JP5525146B2 - Biochip substrate - Google Patents

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Description

本発明は、液状の生体由来試料を被験液としてそのバイオ成分を微量分析する装置や、バイオ成分を化学的に微量合成したりするマイクロリアクターに用いられる、バイオチップ基板に関するものである。   The present invention relates to a biochip substrate used in an apparatus for analyzing a trace amount of a biocomponent using a liquid biological sample as a test liquid, and a microreactor for chemically synthesizing a trace amount of a biocomponent.

血液や尿などの生体由来試料を微量だけ用いて、酵素の特異的基質選択性を利用し、試料中の基質と作用する酵素反応量やその基質量を酵素又は基質で発色する試薬による着色度合いで定量したり、酵素含有膜を用い酵素反応量を電極で電気信号に変換して基質量を定量したりする分析や、DNA抽出・そのPCR増幅や、イオン濃度測定や、DNA又はタンパク質又はペプチドの微量合成などを行うのに、バイオチップ基板が用いられる。   Using only a trace amount of a biological sample such as blood or urine, and utilizing the specific substrate selectivity of the enzyme, the amount of enzymatic reaction that acts on the substrate in the sample and the degree of coloring by the reagent that develops the base mass with the enzyme or substrate Analyzes that quantitate with the use of an enzyme-containing membrane, convert the amount of enzyme reaction to an electrical signal with an electrode, and quantify the substrate mass, DNA extraction, PCR amplification thereof, ion concentration measurement, DNA, protein, or peptide A biochip substrate is used to carry out a microsynthesis of the above.

市販のバイオチップ基板は、各種反応をさせるための溝を樹脂プレート上にレーザー照射により掘り込んだり、ガラスプレート上の金属層や二酸化ケイ素層をエッチングして溝を形成させたりした後、その溝ごと別なプレートで覆って接着剤で貼り合せたものである。   A commercially available biochip substrate is formed by digging grooves for various reactions on a resin plate by laser irradiation or by etching a metal layer or silicon dioxide layer on a glass plate to form grooves. Each is covered with another plate and bonded with an adhesive.

例えば、特許文献1に、シリコン基板上の二酸化シリコン膜をレジスト膜で被覆してから、パターン化したフォトマスクで被覆し、フッ酸でエッチングして、バイオセンサ収容領域と液状被検体の流路とになる溝を形成するリソグラフィーの後、再びリソグラフィーによりバイオセンサ用電極・配線を形成し、そこに生体触媒等を固定し、ガラス基板でカバーして、エポキシ系接着剤で固定したバイオセンサが、開示されている。   For example, in Patent Document 1, a silicon dioxide film on a silicon substrate is coated with a resist film, then coated with a patterned photomask, etched with hydrofluoric acid, and the biosensor accommodation region and the flow path of the liquid specimen After the lithography that forms the groove, the biosensor electrode / wiring is formed again by lithography, the biocatalyst, etc. is fixed there, covered with a glass substrate, and fixed with an epoxy adhesive. Are disclosed.

このようなバイオセンサは、溝へ液状被検体を加圧して流す際に、接着されている基板と基板とが圧力に耐えられなくなり剥離してしまい、破損し易いというものであった。   In such a biosensor, when the liquid specimen is pressurized and flowed into the groove, the bonded substrate and the substrate cannot withstand the pressure and are peeled off and are easily damaged.

特公平08−20396号公報Japanese Patent Publication No. 08-20396

本発明は前記の課題を解決するためになされたもので、微量の生体由来試料のような被験液を流す微細な流路を確実に形成でき、その被験液を加圧して低温乃至高温で流しても破損せず、そのバイオ成分を正確かつ簡便に短期間で分析したり反応させたりできる簡易で製造し易い小型のバイオチップ基板を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and can reliably form a fine flow path for flowing a test liquid such as a small amount of a biological sample, and pressurize the test liquid to flow at a low or high temperature. However, it is an object of the present invention to provide a simple and easy-to-manufacture small-sized biochip substrate that can be analyzed and reacted accurately and simply in a short period of time without breakage.

前記の目的を達成するためになされた特許請求の範囲の請求項1に記載のバイオチップ基板は、重ねられた樹脂成形シートを有しており、前記樹脂成形シートの向き合った重ね面同士の一部に、液注入口から液排出口へ至る非接着の筋条が設けられており、前記筋条に沿う両脇で、前記樹脂成形シート同士が接着されていることによって、前記液注入口の少なくとも一つから注入される被験液の流路となる前記筋条が形成されており、
前記樹脂成形シートがシリコーン樹脂製で弾性を有し、前記筋条が、外部からの圧迫により、及び/又は前記被験液の加圧注入により、押し広げられて前記流路を形成するものであり、
重ねられた前記樹脂成形シートの少なくとも一方の重ね面で、前記筋条が、金属蒸着膜、又はマスキング樹脂層により、被覆されていることによって、前記非接着の筋条として形成されており、
前記接着すべき前記樹脂成形シートと、必要に応じそれに挟まれるスペーサとの内の少なくとも何れかの接着される面が、コロナ放電処理またはプラズマ処理され、その処理がされた面同士が、重ねられて前記接着されているバイオチップ基板であって、
前記接着すべき前記樹脂成形シートと、必要に応じそれに挟まれる前記スペーサとが、ヒドロシリル基含有化合物とビニル基含有化合物とを含有しており、その両者が、前記ビニル基含有化合物のビニル基への前記ヒドロシリル基含有化合物のヒドロシリル基の付加反応により形成されたケイ素−炭素の結合を介して、前記接着されており、
又は、
前記接着すべき前記樹脂成形シートと、必要に応じそれに挟まれる前記スペーサとの内の接着すべき一方が、その表面に有する水酸基の脱水素基に、ヒドロシリル含有シリル基、ビニル含有シリル基、アルコキシシリル含有シリル基、及び加水分解性基含有シリル基から選ばれる少なくとも1種類の活性シリル基を、シリルエーテル結合されたものであり、他方が、前記活性シリル基と反応するヒドロシリル、ビニルシリル、ヒドロキシシリル、アルキルオキシシリル、アルケニルオキシシリル、アシルオキシシリル、イミノオキシシリル、アルキルアミノシリルから選ばれる少なくとも1種類の反応基を含有する化合物を含んでおり、その両者が、前記反応により形成されたケイ素−炭素とケイ素−酸素との何れかの結合を介して、前記接着されていることを特徴とする。
The biochip substrate according to claim 1, which has been made in order to achieve the above object, has an overlapping resin molded sheet, and one of the overlapping surfaces of the resin molded sheets facing each other. A non-adhesive streak from the liquid injection port to the liquid discharge port is provided in the part, and the resin molded sheets are bonded to each other on both sides along the streak of the liquid injection port. The streak is formed as a flow path for the test liquid to be injected from at least one ,
The resin molded sheet is made of silicone resin and has elasticity, and the streaks are expanded by compression from outside and / or by pressure injection of the test solution to form the flow path. ,
At least one of the superimposed surfaces of the molded resin sheet, the streaks are covered with a metal deposition film or a masking resin layer, thereby forming the non-adhesive streaks,
At least one of the surfaces of the resin-molded sheet to be bonded and, if necessary, the spacers sandwiched between them, is subjected to corona discharge treatment or plasma treatment, and the treated surfaces are overlapped. The biochip substrate to be bonded,
The resin-molded sheet to be bonded and the spacer sandwiched between the resin-molded sheet and the spacer, if necessary, contain a hydrosilyl group-containing compound and a vinyl group-containing compound, both of which are added to the vinyl group of the vinyl group-containing compound. The silicon-carbon bond formed by the addition reaction of the hydrosilyl group of the hydrosilyl group-containing compound of
Or
One of the resin-molded sheet to be bonded and the spacer sandwiched between the resin-molded sheet and the spacer, if necessary, has a hydrosilyl-containing silyl group, a vinyl-containing silyl group, an alkoxy group on the dehydrogenation group of the hydroxyl group on the surface. At least one active silyl group selected from a silyl-containing silyl group and a hydrolyzable group-containing silyl group is bonded to a silyl ether bond, and the other is hydrosilyl, vinylsilyl, hydroxysilyl that reacts with the active silyl group. A compound containing at least one reactive group selected from alkyloxysilyl, alkenyloxysilyl, acyloxysilyl, iminooxysilyl, and alkylaminosilyl, both of which are silicon-carbon formed by the above reaction. And the silicon-oxygen bond. Characterized in that it is.

請求項に記載のバイオチップ基板は、請求項1に記載されたもので、重ねられた前記樹脂成形シートに挟まれている前記スペーサで仕切られていることによって、前記筋条が前記流路を形成しており、前記樹脂成形シートと前記スペーサとが、接着されていることを特徴とする。 The biochip substrate according to claim 2 is the biochip substrate according to claim 1, wherein the streaks are partitioned by the spacers sandwiched between the resin molded sheets that are stacked , so that the streaks are the flow paths. The resin molded sheet and the spacer are bonded to each other.

請求項に記載のバイオチップ基板は、請求項1〜の何れかに記載されたもので、前記接着すべき前記樹脂成形シートと、それに挟まれる前記スペーサとの内の少なくとも何れかの接着される面が、コロナ放電処理またはプラズマ処理され、その処理がされた面同士が、重ねられて前記接着されていることを特徴とする。 The biochip substrate according to claim 3, which has been described in any one of claims 1-2, and the resin molded sheet the to be bonded, at least one of the said spacer sandwiched Re their The surfaces to be bonded are subjected to corona discharge treatment or plasma treatment, and the treated surfaces are overlapped and bonded together.

請求項に記載のバイオチップ基板は、請求項1〜の何れかに記載されたもので、前記接着すべき前記樹脂成形シートと、それに挟まれる前記スペーサとが、ヒドロシリル基含有化合物とビニル基含有化合物とを含有しており、その両者が、前記ビニル基含有化合物のビニル基への前記ヒドロシリル基含有化合物のヒドロシリル基の付加反応により形成されたケイ素−炭素の結合を介して、前記接着されていることを特徴とする。 The biochip substrate according to claim 4, claim 1 which has been described in any one of 2, and the resin molded sheet the to be bonded, and the spacer sandwiched Re its is, hydrosilyl group-containing compound And a vinyl group-containing compound, both of which are bonded via a silicon-carbon bond formed by the addition reaction of the hydrosilyl group of the hydrosilyl group-containing compound to the vinyl group of the vinyl group-containing compound. It is characterized by being bonded.

請求項に記載のバイオチップ基板は、請求項1〜の何れかに記載されたもので、前記接着すべき前記樹脂成形シートと、それに挟まれる前記スペーサとの内の接着すべき一方が、その表面に有する水酸基の脱水素基に、ヒドロシリル含有シリル基、ビニル含有シリル基、アルコキシシリル含有シリル基、及び加水分解性基含有シリル基から選ばれる少なくとも1種類の活性シリル基を、シリルエーテル結合されたものであり、他方が、前記活性シリル基と反応するヒドロシリル、ビニルシリル、ヒドロキシシリル、アルキルオキシシリル、アルケニルオキシシリル、アシルオキシシリル、イミノオキシシリル、アルキルアミノシリルから選ばれる少なくとも1種類の反応基を含有する化合物を含んでおり、その両者が、前記反応により形成されたケイ素−炭素とケイ素−酸素との何れかの結合を介して、前記接着されていることを特徴とする。 The biochip substrate according to claim 5, which has been described in any one of claims 1-2, and the resin molded sheet the to be bonded, to be bonded of the said spacer sandwiched Re their On the other hand, at least one active silyl group selected from a hydrosilyl-containing silyl group, a vinyl-containing silyl group, an alkoxysilyl-containing silyl group, and a hydrolyzable group-containing silyl group as a hydroxyl group dehydrogenation group on the surface thereof, At least one selected from hydrosilyl, vinylsilyl, hydroxysilyl, alkyloxysilyl, alkenyloxysilyl, acyloxysilyl, iminooxysilyl, and alkylaminosilyl, which are silyl ether-bonded and the other reacts with the active silyl group. Of the reactive group, both of which are formed by the reaction described above. The bonding is made through any bond of silicon-carbon and silicon-oxygen formed.

請求項に記載のバイオチップ基板は、請求項1に記載されたもので、前記筋条が、複数あって、途中で集束し又は分岐していることを特徴とする。 A biochip substrate according to a sixth aspect is the biochip substrate according to the first aspect, characterized in that there are a plurality of the streaks and are converged or branched in the middle.

請求項に記載のバイオチップ基板は、請求項1に記載されたもので、前記被験液のバイオ成分の検出試薬と、前記被験液のバイオ成分への反応試薬と、バイオセンサとの少なくとも何れかが、前記筋条の途中に配置され、及び/又は、
前記検出試薬と、前記反応試薬と、合成試薬との少なくとも何れかが、前記液注入口から注入されていることを特徴とする。
請求項8に記載のバイオチップ基板は、請求項1に記載されたもので、前記シリコーン樹脂が、パーオキサイド架橋シリコーンゴム、付加型架橋シリコーンゴム、又は縮合型架橋シリコーンゴムであることを特徴とする。
請求項9に記載のバイオチップ基板は、請求項8に記載されたもので、前記シリコーン樹脂が、前記パーオキサイド架橋シリコーンゴムであって、パーオキサイドを添加されていることを特徴とする。
請求項10に記載のバイオチップ基板は、請求項8に記載されたもので、前記シリコーン樹脂が、付加型架橋シリコーンゴムであって、塩化白金酸、白金カルボニルシクロビニルメチルシロキサン錯体、白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金オクタナル/オクタノール錯体、及びトリス(ジブチルスルフィド)ロジュウムトリクロリドから選ばれる触媒を添加されていることを特徴とする。
請求項11に記載のバイオチップ基板は、請求項8に記載されたもので、前記シリコーン樹脂が、縮合型架橋シリコーンゴムであって、CH 3 Si(OCOCH 3 ) 3 、C 2 H 5 OSi(OCOCH 3 ) 3 、CH 3 Si[OC(CH 3 )=CH 2 ] 3 、CH 3 Si[ON=C(CH 3 )C 2 H 5 ]] 3 、CH 3 OSi[ON=C(CH 3 )C 2 H 5 ]] 3 、及びCH 3 Si[N(CH 3 )] 3 から選ばれる縮合型架橋剤と、ビス(エチルヘキシル)スズ、ビス(ネオデカネート)スズ、ジブチルラアウリルスズなどの有機スズ化合物、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄、チタン酸エステル、チタンキレート化合物、及びアミン類から選ばれる触媒とを添加されていることを特徴とする。
A biochip substrate according to claim 7 is the biochip substrate according to claim 1, wherein at least any one of a detection reagent for a biocomponent of the test liquid, a reaction reagent for the biocomponent of the test liquid, and a biosensor Is placed in the middle of the streak and / or
At least one of the detection reagent, the reaction reagent, and the synthesis reagent is injected from the liquid injection port.
The biochip substrate according to claim 8 is the biochip substrate according to claim 1, wherein the silicone resin is a peroxide-crosslinked silicone rubber, an addition-type crosslinked silicone rubber, or a condensation-type crosslinked silicone rubber. To do.
The biochip substrate according to claim 9 is the biochip substrate according to claim 8, wherein the silicone resin is the peroxide-crosslinked silicone rubber to which a peroxide is added.
The biochip substrate according to claim 10 is the biochip substrate according to claim 8, wherein the silicone resin is an addition-type crosslinked silicone rubber, and includes chloroplatinic acid, platinumcarbonylcyclovinylmethylsiloxane complex, platinum divinyltetra A catalyst selected from a methyldisiloxane complex, a platinum cyclovinylmethylsiloxane complex, a platinum octanal / octanol complex, and tris (dibutyl sulfide) rhodium trichloride is added.
The biochip substrate according to claim 11 is the biochip substrate according to claim 8, wherein the silicone resin is a condensation type crosslinked silicone rubber, and is CH 3 Si (OCOCH 3 ) 3 , C 2 H 5 OSi ( OCOCH 3 ) 3 , CH 3 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 3 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ]] 3 , CH 3 OSi [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ]] 3 , and CH 3 Si [N (CH 3 )] 3 condensation type cross-linking agents, and organic tins such as bis (ethylhexyl) tin, bis (neodecanate) tin, and dibutylralauryltin A catalyst selected from a compound, zinc octylate, iron octylate, titanate ester, titanium chelate compound, and amines is added.

本発明のバイオチップ基板は、被験液を流す0.5μm〜5mm幅の微細な筋条による直線や曲線を組合わせた線状やその末端乃至途中で拡大したり集束又は分岐したりした複雑な形状などの任意のパターンの流路が確実に形成されるものである。しかもバイオチップ基板を形成している複数の樹脂成形シート同士が、その筋条以外の部位で分子間の化学的な共有結合のような強固な接着をしているから、接着剤による物理的な接着よりも遥かに強く接着されている。そのため、そのような微細な流路に被験液を透過させるために常圧〜5気圧程度の圧力をかけて被験液を流しても、また氷冷下〜80℃程度、好ましくは20℃〜80℃程度の低温乃至高温の温度範囲で加熱冷却を繰り返しながら被験液を流しても、バイオチップ基板は破損せず、その被験液のバイオ成分を正確かつ簡便に短期間で分析したり反応させたりすることができる。 The biochip substrate of the present invention has a complex shape in which straight lines or curves are combined with fine streaks having a width of 0.5 μm to 5 mm flowing the test solution, or is expanded or converged or branched in the middle or at the end thereof. A flow path having an arbitrary pattern such as a shape is surely formed. In addition, since the plurality of resin molded sheets forming the biochip substrate are firmly bonded like chemical covalent bonds between molecules at sites other than the streaks, the physical properties of the adhesive Bonded much stronger than glued. Therefore, even if the test liquid is flowed by applying a pressure of about normal pressure to about 5 atm in order to allow the test liquid to permeate through such a fine flow path, it is about -80 ° C., preferably 20 ° C. to 80 ° C. under ice cooling. Even if the test liquid is flowed while repeating heating and cooling in the low to high temperature range of about ℃, the biochip substrate does not break, and the biocomponents of the test liquid can be analyzed and reacted accurately and simply in a short period of time. can do.

