JP5478291B2 - Crosslinkable composition for producing screen printing mask with resin - Google Patents
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Description
本発明は、樹脂付きスクリーン印刷マスクの作製に使用するための架橋性樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a crosslinkable resin composition for use in the production of a resin-coated screen printing mask.
近年の電子機器の小型化、多機能化に伴い、プリント配線基板の高密度化や配線パターンの微細化が進められており、プリント配線基板への電子部品の高密度実装化が広く行われている。このプリント配線基板への電子部品の高密度実装化においては、プリント配線基板面に電子部品を実装するためにクリーム半田を印刷し、半田端子に電子部品を搭載した後にリフロー炉で加熱して半田付けを行う。クリーム半田の印刷方法としては、スクリーン印刷による工程が広く用いられている。一般的に、スクリーン印刷は、パターン状の開口部が形成されたスクリーン印刷マスクを印刷すべき被印刷基板の上面にセットし、スクリーン印刷マスク上にクリーム半田等のペースト材料を供給してスキージによって掻き寄せることによって、開口部を通してペースト材料をパターン状に転写印刷する方法である。 With recent miniaturization and multi-functionalization of electronic devices, the density of printed wiring boards and the miniaturization of wiring patterns have been promoted, and high-density mounting of electronic components on printed wiring boards has been widely performed. Yes. In high density mounting of electronic components on this printed wiring board, cream solder is printed to mount the electronic components on the surface of the printed wiring board, and the electronic components are mounted on the solder terminals, and then heated in a reflow furnace for soldering. To do. As a method for printing cream solder, a screen printing process is widely used. In general, screen printing is performed by setting a screen printing mask having a pattern-shaped opening formed on an upper surface of a substrate to be printed, supplying paste material such as cream solder on the screen printing mask, and using a squeegee. In this method, the paste material is transferred and printed in a pattern through the opening by scraping.
スクリーン印刷マスクを用いて被印刷基板面にクリーム半田を印刷し、電子部品の実装用の半田端子を形成した場合、パターンが高密度かつ高精細になると、クリーム半田のスクリーン印刷マスクからの抜け性の悪化を生じる。また、近年、環境面の問題からクリーム半田の素材も無鉛化の動きが高まっており、その対策の一環として、鉛を含まない鉛フリー半田が用いられるようになってきている。鉛フリーのクリーム半田は、従来のクリーム半田に比べ転写性に劣る傾向がある。転写性の悪化、具体的にはクリーム半田のスクリーン印刷マスクからの抜け性の悪化により、半田端子の突起や欠け、ひび割れ、抜け等の欠陥が発生する。また、被印刷基板とスクリーン印刷マスクの密着性の悪化により、クリーム半田の滲みが発生することもあり、いずれも歩留まり低下の大きな原因となっていた。 When cream solder is printed on the surface of the substrate to be printed using a screen printing mask and solder terminals for mounting electronic components are formed, if the pattern becomes dense and high definition, the cream solder can be removed from the screen printing mask. Cause deterioration. In recent years, there has been an increasing trend toward lead-free cream solder materials due to environmental problems, and lead-free solder containing no lead has been used as part of the countermeasure. Lead-free cream solder tends to be inferior in transferability compared to conventional cream solder. Deterioration of transferability, specifically, deterioration of the ability to remove cream solder from a screen printing mask causes defects such as protrusions, chipping, cracks, and removal of solder terminals. In addition, bleeding of cream solder may occur due to deterioration of the adhesion between the substrate to be printed and the screen printing mask, both of which have been a major cause of yield reduction.
このような問題を解決するために、メタルマスク上に樹脂層としてシリコーンエラストマーを積層し、レーザー法によって開口部を設けた樹脂付きスクリーン印刷マスクが提案されている(例えば、特許文献1参照)。樹脂層の存在によって被印刷基板との密着性が向上し、クリーム半田の滲みの発生しないスクリーン印刷を達成できるものの、樹脂層が被印刷基板と接着してしまい、樹脂付きスクリーン印刷マスクを引き上げる際に被印刷基板が持ち上がり、版離れが容易に実施できない問題がある。また、レーザー法によりメタルマスクと樹脂層を同時に一括で開口すると、メタルマスクから多量の熱が発生し、樹脂層の変形や変性を引き起こす場合があり、メタルマスクと樹脂層とをともに良好に開口するためのレーザー照射条件を定めるのが困難であるという問題もある。 In order to solve such a problem, a screen printing mask with resin in which a silicone elastomer is laminated as a resin layer on a metal mask and an opening is provided by a laser method has been proposed (for example, see Patent Document 1). The presence of the resin layer improves adhesion to the printed circuit board and can achieve screen printing that does not cause cream solder bleeding, but the resin layer adheres to the printed circuit board and raises the screen printing mask with resin. In addition, there is a problem that the substrate to be printed is lifted and separation of the plate cannot be easily performed. Also, if the metal mask and the resin layer are simultaneously opened by the laser method, a large amount of heat is generated from the metal mask, which may cause deformation or modification of the resin layer. Both the metal mask and the resin layer are opened well. There is also a problem that it is difficult to determine the laser irradiation conditions for this purpose.
また、メタルマスクを作製した後に感光性樹脂層を形成し、フォトリソグラフ法によってメタルマスクの開口位置に合わせて感光性樹脂層を開口させる技術も提案されている(例えば、特許文献2参照)。しかしながら、印刷パターンが高密度かつ高精細になると、フォトリソグラフ法では、メタルマスクの開口位置に正確に位置ずれなく感光性樹脂層の開口を形成するのが困難であるという問題がある。 In addition, a technique has been proposed in which a photosensitive resin layer is formed after a metal mask is manufactured, and the photosensitive resin layer is opened in accordance with the opening position of the metal mask by a photolithography method (see, for example, Patent Document 2). However, when the printed pattern has a high density and a high definition, there is a problem in the photolithographic method that it is difficult to accurately form the opening of the photosensitive resin layer without being displaced at the opening position of the metal mask.
一方、開口部を有するスクリーン印刷マスクの一方の主表面に、前記開口部と略同位置に開口部を有する樹脂層が設けられてなる樹脂付きスクリーン印刷マスクを製造する方法であって、前記スクリーン印刷マスクの一方の主表面上にラミネート加工によって樹脂層を被覆する工程と、前記スクリーン印刷マスクの樹脂層を設けた側とは反対側の主表面から樹脂層除去液を供給することによって樹脂層に開口部を形成する工程とを含む樹脂付きスクリーン印刷マスクを作製する方法が提案されている(例えば、特許文献3参照)。この方法によっては、スクリーン印刷マスクの開口部と樹脂層の開口部との間で位置ずれが発生しないという効果や、レーザー法による一括開口がないため、樹脂層の変形が起こらないという効果が得られる。また、先に開口部を有するスクリーン印刷マスクを最適な製造条件で作製できるので、内壁面の平滑性や開口部形状の寸法精度等が良好なスクリーン印刷マスクに対して樹脂層を形成でき、スクリーン印刷マスクの板厚及び樹脂層の厚みを自由に設定することができるという効果も得られる。特許文献3では、カルボキシル基を含有するバインダーポリマー、分子内に少なくとも1個の重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含む架橋性組成物を含有してなる樹脂層が提案されていて、開口部を形成した後に、紫外線照射処理による光架橋と加熱処理によって、樹脂層に耐性化処理が施されている。
On the other hand, a method for manufacturing a resin-coated screen printing mask in which a resin layer having an opening is provided at substantially the same position as the opening on one main surface of the screen printing mask having an opening, A step of coating a resin layer on one main surface of the printing mask by laminating, and a resin layer by supplying a resin layer removing liquid from the main surface opposite to the side on which the resin layer of the screen printing mask is provided A method of producing a screen-printed mask with resin including a step of forming an opening in is proposed (for example, see Patent Document 3). Depending on this method, there is an effect that no displacement occurs between the opening of the screen printing mask and the opening of the resin layer, and there is no collective opening by the laser method, so that an effect that the deformation of the resin layer does not occur is obtained. It is done. In addition, since a screen printing mask having an opening portion can be produced under optimum manufacturing conditions, a resin layer can be formed on a screen printing mask having good inner wall surface smoothness and opening shape dimensional accuracy, etc. The effect that the board thickness of a printing mask and the thickness of a resin layer can be set freely is also acquired.
