JP5493465B2 - Organic thin film solar cell - Google Patents

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Description

本発明は、有機エレクトロニクス素子、有機光電変換素子、それを用いた太陽電池、及び光センサアレイ並びに有機エレクトロルミネッセンス素子に関し、さらに詳しくは、バルクヘテロジャンクション型の有機光電変換素子、この有機光電変換素子を用いた太陽電池、および光アレイセンサに関する。   The present invention relates to an organic electronics element, an organic photoelectric conversion element, a solar cell using the same, an optical sensor array, and an organic electroluminescence element, and more particularly, a bulk heterojunction type organic photoelectric conversion element, The present invention relates to a used solar cell and an optical array sensor.

近年の化石エネルギーの高騰によって、自然エネルギーから直接電力を発電できるシステムが求められており、単結晶・多結晶・アモルファスのSiを用いた太陽電池、GaAsやCIGSなどの化合物系の太陽電池、あるいは色素増感型光電変換素子(グレッツェルセル)などが提案・実用化されている。   Due to the recent rise in fossil energy, a system that can generate electric power directly from natural energy has been demanded. Solar cells using monocrystalline, polycrystalline, or amorphous Si, compound-based solar cells such as GaAs and CIGS, or Dye-sensitized photoelectric conversion elements (Gretzel cells) have been proposed and put into practical use.

しかしながら、これらの太陽電池で発電するコストは未だ化石燃料を用いて発電・送電される電気の価格よりも高いものとなっており、普及の妨げとなっていた。また、基板に重いガラスを用いなければならないため、設置時に補強工事が必要であり、これらも発電コストが高くなる一因であった。   However, the cost of generating electricity with these solar cells is still higher than the price of electricity generated and transmitted using fossil fuels, which has hindered widespread use. In addition, since heavy glass must be used for the substrate, reinforcement work is required at the time of installation, which is one of the causes that increase the power generation cost.

このような状況に対し、化石燃料による発電コストよりも低コストな発電コストを達成しうる太陽電池として、陽極と陰極との間に電子供与体層(p型半導体層)と電子受容体層(n型半導体層)とが混合されたバルクヘテロジャンクション層を挟んだバルクヘテロジャンクション型光電変換素子が提案されている。   In this situation, as a solar cell that can achieve a power generation cost lower than that of fossil fuel, an electron donor layer (p-type semiconductor layer) and an electron acceptor layer ( There has been proposed a bulk heterojunction photoelectric conversion element sandwiching a bulk heterojunction layer mixed with an n-type semiconductor layer).

これらのバルクヘテロジャンクション型太陽電池においては、陽極・陰極以外は塗布プロセスで形成されているため、高速かつ安価な製造が可能であると期待され、前述の発電コストの課題を解決できる可能性がある。さらに、上記のSi系太陽電池・化合物半導体系太陽電池・色素増感太陽電池などと異なり、160℃より高温のプロセスがないため、安価かつ軽量なプラスチック基板上への形成も可能であると期待される。   Since these bulk heterojunction solar cells are formed by a coating process except for the anode and cathode, it is expected that they can be manufactured at high speed and at low cost, and may solve the above-mentioned problem of power generation cost. . Furthermore, unlike the Si solar cells, compound semiconductor solar cells, and dye-sensitized solar cells described above, there is no process at a temperature higher than 160 ° C., so it can be formed on a cheap and lightweight plastic substrate. Is done.

なお光電変換効率は、短絡電流(Jsc)×開放電圧(Voc)×曲線因子(FF)の積で算出されるが、より高い短絡電流(Jsc)を得るために、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子において高い溶解性とキャリア移動度を有する母核であるフルオレン構造やシラフルオレン構造を、有機光電変換素子の光電変換材料として用いることで、高い光電変換効率が得られることが報告されている(非特許文献1〜3、特許文献1、2参照)。   The photoelectric conversion efficiency is calculated by the product of the short circuit current (Jsc) × the open circuit voltage (Voc) × the fill factor (FF). In order to obtain a higher short circuit current (Jsc), the photoelectric conversion efficiency is high in, for example, an organic electroluminescence element. It has been reported that high photoelectric conversion efficiency can be obtained by using a fluorene structure or silafluorene structure, which is a mother nucleus having solubility and carrier mobility, as a photoelectric conversion material of an organic photoelectric conversion element (non-patent document). 1-3, and patent documents 1 and 2).

しかしより高い光電変換効率を得るためには、短絡電流(Jsc)の向上だけでなく開放電圧(Voc)の向上も必要であるが、一般に有機光電変換素子の開放電圧は0.6程度と低いものに留まっていた。前述のフルオレン構造やシラフルオレン構造を有する有機薄膜太陽電池においては、0.7〜1.0Vと比較的高い開放電圧(Voc)を得られているが、いまだ不十分である。   However, in order to obtain higher photoelectric conversion efficiency, it is necessary to improve not only the short-circuit current (Jsc) but also the open-circuit voltage (Voc), but generally the open-circuit voltage of the organic photoelectric conversion element is as low as about 0.6. I stayed in things. In the organic thin-film solar cell having the above-mentioned fluorene structure or silafluorene structure, a relatively high open circuit voltage (Voc) of 0.7 to 1.0 V is obtained, but it is still insufficient.

これらをより向上できれば一層の光電変換効率を得られるものと期待される。特により広い太陽光スペクトルを利用するために光電変換材料の狭バンドギャップ化を進めていくと、光電変換材料のHOMO準位が浅くなってしまうが、有機光電変換素子の開放電圧(Voc)はp型半導体材料のHOMO準位とn型半導体材料のLUMO準位の差分と関係しているといわれており、狭いバンドギャップ、高いキャリア移動度、深いHOMO準位の全てを満たす、光電変換効率の高い光電変換材料が待望されていた。   If these can be improved further, it is expected that higher photoelectric conversion efficiency can be obtained. In particular, if the narrow band gap of the photoelectric conversion material is advanced in order to use a wider sunlight spectrum, the HOMO level of the photoelectric conversion material becomes shallow, but the open-circuit voltage (Voc) of the organic photoelectric conversion element is It is said to be related to the difference between the HOMO level of the p-type semiconductor material and the LUMO level of the n-type semiconductor material, and satisfies all of the narrow band gap, high carrier mobility, and deep HOMO level. Therefore, a photoelectric conversion material having a high value has been awaited.

また、この様な深いHOMO準位を有する化合物は有機エレクトロルミネッセンス素子の電子輸送層としても有用であると期待される。すなわち、有機エレクトロルミネッセンス素子の電子輸送層として使用すると、HOMO準位が深いために発光層の励起子を閉じ込める効果が期待され、発光効率の向上、すなわち有機エレクトロルミネッセンス照明のさらなる電力効率の向上が期待される。   Further, such a compound having a deep HOMO level is expected to be useful as an electron transport layer of an organic electroluminescence device. That is, when used as an electron transport layer of an organic electroluminescence element, the effect of confining excitons in the light-emitting layer is expected due to the deep HOMO level, which improves luminous efficiency, that is, further improves the power efficiency of organic electroluminescent lighting. Be expected.

特開2008−106239号公報JP 2008-106239 A 特開2008−106240号公報JP 2008-106240 A

Adv.Mater.;vol.15,p988(2003)Adv. Mater. Vol. 15, p988 (2003) J.Am.Chem.Soc.;vol.128,p8980(2006)J. et al. Am. Chem. Soc. Vol. 128, p8980 (2006) App.Phy.Let.;vol.92,033307,(2008)App. Phy. Let. Vol. 92,033307, (2008)

本発明の目的は、高い曲線因子および光電変換効率を有する有機薄膜太陽電池、およびそれを構成する有機半導体材料を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an organic thin-film solar cell having a high fill factor and photoelectric conversion efficiency, and an organic semiconductor material constituting the organic thin-film solar cell.

また、発光効率の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることにある。   Another object is to obtain an organic electroluminescence element with high luminous efficiency.

本発明の上記目的は、以下の構成1〜13により達成することができるが、具体的に本発明によれば、
陰極、陽極、およびp型半導体材料とn型半導体材料が混合されたバルクヘテロジャンクション層を有する有機光電変換素子を備える有機薄膜太陽電池であって、
前記陰極と陽極の間に、少なくとも下記一般式(1)で表される部分構造を有する化合物を含有する層を有し、
当該一般式(1)で表される部分構造を有する化合物を含有する層が、バルクヘテロジャンクション層であることを特徴とする有機薄膜太陽電池が提供される。

Figure 0005493465
(式中、Qは炭素、珪素、ゲルマニウム、チタン、スズから選ばれる4価の原子を表す。Zは置換または無置換の含窒素芳香族6員環を表し、Zは置換または無置換の芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換または無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基から選ばれる置換基を表す。) The above object of the present invention can be achieved by the following configurations 1 to 13. Specifically, according to the present invention,
An organic thin-film solar cell comprising an organic photoelectric conversion element having a cathode, an anode, and a bulk heterojunction layer in which a p-type semiconductor material and an n-type semiconductor material are mixed,
Between the cathode and the anode, it has a layer containing a compound having a partial structure represented by at least the following general formula (1),
Layer containing a compound having a partial structure represented by the general formula (1) is an organic thin film solar cell, wherein the bulk heterojunction layer der Rukoto is provided.
Figure 0005493465
(In the formula, Q represents a tetravalent atom selected from carbon, silicon, germanium, titanium, and tin. Z 1 represents a substituted or unsubstituted nitrogen-containing aromatic 6-membered ring, and Z 2 represents substituted or unsubstituted. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, respectively. Represents a selected substituent.)

1.下記一般式(1)で表される部分構造を有する化合物を含有することを特徴とする有機エレクトロニクス素子。   1. An organic electronic device comprising a compound having a partial structure represented by the following general formula (1).

Figure 0005493465
Figure 0005493465

(式中、Qは炭素、珪素、ゲルマニウム、チタン、スズから選ばれる4価の原子を表す。Zは置換または無置換の含窒素芳香族6員環を表し、Zは置換または無置換の芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換または無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基から選ばれる置換基を表す。)
2.陰極、陽極、およびp型半導体材料とn型半導体材料が混合されたバルクヘテロジャンクション層を有する有機光電変換素子であって、前記陰極と陽極の間に、少なくとも下記一般式(1)で表される部分構造を有する化合物を含有する層を有することを特徴とする有機光電変換素子。
(In the formula, Q represents a tetravalent atom selected from carbon, silicon, germanium, titanium, and tin. Z 1 represents a substituted or unsubstituted nitrogen-containing aromatic 6-membered ring, and Z 2 represents substituted or unsubstituted. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, respectively. Represents a selected substituent.)
2. An organic photoelectric conversion element having a cathode, an anode, and a bulk heterojunction layer in which a p-type semiconductor material and an n-type semiconductor material are mixed, and is represented by at least the following general formula (1) between the cathode and the anode. An organic photoelectric conversion element comprising a layer containing a compound having a partial structure.

Figure 0005493465
Figure 0005493465

(式中、Qは炭素、珪素、ゲルマニウム、チタン、スズから選ばれる4価の原子を表す。Zは置換または無置換の含窒素芳香族6員環を表し、Zは置換または無置換の芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換または無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基から選ばれる置換基を表す。)
3.前記一般式(1)で表される部分構造を有する化合物を含有する層が、前記バルクヘテロジャンクション層であることを特徴とする前記2に記載の有機光電変換素子。
(In the formula, Q represents a tetravalent atom selected from carbon, silicon, germanium, titanium, and tin. Z 1 represents a substituted or unsubstituted nitrogen-containing aromatic 6-membered ring, and Z 2 represents substituted or unsubstituted. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, respectively. Represents a selected substituent.)
3. 3. The organic photoelectric conversion device according to 2 above, wherein the layer containing a compound having a partial structure represented by the general formula (1) is the bulk heterojunction layer.

4.前記一般式(1)で表される部分構造を有する化合物を含有する層が、前記バルクヘテロジャンクション層と陰極との間に形成された層であることを特徴とする前記2に記載の有機光電変換素子。   4). 3. The organic photoelectric conversion according to 2 above, wherein the layer containing the compound having the partial structure represented by the general formula (1) is a layer formed between the bulk heterojunction layer and the cathode. element.

5.前記一般式(1)におけるZで表される芳香族環が、含窒素芳香族6員環であることを特徴とする、前記2〜4のいずれか1項記載の有機光電変換素子。 5. 5. The organic photoelectric conversion element according to any one of 2 to 4, wherein the aromatic ring represented by Z 2 in the general formula (1) is a nitrogen-containing aromatic 6-membered ring.

6.前記一般式(1)で表される部分構造を有する化合物が、下記一般式(2)で表される部分構造を有する化合物であることを特徴とする前記2〜5のいずれか1項記載の有機光電変換素子。   6). 6. The compound according to any one of 2 to 5, wherein the compound having a partial structure represented by the general formula (1) is a compound having a partial structure represented by the following general formula (2). Organic photoelectric conversion element.

Figure 0005493465
Figure 0005493465

(式中、X〜Xは置換または無置換の炭素原子または窒素原子を表し、少なくともX〜Xのうち1つは窒素原子を表す。R、R及びQは前記一般式(1)におけるR、R及びQと同義である。)
7.前記一般式(2)で表される部分構造を有する化合物におけるQで表される原子が炭素原子であることを特徴とする、前記6記載の有機光電変換素子。
(In the formula, X 1 to X 6 represent a substituted or unsubstituted carbon atom or a nitrogen atom, and at least one of X 1 to X 6 represents a nitrogen atom. R 1 , R 2, and Q represent the above general formula. (It is synonymous with R 1 , R 2 and Q in (1).)
7). 7. The organic photoelectric conversion device as described in 6 above, wherein the atom represented by Q in the compound having the partial structure represented by the general formula (2) is a carbon atom.