このバイオチップ基板は、数mm〜十数cm程度で極めて小型であり簡易な構造であるので、安価で大量に歩留まり良く製造することができるものである。   Since this biochip substrate has an extremely small size of about several millimeters to several tens of centimeters and a simple structure, it can be manufactured in a large amount at a low cost and with a high yield.

このようなバイオチップ基板は、ディスポーザブルで用いられる場合、別な系統の被験液の混入による汚染の恐れが無く、信頼性のある結果を得ることができるものである。   When such a biochip substrate is used in a disposable manner, there is no fear of contamination due to mixing of a test fluid of another system, and a reliable result can be obtained.

バイオチップ基板は、小型で多機能にすることができるから、大掛かりな分析装置などを用いなくてもポータブルの分析装置を用いて、屋内のみならず屋外でも迅速に分析結果を得るのに使用される。   Since the biochip substrate is small and can be made multifunctional, it can be used to quickly obtain analysis results not only indoors but also outdoors using a portable analyzer without using a large analyzer. The

バイオチップ基板に用いられる分析試薬や反応試薬は極微量で済むうえ、フラスコや試験管での分析や反応に比べて廃液量が格段に少なくなるので、環境保全にも資する。   The amount of analysis reagent and reaction reagent used for the biochip substrate is very small, and the amount of waste liquid is significantly smaller than the analysis and reaction in flasks and test tubes, which contributes to environmental conservation.

発明を実施するための好ましい形態Preferred form for carrying out the invention

以下、本発明を実施するための好ましい形態の例を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの形態に限定されるものではない。   Hereinafter, examples of preferable modes for carrying out the present invention will be described in detail, but the scope of the present invention is not limited to these modes.

バイオチップ基板1は、図1に示すように、2枚のシリコーン樹脂製の成形シート11・12が重ねられたものである。樹脂成形シート11・12に、必要により加硫剤として、ヒドロシリル基含有化合物とビニル基含有化合物が含有されて、両シート11・12の表面からこれらの化合物分子の一部が露出している。下側の樹脂成形シート12の上面に、被験液を流すべき経路に対応する金属層8a・18a’の筋条17が付されている。上側の樹脂成形シート11に、筋条17の始端及び末端に対応する液注入口13a・13b・13c及び液排出口14a・14bが、貫通して設けられている。 As shown in FIG. 1, the biochip substrate 1 is obtained by stacking two silicone resin molded sheets 11 and 12. If necessary, the resin molded sheets 11 and 12 contain a hydrosilyl group-containing compound and a vinyl group-containing compound as vulcanizing agents, and a part of these compound molecules is exposed from the surfaces of both sheets 11 and 12. The upper surface of the lower side of the resin molded sheet 12, Sujijo 17 of the metal layer 1 8a · 18a 'corresponding to the path to flow the test liquid is attached. The upper resin molding sheet 11 is provided with liquid inlets 13a, 13b, 13c and liquid outlets 14a, 14b corresponding to the start and end of the streak 17 so as to penetrate therethrough.

途中の筋条17の近傍にヒーター19が設けられ、終端の一つにバイオセンサである電極20が設けられている。   A heater 19 is provided in the vicinity of the streak 17 on the way, and an electrode 20 that is a biosensor is provided at one end.

上側の樹脂成形シート11の下面15と、下側の樹脂成形シート12の上面16との重ね面は、一方の面15(又は16)の表面に露出しているヒドロシリル基含有化合物分子のヒドロシリル基(SiH基)と、他方の面16(又は15)の表面に露出しているビニル基含有化合物分子のビニル基(CH=CH−基)とが反応して形成されたケイ素−炭素の共有結合により、接着される。 The overlapping surface of the lower surface 15 of the upper resin molded sheet 11 and the upper surface 16 of the lower resin molded sheet 12 is the hydrosilyl group of the hydrosilyl group-containing compound molecule exposed on the surface of one surface 15 (or 16). Share of silicon-carbon formed by reaction of (SiH group) with the vinyl group (CH 2 ═CH— group) of the vinyl group-containing compound molecule exposed on the surface of the other surface 16 (or 15) Bonded by bonding.

下側の樹脂成形シート12上の筋条17は、ヒドロシリル基含有化合物分子とビニル基含有化合物分子とが露出しないように、樹脂成形シート12を覆っているので、上側の樹脂成形シート11上のこれら化合物分子と共有結合できない。従って、筋条17の部位は、樹脂成形シート11・12の重ね面15・16で非接着になっている。一方、筋条17に沿う両脇は、化学結合により、強固に接着されている。金属層は必要により、その後、酸で洗浄して除去して用いてもよい。 The streak 17 on the lower resin molded sheet 12 covers the resin molded sheet 12 so that the hydrosilyl group-containing compound molecule and the vinyl group-containing compound molecule are not exposed. It cannot be covalently bonded to these compound molecules. Accordingly, the streak 17 is not bonded to the overlapping surfaces 15 and 16 of the resin molded sheets 11 and 12. On the other hand, both sides along the streak 17 are firmly bonded by chemical bonding. If necessary, the metal layer may be removed by washing with an acid.

筋条17の両脇側を樹脂シートの外周側からシート面に平行に圧迫したり、被験液の上流側から外部より圧迫したり、あるいは、被験液が加圧注入されたりすると、筋条17が押し広げられてあたかも管のような流路を形成することができる。また、外部からの加圧または被験液の加圧注入の圧力の度合いにより、殆ど隙間のない状態の流路も実現でき、極めて微量な試験も可能とする。   When the both sides of the streak 17 are pressed in parallel to the sheet surface from the outer peripheral side of the resin sheet, when compressed from the outside from the upstream side of the test liquid, or when the test liquid is injected under pressure, the streak 17 Can be spread to form a channel as if it were a tube. In addition, a flow path with almost no gap can be realized depending on the degree of pressure from the outside or pressurized injection of the test solution, and a very small amount of test can be performed.

筋条の幅や長さは、その用途に応じて適宜目的とする寸法に設計すればよい。本発明のバイオチップ基板によれば、エッチングや溝を彫刻する従来の溝を形成するバイオチップ基板よりも機械的切削・化学的侵食のような削除をする必要がなく、0.5μm幅の非接着の筋条の形成が、可能である。バイオチップ基板の厚さは、それを装着する装置やマイクロリアクターの用途や量に応じ、適宜選択されるが、0.5〜10mmであることが好ましい。 What is necessary is just to design the width | variety and length of a streak to the dimension made into the objective suitably according to the use. According to the biochip substrate of the present invention, it is not necessary to delete such as mechanical cutting and chemical erosion as compared with the conventional biochip substrate that forms an etching or groove engraving, and a 0.5 μm wide non-chip. Bond streaks are possible. The thickness of the biochip substrate is appropriately selected according to the use and amount of the device on which the biochip substrate is mounted and the microreactor, but is preferably 0.5 to 10 mm.

このようなバイオチップ基板1は、図2を参照して説明すると、以下のようにして作製される。   Such a biochip substrate 1 will be described as follows with reference to FIG.

同図(A)のようなヒドロシリル基含有化合物とビニル基含有化合物とを含有するシリコーン製樹脂成形シート12の片面に、同図(B)のようにメッキや蒸着により金属被膜31を付し、さらにその上をフォトレジスト液で塗布し、未硬化レジスト膜32とする。そこに筋条17に対応する位置以外を隠蔽するマスクで覆って露光線を照射して、レジスト膜32を光硬化させた後、隠蔽されていたために硬化しなかった部分を洗浄液で洗い流すと、同図(C)のように硬化したレジスト層32a・32a’が得られる。次いで金属被膜31の露出部分を酸でエッチングすると、同図(D)のように、筋条17に対応する部位に、硬化レジスト層32a・32a’で被覆された金属層18a・18a’が得られる。硬化レジスト層32a・32a’を除去すると、同図(E)のように、金属層18a・18a’が露出する。必要に応じて、ヒーター19やバイオセンサのような電極20を付しておく。ヒドロシリル基含有化合物とビニル基含有化合物とを含有する別なシリコーン製樹脂成形シート11に、液注入口13a・13b・13c及び液排出口14a・14b(図1参照)を開けておく。樹脂成形シート11・12の重ね面15・16を、コロナ放電処理してから、重ね合わせ、加熱下で加圧圧着させると、上側の樹脂成形シート11の下面15と、下側の樹脂成形シート12の上面16とが、何れかに存するヒドロシリル基含有化合物のヒドロシリル基と他方に存するビニル基含有化合物のビニル基とが付加型反応を起こして、金属層18a・18a’以外の部位で、共有結合を形成する。これによって、同図(F)に示すように、バイオチップ基板1が得られる。 A metal film 31 is attached to one surface of a silicone resin- molded sheet 12 containing a hydrosilyl group-containing compound and a vinyl group-containing compound as shown in FIG. Further, it is coated with a photoresist solution to form an uncured resist film 32. Covering with a mask concealing other than the position corresponding to the streak 17 and irradiating the exposure line, photo-curing the resist film 32, and then washing away the portion that has not been cured because it was concealed, The cured resist layers 32a and 32a ′ are obtained as shown in FIG. Next, when the exposed portion of the metal coating 31 is etched with an acid, metal layers 18a and 18a ′ covered with the cured resist layers 32a and 32a ′ are obtained at portions corresponding to the streak 17 as shown in FIG. It is done. When the hardened resist layers 32a and 32a ′ are removed, the metal layers 18a and 18a ′ are exposed as shown in FIG. If necessary, an electrode 20 such as a heater 19 or a biosensor is attached. Liquid injection ports 13a, 13b and 13c and liquid discharge ports 14a and 14b (see FIG. 1) are opened in another silicone resin- molded sheet 11 containing a hydrosilyl group-containing compound and a vinyl group-containing compound. When the overlapping surfaces 15 and 16 of the resin molded sheets 11 and 12 are subjected to corona discharge treatment, and are overlapped and pressure-bonded under heating, the lower surface 15 of the upper resin molded sheet 11 and the lower resin molded sheet 12 of the hydrosilyl group-containing compound existing in one and the vinyl group of the vinyl group-containing compound existing in the other cause an addition-type reaction to be shared at a site other than the metal layers 18a and 18a '. Form a bond. As a result, the biochip substrate 1 is obtained as shown in FIG.

バイオチップ基板1は、例えば微量合成の例について図1及び2を参照して説明すると、以下のようにして使用される。バイオチップ基板をマイクロリアクター(不図示)に装着する。図2(G)のように、バイオチップ基板1の側面側から筋条の流路方向と垂直に、筋条の両脇側へ、圧迫する。すると筋条17が押し広げられて管状の流路を形成する。液注入口13a・13bから、圧力が遺漏しないように密着させたパッキンで覆いながら別々な原料である被験液を注入しつつ加圧する。すると、両方の被験液は、筋状17を流れて混合され、ヒーター19で加熱されて、原料同士が反応する。液注入口13cからバッファのような反応停止剤を同様に注入しつつ加圧する。すると、反応生成物が、液排出口14aに達し、電極20で検出され、そこから排出される。一方、副生成物や廃液が、液排出口14bに達し、そこから排出される。   The biochip substrate 1 will be used as follows, for example, with reference to FIGS. 1 and 2 for an example of trace synthesis. A biochip substrate is attached to a microreactor (not shown). As shown in FIG. 2 (G), the biochip substrate 1 is compressed from the side surface side to the both sides of the streak perpendicular to the streak flow direction. Then, the streak 17 is expanded to form a tubular channel. From the liquid inlets 13a and 13b, pressure is applied while injecting test liquids as separate raw materials while covering with tightly packed packing so that the pressure does not leak. Then, both test liquids flow through the streaks 17 and are mixed and heated by the heater 19 so that the raw materials react with each other. Pressure is applied while injecting a reaction terminator such as a buffer in the same manner from the liquid inlet 13c. Then, the reaction product reaches the liquid discharge port 14a, is detected by the electrode 20, and is discharged therefrom. On the other hand, by-products and waste liquid reach the liquid discharge port 14b and are discharged therefrom.

図1、2で、バイオチップ基板1の筋条17に金属層18a・18a’が付されている例を示したが、バイオチップ基板1は、図3に示すように、その金属層に代え、マスキング樹脂層18b・18b’が付された態様であってもよい。このような態様のバイオチップ基板1は、以下のようにして作製される。同図(A)のようなヒドロシリル基含有化合物とビニル基含有化合物とを含有するシリコーン製樹脂成形シート12の片面に、同図(B)のようにフォトレジスト液で塗布し、未硬化レジスト膜33とする。そこに筋条17に対応する位置以外を隠蔽するマスクで覆って露光線を照射して、レジスト膜33を光硬化させた後、隠蔽されていたために硬化しなかった部分を洗浄液で洗い流すと、同図(C)のように硬化したレジスト層であるマスキング樹脂層18b・18b’が得られる。必要に応じヒーター19やバイオセンサである電極20を付す。ヒドロシリル基含有化合物とビニル基含有化合物とを含有する別なシリコーン製樹脂成形シート11に、液注入口13a・13b・13c及び液排出口14a・14b(図1参照)を開けておく。同図(D)のように樹脂成形シート11・12の重ね面を、コロナ放電処理してから、重ね合わせ、加熱下で加圧圧着させると、図2と同様に、共有結合により接着したバイオチップ基板1が得られる。 1 and 2 show examples in which the metal layers 18a and 18a 'are attached to the streaks 17 of the biochip substrate 1, the biochip substrate 1 is replaced with the metal layers as shown in FIG. Alternatively, the masking resin layers 18b and 18b ′ may be provided. The biochip substrate 1 having such a configuration is manufactured as follows. An uncured resist film is applied to one side of a silicone resin molded sheet 12 containing a hydrosilyl group-containing compound and a vinyl group-containing compound as shown in FIG. 33. Covering with a mask concealing other than the position corresponding to the streak 17 and irradiating with an exposure line, photo-curing the resist film 33, and then washing away the portion that has not been cured because it was concealed, Masking resin layers 18b and 18b ′, which are cured resist layers, are obtained as shown in FIG. A heater 19 and an electrode 20 as a biosensor are attached as necessary. Liquid injection ports 13a, 13b and 13c and liquid discharge ports 14a and 14b (see FIG. 1) are opened in another silicone resin- molded sheet 11 containing a hydrosilyl group-containing compound and a vinyl group-containing compound. As shown in FIG. 2D, when the overlapping surfaces of the resin molded sheets 11 and 12 are subjected to corona discharge treatment, overlapped, and pressure-bonded under heating, the bio-bonded by covalent bond as in FIG. The chip substrate 1 is obtained.

図1〜3で、金属層18a・18a’、マスキング樹脂層18b・18b’が、下側のシリコーン製樹脂成形シート12に設けられた例を示したが、上側シリコーン製樹脂成形シート11に設けられていてもよく、上下両方のシリコーン製樹脂成形シート11・12に設けられていてもよい。また、必要により酸洗または溶剤洗浄により金属層または樹脂層を除去してもよい。 1-3, the metal layers 18a and 18a ′ and the masking resin layers 18b and 18b ′ have been provided on the lower silicone resin molded sheet 12, but the upper silicone resin molded sheet 11 is provided. It may be provided on both the upper and lower silicone resin molded sheets 11 and 12. If necessary, the metal layer or the resin layer may be removed by pickling or solvent cleaning.

バイオチップ基板1の別な態様を、図4に示す。このバイオチップ基板1は、ヒドロシリル基含有化合物とビニル基含有化合物とを含有するシリコーン製樹脂成形シート11・12に、同種のシリコーン製樹脂形成スペーサ21が挟まれたものである。上側樹脂成形シート11に、液注入口13a・13b・13c及び液排出口14a・14bが開けられており、樹脂成形スペーサ21がレーザーカット加工により、被験液の流路となる筋条17が設けられている。樹脂成形シート11・12と、樹脂形成スペーサ21とが、重ね合わせられており、加熱下で加圧圧着されて、図1〜3と同様に、共有結合により接着したバイオチップ基板1となっている。 Another embodiment of the biochip substrate 1 is shown in FIG. The biochip substrate 1 is obtained by sandwiching a silicone resin-forming spacer 21 of the same type between silicone resin- molded sheets 11 and 12 containing a hydrosilyl group-containing compound and a vinyl group-containing compound. The upper resin molded sheet 11 is provided with liquid injection ports 13a, 13b, 13c and liquid discharge ports 14a, 14b, and the resin molded spacer 21 is provided with a streak 17 serving as a flow path for the test liquid by laser cutting. It has been. The resin- molded sheets 11 and 12 and the resin-forming spacer 21 are superposed and pressure-bonded under heat to form the biochip substrate 1 bonded by covalent bonding in the same manner as in FIGS. Yes.

