JP5428632B2 - Opto-electric hybrid board, opto-electric hybrid board manufacturing method, and electronic apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、光電気混載基板、光電気混載基板の製造方法および電子機器に関するものである。   The present invention relates to an opto-electric hybrid board, a method for manufacturing an opto-electric hybrid board, and an electronic apparatus.

近年、情報化の波とともに、大容量の情報を高速でやりとりできる広帯域回線(ブロードバンド)の普及が進んでいる。また、これらの広帯域回線に情報を伝送する装置として、ルーター装置、WDM(Wavelength Division Multiplexing)装置等の伝送装置が用いられている。これらの伝送装置内には、LSIのような演算素子、メモリーのような記憶素子等が組み合わされた信号処理基板が多数設置されており、各回線の相互接続を担っている。   In recent years, with the wave of computerization, wideband lines (broadband) capable of exchanging large amounts of information at high speed have been spreading. Also, as devices for transmitting information to these broadband lines, transmission devices such as router devices and WDM (Wavelength Division Multiplexing) devices are used. In these transmission apparatuses, a large number of signal processing boards in which arithmetic elements such as LSIs and storage elements such as memories are combined are installed, and each line is interconnected.

各信号処理基板には、演算素子や記憶素子等が電気配線で接続された回路が構築されているが、近年、処理する情報量の増大に伴って、各基板では、極めて高いスループットで情報を伝送することが要求されている。しかしながら、情報伝送の高速化に伴い、クロストークや高周波ノイズの発生、電気信号の劣化、特性インピーダンスの不整合等の問題が顕在化しつつある。このため、電気配線がボトルネックとなって、信号処理基板のスループットの向上が困難になっている。   Each signal processing board has a circuit in which arithmetic elements, storage elements, etc. are connected by electrical wiring. However, with the increase in the amount of information to be processed in recent years, each board has a very high throughput. It is required to transmit. However, with the speeding up of information transmission, problems such as generation of crosstalk and high-frequency noise, deterioration of electric signals, and mismatch of characteristic impedance are becoming apparent. For this reason, electrical wiring becomes a bottleneck, making it difficult to improve the throughput of the signal processing board.

一方、光搬送波を使用してデータを移送する光通信技術が開発され、近年、この光搬送波を、一地点から他地点に導くための手段として、光導波路が普及しつつある。この光導波路は、線状のコア部と、その周囲を覆うように設けられたクラッド部とを有している。コア部は、光搬送波の光に対して実質的に透明な材料によって構成され、クラッド部は、コア部より屈折率が低い材料によって構成されている。   On the other hand, an optical communication technique for transferring data using an optical carrier wave has been developed, and in recent years, an optical waveguide is becoming popular as a means for guiding the optical carrier wave from one point to another point. This optical waveguide has a linear core part and a clad part provided so as to cover the periphery thereof. The core part is made of a material that is substantially transparent to the light of the optical carrier wave, and the cladding part is made of a material having a refractive index lower than that of the core part.

このような光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との境界で反射しながら他端に搬送される。光導波路の入射側には、半導体レーザー等の発光素子が配置され、出射側には、フォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンに基づいて通信を行う。   In such an optical waveguide, light introduced from one end of the core portion is conveyed to the other end while being reflected at the boundary with the cladding portion. A light emitting element such as a semiconductor laser is disposed on the incident side of the optical waveguide, and a light receiving element such as a photodiode is disposed on the emission side. Light incident from the light emitting element propagates through the optical waveguide, is received by the light receiving element, and performs communication based on the blinking pattern of the received light.

最近になって、信号処理基板内の電気配線を光導波路で置き換える動きが進んでいる。電気配線を光導波路で置き換えることにより、前述したような電気配線の問題が解消され、信号処理基板のさらなる高スループット化が可能になると期待されている。   Recently, there has been a movement to replace electric wiring in a signal processing board with an optical waveguide. By replacing the electrical wiring with an optical waveguide, it is expected that the problem of the electrical wiring as described above will be solved and the signal processing board will be able to further increase the throughput.

ところが、演算素子や記憶素子はもちろん、光信号と電気信号の相互変換を担う発光素子や受光素子のような各素子の駆動には電力を供給するための電気配線が不可欠である。このため信号処理基板には、電気配線と光導波路とが混載されることとなり、このような基板(光電気混載基板)の開発が進められている。   However, electric wiring for supplying electric power is indispensable for driving each element such as a light emitting element and a light receiving element which perform mutual conversion between an optical signal and an electric signal as well as an arithmetic element and a storage element. For this reason, electric wiring and an optical waveguide are mixedly mounted on the signal processing substrate, and development of such a substrate (photoelectric mixed substrate) is being promoted.

例えば、特許文献1には、光送信用ICおよび光受信用ICを搭載するとともに、光送信用ICと光受信用ICとの間で光信号の伝送を行うための薄膜状の光導波路を形成した、光信号を伝送可能なプリント基板について記載されている。また、プリント基板には厚み方向に貫通するスルーホールが設けられており、このスルーホールを介して、プリント基板のそれぞれ異なる面に搭載された光送信用ICと光導波路との間、および、光受信用ICと光導波路との間がそれぞれ接続されている。   For example, in Patent Document 1, an optical transmission IC and an optical reception IC are mounted, and a thin-film optical waveguide for transmitting an optical signal between the optical transmission IC and the optical reception IC is formed. A printed circuit board capable of transmitting an optical signal is described. The printed board is provided with a through-hole penetrating in the thickness direction, and through this through-hole, between the optical transmission IC and the optical waveguide mounted on different surfaces of the printed board, and the light The receiving IC and the optical waveguide are connected to each other.

また、光導波路の両端面は、それぞれ光導波路を斜めに横切るように加工されており、この両端面において光が反射されることにより、光の進行方向が変更されるよう構成されている。すなわち、光導波路の両端部には、ミラー(光路変換構造)が形成されている。   Further, both end surfaces of the optical waveguide are processed so as to obliquely cross the optical waveguide, and the light traveling direction is changed by reflecting light at the both end surfaces. That is, mirrors (optical path conversion structures) are formed at both ends of the optical waveguide.

ところで、このミラーの形成には極めて高い加工精度が要求されるが、薄膜状の光導波路に対して高精度の加工を施すことは困難である。このため、加工面の精度を十分に高めることができず、光送信用ICと光導波路との間および光受信用ICと光導波路との間の結合損失が大きくなるという問題がある。   By the way, the formation of this mirror requires extremely high processing accuracy, but it is difficult to perform high-precision processing on a thin-film optical waveguide. For this reason, the accuracy of the processed surface cannot be sufficiently increased, and there is a problem that the coupling loss between the optical transmission IC and the optical waveguide and between the optical reception IC and the optical waveguide increases.

また、ミラーでの反射角は、ミラーの加工精度に大きく左右される。ところが、上述したようにミラーの加工精度を高めることが困難であるため、各ICと光導波路との位置関係が安定せず、位置合わせの難易度が極めて高くなる。   Further, the reflection angle at the mirror greatly depends on the processing accuracy of the mirror. However, as described above, it is difficult to increase the processing accuracy of the mirror, so that the positional relationship between each IC and the optical waveguide is not stable, and the difficulty of alignment becomes extremely high.

一方、特許文献2には、プリント配線板と、その上に設けられた発光素子および受光素子とを有する光電気混載配線板について記載されている。また、発光素子および受光素子は、それぞれ発光点と受光点とが向かい合うように配置されており、発光点と受光点との間が光導波路で直接結合されている。   On the other hand, Patent Document 2 describes an opto-electric hybrid wiring board having a printed wiring board and a light emitting element and a light receiving element provided thereon. The light emitting element and the light receiving element are arranged so that the light emitting point and the light receiving point face each other, and the light emitting point and the light receiving point are directly coupled by an optical waveguide.

このような構成の光電気混載配線板では、発光素子または受光素子と光導波路との間の結合損失が抑制されるものの、発光素子と受光素子との間に光導波路を固定する際に、その位置合わせに困難が伴う。特に光導波路を宙に浮かせた状態で引っ張りつつ、両端部を各素子に対して正確に位置合わせをする作業は、高度で繊細な技術を必要とする。また、光導波路の長さと、両素子間の距離とが一致していなければ、光導波路と両素子との間の光学的接続と機械的な固定とを両立することができない。このため、結合損失を抑制した信頼性の高い光電気混載基板を製造するのは容易ではなく、生産性の著しい低下を招くこととなる。   In the opto-electric hybrid board having such a configuration, the coupling loss between the light emitting element or the light receiving element and the optical waveguide is suppressed, but when the optical waveguide is fixed between the light emitting element and the light receiving element, Difficulty in alignment. In particular, an operation of accurately aligning both ends with respect to each element while pulling the optical waveguide in a suspended state requires advanced and delicate techniques. If the length of the optical waveguide and the distance between the two elements do not match, it is impossible to achieve both optical connection and mechanical fixation between the optical waveguide and the two elements. For this reason, it is not easy to manufacture a highly reliable opto-electric hybrid board that suppresses coupling loss, resulting in a significant reduction in productivity.

さらに、発光素子や受光素子は、通常CANパッケージに実装されているが、特許文献2に示すように、このCANパッケージの平面部とプリント配線板とが垂直になるように固定する場合、固定に寄与する面積が小さいため十分な固定強度が得られない。   Further, the light emitting element and the light receiving element are usually mounted in a CAN package. However, as shown in Patent Document 2, when the flat part of the CAN package and the printed wiring board are fixed vertically, the light emitting element and the light receiving element are fixed. Since the contributing area is small, sufficient fixing strength cannot be obtained.

特開2005−294407号公報JP 2005-294407 A 特開2004−206015号公報JP 2004-206015 A

本発明の目的は、受発光素子と光回路との位置合わせが容易であり、かつ、これらの間の結合損失を確実に抑制し得る光電気混載基板、かかる光電気混載基板を効率よく製造可能な光電気混載基板の製造方法、および前記光電気混載基板を備えた電子機器を提供することにある。   It is an object of the present invention to easily align a light emitting / receiving element and an optical circuit and to reliably suppress a coupling loss between them, and to efficiently manufacture such an opto-electric hybrid board. Another object of the present invention is to provide an opto-electric hybrid board manufacturing method and an electronic apparatus including the opto-electric hybrid board.

このような目的は、下記(1)〜(14)の本発明により達成される。
(1) 光回路を有する光回路基板と、
前記光回路基板に積層され、電気回路を有する電気回路基板と、
前記光回路と光学的に接続された受光部または発光部を有する光素子とを備える光電気混載基板であって、
前記光回路基板の端面に前記光回路の端部が露出しており、該光回路の端部と前記受光部または前記発光部とが対向するように、前記光回路基板の端面前記光素子との間光透過性を有する接着剤を介して接着されており、
前記電気回路基板の端面に前記電気回路の端部が露出しており、該電気回路の端部と前記光素子との隙間にハンダが濡れ広がることにより、前記電気回路の端部と前記光素子とが電気的に接続されていることを特徴とする光電気混載基板。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (14) below.
(1) an optical circuit board having an optical circuit;
An electric circuit board laminated on the optical circuit board and having an electric circuit;
An optical-electric hybrid board comprising: an optical element for chromatic said optical circuit and a light receiver or the light emitting portion is optically connected,
Has end exposed of the optical circuit on the end face of the optical circuit board, so that the end portion of the optical circuit and the light receiving portion or the light emitting portion are opposed to each end face of the optical circuit substrate and the optical element are bonded through an adhesive having optical transparency between,
The end of the electric circuit is exposed at the end surface of the electric circuit board, and the solder spreads in the gap between the end of the electric circuit and the optical element, whereby the end of the electric circuit and the optical element And an opto-electric hybrid board.

(2) 前記接着剤は、接着剤成分をシート状に成形してなる接着シートである上記(1)に記載の光電気混載基板。   (2) The opto-electric hybrid board according to (1), wherein the adhesive is an adhesive sheet formed by forming an adhesive component into a sheet.

(3) 前記電気回路の前記端部には、前記ハンダの下地として、前記電気回路中の金属成分が前記ハンダ中に溶出するのを防止する下地層が形成されている上記(1)または(2)に記載の光電気混載基板。 (3) The above-mentioned (1) or () , wherein the end portion of the electric circuit is formed with a base layer for preventing the metal component in the electric circuit from eluting into the solder as the base of the solder. The opto-electric hybrid board according to 2) .

(4) 前記電気回路の構成材料は、Cuを主成分とするものであり、
前記下地層の構成材料は、AuおよびNiの少なくとも一方を含むものである上記(3)に記載の光電気混載基板。
(4) The constituent material of the electric circuit is mainly composed of Cu,
The opto-electric hybrid board according to (3) , wherein the constituent material of the underlayer includes at least one of Au and Ni.

(5) 光回路を有する光回路基板と、(5) an optical circuit board having an optical circuit;
前記光回路基板に積層され、電気回路を有する電気回路基板と、  An electric circuit board laminated on the optical circuit board and having an electric circuit;
前記光回路と光学的に接続された受光部または発光部を有する光素子と、を備える光電気混載基板であって、  An opto-electric hybrid board comprising: an optical element having a light receiving part or a light emitting part optically connected to the optical circuit,
前記光回路基板の端面に前記光回路の端部が露出しており、該光回路の端部と前記受光部または前記発光部とが対向するように、前記光回路基板の端面と前記光素子との間が光透過性を有する接着剤を介して接着されており、  The end face of the optical circuit board is exposed to the end face of the optical circuit board, and the end face of the optical circuit board and the optical element are arranged so that the end of the optical circuit faces the light receiving section or the light emitting section. Are bonded through an adhesive having light transmittance,
前記電気回路基板の端面に前記電気回路の端部が露出しており、前記端部は前記電気回路の前記端部以外の部分に比べて部分的に厚膜化しており、前記電気回路の端部と前記光素子とが電気的に接続されていることを特徴とする光電気混載基板。  An end portion of the electric circuit is exposed at an end surface of the electric circuit board, and the end portion is partially thickened as compared to a portion other than the end portion of the electric circuit, and the end of the electric circuit An opto-electric hybrid board, wherein the optical element is electrically connected to the optical element.

(6) 前記電気回路の前記厚膜化した部分は、突起状をなすバンプ部で構成されている上記(5)に記載の光電気混載基板。 (6) The opto-electric hybrid board according to (5) , wherein the thickened portion of the electric circuit is configured by a bump portion having a protruding shape.

(7) 前記電気回路基板は、前記電気回路と、該電気回路を支持し、スルーホールが形成された支持基板とを有するものであり、
前記電気回路の前記厚膜化した部分は、前記スルーホール内に設けられた貫通配線部で構成されている上記(5)に記載の光電気混載基板。
(7) the electric circuit board, and the electric circuit, to support the electrical circuit, which comprises a supporting substrate through hole is formed, a,
The opto-electric hybrid board according to (5) , wherein the thickened portion of the electric circuit is configured by a through wiring portion provided in the through hole.

(8) 前記電気回路の前記厚膜化した部分と前記光素子との間の電気的な接続は、これらの隙間に設けられた導電性材料を介して行われている上記(5)ないし(7)のいずれかに記載の光電気混載基板。 (8) The electrical connection between the thickened portion of the electric circuit and the optical element is performed via a conductive material provided in the gaps (5) to ( 5) The opto-electric hybrid board according to any one of 7) .

