JP5432461B2 - Vertical furnace equipment - Google Patents
Vertical furnace equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP5432461B2 JP5432461B2 JP2008059569A JP2008059569A JP5432461B2 JP 5432461 B2 JP5432461 B2 JP 5432461B2 JP 2008059569 A JP2008059569 A JP 2008059569A JP 2008059569 A JP2008059569 A JP 2008059569A JP 5432461 B2 JP5432461 B2 JP 5432461B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heater
- process tube
- heat insulating
- tube
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
この発明は、複数枚のシリコン基板やガラス基板を、鉛直方向に沿って多段に配置して熱処理を行う縦型炉装置に関する。 The present invention relates to a vertical furnace apparatus in which a plurality of silicon substrates and glass substrates are arranged in multiple stages along a vertical direction to perform heat treatment.
半導体の製造工程には、シリコン基板やガラス基板等の基板を高温で加熱する熱処理が含まれる。基板に対して熱処理を施す装置として、複数枚の基板を鉛直方向に多段に配置して収納する縦型炉装置が用いられる。縦型炉装置は、所定の処理雰囲気中で複数枚の基板を収納するプロセスチューブの周囲にプロセスチューブ内を加熱するヒータを配置し、プロセスチューブとヒータとの間に均熱化のためのライナー管を配置している。プロセスチューブは底面が開閉自在にされており、縦型炉装置の底面を炉口として、複数枚の基板がプロセスチューブの内部に搬入出される。 The semiconductor manufacturing process includes a heat treatment for heating a substrate such as a silicon substrate or a glass substrate at a high temperature. As an apparatus for performing heat treatment on a substrate, a vertical furnace apparatus that stores a plurality of substrates arranged in multiple stages in the vertical direction is used. In the vertical furnace apparatus, a heater for heating the inside of the process tube is arranged around the process tube containing a plurality of substrates in a predetermined processing atmosphere, and a liner for temperature equalization is provided between the process tube and the heater. A tube is placed. The process tube is openable and closable at the bottom, and a plurality of substrates are carried into and out of the process tube using the bottom of the vertical furnace as the furnace port.
縦型炉装置の炉口の下方には熱処理前後の基板が出し入れされるが、熱処理前後の基板にヒータの熱が作用すると、適正な熱処理を施すことができない。また、ヒータの熱が外部に漏れると、プロセスチューブ内の温度を効率よく所定の処理温度に維持することが困難になるだけでなく、環境温度の上昇によって作業性が低下する。 The substrate before and after the heat treatment is put in and out of the furnace port of the vertical furnace apparatus. However, if the heat of the heater acts on the substrate before and after the heat treatment, an appropriate heat treatment cannot be performed. Further, when the heat of the heater leaks to the outside, it becomes difficult to efficiently maintain the temperature in the process tube at a predetermined processing temperature, and workability is reduced due to an increase in environmental temperature.
そこで、縦型炉装置の炉口廻りには、ヒータとプロセスチューブとの間隙からの熱の漏出を防止すべく、耐熱断熱部材が配置されている。従来の縦型炉装置の炉口廻りに配置される耐熱断熱部材は、シリカ繊維やシリカ系セラミックファイバ等を素材として構成されている(例えば、特許文献1参照。)。
しかし、従来の縦型炉装置は、炉口廻りの耐熱断熱部材としてシリカ繊維やシリカ系セラミックファイバ等を素材として用いていたため、数百℃程度の温度下での経時変化によって繊維が剥離し、炉口廻りの断熱性が損なわれるとともに、炉口廻りや処理前後の基板を汚損する問題がある。また、同様の理由により、従来の縦型炉装置は、炉口廻りの温度が1000℃以上となるような熱処理に使用することができない問題があった。これは、非晶質であるシリカやシリカ系セラミックは、結晶化温度が比較的低く、熱処理時における炉口廻りの温度で結晶化して脆くなるためと考えられる。 However, since the conventional vertical furnace apparatus used silica fiber or silica-based ceramic fiber as a heat-resistant heat insulating member around the furnace port, the fiber peels off due to changes over time at a temperature of about several hundred degrees Celsius, In addition to impairing the heat insulating properties around the furnace port, there are problems of fouling the substrate around the furnace port and before and after processing. For the same reason, the conventional vertical furnace apparatus has a problem that it cannot be used for heat treatment such that the temperature around the furnace port becomes 1000 ° C. or higher. This is presumably because amorphous silica or silica-based ceramic has a relatively low crystallization temperature, and crystallizes and becomes brittle at the temperature around the furnace opening during heat treatment.
