JP5505049B2 - Gripping device - Google Patents

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Description

本発明は、把持装置に関し、特に、薄板状物をクランプするためのクランプ部を備える把持装置に関する。   The present invention relates to a gripping device, and more particularly, to a gripping device including a clamp portion for clamping a thin plate-like object.

従来、ウエハなどの薄板状物をクランプするためのクランプ部を備える把持装置が知られている(たとえば、特許文献1参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, a gripping device including a clamp unit for clamping a thin plate-like object such as a wafer is known (see, for example, Patent Document 1).

上記特許文献1には、駆動軸を有する電磁アクチュエータ(ソレノイドアクチュエータ)と、電磁アクチュエータの駆動軸に取り付けられ、電磁アクチュエータの駆動軸の移動に伴って薄板状物(ウエハ)をクランプする方向およびアンクランプする方向に回動するクランプ部と、クランプ部をウエハをクランプする方向に付勢するためのばね部材とを備えたウエハハンドリングロボット用ハンド(把持装置)が開示されている。このウエハハンドリングロボット用ハンドでは、ウエハのクランプ時には、電磁アクチュエータの励磁を切ることにより、電磁アクチュエータのばね部材の付勢力に抗する方向の推力が発生しないので、ばね部材の付勢力により、クランプ部がウエハをクランプする方向へ回動されてウエハがクランプされる。一方、クランプ部によりウエハがクランプされていないアンクランプ時には、電磁アクチュエータを励磁させることにより、電磁アクチュエータにばね部材の付勢力に抗する方向の推力が発生されることによって、クランプ部がアンクランプする方向に回動される。   In Patent Document 1, an electromagnetic actuator having a drive shaft (solenoid actuator), a direction attached to the drive shaft of the electromagnetic actuator, and a direction in which a thin plate (wafer) is clamped along with the movement of the drive shaft of the electromagnetic actuator are A wafer handling robot hand (gripping device) including a clamp part that rotates in a clamping direction and a spring member that biases the clamp part in a direction of clamping the wafer is disclosed. In this wafer handling robot hand, when the wafer is clamped, the electromagnetic actuator is de-energized so that no thrust is generated in a direction against the biasing force of the spring member of the electromagnetic actuator. Is rotated in the direction of clamping the wafer to clamp the wafer. On the other hand, at the time of unclamping when the wafer is not clamped by the clamp portion, the clamp portion is unclamped by exciting the electromagnetic actuator to generate a thrust force in a direction against the biasing force of the spring member. Rotated in the direction.

しかしながら、上記特許文献1に記載のウエハハンドリングロボット用ハンドでは、ウエハのクランプ時に、電磁アクチュエータの励磁を切ることにより、ばね部材の付勢力によりクランプ部がウエハをクランプするように回動されるので、電磁アクチュエータの励磁を切った瞬間にばね部材の付勢力により、クランプ部が大きい速度で一気にクランプ方向に回動される。このため、ウエハをクランプする際の衝撃が大きくなるという不都合がある。   However, in the wafer handling robot hand described in Patent Document 1, when the wafer is clamped, the excitation of the electromagnetic actuator is turned off so that the clamping portion is rotated so as to clamp the wafer by the biasing force of the spring member. At the moment when the excitation of the electromagnetic actuator is cut off, the clamping portion is rotated at a large speed in the clamping direction by the biasing force of the spring member. For this reason, there is an inconvenience that an impact when clamping the wafer is increased.

そこで、従来、上記した不都合を解消するための技術が提案されている(たとえば、特許文献2参照)。上記特許文献2には、電磁アクチュエータと、電磁アクチュエータに取り付けられ、薄板状物を把持するためのクランプ部と、クランプ部に取り付けられ、クランプ部を薄板状物をクランプする方向に付勢するためのばね部材とを備えた薄板状物の把持装置が開示されている。また、電磁アクチュエータには、薄板状物の位置を検出する位置検出器が設けられている。この把持装置では、薄板状物のクランプ時には、ばね部材の付勢力により、クランプ部が薄板状物をクランプする方向へ移動する際に、位置検出器により薄板状物の位置を検出して、位置検出器による検出結果に基づいて、電磁アクチュエータの動作を制御することにより、クランプ部が薄板状物に接触する前にクランプ部の移動速度を減速させるように制御する。これにより、クランプ部により薄板状物をクランプする際の衝撃を緩和することが可能である。一方、クランプ部により薄板状物をクランプしていないアンクランプ時には、電磁アクチュエータにより、ばね部材の付勢力に抗する方向に推力を発生させることにより、クランプ部がアンクランプする方向に移動される。   Therefore, conventionally, a technique for solving the above-described inconvenience has been proposed (for example, see Patent Document 2). In Patent Document 2, an electromagnetic actuator, a clamp portion attached to the electromagnetic actuator and gripping a thin plate-like object, and a clamp portion attached to the clamp portion for biasing the clamp portion in the direction of clamping the thin plate-like object are disclosed. A thin plate-like object gripping device including a spring member is disclosed. The electromagnetic actuator is provided with a position detector that detects the position of the thin plate-like object. In this gripping device, when the thin plate-like object is clamped, the position of the thin plate-like object is detected by the position detector when the clamp part moves in the direction of clamping the thin plate-like object by the biasing force of the spring member. By controlling the operation of the electromagnetic actuator based on the detection result by the detector, the moving speed of the clamp unit is controlled to be reduced before the clamp unit contacts the thin plate-like object. Thereby, the impact at the time of clamping a thin plate-shaped object by a clamp part can be relieved. On the other hand, when the thin plate-like object is not clamped by the clamp portion, the clamp portion is moved in the direction of unclamping by generating a thrust in a direction against the urging force of the spring member by the electromagnetic actuator.

特開平7−37960号公報JP 7-37960 A 特開2004−119554号公報JP 2004-119554 A

しかしながら、上記特許文献2では、クランプ部により薄板状物をクランプする際の衝撃を緩和することが可能である一方、薄板状物の位置を検出する位置検出器を電磁アクチュエータに追加的に設けているため、電磁アクチュエータの構成が複雑化するという問題点がある。   However, in Patent Document 2, it is possible to mitigate the impact when the thin plate-like object is clamped by the clamp portion, while a position detector for detecting the position of the thin plate-like object is additionally provided in the electromagnetic actuator. Therefore, there is a problem that the configuration of the electromagnetic actuator is complicated.

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、クランプ部により薄板状物をクランプする際の衝撃を緩和しながら、位置検出器を用いることに起因する電磁アクチュエータの構成の複雑化を抑制することが可能な把持装置を提供することである。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and one object of the present invention is to use a position detector while mitigating the impact when a thin plate-like object is clamped by a clamp portion. It is an object of the present invention to provide a gripping device capable of suppressing the complication of the configuration of the electromagnetic actuator caused by the above.

課題を解決するための手段および発明の効果Means for Solving the Problems and Effects of the Invention

上記目的を達成するために、この発明の一の局面における把持装置は、薄板状物をクランプする方向に移動する可動部を含むクランプ部と、クランプ部の可動部をクランプする方向に常時付勢するばね部材と、少なくともクランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に推力を発生させる電磁アクチュエータとを備え、電磁アクチュエータは、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に、ばね部材のクランプ方向への付勢力による可動部の移動速度を低減する方向に推力を発生させる平坦面状の励磁コイルと、平坦面状の励磁コイルに対向するように設けられる永久磁石とを有する励磁回路を含む扁平型に構成さればね部材は、扁平型の電磁アクチュエータの両側に設けられる第1ばね部材および第2ばね部材を含み、電磁アクチュエータは、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に励磁回路をオン状態からオフ状態にする時に、電磁アクチュエータの推力がばね部材の伸長に伴って徐々に減少する付勢力よりも小さくなるように励磁回路を流れる電流が徐々に減少されることにより、ばね部材の付勢力による可動部の移動速度を低減する方向に推力を発生させるように構成されている。



In order to achieve the above object, a gripping device according to one aspect of the present invention is constantly biased in a direction of clamping a movable part of a clamp part including a movable part that moves in a direction of clamping a thin plate-like object. And at least an electromagnetic actuator that generates a thrust when shifting from the clamp-released state to the clamped state. The electromagnetic actuator moves in the clamping direction of the spring member when shifting from the clamp-released state to the clamped state. and the flat surface shape of the exciting coil for generating a thrust in the direction to reduce the speed of movement of the movable portion by the biasing force, including flat the excitation circuit and a permanent magnet provided so as to face the flat surface shape of the exciting coil is configured, the spring member includes a first spring member and second spring members are provided on both sides of the flat-type electromagnetic actuator, the electromagnetic Accession When the excitation circuit is switched from the on state to the off state when shifting from the clamp release state to the clamp state, the thrust of the electromagnetic actuator becomes smaller than the urging force that gradually decreases as the spring member extends. By gradually reducing the current flowing through the excitation circuit, the thrust is generated in a direction that reduces the moving speed of the movable part due to the biasing force of the spring member.



この一の局面による把持装置では、上記のように、クランプ部の可動部をクランプする方向に常時付勢するばね部材と、少なくともクランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に、ばね部材のクランプ方向への付勢力による可動部の移動速度を低減する方向に推力を発生させる励磁コイルを有する電磁アクチュエータとを設けることによって、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に、励磁コイルにより発生される推力によって可動部の移動速度が低減されるので、クランプ部が薄板状物に対して大きい速度で接触するのが抑制される。これにより、薄板状物をクランプする際の衝撃を緩和することができるので、薄板状物の破損やパーティクル(ゴミ)の発生を抑制することができる。また、通常電磁アクチュエータが備えている励磁回路を用いてクランプ部の速度制御を行うことによって、薄板状物をクランプする際に、薄板状物の位置を検出する位置検出器を電磁アクチュエータに追加的に設けることなく、可動部の移動速度を低減させることができるので、位置検出器を用いることに起因する電磁アクチュエータの構成の複雑化を抑制することができる。   In the gripping device according to this one aspect, as described above, the spring member that constantly urges the movable portion of the clamp portion in the clamping direction, and at least the clamp direction of the spring member when shifting from the clamp release state to the clamp state The thrust generated by the exciting coil when shifting from the clamped state to the clamped state by providing an electromagnetic actuator having an exciting coil that generates thrust in a direction that reduces the moving speed of the movable part due to the biasing force Since the moving speed of the movable part is reduced by this, it is suppressed that the clamp part contacts the thin plate-like object at a high speed. Thereby, since the impact at the time of clamping a thin plate-shaped object can be relieved, damage to a thin plate-shaped object and generation | occurrence | production of particles (dust) can be suppressed. In addition, a position detector that detects the position of a thin plate-like object is added to the electromagnetic actuator when clamping the thin plate-like object by controlling the speed of the clamping unit using an excitation circuit that is usually provided in the electromagnetic actuator. Since the moving speed of the movable part can be reduced without being provided, the complication of the configuration of the electromagnetic actuator due to the use of the position detector can be suppressed.

また、電磁アクチュエータは、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に励磁回路をオン状態からオフ状態にする時に、励磁回路を流れる電流が徐々に減少されることにより、ばね部材の付勢力による可動部の移動速度を低減する方向に推力を発生させるように構成されている。これにより、励磁回路に流れる電流が徐々に減少するのに伴って、可動部の移動速度を低減しながら可動部を薄板状物に対して徐々に接近させることができるので、薄板状物をクランプする際の衝撃を緩和することができる。



The electromagnetic actuator is movable by the biasing force of the spring member by gradually reducing the current flowing through the excitation circuit when the excitation circuit is switched from the on state to the off state when shifting from the clamp release state to the clamp state. It is comprised so that a thrust may be generated in the direction which reduces the moving speed of a part. This ensures, as the current flowing through the exciting circuit is gradually decreased, since the movable portion while reducing the moving speed of the movable portion can be gradually close to the thin plate material, a thin plate-like material Impact during clamping can be reduced.