図1〜4で、同種の樹脂成形シート11・12を用いたバイオチップ基板1の例を示したが、異種の樹脂成形シート、又は同種の樹脂成形シートに挟まれた異種のスペーサを用いたものであってもよい(不図示)。より具体的には、樹脂成形シートの内の一方が、その表面に有する水酸基の脱水素基に、ヒドロシリル含有シリル基、ビニル含有シリル基、アルコキシシリル含有シリル基、及び加水分解性基含有シリル基から選ばれる少なくとも1種類の活性シリル基を、シリルエーテル結合されたものであり、他方が、前記活性シリル基と反応するヒドロシリル、ビニルシリル、ヒドロキシシリル、アルキルオキシシリル、アルケニルオキシシリル、アシルオキシシリル、イミノオキシシリル、アルキルアミノシリルから選ばれる少なくとも1種類の反応基を含有する化合物を含んでおり、その両樹脂成形シートが、前記反応により形成された前記ケイ素−炭素とケイ素−酸素との何れかの結合を介して、接着された構造であってもよい。   1-4, the example of the biochip board | substrate 1 using the same kind of resin molding sheet | seat 11 * 12 was shown, but the different kind of resin molding sheet or the different kind of spacer pinched | interposed into the same kind of resin molding sheet was used. It may be a thing (not shown). More specifically, one of the resin molded sheets has a hydrosilyl-containing silyl group, a vinyl-containing silyl group, an alkoxysilyl-containing silyl group, and a hydrolyzable group-containing silyl group as a hydroxyl group dehydrogenation group on the surface thereof. At least one active silyl group selected from the group consisting of silyl ether bond, and the other is hydrosilyl, vinylsilyl, hydroxysilyl, alkyloxysilyl, alkenyloxysilyl, acyloxysilyl, imino which reacts with the active silyl group A compound containing at least one kind of reactive group selected from oxysilyl and alkylaminosilyl, wherein both resin-molded sheets are formed of any one of the silicon-carbon and silicon-oxygen formed by the reaction. It may be a structure bonded through a bond.

このようなバイオチップ基板は、例えば以下のようにして作製される。   Such a biochip substrate is manufactured as follows, for example.

シリコーン樹脂のような高分子樹脂製の下側樹脂成形シートとなる基材表面にコロナ放電処理を施し、水酸基が露出し活性化したシリコーンゴム架橋反応性の基材表面とする。   Corona discharge treatment is performed on the surface of the base material that becomes the lower resin molded sheet made of a polymer resin such as a silicone resin, to form a silicone rubber cross-linking reactive base material surface exposed and activated by hydroxyl groups.

一方、その水酸基に反応してシリルエーテルを形成させるHSi(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2CH2Si(OC2H5)3のような機能性アルコキシシリル化合物と溶媒との溶液を、水酸基が生成している樹脂成形シートの基材表面に付し、乾燥させた後、加熱する。この機能性アルコキシシリル化合物のトリエトキシシリル基が、樹脂成形シートの基材表面上の水酸基に反応し、前記活性シリル基となり、水酸基の脱水素残基とともに、化学的に強固なシリルエーテル結合を形成する。このアルコキシシリル化合物により、ヒドロシリル含有シリル基のようなシリル基がエーテル結合したシリルエーテルの単分子膜で被覆された下側樹脂成形シートが得られる。このような単分子膜は、最初に使用したシリル化合物の基本単位を超えない分子鎖からなる。 On the other hand, a functional alkoxysilyl compound such as HSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 that reacts with the hydroxyl group to form a silyl ether and a solvent The solution is applied to the base material surface of the resin-molded sheet in which hydroxyl groups are generated, dried, and then heated. The triethoxysilyl group of this functional alkoxysilyl compound reacts with the hydroxyl group on the surface of the base material of the resin molded sheet to become the active silyl group, which forms a chemically strong silyl ether bond together with the dehydrogenated residue of the hydroxyl group. Form. By this alkoxysilyl compound, a lower resin-molded sheet coated with a monomolecular film of silyl ether in which a silyl group such as a hydrosilyl-containing silyl group is ether-bonded is obtained. Such a monomolecular film consists of molecular chains that do not exceed the basic unit of the silyl compound used first.

この樹脂成形シートに、筋条や必要に応じてヒーターや電極等を配置してから、シリコーンゴム成分を含む組成物を塗布し又はその組成物で形成した別な樹脂成形シートを当接させて、硬化させると、表面にシリコーンゴムが樹脂成形シート上のシリルエーテルの単分子膜に架橋して接着されたシリコーンゴムである上側樹脂成形シートが形成される。下側樹脂成形シートの表面上のシリルエーテル分子と上側樹脂成形シートのシリコーンゴムとは、シリルエーテル分子とシリコーンゴム成分とが化学反応し共有結合を形成して化学的に架橋したり、シリル基同士で引き付け合って相互作用して電気化学的に架橋したりして、強固に結合している。そのため、上側及び下側の両樹脂成形シートは、筋条以外の部位で強い接着強度を有しつつ接着されており、剥がれ難くなっている。   After placing the streaks and, if necessary, heaters and electrodes on the resin molded sheet, a composition containing a silicone rubber component is applied or another resin molded sheet formed from the composition is brought into contact with the resin molded sheet. When cured, an upper resin molded sheet, which is silicone rubber in which silicone rubber is crosslinked and bonded to the monomolecular film of silyl ether on the resin molded sheet, is formed on the surface. The silyl ether molecule on the surface of the lower resin molding sheet and the silicone rubber of the upper resin molding sheet are chemically crosslinked by the chemical reaction between the silyl ether molecule and the silicone rubber component, or chemically crosslinked. They are attracted to each other and interact to form an electrochemical cross-link, resulting in a strong bond. Therefore, both the upper and lower resin molded sheets are bonded while having strong adhesive strength at portions other than the streak, and are difficult to peel off.

上側及び下側の両樹脂成形シートを逆にして作製してもよい。ヒドロシリル含有シリル基のようなシリル基でシリルエーテル結合した下側樹脂成形シートの例を示したが、ビニルシリル含有シリル基で例示されるビニル含有シリル基、アルコキシシリル末端含有シリル基、加水分解性基含有シリル基のような活性シリル基でシリルエーテル結合したものであってもよい。液注入口及び液排出口は樹脂成形シートに形成されるもので、一方の樹脂成形シート上に形成されていてもよく、重ねられた樹脂成形シートの重ね面の端に設けられていてもよく、被験液の注入及び排出の際の穿刺によって形成されてもよい。   The upper and lower resin molded sheets may be produced by reversing them. An example of a lower resin-molded sheet having a silyl ether bond with a silyl group such as a hydrosilyl-containing silyl group has been shown, but a vinyl-containing silyl group exemplified by a vinylsilyl-containing silyl group, an alkoxysilyl terminal-containing silyl group, a hydrolyzable group It may be a silyl ether bond with an active silyl group such as a contained silyl group. The liquid injection port and the liquid discharge port are formed in the resin molded sheet, and may be formed on one resin molded sheet, or may be provided at the end of the overlapping surface of the stacked resin molded sheets. Alternatively, it may be formed by puncture at the time of injection and discharge of the test liquid.

このような活性シリル基は何れも、樹脂成形シートの基材表面の水酸基に機能性アルコキシシリル化合物のアルコキシシリル基が反応することにより、形成されるものである。   Such active silyl groups are all formed by the reaction of the alkoxysilyl group of the functional alkoxysilyl compound with the hydroxyl group on the surface of the base material of the resin molded sheet.

このようなヒドロシリル含有シリル基で樹脂成形シートの基材(Sub.:Substrate)に形成されるシリルエーテル結合は、下記化学式[1]
Sub.−O−SiR20 ・・・[1]
で表わされる。ヒドロシリル含有シリル基−SiR20は、R20が末端に-SiH(R1)2又は-SiH2(R2)(R1及びR2は、炭素数1〜4のアルキル基)を有し、又はその主鎖の途中に-SiH-基を有しているというもので、ポリシロキシ基となっていてもよいというものである。
The silyl ether bond formed on the substrate (Sub .: Substrate) of the resin molded sheet with such a hydrosilyl-containing silyl group has the following chemical formula [1]
Sub.-O-SiR 20 ... [1]
It is represented by Hydrosilyl-containing silyl group —SiR 20 has R 20 having —SiH (R 1 ) 2 or —SiH 2 (R 2 ) (R 1 and R 2 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms) at the end, Alternatively, it has a —SiH— group in the middle of its main chain and may be a polysiloxy group.

−SiR20は、より具体的には、
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2H、
-(CH3O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2H、
-(i-C3H7O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)H2
-(n-C3H7O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2Si(CH3)2H、
-(n-C4H9O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(t-C4H9O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(C2H5O)CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(CH3O)CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2Si(CH3)2H、
-(CH3)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(n-C3H7)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(i-C3H7O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(n-C4H9)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(t-C4H9O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H]k1
-[(-O)(-)SiCH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H]k2
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H]k3
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H]k4
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H]k5
-(CH3O)2SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
-(CH3O)CH3SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
-(CH3)2SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
-[(-O)(-)SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H]k6
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2Si(CH3)2C6H4OC6H4Si(CH3)2H]k7
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2Si(CH3)2C2H4Si(CH3)2H]k8
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]m1Si(CH3)2H、
-(C2H5)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]m2Si(C2H5)2H、
-(C2H5O)CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]m3Si(CH3)2H、
(CH3)3SiO[-Si(CH3)]O[SiH(CH3)O]m4Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(CH3)CH2CH2CH2)(-)SiCH3]O[SiH(CH3)O]m5Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(OCH3)CH2CH2CH2)(-)SiCH3]O[SiH(CH3)O]m6Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(CH3)CH2CH2CH2)(-)SiCH3]O[SiH(CH3)O]m7Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2)SiCH3]O[SiH(CH3)O]m8Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(CH3)O[SiH(CH3)O]m9[Si(CH3)2O]n1Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)(-)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]m10[Si(CH3)2O]n2Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(OCH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)(-)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]m11[Si(CH3)2O]n3Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]m12[Si(CH3)2O]n4Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(OCH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)(-)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]m13[Si(CH3)2O]n5Si(CH3)3
(CH3)3SiO[-Si(C2H5)O][SiH(C2H5)O]m14Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(C2H5)]O[SiH(C2H5)O]m15Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)(-)Si(C2H5)]O[SiH(C2H5)O]m16Si(CH3)3
-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[HSi(CH3)2OSiC6H5O]m17Si(CH3)2H、
-Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[HSi(CH3)2OSiC6H5O]m18Si(CH3)2H、
-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[HSi(CH3)2OSiC6H5O]m19Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(CH3)2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m20Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m21Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m22Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m23Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m24Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m25Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m26Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m27Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m28Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m29Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m30Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m31Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m32Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m33Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m34Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m35Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m36Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m37Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m38Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m39Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m40Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m41Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m42Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m43Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m44Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m45Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m46Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m47Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m48Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m49Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m50Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSiC6H5O]m51[HSi(CH3)2OSiC6H5O]n6Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(OCH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSiC6H5O]m52[HSi(CH3)2OSiC6H5O]n7Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSiC6H5O]m53[HSi(CH3)2OSiC6H5O]n8Si(CH3)2H、
-(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]m54[SiCH3(C6H5)O]n9Si(CH3)2H、
-Si(OC2H5)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]m55[SiCH3(C6H5)O]n10Si(CH3)2H、
-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]m56[SiCH3(C6H5)O]n11Si(CH3)2H、
-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]m57[SiCH3(C6H5)O]n12Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO(-)Si(CH3)O[SiH(CH3)O]m58[SiCH3(C6H5)O]n13Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(OC2H5)2CH2CH2CH2Si(CH3)]O[SiH(CH3)O]m59[SiCH3(C6H5)O]n14Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(O-)CH2CH2CH2Si(CH3)]O[SiH(CH3)O]m60[SiCH3(C6H5)O]n15Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(CH3)2CH2CH2CH2Si(CH3)]O[SiH(CH3)O]m61[SiCH3(C6H5)O]n16Si(CH3)2H
が挙げられる。これらの基中、k1〜k8、m1〜m61及びn1〜n16は1〜100までの数である。一つの基に、ヒドロシリル基(SiH基)を、1〜99個有していることが好ましい。
More specifically, -SiR 20 is
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 H,
-(iC 3 H 7 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) H 2 ,
-(nC 3 H 7 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 Si (CH 3 ) 2 H,
-(nC 4 H 9 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(tC 4 H 9 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(C 2 H 5 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 Si (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(nC 3 H 7 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(iC 3 H 7 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(nC 4 H 9 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(tC 4 H 9 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H] k1
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H] k2 ,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H] k3 ,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H] k4 ,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H] k5 ,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 O) CH 3 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 ) 2 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
-[(-O) (-) SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H] k6 ,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 OC 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H] k7 ,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 2 H 4 Si (CH 3 ) 2 H] k8 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] m1 Si (CH 3 ) 2 H,
-(C 2 H 5 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] m2 Si (C 2 H 5 ) 2 H,
-(C 2 H 5 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] m3 Si (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 ) 3 SiO [-Si (CH 3 )] O [SiH (CH 3 ) O] m4 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] m5 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (OCH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] m6 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] m7 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 ) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] m8 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (CH 3 ) O [SiH (CH 3 ) O] m9 [Si (CH 3 ) 2 O] n1 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] m10 [Si (CH 3 ) 2 O] n2 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (OCH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] m11 [Si (CH 3 ) 2 O] n3 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [( -Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] m12 [Si (CH 3 ) 2 O] n4 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (OCH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] m13 [Si (CH 3 ) 2 O] n5 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [-Si (C 2 H 5 ) O] [SiH (C 2 H 5 ) O] m14 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (C 2 H 5 )] O [SiH (C 2 H 5 ) O] m15 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) Si (C 2 H 5 )] O [SiH (C 2 H 5 ) O] m16 Si (CH 3 ) 3 ,
-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m17 Si (CH 3 ) 2 H,
-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m18 Si (CH 3 ) 2 H,
-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m19 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m20 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (CH 3) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m21 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m22 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m23 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m24 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m25 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m26 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m27 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (OCH 3) 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m28 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (OCH 3) 2 CH 2 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m29 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m30 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (OCH 3) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m31 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (OCH 3) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m32 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m33 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m34 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m35 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m36 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m37 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m38 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m39 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m40 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (O-) C 6 H 4 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m41 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m42 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m43 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m44 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m45 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m46 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m47 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (O-) CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m48 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m49 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (O-) C 6 H 4 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m50 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m51 [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] n6 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (OCH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m52 [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] n7 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m53 [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] n8 Si (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] m54 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n9 Si (CH 3 ) 2 H,
-Si (OC 2 H 5 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] m55 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n10 Si ( CH 3 ) 2 H,
-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] m56 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n11 Si (CH 3 ) 2 H,
-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] m57 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n12 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO (-) Si (CH 3 ) O [SiH (CH 3 ) O] m58 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n13 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (OC 2 H 5 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 )] O [SiH (CH 3 ) O] m59 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n14 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 )] O [SiH (CH 3 ) O] m60 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n15 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 )] O [SiH (CH 3 ) O] m61 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n16 Si (CH 3 ) 2 H
Is mentioned. In these groups, k1 to k8, m1 to m61, and n1 to n16 are numbers from 1 to 100. One group preferably has 1 to 99 hydrosilyl groups (SiH groups).

このようなヒドロシリル含有シリル基を形成する機能性アルコキシシリル化合物は、前記のヒドロシリル含有化合物、例えば、
(CH3O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(CH3O)3SiCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)3
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)3
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2H、
(CH3O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2H、
(i-C3H7O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)H
(n-C3H7O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2Si(CH3)2H、
(n-C4H9O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(t-C4H9O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)2CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(CH3O)2CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2Si(CH3)2H、
CH3O(CH3)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(n-C3H7)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(i-C3H7O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(n-C4H9)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(t-C4H9O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(CH3O)3SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
(CH3O)2CH3SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
CH3O(CH3)2SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2C6H4OC6H4Si(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2C2H4Si(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]p1Si(CH3)2H、
C2H5O(CH3)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]p2Si(C2H5)2H、
(C2H5O)2CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]p3Si(CH3)2H、
(CH3)3SiOSiH(CH3)O[SiH(CH3)O]p4Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(C2H5OSi(CH3)CH2CH2CH2)SiCH3]O[SiH(CH3)O]p5Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(C2H5OSiOCH3CH2CH2CH2)SiCH3]O[SiH(CH3)O]p6Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(C2H5OSi(CH3)CH2CH2CH2)SiCH3]O[SiH(CH3)O]p7Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(Si(OC2H5)2CH2CH2CH2)SiCH3]O[SiH(CH3)O]p8Si(CH3)3
(CH3)3SiOSi(OC2H5)2O[SiH(CH3)O]p9[Si(CH3)2O]q1Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(C2H5Osi(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]p10[Si(CH3)2O]q2Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]p11[Si(CH3)2O]q3Si(CH3)3
(CH3)3SiOSi(OC2H5)2O[SiH(C2H5)O]p12Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(Si(OC2H5)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(C2H5)]O[SiH(C2H5)O]p13Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(C2H5OSi(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(C2H5)]O[SiH(C2H5)O]p14Si(CH3)3
C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[HSi(CH3)2OSiC6H5O]p15Si(CH3)2H、
Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[HSi(CH3)2OSiC6H5O]p16Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p17Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p18Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p19Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p20Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p21Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p22Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p23Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p24Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p25Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p26Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p27Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p28Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p29Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p30Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p31Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p32Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p33Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p34Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p35Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(CH3O)Si(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSiC6H5O]p36[HSi(CH3)2OSiC6H5O]q4Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSiC6H5O]p37[HSi(CH3)2OSiC6H5O]q5Si(CH3)2H、
C2H5O(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]p38[SiCH3(C6H5)O]q6Si(CH3)2H、
Si(OC2H5)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]p39[SiCH3(C6H5)O]q7Si(CH3)2H、
C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]p40[SiCH3(C6H5)O]q8Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO(C2H5O)Si(CH3)O[SiH(CH3)O]p41[SiCH3(C6H5)O]q9Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[Si(OC2H5)3CH2CH2CH2Si(CH3)]O[SiH(CH3)O]p42[SiCH3(C6H5)O]q10Si(CH3)2H
が挙げられる。これらの基中、p1〜p42及びq1〜q10は1〜100までの数である。一つの分子に、ヒドロシリル基を、1〜99個有していることが好ましい。
The functional alkoxysilyl compound that forms such a hydrosilyl-containing silyl group includes the hydrosilyl-containing compound described above, for example,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 OSi (OCH 3 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 OSi (OCH 3 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 H,
(iC 3 H 7 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) H 2 ,
(nC 3 H 7 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 Si (CH 3 ) 2 H,
(nC 4 H 9 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(tC 4 H 9 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 Si (CH 3 ) 2 H,
CH 3 O (CH 3 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(nC 3 H 7 ) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(iC 3 H 7 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(nC 4 H 9 ) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(tC 4 H 9 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 O) 2 CH 3 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
CH 3 O (CH 3 ) 2 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 OC 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 2 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] p1 Si (CH 3 ) 2 H,
C 2 H 5 O (CH 3 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] p2 Si (C 2 H 5 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] p3 Si (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 ) 3 SiOSiH (CH 3 ) O [SiH (CH 3 ) O] p4 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 ) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] p5 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(C 2 H 5 OSiOCH 3 CH 2 CH 2 CH 2 ) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] p6 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 ) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] p7 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(Si (OC 2 H 5 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] p8 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiOSi (OC 2 H 5 ) 2 O [SiH (CH 3 ) O] p9 [Si (CH 3 ) 2 O] q1 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(C 2 H 5 Osi (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] p10 [Si (CH 3 ) 2 O] q2 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] p11 [Si (CH 3 ) 2 O] q3 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiOSi (OC 2 H 5 ) 2 O [SiH (C 2 H 5 ) O] p12 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(Si (OC 2 H 5 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (C 2 H 5 )] O [SiH (C 2 H 5 ) O] p13 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (C 2 H 5 )] O [SiH (C 2 H 5 ) O] p14 Si (CH 3 ) 3 ,
C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] p15 Si (CH 3 ) 2 H,
Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] p16 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p17 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p18 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p19 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p20 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p21 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p22 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p23 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p24 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p25 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p26 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p27 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p28 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p29 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p30 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p31 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p32 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p33 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p34 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p35 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(CH 3 O) Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] p36 [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] q4 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] p37 [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] q5 Si (CH 3 ) 2 H,
C 2 H 5 O (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] p38 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] q6 Si (CH 3 ) 2 H,
Si (OC 2 H 5 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] p39 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] q7 Si (CH 3 ) 2 H,
C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] p40 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] q8 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO (C 2 H 5 O) Si (CH 3 ) O [SiH (CH 3 ) O] p41 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] q9 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [Si (OC 2 H 5 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 )] O [SiH (CH 3 ) O] p42 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] q10 Si (CH 3 ) 2 H
Is mentioned. In these groups, p1 to p42 and q1 to q10 are numbers from 1 to 100. One molecule preferably has 1 to 99 hydrosilyl groups.

