JP5532577B2 - Color filter and liquid crystal display device - Google Patents
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Description
本発明は、フォトスペーサーが形成されたカラーフィルタに関するものであり、特に、フォトスペーサー形成後のカラーフィルタの処理工程にてフォトスペーサーが剥離することのないカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを用いたＯＣＢモードの液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a color filter in which a photospacer is formed, and in particular, a color filter in which the photospacer does not peel off in the color filter processing step after the formation of the photospacer, and an OCB using the color filter The present invention relates to a mode liquid crystal display device.
液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜、フォトスペーサー、配向制御用突起などを位置合わせして順次に形成するといった方法が広く用いられている。 As a method of manufacturing a color filter used in a liquid crystal display device, first, a black matrix is formed on a glass substrate, and then a colored pixel is aligned with the black matrix pattern on the glass substrate on which the black matrix is formed. In addition, a method in which a transparent conductive film, a photo spacer, an alignment control protrusion, and the like are aligned and sequentially formed is widely used.
ブラックマトリックスは遮光性を有し、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックスの形成は、例えば、黒色フォトレジストを用いたフォトリソグラフィ法によって形成するといった方法がとられている。 The black matrix has a light-shielding property, determines the position of the colored pixels of the color filter, makes the size uniform, and shields unwanted light when used in a display device. It has a function of making a uniform image with no unevenness and improved contrast. For example, the black matrix is formed by a photolithography method using a black photoresist.
また、着色画素は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜の形成は、着色画素及びブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
The colored pixels have, for example, red, green, and blue filter functions. For example, a negative photoresist made of a pigment such as a pigment dispersed on a glass substrate on which the black matrix is formed. A method is adopted in which a coating film is provided and colored pixels are formed by exposure and development on the coating film.
The transparent conductive film is formed on a glass substrate on which colored pixels and a black matrix are formed by, for example, forming a transparent conductive film by sputtering using ITO (Indium Tin Oxide).
また、フォトスペーサー、配向制御用突起などの形成は、上記ブラックマトリックス、或いは着色画素の形成と同様にフォトリソグラフィ法によって形成するといった方法がとられている。
液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、ノート型ＰＣ、液晶カラーＴＶなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
In addition, the photo spacer, the alignment control protrusion, and the like are formed by a photolithography method in the same manner as the black matrix or the colored pixel.
The liquid crystal display device incorporates such a color filter to realize full color display, and its application range has been dramatically expanded, creating many products using liquid crystal display devices such as notebook PCs and liquid crystal color TVs. It was done.
車載用の液晶表示装置としては、エンジンを始動した際に、直ちに表示が可能であることや、表示品位が保たれていることが必要である。従って、特に寒冷地での低温時における応答速度が求められており、その対応として液晶表示モードがＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置が提案されている。 An in-vehicle liquid crystal display device needs to be able to display immediately when the engine is started, and to maintain display quality. Accordingly, a response speed at a low temperature particularly in a cold region is required, and a liquid crystal display device in which the liquid crystal display mode is an OCB (Optically Compensated Bend) mode has been proposed.
このＯＣＢモードの液晶表示装置は、低温時でも応答速度が保たれている。液晶表示モードがＴＮモードの液晶表示装置においては、例えば、２０℃にて２０ｍｓ程度の応答速度が、−２０℃にては８００ｍｓ程度と、その応答速度は大幅に低速になる。
一方、ＯＣＢモードの液晶表示装置においては、例えば、２０℃にて４ｍｓ程度の応答速度が、−２０℃にては５０ｍｓ程度と、その応答速度は相応に保たれたものとなっている。
This OCB mode liquid crystal display device maintains its response speed even at low temperatures. In a liquid crystal display device in which the liquid crystal display mode is the TN mode, for example, a response speed of about 20 ms at 20 ° C. is about 800 ms at −20 ° C., and the response speed is significantly low.
On the other hand, in the OCB mode liquid crystal display device, for example, the response speed of about 4 ms at 20 ° C. is about 50 ms at −20 ° C., and the response speed is appropriately maintained.
