass fiber, carbon fiber And molybdenum disulfide. Among them, silicas, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, calcium silicate and the like are preferable, and silicas are more preferable in consideration of the physical properties of the cured product. These inorganic fillers may be used alone or in combination.

着色剤としては、着色を目的に使用される物質であれば特に限定されず、例えば、フタロシアニン、アゾ、ジスアゾ、キナクリドン、アントラキノン、フラバントロン、ペリノン、ペリレン、ジオキサジン、縮合アゾ、アゾメチン系の各種有機系色素、酸化チタン、硫酸鉛、クロムエロー、ジンクエロー、クロムバーミリオン、弁殻、コバルト紫、紺青、群青、カーボンブラック、クロムグリーン、酸化クロム、コバルトグリーン等の無機顔料等が挙げられる。これらの着色剤は単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。   The colorant is not particularly limited as long as it is a substance used for the purpose of coloring. For example, phthalocyanine, azo, disazo, quinacridone, anthraquinone, flavantron, perinone, perylene, dioxazine, condensed azo, azomethine-based various organic materials Inorganic pigments such as system dyes, titanium oxide, lead sulfate, chrome yellow, zinc yellow, chrome vermilion, valve shell, cobalt violet, bitumen, ultramarine, carbon black, chrome green, chrome oxide, cobalt green and the like. These colorants may be used alone or in combination.

レベリング剤としては、特に限定されず、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等のアクリレート類からなる分子量4000〜12000のオリゴマー類、エポキシ化大豆脂肪酸、エポキシ化アビエチルアルコール、水添ひまし油、チタン系カップリング剤等が挙げられる。これらのレベリング剤は単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。   The leveling agent is not particularly limited. For example, oligomers having a molecular weight of 4000 to 12000 made of acrylates such as ethyl acrylate, butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate, epoxidized soybean fatty acid, epoxidized abiethyl alcohol, hydrogenated castor oil And titanium-based coupling agents. These leveling agents may be used alone or in combination.

滑剤としては、特に限定されず、パラフィンワックス、マイクロワックス、ポリエチレンワックス等の炭化水素系滑剤、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸等の高級脂肪酸系滑剤、ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレイルアミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミド等の高級脂肪酸アミド系滑剤、硬化ひまし油、ブチルステアレート、エチレングリコールモノステアレート、ペンタエリスリトール(モノ−,ジ−,トリ−,又はテトラ−)ステアレート等の高級脂肪酸エステル系滑剤、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロール等のアルコール系滑剤、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リシノール酸、ナフテン酸等のマグネシウム、カルシウム、カドミウム、バリウム、亜鉛、鉛等の金属塩である金属石鹸類、カルナウバロウ、カンデリラロウ、ミツロウ、モンタンロウ等の天然ワックス類等が挙げられる。これらの滑剤は単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。   The lubricant is not particularly limited, and hydrocarbon lubricants such as paraffin wax, microwax and polyethylene wax, higher fatty acid lubricants such as lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, arachidic acid and behenic acid, stearylamide Higher fatty acid amide lubricants such as palmitylamide, oleylamide, methylenebisstearamide, ethylenebisstearamide, hydrogenated castor oil, butyl stearate, ethylene glycol monostearate, pentaerythritol (mono-, di-, tri -, Or tetra-) higher fatty acid ester lubricants such as stearate, alcohol lubricants such as cetyl alcohol, stearyl alcohol, polyethylene glycol, polyglycerol, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, Examples include metal soaps that are metal salts such as magnesium, calcium, cadmium, barium, zinc, and lead such as rachidic acid, behenic acid, ricinoleic acid, and naphthenic acid, and natural waxes such as carnauba wax, candelilla wax, beeswax, and montan wax. . These lubricants may be used alone or in combination.

界面活性剤とは、その分子中に溶媒に対して親和性を持たない疎水基と、溶媒に対して親和性を持つ親媒基(通常は親水基)を持つ、両親媒性物質を指す。また、その種類は特に限定されるものではなく、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。   The surfactant refers to an amphiphilic substance having a hydrophobic group having no affinity for the solvent in the molecule and an amphiphilic group (usually a hydrophilic group) having an affinity for the solvent. Moreover, the kind is not specifically limited, For example, a silicone type surfactant, a fluorine type surfactant, etc. are mentioned. Surfactants may be used alone or in combination.

シリコーン系化合物としては、特に限定されず、例えば、シリコーン樹脂、シリコーン縮合物、シリコーン部分縮合物、シリコーンオイル、シランカップリング剤、シリコーンオイル、ポリシロキサン等が挙げられ、その両末端、片末端、あるいは側鎖に有機基を導入して変性したものも含まれる。その変性の方法も特に限定されず、例えば、アミノ変性、エポキシ変性、脂環式エポキシ変性、カルビノール変性、メタクリル変性、ポリエーテル変性、メルカプト変性、カルボキシル変性、フェノール変性、シラノール変性、ポリエーテル変性、ポリエーテル・メトキシ変性、ジオール変性等が挙げられる。   Examples of the silicone compound include, but are not limited to, silicone resin, silicone condensate, silicone partial condensate, silicone oil, silane coupling agent, silicone oil, polysiloxane, and the like. Or what modified | denatured by introduce | transducing an organic group into a side chain is also contained. The modification method is not particularly limited. For example, amino modification, epoxy modification, alicyclic epoxy modification, carbinol modification, methacryl modification, polyether modification, mercapto modification, carboxyl modification, phenol modification, silanol modification, polyether modification. , Polyether / methoxy modification, diol modification and the like.

反応性希釈剤としては、特に限定されず、例えば、アルキルグリシジルエーテル(アルキルモノグリシジルエーテル、アルキルコグリシジルエーテル等)、フェニルグリシジルエーテル、アルキルフェノールのモノグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリジジルエーテル、オルソクレジルグリシジルエーテル、メタパラクレジルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジエーテル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、アルカン酸グリシジルエステル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリジジルエーテル、脂肪酸変性エポキシ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリグリコールジグリシジルエーテル、1,2:8,9ジエポキシリモネン等が挙げられる。   The reactive diluent is not particularly limited. For example, alkyl glycidyl ether (alkyl monoglycidyl ether, alkylcoglycidyl ether, etc.), phenyl glycidyl ether, monoglycidyl ether of alkylphenol, trimethylolpropane triglycidyl ether, orthocresyl Glycidyl ether, metaparacresyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, alkanoic acid glycidyl ester, Ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol Glycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, fatty acid-modified epoxy, polyethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, polyglycol diglycidyl ether, 1,2: 8,9 diepoxylimonene, and the like.

非反応性希釈剤としては、特に限定されず、例えば、ベンジルアルコール、ブチルジグリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の高沸点溶剤等が挙げられる。   The non-reactive diluent is not particularly limited, and examples thereof include high-boiling solvents such as benzyl alcohol, butyl diglycol, and propylene glycol monomethyl ether.

その他希釈剤としては、特に限定されず、例えば、任意の有機溶媒、グリセリン、ポリオール、水、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンポリグリシジルエーテル、ジグリセリンポリグリシジルエーテル、ポリグリセリンポリグリシジルエーテル、ソルビトール系ポリグリシジルエーテル等が挙げられる。   Other diluents are not particularly limited. For example, any organic solvent, glycerin, polyol, water, propylene glycol diglycidyl ether, glycerin polyglycidyl ether, diglycerin polyglycidyl ether, polyglycerin polyglycidyl ether, sorbitol poly A glycidyl ether etc. are mentioned.

酸化防止剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トリフェニルホスフェート、フェニルイソデシルホスファイト等の有機リン系酸化防止剤、ジステアリル−3,3’−チオジプロピネート等の有機イオウ系酸化防止剤、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール等のフェノール系酸化防止剤等が挙げられる。   The antioxidant is not particularly limited, and examples thereof include organic phosphorus antioxidants such as triphenyl phosphate and phenylisodecyl phosphite, and organic sulfurs such as distearyl-3,3′-thiodipropinate. Examples of the antioxidant include phenolic antioxidants such as 2,6-di-tert-butyl-p-cresol.

光安定剤としては、特に限定されず、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリシレート系、シアノアクリルレート系、ニッケル系、トリアジン系等の紫外線吸収剤や、ヒンダードアミン系光安定剤等が挙げられる。   The light stabilizer is not particularly limited, and examples thereof include benzotriazole-based, benzophenone-based, salicylate-based, cyanoacrylate-based, nickel-based, and triazine-based ultraviolet absorbers, hindered amine-based light stabilizers, and the like.

