JP5497304B2 - Tomography equipment - Google Patents

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Description

本発明は、被検体内にある放射性同位元素から放出される放射線、又は被検体を透過する放射線を検出することにより、断層撮影を行う断層撮影装置に関する。   The present invention relates to a tomography apparatus that performs tomography by detecting radiation emitted from a radioisotope in a subject or radiation transmitted through a subject.

近年、生体(被検体)の内部の情報を得るために断層撮影装置が広く用いられるようになってきた。断層撮影装置としては、X線コンピュータ断層撮影(X線CT)装置、磁気共鳴映像装置、SPECT(single photon emission CT)装置、ポジトロン断層撮影(PET)装置が挙げられる。X線CT装置は、生体のある断面に多方向から幅の狭いX線ビームを曝射し、透過したX線を検出してその断面内でのX線の吸収の度合いの空間分布をコンピュータで計算し画像化している。このようにして、生体内部の形態的な異常、例えば出血巣を把握できる(例えば、特許文献1、2参照)。   In recent years, tomographic apparatuses have been widely used to obtain information inside a living body (subject). Examples of the tomography apparatus include an X-ray computed tomography (X-ray CT) apparatus, a magnetic resonance imaging apparatus, a SPECT (single photon emission CT) apparatus, and a positron tomography (PET) apparatus. An X-ray CT apparatus irradiates a cross section of a living body with a narrow X-ray beam from multiple directions, detects transmitted X-rays, and calculates the spatial distribution of the degree of X-ray absorption in the cross section by a computer. Calculated and imaged. In this way, morphological abnormalities inside the living body, such as bleeding foci, can be grasped (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

また、PET装置は被検体内の機能情報の精密情報が得られるため、近年、さかんに開発が進められている。PET装置を用いた診断方法は、まず、ポジトロン核種で標識された検査用薬剤を、注射や吸入等により被検体の内部に導入する。被検体内に導入された検査用薬剤は、検査用薬剤に応じた機能を有する特定の部位に蓄積される。例えば、糖類の検査用薬剤を用いた場合、ガン細胞等の新陳代謝の盛んな部位に選択的に蓄積される。このとき、検査用薬剤のポジトロン核種から陽電子が放出され、放出された陽電子と周囲の電子とが結合して消滅する際に2つのガンマ線(いわゆる消滅ガンマ線)が互いに約180度の方向に放出される。そこで、この2つのガンマ線を被検体の周りに配置した放射線検出器によりコインシデンス検出し、コンピュータ等で画像を再生成することにより被検体における放射性同位元素の分布画像データを取得する。このようにPET装置では被検体の体内の機能情報が得られるため、様々な難病の病理解明が可能である。
(例えば、特許文献3参照)。
In addition, since the PET apparatus can obtain precise information on the function information in the subject, development has been proceeding in recent years. In a diagnostic method using a PET apparatus, first, a test drug labeled with a positron nuclide is introduced into a subject by injection or inhalation. The test drug introduced into the subject is accumulated in a specific part having a function corresponding to the test drug. For example, when a saccharide test drug is used, it is selectively accumulated at sites with high metabolism such as cancer cells. At this time, positrons are emitted from the positron nuclide of the test agent, and when the emitted positrons and surrounding electrons are combined and annihilated, two gamma rays (so-called annihilation gamma rays) are emitted in a direction of about 180 degrees from each other. The Therefore, coincidence detection is performed with a radiation detector arranged around the subject, and the image is regenerated by a computer or the like, thereby obtaining radioisotope distribution image data in the subject. As described above, since the function information in the body of the subject can be obtained with the PET apparatus, the pathology of various intractable diseases can be elucidated.
(For example, refer to Patent Document 3).

特開2005−253572号公報JP 2005-253572 A 特開2006−225号公報JP 2006-225 A 特開2006−119095号公報JP 2006-119095 A

ところで、放射線を検出する検出器の配置に位置ずれがあると、この位置ずれによる誤差がコンピュータ等で再生成される画像に含まれてしまい、再生成された画像の精度や分解能が劣化する。   By the way, if there is a positional shift in the arrangement of the detectors that detect radiation, an error due to this positional shift is included in an image regenerated by a computer or the like, and the accuracy and resolution of the regenerated image deteriorate.

分解能が比較的低い場合は、検出器の配置に位置ずれが含まれていても最終的に再生成される画像に与える影響は問題になりにくいが、装置性能の向上に伴って分解能が高くなるに連れ、検出器の位置ずれが画像に与える影響は増大する。   When the resolution is relatively low, the effect on the finally regenerated image is unlikely to be a problem even if the detector arrangement includes misalignment, but the resolution increases as the device performance improves. As a result, the influence of the displacement of the detector on the image increases.

そこで、本発明は、検出器の検出データに対して検出器の位置ずれに基づく補正を行うことにより、再生成される画像の精度や分解能を向上させた断層撮影装置を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a tomography apparatus in which the accuracy and resolution of a regenerated image is improved by performing correction based on the positional deviation of the detector with respect to detection data of the detector. To do.

本発明の一局面の断層撮影装置は、被検体設置領域の周囲の基台上に配設され、被検体から放出される放射線、又は被検体を透過する放射線を検出する複数の検出器と、前記検出器の設置位置ずれを用いて前記検出器の検出結果に含まれる位置情報を補正する補正部と、前記補正部で補正された検出結果に基づき画像を再生成する再生成部とを含み、前記再生成部は、前記検出結果をピクセル状に配列したデータを再生成することによって前記画像を再生成するように構成されており、前記補正部は、前記設置位置ずれに応じて前記ピクセルをサブピクセルに分割し、前記サブピクセル内の値の平均値を前記ピクセル内の値とすることにより、前記検出器の検出結果に含まれる位置情報を補正するA tomography apparatus according to one aspect of the present invention is provided on a base around a subject installation region, and a plurality of detectors that detect radiation emitted from the subject or radiation that passes through the subject; A correction unit that corrects position information included in the detection result of the detector by using the installation position deviation of the detector; and a regeneration unit that regenerates an image based on the detection result corrected by the correction unit. The regenerating unit is configured to regenerate the image by regenerating data in which the detection results are arranged in a pixel shape, and the correcting unit is configured to regenerate the image according to the installation position deviation. The pixel is divided into sub-pixels, and the average value of the values in the sub-pixels is used as the value in the pixels, thereby correcting the position information included in the detection result of the detector .

また、前記再生成部は、ピクセル状に配列したデータとしてサイノグラムを用いてもよい。   Further, the regeneration unit may use a sinogram as data arranged in a pixel shape.

また、前記補正部は、前記検出器の設置位置ずれと前記検出器に含まれる検出素子の幅との比を用いて前記検出器の検出結果に含まれる位置情報を補正してもよい。 The correction unit may correct the position information included in the detection result of the detector using a ratio between the displacement of the installation position of the detector and the width of the detection element included in the detector.

本発明によれば、検出器の検出データに対して検出器の位置ずれに基づく補正を行うことにより、再生成される画像の精度や分解能を向上させた断層撮影装置を提供できるという特有の効果が得られる。   According to the present invention, it is possible to provide a tomographic apparatus in which the accuracy and resolution of a regenerated image can be improved by correcting the detection data of the detector based on the positional deviation of the detector. Is obtained.

以下、本発明の断層撮影装置を適用した実施の形態について説明する。   Embodiments to which the tomography apparatus of the present invention is applied will be described below.

本発明の断層撮影装置は、断層撮影装置として一般な、X線コンピュータ断層撮影(X線CT)装置、磁気共鳴映像装置、SPECT(Single Photon Emission CT:単一光子放射形コンピュータ断層撮影)装置、及びポジトロン断層撮影(PET)装置のすべてに適用が可能であるが、ここでは、特に分解能の高い半導体素子を用いたPET装置に適用した実施の形態について説明を行う。   The tomography apparatus of the present invention is an X-ray computed tomography (X-ray CT) apparatus, magnetic resonance imaging apparatus, SPECT (Single Photon Emission CT) apparatus, which is a general tomography apparatus, The present invention can be applied to all positron tomography (PET) apparatuses. Here, an embodiment applied to a PET apparatus using a semiconductor element having a particularly high resolution will be described.

図1は、実施の形態のPET装置の構成を示すブロック図である。   FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of a PET apparatus according to an embodiment.

