JP5475435B2 - Voltage stabilizing device, semiconductor device using the same, and voltage stabilizing method - Google Patents

Voltage stabilizing device, semiconductor device using the same, and voltage stabilizing method Download PDF

Info

Publication number
JP5475435B2
JP5475435B2 JP2009292316A JP2009292316A JP5475435B2 JP 5475435 B2 JP5475435 B2 JP 5475435B2 JP 2009292316 A JP2009292316 A JP 2009292316A JP 2009292316 A JP2009292316 A JP 2009292316A JP 5475435 B2 JP5475435 B2 JP 5475435B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
output
generation unit
channel mos
mos transistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009292316A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011134059A (en
Inventor
正男 栗山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Priority to JP2009292316A priority Critical patent/JP5475435B2/en
Priority to KR1020100027453A priority patent/KR101415227B1/en
Priority to US12/971,339 priority patent/US8493795B2/en
Publication of JP2011134059A publication Critical patent/JP2011134059A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5475435B2 publication Critical patent/JP5475435B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/30Power supply circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • G11C11/5621Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using charge storage in a floating gate
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/143Detection of memory cassette insertion or removal; Continuity checks of supply or ground lines; Detection of supply variations, interruptions or levels ; Switching between alternative supplies
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/147Voltage reference generators, voltage or current regulators; Internally lowered supply levels; Compensation for voltage drops

Description

本発明は、半導体装置で内部電圧を生成する際に用いて好適な電圧安定化装置及びそれを用いた半導体装置並びに電圧安定化方法に関する。   The present invention relates to a voltage stabilizer suitable for use in generating an internal voltage in a semiconductor device, a semiconductor device using the same, and a voltage stabilization method.

不揮発性半導体の1種であるNOR(ノア)フラッシュメモリには、1セル(cell)に例えば2bitを記憶する、多値化を実現するものがある。多値化を実現する際には、データを記憶するセルトランジスタのスレッショルド電圧Vtが、図5に示されるように、各データの状態に応じた分布にセットされる。図5は、縦軸を度数、横軸をスレッショルド電圧Vtとして、多値NORフラッシュメモリにおけるスレッショルド電圧Vtの度数分布を表した図である。データ“11”にセットされたセルは電圧値R1以下のスレッショルド電圧Vtに調整されている。データ“10”にセットされたセルは電圧値R1〜R2間のスレッショルド電圧Vtに調整されている。データ“01”にセットされたセルは電圧値R2〜R3間のスレッショルド電圧Vtに調整されている。そして、データ“00”にセットされたセルは電圧値R3以上のスレッショルド電圧Vtに調整されている。   Some NOR flash memories, which are a type of nonvolatile semiconductor, realize multi-value storage by storing, for example, 2 bits in one cell. When realizing multi-value processing, the threshold voltage Vt of the cell transistor for storing data is set to a distribution corresponding to the state of each data as shown in FIG. FIG. 5 is a diagram showing the frequency distribution of the threshold voltage Vt in the multi-level NOR flash memory, with the vertical axis representing the frequency and the horizontal axis representing the threshold voltage Vt. The cell set to the data “11” is adjusted to a threshold voltage Vt that is equal to or lower than the voltage value R1. A cell set to data “10” is adjusted to a threshold voltage Vt between voltage values R1 and R2. A cell set to data “01” is adjusted to a threshold voltage Vt between voltage values R2 to R3. The cell set to data “00” is adjusted to a threshold voltage Vt equal to or higher than the voltage value R3.

この多値にセットされたセルからデータを読み出すときには、セルアレイのワード線(WL)に印加する電圧を多段階に制御し、アクセスするセルの値を判定する。図6は、ワード線の駆動電圧(すなわちセルトランジスタのゲート(コントロールゲート)の印加電圧)Vgの時間変化を表す図である。電圧Vg1は、センスアンプが、“11”のスレッショルド電圧Vtにセットされたセルと“10”のスレッショルド電圧Vt以上にセットされたセルを判定できるワード線電圧となる。電圧Vg2は、センスアンプが、“10”のスレッショルド電圧Vt以下のセルと“01”のスレッショルド電圧Vt以上のセルを判定できるワード線電圧となる。電圧Vg3は、センスアンプが、“01”のスレッショルド電圧Vt以下のセルと“00”のスレッショルド電圧Vtにセットされたセルを判定できるワード線電圧となる。   When data is read from the multi-valued cell, the voltage applied to the word line (WL) of the cell array is controlled in multiple stages to determine the value of the cell to be accessed. FIG. 6 is a diagram showing the time change of the driving voltage (that is, the voltage applied to the gate (control gate) of the cell transistor) Vg of the word line. The voltage Vg1 is a word line voltage that allows the sense amplifier to determine a cell set to the threshold voltage Vt of “11” and a cell set to the threshold voltage Vt of “10” or higher. The voltage Vg2 is a word line voltage that allows the sense amplifier to determine cells having a threshold voltage Vt of “10” or lower and cells having a threshold voltage Vt of “01” or higher. The voltage Vg3 is a word line voltage that allows the sense amplifier to determine a cell that is equal to or lower than the threshold voltage Vt of “01” and a cell that is set to the threshold voltage Vt of “00”.

この多値NORフラッシュメモリを実現するためには、メモリセルを駆動するワード線デコーダを読出し時に高速多段階動作させる必要がある。この動作時間が読み出し速度を決める大きな要因の1つとなる。   In order to realize this multi-level NOR flash memory, it is necessary to operate a word line decoder for driving a memory cell at a high-speed multi-stage operation at the time of reading. This operation time is one of the major factors that determine the reading speed.

高速化の1つの方法として、以下のようなワード線デコーダが用いられる。図7で示すセルアレイ110のワード線デコーダ(ロウデコーダ120)では、ウェル電圧(Vwell)とソース電圧(Vwl)を分離し、電圧Vwlで駆動される容量を最小化している。これによりワード線レベルを図6に示すようなステップで変化させたときの電圧駆動速度を高速化している。この構成では、ロウデコーダ120内のpn順方向電流の発生を抑えるために、常にVwell≧Vwlの電位関係が必要となる。ここで、図8は、読み出し時のワード線の駆動電圧Vg、ウェル電圧Vwell及びソース電圧Vwlの時間変化の一例を表す図である。図8に示す例では、ウェル電圧Vwellが一定値に制御されるとともに、ソース電圧Vwlが段階的に変化するよう制御されている。このようにウェル電圧Vwellを一定値に制御するとともに、駆動容量が小さいソース電圧Vwlのみを変化させることで、動作に必要な時間を短縮している。   As one method for speeding up, the following word line decoder is used. In the word line decoder (row decoder 120) of the cell array 110 shown in FIG. 7, the well voltage (Vwell) and the source voltage (Vwl) are separated, and the capacity driven by the voltage Vwl is minimized. This increases the voltage driving speed when the word line level is changed in steps as shown in FIG. In this configuration, in order to suppress generation of a pn forward current in the row decoder 120, a potential relationship of Vwell ≧ Vwl is always required. Here, FIG. 8 is a diagram illustrating an example of temporal changes in the drive voltage Vg, the well voltage Vwell, and the source voltage Vwl of the word line at the time of reading. In the example shown in FIG. 8, the well voltage Vwell is controlled to a constant value, and the source voltage Vwl is controlled to change stepwise. In this way, the well voltage Vwell is controlled to a constant value, and only the source voltage Vwl having a small drive capacity is changed, thereby reducing the time required for the operation.

なお、図7に示す半導体チップ(半導体装置)100は、それぞれが複数の多値記憶の不揮発性メモリセル111からなるセルアレイ110を含む複数のブロック0〜i(101−0〜101−i)と、それらの付随回路としてのグローバルビット線セレクトゲートブロック102及びセンスアンプブロック103とを有して構成されている。各ブロック0〜i(101−0〜101−i)には、セルアレイ110と、ロウデコーダ120と、ローカルビット線セレクトゲートブロック130とが含まれている。   Note that the semiconductor chip (semiconductor device) 100 illustrated in FIG. 7 includes a plurality of blocks 0 to i (101-0 to 101-i) each including a cell array 110 including a plurality of multi-value storage nonvolatile memory cells 111. And a global bit line select gate block 102 and a sense amplifier block 103 as their accompanying circuits. Each block 0 to i (101-0 to 101-i) includes a cell array 110, a row decoder 120, and a local bit line select gate block 130.

セルアレイ110は、格子状に配置された複数の多値記憶の不揮発性メモリセル111を有して構成されている。各不揮発性メモリセル111は、複数のワード線WLのいずれかにゲートが接続されるとともに、複数のローカルビット線LBLのいずれかにドレインが接続されている。ロウデコーダ120は、PチャネルMOS(metal oxide semiconductor)トランジスタ121とNチャネルMOSトランジスタ122からなるワード線WLのドライバを複数有して構成されている。この場合、PチャネルMOSトランジスタ121のソースとウェルには、独立した電圧Vwlと電圧Vwellがそれぞれ印加されるようになっている。ローカルビット線セレクトゲートブロック130は、ローカルビット線LBLのいずれかを選択してグローバルビット線GBL0、GBL1、…に接続する複数のNチャネルMOSトランジスタ131、131、…を有して構成されている。この場合、NチャネルMOSトランジスタ131、131、…のゲートには信号YL0、YL1等が入力される。   The cell array 110 includes a plurality of multi-value storage nonvolatile memory cells 111 arranged in a lattice pattern. Each nonvolatile memory cell 111 has a gate connected to one of the plurality of word lines WL and a drain connected to one of the plurality of local bit lines LBL. The row decoder 120 includes a plurality of drivers for a word line WL including a P-channel MOS (Metal Oxide Semiconductor) transistor 121 and an N-channel MOS transistor 122. In this case, independent voltages Vwl and Vwell are applied to the source and well of the P-channel MOS transistor 121, respectively. The local bit line select gate block 130 includes a plurality of N-channel MOS transistors 131, 131,... That select one of the local bit lines LBL and connect to the global bit lines GBL0, GBL1,. . In this case, signals YL0, YL1, etc. are input to the gates of the N-channel MOS transistors 131, 131,.