本実施形態の樹脂組成物、樹脂組成物と硬化剤の混合物、及びその硬化物には、さらに下記の物質を添加してもよい。例えば、溶剤、油脂、油脂加工品、天然樹脂、合成樹脂、顔料、染料、色素、剥離剤、防腐剤、接着剤、脱臭剤、凝集剤、洗浄剤、脱臭剤、pH調整剤、感光材料、インク、電極、めっき液、触媒、樹脂改質剤、可塑剤、柔軟剤、農薬、殺虫剤、殺菌剤、医薬品原料、乳化剤・界面活性剤、防錆剤、金属化合物、フィラー、化粧品・医薬品原料、脱水剤、乾燥剤、不凍液、吸着剤、着色剤、ゴム、発泡剤、着色剤、研磨剤、離型剤、凝集剤、消泡剤、硬化剤、還元剤、フラックス剤、皮膜処理剤、鋳物原料、鉱物、酸・アルカリ、ショット剤、酸化防止剤、表面被覆剤、添加剤、酸化剤、火薬類、燃料、漂白剤、発光素子、香料、コンクリート、繊維(カーボンファイバー、アラミド繊維、ガラス繊維等)、ガラス、金属、賦形剤、崩壊剤、結合剤、流動化剤、ゲル化剤、安定剤、保存剤、緩衝剤、懸濁化剤、粘稠剤等が挙げられる。   You may add the following substance further to the resin composition of this embodiment, the mixture of a resin composition and a hardening | curing agent, and its hardened | cured material. For example, solvents, oils and fats, processed oils, natural resins, synthetic resins, pigments, dyes, pigments, release agents, preservatives, adhesives, deodorants, flocculants, cleaning agents, deodorants, pH adjusters, photosensitive materials, Ink, electrode, plating solution, catalyst, resin modifier, plasticizer, softener, agrochemical, insecticide, fungicide, pharmaceutical raw material, emulsifier / surfactant, rust inhibitor, metal compound, filler, cosmetic / pharmaceutical raw material , Dehydrating agent, drying agent, antifreeze, adsorbent, colorant, rubber, foaming agent, colorant, abrasive, mold release agent, flocculant, antifoaming agent, curing agent, reducing agent, flux agent, film treatment agent, Casting raw materials, minerals, acids / alkalis, shot agents, antioxidants, surface coating agents, additives, oxidants, explosives, fuels, bleaches, light emitting elements, fragrances, concrete, fibers (carbon fibers, aramid fibers, glass) Fiber), glass, metal, excipient, disintegrant, Mixture, fluidizing agents, gelling agents, stabilizers, preservatives, buffering agents, suspending agents, thickeners, and the like.

(プリプレグ)
本実施形態の樹脂組成物と、硬化剤の混合物を、基材に含浸させ、乾燥させることでプリプレグを製造することができる。混合物の基材への含浸には、直接、もしくは溶剤で希釈することで粘度を低くしたワニスを塗布、浸漬させる方法を用いることができ、混合物の粘度が高い場合には、効率的に含浸させるためワニスを用いることが好ましい。
(Prepreg)
A prepreg can be produced by impregnating a base material with a mixture of the resin composition of the present embodiment and a curing agent and drying the mixture. For the impregnation of the mixture into the substrate, a method of applying and immersing a varnish whose viscosity has been lowered by diluting with a solvent can be used, and if the mixture has a high viscosity, it is impregnated efficiently. Therefore, it is preferable to use a varnish.

ワニスを作るための溶剤は、樹脂と相溶するものであれば、特に限定されるものではない。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノールなどのアルコール系溶剤、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノンなどのケトン系溶剤、N−メチルピロリドン、N,N’−ジメチルホルムアミド、N,N’−ジエチルアセトアミドなどのアミド系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶剤、酢酸エチル、メチルセロソルブアセテートなどのエステル系溶剤、アセトニトリル、ブチルニトリルなどのニトリル系溶剤、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶剤があり、これらは単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。   The solvent for producing the varnish is not particularly limited as long as it is compatible with the resin. For example, alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol, isopropanol, cyclohexanol, ether solvents such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol monomethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, Ketone solvents such as cyclohexanone and acetophenone, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N'-dimethylformamide and N, N'-diethylacetamide, aromatic carbonization such as benzene, toluene, xylene, trimethylbenzene and chlorobenzene Hydrogen solvent, ester solvents such as ethyl acetate and methyl cellosolve acetate, nitrile solvents such as acetonitrile and butyl nitrile, dichlorometa , There is a halide solvent such as chloroform, These may be used singly or may be used in combination.

塗布、浸漬させる方法としては、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等を用いる方法や、混合物を溜めたバスに、基材を通過させた後、スリット、又はマングルで余剰な混合物を掻き落とす方法などが挙げられる。   As a method of applying and immersing, a method using a roll coater, a die coater, a gravure coater, etc., a method of scraping off an excess mixture with a slit or a mangle after passing the substrate through a bath in which the mixture is stored, etc. Is mentioned.

プリプレグにおいて基材の占める割合は、20〜80質量%であることが好ましい。割合を20質量%以上とすることで、優れた寸法安定性及び強度を付与することができ、80質量%以下とすることで、優れた耐熱性、難燃性、クラック耐性を付与することができる。   The proportion of the base material in the prepreg is preferably 20 to 80% by mass. By making the proportion 20% by mass or more, excellent dimensional stability and strength can be imparted, and by making the proportion 80% by mass or less, excellent heat resistance, flame retardancy, and crack resistance can be imparted. it can.

ワニスにより含浸された基材を乾燥する方法としては、公知の方法、例えば熱風又は電磁波、が使用可能である。加熱乾燥時の温度は、100〜250℃であることが好ましい。250℃以下とすることで、組成物の熱分解、熱劣化を抑制できる傾向にあり、100℃以上とすることで、溶剤を効率的に蒸発させることができるため、生産性が良くなる傾向にある。また、加熱乾燥時間は乾燥時の温度により適宜選択されるが、溶剤の残留量を低減させるためには20秒以上が好ましく、組成物の熱分解、熱劣化を抑制するためには60分以下であることが好ましい。   As a method for drying the substrate impregnated with the varnish, a known method such as hot air or electromagnetic waves can be used. The temperature during heat drying is preferably 100 to 250 ° C. By setting the temperature to 250 ° C. or lower, the thermal decomposition and thermal deterioration of the composition tend to be suppressed. By setting the temperature to 100 ° C. or higher, the solvent can be efficiently evaporated, which tends to improve productivity. is there. The heating and drying time is appropriately selected depending on the temperature during drying, but is preferably 20 seconds or longer in order to reduce the residual amount of the solvent, and 60 minutes or less in order to suppress thermal decomposition and thermal deterioration of the composition. It is preferable that

(金属箔張積層板)
上記のプリプレグ少なくとも1枚と金属箔を積層させ、加熱、加圧成型することにより金属箔張板を製造することができる。すなわち、本実施形態に係る金属箔張積層板は、前記プレプリグと、前記プレプリグに積層された金属箔と、を少なくとも備える、金属箔張積層板とすることができる。プリプレグが1枚の場合は、その上下両面もしくは片面に金属箔を積層させ、プリプレグが2枚以上の場合は、積層させたプリプレグの最も外側の上下両面もしくは片面に金属箔を重ねる。加熱、加圧成型する方法としては、各種公知の方法を適宜選択して行えばよく、好ましくは温度100〜250℃、時間1分間〜10時間、圧力0.01〜100MPa、より好ましくは温度120〜200℃、時間1分間〜5時間、圧力0.1〜50MPaである。かかる温度、時間範囲とすることで、組成物の熱分解、熱劣化を抑制しながら、完全硬化状態とすることができる。また、かかる圧力範囲とすることで、基材が硬化樹脂表面から露出しない状態でありながら、所望の厚みを達成することができる。
(Metal foil-clad laminate)
A metal foil tension plate can be produced by laminating at least one prepreg and a metal foil, followed by heating and pressure molding. That is, the metal foil-clad laminate according to this embodiment can be a metal foil-clad laminate including at least the prepreg and the metal foil laminated on the prepreg. When there is one prepreg, metal foil is laminated on both upper and lower surfaces or one side, and when there are two or more prepregs, metal foil is laminated on the outermost upper and lower surfaces or one surface of the laminated prepreg. As a method of heating and pressure molding, various known methods may be selected as appropriate, and the temperature is preferably 100 to 250 ° C., the time 1 minute to 10 hours, the pressure 0.01 to 100 MPa, more preferably the temperature 120. ~ 200 ° C, 1 minute to 5 hours, pressure 0.1 to 50 MPa. By setting it as this temperature and time range, it can be set as a completely hardened state, suppressing the thermal decomposition and thermal deterioration of a composition. Moreover, by setting it as this pressure range, desired thickness can be achieved, although a base material is the state which is not exposed from the cured resin surface.

金属箔としては、各種公知のものを適宜選択して用いることができ、例えば、銅及び銅系合金、アルミ及びアルミ系合金、銀及び銀系合金、金及び金系合金、亜鉛及び亜鉛系合金、ニッケル及びニッケル系合金、錫及び錫系合金、鉄及び鉄系合金等が挙げられ、それらの中でも、電気導電性に優れ、樹脂との密着性に優れる点から、銅及び銅系合金が好ましい。   As the metal foil, various known materials can be appropriately selected and used. For example, copper and copper alloys, aluminum and aluminum alloys, silver and silver alloys, gold and gold alloys, zinc and zinc alloys. , Nickel and nickel-based alloys, tin and tin-based alloys, iron and iron-based alloys, etc. Among them, copper and copper-based alloys are preferred from the viewpoint of excellent electrical conductivity and excellent adhesion to resin. .