本実施の形態のPET装置10は、平面視で被検体Sを360度囲むように被検体Sの周囲に配置され、ガンマ線を検出する放射線検出器11と、放射線検出器11で検出される検出データを処理し、得られた被検体Sの体内のポジトロン核種RIの位置の画像データを再生成する情報処理部12と、画像データを表示等する表示部13と、被検体Sや放射線検出器11の移動等の制御を行う制御部14と、情報処理部12や制御部14に指示を送る端末や画像データを出力するプリンタ等を含む入出力部15と、放射線検出器11の位置データを格納する位置データ格納部100とを含む。   The PET apparatus 10 of the present embodiment is arranged around the subject S so as to surround the subject S 360 degrees in plan view, and detects the gamma rays detected by the radiation detector 11 and the radiation detector 11. An information processing unit 12 that processes data and regenerates image data of the position of the positron nuclide RI in the body of the subject S, a display unit 13 that displays image data, and the like, a subject S and a radiation detector 11, a control unit 14 that controls movement of the control unit 11, an input / output unit 15 that includes a terminal that sends instructions to the information processing unit 12 and the control unit 14, a printer that outputs image data, and the position data of the radiation detector 11. And a position data storage unit 100 to be stored.

放射線検出器11は、被検体Sの設置領域の周囲の環状の基台16上に配設され、被検体Sから放射されるγ線を検出する複数の検出器である。   The radiation detector 11 is a plurality of detectors that are arranged on an annular base 16 around the installation area of the subject S and detect γ rays emitted from the subject S.

放射線検出器11は、半導体検出部20と検出回路30を含み、半導体検出部20は、ガンマ線γa,γbの入射面が被検体Sに面するように配置される。なお、予め被検体Sにはポジトロン核種RIで標識化された検査用薬剤が導入されている。   The radiation detector 11 includes a semiconductor detection unit 20 and a detection circuit 30, and the semiconductor detection unit 20 is arranged so that the incident surfaces of the gamma rays γa and γb face the subject S. Note that a test drug labeled with a positron nuclide RI is introduced into the subject S in advance.

半導体検出部20は、ポジトロン核種RIからの陽電子の消滅の際に、同時に発生する2つのガンマ線γ、γを検出する。2つのガンマ線γ、γは、互いに略180度をなして放出されるので、被検体Sを挟んで対向する放射線検出器11の半導体検出部20に入射する。ガンマ線γ、γが入射した2つの半導体検出部20の各々は、ガンマ線γ、γの入射により生じる電気信号(検出信号)を検出回路30に送出する。 The semiconductor detector 20 detects two gamma rays γ a and γ b that are generated simultaneously when the positron from the positron nuclide RI disappears. Since the two gamma rays γ a and γ b are emitted at an angle of approximately 180 degrees, they enter the semiconductor detector 20 of the radiation detector 11 facing each other with the subject S interposed therebetween. Each of the two semiconductor detector 20 the gamma ray gamma a, is gamma b incident sends gamma gamma a, an electric signal (detection signal) generated by the incidence of the gamma b to the detection circuit 30.

検出回路30は、例えば、検出信号を増幅するためのASICと、入射時刻および入射位置をデジタルデータとして情報処理部12に送出するFPGAを含む。検出回路30は、半導体検出部20で検出される検出信号から、ガンマ線γ、γが検出素子に入射した時刻(入射時刻)と入射位置を決定し、検出信号、入射時刻、及び入射位置を含む検出データを情報処理部12に送出する。なお、入射位置を表すデータには、検出素子の識別番号が含まれる。 The detection circuit 30 includes, for example, an ASIC for amplifying the detection signal and an FPGA that sends the incident time and the incident position to the information processing unit 12 as digital data. The detection circuit 30 determines the time (incident time) and the incident position where the gamma rays γ a and γ b are incident on the detection element from the detection signal detected by the semiconductor detection unit 20, and detects the detection signal, the incident time, and the incident position. Is sent to the information processing unit 12. The data representing the incident position includes the identification number of the detection element.

情報処理部12は、検出回路30から入力される検出データに基づいてコインシデンス検出および画像再生成アルゴリズムによる画像データの再生成を行う。コインシデンス検出では、入射時刻が設定された時間幅以下の2つの検出データがある場合に、それらの検出データを有効と判定してコインシデンス検出データとし、一方、入射時刻が一致しない検出データを無効と判定して破棄する。   The information processing unit 12 performs coincidence detection and image data regeneration by an image regeneration algorithm based on the detection data input from the detection circuit 30. In the coincidence detection, when there are two detection data whose incident times are equal to or less than the set time width, the detection data is determined to be valid and becomes coincidence detection data, while detection data whose incident times do not match is invalidated. Determine and discard.

情報処理部12は、コインシデンス検出データと、コインシデンス検出データに含まれる位置情報(入射位置の情報)を用いてサイノグラムを作成し、サイノグラムを用いて所定の画像再生成アルゴリズム(例えば、期待値最大化(Expectation Maximization)法)に基づいて画像データを再生成する。表示部13は、入出力部15の要求に応じて再生成された画像データを表示する。なお、コインシデンス検出および画像再生成アルゴリズムは上述した事項に限定されず、公知の事項を用いることができる。   The information processing unit 12 creates a sinogram using the coincidence detection data and position information (incidence position information) included in the coincidence detection data, and uses a sinogram to generate a predetermined image regeneration algorithm (for example, expectation value maximization). The image data is regenerated based on (Expectation Maximization) method. The display unit 13 displays the image data regenerated in response to a request from the input / output unit 15. The coincidence detection and image regeneration algorithm is not limited to the above-described items, and known items can be used.

位置データ格納部100は、放射線検出器11内の半導体検出部20に含まれる検出素子の識別番号と検出素子の入射面の座標値とを関連付けて格納する。なお、座標と座標値については、後述するが、位置データ格納部100には、放射線検出器11の各々の設置位置のずれを表す位置ずれ値も検出素子の識別番号と検出素子の入射面の座標値とを関連付けて格納される。   The position data storage unit 100 stores the identification number of the detection element included in the semiconductor detection unit 20 in the radiation detector 11 and the coordinate value of the incident surface of the detection element in association with each other. Although the coordinates and coordinate values will be described later, the position data storage unit 100 also includes a position shift value indicating a shift of each installation position of the radiation detector 11 and an identification number of the detection element and an incident surface of the detection element. Stored in association with coordinate values.

以上の構成および動作により、PET装置10は、被検体Sの体内に選択的に位置するポジトロン核種RIからのガンマ線を検出し、サイノグラムの作成を経て、ポジトロン核種RIの分布状態の画像データを再生成する。なお、本実施の形態に係るPET装置10は、放射線検出器11に主な特徴がある。以下、放射線検出器11を詳しく説明する。   With the above configuration and operation, the PET apparatus 10 detects gamma rays from the positron nuclide RI selectively located in the body of the subject S, and reproduces the image data of the distribution state of the positron nuclide RI through creation of a sinogram. To do. The PET apparatus 10 according to the present embodiment is mainly characterized by the radiation detector 11. Hereinafter, the radiation detector 11 will be described in detail.

画像データを再生成する際には、情報処理部12は、位置データ格納部100に格納された放射線検出器11の各々の設置位置のずれを表す位置ずれ値を用いてサイノグラムを補正し、補正後のサイノグラムに基づいて画像データが再生成される。なお、放射線検出器11の各々の位置ずれ値は、例えば、PET装置10の組み立て時に正確に測定しておけばよく、位置ずれ値を表すデータは、位置データ格納部100に格納されている。   When regenerating the image data, the information processing unit 12 corrects the sinogram using the position shift value indicating the shift of each installation position of the radiation detector 11 stored in the position data storage unit 100, and performs correction. Image data is regenerated based on the later sinogram. Note that each misregistration value of the radiation detector 11 may be accurately measured, for example, when the PET apparatus 10 is assembled, and data representing the misregistration value is stored in the position data storage unit 100.

PET装置10の放射線検出器111〜118は、被検体Sの周囲に360度に亘って配置される。各々の放射線検出器111〜118には、被検体S側に半導体検出部20が設けられている。ここで、被検体Sの体軸方向(紙面を貫く方向)をZ軸方向(紙面裏側から表側に向かう方向が+Z方向、紙面表側から裏側に向かう方向が−Z方向)とする。 The radiation detectors 11 1 to 11 8 of the PET apparatus 10 are arranged around the subject S over 360 degrees. Each of the radiation detectors 11 1 to 11 8 is provided with a semiconductor detector 20 on the subject S side. Here, the body axis direction of the subject S (the direction penetrating the paper surface) is defined as the Z-axis direction (the direction from the back side to the front side is the + Z direction, and the direction from the front side to the back side is the −Z direction).

また、放射線検出器111の半導体検出部20の幅方向を+x方向とするx軸をとり、放射線検出器111の半導体検出部20の奥行き方向を+y方向とするy軸をとる。 In addition, the x-axis with the width direction of the semiconductor detector 20 of the radiation detector 11 1 as the + x direction is taken, and the y-axis with the depth direction of the semiconductor detector 20 of the radiation detector 11 1 as the + y direction is taken.