グローバルビット線セレクトゲートブロック102は、グローバルビット線GBL0、GBL1、…のいずれかを選択する複数のNチャネルMOSトランジスタ141、141、…を有して構成されている。この場合、NチャネルMOSトランジスタ141、141、…のゲートには信号YG0、YG1等が入力される。センスアンプブロック103は、グローバルビット線セレクトゲートグループ102で選択されたグローバルビット線GBL0、GBL1、…上のデータを増幅する複数のセンスアンプ151を有して構成されている。   The global bit line select gate block 102 includes a plurality of N channel MOS transistors 141, 141,... For selecting any one of the global bit lines GBL0, GBL1,. In this case, signals YG0, YG1, etc. are input to the gates of the N-channel MOS transistors 141, 141,. The sense amplifier block 103 includes a plurality of sense amplifiers 151 that amplify data on the global bit lines GBL0, GBL1,... Selected by the global bit line select gate group 102.

一方、読み出し時に対し、セルの書き込み時にはワード線WLのレベルを読出し電位より高電位にセットする必要がある。そのため、例えば読み出し状態から書き込み状態へと変化させる場合、ソース電圧Vwlとともにウェル電圧Vwellも高い電圧となるように駆動し、電位を遷移させる必要がある。このとき、ソース電圧Vwlに対しウェル電圧Vwellの容量(負荷容量)が格段に大きいため、同一制御・同一駆動能力のレギュレータでは、例えば図9に示すようにVwell<Vwlの状態が容易に発生してしまう。すなわち、pn電位の逆転が容易に発生してしまうことになる。このpn電位の逆転がVf(ダイオード順方向電位)を超えるとラッチアップなどの深刻なデバイス不良を引き起こすため、設計時には細心の注意が必要である。なお、図9は、書き込み時のワード線の駆動電圧Vg、ウェル電圧Vwell及びソース電圧Vwlの時間変化の一例を表している。   On the other hand, it is necessary to set the level of the word line WL higher than the read potential at the time of cell writing compared to the read time. Therefore, for example, when changing from the reading state to the writing state, it is necessary to drive the well voltage Vwell to be a high voltage together with the source voltage Vwl to change the potential. At this time, since the capacity (load capacity) of the well voltage Vwell is remarkably large with respect to the source voltage Vwl, in a regulator having the same control and the same driving ability, for example, a state of Vwell <Vwl is easily generated as shown in FIG. End up. That is, the reversal of the pn potential easily occurs. When the reversal of the pn potential exceeds Vf (diode forward potential), serious device failure such as latch-up is caused. Therefore, great care must be taken during design. FIG. 9 shows an example of temporal changes in the drive voltage Vg, well voltage Vwell, and source voltage Vwl of the word line at the time of writing.

Vwell≧Vwlの関係を保ちながら、Vwl、Vwellの電位レベルを切替える手法には例えば以下の手法1と手法2が考えられる。   For example, the following method 1 and method 2 are conceivable as methods for switching the potential levels of Vwl and Vwell while maintaining the relationship of Vwell ≧ Vwl.

[手法1] 図10に示すように、Vwellを先行して充電する。そして、Vwellの充電が終了した後、Vwlの充電動作を開始する。この方法では、Vwl及びVwellの充電完了に時間余裕が必要になる。   [Method 1] As shown in FIG. 10, Vwell is charged in advance. Then, after the charging of Vwell is completed, the charging operation of Vwl is started. In this method, a time margin is required to complete charging of Vwl and Vwell.

[手法2] 図11に示すように、Vwlが駆動する容量、配線遅延とVwellが駆動する容量、配線遅延を勘案し、Vwell≧Vwlを常に守るようにVwlを出力するレギュレータやVwellを出力するレギュレータの駆動能力を設計する。この手法では、Vwl・Vwellのさまざまな動作条件、外部温度、供給電圧チップ内の素子の製造ばらつきなどの変動要因全てを満たす必要があるため、回路設定が困難となる。結果として高速な電源電位切り替えにつながらない。   [Method 2] As shown in FIG. 11, considering the capacitance driven by Vwl, the wiring delay, the capacitance driven by Vwell, and the wiring delay, a regulator that outputs Vwl and Vwell is output so as to always keep Vwell ≧ Vwl. Design the drive capability of the regulator. In this method, since it is necessary to satisfy all the fluctuation factors such as various operating conditions of Vwl and Vwell, external temperature, and manufacturing variations of elements in the supply voltage chip, circuit setting becomes difficult. As a result, the power supply potential cannot be switched at high speed.

なお、図10及び図11は、手法1及び手法2による書き込み時のワード線の駆動電圧Vg、ウェル電圧Vwell及びソース電圧Vwlの時間変化の一例をそれぞれ表している。   10 and 11 show examples of temporal changes in the word line drive voltage Vg, the well voltage Vwell, and the source voltage Vwl at the time of writing by the method 1 and the method 2, respectively.

ここで、図12を参照して、手法1や手法2を実現するための電源回路の構成例について説明する。図12は、電圧安定化装置(以下、レギュレータと称する)50の構成を示す回路図である。レギュレータ50は、オペアンプ(演算増幅器)51、PチャネルMOSトランジスタ52、抵抗53、抵抗54、PチャネルMOSトランジスタ55及びレベルシフト回路56から構成されている。オペアンプ51の非反転入力には基準電圧(比較電圧)Vref5が印加され、反転入力は互いに直列に接続されている抵抗53と抵抗54の接続点(すなわち各一端間の節点)が接続されている。オペアンプ51の出力は、PチャネルMOSトランジスタ52のゲートに接続されている。PチャネルMOSトランジスタ52のソースは電圧Vhの電源(電圧源)に接続され、ドレインが抵抗53の他端に接続されている。このPチャネルMOSトランジスタ52が、電源出力Vwlに対する能動負荷となる。すなわち、PチャネルMOSトランジスタ52のドレインは、電圧Vwlの電源出力の出力端子となる。抵抗54の他端はグランドに接続されている。レベルシフト回路56は、抵抗53の印加電圧(=電圧Vwl)を電源電圧としてTrim信号のレベルをシフトさせ、Trim信号のレベルに応じてPチャネルMOSトランジスタ55をオン(Trim信号=Hレベルでオン)またはオフ(Trim信号=Lレベルでオフ)状態に制御する。PチャネルMOSトランジスタ55は、そのドレイン及びソースが、抵抗53を形成する素子パターン上の所定の2点に接続されている。このPチャネルMOSトランジスタ55をオンまたはオフすることで抵抗53と抵抗54による抵抗分圧比(あるいは抵抗分割比とも呼ばれる)が変更される。   Here, a configuration example of a power supply circuit for realizing the method 1 and the method 2 will be described with reference to FIG. FIG. 12 is a circuit diagram showing a configuration of a voltage stabilizing device (hereinafter referred to as a regulator) 50. The regulator 50 includes an operational amplifier (operational amplifier) 51, a P channel MOS transistor 52, a resistor 53, a resistor 54, a P channel MOS transistor 55, and a level shift circuit 56. A reference voltage (comparison voltage) Vref5 is applied to the non-inverting input of the operational amplifier 51, and the inverting input is connected to a connection point (that is, a node between each end) of the resistor 53 and the resistor 54 connected in series with each other. . The output of the operational amplifier 51 is connected to the gate of the P channel MOS transistor 52. The source of the P channel MOS transistor 52 is connected to the power source (voltage source) of the voltage Vh, and the drain is connected to the other end of the resistor 53. The P channel MOS transistor 52 becomes an active load for the power supply output Vwl. That is, the drain of the P-channel MOS transistor 52 serves as an output terminal for the power supply output of the voltage Vwl. The other end of the resistor 54 is connected to the ground. The level shift circuit 56 shifts the level of the Trim signal using the applied voltage (= voltage Vwl) of the resistor 53 as the power supply voltage, and turns on the P-channel MOS transistor 55 according to the level of the Trim signal (ON when the Trim signal = H level). ) Or OFF (Trim signal = OFF at L level). The drain and source of the P-channel MOS transistor 55 are connected to two predetermined points on the element pattern that forms the resistor 53. By turning on or off the P-channel MOS transistor 55, the resistance voltage division ratio (also referred to as resistance division ratio) by the resistors 53 and 54 is changed.

レギュレータ50では、オペアンプ51によって、基準電圧Vref5と、出力電圧Vwlを抵抗分圧した電圧との差分に応じて、PチャネルMOSトランジスタ52のゲート電圧を調節することで、Vwl電圧が一定に保たれる。この出力電圧Vwlを変化させる場合、Trim信号によって抵抗分圧比を変更する。[手法2]でVwl出力による充電能力を調整する場合、PチャネルMOSトランジスタ52のゲート幅を調整して充電能力を調整する。他方、[手法1]では、出力Vwlが活性化されるタイミング(ただし、図12では活性化のための構成を省略している)もしくは抵抗分圧比を変化させるタイミング(Trim信号の切り替えタイミング)を調整することで実現する。   In the regulator 50, the Vwl voltage is kept constant by adjusting the gate voltage of the P-channel MOS transistor 52 according to the difference between the reference voltage Vref5 and the voltage obtained by dividing the output voltage Vwl by the operational amplifier 51. It is. When this output voltage Vwl is changed, the resistance voltage dividing ratio is changed by the Trim signal. When adjusting the charging capability based on the Vwl output in [Method 2], the charging capability is adjusted by adjusting the gate width of the P-channel MOS transistor 52. On the other hand, in [Method 1], the timing at which the output Vwl is activated (however, the configuration for activation is omitted in FIG. 12) or the timing at which the resistance voltage dividing ratio is changed (Trim signal switching timing). Realize by adjusting.

このような[手法1]や[手法2]を用いてpn電位の逆転が発生しないような設計では、電源を短時間に制御することが困難であった。   In such a design that does not cause reversal of the pn potential using [Method 1] or [Method 2], it is difficult to control the power supply in a short time.