また、金属箔として、キャリア箔付き極薄金属箔を用いることもできる。キャリア箔付き極薄金属箔とは、剥離可能なキャリア箔と極薄金属箔とを張り合わせた金属箔であることから、積層板の両面又は片面に極薄金属箔層を形成することができるため、例えば、セミアディティブ法などで回路を形成する場合、無電解メッキを行うことなく、極薄金属箔を直接給電層として電解メッキすることで、回路を形成後、フラッシュエッチングすることができる。   Moreover, an ultrathin metal foil with a carrier foil can also be used as the metal foil. Since the ultrathin metal foil with carrier foil is a metal foil obtained by bonding a peelable carrier foil and an ultrathin metal foil, an ultrathin metal foil layer can be formed on both sides or one side of a laminate. For example, when a circuit is formed by a semi-additive method or the like, flash etching can be performed after the circuit is formed by performing electroplating using an ultrathin metal foil as a power feeding layer directly without performing electroless plating.

キャリア箔付き極薄金属箔のキャリア箔としては、各種公知のものを適宜選択して用いることができ、例えば、銅及び銅系合金、アルミ及びアルミ系合金、銀及び銀系合金、金及び金系合金、亜鉛及び亜鉛系合金、ニッケル及びニッケル系合金、錫及び錫系合金、鉄及び鉄系合金等が挙げられる。また、金属箔としては、各種公知のものを適宜選択して用いることができ、例えば、銅及び銅系合金、アルミ及びアルミ系合金、銀及び銀系合金、金及び金系合金、亜鉛及び亜鉛系合金、ニッケル及びニッケル系合金、錫及び錫系合金、鉄及び鉄系合金等が挙げられ、それらの中でも、電気導電性に優れ、樹脂との密着性に優れる観点から、銅及び銅系合金が好ましい。   As the carrier foil of the ultrathin metal foil with the carrier foil, various known ones can be appropriately selected and used. For example, copper and copper-based alloy, aluminum and aluminum-based alloy, silver and silver-based alloy, gold and gold Alloy, zinc and zinc alloy, nickel and nickel alloy, tin and tin alloy, iron and iron alloy, and the like. Moreover, as metal foil, various well-known things can be selected suitably and can be used, for example, copper and copper alloy, aluminum and aluminum alloy, silver and silver alloy, gold and gold alloy, zinc and zinc -Based alloys, nickel and nickel-based alloys, tin and tin-based alloys, iron and iron-based alloys, etc. Among them, copper and copper-based alloys from the viewpoint of excellent electrical conductivity and excellent adhesion to resin Is preferred.

(プリント配線板)
上記の積層板に対し、各種公知の方法を適宜選択することによりプリント配線板を製造することができる。すなわち、本実施形態に係るプリント配線基板は、前記金属箔張積層板の前記金属箔がエッチング処理された、プリント配線基板とすることができる。エッチング処理の方法等については、特に限定されず、公知の方法を採用してもよい。例えば、サブトラクティブ法によって配線パターン形成を行い、必要に応じてスルーホール等を形成することで、製造することができる。
(Printed wiring board)
A printed wiring board can be produced by appropriately selecting various known methods for the laminated board. That is, the printed wiring board according to the present embodiment can be a printed wiring board in which the metal foil of the metal foil-clad laminate is etched. The method for the etching process is not particularly limited, and a known method may be adopted. For example, it can be manufactured by forming a wiring pattern by a subtractive method and forming a through hole or the like as necessary.

以下に本実施形態を具体的に説明した実施例を例示するが、本実施形態は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例及び比較例における物性の評価は以下の通りに行った。
Examples that specifically describe the present embodiment are illustrated below, but the present embodiment is not limited to the following examples.
The physical properties in Examples and Comparative Examples were evaluated as follows.

<エポキシ当量(WPE)>
「JIS K7236:2001(エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方)」に従って測定した。
<Epoxy equivalent (WPE)>
It was measured according to “JIS K7236: 2001 (How to determine epoxy equivalent of epoxy resin)”.

<粘度>
以下の条件で、測定を行った。
回転式E形粘度計:東機産業社製、「TV−22形」
ローター:3°×R14(必要に応じ、他のローターを選択してもよい。)
測定温度:25℃
サンプル量:0.4mL
<Viscosity>
Measurement was performed under the following conditions.
Rotary E-type viscometer: “TV-22” manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.
Rotor: 3 ° × R14 (Other rotors may be selected as necessary.)
Measurement temperature: 25 ° C
Sample volume: 0.4mL

<混合指標αの算出>
混合指標αは、以下の式(2)から算出した。
混合指標α=(αc)/(αb) (2)
ここで、
αb:(B)式(1)において、nが1〜2であり、R1として、少なくとも1つの環状エーテル基を有するアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
αc:(C)式(1)において、nが1〜2であり、R1として、少なくとも1つのアリール基を有するアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)。
<Calculation of mixing index α>
The mixing index α was calculated from the following formula (2).
Mixing index α = (αc) / (αb) (2)
here,
αb: (B) In the formula (1), n is 1 to 2, and R 1 is an alkoxysilane compound content (mol%) having at least one cyclic ether group,
αc: (C) In Formula (1), n is 1 to 2, and the content (mol%) of an alkoxysilane compound having at least one aryl group as R 1 .

<混合指標β1の算出>
混合指標β1は、以下の式(3)から算出した。
混合指標β1={(βn2)/(βn0+βn1)} (3)
ここで、
βn2:式(1)において、nが2であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
βn0:式(1)において、nが0であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
βn1:式(1)において、nが1であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
なお、β2={(βn0)/(βn0+βn1+βn2)}の値についても算出した。
<Calculation of mixing index β1>
The mixing index β1 was calculated from the following equation (3).
Mixing index β1 = {(β n2 ) / (β n0 + β n1 )} (3)
here,
β n2 : the content (mol%) of the alkoxysilane compound in which n is 2 in formula (1),
β n0 : the content (mol%) of the alkoxysilane compound in which n is 0 in formula (1),
β n1 : content (mol%) of an alkoxysilane compound in which n is 1 in formula (1),
Note that the value of β2 = {(β n0 ) / (β n0 + β n1 + β n2 )} was also calculated.

<混合指標γの算出>
混合指標γは、以下の式(4)から算出した。
混合指標γ=(γa)/(γs) (4)
ここで、
γa:エポキシ樹脂の質量(g)、
γs:式(1)において、nが0〜2であるアルコキシシラン化合物の質量(g)。
<Calculation of mixing index γ>
The mixing index γ was calculated from the following equation (4).
Mixing index γ = (γa) / (γs) (4)
here,
γa: mass of epoxy resin (g),
γs: Mass (g) of the alkoxysilane compound in which n is 0 to 2 in the formula (1).

<混合指標δの算出>
混合指標δは、以下の式(5)から算出した。
混合指標δ=(δe)/(δs) (5)
ここで、
δe:加水分解縮合触媒の添加量(mol数)、
δs:式(1)における(OR2)の量(mol数)。
<Calculation of mixing index δ>
The mixing index δ was calculated from the following equation (5).
Mixing index δ = (δe) / (δs) (5)
here,
δe: addition amount of hydrolytic condensation catalyst (mol number),
δs: the amount (mol number) of (OR 2 ) in the formula (1).

<混合指標εの算出>
混合指標εは、以下の式(6)から算出した。
混合指標ε=(εw)/(εs) (6)
ここで、
εw:水の添加量(mol数)、
εs:式(1)における(OR2)の量(mol数)。
<Calculation of mixing index ε>
The mixing index ε was calculated from the following equation (6).
Mixing index ε = (εw) / (εs) (6)
here,
εw: amount of water added (in mol),
εs: the amount (mol number) of (OR 2 ) in the formula (1).

<ノボラック型フェノール樹脂の軟化点測定>
「JIS K6910:2007(フェノール樹脂試験方法)」の5.8項に従って、測定した。
<Measurement of softening point of novolac type phenolic resin>
The measurement was performed according to Section 5.8 of “JIS K6910: 2007 (Phenolic resin test method)”.

<ノボラック型フェノール樹脂の水酸基当量測定>
「JIS K0070:1002(化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価及び不けん化物の試験方法)」に従って、水酸基価を測定し、水酸基当量に換算した。
<Measurement of hydroxyl group equivalent of novolac-type phenolic resin>
The hydroxyl value was measured in accordance with “JIS K0070: 1002 (Test method for acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value and unsaponified product of chemical product)” and converted into a hydroxyl equivalent.