ここで、放射線検出器11は、被検体Sに対して相対的にZ軸方向に移動可能としてもよい。なお、図1において8個の放射線検出器111〜118が示されているがこれらの数は一例に過ぎず、放射線検出器の数は適宜選択される。 Here, the radiation detector 11 may be movable relative to the subject S in the Z-axis direction. Although eight radiation detectors 11 1 to 11 8 are shown in FIG. 1, these numbers are merely examples, and the number of radiation detectors is appropriately selected.

図2は、放射線検出器111に含まれる半導体検出部20の構成を示す斜視図であり、ガンマ線の略入射側から半導体検出部を見た図である。図3は、半導体検出部の模式的平面図である。図4は、半導体検出素子の動作を説明するための図である。 Figure 2 is a perspective view showing a structure of a semiconductor detector 20 included in the radiation detector 11 1 is a view of the semiconductor detector substantially from the incident side of the gamma ray. FIG. 3 is a schematic plan view of the semiconductor detection unit. FIG. 4 is a diagram for explaining the operation of the semiconductor detection element.

図2〜図4を参照するに、半導体検出部20は、配線基板21と、配線基板21上に配置された2つの半導体検出素子アレイ22a,22bと、半導体検出部20の出力を検出回路(図1に示す検出回路30)に送出するためのコネクタ29等を含む。半導体検出素子アレイ22a,22bは、各々、略平板状の半導体結晶体24のZ軸方向に垂直な2つの面に、第1電極25および第2電極26が設けられてなる。半導体検出素子アレイ22a,22bは、各々、第2電極26側の面にY軸方向に沿って形成された溝部24bによって半導体結晶体24がX軸方向に互いに区切られてなる半導体検出素子231〜236と、半導体検出素子231〜236の配列方向の両側(X軸方向外側)に設けられたガード部材28a,28b等を含む。半導体結晶体24とガード部材28a,28bとは同一材料からなり一体化されている。なお、図2および図3では、隣接する半導体検出素子231〜236間に、破線あるいは実線で区切り位置を示しているが、区切り位置は溝部のX軸方向の中央を通り、かつY軸方向に沿って延びている。半導体検出素子231〜236の間隔は、隣接する区切り位置間の距離に相当する。 2 to 4, the semiconductor detection unit 20 includes a wiring board 21, two semiconductor detection element arrays 22 a and 22 b disposed on the wiring board 21, and an output of the semiconductor detection unit 20 as a detection circuit ( It includes a connector 29 for sending out to the detection circuit 30) shown in FIG. Each of the semiconductor detection element arrays 22a and 22b is provided with a first electrode 25 and a second electrode 26 on two surfaces of a substantially planar semiconductor crystal body 24 perpendicular to the Z-axis direction. Each of the semiconductor detection element arrays 22a and 22b includes a semiconductor detection element 23 1 in which the semiconductor crystal bodies 24 are separated from each other in the X-axis direction by grooves 24b formed in the surface on the second electrode 26 side along the Y-axis direction. -23 6 and guard members 28a, 28b and the like provided on both sides in the arrangement direction of the semiconductor detection elements 23 1 -23 6 (outside in the X-axis direction). The semiconductor crystal body 24 and the guard members 28a and 28b are made of the same material and are integrated. 2 and 3, the separation position is indicated by a broken line or a solid line between the adjacent semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 , but the separation position passes through the center of the groove portion in the X-axis direction and is in the Y-axis. It extends along the direction. The interval between the semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 corresponds to the distance between adjacent separation positions.

なお、図2では、放射線検出器111に含まれる半導体検出部20内の半導体検出素子231〜236が配列されている方向を配列方向(X軸方向)、2つの半導体検出素子アレイ22a,22bが配列される方向を奥行き方向(Y軸方向)、配線基板21と半導体検出素子アレイ22a,22bとが積層される方向を積層方向(Z軸方向)と称する。また、ここでは、半導体検出素子アレイ22a,22bの各々の半導体検出素子231〜236の数を6個としているが、2個以上であればその数に特に制限はない。 In FIG. 2, the direction in which the semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 in the semiconductor detection unit 20 included in the radiation detector 11 1 are arranged is defined as the arrangement direction (X-axis direction), and two semiconductor detection element arrays 22a. , 22b is referred to as the depth direction (Y-axis direction), and the direction in which the wiring board 21 and the semiconductor detection element arrays 22a, 22b are stacked is referred to as the stacking direction (Z-axis direction). Here, the number of the semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 in each of the semiconductor detection element arrays 22a and 22b is six, but the number is not particularly limited as long as it is two or more.

また、図2には、放射線検出器111に含まれる半導体検出部20が配線基板21に搭載されている状態を示すが、放射線検出器11〜11に含まれる半導体検出部20も同一の配線基板21に搭載されている。 Further, FIG. 2 shows a state where the semiconductor detection unit 20 included in the radiation detector 11 1 is mounted on the wiring board 21, the semiconductor detection unit 20 included in the radiation detector 11 2-11 8 also identical Is mounted on the wiring board 21.

各々の半導体検出素子231〜236は、それぞれ、半導体結晶体24と、半導体結晶体24の上面に形成された第1電極部25と下面に形成された第2電極部26を含む。 Each of the semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 includes a semiconductor crystal body 24, a first electrode portion 25 formed on the upper surface of the semiconductor crystal body 24, and a second electrode portion 26 formed on the lower surface.

半導体結晶体24は、その材料としては、例えば、エネルギーが511keVのガンマ線に有感なテルル化カドミウム(CdTe)、Cd1-xZnxTe(CZT)、臭化タリウム(TlBr)、シリコンなどが挙げられる。また、これらの材料には導電性等を制御するためのドーパントが含まれていてもよい。 The material of the semiconductor crystal 24 is, for example, cadmium telluride (CdTe), Cd 1-x Zn x Te (CZT), thallium bromide (TlBr), silicon or the like sensitive to gamma rays with energy of 511 keV. Can be mentioned. Moreover, the dopant for controlling electroconductivity etc. may be contained in these materials.

また、半導体結晶体24は、半導体検出素子231〜236のいずれのものも、幅、奥行き、および幅がそれぞれ同等に設定されている。半導体結晶体24は、例えば、幅(X軸方向)が1.2mm、奥行き(Y軸方向)が5mm、厚さが約1mmの寸法を有する。なお、半導体結晶体24は、半導体の結晶成長法であるブリッジマン法や、移動加熱法を用いて半導体結晶を形成し、所定の結晶方位に切出される。 The semiconductor crystal 24, any one of the semiconductor detection device 23 1 to 23 6, the width, depth, and width are equally set, respectively. For example, the semiconductor crystal body 24 has dimensions of a width (X-axis direction) of 1.2 mm, a depth (Y-axis direction) of 5 mm, and a thickness of about 1 mm. The semiconductor crystal body 24 forms a semiconductor crystal using a Bridgeman method, which is a semiconductor crystal growth method, or a moving heating method, and is cut out in a predetermined crystal orientation.

第1電極25は、半導体結晶体24の上面を略覆う導電膜である。第1電極25には負のバイアス電圧Vbが印加され、カソードとなっている。半導体結晶体24がCdTeで構成される場合は第1電極25には例えばPtが用いられる。バイアス電圧Vbは、直流電圧で例えば−60V〜−1000Vに設定される。なお、第1電極25は、6つの半導体結晶体24の上面全体に亘って連続して形成されている。但し、第1電極25は、ガード部材28a,28bの上面を覆っているが、これは必須ではない。なお、バイアス電圧は、配線基板21の外部から配線パターン36およびワイヤ配線35を介して供給される。   The first electrode 25 is a conductive film that substantially covers the upper surface of the semiconductor crystal body 24. A negative bias voltage Vb is applied to the first electrode 25 to serve as a cathode. In the case where the semiconductor crystal body 24 is made of CdTe, for example, Pt is used for the first electrode 25. The bias voltage Vb is a DC voltage and is set to, for example, −60V to −1000V. The first electrode 25 is continuously formed over the entire upper surface of the six semiconductor crystal bodies 24. However, although the first electrode 25 covers the upper surfaces of the guard members 28a and 28b, this is not essential. The bias voltage is supplied from the outside of the wiring board 21 via the wiring pattern 36 and the wire wiring 35.