この場合、好ましくは、励磁回路は、励磁回路の電流を蓄電するコンデンサを含み、励磁回路をオン状態からオフ状態にする時に、コンデンサに蓄電された電流を流すことにより、励磁回路を流れる電流が徐々に減少するように構成されている。このように構成すれば、コンデンサに蓄電された電流が放電に伴って自動的に徐々に減少するので、励磁回路にコンデンサを設けるだけで、可動部の移動速度を低減しながら可動部を薄板状物に対して徐々に接近させることができる。   In this case, preferably, the excitation circuit includes a capacitor for storing the current of the excitation circuit, and when the excitation circuit is turned from the on state to the off state, the current flowing through the excitation circuit is caused to flow by passing the current stored in the capacitor. It is configured to gradually decrease. With this configuration, the current stored in the capacitor automatically decreases gradually with discharge, so the movable part is made into a thin plate while reducing the moving speed of the movable part simply by providing a capacitor in the excitation circuit. You can gradually approach the object.

上記励磁回路を流れる電流が徐々に減少される把持装置において、好ましくは、励磁回路は、オン時には電流が流れずにオフ時の逆起電力発生時に電流を流すためのダイオードを含むバイパス回路を含み、励磁回路をオン状態からオフ状態にする時に、励磁コイルに過渡的に発生する逆起電力による電流を、バイパス回路を介して流すことにより、励磁回路を流れる電流が徐々に減少するように構成されている。このように構成すれば、励磁回路をオン状態からオフ状態にした際に、過渡的に発生する逆起電力による電流により、励磁コイルが可動部の移動速度を低減する方向に推力を発生するので、可動部の移動速度を低減しながら可動部を薄板状物に対して徐々に接近させることができる。   In the gripping device in which the current flowing through the excitation circuit is gradually decreased, the excitation circuit preferably includes a bypass circuit including a diode for causing a current to flow when a counter electromotive force is generated when the current is not flown when the switch is turned on and when a back electromotive force is generated. When the excitation circuit is switched from the on state to the off state, the current caused by the back electromotive force generated transiently in the excitation coil is passed through the bypass circuit, so that the current flowing through the excitation circuit gradually decreases. Has been. With this configuration, when the excitation circuit is switched from the on-state to the off-state, the excitation coil generates thrust in a direction that reduces the moving speed of the movable part due to the current caused by the back electromotive force that is transiently generated. The moving part can gradually approach the thin plate-like object while reducing the moving speed of the moving part.

上記励磁回路を流れる電流が徐々に減少される把持装置において、好ましくは、励磁回路は、複数の励磁コイルと、複数の励磁コイルのそれぞれに対応するように設けられ、複数の励磁コイルのオンオフ動作を制御する複数のスイッチ部とを含み、励磁回路をオン状態からオフ状態にする時に、複数の励磁コイルが順次オフするように複数のスイッチ部を制御することにより、励磁回路を流れる電流が徐々に減少するように構成されている。このように構成すれば、複数のスイッチ部を順次オフすることにより、段階的に電流が流れる励磁コイルの数を減少させることができるので、段階的に可動部を薄板状物に対して接近させることができる。また、複数の励磁コイルを順次オフして電流が流れる励磁コイルの数を減少させていく際の各段階の励磁コイルへの通電時間を制御することによって、より適切に可動部の移動速度の低減度合いを制御することができる。   In the gripping device in which the current flowing through the excitation circuit is gradually reduced, preferably, the excitation circuit is provided so as to correspond to each of the plurality of excitation coils and the plurality of excitation coils, and the on / off operation of the plurality of excitation coils. When switching the excitation circuit from the on-state to the off-state, by controlling the plurality of switch sections so that the plurality of excitation coils are sequentially turned off, the current flowing through the excitation circuit is gradually increased. It is configured to decrease. If comprised in this way, since the number of the exciting coils which an electric current flows in steps can be reduced by turning off several switch parts sequentially, a movable part is made to approach a thin plate-like object in steps. be able to. In addition, the moving speed of the movable part can be more appropriately reduced by controlling the energization time of the excitation coils at each stage when the number of excitation coils through which current flows is reduced by sequentially turning off a plurality of excitation coils. The degree can be controlled.

上記一の局面による把持装置において、好ましくは、クランプ部および電磁アクチュエータは、真空中において使用され、電磁アクチュエータは、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に加えて、クランプ解除状態でも推力を発生するように構成されており、クランプ解除状態では、励磁回路がオン状態にされて電流が流されることによりばね部材の付勢力に抗する方向の推力が電磁アクチュエータに発生されて可動部がクランプ方向とは逆方向に移動されるとともに、クランプ状態では、励磁回路がオフ状態にされて電流が流れないことにより電磁アクチュエータに推力が発生されないとともにばね部材の付勢力により可動部がクランプする方向に付勢されることによりクランプが行われるように構成されている。このように構成すれば、励磁回路をオン状態にした場合には、ばね部材の付勢力に抗した推力が電磁アクチュエータに発生されて可動部が薄板状物から遠ざかるので、容易に、薄板状物をクランプ解除状態(アンクランプ状態)にすることができる。また、励磁回路をオフ状態にした場合には、たとえば電源から励磁回路に電流が流れないので、励磁回路の発熱を抑制することができる。これにより、電磁アクチュエータが高温になるのが抑制されるので、電磁アクチュエータの熱が放熱されにくい真空中においても電磁アクチュエータを使用することができる。   In the gripping device according to the above aspect, the clamp unit and the electromagnetic actuator are preferably used in a vacuum, and the electromagnetic actuator generates thrust even in the clamp release state in addition to the transition from the clamp release state to the clamp state. In the clamp-released state, the exciting circuit is turned on and a current is applied to generate a thrust in a direction against the biasing force of the spring member, so that the movable part is clamped in the clamping direction. In the clamped state, the exciting circuit is turned off and no current flows, so that no thrust is generated in the electromagnetic actuator and the movable member is clamped by the biasing force of the spring member. The clamp is performed by being energized. With this configuration, when the excitation circuit is turned on, a thrust against the biasing force of the spring member is generated in the electromagnetic actuator, and the movable part moves away from the thin plate. Can be brought into a clamp release state (unclamped state). Further, when the excitation circuit is turned off, for example, no current flows from the power source to the excitation circuit, so that heat generation in the excitation circuit can be suppressed. Thereby, since it is suppressed that an electromagnetic actuator becomes high temperature, an electromagnetic actuator can be used also in the vacuum where the heat | fever of an electromagnetic actuator is hard to radiate.

上記一の局面による把持装置において、好ましくは、電磁アクチュエータの励磁回路は、流れる電流の方向を変更可能なように構成されており、クランプ状態で、励磁回路のオン時とは逆方向に電流を流すことによって、ばね部材の付勢力による可動部のクランプ力をアシストする方向の推力を電磁アクチュエータに発生させるように構成されている。このように構成すれば、ばね部材の付勢力が弱く、薄板状物を十分にクランプできない場合に、ばね部材の付勢力に電磁アクチュエータの推力をクランプ力として補うことができるので、薄板状物を確実にクランプすることができる。   In the gripping device according to the above aspect, the excitation circuit of the electromagnetic actuator is preferably configured so that the direction of the flowing current can be changed. In the clamped state, the current is applied in a direction opposite to that when the excitation circuit is on. By flowing, the electromagnetic actuator is configured to generate a thrust in a direction that assists the clamping force of the movable portion by the biasing force of the spring member. According to this configuration, when the biasing force of the spring member is weak and the thin plate-like object cannot be sufficiently clamped, the thrust of the electromagnetic actuator can be supplemented as the clamping force to the biasing force of the spring member. It can be clamped securely.

上記一の局面による把持装置において、好ましくは、電磁アクチュエータは、扁平型のリニアモータを含む。このように構成すれば、扁平型のリニアモータにより、薄型化を図ることができるので、真空中において使用される際に、真空装置内へアクセスするための高さの小さい通路(ゲートバルブの開口部)を通過させることができる。   In the gripping device according to the above aspect, the electromagnetic actuator preferably includes a flat linear motor. With this configuration, a flat linear motor can be used to reduce the thickness. Therefore, when used in a vacuum, a passage with a small height (gate valve opening) for accessing the vacuum apparatus is used. Part).

本発明の第1実施形態による電磁グリッパを備えるマルチチャンバタイプの真空処理装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the multi-chamber type vacuum processing apparatus provided with the electromagnetic gripper by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態による電磁グリッパを示す平面図である。It is a top view which shows the electromagnetic gripper by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態による電磁グリッパの電磁アクチュエータの詳細を示す図である。It is a figure which shows the detail of the electromagnetic actuator of the electromagnetic gripper by 1st Embodiment of this invention. 図3の300−300線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the 300-300 line of FIG. 図3の400−400線に沿った断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line 400-400 in FIG. 3. 本発明の第1実施形態による励磁回路がオン状態の場合の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram in case the excitation circuit by 1st Embodiment of this invention is an ON state. 本発明の第1実施形態による励磁回路がオフ状態の場合の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram when the excitation circuit according to the first embodiment of the present invention is in an off state. 本発明の第1実施形態によるウエハクランプ状態を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the wafer clamp state by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態によるウエハクランプ状態を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the wafer clamp state by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態による電磁グリッパが真空処理装置のゲートバルブの開口部を通過している状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the electromagnetic gripper by 1st Embodiment of this invention has passed through the opening part of the gate valve of a vacuum processing apparatus. 本発明の第1実施形態の変形例を説明するための励磁回路の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of the excitation circuit for demonstrating the modification of 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態による励磁回路がオン状態の場合の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram in case the excitation circuit by 2nd Embodiment of this invention is an ON state. 本発明の第2実施形態による励磁回路がオフ状態の場合の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram in case the excitation circuit by 2nd Embodiment of this invention is an OFF state. 本発明の第3実施形態による励磁回路の3つのスイッチがオン状態の場合の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram in case the three switches of the excitation circuit by 3rd Embodiment of this invention are in an ON state. 本発明の第3実施形態による励磁回路の2つのスイッチがオン状態の場合の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram in case two switches of the excitation circuit by 3rd Embodiment of this invention are in an ON state. 本発明の第3実施形態による励磁回路の1つのスイッチがオン状態の場合の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram in case one switch of the excitation circuit by 3rd Embodiment of this invention is an ON state. 本発明の第3実施形態による励磁回路のスイッチがオフ状態の場合の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram in case the switch of the excitation circuit by 3rd Embodiment of this invention is an OFF state. 本発明の第4実施形態による電流制御回路を含む励磁回路の等価回路図である。It is an equivalent circuit schematic of the excitation circuit containing the current control circuit by 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態による励磁回路をオフ状態にする際の励磁電流と時間との関係を示したグラフである。It is the graph which showed the relationship between the exciting current at the time of turning off the exciting circuit by 4th Embodiment of this invention, and time.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1実施形態)
図1〜図5を参照して、本発明の第1実施形態による電磁グリッパ100を備える真空処理装置200について説明する。なお、電磁グリッパ100は、本発明の「把持装置」の一例である。
(First embodiment)
With reference to FIGS. 1-5, the vacuum processing apparatus 200 provided with the electromagnetic gripper 100 by 1st Embodiment of this invention is demonstrated. The electromagnetic gripper 100 is an example of the “gripping device” in the present invention.

本発明の第1実施形態による電磁グリッパ100を備えるマルチチャンバタイプの真空処理装置200は、図1に示すように、4つの真空処理ユニット1、2、3および4を備えている。この真空処理ユニット1〜4は、搬送室5の外周に設けられている。なお、搬送室5内は、所定の真空度に保たれている。また、搬送室5の外周には、搬送室5以外にロードロック室6および7が設けられている。このロードロック室6および7の搬送室5とは反対側には、搬入出室8が設けられている。搬入出室8のロードロック室6および7とは反対側には、被処理基板としての半導体用のウエハ9を収容可能なキャリア10をそれぞれ取り付けるための3つのポート11が設けられている。なお、ウエハ9は、本発明の「薄板状物」の一例である。   The multi-chamber type vacuum processing apparatus 200 including the electromagnetic gripper 100 according to the first embodiment of the present invention includes four vacuum processing units 1, 2, 3 and 4 as shown in FIG. The vacuum processing units 1 to 4 are provided on the outer periphery of the transfer chamber 5. Note that the inside of the transfer chamber 5 is maintained at a predetermined degree of vacuum. In addition to the transfer chamber 5, load lock chambers 6 and 7 are provided on the outer periphery of the transfer chamber 5. A load / unload chamber 8 is provided on the opposite side of the load lock chambers 6 and 7 from the transfer chamber 5. On the opposite side of the loading / unloading chamber 8 from the load lock chambers 6 and 7, there are provided three ports 11 for attaching carriers 10 capable of accommodating semiconductor wafers 9 as substrates to be processed. The wafer 9 is an example of the “thin plate” in the present invention.

また、真空処理ユニット1〜4は、搬送室5の周辺にゲートバルブ12を介して接続されている。また、ゲートバルブ12を開放することにより搬送室5と真空処理ユニット1〜4とが繋がり、ゲートバルブ12を閉じることにより搬送室5と真空処理ユニット1〜4とが遮断される。また、ロードロック室6および7は、それぞれ、ゲートバルブ12aを介して搬送室5に接続されている。また、ロードロック室6および7は、それぞれ、ゲートバルブ12aを介して、搬入出室8に接続されている。そして、ロードロック室6および7は、ゲートバルブ12aを開放することにより搬送室5と繋がり、ゲートバルブ12aを閉じることにより搬送室5から遮断される。また、ロードロック室6および7は、ゲートバルブ12aを開放することにより搬入出室8に繋がり、ゲートバルブ12aを閉じることにより搬入出室8から遮断される。   The vacuum processing units 1 to 4 are connected to the periphery of the transfer chamber 5 via a gate valve 12. Further, by opening the gate valve 12, the transfer chamber 5 and the vacuum processing units 1 to 4 are connected, and by closing the gate valve 12, the transfer chamber 5 and the vacuum processing units 1 to 4 are shut off. Further, the load lock chambers 6 and 7 are connected to the transfer chamber 5 through the gate valve 12a, respectively. The load lock chambers 6 and 7 are connected to the carry-in / out chamber 8 via the gate valve 12a, respectively. The load lock chambers 6 and 7 are connected to the transfer chamber 5 by opening the gate valve 12a, and are disconnected from the transfer chamber 5 by closing the gate valve 12a. The load lock chambers 6 and 7 are connected to the loading / unloading chamber 8 by opening the gate valve 12a, and are blocked from the loading / unloading chamber 8 by closing the gate valve 12a.

搬送室5内には、真空処理ユニット1〜4、ロードロック室6および7に対して、ウエハ9の搬入出を行う水平多関節型のウエハ搬送ロボット5aが設けられている。このウエハ搬送ロボット5aは、搬送室5の略中央に配置されており、複数の関節の駆動により旋回および伸縮可能に構成されるとともに、アーム部の先端に設けられた電磁グリッパ100を有している。   In the transfer chamber 5, a horizontal articulated wafer transfer robot 5 a for loading and unloading the wafer 9 with respect to the vacuum processing units 1 to 4 and the load lock chambers 6 and 7 is provided. The wafer transfer robot 5a is disposed substantially at the center of the transfer chamber 5, and is configured to be capable of turning and extending / contracting by driving a plurality of joints, and has an electromagnetic gripper 100 provided at the tip of the arm portion. Yes.

電磁グリッパ100は、図2に示すように、根元部100bから延びるように設けられるとともに、略U字形状を有し、ウエハ9を支持するための支持アーム100aを有している。電磁グリッパ100の支持アーム100aの表面上には、ウエハ9をクランプ(把持)するための先端の2つの固定爪20と、ウエハ9を摺動させるための2つのウエハ摺動部材21とが設けられている。   As shown in FIG. 2, the electromagnetic gripper 100 is provided so as to extend from the root portion 100 b, has a substantially U shape, and has a support arm 100 a for supporting the wafer 9. On the surface of the support arm 100 a of the electromagnetic gripper 100, two fixed claws 20 at the tip for clamping (gripping) the wafer 9 and two wafer sliding members 21 for sliding the wafer 9 are provided. It has been.

また、電磁グリッパ100の矢印X2方向側の根元部100bの表面上には、電磁アクチュエータ22が設けられている。この電磁アクチュエータ22は、後述する平坦面状の励磁コイル27a〜27cと、永久磁石29a〜29f(図3参照)とを含む扁平型のリニアモータを含む。また、電磁アクチュエータ22は、固定部23と、固定部23に対してX方向に移動(摺動)可能なクランプ部24とを含んでいる。また、クランプ部24は、ウエハ9をクランプする方向(矢印X1方向)に移動可能な可動部25と、ウエハ9をクランプするための可動爪26とを含んでいる。   An electromagnetic actuator 22 is provided on the surface of the root portion 100b of the electromagnetic gripper 100 on the arrow X2 direction side. The electromagnetic actuator 22 includes a flat linear motor including flat surface-shaped exciting coils 27a to 27c, which will be described later, and permanent magnets 29a to 29f (see FIG. 3). Further, the electromagnetic actuator 22 includes a fixed portion 23 and a clamp portion 24 that can move (slide) in the X direction with respect to the fixed portion 23. The clamp unit 24 includes a movable unit 25 that can move in the direction of clamping the wafer 9 (arrow X1 direction) and a movable claw 26 for clamping the wafer 9.

また、第1実施形態では、図3に示すように、固定部23は、3つの渦巻き状の励磁コイル27a、27bおよび27cを有する励磁回路28を含んでいる。3つの励磁コイル27a〜27cは、X方向に沿って隣接するように配置されるとともに、直列接続されている。また、可動部25は、固定部23の励磁コイル27a〜27cに対向するように配置された6つの永久磁石29a、29b、29c、29d、29eおよび29fを含んでいる。6つの永久磁石29a〜29fは、それぞれY方向に延びるように形成されるとともに、X方向に沿って隣接するように配置されている。また、永久磁石29a、29b、29c、29d、29eおよび29fは、図4に示すように、上面側(矢印Z1方向側)から見て、S極、N極、S極、N極、S極、N極の順に配置されているとともに、下面側(矢印Z2方向側)から見て、N極、S極、N極、S極、N極、S極の順に配置されている。また、励磁コイル27a〜27cは、永久磁石29a〜29fに発生するZ方向の磁界と交差するように配置されている。   In the first embodiment, as shown in FIG. 3, the fixing portion 23 includes an excitation circuit 28 having three spiral excitation coils 27a, 27b, and 27c. The three exciting coils 27a to 27c are arranged so as to be adjacent along the X direction and are connected in series. The movable portion 25 includes six permanent magnets 29a, 29b, 29c, 29d, 29e, and 29f arranged to face the exciting coils 27a to 27c of the fixed portion 23. Each of the six permanent magnets 29a to 29f is formed so as to extend in the Y direction, and is disposed so as to be adjacent along the X direction. Further, as shown in FIG. 4, the permanent magnets 29a, 29b, 29c, 29d, 29e, and 29f are S poles, N poles, S poles, N poles, and S poles as viewed from the upper surface side (arrow Z1 direction side). , N poles, and N poles, S poles, N poles, S poles, N poles, and S poles as viewed from the lower surface side (arrow Z2 direction side). Further, the exciting coils 27a to 27c are arranged so as to intersect with the magnetic field in the Z direction generated in the permanent magnets 29a to 29f.

また、図3に示すように、直列接続された3つの励磁コイル27a〜27cには、後述する直流電源40が接続されている。3つの励磁コイル27a〜27cには、直流電源40から直流電流が供給されるように構成されており、3つの励磁コイル27a〜27cに電流が供給される場合には、図4に示すように、3つの励磁コイル27a〜27cに流れる電流と、6つの永久磁石29a〜29fから発生する磁界との間に矢印X2方向に推力(電磁力)が発生するように構成されている。また、励磁コイル27a〜27cに電流が供給されない場合には、励磁コイル27a〜27cと永久磁石29a〜29fとの間には、推力は発生せず、可動部25は、後述するばね部材30の付勢力により、矢印X1方向に移動するように構成されている。そして、可動部25は、可動爪26がウエハ9に接触することにより、ウエハ9を矢印X1方向側の2つの固定爪20に押し付けるように移動(摺動)させるように構成されている。これにより、可動爪26と2つの固定爪20とによって、ウエハ9がクランプされるように構成されている。なお、励磁コイル27a〜27cと永久磁石29a〜29fとの間に発生する推力は、ばね部材30の付勢力よりも大きくなるように構成されている。   Further, as shown in FIG. 3, a DC power source 40 described later is connected to the three exciting coils 27a to 27c connected in series. The three exciting coils 27a to 27c are configured to be supplied with a direct current from a direct current power source 40. When current is supplied to the three exciting coils 27a to 27c, as shown in FIG. A thrust (electromagnetic force) is generated in the direction of the arrow X2 between the current flowing through the three exciting coils 27a to 27c and the magnetic field generated from the six permanent magnets 29a to 29f. In addition, when no current is supplied to the exciting coils 27a to 27c, no thrust is generated between the exciting coils 27a to 27c and the permanent magnets 29a to 29f, and the movable portion 25 has a spring member 30 described later. It is configured to move in the direction of arrow X1 by the urging force. The movable portion 25 is configured to move (slide) so that the wafer 9 is pressed against the two fixed claws 20 on the arrow X1 direction side when the movable claw 26 contacts the wafer 9. Thus, the wafer 9 is clamped by the movable claw 26 and the two fixed claws 20. The thrust generated between the exciting coils 27 a to 27 c and the permanent magnets 29 a to 29 f is configured to be larger than the urging force of the spring member 30.

また、図3に示すように、固定部23と可動部25との間には、ばね部材30が配置されている。このばね部材30は、圧縮ばねからなり、可動部25の矢印Y1方向側と、矢印Y2方向側とにそれぞれ1つずつ設けられている。また、ばね部材30は、可動部25をクランプする方向(矢印X1方向)に常時付勢するように構成されている。   As shown in FIG. 3, a spring member 30 is disposed between the fixed portion 23 and the movable portion 25. This spring member 30 consists of a compression spring, and is provided one each on the arrow Y1 direction side and the arrow Y2 direction side of the movable part 25. Further, the spring member 30 is configured so as to always be urged in a direction (arrow X1 direction) in which the movable portion 25 is clamped.

また、可動部25の矢印Y1方向側と、矢印Y2方向側とには、それぞれ、可動部25をX方向に移動させるのをガイドするためのリニアガイド31が1つずつ設けられている。このリニアガイド31は、図5に示すように、可動部25側に設けられたスライダ32と、固定部23側に設けられたレール33とを含んでおり、可動部25側のスライダ32が固定部23側のレール33上をX方向に沿って摺動(スライド)するように構成されている。また、図3に示すように、固定部23の矢印X1方向側と、矢印X2方向側とには、それぞれ、可動部25がX方向に移動するのを規制するためのストッパ34aおよび34bが1つずつ設けられている。   Further, one linear guide 31 for guiding the movement of the movable part 25 in the X direction is provided on each side of the movable part 25 in the direction of the arrow Y1 and in the direction of the arrow Y2. As shown in FIG. 5, the linear guide 31 includes a slider 32 provided on the movable portion 25 side and a rail 33 provided on the fixed portion 23 side. The slider 32 on the movable portion 25 side is fixed. It is configured to slide (slide) on the rail 33 on the part 23 side along the X direction. Further, as shown in FIG. 3, the stoppers 34a and 34b for restricting the movable portion 25 from moving in the X direction are respectively provided on the arrow X1 direction side and the arrow X2 direction side of the fixed portion 23. It is provided one by one.

次に、図6を参照して、励磁回路28の詳細な構成について説明する。   Next, a detailed configuration of the excitation circuit 28 will be described with reference to FIG.

第1実施形態では、励磁回路28は、上記した直列接続された3つの励磁コイル27a〜27cと、励磁コイル27a〜27cに直流電流を供給するための直流電源40と、電流を蓄電するためのコンデンサ35と、スイッチ部41とを含んでいる。直流電源40の+端子は、励磁コイル27aの一方端およびコンデンサ35の一方電極に接続されている。また、励磁コイル27aの他方端は、励磁コイル27bの一方端に接続されるとともに、励磁コイル27bの他方端は、励磁コイル27cの一方端に接続されている。また、励磁コイル27cの他方端およびコンデンサ35の他方電極は、スイッチ部41の一方端に接続されている。また、スイッチ部41の他方端は、直流電源40の−端子に接続されている。   In the first embodiment, the excitation circuit 28 includes the above-described three excitation coils 27a to 27c connected in series, a DC power source 40 for supplying a DC current to the excitation coils 27a to 27c, and an electric current for storing the current. A capacitor 35 and a switch unit 41 are included. The + terminal of the DC power supply 40 is connected to one end of the exciting coil 27 a and one electrode of the capacitor 35. The other end of the exciting coil 27a is connected to one end of the exciting coil 27b, and the other end of the exciting coil 27b is connected to one end of the exciting coil 27c. The other end of the exciting coil 27 c and the other electrode of the capacitor 35 are connected to one end of the switch unit 41. The other end of the switch unit 41 is connected to the negative terminal of the DC power supply 40.

次に、図4および図6〜図10を参照して、電磁グリッパ100の動作について説明する。   Next, the operation of the electromagnetic gripper 100 will be described with reference to FIGS. 4 and 6 to 10.

まず、ウエハ9のクランプ状態(ウエハ9をクランプする状態)を解除する場合には、図6に示すように、スイッチ部41がオン状態(励磁回路28がオン状態)となり、直流電源40から励磁コイル27a〜27cおよびコンデンサ35に電流が供給される。このとき、コンデンサ35には、電流が蓄電(充電)される。また、励磁コイル27a〜27cに流れる電流と、永久磁石29a〜29f(図4参照)から発生する磁界との間に発生する推力(電磁力)により、可動部25は、ばね部材30の矢印X1方向の付勢力に打ち勝つようにして、矢印X2方向に移動する。そして、可動部25が矢印X2方向側のストッパ34bに当接することにより、可動部25の移動が停止するとともに、クランプ解除状態(ウエハ9をクランプしない状態)となる。   First, when releasing the clamping state of the wafer 9 (the state of clamping the wafer 9), the switch unit 41 is turned on (the excitation circuit 28 is turned on) as shown in FIG. A current is supplied to the coils 27 a to 27 c and the capacitor 35. At this time, the capacitor 35 is charged (charged) with a current. In addition, the movable portion 25 is moved by the arrow X1 of the spring member 30 by the thrust (electromagnetic force) generated between the current flowing through the exciting coils 27a to 27c and the magnetic field generated from the permanent magnets 29a to 29f (see FIG. 4). It moves in the direction of arrow X2 so as to overcome the urging force in the direction. When the movable portion 25 comes into contact with the stopper 34b on the arrow X2 direction side, the movement of the movable portion 25 is stopped and the clamp is released (the wafer 9 is not clamped).

次に、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する場合には、スイッチ部41がオフ状態(励磁回路28がオフ状態)となり、直流電源40から励磁コイル27a〜27cへの電流供給が停止される。ここで、第1実施形態では、図7に示すように、電磁アクチュエータ22の励磁回路28は、クランプ解除状態(ウエハ9をクランプしない状態)からクランプ状態(ウエハ9をクランプする状態)に移行する際に励磁回路28をオン状態からオフ状態にする時に、コンデンサ35に蓄電された電流を流すことにより、励磁回路28を流れる電流が徐々に減少されることにより、ばね部材30のクランプ方向(矢印X1方向)への付勢力による可動部25の移動速度を低減する方向(矢印X2方向)に推力を発生させる。   Next, when shifting from the clamp release state to the clamp state, the switch unit 41 is turned off (the excitation circuit 28 is turned off), and current supply from the DC power supply 40 to the excitation coils 27a to 27c is stopped. Here, in the first embodiment, as shown in FIG. 7, the excitation circuit 28 of the electromagnetic actuator 22 shifts from a clamp release state (a state where the wafer 9 is not clamped) to a clamp state (a state where the wafer 9 is clamped). When the excitation circuit 28 is changed from the on state to the off state, the current stored in the capacitor 35 is caused to flow, whereby the current flowing through the excitation circuit 28 is gradually reduced, so that the spring member 30 is clamped (arrow) Thrust is generated in a direction (arrow X2 direction) in which the moving speed of the movable portion 25 is reduced by the urging force in the X1 direction.

つまり、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する場合には、コンデンサ35は、クランプ状態の解除時に充電されているので、コンデンサ35から励磁コイル27a〜27cに電流が供給される。これにより、励磁コイル27a〜27cに流れる電流と、永久磁石29a〜29f(図4参照)から発生する磁界との間には、ばね部材30の付勢力よりも小さく、かつ、付勢力と反対方向(矢印X2方向)の推力(電磁力)が発生する。この矢印X2方向の推力(電磁力)によって、可動部25に作用するばね部材30による矢印X1方向への付勢力の一部が相殺されて小さくなるので、可動部25は、移動速度が低減された状態でゆっくりと矢印X1方向に移動するとともに、可動爪26がウエハ9に小さい速度でゆっくりと接触する。これにより、図8および図9に示した状態になる。なお、矢印X2方向に発生する推力は、コンデンサ35に蓄電された電流の放電に伴って徐々に小さくなるので、可動爪26を介してウエハ9に作用するばね部材30の矢印X1方向の付勢力(押圧力)は、徐々に大きくなる。このウエハ9に作用する矢印X1方向のばね部材30の付勢力の増大に伴ってウエハ9が矢印X1方向に移動を開始し、固定爪20と当接する。その後、コンデンサ35に蓄電された電流が完全に放電されると推力は発生しなくなり、ばね部材30の付勢力のみがウエハ9に作用して、クランプ状態となる。その後、クランプされたウエハ9は、図10に示すように、真空処理装置200の高さの小さいゲートバルブ12(12a)を通過して真空処理ユニット1〜4、または、ロードロック室6および7に搬送される。   That is, when shifting from the clamp release state to the clamp state, the capacitor 35 is charged when the clamp state is released, so that current is supplied from the capacitor 35 to the exciting coils 27a to 27c. Thereby, between the electric current which flows into excitation coil 27a-27c, and the magnetic field which generate | occur | produces from permanent magnet 29a-29f (refer FIG. 4), it is smaller than the urging | biasing force of the spring member 30, and is a direction opposite to urging | biasing force. A thrust (electromagnetic force) in the direction of arrow X2 is generated. Due to the thrust (electromagnetic force) in the arrow X2 direction, a part of the urging force in the arrow X1 direction by the spring member 30 acting on the movable portion 25 is canceled and reduced, so that the moving speed of the movable portion 25 is reduced. The moving claw 26 is slowly moved in the direction of the arrow X1 in the state of being in contact with the wafer 9 at a low speed. As a result, the state shown in FIGS. 8 and 9 is obtained. The thrust generated in the direction of the arrow X2 is gradually reduced as the current stored in the capacitor 35 is discharged. Therefore, the biasing force in the direction of the arrow X1 of the spring member 30 acting on the wafer 9 via the movable claw 26 is used. (Pressing force) gradually increases. As the urging force of the spring member 30 in the arrow X1 direction acting on the wafer 9 increases, the wafer 9 starts moving in the arrow X1 direction and comes into contact with the fixed claw 20. Thereafter, when the current stored in the capacitor 35 is completely discharged, no thrust is generated, and only the urging force of the spring member 30 acts on the wafer 9 to be in a clamped state. Thereafter, as shown in FIG. 10, the clamped wafer 9 passes through the gate valve 12 (12a) having a small height of the vacuum processing apparatus 200, or the vacuum processing units 1 to 4 or the load lock chambers 6 and 7 are placed. To be transported.

第1実施形態では、上記のように、クランプ部24の可動部25をクランプする方向(矢印X1方向)に常時付勢するばね部材30と、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に、ばね部材30のクランプ方向への付勢力による可動部25の移動速度を低減する方向(矢印X2方向)に推力を発生させる励磁コイル27a〜27cを有する電磁アクチュエータ22とを設けることによって、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に、励磁コイル27a〜27cにより発生される推力によって可動部25の移動速度が低減されるので、クランプ部24がウエハ9に対して大きい速度で接触するのが抑制される。これにより、ウエハ9をクランプする際の衝撃を緩和することができるので、ウエハ9の破損やパーティクル(ゴミ)の発生を抑制することができる。また、通常電磁アクチュエータ22が備えている励磁回路28を用いてクランプ部24の速度制御を行うことによって、ウエハ9をクランプする際に、ウエハ9の位置を検出する位置検出器を電磁アクチュエータ22に追加的に設けることなく、可動部25の移動速度を低減させることができるので、位置検出器を用いることに起因する電磁アクチュエータ22の構成の複雑化を抑制することができる。   In the first embodiment, as described above, the spring member 30 that constantly urges the movable portion 25 of the clamp portion 24 in the direction in which the movable portion 25 is clamped (the direction of the arrow X1), and the spring when the transition from the clamp release state to the clamp state occurs. By providing an electromagnetic actuator 22 having exciting coils 27a to 27c that generate thrust in a direction (arrow X2 direction) in which the moving speed of the movable portion 25 is reduced by the urging force of the member 30 in the clamping direction, When shifting to the clamp state, the moving speed of the movable portion 25 is reduced by the thrust generated by the excitation coils 27a to 27c, so that the clamp portion 24 is prevented from contacting the wafer 9 at a high speed. . Thereby, since the impact at the time of clamping the wafer 9 can be relieved, damage to the wafer 9 and generation of particles (dust) can be suppressed. In addition, by controlling the speed of the clamp unit 24 using the excitation circuit 28 provided in the normal electromagnetic actuator 22, a position detector that detects the position of the wafer 9 is clamped to the electromagnetic actuator 22 when the wafer 9 is clamped. Since the moving speed of the movable part 25 can be reduced without additionally providing, the complexity of the configuration of the electromagnetic actuator 22 resulting from the use of the position detector can be suppressed.

また、第1実施形態では、上記のように、電磁アクチュエータ22が、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に励磁回路28をオン状態からオフ状態にする時に、励磁回路28を流れる電流が徐々に減少されることにより、ばね部材30の付勢力による可動部25の移動速度を低減する方向に推力を発生させる。これにより、励磁回路28に流れる電流が徐々に減少するのに伴って、可動部25の移動速度を低減しながら可動部25をウエハ9に対して徐々に接近させることができるので、ウエハ9をクランプする際の衝撃を緩和することができる。   In the first embodiment, as described above, when the electromagnetic actuator 22 changes the excitation circuit 28 from the on state to the off state when the clamper moves from the clamp release state to the clamp state, the current flowing through the excitation circuit 28 gradually increases. As a result, the thrust is generated in a direction that reduces the moving speed of the movable portion 25 due to the biasing force of the spring member 30. As a result, as the current flowing through the excitation circuit 28 gradually decreases, the movable portion 25 can gradually approach the wafer 9 while reducing the moving speed of the movable portion 25. Impact during clamping can be reduced.

また、第1実施形態では、上記のように、励磁回路28をオン状態からオフ状態にする時に、コンデンサ35に蓄電された電流を流すことにより、励磁回路28を流れる電流を徐々に減少させることによって、コンデンサ35に蓄電された電流が放電に伴って自動的に徐々に減少するので、励磁回路28にコンデンサ35を設けるだけで、可動部25の移動速度を低減しながら可動部25をウエハ9に対して徐々に接近させることができる。   In the first embodiment, as described above, when the excitation circuit 28 is switched from the on state to the off state, the current flowing through the excitation circuit 28 is gradually decreased by flowing the current stored in the capacitor 35. As a result, the current stored in the capacitor 35 is automatically gradually reduced with discharge. Therefore, the movable part 25 is moved to the wafer 9 while reducing the moving speed of the movable part 25 only by providing the capacitor 35 in the excitation circuit 28. Can be gradually approached.

また、第1実施形態では、上記のように、クランプ解除状態では、励磁回路28がオン状態にされて電流が流されることによりばね部材30の付勢力に抗する方向の推力が電磁アクチュエータ22に発生されて可動部25をクランプ方向とは逆方向に移動させるとともに、クランプ状態では、励磁回路28がオフ状態にされて電流が流れないことにより電磁アクチュエータ22に推力が発生されないとともにばね部材30の付勢力により可動部25をクランプする方向に付勢させることによりクランプを行う。これにより、励磁回路28をオン状態にした場合には、ばね部材30の付勢力に抗した推力が電磁アクチュエータ22に発生されて可動部25がウエハ9から遠ざかるので、容易に、ウエハ9をクランプ解除状態(アンクランプ状態)にすることができる。また、励磁回路28をオフ状態にした場合には、直流電源40から励磁回路28に電流が流れないので、励磁回路28の発熱を抑制することができる。これにより、電磁アクチュエータ22が高温になるのが抑制されるので、電磁アクチュエータ22の熱が放熱されにくい真空中においても電磁アクチュエータ22を使用することができる。   In the first embodiment, as described above, in the clamp release state, the excitation circuit 28 is turned on and a current flows, whereby a thrust in a direction against the urging force of the spring member 30 is applied to the electromagnetic actuator 22. The generated movable portion 25 is moved in the direction opposite to the clamping direction. In the clamped state, the exciting circuit 28 is turned off and no current flows, so that no thrust is generated in the electromagnetic actuator 22 and the spring member 30 is moved. Clamping is performed by urging the movable portion 25 in the direction of clamping by the urging force. Thereby, when the excitation circuit 28 is turned on, a thrust against the biasing force of the spring member 30 is generated in the electromagnetic actuator 22 and the movable part 25 moves away from the wafer 9, so that the wafer 9 can be easily clamped. It can be in a released state (unclamped state). Further, when the excitation circuit 28 is turned off, no current flows from the DC power supply 40 to the excitation circuit 28, so that the heat generation of the excitation circuit 28 can be suppressed. Thereby, since it is suppressed that the electromagnetic actuator 22 becomes high temperature, the electromagnetic actuator 22 can be used even in the vacuum where the heat of the electromagnetic actuator 22 is difficult to radiate.

また、第1実施形態では、上記のように、電磁アクチュエータ22を、平坦面状の励磁コイル27a〜27cと永久磁石29a〜29fとを含む扁平型のリニアモータにすることによって、薄型化を図ることができるので、真空中において使用される際に、真空処理装置200内へアクセスするための高さの小さい通路(ゲートバルブ12(12a)の開口部)を通過させることができる。   In the first embodiment, as described above, the electromagnetic actuator 22 is formed into a flat linear motor including flat surface excitation coils 27a to 27c and permanent magnets 29a to 29f, so that the thickness is reduced. Therefore, when used in a vacuum, a passage having a small height (opening of the gate valve 12 (12a)) for accessing the inside of the vacuum processing apparatus 200 can be passed.

(第1実施形態の変形例)
次に、図11を参照して、本発明の第1実施形態の変形例について説明する。この第1実施形態の変形例では、電磁アクチュエータ22の推力により、クランプ状態に移行する際の移動速度を低減するように構成した上記第1実施形態において、さらに、電磁アクチュエータの推力によりウエハのクランプ力をアシストする例について説明する。
(Modification of the first embodiment)
Next, a modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the modification of the first embodiment, in the first embodiment configured to reduce the moving speed when shifting to the clamp state by the thrust of the electromagnetic actuator 22, the wafer clamp is further performed by the thrust of the electromagnetic actuator. An example of assisting force will be described.

本発明の第1実施形態の変形例による電磁グリッパ101の励磁回路128は、図11に示すように、励磁コイル27a〜27cに順方向(矢印A方向)と、逆方向(矢印B方向)とに供給する電流の方向を切り替えることが可能な可変電源40aを含んでいる。なお、第1実施形態の変形例のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。   As shown in FIG. 11, the exciting circuit 128 of the electromagnetic gripper 101 according to the modification of the first embodiment of the present invention is applied to the exciting coils 27 a to 27 c in the forward direction (arrow A direction) and the reverse direction (arrow B direction). A variable power supply 40a that can switch the direction of the current supplied to the power supply is included. The remaining configuration of the modification of the first embodiment is the same as that of the first embodiment.

次に、この第1実施形態の変形例による電磁グリッパ101の励磁回路128の動作について説明する。   Next, the operation of the excitation circuit 128 of the electromagnetic gripper 101 according to the modification of the first embodiment will be described.

まず、上記した第1実施形態と同様、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に、励磁回路128がオン状態からオフ状態になった場合に、コンデンサ35に蓄電されていた電流を流すことにより、ばね部材30の矢印X1方向の付勢力を減少させる矢印X2方向の推力をアクチュエータ22に発生させることによって、可動部25が矢印X1方向に速度を減少された状態で移動する。そして、可動部25の可動爪26がウエハ9に小さい速度でゆっくりと接触するとともに、ウエハ9を固定爪20に対して押圧することにより、クランプ状態となる。ここで、第1実施形態の変形例では、図11に示すように、電磁アクチュエータ22は、クランプ状態で、励磁回路128に通常のオン状態とは逆方向(矢印B方向)に電流を流すことによって、ばね部材30の付勢力による可動部25のクランプ力をアシストする方向(矢印X1方向)の推力を発生させる。つまり、ウエハ9のクランプ状態で、励磁回路128に供給されている電流の方向を順方向(矢印A方向)から逆方向(矢印B方向)に切り替えることによって、電磁アクチュエータ22から矢印X1方向の推力が発生する。これにより、ばね部材30の矢印X1方向に向かって働く付勢力(クランプ力)を電磁アクチュエータ22から矢印X1方向に向かって働く推力によりアシストする(補う)ことが可能である。なお、第1実施形態の変形例のその他の動作は、上記第1実施形態と同様である。   First, as in the first embodiment described above, when the excitation circuit 128 changes from the on-state to the off-state when shifting from the clamp-released state to the clamped state, the current stored in the capacitor 35 is supplied. By causing the actuator 22 to generate a thrust force in the direction of the arrow X2 that reduces the urging force of the spring member 30 in the direction of the arrow X1, the movable portion 25 moves in a state where the speed is reduced in the direction of the arrow X1. Then, the movable claw 26 of the movable unit 25 slowly comes into contact with the wafer 9 at a small speed and presses the wafer 9 against the fixed claw 20 to be in a clamped state. Here, in the modification of the first embodiment, as shown in FIG. 11, the electromagnetic actuator 22 causes a current to flow in the excitation circuit 128 in the opposite direction (arrow B direction) to the excitation circuit 128 in the clamped state. Thus, thrust in the direction (arrow X1 direction) that assists the clamping force of the movable portion 25 by the biasing force of the spring member 30 is generated. That is, by switching the direction of the current supplied to the excitation circuit 128 from the forward direction (arrow A direction) to the reverse direction (arrow B direction) while the wafer 9 is clamped, the thrust from the electromagnetic actuator 22 in the arrow X1 direction. Occurs. Thereby, it is possible to assist (complement) the urging force (clamping force) acting toward the arrow X1 direction of the spring member 30 with the thrust acting from the electromagnetic actuator 22 toward the arrow X1 direction. Note that other operations of the modified example of the first embodiment are the same as those of the first embodiment.

第1実施形態の変形例では、上記のように、クランプ状態で、励磁回路28に逆方向の電流を流すことによって、ばね部材30の付勢力による可動部25のクランプ力をアシストする方向の推力を電磁アクチュエータ22が発生することによって、ばね部材30の付勢力が弱く、ウエハ9を十分にクランプできない場合に、ばね部材30の付勢力に電磁アクチュエータ22の推力をクランプ力として補うことができるので、ウエハ9を確実にクランプすることができる。   In the modification of the first embodiment, as described above, thrust in a direction that assists the clamping force of the movable portion 25 by the biasing force of the spring member 30 by flowing a current in the reverse direction through the excitation circuit 28 in the clamped state. When the biasing force of the spring member 30 is weak and the wafer 9 cannot be clamped sufficiently, the thrust of the electromagnetic actuator 22 can be supplemented with the biasing force of the spring member 30 as a clamping force. The wafer 9 can be securely clamped.

(第2実施形態)
次に、図12を参照して、本発明の第2実施形態について説明する。この第2実施形態では、コンデンサを含む励磁回路を電磁アクチュエータに適用した上記第1実施形態とは異なり、ダイオードを含む励磁回路を電磁アクチュエータに適用した例について説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the second embodiment, unlike the first embodiment in which an excitation circuit including a capacitor is applied to an electromagnetic actuator, an example in which an excitation circuit including a diode is applied to the electromagnetic actuator will be described.

この第2実施形態による電磁グリッパ102の励磁回路28aは、励磁コイル27a〜27cと、直流電源40と、バイパス回路281aと、スイッチ部41とを含んでいる。なお、バイパス回路281aは、1つのダイオード281bを含む。バイパス回路281aは、励磁回路28aのオン状態では、電流が流れずに、励磁回路28aをオフ状態にした際に発生する逆起電力による電流を流すために設けられている。また、直流電源40の+端子は、励磁コイル27aの一方端およびバイパス回路281aの一方端に接続されている。また、励磁コイル27aの他方端は、励磁コイル27bの一方端に接続されるとともに、励磁コイル27bの他方端は、励磁コイル27cの一方端に接続されている。また、励磁コイル27cの他方端およびバイパス回路281aの他方端は、スイッチ部41の一方端に接続されている。また、スイッチ部41の他方端は、直流電源40の−端子に接続されている。なお、第2実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。   The exciting circuit 28a of the electromagnetic gripper 102 according to the second embodiment includes exciting coils 27a to 27c, a DC power supply 40, a bypass circuit 281a, and a switch unit 41. The bypass circuit 281a includes one diode 281b. The bypass circuit 281a is provided to flow a current due to a counter electromotive force generated when the excitation circuit 28a is turned off without flowing a current when the excitation circuit 28a is turned on. The + terminal of the DC power supply 40 is connected to one end of the exciting coil 27a and one end of the bypass circuit 281a. The other end of the exciting coil 27a is connected to one end of the exciting coil 27b, and the other end of the exciting coil 27b is connected to one end of the exciting coil 27c. The other end of the exciting coil 27 c and the other end of the bypass circuit 281 a are connected to one end of the switch unit 41. The other end of the switch unit 41 is connected to the negative terminal of the DC power supply 40. In addition, the other structure of 2nd Embodiment is the same as that of the said 1st Embodiment.

次に、図4、図10、図12および図13を参照して、電磁グリッパ102の動作について説明する。   Next, the operation of the electromagnetic gripper 102 will be described with reference to FIGS. 4, 10, 12 and 13.

まず、ウエハ9のクランプ状態を解除する場合では、図12に示すように、スイッチ部41がオン状態(励磁回路28aがオン状態)となり、直流電源40の+端子側から励磁コイル27a〜27cに電流が供給される。このとき、ダイオード281bの整流作用によって、バイパス回路281aには、電流は流れない。また、励磁コイル27a〜27cに流れる電流と、永久磁石29a〜29fから発生する磁界との間に発生する推力(電磁力)により、可動部25は、ばね部材30の矢印X1方向の付勢力に打ち勝つようにして、矢印X2方向に移動する。そして、可動部25が矢印X2方向側のストッパ34bに当接することにより、可動部25の移動が停止するとともに、クランプ解除状態(図4参照)となる。   First, when the clamped state of the wafer 9 is released, as shown in FIG. 12, the switch unit 41 is turned on (the excitation circuit 28a is turned on), and the excitation coil 27a to 27c is switched from the + terminal side of the DC power supply 40. Current is supplied. At this time, no current flows through the bypass circuit 281a due to the rectification action of the diode 281b. In addition, the movable portion 25 is urged in the direction of the arrow X1 of the spring member 30 by the thrust (electromagnetic force) generated between the current flowing through the excitation coils 27a to 27c and the magnetic field generated from the permanent magnets 29a to 29f. It moves in the direction of arrow X2 so as to overcome. And when the movable part 25 contact | abuts to the stopper 34b of the arrow X2 direction side, while the movement of the movable part 25 stops, it will be in a clamp release state (refer FIG. 4).

次に、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する場合には、スイッチ部41がオフ状態(励磁回路28aがオフ状態)となり、直流電源40から励磁コイル27a〜27cへの電流供給が停止される。ここで、第2実施形態では、図13に示すように、電磁アクチュエータ22の励磁回路28aは、クランプ解除状態(ウエハ9をクランプしない状態)からクランプ状態(ウエハ9をクランプする状態)に移行する際に励磁回路28aをオン状態からオフ状態にする時に、励磁コイル27a〜27cに過渡的に発生する逆起電力による電流を、バイパス回路281aを介して流すことにより、励磁回路28aを流れる電流が徐々に減少する。   Next, when shifting from the clamp release state to the clamp state, the switch unit 41 is turned off (the excitation circuit 28a is turned off), and the current supply from the DC power supply 40 to the excitation coils 27a to 27c is stopped. Here, in the second embodiment, as shown in FIG. 13, the excitation circuit 28 a of the electromagnetic actuator 22 shifts from a clamp release state (a state where the wafer 9 is not clamped) to a clamp state (a state where the wafer 9 is clamped). When the excitation circuit 28a is switched from the ON state to the OFF state, a current caused by a back electromotive force transiently generated in the excitation coils 27a to 27c is caused to flow through the bypass circuit 281a, whereby the current flowing through the excitation circuit 28a is changed. Decrease gradually.

つまり、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する場合には、スイッチ部41がオフ状態(励磁回路28aがオフ状態)となり、直流電源40から励磁コイル27a〜27cへの電流供給が停止される。この際、固定部23の励磁コイル27a〜27cには、逆起電力が発生し、バイパス回路281aのダイオード281bを介して励磁コイル27a〜27cに電流が流れる。これにより、励磁コイル27a〜27cに流れる電流と、永久磁石29a〜29f(図4参照)から発生する磁界との間には、ばね部材30の付勢力よりも小さな付勢力とは反対方向(矢印X2方向)の推力(電磁力)が発生する。この矢印X2方向の推力(電磁力)によって、可動部25に作用するばね部材30による矢印X1方向への付勢力の一部が相殺されて小さくなるので、可動部25は、移動速度が低減された状態でゆっくりと矢印X1方向に移動するとともに、可動爪26がウエハ9に小さい速度でゆっくりと接触する。なお、矢印X2方向に発生する推力は、励磁コイル27a〜27cに流れる電流の減少に伴って徐々に小さくなるので、可動爪26を介してウエハ9に作用するばね部材30の矢印X1方向の付勢力(押圧力)は、徐々に大きくなる。このウエハ9に作用する矢印X1方向のばね部材30の付勢力の増大に伴ってウエハ9が矢印X1方向に移動を開始し、固定爪20と当接する。その後、逆起電力が発生しなくなると推力は発生しなくなり、ばね部材30の付勢力のみがウエハ9に作用して、クランプ状態となる。その後、クランプされたウエハ9は、図10に示すように、真空処理装置200の高さの小さいゲートバルブ12(12a)を通過して真空処理ユニット1〜4、または、ロードロック室6および7に搬送される。   That is, when shifting from the clamp release state to the clamp state, the switch unit 41 is turned off (the excitation circuit 28a is turned off), and current supply from the DC power supply 40 to the excitation coils 27a to 27c is stopped. At this time, back electromotive force is generated in the excitation coils 27a to 27c of the fixed portion 23, and current flows to the excitation coils 27a to 27c via the diode 281b of the bypass circuit 281a. Thereby, between the electric current which flows into excitation coil 27a-27c, and the magnetic field which generate | occur | produces from permanent magnet 29a-29f (refer FIG. 4), it is a direction (arrow) opposite to the urging | biasing force smaller than the urging | biasing force of the spring member 30. X2 direction) thrust (electromagnetic force) is generated. Due to the thrust (electromagnetic force) in the arrow X2 direction, a part of the urging force in the arrow X1 direction by the spring member 30 acting on the movable portion 25 is canceled and reduced, so that the moving speed of the movable portion 25 is reduced. The moving claw 26 is slowly moved in the direction of the arrow X1 in the state of being in contact with the wafer 9 at a low speed. The thrust generated in the direction of the arrow X2 gradually decreases as the current flowing through the exciting coils 27a to 27c decreases, so that the spring member 30 acting on the wafer 9 via the movable claw 26 is attached in the direction of the arrow X1. The force (pressing force) gradually increases. As the urging force of the spring member 30 in the arrow X1 direction acting on the wafer 9 increases, the wafer 9 starts moving in the arrow X1 direction and comes into contact with the fixed claw 20. Thereafter, when the back electromotive force is not generated, the thrust is not generated, and only the urging force of the spring member 30 acts on the wafer 9 to be in a clamped state. Thereafter, as shown in FIG. 10, the clamped wafer 9 passes through the gate valve 12 (12a) having a small height of the vacuum processing apparatus 200, or the vacuum processing units 1 to 4 or the load lock chambers 6 and 7 are placed. To be transported.

第2実施形態では、上記のように、励磁回路28aをオン状態からオフ状態にする時に、励磁コイル27a〜27cに過渡的に発生する逆起電力による電流を、バイパス回路281aを介して流すことにより、励磁回路28aを流れる電流を徐々に減少させることによって、励磁回路28aをオン状態からオフ状態にした際に、過渡的に発生する逆起電力による電流により、励磁コイル27a〜27cが可動部25の移動速度を低減する方向に推力を発生するので、可動部25の移動速度を低減しながら可動部25をウエハ9に対して徐々に接近させることができる。   In the second embodiment, as described above, when the excitation circuit 28a is switched from the on state to the off state, a current caused by the counter electromotive force transiently generated in the excitation coils 27a to 27c is caused to flow through the bypass circuit 281a. Thus, when the excitation circuit 28a is turned from the on state to the off state by gradually decreasing the current flowing through the excitation circuit 28a, the excitation coils 27a to 27c are moved by the current due to the back electromotive force that is transiently generated. Since the thrust is generated in the direction of reducing the moving speed of the moving part 25, the moving part 25 can gradually approach the wafer 9 while reducing the moving speed of the moving part 25.

(第3実施形態)
次に、図14を参照して、本発明の第3実施形態について説明する。この第3実施形態では、励磁回路の3つの励磁コイル27a〜27cを直列接続した上記第1実施形態とは異なり、励磁回路の3つの励磁コイル27a〜27cを並列接続した例について説明する。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the third embodiment, an example in which three excitation coils 27a to 27c of the excitation circuit are connected in parallel will be described, unlike the first embodiment in which the three excitation coils 27a to 27c of the excitation circuit are connected in series.

本発明の第3実施形態による電磁グリッパ103の励磁回路28bは、並列接続された3つの励磁コイル27a、27bおよび27cと、3つの励磁コイル27a、27bおよび27cに直流電流を供給するための直流電源40と、3つのスイッチ部41a、41bおよび41cとを含んでいる。   The exciting circuit 28b of the electromagnetic gripper 103 according to the third embodiment of the present invention includes three exciting coils 27a, 27b and 27c connected in parallel, and a direct current for supplying a direct current to the three exciting coils 27a, 27b and 27c. The power supply 40 and three switch parts 41a, 41b and 41c are included.

また、励磁コイル27a〜27cのそれぞれの一方端は、直流電源40の+端子に接続されている。また、スイッチ部41a〜41cの一方端は、それぞれ、励磁コイル27a〜27cの他方端に接続されている。また、スイッチ部41a〜41cの他方端は、直流電源40の他方端に接続されている。また、スイッチ部41a〜41cは、それぞれ、励磁コイル27a〜27cのオンオフ動作を制御するように構成されている。また、励磁コイル27a〜27cには、それぞれ別個に電流を供給可能に構成されているので、励磁コイル27a〜27cに別個に推力を発生させることが可能である。   In addition, one end of each of the exciting coils 27 a to 27 c is connected to the + terminal of the DC power supply 40. Further, one ends of the switch portions 41a to 41c are connected to the other ends of the exciting coils 27a to 27c, respectively. Further, the other ends of the switch units 41 a to 41 c are connected to the other end of the DC power supply 40. The switch units 41a to 41c are configured to control the on / off operation of the exciting coils 27a to 27c, respectively. Further, since the excitation coils 27a to 27c are configured to be able to supply currents separately, it is possible to generate thrust separately for the excitation coils 27a to 27c.

次に、図4、図14〜図17を参照して、電磁グリッパ103の動作について説明する。   Next, the operation of the electromagnetic gripper 103 will be described with reference to FIGS. 4 and 14 to 17.

まず、ウエハ9のクランプ状態を解除する場合には、図14に示すように、3つのスイッチ部41a〜41cがオン状態(励磁回路28bがオン状態)となり、直流電源40から3つの励磁コイル27a〜27cにそれぞれ電流が供給される。このとき、励磁コイル27a〜27cに流れる電流と、永久磁石29a〜29fから発生する磁界との間に発生する推力(電磁力)により、可動部25は、ばね部材30の矢印X1方向の付勢力に打ち勝つようにして、矢印X2方向に移動する。そして、可動部25が矢印X2方向側のストッパ34bに当接することにより、可動部25の移動が停止するとともに、クランプ解除状態(図4参照)となる。   First, when the clamped state of the wafer 9 is released, as shown in FIG. 14, the three switch parts 41a to 41c are turned on (the exciting circuit 28b is turned on), and the three exciting coils 27a are supplied from the DC power supply 40. Current is supplied to .about.27c. At this time, the movable portion 25 urges the spring member 30 in the direction of the arrow X1 by the thrust (electromagnetic force) generated between the current flowing through the excitation coils 27a to 27c and the magnetic field generated from the permanent magnets 29a to 29f. And move in the direction of the arrow X2. And when the movable part 25 contact | abuts to the stopper 34b of the arrow X2 direction side, while the movement of the movable part 25 stops, it will be in a clamp release state (refer FIG. 4).

次に、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する場合には、第3実施形態では、図15〜図17に示すように、励磁コイル27a〜27cが順次オフするようにスイッチ部41a〜41cを制御することにより、励磁回路28bを流れる電流を徐々に減少させる。この際、スイッチ部41a〜41cを1個ずつ所定の時間差でオフ状態にする。このオフ状態にする時間差(電流が流れる励磁コイル27a〜27cの数を減少させていく際の各段階の励磁コイル27a〜27cへの通電時間)は、任意に調整(制御)可能である。   Next, when shifting from the clamp release state to the clamp state, in the third embodiment, as shown in FIGS. 15 to 17, the switch units 41 a to 41 c are controlled so that the excitation coils 27 a to 27 c are sequentially turned off. As a result, the current flowing through the excitation circuit 28b is gradually reduced. At this time, the switch units 41a to 41c are turned off one by one with a predetermined time difference. The time difference (the energization time of the exciting coils 27a to 27c at each stage when the number of exciting coils 27a to 27c through which current flows) is reduced can be arbitrarily adjusted (controlled).

つまり、ウエハ9をクランプ解除状態からクランプ状態に移行する場合では、図15に示すように、最初に、スイッチ部41aがオフ状態となり、直流電源40から励磁コイル27aへの電流供給が停止する。このとき、励磁コイル27aと、励磁コイル27aに対応する永久磁石29aおよび29bから発生する磁界との間の推力(電磁力)が発生しなくなる。これにより、可動部25は、ばね部材30の矢印X1方向の付勢力により、ばね部材30の付勢力と、推力とがつりあう位置まで矢印X1方向に移動する。なお、1個の励磁コイルをオフ状態にした場合に、ばね部材30の付勢力が大きい際には、可動部25は、矢印X1方向に移動し始めるが、ばね部材30の伸びに合わせて付勢力も弱くなるため、可動部25の移動動作が止まるか、または、速度が遅くなる。   That is, when the wafer 9 is shifted from the clamp released state to the clamped state, as shown in FIG. 15, first, the switch portion 41a is turned off, and the current supply from the DC power supply 40 to the exciting coil 27a is stopped. At this time, thrust (electromagnetic force) between the exciting coil 27a and the magnetic field generated from the permanent magnets 29a and 29b corresponding to the exciting coil 27a is not generated. Thereby, the movable part 25 moves to the arrow X1 direction to the position where the urging | biasing force of the spring member 30 and a thrust balance with the urging | biasing force of the arrow X1 direction of the spring member 30. FIG. When one exciting coil is turned off and the urging force of the spring member 30 is large, the movable portion 25 starts to move in the direction of the arrow X1, but is attached in accordance with the extension of the spring member 30. Since the power also becomes weak, the moving operation of the movable portion 25 stops or the speed becomes slow.

次に、図16に示すように、スイッチ部41bもオフ状態となり、直流電源40から励磁コイル27bへの電流供給が停止する。このとき、励磁コイル27bと、励磁コイル27bに対応する永久磁石29cおよび29dから発生する磁界との間の推力(電磁力)が発生しなくなる。これにより、可動部25は、ばね部材30の矢印X1方向の付勢力により、矢印X1方向にさらに移動するとともに、可動部25の可動爪26がウエハ9に接触する。このとき、ばね部材30の付勢力と、矢印X2方向の推力との差分が、ウエハ9を矢印X2方向へ押圧する力(押圧力)となる。   Next, as shown in FIG. 16, the switch unit 41b is also turned off, and the current supply from the DC power supply 40 to the exciting coil 27b is stopped. At this time, thrust (electromagnetic force) between the exciting coil 27b and the magnetic field generated from the permanent magnets 29c and 29d corresponding to the exciting coil 27b is not generated. Accordingly, the movable portion 25 is further moved in the arrow X1 direction by the biasing force of the spring member 30 in the arrow X1 direction, and the movable claw 26 of the movable portion 25 contacts the wafer 9. At this time, the difference between the urging force of the spring member 30 and the thrust in the arrow X2 direction becomes a force (pressing force) for pressing the wafer 9 in the arrow X2 direction.

最後に、図17に示すように、スイッチ部41cがオフ状態となり、直流電源40から励磁コイル27cへの電流供給が停止する。つまり、3つのスイッチ部41a〜41cの全てがオフ状態となる。このとき、励磁コイル27cと、励磁コイル27cに対応する永久磁石29eおよび29fから発生する磁界との間の推力(電磁力)が発生しなくなる。これにより、ウエハ9に作用する矢印X1方向のばね部材30の付勢力の増大に伴ってウエハ9が矢印X1方向に移動を開始し、固定爪20と当接する。その後、ばね部材30の付勢力のみがウエハ9に作用して、クランプ状態となる。なお、1つのスイッチ部41a、または、2つのスイッチ部41aおよび41bがオフ状態になった際に、可動部25の可動爪26がウエハ9に接触していてもよい。このように、スイッチ部41a〜41cを順次(段階的に)オフすることにより、可動部25を矢印X1方向に徐々に段階的に移動させることが可能である。なお、上記第1実施形態の変形例に示したように、直流電源40を可変電源40aに置き換えて、ウエハ9のクランプ時に逆方向の電流を励磁コイル27a〜27cに供給することにより、ウエハ9のクランプ時のクランプ力をアシストすることも可能である。   Finally, as shown in FIG. 17, the switch unit 41c is turned off, and the current supply from the DC power supply 40 to the exciting coil 27c is stopped. That is, all the three switch parts 41a-41c will be in an OFF state. At this time, thrust (electromagnetic force) between the exciting coil 27c and the magnetic field generated from the permanent magnets 29e and 29f corresponding to the exciting coil 27c is not generated. As a result, the wafer 9 starts moving in the direction of the arrow X1 as the biasing force of the spring member 30 in the direction of the arrow X1 acting on the wafer 9 increases, and comes into contact with the fixed claw 20. Thereafter, only the urging force of the spring member 30 acts on the wafer 9 to be in a clamped state. Note that the movable claw 26 of the movable unit 25 may be in contact with the wafer 9 when one switch unit 41a or the two switch units 41a and 41b are turned off. Thus, by sequentially turning off the switch portions 41a to 41c (stepwise), the movable portion 25 can be gradually moved stepwise in the arrow X1 direction. As shown in the modification of the first embodiment, the DC power source 40 is replaced with the variable power source 40a, and a current in the reverse direction is supplied to the exciting coils 27a to 27c when the wafer 9 is clamped. It is also possible to assist the clamping force at the time of clamping.

第3実施形態では、上記のように、励磁回路28bをオン状態からオフ状態にする時に、励磁コイル27a〜27cが順次オフするように3つのスイッチ部41a〜41cを制御することにより、励磁回路28bを流れる電流を徐々に減少させることによって、3つのスイッチ部41a〜41cを順次オフすることにより、段階的に電流が流れる励磁コイル27a〜27cの数を減少させることができるので、段階的に可動部25をウエハ9に対して接近させることができる。また、励磁コイル27a〜27cを順次オフして電流が流れる励磁コイル27a〜27cの数を減少させていく際の各段階の励磁コイル27a〜27cへの通電時間を制御することによって、より適切に可動部25の移動速度の低減度合いを制御することができる。   In the third embodiment, as described above, when the excitation circuit 28b is changed from the on state to the off state, the excitation circuits 27a to 27c are sequentially turned off so as to sequentially turn off the three switch units 41a to 41c. By gradually decreasing the current flowing through 28b, the number of exciting coils 27a-27c through which current flows stepwise can be reduced by sequentially turning off the three switch portions 41a-41c. The movable part 25 can be brought close to the wafer 9. In addition, it is possible to more appropriately control the energization time of the excitation coils 27a to 27c at each stage when the excitation coils 27a to 27c are sequentially turned off to reduce the number of excitation coils 27a to 27c through which current flows. The degree of reduction in the moving speed of the movable portion 25 can be controlled.

(第4実施形態)
次に、図18を参照して、本発明の第4実施形態について説明する。この第4実施形態では、電磁アクチュエータを励磁するために直流電源およびスイッチ部により構成した上記第1実施形態とは異なり、電磁アクチュエータを励磁するために電流制御回路50により励磁オフ時に電流のコントロールを行い、徐々に励磁コイルに流れる電流をオフする例について説明する。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the fourth embodiment, unlike the first embodiment in which the DC power source and the switch unit are configured to excite the electromagnetic actuator, the current control circuit 50 controls the current when the excitation is turned off in order to excite the electromagnetic actuator. An example in which the current flowing through the exciting coil is gradually turned off will be described.

この第4実施形態による電磁グリッパ104の励磁回路28cは、励磁コイル27a〜27cと、電流制御回路50とを含んでいる。励磁コイル27aの他方端は、励磁コイル27bの一方端に接続されるとともに、励磁コイル27bの他方端は、励磁コイル27cの一方端に接続されている。また、励磁コイル27aの一方端と、励磁コイル27cの他方端との間には、電流制御回路50が設けられ、電流制御回路50は、励磁コイル27a〜27cの励磁電流量をコントロールしている。この電流制御回路50は、マイコン制御で動作するものであり、内臓されているプログラムにより励磁回路オン/オフ信号を受信することによって、所望の電流パターンを出力する回路である。なお、第4実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。   The exciting circuit 28c of the electromagnetic gripper 104 according to the fourth embodiment includes exciting coils 27a to 27c and a current control circuit 50. The other end of the excitation coil 27a is connected to one end of the excitation coil 27b, and the other end of the excitation coil 27b is connected to one end of the excitation coil 27c. A current control circuit 50 is provided between one end of the excitation coil 27a and the other end of the excitation coil 27c, and the current control circuit 50 controls the amount of excitation current of the excitation coils 27a to 27c. . The current control circuit 50 operates under microcomputer control, and outputs a desired current pattern by receiving an excitation circuit on / off signal by a built-in program. In addition, the other structure of 4th Embodiment is the same as that of the said 1st Embodiment.

次に、図4、図10、図18および図19を参照して、電磁グリッパ104の動作について説明する。   Next, the operation of the electromagnetic gripper 104 will be described with reference to FIGS. 4, 10, 18 and 19.

まず、ウエハ9のクランプ状態を解除する場合では、図18において励磁オン信号を受信することにより電流制御回路50から矢印方向(時計回り方向)に所定の電流が流れ、励磁コイル27a〜27cに電流が供給される。励磁コイル27a〜27cに流れる電流と、永久磁石29a〜29f(図4参照)から発生する磁界との間に発生する推力(電磁力)により、可動部25は、ばね部材30の矢印X1方向の付勢力に打ち勝つようにして、矢印X2方向に移動する。そして、可動部25が矢印X2方向側のストッパ34bに当接することにより、可動部25の移動が停止するとともに、クランプ解除状態(図4参照)となる。   First, when the clamped state of the wafer 9 is released, a predetermined current flows in the arrow direction (clockwise direction) from the current control circuit 50 by receiving the excitation-on signal in FIG. 18, and the current flows in the excitation coils 27a to 27c. Is supplied. Due to the thrust (electromagnetic force) generated between the current flowing through the exciting coils 27a to 27c and the magnetic field generated from the permanent magnets 29a to 29f (see FIG. 4), the movable portion 25 is moved in the direction of the arrow X1 of the spring member 30. It moves in the direction of the arrow X2 so as to overcome the urging force. And when the movable part 25 contact | abuts to the stopper 34b of the arrow X2 direction side, while the movement of the movable part 25 stops, it will be in a clamp release state (refer FIG. 4).

次に、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する場合には、電流制御回路50は、励磁オフ信号を受信することにより励磁コイル27a〜27cへの電流供給を停止する。ここで、第4実施形態では、電流制御回路50からの電流供給を即座(瞬時)に停止するのではなく、図19に示すように、励磁電流を時間が経過するのに伴って徐々に減少させるように、電流制御回路50を予め構成する。   Next, when shifting from the clamp release state to the clamp state, the current control circuit 50 stops the current supply to the excitation coils 27a to 27c by receiving the excitation off signal. Here, in the fourth embodiment, the current supply from the current control circuit 50 is not stopped immediately (instantly), but the excitation current gradually decreases with time as shown in FIG. Therefore, the current control circuit 50 is configured in advance.