<ボイド評価>
表2に示す配合で、攪拌、混合された組成物を、フッ素コーティングされた容器(直径×高さ=7cmφ×5mm)に注ぎ、100℃で1時間加熱した。得られた半硬化サンプルを拡大鏡の下で、ボイドの有無を目視確認し、ボイドが確認されなかった場合、ボイド評価は良好と判断した。
<Void evaluation>
The composition stirred and mixed with the formulation shown in Table 2 was poured into a fluorine-coated container (diameter × height = 7 cmφ × 5 mm) and heated at 100 ° C. for 1 hour. The obtained semi-cured sample was visually checked for the presence or absence of voids under a magnifying glass. When no voids were confirmed, the void evaluation was judged to be good.

<耐熱性評価>
各実施例、各比較例の両面銅張積層板をそれぞれ10枚用い、オートクレーブにて、121℃で2時間加熱した後に、288℃に設定したハンダ浴に20秒含浸させて、板の膨れをみた。10枚の内、6〜8枚に膨れが生じなかった場合、耐熱性が良好と判断し、9枚以上膨れを生じなかった場合、耐熱性が特に良好と判断した。
<Heat resistance evaluation>
10 double-sided copper clad laminates of each example and each comparative example were used, heated in an autoclave at 121 ° C. for 2 hours, and then impregnated in a solder bath set at 288 ° C. for 20 seconds to swell the plate. saw. It was judged that heat resistance was good when 6-8 sheets out of 10 sheets did not swell, and heat resistance was judged particularly good when 9 sheets or more did not swell.

<難燃性評価>
各実施例、各比較例の両面銅張積層板の両面をエッチングして難燃性測定用の試料を作製し、得られた試料を用いて、UL94規格(Test for Flammability of Plastic Materials for Parts in Devices and Appliances、UL94、Fifth Edition)に基づき、垂直法により評価し、V−0である場合、難燃性が良好と判断した。
<Flame retardance evaluation>
Samples for flame retardancy measurement were prepared by etching both surfaces of the double-sided copper-clad laminates of each example and each comparative example, and using the obtained samples, the UL94 standard (Test for Flammability of Plastic Materials for Parts in Based on Devices and Applications, UL94, Fifth Edition), it was evaluated by the vertical method. When V-0, it was judged that the flame retardancy was good.

<クラック耐性>
各実施例、各比較例の両面銅張積層板を、長さ50mm、幅25mmに切断することで試験片を作製した。この試験片を10個用いて、気相冷熱衝撃試験(−40℃と120℃で各10分間処理することを1サイクルとし、合計1000サイクル)を行い、クラックの有無を目視で評価し、6〜8試験片にクラックが生じなかった場合、クラック耐性が良好と判断し、9試験片以上クラックが生じなかった場合、クラック耐性が特に良好と判断した。
<Crack resistance>
The test piece was produced by cut | disconnecting the double-sided copper clad laminated board of each Example and each comparative example to length 50mm and width 25mm. Using 10 of these test pieces, a vapor-phase thermal shock test (treatment at −40 ° C. and 120 ° C. for 10 minutes each is regarded as one cycle, 1000 cycles in total) was evaluated visually for the presence or absence of cracks. When cracks did not occur in the -8 test pieces, it was judged that the crack resistance was good, and when no cracks were produced more than 9 test pieces, the crack resistance was judged to be particularly good.

実施例及び比較例の樹脂組成物について、ボイドの発生がなく、耐熱性、難燃性、クラック耐性が良好、又は特に良好である場合、総合判定として合格「○」と判断した。そのなかでボイド、耐熱性、難燃性、クラック耐性のうち2項目以上が特に良好である場合を、総合判定として「◎」と判断した。   About the resin composition of an Example and a comparative example, when there was no generation | occurrence | production of a void and heat resistance, a flame retardance, and crack resistance were favorable or it was especially favorable, it was judged as a pass "(circle)" as comprehensive determination. Among them, a case where two or more items among voids, heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were particularly good was judged as “◎” as a comprehensive judgment.

実施例及び比較例で使用した原材料について、以下の(1)〜(10)に示す。
(1)エポキシ樹脂A:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(以下、「Bis−Aエポキシ樹脂」という)
・商品名:旭化成エポキシ社製、「AER2600」
また、上述の方法で測定した、エポキシ当量(WPE)及び粘度は、以下の通りであった。
・エポキシ当量(WPE):187g/eq
・粘度(25℃):14.3Pa・s
About the raw material used by the Example and the comparative example, it shows to the following (1)-(10).
(1) Epoxy resin A: bisphenol A type epoxy resin (hereinafter referred to as “Bis-A epoxy resin”)
・ Product name: “AER2600”, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Corporation
Moreover, the epoxy equivalent (WPE) and viscosity measured by the above-mentioned method were as follows.
Epoxy equivalent (WPE): 187 g / eq
Viscosity (25 ° C.): 14.3 Pa · s

(2)アルコキシシラン化合物H:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(以下、「GPTMS」という)
・商品名:信越化学工業社製、「KBM−403」
(3)アルコキシシラン化合物I:フェニルトリメトキシシラン(以下、「PTMS」という)
・商品名:信越化学工業社製、「KBM−103」
(4)アルコキシシラン化合物J:ジメチルジメトキシシラン(以下、「DMDMS」という)
・商品名:信越化学工業社製、「KBM−22」
(5)アルコキシシラン化合物K:テトラエトキシシラン(以下、「TES」という)
・商品名:信越化学工業社製、「KBE−04」
(6)アルコキシシラン化合物L:ポリメトキシシロキサン(以下、「P−MS」という)
・商品名:扶桑化学工業社製、「メチルシリケート51」
(2) Alkoxysilane compound H: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “GPTMS”)
・ Product name: “KBM-403”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
(3) Alkoxysilane Compound I: Phenyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “PTMS”)
・ Product name: “KBM-103” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
(4) Alkoxysilane compound J: Dimethyldimethoxysilane (hereinafter referred to as “DMDMS”)
・ Product name: “KBM-22” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
(5) Alkoxysilane compound K: tetraethoxysilane (hereinafter referred to as “TES”)
・ Product name: “KBE-04”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
(6) Alkoxysilane compound L: polymethoxysiloxane (hereinafter referred to as “P-MS”)
・ Product name: “Methyl silicate 51” manufactured by Fuso Chemical Industry Co., Ltd.

(7)溶剤
(7−1)テトラヒドロフラン(和光純薬工業社製、安定剤不含タイプ、以下、「THF」という)
(7−2)2−ブタノン(和光純薬工業社製、以下、「MEK」という)
(7) Solvent (7-1) Tetrahydrofuran (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., stabilizer-free type, hereinafter referred to as “THF”)
(7-2) 2-butanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., hereinafter referred to as “MEK”)

(8)加水分解縮合触媒:ジブチル錫ジラウレート(和光純薬工業社製、以下、「DBTDL」という)
(9)硬化剤
(9−1)硬化剤A:ノボラック型フェノール樹脂(DIC社製、商品名「PHENOLITE」;水酸基当量104g/eq、軟化点100℃)(以下、「NP樹脂」という)、
(9−2)硬化剤B:1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(サンアプロ社製、商品名「DBU」)(以下、「DBU」という)、
(10)基材:ガラスクロス(旭シェーベル社製、商品名「2116」)
(8) Hydrolysis condensation catalyst: dibutyltin dilaurate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., hereinafter referred to as “DBTDL”)
(9) Curing agent (9-1) Curing agent A: Novolac type phenolic resin (manufactured by DIC, trade name “PHENOLITE”; hydroxyl group equivalent 104 g / eq, softening point 100 ° C.) (hereinafter referred to as “NP resin”),
(9-2) Curing agent B: 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (manufactured by Sun Apro, trade name “DBU”) (hereinafter referred to as “DBU”),
(10) Substrate: Glass cloth (Asahi Shovel Co., Ltd., trade name “2116”)