またビニルシリル含有シリル基で樹脂成形シートの基材(Sub.)に形成されるシリルエーテル結合は、下記化学式[2]
Sub.−O−SiR21 ・・・[2]
で表わされる。ビニルシリル含有シリル基−SiR21は、R21が-Si-R3基(R3はビニル含有基)を有し、又は該基の主鎖の途中に-Si(R4)-基(R4はビニル含有基)を有しているというものである。
The silyl ether bond formed on the base (Sub.) Of the resin molded sheet with a vinylsilyl-containing silyl group is represented by the following chemical formula [2]:
Sub.-O-SiR 21 ... [2]
It is represented by In the vinylsilyl-containing silyl group —SiR 21 , R 21 has a —Si—R 3 group (R 3 is a vinyl-containing group), or a —Si (R 4 ) — group (R 4 ) in the middle of the main chain of the group. Has a vinyl-containing group).

−SiR21は、より具体的には、
-(C2H5O)2SiCH2-CH=CH2
-(C2H5O)2SiCH2CH2-CH=CH2
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2CH2-CH=CH2
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2-CH=CH2
-C2H5OSi(CH=CH2)OSi(OC2H5)-CH=CH2
-(CH3O)2SiCH2CH2C6H4-CH=CH2
-(CH3O)Si(CH=CH2)O[SiOCH3(CH=CH2)O]r1Si(OCH3)2-CH=CH2
-(C2H5O)Si(CH=CH2)O[SiOC2H5(CH=CH2)O]r2Si(OC2H5)2-CH=CH2
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]r3-CH=CH2
-(CH3O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]r4-CH=CH2
-(CH3)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]r5-CH=CH2
-(C2H5O)CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]r6-CH=CH2
-(-O)SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]r7-CH=CH2
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2(Si(CH3)3O)Si(CH3)O[SiCH3(-)O]s1Si(CH3)3
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2(Si(CH3)3O)Si(CH3)O[SiCH3(-)O]s2[Si(CH3)2O]r8Si(CH3)3
-C2H5OSi(CH=CH2)O[SiCH3(-)O]s3Si(OC2H5)2CH=CH2
-C2H5OSi(CH=CH2)O[SiCH3(-)O]s4Si(CH=CH2)OC2H5-CH=CH2
-(-O)Si(CH=CH2)O[SiCH3(-)O]s5Si(OC2H5)2CH=CH2
-(-O)Si(CH=CH2)O[SiCH3(-)O]s6Si(CH=CH2)(O-)-CH=CH2
-(-O)Si(CH=CH2)O[SiCH3(-)(O-)]s7Si(CH=CH2)(O-)-CH=CH2
-Si(CH=CH2)O[Si(-)OC2H5]s8[Si(O-)CH=CH2]2
-Si(CH=CH2)O[Si(O-)]r9[Si(-)OC2H5]s9[Si(OC2H5)2CH=CH2]2
-Si(CH=CH2)O[Si(-)(O-)]s10[Si(O-)CH=CH2]2
が挙げられる。これらの基中、r1〜r9及びs1〜s10は、1〜30の数である。一つの基に、ビニル基(CH=CH2基)を、1〜30個有していることが好ましい。
-SiR 21 is more specifically
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -CH = CH 2 ,
-C 2 H 5 OSi (CH = CH 2 ) OSi (OC 2 H 5 ) -CH = CH 2 ,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 -CH = CH 2 ,
-(CH 3 O) Si (CH = CH 2 ) O [SiOCH 3 (CH = CH 2 ) O] r1 Si (OCH 3 ) 2 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) Si (CH = CH 2 ) O [SiOC 2 H 5 (CH = CH 2 ) O] r2 Si (OC 2 H 5 ) 2 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] r3 -CH = CH 2 ,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] r4 -CH = CH 2 ,
-(CH 3 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] r5 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] r6 -CH = CH 2 ,
-(-O) SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] r7 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 (Si (CH 3 ) 3 O) Si (CH 3 ) O [SiCH 3 ( -) O] s1 Si (CH 3 ) 3 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 (Si (CH 3 ) 3 O) Si (CH 3 ) O [SiCH 3 ( -) O] s2 [Si (CH 3 ) 2 O] r8 Si (CH 3 ) 3 ,
-C 2 H 5 OSi (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (-) O] s3 Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ,
-C 2 H 5 OSi (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (-) O] s4 Si (CH = CH 2 ) OC 2 H 5 -CH = CH 2 ,
-(-O) Si (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (-) O] s5 Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ,
-(-O) Si (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (-) O] s6 Si (CH = CH 2 ) (O-)-CH = CH 2 ,
-(-O) Si (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (-) (O-)] s7 Si (CH = CH 2 ) (O-)-CH = CH 2 ,
-Si (CH = CH 2 ) O [Si (-) OC 2 H 5 ] s8 [Si (O-) CH = CH 2 ] 2 ,
-Si (CH = CH 2 ) O [Si (O-)] r9 [Si (-) OC 2 H 5 ] s9 [Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ] 2 ,
-Si (CH = CH 2 ) O [Si (-) (O-)] s10 [Si (O-) CH = CH 2 ] 2
Is mentioned. In these groups, r1 to r9 and s1 to s10 are numbers from 1 to 30. One group preferably has 1 to 30 vinyl groups (CH═CH 2 groups).

ビニルシリル含有シリル基を形成する機能性アルコキシシリル化合物は、前記ビニルシリル含有化合物、例えば、
(C2H5O)3SiCH2CH=CH2
(CH3O)3SiCH2CH2CH=CH2
(C2H5O)3SiCH2CH2CH=CH2
(CH3O)3SiCH2CH2CH2CH2CH=CH2
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2CH2CH=CH2
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2CH=CH2
(CH3O)3SiCH2(CH2)7CH=CH2
(C2H5O)2Si(CH=CH2)OSi(OC2H5)CH=CH2
(CH3O)3SiCH2CH2C6H4CH=CH2
(CH3O)2Si(CH=CH2)O[SiOCH3(CH=CH2)O]t1Si(OCH3)2CH=CH2
(C2H5O)2Si(CH=CH2)O[SiOC2H5(CH=CH2)O]t2Si(OC2H5)3
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]t3CH=CH2
(CH3O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]t4CH=CH2
CH3O(CH3)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]t5CH=CH2
(C2H5O)2CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]t6CH=CH、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]t7CH=CH、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2(Si(CH3)3O)Si(CH3)O[SiCH3(-)O]u1Si(CH3)3CH=CH2
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2(Si(CH3)3O)Si(CH3)O[SiCH3(-)O]u2[Si(CH3)2O]t8Si(CH3)3CH=CH2
(C2H5O)2Si(CH=CH2)O[SiCH3(OC2H5)O]u3Si(OC2H5)2CH=CH2
(C2H5O)2Si(CH=CH2)O[Si(OC2H5)2O]u4Si(OC2H5)2CH=CH2
(C2H5O)2Si(CH=CH2)O[Si(OC2H5)2O]u5Si(OC2H5)2CH=CH2
が挙げられる。これらの基中、t1〜t8及びu1〜u5は1〜30までの数である。一つの分子に、ビニル基を、1〜30個有していることが好ましい。
The functional alkoxysilyl compound that forms a vinylsilyl-containing silyl group is the vinylsilyl-containing compound, for example,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 (CH 2 ) 7 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (CH = CH 2 ) OSi (OC 2 H 5 ) CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 2 Si (CH = CH 2 ) O [SiOCH 3 (CH = CH 2 ) O] t1 Si (OCH 3 ) 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (CH = CH 2 ) O [SiOC 2 H 5 (CH = CH 2 ) O] t2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] t3 CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] t4 CH = CH 2 ,
CH 3 O (CH 3 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] t5 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] t6 CH = CH,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] t7 CH = CH,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 (Si (CH 3 ) 3 O) Si (CH 3 ) O [SiCH 3 (- ) O] u1 Si (CH 3 ) 3 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 (Si (CH 3 ) 3 O) Si (CH 3 ) O [SiCH 3 (- ) O] u2 [Si (CH 3 ) 2 O] t8 Si (CH 3 ) 3 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (OC 2 H 5 ) O] u3 Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (CH = CH 2 ) O [Si (OC 2 H 5 ) 2 O] u4 Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (CH = CH 2 ) O [Si (OC 2 H 5 ) 2 O] u5 Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2
Is mentioned. In these groups, t1 to t8 and u1 to u5 are numbers from 1 to 30. One molecule preferably has 1 to 30 vinyl groups.

また、アルコキシシリル末端含有シリル基で樹脂成形シートの基材(Sub.)に形成されるシリルエーテル結合は、下記化学式[3]
Sub.−O−SiR22 ・・・[3]
で表わされる。アルコキシシリル末端含有シリル基−SiR22は、R22が-Si(OR5)2R6基(R5及びR6は炭素数1〜4のアルキル基)、又は-Si(OR7)3基(R7は炭素数1〜4のアルキル基)を有しているものである。−SiR22は、より具体的には、
-(C2H5O)2SiCH2CH2Si(OC2H5)3
-(C2H5O)CH3SiCH2CH2Si(OC2H5)3
-(C2H5O)2SiCH=CHSi(OC2H5)3、
-(CH3O)2SiCH2CH2Si(OCH3)3、
-(CH3O)2SiCH2CH2C6H4CH2CH2Si(OCH3)3
-(CH3O)2Si[CH2CH2]3Si(OCH3)3
-(CH3O)2Si[CH2CH2]4Si(OCH3)3、
-(CH3O)CH3SiCH2CH2Si(OCH3)2CH3
-(C2H5O)CH3SiOSi(OC2H5)2CH3
-(C2H5O)Si(OC2H5)2
が挙げられる。
In addition, the silyl ether bond formed on the base (Sub.) Of the resin molded sheet with an alkoxysilyl terminal-containing silyl group is represented by the following chemical formula [3]:
Sub.-O-SiR 22 ... [3]
It is represented by In the alkoxysilyl terminal-containing silyl group —SiR 22 , R 22 is —Si (OR 5 ) 2 R 6 group (R 5 and R 6 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms), or —Si (OR 7 ) 3 group. (R 7 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). -SiR 22 is more specifically
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
-(C 2 H 5 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH = CHSi (OC 2 H 5 ) 3,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
-(CH 3 O) 2 Si [CH 2 CH 2 ] 3 Si (OCH 3 ) 3 ,
-(CH 3 O) 2 Si [CH 2 CH 2 ] 4 Si (OCH 3 ) 3,
-(CH 3 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 CH 3 ,
-(C 2 H 5 O) CH 3 SiOSi (OC 2 H 5 ) 2 CH 3 ,
-(C 2 H 5 O) Si (OC 2 H 5 ) 2
Is mentioned.

アルコキシシリル末端含有シリル基を形成する機能性アルコキシシリル化合物の例として、
(C2H5O)3SiCH2CH2Si(OC2H5)3
(C2H5O)2CH3SiCH2CH2Si(OC2H5)3
(C2H5O)3SiCH=CHSi(OC2H5)3
(CH3O)3SiCH2CH2Si(OCH3)3(CH3O)3SiCH2CH2C6H4CH2CH2Si(OCH3)3
(CH3O)3Si[CH2CH2]3Si(OCH3)3
(CH3O)2Si[CH2CH2]4Si(OCH3)3
(C2H5O)2Si(OC2H5)2
(CH3O)2CH3SiCH2CH2Si(OCH3)2CH3
(C2H5O)2CH3SiOSi(OC2H5)2CH3
(CH3O)3SiO[Si(OCH3)2O]v1Si(OCH3)3
(C2H5O)3SiO[Si(OC2H5)2O]v2Si(OC2H5)3
(C3H7O)3SiO[Si(OC3H7)2O]v3Si(OC3H7)3
が挙げられる。これらの基中、v1〜v3は0〜30までの数である。
Examples of functional alkoxysilyl compounds that form alkoxysilyl terminal-containing silyl groups include:
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH = CHSi (OC 2 H 5 ) 3 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 (CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
(CH 3 O) 3 Si [CH 2 CH 2 ] 3 Si (OCH 3 ) 3 ,
(CH 3 O) 2 Si [CH 2 CH 2 ] 4 Si (OCH 3 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (OC 2 H 5 ) 2 ,
(CH 3 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 CH 3 ,
(C 2 H 5 O) 2 CH 3 SiOSi (OC 2 H 5 ) 2 CH 3 ,
(CH 3 O) 3 SiO [Si (OCH 3 ) 2 O] v1 Si (OCH 3 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiO [Si (OC 2 H 5 ) 2 O] v2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
(C 3 H 7 O) 3 SiO [Si (OC 3 H 7 ) 2 O] v3 Si (OC 3 H 7 ) 3
Is mentioned. In these groups, v1 to v3 are numbers from 0 to 30.

また、加水分解性基含有シリル基で樹脂成形シートの基材(Sub.)に形成されるシリルエーテル結合は、下記化学式[4]
Sub.−O−Si(R8)a(R9)3-a ・・・[4]
(R8は、水素原子;ハロゲン原子;炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、フッ素置換アルキル基;アラルキル基;アリール基であり、R9は、炭素数1〜12のアシルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルカンイミノオキシ基、アルキルオキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基;含窒素複素環基、及びアリールアミノ基であり、aは0〜3の数)で表わされる。より具体的には、加水分解性基含有シリル基−Si(R8)a(R9)3-a中、R8は、H-、F-、CH3-、C2H5-、CH2=CH-、n-C3H7-、i-C3H7-、CH2=CHCH2-、C4H9-、C6H13-、C8H17-、C6H5-、CH3C6H4-、C6H5CH2-、CF3CF2CH2CH2-、CF3CF2CF2CH2CH2-、CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2-、CH3O-、C2H5O-が挙げられ、R9は、CH3COO-、CH2=C(CH3)O-、C2H5(CH3)C=NO-、CH3O-、(CH3)2N-、(C2H5)2N-、(i-C3H7)2N-、O(CH2CH2)2N-、(CH3)3CNH-、C6H10NH-、C6H5NH-が挙げられる。
Further, the silyl ether bond formed on the substrate (Sub.) Of the resin molded sheet with the hydrolyzable group-containing silyl group is represented by the following chemical formula [4].
Sub.-O-Si (R 8 ) a (R 9 ) 3-a ... [4]
(R 8 is a hydrogen atom; a halogen atom; an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyloxy group, a fluorine-substituted alkyl group; an aralkyl group; an aryl group, and R 9 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. An acyloxy group, an alkenyloxy group, an alkaneiminooxy group, an alkyloxy group, an alkylamino group, a dialkylamino group; a nitrogen-containing heterocyclic group, and an arylamino group, where a is a number from 0 to 3. More specifically, in the hydrolyzable group-containing silyl group -Si (R 8 ) a (R 9 ) 3-a , R 8 is H-, F-, CH 3- , C 2 H 5- , CH 2 = CH-, nC 3 H 7 -, iC 3 H 7 -, CH 2 = CHCH 2 -, C 4 H 9 -, C 6 H 13 -, C 8 H 17 -, C 6 H 5 -, CH 3 C 6 H 4 -, C 6 H 5 CH 2 -, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 -, CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 -, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CH 3 O-, C 2 H 5 O-, and R 9 is CH 3 COO-, CH 2 = C (CH 3 ) O-, C 2 H 5 (CH 3 ) C = NO-, CH 3 O-, (CH 3 ) 2 N-, (C 2 H 5 ) 2 N-, (iC 3 H 7 ) 2 N-, O (CH 2 CH 2 ) 2 N-, (CH 3 ) 3 CNH-, C 6 H 10 NH-, C 6 H 5 NH-.

