JP5454968B2 - レーザ照射方法及びその装置 - Google Patents
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Description
請求項1記載の発明は、レーザ発振器1からの処理用のレーザaをレンズ2に通して集光又は結像させ、被照射物4に照射させるレーザ照射方法において、
レンズ2と被照射物4との間に配置され、レンズ2と被照射物4との間の光路を遮つて処理用のレーザaを反射する反射位置Iと、レンズ2と被照射物4との間の光路を開放する開放位置IIとを採ることができる第1のミラー5と、
反射位置Iを採る第1のミラー5によつて反射される処理用のレーザaの光軸Lに対して垂直に配置され、処理用のレーザaを所定の反射率で反射する第2のミラー6と、
焦点距離計測用のレーザbをレンズ2を通して集光させ、第1のミラー5及び第2のミラー6によつて次々に反射させ、第1のミラー5によつて再度反射される焦点距離計測用のレーザbをレンズ2を通して導き、レンズ2の焦点距離を計測する計測手段7とを設け、
第1のミラー5に反射位置Iを採らせることにより、レンズ2を透過する処理用のレーザa及び焦点距離計測用のレーザbを、第1のミラー5及び第2のミラー6によつて次々に反射させ、第1のミラー5によつて再度反射される処理用のレーザa及び焦点距離計測用のレーザbの強度を、第1のミラー5が開放位置IIを採る状態で被照射物4から反射される処理用のレーザaの処理時の強度に合致させて、レンズ2を透過させ、処理用のレーザaを被照射物4に照射して処理を与えるときと同様にレンズ2を加熱することを特徴とするレーザ照射方法である。
請求項2記載の発明は、第2のミラー6を凹面鏡で構成し、第1のミラー5から反射される処理用のレーザaの集光又は結像位置を変えることなく第2のミラー6で反射されるように、第1のミラー5から反射される処理用のレーザaの集光又は結像位置よりも遠い位置に第2のミラー6を配設することを特徴とする請求項1のレーザ照射方法である。
請求項3記載の発明は、第2のミラー6又は第1のミラー5の少なくとも一方に温度制御手段26,27を付属させ、第2のミラー6又は第1のミラー5の温度を制御することにより、処理用のレーザaによる処理時に被照射物4から反射される処理用のレーザaの強度に合致させて、第1のミラー5によつて再度反射される処理用のレーザa及び焦点距離計測用のレーザbの強度を与えることを特徴とする請求項1又は2のレーザ照射方法である。
請求項4記載の発明は、レーザ発振器1からの処理用のレーザaをレンズ2に通して集光又は結像させ、被照射物4に照射させるレーザ照射装置において、
レンズ2と被照射物4との間に配置され、レンズ2と被照射物4との間の光路を遮つて処理用のレーザaを反射する反射位置Iと、レンズ2と被照射物4との間の光路を開放する開放位置IIとを採ることができる第1のミラー5と、
反射位置Iを採る第1のミラー5によつて反射される処理用のレーザaの光軸Lに対して垂直に配置され、処理用のレーザaを所定の反射率で反射する第2のミラー6と、
焦点距離計測用のレーザbをレンズ2を通して集光させ、第1のミラー5及び第2のミラー6によつて次々に反射させ、第1のミラー5によつて再度反射される焦点距離計測用のレーザbをレンズ2を通して導き、レンズ2の焦点距離を計測する計測手段7とを設け、
第1のミラー5に反射位置Iを採らせることにより、レンズ2を透過する処理用のレーザa及び焦点距離計測用のレーザbを、第1のミラー5及び第2のミラー6によつて次々に反射させ、第1のミラー5によつて再度反射される処理用のレーザa及び焦点距離計測用のレーザbの強度を、第1のミラー5が開放位置IIを採る状態で被照射物4から反射される処理用のレーザaの処理時の強度に合致させて、レンズ2を透過させ、処理用のレーザaを被照射物4に照射して処理を与えるときと同様にレンズ2を加熱することを特徴とするレーザ照射装置である。
なお、ミラーの母体として、熱伝導率が大きい材料を使用することにより、温度変化を抑制することができる。
先ず、反射率の同じ被照射物4を交換しながら次々に処理を与える場合の作用について説明する。
レーザ発振器1からの処理用のパルス・レーザaは、第3のミラー20を透過し、全反射するミラー10によつて90度方向転換させて集光レンズ2に導き、集光レンズ2を透過したレーザaは、集光して被照射物4に照射され、被照射物4が改質される。被照射物4がガラス基板上に薄いa−Si膜を形成したものであれば、レーザaの照射により、a−Si膜が結晶化されて薄いp−Si膜に改質される。このとき、第1のミラー5は、集光レンズ2と被照射物4との間の光路を開放する開放位置IIを採つている。