(合成例1)
樹脂組成物A:樹脂組成物Aを以下の手順で製造し、評価した。
(1)準備:循環恒温水槽を5℃にセットし、冷却管に還流させた。更に、マグネチックスターラーの上に、80℃のオイルバスを載せた。
(2)表1の組成比率に従って、25℃の雰囲気下で、エポキシ樹脂、アルコキシシラン化合物及びTHFを、攪拌子を投入したフラスコに入れて混合攪拌後、更に、水と加水分解縮合触媒を添加して、混合攪拌した。
(3)続いて、フラスコに冷却管をセットし、速やかに、80℃のオイルバスに浸して攪拌を開始し、リフラックスさせながら10時間反応させた。
(4)反応終了後、25℃まで冷却後、フラスコから冷却管を外し、還流工程終了後サンプル溶液を採取した。
(5)還流工程終了後の溶液を、エバポレーターを使用して、400Pa、50℃で1時間留去した後、更に、80℃で5時間留去しながら、脱水縮合反応を行った。
(6)反応終了後、25℃まで冷却し、樹脂組成物Aを得た。
(7)この樹脂組成物における、混合指標α〜εを、表3に示した。
(8)更に、上述の方法に従って、上記(6)で得た樹脂組成物Aの、エポキシ当量(WPE)を測定した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=275g/eqであり、適正な値を示した。粘度は80.1Pa・sと流動性のある液体であった。
(Synthesis Example 1)
Resin composition A: Resin composition A was produced and evaluated by the following procedure.
(1) Preparation: A circulating water bath was set at 5 ° C. and refluxed to the cooling pipe. Further, an oil bath at 80 ° C. was placed on the magnetic stirrer.
(2) According to the composition ratio in Table 1, in an atmosphere of 25 ° C., the epoxy resin, alkoxysilane compound and THF are placed in a flask containing a stirrer, mixed and stirred, and then water and a hydrolysis condensation catalyst are added. The mixture was stirred.
(3) Subsequently, a cooling tube was set in the flask, and the flask was immediately immersed in an oil bath at 80 ° C. to start stirring, and reacted for 10 hours while refluxing.
(4) After completion of the reaction, after cooling to 25 ° C., the cooling tube was removed from the flask, and a sample solution was collected after completion of the refluxing process.
(5) The solution after completion of the refluxing process was distilled off at 400 Pa and 50 ° C. for 1 hour using an evaporator, and then further dehydrated and condensed while being distilled off at 80 ° C. for 5 hours.
(6) After completion of the reaction, the mixture was cooled to 25 ° C. to obtain a resin composition A.
(7) Table 3 shows the mixing indices α to ε in this resin composition.
(8) Further, according to the above method, the epoxy equivalent (WPE) of the resin composition A obtained in the above (6) was measured. The resin composition had an epoxy equivalent (WPE) of 275 g / eq and showed an appropriate value. The viscosity was 80.1 Pa · s and a fluid liquid.

(合成例2)
樹脂組成物B:表1の組成比率に従って、合成例1と同様の方法で、樹脂組成物Bを合成し、評価した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=231g/eqであり、適正な値を示した。粘度は13.2Pa・sと流動性のある液体であった。
(Synthesis Example 2)
Resin composition B: According to the composition ratio in Table 1, resin composition B was synthesized and evaluated in the same manner as in Synthesis Example 1. The resin composition was epoxy equivalent (WPE) = 231 g / eq, and showed an appropriate value. The viscosity was 13.2 Pa · s and a fluid liquid.

(合成例3)
樹脂組成物C:表1の組成比率に従って、合成例1と同様の方法で、樹脂組成物Cを合成し、評価した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=210g/eqであり、適正な値を示した。粘度は15.3Pa・sと流動性のある液体であった。
(Synthesis Example 3)
Resin composition C: Resin composition C was synthesized and evaluated in the same manner as in Synthesis Example 1 in accordance with the composition ratio in Table 1. The resin composition was epoxy equivalent (WPE) = 210 g / eq, and showed an appropriate value. The viscosity was 15.3 Pa · s and a fluid liquid.

(合成例4)
樹脂組成物D:表1の組成比率に従って、合成例1と同様の方法で、樹脂組成物Dを合成し、評価した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=204g/eqであり、適正な値を示した。粘度は9.8Pa・sであり、流動性のある液体であった。
(Synthesis Example 4)
Resin composition D: Resin composition D was synthesized and evaluated in the same manner as in Synthesis Example 1 according to the composition ratio in Table 1. The resin composition had an epoxy equivalent (WPE) = 204 g / eq and showed an appropriate value. The viscosity was 9.8 Pa · s, and it was a fluid liquid.

(合成例5)
樹脂組成物E:表1の組成比率に従って、合成例1と同様の方法で、樹脂組成物Eを合成し、評価した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=191g/eqであり、適正な値を示した。粘度は10.1Pa・sであり、流動性のある液体であった。
(Synthesis Example 5)
Resin composition E: Resin composition E was synthesized and evaluated in the same manner as in Synthesis Example 1 according to the composition ratio in Table 1. The resin composition was epoxy equivalent (WPE) = 191 g / eq, and showed an appropriate value. The viscosity was 10.1 Pa · s, and it was a fluid liquid.

(合成例6)
樹脂組成物F:表1の組成比率に従って、合成例1と同様の方法で、樹脂組成物Fを合成し、評価した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=311g/eqであり、適正な値を示した。粘度は200Pa・sであり、流動性のある液体であった。
(Synthesis Example 6)
Resin composition F: Resin composition F was synthesized and evaluated in the same manner as in Synthesis Example 1 according to the composition ratios in Table 1. The resin composition had an epoxy equivalent (WPE) = 311 g / eq and showed an appropriate value. The viscosity was 200 Pa · s, and it was a fluid liquid.

(合成例7)
樹脂組成物G:表1の組成比率に従って、合成例1と同様の方法で、樹脂組成物Gを合成し、評価した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=361g/eqであり、適正な値を示した。粘度は380Pa・sであり、流動性のある液体であった。
(Synthesis Example 7)
Resin composition G: Resin composition G was synthesized and evaluated in the same manner as in Synthesis Example 1 in accordance with the composition ratio in Table 1. The resin composition had an epoxy equivalent (WPE) = 361 g / eq, and showed an appropriate value. The viscosity was 380 Pa · s, and it was a fluid liquid.

(合成例8)
樹脂組成物H:表1の組成比率に従って、合成例1と同様の方法で、樹脂組成物Gを合成し、評価した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=221g/eqであり、適正な値を示した。粘度は99.3Pa・sであり、流動性のある液体であった。
(Synthesis Example 8)
Resin composition H: Resin composition G was synthesized and evaluated in the same manner as in Synthesis Example 1 according to the composition ratio in Table 1. The resin composition was epoxy equivalent (WPE) = 221 g / eq, and showed an appropriate value. The viscosity was 99.3 Pa · s, and it was a fluid liquid.

(比較合成例1)
樹脂組成物I:表1の組成比率に従って、合成例1と同様の方法で、樹脂組成物Hを合成し、評価した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=183g/eqであり、適正な値を示した。粘度は9.2Pa・sであり、流動性のある液体であった。
(Comparative Synthesis Example 1)
Resin composition I: According to the composition ratio in Table 1, resin composition H was synthesized and evaluated in the same manner as in Synthesis Example 1. The resin composition had an epoxy equivalent (WPE) of 183 g / eq and showed an appropriate value. The viscosity was 9.2 Pa · s, and it was a fluid liquid.

(比較合成例2)
樹脂組成物J:表1の組成比率に従って、合成例1と同様の方法で、樹脂組成物Iを合成し、評価した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=389g/eqであり、適正な値を示した。粘度は1000Pa・s以上と計測上限を超えており、流動性のないものであった。
(Comparative Synthesis Example 2)
Resin composition J: Resin composition I was synthesized and evaluated in the same manner as in Synthesis Example 1 in accordance with the composition ratio in Table 1. The resin composition was epoxy equivalent (WPE) = 389 g / eq, and showed an appropriate value. The viscosity was 1000 Pa · s or more, exceeding the upper limit of measurement, and was not fluid.

(比較合成例3)
樹脂組成物K:表1の組成比率に従って、反応容器に添加し、85℃のオイルバスに浸して攪拌・溶解した。更に、窒素パージを行いながら、オイルバスの温度を105℃に上げて8時間、脱アルコール反応を行った。次に、60℃まで冷却の後、12000Paに減圧し、溶存アルコールを除去し、樹脂組成物Hを合成し、評価した。樹脂組成物は、エポキシ当量(WPE)=250g/eqであり、適正な値を示した。粘度は3.2Pa・sであり、流動性のある液体であった。
(Comparative Synthesis Example 3)
Resin composition K: According to the composition ratio in Table 1, it was added to the reaction vessel, immersed in an oil bath at 85 ° C., and stirred and dissolved. Further, while purging with nitrogen, the temperature of the oil bath was raised to 105 ° C., and the dealcoholization reaction was performed for 8 hours. Next, after cooling to 60 ° C., the pressure was reduced to 12000 Pa, the dissolved alcohol was removed, and the resin composition H was synthesized and evaluated. The resin composition was epoxy equivalent (WPE) = 250 g / eq, and showed an appropriate value. The viscosity was 3.2 Pa · s, and it was a fluid liquid.