この発明の目的は、炉口廻りの形状及び高耐熱断熱部材の材質を適正にすることにより、炉口廻りからの熱の漏出を確実に防止するとともに、熱処理時の炉口廻りの温度下で高耐熱断熱部材からの繊維の剥離を防止し、炉口廻りの高温化や汚損を生じることがなく、炉口廻りの温度が1000℃以上となるような熱処理にも使用することができる縦型炉装置を提供することにある。 The object of the present invention is to prevent leakage of heat from around the furnace port by making the shape around the furnace port and the material of the high heat-resistant heat insulating member appropriate, and at the temperature around the furnace port during heat treatment. Vertical type that can be used for heat treatment that prevents the fiber from peeling from the high heat-resistant heat insulating member, does not cause high temperature and fouling around the furnace opening, and the temperature around the furnace opening becomes 1000 ° C or higher. It is to provide a furnace apparatus.
この発明に係る縦型炉装置は、プロセスチューブ、ヒータ、ライナー管、支持体、少なくとも1つの高耐熱断熱部材を備えている。プロセスチューブは、底面が開放した筒状を呈する。ヒータは、プロセスチューブの下端部を除く周囲を間隙を設けて包囲する。ライナー管は、ヒータ及びプロセスチューブの間に配置される。支持体は、プロセスチューブが貫通する孔部を有し、プロセスチューブの上下方向の中間部、ヒータの下端部及びライナー管の下端部を支持する。高耐熱断熱部材は、SiCの長繊維で構成された環状体であり、それぞれ半円弧状を呈する2分割に構成され、プロセスチューブ、ヒータ及びライナー管からの支持体に対する熱伝導を抑制する。
ヒータは下端部に断熱部を有し、ライナー管の下端部を保持する保持部材をさらに備え、高耐熱断熱部材は、断熱部の内周面、保持部材の外周面及び支持体の上面の間に配置される第1の高耐熱断熱部材を含む。プロセスチューブは、外周面における上下方向の中間部にフランジ部を有し、高耐熱断熱部材は、フランジ部と前記支持体の底面との間に配置される第2の高耐熱断熱部材を含む。支持体は、フランジ部を上下に挟むヒータベース及びスカートを備え、第2の高耐熱断熱部材は、ヒータベースの底面とフランジ部の上面との間に配置される部材と、フランジ部の底面とスカートの上面との間に配置される部材と、からなる。
The vertical furnace apparatus according to the present invention includes a process tube, a heater, a liner tube, a support, and at least one high heat resistant heat insulating member. The process tube has a cylindrical shape with an open bottom. The heater surrounds the periphery of the process tube except the lower end with a gap. The liner tube is disposed between the heater and the process tube. The support has a hole through which the process tube passes, and supports the intermediate portion in the vertical direction of the process tube, the lower end of the heater, and the lower end of the liner tube. The high heat-resistant heat insulating member is an annular body made of SiC long fibers and is divided into two parts each having a semicircular arc shape, and suppresses heat conduction from the process tube, the heater, and the liner tube to the support.