これによれば、被照射物4をステージ11に載置することなく、集光レンズ2の焦点距離の適否を判定することができる。
2:集光レンズ(レンズ)
3:温度制御装置
4:被照射物
5:第1のミラー
6:第2のミラー
6’:凹面鏡(第2のミラー)
7:計測手段
8:光強度計測手段
9:調整機構
11:ステージ
12:移動装置
24:測定器
a:処理用のレーザ
b:焦点距離計測用のレーザ
c:反射光
h1,h2:距離
I:反射位置
II:開放位置
L:光軸
X:所定方向
Claims (4)
- レーザ発振器(1)からの処理用のレーザ(a)をレンズ(2)に通して集光又は結像させ、被照射物(4)に照射させるレーザ照射方法において、
レンズ(2)と被照射物(4)との間に配置され、レンズ(2)と被照射物(4)との間の光路を遮つて処理用のレーザ(a)を反射する反射位置(I)と、レンズ(2)と被照射物(4)との間の光路を開放する開放位置(II)とを採ることができる第1のミラー(5)と、
反射位置(I)を採る第1のミラー(5)によつて反射される処理用のレーザ(a)の光軸(L)に対して垂直に配置され、処理用のレーザ(a)を所定の反射率で反射する第2のミラー(6)と、
焦点距離計測用のレーザ(b)をレンズ(2)を通して集光させ、第1のミラー(5)及び第2のミラー(6)によつて次々に反射させ、第1のミラー(5)によつて再度反射される焦点距離計測用のレーザ(b)をレンズ(2)を通して導き、レンズ(2)の焦点距離を計測する計測手段(7)とを設け、
第1のミラー(5)に反射位置(I)を採らせることにより、レンズ(2)を透過する処理用のレーザ(a)及び焦点距離計測用のレーザ(b)を、第1のミラー(5)及び第2のミラー(6)によつて次々に反射させ、第1のミラー(5)によつて再度反射される処理用のレーザ(a)及び焦点距離計測用のレーザ(b)の強度を、第1のミラー(5)が開放位置(II)を採る状態で被照射物(4)から反射される処理用のレーザ(a)の処理時の強度に合致させて、レンズ(2)を透過させ、処理用のレーザ(a)を被照射物(4)に照射して処理を与えるときと同様にレンズ(2)を加熱することを特徴とするレーザ照射方法。 - 第2のミラー(6)を凹面鏡で構成し、第1のミラー(5)から反射される処理用のレーザ(a)の集光又は結像位置を変えることなく第2のミラー(6)で反射されるように、第1のミラー(5)から反射される処理用のレーザ(a)の集光又は結像位置よりも遠い位置に第2のミラー(6)を配設することを特徴とする請求項1のレーザ照射方法。
- 第2のミラー(6)又は第1のミラー(5)の少なくとも一方に温度制御手段(26,27)を付属させ、第2のミラー(6)又は第1のミラー(5)の温度を制御することにより、処理用のレーザ(a)による処理時に被照射物(4)から反射される処理用のレーザ(a)の強度に合致させて、第1のミラー(5)によつて再度反射される処理用のレーザ(a)及び焦点距離計測用のレーザ(b)の強度を与えることを特徴とする請求項1または2のレーザ照射方法。
- レーザ発振器(1)からの処理用のレーザ(a)をレンズ(2)に通して集光又は結像させ、被照射物(4)に照射させるレーザ照射装置において、
レンズ(2)と被照射物(4)との間に配置され、レンズ(2)と被照射物(4)との間の光路を遮つて処理用のレーザ(a)を反射する反射位置(I)と、レンズ(2)と被照射物(4)との間の光路を開放する開放位置(II)とを採ることができる第1のミラー(5)と、
反射位置(I)を採る第1のミラー(5)によつて反射される処理用のレーザ(a)の光軸(L)に対して垂直に配置され、処理用のレーザ(a)を所定の反射率で反射する第2のミラー(6)と、
焦点距離計測用のレーザ(b)をレンズ(2)を通して集光させ、第1のミラー(5)及び第2のミラー(6)によつて次々に反射させ、第1のミラー(5)によつて再度反射される焦点距離計測用のレーザ(b)をレンズ(2)を通して導き、レンズ(2)の焦点距離を計測する計測手段(7)とを設け、
第1のミラー(5)に反射位置(I)を採らせることにより、レンズ(2)を透過する処理用のレーザ(a)及び焦点距離計測用のレーザ(b)を、第1のミラー(5)及び第2のミラー(6)によつて次々に反射させ、第1のミラー(5)によつて再度反射される処理用のレーザ(a)及び焦点距離計測用のレーザ(b)の強度を、第1のミラー(5)が開放位置(II)を採る状態で被照射物(4)から反射される処理用のレーザ(a)の処理時の強度に合致させて、レンズ(2)を透過させ、処理用のレーザ(a)を被照射物(4)に照射して処理を与えるときと同様にレンズ(2)を加熱することを特徴とするレーザ照射装置。
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