一般的に、スクリーン印刷マスクは、繰り返し使用することにより、スクリーン印刷マスクの開口部又は被印刷基板接触面にクリーム半田の残存物が発生する。この際、アルコール類やグリコール類といった有機溶剤によって超音波洗浄したり、有機溶剤を含浸したウエスやクリーニングペーパー類によって拭き取ったりする必要が生じる。そのため、有機溶剤に膨潤せず、ウエスの擦れに耐えうる耐溶剤性のある樹脂層の形成が必要であった。 In general, when a screen printing mask is repeatedly used, a cream solder residue is generated at the opening of the screen printing mask or the printed substrate contact surface. At this time, it is necessary to perform ultrasonic cleaning with an organic solvent such as alcohols or glycols, or to wipe off with a waste or cleaning paper impregnated with an organic solvent. For this reason, it is necessary to form a solvent-resistant resin layer that does not swell in an organic solvent and can withstand rubbing of the waste.
このような、耐有機溶剤性のある樹脂層を作製するためには、多官能モノマーの配合量を多くするなどして、架橋密度の高い樹脂層を形成することで解決できる。しかしながら、一方で樹脂層が固くなってしまう問題が発生した。樹脂層が固いと、基板上のシンボルマークやソルダーレジストの凹凸に対しての樹脂層の追従性が悪化し、強い印圧で印刷したとしても、クリーム半田の滲みが発生する。特許文献3の架橋性組成物を含有してなる樹脂層においては、耐有機溶剤性と樹脂の柔軟性の両立が困難な場合があった。
In order to produce such a resin layer having resistance to organic solvents, it can be solved by forming a resin layer having a high crosslinking density by increasing the blending amount of the polyfunctional monomer. However, on the other hand, there has been a problem that the resin layer becomes hard. When the resin layer is hard, the followability of the resin layer to the symbol marks on the substrate and the unevenness of the solder resist deteriorates, and even if printing is performed with a strong printing pressure, cream solder bleeding occurs. In the resin layer containing the crosslinkable composition of
本発明の課題は、耐溶剤性と柔軟性を両立する樹脂付きスクリーン印刷マスクの作製に使用する架橋性組成物を提供することである。 The subject of this invention is providing the crosslinkable composition used for preparation of the screen-printing mask with resin which balances solvent resistance and a softness | flexibility.
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、開口部を有するスクリーン印刷マスクの一方の主表面上に架橋性組成物を含有してなる樹脂層及びマスキング層を形成する工程、前記スクリーン印刷マスクの樹脂層を設けた側とは反対側の主表面から樹脂層除去液を供給することによって樹脂層に開口部を形成する工程とを含む樹脂付きスクリーン印刷マスクの作製方法で使用される架橋性組成物であって、少なくとも(A)カルボキシル基を含有するバインダーポリマー、(B)光重合開始剤、(C)ウレタン(メタ)アクリレート化合物及び(D)多官能ブロック化イソシアネート化合物を含有してなることを特徴とする樹脂付きスクリーン印刷マスク作製用架橋性組成物によって、上記課題を解決できることを見出した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have formed a resin layer and a masking layer containing a crosslinkable composition on one main surface of a screen printing mask having an opening. And a step of forming an opening in the resin layer by supplying a resin layer removal liquid from the main surface opposite to the side on which the resin layer is provided of the screen printing mask. A crosslinkable composition used, at least (A) a binder polymer containing a carboxyl group, (B) a photopolymerization initiator, (C) a urethane (meth) acrylate compound, and (D) a polyfunctional blocked isocyanate compound It has been found that the above-mentioned problems can be solved by a crosslinkable composition for producing a screen-printed mask with resin, characterized by comprising
本発明の樹脂付きスクリーン印刷マスク作製用架橋性組成物は、成分(B)及び成分(C)を含有しているので、開口部を形成した後に光架橋を行うことで、硬化被膜が形成される。さらに、加熱処理を行うことで、成分(D)中のブロック化イソシアネート基から発生したイソシアネート基と成分(A)中のカルボキシル基との熱架橋による強固な結合が形成され、耐有機溶剤性に優れた硬化被膜が得られることから、有機溶剤を含浸したウエスの擦りに対しても樹脂層の膜減りが発生しにくい樹脂付きスクリーン印刷マスクを作製することができる。また、(C)成分を含有していることから、硬化被膜であっても柔軟性のある樹脂層が形成できる。また、(A)成分を含有していることから、樹脂層除去液にアルカリ水溶液を使用することが可能であり、樹脂層に開口部を形成することができる。 Since the crosslinkable composition for producing a screen-printed mask with resin of the present invention contains the component (B) and the component (C), a cured film is formed by performing photocrosslinking after forming the opening. The Furthermore, by performing the heat treatment, a strong bond is formed by thermal crosslinking between the isocyanate group generated from the blocked isocyanate group in the component (D) and the carboxyl group in the component (A). Since an excellent cured film can be obtained, it is possible to produce a screen-printed mask with a resin that is less likely to cause a reduction in the thickness of the resin layer even when rubbed with a waste impregnated with an organic solvent. Moreover, since it contains (C) component, even if it is a cured film, a flexible resin layer can be formed. Moreover, since (A) component is contained, it is possible to use alkaline aqueous solution for a resin layer removal liquid, and can form an opening part in a resin layer.
以下、本発明の樹脂付きスクリーン印刷マスク作製用架橋性組成物(以下、「本発明の架橋性組成物」という)について詳細に説明する。被印刷基板としてプリント配線基板、ペースト材料としてクリーム半田を例に挙げて説明するが、本発明の趣旨に反しない限り、この例に限定されるものではない。 Hereinafter, the crosslinkable composition for producing a screen-printed mask with resin of the present invention (hereinafter referred to as “crosslinkable composition of the present invention”) will be described in detail. A printed wiring board will be described as an example of a substrate to be printed and cream solder will be described as an example of a paste material. However, the present invention is not limited to this example unless it is contrary to the spirit of the present invention.
図面を用いて、本発明に係わる樹脂付きスクリーン印刷マスクの作製方法を説明する。開口部2を有するスクリーン印刷マスク1(図1)の一方の主表面(以下、「第1面」とする)上に、開口部を塞ぐように、ラミネートによって樹脂層4及びマスキング層3を形成する(図2)。次に、もう一方の主表面(以下、「第2面」とする)から樹脂層除去液を供給する。樹脂層除去液は開口部2を通って、第1面の樹脂層4に達し、開口部2上の樹脂層4を除去する(図3)。マスキング層3は、この樹脂層除去液に対して不溶性の成分からなり、従って、樹脂層除去液は、樹脂層4の開口部2上を正確かつ選択的に精度よく除去できる。開口部2上の樹脂層4を除去した後、マスキング層3を除去することにより(図4)、樹脂層4の開口部2上が除去された樹脂付きスクリーン印刷マスクを作製することができる。
With reference to the drawings, a method for producing a screen-printed mask with resin according to the present invention will be described. A
樹脂層は、本発明の架橋性組成物を含有してなる。本発明の架橋性組成物は、少なくとも(A)カルボキシル基を含有するバインダーポリマー、(B)光重合開始剤、(C)ウレタン(メタ)アクリレート化合物及び(D)多官能ブロック化イソシアネート化合物を含有してなる。 The resin layer contains the crosslinkable composition of the present invention. The crosslinkable composition of the present invention contains at least (A) a binder polymer containing a carboxyl group, (B) a photopolymerization initiator, (C) a urethane (meth) acrylate compound, and (D) a polyfunctional blocked isocyanate compound. Do it.