The heater has a heat insulating portion at the lower end portion, and further includes a holding member that holds the lower end portion of the liner tube, and the high heat resistant heat insulating member is between the inner peripheral surface of the heat insulating portion, the outer peripheral surface of the holding member, and the upper surface of the support. Including a first high heat-resistant heat insulating member. The process tube has a flange portion at an intermediate portion in the vertical direction on the outer peripheral surface, and the high heat resistant heat insulating member includes a second high heat resistant heat insulating member disposed between the flange portion and the bottom surface of the support. The support includes a heater base and a skirt that sandwich the flange portion up and down, and the second high heat-resistant heat insulating member includes a member disposed between the bottom surface of the heater base and the top surface of the flange portion, a bottom surface of the flange portion, And a member disposed between the upper surface of the skirt.
この構成では、プロセスチューブの上下方向の中間部、ヒータの下端部及びライナー管の下端部を支持する支持体に対するプロセスチューブ、ヒータ及びライナー管からの熱伝導が、SiCの長繊維で構成された環状体の高耐熱断熱部材によって抑制される。SiCの結晶化温度は、熱処理時にプロセスチューブ、ヒータ及びライナー管から熱伝導を受ける支持体の温度に比較して十分に高い。したがって、高耐熱断熱部材は経時変化によって脆化せず、可撓性を失うこともないため、高耐熱断熱部材から繊維が剥離することがなく、炉口廻りの断熱性が維持されるとともに、炉口廻りや処理前後の基板を汚損することがない。 In this configuration, the heat conduction from the process tube, the heater, and the liner tube to the support that supports the intermediate portion in the vertical direction of the process tube, the lower end portion of the heater, and the lower end portion of the liner tube is composed of SiC long fibers. It is suppressed by the high heat resistant heat insulating member of the annular body. The crystallization temperature of SiC is sufficiently higher than the temperature of the support that receives heat conduction from the process tube, heater, and liner tube during heat treatment. Therefore, the high heat-resistant heat insulating member does not become brittle due to changes over time and does not lose flexibility, so that the fibers do not peel from the high heat-resistant heat insulating member, and the heat insulating property around the furnace port is maintained, The substrate around the furnace opening and the substrate before and after processing are not soiled.
この構成では、ヒータは下端部に断熱部を有し、ライナー管の下端部を保持する保持部材を備えており、高耐熱断熱部材を断熱部の内周面、保持部材の外周面及び支持体の上面の間に配置している。 In this configuration, the heater have a heat insulating portion at the lower end portion provided with a holding member for holding the lower end of the liner tube, the inner circumferential surface of the heat insulating portion of high heat insulation member, the outer peripheral surface of the holding member and the support It is arranged between the upper surfaces.
高耐熱断熱部材によってヒータの断熱部とライナー管の保持部材との間に生じた隙間を確実に閉塞でき、ヒータとプロセスチューブとの間の間隙から支持体への熱伝導を抑制することができる。 The high heat-resistant heat insulating member can reliably close the gap generated between the heat insulating portion of the heater and the holding member of the liner tube, and heat conduction from the gap between the heater and the process tube to the support can be suppressed. .
また、プロセスチューブは外周面における上下方向の中間部にフランジ部を有し、支持体は、フランジ部を上下に挟むヒータベース及びスカートを備え、高耐熱断熱部材を、ヒータベースの底面とフランジ部の上面との間、及びフランジ部の底面とスカートの上面との間に配置しているため、プロセスチューブから支持体への熱伝導を抑制することができる。 Further, the process tube have a flange portion in an intermediate portion in the vertical direction of the outer peripheral surface, the support is provided with a heater base and skirt to sandwich the flange portion up and down, a high temperature insulation member, a heater base bottom and the flange portion between the upper surface of, and because of the arrangement between the bottom and the upper surface of the skirt of the flange portion, it is possible to suppress the heat conduction to the support from the process tube.