第2電極26は、半導体結晶体24の溝部24bと溝部24bとの間の下面を略覆う導電膜を含む。第2電極26はアノードとして機能する。なお、第2電極26側の半導体結晶体24中にはIn(インジウム)が注入されている。半導体結晶体24がCdTeで構成される場合は、第2電極26に例えばAuが用いられる。第2電極26は半導体検出素子231〜236のそれぞれに設けられており、互いに隣接する第2電極26同士は電気的に絶縁されている。第2電極26は、導電性接着層27およびパッド電極32を介して配線基板21に設けられた配線パターン(不図示)を介してコネクタ29と電気的に接続される。 The second electrode 26 includes a conductive film that substantially covers the lower surface between the groove 24 b and the groove 24 b of the semiconductor crystal body 24. The second electrode 26 functions as an anode. Note that In (indium) is implanted into the semiconductor crystal body 24 on the second electrode 26 side. When the semiconductor crystal body 24 is made of CdTe, for example, Au is used for the second electrode 26. The second electrode 26 is provided in each of the semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 , and the second electrodes 26 adjacent to each other are electrically insulated from each other. The second electrode 26 is electrically connected to the connector 29 via a wiring pattern (not shown) provided on the wiring board 21 via the conductive adhesive layer 27 and the pad electrode 32.

なお、第2電極25は、ガード部材28a,28bの下面にも形成されており、導電性接着層27およびパッド電極32を介して接地されている。このようにすることで、ガード部材28a,28bに入射したガンマ線により生じた電子正孔対を接地電位に流すことで、検出信号に雑音として混入することを回避できる。なお。このガード部材28a,28bの下面の構造は必須ではなく、ガード部材を半導体結晶体以外の材料を用いた場合は設けなくともよい。   The second electrode 25 is also formed on the lower surfaces of the guard members 28 a and 28 b and is grounded via the conductive adhesive layer 27 and the pad electrode 32. By doing so, it is possible to avoid mixing the detection signal with noise as the electron-hole pair generated by the gamma rays incident on the guard members 28a and 28b flows to the ground potential. Note that. The structure of the lower surface of the guard members 28a and 28b is not essential, and the guard member may not be provided when a material other than the semiconductor crystal is used.

導電性接着層27は、Au、Ag、Cu、およびこれらの合金から選択される金属粉やカーボンフィラーと、樹脂製の導電性接着剤で構成され、例えば、導電性ペーストや異方性接着剤を用いることができる。   The conductive adhesive layer 27 is composed of a metal powder or carbon filler selected from Au, Ag, Cu, and alloys thereof, and a resin-made conductive adhesive, such as a conductive paste or an anisotropic adhesive. Can be used.

図4に示すように、半導体検出素子23は、半導体結晶体24にガンマ線γが入射すると、ガンマ線のエネルギーに応じた数の電子正孔対が生成される。半導体結晶体24には、第2電極26から第1電極25の方向に電界が印加されているので正孔は第1電極25に引きつけられ、電子は第2電極26に引きつけられる。これにより検出信号が生じ検出回路に送出される。なお、ガンマ線γが半導体結晶体24に入射しても電子正孔対の生成は確率的であり、半導体結晶体24中で電子正孔対の生成が行われず、突き抜けてしまう場合もある。   As shown in FIG. 4, in the semiconductor detection element 23, when gamma rays γ are incident on the semiconductor crystal body 24, the number of electron-hole pairs corresponding to the energy of the gamma rays is generated. Since an electric field is applied to the semiconductor crystal body 24 in the direction from the second electrode 26 to the first electrode 25, holes are attracted to the first electrode 25 and electrons are attracted to the second electrode 26. As a result, a detection signal is generated and sent to the detection circuit. It should be noted that even when gamma rays γ are incident on the semiconductor crystal body 24, the generation of electron-hole pairs is stochastic, and the electron-hole pairs are not generated in the semiconductor crystal body 24 and may penetrate.

図2および図3に戻り、ガード部材28a,28bは、半導体検出素子アレイ22a,22bの配列方向の両端部に設けられ、半導体検出素子231および236の外側面を保護する。ガード部材28a,28bの材料は第1電極25と第2電極26とを電気的に導通させない材料であれば特に限定されないが、製造工程における加熱によって熱膨張係数差により生じる応力による悪影響を回避できる点で、半導体結晶体24と同一材料を含むことが好ましい。さらに、ガード部材28a,28bは、半導体結晶体24と連続した同一結晶板から形成されてなることがとりわけ好ましい。これにより、ガード部材28a,28bを半導体結晶体24に接着する必要がなく、ガード部材28a,28bの形成工程を簡略化できる。但し、ガード部材28aと半導体検出素子231との間、およびガード部材28bと半導体検出素子236との間には、溝部24cを形成することが好ましい。これによりガード部材28a,28bに入射したガンマ線によって生じた電子正孔対が隣接する半導体検出素子231,236の第2電極26に流れ込むことを回避できる。なお、溝部24cは、溝部24bと同等の形状に形成すればよい。また、ガード部材28a,28bの幅は、後ほど詳述するが半導体検出素子231〜236の間隔に基づく所定の幅に設定される。 2 and 3, the guard members 28a and 28b are provided at both ends of the semiconductor detection element arrays 22a and 22b in the arrangement direction, and protect the outer surfaces of the semiconductor detection elements 23 1 and 23 6 . The material of the guard members 28a and 28b is not particularly limited as long as it is a material that does not electrically connect the first electrode 25 and the second electrode 26. However, adverse effects due to stress caused by a difference in thermal expansion coefficient due to heating in the manufacturing process can be avoided. In this respect, it is preferable that the same material as that of the semiconductor crystal body 24 is included. Furthermore, the guard members 28 a and 28 b are particularly preferably formed from the same crystal plate continuous with the semiconductor crystal body 24. Thereby, it is not necessary to bond the guard members 28a and 28b to the semiconductor crystal body 24, and the process of forming the guard members 28a and 28b can be simplified. However, it is preferable to form a groove 24c between the guard member 28a and the semiconductor detection element 23 1 and between the guard member 28b and the semiconductor detection element 23 6 . Thereby, it is possible to avoid the electron-hole pair generated by the gamma rays incident on the guard members 28a and 28b from flowing into the second electrodes 26 of the adjacent semiconductor detection elements 23 1 and 23 6 . The groove 24c may be formed in the same shape as the groove 24b. The width of the guard members 28a and 28b is set to a predetermined width based on the interval between the semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 , which will be described in detail later.

2つの半導体検出素子アレイ22a,22bは、いずれも上述した構造を有しているが、図3に示すように配線基板21上の配置が異なっている。以下、ガンマ線γが入射する側に配置された半導体検出素子アレイを第1半導体検出素子アレイ22a、奥側に配置された半導体検出素子アレイを第2半導体検出素子アレイ22bと呼ぶ。但し両者の区別が不要な場合は単に半導体検出素子アレイ22a,22bと呼ぶ。   Although the two semiconductor detection element arrays 22a and 22b both have the above-described structure, the arrangement on the wiring board 21 is different as shown in FIG. Hereinafter, the semiconductor detection element array disposed on the side on which the gamma rays γ are incident is referred to as a first semiconductor detection element array 22a, and the semiconductor detection element array disposed on the back side is referred to as a second semiconductor detection element array 22b. However, when it is not necessary to distinguish between the two, they are simply referred to as semiconductor detection element arrays 22a and 22b.

第1半導体検出素子アレイ22aおよび第2半導体検出素子アレイ22bは、互いの半導体検出素子の位置関係に特徴がある。第1半導体検出素子アレイ22aおよび第2半導体検出素子アレイ22bのいずれも配列方向(X軸方向)にそれぞれ所定の間隔PTで配置されている。さらに、第1半導体検出素子アレイ22aの半導体検出素子231の紙面左側面231aは、基準線Xa−Xaから間隔PTだけ離隔した位置に配置されている。他方、第2半導体検出素子アレイ22aの半導体検出素子231の紙面左側面231bは、基準線Xa−Xaから間隔PT/2だけ離隔した位置に配置されている。このようにして、第1半導体検出素子アレイ22aの半導体検出素子231〜236の各々と、第2半導体検出素子アレイ22bの半導体検出素子231〜236の各々とは、互いに配列方向にPT/2だけ変位して配置される。 The first semiconductor detection element array 22a and the second semiconductor detection element array 22b are characterized by the positional relationship between the semiconductor detection elements. Both the first semiconductor detection element array 22a and the second semiconductor detection element array 22b are arranged at predetermined intervals PT in the arrangement direction (X-axis direction). Further, the left side surface 23 1a of the semiconductor detection element 23 1 of the first semiconductor detection element array 22a is arranged at a position spaced apart from the reference line Xa-Xa by the interval PT. On the other hand, the left side surface 23 1b of the semiconductor detection element 23 1 of the second semiconductor detection element array 22a is arranged at a position spaced apart from the reference line Xa-Xa by the interval PT / 2. In this manner, with each of the semiconductor detection device 23 1 to 23 6 of the first semiconductor detection device array 22a, and each of the semiconductor detection device 23 1 to 23 6 of the second semiconductor detection device array 22b, to the array directions Displaced by PT / 2.

