JP5213351B2 - Adhesive base material and silicone rubber adhesive using the same - Google Patents

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Description

本発明は、表面にシリコーンゴムが接着できるように改質した金属、高分子樹脂、ガラス又はセラミックス製の基材、及びこの基材とシリコーンゴムとの接着体に関するものである。   The present invention relates to a base material made of metal, polymer resin, glass or ceramics modified so that silicone rubber can adhere to the surface, and an adhesive body of the base material and silicone rubber.

金属やセラミックスのように硬い素材で形成された被接着部材と、シリコーンゴムのような柔らかい素材で形成された接着部材とを接着するには、接着界面での分子間相互作用による物理的な接着や、接着界面での化学結合形成による化学的な接着が行われる。   In order to bond an adherend made of a hard material such as metal or ceramics to an adhesive member made of a soft material such as silicone rubber, physical bonding by intermolecular interaction at the bonding interface Alternatively, chemical bonding is performed by chemical bond formation at the bonding interface.

このような物理的な接着の方法として、被接着部材の表面の肌理を粗くして接触面積を増加させ接着させる機械的接着法が知られており、また化学的な接着の方法として、被接着部材に加熱硬化性接着剤を塗布した後に接着部材を押付ける接着剤法、被接着部材を表面処理して反応性基を導入した後に接着部材の表面分子と化学的に結合させて接着させる表面処理法が知られている。また特許文献1のように金属表面にビニル化合物を付着させる処理によりそのビニル基とシリコーンゴムとの反応性を向上させる方法も、知られている。また脱脂洗浄処理した金属板の表面に、ビニル基含有ポリシロキサンとヒドロシリル基含有ポリシロキサンと白金触媒のようなシランカップリング剤との液状シリコーンゴム用組成物を塗布して硬化させて接着する方法も知られている。   As such a physical bonding method, a mechanical bonding method is known in which the surface of the member to be bonded is roughened to increase the contact area for bonding, and as a chemical bonding method, the bonding is performed. Adhesive method that presses an adhesive member after applying a heat-curable adhesive to the member, a surface to be bonded by chemically bonding to the surface molecules of the adhesive member after surface treatment of the member to be bonded and introduction of reactive groups Processing methods are known. In addition, a method of improving the reactivity between the vinyl group and silicone rubber by a treatment for attaching a vinyl compound to a metal surface as in Patent Document 1 is also known. Also, a method of applying a liquid silicone rubber composition comprising a vinyl group-containing polysiloxane, a hydrosilyl group-containing polysiloxane, and a silane coupling agent such as a platinum catalyst to the surface of a metal plate that has been subjected to a degreasing and cleaning treatment, and curing and bonding the composition. Is also known.

機械的接着法による接着体は、剥がれ易い。接着剤法による接着体は、被接着部材と接着部材との界面で両者を直接化学結合させていないため、過酷なヒートサイクルに晒されたとき、または長期間経過したときに、接着剤の劣化によって接着強度が低下してしまう。また表面処理法による接着体は、一般に、非接着基材表面に、10000原子当たり僅か2〜4の化学結合が生成しただけで、比較的強い接着強度が得られ、接着時の外界温度又は溶剤の存在のような環境で接着強度が支配されない反面、被接着部材と接着部材との界面で確実に化学結合を生成させることが困難で、極めて限定された素材でできた基材しか用いることができず、汎用性に欠ける。   The bonded body by the mechanical bonding method is easily peeled off. Adhesives made by the adhesive method do not chemically bond them directly at the interface between the adherend and the adhesive member, so that the adhesive deteriorates when exposed to severe heat cycles or after a long period of time. As a result, the adhesive strength decreases. In addition, the bonded body by the surface treatment method generally has a relatively strong adhesive strength only by forming 2 to 4 chemical bonds per 10000 atoms on the surface of the non-adhesive substrate, and the ambient temperature or solvent during bonding. Adhesive strength is not governed by the environment such as the presence of the material, but it is difficult to reliably generate a chemical bond at the interface between the bonded member and the bonded member, and only a substrate made of a very limited material should be used. It is not possible and lacks versatility.

特に接着部材がシリコーンゴムであると、それの強度が弱いうえ、界面での被接着部材表面との相互作用や反応性が乏しいため、接着し難く、接着しても強度が弱い。そのため、シリコーンゴムと被接着部材表面とを、シリコーンゴムに相互作用し易い接着剤で接着する方法しかなく、さほど強い接着強度が得られない。   In particular, when the adhesive member is made of silicone rubber, its strength is weak, and since the interaction and reactivity with the surface of the member to be bonded at the interface are poor, it is difficult to bond, and even when bonded, the strength is low. For this reason, there is only a method of bonding the silicone rubber and the adherend member surface with an adhesive that easily interacts with the silicone rubber, and a very strong bonding strength cannot be obtained.

しかもその接着層は、通常数μm〜数100μmであるから、引張られたり曲げられたりしたときの応力を分散させることができるが接着剤量が少なすぎて接着強度をさほど高くさせることができない。接着剤量を増やして接着層を厚くすると、応力による歪の集中を生じ、剥離し易くなって、かえって接着強度を低下させてしまう。そのバランスをとるのが、困難である。   Moreover, since the adhesive layer is usually several μm to several 100 μm, it can disperse stress when it is pulled or bent, but the amount of the adhesive is too small to increase the adhesive strength so much. When the amount of the adhesive is increased and the adhesive layer is thickened, strain is concentrated due to stress, and the adhesive layer is easily peeled off. On the contrary, the adhesive strength is lowered. It is difficult to balance that.

さらに、接着剤法では、微小な部材同士を接着させるのは困難である。   Furthermore, with the adhesive method, it is difficult to bond minute members to each other.

特開2006−198797号公報JP 2006-198797 A

本発明は前記の課題を解決するためになされたもので、金属、高分子樹脂、ガラス又はセラミックスで形成された基材と、シリコーンゴムとを、厚い接着剤層を介することなく、従来よりも遥かに強く確りと接着させて、引張られたり曲げられたりしても剥がれたり裂けたりしないシリコーンゴム接着体を得るための簡易な接着用基材を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and a base material formed of metal, polymer resin, glass or ceramics, and silicone rubber is used more than before without a thick adhesive layer. An object of the present invention is to provide a simple adhesive base material for obtaining a silicone rubber bonded body which is bonded strongly and firmly and does not peel off or tear even if it is pulled or bent.

前記の目的を達成するためになされた特許請求の範囲の請求項1に記載の接着用基材は、接着される固体の表面の反応基へ反応して結合するヒドロシリル含有シリル基、ビニル含有シリル基、アルコキシシリル含有シリル基、及び加水分解性基含有シリル基から選ばれる少なくとも1種類の活性シリル基が、金属、高分子樹脂、ガラス又はセラミックスで形成された基質の表面に有する水酸基の脱水素基に、シリルエーテル結合して、接着表面が形成されており、
前記活性シリル基が、
モノヒドロシリル含有シリル基及びジヒドロシリル含有シリル基から選ばれ、該基の末端に-SiH(R 1 ) 2 又は-SiH 2 (R 2 )(R 1 及びR 2 は、炭素数1〜4のアルキル基)を有し、又は該基の主鎖の途中に-SiH-基を有している前記ヒドロシリル含有シリル基;
ビニルシリル含有シリル基であり、該基の末端に、-Si-R 3 基(R 3 はビニル含有基)を有し、又は該基の主鎖の途中に-Si(R 4 )-基(R 4 はビニル含有基)を有している前記ビニル含有シリル基;
トリアルコキシシリル末端含有シリル基及びジアルコキシシリル末端含有シリル基から選ばれ、該基の末端に、-Si(OR 5 ) 2 R 6 基(R 5 及びR 6 は炭素数1〜4のアルキル基)、又は-Si(OR 7 ) 3 基(R 7 は炭素数1〜4のアルキル基)を有している前記アルコキシシリル含有シリル基;
アシルオキシシリル基、アルケニルオキシシリル基、アルカンイミノオキシシリル基、アルキルオキシシリル基、アルキルアミノシリル基、ジアルキルアミノシリル基、含窒素複素環置換シリル基、及びアリールアミノシリル基から選ばれる前記加水分解性官能基を有しており、-Si(R 8 ) a (R 9 ) 3-a 基(R 8 は、水素原子;ハロゲン原子;炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、フッ素置換アルキル基;アラルキル基;アリール基であり、R 9 は、炭素数1〜12のアシルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルカンイミノオキシ基、アルキルオキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基;含窒素複素環基、及びアリールアミノ基であり、aは0〜3の数)で表わされる前記加水分解性官能基を有する前記加水分解性基含有シリル基
であり、
前記接着表面に、前記固体の表面の反応基へ反応して結合させて前記固体を接着させる白金含有触媒又はロジウム含有触媒からなる触媒が、前記シリルエーテル結合した前記接着表面へ付されており、
その上にポリシロキサン類、ビニルシリコーン類及び/又はシラノールシリコーン類のシリコーンゴム成分を含み減圧脱気した組成物を付し、硬化させて、前記表面を被覆してシリコーンゴムを接着するためのものであり、
減圧脱気した前記組成物によって前記シリコーンゴムを接着させる接着用基材である。
The adhesive substrate according to claim 1, which has been made to achieve the above object, comprises a hydrosilyl-containing silyl group, a vinyl-containing silyl group that reacts and bonds to a reactive group on the surface of the solid to be bonded. Dehydration of a hydroxyl group having at least one active silyl group selected from a group, an alkoxysilyl-containing silyl group, and a hydrolyzable group-containing silyl group on the surface of a substrate formed of metal, polymer resin, glass or ceramics Based on the silyl ether bond, an adhesive surface is formed ,
The active silyl group is
It is selected from a monohydrosilyl-containing silyl group and a dihydrosilyl-containing silyl group, and —SiH (R 1 ) 2 or —SiH 2 (R 2 ) (R 1 and R 2 are alkyl having 1 to 4 carbon atoms ) at the terminal of the group The hydrosilyl-containing silyl group having a group) or having a —SiH— group in the middle of the main chain of the group;
A vinyl silyl-containing silyl group, the terminal of the group has -Si-R 3 group a (R 3 is a vinyl containing group), or a middle -Si backbone of the group (R 4) - group (R 4 is a vinyl-containing group) having the vinyl-containing silyl group;
It is selected from trialkoxysilyl terminal-containing silyl group and dialkoxysilyl terminal-containing silyl group, and at the terminal of the group, -Si (OR 5 ) 2 R 6 group (R 5 and R 6 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms) Or an alkoxysilyl-containing silyl group having a —Si (OR 7 ) 3 group (R 7 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms);
The hydrolyzability selected from acyloxysilyl group, alkenyloxysilyl group, alkaneiminooxysilyl group, alkyloxysilyl group, alkylaminosilyl group, dialkylaminosilyl group, nitrogen-containing heterocyclic substituted silyl group, and arylaminosilyl group -Si (R 8 ) a (R 9 ) 3-a group (R 8 is a hydrogen atom; a halogen atom; an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyloxy group, A fluorine-substituted alkyl group; an aralkyl group; an aryl group, and R 9 is an acyloxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group, an alkaneiminooxy group, an alkyloxy group, an alkylamino group, a dialkylamino group; A cyclic group and an arylamino group, wherein a is a number of 0 to 3) and includes the hydrolyzable group having the hydrolyzable functional group. Silyl group
And
A catalyst comprising a platinum-containing catalyst or a rhodium-containing catalyst that bonds the solid by reacting and reacting with a reactive group on the surface of the solid on the adhesive surface is attached to the adhesive surface bonded with the silyl ether,
Further, a composition containing a silicone rubber component of polysiloxanes, vinyl silicones and / or silanol silicones, which is degassed under reduced pressure, is cured, and the surface is coated to adhere the silicone rubber. And
It is the base material for adhesion | attachment which adheres the said silicone rubber with the said composition degassed under reduced pressure .

請求項2に記載の接着用基材は、請求項1に記載されたもので、前記水酸基が、前記基質の表面の水酸基であり、または前記基質へのコロナ放電、大気圧プラズマ処理及び紫外線照射の何れかの処理により生成した水酸基であり、アルコキシシラン化合物のアルコキシシリル基由来の前記活性シリル基に前記シリルエーテル結合していることを特徴とする。 The bonding substrate according to claim 2 is the bonding substrate according to claim 1, wherein the hydroxyl group is a hydroxyl group on the surface of the substrate, or corona discharge, atmospheric pressure plasma treatment and ultraviolet irradiation to the substrate. It is a hydroxyl group produced by any of the treatments described above, and is characterized in that the silyl ether bond is formed on the active silyl group derived from the alkoxysilyl group of the alkoxysilane compound.

請求項3に記載の接着用基材は、請求項2に記載されたもので、前記固体の表面が、酸化されて前記水酸基を有しており、アルコキシシリル基由来の前記活性シリル基に前記シリルエーテル結合していることを特徴とする。   The adhesive base material according to claim 3 is the adhesive base material according to claim 2, wherein the solid surface is oxidized to have the hydroxyl group, and the active silyl group derived from an alkoxysilyl group includes the active silyl group. It is characterized by silyl ether bonding.

請求項4に記載の接着用基材は、請求項3に記載されたもので、前記アルコキシシラン化合物で前記シリルエーテル結合することにより、単分子膜が形成されていることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the adhesive substrate according to the third aspect, wherein a monomolecular film is formed by the silyl ether bond with the alkoxysilane compound.

請求項5に記載の接着用基材は、請求項に記載されたもので、前記処理が、前記基質の表面に少なくとも55kJ/mの表面張力を得るまで処理し続けたものであることを特徴とする。 The bonding substrate according to claim 5 is the bonding substrate according to claim 2 , wherein the treatment is continued until a surface tension of at least 55 kJ / m is obtained on the surface of the substrate. Features.

請求項6に記載の接着用基材は、請求項に記載されたもので、前記シリルエーテル結合は、下記化学式[1]
Sub.−O−SiR 20 ・・・[1]
(式[1]中、Sub.は被接着基材である前記基質であってこのシリルエーテル結合を形成する基であり、−SiR 20 はポリシロキシ基である前記ヒドロシリル含有シリル基である。)で表わされることを特徴とする。
The adhesive substrate according to claim 6 is the adhesive substrate according to claim 1 , wherein the silyl ether bond has the following chemical formula [1]
Sub.-O-SiR 20 ... [1]
(In the formula [1], Sub. Is the substrate that is the adherend substrate and is a group that forms this silyl ether bond, and -SiR 20 is the hydrosilyl-containing silyl group that is a polysiloxy group ). It is characterized by being expressed .

請求項7に記載の接着用基材は、請求項に記載されたもので、前記シリルエーテル結合は、下記化学式[2]
Sub.−O−SiR 21 ・・・[2]
(式[2]中、Sub.は被接着基材である前記基質であってこのシリルエーテル結合を形成する基であり、−SiR 20 はビニル基を1〜30個有する前記ビニルシリル含有シリル基である)で表わされることを特徴とする。
The bonding substrate according to claim 7 is the bonding substrate according to claim 1 , wherein the silyl ether bond has the following chemical formula [2]
Sub.-O-SiR 21 ... [2]
(Wherein [2], Sub. Is a group which forms a silyl ether linkage A wherein the substrate is a adherend substrate, -SiR 20 in the vinylsilyl-containing silyl group chromatic 1 to 30 vinyl groups It is characterized by being expressed .

請求項8に記載の接着用基材は、請求項に記載されたもので、前記シリルエーテル結合は、下記化学式[3]
Sub.−O−SiR 22 ・・・[3]
(式[3]中、Sub.は被接着基材である前記基質であってこのシリルエーテル結合を形成する基であり、−SiR 22 は、-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si(OC 2 H 5 ) 3 、-(C 2 H 5 O)CH 3 SiCH 2 CH 2 Si(OC 2 H 5 ) 3 、-(C 2 H 5 O) 2 SiCH=CHSi(OC 2 H 5 ) 3 、-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 、-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 、-(CH 3 O) 2 Si[CH 2 CH 2 ] 3 Si(OCH 3 ) 3 、-(CH 3 O) 2 Si[CH 2 CH 2 ] 4 Si(OCH 3 ) 3 、-(CH 3 O)CH 3 SiCH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 2 CH 3 、-(C 2 H 5 O)CH 3 SiOSi(OC 2 H 5 ) 2 CH 3 、-(C 2 H 5 O)Si(OC 2 H 5 ) 2
から選ばれる何れかの前記アルコキシシリル末端含有シリル基である。)で表わされることを特徴とする。
An adhesive base material according to an eighth aspect is the one according to the first aspect , wherein the silyl ether bond has the following chemical formula [3]
Sub.-O-SiR 22 ... [3]
(In the formula [3], Sub. Is a substrate that forms the silyl ether bond and is the substrate that is the adherend substrate, and —SiR 22 is — (C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,-(C 2 H 5 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,-(C 2 H 5 O) 2 SiCH = CHSi (OC 2 H 5 ) 3 ,-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,-(CH 3 O) 2 Si [CH 2 CH 2 ] 3 Si (OCH 3 ) 3 ,-(CH 3 O) 2 Si [CH 2 CH 2 ] 4 Si (OCH 3 ) 3 ,-(CH 3 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 CH 3 ,-(C 2 H 5 O) CH 3 SiOSi (OC 2 H 5 ) 2 CH 3 ,-(C 2 H 5 O) Si (OC 2 H 5 ) 2
Any one of the above-mentioned alkoxysilyl terminal-containing silyl groups . ) .

請求項9に記載の接着用基材は、請求項に記載されたもので、シリルエーテル結合は、下記化学式[4]
Sub.−O−Si(R8)a(R9)3-a ・・・[4]
(式[4]中、Sub.は被接着基材である前記基質であってこのシリルエーテル結合を形成する基であり、−Si(R 8 ) a (R 9 ) 3-a は、R 8 が、H-、F-、CH 3 -、C 2 H 5 -、CH 2 =CH-、n-C 3 H 7 -、i-C 3 H 7 -、CH 2 =CHCH 2 -、C 4 H 9 -、C 6 H 13 -、C 8 H 17 -、C 6 H 5 -、CH 3 C 6 H 4 -、C 6 H 5 CH 2 -、CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 -、CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 -、CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 -、CH 3 O-、又はC 2 H 5 O-であり、R 9 が、CH 3 COO-、CH 2 =C(CH 3 )O-、C 2 H 5 (CH 3 )C=NO-、CH 3 O-、(CH 3 ) 2 N-、(C 2 H 5 ) 2 N-、(i-C 3 H 7 ) 2 N-、O(CH 2 CH 2 ) 2 N-、(CH 3 ) 3 CNH-、C 6 H 10 NH-、又はC 6 H 5 NH-である前記加水分解性基含有シリル基である。)で表わされることを特徴とする。
The bonding substrate according to claim 9 is the bonding substrate according to claim 1 , wherein the silyl ether bond has the following chemical formula [4]:
Sub.-O-Si (R 8 ) a (R 9 ) 3-a ... [4]
(In the formula [4], Sub. Is a substrate that forms the silyl ether bond and is the substrate that is the adherend substrate, and —Si (R 8 ) a (R 9 ) 3-a is R 8 but, H-, F-, CH 3 - , C 2 H 5 -, CH 2 = CH-, nC 3 H 7 -, iC 3 H 7 -, CH 2 = CHCH 2 -, C 4 H 9 -, C 6 H 13 -, C 8 H 17 -, C 6 H 5 -, CH 3 C 6 H 4 -, C 6 H 5 CH 2 -, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 -, CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CH 3 O-, or C 2 H 5 O-, R 9 is CH 3 COO-, CH 2 = C (CH 3 ) O-, C 2 H 5 (CH 3 ) C = NO-, CH 3 O-, (CH 3 ) 2 N-, (C 2 H 5 ) 2 N-, (iC 3 H 7) 2 N-, O (CH 2 CH 2) 2 N -, (CH 3) 3 CNH-, with C 6 H 10 NH-, or C 6 H 5 NH- in which the hydrolyzable group-containing silyl group It is characterized by being expressed by

請求項10に記載の接着用基材は、請求項1に記載されたもので、前記反応基が、ヒドロシリル、ビニルシリル、ヒドロキシシリル、アルキルオキシシリル、アルケニルオキシシリル、アシルオキシシリル、イミノオキシシリル、アルキルアミノシリルから選ばれる少なくとも1種類であることを特徴とする。   The adhesive substrate according to claim 10 is the adhesive substrate according to claim 1, wherein the reactive group is hydrosilyl, vinylsilyl, hydroxysilyl, alkyloxysilyl, alkenyloxysilyl, acyloxysilyl, iminooxysilyl, alkyl. It is at least one selected from aminosilyl.

請求項11に記載の接着用基材は、請求項1に記載されたもので、前記活性シリル基が前記ビニル含有シリル基であり、それを露出させた前記接着表面に前記白金含有触媒又は前記ロジウム含有触媒が付されており、前記反応基をヒドロシリルとすることを特徴とする。 Adhesive base material according to claim 11 has been described in claim 1, wherein the active silyl group is the vinyl-containing silyl group, wherein the platinum-containing catalyst or the said adhesive surface to expose it A rhodium-containing catalyst is attached, and the reactive group is hydrosilyl.

請求項12に記載の接着用基材は、請求項11に記載されたもので、前記白金含有触媒が白金錯体であり、前記ロジウム含有触媒がロジウム錯体であることを特徴とする。   The adhesive base material according to claim 12 is the adhesive base material according to claim 11, wherein the platinum-containing catalyst is a platinum complex, and the rhodium-containing catalyst is a rhodium complex.

請求項13に記載の接着用基材は、請求項11に記載されたもので、前記白金含有触媒又はロジウム含有触媒が、それを含む溶液又は懸濁液で塗布又は浸漬によって付されていることを特徴とする。   The adhesive substrate according to claim 13 is the adhesive substrate according to claim 11, wherein the platinum-containing catalyst or rhodium-containing catalyst is applied by application or immersion in a solution or suspension containing the catalyst. It is characterized by.

請求項14に記載の接着用基材は、請求項11に記載されたもので、前記白金含有触媒又はロジウム含有触媒の白金原子又はロジウム原子が、複数の前記ビニル含有シリル基に配位していることを特徴とする。   The adhesive substrate according to claim 14 is the adhesive substrate according to claim 11, wherein the platinum atom or rhodium atom of the platinum-containing catalyst or rhodium-containing catalyst is coordinated to the plurality of vinyl-containing silyl groups. It is characterized by being.

