JP5481834B2 - 水素化塩化ジルコノセン化合物の製造方法。 - Google Patents
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Description
原料
<二塩化ジルコノセン化合物>
二塩化ジルコノセン化合物は、純度95%以上の市販品を用いることができる。生成する水素化塩化ジルコノセン化合物の純度は、原料である二塩化ジルコノセン化合物の純度にも依存することから、二塩化ジルコノセン化合物はできるだけ高純度であることが好ましい。
<溶媒>
溶媒としては、二塩化ジルコノセン化合物、水素化剤及び水素化塩化ジルコノセン化合物と反応しないものであれば特に制限はないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、又は、これらの混合溶媒を用いることができる。
<水素化剤>
水素化剤としては、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウムを用いることができる。中でも、水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムが最も好ましい。それら水素化剤は、純度95%以上の市販品を用いることができる。生成する水素化塩化ジルコノセン化合物の純度は、原料である水素化剤の純度にも依存することから、水素化剤はできるだけ高純度であることが好ましい。
合成反応工程
本発明において、合成反応は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行う。これらの不活性ガスの純度は、好ましくは、99.99%(4N)以上、特に好ましくは、99.9999%(6N)以上である。また、雰囲気ガス中の水分や酸素は、水素化塩化ジルコノセン化合物を分解させる原因となるため、水分や酸素を極力除去した雰囲気ガスを用いることが望まれる。
水素化塩化ジルコノセンの合成
〔実施例1〕水素化アルミニウムリチウム(LiAlH 4 )を用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(−20℃)
窒素置換した200mlの3つ口フラスコに、二塩化ジルコノセン10.00g(34.21mmol)とテトラヒドロフラン65mlとを入れる。別容器に、濃度が1mol/Lとなるように、水素化アルミニウムリチウムのジエチルエーテル溶液を準備する。
〔比較例1〕水素化アルミニウムリチウムを用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(20℃)
合成温度を−20℃から20℃に変更する以外は、実施例1と同様に合成する。白色固体7.22g(収率82%)が得られ、その純度は95.7%である。
〔実施例2−1〕水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウム(LiAlH(O t Bu) 3 )を用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(0℃)
窒素置換した200mlの3つ口フラスコに、二塩化ジルコノセン5.00g(17.10mmol)とテトラヒドロフラン50mlとを入れる。別容器に、濃度が1mol/Lとなるように、水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液を準備する。
〔実施例2−2〕水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムを用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(−10℃)
合成温度を0℃から−10℃に変更する以外は、実施例2−1と同様に合成する。白色固体4.12g(収率93%)が得られ、その純度は99.5%である。
〔実施例2−3〕水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムを用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(−20℃)
合成温度を0℃から−20℃に変更する以外は、実施例2−1と同様に合成する。白色固体4.29g(収率97%)が得られ、その純度は99.6%である。
〔実施例2−4〕水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムを用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(−40℃)
滴下する水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液(濃度1mol/L)を18.8mlから17.1mlに変更し、合成温度を0℃から−40℃に変更する以外は、実施例2−1と同様に合成する。白色固体4.02g(収率91%)が得られ、その純度は99.4%である。
〔実施例2−5〕水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムを用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(−20℃、テトラヒドロフラン−ヘキサン混合溶媒)
窒素置換した300mlの3つ口フラスコに、二塩化ジルコノセン9.00g(30.79mmol)とn−ヘキサン78.5mlとテトラヒドロフラン11.5mlとを入れる。別容器に、濃度が1mol/Lとなるように、水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液を準備する。
〔比較例2〕水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムを用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(20℃)