成分(A)としては、成分(B)、成分(C)及び成分(D)と混ざり合えば、特に制限されない。例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、アミドエポキシ系樹脂、アルキド系樹脂等の有機高分子が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The component (A) is not particularly limited as long as it is mixed with the component (B), the component (C), and the component (D). Examples thereof include organic polymers such as acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, amide resins, amide epoxy resins, and alkyd resins. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
樹脂層除去液にアルカリ水溶液を用いた場合、樹脂層除去液への溶解性が高いことから、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。アクリル系樹脂としては、(メタ)アクリレートを主成分とし、これにエチレン性不飽和カルボン酸及びその他の共重合可能なエチレン性不飽和基を有する単量体(以下、「重合性単量体」という)を共重合させてなるアクリル系重合体であればよい。 When an aqueous alkali solution is used for the resin layer removal solution, it is preferable to use an acrylic resin because of its high solubility in the resin layer removal solution. As the acrylic resin, a monomer having (meth) acrylate as a main component and having an ethylenically unsaturated carboxylic acid and other copolymerizable ethylenically unsaturated groups (hereinafter referred to as “polymerizable monomer”). May be any acrylic polymer obtained by copolymerization.
上記(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−(ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、2−(ジエチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl ( (Meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl Meth) acrylate, 2- (diethylamino) ethyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate.
上記エチレン性不飽和カルボン酸として、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸が好適に用いられ、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のジカルボン酸や、それらの無水物やハーフエステルを用いることもできる。これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸が特に好ましい。 Monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid are preferably used as the ethylenically unsaturated carboxylic acid, and dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid, and anhydrides and half esters thereof. It can also be used. Among these, acrylic acid and methacrylic acid are particularly preferable.
上記その他の重合性単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−エチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−エトキシスチレン、p−クロロスチレン、p−ブロモスチレン、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ビニルトルエン、酢酸ビニル、ビニル−n−ブチルエーテル等が挙げられる。 Examples of the other polymerizable monomers include styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-ethylstyrene, p-methoxystyrene, p-ethoxystyrene, p-chlorostyrene, p-bromostyrene, (Meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, diacetone acrylamide, vinyl toluene, vinyl acetate, vinyl n-butyl ether and the like can be mentioned.
本発明に係わる成分(A)において、2種類以上を組み合わせて用いる場合の組み合わせとしては、例えば、異なる共重合成分を有する2種類以上のポリマーの組み合わせ、異なる質量平均分子量を有する2種類以上のポリマーの組み合わせ、異なる分散度(質量平均分子量/数平均分子量)を有する2種類以上のバインダーポリマーの組み合わせが挙げられる。 In the component (A) according to the present invention, combinations of two or more types include, for example, a combination of two or more types of polymers having different copolymerization components, or two or more types of polymers having different mass average molecular weights. And combinations of two or more binder polymers having different dispersities (mass average molecular weight / number average molecular weight).
成分(A)の酸価は、30〜500mgKOH/gであることが好ましく、100〜300mgKOH/gであることがより好ましい。樹脂層除去液としてアルカリ水溶液を用いた場合、この酸価が、30mgKOH/g未満では溶解までの時間が長くなる傾向があり、一方、500mgKOH/gを超えると、スクリーン印刷用マスクへの樹脂層の貼り付きが悪くなる場合がある。 The acid value of component (A) is preferably 30 to 500 mgKOH / g, and more preferably 100 to 300 mgKOH / g. When an alkaline aqueous solution is used as the resin layer removing solution, the acid value tends to be longer if the acid value is less than 30 mg KOH / g, whereas if it exceeds 500 mg KOH / g, the resin layer on the mask for screen printing is used. May stick.
また、成分(A)の質量平均分子量は、10,000〜200,000であることが好ましく、10,000〜150,000であることがより好ましい。質量平均分子量が、10,000未満では本発明の架橋性組成物を被膜状態に形成するのが困難になることがあり、一方、200,000を超えると樹脂層除去液に対する溶解性が悪化する傾向がある。 Moreover, it is preferable that it is 10,000-200,000, and, as for the mass mean molecular weight of a component (A), it is more preferable that it is 10,000-150,000. If the weight average molecular weight is less than 10,000, it may be difficult to form the crosslinkable composition of the present invention in a film state, whereas if it exceeds 200,000, the solubility in the resin layer removing solution deteriorates. Tend.
本発明に係わる成分(B)としては、ベンゾフェノン、N,N′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,N′−テトラエチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパノン−1等の芳香族ケトン;2−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、2−t−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ベンズアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルアントラキノン等のキノン類;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物;ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物;ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体;2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9′−アクリジニル)ヘプタン等のアクリジン誘導体;N−フェニルグリシン、N−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物等が挙げられる。上記2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体における2つの2,4,5−トリアリールイミダゾールのアリール基の置換基は、同一であって対称な化合物を与えてもよいし、相違して非対称な化合物を与えてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と3級アミン化合物とを組み合わせてもよい。これらは単独で使用してもよいし、又は、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 Examples of the component (B) according to the present invention include benzophenone, N, N′-tetramethyl-4,4′-diaminobenzophenone (Michler ketone), N, N′-tetraethyl-4,4′-diaminobenzophenone, 4-methoxy -4'-dimethylaminobenzophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propanone Aromatic ketone such as -1, 2-ethylanthraquinone, phenanthrenequinone, 2-t-butylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-benzanthraquinone, 2-phenylanthraquinone, 2,3- Diphenylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, -Quinones such as methyl anthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 9,10-phenanthraquinone, 2-methyl-1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylanthraquinone; benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin phenyl Benzoin ether compounds such as ether; benzoin compounds such as benzoin, methylbenzoin, and ethylbenzoin; benzyl derivatives such as benzyldimethyl ketal; 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o- Chlorophenyl) -4,5-di (methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-diphenyl Imidazole dimer, 2- (p- 2,4,5-triarylimidazole dimers such as toxiphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer; acridines such as 9-phenylacridine, 1,7-bis (9,9'-acridinyl) heptane Derivatives: N-phenylglycine, N-phenylglycine derivatives, coumarin compounds and the like. The substituents of the aryl groups of two 2,4,5-triarylimidazoles in the 2,4,5-triarylimidazole dimer may give the same and symmetrical compounds, but differently Asymmetric compounds may be provided. Moreover, you may combine a thioxanthone type compound and a tertiary amine compound like the combination of diethyl thioxanthone and dimethylaminobenzoic acid. These may be used alone or in combination of two or more.