また、第1半導体検出素子アレイ22aの紙面左端のガード部材28aは間隔PTと同等の幅に設定され、紙面右端のガード部材28bは間隔PTの1/2に設定される。他方、第2半導体検出素子アレイ22bの紙面左端のガード部材28bは間隔PTの1/2に設定され、紙面右端のガード部材28aは間隔PTに設定される。このようにガード部材28a,28bを設けることにより、半導体検出素子アレイ22aおよび22bの幅(配列方向の長さ)を互いに同等とする。そして、半導体検出素子アレイ22aおよび22bはその紙面左端が基準線Xa−Xaに一致するように配置される。このようにすることで、半導体検出部20の組立工程において、2つの半導体検出素子アレイ22aおよび22bを配置する際に、それぞれの半導体検出素子231〜236を上述した位置関係になるようにする位置決めが飛躍的に容易になる。なお、このようにガード部材28a、28bは設ける方が好ましいが、本発明に必須のものではない。 Further, the guard member 28a at the left end of the drawing of the first semiconductor detection element array 22a is set to a width equal to the interval PT, and the guard member 28b at the right end of the drawing is set to ½ of the interval PT. On the other hand, the guard member 28b at the left end of the drawing of the second semiconductor detection element array 22b is set to ½ of the interval PT, and the guard member 28a at the right end of the drawing is set to the interval PT. By providing the guard members 28a and 28b as described above, the widths (lengths in the arrangement direction) of the semiconductor detection element arrays 22a and 22b are made equal to each other. The semiconductor detection element arrays 22a and 22b are arranged so that the left end of the drawing coincides with the reference line Xa-Xa. By doing so, when the two semiconductor detection element arrays 22a and 22b are arranged in the assembly process of the semiconductor detection unit 20, the semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 are in the above-described positional relationship. Positioning is greatly facilitated. Although it is preferable to provide the guard members 28a and 28b as described above, they are not essential to the present invention.

なお、上記では、半導体検出素子アレイ22a、22bの紙面左端の端部で位置決めを行ったが、紙面右端の基準線Xb−Xbで位置決めを同様に行ってもよい。   In the above description, the positioning is performed at the left end of the semiconductor detection element arrays 22a and 22b. However, the positioning may be similarly performed with the reference line Xb-Xb at the right end of the paper.

このように、第1半導体検出素子アレイ22aおよび第2半導体検出素子アレイ22bは、半導体検出素子231〜236の間隔PTの1/2だけ配列方向にずらして、かつ奥行き方向に配列されることにより、半導体検出部20は、その視野中央(すなわち、半導体検出部20の略正面から入射するガンマ線)の空間分解能が、半導体検出素子アレイを一つだけ設けた場合の視野中央の空間分解能よりも向上する。その向上の程度は、半導体検出部20の視野中央の空間分解能は、半導体検出素子の幅を1/2に設定したときの視野中央の空間分解能に略同等となる。 Thus, the first semiconductor detection element array 22a and the second semiconductor detection element array 22b are shifted in the arrangement direction by 1/2 of the interval PT between the semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 and arranged in the depth direction. As a result, the semiconductor detector 20 has a spatial resolution at the center of the field of view (that is, a gamma ray incident from substantially the front of the semiconductor detector 20) more than the spatial resolution at the center of the field of view when only one semiconductor detector array is provided. Will also improve. The degree of improvement is that the spatial resolution at the center of the visual field of the semiconductor detection unit 20 is substantially equal to the spatial resolution at the center of the visual field when the width of the semiconductor detection element is set to ½.

さらに、第1半導体検出素子アレイ22aおよび第2半導体検出素子アレイ22bはそれぞれ奥行き方向(Y軸方向)に配列され、各々の半導体検出素子アレイ22a、22bは、半導体検出素子アレイを一個だけ設けてその半導体検出素子の奥行きを半導体検出素子アレイ22aおよび22bの奥行きの和と同等に設定した場合よりも短小化されている。これにより、先の図2(B)において説明したように、半導体検出部20の視野周辺部での空間分解能を向上できる。   Furthermore, the first semiconductor detection element array 22a and the second semiconductor detection element array 22b are arranged in the depth direction (Y-axis direction), and each semiconductor detection element array 22a, 22b is provided with only one semiconductor detection element array. The depth of the semiconductor detection element is made shorter than the case where the depth is set equal to the sum of the depths of the semiconductor detection element arrays 22a and 22b. As a result, as described above with reference to FIG. 2B, the spatial resolution in the peripheral portion of the visual field of the semiconductor detection unit 20 can be improved.

さらに、半導体検出部20の検出効率は、半導体検出素子アレイを一個だけ設けてその半導体検出素子の奥行きを半導体検出素子アレイ22aおよび22bの奥行きの和と同等に設定した場合と同様となるので、検出効率を維持できる。これらの点については後述するシミュレーションによって示すが、以下、その効果を簡単に説明する。   Furthermore, the detection efficiency of the semiconductor detection unit 20 is the same as when only one semiconductor detection element array is provided and the depth of the semiconductor detection element is set equal to the sum of the depths of the semiconductor detection element arrays 22a and 22b. The detection efficiency can be maintained. Although these points are shown by the simulation mentioned later, the effect is demonstrated easily below.

図5は、半導体検出部の概略正面透視図である。なお、図5中、第1電極、第2電極、および導電性接着層の図示を省略している。   FIG. 5 is a schematic front perspective view of the semiconductor detection unit. In FIG. 5, the first electrode, the second electrode, and the conductive adhesive layer are not shown.

図5を参照するに、半導体検出部20をその正面(ガンマ線の入射側)から透視すると、第1半導体検出素子アレイ22aの半導体検出素子231〜236と第2半導体検出素子アレイ22bの半導体検出素子231〜236とが互いに重なり、あたかも間隔PTの1/2の半導体検出素子が一列に配列して形成されているように見える。ガンマ線は、第1半導体検出素子アレイ22aで電子正孔対を生成するものと、第1半導体検出素子アレイ22aを透過して第2半導体検出素子アレイ22bで電子正孔対を生成するものとが確率的に存在する。そのため、ガンマ線にとって、半導体検出素子アレイ22a、22bは、図5の透視図のように、1/2の半導体検出素子が一列に配列して形成されているのと略同等となる。このことから、半導体検出部20は、その視野中央の空間分解能が、半導体検出素子の間隔PTの1/2に設定したときの空間分解能に近づくことが十分推察される。さらにこのことは、半導体検出部20の視野周辺部の空間分解能の向上にも寄与すると推察される。 Referring to FIG. 5, when the semiconductor detector 20 is seen through from the front (gamma ray incident side), the semiconductor detectors 23 1 to 23 6 of the first semiconductor detector array 22a and the semiconductors of the second semiconductor detector array 22b. The detection elements 23 1 to 23 6 overlap with each other, and it appears as if semiconductor detection elements having a half of the interval PT are arranged in a line. The gamma rays include those that generate electron-hole pairs in the first semiconductor detection element array 22a and those that pass through the first semiconductor detection element array 22a and generate electron-hole pairs in the second semiconductor detection element array 22b. Probably present. Therefore, for gamma rays, the semiconductor detection element arrays 22a and 22b are substantially the same as a half of the semiconductor detection elements formed in a line as shown in the perspective view of FIG. From this, it is fully inferred that the semiconductor detector 20 approaches the spatial resolution when the spatial resolution at the center of the visual field is set to ½ of the interval PT of the semiconductor detection elements. Further, this is presumed to contribute to the improvement of the spatial resolution around the visual field of the semiconductor detector 20.

なお、ここでは、放射線検出器111に含まれる半導体検出部20内の半導体検出素子231〜236について説明したが、放射線検出器11〜11も同様に考えることができる。 Here, although described semiconductor detection device 23 1 to 23 6 in the semiconductor detection unit 20 included in the radiation detector 11 1, the radiation detector 11 2-11 8 can also be considered as well.

ところで、放射線検出器11〜11のうちのいずれかの半導体検出部20の位置に位置ずれがあると、再生成される画像の精度が低下する。これは、画像を再生成する段階において生成されるサイノグラムに位置ずれが含まれるためである。 Incidentally, if there is a positional deviation in the position of one of the semiconductor detector 20 of the radiation detector 11 1 to 11 8, the accuracy of the image to be regenerated is lowered. This is because a position shift is included in the sinogram generated in the stage of regenerating the image.

このため、本実施の形態のPET装置では、図1に示す位置データ格納部100には、放射線検出器11の各々の設置位置のずれ(半導体検出部20の設置位置のずれ)を表す位置ずれ値が格納されており、サイノグラムを作成する際に、半導体検出部20の検出信号を位置ずれ値に基づいて補正をしている。   For this reason, in the PET apparatus according to the present embodiment, the position data storage unit 100 shown in FIG. 1 includes a position shift that indicates a shift in the installation position of each radiation detector 11 (a shift in the installation position of the semiconductor detection unit 20). The value is stored, and when the sinogram is created, the detection signal of the semiconductor detection unit 20 is corrected based on the positional deviation value.