つまり、クランプ解除状態からクランプ状態に移行する場合には、励磁コイル27a〜27cに流れる電流が徐々に減少するので、永久磁石29a〜29f(図4参照)により発生するばね部材30の付勢力に対抗する矢印X2方向の力は徐々に弱くなる。そのため可動部25は、移動速度が低減された状態でゆっくりと矢印X1方向に移動するとともに、可動爪26がウエハ9に小さい速度でゆっくりと接触する。励磁電流がなくなると推力は発生しなくなり、ばね部材30の付勢力のみがウエハ9に作用して、クランプ状態となる。その後、クランプされたウエハ9は、図10に示すように、真空処理装置200の高さの小さいゲートバルブ12(12a)を通過して真空処理ユニット1〜4、または、ロードロック室6および7に搬送される。   That is, when shifting from the clamp release state to the clamp state, the current flowing through the excitation coils 27a to 27c gradually decreases, and therefore the biasing force of the spring member 30 generated by the permanent magnets 29a to 29f (see FIG. 4) is reduced. The opposing force in the direction of arrow X2 gradually weakens. Therefore, the movable portion 25 moves slowly in the direction of the arrow X1 with the movement speed reduced, and the movable claw 26 slowly contacts the wafer 9 at a low speed. When the exciting current disappears, no thrust is generated, and only the urging force of the spring member 30 acts on the wafer 9 to enter a clamped state. Thereafter, as shown in FIG. 10, the clamped wafer 9 passes through the gate valve 12 (12a) having a small height of the vacuum processing apparatus 200, or the vacuum processing units 1 to 4 or the load lock chambers 6 and 7 are placed. To be transported.

第4実施形態では、上記のように、励磁電流のオフ時に電流制御回路50を用いることにより励磁電流を徐々に低減させることによって、ばね部材30の付勢力に対抗する力を徐々に低減させることができる。これにより、可動部25の移動速度を低減させることができるので、可動部25をウエハ9に対して徐々に接近させることができる。   In the fourth embodiment, as described above, the force against the biasing force of the spring member 30 is gradually reduced by gradually reducing the excitation current by using the current control circuit 50 when the excitation current is off. Can do. Thereby, since the moving speed of the movable part 25 can be reduced, the movable part 25 can be gradually approached to the wafer 9.

なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above description of the embodiments but by the scope of claims for patent, and further includes all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims for patent.

たとえば、上記第1〜第4実施形態では、本発明の薄板状物の一例として、半導体用のウエハを示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、薄板状物であれば半導体用のウエハ以外のガラス基板などの他の薄板状物でも適用可能である。   For example, in the first to fourth embodiments, the semiconductor wafer is shown as an example of the thin plate-like material of the present invention, but the present invention is not limited to this. For example, as long as it is a thin plate, other thin plate such as a glass substrate other than a semiconductor wafer can be applied.

また、上記第1〜第4実施形態では、電磁グリッパをマルチチャンバタイプの真空処理装置内において使用する例を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、電磁グリッパを大気圧下において使用する処理装置において使用してもよい。   Moreover, although the example which uses an electromagnetic gripper in a multi-chamber type vacuum processing apparatus was shown in the said 1st-4th embodiment, this invention is not limited to this. For example, you may use in the processing apparatus which uses an electromagnetic gripper under atmospheric pressure.

また、上記第1〜第4実施形態では、励磁回路にコンデンサ、ダイオードまたはスイッチ部を設ける例を示したが、本発明はこれに限らない。本発明では、電磁アクチュエータがクランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に、ばね部材のクランプ方向への付勢力による可動部の移動速度を低減する方向に推力を発生させるものであれば、励磁回路にコンデンサ、ダイオードまたはスイッチ部以外の素子や回路を設けてもよい。   In the first to fourth embodiments, an example in which a capacitor, a diode, or a switch unit is provided in the excitation circuit has been described. However, the present invention is not limited to this. In the present invention, when the electromagnetic actuator shifts from the clamp release state to the clamp state, an excitation circuit can be used as long as it generates thrust in a direction that reduces the moving speed of the movable part due to the biasing force of the spring member in the clamp direction. An element or a circuit other than a capacitor, a diode, or a switch unit may be provided in the circuit.

また、上記第1〜第4実施形態では、2つのばね部材を用いて付勢力が発生するように構成する例を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、ばね部材を1つまたは3つ以上用いて付勢力が発生するように構成してもよい。   Moreover, although the said 1st-4th embodiment showed the example comprised so that urging | biasing force might generate | occur | produce using two spring members, this invention is not limited to this. For example, the biasing force may be generated using one or three or more spring members.

また、上記第1〜第4実施形態では、固定部を3つの励磁コイルにより構成する例を示したが本発明はこれに限らない。たとえば、固定部を2つ以下または4つ以上の励磁コイルにより構成してもよい。   Moreover, although the example which comprises a fixing | fixed part with three exciting coils was shown in the said 1st-4th embodiment, this invention is not limited to this. For example, you may comprise a fixing | fixed part with two or less or four or more exciting coils.

9 ウエハ(薄板状物)
22 電磁アクチュエータ
24 クランプ部
25 可動部
27a、27b、27c 励磁コイル
28、28a、28b、28c、128 励磁回路
30 ばね部材
35 コンデンサ
41a、41b、41c スイッチ部
100、101、102、103、104 電磁グリッパ(把持装置)
281a バイパス回路
281b ダイオード
9 Wafer (thin plate)
22 Electromagnetic actuator 24 Clamping part 25 Movable part 27a, 27b, 27c Excitation coil 28, 28a, 28b, 28c, 128 Excitation circuit 30 Spring member 35 Capacitor 41a, 41b, 41c Switch part 100, 101, 102, 103, 104 Electromagnetic gripper (Gripping device)
281a Bypass circuit 281b Diode

Claims (7)

薄板状物をクランプする方向に移動する可動部を含むクランプ部と、
前記クランプ部の可動部をクランプする方向に常時付勢するばね部材と、
少なくともクランプ解除状態からクランプ状態に移行する際に推力を発生させる電磁アクチュエータとを備え、
前記電磁アクチュエータは、前記クランプ解除状態から前記クランプ状態に移行する際に、前記ばね部材のクランプ方向への付勢力による前記可動部の移動速度を低減する方向に推力を発生させる平坦面状の励磁コイルと、前記平坦面状の励磁コイルに対向するように設けられる永久磁石とを有する励磁回路を含む扁平型に構成され
前記ばね部材は、前記扁平型の電磁アクチュエータの両側に設けられる第1ばね部材および第2ばね部材を含み、
前記電磁アクチュエータは、前記クランプ解除状態から前記クランプ状態に移行する際に前記励磁回路をオン状態からオフ状態にする時に、前記電磁アクチュエータの推力が前記ばね部材の伸長に伴って徐々に減少する付勢力よりも小さくなるように前記励磁回路を流れる電流が徐々に減少されることにより、前記ばね部材の付勢力による可動部の移動速度を低減する方向に推力を発生させるように構成されている、把持装置。
A clamp part including a movable part that moves in the direction of clamping the thin plate-like object;
A spring member that constantly urges the movable part of the clamp part in a clamping direction;
An electromagnetic actuator that generates a thrust when shifting from the clamp release state to the clamp state,
Wherein the electromagnetic actuator, when moving from the unclamping state to the clamping state, the spring member in a direction to the excitation of the flat surface shape that generates a thrust to reduce the moving speed of the movable portion by the urging force of the clamping direction a coil, the excitation circuit and a permanent magnet provided so as to face the flat surface shape of the exciting coil is configured including flat,
The spring member includes a first spring member and a second spring member provided on both sides of the flat electromagnetic actuator,
In the electromagnetic actuator, when the excitation circuit is changed from the ON state to the OFF state when the clamp circuit is shifted from the clamp release state to the clamp state, the thrust of the electromagnetic actuator gradually decreases as the spring member extends. The current flowing through the excitation circuit is gradually reduced so as to be smaller than the force, and is configured to generate a thrust in a direction to reduce the moving speed of the movable part due to the biasing force of the spring member. Gripping device.
前記励磁回路は、前記励磁回路の電流を蓄電するコンデンサを含み、
前記励磁回路をオン状態からオフ状態にする時に、前記コンデンサに蓄電された電流を流すことにより、前記励磁回路を流れる電流が徐々に減少するように構成されている、請求項1に記載の把持装置。
The excitation circuit includes a capacitor for storing the current of the excitation circuit,
2. The grip according to claim 1, wherein when the excitation circuit is switched from an on state to an off state, the current flowing through the excitation circuit is gradually decreased by flowing a current stored in the capacitor. apparatus.
前記励磁回路は、オン時には電流が流れずにオフ時の逆起電力発生時に電流を流すためのダイオードを含むバイパス回路を含み、
前記励磁回路をオン状態からオフ状態にする時に、前記励磁コイルに過渡的に発生する逆起電力による電流を、前記バイパス回路を介して流すことにより、前記励磁回路を流れる電流が徐々に減少するように構成されている、請求項1に記載の把持装置。
The excitation circuit includes a bypass circuit including a diode for causing a current to flow when a counter electromotive force is generated when the current is not flown when the switch is turned on,
When the excitation circuit is switched from an on state to an off state, a current caused by a back electromotive force generated transiently in the excitation coil is caused to flow through the bypass circuit, whereby the current flowing through the excitation circuit gradually decreases. The gripping device according to claim 1, configured as described above.
前記励磁回路は、複数の前記励磁コイルと、前記複数の励磁コイルのそれぞれに対応するように設けられ、前記複数の励磁コイルのオンオフ動作を制御する複数のスイッチ部とを含み、
前記励磁回路をオン状態からオフ状態にする時に、前記複数の励磁コイルが順次オフするように前記複数のスイッチ部を制御することにより、前記励磁回路を流れる電流が徐々に減少するように構成されている、請求項1に記載の把持装置。
The excitation circuit includes a plurality of the excitation coils, and a plurality of switch units that are provided so as to correspond to the plurality of excitation coils, and that control on / off operations of the plurality of excitation coils,
When switching the excitation circuit from the on state to the off state, the plurality of excitation coils are sequentially turned off to control the plurality of switch units so that the current flowing through the excitation circuit gradually decreases. The gripping device according to claim 1.
前記クランプ部および前記電磁アクチュエータは、真空中において使用され、
前記電磁アクチュエータは、前記クランプ解除状態から前記クランプ状態に移行する際に加えて、前記クランプ解除状態でも推力を発生するように構成されており、
前記クランプ解除状態では、前記励磁回路がオン状態にされて電流が流されることにより前記ばね部材の付勢力に抗する方向の推力が前記電磁アクチュエータに発生されて前記可動部がクランプ方向とは逆方向に移動されるとともに、前記クランプ状態では、前記励磁回路がオフ状態にされて電流が流れないことにより前記電磁アクチュエータに推力が発生されないとともに前記ばね部材の付勢力により前記可動部がクランプする方向に付勢されることによりクランプが行われるように構成されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の把持装置。
The clamp part and the electromagnetic actuator are used in a vacuum,
The electromagnetic actuator is configured to generate thrust in the clamp release state in addition to the transition from the clamp release state to the clamp state,
In the clamp release state, the excitation circuit is turned on and a current flows, whereby a thrust in a direction against the urging force of the spring member is generated in the electromagnetic actuator, and the movable part is opposite to the clamp direction. In the clamped state, the exciting circuit is turned off and no current flows, so that no thrust is generated in the electromagnetic actuator and the movable part is clamped by the biasing force of the spring member. The gripping device according to any one of claims 1 to 4, wherein the gripping device is configured to be clamped by being biased.
前記電磁アクチュエータの励磁回路は、流れる電流の方向を変更可能なように構成されており、
前記クランプ状態で、前記励磁回路のオン時とは逆方向に電流を流すことによって、前記ばね部材の付勢力による前記可動部のクランプ力をアシストする方向の推力を前記電磁アクチュエータに発生させるように構成されている、請求項1〜5のいずれか1項に記載の把持装置。
The excitation circuit of the electromagnetic actuator is configured to be able to change the direction of the flowing current,
In the clamped state, by causing a current to flow in a direction opposite to that when the excitation circuit is turned on, the electromagnetic actuator is caused to generate a thrust force in a direction that assists the clamping force of the movable part by the biasing force of the spring member. The gripping device according to any one of claims 1 to 5, wherein the gripping device is configured.
前記電磁アクチュエータは、扁平型のリニアモータを含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の把持装置。   The gripping apparatus according to claim 1, wherein the electromagnetic actuator includes a flat linear motor.
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