(9) 光回路を有する光回路基板と、(9) an optical circuit board having an optical circuit;
前記光回路基板に積層され、電気回路を有する電気回路基板と、  An electric circuit board laminated on the optical circuit board and having an electric circuit;
前記光回路と光学的に接続された受光部または発光部を有する光素子と、を備える光電気混載基板であって、  An opto-electric hybrid board comprising: an optical element having a light receiving part or a light emitting part optically connected to the optical circuit,
前記光回路基板の端面に前記光回路の端部が露出しており、該光回路の端部と前記受光部または前記発光部とが対向するように、前記光回路基板の端面に前記光素子が載置されており、  The end of the optical circuit is exposed at the end face of the optical circuit board, and the optical element is placed on the end face of the optical circuit board so that the end of the optical circuit faces the light receiving section or the light emitting section. Is placed,
前記光回路基板の端面と前記光素子との間、および、前記光回路基板と前記電気回路基板との間が、接着剤成分をシート状に成形してなり、途中で折り曲げられてなる1枚の接着シートであって、少なくとも前記光回路基板の端面と前記光素子との間に対応する部分が光透過性を有する接着シートにより接着されていることを特徴とする光電気混載基板。  One sheet formed by forming an adhesive component into a sheet shape between the end face of the optical circuit board and the optical element, and between the optical circuit board and the electric circuit board, and being bent in the middle. An opto-electric hybrid board, wherein at least a portion corresponding to an end face of the optical circuit board and the optical element is bonded by an adhesive sheet having light transmittance.

(10) 光回路を有する光回路基板と、
前記光回路基板に積層され、電気回路を有する電気回路基板と、
前記光回路と光学的に接続された受光部または発光部を有し、前記電気回路と電気的に接続された光素子とを備える光電気混載基板を製造する方法であって、
前記光回路基板と前記電気回路の端部にハンダが付着している前記電気回路基板とを積層し、積層体を得る第1の工程と、
前記積層体の端面または前記光素子に接着剤を付けた後、前記接着剤を介して前記積層体の端面と前記光素子とを接着し、前記光回路と前記受光部または前記発光部とを光学的に接続する第2の工程と、
前記ハンダを溶融させ、前記ハンダを前記電気回路と前記光素子との間に生じた隙間に濡れ広がらせることにより、前記電気回路と前記光素子とを電気的に接続する第3の工程とを有することを特徴とする光電気混載基板の製造方法。
(10) an optical circuit board having an optical circuit;
An electric circuit board laminated on the optical circuit board and having an electric circuit;
Having said optical circuit and optically connected to light receiving unit or a light emitting unit, a method of manufacturing an optical-electric hybrid board comprising, said electrical circuit and electrically connected to the optical device,
Laminating the optical circuit board and the electric circuit board with solder attached to the end of the electric circuit, to obtain a laminate,
After attaching an adhesive to the end face of the laminate or the optical element, the end face of the laminate and the optical element are bonded via the adhesive, and the optical circuit and the light receiving part or the light emitting part are bonded. A second step of optically connecting;
A third step of electrically connecting the electrical circuit and the optical element by melting the solder and spreading the solder in a gap formed between the electrical circuit and the optical element ; A method for manufacturing an opto-electric hybrid board, comprising:

(11) 前記電気回路の端部は、前記電気回路基板の端面に露出するように形成されており、
前記電気回路基板の端面に露出する前記電気回路の端部は、前記電気回路基板を前記電気回路の途中で切断することにより形成されたものである上記(10)に記載の光電気混載基板の製造方法。
(11) An end portion of the electric circuit is formed so as to be exposed on an end surface of the electric circuit board,
End of the electric circuit is exposed on the end surface of the electric circuit board, the opto-electric hybrid board according to (10) and is formed by cutting the electric circuit board in the course of the electric circuit Production method.

(12) 前記電気回路基板を前記電気回路の途中で切断する方法は、前記電気回路を厚さ方向に貫通するように溝を形成する工程と、
前記電気回路に対して、前記ハンダの下地として、前記電気回路中の金属成分が前記ハンダ中に溶出するのを防止する下地層を形成する工程と、
前記溝を縦断するようにして前記電気回路基板を切断する工程と有する上記(11)に記載の光電気混載基板の製造方法。
(12) A method of cutting the electric circuit board in the middle of the electric circuit includes a step of forming a groove so as to penetrate the electric circuit in a thickness direction;
Forming a base layer for preventing the metal component in the electrical circuit from eluting into the solder as the solder base for the electrical circuit;
Manufacturing method of the opto-electric hybrid board according to the above (11) having, a step of cutting the electrical circuit board so as to cross the groove.

(13) 前記第2の工程において、前記光回路基板と前記電気回路基板との積層体を、鉛直方向と平行になるよう配置し、鉛直上方を向く前記光回路基板の端面上に、フリップチップボンダーにより、前記光素子を配置する上記(10)ないし(12)のいずれかに記載の光電気混載基板の製造方法。 (13) In the second step, the laminated body of the optical circuit board and the electric circuit board is arranged so as to be parallel to the vertical direction, and the flip chip is formed on the end surface of the optical circuit board facing vertically upward. The method for manufacturing an opto-electric hybrid board according to any one of (10) to (12) , wherein the optical element is arranged by a bonder.

(14) 上記(1)ないし(9)のいずれかに記載の光電気混載基板を備えたことを特徴とする電子機器。 (14) An electronic apparatus comprising the opto-electric hybrid board according to any one of (1) to (9) .

本発明によれば、受発光素子と光回路との光学的な接続において、ミラーのような光路変換構造を用いる必要がないため、光路変換時の光損失が発生せず、光回路における光損失を大幅に抑制し得る光電気混載基板が得られる。   According to the present invention, in the optical connection between the light emitting / receiving element and the optical circuit, it is not necessary to use an optical path conversion structure such as a mirror, so that no optical loss occurs during the optical path conversion, and the optical loss in the optical circuit Can be obtained.

本発明の光電気混載基板の実施形態を示す(一部透過して示す)斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing an embodiment of the opto-electric hybrid board of the present invention (partially shown). 図1のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line of FIG. 図2に示す光電気混載基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the opto-electric hybrid board shown in FIG. 図2に示す光電気混載基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the opto-electric hybrid board shown in FIG. 図2に示す光電気混載基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the opto-electric hybrid board shown in FIG. 図2に示す光電気混載基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the opto-electric hybrid board shown in FIG. 図2に示す光電気混載基板の他の構成例を示す図である。It is a figure which shows the other structural example of the opto-electric hybrid board shown in FIG. 図7に示す光電気混載基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the opto-electric hybrid board shown in FIG. 図2に示す光電気混載基板の他の構成例を示す図である。It is a figure which shows the other structural example of the opto-electric hybrid board shown in FIG. 図9に示す光電気混載基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the opto-electric hybrid board shown in FIG. 図3に示す光電気混載基板の製造方法の他の構成例を示す図である。It is a figure which shows the other structural example of the manufacturing method of the opto-electric hybrid board shown in FIG.

以下、本発明の光電気混載基板、光電気混載基板の製造方法および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, an opto-electric hybrid board, a method for manufacturing an opto-electric hybrid board, and an electronic apparatus according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

<光電気混載基板>
図1は、本発明の光電気混載基板の実施形態を示す(一部透過して示す)斜視図、図2は、図1のA−A線断面図、図3〜6は、それぞれ図2に示す光電気混載基板の製造方法を説明するための図である。なお、以下の説明では、図1〜6中の上側を「上」、下側を「下」という。
<Opto-electric hybrid board>
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the opto-electric hybrid board of the present invention (partially shown), FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 1, and FIGS. It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the opto-electric hybrid board shown in FIG. In the following description, the upper side in FIGS. 1 to 6 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.

図1に示す光電気混載基板1は、光導波路で構成された光回路22を備える光回路基板2と、その上に積層され、電気回路32を備える電気回路基板3とを有する。光回路基板2と電気回路基板3との間は、ボンディングシート(接着シート)41を介して接着されている。   An opto-electric hybrid board 1 shown in FIG. 1 includes an optical circuit board 2 including an optical circuit 22 formed of an optical waveguide, and an electric circuit board 3 including an electric circuit 32 stacked thereon. The optical circuit board 2 and the electric circuit board 3 are bonded via a bonding sheet (adhesive sheet) 41.

また、光電気混載基板1は、この積層基板の端面に設けられた受発光素子5を有している。   Moreover, the opto-electric hybrid board 1 has a light emitting / receiving element 5 provided on an end face of the laminated board.

受発光素子5は、光信号の発光または受光を担う受発光部52と、受発光素子5を駆動する電気信号を入出力するための電気接続用パッド53とを備えている。   The light emitting / receiving element 5 includes a light emitting / receiving section 52 responsible for light emission or light reception of an optical signal, and an electrical connection pad 53 for inputting / outputting an electric signal for driving the light receiving / emitting element 5.

また、受発光素子5の受発光部52は、ミラーのような光路変換構造を介在させることなく、光回路22に対して光学的に接続されている。またそれとともに、受発光素子5の電気接続用パッド53は、端子部34を介して電気回路32と電気的に接続されている。これにより、受発光素子5は、光回路22に対して光信号を発光するとともに、光回路22を伝搬してきた光信号を受光することができる。   The light emitting / receiving unit 52 of the light emitting / receiving element 5 is optically connected to the optical circuit 22 without interposing an optical path changing structure such as a mirror. At the same time, the electrical connection pad 53 of the light emitting / receiving element 5 is electrically connected to the electrical circuit 32 via the terminal portion 34. As a result, the light emitting / receiving element 5 emits an optical signal to the optical circuit 22 and can receive the optical signal propagated through the optical circuit 22.

このような光電気混載基板1は、ミラーのような光路変換構造を用いる必要がないため、光路変換時の光損失が発生せず、光回路における光損失を大幅に抑制することを可能にする。さらには、受発光素子5の位置合わせに際しては、ミラーのような光路変換構造が介在していないため、光路のバラツキが抑制される。このため、位置合わせの際には、例えばコア部224の中心軸と受発光部52の中心とを一致させればよく、そのプロセスを単純化することが可能である。   Such an opto-electric hybrid board 1 does not need to use an optical path conversion structure such as a mirror, so that no optical loss occurs during optical path conversion, and the optical loss in the optical circuit can be greatly suppressed. . Furthermore, when the light emitting / receiving element 5 is aligned, since there is no optical path conversion structure such as a mirror, variations in the optical path are suppressed. For this reason, at the time of alignment, for example, the center axis of the core portion 224 and the center of the light receiving / emitting portion 52 may be matched, and the process can be simplified.

以下、光電気混載基板1の各部について詳述する。
(光回路基板)
図1に示す光回路基板2は、層状の光回路22と、これを下方から支持する支持基板21とを有している。
Hereinafter, each part of the opto-electric hybrid board 1 will be described in detail.
(Optical circuit board)
An optical circuit board 2 shown in FIG. 1 includes a layered optical circuit 22 and a support substrate 21 that supports the optical circuit board 22 from below.

光回路22は、下方からクラッド層(下部クラッド層)221、コア層223およびクラッド層(上部クラッド層)222をこの順で積層してなる光導波路で構成されている。このうちコア層223には、平面視で長尺状のコア部224と、このコア部224の側面に隣接する側面クラッド部225とが形成されている。なお、図1に示すコア部224には密なドットを付し、各側面クラッド部225には疎なドットを付している。   The optical circuit 22 includes an optical waveguide in which a cladding layer (lower cladding layer) 221, a core layer 223, and a cladding layer (upper cladding layer) 222 are laminated in this order from below. Among these, the core layer 223 is formed with a long core portion 224 in a plan view and a side clad portion 225 adjacent to the side surface of the core portion 224. It should be noted that dense dots are attached to the core portion 224 shown in FIG. 1, and sparse dots are attached to the side clad portions 225.

コア部224の両端部は、それぞれコア層223の端面に露出している。
図1に示す光回路基板2では、コア部224の一方の端部に入射された光を、コア部224とクラッド部(各クラッド層221、222および各側面クラッド部225)との界面で全反射させ、他方側に伝搬させることにより、コア部224の他方の端部から取り出すことができる。これにより、出射端側で受光した光の明滅パターンに基づいて光通信を行うことができる。
Both end portions of the core portion 224 are exposed at the end face of the core layer 223, respectively.
In the optical circuit board 2 shown in FIG. 1, the light incident on one end of the core part 224 is totally transmitted at the interface between the core part 224 and the clad parts (the clad layers 221 and 222 and the side clad parts 225). By reflecting and propagating to the other side, it can be taken out from the other end of the core part 224. Thereby, optical communication can be performed based on the blinking pattern of the light received on the emission end side.

コア部224とクラッド部との界面で全反射を生じさせるためには、界面に屈折率差が存在する必要がある。コア部224の屈折率は、クラッド部の屈折率より大きければよいが、その差は特に限定されないものの、0.5%以上であるのが好ましく、0.8%以上であるのがより好ましい。一方、上限値は、特に設定されなくてもよいが、好ましくは5.5%程度とされる。屈折率の差が前記下限値未満であると光を伝達する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えても、光の伝送効率のそれ以上の増大は期待できない。   In order to cause total reflection at the interface between the core part 224 and the clad part, a difference in refractive index needs to exist at the interface. Although the refractive index of the core part 224 should just be larger than the refractive index of a clad part, the difference is not specifically limited, However, It is preferable that it is 0.5% or more, and it is more preferable that it is 0.8% or more. On the other hand, the upper limit value may not be set, but is preferably about 5.5%. If the difference in refractive index is less than the lower limit, the effect of transmitting light may be reduced, and even if the upper limit is exceeded, no further increase in light transmission efficiency can be expected.

なお、前記屈折率差とは、コア部224の屈折率をA、クラッド部の屈折率をBとしたとき、次式で表わされる。
屈折率差(%)=|A/B−1|×100
The refractive index difference is expressed by the following equation, where A is the refractive index of the core portion 224 and B is the refractive index of the cladding portion.
Refractive index difference (%) = | A / B-1 | × 100

また、図1に示す構成では、コア部224は、平面視で直線状に形成されているが、途中で湾曲、分岐等してもよく、その形状は任意である。   In the configuration shown in FIG. 1, the core portion 224 is formed in a straight line shape in a plan view, but may be curved or branched in the middle, and the shape is arbitrary.

また、図1に示すコア部224は、その横断面形状が正方形または矩形(長方形)のような四角形をなしている。   1 has a quadrangular shape such as a square or a rectangle (rectangle) in cross-sectional shape.

コア部224の幅および高さは、特に限定されないが、それぞれ、1〜200μm程度であるのが好ましく、5〜100μm程度であるのがより好ましく、20〜70μm程度であるのがさらに好ましい。   The width and height of the core part 224 are not particularly limited, but are preferably about 1 to 200 μm, more preferably about 5 to 100 μm, and still more preferably about 20 to 70 μm.

コア層223の構成材料は、上記の屈折率差が生じる材料であれば特に限定されないが、具体的には、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料の他、石英ガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス材料等を用いることができる。   The constituent material of the core layer 223 is not particularly limited as long as the above-described refractive index difference is generated, but specifically, acrylic resin, methacrylic resin, polycarbonate, polystyrene, epoxy resin, polyamide, polyimide, polybenzo In addition to various resin materials such as oxazole, polysilane, polysilazane, and cyclic olefin resins such as benzocyclobutene resin and norbornene resin, glass materials such as quartz glass and borosilicate glass can be used.