この発明によれば、炉口廻りの形状及び耐熱断熱部材の材質を適正にすることができ、炉口廻りからの熱の漏出を確実に防止するとともに、熱処理時の炉口廻りの温度下で耐熱断熱部材からの繊維の剥離を防止できる。これによって、炉口廻りの高温化や汚損を生じることがなく、炉口廻りの温度が1000℃以上となるような熱処理にも使用することができる。 According to the present invention, the shape around the furnace port and the material of the heat-resistant heat insulating member can be made appropriate, and it is possible to reliably prevent the leakage of heat from around the furnace port and at the temperature around the furnace port during heat treatment. It is possible to prevent the fibers from peeling from the heat-resistant and heat-insulating member. As a result, the temperature around the furnace port does not increase and fouling occurs, and it can be used for heat treatment where the temperature around the furnace port becomes 1000 ° C. or higher.
図1は、この発明の実施形態に係る縦型炉装置の概略の断面図である。縦型炉装置10は、プロセスチューブ1、ヒータ2、ライナー管3、支持体4を備えている。縦型炉装置10の下方には、基板の搬入出部が形成されている。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a vertical furnace apparatus according to an embodiment of the present invention. The
プロセスチューブ1は、例えば、石英を素材として底面が開放した円筒形状を呈する。プロセスチューブ1の外周面における上下方向の中間部には、フランジ部11が形成されている。プロセスチューブ1の内部には、底面の炉口から複数枚の基板を鉛直方向に多段に配置したボートが搬入出される。
The
ヒータ2は、プロセスチューブ1の下端部を除く周囲を間隙を設けて包囲する。したがって、ヒータ2も底面が開放した円筒形状を呈する。ヒータ2は、プロセスチューブ1の内部温度が所定の処理温度となるように駆動される。
The
ライナー管3は、プロセスチューブ1とヒータ2との管に配置されている。したがって、ライナー管3も底面が開放した円筒形状を呈する。ライナー管3は、ヒータ2からの熱がプロセスチューブ1の下端部を除く部分の外表面に均一に作用させる。
The liner tube 3 is disposed on the tube of the
支持体4は、プロセスチューブ1、ヒータ2、ライナー管3を支持する。支持体4には、孔部41が形成されている。孔部41には、プロセスチューブ1が下方から貫通する。支持体4は、上面においてヒータ2の下端部及びライナー管3の下端部を支持する。支持体4は、プロセスチューブ1のフランジ部11を底面において支持する。
The support 4 supports the
図2は、上記縦型炉装置の炉口廻りの断面図である。同図は、要部を除いてハッチングを省略している。 FIG. 2 is a sectional view around the furnace port of the vertical furnace apparatus. In the figure, hatching is omitted except for the main part.
支持体4は、フレーム42、ヒータベース43、ライナーベース44及びスカート45を備えている。ヒータベース43及びライナーベース44は、共に環状を呈している。ヒータベース43は、フレーム42の上面に取り付けられている。ヒータベース43の内径は、ライナーベース44の内径よりも大きく、ライナーベース44の外径よりも小さい。ライナーベース44は、ヒータベース43の底面に取り付けられている。ライナーベース44の内側が、孔部41にされている。
The support 4 includes a
ヒータベース43の上面には、金具22を介してヒータ2の下端部が固定されている。ヒータ2は、下端部に断熱部5が形成されている。金具22は、断熱部5にネジ止めされる。
A lower end portion of the
ライナーベース44の上面には、環状の保持部材6を介してライナー管3が載置される。保持部材6は、ライナー管3の下端部を保持する。保持部材6の外周面は、断熱部5の内周面に対向している。
The liner tube 3 is placed on the upper surface of the
保持部材6の外径は、断熱部5の内径よりも小さい。このため、断熱部5と保持部材6との間には、全周にわたって間隙61が形成される。断熱部5の内周面の下部には、全周にわたって凹部5Aが形成されている。凹部5Aには、スーパーリング7が全周にわたって嵌入している。
The outer diameter of the holding member 6 is smaller than the inner diameter of the