本発明に係わる成分(C)とは、ジオール化合物とジイソシアネート化合物とが反応した末端イソシアネート基を有する化合物と、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート化合物との反応生成物をいう。前記ジオール化合物としては、末端にヒドロキシル基を有するポリエステル類、ポリエーテル類等が挙げられるが、ポリエステル類としては、ラクトン類が開環重合したポリエステル類、ポリカーボネート類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール等のアルキレングリコールと、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸等のジカルボン酸との縮合反応で得られたポリエステル類が挙げられる。前記ラクトン類としては、具体的にはδ−バレロラクタン、ε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、α−メチル−β−プロピオラクトン、β−メチル−β−プロピオラクトン、α,α−ジメチル−β−プロピオラクトン、β,β−ジメチル−β−プロピオラクトン等が挙げられる。また、前記ポリカーボネート類としては、具体的にはビスフェノールA、ヒドロキノン、ジヒドロキシシクロヘキサノン等のジオールと、ジフェニルカーボネート、ホスゲン、無水コハク酸等のカルボニル化合物との反応生成物が挙げられる。また、前記ポリエーテル類としては、具体的にはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリペンタメチレングリコール等を挙げることができる。 The component (C) according to the present invention refers to a reaction product of a compound having a terminal isocyanate group obtained by reacting a diol compound and a diisocyanate compound and a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group. Examples of the diol compound include polyesters having a hydroxyl group at the terminal, polyethers, and the like. Polyesters obtained by ring-opening polymerization of lactones, polycarbonates, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, Examples thereof include polyesters obtained by condensation reaction of alkylene glycol such as triethylene glycol and dipropylene glycol and dicarboxylic acid such as maleic acid, fumaric acid, glutaric acid and adipic acid. Specific examples of the lactones include δ-valerolactan, ε-caprolactone, β-propiolactone, α-methyl-β-propiolactone, β-methyl-β-propiolactone, α, α-dimethyl- β-propiolactone, β, β-dimethyl-β-propiolactone and the like can be mentioned. Specific examples of the polycarbonates include reaction products of diols such as bisphenol A, hydroquinone, and dihydroxycyclohexanone with carbonyl compounds such as diphenyl carbonate, phosgene, and succinic anhydride. Specific examples of the polyethers include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and polypentamethylene glycol.
上記ジオール化合物と反応するジイソシアネート化合物としては、具体的にはジメチレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネートペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチレンジイソシアネート、2,2−ジメチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、2,5−ジメチルヘキサン−1,6−ジイソシアネート、2,2,4−トリメチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、ナノメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環式のジイソシアネート化合物を挙げることができ、その化合物の単独又は2種類以上の混合物が使用できる。 Specific examples of the diisocyanate compound that reacts with the diol compound include dimethylene diisocyanate, trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, heptamethylene diisocyanate, 2,2-dimethylpentane-1,5-diisocyanate. , Octamethylene diisocyanate, 2,5-dimethylhexane-1,6-diisocyanate, 2,2,4-trimethylpentane-1,5-diisocyanate, nanomethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexane diisocyanate, decamethylene diisocyanate And an aliphatic or alicyclic diisocyanate compound such as isophorone diisocyanate, and the compound alone or Mixtures of more than can be used.
さらに、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、具体的にはヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等を挙げることができ、その単独又は2種類以上が混合して使用できる。 Furthermore, as the (meth) acrylate compound having a hydroxyl group, specifically, hydroxymethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) An acrylate etc. can be mentioned, The single or 2 types or more can be mixed and used.
本発明に係わる成分(C)は、カルボキシル基を含有していてもよい。カルボキシル基を含有することで、樹脂層除去液に対する溶解性が向上する傾向にある。カルボキシル基を含有する成分(C)は、最初に、ジイソシアネート化合物とカルボキシル基を有するジオール化合物とを両末端にイソシアネート基が残るように反応させ、次いで、この反応物の末端イソシアネート基に、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート化合物を反応させることによって得ることができる。 Component (C) according to the present invention may contain a carboxyl group. By containing a carboxyl group, the solubility in the resin layer removal liquid tends to be improved. The component (C) containing a carboxyl group is first reacted with a diisocyanate compound and a diol compound having a carboxyl group so that isocyanate groups remain at both ends, and then the terminal isocyanate group of the reaction product is reacted with a hydroxyl group. It can be obtained by reacting a (meth) acrylate compound having
本発明に係わる成分(C)のガラス転移点は、−10℃以下が好ましい。このガラス転移点が−10℃を超えると、架橋性組成物の柔軟性が失われるため、クリーム半田の滲みが発生する可能性がある。 As for the glass transition point of the component (C) concerning this invention, -10 degrees C or less is preferable. When this glass transition point exceeds -10 ° C., the flexibility of the crosslinkable composition is lost, so that cream solder bleeding may occur.
本発明に係わる成分(D)とは、多官能イソシアネート化合物のイソシアネート基にブロック化剤を反応させることで得られ、常温で安定な化合物であるが、ある一定条件下で加熱すると、ブロック剤が開裂してイソシアネート基が発生する。ブロック剤としては、フェノール、クレゾール、p−エチルフェノール、p−t−ブチルフェノール等のフェノール系、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセルソルブ、ベンジルアルコール等のアルコール系、マロン酸ジエチル、アセト酢酸エチル等の活性メチレン系、アセトアニリド、アセトアミド等の酸アミド系、その他イミド系、アミン系、イミダゾール系、ピラゾール系、尿素系、カルバミン酸系、イミン系、ホロドアルドキシム、アセトアルドキシム、シクロヘキサノンオキシム等のオキシム系、メルカプタン系、重亜硫酸ソーダ系、重亜硫酸カリウム等の亜硫酸塩系、ラクタム系等がある。 The component (D) according to the present invention is a compound that is obtained by reacting a blocking agent with the isocyanate group of a polyfunctional isocyanate compound, and is a stable compound at room temperature. Cleavage generates isocyanate groups. As blocking agents, phenols such as phenol, cresol, p-ethylphenol, pt-butylphenol, alcohols such as ethanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve, benzyl alcohol, diethyl malonate, ethyl acetoacetate, etc. Active methylenes, acid amides such as acetanilide, acetamide, other imides, amines, imidazoles, pyrazoles, ureas, carbamic acids, imines, holadaldoxime, acetoaldoxime, cyclohexanone oxime, etc. There are oxime, mercaptan, sodium bisulfite, sulfites such as potassium bisulfite, and lactams.
上記多官能イソシアネート化合物としては、2,6−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサンメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、メチルシクロヘキサン−2,4−ジイソシアネート、メチルシクロヘキサン−2,6−ジイソシアネート、1,3−(イソシアナートメチル)シクロヘキサン、ダイマー酸ジイソシアネート、並びにそれらのアダクト体、ビウレット体、イソシアヌレート体等のプレポリマーが挙げられる。 Examples of the polyfunctional isocyanate compound include 2,6-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, and 4,4′-methylene bis. (Cyclohexyl isocyanate), trimethylhexanemethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, lysine diisocyanate, methylcyclohexane-2,4-diisocyanate, methylcyclohexane-2,6-diisocyanate, 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane , Dimer acid diisocyanates and their adducts, biurets, isocyanurates, etc. Ma and the like.