請求項15に記載の接着用基材は、請求項11に記載されたもので、前記ビニル含有シリル基が、(CH2=CH-)(CH3O-)2Si-O-[(CH2=CH-)(CH3O-)Si-O]b1-Si(-OCH3)2(-CH=CH2) (b1は0〜100の数)、
(CH2=CH-)(C2H5O-)2Si-O-[(CH2=CH-)(C2H5O-)Si-O]b2-Si(-OC2H5)2(-CH=CH2) (b2は0〜100の数)、
(CH2=CH-)(C3H7O-)2Si-O-[(CH2=CH-)(C3H7O-)Si-O]b3-Si(-OC3H7)2(-CH=CH2) (b3は0〜100の数)、
から選ばれるビニル含有シリル化合物由来であることを特徴とする。
The adhesive substrate according to claim 15 is the adhesive substrate according to claim 11, wherein the vinyl-containing silyl group has (CH 2 = CH-) (CH 3 O-) 2 Si-O-[(CH 2 = CH-) (CH 3 O-) Si-O] b1 -Si (-OCH 3 ) 2 (-CH = CH 2 ) (b1 is a number from 0 to 100),
(CH 2 = CH-) (C 2 H 5 O-) 2 Si-O-[(CH 2 = CH-) (C 2 H 5 O-) Si-O] b2 -Si (-OC 2 H 5 ) 2 (number of b2 is 0~100) (-CH = CH 2) ,
(CH 2 = CH-) (C 3 H 7 O-) 2 Si-O-[(CH 2 = CH-) (C 3 H 7 O-) Si-O] b3 -Si (-OC 3 H 7 ) 2 (number of b3 is 0~100) (-CH = CH 2) ,
It is derived from a vinyl-containing silyl compound selected from:

請求項16に記載の接着用基材は、請求項1に記載されたもので、前記固体が、シリコーンゴム又はシリコーンレジンであることを特徴とする。   The adhesive substrate according to a sixteenth aspect is the one according to the first aspect, wherein the solid is a silicone rubber or a silicone resin.

請求項17に記載のシリコーンゴム接着体は、請求項1〜16のいずれかに記載の接着用基材の前記基質の表面の上に、ポリシロキサン類、ビニルシリコーン類及び/又はシラノールシリコーン類のシリコーンゴム成分を含み減圧脱気した組成物を付し、硬化させて、形成されるシリコーンゴムが被覆されて接着されていることを特徴とする。 A silicone rubber adhesive according to claim 17 is formed of polysiloxanes, vinyl silicones and / or silanol silicones on the surface of the substrate of the bonding base material according to any one of claims 1 to 16 . subjected to a composition and degassed under reduced pressure includes a silicone rubber component, is cured silicone rubber to be formed, characterized in that it is bonded is coated.

請求項18に記載のシリコーンゴム接着体は、請求項17に記載されたもので、複数の前記接着用基材が、粒状、布状、薄膜状、フィルム状又は板状の前記シリコーンゴムを介して、前記接着されていることを特徴とする。   The silicone rubber adhesive body according to claim 18 is the adhesive body according to claim 17, wherein the plurality of adhesive base materials are interposed in the form of granular, cloth-like, thin-film-like, film-like or plate-like silicone rubber. And being bonded.

請求項19に記載のシリコーンゴム接着体は、請求項17に記載されたもので、前記ポリシロキサン類が、H(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]c[Si(R11)R12O]dSi(CH3)2H(R11及びR12は、炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、フッ素置換アルキル基;アラルキル基;アリール基;HSi(CH3)2O-であり、cは1〜80の数、dは0〜80の数)で表わされ、前記ビニルシリコーン類が、CH2=CH(CH3)2SiO[SiCH=CH2(CH3)O]e[Si(R13)R14O]fSi(CH3)2CH=CH2(R13及びR14は、炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、フッ素置換アルキル基;アラルキル基;アリール基であり、eは1〜80の数、fは0〜80の数)で表わされ、前記シラノールシリコーン類が、A-(CH3)2SiO[Si(CH3)2O]g[Si(R15)R16O]hSi(CH3)2-A(R15及びR16は、炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、フッ素置換アルキル基;アラルキル基;アリール基であり、Aは、水酸基、炭素数1〜4のアルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、イミノオキシ基、アミノ基であり、gは1〜80の数、hは0〜80の数)で表わされることを特徴とする。 The silicone rubber adhesive according to claim 19 is the adhesive according to claim 17, wherein the polysiloxane is H (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] c [Si (R 11 ). R 12 O] d Si (CH 3 ) 2 H (R 11 and R 12 are each an alkyl group, alkenyl group, alkyloxy group, fluorine-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; aralkyl group; aryl group; HSi (CH 3 ) 2 O-, c is a number from 1 to 80, d is a number from 0 to 80), and the vinyl silicone is CH 2 = CH (CH 3 ) 2 SiO [SiCH = CH 2 (CH 3 ) O] e [Si (R 13 ) R 14 O] f Si (CH 3 ) 2 CH═CH 2 (R 13 and R 14 are each an alkyl group, alkenyl group, alkyloxy group having 1 to 12 carbon atoms. Group, fluorine-substituted alkyl group; aralkyl group; aryl group, e is a number of 1 to 80, f is a number of 0 to 80), and the silanol silicone is A- (CH 3 ) 2 SiO [Si (CH 3 ) 2 O] g [Si (R 15 ) R 16 O] h Si (CH 3 ) 2 -A (R 15 and R 16 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyloxy group, a fluorine-substituted alkyl group; an aralkyl group; an aryl group, and A is a hydroxyl group, an alkyloxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group. , An aryloxy group, an acyloxy group, an iminooxy group, and an amino group, and g is a number of 1 to 80, and h is a number of 0 to 80).

請求項20に記載のシリコーンゴム接着体の製造方法は、請求項1〜16のいずれかに記載の接着用基材の前記基質の表面の上に、ポリシロキサン類、ビニルシリコーン類及び/又はシラノールシリコーン類のシリコーンゴム成分を含み減圧脱気した組成物を付し、常温下又は加熱下で硬化させて、前記表面を被覆してシリコーンゴムを接着することを特徴とする。 A method for producing a silicone rubber bonded body according to claim 20 is obtained by forming polysiloxanes, vinyl silicones and / or silanols on the surface of the substrate of the bonding base material according to any one of claims 1 to 16. given the unrealized vacuum degassed composition of the silicone rubber component of silicones, and cured under room temperature or under heating, to coat the surface, characterized in that bonding the silicone rubber.

請求項21に記載のシリコーンゴム接着体の製造方法は、請求項20に記載されたもので、前記組成物が、架橋剤及び/又は架橋触媒を含んでいることを特徴とする。   The method for producing a silicone rubber bonded body according to claim 21 is the method according to claim 20, wherein the composition contains a crosslinking agent and / or a crosslinking catalyst.

本発明の接着用基材は、金属、高分子樹脂又はセラミックスで形成された基材の表面に、水酸基を導入し、その水酸基と、アルコキシシラン化合物由来のような活性シリル基とを化学的にシリルエーテル結合させることにより、シリコーンゴムと架橋接着し易くなったものである。   The bonding substrate of the present invention introduces a hydroxyl group into the surface of a substrate formed of metal, polymer resin or ceramics, and chemically combines the hydroxyl group and an active silyl group derived from an alkoxysilane compound. By making silyl ether bond, it becomes easy to cross-link and adhere to silicone rubber.

このシリル基の結合により、極めて薄いシリルエーテルの単分子膜が形成されている。この膜は、化学的に安定であり、薄くても基材表面をシリコーンゴムへ充分に接着するよう改質している。さらにこの膜は、長期間安定で、シリコーンゴムと架橋したり相互作用したりして接着し、強固で剥がれ難いシリコーンゴム接着体を形成させる。   Due to the bonding of the silyl group, a very thin monomolecular film of silyl ether is formed. This film is chemically stable and has been modified so that the surface of the substrate is sufficiently adhered to the silicone rubber even if it is thin. Furthermore, this film is stable for a long period of time and cross-links or interacts with the silicone rubber to form a strong and difficult-to-peel silicone rubber adhesive.

特に接着用基材が、活性シリル基であるビニル含有シリル基でシリルエーテル結合し接着表面を形成してそこに白金含有触媒やロジウム含有触媒を付したものであると、ヒドロシリル含有シリコーンゴムと、極めて強く接着したシリコーンゴム接着体を形成させる。   In particular, when the base material for adhesion is a silyl ether bond with a vinyl-containing silyl group that is an active silyl group to form an adhesion surface, and a platinum-containing catalyst or a rhodium-containing catalyst is attached thereto, a hydrosilyl-containing silicone rubber, An extremely strongly bonded silicone rubber adhesive is formed.

このシリコーンゴム接着体の製造方法によれば、大小問わずシリコーンゴム接着体を簡便かつ大量に得ることができる。   According to this method for producing a silicone rubber bonded body, a silicone rubber bonded body can be obtained easily and in large quantities regardless of the size.

発明を実施するための好ましい形態Preferred form for carrying out the invention

以下、本発明の実施の好ましい形態について詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの形態に限定されるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail, but the scope of the present invention is not limited to these embodiments.

本発明を適用する接着用基材例えばシリコーンゴム接着用基材は、以下のように製造される。   A bonding substrate to which the present invention is applied, for example, a silicone rubber bonding substrate is manufactured as follows.

金属製の被接着基材の基質表面にコロナ放電処理を施し、その基質表面の金属の酸化物分子に由来する水酸基を生成させ、シリコーンゴム架橋反応性の基材表面とする。基質表面に不純異物例えば有機物のような汚れが付着していると、コロナ放電処理により酸化されて基質表面に有機物由来のカルボキシル基が生じ、それに起因する水酸基を生成させたシリコーンゴム架橋反応性の基材表面となる。   The substrate surface of the metal adherend substrate is subjected to corona discharge treatment to generate hydroxyl groups derived from metal oxide molecules on the substrate surface to form a silicone rubber crosslinking reactive substrate surface. If impurities such as organic substances are attached to the surface of the substrate, it is oxidized by corona discharge treatment to generate carboxyl groups derived from organic substances on the surface of the substrate. It becomes the substrate surface.

一方、その水酸基に反応してシリルエーテルを形成させるHSi(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2CH2Si(OC2H5)3のような機能性アルコキシシリル化合物と溶媒との溶液を、水酸基が生成している被接着基材表面に付し、乾燥させた後、加熱する。この機能性アルコキシシリル化合物のトリエトキシシリル基が、基材表面上の水酸基に反応し、前記活性シリル基となり、水酸基の脱水素残基とともに、化学的に強固なシリルエーテル結合を形成する。このアルコキシシリル化合物により、ヒドロシリル含有シリル基のようなシリル基がエーテル結合したシリルエーテルの単分子膜で被覆されたシリコーンゴム接着用基材が得られる。 On the other hand, a functional alkoxysilyl compound such as HSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 that reacts with the hydroxyl group to form a silyl ether and a solvent The solution is applied to the surface of the substrate to be bonded on which hydroxyl groups are generated, dried, and then heated. The triethoxysilyl group of this functional alkoxysilyl compound reacts with a hydroxyl group on the surface of the substrate to become the active silyl group, and forms a chemically strong silyl ether bond together with the dehydrogenated residue of the hydroxyl group. With this alkoxysilyl compound, a silicone rubber adhesive base material coated with a monomolecular film of silyl ether in which a silyl group such as a hydrosilyl-containing silyl group is ether-bonded can be obtained.

このような単分子膜は、最初に使用したシリル化合物の基本単位を超えない分子鎖からなる。   Such a monomolecular film consists of molecular chains that do not exceed the basic unit of the silyl compound used first.

このシリコーンゴム接着用基材に、シリコーンゴム成分を含む組成物を塗布し、硬化させると、表面にシリコーンゴムが基材上のシリルエーテルの単分子膜に架橋して接着されたシリコーンゴム接着体が得られる。基材表面上のシリルエーテル分子とシリコーンゴムとは、シリルエーテル分子とシリコーンゴム成分とが化学反応し共有結合を形成して化学的に架橋したり、シリル基同士で引き付け合って相互作用して電気化学的に架橋したりして、強固に結合している。そのため、シリコーンゴム接着体は、強い接着強度を有し、剥がれ難くなっているものと推察される。   When a composition containing a silicone rubber component is applied to this silicone rubber bonding substrate and cured, the silicone rubber adhesive is bonded to the surface by crosslinking the silicone rubber to the monomolecular film of silyl ether on the substrate. Is obtained. The silyl ether molecule and the silicone rubber on the substrate surface are chemically cross-linked with the silyl ether molecule and the silicone rubber component to form a covalent bond, or are attracted and interacted with each other by silyl groups. It is cross-linked electrochemically and is firmly bonded. Therefore, it is assumed that the silicone rubber adhesive has a strong adhesive strength and is difficult to peel off.

ヒドロシリル含有シリル基のようなシリル基でシリルエーテル結合したシリコーンゴム接着用基材の例を示したが、ビニルシリル含有シリル基で例示されるビニル含有シリル基、アルコキシシリル末端含有シリル基、加水分解性基含有シリル基のような活性シリル基でシリルエーテル結合したものであってもよい。   Examples of silicone rubber adhesive substrates bonded with a silyl group such as a hydrosilyl-containing silyl group are shown, but vinyl-containing silyl groups exemplified by vinylsilyl-containing silyl groups, alkoxysilyl terminal-containing silyl groups, hydrolyzable It may be a silyl ether bond with an active silyl group such as a group-containing silyl group.

このような活性シリル基は何れも、被接着基材の表面の水酸基に機能性アルコキシシリル化合物のアルコキシシリル基が反応することにより、形成されるものである。   Such active silyl groups are all formed by the reaction of the alkoxysilyl group of the functional alkoxysilyl compound with the hydroxyl group on the surface of the adherend substrate.

このようなヒドロシリル含有シリル基で被接着基材(Sub.:Substrate)に形成されるシリルエーテル結合は、下記化学式[1]
Sub.−O−SiR20 ・・・[1]
で表わされる。ヒドロシリル含有シリル基−SiR20は、R20が末端に-SiH(R1)2又は-SiH2(R2)(R1及びR2は、炭素数1〜4のアルキル基)を有し、又はその主鎖の途中に-SiH-基を有しているというもので、ポリシロキシ基となっていてもよいというものである。
The silyl ether bond formed on such a substrate (Sub .: Substrate) with such a hydrosilyl-containing silyl group has the following chemical formula [1]:
Sub.-O-SiR 20 ... [1]
It is represented by Hydrosilyl-containing silyl group —SiR 20 has R 20 having —SiH (R 1 ) 2 or —SiH 2 (R 2 ) (R 1 and R 2 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms) at the end, Alternatively, it has a —SiH— group in the middle of its main chain and may be a polysiloxy group.

−SiR20は、より具体的には、
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2H、
-(CH3O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2H、
-(i-C3H7O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)H2
-(n-C3H7O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2Si(CH3)2H、
-(n-C4H9O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(t-C4H9O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(C2H5O)CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(CH3O)CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2Si(CH3)2H、
-(CH3)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(n-C3H7)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(i-C3H7O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(n-C4H9)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-(t-C4H9O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H]k1
-[(-O)(-)SiCH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H]k2
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H]k3
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H]k4
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H]k5
-(CH3O)2SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
-(CH3O)CH3SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
-(CH3)2SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
-[(-O)(-)SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H]k6
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2Si(CH3)2C6H4OC6H4Si(CH3)2H]k7
-[(-O)(-)SiCH2CH2CH2Si(CH3)2C2H4Si(CH3)2H]k8
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]m1Si(CH3)2H、
-(C2H5)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]m2Si(C2H5)2H、
-(C2H5O)CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]m3Si(CH3)2H、
(CH3)3SiO[-Si(CH3)]O[SiH(CH3)O]m4Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(CH3)CH2CH2CH2)(-)SiCH3]O[SiH(CH3)O]m5Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(OCH3)CH2CH2CH2)(-)SiCH3]O[SiH(CH3)O]m6Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(CH3)CH2CH2CH2)(-)SiCH3]O[SiH(CH3)O]m7Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2)SiCH3]O[SiH(CH3)O]m8Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(CH3)O[SiH(CH3)O]m9[Si(CH3)2O]n1Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)(-)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]m10[Si(CH3)2O]n2Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(OCH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)(-)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]m11[Si(CH3)2O]n3Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]m12[Si(CH3)2O]n4Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(OCH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)(-)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]m13[Si(CH3)2O]n5Si(CH3)3
(CH3)3SiO[-Si(C2H5)O][SiH(C2H5)O]m14Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(C2H5)]O[SiH(C2H5)O]m15Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(-Si(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)(-)Si(C2H5)]O[SiH(C2H5)O]m16Si(CH3)3
-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[HSi(CH3)2OSiC6H5O]m17Si(CH3)2H、
-Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[HSi(CH3)2OSiC6H5O]m18Si(CH3)2H、
-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[HSi(CH3)2OSiC6H5O]m19Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(CH3)2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m20Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m21Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m22Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m23Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m24Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m25Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m26Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m27Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m28Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m29Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m30Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m31Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m32Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m33Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m34Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m35Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m36Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(OCH3)2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m37Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m38Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m39Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m40Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m41Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m42Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m43Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m44Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m45Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m46Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m47Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m48Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m49Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-Si(O-)C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]m50Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSiC6H5O]m51[HSi(CH3)2OSiC6H5O]n6Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(OCH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSiC6H5O]m52[HSi(CH3)2OSiC6H5O]n7Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSiC6H5O]m53[HSi(CH3)2OSiC6H5O]n8Si(CH3)2H、
-(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]m54[SiCH3(C6H5)O]n9Si(CH3)2H、
-Si(OC2H5)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]m55[SiCH3(C6H5)O]n10Si(CH3)2H、
-Si(O-)CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]m56[SiCH3(C6H5)O]n11Si(CH3)2H、
-Si(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]m57[SiCH3(C6H5)O]n12Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO(-)Si(CH3)O[SiH(CH3)O]m58[SiCH3(C6H5)O]n13Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(OC2H5)2CH2CH2CH2Si(CH3)]O[SiH(CH3)O]m59[SiCH3(C6H5)O]n14Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(O-)CH2CH2CH2Si(CH3)]O[SiH(CH3)O]m60[SiCH3(C6H5)O]n15Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(-)Si(CH3)2CH2CH2CH2Si(CH3)]O[SiH(CH3)O]m61[SiCH3(C6H5)O]n16Si(CH3)2H
が挙げられる。これらの基中、k1〜k8、m1〜m61及びn1〜n16は1〜100までの数である。一つの基に、ヒドロシリル基(SiH基)を、1〜99個有していることが好ましい。
More specifically, -SiR 20 is
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 H,
-(iC 3 H 7 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) H 2 ,
-(nC 3 H 7 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 Si (CH 3 ) 2 H,
-(nC 4 H 9 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(tC 4 H 9 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(C 2 H 5 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 Si (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(nC 3 H 7 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(iC 3 H 7 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(nC 4 H 9 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-(tC 4 H 9 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H] k1
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H] k2 ,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H] k3 ,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H] k4 ,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H] k5 ,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 O) CH 3 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 ) 2 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
-[(-O) (-) SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H] k6 ,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 OC 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H] k7 ,
-[(-O) (-) SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 2 H 4 Si (CH 3 ) 2 H] k8 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] m1 Si (CH 3 ) 2 H,
-(C 2 H 5 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] m2 Si (C 2 H 5 ) 2 H,
-(C 2 H 5 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] m3 Si (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 ) 3 SiO [-Si (CH 3 )] O [SiH (CH 3 ) O] m4 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] m5 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (OCH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] m6 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] m7 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 ) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] m8 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (CH 3 ) O [SiH (CH 3 ) O] m9 [Si (CH 3 ) 2 O] n1 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] m10 [Si (CH 3 ) 2 O] n2 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (OCH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] m11 [Si (CH 3 ) 2 O] n3 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [( -Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] m12 [Si (CH 3 ) 2 O] n4 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (OCH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] m13 [Si (CH 3 ) 2 O] n5 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [-Si (C 2 H 5 ) O] [SiH (C 2 H 5 ) O] m14 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (C 2 H 5 )] O [SiH (C 2 H 5 ) O] m15 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(-Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) (-) Si (C 2 H 5 )] O [SiH (C 2 H 5 ) O] m16 Si (CH 3 ) 3 ,
-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m17 Si (CH 3 ) 2 H,
-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m18 Si (CH 3 ) 2 H,
-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m19 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m20 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (CH 3) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m21 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m22 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m23 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m24 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m25 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m26 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m27 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (OCH 3) 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m28 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (OCH 3) 2 CH 2 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m29 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m30 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (OCH 3) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m31 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (OCH 3) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m32 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m33 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m34 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m35 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m36 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (OCH 3 ) 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m37 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m38 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m39 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m40 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (O-) C 6 H 4 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m41 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m42 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m43 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m44 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m45 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m46 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m47 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (O-) CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m48 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-Si (O-) CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] m49 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3) 2 SiO [ (- Si (O-) C 6 H 4 CH 2 CH 2) Si (CH 3) O] [HSiCH 3 O] m50 Si (CH 3) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m51 [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] n6 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (OCH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m52 [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] n7 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] m53 [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] n8 Si (CH 3 ) 2 H,
-(CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] m54 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n9 Si (CH 3 ) 2 H,
-Si (OC 2 H 5 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] m55 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n10 Si ( CH 3 ) 2 H,
-Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] m56 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n11 Si (CH 3 ) 2 H,
-Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] m57 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n12 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO (-) Si (CH 3 ) O [SiH (CH 3 ) O] m58 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n13 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (OC 2 H 5 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 )] O [SiH (CH 3 ) O] m59 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n14 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (O-) CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 )] O [SiH (CH 3 ) O] m60 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n15 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(-) Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 )] O [SiH (CH 3 ) O] m61 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] n16 Si (CH 3 ) 2 H
Is mentioned. In these groups, k1 to k8, m1 to m61, and n1 to n16 are numbers from 1 to 100. One group preferably has 1 to 99 hydrosilyl groups (SiH groups).