PET装置10の放射線検出器111〜118の各々に含まれる半導体検出部20の入射面の座表値は、被検体Sが設置される領域の中央を原点(x、y、z)=(0,0,0)として、組み立て時に正確に測定されている。測定された座標値は、放射線検出器111〜118の各々に含まれる半導体検出部20の座標値(x、y、z)として、位置データ格納部100に格納されている。 The locus value of the incident surface of the semiconductor detector 20 included in each of the radiation detectors 11 1 to 11 8 of the PET apparatus 10 is the origin (x, y, z) = the center of the area where the subject S is installed = As (0, 0, 0), it is accurately measured during assembly. The measured coordinate values are stored in the position data storage unit 100 as coordinate values (x, y, z) of the semiconductor detection unit 20 included in each of the radiation detectors 11 1 to 11 8 .

ここで、上述のように、放射線検出器111〜118に含まれるすべての半導体検出部20は、同一の配線基板21に搭載されている。このため、座標値(x、y、z)のうち、z座標値についての位置ずれは無視できる。また、半導体検出部20の奥行き方向の位置ずれは、光路長に対する微差に過ぎないので無視できる。しかしながら、半導体検出部20の幅方向の位置ずれは、入射面のx座標値、y座標値における位置ずれとなり、入射面の幅(X軸方向)が1.2mmの半導体結晶体24の位置ずれとなる。この位置ずれは、例えば、コンマ数ミリ生じるだけでも検出信号に与える影響が大きい。 Here, as described above, all the semiconductor detection units 20 included in the radiation detectors 11 1 to 11 8 are mounted on the same wiring board 21. For this reason, the positional deviation about the z coordinate value among the coordinate values (x, y, z) can be ignored. Further, the positional deviation of the semiconductor detection unit 20 in the depth direction is only a slight difference with respect to the optical path length and can be ignored. However, the positional deviation in the width direction of the semiconductor detector 20 is a positional deviation in the x-coordinate value and the y-coordinate value of the incident surface, and the positional deviation of the semiconductor crystal body 24 whose incident surface width (X-axis direction) is 1.2 mm. It becomes. For example, this positional deviation has a large influence on the detection signal even if only a few millimeters of the comma occurs.

このため、本実施の形態の断層撮影装置では、入射面の位置ずれ値(半導体検出部20の幅方向の位置ずれ量)を用いて、半導体検出部20から出力される検出信号の補正を行う。   For this reason, in the tomography apparatus of the present embodiment, the detection signal output from the semiconductor detection unit 20 is corrected using the position shift value of the incident surface (position shift amount in the width direction of the semiconductor detection unit 20). .

具体的には、各半導体検出部20の入射面の位置を(x、y)座標で表したデータを座標値と、座標値と設計値とのずれを表す位置ずれ値とを放射線検出器111〜118に含まれるすべての半導体検出部20について位置データ格納部100に格納し、検出信号の入射位置の補正に用いる。 Specifically, the radiation detector 11 represents the data representing the position of the incident surface of each semiconductor detector 20 in (x, y) coordinates, the coordinate value, and the positional deviation value representing the deviation between the coordinate value and the design value. 1 to 11 8 for all of the semiconductor detection unit 20 included in the stored in the position data storage unit 100 is used to correct the incident position of detection signals.

すなわち、情報処理部12は、位置データ格納部100に格納された入射面の位置ずれ値(半導体検出部20の幅方向の位置ずれ量)を用いて、放射線検出器111〜118の各々で検出される検出データ(検出信号、入射時刻、及び入射位置)のうちの入射位置を補正する。 In other words, the information processing unit 12 uses each of the radiation detectors 11 1 to 11 8 by using the position shift value (position shift amount in the width direction of the semiconductor detection unit 20) stored in the position data storage unit 100. The incident position of the detection data (detection signal, incident time, and incident position) detected in (1) is corrected.

ここで、放射線検出器111〜118の各々には半導体検出部20が含まれ、各半導体検出部20には半導体検出素子アレイ22a,22bが含まれるが、放射線検出器111〜118の各々の内部における半導体検出素子アレイ22a,22bや半導体検出素子231〜236の位置ずれは生じにくいため、位置ずれ値としては、放射線検出器111〜118の位置ずれを断層撮影装置の組み立て時に設計値とのずれとして測定しておく。 Here, each of the radiation detectors 11 1 to 11 8 includes a semiconductor detection unit 20, and each semiconductor detection unit 20 includes semiconductor detection element arrays 22 a and 22 b, and the radiation detectors 11 1 to 11 8. semiconductor detection device array 22a inside the respective, for 22b and semiconductor positional deviation of the detector elements 23 1 to 23 6 are unlikely to occur, as the positional deviation value, tomography apparatus the displacement of the radiation detector 11 1 to 11 8 It is measured as a deviation from the design value at the time of assembly.

なお、半導体検出部20の入射面は、各半導体検出部20の半導体検出素子アレイ22a,22bに含まれる半導体検出素子231〜236の各々の入射面の集合となる。 The incident surface of the semiconductor detection unit 20 is a set of incident surfaces of the semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 included in the semiconductor detection element arrays 22a and 22b of each semiconductor detection unit 20.

このため、すべての半導体検出素子231〜236の入射面の位置を座標値(x、y)とx座標値、y座標値の取り得る値の範囲で規定し、γ線が入射した半導体検出素子231〜236の入射位置を補正することとする。 For this reason, the positions of the incident surfaces of all the semiconductor detection elements 23 1 to 23 6 are defined within the range of values that can be taken by the coordinate values (x, y), the x coordinate value, and the y coordinate value, and the semiconductor on which the γ rays are incident. The incident positions of the detection elements 23 1 to 23 6 are corrected.

図6は、本実施の形態の断層撮影装置におけるサイノグラムの補正処理及び断層画像の再生成処理の手順を示す図である。この処理は、情報処理部12によって実行される処理である。   FIG. 6 is a diagram illustrating a procedure of sinogram correction processing and tomographic image regeneration processing in the tomography apparatus according to the present embodiment. This process is a process executed by the information processing unit 12.

情報処理部12は、放射線検出器111〜118から検出データが入力されたか否かを判定する(ステップS1)。検出データに含まれる位置情報の位置ずれを補正する必要があるからである。なお、ステップS1の処理は、ユーザにより設定された測定時間に至るまで繰り返し実行される。 The information processing unit 12 determines whether detection data is input from the radiation detectors 11 1 to 11 8 (step S1). This is because it is necessary to correct the positional deviation of the positional information included in the detection data. In addition, the process of step S1 is repeatedly performed until it reaches the measurement time set by the user.

情報処理部12は、検出データに含まれる位置情報の位置ずれを補正し、サイノグラムを作成する(ステップS2)。具体的には、放射線検出器111〜118から入力される検出データに含まれる検出素子の識別番号を用いて位置データ格納部100に格納されている位置ずれ値を読み込み、読み込んだ位置ずれ値を用いて検出データに含まれる入射位置を補正する。そして、入射位置を補正した検出データを用いてサイノグラムを作成する。 The information processing unit 12 corrects the positional deviation of the position information included in the detection data, and creates a sinogram (step S2). Specifically, using the identification number of the detection element included in the detection data input from the radiation detectors 11 1 to 11 8, the position shift value stored in the position data storage unit 100 is read, and the read position shift The incident position included in the detection data is corrected using the value. Then, a sinogram is created using the detection data with the incident position corrected.

次いで、情報処理部12は、サイノグラムに基づき、断層画像を再生成する(ステップS3)。ここで用いるサイノグラムは、ステップS2の処理において、入射位置が補正された検出データに基づいて作成されているため、放射線検出器111〜118の設置位置のずれによって生じる分解能や精度の低下が除去された断層画像を再生成することができる。 Next, the information processing unit 12 regenerates a tomographic image based on the sinogram (step S3). Since the sinogram used here is created based on the detection data in which the incident position is corrected in the process of step S2, the resolution and accuracy caused by the displacement of the installation positions of the radiation detectors 11 1 to 11 8 are reduced. The removed tomographic image can be regenerated.

図7は、本実施の形態の断層撮影装置におけるサイノグラムの補正処理の手法を概念的に示す図である。   FIG. 7 is a diagram conceptually showing a method of sinogram correction processing in the tomography apparatus of the present embodiment.

ここでは、図1に示す放射線検出器111と11でγ線を検出した場合において、放射線検出器11に位置ずれがない場合(図7(a))と、位置ずれがある場合(図7(b))について説明する。 Here, in case of detecting the radiation detector 11 1 and 11 5 γ rays shown in FIG. 1, and when there is no positional deviation in the radiation detector 11 5 (FIG. 7 (a)), if there is a positional deviation ( FIG. 7B will be described.