(実施例1)
合成例1の樹脂組成物Aを使用し、表2の組成に従って原料を配合し、攪拌、混合された組成物を、フッ素コーティングされた容器(直径×高さ=7cmφ×5mm)に注ぎ、100℃で1時間加熱した。得られた半硬化サンプルを拡大鏡の下で、ボイドの有無を目視確認したところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
合成例1の樹脂組成物Aを使用し、表2の組成に従って原料を配合し、さらに有機溶剤としてMEKを固形分が50%となるように配合することで、樹脂ワニスAを調整した。
上記樹脂ワニスAを樹脂分約40%になるようガラスクロスに含浸させた後、120℃で30分間、乾燥させて、プリプレグAを作製した。プリプレグAを4枚重ね、その上下に厚み35μmの銅箔を重ね合わせたものを温度180℃、3MPa、150分間加熱、加圧して両面銅張り積層板Aを作製した。
Example 1
Using the resin composition A of Synthesis Example 1, the raw materials were blended according to the composition shown in Table 2, and the stirred and mixed composition was poured into a fluorine-coated container (diameter × height = 7 cmφ × 5 mm), 100 Heated at 0 ° C. for 1 hour. When the obtained semi-cured sample was visually checked for the presence or absence of voids under a magnifying glass, voids were not generated and the void evaluation was judged to be good.
Resin varnish A was prepared by using the resin composition A of Synthesis Example 1, blending raw materials according to the composition of Table 2, and blending MEK as an organic solvent so that the solid content was 50%.
A glass cloth was impregnated with the resin varnish A so as to have a resin content of about 40%, and then dried at 120 ° C. for 30 minutes to prepare prepreg A. Four prepregs A were stacked, and a copper foil having a thickness of 35 μm was stacked on the top and bottom, and heated and pressed at a temperature of 180 ° C. and 3 MPa for 150 minutes to prepare a double-sided copper-clad laminate A.

積層板Aを10枚用い、オートクレーブにて、121℃で2時間加熱した後に、288℃に設定したハンダ浴に20秒含浸させたところ、10枚/10枚で膨れを生じなかったことから、耐熱性が特に良好と判断した。積層板Aの両面をエッチングして難燃性測定用の試料を作製し、得られた試料を用いて、UL94規格(Test for Flammability of Plastic Materials for Parts in Devices and Appliances、UL94、Fifth Edition)に基づき、垂直法により評価したところ、V−0であることから、難燃性が良好と判断した。
積層板Aを長さ50mm、幅25mmに切断することで試験片を作製し、この試験片を10個用いて、気相冷熱衝撃試験(−40℃と120℃で30分間処理することを1サイクルとし、合計500サイクル)を行い、クラックの有無を目視で評価し、9個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性が特に良好と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Aを用いることで、ボイドの発生がなく、耐熱性、難燃性、クラック耐性が特に良好、又は良好であることから、総合判定として合格であると判断した。
Since 10 laminates A were used and heated in an autoclave at 121 ° C. for 2 hours and then impregnated in a solder bath set at 288 ° C. for 20 seconds, no swelling occurred at 10/10 sheets. The heat resistance was judged to be particularly good. A sample for flame retardancy measurement is prepared by etching both surfaces of the laminate A, and the obtained sample is used to test the UL 94 standard (Test for Flammability of Plastics for Devices in Devices and Applications, UL94, Fifth E). Based on the evaluation by the vertical method, it was determined that the flame retardancy was good because it was V-0.
A test piece is prepared by cutting the laminate A into a length of 50 mm and a width of 25 mm, and 10 test pieces are used to perform a gas-phase thermal shock test (treatment at −40 ° C. and 120 ° C. for 30 minutes is 1 The total number of cycles was 500), and the presence or absence of cracks was visually evaluated. Since no cracks were generated at 9/10 pieces, it was judged that the crack resistance was particularly good.
From the above results, it was determined that the resin composition A was acceptable as a comprehensive judgment because no void was generated and the heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were particularly good or good.

(実施例2)
合成例2の樹脂組成物Bを使用し、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。評価結果、及び混合指標α〜εを表3に示す。合成例2の樹脂組成物Bを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。合成例2の樹脂組成物Bを使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Bを作製した。
積層板Bを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、10枚/10枚で膨れを生じなかったことから、耐熱性が特に良好と判断した。
積層板Bを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0であることから、難燃性が良好と判断した。
積層板Bを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、9個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性が特に良好と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Bを用いることで、ボイドの発生がなく、耐熱性、難燃性、クラック耐性が特に良好、又は良好であることから、総合判定として合格であると判断した。
(Example 2)
Using the resin composition B of Synthesis Example 2, it was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the evaluation results and mixing indexes α to ε. Except that the resin composition B of Synthesis Example 2 was used, voids were evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, voids were not generated and the void evaluation was judged to be good. A laminate B was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition B of Synthesis Example 2 was used.
When heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate B, it was judged that the heat resistance was particularly good because no swelling occurred at 10/10 sheets.
When the flame retardance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate B, it was determined that the flame retardancy was good because it was V-0.
When the crack resistance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate B, no cracks were generated at 9/10 pieces, so that the crack resistance was judged to be particularly good.
From the above results, it was determined that the resin composition B was acceptable as a comprehensive judgment because no void was generated and the heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were particularly good or good.

(実施例3)
合成例3の樹脂組成物Cを使用し、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。評価結果、及び混合指標α〜εを表3に示す。
合成例3の樹脂組成物Cを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
合成例3の樹脂組成物Cを使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Cを作製した。
上記積層板Cを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、10枚/10枚で膨れを生じなかったことから、耐熱性が良好と判断した。
積層板Cを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0であることから、難燃性が良好と判断した。
積層板Cを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、9個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性が良好と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Cを用いることで、ボイドの発生がなく、耐熱性、難燃性、クラック耐性が特に良好、又は良好であることから、総合判定として合格であると判断した。
(Example 3)
Using the resin composition C of Synthesis Example 3, it was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the evaluation results and mixing indexes α to ε.
Except that the resin composition C of Synthesis Example 3 was used, voids were evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, voids were not generated and the void evaluation was judged to be good.
A laminate C was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition C of Synthesis Example 3 was used.
When the heat resistance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate C, it was judged that the heat resistance was good because 10/10 sheets were not swollen.
When the flame retardance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate C, it was determined that the flame retardancy was good because it was V-0.
When the crack resistance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate C, no cracks were generated at 9/10 pieces, so it was judged that the crack resistance was good.
From the above results, it was determined that the resin composition C was acceptable as a comprehensive judgment because no void was generated and the heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were particularly good or good.

(実施例4)
合成例4の樹脂組成物Dを使用し、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。評価結果、及び混合指標α〜εを表3に示す。合成例4の樹脂組成物Dを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
合成例4の樹脂組成物Dを使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Dを作製した。
積層板Dを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、8枚/10枚で膨れを生じなかったことから、耐熱性が良好と判断した。
積層板Dを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0であることから、難燃性が良好と判断した。
積層板Dを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、9個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性が特に良好と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Dを用いることで、ボイドの発生がなく、耐熱性、難燃性、クラック耐性が特に良好、又は良好であることから、総合判定として合格であると判断した。
Example 4
Using the resin composition D of Synthesis Example 4, it was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the evaluation results and mixing indexes α to ε. Except that the resin composition D of Synthesis Example 4 was used, voids were evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, voids were not generated and the void evaluation was judged to be good.
A laminate D was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition D of Synthesis Example 4 was used.
When heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate D, it was judged that heat resistance was good because no swelling occurred at 8/10 sheets.
When the flame retardance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate D, it was determined that the flame retardancy was good because it was V-0.
When the crack resistance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate D, no cracks were generated at 9/10 pieces, so it was judged that the crack resistance was particularly good.
From the above results, it was determined that the resin composition D was acceptable as a comprehensive judgment because no void was generated and the heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were particularly good or good.

(実施例5)
合成例5の樹脂組成物Eを使用し、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。評価結果、及び混合指標α〜εを表3に示す。
合成例5の樹脂組成物Eを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
合成例5の樹脂組成物Eを使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Eを作製した。
積層板Eを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、6枚/10枚で膨れを生じなかったことから、耐熱性が良好と判断した。
積層板Eを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0であることから、難燃性が良好と判断した。
積層板Eを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、10個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性が特に良好と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Eを用いることで、ボイドの発生がなく、耐熱性、難燃性、クラック耐性が特に良好、又は良好であることから、総合判定として合格であると判断した。
(Example 5)
Using the resin composition E of Synthesis Example 5, it was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the evaluation results and mixing indexes α to ε.
Except that the resin composition E of Synthesis Example 5 was used, voids were evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, voids were not generated and the void evaluation was judged to be good.
A laminate E was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition E of Synthesis Example 5 was used.
When heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate E, it was judged that heat resistance was good because 6/10 sheets were not swollen.
When the flame retardance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate E, it was determined that the flame retardancy was good because it was V-0.
When the crack resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate E, no cracks were generated at 10/10 pieces, so that the crack resistance was judged to be particularly good.
From the above results, by using the resin composition E, no void was generated, and the heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were particularly good or good, so that it was judged as acceptable as a comprehensive judgment.