加水分解性基含有シリル基を形成する機能性アルコキシシリル化合物の例として、
CH3Si(OCOCH3)3、(CH3)2Si(OCOCH3)2、n-C3H7Si(OCOCH3)3、CH2=CHCH2Si(OCOCH3)3、C6H5Si(OCOCH3)3、CF3CF2CH2CH2Si(OCOCH3)3、CH2=CHCH2Si(OCOCH3)3、CH3OSi(OCOCH3)3、C2H5OSi(OCOCH3)3、CH3Si(OCOC3H7)3、CH3Si[OC(CH3)=CH2]3、(CH3)2Si[OC(CH3)=CH2]3、n-C3H7Si[OC(CH3)=CH2]3、CH2=CHCH2Si[OC(CH3)=CH2]3、C6H5Si[OC(CH3)=CH2]3、CF3CF2CH2CH2Si[OC(CH3)=CH2]3、CH2=CHCH2Si[OC(CH3)=CH2]3、CH3OSi[OC(CH3)=CH2]3、C2H5OSi[OC(CH3)=CH2]3、CH3Si[ON=C(CH3)C2H5]3、(CH32Si[ON=C(CH3)C2H5]2、n-C3H7Si[ON=C(CH3)C2H5]3、CH2=CHCH2Si[ON=C(CH3)C2H5]3、C6H5Si[ON=C(CH3)C2H5]3、CF3CF2CH2CH2Si[ON=C(CH3)C2H5]3、CH2=CHCH2Si[ON=C(CH3)C2H5]3、CH3OSi[ON=C(CH3)C2H5]3、C2H5OSi[ON=C(CH3)C2H5]]3、CH3Si[ON=C(CH3)C2H5]3、CH3Si[N(CH3)]3、(CH3)2Si[N(CH3)]2、n-C3H7Si[N(CH3)]3、CH2=CHCH2Si[N(CH3)]3、C6H5Si[N(CH3)]3、CF3CF2CH2CH2Si[N(CH3)]3、CH2=CHCH2Si[N(CH3)]3、CH3OSi[N(CH3)]3、C2H5OSi[N(CH3)]3、CH3Si[N(CH3)]3などの昜加水分解性オルガノシランが挙げられる。
As an example of a functional alkoxysilyl compound that forms a hydrolyzable group-containing silyl group,
CH 3 Si (OCOCH 3 ) 3 , (CH 3 ) 2 Si (OCOCH 3 ) 2 , nC 3 H 7 Si (OCOCH 3 ) 3 , CH 2 = CHCH 2 Si (OCOCH 3 ) 3 , C 6 H 5 Si ( OCOCH 3 ) 3 , CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 Si (OCOCH 3 ) 3 , CH 2 = CHCH 2 Si (OCOCH 3 ) 3 , CH 3 OSi (OCOCH 3 ) 3 , C 2 H 5 OSi (OCOCH 3 ) 3 , CH 3 Si (OCOC 3 H 7 ) 3 , CH 3 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , (CH 3 ) 2 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , nC 3 H 7 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , C 6 H 5 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 3 OSi [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , C 2 H 5 OSi [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 3 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , (CH 3 ) 2 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 2 , nC 3 H 7 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , C 6 H 5 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [ ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , CH 3 OSi [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , C 2 H 5 OSi [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] ] 3 , CH 3 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , CH 3 Si [ N (CH 3 )] 3 , (CH 3 ) 2 Si [N (CH 3 )] 2 , nC 3 H 7 Si [N (CH 3 )] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [N (CH 3 )] 3 , C 6 H 5 Si [N (CH 3 )] 3 , CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 Si [N (CH 3 )] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [N (CH 3 )] 3 , CH 3 OSi [N (CH 3 )] 3 , C 2 H 5 OSi [N (CH 3 )] 3 , and CH 3 Si [N (CH 3 )] 3 are examples of hydrolyzable organosilanes.

これらの機能性アルコキシシリル化合物は、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;酢酸エチルなどのエステル類;塩化メチレンなどのハロゲン化物、ブタン、ヘキサンなどのオレフィン類;テトラヒドロフラン、ブチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族類;ジメチルホルムアミド、メチルピロリドンなどのアミド類;及びこれらの混合溶媒などに溶解して使用される。   These functional alkoxysilyl compounds include water, methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol and other alcohols; acetone, methyl ethyl ketone and other ketones; ethyl acetate and other esters; methylene chloride and other halides, butane, hexane, etc. These olefins are used by dissolving in ethers such as tetrahydrofuran and butyl ether, aromatics such as benzene and toluene, amides such as dimethylformamide and methylpyrrolidone, and mixed solvents thereof.

機能性アルコキシシリル化合物の添加量は、概ね上記の溶剤100gに対して、0.001〜5gの範囲が適当である。0.001g以下では接着効果が十分ではなく、5g以上では条件を制御しても多層薄膜が生成するので好ましくない。   The amount of the functional alkoxysilyl compound added is generally in the range of 0.001 to 5 g with respect to 100 g of the solvent. If it is 0.001 g or less, the adhesive effect is not sufficient, and if it is 5 g or more, a multilayer thin film is formed even if the conditions are controlled.

シリコーン製の樹脂成形シートの基材の好ましい例を示したが、シリコーンはシリコーン樹脂でもシリコーンゴムでも好ましく用いられる。その他、高分子樹脂製の基材でもよい。これらの材質は透明材質が好ましく、バイオチップ基板を用い被験液を蛍光発光・染色するときに蛍光波長の透過を阻害しないものであることが好ましい。   Although the preferable example of the base material of the resin-made sheet | seat made from silicone was shown, silicone is preferably used by a silicone resin or silicone rubber. In addition, a base material made of a polymer resin may be used. These materials are preferably transparent materials, and are preferably those that do not inhibit the transmission of the fluorescence wavelength when the test solution is fluorescently emitted / stained using a biochip substrate.

高分子樹脂として、例えばセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、デンプン、二酢酸セルロースのようなセルロース誘導体、表面ケン化酢酸ビニル樹脂、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、i-ポリプロピレン、石油樹脂、ポリスチレン、s‐ポリスチレン、クロマン・インデン樹脂、テルペン樹脂、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリルニトリル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、ポリシアノアクリレート、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル・エチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、フッ化ビニリデン・エチレン共重合体、フッ化ビニリデン・プロピレン共重合体、1,4‐トランスポリブタジエン、ポリオキシメチレン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、フェノール・ホルマリン樹脂、クレゾール・フォルマリン樹脂、レゾルシン樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、トルエン樹脂、グリプタル樹脂、変性グリプタル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブテレンテレフタレート、不飽和ポリエステル樹脂、アリルエステル樹脂、ポリカーボネート、6−ナイロン(ナイロンは登録商標)、6'6−ナイロン、6'10-ナイロン、ポリイミド、ポリアミド、ポリベンズイミダゾール、ポリアミドイミド、ケイ素樹脂、シリコーンゴム、シリコーン樹脂、フラン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンオキサイド、ポリジメチルフェニレンオキサイド、ポリキシレン、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリスルホン(PSF)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリイミド(PPI、カプトン)、液晶樹脂、ケブラー繊維、炭素繊維とこれら複数材料のブレンド物、ポリテトラフロロエチレン(PTFE)のような高分子材料、又は天然ゴム、1,4‐シスブタジエンゴム、イソプレンゴム、ポリクロロプレン、スチレン・ブタジエン共重合ゴム、水素添加スチレン・ブタジエン共重合ゴム、アクリルニトリル・ブタジエン共重合ゴム、水素添加アクリルニトリル・ブタジエン共重合ゴム、ポリブテン、ポリイソブチレン、エチレン・プロピレンゴム、エチレン・プロピレン・ターポリマー、塩素化ポリエチレン、クロルスルフォン化ポリエチレン、アルキル化クロルスルフォン化ポリエチレン、クロロプレンゴム、塩素化アクリルゴム、臭素化アクリルゴム、フッ素ゴム、エピクロルヒドリンとその共重合ゴム、塩素化エチレンプロピレンゴム、塩素化ブチルゴム、臭素化ブチルゴムなどのゴム材料が挙げられる。これらの混合物又はこれらの架橋物であってもよい。   Examples of polymer resins include cellulose, hydroxyethyl cellulose, starch, cellulose derivatives such as cellulose diacetate, surface saponified vinyl acetate resin, low density polyethylene, high density polyethylene, i-polypropylene, petroleum resin, polystyrene, s-polystyrene, Chroman indene resin, terpene resin, styrene-divinylbenzene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin), polyacrylate, polyacrylate, polyacrylonitrile, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, poly Cyanoacrylate, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, vinyl chloride / ethylene copolymer, poly Vinylidene fluoride, vinylidene fluoride / ethylene copolymer, vinylidene fluoride / propylene copolymer, 1,4-transpolybutadiene, polyoxymethylene, polyethylene glycol, polypropylene glycol, phenol / formalin resin, cresol / formalin resin, Resorcin resin, melamine resin, xylene resin, toluene resin, glyphal resin, modified glyphal resin, polyethylene terephthalate, polybutene terephthalate, unsaturated polyester resin, allyl ester resin, polycarbonate, 6-nylon (Nylon is a registered trademark), 6 ' 6-nylon, 6'10-nylon, polyimide, polyamide, polybenzimidazole, polyamideimide, silicon resin, silicone rubber, silicone resin, furan resin, polyurethane resin, epoxy Resin, polyphenylene oxide, polydimethylphenylene oxide, polyxylene, polyphenylene sulfide (PPS), polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES), polyetheretherketone (PEEK), polyimide (PPI, Kapton), liquid crystal resin , Kevlar fibers, blends of carbon fibers and these materials, polymer materials such as polytetrafluoroethylene (PTFE), or natural rubber, 1,4-cisbutadiene rubber, isoprene rubber, polychloroprene, styrene-butadiene copolymer Polymerized rubber, hydrogenated styrene / butadiene copolymer rubber, acrylonitrile / butadiene copolymer rubber, hydrogenated acrylonitrile / butadiene copolymer rubber, polybutene, polyisobutylene, ethylene / propylene rubber, ethylene / propylene / terpolymer, chlorine Polyethylene, chlorosulfonated polyethylene, alkylated chlorosulfonated polyethylene, chloroprene rubber, chlorinated acrylic rubber, brominated acrylic rubber, fluoro rubber, epichlorohydrin and its copolymer rubber, chlorinated ethylene propylene rubber, chlorinated butyl rubber, brominated butyl rubber Rubber materials such as A mixture thereof or a cross-linked product thereof may be used.

重ね合わせるべき樹脂成形シートは、これらの材料から適宜選択でき、二種類の異なる樹脂成形シートが重ね合わされてもよい。また、重ね合わせるべき樹脂成形シートは、一方はゴム弾性があり、他方はゴム弾性がなく樹脂性の高い材料であり、これらが接着されていてもよい。   The resin molded sheet to be superimposed can be appropriately selected from these materials, and two different types of resin molded sheets may be superimposed. Further, one of the resin molded sheets to be superposed is rubber elastic, and the other is a material having no rubber elasticity and high resinity, and these may be bonded.

樹脂成形シートは、例えば、ゴム状の弾性を有するものである場合、デューロメータA硬さを30〜80の範囲とするものであることが好ましい。またこのようなゴム状の弾性を有する樹脂成形シートと、デューロメータD硬さを20〜90とする通常の樹脂で成形されたシートとを、適宜組み合わせて用いてもよい。   For example, when the resin molded sheet has rubber-like elasticity, the durometer A hardness is preferably in the range of 30 to 80. Moreover, you may use suitably combining the resin molding sheet | seat which has such rubber-like elasticity, and the sheet | seat shape | molded by normal resin which makes durometer D hardness 20-90.

樹脂成形シート基材にコロナ放電を施した例を示したが、大気圧プラズマ処理又は紫外線照射を施してもよい。   Although the example which gave the corona discharge to the resin molded sheet base material was shown, you may give an atmospheric pressure plasma process or ultraviolet irradiation.

コロナ放電は、「コロナ処理」、日本接着学会誌、Vol.36,No.3,126(2000)に記載の方法に準じて、大気圧プラズマ処理は、「プラズマ処理」、日本接着学会誌、Vol.41,No.1,4(2005)に準じて、紫外線照射は、紫外線に暴露させて、夫々処理するというものである。これらの処理によって、L.J.Gerenser:J.Adhesion Sci.Technol.7,1019(1997)に記載のように、樹脂成形シートの基材表面に、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基などが生成したり、表面に出現したりする。   Corona discharge is performed according to the method described in “Corona Treatment”, Journal of the Adhesion Society of Japan, Vol. 36, No. 3, 126 (2000). Atmospheric pressure plasma treatment is performed using “plasma treatment”, Journal of the Adhesion Society of Japan, Vol. In accordance with 41, No. 1, 4 (2005), ultraviolet irradiation involves exposure to ultraviolet rays and treatment. By these treatments, as described in LJ Gerenser: J. Adhesion Sci. Technol. 7, 1019 (1997), a hydroxyl group, a carboxyl group, a carbonyl group, etc. are generated on the surface of the base material of the resin molded sheet. Or appear.

前記の高分子樹脂は、元々水酸基を有するものと有しないものとがあるが、高分子樹脂製の樹脂成形シートの基材表面に水酸基を有しなくともコロナ放電、大気圧プラズマ処理又は紫外線照射の処理を施すことにより、そこに水酸基が効率よく生成される。   The above polymer resins may or may not have hydroxyl groups from the beginning, but even if they do not have hydroxyl groups on the base material surface of the polymer resin-made resin sheet, corona discharge, atmospheric pressure plasma treatment or ultraviolet irradiation By performing the treatment, a hydroxyl group is efficiently generated there.

それらの最適処理条件は、樹脂成形シートの基材表面の材質の種類や履歴によって異なるが、その表面に55kJ/m以上の表面張力が得られるまで処理し続けることが重要である。これにより、十分な接着強度が得られる。   These optimum processing conditions vary depending on the type and history of the material on the base material surface of the resin molded sheet, but it is important to continue the processing until a surface tension of 55 kJ / m or more is obtained on the surface. Thereby, sufficient adhesive strength is obtained.

具体的には、樹脂成形シートの基材表面のコロナ放電処理は、コロナ表面改質装置(例えば、信光電気計測(株)製コロナマスター)を用いて、例えば、電源:AC100V、出力電圧:0〜20kV、発振周波数:0〜40kHzで0.1秒〜60秒、温度0〜60℃の条件で行われる。   Specifically, the corona discharge treatment on the surface of the base material of the resin molded sheet is performed using, for example, a corona surface reformer (for example, Corona Master manufactured by Shinko Electric Measurement Co., Ltd.), for example, power supply: AC100V, output voltage: 0 -20 kV, oscillation frequency: 0 to 40 kHz, 0.1 second to 60 seconds, temperature 0 to 60 ° C.

また、樹脂成形シートの基材表面の大気圧プラズマ処理は、大気圧プラズマ発生装置(例えば、松下電工(株)製:商品名Aiplasuma)を用いて、例えば、プラズマ処理速度10〜100mm/s,電源:200 or 220V AC(30A)、圧縮エア:0.5MPa(1NL/min)、10kHz/300W〜5GHz、電力:100W〜400W、照射時間:0.1秒〜60秒の条件で行われる。   Moreover, the atmospheric pressure plasma treatment of the substrate surface of the resin molded sheet is performed using, for example, an atmospheric pressure plasma generator (for example, Matsushita Electric Works, Ltd .: trade name Aiplasuma), for example, a plasma treatment speed of 10 to 100 mm / s, Power source: 200 or 220V AC (30 A), compressed air: 0.5 MPa (1 NL / min), 10 kHz / 300 W to 5 GHz, power: 100 W to 400 W, irradiation time: 0.1 second to 60 seconds.

また、樹脂成形シートの基材の表面の紫外線照射は、紫外線−発光ダイオード(UV-LED)照射装置(例えば、(株)オムロン製のUV-LED照射装置:商品名ZUV-C30H)を用いて、例えば、波長:200〜400nm、電源:100V AC、光源ピーク照度:400〜3000mW/cm2、照射時間:1〜60秒の条件で行われる。 In addition, ultraviolet irradiation of the surface of the base material of the resin molded sheet is performed using an ultraviolet-light emitting diode (UV-LED) irradiation device (for example, UV-LED irradiation device manufactured by OMRON Corporation: trade name ZUV-C30H). For example, the conditions are as follows: wavelength: 200 to 400 nm, power supply: 100 V AC, light source peak illuminance: 400 to 3000 mW / cm 2 , irradiation time: 1 to 60 seconds.

コロナ放電などの前処理後、樹脂成形シートの基材表面を、分子接着剤である機能性アルコキシシリル化合物の溶液に浸漬又は噴霧によって接触させてもよい。浸漬及び噴霧の時間に制限はなく、樹脂成形シートの基材表面が一様に湿潤していることが重要である。   After the pretreatment such as corona discharge, the substrate surface of the resin molded sheet may be brought into contact with a solution of a functional alkoxysilyl compound that is a molecular adhesive by dipping or spraying. There is no limitation on the dipping and spraying time, and it is important that the substrate surface of the resin molded sheet is uniformly moistened.