滴下する水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液(濃度1mol/L)を18.8mlから17.1mlに変更し、合成温度を0℃から20℃に変更する以外は、実施例2−1と同様に合成する。白色固体3.80g(収率86%)が得られ、その純度は98.1%である。
〔実施例3〕水素化トリエチルホウ素リチウム(LiEt 3 BH)を用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(−20℃)
窒素置換した200mlの3つ口フラスコに、二塩化ジルコノセン5.00g(17.10mmol)とテトラヒドロフラン50mlとを入れる。別容器に、濃度が1mol/Lとなるように、水素化トリエチルホウ素リチウムのテトラヒドロフラン溶液を準備する。
〔比較例3〕水素化トリエチルホウ素リチウムを用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(25℃)
合成温度を−20℃から25℃に変更する以外は、実施例3と同様に合成する。白色固体3.04g(収率69%)が得られ、その純度は88.4%である。
〔実施例4〕水素化ジイソブチルアルミニウム(i−Bu 2 AlH)を用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(−40℃)
窒素置換した200mlの3つ口フラスコに、二塩化ジルコノセン5.00g(17.10mmol)とテトラヒドロフラン50mlとを入れる。別容器に、濃度が1mol/Lとなるように水素化ジイソブチルアルミニウムのテトラヒドロフラン溶液を準備する。
〔比較例4〕水素化ジイソブチルアルミニウムを用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(20℃)
合成温度を−40℃から20℃とする以外は、実施例4と同様に合成する。白色固体3.12g(収率71%)が得られ、その純度は96.0%である。
〔実施例5〕水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム(NaAlH 2 (OCH 2 CH 2 OCH 3 ) 2 )を用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(−20℃)
窒素置換した200mlの3つ口フラスコに、二塩化ジルコノセン10.00g(34.21mmol)とテトラヒドロフラン100mlとを入れる。別容器に、濃度が69重量%となるように水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウムのトルエン溶液を準備する。
〔比較例5〕水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウムを用いた水素化塩化ジルコノセンの合成(25℃)
合成温度を−20℃から25℃に変更する以外は、実施例5と同様に合成する。白色固体8.54gが得られ、そのZr含量は31.12%である。この得られた白色固体は、水素化塩化ジルコノセンとNaClとの混合物である。
水素化塩化ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムの合成
〔実施例6〕水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウム(LiAlH(O t Bu) 3 )を用いた水素化塩化ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムの合成(−20℃)
窒素置換した200mlの3つ口フラスコに、二塩化ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム2.50g(7.80mmol)とテトラヒドロフラン23mlとを入れる。別容器に、濃度が1mol/Lとなるように、水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液を準備する。
〔比較例6〕水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウムを用いた水素化塩化ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムの合成(25℃)
合成温度を−20℃から25℃に変更する以外は、実施例6と同様に合成する。白色固体1.05g(収率47%)が得られ、その純度は94.0%である。
反応性の評価
実施例1〜4及び比較例1〜4で得られた水素化塩化ジルコノセンに3−ヘキシンを反応させ、反応に要した時間を測定することで反応性の評価を行う。この反応は、下記反応式(3)で示される。但し、式中、Cpはシクロペンタジエニル基、Etはエチル基を示す。具体的には次の操作を行い、すべての操作は、紫外線遮光下、窒素置換され28℃に調整されたグローブボックス内で行う。
Claims (4)
- 前記水素化剤は、化学式:LMH4−xRx、又は、RyMH3−yで示される化合物である請求項1に記載の方法。
但し、式中、LはLi又はNa、MはB又はAl、Rは炭素数10以下のアルキル基、炭素数10以下のアルコキシル基、炭素数10以下のアルコキシアルキル基、又は、炭素数10以下のジアルキルアミノ基、xは0≦x≦3を満たす整数、yは0≦y≦2を満たす整数である。 - 前記水素化剤は、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリ−tert−ブトキシアルミニウムリチウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウムから選ばれる少なくとも1種である請求項1又は2に記載の方法。
- テトラヒドロフランを少なくとも10体積%以上含む溶媒中で、前記二塩化ジルコノセン化合物と前記水素化剤とを反応させる請求項1乃至3のいずれか1項に記載の方法。
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