図１は、フォトスペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタの一例を模式的に示
した断面図である。図１は、液晶表示モードがＯＣＢモードの液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの例である。図１に示すように、このカラーフィルタはガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、透明導電膜（４３）、フォトスペーサー（ＰＳ−１）が順次に形成されたものである。
フォトスペーサー（ＰＳ−１）は基板間のギャップを設定しており、パネルに荷重が加わると変形し、荷重が取り除かれると復元する弾性を有している。フォトスペーサー（ＰＳ−１）の高さ（膜厚）（Ｈ１）は６μｍ以上のものである。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a color filter for a liquid crystal display device provided with a photospacer. FIG. 1 shows an example of a color filter used in a liquid crystal display device whose liquid crystal display mode is OCB mode. As shown in FIG. 1, in this color filter, a black matrix (41), a colored pixel (42), a transparent conductive film (43), and a photo spacer (PS-1) are sequentially formed on a glass substrate (40). Is.
The photospacer (PS-1) sets a gap between the substrates, and has a resilience that deforms when a load is applied to the panel and restores when the load is removed. The height (film thickness) (H1) of the photospacer (PS-1) is 6 μm or more.
また、図２は、液晶表示モードがＴＮモードの液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例の断面図である。カラーフィルタのフォトスペーサー（ＰＳ−２）の高さ（膜厚）（Ｈ２）は４μｍ程度のものである（Ｈ１＞Ｈ２）。
このように、ＯＣＢモードは、低温時の応答速度が保たれていることに加え、基板間のギャップを６μｍ以上と広くとることが出来るので、例えば、カラーフィルタ上に異物があった場合に、異物を良品として許容する高さは、ＴＮモードのカラーフィルタに比較して緩和されるといった利点がある。
FIG. 2 is a cross-sectional view of an example of a color filter used in a liquid crystal display device whose liquid crystal display mode is a TN mode. The height (film thickness) (H2) of the photo spacer (PS-2) of the color filter is about 4 μm (H1> H2).
Thus, in the OCB mode, in addition to maintaining the response speed at a low temperature, the gap between the substrates can be as wide as 6 μm or more. For example, when there is a foreign matter on the color filter, There is an advantage that the height at which foreign matter is allowed as a non-defective product is relaxed as compared with a TN mode color filter.
しかしながら、フォトスペーサー（ＰＳ−１）の高さ（膜厚）（Ｈ１）が、ＴＮモードカラーフィルタのフォトスペーサー（ＰＳ−２）の高さ（膜厚）（Ｈ２）より高いために、フォトスペーサーを形成した後のカラーフィルタの処理工程、例えば、ＵＶ洗浄などでフォトスペーサーが剥離し易くなるといった問題がある。 However, since the height (film thickness) (H1) of the photo spacer (PS-1) is higher than the height (film thickness) (H2) of the photo spacer (PS-2) of the TN mode color filter, the photo spacer There is a problem that the photo spacer is easily peeled off in the process step of the color filter after forming the film, for example, UV cleaning.
このフォトスペーサーの剥離に対しては、例えば、フォトスペーサーの径を太くし、単位面積当たりの外力の影響を低減することが行われている。しかし、液晶表示装置の画素数が増加するに従い、ブラックマトリックスの幅は狭くなり、フォトスペーサーを設けるスペースが制約され、径を太くする手法には限界がある。
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、フォトスペーサーが形成されたカラーフィルタにおいて、その高さ（膜厚）が６μｍ以上のフォトスペーサーであっても、フォトスペーサー形成後のカラーフィルタの処理工程にてのフォトスペーサーの剥離を低減させたカラーフィルタを提供することを課題とするものである。
また、上記カラーフィルタを用いた廉価なＯＣＢモードの液晶表示装置を提供することを課題とする。
The present invention has been made to solve the above-described problems. In a color filter having a photospacer formed, even if the height (film thickness) is 6 μm or more, the photofilter is formed after the photospacer is formed. It is an object of the present invention to provide a color filter in which peeling of a photo spacer is reduced in the color filter processing step.
It is another object of the present invention to provide an inexpensive OCB mode liquid crystal display device using the color filter.
本発明は、ガラス基板上にブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜、ＯＣＢモード用フォトスペーサーが順次に形成されたカラーフィルタにおいて、前記フォトスペーサーは、膜厚が６μｍ以上であり、前記フォトスペーサーを形成する下地部位の透明導電膜が除去された凹凸を有する下地上に前記フォトスペーサーがフォトリソグラフィ法で形成され、前記下地はブラックマトリックス上にオーバーラップさせた異なる着色層の積層構成からなる着色層であり、前記フォトスペーサーの下部が下地の凹状の窪み部に挿入されることによりフォトスペーサーの下部の側面が着色画素表面の透明導電膜に接しつつフォトスペーサーの底面がブラックマトリックス上の透明導電膜に接していることを特徴とするカラーフィルタである。 The present invention provides a color filter in which a black matrix, a colored pixel, a transparent conductive film, and an OCB mode photo spacer are sequentially formed on a glass substrate, wherein the photo spacer has a thickness of 6 μm or more, and the photo spacer is A colored layer comprising a laminated structure of different colored layers in which the photo spacer is formed by a photolithography method on a ground surface having irregularities from which the transparent conductive film of the ground region to be formed is removed, and the ground layer is overlapped on a black matrix. , and the transparent conductive film of the lower part on the bottom black matrix photospacer by Rukoto is inserted into the concave recess of the underlying side surfaces of the lower of the photo spacers while in contact with the transparent conductive film of the colored pixel surface of the photo spacers The color filter is in contact with the color filter.
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタにおいて、前記フォトスペーサーの接着面積は、３００μｍ2 以上であることを特徴とするカラーフィルタである。 The present invention also provides the color filter according to the invention, wherein the photo spacer has an adhesion area of 300 μm 2 or more.
また、本発明は、請求項１または２に記載のカラーフィルタを用いたことを特徴とする液晶表示装置である。
Further, the present invention is a liquid crystal display device characterized by using the color filter according to
本発明は、フォトスペーサーが膜厚が６μｍ以上であり、凹凸を有する下地上に透明導電膜を介して形成されたカラーフィルタであり、下地はブラックマトリックス上にオーバーラップさせた着色層であり、着色層は異なる着色層の積層構成であり、或いは、フォトスペーサーの接着面積は３００μｍ2 以上であるので、フォトスペーサー形成後のカラーフィルタの処理工程にてのフォトスペーサーの剥離を低減させたカラーフィルタとなる。また、フォトスペーサーを形成する下地部位の透明導電膜は除去されているので、フォトスペーサーの剥離の発生を更に低減させたカラーフィルタとなる。 The present invention is a color filter in which the photo spacer has a film thickness of 6 μm or more and is formed through a transparent conductive film on an uneven base, the base is a colored layer overlapped on a black matrix, The colored layer is a laminated structure of different colored layers, or the adhesion area of the photo spacer is 300 μm 2 or more, so that the color filter with reduced peeling of the photo spacer in the processing step of the color filter after the formation of the photo spacer It becomes. In addition, since the transparent conductive film at the base portion where the photospacer is formed is removed, the color filter further reduces the occurrence of peeling of the photospacer.
また、本発明は、上記カラーフィルタを用いることにより、廉価なＯＣＢモードの液晶表示装置を提供することができる。 Further, according to the present invention, an inexpensive OCB mode liquid crystal display device can be provided by using the color filter.
以下に、本発明の実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図３は、本発明によるカラーフィルタの一例の部分断面図である。図３は、赤色着色画素（４２Ｒ）と青色着色画素（４２Ｂ）との間のブラックマトリックス（４１）上にフォトスペーサーが形成された例である。
図３に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、３色の着色画素、透明導電膜（４３）、フォトスペーサー（ＰＳ−１１）が順次に形成されたものである。
Below, based on the embodiment of the present invention, it explains in detail.