本発明の架橋性組成物には、必要に応じて、上記成分(A)〜(D)以外の成分を含有させてもよい。このような成分としては、光重合性単量体、熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤(染料、顔料)、光発色剤、熱発色防止剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、密着性付与剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱硬化剤、表面張力調整剤、撥水剤及び撥油剤等が挙げられ、各々0.01〜20質量%程度含有することができる。これらの成分は1種を単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。 You may make the crosslinkable composition of this invention contain components other than the said component (A)-(D) as needed. Such components include photopolymerizable monomers, thermal polymerization inhibitors, plasticizers, colorants (dyes, pigments), photochromic agents, thermochromic inhibitors, fillers, antifoaming agents, flame retardants, stable Agents, adhesion-imparting agents, leveling agents, peeling accelerators, antioxidants, fragrances, imaging agents, thermosetting agents, surface tension modifiers, water and oil repellents, and the like, each of 0.01 to 20 mass. % Can be contained. These components can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
上記光重合性単量体とは、成分(C)以外の、分子内に少なくとも1個の重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物である。例えば、多価アルコールにα,β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物;ビスフェノールA系(メタ)アクリレート化合物;グリシジル基含有化合物にα,β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物;ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレート;γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−(メタ)アクリロイルオキシエチル−o−フタレート、β−ヒドロキシアルキル−β′−(メタ)アクリロイルオキシアルキル−o−フタレート等のフタル酸系化合物;(メタ)アクリル酸アルキルエステル、EO、PO変性ノニルフェニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。ここで、EO及びPOは、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドを示し、EO変性された化合物は、エチレンオキサイド基のブロック構造を有するものであり、PO変性された化合物は、プロピレンオキサイド基のブロック構造を有するものである。これらの光重合性化合物は単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。 The photopolymerizable monomer is a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group in the molecule other than the component (C). For example, a compound obtained by reacting a polyhydric alcohol with an α, β-unsaturated carboxylic acid; a bisphenol A (meth) acrylate compound; obtained by reacting a glycidyl group-containing compound with an α, β-unsaturated carboxylic acid Compound; Nonylphenoxypolyethyleneoxyacrylate; γ-chloro-β-hydroxypropyl-β ′-(meth) acryloyloxyethyl-o-phthalate, β-hydroxyalkyl-β ′-(meth) acryloyloxyalkyl-o-phthalate, etc. (Meth) acrylic acid alkyl ester, EO, PO-modified nonylphenyl (meth) acrylate, and the like. Here, EO and PO represent ethylene oxide and propylene oxide, the EO-modified compound has a block structure of ethylene oxide group, and the PO-modified compound has a block structure of propylene oxide group. Is. These photopolymerizable compounds can be used alone or in combination of two or more.
また、上記光重合性単量体としては、分子内に3個以上の重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物を使用してもよい。分子内に3個以上の重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ(メタ)アクリレートのうち少なくとも1種を含有するものが挙げられる。 Further, as the photopolymerizable monomer, a compound having three or more polymerizable ethylenically unsaturated groups in the molecule may be used. Examples of the photopolymerizable compound having three or more polymerizable ethylenically unsaturated groups in the molecule include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth). Examples include those containing at least one of acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and trimethylolpropane triglycidyl ether tri (meth) acrylate. It is done.
本発明の架橋性組成物は、必要に応じて、メタノール、エタノール、n−プロパノール、2−ブタノール、n−ヘキサノール等のアルコール類;アセトン、2−ブタノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−n−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル等のエステル類、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール等のエーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の溶剤又はこれらの混合溶剤を含有させてもよい。 The crosslinkable composition of the present invention may be prepared by using alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, 2-butanol and n-hexanol; ketones such as acetone and 2-butanone; ethyl acetate, butyl acetate, Esters such as acetic acid-n-amyl, methyl sulfate, ethyl propionate, dimethyl phthalate, ethyl benzoate, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, benzene, ethylbenzene; tetrahydrofuran, diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, Ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and 1-methoxy-2-propanol; solvents such as N, N-dimethylformamide and dimethyl sulfoxide or mixed solvents thereof may be contained.
本発明の架橋性組成物において、成分(A)の配合量は、成分(A)、成分(C)及び成分(D)の総量に対して10〜50質量%であることが好ましく、20〜40質量%であることがより好ましい。成分(A)の配合量が、10質量%未満では被膜性が悪くなる場合や、また、開口できない場合がある。成分(A)の配合量が、50質量%を超えると、被膜の硬度が固くなる場合がある。 In the crosslinkable composition of the present invention, the blending amount of the component (A) is preferably 10 to 50% by mass with respect to the total amount of the component (A), the component (C) and the component (D). More preferably, it is 40 mass%. If the blending amount of the component (A) is less than 10% by mass, the film property may be deteriorated or the opening may not be possible. When the compounding amount of the component (A) exceeds 50% by mass, the hardness of the coating may become hard.
成分(B)の配合量は、成分(A)、成分(C)及び成分(D)の総量に対して0.1〜10質量%であることが好ましく、0.2〜5質量%であることがより好ましい。成分(B)の配合量が0.1質量%未満では、光重合性が不十分となる場合があり、一方、10質量%を超えると、露光の際に架橋性組成物の表面で吸収が増大して、樹脂層内部の光架橋が不十分となる場合がある。 The blending amount of component (B) is preferably 0.1 to 10% by mass, and 0.2 to 5% by mass with respect to the total amount of component (A), component (C) and component (D). It is more preferable. When the blending amount of the component (B) is less than 0.1% by mass, the photopolymerizability may be insufficient. On the other hand, when it exceeds 10% by mass, absorption occurs on the surface of the crosslinkable composition upon exposure. In some cases, the photo-crosslinking inside the resin layer becomes insufficient.
成分(C)の配合量は、成分(A)、成分(C)及び成分(D)の総量に対して30〜70質量%であることが好ましく、40〜60質量%であることがより好ましい。成分(C)の配合量が30質量%未満では、樹脂の軟性が不十分となる場合があり、一方、70質量%を超えると、膜表面のタック性が顕著になる場合がある。 The compounding amount of the component (C) is preferably 30 to 70% by mass and more preferably 40 to 60% by mass with respect to the total amount of the component (A), the component (C) and the component (D). . When the blending amount of the component (C) is less than 30% by mass, the softness of the resin may be insufficient. On the other hand, when it exceeds 70% by mass, the tackiness of the film surface may be remarkable.
成分(D)の配合量は、成分(A)、成分(C)及び成分(D)の総量に対して5〜40質量%であることが好ましく、10〜30質量%であるがより好ましい。成分(D)の配合量が5質量%未満では、加熱後の耐溶剤性が不十分となる場合があり、一方、40質量%を超えると、被膜の硬度が固くなる場合がある。また、光感度が不十分となる場合がある。 The amount of component (D) is preferably 5 to 40% by mass, more preferably 10 to 30% by mass, based on the total amount of component (A), component (C) and component (D). When the blending amount of component (D) is less than 5% by mass, the solvent resistance after heating may be insufficient, while when it exceeds 40% by mass, the hardness of the coating may be hardened. Also, the photosensitivity may be insufficient.
本発明に係わる樹脂付きスクリーン印刷マスクの作製方法において、第2面から樹脂層除去液を供給し、開口部2上の樹脂層4を除去したのち、マスキング層3を除去する工程(図4)の次に紫外線照射処理及び加熱処理によって、本発明の架橋性組成物の架橋反応を施すことが必要である。紫外線照射処理のみであると、十分な機械的強度及び耐溶剤性が得られないし、加熱処理のみであると、開口部のエッジ部が丸くなる現象が発生し、それによりクリーム半田の滲みが発生し、問題となる。先に、加熱処理を行って、次に紫外線照射処理を行うと、この開口部のエッジが丸くなる現象が発生するので、先に、紫外線照射処理によって樹脂層の形状を保持させたのちに、加熱処理をする必要がある。
In the method for producing a screen-printed mask with resin according to the present invention, a process of removing the
紫外線照射処理は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯等の光源を用いて活性光を照射する。光量は、0.5〜20J/cm2であることが好ましく、1〜10J/cm2であることがより好ましい。光量が0.5J/cm2未満では、樹脂層中の光重合性化合物に未反応の不飽和基が残存し、十分な光架橋が行えない場合がある。一方、20J/cm2を超えると、樹脂層中の光架橋反応は飽和に達するため、これ以上の光量は不要である。加熱処理は、使用するブロック化剤の開裂する温度以上が好ましい。加熱温度は、90〜250℃であるのが好ましく、140〜200℃であるのがさらに好ましい。90℃未満であると架橋反応の進みが遅くなる場合があり、250℃を超えると、他の成分の分解が発生する可能性がある。加熱処理は、10〜90分間行うのが好ましい。 In the ultraviolet irradiation treatment, active light is irradiated using a light source such as a high-pressure mercury lamp or an ultra-high pressure mercury lamp. Amount is preferably 0.5~20J / cm 2, more preferably 1~10J / cm 2. When the amount of light is less than 0.5 J / cm 2 , unreacted unsaturated groups remain in the photopolymerizable compound in the resin layer, and sufficient photocrosslinking may not be performed. On the other hand, if it exceeds 20 J / cm 2 , the photocrosslinking reaction in the resin layer reaches saturation, so that no more light is required. The heat treatment is preferably at or above the temperature at which the blocking agent used is cleaved. The heating temperature is preferably 90 to 250 ° C, more preferably 140 to 200 ° C. If it is less than 90 ° C., the progress of the crosslinking reaction may be slow, and if it exceeds 250 ° C., decomposition of other components may occur. The heat treatment is preferably performed for 10 to 90 minutes.