また、これらの中でも特にノルボルネン系樹脂が好ましい。これらのノルボルネン系ポリマーは、例えば、開環メタセシス重合(ROMP)、ROMPと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤(例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤)を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。   Of these, norbornene resins are particularly preferable. These norbornene-based polymers include, for example, ring-opening metathesis polymerization (ROMP), combination of ROMP and hydrogenation reaction, polymerization by radical or cation, polymerization using a cationic palladium polymerization initiator, and other polymerization initiators ( For example, it can be obtained by any known polymerization method such as polymerization using a polymerization initiator of nickel or another transition metal).

一方、クラッド層221および222は、それぞれ、コア層223の下部および上部に位置するクラッド部を構成するものである。このような構成により、各コア部224は、その外周をクラッド部に囲まれた導光路として機能する。   On the other hand, the clad layers 221 and 222 constitute clad portions located below and above the core layer 223, respectively. With such a configuration, each core portion 224 functions as a light guide path whose outer periphery is surrounded by the clad portion.

クラッド層221、222の平均厚さは、コア層223の平均厚さ(各コア部224の平均高さ)の0.1〜1.5倍程度であるのが好ましく、0.2〜1.25倍程度であるのがより好ましく、具体的には、クラッド層221、222の平均厚さは、特に限定されないが、それぞれ、通常、1〜200μm程度であるのが好ましく、5〜100μm程度であるのがより好ましく、10〜60μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、光回路22が必要以上に大型化(厚膜化)するのを防止しつつ、クラッド層としての機能が好適に発揮される。   The average thickness of the clad layers 221 and 222 is preferably about 0.1 to 1.5 times the average thickness of the core layer 223 (the average height of each core portion 224). More preferably, the average thickness of the clad layers 221 and 222 is not particularly limited, but is usually preferably about 1 to 200 μm and about 5 to 100 μm, respectively. More preferably, it is about 10 to 60 μm. Thereby, the function as a clad layer is suitably exhibited while preventing the optical circuit 22 from becoming unnecessarily large (thickened).

また、クラッド層221および222の構成材料としては、例えば、前述したコア層223の構成材料と同様の材料を用いることができるが、特にノルボルネン系ポリマーが好ましい。   Further, as the constituent material of the clad layers 221 and 222, for example, the same material as the constituent material of the core layer 223 described above can be used, but a norbornene polymer is particularly preferable.

また、コア層223の構成材料およびクラッド層221、222の構成材料を選択する場合、両者の間の屈折率差を考慮して材料を選択すればよい。具体的には、コア層223とクラッド層221、222との境界において光を確実に全反射させるため、コア層223の構成材料が十分に大きくなるように材料を選択すればよい。これにより、光回路22の厚さ方向において十分な屈折率差が得られ、各コア部224からクラッド層221、222に光が漏れ出るのを抑制することができる。   Further, when selecting the constituent material of the core layer 223 and the constituent materials of the clad layers 221, 222, the material may be selected in consideration of the difference in refractive index between them. Specifically, the material may be selected so that the constituent material of the core layer 223 becomes sufficiently large in order to surely totally reflect light at the boundary between the core layer 223 and the cladding layers 221 and 222. Thereby, a sufficient refractive index difference is obtained in the thickness direction of the optical circuit 22, and light can be prevented from leaking from the respective core portions 224 to the cladding layers 221 and 222.

なお、光の減衰を抑制する観点からは、コア層223の構成材料とクラッド層221、222の構成材料との密着性(親和性)が高いことも重要である。   From the viewpoint of suppressing light attenuation, it is also important that the adhesiveness (affinity) between the constituent material of the core layer 223 and the constituent materials of the cladding layers 221 and 222 is high.

支持基板21は、光回路22の一端部の下方に設けられた、光回路22を支持する基板である。   The support substrate 21 is a substrate that supports the optical circuit 22 provided below one end of the optical circuit 22.

支持基板21としては、比較的可撓性の高いフレキシブル基板や、比較的剛性の高いリジッド基板が用いられる。   As the support substrate 21, a flexible substrate having relatively high flexibility or a rigid substrate having relatively high rigidity is used.

このうち、フレキシブル基板の具体例としては、ポリエステル銅張フィルム基板、ポリイミド銅張フィルム基板、アラミド銅張フィルム基板等に含まれるフレキシブル絶縁基板が挙げられる。   Among these, specific examples of the flexible substrate include a flexible insulating substrate included in a polyester copper-clad film substrate, a polyimide copper-clad film substrate, an aramid copper-clad film substrate, and the like.

また、フレキシブル基板の平均厚さは、光電気混載基板1の可撓性および薄型化の観点から、5〜200μm程度であるのが好ましく、10〜100μm程度であるのがより好ましい。このような厚さのフレキシブル基板であれば、十分な可撓性を有するとともに、自重や搭載する各種素子の重量によって意図せず変形してしまうことが防止される。   The average thickness of the flexible substrate is preferably about 5 to 200 μm and more preferably about 10 to 100 μm from the viewpoint of flexibility and thinning of the opto-electric hybrid board 1. A flexible substrate having such a thickness has sufficient flexibility and prevents unintentional deformation due to its own weight or the weight of various elements to be mounted.

一方、リジッド基板の具体例としては、ガラス布・エポキシ銅張積層板等のガラス基材銅張積層板、ガラス不織布・エポキシ銅張積層板等のコンポジット銅張積層板、ポリエーテルイミド樹脂基板、ポリエーテルケトン樹脂基板、ポリサルフォン系樹脂基板等に含まれる耐熱・熱可塑性の有機系リジッド基板や、アルミナ基板、窒化アルミニウム基板、炭化ケイ素基板等に含まれるセラミックス系リジッド基板が挙げられる。   On the other hand, as specific examples of rigid substrates, glass substrate copper-clad laminates such as glass cloth and epoxy copper-clad laminates, composite copper-clad laminates such as glass nonwoven fabric and epoxy copper-clad laminates, polyetherimide resin substrates, Examples thereof include heat-resistant / thermoplastic organic rigid substrates included in polyetherketone resin substrates, polysulfone-based resin substrates and the like, and ceramic rigid substrates included in alumina substrates, aluminum nitride substrates, silicon carbide substrates and the like.

(電気回路基板)
図1に示す電気回路基板3は、電気回路32と、これを下方から支持する支持基板31と、電気回路32の上方を覆うレジスト層(ソルダーレジスト)33とを有する積層基板である。
(Electric circuit board)
An electric circuit board 3 shown in FIG. 1 is a laminated board having an electric circuit 32, a support substrate 31 that supports the electric circuit 32 from below, and a resist layer (solder resist) 33 that covers the electric circuit 32.

また、図2に示すレジスト層33の左端部近傍には、一部が欠損した領域があり、その領域に端子部34が設けられている。この端子部34は、下方の電気回路32と接触しており、これにより電気回路32と端子部34との間が電気的に接続されている。   Further, there is a partially missing region near the left end of the resist layer 33 shown in FIG. 2, and a terminal portion 34 is provided in that region. The terminal portion 34 is in contact with the lower electric circuit 32, and thereby the electric circuit 32 and the terminal portion 34 are electrically connected.

電気回路32は、図示しないが、導電層を所定の形状にパターニングして形成されている。この電気回路32は、受発光素子5と図示しない電源や各種ICとの間を電気的に接続しており、受発光素子5に駆動電力を供給したり、制御信号を送出する機能を有するものである。かかる電気回路32により、受発光素子5の駆動を制御することができる。   Although not shown, the electric circuit 32 is formed by patterning a conductive layer into a predetermined shape. The electric circuit 32 electrically connects the light emitting / receiving element 5 to a power source and various ICs (not shown), and has a function of supplying drive power to the light emitting / receiving element 5 and sending a control signal. It is. The electric circuit 32 can control the driving of the light emitting / receiving element 5.

電気回路32を構成する導電層の平均厚さは、電気回路32の構成材料や電気回路32に要求される電気抵抗値等に応じて適宜設定されるものの、一例として1〜30μm程度とされる。   The average thickness of the conductive layer constituting the electric circuit 32 is appropriately set according to the constituent material of the electric circuit 32, the electric resistance value required for the electric circuit 32, and the like, but is about 1 to 30 μm as an example. .

電気回路32の構成材料としては、例えば、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、金(Au)、銀(Ag)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)等の各種金属材料が挙げられる。   Examples of the constituent material of the electric circuit 32 include aluminum (Al), copper (Cu), gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), nickel (Ni), tungsten (W), and molybdenum (Mo). And various metal materials.

支持基板31は、電気回路32の下方に設けられ、電気回路32を支持する基板である。
支持基板31としては、前述した支持基板21と同様のものが用いられる。
The support substrate 31 is a substrate that is provided below the electric circuit 32 and supports the electric circuit 32.
As the support substrate 31, the thing similar to the support substrate 21 mentioned above is used.

レジスト層33は、電気回路32の上面のうち、端子部34を除く領域を覆うように設けられた絶縁性の被膜(ソルダーレジスト)である。
レジスト層33の構成材料としては、例えば、各種熱硬化性樹脂等が挙げられる。
The resist layer 33 is an insulating film (solder resist) provided so as to cover a region excluding the terminal portion 34 on the upper surface of the electric circuit 32.
Examples of the constituent material of the resist layer 33 include various thermosetting resins.

このようなレジスト層33を設けることにより、電気回路32の上面のうち、端子部34を形成すべき領域には電気回路32の一部が露出し、それ以外の領域はレジスト層33で覆われることになる。これにより、レジスト層33を設けた電気回路基板3を溶融ハンダ中に浸漬し、または溶融ハンダに接触させたとき、電気回路32が露出した領域のみにハンダが付着する。その結果、この領域にハンダからなる端子部34を効率よく形成することができる。   By providing such a resist layer 33, a part of the electric circuit 32 is exposed in a region where the terminal portion 34 is to be formed on the upper surface of the electric circuit 32, and the other region is covered with the resist layer 33. It will be. Thereby, when the electric circuit board 3 provided with the resist layer 33 is immersed in molten solder or brought into contact with the molten solder, the solder adheres only to a region where the electric circuit 32 is exposed. As a result, the terminal portion 34 made of solder can be efficiently formed in this region.

端子部34を構成するハンダとしては、例えば、Sn−Pb系の鉛ハンダの他、Sn−Ag−Cu系、Sn−Zn−Bi系、Sn−Cu系、Sn−Ag−In−Bi系、Sn−Zn−Al系の各種鉛フリーハンダ、各種低温ろう材等が挙げられる。   As the solder constituting the terminal portion 34, for example, Sn-Pb lead solder, Sn-Ag-Cu system, Sn-Zn-Bi system, Sn-Cu system, Sn-Ag-In-Bi system, Sn-Zn-Al-based various lead-free solders, various low-temperature brazing materials and the like can be mentioned.

なお、端子部34はハンダ以外の導電性材料、例えば導電性ペースト(ハンダペースト、Agペースト、Cuペースト、Auペースト等)や導電性インクを供給した後、焼成することにより得られたものであってもよい。   The terminal portion 34 is obtained by firing after supplying a conductive material other than solder, such as a conductive paste (solder paste, Ag paste, Cu paste, Au paste, etc.) or conductive ink. May be.

また、端子部34がハンダで構成される場合、電気回路32を構成する金属成分の一部がハンダ側に溶解する現象が生じるおそれがある。この現象は、特に銅配線に対して生じる場合が多いことから「銅食われ」と呼ばれている。以下、銅食われを例に説明する。   Moreover, when the terminal part 34 is comprised with solder, there exists a possibility that the phenomenon in which a part of metal component which comprises the electric circuit 32 melt | dissolves in the solder side may arise. This phenomenon is called “copper erosion” because it often occurs particularly with respect to copper wiring. Hereinafter, an example of copper erosion will be described.

銅食われが発生すると、電気回路32が細くなったり、断線したりする等の不具合を招き、電気回路32の機能を損なうおそれがある。   If copper erosion occurs, the electric circuit 32 may be thinned or disconnected, and the function of the electric circuit 32 may be impaired.

そこで、端子部34と接する電気回路32の表面には、端子部34の形成に先立ち、ハンダの下地として銅食われ防止膜(下地層)を形成しておくのが好ましい。この銅食われ防止膜の形成により、銅食われが防止され、電気回路32の機能を長期にわたって維持することができる。   Therefore, it is preferable to form a copper erosion preventive film (underlayer) on the surface of the electric circuit 32 in contact with the terminal portion 34 as a solder base prior to the formation of the terminal portion 34. By forming the copper erosion prevention film, copper erosion is prevented and the function of the electric circuit 32 can be maintained for a long period of time.

銅食われ防止膜の構成材料としては、例えば、ニッケル(Ni)、金(Au)、白金(Pt)、スズ(Sn)、パラジウム(Pd)等が挙げられ、銅食われ防止膜は、これらの金属組成1種からなる単層であってもよく、2種以上を含む複合層(例えば、Ni−Au複合層、Ni−Sn複合層等)であってもよい。   Examples of the constituent material of the copper corrosion prevention film include nickel (Ni), gold (Au), platinum (Pt), tin (Sn), palladium (Pd), and the like. A single layer composed of one kind of metal composition may be used, or a composite layer containing two or more kinds (for example, a Ni—Au composite layer, a Ni—Sn composite layer, etc.) may be used.

銅食われ防止膜の平均厚さは、特に限定されないが、0.05〜5μm程度であるのが好ましく、0.1〜3μm程度であるのがより好ましい。これにより、銅食われ防止膜そのものの電気抵抗を抑制しつつ、十分な銅食われ防止作用を発現させることができる。   The average thickness of the copper erosion preventing film is not particularly limited, but is preferably about 0.05 to 5 μm, and more preferably about 0.1 to 3 μm. Thereby, it is possible to exhibit a sufficient copper erosion preventing action while suppressing the electrical resistance of the copper erosion preventing film itself.

(ボンディングシート)
ボンディングシート41は、光回路基板2と電気回路基板3との間および光回路基板2と受発光素子5との間をそれぞれ接着するシート状の接着剤である。また、ボンディングシート41は光透過性を有するものである。
(Bonding sheet)
The bonding sheet 41 is a sheet-like adhesive that bonds between the optical circuit board 2 and the electric circuit board 3 and between the optical circuit board 2 and the light receiving and emitting element 5. The bonding sheet 41 is light transmissive.

このようなボンディングシート41は、光回路22のクラッド層222よりも屈折率の低い材料で構成されるのが好ましい。これにより、光回路22と電気回路基板3との界面が、光回路22よりも低屈折率になるため、光回路22からの光漏れを抑制することができる。その結果、光回路22の伝送損失を低減することができる。   Such a bonding sheet 41 is preferably made of a material having a lower refractive index than the cladding layer 222 of the optical circuit 22. As a result, the interface between the optical circuit 22 and the electric circuit board 3 has a lower refractive index than that of the optical circuit 22, so that light leakage from the optical circuit 22 can be suppressed. As a result, the transmission loss of the optical circuit 22 can be reduced.

ここで、ボンディングシート41としては、例えば、熱硬化性樹脂、ウレタン樹脂およびアクリル系樹脂の少なくとも1種を含む接着剤をシート状に成形してなるもの等、が挙げられる。   Here, examples of the bonding sheet 41 include a sheet formed by molding an adhesive containing at least one of a thermosetting resin, a urethane resin, and an acrylic resin.