このようなヒドロシリル含有シリル基を形成する機能性アルコキシシリル化合物の例として、
(CH3O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(CH3O)3SiCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)3
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)3
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2H、
(CH3O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2H、
(i-C3H7O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)H
(n-C3H7O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2Si(CH3)2H、
(n-C4H9O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(t-C4H9O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)2CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(CH3O)2CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2Si(CH3)2H、
CH3O(CH3)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(n-C3H7)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(i-C3H7O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(n-C4H9)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(t-C4H9O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2H、
(CH3O)3SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
(CH3O)2CH3SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
CH3O(CH3)2SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2C6H4CH2CH2Si(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2C6H4OC6H4Si(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2C2H4Si(CH3)2H、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]p1Si(CH3)2H、
C2H5O(CH3)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]p2Si(C2H5)2H、
(C2H5O)2CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]p3Si(CH3)2H、
(CH3)3SiOSiH(CH3)O[SiH(CH3)O]p4Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(C2H5OSi(CH3)CH2CH2CH2)SiCH3]O[SiH(CH3)O]p5Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(C2H5OSiOCH3CH2CH2CH2)SiCH3]O[SiH(CH3)O]p6Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(C2H5OSi(CH3)CH2CH2CH2)SiCH3]O[SiH(CH3)O]p7Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(Si(OC2H5)2CH2CH2CH2)SiCH3]O[SiH(CH3)O]p8Si(CH3)3
(CH3)3SiOSi(OC2H5)2O[SiH(CH3)O]p9[Si(CH3)2O]q1Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(C2H5Osi(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]p10[Si(CH3)2O]q2Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][SiH(CH3)O]p11[Si(CH3)2O]q3Si(CH3)3
(CH3)3SiOSi(OC2H5)2O[SiH(C2H5)O]p12Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(Si(OC2H5)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(C2H5)]O[SiH(C2H5)O]p13Si(CH3)3
(CH3)3SiO[(C2H5OSi(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(C2H5)]O[SiH(C2H5)O]p14Si(CH3)3
C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[HSi(CH3)2OSiC6H5O]p15Si(CH3)2H、
Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[HSi(CH3)2OSiC6H5O]p16Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p17Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p18Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p19Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p20Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p21Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p22Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p23Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p24Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p25Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p26Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p27Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p28Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p29Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p30Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p31Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2C6H4CH2CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p32Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p33Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p34Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(Si(OCH3)3CH2CH2C6H4CH2CH2)Si(CH3)O][HSiCH3O]p35Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[(CH3O)Si(CH3)CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSiC6H5O]p36[HSi(CH3)2OSiC6H5O]q4Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[Si(OCH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(CH3)2OSiC6H5O]p37[HSi(CH3)2OSiC6H5O]q5Si(CH3)2H、
C2H5O(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]p38[SiCH3(C6H5)O]q6Si(CH3)2H、
Si(OC2H5)3CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]p39[SiCH3(C6H5)O]q7Si(CH3)2H、
C2H5OSi(CH3)2CH2CH2CH2CH2CH2CH2(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]p40[SiCH3(C6H5)O]q8Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO(C2H5O)Si(CH3)O[SiH(CH3)O]p41[SiCH3(C6H5)O]q9Si(CH3)2H、
H(CH3)2SiO[Si(OC2H5)3CH2CH2CH2Si(CH3)]O[SiH(CH3)O]p42[SiCH3(C6H5)O]q10Si(CH3)2H
が挙げられる。これらの基中、p1〜p42及びq1〜q10は1〜100までの数である。一つの分子に、ヒドロシリル基を、1〜99個有していることが好ましい。
Examples of functional alkoxysilyl compounds that form such hydrosilyl-containing silyl groups include:
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 OSi (OCH 3 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 OSi (OCH 3 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 H,
(iC 3 H 7 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) H 2 ,
(nC 3 H 7 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 Si (CH 3 ) 2 H,
(nC 4 H 9 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(tC 4 H 9 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 Si (CH 3 ) 2 H,
CH 3 O (CH 3 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(nC 3 H 7 ) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(iC 3 H 7 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(nC 4 H 9 ) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(tC 4 H 9 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 O) 2 CH 3 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
CH 3 O (CH 3 ) 2 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 6 H 4 OC 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 C 2 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] p1 Si (CH 3 ) 2 H,
C 2 H 5 O (CH 3 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] p2 Si (C 2 H 5 ) 2 H,
(C 2 H 5 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] p3 Si (CH 3 ) 2 H,
(CH 3 ) 3 SiOSiH (CH 3 ) O [SiH (CH 3 ) O] p4 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 ) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] p5 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(C 2 H 5 OSiOCH 3 CH 2 CH 2 CH 2 ) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] p6 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 ) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] p7 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(Si (OC 2 H 5 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) SiCH 3 ] O [SiH (CH 3 ) O] p8 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiOSi (OC 2 H 5 ) 2 O [SiH (CH 3 ) O] p9 [Si (CH 3 ) 2 O] q1 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(C 2 H 5 Osi (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] p10 [Si (CH 3 ) 2 O] q2 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [SiH (CH 3 ) O] p11 [Si (CH 3 ) 2 O] q3 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiOSi (OC 2 H 5 ) 2 O [SiH (C 2 H 5 ) O] p12 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(Si (OC 2 H 5 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (C 2 H 5 )] O [SiH (C 2 H 5 ) O] p13 Si (CH 3 ) 3 ,
(CH 3 ) 3 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (C 2 H 5 )] O [SiH (C 2 H 5 ) O] p14 Si (CH 3 ) 3 ,
C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] p15 Si (CH 3 ) 2 H,
Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] p16 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p17 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p18 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p19 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p20 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p21 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p22 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p23 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p24 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p25 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p26 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p27 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p28 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p29 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p30 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p31 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p32 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p33 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p34 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(Si (OCH 3 ) 3 CH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 ) Si (CH 3 ) O] [HSiCH 3 O] p35 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [(CH 3 O) Si (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] p36 [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] q4 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [Si (OCH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] p37 [HSi (CH 3 ) 2 OSiC 6 H 5 O] q5 Si (CH 3 ) 2 H,
C 2 H 5 O (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] p38 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] q6 Si (CH 3 ) 2 H,
Si (OC 2 H 5 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] p39 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] q7 Si (CH 3 ) 2 H,
C 2 H 5 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] p40 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] q8 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO (C 2 H 5 O) Si (CH 3 ) O [SiH (CH 3 ) O] p41 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] q9 Si (CH 3 ) 2 H,
H (CH 3 ) 2 SiO [Si (OC 2 H 5 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 )] O [SiH (CH 3 ) O] p42 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] q10 Si (CH 3 ) 2 H
Is mentioned. In these groups, p1 to p42 and q1 to q10 are numbers from 1 to 100. One molecule preferably has 1 to 99 hydrosilyl groups.

またビニルシリル含有シリル基で被接着基材(Sub.)に形成されるシリルエーテル結合は、下記化学式[2]
Sub.−O−SiR21 ・・・[2]
で表わされる。ビニルシリル含有シリル基−SiR21は、R21が-Si-R3基(R3はビニル含有基)を有し、又は該基の主鎖の途中に-Si(R4)-基(R4はビニル含有基)を有しているというものである。
The silyl ether bond formed on the adherend substrate (Sub.) With a vinylsilyl-containing silyl group has the following chemical formula [2]
Sub.-O-SiR 21 ... [2]
It is represented by In the vinylsilyl-containing silyl group —SiR 21 , R 21 has a —Si—R 3 group (R 3 is a vinyl-containing group), or —Si (R 4 ) — group (R 4 ) in the middle of the main chain of the group. Has a vinyl-containing group).

−SiR21は、より具体的には、
-(C2H5O)2SiCH2-CH=CH2
-(C2H5O)2SiCH2CH2-CH=CH2
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2CH2-CH=CH2
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2-CH=CH2
-C2H5OSi(CH=CH2)OSi(OC2H5)-CH=CH2
-(CH3O)2SiCH2CH2C6H4-CH=CH2
-(CH3O)Si(CH=CH2)O[SiOCH3(CH=CH2)O]r1Si(OCH3)2-CH=CH2
-(C2H5O)Si(CH=CH2)O[SiOC2H5(CH=CH2)O]r2Si(OC2H5)2-CH=CH2
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]r3-CH=CH2
-(CH3O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]r4-CH=CH2
-(CH3)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]r5-CH=CH2
-(C2H5O)CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]r6-CH=CH2
-(-O)SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]r7-CH=CH2
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2(Si(CH3)3O)Si(CH3)O[SiCH3(-)O]s1Si(CH3)3
-(C2H5O)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2(Si(CH3)3O)Si(CH3)O[SiCH3(-)O]s2[Si(CH3)2O]r8Si(CH3)3
-C2H5OSi(CH=CH2)O[SiCH3(-)O]s3Si(OC2H5)2CH=CH2
-C2H5OSi(CH=CH2)O[SiCH3(-)O]s4Si(CH=CH2)OC2H5-CH=CH2
-(-O)Si(CH=CH2)O[SiCH3(-)O]s5Si(OC2H5)2CH=CH2
-(-O)Si(CH=CH2)O[SiCH3(-)O]s6Si(CH=CH2)(O-)-CH=CH2
-(-O)Si(CH=CH2)O[SiCH3(-)(O-)]s7Si(CH=CH2)(O-)-CH=CH2
-Si(CH=CH2)O[Si(-)OC2H5]s8[Si(O-)CH=CH2]2
-Si(CH=CH2)O[Si(O-)]r9[Si(-)OC2H5]s9[Si(OC2H5)2CH=CH2]2
-Si(CH=CH2)O[Si(-)(O-)]s10[Si(O-)CH=CH2]2
が挙げられる。これらの基中、r1〜r9及びs1〜s10は、1〜30の数である。一つの基に、ビニル基(CH=CH2基)を、1〜30個有していることが好ましい。
-SiR 21 is more specifically
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -CH = CH 2 ,
-C 2 H 5 OSi (CH = CH 2 ) OSi (OC 2 H 5 ) -CH = CH 2 ,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 -CH = CH 2 ,
-(CH 3 O) Si (CH = CH 2 ) O [SiOCH 3 (CH = CH 2 ) O] r1 Si (OCH 3 ) 2 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) Si (CH = CH 2 ) O [SiOC 2 H 5 (CH = CH 2 ) O] r2 Si (OC 2 H 5 ) 2 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] r3 -CH = CH 2 ,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] r4 -CH = CH 2 ,
-(CH 3 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] r5 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] r6 -CH = CH 2 ,
-(-O) SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] r7 -CH = CH 2 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 (Si (CH 3 ) 3 O) Si (CH 3 ) O [SiCH 3 ( -) O] s1 Si (CH 3 ) 3 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 (Si (CH 3 ) 3 O) Si (CH 3 ) O [SiCH 3 ( -) O] s2 [Si (CH 3 ) 2 O] r8 Si (CH 3 ) 3 ,
-C 2 H 5 OSi (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (-) O] s3 Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ,
-C 2 H 5 OSi (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (-) O] s4 Si (CH = CH 2 ) OC 2 H 5 -CH = CH 2 ,
-(-O) Si (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (-) O] s5 Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ,
-(-O) Si (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (-) O] s6 Si (CH = CH 2 ) (O-)-CH = CH 2 ,
-(-O) Si (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (-) (O-)] s7 Si (CH = CH 2 ) (O-)-CH = CH 2 ,
-Si (CH = CH 2 ) O [Si (-) OC 2 H 5 ] s8 [Si (O-) CH = CH 2 ] 2 ,
-Si (CH = CH 2 ) O [Si (O-)] r9 [Si (-) OC 2 H 5 ] s9 [Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ] 2 ,
-Si (CH = CH 2 ) O [Si (-) (O-)] s10 [Si (O-) CH = CH 2 ] 2
Is mentioned. In these groups, r1 to r9 and s1 to s10 are numbers from 1 to 30. One group preferably has 1 to 30 vinyl groups (CH═CH 2 groups).

ビニルシリル含有シリル基を形成する機能性アルコキシシリル化合物の例として、
(C2H5O)3SiCH2CH=CH2
(CH3O)3SiCH2CH2CH=CH2
(C2H5O)3SiCH2CH2CH=CH2
(CH3O)3SiCH2CH2CH2CH2CH=CH2
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2CH2CH=CH2
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2CH2CH2CH2CH=CH2
(CH3O)3SiCH2(CH2)7CH=CH2
(C2H5O)2Si(CH=CH2)OSi(OC2H5)CH=CH2
(CH3O)3SiCH2CH2C6H4CH=CH2
(CH3O)2Si(CH=CH2)O[SiOCH3(CH=CH2)O]t1Si(OCH3)2CH=CH2
(C2H5O)2Si(CH=CH2)O[SiOC2H5(CH=CH2)O]t2Si(OC2H5)3
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]t3CH=CH2
(CH3O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]t4CH=CH2
CH3O(CH3)2SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]t5CH=CH2
(C2H5O)2CH3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]t6CH=CH、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2[Si(CH3)2O]t7CH=CH、
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2(Si(CH3)3O)Si(CH3)O[SiCH3(-)O]u1Si(CH3)3CH=CH2
(C2H5O)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2(Si(CH3)3O)Si(CH3)O[SiCH3(-)O]u2[Si(CH3)2O]t8Si(CH3)3CH=CH2
(C2H5O)2Si(CH=CH2)O[SiCH3(OC2H5)O]u3Si(OC2H5)2CH=CH2
(C2H5O)2Si(CH=CH2)O[Si(OC2H5)2O]u4Si(OC2H5)2CH=CH2
(C2H5O)2Si(CH=CH2)O[Si(OC2H5)2O]u5Si(OC2H5)2CH=CH2
が挙げられる。これらの基中、t1〜t8及びu1〜u5は1〜30までの数である。一つの分子に、ビニル基を、1〜30個有していることが好ましい。
Examples of functional alkoxysilyl compounds that form vinylsilyl-containing silyl groups include:
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 (CH 2 ) 7 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (CH = CH 2 ) OSi (OC 2 H 5 ) CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 2 Si (CH = CH 2 ) O [SiOCH 3 (CH = CH 2 ) O] t1 Si (OCH 3 ) 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (CH = CH 2 ) O [SiOC 2 H 5 (CH = CH 2 ) O] t2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] t3 CH = CH 2 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] t4 CH = CH 2 ,
CH 3 O (CH 3 ) 2 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] t5 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] t6 CH = CH,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 [Si (CH 3 ) 2 O] t7 CH = CH,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 (Si (CH 3 ) 3 O) Si (CH 3 ) O [SiCH 3 (- ) O] u1 Si (CH 3 ) 3 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 (Si (CH 3 ) 3 O) Si (CH 3 ) O [SiCH 3 (- ) O] u2 [Si (CH 3 ) 2 O] t8 Si (CH 3 ) 3 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (CH = CH 2 ) O [SiCH 3 (OC 2 H 5 ) O] u3 Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (CH = CH 2 ) O [Si (OC 2 H 5 ) 2 O] u4 Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (CH = CH 2 ) O [Si (OC 2 H 5 ) 2 O] u5 Si (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2
Is mentioned. In these groups, t1 to t8 and u1 to u5 are numbers from 1 to 30. One molecule preferably has 1 to 30 vinyl groups.

また、アルコキシシリル末端含有シリル基で被接着基材(Sub.)に形成されるシリルエーテル結合は、下記化学式[3]
Sub.−O−SiR22 ・・・[3]
で表わされる。アルコキシシリル末端含有シリル基−SiR22は、R22が-Si(OR5)2R6基(R5及びR6は炭素数1〜4のアルキル基)、又は-Si(OR7)3基(R7は炭素数1〜4のアルキル基)を有しているものである。−SiR22は、より具体的には、
-(C2H5O)2SiCH2CH2Si(OC2H5)3
-(C2H5O)CH3SiCH2CH2Si(OC2H5)3
-(C2H5O)2SiCH=CHSi(OC2H5)3、
-(CH3O)2SiCH2CH2Si(OCH3)3、
-(CH3O)2SiCH2CH2C6H4CH2CH2Si(OCH3)3
-(CH3O)2Si[CH2CH2]3Si(OCH3)3
-(CH3O)2Si[CH2CH2]4Si(OCH3)3、
-(CH3O)CH3SiCH2CH2Si(OCH3)2CH3
-(C2H5O)CH3SiOSi(OC2H5)2CH3
-(C2H5O)Si(OC2H5)2
が挙げられる。
Further, the silyl ether bond formed on the adherend substrate (Sub.) With the alkoxysilyl terminal-containing silyl group has the following chemical formula [3]:
Sub.-O-SiR 22 ... [3]
It is represented by In the alkoxysilyl terminal-containing silyl group —SiR 22 , R 22 is —Si (OR 5 ) 2 R 6 group (R 5 and R 6 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms), or —Si (OR 7 ) 3 group. (R 7 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). -SiR 22 is more specifically
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
-(C 2 H 5 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
-(C 2 H 5 O) 2 SiCH = CHSi (OC 2 H 5 ) 3,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3,
-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
-(CH 3 O) 2 Si [CH 2 CH 2 ] 3 Si (OCH 3 ) 3 ,
-(CH 3 O) 2 Si [CH 2 CH 2 ] 4 Si (OCH 3 ) 3,
-(CH 3 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 CH 3 ,
-(C 2 H 5 O) CH 3 SiOSi (OC 2 H 5 ) 2 CH 3 ,
-(C 2 H 5 O) Si (OC 2 H 5 ) 2
Is mentioned.

アルコキシシリル末端含有シリル基を形成する機能性アルコキシシリル化合物の例として、
(C2H5O)3SiCH2CH2Si(OC2H5)3
(C2H5O)2CH3SiCH2CH2Si(OC2H5)3
(C2H5O)3SiCH=CHSi(OC2H5)3
(CH3O)3SiCH2CH2Si(OCH3)3(CH3O)3SiCH2CH2C6H4CH2CH2Si(OCH3)3
(CH3O)3Si[CH2CH2]3Si(OCH3)3
(CH3O)2Si[CH2CH2]4Si(OCH3)3
(C2H5O)2Si(OC2H5)2
(CH3O)2CH3SiCH2CH2Si(OCH3)2CH3
(C2H5O)2CH3SiOSi(OC2H5)2CH3
(CH3O)3SiO[Si(OCH3)2O]v1Si(OCH3)3
(C2H5O)3SiO[Si(OC2H5)2O]v2Si(OC2H5)3
(C3H7O)3SiO[Si(OC3H7)2O]v3Si(OC3H7)3
が挙げられる。これらの基中、v1〜v3は0〜30までの数である。
Examples of functional alkoxysilyl compounds that form alkoxysilyl terminal-containing silyl groups include:
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiCH = CHSi (OC 2 H 5 ) 3 ,
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 (CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
(CH 3 O) 3 Si [CH 2 CH 2 ] 3 Si (OCH 3 ) 3 ,
(CH 3 O) 2 Si [CH 2 CH 2 ] 4 Si (OCH 3 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 2 Si (OC 2 H 5 ) 2 ,
(CH 3 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 CH 3 ,
(C 2 H 5 O) 2 CH 3 SiOSi (OC 2 H 5 ) 2 CH 3 ,
(CH 3 O) 3 SiO [Si (OCH 3 ) 2 O] v1 Si (OCH 3 ) 3 ,
(C 2 H 5 O) 3 SiO [Si (OC 2 H 5 ) 2 O] v2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
(C 3 H 7 O) 3 SiO [Si (OC 3 H 7 ) 2 O] v3 Si (OC 3 H 7 ) 3
Is mentioned. In these groups, v1 to v3 are numbers from 0 to 30.

また、加水分解性基含有シリル基で被接着基材(Sub.)に形成されるシリルエーテル結合は、下記化学式[4]
Sub.−O−Si(R8)a(R9)3-a ・・・[4]
(R8は、水素原子;ハロゲン原子;炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、フッ素置換アルキル基;アラルキル基;アリール基であり、R9は、炭素数1〜12のアシルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルカンイミノオキシ基、アルキルオキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基;含窒素複素環基、及びアリールアミノ基であり、aは0〜3の数)で表わされる。より具体的には、加水分解性基含有シリル基−Si(R8)a(R9)3-a中、R8は、H-、F-、CH3-、C2H5-、CH2=CH-、n-C3H7-、i-C3H7-、CH2=CHCH2-、C4H9-、C6H13-、C8H17-、C6H5-、CH3C6H4-、C6H5CH2-、CF3CF2CH2CH2-、CF3CF2CF2CH2CH2-、CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2-、CH3O-、C2H5O-が挙げられ、R9は、CH3COO-、CH2=C(CH3)O-、C2H5(CH3)C=NO-、CH3O-、(CH3)2N-、(C2H5)2N-、(i-C3H7)2N-、O(CH2CH2)2N-、(CH3)3CNH-、C6H10NH-、C6H5NH-が挙げられる。
In addition, the silyl ether bond formed on the adherend substrate (Sub.) With a hydrolyzable group-containing silyl group has the following chemical formula [4]:
Sub.-O-Si (R 8 ) a (R 9 ) 3-a ... [4]
(R 8 is a hydrogen atom; a halogen atom; an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyloxy group, a fluorine-substituted alkyl group; an aralkyl group; an aryl group, and R 9 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. An acyloxy group, an alkenyloxy group, an alkaneiminooxy group, an alkyloxy group, an alkylamino group, a dialkylamino group; a nitrogen-containing heterocyclic group, and an arylamino group, where a is a number from 0 to 3. More specifically, in the hydrolyzable group-containing silyl group -Si (R 8 ) a (R 9 ) 3-a , R 8 is H-, F-, CH 3- , C 2 H 5- , CH 2 = CH-, nC 3 H 7 -, iC 3 H 7 -, CH 2 = CHCH 2 -, C 4 H 9 -, C 6 H 13 -, C 8 H 17 -, C 6 H 5 -, CH 3 C 6 H 4 -, C 6 H 5 CH 2 -, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 -, CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 -, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CH 3 O-, C 2 H 5 O-, and R 9 is CH 3 COO-, CH 2 = C (CH 3 ) O-, C 2 H 5 (CH 3 ) C = NO-, CH 3 O-, (CH 3 ) 2 N-, (C 2 H 5 ) 2 N-, (iC 3 H 7 ) 2 N-, O (CH 2 CH 2 ) 2 N-, (CH 3 ) 3 CNH-, C 6 H 10 NH-, C 6 H 5 NH-.

加水分解性基含有シリル基を形成する機能性アルコキシシリル化合物の例として、
CH3Si(OCOCH3)3、(CH3)2Si(OCOCH3)2、n-C3H7Si(OCOCH3)3、CH2=CHCH2Si(OCOCH3)3、C6H5Si(OCOCH3)3、CF3CF2CH2CH2Si(OCOCH3)3、CH2=CHCH2Si(OCOCH3)3、CH3OSi(OCOCH3)3、C2H5OSi(OCOCH3)3、CH3Si(OCOC3H7)3、CH3Si[OC(CH3)=CH2]3、(CH3)2Si[OC(CH3)=CH2]3、n-C3H7Si[OC(CH3)=CH2]3、CH2=CHCH2Si[OC(CH3)=CH2]3、C6H5Si[OC(CH3)=CH2]3、CF3CF2CH2CH2Si[OC(CH3)=CH2]3、CH2=CHCH2Si[OC(CH3)=CH2]3、CH3OSi[OC(CH3)=CH2]3、C2H5OSi[OC(CH3)=CH2]3、CH3Si[ON=C(CH3)C2H5]3、(CH32Si[ON=C(CH3)C2H5]2、n-C3H7Si[ON=C(CH3)C2H5]3、CH2=CHCH2Si[ON=C(CH3)C2H5]3、C6H5Si[ON=C(CH3)C2H5]3、CF3CF2CH2CH2Si[ON=C(CH3)C2H5]3、CH2=CHCH2Si[ON=C(CH3)C2H5]3、CH3OSi[ON=C(CH3)C2H5]3、C2H5OSi[ON=C(CH3)C2H5]]3、CH3Si[ON=C(CH3)C2H5]3、CH3Si[N(CH3)]3、(CH3)2Si[N(CH3)]2、n-C3H7Si[N(CH3)]3、CH2=CHCH2Si[N(CH3)]3、C6H5Si[N(CH3)]3、CF3CF2CH2CH2Si[N(CH3)]3、CH2=CHCH2Si[N(CH3)]3、CH3OSi[N(CH3)]3、C2H5OSi[N(CH3)]3、CH3Si[N(CH3)]3などの昜加水分解性オルガノシランが挙げられる。
As an example of a functional alkoxysilyl compound that forms a hydrolyzable group-containing silyl group,
CH 3 Si (OCOCH 3 ) 3 , (CH 3 ) 2 Si (OCOCH 3 ) 2 , nC 3 H 7 Si (OCOCH 3 ) 3 , CH 2 = CHCH 2 Si (OCOCH 3 ) 3 , C 6 H 5 Si ( OCOCH 3 ) 3 , CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 Si (OCOCH 3 ) 3 , CH 2 = CHCH 2 Si (OCOCH 3 ) 3 , CH 3 OSi (OCOCH 3 ) 3 , C 2 H 5 OSi (OCOCH 3 ) 3 , CH 3 Si (OCOC 3 H 7 ) 3 , CH 3 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , (CH 3 ) 2 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , nC 3 H 7 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , C 6 H 5 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 3 OSi [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , C 2 H 5 OSi [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 3 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , (CH 3 ) 2 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 2 , nC 3 H 7 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , C 6 H 5 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [ ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , CH 3 OSi [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , C 2 H 5 OSi [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] ] 3 , CH 3 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ] 3 , CH 3 Si [ N (CH 3 )] 3 , (CH 3 ) 2 Si [N (CH 3 )] 2 , nC 3 H 7 Si [N (CH 3 )] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [N (CH 3 )] 3 , C 6 H 5 Si [N (CH 3 )] 3 , CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 Si [N (CH 3 )] 3 , CH 2 = CHCH 2 Si [N (CH 3 )] 3 , CH 3 OSi [N (CH 3 )] 3 , C 2 H 5 OSi [N (CH 3 )] 3 , and CH 3 Si [N (CH 3 )] 3 are examples of hydrolyzable organosilanes.

これらの機能性アルコキシシリル化合物は、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;酢酸エチルなどのエステル類;塩化メチレンなどのハロゲン化物、ブタン、ヘキサンなどのオレフィン類;テトラヒドロフラン、ブチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族類;ジメチルホルムアミド、メチルピロリドンなどのアミド類;及びこれらの混合溶媒などに溶解して使用される。   These functional alkoxysilyl compounds include water, methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol and other alcohols; acetone, methyl ethyl ketone and other ketones; ethyl acetate and other esters; methylene chloride and other halides, butane, hexane, etc. These olefins are used by dissolving in ethers such as tetrahydrofuran and butyl ether, aromatics such as benzene and toluene, amides such as dimethylformamide and methylpyrrolidone, and mixed solvents thereof.

機能性アルコキシシリル化合物の添加量は、概ね上記の溶剤100gに対して、0.001〜5gの範囲が適当である。0.001g以下では接着効果が十分ではなく、5g以上では条件を制御しても多層薄膜が生成するので好ましくない。   The amount of the functional alkoxysilyl compound added is generally in the range of 0.001 to 5 g with respect to 100 g of the solvent. If it is 0.001 g or less, the adhesive effect is not sufficient, and if it is 5 g or more, a multilayer thin film is formed even if the conditions are controlled.

金属製の被接着基材の例を示したが、高分子樹脂、ガラス又はセラミックス製の被接着基材を用いてもよい。   Although the example of the metal adherend base material was shown, you may use the polymer resin, glass, or the ceramic adherend substrate.

それの水酸基は、一般的な金属の酸化物に由来する水酸基、水酸基を有するポリマー、セラミックスが有する水酸基であってもよい。   The hydroxyl group thereof may be a hydroxyl group derived from a general metal oxide, a polymer having a hydroxyl group, or a hydroxyl group possessed by ceramics.

このような金属として、例えばMg,Ti,Be,Ca,Li,Al,Mn,Zn,Cr,Ga,Fe,Cd,In,Ta,Co,Ni,Sn,Sb,Bi,Pb,Cu,Ag,Pt,Pd,及びAuのような金属材料;これら金属材料の二元合金、三元合金、多元合金が挙げられる。このような合金として、例えばMg合金、Al合金、Fe‐Cr‐Ni合金、Ni合金、Co合金、Cu-Zn合金、Cu-Sn合金、Cu-Ni合金、Ag合金が挙げられる。いずれの金属製や合金製の被接着基材も、表面に水酸基を導入できるように酸化被膜を生成しているものである。   Examples of such metals include Mg, Ti, Be, Ca, Li, Al, Mn, Zn, Cr, Ga, Fe, Cd, In, Ta, Co, Ni, Sn, Sb, Bi, Pb, Cu, and Ag. , Pt, Pd, and Au, such as binary alloys, ternary alloys, and multi-component alloys of these metal materials. Examples of such alloys include Mg alloy, Al alloy, Fe—Cr—Ni alloy, Ni alloy, Co alloy, Cu—Zn alloy, Cu—Sn alloy, Cu—Ni alloy, and Ag alloy. Any metal or alloy adherend substrate is one in which an oxide film is formed so that a hydroxyl group can be introduced to the surface.

高分子樹脂として、例えばセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、デンプン、二酢酸セルロースのようなセルロース誘導体、表面ケン化酢酸ビニル樹脂、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、i-ポリプロピレン、石油樹脂、ポリスチレン、s‐ポリスチレン、クロマン・インデン樹脂、テルペン樹脂、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリルニトリル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、ポリシアノアクリレート、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル・エチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、フッ化ビニリデン・エチレン共重合体、フッ化ビニリデン・プロピレン共重合体、1,4‐トランスポリブタジエン、ポリオキシメチレン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、フェノール・ホルマリン樹脂、クレゾール・フォルマリン樹脂、レゾルシン樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、トルエン樹脂、グリプタル樹脂、変性グリプタル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブテレンテレフタレート、不飽和ポリエステル樹脂、アリルエステル樹脂、ポリカーボネート、6−ナイロン(ナイロンは登録商標)、6'6−ナイロン、6'10-ナイロン、ポリイミド、ポリアミド、ポリベンズイミダゾール、ポリアミドイミド、ケイ素樹脂、シリコーンゴム、シリコーン樹脂、フラン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンオキサイド、ポリジメチルフェニレンオキサイド、ポリキシレン、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリスルホン(PSF)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリイミド(PPI、カプトン)、液晶樹脂、ケブラー繊維、炭素繊維とこれら複数材料のブレンド物、ポリテトラフロロエチレン(PTFE)のような高分子材料、又は天然ゴム、1,4‐シスブタジエンゴム、イソプレンゴム、ポリクロロプレン、スチレン・ブタジエン共重合ゴム、水素添加スチレン・ブタジエン共重合ゴム、アクリルニトリル・ブタジエン共重合ゴム、水素添加アクリルニトリル・ブタジエン共重合ゴム、ポリブテン、ポリイソブチレン、エチレン・プロピレンゴム、エチレン・プロピレン・ターポリマー、塩素化ポリエチレン、クロルスルフォン化ポリエチレン、アルキル化クロルスルフォン化ポリエチレン、クロロプレンゴム、塩素化アクリルゴム、臭素化アクリルゴム、フッ素ゴム、エピクロルヒドリンとその共重合ゴム、塩素化エチレンプロピレンゴム、塩素化ブチルゴム、臭素化ブチルゴムなどのゴム材料が挙げられる。これらの混合物又はこれらの架橋物であってもよい。   Examples of polymer resins include cellulose, hydroxyethyl cellulose, starch, cellulose derivatives such as cellulose diacetate, surface saponified vinyl acetate resin, low density polyethylene, high density polyethylene, i-polypropylene, petroleum resin, polystyrene, s-polystyrene, Chroman indene resin, terpene resin, styrene-divinylbenzene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin), polyacrylate, polyacrylate, polyacrylonitrile, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, poly Cyanoacrylate, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, vinyl chloride / ethylene copolymer, poly Vinylidene fluoride, vinylidene fluoride / ethylene copolymer, vinylidene fluoride / propylene copolymer, 1,4-transpolybutadiene, polyoxymethylene, polyethylene glycol, polypropylene glycol, phenol / formalin resin, cresol / formalin resin, Resorcin resin, melamine resin, xylene resin, toluene resin, glyphal resin, modified glyphal resin, polyethylene terephthalate, polybutene terephthalate, unsaturated polyester resin, allyl ester resin, polycarbonate, 6-nylon (Nylon is a registered trademark), 6 ' 6-nylon, 6'10-nylon, polyimide, polyamide, polybenzimidazole, polyamideimide, silicon resin, silicone rubber, silicone resin, furan resin, polyurethane resin, epoxy Resin, polyphenylene oxide, polydimethylphenylene oxide, polyxylene, polyphenylene sulfide (PPS), polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES), polyetheretherketone (PEEK), polyimide (PPI, Kapton), liquid crystal resin , Kevlar fibers, blends of carbon fibers and these materials, polymer materials such as polytetrafluoroethylene (PTFE), or natural rubber, 1,4-cisbutadiene rubber, isoprene rubber, polychloroprene, styrene-butadiene copolymer Polymerized rubber, hydrogenated styrene / butadiene copolymer rubber, acrylonitrile / butadiene copolymer rubber, hydrogenated acrylonitrile / butadiene copolymer rubber, polybutene, polyisobutylene, ethylene / propylene rubber, ethylene / propylene / terpolymer, chlorine Polyethylene, chlorosulfonated polyethylene, alkylated chlorosulfonated polyethylene, chloroprene rubber, chlorinated acrylic rubber, brominated acrylic rubber, fluoro rubber, epichlorohydrin and its copolymer rubber, chlorinated ethylene propylene rubber, chlorinated butyl rubber, brominated butyl rubber Rubber materials such as A mixture thereof or a cross-linked product thereof may be used.

セラミックスとして、Mg,Ti,Be,Ca,Li,Al,Mn,Zn,Cr,Ga,Fe,Cd,In,Ta,Co,Ni,Sn,Sb,Bi,Pb,Cu,及びAgなど金属材料の焼結体、これらの金属材料の二元合金の酸化物の焼結体、三元合金の酸化物の焼結体、多元合金の酸化物の焼結体が挙げられる。   Metal materials such as Mg, Ti, Be, Ca, Li, Al, Mn, Zn, Cr, Ga, Fe, Cd, In, Ta, Co, Ni, Sn, Sb, Bi, Pb, Cu, and Ag as ceramics Sintered bodies of these alloys, sintered bodies of oxides of binary alloys of these metal materials, sintered bodies of oxides of ternary alloys, and sintered bodies of oxides of multicomponent alloys.

被接着基材は、これら金属や高分子樹脂やガラスやセラミックスで形成されたものであればよく、粒子であってもよく、長方形、正方形、多角形のような形状のフィルム、板、布であってもよく、筒、空中糸、ホース、網のような製品形状であってもよく球、楕円球のような形状であってもよい。   The substrate to be adhered may be any material made of these metals, polymer resins, glass or ceramics, and may be particles, such as a film, plate, or cloth having a shape such as a rectangle, square, or polygon. It may be a product shape such as a cylinder, an air thread, a hose, or a net, or may be a shape such as a sphere or an elliptical sphere.

被接着基材にコロナ放電を施して水酸基を導入する例を示したが、大気圧プラズマ処理又は紫外線照射を施してもよい。   Although an example in which a corona discharge is applied to an adherend substrate to introduce a hydroxyl group is shown, atmospheric pressure plasma treatment or ultraviolet irradiation may be performed.

コロナ放電は、「コロナ処理」、日本接着学会誌、Vol.36,No.3,126(2000)に記載の方法に準じて、大気圧プラズマ処理は、「プラズマ処理」、日本接着学会誌、Vol.41,No.1,4(2005)に準じて、紫外線照射は、紫外線に暴露させて、夫々処理するというものである。これらの処理によって、L.J.Gerenser:J.Adhesion Sci.Technol.7,1019(1997)に記載のように、金属、高分子樹脂、ガラス又はセラミックス製の被接着基材の基材表面に、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基などが生成したり、表面に出現したりする。   Corona discharge is performed according to the method described in “Corona Treatment”, Journal of the Adhesion Society of Japan, Vol. 36, No. 3, 126 (2000). Atmospheric pressure plasma treatment is performed using “plasma treatment”, Journal of the Adhesion Society of Japan, Vol. In accordance with 41, No. 1, 4 (2005), ultraviolet irradiation involves exposure to ultraviolet rays and treatment. By these treatments, as described in LJ Gerenser: J. Adhesion Sci. Technol. 7, 1019 (1997), a hydroxyl group on the substrate surface of a metal, polymer resin, glass or ceramic adherend substrate, A carboxyl group, a carbonyl group, or the like is generated or appears on the surface.

前記の高分子樹脂は、元々水酸基を有するものと有しないものとがあるが、高分子樹脂製の被接着基材表面に水酸基を有しなくともコロナ放電、大気圧プラズマ処理又は紫外線照射の処理を施すことにより、そこに水酸基が効率よく生成される。   The polymer resin may or may not have a hydroxyl group from the beginning, but the surface of the substrate to be bonded made of the polymer resin may be treated with corona discharge, atmospheric pressure plasma treatment, or ultraviolet irradiation without having a hydroxyl group. By applying, hydroxyl groups are efficiently generated there.

それらの最適処理条件は、被接着基材表面の材質の種類や履歴によって異なるが、その表面に55kJ/m以上の表面張力が得られるまで処理し続けることが重要である。これにより、十分な接着強度が得られる。   These optimum processing conditions vary depending on the material type and history of the adherend substrate surface, but it is important to continue the treatment until a surface tension of 55 kJ / m or more is obtained on the surface. Thereby, sufficient adhesive strength is obtained.

具体的には、樹脂及び樹脂配合物等の表面のコロナ放電処理は、コロナ表面改質装置(例えば、信光電気計測(株)製コロナマスター)を用いて、電源:AC100V、出力電圧:0〜20kV,発振周波数:0〜40kHzで0.1秒〜60秒、温度0〜60℃の条件で行われる。   Specifically, the corona discharge treatment of the surface of the resin and the resin compound is performed using a corona surface reformer (for example, a corona master manufactured by Shinko Electric Measurement Co., Ltd.), power source: AC100V, output voltage: 0 to 20 kV, oscillation frequency: 0 to 40 kHz, 0.1 second to 60 seconds, temperature 0 to 60 ° C.

また、樹脂及び樹脂配合物の表面の大気圧プラズマ処理は、大気圧プラズマ発生装置(例えば、松下電工(株)製:商品名Aiplasuma)を用いて、プラズマ処理速度10〜100mm/s,電源:200 or 220V AC(30A)、圧縮エア:0.5MPa(1NL/min),10kHz/300W〜5GHz、電力:100W〜400W,照射時間:0.1秒〜60秒の条件で行われる。   In addition, the atmospheric pressure plasma treatment of the surface of the resin and the resin blend is performed using an atmospheric pressure plasma generator (for example, Matsushita Electric Works Co., Ltd .: trade name Aiplasuma), plasma treatment speed of 10 to 100 mm / s, power source: 200 or 220 V AC (30 A), compressed air: 0.5 MPa (1 NL / min), 10 kHz / 300 W to 5 GHz, power: 100 W to 400 W, irradiation time: 0.1 second to 60 seconds.

また、樹脂及び樹脂配合物等の表面の紫外線照射は、紫外線−発光ダイオード(UV-LED)照射装置(例えば、(株)オムロン製のUV-LED照射装置:商品名ZUV-C30H)を用いて、波長:200〜400nm、電源:100V AC,光源ピーク照度:400〜3000mW/cm2, 照射時間:1〜60秒の条件で行われる。 In addition, ultraviolet irradiation of the surface of the resin and the resin compound is performed using an ultraviolet-light emitting diode (UV-LED) irradiation device (for example, UV-LED irradiation device manufactured by OMRON Corporation: trade name ZUV-C30H). , Wavelength: 200 to 400 nm, power source: 100 V AC, light source peak illuminance: 400 to 3000 mW / cm 2 , irradiation time: 1 to 60 seconds.

コロナ放電などの前処理により表面に水酸基を生成している被接着基材の表面を、分子接着剤である機能性アルコキシシリル化合物の溶液に浸漬又は噴霧によって接触させてもよい。浸漬及び噴霧の時間に制限はなく、被接着基材表面が一様に湿潤していることが重要である。   You may make the surface of the to-be-adhered base material which has produced | generated the hydroxyl group on the surface by pretreatments, such as corona discharge, contact the solution of the functional alkoxysilyl compound which is a molecular adhesive by immersion or spraying. There is no limitation on the dipping and spraying time, and it is important that the surface of the adherend substrate is uniformly moistened.

機能性アルコキシシリル化合物を付した被接着基材を、オーブンに入れたり、ドライヤーで温風を送風したり、高周波を照射したりすることにより、加熱しながら乾燥する。加熱・乾燥は、50℃〜250℃の温度範囲で、1〜60分間行われる。50℃以下では、被接着基材表面に生成した水酸基と機能性アルコキシシリル化合物との反応時間が長くかかりすぎて、生産性が低下し、コストの高騰を招く。また、250℃以上では、加熱乾燥時間が短くても被接着基材表面が変形したり、分解したりしてしまう。1分間以下の加熱乾燥では熱の伝達が不十分であるため、被接着基材表面の水酸基と機能性アルコキシシリル化合物との結合が不十分となる。また、60分以上では生産性が低下する。   The substrate to be bonded with the functional alkoxysilyl compound is dried while being heated by placing it in an oven, blowing warm air with a dryer, or irradiating high frequency. Heating and drying are performed at a temperature range of 50 ° C to 250 ° C for 1 to 60 minutes. Below 50 ° C., the reaction time of the hydroxyl group generated on the surface of the adherend substrate and the functional alkoxysilyl compound takes too long, resulting in a decrease in productivity and an increase in cost. Further, at 250 ° C. or higher, the surface of the adherend substrate is deformed or decomposed even if the heat drying time is short. Since heat transfer is insufficient in heat drying for 1 minute or less, the bonding between the hydroxyl group on the adherend substrate surface and the functional alkoxysilyl compound becomes insufficient. Moreover, productivity will fall in 60 minutes or more.

被接着基材表面の水酸基と機能性アルコキシシリル化合物との反応が不十分な場合には、上記の浸漬と乾燥とを1〜5回程度繰り返してもよい。それにより1回当たりの浸漬及び乾燥時間を短縮し、反応回数を増やす方が反応を十分に進行させることができる。   When the reaction between the hydroxyl group on the surface of the adherend substrate and the functional alkoxysilyl compound is insufficient, the above immersion and drying may be repeated about 1 to 5 times. As a result, it is possible to sufficiently advance the reaction by shortening the time of dipping and drying per time and increasing the number of reactions.

さらに、前記の機能性アルコキシシリル化合物とシラン化合物とを組み合わせて用いることにより、シリコーンゴム架橋反応性を有するシリルエーテルを、被接着基材表面に形成させることができる。   Furthermore, by using a combination of the functional alkoxysilyl compound and the silane compound, a silyl ether having silicone rubber crosslinking reactivity can be formed on the surface of the adherend substrate.