FIG. 3 is a partial cross-sectional view of an example of a color filter according to the present invention. FIG. 3 shows an example in which a photo spacer is formed on the black matrix (41) between the red colored pixel (42R) and the blue colored pixel (42B).
As shown in FIG. 3, in this color filter, a black matrix (41), three colored pixels, a transparent conductive film (43), and a photo spacer (PS-11) are sequentially formed on a glass substrate (40). It is a thing.
フォトスペーサー（ＰＳ−１１）は、膜厚（Ｈ１１）が６μｍ以上である。フォトスペーサー（ＰＳ−１１）が形成された下地は、ブラックマトリックス（４１）であり、ブラックマトリックス（４１）は凹凸を有し、特に、凹状の窪みを有している。フォトスペーサー（ＰＳ−１１）は、透明導電膜（４３）を介して凹凸を有する下地（ブラックマトリックス）の凹凸上に形成されている。
フォトスペーサー（ＰＳ−１１）は、凹凸を有する下地（ブラックマトリックス）の凹凸上に形成されている。また、フォトスペーサーの下部の一部は凹状の窪み部に挿入された状態となっている。そのため、フォトスペーサーと透明導電膜との接触面積が増え、強固に密着し且つ、フォトスペーサーの下部が凹状の窪み部で支えられることになる。フォトスペーサー形成後のカラーフィルタの処理工程にて、外力を受けてもフォトスペーサーの剥離は低減されたものとなる。
The photo spacer (PS-11) has a film thickness (H11) of 6 μm or more. The base on which the photospacer (PS-11) is formed is a black matrix (41), and the black matrix (41) has irregularities, and in particular, has concave depressions. The photospacer (PS-11) is formed on the unevenness of the ground (black matrix) having the unevenness via the transparent conductive film (43).
The photo spacer (PS-11) is formed on the unevenness of the ground (black matrix) having the unevenness. In addition, a part of the lower part of the photospacer is inserted into the concave depression. For this reason, the contact area between the photospacer and the transparent conductive film is increased, the photospacer is in close contact, and the lower portion of the photospacer is supported by the concave depression. Even if an external force is applied in the color filter processing step after the formation of the photo spacer, the peeling of the photo spacer is reduced.
図４は、請求項２に係わるカラーフィルタの一例の部分断面図である。このカラーフィルタの３色の着色画素は、赤色着色画素（４２Ｒ）、緑色着色画素（４２Ｇ）、青色着色画素（４２Ｂ）の順に形成されたものであり、また、図４は、赤色着色画素（４２Ｒ）と青色着色画素（４２Ｂ）との間のブラックマトリックス（４１）上の着色層にフォトスペ
ーサーが形成された例である。
図４に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、３色の着色画素、着色層（４２Ｂ−Ｅ）、透明導電膜（４３）、フォトスペーサー（ＰＳ−１２）が順次に形成されたものである。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view of an example of a color filter according to
As shown in FIG. 4, this color filter has a black matrix (41), three colored pixels, a colored layer (42B-E), a transparent conductive film (43), a photo spacer (PS) on a glass substrate (40). -12) are sequentially formed.
フォトスペーサー（ＰＳ−１２）が形成された下地は、ブラックマトリックス（４１）上にオーバーラップさせた青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）である。この青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）は、青色着色画素（４２Ｂ）の形成と同時に形成されたもので、青色着色画素（４２Ｂ）の延長部である。この青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）は凹凸を有し、特に、凹状の窪みを有している。
尚、上記３色の着色画素の形成順序、及び赤色着色画素（４２Ｒ）と青色着色画素（４２Ｂ）との間のブラックマトリックス（４１）上にフォトスペーサーが形成された点は、図４以降の各図においても同様である。
The base on which the photospacer (PS-12) is formed is a blue colored layer (42B-E) overlapped on the black matrix (41). This blue colored layer (42B-E) is formed simultaneously with the formation of the blue colored pixel (42B), and is an extension of the blue colored pixel (42B). This blue colored layer (42B-E) has irregularities, and in particular, has concave depressions.