なお、本発明に関連する技術を開示するものとして、特許文献1〜4がある。これらのうち、特許文献1には、ウェルに印加される内部電圧VI1と、ソースに印加される内部電圧VI2とを生成する際に、第1の降圧回路によって内部電圧VI1を生成するともに、第2の降圧回路によって内部電圧VI1を降圧することで内部電圧VI2を生成するようにした構成が記載されている(特許文献1の図1、図6(B)等)。また、特許文献1の図2及び段落0028〜0031には、内部電圧VI2が基準電圧以下で、第1の降圧回路の動作開始時から所定時間が経過するまでの間、第2の降圧回路の出力に並列に接続されたトランジスタをオンすることで、内部電圧VI2による負荷容量に対する充電時間を短縮する技術が示されている。   In addition, there exist patent documents 1-4 as a technique which discloses the technique relevant to this invention. Among these, Patent Document 1 discloses that when generating the internal voltage VI1 applied to the well and the internal voltage VI2 applied to the source, the internal voltage VI1 is generated by the first step-down circuit. A configuration is described in which the internal voltage VI1 is generated by stepping down the internal voltage VI1 by a step-down circuit 2 (FIG. 1, FIG. 6B, etc. of Patent Document 1). Further, in FIG. 2 and paragraphs 0028 to 0031 of Patent Document 1, the internal voltage VI2 is equal to or lower than the reference voltage, and the second step-down circuit is in a period from when the first step-down circuit starts operating until a predetermined time elapses. A technique is shown in which a transistor connected in parallel to the output is turned on to shorten the charging time for the load capacitance by the internal voltage VI2.

特開平11−145413号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-145413 特開2008−172946号公報JP 2008-172946 A 特開2008−305499号公報JP 2008-305499 A 特開2002−237187号公報JP 2002-237187 A

上述した[手法1]や[手法2]を用いてpn電位の逆転が発生しないような設計を行う場合には、電源を短時間に制御することが困難であった。   When the above-described [Method 1] and [Method 2] are used to design such that no reversal of the pn potential occurs, it is difficult to control the power supply in a short time.

また、特許文献1に記載されているように、2つの降圧回路うちの1つの出力(第1の電圧とする)を他の降圧回路の電源として用いる場合、他の降圧回路の出力(第2の電圧とする)を第1の電圧に近づけようとすると、第1の電圧に近づくにつれ、第2の電圧による充電能力が低下し、第2の電圧を高速に変化させることができないという課題があった。   Further, as described in Patent Document 1, when one of the two step-down circuits (first voltage) is used as a power source for another step-down circuit, the output (second state) of the other step-down circuit is used. If the second voltage is made closer to the first voltage, the charging capability by the second voltage decreases as the first voltage is approached, and the second voltage cannot be changed at high speed. there were.

本発明は、上記の事情を考慮してなされたものであり、第1の電圧≧第2の電圧の関係を保証しつつ、第2の電圧の高速な電位切り替えを可能にする電圧安定化装置及びそれを用いた半導体装置並びに電圧安定化方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and a voltage stabilizing device that enables high-speed potential switching of the second voltage while ensuring the relationship of the first voltage ≧ the second voltage. An object of the present invention is to provide a semiconductor device using the same, and a voltage stabilization method.

上記課題を解決するために、本発明は、第1の電圧を生成する第1の電圧生成部と、前記第1の電圧が予め定められる基準電圧より低い第1の状態と、前記基準電圧より高い第2の状態を判定する判定部と、前記第1の状態にあるとき前記第1の電圧が供給され、前記第1の電圧以下の第2の電圧を生成する第2の電圧生成部と、前記第2の状態にあるとき前記第1の電圧より高い電圧が供給され、前記第2の電圧生成部の出力において前記第2の電圧を生成する第3の電圧生成部とを備えることを特徴とする電圧安定化装置である。
この構成によれば、第1の電圧生成部によって生成された第1の電圧が予め定められる基準電圧より低い第1の状態にある場合には、第1の電圧が供給される第2の電圧生成部によって、第1の電圧以下の第2の電圧が生成される。他方、第1の電圧生成部によって生成された第1の電圧が予め定められる基準電圧より高い第2の状態にある場合には、第1の電圧より高い電圧が供給される第3の電圧生成部によって、第2の電圧生成部の出力において第2の電圧が生成される。この基準電圧を、第1の電圧が負荷容量等を充分充電した状態の電圧に設定することで、第1の電圧より高い電圧が供給される第3の電圧生成部によって生成される第2の電圧を、第1の電圧以下に容易に制御することができる。また、第3の電圧生成部に第1の電圧より高い電圧を供給することで、第2の電圧の充電能力を高めることができる。
In order to solve the above-described problem, the present invention provides a first voltage generation unit that generates a first voltage, a first state in which the first voltage is lower than a predetermined reference voltage, and the reference voltage. A determination unit that determines a high second state, a second voltage generation unit that is supplied with the first voltage when in the first state, and generates a second voltage equal to or lower than the first voltage; A third voltage generator that is supplied with a voltage higher than the first voltage when in the second state and generates the second voltage at the output of the second voltage generator. This is a voltage stabilizing device.
According to this configuration, when the first voltage generated by the first voltage generator is in a first state lower than a predetermined reference voltage, the second voltage to which the first voltage is supplied. The generation unit generates a second voltage that is equal to or lower than the first voltage. On the other hand, when the first voltage generated by the first voltage generation unit is in the second state that is higher than the predetermined reference voltage, the third voltage generation to which a voltage higher than the first voltage is supplied. The unit generates a second voltage at the output of the second voltage generation unit. By setting the reference voltage to a voltage in a state where the first voltage has sufficiently charged the load capacity or the like, the second voltage generated by the third voltage generator supplied with a voltage higher than the first voltage is used. The voltage can be easily controlled below the first voltage. Moreover, the charging capability of a 2nd voltage can be improved by supplying a voltage higher than a 1st voltage to a 3rd voltage generation part.

この発明によれば、第1の電圧≧第2の電圧の関係を保証しつつ、第2の電圧の高速な電位切り替えを可能にする電圧安定化装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a voltage stabilizing device that enables high-speed potential switching of the second voltage while ensuring the relationship of the first voltage ≧ the second voltage.

本発明によるレギュレータの実施形態の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of embodiment of the regulator by this invention. 図1のレギュレータ1の出力の時間変化を示す図である。It is a figure which shows the time change of the output of the regulator 1 of FIG. 本発明によるレギュレータの他の実施形態を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing another embodiment of the regulator according to the present invention. 本発明によるレギュレータの他の実施形態を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing another embodiment of the regulator according to the present invention. 多値NORフラッシュメモリにおけるVt分布の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of Vt distribution in a multi-value NOR flash memory. 多値記憶におけるワード線駆動例を示す図である。It is a figure which shows the example of a word line drive in multi-value storage. 不揮発性メモリアレイとその付随回路を示すブロック図である。It is a block diagram which shows a non-volatile memory array and its accompanying circuit. 多値読出し時のVwellとVwlの電圧制御例を示す図である。It is a figure which shows the voltage control example of Vwell and Vwl at the time of multi-value reading. 書き込み時(Program時)のVwellとVwlの電圧制御例を示す図である。It is a figure which shows the voltage control example of Vwell and Vwl at the time of writing (at the time of Program). [手法1]による電圧制御例を示す図である。It is a figure which shows the voltage control example by [Method 1]. [手法2]による電圧制御例を示す図である。It is a figure which shows the voltage control example by [Method 2]. レギュレータの構成の一例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows an example of a structure of a regulator.

以下、図面を参照して本発明によるレギュレータの実施形態について説明する。図1は、本発明の実施形態としてのレギュレータ1の構成を示す回路図である。図1に示すレギュレータ1は、第1のレギュレータ2と、第2のレギュレータ3とから構成されている。第1のレギュレータ2は、電圧Vhを電源として、図7のPMOSトランジスタ121のウェルに印加されるウェル電圧Vwellを生成する。第2のレギュレータ3は、電圧Vh、又は第1のレギュレータ2によって生成された電圧Vwellを電源として、図7のPMOSトランジスタ121のソースに印加されるソース電圧Vwlを生成する。   Hereinafter, embodiments of a regulator according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a regulator 1 as an embodiment of the present invention. The regulator 1 shown in FIG. 1 includes a first regulator 2 and a second regulator 3. The first regulator 2 generates a well voltage Vwell applied to the well of the PMOS transistor 121 of FIG. 7 using the voltage Vh as a power source. The second regulator 3 generates the source voltage Vwl applied to the source of the PMOS transistor 121 of FIG. 7 using the voltage Vh or the voltage Vwell generated by the first regulator 2 as a power source.

この場合、第1のレギュレータ2は、第1の電圧生成部10と、判定部20とから構成されている。第1の電圧生成部10は、オペアンプ11、PチャネルMOSトランジスタ12、抵抗13、抵抗14、PチャネルMOSトランジスタ15及びレベルシフト回路16から構成されている。オペアンプ11の非反転入力には基準電圧Vref1が印加され、反転入力は互いに直列に接続されている抵抗13と抵抗14の各一端間の節点が接続されている。オペアンプ11の出力は、PチャネルMOSトランジスタ12のゲートに接続されている。PチャネルMOSトランジスタ12のソースは電圧Vhの電源に接続され、ドレインが抵抗13の他端に接続されている。このPチャネルMOSトランジスタ12が、電圧Vwellの電圧出力に対する能動負荷となる。すなわちPチャネルMOSトランジスタ12のドレインは、電圧Vwellの電源出力の出力端子となる。抵抗14の他端はグランドに接続されている。レベルシフト回路16は、抵抗13の印加電圧(=電圧Vwell)を電源電圧としてTrim信号のレベルをシフトさせ、Trim信号のレベルに応じてPチャネルMOSトランジスタ15をオン(Trim信号=Hレベルでオン)またはオフ(Trim信号=Lレベルでオフ)状態に制御する。PチャネルMOSトランジスタ15は、そのドレイン及びソースが、抵抗13を形成する素子パターン上の所定の2点に接続されている。このPチャネルMOSトランジスタ15をオンまたはオフすることで抵抗13と抵抗14による抵抗分圧比が変更される。第1の電圧生成部10では、オペアンプ11によって、基準電圧Vref1と、出力電圧Vwellを抵抗分圧した電圧との差分に応じて、PチャネルMOSトランジスタ12のゲート電圧を調節することで、Vwell電圧が一定に保たれる。この出力電圧Vwellを変化させる場合、Trim信号によって抵抗分圧比を変更する。この場合、Trim信号をLレベルとすることで、電圧Vwellが高電圧に変化される。   In this case, the first regulator 2 includes a first voltage generation unit 10 and a determination unit 20. The first voltage generator 10 includes an operational amplifier 11, a P channel MOS transistor 12, a resistor 13, a resistor 14, a P channel MOS transistor 15, and a level shift circuit 16. A reference voltage Vref1 is applied to the non-inverting input of the operational amplifier 11, and the node between each end of the resistor 13 and the resistor 14 connected in series is connected to the inverting input. The output of the operational amplifier 11 is connected to the gate of the P-channel MOS transistor 12. The source of the P channel MOS transistor 12 is connected to the power source of the voltage Vh, and the drain is connected to the other end of the resistor 13. The P channel MOS transistor 12 becomes an active load for the voltage output of the voltage Vwell. That is, the drain of the P-channel MOS transistor 12 serves as an output terminal for power supply output of the voltage Vwell. The other end of the resistor 14 is connected to the ground. The level shift circuit 16 shifts the level of the Trim signal using the applied voltage (= voltage Vwell) of the resistor 13 as a power supply voltage, and turns on the P-channel MOS transistor 15 according to the level of the Trim signal (Trim signal = H level turns on) ) Or OFF (Trim signal = OFF at L level). The P channel MOS transistor 15 has its drain and source connected to two predetermined points on the element pattern forming the resistor 13. By turning on or off the P-channel MOS transistor 15, the resistance voltage dividing ratio by the resistors 13 and 14 is changed. In the first voltage generation unit 10, the operational amplifier 11 adjusts the gate voltage of the P-channel MOS transistor 12 according to the difference between the reference voltage Vref1 and the voltage obtained by resistance-dividing the output voltage Vwell, whereby the Vwell voltage Is kept constant. When this output voltage Vwell is changed, the resistance voltage dividing ratio is changed by the Trim signal. In this case, the voltage Vwell is changed to a high voltage by setting the Trim signal to the L level.