機能性アルコキシシリル化合物を付した樹脂成形シートの基材を、オーブンに入れたり、ドライヤーで温風を送風したり、高周波を照射したりすることにより、加熱しながら乾燥する。加熱・乾燥は、50℃〜250℃の温度範囲で、1〜60分間行われる。50℃以下では、樹脂成形シートの基材表面に生成した水酸基と機能性アルコキシシリル化合物との反応時間が長くかかりすぎて、生産性が低下し、コストの高騰を招く。また、250℃以上では、加熱乾燥時間が短くても樹脂成形シートの基材表面が変形したり、分解したりしてしまう。1分間以下の加熱乾燥では熱の伝達が不十分であるため、樹脂成形シートの基材表面の水酸基と機能性アルコキシシリル化合物との結合が不十分となる。また、60分以上では生産性が低下する。   The substrate of the resin-molded sheet with the functional alkoxysilyl compound is dried while being heated by placing it in an oven, blowing warm air with a dryer, or irradiating a high frequency. Heating and drying are performed at a temperature range of 50 ° C to 250 ° C for 1 to 60 minutes. When the temperature is 50 ° C. or lower, the reaction time between the hydroxyl group generated on the substrate surface of the resin molded sheet and the functional alkoxysilyl compound is too long, resulting in a decrease in productivity and an increase in cost. Further, at 250 ° C. or higher, the base material surface of the resin molded sheet is deformed or decomposed even if the heat drying time is short. Since heat transfer is insufficient in heat drying for 1 minute or less, the bonding between the hydroxyl group on the surface of the base material of the resin molded sheet and the functional alkoxysilyl compound becomes insufficient. Moreover, productivity will fall in 60 minutes or more.

樹脂成形シートの基材表面の水酸基と機能性アルコキシシリル化合物との反応が不十分な場合には、上記の浸漬と乾燥とを1〜5回程度繰り返してもよい。それにより1回当たりの浸漬及び乾燥時間を短縮し、反応回数を増やす方が反応を十分に進行させることができる。   When the reaction between the hydroxyl group on the substrate surface of the resin-molded sheet and the functional alkoxysilyl compound is insufficient, the above immersion and drying may be repeated about 1 to 5 times. As a result, it is possible to sufficiently advance the reaction by shortening the time of dipping and drying per time and increasing the number of reactions.

さらに、前記の機能性アルコキシシリル化合物とシラン化合物とを組み合わせて用いることにより、シリコーンゴム架橋反応性を有するシリルエーテルを、樹脂成形シートの基材表面に形成させることができる。   Furthermore, the silyl ether which has silicone rubber crosslinking reactivity can be formed in the base-material surface of a resin molding sheet | seat by using combining the said functional alkoxysilyl compound and a silane compound.

たとえば、上記の機能性アルコキシシリル化合物で樹脂成形シートの基材表面の水酸基とを反応させた後、シラン化合物、例えば
HSi(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
HSi(CH3)2C6H4OC6H4Si(CH3)2H、
CH3Si(H)2C2H4Si(H)2CH3
HSi(CH3)2C2H4Si(CH3)2H、
HSi(CH3)2OSi(CH3)2H、
HSi(CH3)2O[Si(CH3)2O]x1Si(CH3)2H(但しx1=1〜840)、
(CH3)3SiO[SiH(R17)O]x2[Si(CH3)2O]y1Si(CH3)3(但しR17=CH3-、C2H5-、C6H5-;y1=1〜50;x2=0〜50)、
HSi(CH3)2O[SiC6H5(OSi(CH3)2H)]x3Si(CH3)2H(x3=1〜5)、
HSi(CH3)2O[SiCH3(H)O]x4[SiCH3(C6H5)O]y2Si(CH3)2H(x4=1〜10、y2=1〜10)
が挙げられる。これらのシラン化合物の0.01〜5%アルコール溶液に浸漬して、0〜200℃に1〜60分間加熱することによって、樹脂成形シートの基材が得られる。0.01%以下では反応時間がかかりすぎ、5%以上では洗浄・回収のコストがかかってしまう。0℃以下では反応性が低く、200℃以上では生産性が劣る。1分間以下では反応が完結せず、60分間以上では生産性が劣る。
For example, after reacting the hydroxyl group on the substrate surface of the resin molded sheet with the above functional alkoxysilyl compound, a silane compound, for example,
HSi (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
HSi (CH 3 ) 2 C 6 H 4 OC 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
CH 3 Si (H) 2 C 2 H 4 Si (H) 2 CH 3 ,
HSi (CH 3 ) 2 C 2 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
HSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
HSi (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] x1 Si (CH 3 ) 2 H (where x1 = 1 to 840),
(CH 3 ) 3 SiO [SiH (R 17 ) O] x2 [Si (CH 3 ) 2 O] y1 Si (CH 3 ) 3 (where R 17 = CH 3- , C 2 H 5- , C 6 H 5 -; Y1 = 1-50; x2 = 0-50)
HSi (CH 3 ) 2 O [SiC 6 H 5 (OSi (CH 3 ) 2 H)] x3 Si (CH 3 ) 2 H (x3 = 1-5),
HSi (CH 3 ) 2 O [SiCH 3 (H) O] x4 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] y2 Si (CH 3 ) 2 H (x4 = 1-10, y2 = 1-10)
Is mentioned. A substrate of a resin molded sheet is obtained by immersing in a 0.01-5% alcohol solution of these silane compounds and heating to 0-200 ° C. for 1-60 minutes. If it is 0.01% or less, it takes too much reaction time, and if it is 5% or more, cleaning and recovery costs are required. The reactivity is low below 0 ° C, and the productivity is inferior above 200 ° C. The reaction is not completed in 1 minute or less, and the productivity is inferior in 60 minutes or more.

同様に、以下の不飽和アルコキシシラン化合物、例えば
CH2=CHCH2Si(OC2H5)3
CH2=CHCH2CH2Si(OC2H5)3
CH2=CHCH2CH2CH2CH2Si(OC2H5)3
CH2=CHCH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3
CH2=CHSi(OC2H5)2OSi(OC2H5)2CH=CH2
CH2=CHC6H4CH2CH2Si(OCH3)3
CH2=CHSi(OCH3)2O[SiOCH3(CH=CH2)O]x5Si(OCH3)2CH=CH2 (但し、x5=1〜30)、
CH2=CHSi(CH3)2O[Si(CH3)2O]y3[Si(R18)2O]x6Si(CH3)2CH=CH2(但し、R18=CH3−,C2H5−,C6H5−,又はCF3CH2CH3−、x6=0〜2100、y3=0〜2100)、
(CH3)3SiO[Si(CH3)2O]y4[SiCH3(CH=CH2)O]x7Si(CH3)3(但し、x7=0〜2100、y4=0〜2100)、
(CH3)3SiO[Si(CH3)2O]y5[SiCH3(CH=CH2)O]x8[SiCH3(R19)O]z1Si(CH3)3(R19=CH3−,C2H5−,C6H5−,又はCF3CH2CH3−、x8=0〜2100、y5=0〜2100、z1=0〜2100)
が挙げられる。これらの不飽和アルコキシシラン化合物で樹脂成形シートの基材表面の水酸基と反応させた後、前記のシラン化合物の0.01〜5%と、白金触媒の10〜1000ppmとの混合物の懸濁液に、0〜200℃、1〜60分間浸漬しても樹脂成形シートが得られる。
Similarly, the following unsaturated alkoxysilane compounds, such as
CH 2 = CHCH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
CH 2 = CHCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
CH 2 = CHCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
CH 2 = CHCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
CH 2 = CHSi (OC 2 H 5 ) 2 OSi (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ,
CH 2 = CHC 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
CH 2 = CHSi (OCH 3 ) 2 O [SiOCH 3 (CH = CH 2 ) O] x5 Si (OCH 3 ) 2 CH = CH 2 (however, x5 = 1-30),
CH 2 = CHSi (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] y3 [Si (R 18 ) 2 O] x6 Si (CH 3 ) 2 CH = CH 2 (However, R 18 = CH 3 −, C 2 H 5 −, C 6 H 5 −, or CF 3 CH 2 CH 3 −, x6 = 0 to 2100, y3 = 0 to 2100),
(CH 3 ) 3 SiO [Si (CH 3 ) 2 O] y4 [SiCH 3 (CH = CH 2 ) O] x7 Si (CH 3 ) 3 (where x7 = 0 to 2100, y4 = 0 to 2100),
(CH 3 ) 3 SiO [Si (CH 3 ) 2 O] y5 [SiCH 3 (CH = CH 2 ) O] x8 [SiCH 3 (R 19 ) O] z1 Si (CH 3 ) 3 (R 19 = CH 3 −, C 2 H 5 −, C 6 H 5 −, or CF 3 CH 2 CH 3 −, x8 = 0 to 2100, y5 = 0 to 2100, z1 = 0 to 2100)
Is mentioned. After reacting with the hydroxyl group on the substrate surface of the resin molded sheet with these unsaturated alkoxysilane compounds, the suspension of a mixture of 0.01 to 5% of the silane compound and 10 to 1000 ppm of the platinum catalyst is 0. A resin molded sheet can be obtained even by immersing at ~ 200 ° C for 1 to 60 minutes.

このときシラン化合物濃度が0.01%以下では反応時間がかかりすぎ、5%以上では洗浄・回収のコストがかかってしまう。白金触媒濃度が10ppmでは反応速度が遅すぎ、1000ppm以上ではコストが問題となってしまう。0℃以下では反応性が低いので生産性が低く、また200℃以上ではSiH基が酸化されて性能が低下する。1分間以下では反応が完結しない場合もあり、60分間以上では生産性が劣る。   At this time, if the silane compound concentration is 0.01% or less, it takes too much reaction time, and if it is 5% or more, cleaning and recovery costs are required. If the platinum catalyst concentration is 10 ppm, the reaction rate is too slow, and if it is 1000 ppm or more, the cost becomes a problem. Below 0 ° C, the reactivity is low, so the productivity is low. Above 200 ° C, the SiH group is oxidized and the performance decreases. The reaction may not be completed in 1 minute or less, and the productivity is inferior in 60 minutes or more.

また、機能性ポリアルコキシシランで樹脂成形シートの基材の水酸基と反応させた後、HOSi(CH3)2O[Si(CH3)2O]2Si(CH3)2OHのようなシラノール末端シロキサンの0.01〜5%のメタノール溶液に0〜200℃、1〜60分間浸漬すると、シラノール基を表面に含有した樹脂成形シートが得られる。 Moreover, after reacting with the hydroxyl group of the base material of the resin molded sheet with functional polyalkoxysilane, silanol such as HOSi (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] 2 Si (CH 3 ) 2 OH When immersed in a 0.01 to 5% methanol solution of terminal siloxane at 0 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes, a resin molded sheet containing silanol groups on the surface is obtained.

このシラノール末端シロキサン濃度が0.01%以下では反応時間がかかりすぎ、5%以上では洗浄・回収のコストがかかってしまう。0℃以下では反応性が低いので生産性が劣り、また200℃以上では多分子膜になる場合もあるので好ましくない。1分間以下では反応が完結しない場合もあり、60分間以上では生産性が劣る。   If the silanol-terminated siloxane concentration is 0.01% or less, the reaction time is too long, and if it is 5% or more, cleaning and recovery costs are required. Below 0 ° C., the reactivity is low and the productivity is inferior. Above 200 ° C., a multimolecular film may be formed, which is not preferable. The reaction may not be completed in 1 minute or less, and the productivity is inferior in 60 minutes or more.

前記のようにして得られたヒドロシリル(SiH)基、不飽和基、及びシラノール(SiOH)基などの架橋反応性基が導入された下側樹脂成形シートは、以下に説明するようなシリコーンゴム成分組成物やそれで形成された上側シリコーン製樹脂成形シートと接触させて、放置又は加熱することにより架橋接着を起こす。   The lower resin molded sheet into which a crosslinking reactive group such as hydrosilyl (SiH) group, unsaturated group, and silanol (SiOH) group obtained as described above is introduced is a silicone rubber component as described below. It is brought into contact with the composition and the upper silicone resin molded sheet formed from the composition and left or heated to cause cross-linking adhesion.

下側樹脂成形シートを、シリコーンゴム成分組成物やそれで形成された上側シリコーン製樹脂成形シートと接触させて、0〜200℃で1〜240分間、大気圧から100kg/cm2の圧力下で処理すると、バイオチップ基板が得られる。 The lower resin molded sheet is brought into contact with the silicone rubber component composition and the upper silicone resin molded sheet formed therefrom, and treated at 0 to 200 ° C. for 1 to 240 minutes under a pressure of 100 kg / cm 2 from atmospheric pressure. Then, a biochip substrate is obtained.

このとき0℃以下では架橋速度が遅くて生産性に劣るが、200℃以上では使用する高分子樹脂に熱安定性の限界があり好ましくない。1分以下では架橋反応が十分でなく接着しない場合が多く、240分以上では生産性が劣り好ましくない。通常発泡体を製造する以外は大気圧以下ではバイオチップ基板の接着強度が低くなり、100kg/cm2以上にしても特段益がないので好ましくない。 At this time, the crosslinking rate is low at 0 ° C. or lower and the productivity is inferior, but at 200 ° C. or higher, the polymer resin to be used is not preferable because it has a limit of thermal stability. If it is 1 minute or less, the crosslinking reaction is not sufficient and often does not adhere, and if it is 240 minutes or more, the productivity is inferior, which is not preferable. Except for the production of foam, the adhesive strength of the biochip substrate is low at atmospheric pressure or lower, and even if it is 100 kg / cm 2 or higher, there is no particular advantage, which is not preferable.

樹脂成形シートを構成するシリコーンゴム成分は、下記化学式[5]
H(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]c[Si(R11)R12O]dSi(CH3)2H ・・・[5]
(式中、R11及びR12は、より具体的にはCH3−,C2H5−,CH2CH=CH2−,n-C3H7−,i-C3H7−,n-C6H13−,n-C8H17−,C6H5−,C6H5CH2−,C6H5CH2CH2−,C10H7−,CF3CH2CH2−,CF3CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,HSi(CH3)2O−で例示される基、cは1〜80の数、またdは0〜80の数)から選ばれたポリHシロキサン、
下記化学式[6]
CH2=CH(CH3)2SiO[SiCH=CH2(CH3)O]e[Si(R13)R14O]fSi(CH3)2CH=CH2 ・・・[6]
(式中、R13及びR14は、より具体的には、CH3−,C2H5−,CH2=CH−,CH2=CHCH2−,n-C3H7−,i-C3H7−,n-C6H13−,n-C8H17−,C6H5−,CH2=CHC6H4−,CH2=CHC6H4CH2−,C6H5CH2CH2−,C10H7−,CF3CH2CH2−,CF3CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,HSi(CH3)2O−で例示される基、eは1〜80の数、fは0〜80の数)
から選ばれたビニルシリコーン類、
又は下記化学式[7]
A-(CH3)2SiO[Si(CH3)2O]g[Si(R15)R16O]hSi(CH3)2-A ・・・[7]
(式中、R15及びR16はCH3−,C2H5−,CH2=CH−,CH2=CHCH2−,n-C3H7−,i-C3H7−,n-C6H13−,n-C8H17−,C6H5−,CH2=CHC6H4−,CH2=CHC6H4CH2−,C6H5CH2CH2−,C10H7−,CF3CH2CH2−,CF3CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−で例示される基、AはHO−、CH3O−,C2H5O−,n-C3H7O−,i-C3H7O−,C6H5O−,CH3COO−、CH2=C(CH3)O−、C2H5(CH3)C=NO−、(CH3)2N−,(C2H5)2N−で例示される基、gは1〜80の数、hは0〜80の数)から選ばれたシラノールシリコーン類誘導体が挙げられる。
The silicone rubber component constituting the resin molded sheet has the following chemical formula [5]
H (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] c [Si (R 11 ) R 12 O] d Si (CH 3 ) 2 H ・ ・ ・ [5]
(Wherein, R 11 and R 12, more specifically CH 3 -, C 2 H 5 -, CH 2 CH = CH 2 -, nC 3 H 7 -, iC 3 H 7 -, nC 6 H 13 −, NC 8 H 17 −, C 6 H 5 −, C 6 H 5 CH 2 −, C 6 H 5 CH 2 CH 2 −, C 10 H 7 −, CF 3 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 -, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , A group represented by HSi (CH 3 ) 2 O—, c is a number from 1 to 80, and d is a number from 0 to 80),
The following chemical formula [6]
CH 2 = CH (CH 3 ) 2 SiO [SiCH = CH 2 (CH 3 ) O] e [Si (R 13 ) R 14 O] f Si (CH 3 ) 2 CH = CH 2 ... [6]
(Wherein, R 13 and R 14, more specifically, CH 3 -, C 2 H 5 -, CH 2 = CH-, CH 2 = CHCH 2 -, nC 3 H 7 -, iC 3 H 7 −, NC 6 H 13 −, nC 8 H 17 −, C 6 H 5 −, CH 2 = CHC 6 H 4 −, CH 2 = CHC 6 H 4 CH 2 −, C 6 H 5 CH 2 CH 2 −, C 10 H 7 −, CF 3 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 —, a group exemplified by HSi (CH 3 ) 2 O—, e is a number from 1 to 80, and f is a number from 0 to 80)
Vinyl silicones selected from
Or the following chemical formula [7]
A- (CH 3 ) 2 SiO [Si (CH 3 ) 2 O] g [Si (R 15 ) R 16 O] h Si (CH 3 ) 2 -A ・ ・ ・ [7]
(Wherein R 15 and R 16 are CH 3 −, C 2 H 5 −, CH 2 = CH−, CH 2 = CHCH 2 −, nC 3 H 7 −, iC 3 H 7 −, nC 6 H 13 − , nC 8 H 17 −, C 6 H 5 −, CH 2 = CHC 6 H 4 −, CH 2 = CHC 6 H 4 CH 2 −, C 6 H 5 CH 2 CH 2 −, C 10 H 7 −, CF 3 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- group, A is HO-, CH 3 O-, C 2 H 5 O-, nC 3 H 7 O-, iC 3 H 7 O-, C 6 H 5 O−, CH 3 COO−, CH 2 = C (CH 3 ) O−, C 2 H 5 (CH 3 ) C = NO−, (CH 3 ) 2 N−, (C 2 H 5 ) 2 N− And silanol silicone derivatives selected from the group exemplified by the formula: g is a number from 1 to 80, and h is a number from 0 to 80.