Note that the formation order of the three colored pixels and the fact that the photo spacer is formed on the black matrix (41) between the red colored pixels (42R) and the blue colored pixels (42B) are shown in FIG. The same applies to each figure.
図５は、請求項３に係わるカラーフィルタの第一例の部分断面図である。図５に示すように、フォトスペーサー（ＰＳ−１３）が形成された下地は、ブラックマトリックス（４１）上に形成された、赤色の着色層（４２Ｒ−Ｅ）と青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）の異なる着色層の積層構成である。
赤色の着色層（４２Ｒ−Ｅ）は、赤色着色画素（４２Ｒ）の形成と同時に形成されたもので、赤色着色画素（４２Ｒ）の延長部である。また、青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）は、青色着色画素（４２Ｂ）の形成と同時に形成されたもので、青色着色画素（４２Ｂ）の延長部である。この積層構成は凹凸を有し、特に、凹状の窪みを有している。
FIG. 5 is a partial sectional view of a first example of a color filter according to a third aspect. As shown in FIG. 5, the base on which the photospacer (PS-13) is formed is a red colored layer (42R-E) and a blue colored layer (42B-E) formed on the black matrix (41). ) Of different colored layers.
The red colored layer (42R-E) is formed simultaneously with the formation of the red colored pixel (42R), and is an extension of the red colored pixel (42R). The blue colored layer (42B-E) is formed at the same time as the formation of the blue colored pixel (42B) and is an extension of the blue colored pixel (42B). This laminated structure has irregularities, and in particular has a concave depression.
図６は、請求項３に係わるカラーフィルタの第二例の部分断面図である。図６に示すように、フォトスペーサー（ＰＳ−１４）が形成された下地は、ブラックマトリックス（４１）上に形成された、赤色の着色層（４２Ｒ−Ｅ）と緑色の着色層（４２Ｇ−Ｈ）と青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）の異なる着色層の積層構成である。
赤色の着色層（４２Ｒ−Ｅ）は、赤色着色画素（４２Ｒ）の形成と同時に形成されたもので、赤色着色画素（４２Ｒ）の延長部である。緑色の着色層（４２Ｇ−Ｈ）は、緑色着色画素（４２Ｇ）の形成と同時に形成されたもので、緑色着色画素（４２Ｇ）の画素片である。また、青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）は、青色着色画素（４２Ｂ）の形成と同時に形成されたもので、青色着色画素（４２Ｂ）の延長部である。この積層構成は凹凸を有し、特に、凹状の窪みを有している。
FIG. 6 is a partial sectional view of a second example of the color filter according to claim 3. As shown in FIG. 6, the base on which the photo spacer (PS-14) is formed is a red colored layer (42R-E) and a green colored layer (42G-H) formed on the black matrix (41). ) And a blue colored layer (42B-E).
The red colored layer (42R-E) is formed simultaneously with the formation of the red colored pixel (42R), and is an extension of the red colored pixel (42R). The green colored layer (42G-H) is formed simultaneously with the formation of the green colored pixel (42G), and is a pixel piece of the green colored pixel (42G). The blue colored layer (42B-E) is formed at the same time as the formation of the blue colored pixel (42B) and is an extension of the blue colored pixel (42B). This laminated structure has irregularities, and in particular has a concave depression.