たとえば、上記の機能性アルコキシシリル化合物で被接着基材表面の水酸基とを反応させた後、シラン化合物、例えば
HSi(CH3)2C6H4Si(CH3)2H、
HSi(CH3)2C6H4OC6H4Si(CH3)2H、
CH3Si(H)2C2H4Si(H)2CH3
HSi(CH3)2C2H4Si(CH3)2H、
HSi(CH3)2OSi(CH3)2H、
HSi(CH3)2O[Si(CH3)2O]x1Si(CH3)2H(但しx1=1〜840)、
(CH3)3SiO[SiH(R17)O]x2[Si(CH3)2O]y1Si(CH3)3(但しR17=CH3-、C2H5-、C6H5-;y1=1〜50;x2=0〜50)、
HSi(CH3)2O[SiC6H5(OSi(CH3)2H)]x3Si(CH3)2H(x3=1〜5)、
HSi(CH3)2O[SiCH3(H)O]x4[SiCH3(C6H5)O]y2Si(CH3)2H(x4=1〜10、y2=1〜10)
が挙げられる。これらのシラン化合物の0.01〜5%アルコール溶液に浸漬して、0〜200℃に1〜60分間加熱することによって、シリコーンゴム接着用基材が得られる。0.01%以下では反応時間がかかりすぎ、5%以上では洗浄・回収のコストがかかってしまう。0℃以下では反応性が低く、200℃以上では生産性が劣る。1分間以下では反応が完結せず、60分間以上では生産性が劣る。
For example, after reacting the hydroxyl group of the adherend substrate surface with the above functional alkoxysilyl compound, a silane compound, for example
HSi (CH 3 ) 2 C 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
HSi (CH 3 ) 2 C 6 H 4 OC 6 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
CH 3 Si (H) 2 C 2 H 4 Si (H) 2 CH 3 ,
HSi (CH 3 ) 2 C 2 H 4 Si (CH 3 ) 2 H,
HSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H,
HSi (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] x1 Si (CH 3 ) 2 H (where x1 = 1 to 840),
(CH 3 ) 3 SiO [SiH (R 17 ) O] x2 [Si (CH 3 ) 2 O] y1 Si (CH 3 ) 3 (where R 17 = CH 3- , C 2 H 5- , C 6 H 5 -; Y1 = 1-50; x2 = 0-50)
HSi (CH 3 ) 2 O [SiC 6 H 5 (OSi (CH 3 ) 2 H)] x3 Si (CH 3 ) 2 H (x3 = 1-5),
HSi (CH 3 ) 2 O [SiCH 3 (H) O] x4 [SiCH 3 (C 6 H 5 ) O] y2 Si (CH 3 ) 2 H (x4 = 1-10, y2 = 1-10)
Is mentioned. By immersing in a 0.01-5% alcohol solution of these silane compounds and heating to 0-200 ° C. for 1-60 minutes, a silicone rubber bonding substrate is obtained. If it is 0.01% or less, it takes too much reaction time, and if it is 5% or more, cleaning and recovery costs are required. The reactivity is low below 0 ° C, and the productivity is inferior above 200 ° C. The reaction is not completed in 1 minute or less, and the productivity is inferior in 60 minutes or more.

同様に、以下の不飽和アルコキシシラン化合物、例えば
CH2=CHCH2Si(OC2H5)3
CH2=CHCH2CH2Si(OC2H5)3
CH2=CHCH2CH2CH2CH2Si(OC2H5)3
CH2=CHCH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3
CH2=CHSi(OC2H5)2OSi(OC2H5)2CH=CH2
CH2=CHC6H4CH2CH2Si(OCH3)3
CH2=CHSi(OCH3)2O[SiOCH3(CH=CH2)O]x5Si(OCH3)2CH=CH2 (但し、x5=1〜30)、
CH2=CHSi(CH3)2O[Si(CH3)2O]y3[Si(R18)2O]x6Si(CH3)2CH=CH2(但し、R18=CH3−,C2H5−,C6H5−,又はCF3CH2CH3−、x6=0〜2100、y3=0〜2100)、
(CH3)3SiO[Si(CH3)2O]y4[SiCH3(CH=CH2)O]x7Si(CH3)3(但し、x7=0〜2100、y4=0〜2100)、
(CH3)3SiO[Si(CH3)2O]y5[SiCH3(CH=CH2)O]x8[SiCH3(R19)O]z1Si(CH3)3(R19=CH3−,C2H5−,C6H5−,又はCF3CH2CH3−、x8=0〜2100、y5=0〜2100、z1=0〜2100)
が挙げられる。これらの不飽和アルコキシシラン化合物で被接着基材表面の水酸基と反応させた後、前記のシラン化合物の0.01〜5%と、白金触媒の10〜1000ppmとの混合物の懸濁液に、0〜200℃、1〜60分間浸漬してもシリコーンゴム接着用基材が得られる。
Similarly, the following unsaturated alkoxysilane compounds, such as
CH 2 = CHCH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
CH 2 = CHCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
CH 2 = CHCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
CH 2 = CHCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
CH 2 = CHSi (OC 2 H 5 ) 2 OSi (OC 2 H 5 ) 2 CH = CH 2 ,
CH 2 = CHC 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
CH 2 = CHSi (OCH 3 ) 2 O [SiOCH 3 (CH = CH 2 ) O] x5 Si (OCH 3 ) 2 CH = CH 2 (however, x5 = 1-30),
CH 2 = CHSi (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] y3 [Si (R 18 ) 2 O] x6 Si (CH 3 ) 2 CH = CH 2 (However, R 18 = CH 3 −, C 2 H 5 −, C 6 H 5 −, or CF 3 CH 2 CH 3 −, x6 = 0 to 2100, y3 = 0 to 2100),
(CH 3 ) 3 SiO [Si (CH 3 ) 2 O] y4 [SiCH 3 (CH = CH 2 ) O] x7 Si (CH 3 ) 3 (where x7 = 0 to 2100, y4 = 0 to 2100),
(CH 3 ) 3 SiO [Si (CH 3 ) 2 O] y5 [SiCH 3 (CH = CH 2 ) O] x8 [SiCH 3 (R 19 ) O] z1 Si (CH 3 ) 3 (R 19 = CH 3 −, C 2 H 5 −, C 6 H 5 −, or CF 3 CH 2 CH 3 −, x8 = 0 to 2100, y5 = 0 to 2100, z1 = 0 to 2100)
Is mentioned. After reacting with the hydroxyl group on the surface of the substrate to be bonded with these unsaturated alkoxysilane compounds, a suspension of a mixture of 0.01 to 5% of the silane compound and 10 to 1000 ppm of the platinum catalyst is used. Even if immersed for 1 to 60 minutes at ° C., a silicone rubber bonding substrate can be obtained.

このときシラン化合物濃度が0.01%以下では反応時間がかかりすぎ、5%以上では洗浄・回収のコストがかかってしまう。白金触媒濃度が10ppmでは反応速度が遅すぎ、1000ppm以上ではコストが問題となってしまう。0℃以下では反応性が低いので生産性が低く、また200℃以上ではSiH基が酸化されて性能が低下する。1分間以下では反応が完結しない場合もあり、60分間以上では生産性が劣る。   At this time, if the silane compound concentration is 0.01% or less, it takes too much reaction time, and if it is 5% or more, cleaning and recovery costs are required. If the platinum catalyst concentration is 10 ppm, the reaction rate is too slow, and if it is 1000 ppm or more, the cost becomes a problem. Below 0 ° C, the reactivity is low, so the productivity is low. Above 200 ° C, the SiH group is oxidized and the performance decreases. The reaction may not be completed in 1 minute or less, and the productivity is inferior in 60 minutes or more.

また、機能性ポリアルコキシシランで被接着基材の水酸基と反応させた後、HOSi(CH3)2O[Si(CH3)2O]2Si(CH3)2OHのようなシラノール末端シロキサンの0.01〜5%のメタノール溶液に0〜200℃、1〜60分間浸漬すると、シラノール基を表面に含有したシリコーンゴム接着用基材が得られる。 Also, silanol terminated siloxanes such as HOSi (CH 3 ) 2 O [Si (CH 3 ) 2 O] 2 Si (CH 3 ) 2 OH after reacting with functional polyalkoxysilane with hydroxyl group When immersed in a 0.01% to 5% methanol solution at 0 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes, a silicone rubber bonding substrate containing silanol groups on the surface is obtained.

このシラノール末端シロキサン濃度が0.01%以下では反応時間がかかりすぎ、5%以上では洗浄・回収のコストがかかってしまう。0℃以下では反応性が低いので生産性が劣り、また200℃以上では多分子膜になる場合もあるので好ましくない。1分間以下では反応が完結しない場合もあり、60分間以上では生産性が劣る。   If the silanol-terminated siloxane concentration is 0.01% or less, the reaction time is too long, and if it is 5% or more, cleaning and recovery costs are required. Below 0 ° C., the reactivity is low and the productivity is inferior. Above 200 ° C., a multimolecular film may be formed, which is not preferable. The reaction may not be completed in 1 minute or less, and the productivity is inferior in 60 minutes or more.

前記のようにして得られたヒドロシリル(SiH)基、不飽和基、及びシラノール(SiOH)基などの架橋反応性基が導入されたシリコーンゴム接着用基材は、以下に説明するようなシリコーンゴム成分組成物と接触させて、放置又は加熱することにより架橋接着を起こす。   The silicone rubber bonding substrate into which a crosslinking reactive group such as a hydrosilyl (SiH) group, an unsaturated group, and a silanol (SiOH) group obtained as described above is introduced is a silicone rubber as described below. It is brought into contact with the component composition, and then left or heated to cause cross-linking adhesion.

シリコーンゴム接着用基材を、シリコーンゴム成分組成物と接触させて、0〜200℃で1〜240分間、大気圧から100kg/cm2の圧力下で処理するとシリコーンゴム接着体が得られる。 A silicone rubber adhesive is obtained when the silicone rubber adhesive substrate is brought into contact with the silicone rubber component composition and treated at 0 to 200 ° C. for 1 to 240 minutes under a pressure of from atmospheric pressure to 100 kg / cm 2 .

このとき0℃以下では架橋速度が遅くて生産性に劣るが、200℃以上では使用する高分子樹脂に熱安定性の限界があり好ましくない。1分以下では架橋反応が十分でなく接着しない場合が多く、240分以上では生産性が劣り好ましくない。通常発泡体を製造する以外は大気圧以下ではシリコーンゴム接着体の強度が低くなり、100kg/cm2以上にしても特段益がないので好ましくない。 At this time, the crosslinking rate is low at 0 ° C. or lower and the productivity is inferior, but at 200 ° C. or higher, the polymer resin to be used is not preferable because it has a limit of thermal stability. If it is less than 1 minute, the crosslinking reaction is not sufficient and often does not adhere. Usually, the strength of the silicone rubber adhesive is low at atmospheric pressure or below except for producing a foam, and even if it is 100 kg / cm 2 or more, there is no particular advantage, so this is not preferable.

シリコーンゴム成分は、下記化学式[5]
H(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]c[Si(R11)R12O]dSi(CH3)2H ・・・[5]
(式中、R11及びR12は、より具体的にはCH3−,C2H5−,CH2CH=CH2−,n-C3H7−,i-C3H7−,n-C6H13−,n-C8H17−,C6H5−,C6H5CH2−,C6H5CH2CH2−,C10H7−,CF3CH2CH2−,CF3CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,HSi(CH3)2O−で例示される基、cは1〜80の数、またdは0〜80の数)から選ばれたポリHシロキサン、
下記化学式[6]
CH2=CH(CH3)2SiO[SiCH=CH2(CH3)O]e[Si(R13)R14O]fSi(CH3)2CH=CH2 ・・・[6]
(式中、R13及びR14は、より具体的には、CH3−,C2H5−,CH2=CH−,CH2=CHCH2−,n-C3H7−,i-C3H7−,n-C6H13−,n-C8H17−,C6H5−,CH2=CHC6H4−,CH2=CHC6H4CH2−,C6H5CH2CH2−,C10H7−,CF3CH2CH2−,CF3CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,HSi(CH3)2O−で例示される基、eは1〜80の数、fは0〜80の数)
から選ばれたビニルシリコーン類、
又は下記化学式[7]
A-(CH3)2SiO[Si(CH3)2O]g[Si(R15)R16O]hSi(CH3)2-A ・・・[7]
(式中、R15及びR16はCH3−,C2H5−,CH2=CH−,CH2=CHCH2−,n-C3H7−,i-C3H7−,n-C6H13−,n-C8H17−,C6H5−,CH2=CHC6H4−,CH2=CHC6H4CH2−,C6H5CH2CH2−,C10H7−,CF3CH2CH2−,CF3CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−,CF3CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2−で例示される基、AはHO−、CH3O−,C2H5O−,n-C3H7O−,i-C3H7O−,C6H5O−,CH3COO−、CH2=C(CH3)O−、C2H5(CH3)C=NO−、(CH3)2N−,(C2H5)2N−で例示される基、gは1〜80の数、hは0〜80の数)から選ばれたシラノールシリコーン類誘導体が挙げられる。
The silicone rubber component has the following chemical formula [5]
H (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] c [Si (R 11 ) R 12 O] d Si (CH 3 ) 2 H ・ ・ ・ [5]
(Wherein, R 11 and R 12, more specifically CH 3 -, C 2 H 5 -, CH 2 CH = CH 2 -, nC 3 H 7 -, iC 3 H 7 -, nC 6 H 13 −, NC 8 H 17 −, C 6 H 5 −, C 6 H 5 CH 2 −, C 6 H 5 CH 2 CH 2 −, C 10 H 7 −, CF 3 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 -, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , A group represented by HSi (CH 3 ) 2 O—, c is a number from 1 to 80, and d is a number from 0 to 80),
The following chemical formula [6]
CH 2 = CH (CH 3 ) 2 SiO [SiCH = CH 2 (CH 3 ) O] e [Si (R 13 ) R 14 O] f Si (CH 3 ) 2 CH = CH 2 ... [6]
(Wherein, R 13 and R 14, more specifically, CH 3 -, C 2 H 5 -, CH 2 = CH-, CH 2 = CHCH 2 -, nC 3 H 7 -, iC 3 H 7 −, NC 6 H 13 −, nC 8 H 17 −, C 6 H 5 −, CH 2 = CHC 6 H 4 −, CH 2 = CHC 6 H 4 CH 2 −, C 6 H 5 CH 2 CH 2 −, C 10 H 7 −, CF 3 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 —, a group exemplified by HSi (CH 3 ) 2 O—, e is a number from 1 to 80, and f is a number from 0 to 80)
Vinyl silicones selected from
Or the following chemical formula [7]
A- (CH 3 ) 2 SiO [Si (CH 3 ) 2 O] g [Si (R 15 ) R 16 O] h Si (CH 3 ) 2 -A ・ ・ ・ [7]
(Wherein R 15 and R 16 are CH 3 −, C 2 H 5 −, CH 2 = CH−, CH 2 = CHCH 2 −, nC 3 H 7 −, iC 3 H 7 −, nC 6 H 13 − , nC 8 H 17 −, C 6 H 5 −, CH 2 = CHC 6 H 4 −, CH 2 = CHC 6 H 4 CH 2 −, C 6 H 5 CH 2 CH 2 −, C 10 H 7 −, CF 3 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 −, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- group, A is HO-, CH 3 O-, C 2 H 5 O-, nC 3 H 7 O-, iC 3 H 7 O-, C 6 H 5 O−, CH 3 COO−, CH 2 = C (CH 3 ) O−, C 2 H 5 (CH 3 ) C = NO−, (CH 3 ) 2 N−, (C 2 H 5 ) 2 N− And silanol silicone derivatives selected from the group exemplified by the formula: g is a number from 1 to 80, and h is a number from 0 to 80.

シリコーンゴム成分組成物は、これらのシリコーンゴム成分の少なくとも一種類を含んでいる。化学式[5]と化学式[6]の混合物からなる付加型シリコーンゴム組成、化学式[6]のみからなるパーオキサイド型シリコーンゴム組成、及び化学式[7]又は化学式[5]と化学式[7]の混合物からなる縮合型シリコーンゴム組成であってもよい。   The silicone rubber component composition contains at least one of these silicone rubber components. Addition type silicone rubber composition comprising a mixture of chemical formula [5] and chemical formula [6], peroxide type silicone rubber composition comprising only chemical formula [6], and chemical formula [7] or a mixture of chemical formula [5] and chemical formula [7] The condensation type silicone rubber composition which consists of may be sufficient.

シリコーンゴム成分組成物は上記シリコーンゴム成分の他に、充填剤、架橋剤、触媒が加えられていてもよい。   In addition to the silicone rubber component, the silicone rubber component composition may contain a filler, a crosslinking agent, and a catalyst.

充填剤は、湿式シリカ、乾式シリカ、タルク、ニプシル、カーボンブラック、金属酸化物が挙げられ、10〜100部の範囲内で添加される。10部以下では補強効果が十分でなく、また100以上では充填が困難になってしまう。   Examples of the filler include wet silica, dry silica, talc, nipsil, carbon black, and metal oxide, and are added in the range of 10 to 100 parts. If it is 10 parts or less, the reinforcing effect is not sufficient, and if it is 100 parts or more, filling becomes difficult.

シリコーンゴムは、パーオキサイド架橋系、付加型架橋系及び縮合型架橋系などの架橋系で形成される。これにより、シリコーンゴム接着用基材とシリコーンゴムとの架橋接着物が得られる。   Silicone rubber is formed by a crosslinking system such as a peroxide crosslinking system, an addition crosslinking system, and a condensation crosslinking system. Thereby, the crosslinked adhesive material of the base material for silicone rubber adhesion and silicone rubber is obtained.

パーオキサイド型シリコーンゴム組成には、ベンゾイルぺルオキシド、t-ブチルパーベンゾエイト、ジクミルペルオキシド、ジt-ブチルペルオキシド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルペルオキシ)ヘキサン、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルペルオキシ)ヘキシン-3、ジ(t-ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼンなどパーオキサイドが0.5〜5部添加される。0.5部以下では架橋が不十分であり、また5部以上では成型加工中に架橋が起こる恐れがある。   Peroxide type silicone rubber composition includes benzoyl peroxide, t-butyl perbenzoate, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, 2 0.5 to 5 parts of a peroxide such as 1,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3, di (t-butylperoxyisopropyl) benzene is added. If it is 0.5 parts or less, crosslinking is insufficient, and if it is 5 parts or more, crosslinking may occur during molding.

シリコーンゴム接着用基材表面とパーオキサイド型シリコーンゴム組成物とで架橋させた接着体は80〜200℃の温度範囲で1〜60分間加熱すると得られる。80℃以下では接着物が得られがたく、また200℃以上ではシリコーンゴムが黄変する場合がある。1分以下では架橋が不十分であり、また60分以上では生産性が低くコスト高となる。   The bonded body crosslinked with the surface of the base material for bonding silicone rubber and the peroxide type silicone rubber composition can be obtained by heating in the temperature range of 80 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes. Adhesives are difficult to obtain at 80 ° C or lower, and silicone rubber may turn yellow at 200 ° C or higher. In less than 1 minute, crosslinking is insufficient, and in more than 60 minutes, productivity is low and cost is high.

付加型シリコーンゴム組成には、付加型架橋に使用される触媒として、塩化白金酸、白金カルボニルシクロビニルメチルシロキサン錯体、白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金オクタナル/オクタノール錯体、トリス(ジブチルスルフィド)ロジュウムトリクロリドなどを1〜100ppmの範囲内で添加して使用される。これが1ppm以下では架橋が不十分であり、また100ppm以上ではコスト高となるので好ましくない。   For addition type silicone rubber composition, chloroplatinic acid, platinum carbonylcyclovinylmethylsiloxane complex, platinum divinyltetramethyldisiloxane complex, platinum cyclovinylmethylsiloxane complex, platinum octanal / octanol complex as catalyst used for addition type crosslinking , Tris (dibutyl sulfide) rhodium trichloride and the like are added within the range of 1 to 100 ppm. If this is 1 ppm or less, crosslinking is insufficient, and if it is 100 ppm or more, the cost increases, which is not preferable.

上記の触媒は、付加型シリコーンゴム組成の化学式[5]のシリコーンゴム、化学式[6]のシリコーンゴム及びこれら混合物のいずれかのシリコーンゴム成分組成物に添加して使用される。   The above catalyst is used by adding to the silicone rubber component composition of any of the addition type silicone rubber compositions of the chemical formula [5], the silicone rubber of the chemical formula [6], and mixtures thereof.

ゴムの成形品の厚さが10mm以下である通常の工業製品の場合、シリコーンゴム成分組成物を0〜150℃の温度範囲で、1〜240分の架橋時間で架橋できる。0℃以下では接着物が得られがたく、また150℃以上でも特段問題はない。1分以下では架橋が不十分であり、また240分以上では生産性が低くコスト高となる。ゴムの成形品の厚さが10mmを超えると、熱伝導率が悪くなり、内部の架橋が遅くなるために、金型温度を低温にして、長時間架橋することもある。その場合、段階的に架橋温度を変えることも可能である。比較的薄いゴムの成形品の場合、常温で例えば一昼夜かけて架橋させてもよい。その場合は、架橋温度での熱膨張と常温で使用した時の収縮が起こらず、非常に寸法精度の良い成型品が可能となる。   In the case of a normal industrial product having a rubber molded product thickness of 10 mm or less, the silicone rubber component composition can be crosslinked at a temperature range of 0 to 150 ° C. with a crosslinking time of 1 to 240 minutes. Adhesives are difficult to obtain at temperatures below 0 ° C, and there are no particular problems at temperatures above 150 ° C. In less than 1 minute, crosslinking is insufficient, and in more than 240 minutes, productivity is low and cost is high. When the thickness of the rubber molded product exceeds 10 mm, the thermal conductivity is deteriorated and the internal cross-linking is slowed down, so that the cross-linking may be performed for a long time at a low mold temperature. In that case, it is also possible to change the crosslinking temperature stepwise. In the case of a molded product made of a relatively thin rubber, it may be crosslinked at room temperature, for example, over a whole day and night. In that case, thermal expansion at the crosslinking temperature and shrinkage when used at room temperature do not occur, and a molded product with very good dimensional accuracy becomes possible.

化学式[5]のシリコーンゴム、化学式[6]のシリコーンゴムの混合比は両者のSiH基/CH=CH2比が1を目途(化学量論)とするが、一般的には1.3/1〜4.5/1である。1.3/1以下では目的より硬度が低く、また4.5/1以上でも同様の結果となる場合が多い。最適なSiH基/CH=CH2比は充填剤などの添加剤の影響を受けるので、適宜選択する。 The mixing ratio of the silicone rubber represented by the chemical formula [5] and the silicone rubber represented by the chemical formula [6] is based on a SiH group / CH = CH 2 ratio of 1 (stoichiometry). 4.5 / 1. The hardness is lower than 1.3 / 1 or less, and the same result is often obtained at 4.5 / 1 or more. The optimum SiH group / CH = CH 2 ratio is affected by the additives such as fillers, and is therefore selected as appropriate.

特に、基材表面の架橋反応性基SiH基濃度が高い場合には、SiH基/CH=CH2比が高くても接着強度は高くなる。しかし、SiH基濃度が低い場合には、SiH基/CH=CH2比が高いと接着強度は低くなる。また、基材表面の架橋反応性基CH=CH2基濃度が高い場合には、SiH基/CH=CH2比が高くしないと接着強度が高くならない。 In particular, when the concentration of the crosslinking reactive group SiH group on the substrate surface is high, the adhesive strength is increased even if the SiH group / CH = CH 2 ratio is high. However, when the SiH group concentration is low, if the SiH group / CH = CH 2 ratio is high, the adhesive strength is low. Further, when the concentration of the crosslinkable group CH═CH 2 group on the substrate surface is high, the adhesive strength cannot be increased unless the SiH group / CH═CH 2 ratio is increased.

縮合型シリコーンゴム組成物には、縮合型架橋剤として、CH3Si(OCOCH3)3、C2H5OSi(OCOCH3)3、CH3Si[OC(CH3)=CH2]3、CH3Si[ON=C(CH3)C2H5]]3、CH3OSi[ON=C(CH3)C2H5]]3、CH3Si[N(CH3)]3などが0.5〜10部、及び触媒としてビス(エチルヘキシル)スズ、ビス(ネオデカネート)スズ、ジブチルラアウリルスズなどの有機スズ化合物、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄などの金属塩や、チタン酸エステル、チタンキレート化合物、アミン類などが0.5〜10部添加される。 In the condensation type silicone rubber composition, as a condensation type crosslinking agent, CH 3 Si (OCOCH 3 ) 3 , C 2 H 5 OSi (OCOCH 3 ) 3 , CH 3 Si [OC (CH 3 ) = CH 2 ] 3 , CH 3 Si [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ]] 3 , CH 3 OSi [ON = C (CH 3 ) C 2 H 5 ]] 3 , CH 3 Si [N (CH 3 )] 3 etc. 0.5 to 10 parts, and as the catalyst, organic tin compounds such as bis (ethylhexyl) tin, bis (neodecanate) tin, dibutylralauryltin, metal salts such as zinc octylate and iron octylate, titanates, titanium 0.5-10 parts of chelate compounds, amines and the like are added.

縮合型シリコーンゴム組成物中、縮合型架橋剤は化学式[7]のシラノールシリコーン類ゴムに添加され、また触媒は化学式[5]のHシリコーンポリマー又は化学式[7]のシラノールシリコーン類ゴムのどちらか、又はこれらの混合物に添加して使用される。   In the condensation type silicone rubber composition, the condensation type crosslinking agent is added to the silanol silicone rubber of the chemical formula [7], and the catalyst is either the H silicone polymer of the chemical formula [5] or the silanol silicone rubber of the chemical formula [7]. Or added to a mixture thereof.

接着用基材及びそれを用いたシリコーンゴム接着体は、以下のような別な態様であってもよい。   The bonding substrate and the silicone rubber bonded body using the bonding substrate may be in another mode as described below.

基質として例えばアルミニウムのような金属製で洗浄した基板に、コロナ放電処理のような表面処理を施し、基板上に水酸基を生成させ、(CH2=CH-)(CH3O-)2Si-O-[(CH2=CH-)(CH3O-)Si-O]b1-Si(-OCH3)2(-CH=CH2)のようなビニル含有シリル化合物の溶液に浸漬させて熱処理すると、基板上の水酸基にビニル含有シリル化合物が反応する。それを、白金含有触媒、例えば白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のような白金錯体のヘキサン液に浸漬させ、乾燥させると、基板上に白金含有触媒が付されている接着用基材が得られる。その化学的構造は必ずしも明らかではないが、接着用基材の表面で生成した複数のビニル含有シリル基に、白金錯体の白金原子が配位しているものと推察される。 A substrate cleaned with a metal such as aluminum as a substrate is subjected to a surface treatment such as corona discharge treatment to generate hydroxyl groups on the substrate, and (CH 2 = CH-) (CH 3 O-) 2 Si- O-[(CH 2 = CH-) (CH 3 O-) Si-O] b1 -Si (-OCH 3 ) 2 (-CH = CH 2 ) Immersion in a solution of a vinyl-containing silyl compound and heat treatment Then, the vinyl-containing silyl compound reacts with the hydroxyl group on the substrate. When it is immersed in a platinum-containing catalyst, for example, a hexane solution of a platinum complex such as a platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex, and dried, a base material for adhesion having a platinum-containing catalyst on the substrate is obtained. . Although the chemical structure is not necessarily clear, it is presumed that the platinum atom of the platinum complex is coordinated to a plurality of vinyl-containing silyl groups generated on the surface of the bonding substrate.

この接着用基材に、ヒドロシリル基含有ポリシロキサン、又はさらにビニル基含有ポリシロキサンや必要に応じて白金含有触媒を含む組成物を塗布し、硬化させる。すると、ヒドロシリル基含有ポリシロキサンのヒドロシリル基が、接着用基材のビニル含有シリル基同士の架橋重合よりも優先的に、そのビニル含有シリル基の二重結合へヒドロシリル化反応して、高分子量化し、接着用基材の基質の表面の上に、ポリシロキサン類で形成されるシリコーンゴムが被覆されて接着されたシリコーンゴム接着体が、得られる。   A hydrosilyl group-containing polysiloxane, or a vinyl group-containing polysiloxane and, if necessary, a composition containing a platinum-containing catalyst are applied to the base material for adhesion and cured. As a result, the hydrosilyl group of the hydrosilyl group-containing polysiloxane undergoes a hydrosilylation reaction to the double bond of the vinyl-containing silyl group preferentially over the cross-linking polymerization of the vinyl-containing silyl groups of the adhesive substrate, thereby increasing the molecular weight. Thus, a silicone rubber adhesive body obtained by coating and adhering a silicone rubber formed of polysiloxanes onto the surface of the substrate of the adhesive base material is obtained.

白金含有触媒として、例えば白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液、1.85〜2.1%の白金カルボニルシクロビニルメチルシロキサン錯体のビニルメチル環状シロキサン溶液であるSIP6829.2(Gelest社製の商品名)、3〜3.5%の白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の両末端ビニルポリジメチルシロキサン溶液であるSIP6830.3(Gelest社製の商品名)、2.1〜2.4%の白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液であるSIP6831.2(Gelest社製の商品名)、2.1〜2.4%の白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液の低着色タイプであるSIP6831.2LC(Gelest社製の商品名)、2〜2.5%の白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体の環状メチルビニルシロキサン溶液であるSIP6832.2(Gelest社製の商品名)、2〜2.5%の白金−オクタナル/オクタノール錯体のオクタノール溶液であるSIP6833.2(Gelest社製の商品名)のような白金錯体が挙げられる。白金含有触媒にかえて、ロジウム含有触媒、例えば、3〜3.5%のトリス(ジブチルスルフィド)ロジウムトリクロライドのトルエン溶液であるINRH078(Gelest社製の商品名)のようなロジウム錯体であってもよい。   As a platinum-containing catalyst, for example, SIP6829.2 (trade name manufactured by Gelest), which is a hexane solution of a platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex, a vinylmethyl cyclic siloxane solution of a platinum carbonylcyclovinylmethylsiloxane complex of 1.85 to 2.1%, SIP6830.3 (trade name, manufactured by Gelest) which is a vinyl polydimethylsiloxane solution at both ends of 3 to 3.5% platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex, xylene of 2.1 to 2.4% platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex SIP6831.2LC (trade name, manufactured by Gelest) which is a solution, SIP6831.2LC (trade name, manufactured by Gelest) which is a low coloring type of xylene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex of 2.1 to 2.4%, 2 SIP6832.2 (trade name made by Gelest), which is a cyclic methylvinylsiloxane solution of ~ 2.5% platinum-cyclovinylmethylsiloxane complex, 2 ~ 2.5% platinum- Platinum complexes such as octanol solution of Kutanaru / octanol complex SIP6833.2 (Gelest Inc. of trade name) and the like. In place of the platinum-containing catalyst, a rhodium-containing catalyst such as a rhodium complex such as INRH078 (trade name manufactured by Gelest), which is a toluene solution of 3 to 3.5% tris (dibutyl sulfide) rhodium trichloride, may be used. .

単数の接着用基材にシリコーンゴムを接着させる例を示したが、複数、例えば2枚の接着用基材を夫々、活性シリル基によりシリルエーテル結合した面同士で向かい合わせ、その間に、シリコーンゴム組成物を塗布したり、粒状、布状、薄膜状、フィルム状又は板状のシリコーンゴムを介在させたりした後、必要に応じて加熱することにより、複数の接着用基材を接着してもよい。複数の接着用基材の基質は、同質であっても異質であってもよい。   Although an example in which silicone rubber is bonded to a single bonding substrate has been shown, a plurality of, for example, two bonding substrates are faced to each other on the surfaces where silyl ether bonds are formed by active silyl groups, and silicone rubber is interposed therebetween. Even if a plurality of adhesive substrates are bonded by applying a composition or by interposing a granular, cloth-like, thin-film-like, film-like or plate-like silicone rubber, if necessary, it is heated. Good. The substrates of the plurality of adhesive substrates may be the same or different.

以下、本発明のシリコーンゴム接着用基材及びシリコーンゴム接着体を試作した実施例を詳細に説明する。   Examples of the prototype of the silicone rubber bonding substrate and silicone rubber bonded body of the present invention will be described in detail below.

(実施例1)H末端ジメチルシロキサン(HSi(CH3)2OSi(CH3)2H、bp:70℃)と不飽和シラン(CH2=CHCH2Si(OC2H5)3、bp:176℃)の反応:
HSi(CH3)2OSi(CH3)2H 0.5モル(67g)、CH2=CHCH2Si(OC2H5) 0.1モル(20.4g)、常温反応型白金触媒溶液(Gelest社製SIP6830.3)0.2mlを200mlの三角フラスコに入れて、窒素気流下で50℃、24時間攪拌した。反応終了後、反応混合物を蒸留すると未反応のHSi(CH3)2OSi(CH3)2Hが留去され、粗製のHSi(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2CH2Si(OC2H5)3 33.8gが得られた。これを82−3℃/10mmHgの減圧下蒸留して生成した。
元素分析 Found(Calcud):C;46.0%(46.10%)、H;8.9%(8.93%)
(Example 1) H-terminal dimethylsiloxane (HSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H, bp: 70 ° C) and unsaturated silane (CH 2 = CHCH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3, bp: 176 ° C) reaction:
HSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H 0.5 mol (67 g), CH 2 = CHCH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 0.1 mol (20.4 g), room temperature reaction type platinum catalyst solution (Gelest SIP6830 .3) 0.2 ml was placed in a 200 ml Erlenmeyer flask and stirred at 50 ° C. for 24 hours under a nitrogen stream. When the reaction mixture is distilled after completion of the reaction, unreacted HSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H is distilled off, and crude HSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 33.8 g of Si (OC 2 H 5 ) 3 was obtained. This was produced by distillation under reduced pressure of 82-3 ° C./10 mmHg.
Elemental analysis Found (Calcud): C; 46.0% (46.10%), H; 8.9% (8.93%)

(実施例2) SiH基材表面の作製法A:
ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂板(30mm×50mm)、Al板(30mm×50mm)及びガラス板(30mm×50mm)などの基材表面をコロナ放電処理(コロナマスター)後、HSi(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2CH2Si(OC2H5)3のメタノール−水混合溶液(95/5,0.5wt%)に2分間浸漬し、室温乾燥後、150℃で10分間するとHSi基含有基材表面が得られる。
(Example 2) SiH substrate surface preparation method A:
HSi (CH 3 ) 2 OSi after corona discharge treatment (corona master) on the surface of base materials such as polyethylene terephthalate (PET) resin plate (30mm × 50mm), Al plate (30mm × 50mm) and glass plate (30mm × 50mm) (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 soaked in a methanol-water mixed solution (95/5, 0.5wt%) for 2 minutes, dried at room temperature, and then at 150 ° C for 10 minutes An HSi group-containing substrate surface is obtained.

得られたHSi基含有基材表面をXPS(PHI社製ESCA-5600、Al出力:350W,取込角;45度)により測定した結果、いずれもC1s:184eV、Si1s for HSi;ev,Si1s for SiCH3;が認められたことからHSi基含有基材表面がPET樹脂、Al板、及びガラス製のいずれの基板にも生成していることがわかった。 As a result of measuring the surface of the obtained HSi group-containing base material by XPS (ESCA-5600 manufactured by PHI, Al output: 350 W, take-in angle: 45 degrees), all were C1s: 184 eV, Si1s for HSi; ev, Si1s for From the fact that SiCH 3 ; was observed, it was found that the surface of the HSi group-containing base material was formed on any substrate made of PET resin, Al plate, and glass.

(実施例3) SiH基材表面の作製法B:
PET樹脂板(30mm×50mm)、Al板(30mm×50mm)及びガラス板(30mm×50mm)などの基材表面をコロナ放電処理(コロナマスター)後、CH2=CHCH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3のメタノール溶液(0.2wt%)に2分間浸漬し、室温乾燥後、150℃で10分間するとCH2=CH基含有基材表面が得られる。これをHSi(CH3)2OSi(CH3)2H10gと白金触媒溶液(Gelest社製SIP6830.3)0.2mlのイソプロパノール溶液100mlに70℃で10分間浸漬すると、HSi基含有基材表面が得られた。得られたHSi基含有基材表面をX線誘起光電子分光(XPS)分析器(PHI社製ESCA-5600、Al出力:350W,取込角;45度)により測定した結果、いずれもC1s:184eV、Si1s for HSi;ev,Si1s for SiCH3;が認められたことからHSi基含有基材表面がPET樹脂、Al板、及びガラス製のいずれの基板にも生成していることがわかった。
(Example 3) Production method B of SiH substrate surface:
CH 2 = CHCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 after corona discharge treatment (corona master) of substrate surface such as PET resin plate (30mm × 50mm), Al plate (30mm × 50mm) and glass plate (30mm × 50mm) When immersed in a methanol solution (0.2 wt%) of CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 for 2 minutes, dried at room temperature and then 10 minutes at 150 ° C., a CH 2 = CH group-containing substrate surface is obtained. When this is dipped in 100 ml of HSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 H10 g and platinum catalyst solution (Gelest SIP6830.3) 0.2 ml isopropanol solution at 70 ° C. for 10 minutes, the surface of the substrate containing HSi group is obtained. It was. As a result of measuring the surface of the obtained HSi group-containing base material with an X-ray induced photoelectron spectroscopy (XPS) analyzer (ESCA-5600 manufactured by PHI, Al output: 350 W, take-in angle: 45 degrees), all C1s: 184 eV , Si1s for HSi; ev, Si1s for SiCH 3 ; was found to indicate that the surface of the HSi group-containing base material was formed on any of the PET resin, Al plate, and glass substrates.

(実施例4) CH2=CH基含有基材表面の作製法C:
PET樹脂板(30mm×50mm)、Al板(30mm×50mm)及びガラス板(30mm×50mm)などの基材表面をコロナ放電処理(コロナマスター)後、CH2=CHSi(OCH3)2O[SiOCH3(CH=CH2)O]2 Si(OCH3)2CH=CH2のメタノール−水混合溶液(95/5,0.1wt%)に2分間浸漬し、室温乾燥後、170℃で5分間するとCH2=CH基含有基材表面が得られる。
得られたCH2=CH基含有基材表面をXPS(PHI社製ESCA-5600、Al出力:350W,取込角;45度)により測定した結果、いずれもC1s for CH2=CH:184eV;が認められたことからCH2=CH基含有基材表面がPET樹脂、Al板、及びガラス製のいずれの基板にも生成していることがわかった。
(Example 4) Preparation method of CH 2 = CH-group-containing substrate surface C:
CH 2 = CHSi (OCH 3 ) 2 O [after corona discharge treatment (corona master) of substrate surface such as PET resin plate (30mm × 50mm), Al plate (30mm × 50mm) and glass plate (30mm × 50mm) SiOCH 3 (CH = CH 2 ) O] 2 Si (OCH 3 ) 2 CH = CH 2 is immersed in a methanol-water mixed solution (95/5, 0.1 wt%) for 2 minutes, dried at room temperature, and then treated at 170 ° C for 5 minutes. If it is made for a minute, a CH 2 ═CH group-containing substrate surface is obtained.
As a result of measuring the obtained CH 2 = CH group-containing substrate surface by XPS (PCA ESCA-5600, Al output: 350 W, take-in angle: 45 degrees), all were C1s for CH 2 = CH: 184 eV; From this, it was found that the surface of the CH 2 ═CH group-containing base material was formed on any substrate made of PET resin, Al plate, and glass.

(実施例5) アルコキシシリル基含有基材表面の作製法D:
PET樹脂板(30mm×50mm)、Al板(30mm×50mm)及びガラス板(30mm×50mm)などの基材表面をコロナ放電処理(コロナマスター)後、(C2H5O)3SiCH2CH2Si(OC2H5)3のエタノール−水混合溶液(95/5,0.1wt%)に2分間浸漬し、室温乾燥後、120℃で60分間するとC2H5OSi基含有基材表面が得られる。
(Example 5) Preparation method D of alkoxysilyl group-containing substrate surface:
After corona discharge treatment (corona master) on the substrate surface such as PET resin plate (30mm × 50mm), Al plate (30mm × 50mm) and glass plate (30mm × 50mm), (C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 Substrate surface containing C 2 H 5 OSi group after being immersed in ethanol-water mixed solution of Si (OC 2 H 5 ) 3 (95/5, 0.1wt%) for 2 minutes, dried at room temperature and then at 120 ° C for 60 minutes Is obtained.

得られたC2H5OSi基含有基材表面をXPS(PHI社製ESCA-5600、Al出力:350W,取込角;45度)により測定した結果、いずれもC1s for C2H5OSi:184eV; O1s for C2H5OSi:184eV;Si1s for C2H5OSi:184eV;が認められたことからC2H5OSi基含有基材表面がPET樹脂、Al板、及びガラス製のいずれの基板にも生成していることがわかった。 As a result of measuring the obtained C 2 H 5 OSi group-containing substrate surface by XPS (ESCA-5600, manufactured by PHI, Al output: 350 W, take-in angle: 45 degrees), all were C1s for C 2 H 5 OSi: 184 eV; O1s for C 2 H 5 OSi: 184 eV; Si1s for C 2 H 5 OSi: 184 eV; therefore, the surface of the C 2 H 5 OSi group-containing substrate was made of PET resin, Al plate, or glass It was found that it was also generated on the substrate.

(実施例6)基材表面とシリコーンゴムの接着物:
末端ビニル型シリコーン100部(チッソ株式会社製、DMS-V31、分子量;28000)とヘキサメチルシラザン処理シリカ30部の混合物とメチルHシロキサンコポリマー3部と白金触媒2ml(200ppm含有、チッソ株式会社製SIP6830)の混合物をミキサーで混合してシリコーンゴム配合物とする。上記の基材表面作製法A,B及びCで作製したそれぞれの基材表面を金型に入れ、これにシリコーンゴム配合物を2cmの厚さまで注ぎ、40℃で放置すると接着物が得られた。接着物に1幅の切身を入れて、5mm/minの引張速度で剥離強度を測定した結果、本発明の基材表面を用いなかった比較例では全く接着物が得られず、剥離強度はいずれも0kN/mであるが、不飽和基やSiH基が導入された基材表面を用いて得られた接着物はいずれも4kN/m以上の値を示し、破断面はシリコーンゴム層破壊であった。この結果は不飽和基やSiH基が導入された基材表面は付加型シリコーンゴムと容易に接着することを示す。
(Example 6) Adhesive of base material surface and silicone rubber:
A mixture of 100 parts of terminal vinyl type silicone (Chisso Corporation, DMS-V31, molecular weight; 28000) and 30 parts of hexamethylsilazane-treated silica, 3 parts of methyl H siloxane copolymer and 2 ml of platinum catalyst (200 ppm, SIP6830 from Chisso Corporation) ) To obtain a silicone rubber compound. Each substrate surface prepared by the above-mentioned substrate surface preparation methods A, B and C was put in a mold, and a silicone rubber compound was poured to a thickness of 2 cm, and an adhesive was obtained when left at 40 ° C. . As a result of measuring the peel strength at a tensile rate of 5 mm / min by putting a 1 width fillet into the adhesive, no adhesive was obtained in the comparative example in which the substrate surface of the present invention was not used, and the peel strength was Is 0 kN / m, but all the adhesives obtained using the surface of the base material into which unsaturated groups or SiH groups were introduced showed a value of 4 kN / m or more, and the fracture surface was silicone rubber layer failure. It was. This result shows that the surface of the base material into which the unsaturated group or SiH group is introduced easily adheres to the addition type silicone rubber.

(実施例7) 基材表面とシリコーンゴムの接着物:
シラノールシリコーン類(チッソ株式会社製、DMS-S33,分子量43500)100部、ヘキサメチルシラザン処理シリカ50部、CH3Si(OCOCH3)3の4g,及びジブチル錫マレート0.1gを混合してシリコーンゴム配合物を調製する。アルコキシシリル基含有基材表面を金型に入れ、これにシリコーンゴム配合物を入れて、140℃で20分間加熱すると接着物が得られた。接着物に1幅の切身を入れて、5mm/minの引張速度で剥離強度を測定した結果、比較例では全く接着物が得られず、剥離強度はいずれも0kN/mであるが、不飽和基やSiH基が導入された基材表面を用いて得られた接着物はいずれも5kN/m以上の値を示し、破断面はシリコーンゴム層破壊であった。この結果はアルコキシシリル基が導入された基材表面は縮合系のシラノールシリコーン類ゴムと容易に接着することを示す。
(Example 7) Adhesive of base material surface and silicone rubber:
Silanol silicone (mixed by Chisso Corporation, DMS-S33, molecular weight 43500) 100 parts, 50 parts of hexamethylsilazane-treated silica, 4 g of CH 3 Si (OCOCH 3 ) 3 and 0.1 g of dibutyltin malate are mixed to form a silicone rubber A formulation is prepared. The surface of the alkoxysilyl group-containing substrate was placed in a mold, and the silicone rubber compound was placed in the mold and heated at 140 ° C. for 20 minutes to obtain an adhesive. As a result of measuring the peel strength at a tensile speed of 5 mm / min by putting a 1-width fillet on the adhesive, no adhesive was obtained in the comparative example, and the peel strength was 0 kN / m, but unsaturated. All of the adhesives obtained using the surface of the base material into which a group or SiH group was introduced showed a value of 5 kN / m or more, and the fracture surface was a silicone rubber layer fracture. This result shows that the surface of the base material into which the alkoxysilyl group is introduced easily adheres to the condensed silanol silicone rubber.

(実施例8) 基材表面とシリコーンゴムの接着物:
末端ビニル型シリコーン100部(チッソ株式会社製、VDF-131)とヘキサメチルシラザン処理シリカ40部の混合物にジクミルペルオキシド4部で混合してシリコーンゴム配合物とする。CH2=CH基含有基材表面をそれぞれ金型に入れ、これにシリコーンゴム配合物をのせて、150℃で20分間加熱すると接着物が得られた。接着物に1幅の切身を入れて、5mm/minの引張速度で剥離強度を測定した結果、比較例では全く接着物が得られず、剥離強度はいずれも0kN/mであるが、不飽和基やSiH基が導入された基材表面を用いて得られた接着物はいずれも6kN/m以上の値を示し、破断面はシリコーンゴム層破壊であった。この結果はCH2=CH基含有基材表面はパーオキサイド架橋系により容易に接着することを示す。
(Example 8) Adhesive of base material surface and silicone rubber:
A mixture of 100 parts of terminal vinyl type silicone (VDF-131, manufactured by Chisso Corporation) and 40 parts of hexamethylsilazane-treated silica is mixed with 4 parts of dicumyl peroxide to obtain a silicone rubber compound. Each surface of the CH 2 ═CH group-containing substrate was placed in a mold, and a silicone rubber compound was placed on the surface and heated at 150 ° C. for 20 minutes to obtain an adhesive. As a result of measuring the peel strength at a tensile speed of 5 mm / min by putting a 1-width fillet on the adhesive, no adhesive was obtained in the comparative example, and the peel strength was 0 kN / m, but unsaturated. All of the adhesives obtained using the surface of the base material into which a group or SiH group was introduced showed a value of 6 kN / m or more, and the fracture surface was a silicone rubber layer fracture. This result shows that the surface of the CH 2 ═CH group-containing substrate is easily bonded by the peroxide crosslinking system.

(実施例9) 別な接着用基材及びシリコーンゴム接着体
(接着用基材の調製) 基質としてAl板を、アセトン中で30分間超音波照射して洗浄し、次いでイオン交換水中で、10分間ずつ2回超音波照射して洗浄処理した。その基質表面を大気雰囲気下でコロナ放電処理し、表面酸化して表面に水酸基を生じさせた。その基質の6枚を夫々、(CH2=CH-)(CH3O-)2Si-O-[(CH2=CH-)(CH3O-)Si-O]b1-Si(-OCH3)2(-CH=CH2) (但しb1は3.78で、平均分子量が635.6)で示されるビニルメトキシシロキサン(VMS)の0.1g/L、0.5g/L、1.0g/L、2.0g/L、3.0g/L、5.0g/L及び10g/Lのエタノール水溶液(エタノール:水の体積比 95:5)に5分間浸漬させた。その基質を引き上げ、150℃で10分間加熱処理し、未反応のビニルメトキシシロキサン(VMS)をエタノールで洗浄後、乾燥して、接着用基材(VMS-Al)を得た。洗浄処理したAl基板と得られた接着用基材とについて、X線光電子分光測定(XPS測定)による表面分析を行った。その結果を、図1に示す。また、洗浄処理したAl基板と得られた接着用基材とについて、その表面の元素の割合を表1に示す。
(Example 9) Another adhesive substrate and silicone rubber adhesive
(Preparation of Adhesive Substrate) An Al plate as a substrate was cleaned by irradiating ultrasonically in acetone for 30 minutes, and then subjected to cleaning treatment by irradiating twice for 10 minutes in ion-exchanged water. The surface of the substrate was subjected to corona discharge treatment in an air atmosphere, and the surface was oxidized to generate hydroxyl groups on the surface. Each of the six substrates is (CH 2 = CH-) (CH 3 O-) 2 Si-O-[(CH 2 = CH-) (CH 3 O-) Si-O] b1 -Si (-OCH 3 ) 2 (—CH═CH 2 ) (wherein b1 is 3.78 and average molecular weight is 635.6) 0.1 g / L, 0.5 g / L, 1.0 g / L of vinylmethoxysiloxane (VMS) , 2.0 g / L, 3.0 g / L, 5.0 g / L and 10 g / L of ethanol aqueous solution (ethanol: water volume ratio 95: 5) was immersed for 5 minutes. The substrate was pulled up and heat-treated at 150 ° C. for 10 minutes. Unreacted vinylmethoxysiloxane (VMS) was washed with ethanol and dried to obtain a bonding substrate (VMS-Al). The surface analysis by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS measurement) was performed on the cleaned Al substrate and the obtained base material for adhesion. The result is shown in FIG. Table 1 shows the ratio of elements on the surface of the cleaned Al substrate and the obtained base material for adhesion.

Figure 0005213351
Figure 0005213351

図1及び表1から明らかな通り、Al板表面には、ビニルメトキシシロキサン(VMS)が導入されていた。   As is clear from FIG. 1 and Table 1, vinyl methoxysiloxane (VMS) was introduced on the surface of the Al plate.

(シリコーンゴム接着体の調製) 次いでポリ(メチルビニルシロキサン)及びポリ(メチルシロキサン)である信越化学工業株式会社製の商品名KE−1935−A/Bと、白金含有触媒とを、用時混合した後、真空に減圧して脱気し、液状のシリコーンゴム形成用組成物を調製した。この組成物を、接着用基材(VMS-Al)に塗布し、50℃に加熱して硬化させ、接着用基材上のビニルメトキシシロキサン(VMS)由来のビニル基に反応させて架橋したシリコーンゴムにすると、ビニルメトキシシロキサン(VMS)のエタノール溶液の濃度毎に6種類のシリコーンゴム接着体が得られた。なお、対照のため、ビニルメトキシシロキサン(VMS)のエタノール溶液を用いないこと以外は同様にして対照シリコーンゴム接着体を得た。これらのシリコーンゴム接着体について、JIS K6256−2:2005の試験法に準じシリコーンゴムを剥離させる90°ピール試験を行い剥離強度を測定した。ビニルメトキシシロキサン(VMS)のエタノール溶液の濃度と剥離強度との相関を図2に示す。   (Preparation of Silicone Rubber Adhesive) Next, poly (methylvinylsiloxane) and poly (methylsiloxane), trade name KE-1935-A / B manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and a platinum-containing catalyst were mixed at the time of use. After that, the pressure was reduced to a vacuum and deaerated to prepare a liquid silicone rubber forming composition. This composition is applied to a bonding substrate (VMS-Al), heated to 50 ° C. and cured, and reacted with a vinyl group derived from vinyl methoxysiloxane (VMS) on the bonding substrate to crosslink silicone. When rubber was used, six types of silicone rubber adhesives were obtained for each concentration of vinyl methoxysiloxane (VMS) ethanol solution. For control, a control silicone rubber adhesive was obtained in the same manner except that an ethanol solution of vinyl methoxysiloxane (VMS) was not used. About these silicone rubber adhesive bodies, the 90 degree peel test which peels a silicone rubber according to the test method of JISK6256-2: 2005 was performed, and peeling strength was measured. The correlation between the concentration of vinyl methoxysiloxane (VMS) in ethanol and the peel strength is shown in FIG.

図2から明らかな通り、シリコーンゴム接着体の剥離強度は、ビニルメトキシシロキサン(VMS)のエタノール溶液の濃度が0.1〜1.0g/Lの場合、濃いほど強かったが、1.0g/Lを超えると約1.0kN/mで略一定となった。何れの場合もビニルメトキシシロキサン(VMS)のエタノール溶液を用いずその濃度が0g/Lの場合である対照シリコーンゴム接着体の剥離強度の0.4kN/mに比べ、強くなっていた。   As is clear from FIG. 2, the peel strength of the silicone rubber adhesive was stronger as the concentration of the ethanol solution of vinyl methoxysiloxane (VMS) was 0.1 to 1.0 g / L, but when it exceeded 1.0 g / L It became almost constant at about 1.0 kN / m. In any case, the ethanol strength of vinyl methoxysiloxane (VMS) was not used, and the strength was stronger than the peel strength of 0.4 kN / m of the control silicone rubber adhesive when the concentration was 0 g / L.

(実施例10) 別な接着用基材及びシリコーンゴム接着体
(接着用基材の調製) 実施例9の(接着用基材の調製)と同様にして、ビニルメトキシシロキサン(VMS)の1.0g/Lのエタノール水溶液を用い、接着用基材(VMS-Al)を得た。これの7枚を100ppmの白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液に、1分間、2分間、3分間、4分間、5分間、7分間及び10分間、夫々浸漬させた後、取り出して乾燥させ、表面に白金含有触媒が付された接着用基材(Pt-VMS-Al)を得た。
(Example 10) Another base material for adhesion and silicone rubber adhesive
(Preparation of adhesive substrate) In the same manner as in Example 9 (Preparation of adhesive substrate), a 1.0 g / L aqueous ethanol solution of vinylmethoxysiloxane (VMS) was used, and the adhesive substrate (VMS-Al ) Seven of these were dipped in a hexane solution of 100 ppm platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex for 1, 2, 3, 4, 5, 7, and 10 minutes, respectively, and then removed and dried. Thus, a base material for adhesion (Pt-VMS-Al) having a platinum-containing catalyst on the surface was obtained.

(シリコーンゴム接着体の調製) 次いで実施例9と同様にポリ(メチルビニルシロキサン)とポリ(メチルシロキサン)と白金含有触媒とを用時混合した後、真空に減圧して脱気し、液状のシリコーンゴム形成用組成物を調製した。この組成物を、接着用基材(Pt-VMS-Al)に塗布し、50℃に加熱して硬化させ、接着用基材上のビニルメトキシシロキサン(VMS)由来のビニル基に反応させて架橋したシリコーンゴムにすると、白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液の浸漬時間毎に7種類のシリコーンゴム接着体が得られた。なお、対照のため、白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液を用いないこと以外は同様にして対照シリコーンゴム接着体を得た。これらのシリコーンゴム接着体について、実施例9と同様にしてシリコーンゴムを剥離させる90°ピール試験を行い、剥離強度を測定した。白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液の浸漬時間と剥離強度との相関を図3に示す。   (Preparation of Silicone Rubber Adhesive) Next, poly (methyl vinyl siloxane), poly (methyl siloxane) and a platinum-containing catalyst were mixed at the time of use in the same manner as in Example 9, and then degassed by reducing the pressure to a vacuum. A silicone rubber forming composition was prepared. This composition is applied to an adhesive substrate (Pt-VMS-Al), cured by heating to 50 ° C., and reacted with vinyl groups derived from vinyl methoxysiloxane (VMS) on the adhesive substrate to crosslink. When the silicone rubber was used, seven types of silicone rubber adhesives were obtained for each immersion time of the hexane solution of the platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex. For comparison, a control silicone rubber adhesive was obtained in the same manner except that a hexane solution of a platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex was not used. About these silicone rubber adhesive bodies, it carried out similarly to Example 9, the 90 degree peel test which peels a silicone rubber was performed, and peel strength was measured. FIG. 3 shows the correlation between the immersion time of the platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex in a hexane solution and the peel strength.

図3から明らかな通り、シリコーンゴム接着体の剥離強度は、白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液の浸漬時間が1〜2分間の場合、長く浸漬するほど強かったが、2分間を超えると約4.0kN/mで略一定となった。何れの場合も白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液を用いずその浸漬時間が0分間の場合である対照シリコーンゴム接着体の剥離強度の約1.0kN/mに比べ、強くなっていた。   As is clear from FIG. 3, the peel strength of the silicone rubber adhesive was stronger as it was dipped longer when the immersion time of the hexane solution of the platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex was 1 to 2 minutes, but exceeded 2 minutes. It became almost constant at about 4.0kN / m. In either case, the peel strength of the control silicone rubber adhesive was about 1.0 kN / m, which was a case where the immersion time was 0 minutes without using a hexane solution of the platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex.

(実施例11) 別な接着用基材及びシリコーンゴム接着体
(接着用基材の調製) 実施例9の(接着用基材の調製)と同様にして、ビニルメトキシシロキサン(VMS)の1.0g/Lのエタノール水溶液を用い、接着用基材(VMS-Al)を得た。これの4枚を、20ppm、60ppm、100ppm及び200ppmの白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液に3分間、夫々浸漬させ後、取り出して乾燥させ、表面に白金含有触媒が付された接着用基材(Pt-VMS-Al)を得た。
Example 11 Another Adhesive Base Material and Silicone Rubber Adhesive
(Preparation of adhesive substrate) In the same manner as in Example 9 (Preparation of adhesive substrate), a 1.0 g / L aqueous ethanol solution of vinylmethoxysiloxane (VMS) was used, and the adhesive substrate (VMS-Al ) Four of these were immersed in hexane solutions of 20 ppm, 60 ppm, 100 ppm and 200 ppm of platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex for 3 minutes, then taken out and dried, and the surface was attached with a platinum-containing catalyst. A substrate (Pt-VMS-Al) was obtained.

(シリコーンゴム接着体の調製) 次いで実施例9と同様にポリ(メチルビニルシロキサン)とポリ(メチルシロキサン)と白金含有触媒とを用時混合した後、真空に減圧して脱気し、液状のシリコーンゴム形成用組成物を調製した。この組成物を、接着用基材(Pt-VMS-Al)に塗布し、50℃に加熱して硬化させ、接着用基材上のビニルメトキシシロキサン(VMS)由来のビニル基に反応させて架橋したシリコーンゴムにすると、白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液の濃度毎に4種類のシリコーンゴム接着体が得られた。なお、対照のため、白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液を用いないこと以外は同様にして対照シリコーンゴム接着体を得た。これらのシリコーンゴム接着体について、実施例9と同様にしてシリコーンゴムを剥離させる90°ピール試験を行い、剥離強度を測定した。白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液の濃度と剥離強度との相関を図4に示す。   (Preparation of Silicone Rubber Adhesive) Next, poly (methyl vinyl siloxane), poly (methyl siloxane) and a platinum-containing catalyst were mixed at the time of use in the same manner as in Example 9, and then degassed by reducing the pressure to a vacuum. A silicone rubber forming composition was prepared. This composition is applied to an adhesive substrate (Pt-VMS-Al), cured by heating to 50 ° C., and reacted with vinyl groups derived from vinyl methoxysiloxane (VMS) on the adhesive substrate to crosslink. When the silicone rubber was made, four types of silicone rubber adhesives were obtained for each concentration of the hexane solution of the platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex. For comparison, a control silicone rubber adhesive was obtained in the same manner except that a hexane solution of a platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex was not used. About these silicone rubber adhesive bodies, it carried out similarly to Example 9, the 90 degree peel test which peels a silicone rubber was performed, and peel strength was measured. FIG. 4 shows the correlation between the concentration of the hexane solution of the platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex and the peel strength.

図4から明らかな通り、シリコーンゴム接着体の剥離強度は、白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液の濃度が200ppm以上で約4.0kN/mで略一定となった。何れの場合も白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液を用いずその濃度が0g/Lの場合である対照シリコーンゴム接着体の剥離強度の約1.0kN/mに比べ、強くなっていた。   As can be seen from FIG. 4, the peel strength of the silicone rubber adhesive was substantially constant at a concentration of about 4.0 kN / m when the concentration of the platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex in the hexane solution was 200 ppm or more. In either case, the peel strength of the control silicone rubber adhesive was about 1.0 kN / m, which was a case where the hexane solution of platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex was not used and the concentration was 0 g / L.

(実施例12) 別な接着用基材及びシリコーンゴム接着体
実施例9中のAl板に代えてガラス板を用い、ビニルメトキシシロキサン(VMS)の1.0g/Lのエタノール水溶液を用いたこと以外は実施例9と同様にして、VMS-Alに代えて接着用基材(VMS-Glass)を得た。100ppmの白金−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体のヘキサン溶液に、3分間浸漬させた後、取り出して乾燥させ、表面に白金含有触媒が付された接着用基材(Pt-VMS-Glass)を得た。次いで実施例9と同様にポリ(メチルビニルシロキサン)とポリ(メチルシロキサン)と白金含有触媒とを用時混合した後、真空に減圧して脱気し、液状のシリコーンゴム形成用組成物を調製した。この組成物を、接着用基材(Pt-VMS-Glass)に塗布し、150℃に加熱して硬化させ、接着用基材上のビニルメトキシシロキサン(VMS)由来のビニル基に反応させて架橋したシリコーンゴムにすると、シリコーンゴム接着体が得られた。このシリコーンゴム接着体について、実施例9と同様にしてシリコーンゴムを剥離させる90°ピール試験を行い、剥離強度を測定したところ、3.7kN/mであった。
(Example 12) Another adhesive base material and silicone rubber bonded body A glass plate was used in place of the Al plate in Example 9, and a 1.0 g / L aqueous ethanol solution of vinyl methoxysiloxane (VMS) was used. In the same manner as in Example 9, an adhesive base material (VMS-Glass) was obtained instead of VMS-Al. After being immersed in a hexane solution of 100 ppm platinum-tetramethyldivinyldisiloxane complex for 3 minutes, it was taken out and dried to obtain an adhesive substrate (Pt-VMS-Glass) having a platinum-containing catalyst on the surface. . Next, poly (methyl vinyl siloxane), poly (methyl siloxane) and a platinum-containing catalyst were mixed at the time of use in the same manner as in Example 9 and then degassed under reduced pressure to prepare a liquid silicone rubber-forming composition. did. This composition is applied to an adhesive substrate (Pt-VMS-Glass), heated to 150 ° C. to cure, and reacted with vinyl groups derived from vinyl methoxysiloxane (VMS) on the adhesive substrate to crosslink. When the silicone rubber was made, a silicone rubber adhesive was obtained. The silicone rubber adhesive was subjected to a 90 ° peel test for peeling the silicone rubber in the same manner as in Example 9, and the peel strength was measured. The result was 3.7 kN / m.

(実施例13〜15) 別な接着用基材及びシリコーンゴム接着体
実施例12中のガラス板に代えてエポキシ樹脂(EpoxyResin)板、ポリプロピレン(PP)板、ポリエチレン(PE)板を用いたこと以外は、実施例12と同様にして、接着用基材(Pt-VMS-EpoxyResin)、接着用基材(Pt-VMS-PP)、接着用基材(Pt-VMS-PE)及びそれらのシリコーンゴム接着体を得た。同様にしてシリコーンゴムを剥離させる90°ピール試験を行い、剥離強度を測定したところ、接着用基材(Pt-VMS-EpoxyResin)から得たシリコーンゴム接着体が3.8kN/m、接着用基材(Pt-VMS-PP)から得たシリコーンゴム接着体が3.2kN/m、接着用基材(Pt-VMS-PE)から得たシリコーンゴム接着体が3.3kN/mであった。
(Examples 13 to 15) Another adhesive base material and silicone rubber adhesive body An epoxy resin (EpoxyResin) plate, a polypropylene (PP) plate, and a polyethylene (PE) plate were used instead of the glass plate in Example 12 Except for the above, in the same manner as in Example 12, the bonding substrate (Pt-VMS-EpoxyResin), the bonding substrate (Pt-VMS-PP), the bonding substrate (Pt-VMS-PE) and their silicones A rubber adhesive was obtained. Similarly, a 90 ° peel test was conducted to peel the silicone rubber, and the peel strength was measured. The silicone rubber adhesive obtained from the adhesive base material (Pt-VMS-EpoxyResin) was 3.8 kN / m. The silicone rubber adhesive obtained from (Pt-VMS-PP) was 3.2 kN / m, and the silicone rubber adhesive obtained from the base material for adhesion (Pt-VMS-PE) was 3.3 kN / m.

これらの実施例から明らかな通り、本発明を適用する接着用基材を用いて調製したシリコーンゴム接着体は、接着強度が高いものであった。とりわけ接着表面にビニル含有シリル基を有し白金含有触媒等が付された接着用基材に、ヒドロシリルを反応基として有するシリコーンゴムのような固体と接着させると、シリコーンゴムが破断するほどの強度のシリコーンゴム接着体が得られた。   As is clear from these examples, the silicone rubber bonded body prepared using the bonding base material to which the present invention is applied has high adhesive strength. In particular, when the adhesive surface is bonded to a base material for adhesion with a vinyl-containing silyl group and a platinum-containing catalyst attached to a solid such as silicone rubber having hydrosilyl as a reactive group, the silicone rubber will break. A silicone rubber adhesive was obtained.

本発明の接着用基材は、金属、高分子樹脂、ガラス又はセラミックス製の基材表面に、シリコーンゴムを被覆して接着させ、基材を保護したり弾性を付与したりするのに用いられる。   The adhesive base material of the present invention is used to protect a base material or impart elasticity by coating the base material made of metal, polymer resin, glass or ceramic with silicone rubber. .

この基材にシリコーンゴムを接着させたシリコーンゴム接着体は、表面に弾性を必要とする家電製品・文房具等に用いられる。また、シリコーンゴムを介し複数のこの基材を接着させたシリコーンゴム接着体は、化学結合を介して接合されたものであるので、強い接合強度を必要とする製品に用いられる。
Silicone rubber adhesives obtained by bonding silicone rubber to a base material are used for home appliances, stationery, and the like that require elasticity on the surface. Moreover, since the silicone rubber adhesive body which adhere | attached this several base material through the silicone rubber is joined via a chemical bond, it is used for the product which requires strong joint strength.