スーパーリング7は、この発明の第1の高耐熱断熱部材であり、一例としてSiCの長繊維を素材として図3(A)及び(B)に示すように半円弧状に形成されている。スーパーリング7は、外径を凹部5Aの周面の径に略等しくされており、内径を保持部材6の外径に略等しくされている。また、スーパーリング7は、上下方向について凹部5Aよりも長くされている。
The
したがって、2個のスーパーリング7を凹部5Aに嵌入させると、スーパーリング7の外周面、内周面、上面及び底面が、それぞれ凹部5Aの周面、保持部材6の外周面、凹部5Aの上面及びヒータベース43の上面に圧接する。これによって、間隙61が閉塞され、ヒータ2とライナー管3との間の熱が間隙61から外部に漏出することを抑制できる。
Therefore, when the two
スーパーリング7は、半円弧状を呈するため、ライナー管サポート44の一部を取り外すことで、プロセスチューブ1、ヒータ2及びライナー管3を支持体4に支持させた状態で、凹部5Aに着脱自在である。
Since the
支持体4は、ライナー管サポート44とスカート45との間にフランジ部11を挟持してプロセスチューブ1を支持する。ライナー管サポート44の底面とフランジ部11の上面との間にはクッション8が配置され、スカート45の上面とフランジ部11の底面との間にはクッション9が配置される。
The support 4 supports the
クッション8,9は、この発明の第2の高耐熱断熱部材であり、SiCの長繊維を素材として図4(A)及び(B)に示すように環状に形成されている。スカート45は、環状を呈し、図示しない取付部材を介してフレーム42に取り付けられる。なお、図4(A)及び(B)はクッション8を示しているが、クッション9も径が異なるのみでクッション8と同様の形状を呈している。
The
プロセスチューブ1の外径は、保持部材6及びライナーベース44の内径よりも小さく、プロセスチューブ1の外周面と保持部材6の内周面及びライナーベース44の内周面との間には、全周にわたって間隙が形成される。一方、フランジ部11の外径は、保持部材6及びライナーベース44の内径よりも大きく、クッション8は全周にわたってフランジ部11の上面とライナーベース44の底面との間に配置される。
The outer diameter of the
クッション8は可撓性によってフランジ部11の上面とライナーベース44の底面とに密着する。したがって、プロセスチューブ1とライナー管3との間の熱が、ライナーベース44とフランジ部11との間から外部に漏出することを抑制できる。
The
クッション9は、全周にわたってフランジ部11の底面とスカート45の上面との間に配置される。クッション9は可撓性によってフランジ部11の底面とスカート45の上面とに密着する。
The cushion 9 is disposed between the bottom surface of the flange portion 11 and the top surface of the
フランジ部11は、可撓性を有するクッション8,9を挟んでライナーベース44及びスカート45に挟持される。このため、縦型炉装置10に振動が作用した場合、振動はクッション8,9によって緩衝されてフランジ部11に直接伝播することがないため、フランジ部11及びプロセスチューブ1に破損を生じることがない。
The flange portion 11 is sandwiched between the
スーパーリング7及びクッション8,9の素材であるSiCの結晶化温度は、熱処理時の炉口廻りの温度に比較して十分に高く、スーパーリング7及びクッション8,9は長期間にわたる使用後にも可撓性を失うことがない。このため、スーパーリング7によるヒータ2とライナー管3との間の熱の漏出防止、クッション8によるプロセスチューブ1とライナー管3との間の熱の漏出防止、及びクッション8,9によるプロセスチューブ1の破損防止を長期間にわたって維持することができる。
The crystallization temperature of SiC, which is the material of the
また、炉口廻りからの熱の漏出を確実に防止できるとともに、熱処理時の炉口廻りの温度下で高耐熱断熱部材からの繊維の剥離を防止できる。炉口廻りの高温化を生じることがなく、炉口の下方の搬入出部に位置している熱処理前後の基板を汚損することがない。さらに、炉口廻りの温度が1000℃以上となるような熱処理にも対応することができる。 In addition, the leakage of heat from around the furnace port can be surely prevented, and the fibers can be prevented from peeling off from the high heat-resistant heat insulating member under the temperature around the furnace port during heat treatment. There is no increase in temperature around the furnace port, and the substrate before and after the heat treatment located at the loading / unloading portion below the furnace port is not soiled. Furthermore, it is possible to cope with heat treatment such that the temperature around the furnace port is 1000 ° C. or higher.