本発明に係わる樹脂付きスクリーン印刷マスクの樹脂層の厚みは、1〜100μmであるのが好ましく、5〜50μmであることがより好ましい。この樹脂層の厚みは、印刷すべきペースト材料の転写量に対して、適正量のペースト材料が印刷されるように、あらかじめ定められたスクリーン印刷マスクの厚みと合わせて決定される。樹脂層の厚みが大きすぎると、開口が不十分となる傾向がある。逆に薄すぎると、スクリーン印刷マスクと樹脂層との接着性が低下するだけでなく、樹脂層が被印刷基板表面の微細な凹凸を吸収できなくなり、被印刷基板と樹脂付きスクリーン印刷マスクとの密着性が低下して、滲みが発生し、転写パターン間のブリッジの原因になることがある。 The thickness of the resin layer of the resin-coated screen printing mask according to the present invention is preferably 1 to 100 μm, and more preferably 5 to 50 μm. The thickness of the resin layer is determined in combination with a predetermined thickness of the screen printing mask so that an appropriate amount of the paste material is printed with respect to the transfer amount of the paste material to be printed. When the thickness of the resin layer is too large, the opening tends to be insufficient. On the other hand, if it is too thin, not only the adhesion between the screen printing mask and the resin layer will be reduced, but the resin layer will not be able to absorb fine irregularities on the surface of the substrate to be printed, Adhesion decreases, bleeding occurs, and may cause a bridge between transfer patterns.
本発明に係わるマスキング層としては、樹脂層除去液に対して不溶性又は難溶性である樹脂や金属等を使用することができる。樹脂としては、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルブチラールのようなビニルアセタール樹脂、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びその塩化物、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンイソフタレート等のポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル変性アルキッド樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂、ポリイミド樹脂、ゼラチン、カルボキシメチルセルロース等のセルロースエステル誘導体等の樹脂が利用できる。汎用性の点から、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂等を好適に使用することができる。金属としては、銅やアルミニウム等を使用できる。マスキング層としては、簡便性や面内の均一性の点から金属よりも樹脂を用いるのがより好ましい。マスキング層は、フィルム形状として、樹脂層と一体化してスクリーン印刷マスク上に形成するようにすれば、工程上、簡便で安定に樹脂層とマスキング層の形成ができるので好ましい。 As the masking layer according to the present invention, a resin or metal that is insoluble or hardly soluble in the resin layer removing solution can be used. Examples of the resin include acrylic resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, vinyl acetal resin such as polyvinyl butyral, polystyrene, polyethylene, polypropylene and its chloride, polyester resin such as polyethylene terephthalate and polyethylene isophthalate, polyamide Resins such as resins, vinyl-modified alkyd resins, phenol resins, xylene resins, polyimide resins, gelatin, and cellulose ester derivatives such as carboxymethyl cellulose can be used. From the viewpoint of versatility, a polyester resin, a polyimide resin, or the like can be preferably used. Copper, aluminum, etc. can be used as a metal. As the masking layer, it is more preferable to use a resin rather than a metal in terms of simplicity and in-plane uniformity. If the masking layer is formed in a film shape and integrated with the resin layer on the screen printing mask, it is preferable because the resin layer and the masking layer can be formed easily and stably in the process.
本発明に係わる樹脂層とマスキング層とを一体に形成する方法としては、あらかじめ、マスキング層となる樹脂や金属等のフィルムに樹脂付きスクリーン印刷マスク作製用架橋性組成物を含有してなる樹脂層を形成し、ラミネータによりスクリーン印刷マスクに熱圧着する方法を好適に使用することができる。 As a method for integrally forming the resin layer and the masking layer according to the present invention, a resin layer comprising a resin or a film of a metal or the like that is used as a masking layer and a crosslinkable composition for producing a screen-printed mask with resin in advance. And a method of thermocompression bonding to a screen printing mask with a laminator can be suitably used.
本発明に係わる樹脂層除去液としては、樹脂付きスクリーン印刷マスク作製用架橋性組成物(樹脂層)を溶解又は分散可能な液であり、使用する樹脂層の組成に見合った液を使用する。樹脂層除去液によって、開口部の樹脂層を除去し、開口部に樹脂層の存在しない領域を形成する。樹脂層除去液は、マスキング層を溶解しない液か、あるいは、マスキング層を溶解する液であっても、樹脂層を適正量分だけ溶解する条件において、マスキング層が膨潤したり、形状が変化したりすることがない液を使用する。また、スクリーン印刷マスクに対しても、溶解や膨潤、形状変化等を起こさせない樹脂層除去液を使用する。一般的には、アルカリ水溶液が有用に使用される。アルカリ水溶液としては、例えば、ケイ酸アルカリ金属塩、アルカリ金属水酸化物、リン酸又は炭酸アルカリ金属塩、リン酸又は炭酸アンモニウム塩等の無機塩基性化合物の水溶液、エタノールアミン、エチレンジアミン、プロパンジアミン、トリエチレンテトラミン、モルホリン等の有機塩基性化合物の水溶液を使用することができる。これら水溶液は、樹脂層に対する溶解性を制御するため、濃度、温度、スプレー圧等を調整する必要がある。樹脂層除去液の供給は、マスキング層を有する面と反対の面から、開口部を通して樹脂層に樹脂層除去液が接触するように供給できれば、いずれの方式を用いてもよい。ディップ処理装置、両面シャワースプレー装置、片面シャワースプレー装置等を利用することができる。樹脂層の除去は、樹脂層除去液による処理に続いて、水洗や酸処理を行うことによって、速やかに停止させることができる。 The resin layer removing liquid according to the present invention is a liquid that can dissolve or disperse the crosslinkable composition (resin layer) for producing a screen-printed mask with resin, and a liquid that matches the composition of the resin layer to be used. With the resin layer removing liquid, the resin layer in the opening is removed, and a region where no resin layer is present is formed in the opening. Even if the resin layer removal solution is a solution that does not dissolve the masking layer, or a solution that dissolves the masking layer, the masking layer swells or changes its shape under the condition that the resin layer is dissolved by an appropriate amount. Use a liquid that does not get wet. In addition, a resin layer removing liquid that does not cause dissolution, swelling, shape change or the like is used for the screen printing mask. In general, an alkaline aqueous solution is usefully used. Examples of the alkaline aqueous solution include, for example, an aqueous solution of an inorganic basic compound such as alkali metal silicate, alkali metal hydroxide, phosphoric acid or alkali metal carbonate, phosphoric acid or ammonium carbonate, ethanolamine, ethylenediamine, propanediamine, An aqueous solution of an organic basic compound such as triethylenetetramine or morpholine can be used. These aqueous solutions need to be adjusted in concentration, temperature, spray pressure and the like in order to control solubility in the resin layer. Any method may be used for supplying the resin layer removing liquid as long as it can be supplied from the surface opposite to the surface having the masking layer so that the resin layer removing liquid is in contact with the resin layer through the opening. A dip treatment device, a double-sided shower spray device, a single-sided shower spray device, or the like can be used. The removal of the resin layer can be quickly stopped by washing with water or acid treatment following the treatment with the resin layer removing solution.