8.前記一般式(2)で表される部分構造を有する化合物におけるXで表される原子が窒素原子であることを特徴とする前記6又は7記載の有機光電変換素子。 8). 8. The organic photoelectric conversion device as described in 6 or 7 above, wherein the atom represented by X 1 in the compound having a partial structure represented by the general formula (2) is a nitrogen atom.

9.前記一般式(1)又は(2)で表される部分構造を有する化合物が、低分子化合物であることを特徴とする前記2〜8のいずれか1項記載の有機光電変換素子。   9. 9. The organic photoelectric conversion device as described in any one of 2 to 8 above, wherein the compound having a partial structure represented by the general formula (1) or (2) is a low molecular compound.

10.前記一般式(1)又は(2)で表される部分構造を有する化合物を含有する層が、溶液塗布法によって作製されたことを特徴とする前記2〜9のいずれか1項記載の有機光電変換素子。   10. 10. The organic photoelectric device as described in any one of 2 to 9 above, wherein the layer containing the compound having a partial structure represented by the general formula (1) or (2) is produced by a solution coating method. Conversion element.

11.前記2〜10のいずれか1項記載の有機光電変換素子からなることを特徴とする太陽電池。   11. It consists of the organic photoelectric conversion element of any one of said 2-10, The solar cell characterized by the above-mentioned.

12.前記2〜10のいずれか1項に記載の有機光電変換素子がアレイ状に配置されてなることを特徴とする光センサアレイ。   12 11. The optical sensor array comprising the organic photoelectric conversion elements according to any one of 2 to 10 arranged in an array.

13.陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、陰極を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、かつ、下記一般式(1)又は(2)で表される部分構造を有する化合物を該電子輸送層に含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。   13. An organic electroluminescence device having an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode, and having a partial structure represented by the following general formula (1) or (2) An organic electroluminescence device comprising the layer.

Figure 0005493465
Figure 0005493465

(式中、Qは炭素、珪素、ゲルマニウム、チタン、スズから選ばれる4価の原子を表す。Zは置換または無置換の含窒素芳香族6員環を表し、Zは置換または無置換の芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換または無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基から選ばれる置換基を表す。X〜Xは置換または無置換の炭素原子または窒素原子を表し、少なくともX〜Xのうち1つは窒素原子を表す。) (In the formula, Q represents a tetravalent atom selected from carbon, silicon, germanium, titanium, and tin. Z 1 represents a substituted or unsubstituted nitrogen-containing aromatic 6-membered ring, and Z 2 represents substituted or unsubstituted. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, respectively. X 1 to X 6 represent a substituted or unsubstituted carbon atom or a nitrogen atom, and at least one of X 1 to X 6 represents a nitrogen atom.

本発明により、高い変換効率を達成可能で、耐久性が高く、安価な製造を可能とする塗布プロセスに対応可能な有機光電変換素子からなる太陽電池及び光センサアレイ並びに有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができた。   According to the present invention, there are provided a solar cell, an optical sensor array, and an organic electroluminescence element comprising an organic photoelectric conversion element capable of achieving a high conversion efficiency, having high durability, and capable of being applied to a coating process that enables low-cost manufacturing. I was able to.

バルクヘテロジャンクション型の有機光電変換素子からなる太陽電池を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the solar cell which consists of a bulk hetero junction type organic photoelectric conversion element. p−i−nの三層構成の光電変換層を備える有機光電変換素子からなる太陽電池を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the solar cell which consists of an organic photoelectric conversion element provided with the photoelectric converting layer of the three-layer structure of p-i-n. タンデム型のバルクヘテロジャンクション層を備える有機光電変換素子からなる太陽電池を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the solar cell which consists of an organic photoelectric conversion element provided with a tandem-type bulk heterojunction layer. 光センサアレイの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of an optical sensor array.

本発明者らは、上記課題に対して鋭意検討したところ、前記一般式(1)で表される化合物を含有する層が、バルクヘテロジャンクション層と陰極の間に存在していることで上記課題を達成できることを見出した。更に、バルクヘテロジャンクション層と陰極の間に前記一般式(2)又は(3)で表される化合物を含有する層を存在させることで、より効果が顕著に表れる。   As a result of diligent investigations on the above problems, the present inventors have found that the layer containing the compound represented by the general formula (1) exists between the bulk heterojunction layer and the cathode. I have found that I can achieve it. Furthermore, the effect appears more remarkably when a layer containing the compound represented by the general formula (2) or (3) is present between the bulk heterojunction layer and the cathode.

以下、本発明を更に詳しく説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

(有機エレクトロニクス素子)
有機エレクトロニクス素子とは、有機物からなる薄膜層から電気に有用な特性を得る素子のことである。たとえば電気を流すと発光する有機エレクトロルミネッセンス素子や、光を照射すると発電する有機光電変換素子および電流量・電圧量を制御することができる有機薄膜トランジスタ素子などを挙げることができる。本発明においては、有機エレクトロルミネッセンス素子および有機光電変換素子、中でも有機光電変換素子において好ましく用いることができる。以下、有機光電変換素子から説明する。
(Organic electronics element)
An organic electronic device is a device that obtains electrically useful characteristics from a thin film layer made of an organic material. For example, an organic electroluminescence element that emits light when electricity is supplied, an organic photoelectric conversion element that generates electric power when irradiated with light, and an organic thin film transistor element that can control the amount of current and voltage can be used. In this invention, it can use preferably in an organic electroluminescent element and an organic photoelectric conversion element, especially an organic photoelectric conversion element. Hereinafter, the organic photoelectric conversion element will be described.

(有機光電変換素子および太陽電池の構成)
図1は、バルクヘテロジャンクション型の有機光電変換素子からなる太陽電池の一例を示す断面図である。図1において、バルクヘテロジャンクション型の有機光電変換素子10は、基板11の一方面上に、陽極12、正孔輸送層17、バルクヘテロジャンクション層の光電変換部14、電子輸送層18及び陰極13が順次積層されている。
(Configuration of organic photoelectric conversion element and solar cell)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a solar cell composed of a bulk heterojunction organic photoelectric conversion element. In FIG. 1, a bulk heterojunction organic photoelectric conversion element 10 has an anode 12, a hole transport layer 17, a bulk heterojunction layer photoelectric conversion section 14, an electron transport layer 18, and a cathode 13 in this order on one surface of a substrate 11. Are stacked.

基板11は、順次積層された陽極12、光電変換部14及び陰極13を保持する部材である。本実施形態では、基板11側から光電変換される光が入射するので、基板11は、この光電変換される光を透過させることが可能な、すなわち、この光電変換すべき光の波長に対して透明な部材である。基板11は、例えば、ガラス基板や樹脂基板等が用いられる。この基板11は、必須ではなく、例えば、光電変換部14の両面に陽極12及び陰極13を形成することでバルクヘテロジャンクション型の有機光電変換素子10が構成されてもよい。   The substrate 11 is a member that holds the anode 12, the photoelectric conversion unit 14, and the cathode 13 that are sequentially stacked. In the present embodiment, since light that is photoelectrically converted enters from the substrate 11 side, the substrate 11 can transmit the light that is photoelectrically converted, that is, with respect to the wavelength of the light to be photoelectrically converted. It is a transparent member. As the substrate 11, for example, a glass substrate or a resin substrate is used. The substrate 11 is not essential. For example, the bulk heterojunction type organic photoelectric conversion element 10 may be configured by forming the anode 12 and the cathode 13 on both surfaces of the photoelectric conversion unit 14.

光電変換部14は、光エネルギーを電気エネルギーに変換する層であって、p型半導体材料とn型半導体材料とを一様に混合したバルクヘテロジャンクション層を有して構成される。p型半導体材料は、相対的に電子供与体(ドナー)として機能し、n型半導体材料は、相対的に電子受容体(アクセプタ)として機能する。ここで、電子供与体及び電子受容体は、“光を吸収した際に、電子供与体から電子受容体に電子が移動し、正孔と電子のペア(電荷分離状態)を形成する電子供与体及び電子受容体”であり、電極のように単に電子を供与あるいは受容するものではなく、光反応によって、電子を供与あるいは受容するものである。   The photoelectric conversion unit 14 is a layer that converts light energy into electric energy, and includes a bulk heterojunction layer in which a p-type semiconductor material and an n-type semiconductor material are uniformly mixed. The p-type semiconductor material functions relatively as an electron donor (donor), and the n-type semiconductor material functions relatively as an electron acceptor (acceptor). Here, the electron donor and the electron acceptor are “an electron donor in which, when light is absorbed, electrons move from the electron donor to the electron acceptor to form a hole-electron pair (charge separation state)”. And an electron acceptor ”, which does not simply donate or accept electrons like an electrode, but donates or accepts electrons by a photoreaction.

図1において、基板11を介して陽極12から入射された光は、光電変換部14のバルクヘテロジャンクション層における電子受容体あるいは電子供与体で吸収され、電子供与体から電子受容体に電子が移動し、正孔と電子のペア(電荷分離状態)が形成される。発生した電荷は、内部電界、例えば、陽極12と陰極13の仕事関数が異なる場合では陽極12と陰極13との電位差によって、電子は、電子受容体間を通り、また正孔は、電子供与体間を通り、それぞれ異なる電極へ運ばれ、光電流が検出される。例えば、陽極12の仕事関数が陰極13の仕事関数よりも大きい場合では、電子は、陽極12へ、正孔は、陰極13へ輸送される。なお、仕事関数の大小が逆転すれば電子と正孔は、これとは逆方向に輸送される。また、陽極12と陰極13との間に電位をかけることにより、電子と正孔の輸送方向を制御することもできる。   In FIG. 1, light incident from the anode 12 through the substrate 11 is absorbed by the electron acceptor or electron donor in the bulk heterojunction layer of the photoelectric conversion unit 14, and electrons move from the electron donor to the electron acceptor. A hole-electron pair (charge separation state) is formed. The generated electric charge is caused by an internal electric field, for example, when the work function of the anode 12 and the cathode 13 is different, the electrons pass between the electron acceptors and the holes are electron donors due to the potential difference between the anode 12 and the cathode 13. The photocurrent is detected by passing through different electrodes to different electrodes. For example, when the work function of the anode 12 is larger than that of the cathode 13, electrons are transported to the anode 12 and holes are transported to the cathode 13. If the magnitude of the work function is reversed, electrons and holes are transported in the opposite direction. In addition, the transport direction of electrons and holes can be controlled by applying a potential between the anode 12 and the cathode 13.

なお図1には記載していないが、正孔ブロック層、電子ブロック層、電子注入層、正孔注入層、あるいは平滑化層等の他の層を有していてもよい。   Although not shown in FIG. 1, other layers such as a hole blocking layer, an electron blocking layer, an electron injection layer, a hole injection layer, or a smoothing layer may be included.

さらに好ましい構成としては、前記光電変換部14が、いわゆるp−i−nの三層構成となっている構成(図2)である。通常のバルクヘテロジャンクション層は、p型半導体材料とn型半導体層が混合した、14i層単体であるが、p型半導体材料単体からなる14p層、およびn型半導体材料単体からなる14n層で挟むことにより、正孔及び電子の整流性がより高くなり、電荷分離した正孔・電子の再結合等によるロスが低減され、一層高い光電変換効率を得ることができる。   As a more preferable configuration, the photoelectric conversion unit 14 has a so-called p-i-n three-layer configuration (FIG. 2). A normal bulk heterojunction layer is a 14i layer composed of a mixture of a p-type semiconductor material and an n-type semiconductor layer, but is sandwiched between a 14p layer composed of a single p-type semiconductor material and a 14n layer composed of a single n-type semiconductor material. As a result, the rectification of holes and electrons becomes higher, loss due to recombination of charge-separated holes and electrons is reduced, and higher photoelectric conversion efficiency can be obtained.

さらに、太陽光利用率(光電変換効率)の向上を目的として、このような光電変換素子を積層した、タンデム型の構成としてもよい。図3は、タンデム型のバルクヘテロジャンクション層を備える有機光電変換素子からなる太陽電池を示す断面図である。タンデム型構成の場合、基板11上に、順次陽極12、第1の光電変換部14′を積層した後、電荷再結合層15を積層した後、第2の光電変換部16、次いで陰極13を積層することで、タンデム型の構成とすることができる。第2の光電変換部16は、第1の光電変換部14′の吸収スペクトルと同じスペクトルを吸収する層でもよいし、異なるスペクトルを吸収する層でもよいが、好ましくは異なるスペクトルを吸収する層である。また第1の光電変換部14′、第2の光電変換部16がともに前述のp−i−nの三層構成であってもよい。   Furthermore, it is good also as a tandem-type structure which laminated | stacked such a photoelectric conversion element for the purpose of the improvement of sunlight utilization factor (photoelectric conversion efficiency). FIG. 3 is a cross-sectional view showing a solar cell composed of an organic photoelectric conversion element including a tandem bulk heterojunction layer. In the case of the tandem configuration, the anode 12 and the first photoelectric conversion unit 14 ′ are sequentially stacked on the substrate 11, the charge recombination layer 15 is stacked, the second photoelectric conversion unit 16, and then the cathode 13 are stacked. By stacking, a tandem structure can be obtained. The second photoelectric conversion unit 16 may be a layer that absorbs the same spectrum as the absorption spectrum of the first photoelectric conversion unit 14 'or may be a layer that absorbs a different spectrum, but is preferably a layer that absorbs a different spectrum. is there. Further, the first photoelectric conversion unit 14 ′ and the second photoelectric conversion unit 16 may both have the above-described three-layer configuration of pin.

以下に、これらの層を構成する材料について述べる。   Below, the material which comprises these layers is described.

〔p型半導体材料〕
本発明は、p型半導体材料として前記一般式(1)で表される部分構造を有する本発明の材料を用いることが好ましい。
[P-type semiconductor materials]
In the present invention, it is preferable to use the material of the present invention having the partial structure represented by the general formula (1) as the p-type semiconductor material.

一般式(1)において、R又はR水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換または無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基から選ばれる置換基を表すが、好ましくはアルキル基であり、特に好ましくは炭素数6〜12のアルキル基である。 In general formula (1), R 1 or R 2 represents a substituent selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, and a heteroaryl group, preferably an alkyl group. And particularly preferably an alkyl group having 6 to 12 carbon atoms.

前記一般式(1)において、Qは炭素、珪素、ゲルマニウム、チタン、スズから選ばれる4価の原子を表すが、得られる化合物の電気化学的な安定性の観点から炭素原子又は珪素原子が好ましく、特に炭素原子が好ましい。   In the general formula (1), Q represents a tetravalent atom selected from carbon, silicon, germanium, titanium and tin, and is preferably a carbon atom or a silicon atom from the viewpoint of the electrochemical stability of the resulting compound. In particular, a carbon atom is preferred.

一般式(1)中のZで表される置換または無置換の含窒素芳香族6員環としては、窒素原子数が1〜3の範囲が好ましいが、化合物の安定性から窒素原子数は1〜2、より好ましくは1つである。また窒素原子が占める位置としては、中央の5員環のQで表される原子に近い側からα位、β位、γ位、δ位とした場合α位またはδ位が好ましく、最も好ましくはδ位である。 The substituted or unsubstituted nitrogen-containing aromatic 6-membered ring represented by Z 1 in the general formula (1) preferably has a nitrogen atom number in the range of 1 to 3, but the number of nitrogen atoms is from the stability of the compound. One or two, more preferably one. Further, the position occupied by the nitrogen atom is preferably the α-position or δ-position when the α-position, β-position, γ-position, or δ-position from the side closer to the atom represented by Q in the central 5-membered ring, most preferably The δ position.

また、前記一般式(1)で表される部分構造は、含窒素6員環構造を含むためにアクセプター性(電子受容性)の母核であり、ドナー性(電子供与性)の母核とπ電子共役系で結合されることにより、太陽光スペクトルにふくまれる長波長成分まで光電変換可能な材料とすることができる。このようなドナー性母核は、一般にはヘテロ原子含有芳香族5員環を挙げることができ、代表的にはピロール、フラン、シロール、チオフェン、セレノフェン等を挙げることができる。また、これらと前記一般式(1)との結合位置は、なるべく共役系が効果的に結合されることを考えると、γ位であることが好ましい。   The partial structure represented by the general formula (1) includes a nitrogen-containing six-membered ring structure, and thus has a acceptor (electron acceptor) mother nucleus, a donor (electron donator) mother nucleus, By bonding with a π-electron conjugated system, a material capable of photoelectric conversion up to a long wavelength component included in the sunlight spectrum can be obtained. Such donor mother nucleus generally includes a hetero atom-containing aromatic 5-membered ring, and typically includes pyrrole, furan, silole, thiophene, and selenophene. Further, the bonding position between these and the general formula (1) is preferably the γ position considering that the conjugated system is effectively bonded as much as possible.

すなわち、より好ましくは一般式(2)で表される構造である。   That is, the structure represented by the general formula (2) is more preferable.

で表される置換または無置換の芳香族炭化水素環または芳香族複素環としては、上述した、Zで表される置換または無置換の含窒素芳香族6員環が好ましい。 The substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring represented by Z 2 is preferably the above-described substituted or unsubstituted nitrogen-containing aromatic 6-membered ring represented by Z 1 .

一般式(2)において、X〜Xは置換または無置換の炭素原子または窒素原子を表すが、α位、γ位、δ位のいずれかを窒素原子が置換する構造、α位とγ位、又はα位とδ位がそれぞれ窒素原子が置換する構造が好ましい。 In the general formula (2), X 1 to X 6 each represent a substituted or unsubstituted carbon atom or nitrogen atom, and a structure in which a nitrogen atom substitutes at any of α-position, γ-position, and δ-position, α-position and γ- The structure in which the nitrogen atom is substituted at each of the positions, or the α-position and the δ-position is preferred.

〜Rは水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換または無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基から選ばれる置換基を表すが、好ましくはアルキル基であり、特に好ましくは炭素数6〜12のアルキル基である。 R 1 to R 4 each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituent selected from a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, preferably an alkyl group, particularly preferably. It is a C6-C12 alkyl group.

以下、本発明の一般式(1)又は一般式(2)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Hereinafter, although the specific example of a compound represented by General formula (1) or General formula (2) of this invention is given, this invention is not limited to these.

Figure 0005493465
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Figure 0005493465
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Figure 0005493465
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上記化合物において、nは2〜100を表す。   In the said compound, n represents 2-100.

また本発明においては、高純度の精製が可能な点と、高い移動度の薄膜が得られるといった観点から、p型半導体材料は低分子化合物であることが好ましい。なお、本発明において低分子化合物とは、化合物の分子量に分布のない、単一分子であることを意味する。他方、高分子化合物とは、所定のモノマーを反応させることによって一定の分子量分布を有する化合物の集合体であることを意味する。しかし、実用上分子量によって定義をする際には、好ましくは分子量が3000以下の化合物を低分子化合物と区分する。より好ましくは2500以下、さらに好ましくは2000以下である。他方、分子量が3000以上、より好ましくは5000以上、さらに好ましくは10000以上の化合物を高分子化合物と区分する。なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定することができる。   In the present invention, the p-type semiconductor material is preferably a low-molecular compound from the viewpoint that high-purity purification is possible and a thin film having high mobility can be obtained. In the present invention, the low molecular weight compound means a single molecule having no distribution in the molecular weight of the compound. On the other hand, the polymer compound means an aggregate of compounds having a certain molecular weight distribution by reacting a predetermined monomer. However, in practical terms, when defining by molecular weight, a compound having a molecular weight of 3000 or less is preferably classified as a low molecular compound. More preferably, it is 2500 or less, More preferably, it is 2000 or less. On the other hand, a compound having a molecular weight of 3000 or more, more preferably 5000 or more, and further preferably 10,000 or more is classified as a polymer compound. The molecular weight can be measured by gel permeation chromatography (GPC).

このような構造を有する化合物は、前記特許文献1および2、又は、Tetrahedron vol.51,No.44(1995)、p12127、Journal fuer Praktische Chemie; 322; 6; 1980; 971等を参考として合成することができる。   Compounds having such a structure are disclosed in Patent Documents 1 and 2 or Tetrahedron vol. 51, no. 44 (1995), p12127, Journal fuel Praktische Chemie; 322; 6; 1980; 971, and the like.

合成例(化合物例5の合成)   Synthesis Example (Synthesis of Compound Example 5)

Figure 0005493465
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Journal fuer Praktische Chemie; 322; 6; 1980; 971にしたがって、2,7−ジブロモ−4,5−ジアザフルオレノンを合成した。得られた2,7−ジブロモ−4,5−ジアザフルオレノン3.4g、2−チオフェンボロン酸2.8g、パラジウム(0)テトラキス(トリフェニルホスフィン)400mgをテトラヒドロフランに溶解させ、20%炭酸ナトリウム溶液を数滴添加し、還流下で12時間反応させた。反応終了後、酢酸エチルと水を加えて分液操作を行い、有機層を抽出した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、2,7−ビス(2−チエノ)−4,5−ジアザフルオレノン1.9gを得た。   2,7-Dibromo-4,5-diazafluorenone was synthesized according to Journal fuer Prachtische Chemie; 322; 6; 1980; The obtained 2,7-dibromo-4,5-diazafluorenone 3.4 g, 2-thiopheneboronic acid 2.8 g, and palladium (0) tetrakis (triphenylphosphine) 400 mg were dissolved in tetrahydrofuran, and 20% sodium carbonate. A few drops of the solution were added and allowed to react for 12 hours under reflux. After completion of the reaction, ethyl acetate and water were added for liquid separation, and the organic layer was extracted. After distilling off the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 1.9 g of 2,7-bis (2-thieno) -4,5-diazafluorenone.

ついで、1−ブロモオクタン2.3gとテトラヒドロフラン(THF)の混合溶液に対し、窒素下−78℃にてセカンダリーブチルリチウム1.6モル溶液を等量添加し、30分攪拌した後、2,7−ビス(2−チエノ)ジアザフルオレノン1.9gを添加した後、室温で昼夜攪拌後、還流条件で1時間攪拌した後、酢酸エチルと水を加えて分液操作を行い、有機層を抽出した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、2,7−ビス(2−チエノ)−9,9−ジオクチル−4,5−ジアザフルオレン2.7gを得た。   Next, an equal amount of a 1.6 mol solution of secondary butyl lithium was added to a mixed solution of 2.3 g of 1-bromooctane and tetrahydrofuran (THF) at −78 ° C. under nitrogen, and the mixture was stirred for 30 minutes. -After adding 1.9 g of bis (2-thieno) diazafluorenone, stirred at room temperature day and night, stirred for 1 hour under reflux conditions, then added ethyl acetate and water to perform liquid separation, and extracted the organic layer did. After distilling off the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 2.7 g of 2,7-bis (2-thieno) -9,9-dioctyl-4,5-diazafluorene.

ついでNブロモスクシンイミド1.7g、アゾイソブチロニトリル(AIBN)触媒量を添加した四塩化炭素に2,7−ビス(2−チエノ)−9,9−ジオクチル−4,5−ジアザフルオレン2.7gを溶解させ、50℃で5時間反応を行い、臭素化を行った後、酢酸エチルと水を加えて分液操作を行い、有機層を抽出した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、2,7−ビス(2−(5−ブロモチエノ)−)9,9−ジオクチル−4,5−ジアザフルオレン2.8gを得た。   Then, 2,7-bis (2-thieno) -9,9-dioctyl-4,5-diazafluorene 2 was added to carbon tetrachloride to which 1.7 g of N bromosuccinimide and a catalytic amount of azoisobutyronitrile (AIBN) were added. 0.7 g was dissolved, reacted at 50 ° C. for 5 hours, brominated, and then subjected to liquid separation operation by adding ethyl acetate and water to extract the organic layer. After distilling off the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 2.8 g of 2,7-bis (2- (5-bromothieno)-) 9,9-dioctyl-4,5-diazafluorene. .

以降はAdv. Mater. 2007,19,p2295を参考として合成し、化合物例5のp型半導体材料を合成した。   Thereafter, Adv. Mater. 2007, 19, p2295 was synthesized as a reference, and a p-type semiconductor material of Compound Example 5 was synthesized.

なお、本発明のp型半導体材料としては、上記の化合物以外にも他の公知のp型半導体材料(縮合多環芳香族低分子化合物や共役系ポリマー等)を併用してもよい。   As the p-type semiconductor material of the present invention, other known p-type semiconductor materials (such as condensed polycyclic aromatic low-molecular compounds and conjugated polymers) may be used in combination in addition to the above-described compounds.

縮合多環芳香族低分子化合物としては、例えば、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、ヘキサセン、ヘプタセン、クリセン、ピセン、フルミネン、ピレン、ペロピレン、ペリレン、テリレン、クオテリレン、コロネン、オバレン、サーカムアントラセン、ビスアンテン、ゼスレン、ヘプタゼスレン、ピランスレン、ビオランテン、イソビオランテン、サーコビフェニル、アントラジチオフェン等の化合物、ポルフィリンや銅フタロシアニン、テトラチアフルバレン(TTF)−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)錯体、ビスエチレンテトラチアフルバレン(BEDTTTF)−過塩素酸錯体、及びこれらの誘導体や前駆体が挙げられる。   Examples of the condensed polycyclic aromatic low-molecular compound include anthracene, tetracene, pentacene, hexacene, heptacene, chrysene, picene, fluorene, pyrene, peropyrene, perylene, terylene, quaterylene, coronene, ovalene, circumanthracene, bisanthene, zesulene, Compounds such as heptazeslen, pyranthrene, violanthene, isoviolanthene, circobiphenyl, anthradithiophene, porphyrin, copper phthalocyanine, tetrathiafulvalene (TTF) -tetracyanoquinodimethane (TCNQ) complex, bisethylenetetrathiafulvalene (BEDTTTTF ) -Perchloric acid complexes, and derivatives and precursors thereof.

また上記の縮合多環を有する誘導体の例としては、国際公開第03/16599号パンフレット、国際公開第03/28125号パンフレット、米国特許第6,690,029号明細書、特開2004−107216号公報等に記載の置換基をもったペンタセン誘導体、米国特許出願公開第2003/136964号明細書等に記載のペンタセンプレカーサ、J.Amer.Chem.Soc.,vol127.No14.4986、J.Amer.Chem.Soc.,vol.123、p9482、J.Amer.Chem.Soc.,vol.130(2008)、No.9、2706等に記載のトリアルキルシリルエチニル基で置換されたアセン系化合物、特開2008−16834号等に記載のポルフィリン系化合物等が挙げられる。   Examples of the derivative having the above-mentioned condensed polycycle include WO 03/16599 pamphlet, WO 03/28125 pamphlet, US Pat. No. 6,690,029, JP 2004-107216 A. A pentacene derivative having a substituent described in JP-A No. 2003-136964, a pentacene precursor described in US Patent Application Publication No. 2003/136964, and the like; Amer. Chem. Soc. , Vol127. No. 14.4986, J. MoI. Amer. Chem. Soc. , Vol. 123, p9482; Amer. Chem. Soc. , Vol. 130 (2008), no. 9, acene-based compounds substituted with a trialkylsilylethynyl group described in 2706, and porphyrin-based compounds described in JP-A-2008-16834.

共役系ポリマーとしては、例えば、ポリ3−ヘキシルチオフェン(P3HT)等のポリチオフェン及びそのオリゴマー、またはTechnical Digest of the International PVSEC−17, Fukuoka, Japan, 2007, P1225に記載の重合性基を有するようなポリチオフェン、Nature Material,(2006)vol.5,p328に記載のポリチオフェン−チエノチオフェン共重合体、WO2008000664に記載のポリチオフェン−ジケトピロロピロール共重合体、Adv Mater,2007p4160に記載のポリチオフェン−チアゾロチアゾール共重合体,Nature Mat.vol.6(2007),p497に記載のPCPDTBT等のようなポリチオフェン共重合体、ポリピロール及びそのオリゴマー、ポリアニリン、ポリフェニレン及びそのオリゴマー、ポリフェニレンビニレン及びそのオリゴマー、ポリチエニレンビニレン及びそのオリゴマー、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系ポリマー、等のポリマー材料が挙げられる。   Examples of the conjugated polymer include a polythiophene such as poly-3-hexylthiophene (P3HT) and an oligomer thereof, or a technical group described in Technical Digest of the International PVSEC-17, Fukuoka, Japan, 2007, P1225. Polythiophene, Nature Material, (2006) vol. 5, p328, a polythiophene-thienothiophene copolymer described in WO2008000664, a polythiophene-diketopyrrolopyrrole copolymer described in WO2008000664, a polythiophene-thiazolothiazole copolymer described in Adv Mater, 2007p4160, Nature Mat. vol. 6 (2007), p497 described in PCPDTBT, etc., polypyrrole and its oligomer, polyaniline, polyphenylene and its oligomer, polyphenylene vinylene and its oligomer, polythienylene vinylene and its oligomer, polyacetylene, polydiacetylene, Examples thereof include polymer materials such as σ-conjugated polymers such as polysilane and polygermane.

また、ポリマー材料ではなくオリゴマー材料としては、チオフェン6量体であるα−セクシチオフェンα,ω−ジヘキシル−α−セクシチオフェン、α,ω−ジヘキシル−α−キンケチオフェン、α,ω−ビス(3−ブトキシプロピル)−α−セクシチオフェン、等のオリゴマーが好適に用いることができる。   In addition, oligomeric materials instead of polymer materials include thiophene hexamer α-sexual thiophene α, ω-dihexyl-α-sexual thiophene, α, ω-dihexyl-α-kinkethiophene, α, ω-bis (3 Oligomers such as -butoxypropyl) -α-sexithiophene can be preferably used.

[n型半導体材料]
本発明のバルクヘテロジャンクション層に用いられるn型半導体材料としては、特に限定されないが、例えば、フラーレン、オクタアザポルフィリン等、p型半導体の水素原子をフッ素原子に置換したパーフルオロ体(パーフルオロペンタセンやパーフルオロフタロシアニン等)、ナフタレンテトラカルボン酸無水物、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド、ペリレンテトラカルボン酸無水物、ペリレンテトラカルボン酸ジイミド等の芳香族カルボン酸無水物やそのイミド化物を骨格として含む高分子化合物等を挙げることができる。
[N-type semiconductor materials]
The n-type semiconductor material used for the bulk heterojunction layer of the present invention is not particularly limited. Perfluorophthalocyanine), naphthalenetetracarboxylic anhydride, naphthalenetetracarboxylic acid diimide, perylenetetracarboxylic acid anhydride, perylenetetracarboxylic acid diimide and other aromatic carboxylic acid anhydrides and imidized compounds thereof as a skeleton Etc.

しかし、各種のp型半導体材料と高速(〜50fs)かつ効率的に電荷分離を行うことができる、フラーレン誘導体が好ましい。フラーレン誘導体としては、フラーレンC60、フラーレンC70、フラーレンC76、フラーレンC78、フラーレンC84、フラーレンC240、フラーレンC540、ミックスドフラーレン、フラーレンナノチューブ、多層ナノチューブ、単層ナノチューブ、ナノホーン(円錐型)等、およびこれらの一部が水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、シリル基、エーテル基、チオエーテル基、アミノ基、シリル基等によって置換されたフラーレン誘導体を挙げることができる。   However, fullerene derivatives that can perform charge separation with various p-type semiconductor materials at high speed (˜50 fs) and efficiently are preferable. Fullerene derivatives include fullerene C60, fullerene C70, fullerene C76, fullerene C78, fullerene C84, fullerene C240, fullerene C540, mixed fullerene, fullerene nanotubes, multi-walled nanotubes, single-walled nanotubes, nanohorns (conical), etc. Partially by hydrogen atom, halogen atom, substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heteroaryl group, cycloalkyl group, silyl group, ether group, thioether group, amino group, silyl group, etc. Examples thereof include substituted fullerene derivatives.

中でも[6,6]−フェニルC61−ブチリックアシッドメチルエステル(略称PCBM)、[6,6]−フェニルC61−ブチリックアシッド−nブチルエステル(PCBnB)、[6,6]−フェニルC61−ブチリックアシッド−イソブチルエステル(PCBiB)、[6,6]−フェニルC61−ブチリックアシッド−nヘキシルエステル(PCBH)、Adv.Mater.,vol.20(2008),p2116等に記載のbis−PCBM、特開2006−199674号公報等のアミノ化フラーレン、特開2008−130889号公報等のメタロセン化フラーレン、米国特許第7329709号明細書等の環状エーテル基を有するフラーレン等のような、置換基を有してより溶解性が向上したフラーレン誘導体を用いることが好ましい。   Among them, [6,6] -phenyl C61-butyric acid methyl ester (abbreviation PCBM), [6,6] -phenyl C61-butyric acid-nbutyl ester (PCBnB), [6,6] -phenyl C61-buty Rick acid-isobutyl ester (PCBiB), [6,6] -phenyl C61-butyric acid-n hexyl ester (PCBH), Adv. Mater. , Vol. 20 (2008), p2116, etc., aminated fullerenes such as JP-A 2006-199674, metallocene fullerenes such as JP-A 2008-130889, and cyclics such as US Pat. No. 7,329,709. It is preferable to use a fullerene derivative having a substituent and having improved solubility, such as fullerene having an ether group.

〔バルクヘテロジャンクション層の形成方法〕
電子受容体と電子供与体とが混合されたバルクヘテロジャンクション層の形成方法としては、蒸着法、塗布法(キャスト法、スピンコート法を含む)等を例示することができる。このうち、前述の正孔と電子が電荷分離する界面の面積を増大させ、高い光電変換効率を有する素子を作製するためには、塗布法が好ましい。また塗布法は、製造速度にも優れている。
[Method of forming bulk heterojunction layer]
Examples of a method for forming a bulk heterojunction layer in which an electron acceptor and an electron donor are mixed include a vapor deposition method and a coating method (including a casting method and a spin coating method). Among these, the coating method is preferable in order to increase the area of the interface where charges and electrons are separated from each other as described above and to produce a device having high photoelectric conversion efficiency. The coating method is also excellent in production speed.

塗布後は残留溶媒及び水分、ガスの除去、及び半導体材料の結晶化による移動度向上・吸収長波化を引き起こすために加熱を行うことが好ましい。製造工程中において所定の温度でアニール処理されると、微視的に一部が凝集または結晶化が促進され、バルクヘテロジャンクション層を適切な相分離構造とすることができる。その結果、バルクヘテロジャンクション層のキャリア移動度が向上し、高い効率を得ることができるようになる。   After coating, it is preferable to perform heating in order to cause removal of residual solvent, moisture and gas, and improvement of mobility and absorption longwave due to crystallization of the semiconductor material. When annealing is performed at a predetermined temperature during the manufacturing process, a part of the particles is microscopically aggregated or crystallized, and the bulk heterojunction layer can have an appropriate phase separation structure. As a result, the carrier mobility of the bulk heterojunction layer is improved and high efficiency can be obtained.

光電変換部(バルクヘテロジャンクション層)14は、電子受容体と電子供与体とが均一に混在された単一層で構成してもよいが、電子受容体と電子供与体との混合比を変えた複数層で構成してもよい。この場合、前述したような塗布後に不溶化できるような材料を用いることで形成することが可能となる。   The photoelectric conversion part (bulk heterojunction layer) 14 may be composed of a single layer in which the electron acceptor and the electron donor are uniformly mixed, but a plurality of the mixture ratios of the electron acceptor and the electron donor are changed. It may consist of layers. In this case, it can be formed by using a material that can be insolubilized after coating as described above.

〔電子輸送層・正孔ブロック層〕
本発明の有機光電変換素子10は、バルクヘテロジャンクション層と陰極との中間に電子輸送層18を形成することで、バルクヘテロジャンクション層で発生した電荷をより効率的に取り出すことが可能となるため、これらの層を有していることが好ましい。
[Electron transport layer / hole blocking layer]
Since the organic photoelectric conversion element 10 of the present invention can take out charges generated in the bulk heterojunction layer more efficiently by forming the electron transport layer 18 between the bulk heterojunction layer and the cathode. It is preferable to have this layer.

電子輸送層18としては、オクタアザポルフィリン、p型半導体のパーフルオロ体(パーフルオロペンタセンやパーフルオロフタロシアニン等)を用いることができるが、同様に、バルクヘテロジャンクション層に用いられるp型半導体材料のHOMO準位よりも深いHOMO準位を有する電子輸送層には、バルクヘテロジャンクション層で生成した正孔を陰極側には流さないような整流効果を有する、正孔ブロック機能が付与される。より好ましくは、n型半導体のHOMO準位よりも深い材料を電子輸送層として用いることである。また、電子を輸送する特性から、電子移動度の高い化合物を用いることが好ましい。   As the electron transport layer 18, octaazaporphyrin and a p-type semiconductor perfluoro (perfluoropentacene, perfluorophthalocyanine, etc.) can be used. Similarly, a HOMO of a p-type semiconductor material used for a bulk heterojunction layer. The electron transport layer having a HOMO level deeper than the level is given a hole blocking function having a rectifying effect so that holes generated in the bulk heterojunction layer do not flow to the cathode side. More preferably, a material deeper than the HOMO level of the n-type semiconductor is used as the electron transport layer. Moreover, it is preferable to use a compound with high electron mobility from the characteristic of transporting electrons.

このような電子輸送層は、正孔ブロック層とも呼ばれ、このような機能を有する電子輸送層を使用するほうが好ましい。このような材料としては、バソキュプロイン等のフェナントレン系化合物、ナフタレンテトラカルボン酸無水物、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド、ペリレンテトラカルボン酸無水物、ペリレンテトラカルボン酸ジイミド等のn型半導体材料、及び酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ガリウム等のn型無機酸化物及びフッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属化合物等を用いることができる。また、バルクヘテロジャンクション層に用いたn型半導体材料単体からなる層を用いることもできる。   Such an electron transport layer is also called a hole blocking layer, and it is preferable to use an electron transport layer having such a function. Examples of such materials include phenanthrene compounds such as bathocuproine, n-type semiconductor materials such as naphthalenetetracarboxylic acid anhydride, naphthalenetetracarboxylic acid diimide, perylenetetracarboxylic acid anhydride, perylenetetracarboxylic acid diimide, and titanium oxide. N-type inorganic oxides such as zinc oxide and gallium oxide, and alkali metal compounds such as lithium fluoride, sodium fluoride, and cesium fluoride can be used. A layer made of a single n-type semiconductor material used for the bulk heterojunction layer can also be used.

本発明において、前記一般式(1)又は(2)で表される化合物は前記HOMO準位が深く電子移動度の高い材料として好適であり、電子輸送層(兼正孔ブロック層)として用いることが好ましい。本発明の化合物を電子輸送層・正孔ブロック層として用いることで、曲線因子および光電変換効率の向上といった効果を得ることができる。   In the present invention, the compound represented by the general formula (1) or (2) is suitable as a material having a deep HOMO level and high electron mobility, and is used as an electron transporting layer (also serving as a hole blocking layer). preferable. By using the compound of the present invention as an electron transport layer / hole blocking layer, effects such as an improvement in fill factor and photoelectric conversion efficiency can be obtained.

なお本発明の化合物を電子輸送層・正孔ブロック層として用いる場合には、光電変換層(バルクヘテロジャンクション層)に用いられるp型半導体材料よりも深いHOMO準位を有している必要があるため、p型半導体材料に用いられた構造よりも共役長の短い(分子量の小さい)化合物であることが好ましい。   In addition, when using the compound of this invention as an electron carrying layer and a hole block layer, it needs to have a HOMO level deeper than the p-type semiconductor material used for a photoelectric converting layer (bulk heterojunction layer). A compound having a shorter conjugate length (small molecular weight) than the structure used for the p-type semiconductor material is preferable.

以下、電子輸送層・正孔ブロック層として用いるのに好ましい本発明の一般式(1)又は一般式(2)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1) or the general formula (2) of the present invention that are preferable for use as an electron transport layer / hole blocking layer are given below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 0005493465
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Figure 0005493465
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これらの層を形成する手段としては、真空蒸着法、溶液塗布法のいずれであってもよいが、好ましくは溶液塗布法である。   The means for forming these layers may be either a vacuum deposition method or a solution coating method, but is preferably a solution coating method.

〔正孔輸送層・電子ブロック層〕
本発明の有機光電変換素子10は、バルクヘテロジャンクション層と陽極との中間には正孔輸送層17を、バルクヘテロジャンクション層で発生した電荷をより効率的に取り出すことが可能となるため、これらの層を有していることが好ましい。
[Hole Transport Layer / Electron Blocking Layer]
In the organic photoelectric conversion element 10 of the present invention, the hole transport layer 17 can be taken out between the bulk heterojunction layer and the anode, and charges generated in the bulk heterojunction layer can be taken out more efficiently. It is preferable to have.

これらの層を構成する材料としては、例えば、正孔輸送層17としては、スタルクヴイテック社製、商品名BaytronP等のPEDOT、ポリアニリン及びそのドープ材料、WO2006/019270号等に記載のシアン化合物、などを用いることができる。なお、バルクヘテロジャンクション層に用いられるn型半導体材料のLUMO準位よりも浅いLUMO準位を有する正孔輸送層には、バルクヘテロジャンクション層で生成した電子を陽極側には流さないような整流効果を有する、電子ブロック機能が付与される。このような正孔輸送層は、電子ブロック層とも呼ばれ、このような機能を有する正孔輸送層を使用するほうが好ましい。このような材料としては、特開平5−271166号公報等に記載のトリアリールアミン系化合物、また酸化モリブデン、酸化ニッケル、酸化タングステン等の金属酸化物等を用いることができる。また、バルクヘテロジャンクション層に用いたp型半導体材料単体からなる層を用いることもできる。これらの層を形成する手段としては、真空蒸着法、溶液塗布法のいずれであってもよいが、好ましくは溶液塗布法である。バルクヘテロジャンクション層を形成する前に、下層に塗布膜を形成すると塗布面をレベリングする効果があり、リーク等の影響が低減するため好ましい。   As a material constituting these layers, for example, as the hole transport layer 17, PEDOT such as trade name BaytronP, polyaniline and its doping material, a cyanide compound described in WO2006 / 019270, etc. Etc. can be used. Note that the hole transport layer having a LUMO level shallower than the LUMO level of the n-type semiconductor material used for the bulk heterojunction layer has a rectifying effect that prevents electrons generated in the bulk heterojunction layer from flowing to the anode side. It has an electronic block function. Such a hole transport layer is also called an electron block layer, and it is preferable to use a hole transport layer having such a function. As such a material, a triarylamine compound described in JP-A-5-271166 or a metal oxide such as molybdenum oxide, nickel oxide, or tungsten oxide can be used. A layer made of a single p-type semiconductor material used for the bulk heterojunction layer can also be used. The means for forming these layers may be either a vacuum deposition method or a solution coating method, but is preferably a solution coating method. Forming the coating film in the lower layer before forming the bulk heterojunction layer is preferable because it has the effect of leveling the coating surface and reduces the influence of leakage and the like.

〔その他の層〕
エネルギー変換効率の向上や、素子寿命の向上を目的に、各種中間層を素子内に有する構成としてもよい。中間層の例としては、正孔ブロック層、電子ブロック層、正孔注入層、電子注入層、励起子ブロック層、UV吸収層、光反射層、波長変換層などを挙げることができる。
[Other layers]
For the purpose of improving energy conversion efficiency and improving the lifetime of the element, a structure having various intermediate layers in the element may be employed. Examples of the intermediate layer include a hole block layer, an electron block layer, a hole injection layer, an electron injection layer, an exciton block layer, a UV absorption layer, a light reflection layer, and a wavelength conversion layer.

<電極>
本発明に関わる光電変換素子においては、少なくとも陽極と陰極とを有する。また、タンデム構成をとる場合には中間電極を用いることでタンデム構成を達成することができる。なお本発明においては主に正孔が流れる電極を陽極と呼び、主に電子が流れる電極を陰極と呼ぶ。
<Electrode>
The photoelectric conversion element according to the present invention has at least an anode and a cathode. Further, when a tandem configuration is adopted, the tandem configuration can be achieved by using an intermediate electrode. In the present invention, an electrode through which holes mainly flow is called an anode, and an electrode through which electrons mainly flow is called a cathode.

また透光性があるかどうかといった機能から、透光性のある電極を透明電極と呼び、透光性のない電極を対電極を呼び分ける場合がある。通常、陽極は透光性のある透明電極であり、陰極は透光性のない対電極である。   Further, because of the function of whether or not there is a light-transmitting property, a light-transmitting electrode may be referred to as a transparent electrode, and a non-light-transmitting electrode may be referred to as a counter electrode. Usually, the anode is a translucent transparent electrode, and the cathode is a non-translucent counter electrode.

〔陽極〕
本発明の陽極は、好ましくは380〜800nmの光を透過する電極である。材料としては、例えば、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO、ZnO等の透明導電性金属酸化物、金、銀、白金等の金属薄膜、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ用いることができる。
〔anode〕
The anode of the present invention is preferably an electrode that transmits light of 380 to 800 nm. As the material, for example, transparent conductive metal oxides such as indium tin oxide (ITO), SnO 2 and ZnO, metal thin films such as gold, silver and platinum, metal nanowires and carbon nanotubes can be used.

またポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリチエニレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン、ポリカルバゾール、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリジアセチレン及びポリナフタレンの各誘導体からなる群より選ばれる導電性高分子等も用いることができる。また、これらの導電性化合物を複数組み合わせて陽極とすることもできる。   Also, a conductive material selected from the group consisting of polypyrrole, polyaniline, polythiophene, polythienylene vinylene, polyazulene, polyisothianaphthene, polycarbazole, polyacetylene, polyphenylene, polyphenylene vinylene, polyacene, polyphenylacetylene, polydiacetylene and polynaphthalene. A functional polymer can also be used. Further, a plurality of these conductive compounds can be combined to form an anode.

〔陰極〕
陰極は導電材単独層であっても良いが、導電性を有する材料に加えて、これらを保持する樹脂を併用しても良い。陰極の導電材としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子の取り出し性能及び酸化等に対する耐久性の点から、これら金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれる。
〔cathode〕
The cathode may be a single layer of a conductive material, but in addition to a conductive material, a resin that holds these may be used in combination. As a conductive material for the cathode, a material having a work function (4 eV or less) metal, alloy, electrically conductive compound, and a mixture thereof as an electrode material is used. Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) Mixtures, indium, lithium / aluminum mixtures, rare earth metals and the like. Among these, from the viewpoint of electron extraction performance and durability against oxidation, etc., a mixture of these metals and a second metal which is a stable metal having a larger work function value than this, for example, a magnesium / silver mixture, magnesium / Aluminum mixtures, magnesium / indium mixtures, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixtures, lithium / aluminum mixtures, aluminum and the like are preferred. The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. The film thickness is usually selected in the range of 10 nm to 5 μm, preferably 50 to 200 nm.

陰極の導電材として金属材料を用いれば陰極側に来た光は反射されて第1電極側に反射され、この光が再利用可能となり、光電変換層で再度吸収され、より光電変換効率が向上し好ましい。   If a metal material is used as the conductive material of the cathode, the light coming to the cathode side is reflected and reflected to the first electrode side, and this light can be reused and absorbed again by the photoelectric conversion layer, further improving the photoelectric conversion efficiency. It is preferable.

また、陰極13は、金属(例えば金、銀、銅、白金、ロジウム、ルテニウム、アルミニウム、マグネシウム、インジウム等)、炭素からなるナノ粒子、ナノワイヤー、ナノ構造体であってもよく、ナノワイヤーの分散物であれば、透明で導電性の高い陰極を塗布法により形成でき好ましい。   Further, the cathode 13 may be a metal (for example, gold, silver, copper, platinum, rhodium, ruthenium, aluminum, magnesium, indium, etc.), a nanoparticle made of carbon, a nanowire, or a nanostructure. A dispersion is preferable because a transparent and highly conductive cathode can be formed by a coating method.

また、陰極側を光透過性とする場合は、例えば、アルミニウム及びアルミニウム合金、銀及び銀化合物等の陰極に適した導電性材料を薄く1〜20nm程度の膜厚で作製した後、上記陽極の説明で挙げた導電性光透過性材料の膜を設けることで、光透過性陰極とすることができる。   When the cathode side is made light transmissive, for example, a conductive material suitable for the cathode, such as aluminum and aluminum alloy, silver and silver compound, is formed with a thin film thickness of about 1 to 20 nm, and By providing a film of the conductive light-transmitting material mentioned in the description, a light-transmitting cathode can be obtained.

〔中間電極〕
また、前記図3のようなタンデム構成の場合に必要となる中間電極の材料としては、透明性と導電性を併せ持つ化合物を用いた層であることが好ましく、前記陽極で用いたような材料(ITO、AZO、FTO、酸化チタン等の透明金属酸化物、Ag、Al、Au等の非常に薄い金属層またはナノ粒子・ナノワイヤーを含有する層、PEDOT:PSS、ポリアニリン等の導電性高分子材料等)を用いることができる。
[Intermediate electrode]
The intermediate electrode material required in the case of the tandem structure as shown in FIG. 3 is preferably a layer using a compound having both transparency and conductivity. Transparent metal oxides such as ITO, AZO, FTO and titanium oxide, very thin metal layers such as Ag, Al and Au, or layers containing nanoparticles / nanowires, conductive polymer materials such as PEDOT: PSS and polyaniline Etc.) can be used.

なお前述した正孔輸送層と電子輸送層の中には、適切に組み合わせて積層することで中間電極(電荷再結合層)として働く組み合わせもあり、このような構成とすると1層形成する工程を省くことができ好ましい。   In addition, in the hole transport layer and the electron transport layer described above, there is also a combination that works as an intermediate electrode (charge recombination layer) by appropriately combining and laminating, and with such a configuration, the process of forming one layer This is preferable because it can be omitted.

〔基板〕
基板側から光電変換される光が入射する場合、基板はこの光電変換される光を透過させることが可能な、即ちこの光電変換すべき光の波長に対して透明な部材であることが好ましい。基板は、例えば、ガラス基板や樹脂基板等が好適に挙げられるが、軽量性と柔軟性の観点から透明樹脂フィルムを用いることが望ましい。本発明で透明基板として好ましく用いることができる透明樹脂フィルムには特に制限がなく、その材料、形状、構造、厚み等については公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン(PE)樹脂フィルム、ポリプロピレン(PP)樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂フィルム、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂フィルム、ポリサルホン(PSF)樹脂フィルム、ポリエーテルサルホン(PES)樹脂フィルム、ポリカーボネート(PC)樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂フィルム等を挙げることができるが、可視域の波長(380〜800nm)における透過率が80%以上である樹脂フィルムであれば、本発明に係る透明樹脂フィルムに好ましく適用することができる。中でも透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、強度及びコストの点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリカーボネートフィルムであることが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムであることがより好ましい。
〔substrate〕
When light that is photoelectrically converted enters from the substrate side, the substrate is preferably a member that can transmit the light that is photoelectrically converted, that is, a member that is transparent to the wavelength of the light to be photoelectrically converted. As the substrate, for example, a glass substrate, a resin substrate and the like are preferably mentioned, but it is desirable to use a transparent resin film from the viewpoint of light weight and flexibility. There is no restriction | limiting in particular in the transparent resin film which can be preferably used as a transparent substrate by this invention, The material, a shape, a structure, thickness, etc. can be suitably selected from well-known things. For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN) modified polyester, polyethylene (PE) resin film, polypropylene (PP) resin film, polystyrene resin film, polyolefin resins such as cyclic olefin resin Film, vinyl resin film such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyether ether ketone (PEEK) resin film, polysulfone (PSF) resin film, polyether sulfone (PES) resin film, polycarbonate (PC) resin film, A polyamide resin film, a polyimide resin film, an acrylic resin film, a triacetyl cellulose (TAC) resin film, and the like can be given. If the resin film transmittance of 80% or more at ~800nm), can be preferably applied to a transparent resin film according to the present invention. Among these, from the viewpoint of transparency, heat resistance, ease of handling, strength and cost, it is preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, a biaxially stretched polyethylene naphthalate film, a polyethersulfone film, or a polycarbonate film, and biaxially stretched. More preferred are polyethylene terephthalate films and biaxially stretched polyethylene naphthalate films.

本発明に用いられる透明基板には、塗布液の濡れ性や接着性を確保するために、表面処理を施すことや易接着層を設けることができる。表面処理や易接着層については従来公知の技術を使用できる。例えば、表面処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の表面活性化処理を挙げることができる。また、易接着層としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等を挙げることができる。   The transparent substrate used in the present invention can be subjected to a surface treatment or an easy adhesion layer in order to ensure the wettability and adhesiveness of the coating solution. A conventionally well-known technique can be used about a surface treatment or an easily bonding layer. For example, the surface treatment includes surface activation treatment such as corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, and laser treatment. Examples of the easy adhesion layer include polyester, polyamide, polyurethane, vinyl copolymer, butadiene copolymer, acrylic copolymer, vinylidene copolymer, and epoxy copolymer.

また、酸素及び水蒸気の透過を抑制する目的で、透明基板にはバリアコート層が予め形成されていてもよいし、透明導電層を転写する反対側にはハードコート層が予め形成されていてもよい。   Further, for the purpose of suppressing the permeation of oxygen and water vapor, a barrier coat layer may be formed in advance on the transparent substrate, or a hard coat layer may be formed in advance on the opposite side to which the transparent conductive layer is transferred. Good.

〔光学機能層〕
本発明の有機光電変換素子は、太陽光のより効率的な受光を目的として、各種の光学機能層を有していて良い。光学機能層としては、たとえば、反射防止膜、マイクロレンズアレイ等の集光層、陰極で反射した光を散乱させて再度発電層に入射させることができるような光拡散層などを設けても良い。
(Optical function layer)
The organic photoelectric conversion element of the present invention may have various optical functional layers for the purpose of more efficient reception of sunlight. As the optical functional layer, for example, a light condensing layer such as an antireflection film or a microlens array, or a light diffusion layer that can scatter light reflected by the cathode and enter the power generation layer again may be provided. .

反射防止層としては、各種公知の反射防止層を設けることができるが、例えば、透明樹脂フィルムが二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムである場合は、フィルムに隣接する易接着層の屈折率を1.57〜1.63とすることで、フィルム基板と易接着層との界面反射を低減して透過率を向上させることができるのでより好ましい。屈折率を調整する方法としては、酸化スズゾルや酸化セリウムゾル等の比較的屈折率の高い酸化物ゾルとバインダー樹脂との比率を適宜調整して塗設することで実施できる。易接着層は単層でもよいが、接着性を向上させるためには2層以上の構成にしてもよい。   Various known antireflection layers can be provided as the antireflection layer. For example, when the transparent resin film is a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, the refractive index of the easy adhesion layer adjacent to the film is 1.57. It is more preferable to set it to ˜1.63 because the interface reflection between the film substrate and the easy adhesion layer can be reduced and the transmittance can be improved. The method for adjusting the refractive index can be carried out by appropriately adjusting the ratio of the oxide sol having a relatively high refractive index such as tin oxide sol or cerium oxide sol and the binder resin. The easy adhesion layer may be a single layer, but may be composed of two or more layers in order to improve adhesion.

集光層としては、例えば、支持基板の太陽光受光側にマイクロレンズアレイ上の構造を設けるように加工したり、あるいは所謂集光シートと組み合わせたりすることにより特定方向からの受光量を高めたり、逆に太陽光の入射角度依存性を低減することができる。   As the condensing layer, for example, it is processed so as to provide a structure on the microlens array on the sunlight receiving side of the support substrate, or the amount of light received from a specific direction is increased by combining with a so-called condensing sheet. Conversely, the incident angle dependency of sunlight can be reduced.

マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が30μmでその頂角が90度となるような四角錐を2次元に配列する。一辺は10〜100μmが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付き、大きすぎると厚みが厚くなり好ましくない。   As an example of the microlens array, quadrangular pyramids having a side of 30 μm and an apex angle of 90 degrees are two-dimensionally arranged on the light extraction side of the substrate. One side is preferably 10 to 100 μm. If it becomes smaller than this, the effect of diffraction will generate | occur | produce and color, and if too large, thickness will become thick and is not preferable.

また光散乱層としては、各種のアンチグレア層、金属または各種無機酸化物などのナノ粒子・ナノワイヤー等を無色透明なポリマーに分散した層などを挙げることができる。   Examples of the light scattering layer include various antiglare layers, layers in which nanoparticles or nanowires such as metals or various inorganic oxides are dispersed in a colorless and transparent polymer, and the like.

〔パターニング〕
本発明に係る電極、発電層、正孔輸送層、電子輸送層等をパターニングする方法やプロセスには特に制限はなく、公知の手法を適宜適用することができる。
[Patterning]
The method and process for patterning the electrode, the power generation layer, the hole transport layer, the electron transport layer, and the like according to the present invention are not particularly limited, and known methods can be appropriately applied.

バルクヘテロジャンクション層、輸送層等の可溶性の材料であれば、ダイコート、ディップコート等の全面塗布後に不要部だけ拭き取っても良いし、インクジェット法やスクリーン印刷等の方法を使用して塗布時に直接パターニングしても良い。   If it is a soluble material such as a bulk heterojunction layer and a transport layer, only unnecessary portions may be wiped after the entire surface of die coating, dip coating, etc., or direct patterning at the time of coating using a method such as an ink jet method or screen printing. May be.

電極材料などの不溶性の材料の場合は、電極を真空堆積時にマスク蒸着を行ったり、エッチング又はリフトオフ等の公知の方法によってパターニングすることができる。また、別の基板上に形成したパターンを転写することによってパターンを形成しても良い。   In the case of an insoluble material such as an electrode material, the electrode can be patterned by a known method such as mask vapor deposition during vacuum deposition or etching or lift-off. Alternatively, the pattern may be formed by transferring a pattern formed on another substrate.

(封止)
また、作製した有機光電変換素子10が環境中の酸素、水分等で劣化しないために、有機光電変換素子だけでなく有機エレクトロルミネッセンス素子などで公知の手法によって封止することが好ましい。例えば、アルミまたはガラスでできたキャップを接着剤によって接着することによって封止する手法、アルミニウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等のガスバリア層が形成されたプラスチックフィルムと有機光電変換素子上10を接着剤で貼合する手法、ガスバリア性の高い有機高分子材料(ポリビニルアルコール等)をスピンコートする方法、ガスバリア性の高い無機薄膜(酸化ケイ素、酸化アルミニウム等)または有機膜(パリレン等)を真空下で堆積する方法、及びこれらを複合的に積層する方法等を挙げることができる。
(Sealing)
Moreover, since the produced organic photoelectric conversion element 10 does not deteriorate with oxygen, moisture, etc. in the environment, it is preferable to seal not only the organic photoelectric conversion element but also an organic electroluminescence element by a known method. For example, a method of sealing a cap made of aluminum or glass by bonding with an adhesive, a plastic film on which a gas barrier layer such as aluminum, silicon oxide, or aluminum oxide is formed and the organic photoelectric conversion element top 10 with an adhesive Method of bonding, spin coating of organic polymer materials with high gas barrier properties (polyvinyl alcohol, etc.), inorganic thin films with high gas barrier properties (silicon oxide, aluminum oxide, etc.) or organic films (parylene, etc.) deposited under vacuum And a method of laminating these in a composite manner.

(光センサアレイ)
次に、以上説明したバルクヘテロジャンクション型の有機光電変換素子10を応用した光センサアレイについて詳細に説明する。光センサアレイは、前記のバルクヘテロジャンクション型の有機光電変換素子が受光によって電流を発生することを利用して、前記の光電変換素子を細かく画素状に並べて作製し、光センサアレイ上に投影された画像を電気的な信号に変換する効果を有するセンサである。
(Optical sensor array)
Next, an optical sensor array to which the bulk heterojunction type organic photoelectric conversion element 10 described above is applied will be described in detail. The optical sensor array is produced by arranging the photoelectric conversion elements in a fine pixel form by utilizing the fact that the bulk heterojunction type organic photoelectric conversion elements generate a current upon receiving light, and projected onto the optical sensor array. A sensor having an effect of converting an image into an electrical signal.

図4は、光センサアレイの構成を示す図である。図4(A)は、上面図であり、図4(B)は、図4(A)のA−A’線断面図である。   FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the photosensor array. 4A is a top view, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG.

図4において、光センサアレイ20は、保持部材としての基板21上に、下部電極としての陽極22、光エネルギーを電気エネルギーに変換する光電変換部24及び陽極22と対をなし、上部電極としての陰極23が順次積層されたものである。光電変換部24は、p型半導体材料とn型半導体材料とを一様に混合したバルクヘテロジャンクション層を有してなる光電変換層24bと、バッファ層24aとの2層で構成される。図4に示す例では、6個のバルクヘテロジャンクション型の有機光電変換素子が形成されている。   In FIG. 4, an optical sensor array 20 is paired with an anode 22 as a lower electrode, a photoelectric conversion unit 24 that converts light energy into electric energy, and an anode 22 on a substrate 21 as a holding member. The cathode 23 is sequentially laminated. The photoelectric conversion unit 24 includes two layers, a photoelectric conversion layer 24b having a bulk heterojunction layer in which a p-type semiconductor material and an n-type semiconductor material are uniformly mixed, and a buffer layer 24a. In the example shown in FIG. 4, six bulk heterojunction type organic photoelectric conversion elements are formed.

これら基板21、陽極22、光電変換層24b及び陰極23は、前述したバルクヘテロジャンクション型の光電変換素子10における陽極12、光電変換部14及び陰極13と同等の構成及び役割を示すものである。   The substrate 21, the anode 22, the photoelectric conversion layer 24b, and the cathode 23 have the same configuration and role as the anode 12, the photoelectric conversion unit 14, and the cathode 13 in the bulk heterojunction photoelectric conversion element 10 described above.

基板21には、例えば、ガラスが用いられ、陽極22には、例えば、ITOが用いられ、陰極23には、例えば、アルミニウムが用いられる。そして、光電変換層24bのp型半導体材料には、例えば、前記BP−1前駆体が用いられ、n型半導体材料には、例えば、前記例示化合物13が用いられる。また、バッファ層24aには、PEDOT(ポリ−3,4−エチレンジオキシチオフェン)−PSS(ポリスチレンスルホン酸)導電性高分子(スタルクヴイテック社製、商品名BaytronP)が用いられる。このような光センサアレイ20は、次のようにして製作された。   For example, glass is used for the substrate 21, ITO is used for the anode 22, and aluminum is used for the cathode 23, for example. For example, the BP-1 precursor is used for the p-type semiconductor material of the photoelectric conversion layer 24b, and for example, the exemplified compound 13 is used for the n-type semiconductor material. The buffer layer 24a is made of PEDOT (poly-3,4-ethylenedioxythiophene) -PSS (polystyrene sulfonic acid) conductive polymer (trade name BaytronP, manufactured by Stark Vitec). Such an optical sensor array 20 was manufactured as follows.

ガラス基板上にスパッタリングによりITO膜を形成し、フォトリソグラフィにより所定のパターン形状に加工した。ガラス基板の厚さは、0.7mm、ITO膜の厚さは、200nm、フォトリソグラフィ後のITO膜における測定部面積(受光面積)は、0.5mm×0.5mmであった。次に、このガラス基板21上に、スピンコート法(条件;回転数=1000rpm、フィルター径=1.2μm)によりPEDOT−PSS膜を形成した。その後、該基板を、オーブンで140℃、10分加熱し、乾燥させた。乾燥後のPEDOT−PSS膜の厚さは30nmであった。   An ITO film was formed on the glass substrate by sputtering and processed into a predetermined pattern shape by photolithography. The thickness of the glass substrate was 0.7 mm, the thickness of the ITO film was 200 nm, and the measurement area (light receiving area) of the ITO film after photolithography was 0.5 mm × 0.5 mm. Next, a PEDOT-PSS film was formed on the glass substrate 21 by spin coating (conditions: rotational speed = 1000 rpm, filter diameter = 1.2 μm). Thereafter, the substrate was heated in an oven at 140 ° C. for 10 minutes and dried. The thickness of the PEDOT-PSS film after drying was 30 nm.

次に、上記PEDOT−PSS膜の上に、本発明の化合物5とPCBMの1:4混合膜を、スピンコート法(条件;回転数=3300rpm、フィルター径=0.8μm)により形成した。このスピンコートに際しては、本発明の化合物5およびPCBMをクロロベンゼン溶媒に=1:4で混合し、これを攪拌(5分)して得た混合液を用いた。P3HTとPCBMの混合膜の形成後、窒素ガス雰囲気下においてオーブンで180℃、30分加熱しアニール処理を施した。アニール処理後の本発明の化合物5とPCBMの混合膜の厚さは70nmであった。   Next, a 1: 4 mixed film of the compound 5 of the present invention and PCBM was formed on the PEDOT-PSS film by a spin coating method (conditions: rotational speed = 3300 rpm, filter diameter = 0.8 μm). In this spin coating, a mixture obtained by mixing Compound 5 of the present invention and PCBM with a chlorobenzene solvent at 1: 4 and stirring (5 minutes) was used. After forming the mixed film of P3HT and PCBM, annealing was performed by heating in an oven at 180 ° C. for 30 minutes in a nitrogen gas atmosphere. The thickness of the mixed film of Compound 5 and PCBM of the present invention after the annealing treatment was 70 nm.

その後、所定のパターン開口を備えたメタルマスクを用い、本発明の化合物5とPCBMの混合膜の上に、電子輸送層として本発明の化合物16を5nm蒸着し、ついで陰極としてのアルミニウム層を蒸着法により形成(厚さ=10nm)した。その後、PVA(polyvinyl alcohol)をスピンコートで1μm形成し、150℃で焼成することで図略のパッシベーション層を作製した。以上により、光センサアレイ20が作製された。   Then, using a metal mask having a predetermined pattern opening, 5 nm of the compound 16 of the present invention is deposited as an electron transport layer on the mixed film of the compound 5 and PCBM of the present invention, and then an aluminum layer as a cathode is deposited. It was formed by the method (thickness = 10 nm). Thereafter, 1 μm of PVA (polyvinyl alcohol) was formed by spin coating and baked at 150 ° C. to prepare a passivation layer (not shown). The optical sensor array 20 was produced as described above.

この光センサアレイ20上に、所定のパターンを有する光を照射したところ、光の当たったセルのみから光電流が検出され、光センサとして機能することが確認された。   When this photosensor array 20 was irradiated with light having a predetermined pattern, it was confirmed that the photocurrent was detected only from the cells that were exposed to light and functioned as a photosensor.

《有機エレクトロルミネッセンス素子》
次に有機エレクトロニクス素子の第2の例として、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子、有機エレクトロルミネッセンス素子ともいう)について説明する。
《Organic electroluminescence device》
Next, an organic electroluminescence element (also referred to as an organic EL element or an organic electroluminescence element) will be described as a second example of the organic electronics element.

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の好ましい態様を説明するが、これに限定されるものではない。有機エレクトロルミネッセンス素子としては特に制限がなく、陽極と陰極と、両者に挟まれた有機層が少なくとも1層以上あり、電流を流すと発光する素子であればよい。   Although the preferable aspect of the organic electroluminescent element which concerns on this invention is demonstrated, it is not limited to this. The organic electroluminescence element is not particularly limited as long as it has at least one organic layer sandwiched between an anode and a cathode and emits light when a current is passed.

有機電界発光素子の層構成の好ましい具体例を以下に示す。
(i)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
(ii)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(iii)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極
(iv)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(v)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(vi)陽極/正孔輸送層/第1発光層/電子輸送層/中間電極/正孔輸送層/第2発光層/電子輸送層/陰極
ここで、発光層は、少なくとも発光色の異なる2種以上の発光材料を含有していることが好ましく、単層でも複数の発光層からなる発光層ユニットを形成していてもよい。また、発光スタック自体が複数個積層された、タンデム構成((vi)の構成)であっても良い。また、正孔輸送層には正孔注入層、電子阻止層も含まれる。
Preferred specific examples of the layer structure of the organic electroluminescent element are shown below.
(I) Anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode (ii) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode (iii) Anode / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron Transport layer / cathode (iv) anode / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode (v) anode / anode buffer layer / hole transport layer / light emitting layer / hole Blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode (vi) anode / hole transport layer / first light emitting layer / electron transport layer / intermediate electrode / hole transport layer / second light emitting layer / electron transport layer / cathode The light emitting layer preferably contains at least two kinds of light emitting materials having different emission colors, and may form a light emitting layer unit composed of a single layer or a plurality of light emitting layers. Further, a tandem configuration (configuration (vi)) in which a plurality of light emitting stacks are stacked may be used. The hole transport layer also includes a hole injection layer and an electron blocking layer.

上記各層の材料は、前述の有機光電変換素子と同じものを使用することもできるし、公知の材料を適宜使用しても良い。   As the material for each of the above layers, the same materials as those for the organic photoelectric conversion element described above may be used, and known materials may be used as appropriate.

しかし、特に電子輸送層・正孔ブロック層として本発明の化合物を用いると、有機光電変換素子に用いた際と同様に素子の整流特性が向上し、発光効率の向上を期待することができる。   However, in particular, when the compound of the present invention is used as an electron transport layer / hole blocking layer, the rectification characteristics of the device are improved as in the case of the organic photoelectric conversion device, and the light emission efficiency can be expected to be improved.

以下に、有機エレクトロルミネッセンス素子独自に使用する発光層についてのみ詳細に説明する。   Below, only the light emitting layer used uniquely for an organic electroluminescent element is demonstrated in detail.

<発光層>
発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。前記発光層は、含まれる発光材料が前記要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。
<Light emitting layer>
The light-emitting layer is a layer that emits light by recombination of electrons and holes injected from the electrode, the electron transport layer, or the hole transport layer, and the light-emitting portion is the light-emitting layer even in the light-emitting layer. It may be an interface with an adjacent layer. The light emitting layer is not particularly limited in its configuration as long as the light emitting material included satisfies the above requirements. Moreover, there may be a plurality of layers having the same emission spectrum and emission maximum wavelength.

各発光層間には非発光性の中間層を有していることが好ましい。   It is preferable to have a non-light emitting intermediate layer between each light emitting layer.

発光層の膜厚の総和は1〜100nmの範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、より低い駆動電圧を得ることができることから30nm以下である。なお、ここでいうところの発光層の膜厚の総和とは、発光層間に非発光性の中間層が存在する場合には、該中間層も含む膜厚である。   The total thickness of the light emitting layers is preferably in the range of 1 to 100 nm, and more preferably 30 nm or less because a lower driving voltage can be obtained. Note that the sum of the thicknesses of the light emitting layers referred to here is a thickness including the intermediate layers when a non-light emitting intermediate layer exists between the light emitting layers.

個々の発光層の膜厚としては1〜50nmの範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは1〜20nmの範囲に調整することである。青、緑、赤の各発光層の膜厚の関係については、特に制限はない。   The thickness of each light emitting layer is preferably adjusted to a range of 1 to 50 nm, more preferably adjusted to a range of 1 to 20 nm. There is no particular limitation on the relationship between the film thicknesses of the blue, green and red light emitting layers.

発光層の作製には、後述する発光材料やホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法、インクジェット法等の公知の薄膜化法により製膜して形成することができる。   For the production of the light emitting layer, a light emitting material or a host compound, which will be described later, is formed by forming a film by a known thinning method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, an LB method, an ink jet method, or the like. it can.

各発光層には複数の発光材料を混合してもよく、また、りん光発光材料と蛍光発光材料を同一発光層中に混合して用いてもよい。   A plurality of light emitting materials may be mixed in each light emitting layer, or a phosphorescent light emitting material and a fluorescent light emitting material may be mixed and used in the same light emitting layer.

発光層の構成として、ホスト化合物、発光材料(発光ドーパント化合物ともいう)を含有し、発光材料より発光させることが好ましい。   As a structure of the light emitting layer, it is preferable to contain a host compound and a light emitting material (also referred to as a light emitting dopant compound) and emit light from the light emitting material.

有機電界発光素子の発光層に含有されるホスト化合物としては、室温(25℃)におけるりん光発光のりん光量子収率が0.1未満の化合物が好ましい。更に好ましくはりん光量子収率が0.01未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での体積比が50%以上であることが好ましい。   As the host compound contained in the light emitting layer of the organic electroluminescent element, a compound having a phosphorescence quantum yield of phosphorescence emission at room temperature (25 ° C.) of less than 0.1 is preferable. More preferably, the phosphorescence quantum yield is less than 0.01. Moreover, it is preferable that the volume ratio in the layer is 50% or more among the compounds contained in a light emitting layer.

ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、または複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機電界発光素子を高効率化することができる。また、後述する発光材料を複数種用いることで異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。   As the host compound, known host compounds may be used alone or in combination of two or more. By using a plurality of types of host compounds, it is possible to adjust the movement of charges, and the efficiency of the organic electroluminescent device can be improved. Moreover, it becomes possible to mix different light emission by using multiple types of luminescent material mentioned later, and can thereby obtain arbitrary luminescent colors.

ホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物(蒸着重合性発光ホスト)でもよい。   The host compound may be a conventionally known low molecular compound, a high molecular compound having a repeating unit, or a low molecular compound having a polymerizable group such as a vinyl group or an epoxy group (evaporation polymerizable light emitting host).

公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ発光の長波長化を防ぎ、なお且つ高Tg(ガラス転移温度)である化合物が好ましい。ここで、ガラス転移点(Tg)とは、DSC(Differential Scanning Colorimetry:示差走査熱量法)を用いて、JIS−K−7121に準拠した方法により求められる値である。   As the known host compound, a compound that has a hole transporting ability and an electron transporting ability, prevents the emission of light from being increased in wavelength, and has a high Tg (glass transition temperature) is preferable. Here, the glass transition point (Tg) is a value obtained by a method based on JIS-K-7121 using DSC (Differential Scanning Colorimetry).

次に、発光材料について説明する。   Next, the light emitting material will be described.

発光材料としては、蛍光性化合物、りん光発光材料(りん光性化合物、りん光発光性化合物等ともいう)を用いる。   As the light-emitting material, a fluorescent compound or a phosphorescent material (also referred to as a phosphorescent compound or a phosphorescent compound) is used.

前記りん光発光材料とは励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温(25℃)にてりん光発光する化合物であり、りん光量子収率が25℃において0.01以上の化合物であると定義されるが、好ましいりん光量子収率は0.1以上である。   The phosphorescent material is a compound in which light emission from an excited triplet is observed. Specifically, it is a compound that emits phosphorescence at room temperature (25 ° C.). Although defined as being 01 or more compounds, the preferred phosphorescence quantum yield is 0.1 or more.

前記りん光量子収率は第4版実験化学講座7の分光IIの398頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定できる。溶液中でのりん光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明においてりん光発光材料を用いる場合、任意の溶媒のいずれかにおいて上記りん光量子収率(0.01以上)が達成されればよい。   The phosphorescence quantum yield can be measured by the method described in the fourth edition of Experimental Chemistry Course 7, Spectroscopy II, page 398 (1992 edition, Maruzen). The phosphorescence quantum yield in a solution can be measured using various solvents, but when using a phosphorescent material in the present invention, the above phosphorescence quantum yield (0.01 or more) is achieved in any solvent. It only has to be done.

りん光発光材料は、有機電界発光素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、好ましくは元素の周期表で8〜10族の金属を含有する錯体系化合物であり、更に好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、または白金化合物(白金錯体系化合物)、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。   The phosphorescent light emitting material can be appropriately selected from known materials used for the light emitting layer of the organic electroluminescent device, and preferably a complex system containing a metal of group 8 to 10 in the periodic table of elements. Compounds, more preferably iridium compounds, osmium compounds, platinum compounds (platinum complex compounds), and rare earth complexes, and most preferred are iridium compounds.

具体的なイリジウム化合物としては、Organic Letter誌、vol3、No.16、2579〜2581頁(2001)、Inorganic Chemistry,第30巻、第8号、1685〜1687頁(1991年)、J.Am.Chem.Soc.,123巻、4304頁(2001年)、Inorganic Chemistry,第40巻、第7号、1704〜1711頁(2001年)、Inorganic Chemistry,第41巻、第12号、3055〜3066頁(2002年)、New Journal of Chemistry.,第26巻、1171頁(2002年)、European Journal of Organic Chemistry,第4巻、695〜709頁(2004年)などに記載の化合物等を用いることができる。   Specific examples of the iridium compound include Organic Letter, vol. 16, 2579-2581 (2001), Inorganic Chemistry, Vol. 30, No. 8, 1685-1687 (1991), J. Am. Am. Chem. Soc. , 123, 4304 (2001), Inorganic Chemistry, Vol. 40, No. 7, 1704-1711 (2001), Inorganic Chemistry, Vol. 41, No. 12, 3055-3066 (2002) , New Journal of Chemistry. 26, 1171 (2002), European Journal of Organic Chemistry, Vol. 4, pages 695-709 (2004), and the like.

本発明においては、少なくとも一つの発光層に2種以上の発光材料を含有していてもよく、発光層における発光材料の濃度比が発光層の厚さ方向で変化していてもよい。   In the present invention, at least one light emitting layer may contain two or more kinds of light emitting materials, and the concentration ratio of the light emitting materials in the light emitting layer may vary in the thickness direction of the light emitting layer.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

<比較の有機光電変換素子1の作製>
ガラス基板上に、インジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜を110nm堆積したもの(シート抵抗13Ω/□)を、通常のフォトリソグラフィ技術と塩酸エッチングとを用いて2mm幅にパターニングして、透明電極を形成した。
<Preparation of Comparative Organic Photoelectric Conversion Element 1>
An indium tin oxide (ITO) transparent conductive film deposited on a glass substrate with a thickness of 110 nm (sheet resistance 13 Ω / □) is patterned to a width of 2 mm using a normal photolithography technique and hydrochloric acid etching, and transparent An electrode was formed.

パターン形成した透明電極を、界面活性剤と超純水による超音波洗浄、超純水による超音波洗浄の順で洗浄後、窒素ブローで乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行った。この透明基板上に、導電性高分子であるBaytron P4083(水溶性ポリチオフェン化合物)(スタルクヴィテック社製)を30nmの膜厚でスピンコートした後、140℃で大気中10分間加熱乾燥した。   The patterned transparent electrode was washed in the order of ultrasonic cleaning with a surfactant and ultrapure water, followed by ultrasonic cleaning with ultrapure water, dried with nitrogen blow, and finally subjected to ultraviolet ozone cleaning. On this transparent substrate, Baytron P4083 (water-soluble polythiophene compound) (manufactured by Starck Vitec), which is a conductive polymer, was spin-coated at a film thickness of 30 nm, and then heat-dried at 140 ° C. in the air for 10 minutes.

これ以降は、基板をグローブボックス中に持ち込み、窒素雰囲気下で作業した。まず、窒素雰囲気下で上記基板を140℃で3分間加熱処理した。   After this, the substrate was brought into the glove box and worked under a nitrogen atmosphere. First, the substrate was heat-treated at 140 ° C. for 3 minutes in a nitrogen atmosphere.

クロロベンゼンにp型半導体材料として、下記比較化合物1を0.4質量%、n型半導体材料として下記PCBM(フロンティアカーボン社製)を1.6質量%を溶解した液を作製し、0.45μmのフィルタでろ過をかけながら700rpmで60秒、ついで2200rpmで1秒間のスピンコートを行い、室温で30分乾燥した。   A liquid prepared by dissolving 0.4% by mass of the following comparative compound 1 as a p-type semiconductor material and 1.6% by mass of the following PCBM (manufactured by Frontier Carbon Co.) as an n-type semiconductor material in chlorobenzene was prepared. While being filtered through a filter, spin coating was performed at 700 rpm for 60 seconds, then at 2200 rpm for 1 second, and dried at room temperature for 30 minutes.

なお、比較化合物1は、非特許文献2を参考として合成した。   Comparative compound 1 was synthesized with reference to Non-Patent Document 2.

Figure 0005493465
Figure 0005493465

次に、上記有機層を成膜した基板を真空蒸着装置内に設置した。2mm幅のシャドウマスクが透明電極と直交するように素子をセットし、10−3Pa以下にまでに真空蒸着機内を減圧した後、フッ化リチウムを0.5nm、Alを80nmを蒸着した。最後に120℃で30分間の加熱を行い、比較の有機光電変換素子1を得た。なお蒸着速度はいずれも2nm/秒で蒸着し、2mm角のサイズとした。 Next, the substrate on which the organic layer was formed was placed in a vacuum evaporation apparatus. The element was set so that the shadow mask with a width of 2 mm was orthogonal to the transparent electrode, and the inside of the vacuum deposition apparatus was depressurized to 10 −3 Pa or less, and then 0.5 nm of lithium fluoride and 80 nm of Al were evaporated. Finally, the heating for 30 minutes was performed at 120 degreeC, and the comparative organic photoelectric conversion element 1 was obtained. The vapor deposition rate was 2 nm / second for all, and the size was 2 mm square.

得られた有機光電変換素子1は、窒素雰囲気下でアルミニウムキャップとUV硬化樹脂(ナガセケムテックス株式会社製、UV RESIN XNR5570−B1)を用いて封止を行った後に、下記変換効率および曲線因子の評価を行い、結果を表1に示す。   The obtained organic photoelectric conversion element 1 was sealed using an aluminum cap and a UV curable resin (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, UV RESIN XNR5570-B1) in a nitrogen atmosphere, and then converted efficiency and a fill factor described below. The results are shown in Table 1.

<本発明の有機光電変換素子2〜6の作製>
上記有機光電変換素子1の作製において、p型半導体材料を比較化合物1に代えて、表1に記載した本発明の例示化合物に変更した以外は、比較の有機光電変換素子1と同様にして有機光電変換素子2〜6を得た。
<Preparation of the organic photoelectric conversion elements 2 to 6 of the present invention>
In the production of the organic photoelectric conversion element 1, the organic material was the same as the comparative organic photoelectric conversion element 1 except that the p-type semiconductor material was changed to the exemplary compound of the present invention described in Table 1 instead of the comparative compound 1. Photoelectric conversion elements 2 to 6 were obtained.

得られた有機光電変換素子2〜6は、窒素雰囲気下でアルミニウムキャップとUV硬化樹脂を用いて封止を行った後に、下記変換効率および曲線因子の評価を行い、結果を表1にまとめた。   The obtained organic photoelectric conversion elements 2 to 6 were sealed using an aluminum cap and a UV curable resin under a nitrogen atmosphere, and then evaluated for the following conversion efficiency and curve factor. The results are summarized in Table 1. .

(変換効率および曲線因子の評価)
上記作製した光電変換素子に、ソーラーシミュレーター(AM1.5Gフィルタ)の100mW/cmの強度の光を照射し、有効面積を4.0mmにしたマスクを受光部に重ね、短絡電流密度Jsc(mA/cm)及び開放電圧Voc(V)、曲線因子(フィルファクター)FFを、同素子上に形成した4箇所の受光部をそれぞれ測定し、平均値を求めた。またJsc、Voc、FFから式1に従ってエネルギー変換効率η(%)を求めた。
(Evaluation of conversion efficiency and fill factor)
Photoelectric conversion elements prepared above, was irradiated with light having an intensity of 100 mW / cm 2 solar simulator (AM1.5G filter), a superposed mask in which the effective area 4.0 mm 2 on the light receiving portion, the short circuit current density Jsc ( The four light-receiving portions formed on the same element were measured for mA / cm 2 ), open-circuit voltage Voc (V), and fill factor (fill factor) FF, and the average value was obtained. Further, energy conversion efficiency η (%) was obtained from Jsc, Voc, and FF according to Equation 1.

式1 Jsc(mA/cm)×Voc(V)×FF=η(%) Formula 1 Jsc (mA / cm 2 ) × Voc (V) × FF = η (%)

Figure 0005493465
Figure 0005493465

表1から、本発明のp型半導体材料を利用した方が開放電圧が向上し、変換効率も高いものが得られることがわかる。   From Table 1, it can be seen that the use of the p-type semiconductor material of the present invention improves the open-circuit voltage and provides high conversion efficiency.

実施例2
<比較の有機光電変換素子11の作製>
比較の有機光電変換素子1の作製と同様に、Baytron P4083(スタルクヴィテック社製)を30nmの膜厚で製膜・焼成した。
Example 2
<Preparation of Comparative Organic Photoelectric Conversion Element 11>
Similarly to the production of the comparative organic photoelectric conversion element 1, Baytron P4083 (manufactured by Starck Vitec) was formed and fired at a film thickness of 30 nm.

これ以降は、基板をグローブボックス中に持ち込み、窒素雰囲気下で作業した。まず、窒素雰囲気下で上記基板を140℃で3分間加熱処理した。   After this, the substrate was brought into the glove box and worked under a nitrogen atmosphere. First, the substrate was heat-treated at 140 ° C. for 3 minutes in a nitrogen atmosphere.

クロロベンゼンにp型半導体材料として、プレクストロニクス社製プレックスコアOS2100を1.0質量%、n型半導体材料として下記PCBM(フロンティアカーボン社製)を0.8質量%を溶解した液を作製し、0.45μmのフィルタでろ過をかけながら700rpmで60秒、ついで2200rpmで1秒間のスピンコートを行い、室温で30分乾燥した。   A solution was prepared by dissolving 1.0 mass% of plexcores OS2100 manufactured by Plextronics Co., Ltd. in chlorobenzene and 0.8 mass% of PCBM (manufactured by Frontier Carbon Co.) as the n-type semiconductor material. While being filtered through a 45 μm filter, spin coating was performed at 700 rpm for 60 seconds, then at 2200 rpm for 1 second, and dried at room temperature for 30 minutes.

次に、上記有機層を成膜した基板を真空蒸着装置内に設置した。2mm幅のシャドウマスクが透明電極と直交するように素子をセットし、10−3Pa以下にまでに真空蒸着機内を減圧した後、電子輸送層・正孔ブロック層としてアルドリッチ社製バソキュプロイン(BCP)を5.0nm、Alを80nmを蒸着した。最後に120℃で30分間の加熱を行い、比較の有機光電変換素子11を得た。なお蒸着速度はいずれも2nm/秒で蒸着し、2mm角のサイズとした。 Next, the substrate on which the organic layer was formed was placed in a vacuum evaporation apparatus. The element was set so that the shadow mask with a width of 2 mm was orthogonal to the transparent electrode, and the inside of the vacuum deposition apparatus was depressurized to 10 −3 Pa or less. Was deposited to 5.0 nm and Al was deposited to 80 nm. Finally, the heating for 30 minutes was performed at 120 degreeC, and the comparative organic photoelectric conversion element 11 was obtained. The vapor deposition rate was 2 nm / second for all, and the size was 2 mm square.

得られた有機光電変換素子11は、窒素雰囲気下でアルミニウムキャップとUV硬化樹脂(ナガセケムテックス株式会社製、UV RESIN XNR5570−B1)を用いて封止を行った後に、ソーラシミュレーター(AM1.5G)の光を100mW/cmの照射強度で照射して、電圧−電流特性を測定し、初期の変換効率を測定した。 The obtained organic photoelectric conversion element 11 was sealed using an aluminum cap and a UV curable resin (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, UV RESIN XNR5570-B1) in a nitrogen atmosphere, and then a solar simulator (AM1.5G). ) Was irradiated at an irradiation intensity of 100 mW / cm 2 , voltage-current characteristics were measured, and initial conversion efficiency was measured.

Figure 0005493465
Figure 0005493465

<本発明の有機光電変換素子12〜14の作製>
上記有機光電変換素子11の作製において、電子輸送層・正孔ブロック層としてバソキュプロインに代えて、表2に記載した本発明の例示化合物に変更した以外は、比較の有機光電変換素子11と同様にして有機光電変換素子12〜14を得た。
<Preparation of the organic photoelectric conversion elements 12 to 14 of the present invention>
In the production of the organic photoelectric conversion element 11, the same procedure as in the comparative organic photoelectric conversion element 11 was performed except that the electron transport layer / hole blocking layer was changed to the exemplified compound of the present invention described in Table 2 instead of bathocuproine. Thus, organic photoelectric conversion elements 12 to 14 were obtained.

上記の結果を、表2にまとめた。   The above results are summarized in Table 2.

Figure 0005493465
Figure 0005493465

表2から、本発明の電子輸送層・正孔ブロック層を利用した方が曲線因子が向上し、変換効率も高いものが得られることがわかる。   From Table 2, it can be seen that the use of the electron transport layer / hole blocking layer of the present invention improves the fill factor and provides high conversion efficiency.

10 バルクヘテロジャンクション型の有機光電変換素子
11 基板
12 陽極
13 陰極
14 バルクヘテロジャンクション層(光電変換部)
14p p層
14i i層
14n n層
14′ 第1の光電変換部
15 電荷再結合層
16 第2の光電変換部
17 正孔輸送層
18 電子輸送層
20 光センサアレイ
21 基板
22 陽極
23 陰極
24 光電変換部
24a バッファ層
24b 光電変換層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Bulk heterojunction type organic photoelectric conversion element 11 Substrate 12 Anode 13 Cathode 14 Bulk heterojunction layer (photoelectric conversion part)
14p p layer 14i i layer 14n n layer 14 'first photoelectric conversion part 15 charge recombination layer 16 second photoelectric conversion part 17 hole transport layer 18 electron transport layer 20 photosensor array 21 substrate 22 anode 23 cathode 24 photoelectric Conversion unit 24a Buffer layer 24b Photoelectric conversion layer

Claims (7)

陰極、陽極、およびp型半導体材料とn型半導体材料が混合されたバルクヘテロジャンクション層を有する有機光電変換素子を備える有機薄膜太陽電池であって、
前記陰極と陽極の間に、少なくとも下記一般式(1)で表される部分構造を有する化合物を含有する層を有し、
当該一般式(1)で表される部分構造を有する化合物を含有する層が、バルクヘテロジャンクション層であることを特徴とする有機薄膜太陽電池。
Figure 0005493465
(式中、Qは炭素、珪素、ゲルマニウム、チタン、スズから選ばれる4価の原子を表す。Zは置換または無置換の含窒素芳香族6員環を表し、Zは置換または無置換の芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換または無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基から選ばれる置換基を表す。)
An organic thin-film solar cell comprising an organic photoelectric conversion element having a cathode, an anode, and a bulk heterojunction layer in which a p-type semiconductor material and an n-type semiconductor material are mixed,
Between the cathode and the anode, it has a layer containing a compound having a partial structure represented by at least the following general formula (1),
The organic thin film solar cell layer containing a compound having a partial structure represented by the general formula (1), characterized in bulk heterojunction layer der Rukoto.
Figure 0005493465
(In the formula, Q represents a tetravalent atom selected from carbon, silicon, germanium, titanium, and tin. Z 1 represents a substituted or unsubstituted nitrogen-containing aromatic 6-membered ring, and Z 2 represents substituted or unsubstituted. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, respectively. Represents a selected substituent.)
前記一般式(1)におけるZで表される芳香族環が、含窒素芳香族6員環であることを特徴とする、請求項1記載の有機薄膜太陽電池。 The aromatic ring represented by Z 2 in the formula (1), characterized in that a nitrogen-containing aromatic 6-membered ring, an organic thin film solar cell of claim 1 Symbol placement. 前記一般式(1)で表される部分構造を有する化合物が、下記一般式(2)で表される部分構造を有する化合物であることを特徴とする請求項1又は2記載の有機薄膜太陽電池。
Figure 0005493465
(式中、X〜Xは置換または無置換の炭素原子または窒素原子を表し、少なくともX〜Xのうち1つは窒素原子を表す。R、R及びQは前記一般式(1)におけるR、R及びQと同義である。)
The organic thin film solar cell according to claim 1 or 2, wherein the compound having a partial structure represented by the general formula (1) is a compound having a partial structure represented by the following general formula (2). .
Figure 0005493465
(In the formula, X 1 to X 6 represent a substituted or unsubstituted carbon atom or a nitrogen atom, and at least one of X 1 to X 6 represents a nitrogen atom. R 1 , R 2, and Q represent the above general formula. (It is synonymous with R 1 , R 2 and Q in (1).)
前記一般式(2)で表される部分構造を有する化合物におけるQで表される原子が炭素原子であることを特徴とする、請求項記載の有機薄膜太陽電池。 The organic thin film solar cell according to claim 3 , wherein the atom represented by Q in the compound having the partial structure represented by the general formula (2) is a carbon atom. 前記一般式(2)で表される部分構造を有する化合物におけるXで表される原子が窒素原子であることを特徴とする請求項又は記載の有機薄膜太陽電池。 The organic thin film solar cell according to claim 3 or 4, wherein the atom represented by X 1 in the compound having a partial structure represented by the general formula (2) is a nitrogen atom. 前記一般式(1)又は(2)で表される部分構造を有する化合物が、低分子化合物であることを特徴とする請求項1〜のいずれか1項記載の有機薄膜太陽電池。 The organic thin film solar cell of any one of claims 1-5, wherein the compound having a partial structure represented by the general formula (1) or (2) is a low-molecular compound. 前記一般式(1)又は(2)で表される部分構造を有する化合物を含有する層が、溶液塗布法によって作製されたことを特徴とする請求項1〜のいずれか1項記載の有機薄膜太陽電池。 The organic layer according to any one of claims 1 to 6 , wherein the layer containing a compound having a partial structure represented by the general formula (1) or (2) is produced by a solution coating method. Thin film solar cell.
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