熱硬化性樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂のようなビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のようなノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル等のような芳香族エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂等の各種エポキシ樹脂のほか、ポリイミド、ポリアミドイミドのようなイミド樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of thermosetting resins include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol AD type epoxy resins, bisphenol type epoxy resins such as bisphenol S type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, and cresol novolac type epoxies. In addition to various epoxy resins such as novolak type epoxy resins such as resins, aromatic epoxy resins such as trisphenolmethane triglycidyl ether, naphthalene type epoxy resins and dicyclopentadiene type epoxy resins, such as polyimide and polyamideimide Examples thereof include imide resins, silicone resins, phenol resins, urea resins, and the like, and one or more of them can be used in combination.

ボンディングシート41の具体例としては、共同技研化学(株)製 SB30、信越化学工業(株)製 E50、東洋インキ製造(株)製 TSU0042等が挙げられる。   Specific examples of the bonding sheet 41 include SB30 manufactured by Kyoku Giken Chemical Co., Ltd., E50 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., TSU0042 manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., and the like.

また、ボンディングシート41の構成材料は、上記の熱硬化性樹脂に、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)、反応性末端カルボキシル基NBR(CTBN)、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、ポリブタジエン、アクリルゴム等のゴム成分、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ビニルウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂のような熱可塑性樹脂を含有させたものでもよい。これらのゴム成分および熱可塑性樹脂の含有率は、それぞれエポキシ樹脂に対して10〜200質量%程度であるのが好ましく、20〜150質量%程度であるのがより好ましい。   The constituent material of the bonding sheet 41 is made of the above-mentioned thermosetting resin such as acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), reactive terminal carboxyl group NBR (CTBN), styrene-butadiene rubber (SBR), polybutadiene, acrylic rubber, etc. A rubber component, a vinyl acetate resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl acetal resin, an acrylic resin, a polyacrylonitrile resin, a vinyl urethane resin, a polyester resin, or a thermoplastic resin such as a polyamide resin may be contained. The content of these rubber components and thermoplastic resin is preferably about 10 to 200% by mass, more preferably about 20 to 150% by mass, respectively, based on the epoxy resin.

さらに、この熱硬化性樹脂には、必要に応じて、アミン系硬化剤、フェノール系硬化剤のような各種硬化剤、硬化促進剤、シランカップリング剤等の添加物が添加されていてもよい。   Furthermore, additives such as various curing agents such as amine-based curing agents and phenol-based curing agents, curing accelerators, and silane coupling agents may be added to the thermosetting resin as necessary. .

なお、ボンディングシート41は、上述したような原材料(接着剤成分)に溶媒を加え、得られた液状材料を基材上に塗布し、得られた液状被膜を加熱して予備硬化(半硬化)することにより形成される。この予備硬化は、熱硬化性樹脂の硬化温度未満で、かつ熱可塑性樹脂の軟化点以上の温度で液状被膜を加熱することにより行われる。予備硬化における加熱条件の具体例としては、50〜100℃×5〜60秒程度である。このように予備硬化をした状態では、ボンディングシート41の接着性は比較的弱いので、接着のやり直し(リペア)を容易に行うことができる。   The bonding sheet 41 is pre-cured (semi-cured) by adding a solvent to the raw material (adhesive component) as described above, applying the obtained liquid material on the substrate, and heating the obtained liquid film. It is formed by doing. This pre-curing is performed by heating the liquid film at a temperature below the curing temperature of the thermosetting resin and above the softening point of the thermoplastic resin. As a specific example of the heating conditions in the pre-curing, it is about 50-100 ° C. × 5-60 seconds. In such a pre-cured state, the adhesiveness of the bonding sheet 41 is relatively weak, so that the re-adhesion (repair) can be easily performed.

また、ボンディングシート41の平均厚さは、特に限定されないが、1〜100μm程度であるのが好ましく、5〜50μm程度であるのがより好ましい。ボンディングシート41の厚さを前記範囲内とすることにより、ボンディングシート41は、光回路基板2と電気回路基板3との間および光回路基板2と受発光素子5との間をそれぞれ確実に接着するとともに、十分な光透過性を有するものとなる。このため、光回路基板2と受発光素子5との間を確実に固定するとともに、光回路基板2と受発光素子5との間にボンディングシート41が介在していても、ボンディングシート41を透過する際の光損失を十分に抑制することができる。   The average thickness of the bonding sheet 41 is not particularly limited, but is preferably about 1 to 100 μm, and more preferably about 5 to 50 μm. By setting the thickness of the bonding sheet 41 within the above range, the bonding sheet 41 can securely bond between the optical circuit board 2 and the electric circuit board 3 and between the optical circuit board 2 and the light receiving and emitting element 5 respectively. In addition, it has sufficient light transmittance. Therefore, the optical circuit board 2 and the light emitting / receiving element 5 are securely fixed, and the bonding sheet 41 is transmitted even if the bonding sheet 41 is interposed between the optical circuit board 2 and the light receiving / emitting element 5. It is possible to sufficiently suppress the optical loss during the process.

さらに、ボンディングシート41の厚さが前記範囲内であれば、このボンディングシート41自体が、光回路基板2と受発光素子5との間の熱膨張差を緩和することも期待できる。これにより、ボンディングシート41を備えた光電気混載基板1は、湾曲等の変形や、それに伴う光損失の増大等の不具合を防止することができる。   Furthermore, if the thickness of the bonding sheet 41 is within the above range, the bonding sheet 41 itself can be expected to reduce the difference in thermal expansion between the optical circuit board 2 and the light emitting / receiving element 5. Thereby, the opto-electric hybrid board 1 provided with the bonding sheet 41 can prevent problems such as a deformation such as a curve and an increase in optical loss associated therewith.

(受発光素子)
受発光素子5は、電気信号を光信号に変換してこれを光回路22に入射する発光素子、または、光回路22から出射した光信号を受光して電気信号に変換する受光素子である。
(Light emitting / receiving element)
The light emitting / receiving element 5 is a light emitting element that converts an electric signal into an optical signal and enters the optical signal 22 or a light receiving element that receives an optical signal emitted from the optical circuit 22 and converts it into an electric signal.

発光素子としては、面発光レーザー(VCSEL)、発光ダイオード(LED)等が挙げられ、一方、受光素子としては、フォトダイオード(PD、APD)等が挙げられる。   Examples of the light emitting element include a surface emitting laser (VCSEL), a light emitting diode (LED), and the like, and examples of the light receiving element include a photodiode (PD, APD).

図2に示す受発光素子5は、パッケージ51と、パッケージ51の側面のうち、コア部224の端面に臨む位置に設けられた受発光部52と、端子部34に臨む位置に設けられた電気接続用パッド53とを有している。   The light emitting / receiving element 5 shown in FIG. 2 includes a package 51, and a light receiving / emitting part 52 provided at a position facing the end face of the core part 224 on the side surface of the package 51, and an electric provided at a position facing the terminal part 34. And a connection pad 53.

そして、受発光素子5は、前述したボンディングシート41により光回路基板2と接着されている。これにより、光回路22の端面と受発光部52とが対向配置され、これらの間が固定されるとともに光学的に接続される。   The light emitting / receiving element 5 is bonded to the optical circuit board 2 by the bonding sheet 41 described above. As a result, the end face of the optical circuit 22 and the light emitting / receiving unit 52 are arranged to face each other, and the space between them is fixed and optically connected.

また、端子部34を構成するハンダは、リフローにより溶融し流動化して、端子部34の近傍に位置する電気接続用パッド53に接触している。これにより、電気回路32と電気接続用パッド53との間が端子部34を介して固定されるとともに電気的に接続されている。   Further, the solder constituting the terminal portion 34 is melted and fluidized by reflow and is in contact with the electrical connection pad 53 located in the vicinity of the terminal portion 34. As a result, the electrical circuit 32 and the electrical connection pad 53 are fixed and electrically connected via the terminal portion 34.

また、電気回路32の左端の端面は、図2に示すように、電気回路基板3の端面に露出している。この電気回路32の左端の端面には、溶融したハンダが濡れ広がることにより、電気回路32と電気接続用パッド53との間が、より広い面積で接続されることとなる。その結果、接続部に集中し易い応力を確実に緩和することができる。   The left end face of the electric circuit 32 is exposed at the end face of the electric circuit board 3 as shown in FIG. The molten solder wets and spreads on the left end face of the electric circuit 32, so that the electric circuit 32 and the electric connection pad 53 are connected in a wider area. As a result, it is possible to reliably relieve stress that tends to concentrate on the connection portion.

以上のような光電気混載基板1は、前述したように、ミラーのような光路変換構造を用いる必要がないため、光路変換時の光損失を大幅に抑制することを可能にする。さらには、受発光素子5の位置合わせに際しては、例えばコア部224の中心軸と受発光部52の中心とを一致させればよく、位置合わせのプロセスを単純化することも可能である。   The opto-electric hybrid board 1 as described above does not need to use an optical path conversion structure such as a mirror as described above, so that it is possible to greatly suppress optical loss during optical path conversion. Furthermore, when aligning the light emitting / receiving element 5, for example, the central axis of the core portion 224 and the center of the light receiving / emitting portion 52 may be aligned, and the alignment process can be simplified.

よって、本発明の光電気混載基板によれば、光学的接続性および電気的接続性の高い高品質の光電気混載基板1が得られる。   Therefore, according to the opto-electric hybrid board of the present invention, a high-quality opto-electric hybrid board 1 having high optical connectivity and high electrical connectivity can be obtained.

<光電気混載基板の製造方法>
次に、上述したような光電気混載基板1の製造方法(本発明の光電気混載基板の製造方法)について説明する。
<Method for manufacturing opto-electric hybrid board>
Next, the manufacturing method of the opto-electric hybrid board 1 as described above (the opto-electric hybrid board manufacturing method of the present invention) will be described.

図1に示す光電気混載基板1は、光回路基板2と電気回路基板3とボンディングシート41とをそれぞれ用意し、これらを積層した後、得られた積層体と受発光素子5とを接着することにより製造される。   The opto-electric hybrid board 1 shown in FIG. 1 is prepared with an optical circuit board 2, an electric circuit board 3, and a bonding sheet 41, and after laminating them, the obtained laminate and the light emitting / receiving element 5 are bonded. It is manufactured by.

また、光回路基板2は、クラッド層221と、コア層223と、クラッド層222と、支持基板21とをそれぞれ用意し、これらを積層することにより製造される。   The optical circuit board 2 is manufactured by preparing the clad layer 221, the core layer 223, the clad layer 222, and the support substrate 21 and laminating them.

さらに、電気回路基板3は、支持基板31上に、電気回路32が形成された導電層を形成し、その後、レジスト層33および端子部34を順次形成することにより製造される。   Furthermore, the electric circuit board 3 is manufactured by forming a conductive layer on which the electric circuit 32 is formed on the support substrate 31, and then sequentially forming a resist layer 33 and a terminal portion.

以下、光電気混載基板1の製造方法について順次説明する。
[1]電気回路基板の製造
[1−1]まず、支持基板31を用意し、その上面の一部または全部を覆うように導電層を形成する。
Hereinafter, a method for manufacturing the opto-electric hybrid board 1 will be sequentially described.
[1] Manufacture of electric circuit board [1-1] First, the support substrate 31 is prepared, and a conductive layer is formed so as to cover a part or all of the upper surface thereof.

この導電層は、前述した金属組成の被膜であり、かかる被膜は、プラズマCVD、熱CVD、レーザーCVDのような化学蒸着法、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の物理蒸着法、電解めっき、無電解めっき等のめっき法、溶射法、ゾル・ゲル法、MOD法等の方法により形成される。   This conductive layer is a film having the above-described metal composition, and such a film is formed by chemical vapor deposition such as plasma CVD, thermal CVD, or laser CVD, physical vapor deposition such as vacuum vapor deposition, sputtering, or ion plating, electroplating, It is formed by a plating method such as electroless plating, a thermal spraying method, a sol-gel method, a MOD method, or the like.

次いで、この導電層を、各種パターニング法によりパターニングする。パターニング法としては、例えばフォトリソグラフィー法とエッチング法とを組み合わせた方法が挙げられる。
以上のようにして、導電層に電気回路32が形成される。
Next, this conductive layer is patterned by various patterning methods. Examples of the patterning method include a method in which a photolithography method and an etching method are combined.
As described above, the electric circuit 32 is formed in the conductive layer.

なお、電気回路32の形成方法は、上記の方法に限定されず、導電性ペースト、導電性インク等を、支持基板31の上面の所定の領域に(電気回路32のパターンに沿って)供給した後、焼成する方法であってもよい。供給の方法としては、各種印刷法、各種塗布法等が挙げられる。   The method for forming the electric circuit 32 is not limited to the above method, and a conductive paste, a conductive ink, or the like is supplied to a predetermined region on the upper surface of the support substrate 31 (along the pattern of the electric circuit 32). Thereafter, a firing method may be used. Examples of the supply method include various printing methods and various coating methods.

[1−2]次いで、電気回路32が形成された導電層上に、レジスト層33を形成する(図3(a)参照)。   [1-2] Next, a resist layer 33 is formed on the conductive layer on which the electric circuit 32 is formed (see FIG. 3A).

このレジスト層33は、形成用組成物を塗布して液状被膜を形成した後、溶媒を蒸発(脱溶媒)することにより形成される。なお、レジスト層33は、その一部が欠損するように形成されるが、この部分(図3(a)の欠損部分330)は、後述する工程において切断され、端子部34を形成する領域になることを踏まえ、この領域を包含するように形成される。   The resist layer 33 is formed by applying a forming composition to form a liquid film and then evaporating (desolving) the solvent. Note that the resist layer 33 is formed so that a part of the resist layer 33 is missing, but this part (the missing part 330 in FIG. 3A) is cut in a process to be described later in a region where the terminal part 34 is formed. Therefore, it is formed to include this region.

次いで、端子部34を形成する領域に合わせて、図3(b)に示す切断線CLに沿って欠損部分330を切断する。欠損部分330は、その幅方向(図3の紙面の奥行方向)に沿って切断されることにより、切断後の欠損部分330には、端子部34を形成する領域が簡単に形成されることとなる。なお、図3(c)では、この領域を端子部形成領域340とし、この端子部形成領域340に隣接する導電層の端面を導電層端面341とする。   Next, the defect portion 330 is cut along the cutting line CL shown in FIG. 3B in accordance with the region where the terminal portion 34 is formed. The defect portion 330 is cut along the width direction (the depth direction of the paper surface of FIG. 3), so that a region for forming the terminal portion 34 is easily formed in the defect portion 330 after cutting. Become. In FIG. 3C, this region is a terminal portion formation region 340, and the end surface of the conductive layer adjacent to this terminal portion formation region 340 is a conductive layer end surface 341.

支持基板31および電気回路32の切断には、ブレードカット式ダイサー、レーザー式ダイサー等のダイサーが用いられる。   For the cutting of the support substrate 31 and the electric circuit 32, a dicer such as a blade-cut dicer or a laser dicer is used.