なお、スーパーリング7及びクッション8,9は、内部のブランケット材を表面のクロス材で被覆して構成することができる。この場合に、少なくともクロス材をSiCの長繊維で構成する。
The
上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The above description of the embodiment is to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above embodiments but by the claims. Furthermore, the scope of the present invention is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims.
1−プロセスチューブ
2−ヒータ
3−ライナー管
4−支持体
5−断熱部
6−保持部材
7−スーパーリング(第1の高耐熱断熱部材)
8−クッション(第2の高耐熱断熱部材)
9−クッション(第2の高耐熱断熱部材)
10−縦型炉装置
11−フランジ部
41−孔部
42−フレーム
43−ヒータベース
44−ライナーベース
45−スカート
1-process tube 2-heater 3-liner tube 4-support 5-heat insulating part 6-holding member 7-super ring (first high heat-resistant heat insulating member)
8-cushion (second heat-resistant insulation member)
9-cushion (second high heat-resistant insulation member)
10-vertical furnace apparatus 11-flange part 41-hole part 42-frame 43-heater base 44-liner base 45-skirt
Claims (1)
前記プロセスチューブの下端部を除く周囲を間隙を設けて包囲するヒータと、
前記ヒータ及び前記プロセスチューブの間に配置されるライナー管と、
前記プロセスチューブが貫通する孔部を有する支持体であって前記プロセスチューブの上下方向の中間部、前記ヒータの下端部及び前記ライナー管の下端部を支持する支持体と、
前記プロセスチューブ、前記ヒータ及び前記ライナー管から前記支持体に対する熱伝導を抑制する少なくとも1つの高耐熱断熱部材であってSiCの長繊維で構成されてそれぞれ半円弧状を呈する2分割に構成した高耐熱断熱部材と、を備え、
前記ヒータは下端部に断熱部を有し、
前記ライナー管の下端部を保持する保持部材をさらに備え、
前記高耐熱断熱部材は、SiCの長繊維で構成され、前記断熱部の内周面、前記保持部材の外周面及び前記支持体の上面の間に配置される第1の高耐熱断熱部材を含み、
前記プロセスチューブは、外周面における上下方向の中間部にフランジ部を有し、
前記高耐熱断熱部材は、SiCの長繊維で構成され、前記フランジ部と前記支持体との間に配置される第2の高耐熱断熱部材を含み、
前記支持体は、前記フランジ部を上下に挟むヒータベース及びスカートを備え、
前記第2の高耐熱断熱部材は、前記ヒータベースの底面と前記フランジ部の上面との間に配置される部材と、前記フランジ部の底面と前記スカートの上面との間に配置される部材と、からなる縦型炉装置。 A cylindrical process tube with an open bottom;
A heater that surrounds the periphery of the process tube except for a lower end portion with a gap;
A liner tube disposed between the heater and the process tube;
A support body having a hole through which the process tube passes, and a support body for supporting an intermediate part in the vertical direction of the process tube, a lower end part of the heater, and a lower end part of the liner tube;
The process tube, constructed by at least one high temperature insulation member for suppressing heat conduction to the two-piece exhibiting respective semicircular consists of long fibers of SiC with respect to the support from the heater and the liner pipe A high heat-resistant insulation member ,
The heater has a heat insulating portion at the lower end,
A holding member for holding the lower end of the liner tube;
The high heat resistant heat insulating member is composed of SiC long fibers, and includes a first high heat resistant heat insulating member disposed between an inner peripheral surface of the heat insulating portion, an outer peripheral surface of the holding member, and an upper surface of the support. ,
The process tube has a flange portion at an intermediate portion in the vertical direction on the outer peripheral surface,
The high heat-resistant heat insulating member includes a second high heat-resistant heat insulating member made of SiC long fibers and disposed between the flange portion and the support,
The support includes a heater base and a skirt that sandwich the flange portion up and down,
The second high heat resistant heat insulating member includes a member disposed between the bottom surface of the heater base and the top surface of the flange portion, and a member disposed between the bottom surface of the flange portion and the top surface of the skirt. A vertical furnace device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008059569A JP5432461B2 (en) | 2008-03-10 | 2008-03-10 | Vertical furnace equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008059569A JP5432461B2 (en) | 2008-03-10 | 2008-03-10 | Vertical furnace equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009218348A JP2009218348A (en) | 2009-09-24 |
