JP5483815B2 - Wrapping agent composition - Google Patents

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本発明は、脆性材料(サファイア、シリコンカーバイド、シリコン、水晶、超硬合金、ガラス等)や金属(ステンレス、鉄、銅等)の研磨加工時に使用するラップ剤組成物に関する。   The present invention relates to a lapping agent composition used during polishing of brittle materials (sapphire, silicon carbide, silicon, quartz, cemented carbide, glass, etc.) and metals (stainless steel, iron, copper, etc.).

脆性材料(サファイア、シリコンカーバイド、シリコン、水晶、超硬合金、ガラス等)は電子材料分野などで広く使用されており、市場の要求に応えるべく、常にコストダウンと品質改善の技術開発が継続されている。特に高付加価値な製品を供給する最先端分野においては競争が激しく、より高い生産性を達成する技術が望まれている情勢である。   Brittle materials (sapphire, silicon carbide, silicon, quartz, cemented carbide, glass, etc.) are widely used in the field of electronic materials, etc., and technology development for cost reduction and quality improvement is always continued to meet market demands. ing. In particular, in the cutting-edge field of supplying high value-added products, competition is fierce, and there is a demand for technology that achieves higher productivity.

また、ステンレス、鉄、銅等の金属も年々、高い面精度が要求されてきている。   Moreover, high surface accuracy has been required year after year for metals such as stainless steel, iron, and copper.

これらの分野で使用される部材の中には、加工によって一定の形状や仕上面を達成させるべきものが少なくない。特に高精度の仕上品質を要求される分野では、本発明のようなダイヤモンドスラリーで粗及び仕上げ研磨加工を行うケースが一般的である。   Many members used in these fields should achieve a certain shape and finished surface by processing. In particular, in a field where high-precision finishing quality is required, a case where rough and finish polishing is performed with a diamond slurry as in the present invention is common.

しかし、このような研磨加工は一般的に加工レートが低いため生産性が低く、加工レートの高い研磨剤組成物が要望されている。   However, such a polishing process generally requires a polishing composition having a low processing rate and a low processing rate and a high processing rate.

最も容易に加工レートを上げる手段は、ダイヤモンドの1次平均粒子径を大きくすることである。ただし、この手法では面精度が悪化傾向となるため、ダイヤモンドの平均粒径を変化させずに加工レートを上げる方策が求められている。   The easiest way to increase the processing rate is to increase the primary average particle diameter of diamond. However, since this method tends to deteriorate the surface accuracy, there is a demand for a method for increasing the processing rate without changing the average particle diameter of diamond.

特許文献1には、プロピレングリコール炭素数2〜5の二価アルコール、エチレングリコール重合物又はプロピレングリコール重合物のうち、1種又は2種以上を混合してなる分散媒に、ダイヤモンド、炭化珪素又は酸化アルミニウムの砥粒を分散させた、磁気ディスク用基板のテクスチャリング用研磨組成物が記載されている。   Patent Document 1 discloses that a dispersion medium formed by mixing one or two or more of dihydric alcohol having 2 to 5 carbon atoms of propylene glycol, ethylene glycol polymer or propylene glycol polymer, diamond, silicon carbide or A polishing composition for texturing of a magnetic disk substrate, in which aluminum oxide abrasive grains are dispersed, is described.

しかし、特許文献1は水を含有していないために、引火点が存在し作業衛生や安全性の点で問題がある。   However, since Patent Document 1 does not contain water, there is a flash point and there is a problem in terms of work hygiene and safety.

また、特許文献1には、テクスチャリング加工について記載されているに止まり、ラップ加工について一切開示されていない。テクスチャ加工は研磨テープを使用した縦型の研磨加工であり、本発明のラップ加工のような水平面での加工の場合と研磨液に要求される特性が異なる。即ち、テクスチャ加工では、ダイヤをテープ上に保持する能力が加工性に寄与するのに対し、ラップ加工では加工液の定盤上での濡れ広がり方や潤滑性が重要な要素となってくるため、要求される特性が全く異なる。   Further, Patent Document 1 only describes texturing, and does not disclose any wrap processing. Texture processing is vertical polishing using an abrasive tape, and the characteristics required for the polishing liquid differ from those in the case of processing on a horizontal surface such as lapping of the present invention. In other words, in texture processing, the ability to hold the diamond on the tape contributes to workability, while in lapping, the wetness of the working fluid on the surface plate and lubricity become important factors. The required characteristics are quite different.

一方、水を含有する研磨用組成物については、特許文献2〜8に記載されている。   On the other hand, the polishing composition containing water is described in Patent Documents 2 to 8.

特許文献2には、ダイヤモンド砥粒0.1〜5重量%、ヘクトライト0.05〜3重量%およびグリコール系溶剤1〜80重量%を含有する研磨用水性組成物が開示されている。しかし、特許文献2に記載の組成物は、十分な研磨レートが得られず、研磨性に問題があった。   Patent Document 2 discloses an aqueous polishing composition containing 0.1 to 5% by weight of diamond abrasive grains, 0.05 to 3% by weight of hectorite and 1 to 80% by weight of a glycol solvent. However, the composition described in Patent Document 2 has a problem in polishing properties because a sufficient polishing rate cannot be obtained.

特許文献3〜8には、それぞれ、ポリエチレングリコール、水およびダイヤモンド砥粒を含有することを特徴とする研磨加工液(特許文献3)、液中鏡面研摩加工に用いる研摩加工液において、増粘剤(グリセリン)を加えた水と砥粒(酸化マグネシウムの粉末)が混合されていることを特徴とする研摩加工液(特許文献4)、特許文献5(浮動型磁気ヘッドの製造方法)に記載のスラリー、0.1ないし10重量%の研磨剤と0.1ないし10重量%の滑剤と3ないし40重量%の潤滑調整剤とを水または油脂剤に分散、混合してなることを特徴とする研磨液(特許文献6)、a)平均粒径が0.05〜0.5μmの多結晶ダイヤモンド粒子0.05〜0.4重量%、b)アニオン性界面活性剤0.05〜3重量%、c)水性分散媒85.6〜99重量%、d)金属石鹸0〜10重量%、e)研磨助剤0〜3重量%を含有する研磨剤スラリー(特許文献7)、水及び多価アルコール類から選ばれた1種又は2種以上の混合物を基剤とし、ベンゾトリアゾール類或いはアミノカルボン酸系のキレート剤を含有することを特徴とするガラス加工用研磨油剤(特許文献8)が開示されている。しかし、これらの特許文献3〜8に記載の研磨剤組成物は、いずれも十分な研磨レートが得られず、研磨性に問題があった。   Patent Documents 3 to 8 each include a polishing liquid (Patent Document 3) characterized by containing polyethylene glycol, water, and diamond abrasive grains, and a thickener in a polishing liquid used for subsurface mirror polishing. (Patent Document 4), Patent Document 5 (Floating Magnetic Head Manufacturing Method) characterized in that water added with (glycerin) and abrasive grains (magnesium oxide powder) are mixed. A slurry, 0.1 to 10% by weight of an abrasive, 0.1 to 10% by weight of a lubricant, and 3 to 40% by weight of a lubricant adjusting agent are dispersed and mixed in water or an oil and fat agent. Polishing liquid (Patent Document 6), a) 0.05 to 0.4% by weight of polycrystalline diamond particles having an average particle diameter of 0.05 to 0.5 μm, b) 0.05 to 3% by weight of an anionic surfactant C) Aqueous dispersion medium 85. ˜99 wt%, d) metal soap 0-10 wt%, e) abrasive slurry containing 0 to 3 wt% polishing aid (Patent Document 7), one selected from water and polyhydric alcohols or A polishing oil for glass processing (Patent Document 8) characterized by containing a benzotriazole or aminocarboxylic acid-based chelating agent based on a mixture of two or more kinds is disclosed. However, all of the abrasive compositions described in Patent Documents 3 to 8 have a problem in polishing properties because a sufficient polishing rate cannot be obtained.

また、従来ラップ用研磨剤(以下、研磨剤のうちラップ加工に使用するものを、ラップ用研磨剤、ラップ剤等とも示す。)に使用される溶剤として最も一般的なものはエチレングリコールであり、この溶剤を配合した研磨剤が世の中で広く使用されているが、研磨レートに関しては十分に満足されるものではなかった。
特開平6−033042号公報 特開2000−17251号公報 特開昭61−207479号公報 特開昭55−139479号公報 特開平6−139512号公報 特開平11−181408号公報 特開2000−1666号公報 特開平1−287190号公報
Further, ethylene glycol is the most common solvent used in conventional lapping abrasives (hereinafter, those used for lapping among abrasives are also referred to as lapping abrasives, lapping agents, etc.). An abrasive compounded with this solvent is widely used in the world, but the polishing rate was not fully satisfied.
JP-A-6-033042 JP 2000-17251 A JP 61-207479 A Japanese Patent Laid-Open No. 55-139479 JP-A-6-139512 Japanese Patent Laid-Open No. 11-181408 Japanese Patent Laid-Open No. 2000-1666 JP-A-1-287190

本発明が解決しようとする課題は、作業衛生上の問題がなく、引火点もなく、研磨レートが向上したラップ剤組成物を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a lapping agent composition having no problem in occupational health, no flash point, and improved polishing rate.

本発明者は、上記課題の解決のために鋭意研究を重ねた結果、炭素数3〜8のアルカンジオール、ダイヤモンド砥粒、及び水を、特定の配合割合で含むラップ剤組成物が、引火点を有さず、さらに、高い加工レート及びダイヤモンドの高分散性の両方を達成できることを見出した。   As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventor has found that a wrapping agent composition containing alkanediol having 3 to 8 carbon atoms, diamond abrasive grains, and water in a specific blending ratio has a flash point. Furthermore, it has been found that both a high processing rate and a high dispersibility of diamond can be achieved.

従って、本発明は、以下の項に示すラップ剤組成物を提供する。   Accordingly, the present invention provides the wrapping composition shown in the following section.

(a)炭素数3〜8のアルカンジオール、(b)ダイヤモンド砥粒及び(c)水を含むラップ剤組成物であって、
組成物中の(a)成分、(b)成分及び(c)成分の含有割合X、Y及びZが以下の数式を全て満足する、ラップ剤組成物:
80<X≦96.999
0.001≦Y≦5
3≦Z<19.999
[式中、Xは、組成物中の(a)成分の含有割合(重量%)を示す。
Yは、組成物中の(b)成分の含有割合(重量%)を示す。
Zは、組成物中の(c)成分の含有割合(重量%)を示す。]
A wrapping agent composition comprising (a) an alkanediol having 3 to 8 carbon atoms, (b) diamond abrasive grains and (c) water,
The wrapping agent composition in which the content ratios X, Y and Z of the component (a), the component (b) and the component (c) in the composition satisfy all the following formulas:
80 <X ≦ 96.999
0.001 ≦ Y ≦ 5
3 ≦ Z <19.999
[In formula, X shows the content rate (weight%) of (a) component in a composition.
Y shows the content rate (weight%) of (b) component in a composition.
Z shows the content rate (weight%) of (c) component in a composition. ]

脆性材料(サファイア、シリコンカーバイド、シリコン、水晶、超硬合金、ガラス等)や金属(ステンレス、鉄、銅等)の研磨工程において研磨効率を高め、高い生産性を達成する。本発明のラップ剤組成物は、引火点を有さないため安全性に優れ、さらに、高い加工レート及び高いダイヤモンド分散性の両方を達成できる。   In the polishing process of brittle materials (sapphire, silicon carbide, silicon, quartz, cemented carbide, glass, etc.) and metals (stainless steel, iron, copper, etc.), the polishing efficiency is increased and high productivity is achieved. The lapping agent composition of the present invention is excellent in safety because it has no flash point, and can achieve both a high processing rate and high diamond dispersibility.

以下に、本発明の詳細を実施形態に基づいて更に詳しく説明する。   Below, the detail of this invention is demonstrated in more detail based on embodiment.

炭素数3〜8のアルカンジオールのアルカンとしては、飽和の直鎖状、分岐鎖状又は脂環式の炭化水素基が挙げられる。   Examples of the alkane of the alkanediol having 3 to 8 carbon atoms include saturated linear, branched or alicyclic hydrocarbon groups.

炭素数3〜8のアルカンジオールとしては、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,2−ペンタンジオール、1,3−ペンタンジオール、1,4−ペンタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,3−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、ヘキシレングリコール、シクロヘキサン−1,2−ジオール、シクロヘキサン−1,3−ジオール、シクロヘキサン−1,4−ジオール、1,8−オクタンジオール等が挙げられる。   Examples of the alkanediol having 3 to 8 carbon atoms include 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3- Butanediol, 1,2-pentanediol, 1,3-pentanediol, 1,4-pentanediol, 1,5-pentanediol, 2,3-pentanediol, 2,4-pentanediol, hexylene glycol, cyclohexane -1,2-diol, cyclohexane-1,3-diol, cyclohexane-1,4-diol, 1,8-octanediol and the like.

アルカンジオールの好ましい炭素数は3〜6で、上記に挙げたアルカンジオールの中において、1,2−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ヘキシレングリコールが特に好ましい。   Alkanediols preferably have 3 to 6 carbon atoms, and among the above-mentioned alkanediols, 1,2-propanediol, 1,4-butanediol, and hexylene glycol are particularly preferable.

炭素数3〜8の範囲のアルカンジオールを用いることによって、非常に高い研磨レートが得られた。炭素数8を超えるアルカンジオールは水との相溶性が良くなく、均一な系のラップ剤組成物ができない。   By using an alkanediol having 3 to 8 carbon atoms, a very high polishing rate was obtained. Alkanediols having more than 8 carbon atoms are not compatible with water, and a uniform wrapping agent composition cannot be obtained.

炭素数3〜8の範囲のアルカンジオールの配合比率は、80重量%より多くかつ96.999重量%以下、好ましくは、81〜96.999重量%以下である。アルカンジオールをこの範囲内で含む本発明の組成物は、非常に高い研磨レートが得られ、引火点も発生しない。   The blending ratio of the alkanediol having 3 to 8 carbon atoms is more than 80% by weight and 96.999% by weight or less, preferably 81 to 96.999% by weight or less. The composition of the present invention containing alkanediol within this range can provide a very high polishing rate and does not generate a flash point.

ダイヤモンド砥粒としては従来からの当該分野において常用されている天然または人造の工業用ダイヤモンド砥粒を適宜使用すればよく、該砥粒の平均粒径は特に限定的ではないが、研磨レートの観点から0.1μm以上、キズの軽減から10μm以下とするのが好ましい。   As the diamond abrasive grains, natural or artificial industrial diamond abrasive grains conventionally used in the field may be used as appropriate, and the average grain diameter of the abrasive grains is not particularly limited. The thickness is preferably 0.1 μm to 10 μm from scratch reduction.

ダイヤモンド砥粒の配合比率は0.001〜5重量%、好ましくは0.005〜3重量%、更に好ましくは0.01〜2重量%である。ダイヤモンドの濃度が高いほど研磨レートは向上するが、ダイヤモンドの価格が高く研磨液のコストが高くなるため、要求される面精度や許容される使用コストを勘案して決定されるべきものである。   The blending ratio of the diamond abrasive grains is 0.001 to 5% by weight, preferably 0.005 to 3% by weight, and more preferably 0.01 to 2% by weight. The higher the diamond concentration, the higher the polishing rate, but the higher the price of diamond and the higher the cost of the polishing liquid. Therefore, it should be determined in consideration of the required surface accuracy and the allowable use cost.

水の配合比率は3重量%以上19.999重量%未満である。水をこの範囲内で含む本発明の組成物は、非常に高い研磨レートが得られ、引火点も発生しない。また、使用する水の品質については、超純水、純水、蒸留水、イオン交換水あるいは水道水など特に制約はない。   The mixing ratio of water is 3% by weight or more and less than 19.999% by weight. The composition of the present invention containing water within this range provides a very high polishing rate and does not generate a flash point. The quality of the water used is not particularly limited, such as ultrapure water, pure water, distilled water, ion exchange water, or tap water.

本発明によるラップ剤組成物は、上記の配合成分の他に、所望により、各種の添加剤を添加してもよい。添加剤の例としては、防錆剤(エタノールアミン系、プロパノールアミン系、カルボン酸系、亜硝酸系、ほう素系など)、防腐剤(1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ピリチオンナトリウム等)、消泡剤(シリコン系、アルコール系など)、潤滑性向上剤(脂肪酸エステル系、脂肪酸アミド系等)、極圧添加剤(硫黄系、塩素系、りん系等)、及び界面活性剤(非イオン系、陰イオン系、陽イオン系およびこれらの複合系)等を適宜使用してもよい。   The wrapping agent composition according to the present invention may contain various additives as desired in addition to the above-described blending components. Examples of additives include rust inhibitors (ethanolamine, propanolamine, carboxylic acid, nitrite, boron, etc.), preservatives (1,2-benzisothiazolin-3-one, sodium pyrithione, etc. ), Antifoaming agents (silicon-based, alcohol-based, etc.), lubricity improvers (fatty acid ester-based, fatty acid amide-based, etc.), extreme pressure additives (sulfur-based, chlorine-based, phosphorus-based, etc.), and surfactants ( Nonionic, anionic, cationic, and composite systems thereof may be used as appropriate.

本発明のラップ剤組成物は、例えば、水とアルカンジオールを均一に混合し、次いで超音波を発振しながらダイヤモンド砥粒を均一に分散させる方法により調製することができるが、これに限定されない。   The lapping agent composition of the present invention can be prepared by, for example, a method of uniformly mixing water and alkanediol, and then uniformly dispersing diamond abrasive grains while oscillating ultrasonic waves, but is not limited thereto.

ラッピング方法
本発明のラップ剤組成物の使用方法、すなわちラッピング方法としては、外部からラップ装置等と工作物の被処理表面との接触部に注加する方法、噴霧法、通液法等を挙げることができる。
Lapping method The method of using the lapping agent composition of the present invention, that is, the lapping method, includes a method of pouring from the outside to the contact portion between the lapping apparatus and the surface to be processed, a spraying method, a liquid passing method, etc. be able to.

ラッピング方法は、通常、クリーンルーム内で、常温、常圧下で行う。   The lapping method is usually performed in a clean room at room temperature and normal pressure.

ラッピング時の非処理表面への本発明のラップ剤組成物の添加量は、通常、500cm当り50〜100cc/hrである。 The addition amount of the lapping composition of the present invention to the non-treated surface at the time of lapping is usually 50 to 100 cc / hr per 500 cm 2 .

ラッピングの加工時間は、通常1〜200分であるが、これに限定されない。   The lapping processing time is usually 1 to 200 minutes, but is not limited thereto.

本発明のラッピング方法は金属一般の研磨精密仕上げに汎用できるものであるが、特に鉄、鋼、アルミニウム合金等の研磨加工等に有効である。   The lapping method of the present invention can be used for general polishing precision finishing of metals in general, but is particularly effective for polishing of iron, steel, aluminum alloy and the like.

本発明におけるラップ剤組成物は、ダイヤモンドの分散性が高く、その沈降分離が抑制されている。従って、ラップ剤組成物を攪拌または超音波処理することなくラップ加工をしても、ダイヤモンドの沈降による目詰まり等の問題を生じさせることなく、ラップ加工をすることができる。しかし、ダイヤモンドの粒子径や含有量等によって、攪拌あるいは超音波処理、またはその複合法によって沈降物を再分散して使用する方法が望ましい。   The lapping agent composition in the present invention has high dispersibility of diamond and its sedimentation is suppressed. Therefore, even if lapping is performed without stirring or ultrasonicating the lapping agent composition, lapping can be performed without causing problems such as clogging due to sedimentation of diamond. However, it is desirable to use a method in which the precipitate is redispersed by stirring or ultrasonic treatment or a composite method thereof, depending on the particle diameter and content of diamond.

上記本発明のラッピング方法は、ラップ剤組成物の引火性が低いことに起因して安全性に優れており、また高いダイヤモンド分散性に起因して、作業性がよいという利点を有する。上記本発明のラッピング方法を用いることによって、かかる優れた安全性及び作業性を満たした上で、高い研磨レートでのラッピングをすることができる。   The lapping method of the present invention has the advantage that it is excellent in safety due to the low flammability of the lapping agent composition, and has good workability due to high diamond dispersibility. By using the lapping method of the present invention, lapping at a high polishing rate can be performed while satisfying such excellent safety and workability.

以下、実施例によってさらに詳細に説明する。   Hereinafter, it demonstrates still in detail according to an Example.

以下に実施例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described in detail below using examples, but the present invention is not limited to the following examples.

1.引火点の測定
1,2−プロパンジオール、水及びダイヤモンドを種々の配合割合で含む組成物の引火点を下記のように測定した。
1. Measurement of flash point The flash point of a composition containing 1,2-propanediol, water and diamond in various proportions was measured as follows.

引火点の測定は、クリーブランド開放式引火点測定器を用いて測定した。
結果を下記表1に示す。
The flash point was measured using a Cleveland open flash point measuring instrument.
The results are shown in Table 1 below.

Figure 0005483815
Figure 0005483815

上記表1に示されるように、1,2−プロパンジオール及びダイヤモンドを含む組成物中の水の含有量を増加させていくと、3重量%の水を含有させた時点ではじめて引火点が消滅した。   As shown in Table 1 above, when the water content in the composition containing 1,2-propanediol and diamond is increased, the flash point disappears only when 3% by weight of water is contained. did.

従って、3重量%未満の水しか含まない組成物は、引火点を有するため、安全性の点から、ラップ加工に不適切である。反対に、3重量%以上の水を含有する組成物は、安全性に優れていることがわかる。   Therefore, a composition containing only less than 3% by weight of water has a flash point and is unsuitable for lapping from the viewpoint of safety. On the contrary, it can be seen that a composition containing 3% by weight or more of water is excellent in safety.

以下に、実施例及び比較例は、引火点を有しないラップ剤組成物について研磨レート等を評価した。   Below, an Example and a comparative example evaluated polishing rate etc. about the lapping agent composition which does not have flash point.

2.研磨レート測定
実施例1〜4、比較例1〜6について、研磨レートの測定を行った。研磨レートの測定は、下記の研磨試験方法にて行った。
[研磨試験方法]
加工機:片面ラップ機
加工対象:サファイア(Φ30mm×3枚)
荷重:400g/cm2
定盤:鉄(Φ300mm)
定盤回転数:60rpm
スラリー供給:間欠噴霧(20秒間隔、10秒噴霧)
ダイヤモンド粒子径:メジアン径8.0μm
2. Polishing rate measurement About Examples 1-4 and Comparative Examples 1-6, the polishing rate was measured. The polishing rate was measured by the following polishing test method.
[Polishing test method]
Processing machine: Single-sided lapping machine Target: Sapphire (Φ30mm × 3)
Load: 400g / cm2
Surface plate: Iron (Φ300mm)
Plate rotation speed: 60rpm
Slurry supply: intermittent spraying (20 seconds interval, 10 seconds spraying)
Diamond particle diameter: Median diameter 8.0μm

Figure 0005483815
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Figure 0005483815
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上記実施例1〜2と比較例2との対比から明らかなように、1,2−プロパンジオールを80重量%より多く含む組成物は、1,2−プロパンジオール含有量80重量%以下の組成物と比較して顕著に高い研磨レートを示す。   As is clear from the comparison between Examples 1 and 2 and Comparative Example 2, the composition containing 1,2-propanediol in an amount of more than 80% by weight is a composition having a 1,2-propanediol content of 80% by weight or less. The polishing rate is remarkably higher than that of the product.

また、実施例1〜3と比較例1及び3〜6との対比から明らかなように、炭素数3〜8のアルカンジオールは、これ以外の化合物と比較して顕著に高い研磨レートを示す。   Moreover, as is clear from the comparison between Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 3 to 6, the alkanediol having 3 to 8 carbon atoms exhibits a significantly higher polishing rate than other compounds.

また、ダイヤモンドの含有量を0.2重量%から2重量%に増量し、これに対応して水を18.8重量%から17重量%に減量した以外は実施例2と同様にして、ラップ剤組成物を調製し、研磨レートを測定したところ、36.0μm/時と非常に高い値を示した。   Further, the wrapping was performed in the same manner as in Example 2 except that the diamond content was increased from 0.2% by weight to 2% by weight and the water was reduced correspondingly from 18.8% by weight to 17% by weight. When an agent composition was prepared and the polishing rate was measured, it showed a very high value of 36.0 μm / hour.

3.分散性の検証
上記実施例2の組成物を用いて下記に示す作業環境化でラップ加工を行なった。
[研磨試験方法]
加工機:片面ラップ機
加工対象:サファイア(Φ30mm×3枚)
荷重:400g/cm2
定盤:鉄(Φ300mm)
定盤回転数:60rpm
スラリー供給:間欠噴霧(20秒間隔、10秒噴霧)
ダイヤモンド粒子径:メジアン径8.0μm
加工時間 :10分
但し、ラップ剤組成物に攪拌、超音波処理等の分散処理を施さない状態でラップ加工を行なった。
3. Verification of dispersibility Using the composition of Example 2 above, lapping was performed in the working environment described below.
[Polishing test method]
Processing machine: Single-sided lapping machine Target: Sapphire (Φ30mm × 3)
Load: 400g / cm2
Surface plate: Iron (Φ300mm)
Plate rotation speed: 60rpm
Slurry supply: intermittent spraying (20-second intervals, 10-second spraying)
Diamond particle diameter: Median diameter 8.0μm
Processing time: 10 minutes However, lapping was performed in a state where the lapping agent composition was not subjected to dispersion treatment such as stirring and ultrasonic treatment.

一般に、粘度の高い分散媒中に砥粒を分散させた場合、砥粒の沈降は遅く、分散状態が長く保たれる傾向にある。ここで、水は、1,2−プロパンジオールよりも粘度が低い。従って、水を18.8重量%含み、かつ1,2−プロパンジオールを81重量%しか含まない実施例2の組成物においては、砥粒は速やかに沈降してしまうことが予測される。   In general, when abrasive grains are dispersed in a dispersion medium having a high viscosity, the settling of the abrasive grains is slow and the dispersion state tends to be kept long. Here, water has a lower viscosity than 1,2-propanediol. Therefore, in the composition of Example 2 containing 18.8% by weight of water and 81% by weight of 1,2-propanediol, it is predicted that the abrasive grains will settle quickly.

しかし、かかる予想に反し、実施例2のラップ剤組成物を用いたラップ加工においては、攪拌及び超音波処理をしなくても、粒子の沈降による目詰まり等の問題を生じることなく、ラップ加工をすることができた。   However, contrary to this expectation, in the lapping process using the lapping composition of Example 2, the lapping process does not cause problems such as clogging due to sedimentation of particles without stirring and ultrasonic treatment. I was able to.

以上のことから、少なくとも80重量%より多い1,2−プロパンジオールを含むラップ剤組成物は、分散性に優れていることが分かる。   From the above, it can be seen that a lapping agent composition containing at least 80% by weight of 1,2-propanediol is excellent in dispersibility.

以上のことから、炭素数3〜8のアルカンジオールを80重量%より多くかつ96.999重量%未満、ダイヤモンド砥粒を0.001〜5重量%及び水を3重量%以上かつ19.999重量%未満含むラップ剤組成物は、引火点を有さず、かつ研磨性及び分散性が高く、ラップ剤として優れた性能を示す。   From the above, the alkanediol having 3 to 8 carbon atoms is more than 80% by weight and less than 96.999% by weight, the diamond abrasive grains are 0.001 to 5% by weight, the water is 3% by weight or more and 19.999% by weight. A lapping agent composition containing less than 1% does not have a flash point, has high abrasiveness and dispersibility, and exhibits excellent performance as a lapping agent.

Claims (1)

(a)炭素数3〜8のアルカンジオール、(b)ダイヤモンド砥粒及び(c)水を含むラップ剤組成物であって、
組成物中の(a)成分、(b)成分及び(c)成分の含有割合X、Y及びZが以下の数式を全て満足する、ラップ剤組成物:
80<X≦96.999
0.001≦Y≦5
3≦Z<19.999
[式中、Xは、組成物中の(a)成分の含有割合(重量%)を示す。
Yは、組成物中の(b)成分の含有割合(重量%)を示す。
Zは、組成物中の(c)成分の含有割合(重量%)を示す。]
A wrapping agent composition comprising (a) an alkanediol having 3 to 8 carbon atoms, (b) diamond abrasive grains and (c) water,
The wrapping agent composition in which the content ratios X, Y and Z of the component (a), the component (b) and the component (c) in the composition satisfy all the following formulas:
80 <X ≦ 96.999
0.001 ≦ Y ≦ 5
3 ≦ Z <19.999
[In formula, X shows the content rate (weight%) of (a) component in a composition.
Y shows the content rate (weight%) of (b) component in a composition.
Z shows the content rate (weight%) of (c) component in a composition. ]
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