図7には、サイノグラムを9ピクセルのデータとして示す。9ピクセルのうち、縦方向はγ線が放射する方向とx軸がなす角度(図1のx軸に対して反時計回りの方向で与えられる角度)を表し、これを角度方向という。また、9ピクセルのうち、横方向は、動径方向といい、角度方向に対して直角な方向を表す。なお、説明の便宜上、放射線検出器11は半導体検出素子1〜3を含み、放射線検出器11は半導体検出素子4〜6を含むものとする。 FIG. 7 shows the sinogram as 9-pixel data. Among the nine pixels, the vertical direction represents an angle formed by the direction of γ rays and the x axis (an angle given in a counterclockwise direction with respect to the x axis in FIG. 1), and this is referred to as an angular direction. Of the nine pixels, the horizontal direction is referred to as a radial direction and represents a direction perpendicular to the angular direction. For convenience of description, the radiation detector 11 1 comprises a semiconductor detecting element 1-3, the radiation detector 11 5 is intended to include semiconductor detecting element 4-6.

図7(a)に示すように、放射線検出器11と11に位置ずれがない場合に、γ線の入射によって半導体検出素子1−4で5カウント、半導体検出素子2−5で3カウント、半導体検出素子3−6で1カウントの検出信号を検出したとする。 As shown in FIG. 7A, when the radiation detectors 11 1 and 11 5 are not misaligned, 5 counts are obtained by the semiconductor detection element 1-4 and 3 counts are obtained by the semiconductor detection element 2-5 due to the incidence of γ rays. Assume that the semiconductor detection element 3-6 detects a 1-count detection signal.

この場合に、情報処理部12は、位置データ格納部100から、放射線検出器11と11の位置データ(x,y)を呼び出す。ここで、半導体検出素子1の位置を(x1,y1)、半導体検出素子2の位置を(x2,y1)、半導体検出素子3の位置を(x3,y1)、半導体検出素子4の位置を(x4,y5)、半導体検出素子5の位置を(x5,y5)、半導体検出素子6の位置を(x6,y5)、とする。まず、情報処理部12は、式1により、角度方向座標θを計算する。なお、角度方向座標θは、図1に示すように、y軸の正の方向に対してガンマ線γaの放射される方向がなす角度(y軸の正の方向に対する反時計回りの角度)として示し、これは、y軸の負の方向に対してガンマ線γbの放射される方向がなす角度と同一である。 In this case, the information processing unit 12 calls the position data storage unit 100, the radiation detector 11 1 and 11 position data of 5 (x, y) a. Here, the position of the semiconductor detection element 1 is (x1, y1), the position of the semiconductor detection element 2 is (x2, y1), the position of the semiconductor detection element 3 is (x3, y1), and the position of the semiconductor detection element 4 is ( x4, y5), the position of the semiconductor detection element 5 is (x5, y5), and the position of the semiconductor detection element 6 is (x6, y5). First, the information processing unit 12 calculates the angular direction coordinate θ using Equation 1. As shown in FIG. 1, the angle direction coordinate θ is shown as an angle formed by the direction in which the gamma ray γa is emitted with respect to the positive direction of the y axis (counterclockwise angle with respect to the positive direction of the y axis). This is the same as the angle formed by the direction in which the gamma ray γb is emitted with respect to the negative direction of the y-axis.

次に、情報処理部12は、式2により、動径方向座標sを計算する。 Next, the information processing unit 12 calculates the radial direction coordinate s using Equation 2.

求めた角度方向座標θと動径方向座標sに対応するサイノグラムのピクセルにそれぞれ得られたカウントを付与する。すなわち、(θ1,s1)のピクセルに5カウント、(θ1,s2)のピクセルに3カウント、(θ1,s3)のピクセルに1カウントが付与される。 The obtained counts are assigned to the pixels of the sinogram corresponding to the obtained angular direction coordinate θ and radial direction coordinate s. That is, 5 counts are given to the pixels (θ1, s1), 3 counts are given to the pixels (θ1, s2), and 1 count is given to the pixels (θ1, s3).

一方、図7(b)では、放射線検出器11に半導体結晶体24の幅Wの半分に相当する位置ずれE(=W/2)があるものとする。この場合に、本実施の形態の断層撮影装置では、半導体結晶体24の幅WをEで除して得る整数の数にサイノグラムのピクセルを分割し、前述の処理に従って、角度方向座標、動径方向座標を決定する。 On the other hand, in FIG. 7 (b), the radiation detector 11 5 to the displacement E corresponding to half the width W of the semiconductor crystal 24 (= W / 2) is referred to as being one. In this case, in the tomography apparatus of the present embodiment, the sinogram pixels are divided into an integer number obtained by dividing the width W of the semiconductor crystal body 24 by E, and the angular direction coordinates and the moving radius are divided according to the above-described processing. Determine the direction coordinates.

ここでは、W/E=W/(W/2)=2であるため、ピクセルを2つのサブピクセルに分割する。   Here, since W / E = W / (W / 2) = 2, the pixel is divided into two subpixels.

位置データ格納部から呼び出すデータは、放射線検出器11は同じであるが、放射線検出器11は、半導体検出素子4の位置が(x4+E,y5)、半導体検出素子5の位置が(x5+E,y5)、半導体検出素子6の位置が(x6+E,y5)、となる。 Data call from the position data storage unit is a radiation detector 11 1 is the same, the radiation detector 11 5, the position of the semiconductor detection element 4 (x4 + E, y5), the position of the semiconductor detection element 5 (x5 + E, y5), the position of the semiconductor detection element 6 is (x6 + E, y5).

まず、情報処理部12は、式3により、位置ずれがある角度方向座標θ'を計算する。   First, the information processing unit 12 calculates an angular direction coordinate θ ′ having a positional shift using Equation 3.

次に、情報処理部12は、式4により、動径方向座標s'を計算する。 Next, the information processing unit 12 calculates the radial direction coordinate s ′ according to Equation 4.

計算によって得た角度方向座標θ'と動径方向座標s'に対応するサイノグラムのサブピクセル2つにそれぞれ得られたカウントを付与する。すなわち、(θ1',s1')内の2つのサブピクセルに5カウント、(θ1',s2') 内の2つのサブピクセルに3カウント、(θ1',s3') 内の2つのサブピクセルに1カウントを付与する。この結果、7つのサブピクセルに動径方向に"5"、"5"、"3"、"3"、"1"、"1"、"0"の値が付与される。なお、図中一番左のサブピクセルの値が"0"になっているのは、カウント値が存在しないからである。 The obtained counts are assigned to two subpixels of the sinogram corresponding to the angular direction coordinate θ ′ and the radial direction coordinate s ′ obtained by the calculation. That is, 5 counts for 2 subpixels in (θ1 ′, s1 ′), 3 counts for 2 subpixels in (θ1 ′, s2 ′), and 2 subpixels in (θ1 ′, s3 ′) 1 count is given. As a result, values of “5”, “5”, “3”, “3”, “1”, “1”, “0” are given to the seven subpixels in the radial direction. Note that the value of the leftmost subpixel in the figure is “0” because there is no count value.

ここで、半導体検出素子1と半導体検出素子4に位置ずれがない場合には、x1=x4であるので(x1−x4)/(y1−y5)=0になる。   Here, when there is no positional deviation between the semiconductor detection element 1 and the semiconductor detection element 4, since x1 = x4, (x1-x4) / (y1-y5) = 0.

また、半導体結晶体24の幅Wは1.2mmであり、E=W/2であるため、半導体検出素子1と半導体検出素子4に位置ずれがある場合には、(x1−x4−E)/(y1−y5)≒0.005となる。   In addition, since the width W of the semiconductor crystal body 24 is 1.2 mm and E = W / 2, when the semiconductor detection element 1 and the semiconductor detection element 4 are misaligned, (x1-x4-E) /(Y1-y5)≈0.005.

このため、ここでは、θ1≒θ1'として扱うことができるので、サブピクセルに付与した値をもとの角度方向座標θ及び動径方向座標sで規定される3つのピクセル((θ1,s1)、(θ1,s2)、(θ1,s3)のピクセル)内で平均化することにより、(θ1,s1)、(θ1,s2)、(θ1,s3)のピクセルには、それぞれ、4、2、0.5のカウントが付与される。このようにして、位置ずれ値に応じて補正された検出データを用いたサイノグラムを作成することができる。   Therefore, here, since it can be handled as θ1≈θ1 ′, the three pixels ((θ1, s1)) defined by the original angular direction coordinate θ and the radial direction coordinate s are used as the values given to the subpixels. , (Θ1, s2), (θ1, s3) pixels), the pixels of (θ1, s1), (θ1, s2), (θ1, s3) are 4 , 0.5 is given. In this way, a sinogram using the detection data corrected according to the positional deviation value can be created.