判定部20は、抵抗21、抵抗22、PチャネルMOSトランジスタ23、レベルシフト回路24、コンパレータ25及びインバータ26から構成されている。抵抗21の一端は、PチャネルMOSトランジスタ15のドレイン、すなわち、電圧Vwellの電源出力の出力端子に接続されている。抵抗21の他端は、抵抗22の一端に接続されている。抵抗22の他端はグランドに接続されている。レベルシフト回路24は、抵抗21の印加電圧(=電圧Vwell)を電源電圧としてTrim_OK信号のレベルをシフトさせ、Trim_OK信号のレベルに応じてPチャネルMOSトランジスタ23をオン(Trim_OK信号=Hレベルでオン)またはオフ(Trim_OK信号=Lレベルでオフ)状態に制御する。PチャネルMOSトランジスタ23は、そのドレイン及びソースが、抵抗21を形成する素子パターン上の所定の2点に接続されている。コンパレータ25は、電圧Vwellを抵抗21及び抵抗22で分圧した電圧と、基準電圧Vref2とを比較して、出力電圧Vwellを抵抗分圧した電圧が基準電圧Vref2より大きくなった場合にLレベルとなる信号を出力する。インバータ26は、コンパレータ25の出力を反転する。このインバータ26の出力が信号Reg2_OKとなる。このReg2_OK信号は、電圧Vwellが所定のレベルを超えた場合にHレベルとなる信号である。   The determination unit 20 includes a resistor 21, a resistor 22, a P-channel MOS transistor 23, a level shift circuit 24, a comparator 25, and an inverter 26. One end of the resistor 21 is connected to the drain of the P-channel MOS transistor 15, that is, the output terminal of the power supply output of the voltage Vwell. The other end of the resistor 21 is connected to one end of the resistor 22. The other end of the resistor 22 is connected to the ground. The level shift circuit 24 shifts the level of the Trim_OK signal using the applied voltage (= voltage Vwell) of the resistor 21 as a power supply voltage, and turns on the P-channel MOS transistor 23 according to the level of the Trim_OK signal (turns on when the Trim_OK signal = H level). ) Or OFF (Trim_OK signal = OFF at L level). The P channel MOS transistor 23 has its drain and source connected to two predetermined points on the element pattern forming the resistor 21. The comparator 25 compares the voltage Vwell divided by the resistors 21 and 22 with the reference voltage Vref2, and when the voltage obtained by dividing the output voltage Vwell by resistance becomes larger than the reference voltage Vref2, the comparator 25 Is output. The inverter 26 inverts the output of the comparator 25. The output of the inverter 26 becomes the signal Reg2_OK. The Reg2_OK signal is a signal that becomes H level when the voltage Vwell exceeds a predetermined level.

第2のレギュレータ3は、第2の電圧生成部30と、第3の電圧生成部40とから構成されている。第2の電圧生成部30は、オペアンプ31、PチャネルMOSトランジスタ32、抵抗33、抵抗34、PチャネルMOSトランジスタ35及びレベルシフト回路36から構成されている。オペアンプ31の非反転入力には基準電圧Vref3が印加され、反転入力は互いに直列に接続されている抵抗33と抵抗34の各一端間の節点が接続されている。オペアンプ31の出力は、PチャネルMOSトランジスタ32のゲートに接続されている。PチャネルMOSトランジスタ32のソースは、第1の電圧生成部10の出力、すなわち、電圧Vwellの電源に接続され、ドレインが抵抗33の他端に接続されている。このPチャネルMOSトランジスタ32が、電圧Vwlの電圧出力に対する能動負荷となる。PチャネルMOSトランジスタ32のドレインは、電圧Vwlの電源出力の出力端子となる。抵抗34の他端はグランドに接続されている。レベルシフト回路36は、抵抗33の印加電圧(=電圧Vwl)を電源電圧としてTrim信号のレベルをシフトさせ、Trim信号のレベルに応じてPチャネルMOSトランジスタ35をオン(Trim信号=Hレベルでオン)またはオフ(Trim信号=Lレベルでオフ)状態に制御する。PチャネルMOSトランジスタ35は、そのドレイン及びソースが、抵抗33を形成する素子パターン上の所定の2点に接続されている。このPチャネルMOSトランジスタ35をオンまたはオフすることで抵抗33と抵抗34による抵抗分圧比が変更される。第2の電圧生成部30では、オペアンプ31によって、基準電圧Vref3と、出力電圧Vwlを抵抗分圧した電圧との差分に応じて、PチャネルMOSトランジスタ32のゲート電圧を調節することで、Vwl電圧が一定に保たれる。この出力電圧Vwlを変化させる場合、Trim信号によって抵抗分圧比を変更する。この場合、Trim信号をLレベルとすることで、電圧Vwlが、電圧Vwellと同一の高電圧に変化される。   The second regulator 3 includes a second voltage generation unit 30 and a third voltage generation unit 40. The second voltage generator 30 includes an operational amplifier 31, a P channel MOS transistor 32, a resistor 33, a resistor 34, a P channel MOS transistor 35, and a level shift circuit 36. A reference voltage Vref3 is applied to the non-inverting input of the operational amplifier 31, and the node between each end of the resistor 33 and the resistor 34 connected in series is connected to the inverting input. The output of the operational amplifier 31 is connected to the gate of the P channel MOS transistor 32. The source of the P-channel MOS transistor 32 is connected to the output of the first voltage generator 10, that is, the power supply of the voltage Vwell, and the drain is connected to the other end of the resistor 33. This P channel MOS transistor 32 becomes an active load for the voltage output of voltage Vwl. The drain of the P-channel MOS transistor 32 serves as an output terminal for power supply output of the voltage Vwl. The other end of the resistor 34 is connected to the ground. The level shift circuit 36 shifts the level of the Trim signal using the applied voltage (= voltage Vwl) of the resistor 33 as the power supply voltage, and turns on the P-channel MOS transistor 35 according to the level of the Trim signal (Trim signal = H level turns on). ) Or OFF (Trim signal = OFF at L level). The P channel MOS transistor 35 has its drain and source connected to two predetermined points on the element pattern forming the resistor 33. By turning on or off the P-channel MOS transistor 35, the resistance voltage dividing ratio by the resistors 33 and 34 is changed. In the second voltage generation unit 30, the operational amplifier 31 adjusts the gate voltage of the P-channel MOS transistor 32 according to the difference between the reference voltage Vref3 and the voltage obtained by resistance-dividing the output voltage Vwl, whereby the Vwl voltage Is kept constant. When this output voltage Vwl is changed, the resistance voltage dividing ratio is changed by the Trim signal. In this case, by setting the Trim signal to the L level, the voltage Vwl is changed to the same high voltage as the voltage Vwell.

第3の電圧生成部40は、レベルシフト回路41、PチャネルMOSトランジスタ42、PチャネルMOSトランジスタ43及びオペアンプ44から構成されている。レベルシフト回路41は、電圧Vhを電源電圧としてReg2_OK信号のレベルをシフトさせ、Reg2_OK信号のレベルに応じてPチャネルMOSトランジスタ42をオン(Reg2_OK信号=Hレベルでオン)またはオフ(Reg2_OK信号=Lレベルでオフ)状態に制御する。PチャネルMOSトランジスタ42は、ソースが電源Vh、ドレインがPチャネルMOSトランジスタ43のソースに接続されている。オペアンプ44の非反転入力には基準電圧Vref3が印加され、反転入力は互いに直列に接続されている抵抗33と抵抗34の各一端間の節点が接続されている。オペアンプ44の出力は、PチャネルMOSトランジスタ43のゲートに接続されている。このPチャネルMOSトランジスタ43が、電圧Vwlの電圧出力に対する能動負荷となる。PチャネルMOSトランジスタ43のドレインは、PチャネルMOSトランジスタ32のドレインに接続されていて、電圧Vwlの電源出力の出力端子となる。第3の電圧生成部40では、オペアンプ44によって、基準電圧Vref3と、出力電圧Vwlを抵抗分圧した電圧との差分に応じて、PチャネルMOSトランジスタ43のゲート電圧を調節することで、Vwl電圧が一定に保たれる。   The third voltage generator 40 includes a level shift circuit 41, a P channel MOS transistor 42, a P channel MOS transistor 43, and an operational amplifier 44. The level shift circuit 41 shifts the level of the Reg2_OK signal using the voltage Vh as a power supply voltage, and turns on the P-channel MOS transistor 42 according to the level of the Reg2_OK signal (Reg2_OK signal = on when H level) or off (Reg2_OK signal = L Control off to level). The P channel MOS transistor 42 has a source connected to the power source Vh and a drain connected to the source of the P channel MOS transistor 43. A reference voltage Vref3 is applied to the non-inverting input of the operational amplifier 44, and the node between each end of the resistor 33 and the resistor 34 connected in series is connected to the inverting input. The output of the operational amplifier 44 is connected to the gate of the P channel MOS transistor 43. This P channel MOS transistor 43 becomes an active load for the voltage output of voltage Vwl. The drain of the P-channel MOS transistor 43 is connected to the drain of the P-channel MOS transistor 32 and serves as an output terminal for the power supply output of the voltage Vwl. In the third voltage generation unit 40, the operational amplifier 44 adjusts the gate voltage of the P-channel MOS transistor 43 according to the difference between the reference voltage Vref 3 and the voltage obtained by resistance-dividing the output voltage Vwl, whereby the Vwl voltage Is kept constant.

次に、第1のレギュレータ2及び第2のレギュレータ3の制御電位の切り替え時の動作(充電の場合)について説明する。   Next, the operation at the time of switching the control potential of the first regulator 2 and the second regulator 3 (in the case of charging) will be described.

(1)充電初期には第2のレギュレータ3の出力駆動電源として第1のレギュレータ2の出力(Vwell)が用いられる。この電源構成によりVwell≧Vwlを確実に守りつつ、Vwellを高速に充電することが可能になる。しかし、電源の上限がVwellであるためVwlレベルがVwellに近づくと、第2のレギュレータ3は充電能力が極端に落ちるデメリットがある。   (1) At the initial stage of charging, the output (Vwell) of the first regulator 2 is used as the output drive power supply of the second regulator 3. With this power supply configuration, it is possible to charge Vwell at high speed while reliably keeping Vwell ≧ Vwl. However, since the upper limit of the power supply is Vwell, when the Vwl level approaches Vwell, the second regulator 3 has a demerit that the charging capability is extremely lowered.

(2)第2のレギュレータ3は、第1のレギュレータ2の出力が一定電圧以上の電圧に到達したことを示す検知信号Reg2_OK信号がHレベルと成った後は、第2のレギュレータ3の出力駆動電源として、Vwellよりも高い別電源Vhを用いる。図1の構成では、Reg2_OK信号がHレベルとなるとPチャネルMOSトランジスタ42がオンする。このPチャネルMOSトランジスタ42がオンすることで、PチャネルMOSトランジスタ43のソースが電圧Vhの電源に接続される。PチャネルMOSトランジスタ43は、オペアンプ44によって制御され、PチャネルMOSトランジスタ43のドレインから電圧Vwlが出力される。この場合、Reg2_OK信号がHレベルと成った後にVwellを電源とする第2の電圧生成部20を使用し続けていても、電圧Vwlは第3の電圧生成部40によって一定値に制御される。   (2) The second regulator 3 drives the output of the second regulator 3 after the detection signal Reg2_OK signal indicating that the output of the first regulator 2 has reached a voltage equal to or higher than a certain voltage becomes H level. A separate power source Vh higher than Vwell is used as the power source. In the configuration of FIG. 1, when the Reg2_OK signal becomes H level, the P-channel MOS transistor 42 is turned on. When P channel MOS transistor 42 is turned on, the source of P channel MOS transistor 43 is connected to the power supply of voltage Vh. P channel MOS transistor 43 is controlled by operational amplifier 44, and voltage Vwl is output from the drain of P channel MOS transistor 43. In this case, the voltage Vwl is controlled to a constant value by the third voltage generator 40 even if the second voltage generator 20 using Vwell as a power source continues to be used after the Reg2_OK signal becomes H level.

Reg2_OK信号がHレベルと成った段階では、Vwell電圧は充分に上昇しており、VwellとVwlの電位逆転は起こらない。もしくはラッチアップなどのバイポーラアクションを起こすような電位逆転量には至らない。逆に言えば、Reg2_OK信号の検知レベルは、以後のVhを電源とする電流パスでの充電が行われても、VwellとVwlの電位逆転が起こらない電圧値に設定することとなる。   At the stage when the Reg2_OK signal becomes H level, the Vwell voltage is sufficiently increased, and the potential inversion between Vwell and Vwl does not occur. Or the potential reversal amount that causes a bipolar action such as latch-up is not reached. In other words, the detection level of the Reg2_OK signal is set to a voltage value at which the potential inversion between Vwell and Vwl does not occur even if charging is performed in a current path using Vh as a power source thereafter.

また、Vh電源を用いる第3の電圧生成部40による充電系を動作させる(Enable)とすることで、Vwl電圧を目的の電圧に充電するために必要な電流供給能力を確保することができる。このことにより、Vwell及びVwlの電位を同時に切替える場合においてもVwell≧Vwlの関係を保ちつつ高速な電源切替を可能にすることができる。   Further, by operating the charging system by the third voltage generation unit 40 using the Vh power supply (Enable), it is possible to secure a current supply capability necessary for charging the Vwl voltage to the target voltage. As a result, even when the potentials of Vwell and Vwl are switched simultaneously, it is possible to perform high-speed power supply switching while maintaining the relationship of Vwell ≧ Vwl.

(3)また、第1のレギュレータ2から出力された出力電圧検知信号(Reg2_OK信号)を用いることで、Vwl電圧の検出によらない切り替え制御が可能となる。これと逆に第2のレギュレータ3の出力電圧を検知して第2のレギュレータ3の電源電圧をVwellからVhへ切替える場合でも、VwellとVwl電位逆転を確実に回避するためにはVwell電圧のモニタが必要になる。もしくはVwlの検知レベルを高く設定しなければならず、Vwl電圧の高速な切り替えにつながらない。   (3) Further, by using the output voltage detection signal (Reg2_OK signal) output from the first regulator 2, switching control independent of the detection of the Vwl voltage is possible. On the contrary, even when the output voltage of the second regulator 3 is detected and the power supply voltage of the second regulator 3 is switched from Vwell to Vh, the Vwell voltage is monitored in order to reliably avoid the Vwell and Vwl potential reversals. Is required. Alternatively, the detection level of Vwl must be set high, which does not lead to high-speed switching of the Vwl voltage.

図2は、図1のレギュレータ1におけるVwell及びVwl充電波形の概念図である。ここで、図2は、第1のレギュレータ2の出力電圧Vwellと、第2のレギュレータ3の出力電圧Vwlの時間変化を示している。電圧切替時には、まず、第2のレギュレータ3では、第2の電圧生成部30によってVwlが生成される。この時点では、第3の電圧生成部40は活性化されていない。その後、Vwellが、Vhを電源とする電流パスでの充電が行われても、VwellとVwlの電位逆転が起こらない電圧値となったところで、Reg2_OK信号がLレベルからHレベルへと変化する。ここで第3の電圧生成部40が活性化され、以後、第2のレギュレータ3では、第3の電圧生成部40によってVwlが生成される。   FIG. 2 is a conceptual diagram of Vwell and Vwl charging waveforms in the regulator 1 of FIG. Here, FIG. 2 shows temporal changes in the output voltage Vwell of the first regulator 2 and the output voltage Vwl of the second regulator 3. At the time of voltage switching, first, in the second regulator 3, Vwl is generated by the second voltage generation unit 30. At this time, the third voltage generator 40 is not activated. After that, even when Vwell is charged through a current path using Vh as a power source, the Reg2_OK signal changes from L level to H level when the potential value of Vwell and Vwl does not reverse. Here, the third voltage generation unit 40 is activated, and thereafter, in the second regulator 3, Vwl is generated by the third voltage generation unit 40.

なお、図1のレギュレータ1については、第1のレギュレータ2の出力及び第2のレギュレータ3の出力がそれぞれ図7の電圧Vwell及び電圧Vwlの電源として用いられることとして説明を行った。しかし、これに限らず、第1のレギュレータ2の出力及び第2のレギュレータ3の出力は、記憶素子もしくはその駆動素子等に供給される他の電源電圧や制御信号の電圧として用いることが可能である。   Note that the regulator 1 in FIG. 1 has been described on the assumption that the output of the first regulator 2 and the output of the second regulator 3 are used as the power sources of the voltage Vwell and the voltage Vwl of FIG. 7, respectively. However, the present invention is not limited to this, and the output of the first regulator 2 and the output of the second regulator 3 can be used as other power supply voltages or control signal voltages supplied to the storage elements or their drive elements. is there.

また、上記では、図1のレギュレータ1について、電圧を高電圧に変化させる際に第2のレギュレータ3の出力電圧Vwlが最終的に第1のレギュレータ2の出力電圧Vwellと等しくなることとして説明を行った。しかし、Vwl電圧がVwell電圧より(わずかに)低い場合やわずかに高い場合(すなわちダイオード順方向電位を超えない程度の高さ)としても同様の作用効果を得ることができる。   In the above description, it is assumed that the output voltage Vwl of the second regulator 3 finally becomes equal to the output voltage Vwell of the first regulator 2 when the voltage is changed to a high voltage. went. However, the same effect can be obtained even when the Vwl voltage is (slightly) lower or slightly higher than the Vwell voltage (that is, high enough not to exceed the diode forward potential).

図1に示す本発明の実施形態によれば、Vwell(第1の電圧)≧Vwl(第2の電圧)の関係を確実に保証しつつ、Vwell(第1の電圧)及びVwl(第2の電圧)の高速な電位切り替えを可能にするレギュレータの実現が可能となる。   According to the embodiment of the present invention shown in FIG. 1, Vwell (first voltage) ≧ Vwl (second voltage) and Vwell (first voltage) and Vwl (second voltage) are reliably assured. It is possible to realize a regulator that enables high-speed potential switching of (voltage).

次に、図3及び図4を参照して、本発明の他の実施形態について説明する。図3のレギュレータ1aは、図1のReg2_OK信号検知用の抵抗を電圧検知抵抗(抵抗13及び抵抗14)と共通化した例である。図4のレギュレータ1bは、図1の第3の電圧生成部40(すなわち第2のレギュレータ3におけるVh系充電パス)の制御をオペアンプの活性化信号(Enable信号)で行った例である。なお、図3及び図4において、図1と同一の構成には同一の符号を付け、説明を省略する。   Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The regulator 1a in FIG. 3 is an example in which the resistor for detecting the Reg2_OK signal in FIG. 1 is shared with the voltage detection resistor (the resistor 13 and the resistor 14). The regulator 1b in FIG. 4 is an example in which the control of the third voltage generation unit 40 in FIG. 1 (that is, the Vh system charging path in the second regulator 3) is performed by an operational amplifier activation signal (Enable signal). 3 and 4, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図3に示すレギュレータ1aでは、図1の第1のレギュレータ2に対応する第1のレギュレータ2a内に、図1の判定部20に代えて判定部20aが設けられている。この場合、判定部20aは、コンパレータ26とインバータ27とから構成されている。コンパレータ26の2つの入力端子には、抵抗13のパターンの所定の位置に接続されている配線と、基準電圧Vref4に接続されている配線とが接続されている。コンパレータ26は、電圧Vwellを抵抗13の一部とその残部及び抵抗14とを用いて分圧した電圧と、基準電圧Vref4とを比較して、出力電圧Vwellを抵抗分圧した電圧が基準電圧Vref4より大きくなった場合にLレベルとなる信号を出力する。インバータ27は、コンパレータ26の出力を反転する。このインバータ27の出力が信号Reg2_OKとなる。このReg2_OK信号は、電圧Vwellが所定のレベルを超えた場合にHレベルとなる信号である。   In the regulator 1a shown in FIG. 3, a determination unit 20a is provided in place of the determination unit 20 in FIG. 1 in the first regulator 2a corresponding to the first regulator 2 in FIG. In this case, the determination unit 20a includes a comparator 26 and an inverter 27. The two input terminals of the comparator 26 are connected to a wiring connected to a predetermined position of the pattern of the resistor 13 and a wiring connected to the reference voltage Vref4. The comparator 26 compares the voltage obtained by dividing the voltage Vwell using a part of the resistor 13 and the remainder thereof and the resistor 14 with the reference voltage Vref4, and the voltage obtained by dividing the output voltage Vwell by resistance is the reference voltage Vref4. When the signal becomes larger, a signal that becomes L level is output. The inverter 27 inverts the output of the comparator 26. The output of the inverter 27 becomes the signal Reg2_OK. The Reg2_OK signal is a signal that becomes H level when the voltage Vwell exceeds a predetermined level.

図4に示すレギュレータ1bでは、図1の第2のレギュレータ3に対応する第2のレギュレータ3b内に、図1の第3の電圧生成部40に代えて第3の電圧生成部40bが設けられている。この場合、第3の電圧生成部40bは、オペアンプ45及びPチャネルMOSトランジスタ46から構成されている。オペアンプ45の非反転入力には基準電圧Vref3が印加され、反転入力は互いに直列に接続されている抵抗33と抵抗34の各一端間の節点が接続されている。オペアンプ45の出力は、PチャネルMOSトランジスタ46のゲートに接続されている。このオペアンプ45は、活性化信号端子(端子Enable)を有していて、この活性化信号端子に信号Reg2_OKが入力される。オペアンプ45は、活性化信号端子がHレベルの場合、反転及び非反転入力のレベルに応じて出力のレベルを変化させ、活性化信号端子がLレベルの場合、出力を電源Vhの電圧レベルに固定する。すなわち、信号Reg2_OKがHレベルの場合にPチャネルMOSトランジスタ46のゲート電圧の制御が行われ、信号Reg2_OKがLレベルの場合にPチャネルMOSトランジスタ46がオフ状態に制御される。このPチャネルMOSトランジスタ46のソースは電源Vhに接続されている。PチャネルMOSトランジスタ46が電圧Vwlの電圧出力に対する能動負荷となる。PチャネルMOSトランジスタ46のドレインは、PチャネルMOSトランジスタ32のドレインに接続されていて、電圧Vwlの電源出力の出力端子となる。第3の電圧生成部40bでは、オペアンプ45によって、基準電圧Vref3と、出力電圧Vwlを抵抗分圧した電圧との差分に応じて、PチャネルMOSトランジスタ46のゲート電圧を調節することで、Vwl電圧が一定に保たれる。   In the regulator 1b shown in FIG. 4, a third voltage generator 40b is provided in the second regulator 3b corresponding to the second regulator 3 in FIG. 1 instead of the third voltage generator 40 in FIG. ing. In this case, the third voltage generation unit 40 b includes an operational amplifier 45 and a P-channel MOS transistor 46. A reference voltage Vref3 is applied to the non-inverting input of the operational amplifier 45, and the node between each end of the resistor 33 and the resistor 34 connected in series is connected to the inverting input. The output of the operational amplifier 45 is connected to the gate of the P channel MOS transistor 46. The operational amplifier 45 has an activation signal terminal (terminal Enable), and the signal Reg2_OK is input to the activation signal terminal. The operational amplifier 45 changes the output level according to the level of the inverted and non-inverted inputs when the activation signal terminal is at the H level, and fixes the output at the voltage level of the power supply Vh when the activation signal terminal is at the L level. To do. That is, when the signal Reg2_OK is at the H level, the gate voltage of the P channel MOS transistor 46 is controlled, and when the signal Reg2_OK is at the L level, the P channel MOS transistor 46 is controlled to be in the off state. The source of the P channel MOS transistor 46 is connected to the power supply Vh. P-channel MOS transistor 46 becomes an active load for the voltage output of voltage Vwl. The drain of the P-channel MOS transistor 46 is connected to the drain of the P-channel MOS transistor 32 and serves as an output terminal for the power supply output of the voltage Vwl. In the third voltage generator 40b, the operational amplifier 45 adjusts the gate voltage of the P-channel MOS transistor 46 in accordance with the difference between the reference voltage Vref3 and the voltage obtained by resistance-dividing the output voltage Vwl. Is kept constant.

以上のように、本発明は、内部の回路ブロックに電圧を供給する複数のレギュレータをもつ半導体装置において、第2のレギュレータが制御する第2の電圧VA(Vwlに対応)が、第1のレギュレータが制御する第1の電圧VB(Vwellに対応)に対しVB≧VAの関係が求められているという前提条件の下、第2のレギュレータの制御電圧の切り替え(充電の場合に限定)において、次の(1)及び(2)の特徴を有している。   As described above, according to the present invention, in the semiconductor device having a plurality of regulators that supply voltages to the internal circuit block, the second voltage VA (corresponding to Vwl) controlled by the second regulator is the first regulator. Under the precondition that the relationship of VB ≧ VA is required for the first voltage VB (corresponding to Vwell) controlled by the second regulator, switching of the control voltage of the second regulator (limited to charging) (1) and (2).

(1)充電初期には第2のレギュレータの出力駆動電源として第1のレギュレータの出力(VB)を用いる。(2)第2のレギュレータは、第1のレギュレータが一定電圧以上の電圧に到達したことを示す検知信号Reg2_OK信号がHレベルと成った後は、第2のレギュレータの出力駆動電圧としてVBよりも高い別電源を用いる。   (1) At the initial stage of charging, the output (VB) of the first regulator is used as the output driving power source of the second regulator. (2) After the detection signal Reg2_OK signal indicating that the first regulator has reached a voltage equal to or higher than a certain voltage becomes H level, the second regulator is more than VB as the output drive voltage of the second regulator. Use a high separate power supply.

このことにより、VA及びVBの電位を同時に切替える場合においてもVB≧VAの関係を保ちつつ高速な電源切替を可能としている。   As a result, even when the potentials of VA and VB are switched at the same time, the power supply can be switched at high speed while maintaining the relationship of VB ≧ VA.

なお、本発明は、上述した実施形態の構成との対応関係を明確にした上で記述すると次のような態様となる。   It should be noted that the present invention has the following modes when described after clarifying the correspondence with the configuration of the above-described embodiment.

本発明の態様は、第1の電圧(Vwell)を生成する第1の電圧生成部(第1の電圧生成部10)と、第1の電圧が予め定められる基準電圧(基準電圧Vref2を抵抗21と抵抗22の分圧比の逆数倍した電圧)より低い第1の状態と、基準電圧より高い第2の状態を判定する判定部(判定部20)と、第1の状態にあるとき(信号Reg2_OKがLレベルの場合)第1の電圧が供給され、第1の電圧以下の第2の電圧(Vwl)を生成する第2の電圧生成部(第2の電圧生成部30)と、第2の状態にあるとき(信号Reg2_OKがHレベルの場合)第1の電圧より高い電圧(電圧Vh)が供給され、第2の電圧生成部の出力において第2の電圧を生成する第3の電圧生成部(第3の電圧生成部40)とを備えることを特徴とする電圧安定化装置(レギュレータ1)である。   The aspect of the present invention includes a first voltage generation unit (first voltage generation unit 10) that generates a first voltage (Vwell), and a reference voltage (reference voltage Vref2) that is determined in advance as a resistor 21. And a determination unit (determination unit 20) for determining a first state lower than a voltage obtained by multiplying the voltage dividing ratio of the resistor 22 by a reciprocal and a second state higher than the reference voltage (signal) A second voltage generation unit (second voltage generation unit 30) that generates a second voltage (Vwl) that is not higher than the first voltage and is supplied with the first voltage; (When the signal Reg2_OK is at the H level), a voltage (voltage Vh) higher than the first voltage is supplied, and a third voltage generator that generates the second voltage at the output of the second voltage generator Unit (third voltage generation unit 40). A pressure stabilizer (regulator 1).

他の態様は、第3の電圧生成部(第3の電圧生成部40)が、第1の電圧(Vwell)の変化にしたがった判定部(判定部20)の判定結果に応じて、活性化される(PチャネルMOSトランジスタ42がオン状態とされる)ことを特徴とする。   In another aspect, the third voltage generation unit (third voltage generation unit 40) is activated according to the determination result of the determination unit (determination unit 20) according to the change of the first voltage (Vwell). (P channel MOS transistor 42 is turned on).

他の態様は、第3の電圧生成部(第3の電圧生成部40)は、判定部(判定部20)の判定結果に応じて、第1の電圧(Vwell)より高い電圧(Vh)が供給される(PチャネルMOSトランジスタ42がオン状態とされる)ことを特徴とする。   In another aspect, the third voltage generation unit (third voltage generation unit 40) has a voltage (Vh) higher than the first voltage (Vwell) according to the determination result of the determination unit (determination unit 20). It is supplied (P channel MOS transistor 42 is turned on).

他の態様は、判定部(判定部20a)が、第1の電圧生成部(第1の電圧生成部10)が出力する第1の電圧(Vwell)の分圧回路(抵抗13及び抵抗14からなる分圧回路)を第1の電圧生成部と共有することを特徴とする。   In another aspect, the determination unit (determination unit 20a) uses a first voltage (Vwell) voltage dividing circuit (resistor 13 and resistor 14) output from the first voltage generation unit (first voltage generation unit 10). The voltage dividing circuit) is shared with the first voltage generation unit.

他の態様は、第1の電圧生成部(第1の電圧生成部10)が、第1の電圧(Vwell)を第1の分圧比(PチャネルMOSトランジスタ15をオンまたはオフした状態での抵抗13及び抵抗14による分圧比)で分圧した入力に応じ、第1の基準電圧(Vref1)を基準として第1の出力トランジスタ(PチャネルMOSトランジスタ12)を駆動する第1の演算増幅回路(オペアンプ11)と、第1の分圧比を所定の制御信号(Trim信号)に応じて変化させる第1の分圧比変化部(PチャネルMOSトランジスタ15及びレベルシフト回路16)とを有していることを特徴とする。   In another aspect, the first voltage generation unit (first voltage generation unit 10) converts the first voltage (Vwell) to the first voltage division ratio (the P channel MOS transistor 15 is turned on or off). 13 is a first operational amplifier circuit (operational amplifier) that drives the first output transistor (P-channel MOS transistor 12) with the first reference voltage (Vref1) as a reference in accordance with the input divided by the voltage dividing ratio of 13 and the resistor 14). 11) and a first voltage division ratio changing unit (P channel MOS transistor 15 and level shift circuit 16) that changes the first voltage division ratio according to a predetermined control signal (Trim signal). Features.

他の態様は、第2の電圧生成部(第2の電圧生成部30)が、第2の基準電圧(基準電圧Vref3)を基準として第2の出力トランジスタ(PチャネルMOSトランジスタ32)を駆動する第2の演算増幅回路(オペアンプ31)を有して構成され、第3の電圧生成部(第3の電圧生成部40)が、第2の基準電圧を基準として第3の出力トランジスタ(PチャネルMOSトランジスタ43)を駆動する第3の演算増幅回路(オペアンプ44)を有して構成され、第2の出力トランジスタの出力端(ドレイン)と第3の出力トランジスタの出力端(ドレイン)とが接続されていることを特徴とする。   In another aspect, the second voltage generator (second voltage generator 30) drives the second output transistor (P-channel MOS transistor 32) based on the second reference voltage (reference voltage Vref3). The third operational amplifier circuit (the operational amplifier 31) is configured, and the third voltage generation unit (third voltage generation unit 40) has a third output transistor (P channel) based on the second reference voltage. The third operational amplifier circuit (operational amplifier 44) that drives the MOS transistor 43) is configured, and the output terminal (drain) of the second output transistor is connected to the output terminal (drain) of the third output transistor. It is characterized by being.

他の態様は、第2の電圧生成部(第2の電圧生成部30)が、第2の電圧(Vwl)を第2の分圧比(PチャネルMOSトランジスタ35をオンまたはオフした状態での抵抗33及び抵抗34による分圧比)で分圧した入力に応じ、第2の基準電圧(基準電圧Vref3)を基準として第2の出力トランジスタ(PチャネルMOSトランジスタ32)を駆動する第2の演算増幅回路(オペアンプ31)を有して構成され、第3の電圧生成部(第3の電圧生成部40)が、第2の電圧を第2の分圧比で分圧した入力に応じ、第2の基準電圧を基準として第3の出力トランジスタ(PチャネルMOSトランジスタ43)を駆動する第3の演算増幅回路(オペアンプ44)を有して構成され、第2の出力トランジスタの出力端(ドレイン)と第3の出力トランジスタの出力端(ドレイン)とが接続され、さらに、第2の分圧比を所定の制御信号(Trim信号)に応じて変化させる第2の分圧比変化部(PチャネルMOSトランジスタ35及びレベルシフト回路36)を備えることを特徴とする。   In another aspect, the second voltage generator (second voltage generator 30) converts the second voltage (Vwl) to the second voltage dividing ratio (the P-channel MOS transistor 35 is turned on or off). The second operational amplifier circuit that drives the second output transistor (P-channel MOS transistor 32) with the second reference voltage (reference voltage Vref3) as a reference in accordance with the input divided by the voltage dividing ratio 33 and the resistor 34). (The operational amplifier 31), and the third voltage generation unit (third voltage generation unit 40) receives the second reference according to the input obtained by dividing the second voltage by the second voltage division ratio. A third operational amplifier circuit (op-amp 44) that drives the third output transistor (P-channel MOS transistor 43) with reference to the voltage is configured, and the output terminal (drain) of the second output transistor and the third of The output terminal (drain) of the power transistor is connected, and further, a second voltage dividing ratio changing unit (P channel MOS transistor 35 and level shifter) that changes the second voltage dividing ratio according to a predetermined control signal (Trim signal). Circuit 36).

他の態様は、記憶素子(不揮発性メモリセル111)と、記憶素子に供給される電源電圧又は制御信号の電圧(Vwell、Vwl)が、上記の電圧安定化装置によって供給されることを特徴とする半導体記憶装置である。   Another aspect is characterized in that a memory element (nonvolatile memory cell 111) and a power supply voltage or a control signal voltage (Vwell, Vwl) supplied to the memory element are supplied by the voltage stabilizing device. A semiconductor memory device.

他の態様は、記憶素子が、多値記憶の不揮発性半導体素子(不揮発性メモリセル111)であり、第1の電圧(Vwell)が複数の不揮発性半導体素子に接続されたワード線(WL)を駆動するPチャネルMOSトランジスタ(PチャネルMOSトランジスタ121)のウェル電位であり、第2の電圧(Vwl)がソース電位であることを特徴とする。   In another embodiment, the storage element is a multi-value storage nonvolatile semiconductor element (non-volatile memory cell 111), and the first voltage (Vwell) is connected to a plurality of nonvolatile semiconductor elements. Is the well potential of the P-channel MOS transistor (P-channel MOS transistor 121) for driving and the second voltage (Vwl) is the source potential.

他の態様は、第1の電圧生成部(第1の電圧生成部10)が、第1の電圧(Vwell)を生成し、判定部(判定部20)が、第1の電圧が予め定められる基準電圧より低い第1の状態と、基準電圧より高い第2の状態を判定し、第2の電圧生成部(第2の電圧生成部30)が、第1の状態にあるとき第1の電圧が供給され、第1の電圧以下の第2の電圧(Vwl)を生成し、第3の電圧生成部(第3の電圧生成部40)が、第2の状態にあるとき第1の電圧より高い電圧(Vh)が供給され、第2の電圧生成部の出力において第2の電圧を生成することを特徴とする電圧安定化方法である。   In another aspect, the first voltage generation unit (first voltage generation unit 10) generates the first voltage (Vwell), and the determination unit (determination unit 20) determines the first voltage in advance. A first state lower than the reference voltage and a second state higher than the reference voltage are determined, and the first voltage when the second voltage generation unit (second voltage generation unit 30) is in the first state Is supplied, generates a second voltage (Vwl) that is equal to or lower than the first voltage, and the third voltage generator (third voltage generator 40) is in the second state than the first voltage. The voltage stabilization method is characterized in that a high voltage (Vh) is supplied and a second voltage is generated at the output of the second voltage generator.

なお、本発明の実施の形態は上記のものに限定されず、例えば、第1のレギュレータ2及び第2のレギュレータ3に加えて他の同様な構成の1または複数のレギュレータを第1のレギュレータ2や第2のレギュレータ3に対して並列に設けるようにしたり、第3のレギュレータ40が活性化された際に第2のレギュレータ30を比活性化する構成を追加したりする変更等を適宜行うことができる。   The embodiment of the present invention is not limited to the above-described one. For example, in addition to the first regulator 2 and the second regulator 3, one or more regulators having other similar configurations may be used as the first regulator 2. In addition, a change to be provided in parallel with the second regulator 3 or to add a configuration for specific activation of the second regulator 30 when the third regulator 40 is activated is performed as appropriate. Can do.

1、1a、1b レギュレータ(電圧安定化装置)
2、2a 第1のレギュレータ
3、3b 第2のレギュレータ
10 第1の電圧生成部
20、20a 判定部
30 第2の電圧生成部
40、40b 第3の電圧生成部
13、14、21、22 抵抗
12、15、32、35、42、43、121 PチャネルMOSトランジスタ
11、31、44、45 オペアンプ
16、36 レベルシフト回路
100 半導体チップ(半導体装置)
111 不揮発性メモリセル
1, 1a, 1b regulator (voltage stabilizer)
2, 2a First regulator 3, 3b Second regulator 10 First voltage generation unit 20, 20a Determination unit 30 Second voltage generation unit 40, 40b Third voltage generation unit 13, 14, 21, 22 Resistance 12, 15, 32, 35, 42, 43, 121 P-channel MOS transistors 11, 31, 44, 45 Operational amplifier 16, 36 Level shift circuit 100 Semiconductor chip (semiconductor device)
111 Nonvolatile memory cell

Claims (10)