(実施例6)
合成例6の樹脂組成物Fを使用し、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。評価結果、及び混合指標α〜εを表3に示す。
合成例6の樹脂組成物Fを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
合成例6の樹脂組成物Fを使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Fを作製した。
積層板Fを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、7枚/10枚で膨れを生じなかったことから、耐熱性が良好と判断した。
積層板Fを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0であることから、難燃性が良好と判断した。
積層板Fを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、8個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性が良好と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Fを用いることで、ボイドの発生がなく、耐熱性、難燃性、クラック耐性が全て良好であることから、総合判定として合格であると判断した。
(Example 6)
Using the resin composition F of Synthesis Example 6, it was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the evaluation results and mixing indexes α to ε.
Except that the resin composition F of Synthesis Example 6 was used, voids were evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, voids were not generated and the void evaluation was judged to be good.
A laminate F was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition F of Synthesis Example 6 was used.
When heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate F, no swelling occurred at 7/10 sheets, and it was judged that heat resistance was good.
When the flame retardance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate F, it was determined that the flame retardancy was good because it was V-0.
When the crack resistance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate F, no cracks were generated at 8/10 pieces, so it was judged that the crack resistance was good.
From the above results, it was determined that the resin composition F was acceptable as a comprehensive judgment because no void was generated and the heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were all good.

(実施例7)
合成例7の樹脂組成物Gを使用し、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。評価結果、及び混合指標α〜εを表3に示す。
合成例7の樹脂組成物Gを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
合成例7の樹脂組成物Gを使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Gを作製した。
積層板Gを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、7枚/10枚で膨れを生じなかったことから、耐熱性が良好と判断した。
積層板Gを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0であることから、難燃性が良好と判断した。
積層板Gを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、6個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性が良好と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Gを用いることで、ボイドの発生がなく、耐熱性、難燃性、クラック耐性が全て良好であることから、総合判定として合格であると判断した。
(Example 7)
Using the resin composition G of Synthesis Example 7, it was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the evaluation results and mixing indexes α to ε.
Except that the resin composition G of Synthesis Example 7 was used, voids were evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, voids were not generated and the void evaluation was judged to be good.
A laminate G was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition G of Synthesis Example 7 was used.
When heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate G, it was judged that heat resistance was good because 7/10 sheets were not swollen.
When the flame retardance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate G, it was determined that the flame retardancy was good because it was V-0.
When the crack resistance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate G, no cracks were generated at 6/10 pieces, so it was judged that the crack resistance was good.
From the above results, by using the resin composition G, no void was generated, and heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were all good.

(実施例8)
合成例8の樹脂組成物Hを使用し、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。評価結果、及び混合指標α〜εを表3に示す。
合成例8の樹脂組成物Hを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
合成例8の樹脂組成物Hを使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Hを作製した。
上記積層板Hを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、10枚/10枚で膨れを生じなかったことから、耐熱性が良好と判断した。
積層板Hを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0であることから、難燃性が良好と判断した。
積層板Hを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、9個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性が良好と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Hを用いることで、ボイドの発生がなく、耐熱性、難燃性、クラック耐性が特に良好、又は良好であることから、総合判定として合格であると判断した。
(Example 8)
Using the resin composition H of Synthesis Example 8, it was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the evaluation results and mixing indexes α to ε.
Except that the resin composition H of Synthesis Example 8 was used, voids were evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, voids were not generated and the void evaluation was judged to be good.
A laminate H was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition H of Synthesis Example 8 was used.
When the heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate H, it was judged that the heat resistance was good because 10/10 sheets were not swollen.
When the flame retardance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate H, it was determined that the flame retardancy was good because it was V-0.
When the crack resistance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate H, no cracks were generated at 9/10 pieces, so it was judged that the crack resistance was good.
From the above results, it was determined that the resin composition H was acceptable as a comprehensive judgment because no void was generated and the heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were particularly good or good.

(比較例1)
比較合成例1の樹脂組成物Iを使用し、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。評価結果、及び混合指標α〜εを表3に示す。
比較合成例1の樹脂組成物Iを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
比較合成例1の樹脂組成物Iを使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Iを作製した。
積層板Iを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、5枚/10枚で膨れを生じており、耐熱性は不良と判断した。
積層板Iを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0でないことから、難燃性は不良と判断した。
積層板Iを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、10個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性が特に良好と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Iを用いることで、ボイドの発生はなく、クラック耐性が特に良好であるものの、耐熱性、難燃性が不良であることから、総合判定として不合格であると判断した。
(Comparative Example 1)
Using the resin composition I of Comparative Synthesis Example 1, it was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the evaluation results and mixing indexes α to ε.
Except that the resin composition I of Comparative Synthesis Example 1 was used, voids were evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, voids were not generated and the void evaluation was judged to be good.
A laminate I was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin composition I of Comparative Synthesis Example 1 was used.
When the heat resistance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate I, swelling was generated at 5/10 sheets, and the heat resistance was judged to be poor.
When the flame retardance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate I, the flame retardancy was judged to be poor because it was not V-0.
When the crack resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate I, no cracks were generated at 10/10 pieces, and therefore the crack resistance was judged to be particularly good.
From the above results, by using the resin composition I, there is no generation of voids, and crack resistance is particularly good, but heat resistance and flame retardancy are poor, so that it is rejected as a comprehensive judgment. It was judged.

(比較例2)
比較合成例2の樹脂組成物Jを使用し、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。評価結果、及び混合指標α〜εを表3に示す。
上記比較合成例2の樹脂組成物Jを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
比較合成例2の樹脂組成物Jを使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Jを作製した。
積層板Jを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、4枚/10枚で膨れを生じており、耐熱性は不良と判断した。
積層板Jを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0であることから、難燃性が良好と判断した。
積層板Jを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、2個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性は不良と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Iを用いることで、ボイドの発生はなく、難燃性が良好であるものの、耐熱性、クラック耐性が不良であることから、総合判定として不合格であると判断した。
(Comparative Example 2)
Using the resin composition J of Comparative Synthesis Example 2, it was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the evaluation results and mixing indexes α to ε.
Voids were evaluated in the same manner as in Example 1 except that the resin composition J of Comparative Synthesis Example 2 was used. As a result, no voids were generated, and it was determined that the void evaluation was good.
A laminate J was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition J of Comparative Synthesis Example 2 was used.
When the heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate J, swelling was caused at 4/10 sheets, and the heat resistance was judged to be poor.
When the flame retardance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate J, it was determined that the flame retardancy was good because it was V-0.
When the crack resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate J, no cracks were generated at 2/10 pieces, so the crack resistance was judged to be poor.
From the above results, by using the resin composition I, there is no generation of voids and the flame retardancy is good, but the heat resistance and crack resistance are poor. did.

(比較例3)
比較合成例3の樹脂組成物Kを使用し、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。
比較合成例3の樹脂組成物Kを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
比較合成例3の樹脂組成物Kを使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Kを作製した。
積層板Kを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、4枚/10枚で膨れを生じており、耐熱性は不良と判断した。
積層板Kを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0でないことから、難燃性は不良と判断した。
積層板Kを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、0個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性は不良と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Kを用いることで、ボイドの発生はないものの、耐熱性、難燃性、クラック耐性が不良であることから、総合判定として不合格であると判断した。
(Comparative Example 3)
Using the resin composition K of Comparative Synthesis Example 3, it was produced and evaluated in the same manner as in Example 1.
Voids were evaluated in the same manner as in Example 1 except that the resin composition K of Comparative Synthesis Example 3 was used. As a result, no voids were generated, and the void evaluation was judged to be good.
A laminate K was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition K of Comparative Synthesis Example 3 was used.
When the heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate plate K, swelling occurred at 4/10 sheets, and the heat resistance was judged to be poor.
When the flame retardance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate K, the flame retardancy was judged to be poor because it was not V-0.
When the crack resistance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate K, no cracks were generated at 0/10 pieces, so the crack resistance was judged to be poor.
From the above results, it was determined that the resin composition K was rejected as a comprehensive judgment because no void was generated but the heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were poor.

(比較例4)
表2の組成に従って、樹脂組成物Aの代わりに、Bis−Aエポキシ樹脂、GPTMS、PTMSを使用して、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。結果を表3に示す。
樹脂組成物Aの代わりに、Bis−Aエポキシ樹脂、GPTMS、PTMSを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドが確認され、ボイド評価は不良と判断した。
また、ボイドが発生したことから、耐熱性、難燃性、クラック耐性を評価するための積層板を製造することが困難であった。
(Comparative Example 4)
According to the composition of Table 2, it manufactured and evaluated by the method similar to Example 1 using Bis-A epoxy resin, GPTMS, and PTMS instead of the resin composition A. The results are shown in Table 3.
Voids were evaluated in the same manner as in Example 1 except that Bis-A epoxy resin, GPTMS, and PTMS were used in place of the resin composition A. As a result, voids were confirmed and the void evaluation was judged to be poor. did.
Moreover, since the void generate | occur | produced, it was difficult to manufacture the laminated board for evaluating heat resistance, a flame retardance, and crack tolerance.