図７は、請求項３に係わるカラーフィルタの第三例の部分断面図である。図７に示すように、フォトスペーサー（ＰＳ−１５）が形成された下地は、ブラックマトリックス（４１）上に形成された、赤色の着色層（４２Ｒ−Ｈ）と青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）の異なる着色層の積層構成である。
赤色の着色層（４２Ｒ−Ｈ）は、赤色着色画素（４２Ｒ）の形成と同時に形成されたもので、赤色着色画素（４２Ｒ）の画素片である。また、青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）は、青色着色画素（４２Ｂ）の形成と同時に形成されたもので、青色着色画素（４２Ｂ）の延長部である。この積層構成は凹凸を有し、特に、凸状の突起部を有している。
FIG. 7 is a partial sectional view of a third example of the color filter according to claim 3. As shown in FIG. 7, the base on which the photospacer (PS-15) is formed is a red colored layer (42R-H) and a blue colored layer (42B-E) formed on the black matrix (41). ) Of different colored layers.
The red colored layer (42R-H) is formed simultaneously with the formation of the red colored pixel (42R), and is a pixel piece of the red colored pixel (42R). The blue colored layer (42B-E) is formed at the same time as the formation of the blue colored pixel (42B) and is an extension of the blue colored pixel (42B). This laminated structure has irregularities, and in particular, has convex protrusions.
フォトスペーサー（ＰＳ−１５）は、透明導電膜を介して凹凸上に形成されるが、透明導電膜は、下地の形状に応じた突起部を有する。フォトスペーサーは、凹凸を有する下地（青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ））の凹凸上に透明導電膜を介して形成され、その下部が突起部を囲むように形成している。そのため、フォトスペーサーと透明導電膜との接触面積が増え、強固に密着することになる。
また、突起部がフォトスペーサーの下部内部にくい込んだ形となり、フォトスペーサーは突起部で支えられることになる。そのため、フォトスペーサー形成後のカラーフィルタの
処理工程にて、外力を受けてもフォトスペーサーの剥離は低減されたものとなる。
The photospacer (PS-15) is formed on the projections and depressions via the transparent conductive film, and the transparent conductive film has a protrusion corresponding to the shape of the base. The photo spacer is formed on the uneven surface of the uneven surface (blue colored layer (42B-E)) via a transparent conductive film, and the lower portion surrounds the protrusion. Therefore, the contact area between the photospacer and the transparent conductive film is increased, and the contact is firmly made.
In addition, the protruding portion is recessed in the lower part of the photo spacer, and the photo spacer is supported by the protruding portion. Therefore, peeling of the photo spacer is reduced even when an external force is applied in the color filter processing step after the formation of the photo spacer.
図８は、請求項３に係わるカラーフィルタの第四例の部分断面図である。図８に示すように、フォトスペーサー（ＰＳ−１６）が形成された下地は、ブラックマトリックス（４１）上に形成された、赤色の着色層（４２Ｒ−Ｈ）と緑色の着色層（４２Ｇ−Ｈ）と青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）の異なる着色層の積層構成である。
赤色の着色層（４２Ｒ−Ｈ）は、赤色着色画素（４２Ｒ）の形成と同時に形成されたもので、赤色着色画素（４２Ｒ）の画素片である。緑色の着色層（４２Ｇ−Ｈ）は、緑色着色画素（４２Ｇ）の形成と同時に形成されたもので、緑色着色画素（４２Ｇ）の画素片である。また、青色の着色層（４２Ｂ−Ｅ）は、青色着色画素（４２Ｂ）の形成と同時に形成されたもので、青色着色画素（４２Ｂ）の延長部である。この積層構成は凹凸を有し、特に、凸状の突起部を有している。
FIG. 8 is a partial sectional view of a fourth example of the color filter according to the third aspect. As shown in FIG. 8, the base on which the photospacer (PS-16) is formed is a red colored layer (42R-H) and a green colored layer (42G-H) formed on the black matrix (41). ) And a blue colored layer (42B-E).
The red colored layer (42R-H) is formed simultaneously with the formation of the red colored pixel (42R), and is a pixel piece of the red colored pixel (42R). The green colored layer (42G-H) is formed simultaneously with the formation of the green colored pixel (42G), and is a pixel piece of the green colored pixel (42G). The blue colored layer (42B-E) is formed at the same time as the formation of the blue colored pixel (42B) and is an extension of the blue colored pixel (42B). This laminated structure has irregularities, and in particular, has convex protrusions.