本発明の樹脂付きスクリーン印刷マスクは、適正量のペースト材料を転写印刷するため開口部を有するが、その形状は多岐にわたる。例えば、円形、楕円形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形及び八角形等の多角形、その他、ひょうたん形、ダンベル形等の不定形等が挙げられる。また、開口部の大きさは、一般的な表面実装において、数百μm〜数十mm、高密度実装においては、大きさ30〜300μm、ピッチ間隔50〜500μmである。さらに、スクリーン印刷マスクの開口部はテーパーを有している場合もある。 The screen-printed mask with resin of the present invention has an opening for transferring and printing an appropriate amount of paste material, but there are various shapes. For example, a quadrangle such as a circle, an ellipse, a square, a rectangle, a rhombus and a trapezoid, a polygon such as a hexagon and an octagon, and an indefinite shape such as a gourd and a dumbbell. In addition, the size of the opening is several hundred μm to several tens of mm in general surface mounting, and the size is 30 to 300 μm and the pitch interval is 50 to 500 μm in high-density mounting. Further, the opening of the screen printing mask may have a taper.
本発明に係わる樹脂付きスクリーン印刷マスクは、片面にペースト材料をのせ、スキージで掻き寄せることでペースト材料をパターン上に転写することができるものであれば、いずれの方式で作製したスクリーン印刷マスクも使用できる。アディティブ法で作製したメタルマスク、レーザー法で作製したメタルマスク、エッチング法で作製したメタルマスク、メッシュ層の上に開口部を形成したスクリーン印刷マスキング層を有する印刷用マスク(エマルジョン型スクリーン印刷マスク、ソリッドマスク、サスペンドマスク)等がある。 The screen printing mask with resin according to the present invention can be a screen printing mask produced by any method as long as the paste material is placed on one side and the paste material can be transferred onto the pattern by scraping with a squeegee. Can be used. Metal mask produced by additive method, metal mask produced by laser method, metal mask produced by etching method, printing mask having screen printing masking layer with openings on mesh layer (emulsion type screen printing mask, Solid mask, suspend mask).
本発明に係わる樹脂付きスクリーン印刷マスクに用いられるスクリーン印刷マスクの材料としては、ニッケル、銅、クロム、亜鉛、鉄等を主成分とする金属、合金、ステンレス等の金属板が好ましい。スクリーン印刷マスクの厚みは30〜400μmで、前記の金属や合金の単層体でも積層体でもよい。また、エマルジョン型スクリーン印刷マスク(メッシュマスク)の場合、メッシュ材質の種類によって、金属線を平織りにした金属メッシュ、樹脂線を平織りにした樹脂メッシュがある。また、非織物のメッシュもあり、これは、ニッケル等の金属をアディティブ法(電鋳法)によってメッシュ状に析出形成させたものである。さらに、各種平織りメッシュに金属メッキを施して、交点を固定して寸法安定性を改善させたメッキスクリーンと呼ばれるメッシュも用いられている。 As a material for the screen printing mask used for the screen printing mask with resin according to the present invention, a metal plate mainly composed of nickel, copper, chromium, zinc, iron, or the like, an alloy, a stainless steel plate or the like is preferable. The screen printing mask has a thickness of 30 to 400 μm, and may be a single layer or a laminate of the metal or alloy. In the case of an emulsion type screen printing mask (mesh mask), there are a metal mesh in which metal wires are made into a plain weave and a resin mesh in which resin wires are made into a plain weave, depending on the type of mesh material. There is also a non-woven mesh, which is formed by depositing a metal such as nickel into a mesh by an additive method (electroforming method). Further, a mesh called a plating screen is also used in which various plain weave meshes are subjected to metal plating and the intersections are fixed to improve the dimensional stability.
本発明に係わる樹脂付きスクリーン印刷マスクは、いかなるスクリーン印刷にも使用できるが、通常は、剛性のある枠に取り付けて用いられる。例えば、剛性のある金属製の枠にまずメッシュ(紗)を貼り付け、そのメッシュの中央部に、作製した樹脂付きスクリーン印刷マスクの樹脂層と反対側の面の外周部を接着剤によってメッシュに貼り付ける。続いて、接着部以外の内側のメッシュを切り取ることによって、枠付きの樹脂付きスクリーン印刷マスクを作製することができる。 The screen-printed mask with resin according to the present invention can be used for any screen printing, but is usually attached to a rigid frame. For example, a mesh is first attached to a rigid metal frame, and the outer periphery of the surface on the opposite side of the resin layer of the produced screen print mask with resin is attached to the mesh with an adhesive. paste. Subsequently, a screen-printed mask with resin with a frame can be produced by cutting off the inner mesh other than the bonded portion.
以下、実施例によって本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to this Example.
(実施例1〜7、比較例1〜3)
表1に示す各成分を混合し、樹脂付きスクリーン印刷マスク作製用架橋性組成物用の塗工液を得た。なお、表1における各成分配合量の単位は、質量部を表す。得られた塗工液を、ワイヤーバーを用いて、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(商品名:R310、25μm厚、三菱化学樹脂(株)製、マスキング層として使用)上に塗工し、80℃で8分間乾燥し、溶剤成分をとばし、PETフィルムの片面上に実施例1〜7、比較例1〜3の樹脂付きスクリーン印刷マスク作製用架橋性組成物(乾燥膜厚:20μm)を含有してなる樹脂層を得た。
(Examples 1-7, Comparative Examples 1-3)
Each component shown in Table 1 was mixed, and the coating liquid for crosslinkable compositions for resin-made screen printing mask preparation was obtained. In addition, the unit of each component compounding amount in Table 1 represents a mass part. The obtained coating liquid was applied onto a polyethylene terephthalate (PET) film (trade name: R310, 25 μm thickness, manufactured by Mitsubishi Chemical Res. Co., Ltd., used as a masking layer) using a wire bar, and 80 ° C. And dried for 8 minutes, the solvent component was skipped, and the crosslinkable composition for preparing screen print masks with resin of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3 (dry film thickness: 20 μm) was contained on one side of the PET film. Thus obtained resin layer was obtained.
表1において、各成分は以下の通りである。
(A−1)成分;メチルメタクリレート/n−ブチルアクリレート/メタクリル酸を質量比58/15/27で共重合させた共重合樹脂(1−メトキシ−2−プロパノールを溶剤とした30質量%溶液、酸価176mgKOH/g、質量平均分子量70000)、
(A−2)成分; セルロースアセテートフタレート(和光純薬工業(株)製、メチルエチルケトンを溶剤とした30質量%溶液)
(B−1)2−(2′−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体
(B−2)4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
(C−1)KRM7222(商品名、ダイセル・サイテック(株)製、酢酸エチルを溶剤として80%溶液)
(C−2)KRM8296(商品名、ダイセル・サイテック(株)製)
(C−3)EBECRYL210(商品名、ダイセル・サイテック(株)製)
(C−4)紫光UV−2000B(商品名、日本合成化学(株)製)
(C−5)紫光UV−3000B(商品名、日本合成化学(株)製)
(D−1)スミジュールBL3175(商品名、住化バイエルウレタン(株)製、ベース:1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、ブロック剤:メチルエチルケトンオキシム、固形分75%)
(D−2)デスモジュールBL1100(商品名、住化バイエルウレタン(株)製、ベース:2,6−トリレンジイソシアネート、ブロック剤:ε−カプロラクタム)
(D−3)ディスモサーム2170(商品名、住化バイエルウレタン(株)製、ベース:4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ブロック剤:活性メチレン、固形分70%)
BPE−500:2,2′−ビス−(4−メタクリロキシペンタエトキシフェニル)プロパン(新中村化学工業(株)製)
TMP−A:トリメチロールプロパントリアクリレート(共栄社化学(株)製)
In Table 1, each component is as follows.