(比較例5)
表2の組成に従って、樹脂組成物Aの代わりに、Bis−Aエポキシ樹脂を使用して、実施例1と同様の方法で製造し、評価した。結果を表3に示す。
樹脂組成物Aの代わりに、Bis−Aエポキシ樹脂を使用した以外は、実施例1と同様の方法で、ボイドの評価をしたところ、ボイドの発生はなく、ボイド評価は良好と判断した。
樹脂組成物Aの代わりに、Bis−Aエポキシ樹脂を使用した以外は、実施例1と同様の方法で積層板Lを作製した。
積層板Lを用い、実施例1と同様の方法で耐熱性を評価したところ、1枚/10枚で膨れを生じており、耐熱性は不良と判断した。
積層板Lを用い、実施例1と同様の方法で難燃性を評価したところ、V−0でないことから、難燃性は不良と判断した。
積層板Lを用い、実施例1と同様の方法でクラック耐性を評価したところ、10個/10個でクラックが生じなかったことから、クラック耐性が特に良好と判断した。
上記の結果から、樹脂組成物Aの代わりに、Bis−Aエポキシ樹脂を用いることで、ボイドの発生はなく、クラック耐性は特に良好であるものの、耐熱性、難燃性が不良であることから、総合判定として不合格であると判断した。
(Comparative Example 5)
According to the composition of Table 2, it manufactured and evaluated by the method similar to Example 1 using the Bis-A epoxy resin instead of the resin composition A. The results are shown in Table 3.
A void was evaluated in the same manner as in Example 1 except that a Bis-A epoxy resin was used instead of the resin composition A. As a result, no void was generated and the void evaluation was judged to be good.
A laminate L was produced in the same manner as in Example 1 except that a Bis-A epoxy resin was used instead of the resin composition A.
When the heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the laminate L, it was determined that the heat resistance was poor because 1/10 sheets were swollen.
When the flame retardance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate L, the flame retardancy was judged to be poor because it was not V-0.
When the crack resistance was evaluated by the same method as in Example 1 using the laminate L, no cracks were generated at 10/10 pieces, so that the crack resistance was judged to be particularly good.
From the above results, by using a Bis-A epoxy resin instead of the resin composition A, no voids are generated and crack resistance is particularly good, but heat resistance and flame retardancy are poor. , It was judged as unacceptable as a comprehensive judgment.

Figure 0005539706
Figure 0005539706

Figure 0005539706
Figure 0005539706

Figure 0005539706
Figure 0005539706

表1〜表3に示すように、各実施例では、硬化時のボイドが発生せず、耐熱性、難燃性、クラック耐性に優れており、高い信頼性を有することが確認された。一方、各比較例では、ボイド、耐熱性、難燃性、及びクラック耐性の少なくともいずれかが不合格であった。   As shown in Tables 1 to 3, in each Example, no void was generated during curing, and the heat resistance, flame retardancy, and crack resistance were excellent, and it was confirmed to have high reliability. On the other hand, in each comparative example, at least one of void, heat resistance, flame retardancy, and crack resistance was unacceptable.

本発明に係るプリプレグ、金属張箔張積層板、及びプリント配線板は、電気材料分野の基板材料等として好適に用いることができ、例えば、テレビ、デジタルカメラ、パーソナルコンピューター、プリンター、オーディオ機器、電子レンジ、冷蔵庫等の家電製品の基板材料や、観測機器、電磁波発生器、発振器、太陽電池等の基板材料としての産業上の利用可能性を有する。   The prepreg, the metal-clad foil-clad laminate, and the printed wiring board according to the present invention can be suitably used as a substrate material in the electric material field. For example, a television, a digital camera, a personal computer, a printer, an audio device, an electronic device It has industrial applicability as a substrate material for household appliances such as a range and a refrigerator, and a substrate material for observation equipment, electromagnetic wave generators, oscillators, solar cells, and the like.

Claims (8)

(A)エポキシ樹脂と、下記式(1)で表されるアルコキシシラン化合物と、を共加水分解縮合させて得られる樹脂組成物であって、
Figure 0005539706
(式中、nは0〜3の整数を表し、R1は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は有機基を表す。また、R2は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。)
前記アルコキシシラン化合物は、
(B)前記式(1)において、nは1〜2の整数であり、R1として、少なくとも1つの3員環のエーテル基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物と、
(C)前記式(1)において、nは1〜2の整数であり、R1として、少なくとも1つのアリール基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物と、
を含み、かつ、下記式(2)で表される(B)及び(C)の混合指標αが、0.001〜19である樹脂組成物と、
硬化剤と、
基材と、
を含有するプリプレグ;
混合指標α=(αc)/(αb) (2)
(式中、αb:(B)成分の含有量(mol%)、αc:(C)成分の含有量(mol%))。
(A) A resin composition obtained by cohydrolyzing and condensing an epoxy resin and an alkoxysilane compound represented by the following formula (1),
Figure 0005539706
(In the formula, n represents an integer of 0 to 3, R 1 may be the same or different and represents a hydrogen atom or an organic group. R 2 may be the same or different, and represents a hydrogen atom. Or represents a C1-C8 alkyl group.)
The alkoxysilane compound is
(B) In the formula (1), n is an integer of 1 to 2, and as R 1 , at least one alkoxysilane compound having at least one 3-membered ether group;
(C) In the formula (1), n is an integer of 1 to 2, and R 1 has at least one aryl group having at least one aryl group;
A blending index α of (B) and (C) represented by the following formula (2) is 0.001 to 19, and a resin composition:
A curing agent;
A substrate;
A prepreg containing
Mixing index α = (αc) / (αb) (2)
(Wherein, αb: content of component (B) (mol%), αc: content of component (C) (mol%)).
前記(A)エポキシ樹脂のエポキシ当量は、100〜600g/eqであり、かつ、前記(A)エポキシ樹脂の25℃における粘度は、1000Pa・s以下である、請求項1に記載のプリプレグ。   2. The prepreg according to claim 1, wherein the epoxy equivalent of the (A) epoxy resin is 100 to 600 g / eq, and the viscosity of the (A) epoxy resin at 25 ° C. is 1000 Pa · s or less. 前記(A)エポキシ樹脂は、ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂である、請求項1又は2に記載のプリプレグ。   The prepreg according to claim 1 or 2, wherein the (A) epoxy resin is a polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound. 前記アルコキシシラン化合物として、
(D)前記式(1)において、nが0である、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物を、更に含む請求項1〜3のいずれか一項に記載のプリプレグ。
As the alkoxysilane compound,
(D) The prepreg as described in any one of Claims 1-3 which further contains the at least 1 sort (s) of alkoxysilane compound whose n is 0 in the said Formula (1).
下記式(3)で表される前記アルコキシシラン化合物の混合指標β1が、0.01〜1.4である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプリプレグ;
混合指標β1={(βn2)/(βn0+βn1)} (3)
(式中、
βn2:前記式(1)において、nが2であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
βn0:前記式(1)において、nが0であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
βn1:前記式(1)において、nが1であるアルコキシシラン化合物の含有量(mol%)、
ここで、0≦{β2=(βn0)/(βn0+βn1+βn2)}≦0.1である)。
The prepreg according to any one of claims 1 to 4, wherein a mixing index β1 of the alkoxysilane compound represented by the following formula (3) is 0.01 to 1.4;
Mixing index β1 = {(β n2 ) / (β n0 + β n1 )} (3)
(Where
β n2 : the content (mol%) of the alkoxysilane compound in which n is 2 in the formula (1),
β n0 : the content (mol%) of the alkoxysilane compound in which n is 0 in the formula (1),
β n1 : the content (mol%) of the alkoxysilane compound in which n is 1 in the formula (1),
Here, 0 ≦ {β2 = (β n0 ) / (β n0 + β n1 + β n2 )} ≦ 0.1).
下記式(4)で表される、前記(A)エポキシ樹脂と前記アルコキシシラン化合物との混合指標γが、0.02〜15である、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプリプレグ;
混合指標γ=(γa)/(γs) (4)
(式中、
γa:エポキシ樹脂の質量(g)、
γs:前記式(1)において、nが0〜2の整数であるアルコキシシラン化合物の質量(g))
The prepreg according to any one of claims 1 to 5, wherein a mixing index γ of the (A) epoxy resin and the alkoxysilane compound represented by the following formula (4) is 0.02 to 15. ;
Mixing index γ = (γa) / (γs) (4)
(Where
γa: mass of epoxy resin (g),
γs: the mass (g) of the alkoxysilane compound in which n is an integer of 0 to 2 in the formula (1)
請求項1〜6のいずれか一項に記載のプリプレグと、
前記プレプリグに積層された金属箔と、
を少なくとも備える、金属箔張積層板。
The prepreg according to any one of claims 1 to 6,
A metal foil laminated on the prepreg;
A metal foil-clad laminate.
請求項7記載の金属箔張積層板の前記金属箔がエッチング処理された、プリント配線板。   A printed wiring board in which the metal foil of the metal foil-clad laminate according to claim 7 is etched.
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