なお、切断により分割された図3の左側部分は、通常廃棄されるが、切断線CLの位置を最適化することにより、左側部分も電気回路基板3の製造に供することができる。この場合、切断線CLに対して左右の構成を線対称の関係を満たすように設計すればよい。これにより、切断により分割された2つの部材は、それぞれ実質的に同等のものになる。したがって、1回の切断プロセスにより、2つの電気回路基板3の製造用部材を同時に製造することができる。   The left part of FIG. 3 divided by cutting is normally discarded, but the left part can also be used for manufacturing the electric circuit board 3 by optimizing the position of the cutting line CL. In this case, what is necessary is just to design the structure on either side with respect to the cutting line CL so that a line-symmetrical relationship may be satisfy | filled. Thereby, the two members divided by cutting are substantially equivalent to each other. Therefore, two members for manufacturing the electric circuit board 3 can be manufactured simultaneously by a single cutting process.

[1−3]次いで、端子部形成領域340および導電層端面341に、前述した銅食われ防止膜(図示せず)を形成する。かかる銅食われ防止膜は、例えば、電界めっき法、無電解めっき法等の各種めっき法により形成される(図3(d)参照)。   [1-3] Next, the above-described copper erosion prevention film (not shown) is formed on the terminal portion formation region 340 and the conductive layer end surface 341. Such a copper erosion prevention film is formed by various plating methods such as an electroplating method and an electroless plating method (see FIG. 3D).

なお、銅食われ防止膜の形成領域は、上記の例に限定されず、端子部形成領域340のみ、または導電層端面341のみに形成されていてもよい。   The formation region of the copper erosion prevention film is not limited to the above example, and may be formed only on the terminal portion formation region 340 or only on the conductive layer end surface 341.

[1−4]次いで、端子部形成領域340に溶融したハンダを接触させる。これにより、溶融したハンダが端子部形成領域340に付着し、端子部34が形成される(図3(e)参照)。   [1-4] Next, the molten solder is brought into contact with the terminal portion forming region 340. As a result, the molten solder adheres to the terminal portion forming region 340, and the terminal portion 34 is formed (see FIG. 3E).

以上、端子部形成領域340に溶融ハンダを接触させることにより端子部34を形成する方法について説明したが、前述したように端子部34は、上記の方法以外の方法によっても形成可能である。   The method for forming the terminal portion 34 by bringing molten solder into contact with the terminal portion forming region 340 has been described above. However, as described above, the terminal portion 34 can be formed by a method other than the above method.

具体的には、端子部形成領域340にハンダペーストを塗布する方法、ハンダをめっきする方法等が挙げられる。   Specifically, a method of applying a solder paste to the terminal portion forming region 340, a method of plating solder, and the like can be mentioned.

このうち、ハンダペーストの塗布法としては、例えば、ロールコート法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサー塗布法等の各種塗布法(印刷法)が挙げられる。   Among these, examples of the solder paste coating method include various coating methods (printing methods) such as a roll coating method, a screen printing method, an ink jet printing method, and a dispenser coating method.

一方、ハンダをめっきする方法としては、例えば、電解めっき法、無電解めっき法等の各種めっき法が挙げられる。   On the other hand, examples of the method for plating the solder include various plating methods such as an electrolytic plating method and an electroless plating method.

この他、端子部形成領域340にハンダボールやハンダフレーク等のハンダ材料を載せた後、これらを溶融することによっても、端子部34を形成することができる。
以上のようにして電気回路基板3が製造される。
In addition, the terminal portion 34 can also be formed by placing a solder material such as a solder ball or solder flake on the terminal portion forming region 340 and then melting the solder material.
The electric circuit board 3 is manufactured as described above.

[2]光回路基板の製造
[2−1]まず、クラッド層221、コア層223およびクラッド層222をそれぞれ製造する。これらは、基材上に、各層の形成用組成物を塗布して液状被膜を形成した後、この基材を換気されたレベルテーブルにおいて、液状被膜表面の不均一な部分を水平化するとともに、溶媒を蒸発(脱溶媒)することにより形成する。
[2] Manufacture of Optical Circuit Board [2-1] First, the cladding layer 221, the core layer 223, and the cladding layer 222 are respectively manufactured. On these substrates, after forming the liquid film by applying the composition for forming each layer on the base material, in the level table where the base material is ventilated, the uneven surface portion of the liquid film surface is leveled. Formed by evaporation (desolvation) of the solvent.

液状被膜を形成するための塗布法としては、例えば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法等の方法が挙げられる。   Examples of the coating method for forming the liquid film include a doctor blade method, a spin coating method, a dipping method, a table coating method, a spray method, an applicator method, a curtain coating method, and a die coating method.

また、同一層(コア層223)内に、コア部224と、側面クラッド部225を形成し得る方法としては、例えば、フォトブリーチング法、フォトリソグラフィー法、直接露光法、ナノインプリンティング法、モノマーディフュージョン法等が挙げられる。   In addition, as a method for forming the core portion 224 and the side cladding portion 225 in the same layer (core layer 223), for example, a photobleaching method, a photolithography method, a direct exposure method, a nanoimprinting method, a monomer Examples include the diffusion method.

そして、形成したクラッド層221、コア層223およびクラッド層222を、互いに圧着する。これにより、クラッド層221、コア層223およびクラッド層222が接合、一体化され、光回路22が得られる。   Then, the formed clad layer 221, core layer 223, and clad layer 222 are pressure-bonded to each other. Thereby, the clad layer 221, the core layer 223, and the clad layer 222 are joined and integrated, and the optical circuit 22 is obtained.

[2−2]次いで、支持基板21を用意し、製造した光回路22と支持基板21とを積層する。   [2-2] Next, the support substrate 21 is prepared, and the manufactured optical circuit 22 and the support substrate 21 are laminated.

なお、光回路22と支持基板21との間は、各種接着剤(粘着剤を含む。)等で接着されてもよいが、クラッド層221が接着性を有している場合、光回路22と支持基板21とを直接接着するようにしてもよい。
以上のようにして光回路基板2が製造される。
The optical circuit 22 and the support substrate 21 may be bonded with various adhesives (including an adhesive). However, when the cladding layer 221 has adhesiveness, The support substrate 21 may be directly bonded.
The optical circuit board 2 is manufactured as described above.

[3]電気回路基板と光回路基板との積層
まず、図4(f)に示すように、電気回路基板3の下面にボンディングシート41を貼り付ける。この際、ボンディングシート41の端部のうち、左側の端部については、電気回路基板3と重ならないようにして貼り付けを行う。すなわち、ボンディングシート41の左側の端部を電気回路基板3からはみ出させるようにして貼り付けを行う。また、電気回路基板3と重ならない部分の長さは、光回路基板2の厚さ以上とされる。
[3] Lamination of Electric Circuit Board and Optical Circuit Board First, as shown in FIG. 4 (f), a bonding sheet 41 is attached to the lower surface of the electric circuit board 3. At this time, among the end portions of the bonding sheet 41, the left end portion is pasted so as not to overlap the electric circuit board 3. That is, the bonding is performed so that the left end portion of the bonding sheet 41 protrudes from the electric circuit board 3. The length of the portion that does not overlap the electric circuit board 3 is equal to or greater than the thickness of the optical circuit board 2.

次いで、図4(g)に示すように、ボンディングシート41の下面に、光回路基板2を貼り付ける。これにより、ボンディングシート41を介して電気回路基板3と光回路基板2とが積層される(第1の工程)。   Next, as shown in FIG. 4G, the optical circuit board 2 is attached to the lower surface of the bonding sheet 41. Thereby, the electric circuit board 3 and the optical circuit board 2 are laminated via the bonding sheet 41 (first step).

この際、電気回路基板3の左側の端面と、光回路基板2の左側の端面とが一致するように積層するのが好ましい。   At this time, it is preferable to laminate so that the left end face of the electric circuit board 3 and the left end face of the optical circuit board 2 coincide.

次いで、図4(h)に示すように、ボンディングシート41の左側の端部を光回路基板2側に折り曲げる。ボンディングシート41の折り曲げられた部分は、図4(h)に示す折り曲げ部410とする。折り曲げ部410は、光回路基板2の端面を覆うように接着されることとなる。   Next, as shown in FIG. 4H, the left end of the bonding sheet 41 is bent toward the optical circuit board 2 side. The bent portion of the bonding sheet 41 is a bent portion 410 shown in FIG. The bent portion 410 is bonded so as to cover the end surface of the optical circuit board 2.

この折り曲げ部410は、光回路基板2の端面と受発光素子5との接着を担う。このようにして、電気回路基板3と光回路基板2との間の接着を担うボンディングシート41の一部を折り曲げることにより、極めて狭い領域である光回路基板2の端面に対してボンディングシート41を簡単かつ正確に貼り付けることができる。   The bent portion 410 serves to bond the end face of the optical circuit board 2 and the light emitting / receiving element 5. In this way, by bending a part of the bonding sheet 41 responsible for adhesion between the electric circuit board 3 and the optical circuit board 2, the bonding sheet 41 is attached to the end face of the optical circuit board 2 which is a very narrow area. Can be pasted easily and accurately.

また、電気回路基板3と光回路基板2との間と、光回路基板2の端面と受発光素子5との間とを、それぞれ個別のボンディングシートで接着するようにしてもよいが、上述したように1枚のボンディングシート41を途中で折り曲げて用いることにより、個別のボンディングシートを用いる場合に比べて、互いの位置合わせをする必要がないため、貼り合わせ作業がより容易になるという利点もある。   In addition, the electrical circuit board 3 and the optical circuit board 2 and the end face of the optical circuit board 2 and the light emitting / receiving element 5 may be bonded with individual bonding sheets. As described above, since one bonding sheet 41 is used while being bent in the middle, it is not necessary to align each other as compared with the case where individual bonding sheets are used, so that the bonding operation becomes easier. is there.

なお、電気回路基板3と光回路基板2との間と、光回路基板2の端面と受発光素子5との間とを、それぞれ個別のボンディングシートで接着する場合には、電気回路基板3と光回路基板2との間を接着するボンディングシートは、必ずしも光透過性を有していなくてもよい。   In addition, when bonding between the electric circuit board 3 and the optical circuit board 2 and between the end face of the optical circuit board 2 and the light emitting / receiving element 5 with individual bonding sheets, the electric circuit board 3 and The bonding sheet for bonding between the optical circuit board 2 and the optical circuit board 2 does not necessarily have to be light transmissive.

またこの場合、光回路基板2の端面と受発光素子5との間をボンディングシートで接着する場合には、このボンディングシートを、あらかじめ光回路基板2の端面に貼り付けた状態で接着に用いてもよく、反対に受発光素子5に貼り付けた状態で接着に用いるようにしてもよい。また、場合によっては、双方にボンディングシートを貼り付けた後、ボンディングシート同士を接着するようにしてもよい。   Further, in this case, when the end face of the optical circuit board 2 and the light receiving / emitting element 5 are bonded with a bonding sheet, the bonding sheet is used for bonding in a state of being bonded to the end face of the optical circuit board 2 in advance. On the contrary, it may be used for bonding in a state of being attached to the light emitting / receiving element 5. In some cases, the bonding sheets may be bonded to each other and then bonded to each other.

また、電気回路基板3と光回路基板2との間は、ボンディングシート以外の方法で接着されていてもよい。   Further, the electric circuit board 3 and the optical circuit board 2 may be bonded by a method other than the bonding sheet.

この方法としては、例えば、熱圧着、接着剤(粘着剤を含む。)による接着等が挙げられる。   Examples of this method include thermocompression bonding and adhesion using an adhesive (including a pressure-sensitive adhesive).

このうち、熱圧着は、クラッド層222が接着性を有している場合、または、電気回路基板3の支持基板31が接着性を有している場合に、加熱により接着性を発現させることで、電気回路基板3と光回路基板2との間を接着する方法である。   Among these, the thermocompression bonding is performed by developing the adhesiveness by heating when the clad layer 222 has adhesiveness or when the support substrate 31 of the electric circuit board 3 has adhesiveness. In this method, the electrical circuit board 3 and the optical circuit board 2 are bonded together.

一方、接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤の他、各種ホットメルト接着剤(ポリエステル系、変性オレフィン系)等が挙げられる。また、特に耐熱性の高いものとして、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリイミドアミドエーテル、ポリエステルイミド、ポリイミドエーテル等の熱可塑性ポリイミド接着剤が挙げられる。
以上のようにして図4(h)に示す積層基板(積層体)10が得られる。
On the other hand, as an adhesive agent, various hot-melt-adhesives (polyester type | system | group, modified olefin type | system | group) etc. are mentioned other than an acrylic adhesive, a urethane type adhesive agent, a silicone type adhesive agent, for example. Moreover, as a thing with especially high heat resistance, thermoplastic polyimide adhesive agents, such as a polyimide, a polyimide amide, a polyimide amide ether, a polyester imide, a polyimide ether, are mentioned.
As described above, the laminated substrate (laminated body) 10 shown in FIG.

[4]受発光素子の搭載
まず、図5(i)に示すように、得られた積層基板10を回転させ、折り曲げ部410が上方を向くように固定する。換言すれば、折り曲げ部410が鉛直上方になるよう、積層基板10を鉛直方向と平行になるように配置する。
[4] Mounting of light emitting / receiving element First, as shown in FIG. 5I, the obtained laminated substrate 10 is rotated and fixed so that the bent portion 410 faces upward. In other words, the laminated substrate 10 is arranged so as to be parallel to the vertical direction so that the bent portion 410 is vertically upward.

次いで、鉛直上方から受発光素子5を、積層基板10の端面上(折り曲げ部410上)に載置する(第2の工程)。この載置は、例えば、フリップチップボンダー等の各種ボンダーを用いて行うことができる。これにより、光回路22の入射端または出射端と、受発光素子5の受発光部52とを高い精度で位置合わせすることができる。   Next, the light emitting / receiving element 5 is placed on the end surface (on the bent portion 410) of the multilayer substrate 10 from above (second step). This placement can be performed using, for example, various bonders such as a flip chip bonder. Thereby, the incident end or the emission end of the optical circuit 22 and the light emitting / receiving unit 52 of the light receiving / emitting element 5 can be aligned with high accuracy.

積層基板10の端面上に受発光素子5を載置すると、ボンディングシート41の折り曲げ部410により、光回路基板2と受発光素子5とが仮接着され、その後の加熱によりボンディングシート41が本硬化することで両者の接着が完了する。その結果、光回路22と受発光素子5とが光学的に接続されることとなる。なお、ボンディングシート41は、比較的高い柔軟性を有するシートであるため、受発光部52が受発光素子5の側面から突出している場合には、ボンディングシート41内に受発光部52が埋入された状態になる。これにより、受発光部52を確実に保護することができる。この際の加熱条件は、特に限定されないが、一例として120〜300℃×1〜120分程度とされる。   When the light emitting / receiving element 5 is placed on the end surface of the multilayer substrate 10, the optical circuit board 2 and the light emitting / receiving element 5 are temporarily bonded by the bent portion 410 of the bonding sheet 41, and the bonding sheet 41 is finally cured by heating thereafter. This completes the adhesion between the two. As a result, the optical circuit 22 and the light emitting / receiving element 5 are optically connected. Since the bonding sheet 41 is a sheet having a relatively high flexibility, when the light emitting / receiving section 52 protrudes from the side surface of the light receiving / emitting element 5, the light receiving / emitting section 52 is embedded in the bonding sheet 41. It will be in the state. Thereby, the light emitting / receiving unit 52 can be reliably protected. Although the heating conditions in this case are not particularly limited, as an example, it is set to about 120 to 300 ° C. for about 1 to 120 minutes.

また、ボンディングシート41は、加熱により強固な接着性を発現するものが一般的であり、加熱前の接着性は比較的弱い。このため、光回路基板2の端面に受発光素子5を仮接着した後、互いの位置をずらす等の位置調整を行うことができ、位置精度を容易に高めることができる。   The bonding sheet 41 is generally one that develops strong adhesiveness by heating, and the adhesiveness before heating is relatively weak. For this reason, after temporarily attaching / receiving the light emitting / receiving element 5 to the end face of the optical circuit board 2, it is possible to perform position adjustment such as shifting the positions of the light receiving / emitting element 5, and the position accuracy can be easily increased.

次いで、積層基板10と受発光素子5との組立体をリフローに供する。これにより、端子部34を構成するハンダが溶融し、溶融したハンダは、受発光素子5の電気接続用パッド53と端子部34との間の隙間を埋めるように濡れ広がる。これにより、電気接続用パッド53と端子部34とが電気的に接続され、図6(k)に示す光電気混載基板1が製造される(第3の工程)。   Next, the assembly of the laminated substrate 10 and the light emitting / receiving element 5 is subjected to reflow. Thereby, the solder constituting the terminal portion 34 is melted, and the melted solder wets and spreads so as to fill a gap between the electrical connection pad 53 of the light emitting and receiving element 5 and the terminal portion 34. Thereby, the electrical connection pad 53 and the terminal portion 34 are electrically connected, and the opto-electric hybrid board 1 shown in FIG. 6K is manufactured (third step).

ここで、受発光素子5の電気接続用パッド53と端子部34との間には、図5(j)に示すような隙間が生じることが一般的である。仮にこのような隙間が生じないように電気接続用パッド53の厚さや端子部34の寸法を予め設計したとしても、製造時の不可避的な誤差や熱膨張などにより、両者の間に隙間が生じてしまうことは避けられないからである。   Here, a gap as shown in FIG. 5J is generally generated between the electrical connection pad 53 of the light emitting and receiving element 5 and the terminal portion 34. Even if the thickness of the electrical connection pad 53 and the dimensions of the terminal portion 34 are designed in advance so that such a gap does not occur, a gap is generated between the two due to inevitable errors or thermal expansion during manufacturing. This is because it is inevitable.

これに対し、上述したようにして積層基板10と受発光素子5との組立体をリフローに供することにより、溶融したハンダは、端子部形成領域340や導電層端面341の表面を濡れ広がる。端子部形成領域340や導電層端面341の表面は、銅等の金属材料で構成されており、ハンダの濡れ性が高いものである。このため、この濡れ性が駆動力となって、端子部形成領域340および導電層端面341の表面がハンダで覆われるとともに、上述した隙間にも濡れ広がる。その結果、隙間の大小に関わらず、隙間をハンダで埋めることができ、電気接続用パッド53と端子部34との間の電気的接続を確実に行うことができる。   On the other hand, when the assembly of the laminated substrate 10 and the light emitting / receiving element 5 is subjected to reflow as described above, the molten solder wets and spreads on the surface of the terminal portion forming region 340 and the conductive layer end surface 341. The surface of the terminal portion formation region 340 and the conductive layer end surface 341 is made of a metal material such as copper and has high solder wettability. For this reason, this wettability serves as a driving force, so that the surfaces of the terminal portion formation region 340 and the conductive layer end surface 341 are covered with solder, and also spread in the gaps described above. As a result, regardless of the size of the gap, the gap can be filled with solder, and the electrical connection between the electrical connection pad 53 and the terminal portion 34 can be reliably performed.

また、このような電気的接続の実現においては、前述したボンディングシート41の折り曲げ部410により、リフロー前において積層基板10と受発光素子5とがあらかじめ接着されていることが効果的に作用している。これは、組立体においては、ボンディングシート41によって、積層基板10と受発光素子5との位置合わせが完了した状態で保持されていることから、リフローにおいてもこの状態を保持し続けることができるためである。その結果、リフローの間も、電気接続用パッド53と端子部34との間の隙間を一定に維持することができる。   Moreover, in realizing such electrical connection, it is effective that the laminated substrate 10 and the light emitting / receiving element 5 are bonded in advance by the bent portion 410 of the bonding sheet 41 before reflow. Yes. This is because, in the assembly, the bonding sheet 41 holds the laminated substrate 10 and the light emitting / receiving element 5 in a completed state, so that this state can be maintained even during reflow. It is. As a result, the gap between the electrical connection pad 53 and the terminal portion 34 can be kept constant during reflow.

また、受発光素子を基板等に搭載(ボンディング)し固定する場合、従来は、ハンダ(または導電性ペースト)のみで固定する方法が一般的であった。ところが、ハンダの場合、溶融時には流動化するため、受発光素子と基板との位置関係が変化し、一旦位置合わせを行ったとしても、その位置を保持することが困難であった。   Also, when mounting (bonding) and fixing a light emitting / receiving element on a substrate or the like, conventionally, a method of fixing only with solder (or conductive paste) has been common. However, in the case of solder, it is fluidized at the time of melting, so that the positional relationship between the light emitting / receiving element and the substrate changes, and it is difficult to maintain the position even once the alignment is performed.

これに対し、本発明によれば、光学的接続をボンディングシート41により行うことによって、位置合わせの精度を容易に高めることができる。   On the other hand, according to the present invention, by performing the optical connection with the bonding sheet 41, the alignment accuracy can be easily increased.

また、リフローにおいては、電気接続用パッド53と端子部34との間に生じた隙間にハンダが濡れ広がりさえすればよく、したがって、ハンダの溶融状態を厳密に制御する必要がない。このため、ハンダの溶融状態を左右するリフロー条件について、そのバラツキの許容範囲を大幅に緩和することができ、リフロープロセスの容易性を格段に高めることができる。   Further, in reflow, it is only necessary that the solder wets and spreads in the gap formed between the electrical connection pad 53 and the terminal portion 34. Therefore, it is not necessary to strictly control the molten state of the solder. For this reason, regarding the reflow conditions that influence the molten state of the solder, the tolerance of the variation can be greatly relaxed, and the ease of the reflow process can be greatly improved.

また、そればかりでなく、電気接続用パッド53と端子部34との間に生じる隙間を厳密に制御する必要がなくなるため、電気接続用パッド53の厚さ、光回路基板2や電気回路基板3の厚さ、ボンディングシート41の厚さ、光回路基板2と電気回路基板3との積層における位置精度等の各種製造条件のバラツキにおける許容範囲も大幅に緩和することができる。   In addition, since it is not necessary to strictly control the gap generated between the electrical connection pad 53 and the terminal portion 34, the thickness of the electrical connection pad 53, the optical circuit board 2 and the electrical circuit board 3 are eliminated. , The thickness of the bonding sheet 41, and the tolerances in the variation in various manufacturing conditions such as the positional accuracy in the lamination of the optical circuit board 2 and the electric circuit board 3 can be greatly reduced.

その後、必要に応じて、受発光素子5および端子部34の近傍をモールド樹脂6で覆う(図6(L)参照)。これにより、受発光素子5および端子部34を封止して、これらの耐候性を高めるとともに、接続部を補強することができる。   Thereafter, if necessary, the vicinity of the light emitting / receiving element 5 and the terminal portion 34 is covered with the mold resin 6 (see FIG. 6L). Thereby, the light emitting / receiving element 5 and the terminal portion 34 can be sealed to enhance the weather resistance and to reinforce the connection portion.

このモールド樹脂6としては、例えば、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等が挙げられる。   Examples of the mold resin 6 include an epoxy resin, a polyester resin, and a polyurethane resin.

またその後、必要に応じて、電気回路基板3上に電子部品7を載置する(図6(m)参照)。これにより、電気回路32と電子部品7とが電気的に接続される。   Thereafter, if necessary, the electronic component 7 is placed on the electric circuit board 3 (see FIG. 6 (m)). Thereby, the electric circuit 32 and the electronic component 7 are electrically connected.

かかる電子部品7としては、例えば、LSI(Large Scale Integration)、IC(Integrated Circuit)、メモリー、抵抗、コンデンサー等が挙げられる。これらの電子部品7は、受発光素子5の駆動を制御する機能を有するものでもよい。   Examples of the electronic component 7 include an LSI (Large Scale Integration), an IC (Integrated Circuit), a memory, a resistor, and a capacitor. These electronic components 7 may have a function of controlling driving of the light emitting / receiving element 5.

以上のような光電気混載基板1は、前述したように、ミラーのような光路変換構造を用いる必要がないため、光路変換時の光損失を大幅に抑制することを可能にする。さらには、受発光素子5の位置合わせに際しては、例えばコア部224の中心軸と受発光部52の中心とを一致させればよく、位置合わせのプロセスを単純化することも可能である。   The opto-electric hybrid board 1 as described above does not need to use an optical path conversion structure such as a mirror as described above, so that it is possible to greatly suppress optical loss during optical path conversion. Furthermore, when aligning the light emitting / receiving element 5, for example, the central axis of the core portion 224 and the center of the light receiving / emitting portion 52 may be aligned, and the alignment process can be simplified.

よって、本発明の光電気混載基板によれば、光学的接続性および電気的接続性の高い高品質の光電気混載基板1が得られ、また、本発明の光電気混載基板の製造方法によれば、上記光電気混載基板1を効率よく製造することができる。   Therefore, according to the opto-electric hybrid board of the present invention, a high-quality opto-electric hybrid board 1 with high optical connectivity and electrical connectivity can be obtained, and according to the method of manufacturing an opto-electric hybrid board of the present invention. Thus, the opto-electric hybrid board 1 can be manufactured efficiently.

<光電気混載基板の他の構成例>
図7、9は、それぞれ図2に示す光電気混載基板の他の構成例を示す図である。
<Another configuration example of the opto-electric hybrid board>
7 and 9 are diagrams showing other examples of the configuration of the opto-electric hybrid board shown in FIG.

図7、9に示す光電気混載基板1a、1bは、電気回路32および端子部34の構成が異なる以外は、それぞれ図2に示す光電気混載基板1と同様である。   The opto-electric hybrid board 1a and 1b shown in FIGS. 7 and 9 are the same as the opto-electric hybrid board 1 shown in FIG. 2 except that the configurations of the electric circuit 32 and the terminal portion 34 are different.

図7に示す光電気混載基板1aが備える電気回路基板3aにおいて、電気回路32は、その左端部の厚さが、それ以外の部分の厚さに比べて部分的に厚くなっている(厚膜化している)。具体的には、電気回路32の左端部は、下側に突出するようにして部分的に厚くなっており、これにより、電気回路32の左端部の端面は、支持基板31の端面を遮るように広がっている。その結果、溶融状態にあるハンダは、この厚くなった部分に大きく濡れ広がることができる。そして、前述したリフロープロセスにおいて、電気接続用パッド53と端子部34との位置ずれの許容範囲を、さらに緩和することができる。すなわち、受発光素子5における電気接続用パッド53の位置が、仮にレジスト層33が位置する面よりも支持基板31側にずれていたとしても、電気回路32の厚さが厚くなっている分だけ、ずれの許容範囲を緩和することができることとなる。その結果、受発光素子5の寸法精度の制約および設計自由度の制約が緩和されるだけでなく、ハンダがより広い範囲に濡れ広がることから、接続部に集中し易い応力の緩和を図ることができる。   In the electric circuit board 3a provided in the opto-electric hybrid board 1a shown in FIG. 7, the electric circuit 32 is partially thicker at the left end than at the other parts (thick film). ). Specifically, the left end portion of the electric circuit 32 is partially thick so as to protrude downward, so that the end surface of the left end portion of the electric circuit 32 blocks the end surface of the support substrate 31. Has spread. As a result, the solder in the molten state can be greatly wetted and spread in the thickened portion. And in the reflow process mentioned above, the tolerance | permissible_range of the position shift of the electrical connection pad 53 and the terminal part 34 can further be eased. That is, even if the position of the pad 53 for electrical connection in the light emitting / receiving element 5 is shifted to the support substrate 31 side from the surface on which the resist layer 33 is located, only the thickness of the electrical circuit 32 is increased. Therefore, the allowable range of deviation can be relaxed. As a result, not only the dimensional accuracy restriction and the design freedom restriction of the light emitting / receiving element 5 are eased, but also solder is spread over a wider range, so that stress that tends to concentrate on the connection portion can be eased. it can.

ここで、図7に示す電気回路32の厚さが厚くなった部分は、例えば、支持基板31に設けられたスルーホール310を充填する貫通配線部(フィルドビア)311で構成される。   Here, the portion where the thickness of the electric circuit 32 shown in FIG. 7 is increased is constituted by, for example, a through wiring portion (filled via) 311 that fills the through hole 310 provided in the support substrate 31.

以下、図7に示す光電気混載基板1aの製造方法を説明する。図8は、光電気混載基板1aの製造方法を説明するための図である。   Hereinafter, a method for manufacturing the opto-electric hybrid board 1a shown in FIG. 7 will be described. FIG. 8 is a diagram for explaining a method of manufacturing the opto-electric hybrid board 1a.

まず、図8(a)に示すように、スルーホール310を備える支持基板31を用意する。   First, as shown in FIG. 8A, a support substrate 31 having a through hole 310 is prepared.

次いで、図8(b)に示すように、スルーホール310に導電材料が充填されるように、支持基板31の上面に電気回路32が形成された導電層を形成する。これにより、スルーホール310内には、導電材料が充填されてなる貫通配線部311が形成される。   Next, as illustrated in FIG. 8B, a conductive layer in which the electric circuit 32 is formed on the upper surface of the support substrate 31 is formed so that the through hole 310 is filled with a conductive material. As a result, a through wiring portion 311 filled with a conductive material is formed in the through hole 310.

次いで、電気回路32の上面のうち、欠損部分330以外の領域を覆うようにレジスト層33を形成する。   Next, a resist layer 33 is formed so as to cover a region other than the defective portion 330 on the upper surface of the electric circuit 32.

次いで、得られた貫通配線部311を分割するように、図8(c)に示す切断線CLに沿って欠損部分330を切断する。   Next, the defect portion 330 is cut along the cutting line CL shown in FIG. 8C so as to divide the obtained through wiring portion 311.

切断により形成される導電層端面341は、図8(d)に示すように、その面積が、支持基板31の厚さ分だけ図2に比べて広くなっている。   As shown in FIG. 8D, the conductive layer end surface 341 formed by cutting has an area that is wider than that of FIG. 2 by the thickness of the support substrate 31.

次いで、端子部形成領域340および導電層端面341にめっき法等により銅食われ防止膜を形成する(図8(e)参照)。   Next, a copper erosion prevention film is formed on the terminal portion formation region 340 and the conductive layer end surface 341 by plating or the like (see FIG. 8E).

次いで、端子部形成領域340に溶融したハンダを接触させることにより、端子部34が形成され、これにより電気回路基板3aが製造される。   Next, the terminal part 34 is formed by bringing the molten solder into contact with the terminal part forming region 340, whereby the electric circuit board 3a is manufactured.

以下、前述した光電気混載基板1の製造方法と同様にして、光電気混載基板1aを製造することができる。   Thereafter, the opto-electric hybrid board 1a can be manufactured in the same manner as the above-described method for manufacturing the opto-electric hybrid board 1.

以上のような光電気混載基板1aの製造方法においても、光電気混載基板1の製造方法と同様の作用・効果が得られる。   Also in the manufacturing method of the opto-electric hybrid board 1a as described above, the same operation and effect as the manufacturing method of the opto-electric hybrid board 1 can be obtained.

また、図9に示す光電気混載基板1bが備える電気回路基板3bにおいて、電気回路32は、その左端部の厚さが、それ以外の部分の厚さに比べて部分的に厚くなっている(厚膜化している)。具体的には、電気回路32の左端部は、上側に突出するようにして部分的に厚くなっている。これにより、溶融状態にあるハンダは、この厚くなった部分に大きく濡れ広がることができる。その結果、前述したリフロープロセスにおいて、電気接続用パッド53と端子部34との位置ずれの許容範囲を、さらに緩和することができる。すなわち、受発光素子5における電気接続用パッド53の位置が、仮にレジスト層33が位置する面よりも支持基板31と反対側にずれていたとしても、電気回路32の厚さが厚くなっている分だけ、ずれの許容範囲を緩和することができることとなる。その結果、受発光素子5の寸法精度の制約および設計自由度の制約が緩和されるだけでなく、ハンダがより広い範囲に濡れ広がることから、接続部に集中し易い応力の緩和を図ることができる。   Moreover, in the electric circuit board 3b provided in the opto-electric hybrid board 1b shown in FIG. 9, the electric circuit 32 has a partially thicker left end than the other parts (see FIG. 9). Thicker). Specifically, the left end portion of the electric circuit 32 is partially thick so as to protrude upward. As a result, the solder in the molten state can be greatly wetted and spread over the thickened portion. As a result, in the reflow process described above, it is possible to further relax the allowable range of misalignment between the electrical connection pad 53 and the terminal portion 34. That is, even if the position of the electrical connection pad 53 in the light emitting / receiving element 5 is shifted to the opposite side of the support substrate 31 from the surface on which the resist layer 33 is located, the thickness of the electrical circuit 32 is thick. Therefore, the allowable range of deviation can be relaxed. As a result, not only the dimensional accuracy restriction and the design freedom restriction of the light emitting / receiving element 5 are eased, but also solder is spread over a wider range, so that stress that tends to concentrate on the connection portion can be eased. it can.

ここで、図9に示す電気回路32の厚さが厚くなった部分は、例えば、電気回路32が形成された導電層上に載置された突起状をなすバンプ部312で構成される。   Here, the portion where the thickness of the electric circuit 32 shown in FIG. 9 is increased is constituted by, for example, a bump portion 312 having a protruding shape placed on the conductive layer on which the electric circuit 32 is formed.

以下、図9に示す光電気混載基板1bの製造方法を説明する。図10は、光電気混載基板1bの製造方法を説明するための図である。   Hereinafter, a method for manufacturing the opto-electric hybrid board 1b shown in FIG. 9 will be described. FIG. 10 is a diagram for explaining a method of manufacturing the opto-electric hybrid board 1b.

まず、図10(a)に示すように、支持基板31の上面を覆うように電気回路32が形成された導電層を形成した後、電気回路32の上面の一部にバンプ部312を形成する。バンプ部312は、導電層を構成する材料と同様の導電材料で構成された突起状の部材であり、電気回路32に対して電気的に接続されている。   First, as shown in FIG. 10A, after forming a conductive layer on which the electric circuit 32 is formed so as to cover the upper surface of the support substrate 31, a bump portion 312 is formed on a part of the upper surface of the electric circuit 32. . The bump portion 312 is a protruding member made of the same conductive material as the material forming the conductive layer, and is electrically connected to the electric circuit 32.

次いで、図10(b)に示すように、電気回路32の上面のうち、欠損部分330以外の領域を覆うようにレジスト層33を形成する。   Next, as illustrated in FIG. 10B, a resist layer 33 is formed so as to cover a region other than the defective portion 330 on the upper surface of the electric circuit 32.

次いで、得られたバンプ部312を分割するように、図10(c)に示す切断線CLに沿って欠損部分330を切断する。   Next, the defect portion 330 is cut along the cutting line CL shown in FIG. 10C so as to divide the obtained bump portion 312.

切断により形成される導電層端面341は、図10(d)に示すように、その面積が、支持基板31の厚さ分だけ図2に比べて広くなっている。   As shown in FIG. 10D, the conductive layer end surface 341 formed by cutting has an area larger than that of FIG. 2 by the thickness of the support substrate 31.

次いで、端子部形成領域340および導電層端面341にめっき法等により銅食われ防止膜を形成する(図10(e)参照)。   Next, a copper erosion prevention film is formed on the terminal portion formation region 340 and the conductive layer end surface 341 by plating or the like (see FIG. 10E).

次いで、端子部形成領域340に溶融したハンダを接触させることにより、端子部34が形成され、これにより電気回路基板3bが製造される。   Next, the terminal part 34 is formed by bringing the molten solder into contact with the terminal part forming region 340, whereby the electric circuit board 3b is manufactured.

以下、前述した光電気混載基板1の製造方法と同様にして、光電気混載基板1bを製造することができる。   Thereafter, the opto-electric hybrid board 1b can be manufactured in the same manner as the above-described method for manufacturing the opto-electric hybrid board 1.

以上のような光電気混載基板1bの製造方法においても、光電気混載基板1の製造方法と同様の作用・効果が得られる。   Also in the manufacturing method of the opto-electric hybrid board 1b as described above, the same operation and effect as the manufacturing method of the opto-electric hybrid board 1 can be obtained.

<光電気混載基板の製造方法の他の構成例>
図11は、図3に示す光電気混載基板の製造方法の他の構成例を示す図である。
<Another configuration example of a method for manufacturing an opto-electric hybrid board>
FIG. 11 is a diagram showing another configuration example of the method for manufacturing the opto-electric hybrid board shown in FIG.

図11に示す光電気混載基板の製造方法は、支持基板31および電気回路32を切断する工程と、端子部形成領域340および導電層端面341に銅食われ防止膜を形成する工程の順序が異なる以外は、図3に示す光電気混載基板の製造方法と同様である。   The manufacturing method of the opto-electric hybrid board shown in FIG. 11 differs in the order of the step of cutting the support substrate 31 and the electric circuit 32 and the step of forming the copper erosion prevention film on the terminal portion forming region 340 and the conductive layer end face 341. Except for this, the method is the same as the method for manufacturing the opto-electric hybrid board shown in FIG.

以下、電気回路基板の製造方法について説明する。
まず、図11(a)に示すように、支持基板31の上面を覆うように電気回路32が形成された導電層を形成する。
Hereinafter, a method for manufacturing the electric circuit board will be described.
First, as shown in FIG. 11A, a conductive layer on which an electric circuit 32 is formed is formed so as to cover the upper surface of the support substrate 31.

次いで、電気回路32の上面のうち、欠損部分330以外の領域を覆うようにレジスト層33を形成する。   Next, a resist layer 33 is formed so as to cover a region other than the defective portion 330 on the upper surface of the electric circuit 32.

次いで、欠損部分330に露出した電気回路32のうち、その後に切断される位置において、電気回路基板の幅方向(図11の紙面の奥行方向)に沿って溝313を形成する(図11(b)参照)。この溝313は、電気回路32を厚さ方向に貫通する程度の深さで形成されるのが好ましい。溝313の形成方法は、特に限定されないが、針状体等を用いて電気回路32の一部に引っかき傷を形成する等の方法が用いられる。   Next, a groove 313 is formed along the width direction of the electric circuit board (the depth direction of the paper surface of FIG. 11) at a position where the electric circuit 32 exposed to the defective portion 330 is cut thereafter (FIG. 11B). )reference). The groove 313 is preferably formed to a depth that penetrates the electric circuit 32 in the thickness direction. The formation method of the groove 313 is not particularly limited, but a method of forming a scratch on a part of the electric circuit 32 using a needle-like body or the like is used.

次いで、欠損部分330にめっき法等により銅食われ防止膜を形成する(図11(c)参照)。この銅食われ防止膜は、特にめっき法で形成した場合、溝313の中にも入り込むようにして形成される。   Next, a copper erosion prevention film is formed on the defect portion 330 by plating or the like (see FIG. 11C). This copper erosion prevention film is formed so as to enter the groove 313 especially when formed by a plating method.

次いで、図11(d)に示すように、溝313の幅の中心に沿って、溝313を縦断するように欠損部分330を切断する。この切断により、あらかじめ形成していた銅食われ防止膜も切断されることとなり、切断後の欠損部分330に位置する端子部形成領域340、および、溝313の内面に相当する導電層端面341は、それぞれその表面に銅食われ防止膜を有するものとなる(図11(e)参照)。   Next, as shown in FIG. 11 (d), the defective portion 330 is cut along the center of the width of the groove 313 so as to cut the groove 313 longitudinally. By this cutting, the copper erosion prevention film formed in advance is also cut, and the terminal portion forming region 340 located in the cut portion 330 after cutting and the conductive layer end surface 341 corresponding to the inner surface of the groove 313 are formed. Each has a copper erosion prevention film on its surface (see FIG. 11E).

以上のような方法によれば、単に溝313を形成した後に銅食われ防止膜を形成し、その後切断を行うのみで、簡単に電気回路基板を形成することができる。   According to the method as described above, the electric circuit board can be easily formed by simply forming the copper erosion prevention film after forming the groove 313 and then performing cutting.

ここで、溝313は、その横断面形状は、V字状、U字状等の形状とされるが、その内面は、以下の条件を満たしているのが好ましい。   Here, the cross-sectional shape of the groove 313 is V-shaped, U-shaped, or the like, but the inner surface preferably satisfies the following conditions.

まず、図11(b)に示すように、溝313の内面のうち、導電層端面341となるべき側(図11(b)では右側)の面は、支持基板31の法線に対して0〜20°程度の角度をなしているのが好ましく、ほぼ0°(支持基板31に対して垂直)であるのがより好ましい。これにより、形成される導電層端面341は、前述した第3の工程において受発光素子5を載置した際に、受発光素子5の電気接続用パッド53の接続面とほぼ平行になる。その結果、導電層端面341と電気接続用パッド53の接続面との間には、一定の距離の隙間が形成されることとなる。ここで、導電層端面341および電気接続用パッド53の接続面は、それぞれハンダの濡れ性が高いため、前述した隙間にハンダが侵入すると、導電層端面341と電気接続用パッド53の接続面の双方がハンダの濡れ広がりを駆動することとなる。その結果、ハンダが、導電層端面341と電気接続用パッド53の接続面との隙間に確実に濡れ広がり、両者の間を強固にかつ確実に接続する。すなわち、電気回路32と受発光素子5との間を、機械的および電気的に確実に接続することができる。   First, as shown in FIG. 11B, the surface on the side to be the conductive layer end surface 341 (the right side in FIG. 11B) of the inner surface of the groove 313 is 0 with respect to the normal line of the support substrate 31. The angle is preferably about ˜20 °, more preferably about 0 ° (perpendicular to the support substrate 31). Thus, the formed conductive layer end surface 341 is substantially parallel to the connection surface of the electrical connection pad 53 of the light emitting / receiving element 5 when the light emitting / receiving element 5 is placed in the third step described above. As a result, a gap of a certain distance is formed between the conductive layer end surface 341 and the connection surface of the electrical connection pad 53. Here, since the conductive layer end surface 341 and the connection surface of the electrical connection pad 53 have high wettability of the solder, if the solder enters the gap, the connection surface of the conductive layer end surface 341 and the electrical connection pad 53 Both will drive the wetting and spreading of the solder. As a result, the solder surely wets and spreads in the gap between the conductive layer end surface 341 and the connection surface of the electrical connection pad 53, and the two are firmly and reliably connected. That is, the electrical circuit 32 and the light emitting / receiving element 5 can be reliably connected mechanically and electrically.

一方、溝313の内面のうち、導電層端面341となるべき側とは反対側(図11(b)の左側)の面と支持基板31の法線とがなす角度は、右側の面と支持基板31の法線とがなす角度よりも大きいのが好ましく、具体的には、30〜80°程度の角度をなすのが好ましい。これにより、溝313は適度な広さの開口を有するものとなるため、めっき法において用いるめっき液が溝313の奥にも確実に侵入することができる。その結果、溝313の内面に対してムラなくめっきを施し、銅食われ防止膜を確実に成膜することができる。   On the other hand, of the inner surface of the groove 313, the angle formed between the surface opposite to the side that should be the conductive layer end surface 341 (the left side in FIG. 11B) and the normal line of the support substrate 31 is the right surface and the support surface. It is preferable that the angle formed by the normal line of the substrate 31 is larger, and specifically, an angle of about 30 to 80 ° is preferable. Accordingly, since the groove 313 has an opening having an appropriate width, the plating solution used in the plating method can surely enter the back of the groove 313. As a result, the inner surface of the groove 313 can be plated evenly, and a copper erosion prevention film can be reliably formed.

以下、図3に示す方法と同様にして光電気混載基板を製造することができる。
このような光電気混載基板の製造方法においても、図3に示す方法と同様の作用・効果が得られる。
Thereafter, the opto-electric hybrid board can be manufactured in the same manner as the method shown in FIG.
In such a method for manufacturing an opto-electric hybrid board, the same operation and effect as the method shown in FIG. 3 can be obtained.

<電子機器>
本発明の光電気混載基板を備える電子機器(本発明の電子機器)は、光信号と電気信号の双方の信号処理を行ういかなる電子機器にも適用可能であるが、例えば、ルーター装置、WDM装置、携帯電話、ゲーム機、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類への適用が好適である。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光電気混載基板を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消されるため、その性能の飛躍的な向上が期待できる。
<Electronic equipment>
The electronic device including the opto-electric hybrid board of the present invention (the electronic device of the present invention) can be applied to any electronic device that performs signal processing of both an optical signal and an electric signal. For example, a router device, a WDM device, etc. Application to electronic devices such as mobile phones, game machines, personal computers, televisions, home servers, etc. is preferable. In any of these electronic devices, it is necessary to transmit a large amount of data at high speed between an arithmetic device such as an LSI and a storage device such as a RAM. Therefore, by providing such an electronic device with the opto-electric hybrid board according to the present invention, problems such as noise and signal deterioration peculiar to the electric wiring are eliminated, and a dramatic improvement in the performance can be expected.

さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、基板内の集積度が高められるとともに、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。   In addition, the amount of heat generated in the optical waveguide portion is greatly reduced compared to electrical wiring. For this reason, the degree of integration in the substrate can be increased, the power required for cooling can be reduced, and the power consumption of the entire electronic device can be reduced.

以上、本発明の光電気混載基板、光電気混載基板の製造方法および電子機器の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、例えば光電気混載基板を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。   As described above, the embodiments of the opto-electric hybrid board, the opto-electric hybrid board manufacturing method, and the electronic apparatus according to the present invention have been described. However, the present invention is not limited to this, and for example, each part constituting the opto-electric hybrid board Can be replaced with any structure capable of performing the same function. Moreover, arbitrary components may be added.

また、本発明の光電気混載基板の製造方法は、任意の目的の工程が1または2以上追加されてもよい。   Moreover, in the method for manufacturing an opto-electric hybrid board according to the present invention, one or two or more steps for an arbitrary purpose may be added.

また、前記実施形態では、コア部224が1本である光回路22(シングルチャンネル)について説明したが、コア部224が複数本である光回路(マルチチャンネル)についても本発明を適用することができる。この場合、複数のコア部224の端面にそれぞれ対応して受発光部52が位置するように、光回路基板2と受発光素子5とが接着される。また、端子部34も、コア部224の本数に応じて複数個設けられ、それぞれの端子部34と電気接続用パッド53とが電気的に接続される。   In the above-described embodiment, the optical circuit 22 (single channel) having one core part 224 has been described. However, the present invention can also be applied to an optical circuit (multi-channel) having a plurality of core parts 224. it can. In this case, the optical circuit board 2 and the light emitting / receiving element 5 are bonded so that the light emitting / receiving portions 52 are positioned corresponding to the end surfaces of the plurality of core portions 224, respectively. Also, a plurality of terminal portions 34 are provided according to the number of core portions 224, and each terminal portion 34 and the electrical connection pad 53 are electrically connected.

さらにこの場合、受発光素子5は、1つの素子に複数の受発光部52と複数の電気接続用パッド53とを備えたものであってもよいが、1つのマルチチャンネルの光電気混載基板に対して複数の受発光素子5を搭載するようにしてもよい。   Further, in this case, the light emitting / receiving element 5 may be provided with a plurality of light receiving / emitting portions 52 and a plurality of electrical connection pads 53 in one element. On the other hand, a plurality of light emitting / receiving elements 5 may be mounted.

また、前記実施形態では、電気接続用パッド53と電気回路32との間をハンダ等からなる端子部34により電気的に接続する場合について説明したが、両者の接続はこの方法に限定されず、例えば導電性ペーストを用いる方法、ワイヤボンディング法等により行われていてもよい。   In the above embodiment, the case where the electrical connection pad 53 and the electrical circuit 32 are electrically connected by the terminal portion 34 made of solder or the like has been described, but the connection between the two is not limited to this method. For example, it may be performed by a method using a conductive paste, a wire bonding method, or the like.

このうち、前者の方法の具体例としては、端子部形成領域340に導電性ペーストを塗布する方法、ろう材をめっきする方法等が挙げられる。   Among these, specific examples of the former method include a method of applying a conductive paste to the terminal portion forming region 340, a method of plating a brazing material, and the like.

導電性ペーストの塗布法としては、例えば、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等の各種塗布法(印刷法)が挙げられる。   Examples of the coating method of the conductive paste include various coating methods (printing methods) such as a bar coating method, a roll coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a spray coating method, a screen printing method, and an ink jet printing method. It is done.

導電性ペーストは、導電性の金属粉末(ろう材粉末)とバインダー成分とを含むペーストであり、塗布後に焼成して、バインダー成分を除去し、金属粉末の粒子同士を結着させることにより端子部34となる。   The conductive paste is a paste containing conductive metal powder (brazing material powder) and a binder component, and is fired after application to remove the binder component and bind the metal powder particles to each other. 34.

また、前記実施形態では、光回路基板2と受発光素子5の受発光部52との間をボンディングシート41で接着する場合について説明したが、両者の接続はボンディングシート41に限定されず、単に光透過性を有する接着剤(粘着剤を含む。)を用いて行われてもよい。すなわち、電気回路基板3と光回路基板2とを積層してなる積層基板10の端面、または、受発光素子5に光透過性を有する接着剤を塗布した後、塗布した接着剤を介して積層基板10と受発光素子5とを接着するようにしてもよい。この場合でも、前記実施形態と同様の作用・効果が得られる。この接着剤には、前述した各種接着剤の他、ボンディングシート41の原材料を接着剤として転用することもできる。   In the above embodiment, the case where the optical circuit board 2 and the light emitting / receiving portion 52 of the light emitting / receiving element 5 are bonded together by the bonding sheet 41 has been described. You may carry out using the adhesive agent (a pressure sensitive adhesive is included) which has a light transmittance. That is, after applying an optically transparent adhesive to the end face of the laminated substrate 10 formed by laminating the electric circuit board 3 and the optical circuit board 2 or to the light emitting / receiving element 5, the lamination is performed via the applied adhesive. The substrate 10 and the light emitting / receiving element 5 may be bonded. Even in this case, the same operation and effect as in the above embodiment can be obtained. In addition to the various adhesives described above, the raw material of the bonding sheet 41 can be diverted to the adhesive as an adhesive.

1、1a、1b 光電気混載基板
10 積層基板
2 光回路基板
21 支持基板
22 光回路
221、222 クラッド層
223 コア層
224 コア部
225 側面クラッド部
3、3a、3b 電気回路基板
31 支持基板
310 スルーホール
311 貫通配線部
312 バンプ部
313 溝
32 電気回路
33 レジスト層
330 欠損部分
34 端子部
340 端子部形成領域
341 導電層端面
41 ボンディングシート
410 折り曲げ部
5 受発光素子
51 パッケージ
52 受発光部
53 電気接続用パッド
6 モールド樹脂
7 電子部品
CL 切断線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a, 1b Opto-electric hybrid board 10 Laminated board 2 Optical circuit board 21 Support board 22 Optical circuit 221, 222 Clad layer 223 Core layer 224 Core part 225 Side clad part 3, 3a, 3b Electric circuit board 31 Support board 310 Through Hole 311 Through wiring part 312 Bump part 313 Groove 32 Electric circuit 33 Resist layer 330 Defect part 34 Terminal part 340 Terminal part formation area 341 Conductive layer end face 41 Bonding sheet 410 Bending part 5 Light emitting / receiving element 51 Package 52 Light emitting / receiving part 53 Electrical connection Pad 6 Mold resin 7 Electronic component CL Cutting line

Claims (14)

光回路を有する光回路基板と、
前記光回路基板に積層され、電気回路を有する電気回路基板と、
前記光回路と光学的に接続された受光部または発光部を有する光素子とを備える光電気混載基板であって、
前記光回路基板の端面に前記光回路の端部が露出しており、該光回路の端部と前記受光部または前記発光部とが対向するように、前記光回路基板の端面前記光素子との間光透過性を有する接着剤を介して接着されており、
前記電気回路基板の端面に前記電気回路の端部が露出しており、該電気回路の端部と前記光素子との隙間にハンダが濡れ広がることにより、前記電気回路の端部と前記光素子とが電気的に接続されていることを特徴とする光電気混載基板。
An optical circuit board having an optical circuit;
An electric circuit board laminated on the optical circuit board and having an electric circuit;
An optical-electric hybrid board comprising: an optical element for chromatic said optical circuit and a light receiver or the light emitting portion is optically connected,
Has end exposed of the optical circuit on the end face of the optical circuit board, so that the end portion of the optical circuit and the light receiving portion or the light emitting portion are opposed to each end face of the optical circuit substrate and the optical element are bonded through an adhesive having optical transparency between,
The end of the electric circuit is exposed at the end surface of the electric circuit board, and the solder spreads in the gap between the end of the electric circuit and the optical element, whereby the end of the electric circuit and the optical element And an opto-electric hybrid board.
前記接着剤は、接着剤成分をシート状に成形してなる接着シートである請求項1に記載の光電気混載基板。   The opto-electric hybrid board according to claim 1, wherein the adhesive is an adhesive sheet formed by forming an adhesive component into a sheet. 前記電気回路の前記端部には、前記ハンダの下地として、前記電気回路中の金属成分が前記ハンダ中に溶出するのを防止する下地層が形成されている請求項1または2に記載の光電気混載基板。 The said end portion of said electric circuit, as a base of the solder, the light according to claim 1 or 2 base layer is formed to prevent the metal components in the electric circuit is eluted in the solder Electric mixed board. 前記電気回路の構成材料は、Cuを主成分とするものであり、
前記下地層の構成材料は、AuおよびNiの少なくとも一方を含むものである請求項に記載の光電気混載基板。
The constituent material of the electric circuit is mainly composed of Cu,
The opto-electric hybrid board according to claim 3 , wherein the constituent material of the underlayer includes at least one of Au and Ni.
光回路を有する光回路基板と、
前記光回路基板に積層され、電気回路を有する電気回路基板と、
前記光回路と光学的に接続された受光部または発光部を有する光素子とを備える光電気混載基板であって、
前記光回路基板の端面に前記光回路の端部が露出しており、該光回路の端部と前記受光部または前記発光部とが対向するように、前記光回路基板の端面前記光素子との間光透過性を有する接着剤を介して接着されており、
前記電気回路基板の端面に前記電気回路の端部が露出しており、前記端部は前記電気回路の前記端部以外の部分に比べて部分的に厚膜化しており、前記電気回路の端部と前記光素子とが電気的に接続されていることを特徴とする光電気混載基板。
An optical circuit board having an optical circuit;
An electric circuit board laminated on the optical circuit board and having an electric circuit;
An optical-electric hybrid board comprising: an optical element for chromatic said optical circuit and a light receiver or the light emitting portion is optically connected,
Has end exposed of the optical circuit on the end face of the optical circuit board, so that the end portion of the optical circuit and the light receiving portion or the light emitting portion are opposed to each end face of the optical circuit substrate and the optical element are bonded through an adhesive having optical transparency between,
An end portion of the electric circuit is exposed at an end surface of the electric circuit board, and the end portion is partially thickened as compared to a portion other than the end portion of the electric circuit, and the end of the electric circuit An opto-electric hybrid board , wherein the optical element is electrically connected to the optical element .
前記電気回路の前記厚膜化した部分は、突起状をなすバンプ部で構成されている請求項に記載の光電気混載基板。 The opto-electric hybrid board according to claim 5 , wherein the thickened portion of the electric circuit is configured by a bump portion having a protruding shape. 前記電気回路基板は、前記電気回路と、該電気回路を支持し、スルーホールが形成された支持基板とを有するものであり、
前記電気回路の前記厚膜化した部分は、前記スルーホール内に設けられた貫通配線部で構成されている請求項に記載の光電気混載基板。
Said electric circuit board, and the electric circuit, to support the electrical circuit, which comprises a supporting substrate through hole is formed, a,
The opto-electric hybrid board according to claim 5 , wherein the thickened portion of the electric circuit is configured by a through wiring portion provided in the through hole.
前記電気回路の前記厚膜化した部分と前記光素子との間の電気的な接続は、これらの隙間に設けられた導電性材料を介して行われている請求項ないしのいずれかに記載の光電気混載基板。 Electrical connection between the thickened portion and the optical element of the electrical circuit to either 5 claims have been made to seventh through the conductive material provided in these gaps The opto-electric hybrid board described. 光回路を有する光回路基板と、
前記光回路基板に積層され、電気回路を有する電気回路基板と、
前記光回路と光学的に接続された受光部または発光部を有する光素子とを備える光電気混載基板であって、
前記光回路基板の端面に前記光回路の端部が露出しており、該光回路の端部と前記受光部または前記発光部とが対向するように、前記光回路基板の端面に前記光素子が載置されており、
前記光回路基板の端面と前記光素子との間、および、前記光回路基板と前記電気回路基板との間が、接着剤成分をシート状に成形してなり、途中で折り曲げられてなる1枚の接着シートであって、少なくとも前記光回路基板の端面と前記光素子との間に対応する部分が光透過性を有する接着シートにより接着されていることを特徴とする光電気混載基板。
An optical circuit board having an optical circuit;
An electric circuit board laminated on the optical circuit board and having an electric circuit;
An optical-electric hybrid board comprising: an optical element for chromatic said optical circuit and a light receiver or the light emitting portion is optically connected,
Has end exposed of the optical circuit on the end face of the optical circuit board, so that the end portion of the optical circuit and the light receiving portion or the light emitting portion are opposed, the optical element on the end face of the optical circuit board Is placed,
One sheet formed by forming an adhesive component into a sheet shape between the end face of the optical circuit board and the optical element, and between the optical circuit board and the electric circuit board, and being bent in the middle. An opto-electric hybrid board , wherein at least a portion corresponding to an end face of the optical circuit board and the optical element is bonded by an adhesive sheet having light transmittance .
光回路を有する光回路基板と、
前記光回路基板に積層され、電気回路を有する電気回路基板と、
前記光回路と光学的に接続された受光部または発光部を有し、前記電気回路と電気的に接続された光素子とを備える光電気混載基板を製造する方法であって、
前記光回路基板と前記電気回路の端部にハンダが付着している前記電気回路基板とを積層し、積層体を得る第1の工程と、
前記積層体の端面または前記光素子に接着剤を付けた後、前記接着剤を介して前記積層体の端面と前記光素子とを接着し、前記光回路と前記受光部または前記発光部とを光学的に接続する第2の工程と、
前記ハンダを溶融させ、前記ハンダを前記電気回路と前記光素子との間に生じた隙間に濡れ広がらせることにより、前記電気回路と前記光素子とを電気的に接続する第3の工程とを有することを特徴とする光電気混載基板の製造方法。
An optical circuit board having an optical circuit;
An electric circuit board laminated on the optical circuit board and having an electric circuit;
Having said optical circuit and optically connected to light receiving unit or a light emitting unit, a method of manufacturing an optical-electric hybrid board comprising, said electrical circuit and electrically connected to the optical device,
Laminating the optical circuit board and the electric circuit board with solder attached to the end of the electric circuit, to obtain a laminate,
After attaching an adhesive to the end face of the laminate or the optical element, the end face of the laminate and the optical element are bonded via the adhesive, and the optical circuit and the light receiving part or the light emitting part are bonded. A second step of optically connecting;
A third step of electrically connecting the electrical circuit and the optical element by melting the solder and spreading the solder in a gap formed between the electrical circuit and the optical element ; A method for manufacturing an opto-electric hybrid board, comprising:
前記電気回路の端部は、前記電気回路基板の端面に露出するように形成されており、
前記電気回路基板の端面に露出する前記電気回路の端部は、前記電気回路基板を前記電気回路の途中で切断することにより形成されたものである請求項10に記載の光電気混載基板の製造方法。
The end of the electric circuit is formed so as to be exposed on the end surface of the electric circuit board,
11. The opto-electric hybrid board manufacturing method according to claim 10 , wherein an end portion of the electric circuit exposed at an end surface of the electric circuit board is formed by cutting the electric circuit board in the middle of the electric circuit. Method.
前記電気回路基板を前記電気回路の途中で切断する方法は、前記電気回路を厚さ方向に貫通するように溝を形成する工程と、
前記電気回路に対して、前記ハンダの下地として、前記電気回路中の金属成分が前記ハンダ中に溶出するのを防止する下地層を形成する工程と、
前記溝を縦断するようにして前記電気回路基板を切断する工程と有する請求項11に記載の光電気混載基板の製造方法。
The method of cutting the electric circuit board in the middle of the electric circuit, the step of forming a groove so as to penetrate the electric circuit in the thickness direction,
Forming a base layer for preventing the metal component in the electrical circuit from eluting into the solder as the solder base for the electrical circuit;
The method for manufacturing an opto-electric hybrid board according to claim 11 , further comprising a step of cutting the electric circuit board so as to cut the groove vertically.
前記第2の工程において、前記光回路基板と前記電気回路基板との積層体を、鉛直方向と平行になるよう配置し、鉛直上方を向く前記光回路基板の端面上に、フリップチップボンダーにより、前記光素子を配置する請求項10ないし12のいずれかに記載の光電気混載基板の製造方法。 In the second step, the laminated body of the optical circuit board and the electric circuit board is disposed so as to be parallel to the vertical direction, and on the end surface of the optical circuit board facing vertically upward, by a flip chip bonder, opto-electric hybrid board manufacturing method according to any one of claims 10 to 12 disposing the optical element. 請求項1ないしのいずれかに記載の光電気混載基板を備えたことを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the electro-optic hybrid circuit board according to any one of claims 1 to 9.
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