Component (A-1): a copolymer resin obtained by copolymerizing methyl methacrylate / n-butyl acrylate / methacrylic acid at a mass ratio of 58/15/27 (30% by mass solution using 1-methoxy-2-propanol as a solvent, Acid value 176 mg KOH / g, mass average molecular weight 70000),
Component (A-2): cellulose acetate phthalate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 30% by mass solution using methyl ethyl ketone as a solvent)
(B-1) 2- (2′-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer (B-2) 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone (C-1) KRM7222 (trade name, Daicel Cytec Co., Ltd., 80% solution with ethyl acetate as solvent)
(C-2) KRM8296 (trade name, manufactured by Daicel-Cytec)
(C-3) EBECRYL210 (trade name, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.)
(C-4) Purple light UV-2000B (trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.)
(C-5) Purple light UV-3000B (trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.)
(D-1) Sumidur BL3175 (trade name, manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., base: 1,6-hexamethylene diisocyanate, blocking agent: methyl ethyl ketone oxime, solid content 75%)
(D-2) Death Module BL1100 (trade name, manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., base: 2,6-tolylene diisocyanate, blocking agent: ε-caprolactam)
(D-3) Dismotherm 2170 (trade name, manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., base: 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, blocking agent: active methylene, solid content 70%)
BPE-500: 2,2′-bis- (4-methacryloxypentaethoxyphenyl) propane (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
TMP-A: Trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
次に、厚さ100μmのステンレス板(SUS304)にYAGレーザーで多数の開口部を形成し、面積400×480mmのスクリーン印刷マスクを作製し、上記で得られた実施例1〜7及び比較例1〜3の樹脂付きスクリーン印刷マスク作製用架橋性組成物を含有してなる樹脂層を該スクリーン印刷マスクの第1面に100℃で熱圧着し、樹脂層及びマスキング層を設けた。 Next, a large number of openings were formed on a 100 μm thick stainless steel plate (SUS304) with a YAG laser to produce a screen printing mask with an area of 400 × 480 mm. Examples 1 to 7 and Comparative Example 1 obtained above were used. A resin layer containing the crosslinkable composition for preparing a screen-printing mask with resin of 3 to 3 was thermocompression bonded to the first surface of the screen-printing mask at 100 ° C. to provide a resin layer and a masking layer.
次に、10質量%の炭酸ナトリウム水溶液(30℃)の樹脂層除去液を用いて、スクリーン印刷マスクの第2面側よりシャワースプレーを当てて、第1面の開口部上の樹脂層を除去し、水洗後マスキング層を除去した。光学顕微鏡を用いて面内10箇所で開口部を観察したところ、樹脂層の残存がなく、良好な開口が実施できた。さらに、全面にわたって樹脂層開口部の位置ずれはなく、20μmの厚みをもった樹脂層が形成されていた。 Next, using a resin layer removing solution of 10% by mass sodium carbonate aqueous solution (30 ° C.), a shower spray is applied from the second surface side of the screen printing mask to remove the resin layer on the opening on the first surface. The masking layer was removed after washing with water. When the openings were observed at 10 locations in the plane using an optical microscope, no resin layer remained and good openings could be implemented. Furthermore, the resin layer opening was not displaced over the entire surface, and a resin layer having a thickness of 20 μm was formed.
次に、吸引密着機構を有する焼付用高圧水銀灯光源装置(商品名:ユニレックURM300、ウシオ電機(株)製、12mW/cm2)を用いて、300秒間紫外線を照射し、樹脂層を光架橋させた。さらに、120℃のオーブン中で90分間加熱処理し、樹脂層を熱架橋させて、樹脂付きスクリーン印刷マスクを作製した。 Next, using a high pressure mercury lamp light source device for baking having a suction adhesion mechanism (trade name: UNIREC URM300, manufactured by USHIO INC., 12 mW / cm 2 ), UV irradiation is performed for 300 seconds to photocrosslink the resin layer. It was. Furthermore, it heat-processed for 90 minutes in 120 degreeC oven, the resin layer was heat-crosslinked, and the screen printing mask with resin was produced.
実施例1〜7及び比較例1〜3で作製された樹脂付きスクリーン印刷マスクを、パレット上に載置したプリント配線基板上にセットし、スキージによりクリーム半田をスクリーン印刷した。実施例1〜7及び比較例1の樹脂付きスクリーン印刷用マスクを用いた場合において、クリーム半田の滲みは少なく、印刷後の開口部内のクリーム半田残りも少なく良好な印刷ができ、初期印刷性が良好であることが確認できた。比較例2及び3の樹脂付きスクリーン印刷用マスクを用いた場合においては、樹脂層が固く、10版目から滲みが発生した。 The screen printing masks with resin produced in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3 were set on a printed wiring board placed on a pallet, and cream solder was screen printed with a squeegee. In the case of using the resin-coated screen printing masks of Examples 1 to 7 and Comparative Example 1, the cream solder bleeds little, the cream solder remaining in the opening after printing is small and good printing can be performed, and the initial printability is high. It was confirmed that it was good. When the resin-coated screen printing masks of Comparative Examples 2 and 3 were used, the resin layer was hard and bleeding occurred from the 10th plate.
次に、樹脂付きスクリーン印刷マスクの被印刷基板接触面に発生したクリーム半田の残存物を有機溶剤で浸したウエスによって擦りとる必要が生じたため、イソプロピルアルコールの溶剤を浸したウエスによって、拭き取り試験を行った。拭き取り試験は、断面積28.3cm2の円柱の重り500gにウエス(商品名:ナノワイパー、三菱製紙社製)を3重に巻き付け、該ウエスに各溶剤を適量含浸し、20mm/secにて200往復擦りつけた。ウエスの着色により、評価した結果、実施例1〜7及び比較例2で得られた樹脂付きスクリーン印刷用マスクでは、非常に良好な耐溶剤性が確認できた。しかしながら、比較例1及び3の樹脂付きスクリーン印刷用マスクにおいては、フタロシアニングリーンの緑色が色濃く転写し、耐溶剤性が低いことが認められた。 Next, since it was necessary to scrape the residue of the cream solder generated on the printed substrate contact surface of the resin-coated screen printing mask with a waste dipped in an organic solvent, a wiping test was conducted with a waste dipped in an isopropyl alcohol solvent. went. In the wiping test, a waste cloth (trade name: Nanowiper, manufactured by Mitsubishi Paper Industries Co., Ltd.) was wrapped around a 500 g weight of a cylinder having a cross-sectional area of 28.3 cm 2 and impregnated with an appropriate amount of each solvent at 20 mm / sec. Rubbed 200 times. As a result of evaluation by waste coloring, the resin-coated screen printing masks obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Example 2 were confirmed to have very good solvent resistance. However, in the screen-printed masks with resins of Comparative Examples 1 and 3, the green color of phthalocyanine green was transferred darkly, and it was confirmed that the solvent resistance was low.
本発明の樹脂付きスクリーン印刷マスクは、広くスクリーン印刷の用途に適用可能であり、例えば、ペースト材としては、導電性材料、絶縁性材料、色材、封止材料、接着材料、レジスト材料、処理薬剤等を、スクリーン印刷によって任意の基材上にパターン形成を行う用途に適用できる。 The resin-coated screen printing mask of the present invention is widely applicable to screen printing applications. For example, as a paste material, a conductive material, an insulating material, a color material, a sealing material, an adhesive material, a resist material, a treatment A drug or the like can be applied to a use for forming a pattern on an arbitrary substrate by screen printing.
1 スクリーン印刷マスク
2 開口部
3 マスキング層
4 樹脂層
1
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