JP5432461B2 true JP5432461B2 (en) | 2014-03-05 |
Family
ID=41189943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008059569A Expired - Fee Related JP5432461B2 (en) | 2008-03-10 | 2008-03-10 | Vertical furnace equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5432461B2 (en) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6261770A (en) * | 1985-09-09 | 1987-03-18 | Toyota Motor Corp | Metallic member having heat insulating layer consisting of long fibers and its production |
JPH02198134A (en) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Mitsubishi Electric Corp | Apparatus for manufacturing semiconductor |
JPH0313732U (en) * | 1989-06-27 | 1991-02-12 | ||
JP2889166B2 (en) * | 1995-11-06 | 1999-05-10 | 川崎製鉄株式会社 | Furnace wall repair equipment for coke ovens |
JP3567129B2 (en) * | 2000-12-15 | 2004-09-22 | 光洋サーモシステム株式会社 | Heat treatment furnace |
JP2002319546A (en) * | 2001-04-23 | 2002-10-31 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Semiconductor manufacturing device |
-
2008
- 2008-03-10 JP JP2008059569A patent/JP5432461B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009218348A (en) | 2009-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI242248B (en) | Holder and method for thermal treating semiconductor substrate | |
TWI445090B (en) | Longitudinal heat treatment device and heat treatment method | |
US7762809B2 (en) | Heat treatment apparatus | |
US7888622B2 (en) | Heat-processing furnace and manufacturing method thereof | |
TWI466216B (en) | Substrate processing device, method for manufacturing semiconductor device and roof insulator | |
WO2019144804A1 (en) | Crucible for crystal growth as well as method for releasing thermal stress in silicon carbide crystal | |
JP5432461B2 (en) | Vertical furnace equipment | |
JP5432468B2 (en) | Horizontal furnace equipment | |
JP5432465B2 (en) | Vertical furnace equipment | |
JP2001210649A (en) | Ultra high-temperature heat-treating apparatus | |
US9453291B2 (en) | Single crystal pulling apparatus and low heat conductive member used for single crystal pulling apparatus | |
JP2010141061A (en) | Tool used for method of manufacturing epitaxial silicon wafer | |
JP3507624B2 (en) | Heat treatment boat and heat treatment equipment | |
JP4766022B2 (en) | Method and apparatus for producing silicon carbide single crystal | |
KR20010062144A (en) | Substrate holder for heat treatment, heat treatment apparatus and method of substrate | |
JP5304068B2 (en) | Vertical heat treatment equipment | |
JP4157812B2 (en) | Wafer holding method and single wafer heat treatment apparatus used in this method | |
JP5347319B2 (en) | Vertical heat treatment equipment | |
JP2007134450A (en) | Method and apparatus for manufacturing semiconductor | |
JPH0230695A (en) | Rotary shaft of vapor-phase growth apparatus | |
JPH10195657A (en) | Low pressure cvd system | |
JP6149796B2 (en) | Epitaxial growth equipment | |
JP3567129B2 (en) | Heat treatment furnace | |
JP4597432B2 (en) | Vertical heat treatment equipment | |
JP2009059844A (en) | Heat treatment furnace |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110216 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20110216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130507 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130708 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130730 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131030 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20131106 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131206 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5432461 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |