JP5453844B2 - High concentration ozone supply method and liquid ozone storage vessel - Google Patents
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Description
本発明は、オゾンガスを液化することにより濃縮した高濃度オゾンガスを供給する装置においてオゾンを蓄積するベッセル部分に関するものである。 The present invention relates to a vessel portion that accumulates ozone in an apparatus that supplies high-concentration ozone gas concentrated by liquefying ozone gas.
近年オゾン(元素記号:O3)の利用が、その強い酸化力を利用して上下水処理を始めとして種々の分野で進展している。中でも、半導体素子の製造分野では、Siウエーハ洗浄やTEOS−CVD(Tetra Ethyl Ortho Silicate−Chemical Vapor Deposition)への適用が検討されつつある。Siウエーハ洗浄は、オゾンガスを純水に溶かしたオゾン水を洗浄液として用いるもので、希フッ酸水溶液等と併用することでSiウエーハ上の重金属や有機物を除去できることが発表されている(電子材料1999年3月号PP.13〜18)。TEOS−CVDは半導体素子を多層配線化する際の層間絶縁膜の形成に用いられ、電極によるウエーハ表面の凹凸を絶縁膜で平坦化できることが特長である。このTEOS−CVDにオゾンを添加することによって平坦化の性能が向上することが報告されている(Jpn.J.Appl.Phys.Vol.32(1993)PP.L110−L112)。 In recent years, the use of ozone (element symbol: O 3 ) has been developed in various fields including water and sewage treatment using its strong oxidizing power. In particular, in the field of manufacturing semiconductor devices, application to Si wafer cleaning and TEOS-CVD (Tetra Ethyl Ortho Silicon-Chemical Vapor Deposition) is being studied. In Si wafer cleaning, ozone water in which ozone gas is dissolved in pure water is used as a cleaning liquid, and it has been announced that heavy metals and organic substances on Si wafer can be removed by using together with dilute hydrofluoric acid aqueous solution (electronic material 1999). March issue PP. 13-18). TEOS-CVD is used to form an interlayer insulating film when a semiconductor element is formed into a multilayer wiring, and is characterized in that the unevenness of the wafer surface caused by the electrodes can be planarized by the insulating film. It has been reported that the planarization performance is improved by adding ozone to the TEOS-CVD (Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 32 (1993) PP. L110-L112).
これらは10%程度の比較的低濃度のオゾンガスを利用した例であるが、80%以上の比較的高濃度のオゾンガスを利用することで従来のオゾンガス利用では考えられなかった新たな応用の可能性が指摘され始めている。一例を挙げれば、特開平8−335576号公報で開示されているSi半導体の酸化膜形成がある。この公報によれば、従来の熱酸化法では為し得ない比較的低温での酸化膜形成が可能で、亜酸化層や欠陥構造の少ない良質の酸化膜の形成が可能であることなどが紹介されている。 These are examples using ozone gas with a relatively low concentration of about 10%, but by using ozone gas with a relatively high concentration of 80% or more, there is a possibility of a new application that could not be considered by conventional ozone gas usage. Has begun to be pointed out. As an example, there is an oxide film formation of a Si semiconductor disclosed in JP-A-8-335576. According to this publication, it is possible to form an oxide film at a relatively low temperature, which is impossible with the conventional thermal oxidation method, and to form a high-quality oxide film with less suboxide layer and defect structure. Has been.
ところで、オゾンガスの生成には一般に無声放電方式が用いられる。これは放電により酸素ガスからオゾンと酸素の混合ガスを発生させるもので、発生効率の限度と爆発の危険性のため、常温常圧下で約10体積%以上のオゾンガスを生成することは困難であった。 By the way, a silent discharge system is generally used to generate ozone gas. This generates a mixed gas of ozone and oxygen from oxygen gas by electric discharge. Due to the limit of generation efficiency and danger of explosion, it is difficult to generate ozone gas of about 10% by volume or more under normal temperature and pressure. It was.
そこで、発生したオゾンガスを一旦液化貯蔵して、その後に気化させることにより80%以上の高濃度オゾンガスを生成する方法が特許文献1で紹介されている。この方法について図4に示す液体オゾン製造装置で説明する。
Therefore,
この液体オゾンの製造装置は、オゾンガス発生装置及び排気装置1の部分とオゾンを液化する液体オゾン生成装置2から構成されている。酸素ボンベ3から圧力調整バルブ4を介して酸素ガスがオゾナイザ5に送られる。オゾナイザ5では酸素ガスは無声放電により酸素にオゾンガスが混合されたオゾン含有酸素ガスとなり、流量を制御するためのマスフローコントローラ6及びオゾン含有ガス中の微粒子を除去するための微粒子除去フィルタ7を通ってオゾンガスを液化する液体オゾン生成装置2に導入される。
This apparatus for producing liquid ozone is composed of an ozone gas generator and an
液体オゾン生成装置2では、図5にその詳細を示すように、オゾンガス発生装置1から導入された酸素ガスにオゾンガスが混合されたオゾン含有酸素ガスが、流量調整バルブ8とオゾン含有酸素ガス導入管25を介してオゾンチャンバ9に導入される。オゾンチャンバ9は、あらかじめコンプレッサ21で駆動されている冷凍機20により冷却されているコールドヘッド19に熱的に結合されており、温度センサ24とヒータ23及び温度制御装置22により0.1K以内の温度精度で精密に温度を制御可能であり、80K〜100Kの低温度に保たれている。
In the liquid ozone generator 2, as shown in detail in FIG. 5, the ozone-containing oxygen gas obtained by mixing the ozone gas with the oxygen gas introduced from the
オゾンガスの液化の原理は、オゾンと酸素の蒸気圧の差によってオゾンガスだけを液化するものである。例えば、1気圧のもとではオゾンは161Kの沸点であるが、酸素は90Kの沸点を有する。したがって、90K以上161K未満の温度に冷却すれば、オゾンは大部分が液体、酸素は大部分が気体状態となるのでオゾンだけを液体として分離できる。 The principle of liquefaction of ozone gas is to liquefy only ozone gas by the difference in vapor pressure between ozone and oxygen. For example, at 1 atmosphere, ozone has a boiling point of 161K, while oxygen has a boiling point of 90K. Therefore, if it is cooled to a temperature of 90K or more and less than 161K, most of ozone is in a liquid state and most of oxygen is in a gaseous state, so that only ozone can be separated as a liquid.
実際には高濃度オゾンの爆発性に対する安全上から減圧条件で取り扱うので、その際の温度と圧力条件下でのオゾンと酸素の蒸気圧の差で分離条件が決まる。例えば、温度90Kで圧力10mmHg(=13.3hPa)の場合を考えると、90Kではオゾンの蒸気圧はほぼ0mmHg(=0Pa)だが、酸素は約690mmHg(=918hPa)となりオゾンだけがこの条件下で液化される。 Actually, since it is handled under reduced pressure conditions for safety against explosive properties of high-concentration ozone, the separation conditions are determined by the difference between the vapor pressures of ozone and oxygen under the temperature and pressure conditions. For example, when considering a case where the temperature is 90K and the pressure is 10 mmHg (= 13.3 hPa), the vapor pressure of ozone is almost 0 mmHg (= 0 Pa) at 90K, but oxygen is about 690 mmHg (= 918 hPa), and only ozone is under this condition. Liquefied.
オゾンチャンバ9ではこのように、冷却された温度でのオゾンと酸素の蒸気圧の差によってオゾンガスだけを液化する。オゾンガスを液化する時は、酸化処理容器16との間のバルブ15を閉じ、オゾンキラー11につながるバルブ10を開いた状態とする。オゾンチャンバ9に接続されたオゾン排出管26とバルブ10を通った液化されない酸素ガスは、若干残留するオゾンガスを外部へ排出させないよう加熱して酸素に変えるオゾンキラー11に導入され、オゾンキラー11で加熱された酸素ガスを冷却するためのガス冷却器12と、真空ポンプ14からの炭化物などによるオゾンチャンバ9への汚染や混入を防ぐための液体窒素トラップ13を経て真空ポンプ14により外部へ排出される。
Thus, in the
液化された液体オゾン27を酸化処理容器16内で酸化等の使用目的に利用する時は、流量調整バルブ8及びバルブ10を閉じ、バルブ15を開く。温度センサ24とヒータ23及び温度制御装置22によりコールドヘッド19に熱的に結合されたオゾンチャンバ9の温度を上昇させることにより、液体オゾンを気化しオゾンガスとしてオゾン排出管26とバルブ15を介して酸化処理容器16内に導入される。また、安全弁18は液体オゾン若しくは高濃度のオゾンガスが爆発性を有するので、万一の場合破壊してガスを排出するためのものである。
When the liquefied
そして、特許文献2では、複数のオゾンチャンバを並列接続して、高濃度オゾンガスの連続供給を可能にしている。 In Patent Document 2, a plurality of ozone chambers are connected in parallel to enable continuous supply of high-concentration ozone gas.
液体オゾンを使用したオゾン発生装置では、液体オゾンの純度が高く、そこから発生するオゾンガス濃度は100%に近い濃度となる。一般的に、高濃度オゾンガスは急速な自己分解反応を起こし、爆発を生じるおそれがある。 In an ozone generator using liquid ozone, the purity of liquid ozone is high, and the concentration of ozone gas generated therefrom is close to 100%. In general, high-concentration ozone gas causes a rapid self-decomposition reaction and may cause an explosion.
そこで、現在のオゾン発生装置では、オゾン爆発の発生を抑制するために、気化したオゾンガスの圧力が10000Pa以下となるようにオゾンチャンバの温度制御を行っている。 Therefore, in the present ozone generator, in order to suppress the occurrence of ozone explosion, the temperature of the ozone chamber is controlled so that the pressure of the vaporized ozone gas is 10000 Pa or less.
しかしながら、このようなオゾン発生装置では、プロセス装置へオゾンガスを供給する際の圧力が制限を受ける。したがって、オゾンガスを大量供給する際には供給配管部での圧力損失により十分な供給量が得られない問題が生じる。 However, in such an ozone generator, the pressure when supplying ozone gas to the process device is limited. Therefore, when supplying a large amount of ozone gas, there arises a problem that a sufficient supply amount cannot be obtained due to a pressure loss in the supply piping section.
また、実行するプロセスによっては、100%近い濃度のオゾンガスは反応性が高すぎるため、オゾンガスを希釈して使用する場合がある。高濃度オゾンガスを希釈する方法としては、図6のようにマスフローコントローラ44で流量制御した希釈ガスと混合チャンバ51内で混合する方法がある。
In addition, depending on the process to be performed, ozone gas having a concentration of nearly 100% is too reactive, so the ozone gas may be diluted before use. As a method of diluting the high-concentration ozone gas, there is a method of mixing in the
しかしながら、オゾンチャンバ9と混合チャンバ51との間に、バルブ47、フィルタ48等のコンダクタンス特性を持つ配管部分が入ることで、希釈ガス量が変化した場合にオゾンチャンバ9と混合チャンバ51間のコンダクタンス特性が変化してしまう。この場合、高濃度オゾンガス流量が変動し、正しい希釈量での高濃度オゾンガス供給が難しくなる。
However, when a pipe portion having conductance characteristics such as a
したがって、本発明は、供給ガス量が変化しても正確な濃度の高濃度オゾンガスを供給することができる高濃度オゾン供給方法及び、オゾン蓄積用ベッセルを提供することを目的としている。 Therefore, an object of the present invention is to provide a high-concentration ozone supply method and an ozone storage vessel that can supply high-concentration ozone gas with an accurate concentration even if the amount of supply gas changes.
上記目的を達成する本発明の高濃度オゾン供給方法は、高濃度オゾンを蓄積するベッセル内に、オゾンを希釈する空間を備えることによりオゾン供給量にかかわらず、反応に必要なオゾン濃度を正確に供給することができるものである。 The high-concentration ozone supply method of the present invention that achieves the above object provides the ozone concentration necessary for the reaction accurately regardless of the amount of ozone supply by providing a space for diluting ozone in the vessel that accumulates high-concentration ozone. It can be supplied.
本発明の高濃度オゾン供給方法は、液化したオゾン蓄積するオゾンチャンバを有し、前記オゾンチャンバに蓄積された液体のオゾンを気化して高濃度オゾンガスを発生させる液体オゾン蓄積用ベッセルにおいて、前記オゾンチャンバから排出されるガスに含まれる微粒子を除去するためのフィルタは筒状であり、前記フィルタの上端が、前記チャンバの天井面に、前記フィルタの下端が、前記チャンバの底面にそれぞれ接続し、発生させた高濃度オゾンガスを排出するため配管をフィルタの中空部と連通させ、前記フィルタの中空部に希釈ガスを導入することにより、前記オゾンガスを希釈し、前記希釈したガスを前記ベッセルの外部に備えられた装置に供給することを特徴とする。 The high-concentration ozone supply method of the present invention includes a ozone chamber for accumulating liquefied ozone, and a liquid ozone accumulating vessel that generates high-concentration ozone gas by vaporizing liquid ozone accumulated in the ozone chamber. The filter for removing particulates contained in the gas discharged from the chamber is cylindrical, the upper end of the filter is connected to the ceiling surface of the chamber, and the lower end of the filter is connected to the bottom surface of the chamber , is communicated hollow part and the communicating of the filter pipe for discharging the high-concentration ozone gas is generated by introducing a diluent gas into the hollow portion of the front Symbol filter, it diluted the ozone gas, the diluted gas in the vessel It supplies to the apparatus provided outside.
前記の高濃度オゾン供給方法において、前記チャンバの蓋部に、前記オゾンチャンバに導入されるガス中の微粒子を除去するための第2のフィルタを一体に備えると、外部からの液体オゾン蓄積用ベッセルへの微粒子の侵入を防止することができる。 In the high-concentration ozone supply method, when a second filter for removing particulates in the gas introduced into the ozone chamber is integrally provided on the lid of the chamber, a vessel for accumulating liquid ozone from the outside is provided. It is possible to prevent fine particles from penetrating into the body.
さらに、前記の高濃度オゾン供給方法において、前記筒状のフィルタの下端に、前記液化したオゾン透過を防止するための液体オゾン透過防止部材を備えると、液体オゾンがガスを希釈部に透過することを防止できる。 Furthermore, in the high-concentration ozone supply method, when the liquid ozone permeation preventing member for preventing the liquefied ozone permeation is provided at the lower end of the cylindrical filter, the liquid ozone permeates the gas to the dilution part. Can be prevented.
本発明の液体オゾン蓄積用ベッセルは、液化したオゾンを蓄積するオゾンチャンバを有し、前記オゾンチャンバに蓄積された液体のオゾンを気化して高濃度オゾンガスを発生させる液体オゾン蓄積用ベッセルであって、前記オゾンチャンバ内に、筒状のフィルタを、前記フィルタの上端が、前記チャンバの天井面に、前記フィルタの下端が、前記チャンバの底面に接続するように備え、前記フィルタの中空部に希釈ガスを導入するための希釈ガス供給手段を前記チャンバの底部に備えたことを特徴とする。 Liquid ozone storage vessel of the present invention has an ozone chamber for storing liquefied ozone, the ozone stored liquid a vaporized high-concentration liquid ozone storage vessel to the ozone gas generating in the ozone chamber In the ozone chamber, a cylindrical filter is prepared so that the upper end of the filter is connected to the ceiling surface of the chamber and the lower end of the filter is connected to the bottom surface of the chamber, and diluted in the hollow portion of the filter. A dilution gas supply means for introducing a gas is provided at the bottom of the chamber.
以上の高濃度オゾン供給方法及び液体オゾン蓄積用ベッセルによれば、液体オゾン蓄積用ベッセル内で高濃度ガスを希釈することができる。 According to the high concentration ozone supply method and the liquid ozone storage vessel described above, the high concentration gas can be diluted in the liquid ozone storage vessel.
したがって、以上の発明によれば、供給ガス量が変化しても正確な濃度の高濃度オゾンガスを供給できる。 Therefore, according to the above invention, it is possible to supply high-concentration ozone gas having an accurate concentration even if the supply gas amount changes.
本発明の第1実施形態に係る高濃度オゾン供給方法について、図1及び図2を参照して説明する。 A high-concentration ozone supply method according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
図1(a)は、本発明の第1実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセルの構成を示す断面図であり、図1(b)は、本発明の第1実施形態に係るオゾン蓄積装置によるオゾン希釈方法を示す装置断面図であり、図2は、本発明の第1実施形態に係るオゾン希釈制御方法を示す概略図である。 FIG. 1A is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid ozone storage vessel according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is an ozone storage device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is an apparatus cross-sectional view showing an ozone dilution method, and FIG. 2 is a schematic view showing an ozone dilution control method according to the first embodiment of the present invention.
図1(a)に示すように、第1実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル30は、液体オゾンを蓄積するオゾンチャンバ31、オゾンガスを含有するガスが供給されるガス導入管32、オゾン含有ガスに含まれるその他のガス(例えば酸素)や高濃度のオゾンガスが排出されるガス排出管33及び、希釈ガス導入管43を備えている。
As shown in FIG. 1A, a liquid
オゾンチャンバ内には、外部に供されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタ35が備えられる。このフィルタ35を介して、蓄積されたオゾンが外部装置(図示省略)に供給される。
In the ozone chamber, a
フィルタ35は、例えば円筒形であり、フィルタ35の上端がオゾンチャンバ31の天井面に、フィルタ35の下端がオゾンチャンバ31の底面に接続されることで、オゾンチャンバ31内において液体オゾン貯留部(フィルタ35の外周部)41とオゾン排気部(フィルタ35の中空部)42が形成される。液体オゾン貯留部41はガス導入管32と連通し、オゾン排気部42はガス排出管33と連通している。
The
このとき、フィルタ35の上端及にはフッ素樹脂シール36が備えられ、フィルタ35の下端には液体オゾン透過防止部材40が備えられる。
At this time, a
フッ素樹脂シール36は、フィルタ35を透過せずにオゾン排気部42と液体オゾン貯留部41間でのガス移動を防止する。
The
液体オゾン透過防止部材40の材質はフッ素樹脂等であり、透過防止部材40の形状は、例えば円筒状とすればよい。液体オゾン透過防止部材40の高さは、蓄積する液体オゾンの高さよりも高く設定する。
The material of the liquid ozone
希釈ガス導入管43は、オゾンチャンバ31の底部に備えられる。そして、希釈ガス導入管43より、ガス排気部42に高濃度オゾンガスを希釈するための希釈ガスが導入される。
The dilution
そして、オゾンチャンバ31底部の外周部には、冷却ブロック37が備えられる。液体オゾンを蓄積する場合、冷却ブロック37が、例えば、ヘリウム冷凍機等でオゾンチャンバ31を冷却する等の手段により、オゾンチャンバ31をオゾンガスのみが液化する温度に設定する。そして、オゾンを供給する場合には、冷却ブロック37により、液体オゾンが気化する温度にオゾンチャンバ31の温度が制御される。
A
先ず、本発明に係るオゾン蓄積用ベッセル30が液体オゾンを蓄積する場合について説明する。
First, the case where the
オゾンガス発生装置(図示省略)より供給されるオゾン含有ガス(オゾン濃度10数%)は、ガス導入管32よりオゾンチャンバ31に導入される。
An ozone-containing gas (ozone concentration of 10% or more) supplied from an ozone gas generator (not shown) is introduced into the
オゾンチャンバ31の底部は、冷却ブロック37により冷却されており、オゾンチャンバ31内にはオゾンガスのみが液化し、液体オゾンが蓄積される。残りのガス(例えば、酸素ガス)は、フィルタ35を透過してガス排気部42に入り、ガス排出管33から液体オゾン蓄積用ベッセル30の外部へ排出される。このようにして、液体オゾン蓄積用ベッセル30内に液体オゾンが蓄積される。
The bottom of the
次に、高濃度オゾンガスを希釈する方法について、図1(b)を参照して説明する。 Next, a method for diluting the high-concentration ozone gas will be described with reference to FIG.
図1(b)に示すように、希釈ガス導入管43より希釈ガスが導入される。希釈ガスは、ガス排気部42で高濃度オゾンガスと混合され、希釈されたオゾンガスが蓄積用ベッセル30からプロセスチャンバ(図示省略)に供給される。このとき、冷却ブロック37が、オゾンチャンバ31内の温度を液体オゾンが気化する温度となるように温度制御し、液体オゾン39はオゾンガスとして供給される。
As shown in FIG. 1 (b), the dilution gas is introduced from the dilution
すなわち、液体オゾン39が気化し、液体オゾン貯留部41に高濃度のオゾンガスが蓄積される。液体オゾン貯留部41の高濃度オゾンガスは、真空排気により、フィルタ35を透過してガス排気部42に入り、希釈ガスと混合され、ガス排出管33を介して液体オゾン蓄積用ベッセル30から外部装置(図示省略)へ供給される。
That is, the
さらに、高濃度オゾンガスを希釈制御する方法について図2を参照して詳細に説明する。 Further, a method for controlling dilution of high-concentration ozone gas will be described in detail with reference to FIG.
図2で示すように、液体オゾン蓄積用チャンバ30に希釈ガスを導入する希釈ガス導入管43には、希釈用酸素ガス量を調節するためのマスフローコントローラ44が備えられる。そして、液体オゾン蓄積用チャンバ30には、ガスフィルタ48及び流量調整バルブ47を介してプロセスチャンバ49が接続される。また、オゾン蓄積用ベッセル30とガスフィルタ48の間にはオゾンチャンバ真空計45が備えられ、ガスフィルタ48と流量調整バルブ47の間には供給ライン真空計46がそれぞれ、備えられる。
As shown in FIG. 2, the dilution
マスフローコントローラ44により、プロセスチャンバ49での反応に必要な流量の希釈ガスを流し、その時のオゾンチャンバ圧を真空計45で計測する。そして、希釈ガスをプロセスチャンバ49の反応に必要な濃度に相当する流量まで下げると同時に、オゾンチャンバ30温度を調節して液体オゾンから気化するオゾン量を変化させ、オゾンチャンバ30の圧力が最初に測定した圧力となるように調節する。
A dilution gas having a flow rate necessary for the reaction in the
このように、高濃度オゾン発生部と希釈ガスの混合部が最短で接続されているので、コンダクタンス特性の変動が少なく、高濃度オゾンガスを反応に必要な濃度に正確に希釈することができる。よって、正確な濃度のオゾンガス供給を行うことができる。 As described above, since the high-concentration ozone generation unit and the mixing unit of the dilution gas are connected in the shortest distance, the variation in conductance characteristics is small, and the high-concentration ozone gas can be accurately diluted to a concentration necessary for the reaction. Therefore, ozone gas with an accurate concentration can be supplied.
以上のように、第1実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル30は、蓄積用ベッセル30内で高濃度オゾンを希釈して、希釈したオゾンガスを供給することができる。
As described above, the liquid
したがって、供給ガス量が変化しても正確な濃度の高濃度オゾンガスを供給することができる。 Therefore, even if the supply gas amount changes, it is possible to supply high-concentration ozone gas having an accurate concentration.
また、希釈ガスが直接液体オゾン部に吹き付けられることがないので、オゾンチャンバ31内で安全にガスの希釈が行える。
In addition, since the dilution gas is not sprayed directly on the liquid ozone part, the gas can be diluted safely in the
さらに、オゾン蓄積用チャンバ31内でオゾンガスを希釈できるので、外部に混合チャンバを設置する必要がなくなる。
Furthermore, since ozone gas can be diluted in the
故に、高濃度オゾン供給装置の安全性の向上、高濃度オゾン供給装置の小型化、及び正確な濃度のオゾンを供給することができる。 Therefore, it is possible to improve the safety of the high-concentration ozone supply device, reduce the size of the high-concentration ozone supply device, and supply ozone with an accurate concentration.
次に、本発明の第1実施形態に係るオゾン蓄積ベッセルを改良したオゾン蓄積用ベッセルについて、図3を参照して説明する。 Next, an ozone storage vessel obtained by improving the ozone storage vessel according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
図3は、本発明の第1実施形態に係るオゾン蓄積用ベッセルを改良したオゾン蓄積用ベッセル50の構成を示す装置断面図である。
FIG. 3 is an apparatus cross-sectional view showing a configuration of an
図3に示すように、このオゾン蓄積用ベッセル50は導入ガス中の微粒子を除去するためのフィルタ34をオゾンチャンバ31の蓋部38内のガス導入管部分に内蔵するように備える。
As shown in FIG. 3, the
このような構成により、蓄積用ベッセル50の導入ガス中の微粒子が、チャンバ内に侵入することを防止できるので蓄積用ベッセル50の安全性が向上する。
With such a configuration, it is possible to prevent fine particles in the gas introduced into the
すなわち、ガス導入管32及びフィルタ34を蓄積用ベッセル50の蓋部38と一体に備えることで、外部配管(図示省略)にフィルタを備える必要がなくなり、蓄積用ベッセル50を複数個並列接続する場合の接続配管を単純化することができる。
That is, by providing the
そして、接続配管が単純化することにより、配管内のデッドスペースが減少し、管内面での腐食が発生しにくくなる。すなわち、オゾンガスへの不純物の混入が減少する。 Further, by simplifying the connecting pipe, the dead space in the pipe is reduced, and corrosion on the inner surface of the pipe is less likely to occur. That is, contamination of impurities into ozone gas is reduced.
したがって、高濃度オゾン供給装置を小型化するとともに高濃度オゾンガス供給装置の安全性を向上することができる。 Therefore, it is possible to reduce the size of the high concentration ozone supply device and improve the safety of the high concentration ozone gas supply device.
30、50…液体オゾン蓄積用ベッセル
31…オゾンチャンバ
33…気体出口
34、35…フィルタ
38…蓋部
40…液体オゾン透過防止部材
43…希釈ガス導入管(希釈ガス供給手段)
44…マスフローコントローラ
49…プロセスチャンバ
30, 50 ...
44 ...
Claims (4)
前記オゾンチャンバに蓄積された液体のオゾンを気化して高濃度オゾンガスを発生させる液体オゾン蓄積用ベッセルにおいて、
前記オゾンチャンバから排出されるガスに含まれる微粒子を除去するためのフィルタは筒状であり、
前記フィルタの上端が、前記チャンバの天井面に、
また、前記フィルタの下端が、前記チャンバの底面にそれぞれ接続し、
さらに、発生させた高濃度オゾンガスを排出するため配管を前記フィルタの中空部と連通させ、
前記フィルタの中空部に希釈ガスを導入することにより、前記オゾンガスを希釈し、
前記希釈したガスを前記ベッセルの外部に備えられた装置に供給する
ことを特徴とする高濃度オゾン供給方法。 It has an ozone chamber that accumulates liquefied ozone ,
In a liquid ozone storage vessel that generates high-concentration ozone gas by vaporizing liquid ozone stored in the ozone chamber ,
The filter for removing fine particles contained in the gas discharged from the ozone chamber is cylindrical,
The upper end of the filter is on the ceiling surface of the chamber,
Further, the lower end of the filter is connected to the bottom surface of the chamber,
Furthermore, in order to discharge the generated high-concentration ozone gas, the piping is communicated with the hollow portion of the filter ,
By introducing a diluent gas into the hollow portion of the front Symbol filter, it diluted the ozone gas,
A method for supplying high-concentration ozone, comprising supplying the diluted gas to an apparatus provided outside the vessel.
ことを特徴とする請求項1に記載の高濃度オゾン供給方法。 The high-concentration ozone supply method according to claim 1, wherein a second filter for removing particulates in the gas introduced into the ozone chamber is integrally provided on the lid of the chamber.
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の高濃度オゾン供給方法。 3. The high-concentration ozone supply method according to claim 1, wherein a liquid ozone permeation preventing member for preventing the liquefied ozone permeation is provided at a lower end of the cylindrical filter.
前記オゾンチャンバに蓄積された液体のオゾンを気化して高濃度オゾンガスを発生させる液体オゾン蓄積用ベッセルであって、
前記オゾンチャンバ内に、筒状のフィルタを、前記フィルタの上端が、前記チャンバの天井面に、前記フィルタの下端が、前記チャンバの底面に接続するように備え、
前記フィルタの中空部に希釈ガスを導入するための希釈ガス供給手段を前記チャンバの底部に備えた
ことを特徴とする液体オゾン蓄積用ベッセル。 It has an ozone chamber that accumulates liquefied ozone ,
The ozone accumulated liquid into the ozone chamber and vaporized a high concentration ozone gas liquid ozone storage vessel for generating,
In the ozone chamber, a cylindrical filter is provided so that the upper end of the filter is connected to the ceiling surface of the chamber, and the lower end of the filter is connected to the bottom surface of the chamber,
A vessel for accumulating liquid ozone, characterized in that dilution gas supply means for introducing a dilution gas into the hollow portion of the filter is provided at the bottom of the chamber.
Priority Applications (1)
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