シリコーンゴム成分組成物は、これらのシリコーンゴム成分の少なくとも一種類を含んでいる。化学式[5]と化学式[6]の混合物からなる付加型シリコーンゴム組成、化学式[6]のみからなるパーオキサイド型シリコーンゴム組成、及び化学式[7]又は化学式[5]と化学式[7]の混合物からなる縮合型シリコーンゴム組成であってもよい。   The silicone rubber component composition contains at least one of these silicone rubber components. Addition type silicone rubber composition comprising a mixture of chemical formula [5] and chemical formula [6], peroxide type silicone rubber composition comprising only chemical formula [6], and chemical formula [7] or a mixture of chemical formula [5] and chemical formula [7] The condensation type silicone rubber composition which consists of may be sufficient.

シリコーンゴム成分組成物は上記シリコーンゴム成分の他に、充填剤、架橋剤、触媒が加えられていてもよい。   In addition to the silicone rubber component, the silicone rubber component composition may contain a filler, a crosslinking agent, and a catalyst.

充填剤は、湿式シリカ、乾式シリカ、タルク、ニプシル、カーボンブラック、金属酸化物が挙げられ、10〜100部の範囲内で添加される。10部以下では補強効果が十分でなく、また100以上では充填が困難になってしまう。   Examples of the filler include wet silica, dry silica, talc, nipsil, carbon black, and metal oxide, and are added in the range of 10 to 100 parts. If it is 10 parts or less, the reinforcing effect is not sufficient, and if it is 100 parts or more, filling becomes difficult.

シリコーンゴムは、パーオキサイド架橋系、付加型架橋系及び縮合型架橋系などの架橋系で形成される。これにより、架橋して接着したバイオチップ基板が得られる。   Silicone rubber is formed by a crosslinking system such as a peroxide crosslinking system, an addition crosslinking system, and a condensation crosslinking system. Thereby, a biochip substrate bonded by cross-linking is obtained.

パーオキサイド型シリコーンゴム組成には、ベンゾイルぺルオキシド、t-ブチルパーベンゾエイト、ジクミルペルオキシド、ジt-ブチルペルオキシド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルペルオキシ)ヘキサン、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルペルオキシ)ヘキシン-3、ジ(t-ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼンなどパーオキサイドが0.5〜5部添加される。0.5部以下では架橋が不十分であり、また5部以上では成型加工中に架橋が起こる恐れがある。   Peroxide type silicone rubber composition includes benzoyl peroxide, t-butyl perbenzoate, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, 2 0.5 to 5 parts of a peroxide such as 1,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3, di (t-butylperoxyisopropyl) benzene is added. If it is 0.5 parts or less, crosslinking is insufficient, and if it is 5 parts or more, crosslinking may occur during molding.

下側樹脂成形シートと、パーオキサイド型シリコーンゴム組成物やそれで形成された上側シリコーン製樹脂成形シートとを当接させて、80〜200℃の温度範囲で1〜60分間加熱すると、それらが架橋したバイオチップ基板が、得られる。80℃以下では架橋したバイオチップ基板が得られ難く、また200℃以上ではシリコーンゴムが黄変する場合がある。1分以下では架橋が不十分であり、また60分以上では生産性が低くコスト高となる。   When the lower resin-molded sheet is brought into contact with the peroxide-type silicone rubber composition or the upper silicone resin-molded sheet formed with the composition and heated in a temperature range of 80 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes, they are crosslinked. A biochip substrate is obtained. A crosslinked biochip substrate is difficult to obtain at 80 ° C. or lower, and the silicone rubber may turn yellow at 200 ° C. or higher. In less than 1 minute, crosslinking is insufficient, and in more than 60 minutes, productivity is low and cost is high.

付加型シリコーンゴム組成には、付加型架橋に使用される触媒として、塩化白金酸、白金カルボニルシクロビニルメチルシロキサン錯体、白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金オクタナル/オクタノール錯体、トリス(ジブチルスルフィド)ロジュウムトリクロリドなどを1〜100ppmの範囲内で添加して使用される。これが1ppm以下では架橋が不十分であり、また100ppm以上ではコスト高となるので好ましくない。   For addition type silicone rubber composition, chloroplatinic acid, platinum carbonylcyclovinylmethylsiloxane complex, platinum divinyltetramethyldisiloxane complex, platinum cyclovinylmethylsiloxane complex, platinum octanal / octanol complex as catalyst used for addition type crosslinking , Tris (dibutyl sulfide) rhodium trichloride and the like are added within the range of 1 to 100 ppm. If this is 1 ppm or less, crosslinking is insufficient, and if it is 100 ppm or more, the cost increases, which is not preferable.

上記の触媒は、付加型シリコーンゴム組成の化学式[5]のシリコーンゴム、化学式[6]のシリコーンゴム及びこれら混合物のいずれかのシリコーンゴム成分組成物に添加して使用される。   The above catalyst is used by adding to the silicone rubber component composition of any of the addition type silicone rubber compositions of the chemical formula [5], the silicone rubber of the chemical formula [6], and mixtures thereof.

シリコーンゴム成分組成物やそれで形成された上側シリコーン製樹脂成形シートと下側シリコーン製樹脂成形シートとを、0〜150℃の温度範囲で、1〜240分の架橋時間で、加熱処理すると、架橋して、バイオチップ基材を得ることができる。0℃以下では十分に架橋して接着したバイオチップ基材が得られ難く、また150℃以上でも特段問題はない。1分以下では架橋が不十分であり、また240分以上では生産性が低くコスト高となる。樹脂成形シートの厚さが10mmを超えると、熱伝導率が悪くなり、内部の架橋が遅くなるために、金型温度を低温にして、長時間架橋することもある。その場合、段階的に架橋温度を変えることも可能である。比較的薄いゴムの樹脂成形シートの場合、常温で例えば一昼夜かけて架橋させてもよい。その場合は、架橋温度での熱膨張と常温で使用した時の収縮が起こらず、非常に寸法精度の良い樹脂成形シートの成形が可能となる。   When the silicone rubber component composition or the upper silicone resin molded sheet and the lower silicone resin molded sheet formed with the silicone rubber component composition are heat-treated at a temperature range of 0 to 150 ° C. for a crosslinking time of 1 to 240 minutes, Thus, a biochip substrate can be obtained. Below 0 ° C., it is difficult to obtain a biochip substrate that is sufficiently cross-linked and adhered, and there is no particular problem at 150 ° C. or higher. In less than 1 minute, crosslinking is insufficient, and in more than 240 minutes, productivity is low and cost is high. When the thickness of the resin molded sheet exceeds 10 mm, the thermal conductivity is deteriorated and the internal cross-linking is slowed down, so that the mold temperature may be lowered and the cross-linking may be performed for a long time. In that case, it is also possible to change the crosslinking temperature stepwise. In the case of a relatively thin rubber resin molded sheet, it may be crosslinked at room temperature, for example, overnight. In that case, thermal expansion at the crosslinking temperature and shrinkage when used at room temperature do not occur, and it becomes possible to mold a resin molded sheet with very good dimensional accuracy.

化学式[5]のシリコーンゴム、化学式[6]のシリコーンゴムの混合比は両者のSiH基/CH=CH2比が1を目途(化学量論)とするが、一般的には1.3/1〜4.5/1である。1.3/1以下では目的より硬度が低く、また4.5/1以上でも同様の結果となる場合が多い。最適なSiH基/CH=CH2比は充填剤などの添加剤の影響を受けるので、適宜選択する。 The mixing ratio of the silicone rubber represented by the chemical formula [5] and the silicone rubber represented by the chemical formula [6] is based on a SiH group / CH = CH 2 ratio of 1 (stoichiometry). 4.5 / 1. The hardness is lower than 1.3 / 1 or less, and the same result is often obtained at 4.5 / 1 or more. The optimum SiH group / CH = CH 2 ratio is affected by the additives such as fillers, and is therefore selected as appropriate.

特に、樹脂成形シートの基材表面の架橋反応性基SiH基濃度が高い場合には、SiH基/CH=CH2比が高くても接着強度は高くなる。しかし、SiH基濃度が低い場合には、SiH基/CH=CH2比が高いと接着強度は低くなる。また、基材表面の架橋反応性基CH=CH2基濃度が高い場合には、SiH基/CH=CH2比が高くしないと接着強度が高くならない。 In particular, when the crosslinkable reactive group SiH group concentration on the substrate surface of the resin molded sheet is high, the adhesive strength is high even if the SiH group / CH═CH 2 ratio is high. However, when the SiH group concentration is low, if the SiH group / CH = CH 2 ratio is high, the adhesive strength is low. Further, when the concentration of the crosslinkable group CH═CH 2 group on the substrate surface is high, the adhesive strength cannot be increased unless the SiH group / CH═CH 2 ratio is increased.

縮合型シリコーンゴム組成物には、縮合型架橋剤として、CH3Si(OCOCH3)3、C2H5OSi(OCOCH3)3、CH3Si[OC(CH3)=CH2]3、CH3Si[ON=C(CH3)C2H5]]3、CH3OSi[ON=C(CH3)C2H5]]3、CH3Si[N(CH3)]3などが0.5〜10部、及び触媒としてビス(エチルヘキシル)スズ、ビス(ネオデカネート)スズ、ジブチルラアウリルスズなどの有機スズ化合物、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄などの金属塩や、チタン酸エステル、チタンキレート化合物、アミン類などが0.5〜10部添加される。 In the condensation type silicone rubber composition, as a condensation type crosslinking agent, CH 3 Si (OCOCH 3 ) 3 , C 2 H 5 OSi (OCOCH 3 ) 3 , CH 3 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 3 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ]] 3 , CH 3 OSi [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ]] 3 , CH 3 Si [N (CH 3 )] 3 etc. 0.5 to 10 parts, and as the catalyst, organic tin compounds such as bis (ethylhexyl) tin, bis (neodecanate) tin, dibutylralauryltin, metal salts such as zinc octylate and iron octylate, titanates, titanium 0.5-10 parts of chelate compounds, amines and the like are added.

縮合型シリコーンゴム組成物中、縮合型架橋剤は化学式[7]のシラノールシリコーン類ゴムに添加され、また触媒は化学式[5]のHシリコーンポリマー又は化学式[7]のシラノールシリコーン類ゴムのどちらか、又はこれらの混合物に添加して使用される。   In the condensation type silicone rubber composition, the condensation type crosslinking agent is added to the silanol silicone rubber of the chemical formula [7], and the catalyst is either the H silicone polymer of the chemical formula [5] or the silanol silicone rubber of the chemical formula [7]. Or added to a mixture thereof.

バイオチップ基板は、以下のような別な態様であってもよい。   The biochip substrate may be in another mode as described below.

樹脂成形シートの基板に、コロナ放電処理のような表面処理を施し、基板上に水酸基を生成させ、(CH2=CH-)(CH3O-)2Si-O-[(CH2=CH-)(CH3O-)Si-O]b1-Si(-OCH3)2(-CH=CH2)のようなビニル含有シリル化合物の溶液に浸漬させて熱処理すると、基板上の水酸基にビニル含有シリル化合物が反応する。それを、白金含有触媒、例えば白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のような白金錯体のヘキサン液に浸漬させ、乾燥させると、基板上に白金含有触媒が付されている樹脂成形シートが得られる。その化学的構造は必ずしも明らかではないが、樹脂成形シートの表面で生成した複数のビニル含有シリル基に、白金錯体の白金原子が配位しているものと推察される。 The substrate of the resin molded sheet is subjected to a surface treatment such as corona discharge treatment to generate hydroxyl groups on the substrate, and (CH 2 = CH-) (CH 3 O-) 2 Si-O-[(CH 2 = CH -) (CH 3 O-) Si-O] b1 -Si (-OCH 3 ) 2 (-CH = CH 2 ) The contained silyl compound reacts. When it is immersed in a platinum-containing catalyst, for example, a hexane solution of a platinum complex such as a platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex, and dried, a resin-molded sheet having a platinum-containing catalyst on the substrate is obtained. Although the chemical structure is not necessarily clear, it is assumed that the platinum atom of the platinum complex is coordinated to a plurality of vinyl-containing silyl groups generated on the surface of the resin molded sheet.

この樹脂成形シートに、ヒドロシリル基含有ポリシロキサン、又はさらにビニル基含有ポリシロキサンや必要に応じて白金含有触媒を含む組成物やそれで形成された樹脂成形シートを当接させ、硬化させる。すると、ヒドロシリル基含有ポリシロキサンのヒドロシリル基が、ビニル含有シリル基同士の架橋重合よりも優先的に、そのビニル含有シリル基の二重結合へヒドロシリル化反応して、高分子量化し、下側樹脂成形シート表面の上に、ポリシロキサン類で形成されるシリコーンゴム製の上側樹脂製成形シートが被覆されて接着されたバイオチップ基板が、得られる。   A hydrosilyl group-containing polysiloxane, or a vinyl group-containing polysiloxane, a composition containing a platinum-containing catalyst as necessary, and a resin molded sheet formed therefrom are brought into contact with the resin molded sheet and cured. Then, the hydrosilyl group of the hydrosilyl group-containing polysiloxane undergoes a hydrosilylation reaction to the double bond of the vinyl-containing silyl group preferentially over the cross-linking polymerization of the vinyl-containing silyl groups, thereby increasing the molecular weight, and lower resin molding A biochip substrate is obtained in which a silicone rubber upper resin molded sheet made of polysiloxane is coated and adhered on the sheet surface.

白金含有触媒として、例えば白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液、1.85〜2.1%の白金カルボニルシクロビニルメチルシロキサン錯体のビニルメチル環状シロキサン溶液であるSIP6829.2(Gelest社製の商品名)、3〜3.5%の白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の両末端ビニルポリジメチルシロキサン溶液であるSIP6830.3(Gelest社製の商品名)、2.1〜2.4%の白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液であるSIP6831.2(Gelest社製の商品名)、2.1〜2.4%の白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液の低着色タイプであるSIP6831.2LC(Gelest社製の商品名)、2〜2.5%の白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体の環状メチルビニルシロキサン溶液であるSIP6832.2(Gelest社製の商品名)、2〜2.5%の白金−オクタナル/オクタノール錯体のオクタノール溶液であるSIP6833.2(Gelest社製の商品名)のような白金錯体が挙げられる。白金含有触媒にかえて、ロジウム含有触媒、例えば、3〜3.5%のトリス(ジブチルスルフィド)ロジウムトリクロライドのトルエン溶液であるINRH078(Gelest社製の商品名)のようなロジウム錯体であってもよい。   As a platinum-containing catalyst, for example, SIP6829.2 (trade name manufactured by Gelest), which is a hexane solution of a platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex, a vinylmethyl cyclic siloxane solution of a platinum carbonylcyclovinylmethylsiloxane complex of 1.85 to 2.1%, SIP6830.3 (trade name, manufactured by Gelest) which is a vinyl polydimethylsiloxane solution at both ends of 3 to 3.5% platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex, xylene of 2.1 to 2.4% platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex SIP6831.2LC (trade name, manufactured by Gelest) which is a solution, SIP6831.2LC (trade name, manufactured by Gelest) which is a low coloring type of xylene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex of 2.1 to 2.4%, 2 SIP6832.2 (trade name made by Gelest), which is a cyclic methylvinylsiloxane solution of ~ 2.5% platinum-cyclovinylmethylsiloxane complex, 2 ~ 2.5% platinum- Platinum complexes such as octanol solution of Kutanaru / octanol complex SIP6833.2 (Gelest Inc. of trade name) and the like. In place of the platinum-containing catalyst, a rhodium-containing catalyst such as a rhodium complex such as INRH078 (trade name manufactured by Gelest), which is a toluene solution of 3 to 3.5% tris (dibutyl sulfide) rhodium trichloride, may be used. .

以上のように、本願発明のバイオチップ基板は、樹脂成形シートの接着において、接着剤層としての厚みがないので、二枚の樹脂成形シートを重ね合わせた厚みとなり、通常のときは、隙間はなく、試験の際、外部からの圧迫や、被験液の加圧注入によって、流路ができるものである。また、二枚の樹脂成形シートの間にスペーサを挟んで接着し、流路を形成する場合にも、接着剤を用いないから接着剤層の厚みが無いので、樹脂成形シートとスペーサとを重ね合わせただけの厚みとなり、スペーサの厚さが正確に流路の高さとなるので、流路断面積と流路全容積とが正確に特定された流路を、形成することができる。   As described above, the biochip substrate of the present invention does not have a thickness as an adhesive layer in the adhesion of the resin molded sheet, and thus has a thickness obtained by superimposing two resin molded sheets. Rather, during the test, the flow path can be formed by external compression or pressurized injection of the test solution. Also, even when a spacer is sandwiched between two resin molded sheets and bonded to form a flow path, since the adhesive layer is not used because the adhesive is not used, the resin molded sheet and the spacer are overlapped. Since the thickness is only the combined thickness and the thickness of the spacer is accurately the height of the flow path, a flow path in which the cross-sectional area of the flow path and the total volume of the flow path are accurately specified can be formed.

本発明における樹脂成形シートは、通常の成形方法による。   The resin molded sheet in the present invention is obtained by a normal molding method.

以下に、本発明を適用するバイオチップ基板を試作した例を、示す。   The following is an example of a prototype biochip substrate to which the present invention is applied.