第1の電圧を生成する第1の電圧生成部と、
前記第1の電圧が予め定められる基準電圧より低い第1の状態と、前記基準電圧より高い第2の状態を判定する判定部と、
前記第1の状態にあるとき前記第1の電圧が供給され、前記第1の電圧以下の第2の電圧を生成する第2の電圧生成部と、
前記第2の状態にあるとき前記第1の電圧より高い電圧が供給され、前記第2の電圧生成部の出力において前記第2の電圧を生成する第3の電圧生成部と
を備えることを特徴とする電圧安定化装置。
A first voltage generator for generating a first voltage;
A determination unit for determining a first state in which the first voltage is lower than a predetermined reference voltage and a second state in which the first voltage is higher than the reference voltage;
A second voltage generation unit which is supplied with the first voltage when in the first state and generates a second voltage equal to or lower than the first voltage;
A third voltage generation unit that is supplied with a voltage higher than the first voltage when in the second state and generates the second voltage at the output of the second voltage generation unit. Voltage stabilizer.
前記第3の電圧生成部は、
前記第1の電圧の変化にしたがった前記判定部の判定結果に応じて、活性化される
ことを特徴とする請求項1に記載の電圧安定化装置。
The third voltage generator is
The voltage stabilization device according to claim 1, wherein the voltage stabilization device is activated according to a determination result of the determination unit according to a change in the first voltage.
前記第3の電圧生成部は、
前記判定部の判定結果に応じて、前記第1の電圧より高い電圧が供給される
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電圧安定化装置。
The third voltage generator is
The voltage stabilization apparatus according to claim 1, wherein a voltage higher than the first voltage is supplied according to a determination result of the determination unit.
前記判定部は、前記第1の電圧生成部が出力する第1の電圧の分圧回路を前記第1の電圧生成部と共有する
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の電圧安定化装置。
The determination unit shares a voltage dividing circuit for a first voltage output by the first voltage generation unit with the first voltage generation unit. The voltage stabilizer as described.
前記第1の電圧生成部が、
前記第1の電圧を第1の分圧比で分圧した入力に応じ、第1の基準電圧を基準として第1の出力トランジスタを駆動する第1の演算増幅回路と、
前記第1の分圧比を所定の制御信号に応じて変化させる第1の分圧比変化部と
を有している
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の電圧安定化装置。
The first voltage generator is
A first operational amplifier circuit that drives a first output transistor based on a first reference voltage in response to an input obtained by dividing the first voltage by a first voltage dividing ratio;
5. The voltage stabilization according to claim 1, further comprising: a first voltage division ratio changing unit that changes the first voltage division ratio according to a predetermined control signal. apparatus.
前記第2の電圧生成部が、第2の基準電圧を基準として第2の出力トランジスタを駆動する第2の演算増幅回路を有して構成され、
前記第3の電圧生成部が、前記第2の基準電圧を基準として第3の出力トランジスタを駆動する第3の演算増幅回路を有して構成され、
前記第2の出力トランジスタの出力端と前記第3の出力トランジスタの出力端とが接続されている
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の電圧安定化装置。
The second voltage generation unit includes a second operational amplifier circuit that drives the second output transistor based on the second reference voltage;
The third voltage generation unit includes a third operational amplifier circuit that drives a third output transistor based on the second reference voltage;
The voltage stabilization device according to claim 1, wherein an output terminal of the second output transistor and an output terminal of the third output transistor are connected.
前記第2の電圧生成部が、前記第2の電圧を第2の分圧比で分圧した入力に応じ、第2の基準電圧を基準として第2の出力トランジスタを駆動する第2の演算増幅回路を有して構成され、
前記第3の電圧生成部が、前記第2の電圧を第2の分圧比で分圧した入力に応じ、前記第2の基準電圧を基準として第3の出力トランジスタを駆動する第3の演算増幅回路を有して構成され、
前記第2の出力トランジスタの出力端と前記第3の出力トランジスタの出力端とが接続され、
さらに、前記第2の分圧比を所定の制御信号に応じて変化させる第2の分圧比変化部を備える
ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の電圧安定化装置。
A second operational amplifier circuit configured to drive the second output transistor based on the second reference voltage in response to an input obtained by dividing the second voltage by a second voltage dividing ratio by the second voltage generator; Comprising
A third operational amplifier for driving a third output transistor based on the second reference voltage in response to an input obtained by dividing the second voltage by a second voltage dividing ratio; Configured with a circuit,
The output terminal of the second output transistor and the output terminal of the third output transistor are connected,
The voltage stabilizing device according to any one of claims 1 to 6, further comprising a second voltage dividing ratio changing unit that changes the second voltage dividing ratio according to a predetermined control signal.
記憶素子と、
前記記憶素子に供給される電源電圧又は制御信号の電圧が、請求項1から請求項7のいずれかに記載の電圧安定化装置によって供給される
ことを特徴とする半導体記憶装置。
A storage element;
The semiconductor memory device, wherein the power supply voltage or the voltage of the control signal supplied to the memory element is supplied by the voltage stabilizing device according to any one of claims 1 to 7.
前記記憶素子が、多値記憶の不揮発性半導体素子であり、
前記第1の電圧が複数の前記不揮発性半導体素子に接続されたワード線を駆動するPチャネルMOSトランジスタのウェル電位であり、
前記第2の電圧が前記PチャネルMOSトランジスタのソース電位である
ことを特徴とする請求項8に記載の半導体記憶装置。
The storage element is a multi-value storage nonvolatile semiconductor element,
The first voltage is a well potential of a P-channel MOS transistor that drives a word line connected to the plurality of nonvolatile semiconductor elements;
The semiconductor memory device according to claim 8, wherein the second voltage is a source potential of the P-channel MOS transistor.
第1の電圧生成部が、第1の電圧を生成し、
判定部が、前記第1の電圧が予め定められる基準電圧より低い第1の状態と、前記基準電圧より高い第2の状態を判定し、
第2の電圧生成部が、前記第1の状態にあるとき前記第1の電圧が供給され、前記第1の電圧以下の第2の電圧を生成し、
第3の電圧生成部が、前記第2の状態にあるとき前記第1の電圧より高い電圧が供給され、前記第2の電圧生成部の出力において前記第2の電圧を生成する
ことを特徴とする電圧安定化方法。
The first voltage generation unit generates the first voltage,
The determination unit determines a first state in which the first voltage is lower than a predetermined reference voltage and a second state in which the first voltage is higher than the reference voltage,
When the second voltage generator is in the first state, the first voltage is supplied to generate a second voltage equal to or lower than the first voltage;
When a third voltage generation unit is in the second state, a voltage higher than the first voltage is supplied, and the second voltage generation unit generates the second voltage at the output of the second voltage generation unit. Voltage stabilization method.
JP2009292316A 2009-12-24 2009-12-24 Voltage stabilizing device, semiconductor device using the same, and voltage stabilizing method Active JP5475435B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009292316A JP5475435B2 (en) 2009-12-24 2009-12-24 Voltage stabilizing device, semiconductor device using the same, and voltage stabilizing method
KR1020100027453A KR101415227B1 (en) 2009-12-24 2010-03-26 Voltage stabilization device and semiconductor device comprising the same, and voltage generation method
US12/971,339 US8493795B2 (en) 2009-12-24 2010-12-17 Voltage stabilization device and semiconductor device including the same, and voltage generation method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009292316A JP5475435B2 (en) 2009-12-24 2009-12-24 Voltage stabilizing device, semiconductor device using the same, and voltage stabilizing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011134059A JP2011134059A (en) 2011-07-07
JP5475435B2 true JP5475435B2 (en) 2014-04-16

Family

ID=44346729

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009292316A Active JP5475435B2 (en) 2009-12-24 2009-12-24 Voltage stabilizing device, semiconductor device using the same, and voltage stabilizing method

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5475435B2 (en)
KR (1) KR101415227B1 (en)

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11145413A (en) * 1997-11-13 1999-05-28 Nec Corp Semiconductor integrated circuit
JPH11265225A (en) * 1998-03-16 1999-09-28 Toyota Motor Corp Power source device for engine controller
JP4043142B2 (en) * 1999-05-18 2008-02-06 富士通株式会社 Memory device
JP2002237187A (en) * 2001-12-13 2002-08-23 Mitsubishi Electric Corp Internal voltage generating device for semiconductor integrated circuit
DE10361724A1 (en) * 2003-12-30 2005-08-04 Infineon Technologies Ag Voltage regulation system
JP4822941B2 (en) * 2006-06-12 2011-11-24 株式会社東芝 Power supply voltage control circuit and semiconductor integrated circuit
JP4945748B2 (en) * 2006-06-29 2012-06-06 オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド Power circuit
JP2008172946A (en) * 2007-01-12 2008-07-24 Mitsubishi Electric Corp Power conversion device
US7795848B2 (en) * 2007-05-09 2010-09-14 Freescale Semiconductor, Inc. Method and circuit for generating output voltages from input voltage
JP4479797B2 (en) * 2008-01-23 2010-06-09 株式会社デンソー Electronic control unit

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110074407A (en) 2011-06-30
KR101415227B1 (en) 2014-07-04
JP2011134059A (en) 2011-07-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4262227B2 (en) Read circuit for semiconductor memory device
US8379452B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
US7948809B2 (en) Regulator and semiconductor device
US9589657B2 (en) Internal power supply voltage auxiliary circuit, semiconductor memory device and semiconductor device
US20080304349A1 (en) Voltage supply circuit and semiconductor memory
KR101001147B1 (en) Phase change memory device
JP2005190626A (en) Semiconductor readout circuit
JP2006294144A (en) Nonvolatile semiconductor memory device
KR20070121507A (en) Voltage generation circuit
JP2010009728A (en) Data processing device and method of reading trimming data
US8243505B2 (en) Phase change memory device having write driving control signal corresponding to set/reset write time
JP4989927B2 (en) Negative potential discharge circuit
KR101157023B1 (en) Semiconductor memory apparatus and method of discharging wordline for it
US9208830B2 (en) Semiconductor memory device
US9047946B2 (en) Read circuit and non-volatile memory using the read circuit
KR20180008173A (en) Memory device having negative voltage generator
JP5475435B2 (en) Voltage stabilizing device, semiconductor device using the same, and voltage stabilizing method
US7538584B2 (en) Sense amplifier
JP6103815B2 (en) Nonvolatile memory circuit and semiconductor device
JP5259279B2 (en) Semiconductor device and control method thereof
JP2015149108A (en) Semiconductor device and storage device, and control method thereof
JP5289860B2 (en) Nonvolatile memory device and method for reading data from nonvolatile memory device
JP6201646B2 (en) Semiconductor memory device
WO2022133777A1 (en) Voltage regulation for multiple voltage levels
KR101391928B1 (en) High voltage generator

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121206

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140206

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5475435

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250