本発明を適用する接着用基材のX線光電子分光測定による表面分析の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of the surface analysis by the X-ray photoelectron spectroscopy measurement of the base material for adhesion | attachment to which this invention is applied. 本発明を適用するシリコーンゴム接着体を作製する際に接着用基材を浸漬するビニルメトキシシロキサンの濃度と、得られたシリコーンゴム接着体の剥離強度との相関を示す図である。It is a figure which shows the correlation of the density | concentration of the vinyl methoxysiloxane which immerses the base material for adhesion when producing the silicone rubber adhesive body to which this invention is applied, and the peeling strength of the obtained silicone rubber adhesive body. 本発明を適用するシリコーンゴム接着体を作製する際に接着用基材を浸漬する白金含有触媒の浸漬時間と、得られたシリコーンゴム接着体の剥離強度との相関を示す図である。It is a figure which shows the correlation with the immersion time of the platinum containing catalyst which immerses the base material for adhesion when producing the silicone rubber adhesive body which applies this invention, and the peeling strength of the obtained silicone rubber adhesive body. 本発明を適用するシリコーンゴム接着体を作製する際に接着用基材を浸漬する白金含有触媒の濃度と、得られたシリコーンゴム接着体の剥離強度との相関を示す図である。It is a figure which shows the correlation of the density | concentration of the platinum containing catalyst which immerses the base material for adhesion | attachment when producing the silicone rubber adhesive body to which this invention is applied, and the peeling strength of the obtained silicone rubber adhesive body.

Claims (21)

接着される固体の表面の反応基へ反応して結合するヒドロシリル含有シリル基、ビニル含有シリル基、アルコキシシリル含有シリル基、及び加水分解性基含有シリル基から選ばれる少なくとも1種類の活性シリル基が、金属、高分子樹脂、ガラス又はセラミックスで形成された基質の表面に有する水酸基の脱水素基に、シリルエーテル結合して、接着表面が形成されており、
前記活性シリル基が、
モノヒドロシリル含有シリル基及びジヒドロシリル含有シリル基から選ばれ、該基の末端に-SiH(R 1 ) 2 又は-SiH 2 (R 2 )(R 1 及びR 2 は、炭素数1〜4のアルキル基)を有し、又は該基の主鎖の途中に-SiH-基を有している前記ヒドロシリル含有シリル基;
ビニルシリル含有シリル基であり、該基の末端に、-Si-R 3 基(R 3 はビニル含有基)を有し、又は該基の主鎖の途中に-Si(R 4 )-基(R 4 はビニル含有基)を有している前記ビニル含有シリル基;
トリアルコキシシリル末端含有シリル基及びジアルコキシシリル末端含有シリル基から選ばれ、該基の末端に、-Si(OR 5 ) 2 R 6 基(R 5 及びR 6 は炭素数1〜4のアルキル基)、又は-Si(OR 7 ) 3 基(R 7 は炭素数1〜4のアルキル基)を有している前記アルコキシシリル含有シリル基;
アシルオキシシリル基、アルケニルオキシシリル基、アルカンイミノオキシシリル基、アルキルオキシシリル基、アルキルアミノシリル基、ジアルキルアミノシリル基、含窒素複素環置換シリル基、及びアリールアミノシリル基から選ばれる前記加水分解性官能基を有しており、-Si(R 8 ) a (R 9 ) 3-a 基(R 8 は、水素原子;ハロゲン原子;炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、フッ素置換アルキル基;アラルキル基;アリール基であり、R 9 は、炭素数1〜12のアシルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルカンイミノオキシ基、アルキルオキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基;含窒素複素環基、及びアリールアミノ基であり、aは0〜3の数)で表わされる前記加水分解性官能基を有する前記加水分解性基含有シリル基
であり、
前記接着表面に、前記固体の表面の反応基へ反応して結合させて前記固体を接着させる白金含有触媒又はロジウム含有触媒からなる触媒が、前記シリルエーテル結合した前記接着表面へ付されており、
その上にポリシロキサン類、ビニルシリコーン類及び/又はシラノールシリコーン類のシリコーンゴム成分を含み減圧脱気した組成物を付し、硬化させて、前記表面を被覆してシリコーンゴムを接着するためのものであり、
減圧脱気した前記組成物によって前記シリコーンゴムを接着させる接着用基材。
At least one active silyl group selected from a hydrosilyl-containing silyl group, a vinyl-containing silyl group, an alkoxysilyl-containing silyl group, and a hydrolyzable group-containing silyl group that reacts and bonds to a reactive group on the surface of the solid to be bonded. A bonded surface is formed by silyl ether bonding to the dehydrogenated group of the hydroxyl group on the surface of the substrate formed of metal, polymer resin, glass or ceramics ,
The active silyl group is
It is selected from a monohydrosilyl-containing silyl group and a dihydrosilyl-containing silyl group, and —SiH (R 1 ) 2 or —SiH 2 (R 2 ) (R 1 and R 2 are alkyl having 1 to 4 carbon atoms ) at the terminal of the group The hydrosilyl-containing silyl group having a group) or having a —SiH— group in the middle of the main chain of the group;
A vinyl silyl-containing silyl group, the terminal of the group has -Si-R 3 group a (R 3 is a vinyl containing group), or a middle -Si backbone of the group (R 4) - group (R 4 is a vinyl-containing group) having the vinyl-containing silyl group;
It is selected from trialkoxysilyl terminal-containing silyl group and dialkoxysilyl terminal-containing silyl group, and at the terminal of the group, -Si (OR 5 ) 2 R 6 group (R 5 and R 6 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms) Or an alkoxysilyl-containing silyl group having a —Si (OR 7 ) 3 group (R 7 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms);
The hydrolyzability selected from acyloxysilyl group, alkenyloxysilyl group, alkaneiminooxysilyl group, alkyloxysilyl group, alkylaminosilyl group, dialkylaminosilyl group, nitrogen-containing heterocyclic substituted silyl group, and arylaminosilyl group -Si (R 8 ) a (R 9 ) 3-a group (R 8 is a hydrogen atom; a halogen atom; an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyloxy group, A fluorine-substituted alkyl group; an aralkyl group; an aryl group, and R 9 is an acyloxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group, an alkaneiminooxy group, an alkyloxy group, an alkylamino group, a dialkylamino group; A cyclic group and an arylamino group, wherein a is a number of 0 to 3) and includes the hydrolyzable group having the hydrolyzable functional group. Silyl group
And
A catalyst comprising a platinum-containing catalyst or a rhodium-containing catalyst that bonds the solid by reacting and reacting with a reactive group on the surface of the solid on the adhesive surface is attached to the adhesive surface bonded with the silyl ether,
Further, a composition containing a silicone rubber component of polysiloxanes, vinyl silicones and / or silanol silicones, which is degassed under reduced pressure, is cured, and the surface is coated to adhere the silicone rubber. And
An adhesive base material for adhering the silicone rubber with the composition degassed under reduced pressure .
前記水酸基が、前記基質の表面の水酸基であり、または前記基質へのコロナ放電、大気圧プラズマ処理及び紫外線照射の何れかの処理により生成した水酸基であり、アルコキシシラン化合物のアルコキシシリル基由来の前記活性シリル基に前記シリルエーテル結合していることを特徴とする請求項1に記載の接着用基材。 The hydroxyl group is a hydroxyl group on the surface of the substrate, or a hydroxyl group generated by any one of corona discharge, atmospheric pressure plasma treatment and ultraviolet irradiation to the substrate, and is derived from the alkoxysilyl group of the alkoxysilane compound. The base material for adhesion according to claim 1, wherein the silyl ether bond is bonded to an active silyl group. 前記固体の表面が、酸化されて前記水酸基を有しており、アルコキシシリル基由来の前記活性シリル基に前記シリルエーテル結合していることを特徴とする請求項2に記載の接着用基材。   The adhesive base according to claim 2, wherein the solid surface is oxidized to have the hydroxyl group, and the silyl ether bond is formed to the active silyl group derived from an alkoxysilyl group. 前記アルコキシシラン化合物で前記シリルエーテル結合することにより、単分子膜が形成されていることを特徴とする請求項3に記載の接着用基材。   The adhesion base material according to claim 3, wherein a monomolecular film is formed by the silyl ether bond with the alkoxysilane compound. 前記処理が、前記基質の表面に少なくとも55kJ/mの表面張力を得るまで処理し続けたものであることを特徴とする請求項に記載の接着用基材。 The adhesive substrate according to claim 2 , wherein the treatment is continued until the surface of the substrate has a surface tension of at least 55 kJ / m . 前記シリルエーテル結合は、下記化学式[1]
Sub.−O−SiR 20 ・・・[1]
(式[1]中、Sub.は被接着基材である前記基質であってこのシリルエーテル結合を形成する基であり、−SiR 20 はポリシロキシ基である前記ヒドロシリル含有シリル基である。)で表わされることを特徴とする請求項に記載の接着用基材。
The silyl ether bond has the following chemical formula [1]
Sub.-O-SiR 20 ... [1]
(In the formula [1], Sub. Is the substrate that is the adherend substrate and is a group that forms this silyl ether bond, and -SiR 20 is the hydrosilyl-containing silyl group that is a polysiloxy group ). adhesive base material according to claim 1, characterized in that represented.
前記シリルエーテル結合は、下記化学式[2]
Sub.−O−SiR 21 ・・・[2]
(式[2]中、Sub.は被接着基材である前記基質であってこのシリルエーテル結合を形成する基であり、−SiR 20 はビニル基を1〜30個有する前記ビニルシリル含有シリル基である)で表わされることを特徴とする請求項に記載の接着用基材。
The silyl ether bond is represented by the following chemical formula [2]
Sub.-O-SiR 21 ... [2]
(Wherein [2], Sub. Is a group which forms a silyl ether linkage A wherein the substrate is a adherend substrate, -SiR 20 in the vinylsilyl-containing silyl group chromatic 1 to 30 vinyl groups The adhesive base material according to claim 1 , which is represented by:
前記シリルエーテル結合は、下記化学式[3]
Sub.−O−SiR 22 ・・・[3]
(式[3]中、Sub.は被接着基材である前記基質であってこのシリルエーテル結合を形成する基であり、−SiR 22 は、-(C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si(OC 2 H 5 ) 3 、-(C 2 H 5 O)CH 3 SiCH 2 CH 2 Si(OC 2 H 5 ) 3 、-(C 2 H 5 O) 2 SiCH=CHSi(OC 2 H 5 ) 3 、-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 、-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 、-(CH 3 O) 2 Si[CH 2 CH 2 ] 3 Si(OCH 3 ) 3 、-(CH 3 O) 2 Si[CH 2 CH 2 ] 4 Si(OCH 3 ) 3 、-(CH 3 O)CH 3 SiCH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 2 CH 3 、-(C 2 H 5 O)CH 3 SiOSi(OC 2 H 5 ) 2 CH 3 、-(C 2 H 5 O)Si(OC 2 H 5 ) 2
から選ばれる何れかの前記アルコキシシリル末端含有シリル基である。)で表わされることを特徴とする請求項に記載の接着用基材。
The silyl ether bond has the following chemical formula [3]
Sub.-O-SiR 22 ... [3]
(In the formula [3], Sub. Is a substrate that forms the silyl ether bond and is the substrate that is the adherend substrate, and —SiR 22 is — (C 2 H 5 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,-(C 2 H 5 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,-(C 2 H 5 O) 2 SiCH = CHSi (OC 2 H 5 ) 3 ,-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,-(CH 3 O) 2 SiCH 2 CH 2 C 6 H 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,-(CH 3 O) 2 Si [CH 2 CH 2 ] 3 Si (OCH 3 ) 3 ,-(CH 3 O) 2 Si [CH 2 CH 2 ] 4 Si (OCH 3 ) 3 ,-(CH 3 O) CH 3 SiCH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 CH 3 ,-(C 2 H 5 O) CH 3 SiOSi (OC 2 H 5 ) 2 CH 3 ,-(C 2 H 5 O) Si (OC 2 H 5 ) 2
Any one of the above-mentioned alkoxysilyl terminal-containing silyl groups . The adhesive base material according to claim 1 , which is represented by:
前記シリルエーテル結合は、下記化学式[4]
Sub.−O−Si(R8)a(R9)3-a ・・・[4]
(式[4]中、Sub.は被接着基材である前記基質であってこのシリルエーテル結合を形成する基であり、−Si(R 8 ) a (R 9 ) 3-a は、R 8 が、H-、F-、CH 3 -、C 2 H 5 -、CH 2 =CH-、n-C 3 H 7 -、i-C 3 H 7 -、CH 2 =CHCH 2 -、C 4 H 9 -、C 6 H 13 -、C 8 H 17 -、C 6 H 5 -、CH 3 C 6 H 4 -、C 6 H 5 CH 2 -、CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 -、CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 -、CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 -、CH 3 O-、又はC 2 H 5 O-であり、R 9 が、CH 3 COO-、CH 2 =C(CH 3 )O-、C 2 H 5 (CH 3 )C=NO-、CH 3 O-、(CH 3 ) 2 N-、(C 2 H 5 ) 2 N-、(i-C 3 H 7 ) 2 N-、O(CH 2 CH 2 ) 2 N-、(CH 3 ) 3 CNH-、C 6 H 10 NH-、又はC 6 H 5 NH-である前記加水分解性基含有シリル基である。)で表わされることを特徴とする請求項に記載の接着用基材。
The silyl ether bond has the following chemical formula [4]
Sub.-O-Si (R 8 ) a (R 9 ) 3-a ... [4]
(In the formula [4], Sub. Is a substrate that forms the silyl ether bond and is the substrate that is the adherend substrate, and —Si (R 8 ) a (R 9 ) 3-a is R 8 but, H-, F-, CH 3 - , C 2 H 5 -, CH 2 = CH-, nC 3 H 7 -, iC 3 H 7 -, CH 2 = CHCH 2 -, C 4 H 9 -, C 6 H 13 -, C 8 H 17 -, C 6 H 5 -, CH 3 C 6 H 4 -, C 6 H 5 CH 2 -, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 -, CF 3 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2- , CH 3 O-, or C 2 H 5 O-, R 9 is CH 3 COO-, CH 2 = C (CH 3 ) O-, C 2 H 5 (CH 3 ) C = NO-, CH 3 O-, (CH 3 ) 2 N-, (C 2 H 5 ) 2 N-, (iC 3 H 7) 2 N-, O (CH 2 CH 2) 2 N -, (CH 3) 3 CNH-, with C 6 H 10 NH-, or C 6 H 5 NH- in which the hydrolyzable group-containing silyl group The adhesive base material according to claim 1 , which is represented by:
前記反応基が、ヒドロシリル、ビニルシリル、ヒドロキシシリル、アルキルオキシシリル、アルケニルオキシシリル、アシルオキシシリル、イミノオキシシリル、アルキルアミノシリルから選ばれる少なくとも1種類であることを特徴とする請求項1に記載の接着用基材。   The adhesive according to claim 1, wherein the reactive group is at least one selected from hydrosilyl, vinylsilyl, hydroxysilyl, alkyloxysilyl, alkenyloxysilyl, acyloxysilyl, iminooxysilyl, and alkylaminosilyl. Substrate for use. 前記活性シリル基が前記ビニル含有シリル基であり、それを露出させた前記接着表面に前記白金含有触媒又は前記ロジウム含有触媒が付されており、前記反応基をヒドロシリルとすることを特徴とする請求項1に記載の接着用基材。 The active silyl group is the vinyl-containing silyl group, it said platinum-containing catalyst or the rhodium-containing catalyst has been subjected to the adhesion surface to expose the, claims, characterized in that the reactive group and hydrosilyl Item 2. The bonding substrate according to Item 1. 前記白金含有触媒が白金錯体であり、前記ロジウム含有触媒がロジウム錯体であることを特徴とする請求項11に記載の接着用基材。   The adhesive substrate according to claim 11, wherein the platinum-containing catalyst is a platinum complex, and the rhodium-containing catalyst is a rhodium complex. 前記白金含有触媒又はロジウム含有触媒が、それを含む溶液又は懸濁液で塗布又は浸漬によって付されていることを特徴とする請求項11に記載の接着用基材。   The bonding substrate according to claim 11, wherein the platinum-containing catalyst or the rhodium-containing catalyst is applied or dipped in a solution or suspension containing the catalyst. 前記白金含有触媒又はロジウム含有触媒の白金原子又はロジウム原子が、複数の前記ビニル含有シリル基に配位していることを特徴とする請求項11に記載の接着用基材。   The bonding substrate according to claim 11, wherein platinum atoms or rhodium atoms of the platinum-containing catalyst or the rhodium-containing catalyst are coordinated to a plurality of the vinyl-containing silyl groups. 前記ビニル含有シリル基が(CH2=CH-)(CH3O-)2Si-O-[(CH2=CH-)(CH3O-)Si-O]b1-Si(-OCH3)2(-CH=CH2) (b1は0〜100の数)、
(CH2=CH-)(C2H5O-)2Si-O-[(CH2=CH-)(C2H5O-)Si-O]b2-Si(-OC2H5)2(-CH=CH2) (b2は0〜100の数)、
(CH2=CH-)(C3H7O-)2Si-O-[(CH2=CH-)(C3H7O-)Si-O]b3-Si(-OC3H7)2(-CH=CH2) (b3は0〜100の数)、
から選ばれるビニル含有シリル化合物由来であることを特徴とする請求項11に記載の接着用基材。
The vinyl-containing silyl group is represented by (CH 2 = CH-) (CH 3 O-) 2 Si-O-[(CH 2 = CH-) (CH 3 O-) Si-O] b1 -Si (-OCH 3 ) 2 (-CH = CH 2 ) (b1 is a number from 0 to 100),
(CH 2 = CH-) (C 2 H 5 O-) 2 Si-O-[(CH 2 = CH-) (C 2 H 5 O-) Si-O] b2 -Si (-OC 2 H 5 ) 2 (number of b2 is 0~100) (-CH = CH 2) ,
(CH 2 = CH-) (C 3 H 7 O-) 2 Si-O-[(CH 2 = CH-) (C 3 H 7 O-) Si-O] b3 -Si (-OC 3 H 7 ) 2 (number of b3 is 0~100) (-CH = CH 2) ,
The base material for adhesion according to claim 11, wherein the base material is derived from a vinyl-containing silyl compound selected from:
前記固体が、シリコーンゴム又はシリコーンレジンであることを特徴とする請求項1に記載の接着用基材。   The base material for adhesion according to claim 1, wherein the solid is silicone rubber or silicone resin. 請求項1〜16のいずれかに記載の接着用基材の前記基質の表面の上に、ポリシロキサン類、ビニルシリコーン類及び/又はシラノールシリコーン類のシリコーンゴム成分を含み減圧脱気した組成物を付し、硬化させて、形成されるシリコーンゴムが被覆されて接着されていることを特徴とするシリコーンゴム接着体。 A composition degassed under reduced pressure containing a silicone rubber component of polysiloxanes, vinyl silicones and / or silanol silicones on the surface of the substrate of the adhesive substrate according to any one of claims 1 to 16. A silicone rubber adhesive , wherein the silicone rubber formed by being attached and cured is coated and adhered. 複数の前記接着用基材が、粒状、布状、薄膜状、フィルム状又は板状の前記シリコーンゴムを介して、前記接着されていることを特徴とする請求項17に記載のシリコーンゴム接着体。   18. The bonded silicone rubber body according to claim 17, wherein the plurality of bonding base materials are bonded together via the granular, cloth-like, thin-film-like, film-like, or plate-like silicone rubber. . 前記ポリシロキサン類が、H(CH3)2SiO[SiH(CH3)O]c[Si(R11)R12O]dSi(CH3)2H(R11及びR12は、炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、フッ素置換アルキル基;アラルキル基;アリール基;HSi(CH3)2O-であり、cは1〜80の数、dは0〜80の数)で表わされ、
前記ビニルシリコーン類が、CH2=CH(CH3)2SiO[SiCH=CH2(CH3)O]e[Si(R13)R14O]fSi(CH3)2CH=CH2(R13及びR14は、炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、フッ素置換アルキル基;アラルキル基;アリール基であり、eは1〜80の数、fは0〜80の数)で表わされ、
前記シラノールシリコーン類が、A-(CH3)2SiO[Si(CH3)2O]g[Si(R15)R16O]hSi(CH3)2-A(R15及びR16は、炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、フッ素置換アルキル基;アラルキル基;アリール基であり、Aは、水酸基、炭素数1〜4のアルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、イミノオキシ基、アミノ基であり、gは1〜80の数、hは0〜80の数)で表わされることを特徴とする請求項17に記載のシリコーンゴム接着体。
The polysiloxane is H (CH 3 ) 2 SiO [SiH (CH 3 ) O] c [Si (R 11 ) R 12 O] d Si (CH 3 ) 2 H (R 11 and R 12 are carbon atoms 1 to 12 alkyl groups, alkenyl groups, alkyloxy groups, fluorine-substituted alkyl groups; aralkyl groups; aryl groups; HSi (CH 3 ) 2 O—, c is a number from 1 to 80, d is 0 to 80 Number)
The vinyl silicone is CH 2 ═CH (CH 3 ) 2 SiO [SiCH═CH 2 (CH 3 ) O] e [Si (R 13 ) R 14 O] f Si (CH 3 ) 2 CH═CH 2 ( R 13 and R 14 are an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyloxy group, a fluorine-substituted alkyl group; an aralkyl group; an aryl group, e is a number from 1 to 80, and f is a number from 0 to 80. Number)
The silanol silicones are A- (CH 3 ) 2 SiO [Si (CH 3 ) 2 O] g [Si (R 15 ) R 16 O] h Si (CH 3 ) 2 -A (R 15 and R 16 are , An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyloxy group, a fluorine-substituted alkyl group; an aralkyl group; an aryl group, and A is a hydroxyl group, an alkyloxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group, an aryl group. 18. The silicone rubber adhesive according to claim 17, which is an oxy group, an acyloxy group, an iminooxy group, or an amino group, wherein g is a number from 1 to 80, and h is a number from 0 to 80.
請求項1〜16のいずれかに記載の接着用基材の前記基質の表面の上に、ポリシロキサン類、ビニルシリコーン類及び/又はシラノールシリコーン類のシリコーンゴム成分を含み減圧脱気した組成物を付し、常温下又は加熱下で硬化させて、前記表面を被覆してシリコーンゴムを接着することを特徴とするシリコーンゴム接着体の製造方法。 Over the surface of the substrate of the bonding substrate according to any one of claims 1 to 16, polysiloxanes, vinyl silicones and / or silanol silicones composition the silicone rubber components were unrealized vacuum degassing And is cured at room temperature or under heating to cover the surface and adhere silicone rubber. 前記組成物が、架橋剤及び/又は架橋触媒を含んでいることを特徴とする請求項20に記載のシリコーンゴム接着体の製造方法。   The method for producing a silicone rubber adhesive according to claim 20, wherein the composition contains a crosslinking agent and / or a crosslinking catalyst.
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