(実施例1)
図1及び3に示すバイオチップ基板1を試作した。すなわち商品名「KE1935A」の1質量部に対し「KE1935B」(いずれも信越化学工業(株)社製、商品名)の1質量部の比率で混合し、0.6mm厚で、縦横100mm×60mmの2枚のシリコーン製の樹脂成形シート11・12を作成した。樹脂成形シート11に液注入口と液排出口とを打ち抜いた。樹脂成形シート12に厚さ4μmのポリエチレンテレフタレート(PET)をマスキング樹脂層18b・18b’として静電気で吸着させた。さらにヒーター19、バイオセンサである電極20を付した。次に樹脂成形シート11・12の重ね面となる面を60Hzの中にヒーターを挟んで重ね面をコロナ放電力600W/31cm、エアーギャップ7mm、速度50cm/分でコロナ放電処理し、その後、マスキング樹脂層を剥離し、面同士を40℃で、2Paの圧力で圧着し、バイオチップ基板1を得た。
Example 1
A biochip substrate 1 shown in FIGS. 1 and 3 was prototyped. That is, 1 part by mass of the trade name “KE1935A” is mixed at a ratio of 1 part by mass of “KE1935B” (both made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name), 0.6 mm thick, 100 mm × 60 mm in length and width. The two resin molded sheets 11 and 12 made of silicone were prepared. The liquid injection port and the liquid discharge port were punched into the resin molded sheet 11. Polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 4 μm was adsorbed to the resin molded sheet 12 as masking resin layers 18b and 18b ′ by static electricity. Furthermore, a heater 19 and an electrode 20 as a biosensor were attached. Next, the overlapping surface of the resin molded sheets 11 and 12 is subjected to a corona discharge treatment at 60 Hz with a heater sandwiched between 60 Hz at a corona discharge force of 600 W / 31 cm, an air gap of 7 mm, and a speed of 50 cm / min. The resin layer was peeled off, and the surfaces were pressure-bonded at 40 ° C. with a pressure of 2 Pa to obtain a biochip substrate 1.

(実施例2)
図4に示すバイオチップ基板1を試作した。すなわち実施例1と同種の2枚のシリコーン製の樹脂成形シート11・12と、それの縦横同寸法で0.2mm厚の同素材のスペーサ21とを用いた。スペーサ21をレーザーカット加工し、厚み方向にシートを抜くようにして、平行線の部分で幅30μmの筋条の空隙を設けた。夫々のシートの重ね合わされるべき面を実施例1と同様にコロナ放電処理した後、スペーサ21を樹脂成形シート11・12に挟み込んで実施例1と同様にして加圧接着した。これにより、断面30μm×200μmの流路を持つバイオチップ基板1を得た。
(Example 2)
A biochip substrate 1 shown in FIG. That is, two silicone resin molded sheets 11 and 12 of the same type as in Example 1 and spacers 21 of the same material having the same vertical and horizontal dimensions and a thickness of 0.2 mm were used. The spacer 21 was subjected to laser cutting, and the sheet was pulled out in the thickness direction to provide a streak gap having a width of 30 μm at the parallel line portion. After the surfaces to be overlapped of each sheet were subjected to corona discharge treatment in the same manner as in Example 1, the spacers 21 were sandwiched between the resin molded sheets 11 and 12 and pressure-bonded in the same manner as in Example 1. Thereby, a biochip substrate 1 having a flow path with a cross section of 30 μm × 200 μm was obtained.

本発明のバイオチップ基板は、迅速に分析結果を知る必要がある救急医療現場での患者の生体成分の分析、犯罪現場で微量な血痕・体液・毛髪・生体組織細胞等の遺留品からDNAを抽出し、そのDNAを増やすPCR増幅し、電気泳動でDNAを特定するDNA解析、新規医薬品探索のための各種医薬候補品の物性・薬効評価、オーダーメード医療のための診断、ペプチドやDNAや機能性低分子の微量合成などに、用いられる。   The biochip substrate of the present invention analyzes the biological components of a patient in an emergency medical setting where it is necessary to quickly know the analysis result, and extracts DNA from remains such as blood traces, body fluids, hair, and biological tissue cells in a crime scene. Extraction, PCR amplification to increase the DNA, DNA analysis to identify DNA by electrophoresis, physical properties and efficacy evaluation of various drug candidates for new drug search, diagnosis for customized medicine, peptides, DNA and functions It is used for the synthesis of low-molecular-weight small molecules.

このバイオチップ基板は、それらの分析装置やマイクロリアクターに装着して、遺伝子診察・治療を行う医療分野や、生体試料を用いた犯罪捜査分野における各種分析、海洋や湖沼等の遠隔地での水中ロボットを用いた微生物探索、医薬品開発における各種合成に用いることができる。   This biochip substrate is attached to these analyzers and microreactors to perform various analyzes in the medical field for genetic diagnosis and treatment, criminal investigations using biological samples, and underwater in remote areas such as the ocean and lakes. It can be used for microbial search using robots and various synthesis in drug development.

本発明を適用するバイオチップ基板の模式斜視図である。It is a model perspective view of the biochip board | substrate to which this invention is applied. 本発明を適用するバイオチップ基板の製造工程を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the manufacturing process of the biochip board | substrate to which this invention is applied. 本発明を適用する別なバイオチップ基板の製造工程を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the manufacturing process of another biochip board | substrate to which this invention is applied. 本発明を適用する別なバイオチップ基板の模式斜視図である。It is a model perspective view of another biochip board | substrate to which this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1はバイオチップ基板、11は上側の樹脂成形シート、12は下側の樹脂成形シート、13a〜cは液注入口、14a〜bは液排出口、15・16は重ね面、17は筋条、18a・18a’は金属層、18b・18b’はマスキング樹脂層、19はヒーター、20は電極、21はスペーサ、31は金属被膜、32は未硬化レジスト膜・32a・32a’は硬化レジスト層、33は未硬化レジスト膜である。   1 is a biochip substrate, 11 is an upper resin molded sheet, 12 is a lower resin molded sheet, 13a to c are liquid inlets, 14a and b are liquid outlets, 15 and 16 are overlapping surfaces, and 17 is a streak , 18a and 18a ′ are metal layers, 18b and 18b ′ are masking resin layers, 19 are heaters, 20 are electrodes, 21 are spacers, 31 are metal coatings, 32 are uncured resist films, and 32a and 32a ′ are cured resist layers. 33 are uncured resist films.

Claims (11)

重ねられた樹脂成形シートを有しており、前記樹脂成形シートの向き合った重ね面同士の一部に、液注入口から液排出口へ至る非接着の筋条が設けられており、前記筋条に沿う両脇で、前記樹脂成形シート同士が接着されていることによって、前記液注入口の少なくとも一つから注入される被験液の流路となる前記筋条が形成されており、
前記樹脂成形シートがシリコーン樹脂製で弾性を有し、前記筋条が、外部からの圧迫により、及び/又は前記被験液の加圧注入により、押し広げられて前記流路を形成するものであり、
重ねられた前記樹脂成形シートの少なくとも一方の重ね面で、前記筋条が、金属蒸着膜、又はマスキング樹脂層により、被覆されていることによって、前記非接着の筋条として形成されており、
前記接着すべき前記樹脂成形シートと、必要に応じそれに挟まれるスペーサとの内の少なくとも何れかの接着される面が、コロナ放電処理またはプラズマ処理され、その処理がされた面同士が、重ねられて前記接着されているバイオチップ基板であって、
前記接着すべき前記樹脂成形シートと、必要に応じそれに挟まれる前記スペーサとが、ヒドロシリル基含有化合物とビニル基含有化合物とを含有しており、その両者が、前記ビニル基含有化合物のビニル基への前記ヒドロシリル基含有化合物のヒドロシリル基の付加反応により形成されたケイ素−炭素の結合を介して、前記接着されており、
又は、
前記接着すべき前記樹脂成形シートと、必要に応じそれに挟まれる前記スペーサとの内の接着すべき一方が、その表面に有する水酸基の脱水素基に、ヒドロシリル含有シリル基、ビニル含有シリル基、アルコキシシリル含有シリル基、及び加水分解性基含有シリル基から選ばれる少なくとも1種類の活性シリル基を、シリルエーテル結合されたものであり、他方が、前記活性シリル基と反応するヒドロシリル、ビニルシリル、ヒドロキシシリル、アルキルオキシシリル、アルケニルオキシシリル、アシルオキシシリル、イミノオキシシリル、アルキルアミノシリルから選ばれる少なくとも1種類の反応基を含有する化合物を含んでおり、その両者が、前記反応により形成されたケイ素−炭素とケイ素−酸素との何れかの結合を介して、前記接着されていることを特徴とするバイオチップ基板。
Non-adhesive streaks extending from the liquid inlet to the liquid outlet are provided on a part of the overlapping surfaces of the resin molded sheets facing each other, and the streaks are provided. The streaks that form the flow path of the test liquid injected from at least one of the liquid injection ports are formed by bonding the resin molded sheets to each other along the sides ,
The resin molded sheet is made of silicone resin and has elasticity, and the streaks are expanded by compression from outside and / or by pressure injection of the test solution to form the flow path. ,
At least one of the superimposed surfaces of the molded resin sheet, the streaks are covered with a metal deposition film or a masking resin layer, thereby forming the non-adhesive streaks,
At least one of the surfaces of the resin-molded sheet to be bonded and, if necessary, the spacers sandwiched between them, is subjected to corona discharge treatment or plasma treatment, and the treated surfaces are overlapped. The biochip substrate to be bonded,
The resin-molded sheet to be bonded and the spacer sandwiched between the resin-molded sheet and the spacer, if necessary, contain a hydrosilyl group-containing compound and a vinyl group-containing compound, both of which are added to the vinyl group of the vinyl group-containing compound. The silicon-carbon bond formed by the addition reaction of the hydrosilyl group of the hydrosilyl group-containing compound of
Or
One of the resin-molded sheet to be bonded and the spacer sandwiched between the resin-molded sheet and the spacer, if necessary, has a hydrosilyl-containing silyl group, a vinyl-containing silyl group, an alkoxy group on the dehydrogenation group of the hydroxyl group on the surface. At least one active silyl group selected from a silyl-containing silyl group and a hydrolyzable group-containing silyl group is bonded to a silyl ether bond, and the other is hydrosilyl, vinylsilyl, hydroxysilyl that reacts with the active silyl group. A compound containing at least one reactive group selected from alkyloxysilyl, alkenyloxysilyl, acyloxysilyl, iminooxysilyl, and alkylaminosilyl, both of which are silicon-carbon formed by the above reaction. And the silicon-oxygen bond. Biochip substrate, characterized in that it is.
重ねられた前記樹脂成形シートに挟まれている前記スペーサで仕切られていることによって、前記筋条が前記流路を形成しており、前記樹脂成形シートと前記スペーサとが、接着されていることを特徴とする請求項1に記載のバイオチップ基板。 By being partitioned by the spacer which is sandwiched between the resin molded sheet superposed, the muscle strip has formed the flow path, the said resin molded sheet and the spacer is adhered The biochip substrate according to claim 1. 前記接着すべき前記樹脂成形シートと、それに挟まれる前記スペーサとの内の少なくとも何れかの接着される面が、コロナ放電処理またはプラズマ処理され、その処理がされた面同士が、重ねられて前記接着されていることを特徴とする請求項1〜の何れかに記載のバイオチップ基板。 And the resin molded sheet the to be bonded, at least one of the adhesive the surface to the inside of said spacer sandwiched Re their is, corona discharge treatment or plasma treatment, the process is has been faces thereof, superimposed the biochip substrate according to any one of claims 1-2, characterized in that it is the adhesive Te. 前記接着すべき前記樹脂成形シートと、それに挟まれる前記スペーサとが、ヒドロシリル基含有化合物とビニル基含有化合物とを含有しており、その両者が、前記ビニル基含有化合物のビニル基への前記ヒドロシリル基含有化合物のヒドロシリル基の付加反応により形成されたケイ素−炭素の結合を介して、前記接着されていることを特徴とする請求項1〜2の何れかに記載のバイオチップ基板。 And the resin molded sheet the to be bonded, and the spacer sandwiched Re their is, has contains a hydrosilyl group-containing compound and a vinyl group-containing compounds, both, to the vinyl groups of the vinyl group-containing compound 3. The biochip substrate according to claim 1, wherein the biochip substrate is bonded through a silicon-carbon bond formed by an addition reaction of a hydrosilyl group of the hydrosilyl group-containing compound. 前記接着すべき前記樹脂成形シートと、それに挟まれる前記スペーサとの内の接着すべき一方が、その表面に有する水酸基の脱水素基に、ヒドロシリル含有シリル基、ビニル含有シリル基、アルコキシシリル含有シリル基、及び加水分解性基含有シリル基から選ばれる少なくとも1種類の活性シリル基を、シリルエーテル結合されたものであり、他方が、前記活性シリル基と反応するヒドロシリル、ビニルシリル、ヒドロキシシリル、アルキルオキシシリル、アルケニルオキシシリル、アシルオキシシリル、イミノオキシシリル、アルキルアミノシリルから選ばれる少なくとも1種類の反応基を含有する化合物を含んでおり、その両者が、前記反応により形成されたケイ素−炭素とケイ素−酸素との何れかの結合を介して、前記接着されていることを特徴とする請求項1〜2の何れかに記載のバイオチップ基板。 Wherein the forming the to be bonded resin sheets, one to be bonded of the said spacer sandwiched Re their is, the dehydrogenation group for a hydroxyl group having on the surface thereof, a hydrosilyl-containing silyl group, a vinyl-containing silyl group, alkoxysilyl A silyl ether-bonded at least one active silyl group selected from a containing silyl group and a hydrolyzable group-containing silyl group, the other being hydrosilyl, vinylsilyl, hydroxysilyl, which reacts with the active silyl group, A compound containing at least one reactive group selected from alkyloxysilyl, alkenyloxysilyl, acyloxysilyl, iminooxysilyl, and alkylaminosilyl, both of which include silicon-carbon formed by the above reaction and Through any bond with silicon-oxygen. The biochip substrate according to any one of claims 1-2, characterized in that. 前記筋条が、複数あって、途中で集束し又は分岐していることを特徴とする請求項1に記載のバイオチップ基板。   The biochip substrate according to claim 1, wherein there are a plurality of the streaks, and they are converged or branched in the middle. 前記被験液のバイオ成分の検出試薬と、前記被験液のバイオ成分への反応試薬と、バイオセンサとの少なくとも何れかが、前記筋条の途中に配置され、及び/又は、
前記検出試薬と、前記反応試薬と、合成試薬との少なくとも何れかが、前記液注入口から注入されていることを特徴とする請求項1に記載のバイオチップ基板。
At least one of a detection reagent for the biocomponent of the test liquid, a reaction reagent for the biocomponent of the test liquid, and a biosensor is disposed in the middle of the streak, and / or
The biochip substrate according to claim 1, wherein at least one of the detection reagent, the reaction reagent, and the synthesis reagent is injected from the liquid injection port.
前記シリコーン樹脂が、パーオキサイド架橋シリコーンゴム、付加型架橋シリコーンゴム、又は縮合型架橋シリコーンゴムであることを特徴とする請求項1に記載のバイオチップ基板。The biochip substrate according to claim 1, wherein the silicone resin is a peroxide-crosslinked silicone rubber, an addition-type crosslinked silicone rubber, or a condensation-type crosslinked silicone rubber. 前記シリコーン樹脂が、前記パーオキサイド架橋シリコーンゴムであって、パーオキサイドを添加されていることを特徴とする請求項8に記載のバイオチップ基板。The biochip substrate according to claim 8, wherein the silicone resin is the peroxide-crosslinked silicone rubber to which a peroxide is added. 前記シリコーン樹脂が、付加型架橋シリコーンゴムであって、塩化白金酸、白金カルボニルシクロビニルメチルシロキサン錯体、白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金オクタナル/オクタノール錯体、及びトリス(ジブチルスルフィド)ロジュウムトリクロリドから選ばれる触媒を添加されていることを特徴とする請求項8に記載のバイオチップ基板。The silicone resin is an addition-type crosslinked silicone rubber, and includes chloroplatinic acid, platinum carbonylcyclovinylmethylsiloxane complex, platinum divinyltetramethyldisiloxane complex, platinum cyclovinylmethylsiloxane complex, platinum octanal / octanol complex, and tris ( The biochip substrate according to claim 8, wherein a catalyst selected from dibutyl sulfide) rhodium trichloride is added. 前記シリコーン樹脂が、縮合型架橋シリコーンゴムであって、CHThe silicone resin is a condensation-type crosslinked silicone rubber, and CH 3Three Si(OCOCHSi (OCOCH 3Three )) 3Three 、C, C 22 HH 5Five OSi(OCOCHOSi (OCOCH 3Three )) 3Three 、CH, CH 3Three Si[OC(CHSi [OC (CH 3Three )=CH) = CH 22 ]] 3Three 、CH, CH 3Three Si[ON=C(CHSi [ON = C (CH 3Three )C) C 22 HH 5Five ]]]] 3Three 、CH, CH 3Three OSi[ON=C(CHOSi [ON = C (CH 3Three )C) C 22 HH 5Five ]]]] 3Three 、及びCHAnd CH 3Three Si[N(CHSi [N (CH 3Three )])] 3Three から選ばれる縮合型架橋剤と、ビス(エチルヘキシル)スズ、ビス(ネオデカネート)スズ、ジブチルラアウリルスズなどの有機スズ化合物、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄、チタン酸エステル、チタンキレート化合物、及びアミン類から選ばれる触媒とを添加されていることを特徴とする請求項8に記載のバイオチップ基板。Condensation type cross-linking agents selected from: organic tin compounds such as bis (ethylhexyl) tin, bis (neodecanate) tin, dibutylralauryltin, zinc octylate, iron octylate, titanate ester, titanium chelate compound, and amine The biochip substrate according to claim 8, further comprising a catalyst selected from the group of compounds.
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