上記のように、本発明によるカラーフィルタは、フォトスペーサーが凹凸を有する下地上に形成されているので、フォトスペーサーの膜厚が６μｍ以上であっても、フォトスペーサー形成後のカラーフィルタの処理工程にてのフォトスペーサーの剥離を低減させたカラーフィルタとなる。
具体的には、フォトスペーサーの接着面積が３００μｍ2 程度の際に、フォトスペーサーの剥離の発生は１％と低減されたものとなる。これは、従来のフォトスペーサーにおける、剥離の発生率が５％以上であるのに対し、大幅に低減されたものといえる。
As described above, in the color filter according to the present invention, since the photospacer is formed on an uneven base, even if the film thickness of the photospacer is 6 μm or more, the color filter processing step after the formation of the photospacer This is a color filter with reduced peeling of the photospacer.
Specifically, when the adhesion area of the photo spacer is about 300 μm 2 , the occurrence of peeling of the photo spacer is reduced to 1%. This can be said to be significantly reduced while the occurrence rate of peeling in the conventional photo spacer is 5% or more.
図９は、請求項５に係わるカラーフィルタの一例の部分断面図である。図９は、図４に示すカラーフィルタにおいて、フォトスペーサーを形成する下地部位の透明導電膜（４３）が除去されたものである。下地部位の透明導電膜は、例えば、エッチングにより除去される。
フォトスペーサーと透明導電膜（４３）との間の接着強さよりも、フォトスペーサーと着色層又はブラックマトリックスとの間の接着強さの方が大きいので、フォトスペーサーの剥離の発生を更に低減させるには、フォトスペーサーを形成する下地部位の透明導電膜は除去されていることが好ましい。
FIG. 9 is a partial sectional view of an example of a color filter according to claim 5. FIG. 9 shows the color filter shown in FIG. 4 in which the transparent conductive film (43) at the base portion for forming the photo spacer is removed. The transparent conductive film at the base portion is removed by, for example, etching.
Since the adhesive strength between the photo spacer and the colored layer or the black matrix is larger than the adhesive strength between the photo spacer and the transparent conductive film (43), the occurrence of peeling of the photo spacer is further reduced. It is preferable that the transparent conductive film at the base portion for forming the photospacer is removed.
上述のように、本発明によるカラーフィルタは、フォトスペーサーの膜厚が６μｍ以上であっても、フォトスペーサー形成後のカラーフィルタの処理工程にてのフォトスペーサーの剥離を低減させたカラーフィルタとなるので、基板間のギャップを６μｍ以上と広くとるＯＣＢモードの液晶表示装置に好適に用いることができる。 As described above, the color filter according to the present invention is a color filter in which peeling of the photo spacer in the processing step of the color filter after the formation of the photo spacer is reduced even if the film thickness of the photo spacer is 6 μm or more. Therefore, it can be suitably used for an OCB mode liquid crystal display device in which the gap between the substrates is as wide as 6 μm or more.
４０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４２Ｒ・・・赤色着色画素
４２Ｇ・・・緑色着色画素
４２Ｂ・・・青色着色画素
４２Ｒ−Ｅ・・・赤色の着色層（延長部）
４２Ｂ−Ｅ・・・青色の着色層（延長部）
４２Ｒ−Ｈ・・・赤色の着色層（画素片）
４２Ｇ−Ｈ・・・緑色の着色層（画素片）
４３・・・透明導電膜
Ｈ１、Ｈ２、Ｈ１１・・・フォトスペーサーの高さ（膜厚）
ＰＳ−１〜ＰＳ−１７・・・フォトスペーサー
40 ...
42B-E ... Blue colored layer (extension)
42R-H Red colored layer (pixel piece)
42G-H ... Green colored layer (pixel piece)
43 ... Transparent conductive films H1, H2, H11 ... Photo spacer height (film thickness)
PS-1 to PS-17 ... Photo spacer
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