このように、本実施の形態の断層撮影装置は、再生成部としての情報処理部12は、放射線検出器11の検出結果をピクセル状に配列したサイノグラムを再生成することによって断層画像を再生成するように構成されている。また、補正部としての情報処理部12は、サイノグラムのピクセルの各々を放射線検出器11の設置位置ずれと検出素子としての半導体結晶体24の幅との比から求まる整数個のサブピクセルに分割し、さらにピクセルの各々に含まれるサブピクセル内の値の平均値をピクセル内の値とすることにより、放射線検出器11の検出結果を補正している。 As described above, in the tomography apparatus according to the present embodiment, the information processing unit 12 as a regeneration unit regenerates a tomographic image by regenerating a sinogram in which detection results of the radiation detector 11 are arranged in a pixel shape. Is configured to do. The information processing unit 12 as correction unit is divided into an integer number of sub-pixels obtained each sinogram pixel from the ratio of the width of the semiconductor crystal body 24 as the installation position shift and the detection elements of the radiation detector 11 5 and, and further by a value within the mean of the values in the sub-pixels pixels included in each pixel, it corrects the detection result of the radiation detector 11 5.

図8は、本実施の形態の断層撮影装置によって得られる断層画像を示す図である。   FIG. 8 is a diagram showing a tomographic image obtained by the tomographic apparatus according to the present embodiment.

図8(a)は、検出データの位置ずれを補正しないで作成したサイノグラムから再生成される断層画像を示す図であり、図8(b)は、検出データの位置ずれを補正して作成したサイノグラムから再生成される断層画像を示す図である。   FIG. 8A is a diagram showing a tomographic image regenerated from a sinogram created without correcting the misalignment of the detection data, and FIG. 8B is created by correcting the misalignment of the detection data. It is a figure which shows the tomographic image regenerated from a sinogram.

図8(a)、(b)を比較すると、補正後の検出データを用いて作成したサイノグラムを用いた断層画像の方が中央部が円形になっており、検出データの補正により、分解能や精度の低下が除去された断層画像を再生成することができることが分かる。   Comparing FIGS. 8A and 8B, the tomographic image using the sinogram created using the corrected detection data has a circular central portion, and the resolution and accuracy can be improved by correcting the detection data. It can be seen that it is possible to regenerate a tomographic image from which the decrease in the frequency is removed.

以上、本実施の形態の断層撮影装置によれば、検出データの位置ずれを補正して作成したサイノグラムを用いて断層画像を再生成するので、分解能や精度の低下が除去された断層画像を再生成することができる。   As described above, according to the tomography apparatus of the present embodiment, the tomographic image is regenerated using the sinogram created by correcting the misalignment of the detection data, so that the tomographic image from which the reduction in resolution and accuracy is removed is reproduced. Can be made.

なお、PET装置と異なり、CT装置やSPECT装置では、被検体Sに対して放射線検出部11を回転させる必要がある。特に放射線検出部11は重いため、位置ずれに加えて回転による配置位置のぶれが加わる可能性がある。   Unlike the PET apparatus, the CT apparatus or SPECT apparatus needs to rotate the radiation detection unit 11 with respect to the subject S. In particular, since the radiation detection unit 11 is heavy, there is a possibility that the displacement of the arrangement position due to rotation is added in addition to the positional deviation.

これに対して、PET装置の場合、放射線検出部11を被検体Sに対して回転させる必要がないため、組み立て時の位置ずれを測定して検出データを補正することにより、位置ずれによる精度や分解能の低下を抑制しやすいというメリットがある。   On the other hand, in the case of a PET apparatus, it is not necessary to rotate the radiation detection unit 11 with respect to the subject S. Therefore, by measuring the positional deviation during assembly and correcting the detection data, There is an advantage that it is easy to suppress a decrease in resolution.

なお、本実施の形態では、PET装置を例に説明したが、本発明は、SPECT(単一光子放射形コンピュータ断層撮影)装置や、X線コンピュータ断層撮影装置にも適用できる。   In the present embodiment, the PET apparatus has been described as an example, but the present invention can also be applied to a SPECT (Single Photon Emission Computed Tomography) apparatus or an X-ray computed tomography apparatus.

以上、本発明の例示的な実施の形態の断層撮影装置について説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。   Although the tomographic apparatus of the exemplary embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the specifically disclosed embodiment, and does not depart from the scope of the claims. Various modifications and changes are possible.

第1の実施の形態のPET装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the PET apparatus of 1st Embodiment. 放射線検出器111に含まれる半導体検出部20の構成を示す斜視図である。Is a perspective view showing a structure of a semiconductor detector 20 included in the radiation detector 11 1. 半導体検出部の概略平面図である。It is a schematic plan view of a semiconductor detection part. 半導体検出素子の動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating operation | movement of a semiconductor detection element. 半導体検出部の概略正面透視図である。It is a schematic front perspective view of a semiconductor detection part. 本実施の形態の断層撮影装置におけるサイノグラムの補正処理及び断層画像の再生成処理の手順を示す図である。It is a figure which shows the procedure of the correction process of a sinogram and the reproduction | regeneration process of a tomographic image in the tomography apparatus of this Embodiment. 本実施の形態の断層撮影装置におけるサイノグラムの補正処理の手法を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally the technique of the correction process of the sinogram in the tomography apparatus of this Embodiment. 本実施の形態の断層撮影装置によって得られる断層画像を示す図である。It is a figure which shows the tomographic image obtained by the tomography apparatus of this Embodiment.

10 PET装置
11、111〜118 放射線検出器
12 情報処理部
13 表示部
14 制御部
15 入出力部
16 基台
20、40、50 半導体検出部
21 配線基板
22、221〜22n 半導体検出素子アレイ
22a 第1半導体検出素子アレイ
22b 第2半導体検出素子アレイ
23、231〜236 半導体検出素子
24 半導体結晶体
24a 入射面
24b、24c 溝部
25 第1電極
26 第2電極
27 導電性接着層
28a、28b、281〜28n ガード部材
29 コネクタ
30 検出回路
100 位置データ格納部
10 PET device 11, 11 1 to 11 8 radiation detector 12 information processing unit 13 display unit 14 control unit 15 input unit 16 base plate 20, 40, 50 semiconductor detection unit 21 the wiring board 22, 22 1 through 22 n semiconductor detector Element array 22a First semiconductor detection element array 22b Second semiconductor detection element array 23, 23 1 to 23 6 Semiconductor detection element 24 Semiconductor crystal body 24a Incident surface 24b, 24c Groove 25 First electrode 26 Second electrode 27 Conductive adhesive layer 28a, 28b, 28 1 to 28 n guard member 29 connector 30 detection circuit 100 position data storage unit

Claims (3)

被検体設置領域の周囲の基台上に配設され、被検体から放出される放射線、又は被検体を透過する放射線を検出する複数の検出器と、
前記検出器の設置位置ずれを用いて前記検出器の検出結果に含まれる位置情報を補正する補正部と、
前記補正部で補正された検出結果に基づき画像を再生成する再生成部と
を含み、
前記再生成部は、前記検出結果をピクセル状に配列したデータを再生成することによって前記画像を再生成するように構成されており、
前記補正部は、前記設置位置ずれに応じて前記ピクセルをサブピクセルに分割し、前記サブピクセル内の値の平均値を前記ピクセル内の値とすることにより、前記検出器の検出結果に含まれる位置情報を補正する断層撮影装置。
A plurality of detectors that are disposed on a base around the subject installation area and detect radiation emitted from the subject or radiation that passes through the subject;
A correction unit that corrects position information included in the detection result of the detector using an installation position shift of the detector;
Look containing a regenerating unit for regenerating an image on the basis of the detection result of said corrected by the correction unit,
The regeneration unit is configured to regenerate the image by regenerating data in which the detection results are arranged in pixels.
The correction unit is included in the detection result of the detector by dividing the pixel into sub-pixels according to the installation position shift and setting an average value of the values in the sub-pixels as the value in the pixel. A tomography device that corrects position information .
前記再生成部は、ピクセル状に配列したデータとしてサイノグラムを用いる、請求項に記載の断層撮影装置。 The tomography apparatus according to claim 1 , wherein the regeneration unit uses a sinogram as data arranged in a pixel shape. 前記補正部は、前記検出器の設置位置ずれと前記検出器に含まれる検出素子の幅との比を用いて前記検出器の検出結果に含まれる位置情報を補正する、請求項1又は2に記載の断層撮影装置。 Wherein the correction unit corrects the positional information included in the detection result of the detector using the ratio of the width of the detection elements included in the detector and the installation position shift of the detector, to claim 1 or 2 The tomography apparatus described.
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