JP5424294B2 - 生体高分子固定化促進用基材、生体高分子の固定化方法および生体高分子の結晶化方法 - Google Patents
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Description
例えばS.J.Lukasらは、シリコン(Si)基板上の二酸化珪素(SiO2)薄膜にマイクロメーターサイズのパターンを形成し、パターン内の酸化膜を除去した上に、タンパク質であるアルブミンの吸着を行っている(非特許文献1)。しかし、この方法では、パターンのサイズがマイクロメーター以上であり、そのためにタンパク質吸着を一分子単位で制御しているわけではなく、マクロスコピックな吸着となっている。
また、T.Taniiらは、Si基板上にナノメートルサイズのパターンを形成し、そのパターン内を塩基修飾し、そこにタンパク質などの生体高分子を配位させる事により、生体高分子のパターン化を行っている(非特許文献2)。しかし、この方法は、単にパターンによる生体高分子の固定化を目指したものであり、生体高分子一つ一つの位置を制御した固定化・パターン化とは言えない。また、アミノ基への配位により、生体高分子の機能活性が失われる可能性がある。
しかし、生体中では、タンパク質などの生体高分子は溶液中で安定に存在し、加えて、生体分子同士はよく鍵と鍵穴にたとえられるように、表面形状を認識して、お互いの表面での多数の弱い相互作用により、特異的に結合する。このように特定のタンパク質や核酸が集合することは珍しくなく、このことで生物活性を生んでいることが多い。
そこで、本発明では、タンパク質などの生体高分子を、化学吸着等の破壊的な吸着(生
体高分子の機能活性を失う可能性のある吸着)ではなく、その活性を維持しつつ物理的にソフトに吸着させ、かつ、生体高分子を一〜数分子単位で制御しながら固定化する方法を提供することを課題とするものである。
すなわち、本発明は、生体高分子の固定化促進用基材であって、基材表面にナノパターンを有することを特徴とする生体高分子の固定化促進用基材を提供する。
前記ナノパターンは、直径500nm以下の複数のくぼみ、または幅500nm以下の溝であることが好ましい。また、前記基材は、シリコン、酸化アルミニウム、金属、プラスチック、またはガラスを素材とすることが好ましい。また、前記生体高分子が、タンパク質又はタンパク質複合体であることが好ましい。
本発明はまた、前記基材を用いて、前記ナノパターンに生体高分子を物理吸着により固定化する工程を含む、生体高分子の固定化方法を提供する。
本発明はまた、基材表面にナノパターンを設ける工程、および前記ナノパターンに生体高分子を物理吸着により固定化する工程を含む、生体高分子の固定化方法を提供する。
本発明はまた、前記ナノパターンに生体高分子を物理吸着により固定化する工程を生体高分子が結晶化する条件下で行い、生体高分子を結晶化させて基材に固定化させる、前記固定化方法を提供する。
本発明はまた、前記基材を用いて、前記ナノパターンに生体高分子を物理吸着により固定化する工程を含む、生体高分子の結晶化促進方法を提供する。
本発明はまた、基材表面に直径500nm以下の、直径の大きさが異なる複数種のくぼみを設ける工程、および前記くぼみに生体高分子を物理吸着により固定化する工程を含む、生体高分子の結晶化条件のスクリーニング方法を提供する。
また、本発明の方法では、生体高分子の固定化に際し、従来のように化学吸着等の強固な結合を避け、基材上に作成された極微細形状中に生体高分をファンデルワールス力等を利用して緩和に捕捉する事により、生体高分子の機能活性を維持したまま基材上に配列固定させることが可能である。
きることから、生体高分子の規則集合体の吸着条件をより自由に制御し、高品質な単結晶を得る確率がより高くなる。
本発明の方法によりタンパク質またはタンパク質の複合体の単結晶を作成した場合、基材上のナノパターンのピッチや単一セル形状を自由に設計し、結晶の構造(空間群、分解能など)に対してより近似的な構造に制御することが可能になる。それによってX線結晶構造解析に最適な単結晶作成を行うことができる。また、従来の結晶化方法では得ることができなかった、難結晶性タンパク質の結晶化も可能となり、タンパク質の立体構造解析に基づいた創薬、生命科学研究に貢献する。
基材の素材は、シリコン、二酸化珪素(ガラス)、各種プラスチック、金属(金、白金、パラジウム、ニッケル等の、生体高分子溶液により侵食されにくい金属が望ましい)、酸化アルミニウム(アルミナ)などの金属酸化物等が挙げられる。基材の形状は特に制限されないが、平板(基板)が好ましい。また、基材は、タンパク質またはタンパク質複合体などの生体高分子の固定化をさらに向上させるために、コーティング処理されたものであっても良い。ここで、コーティング処理は金属によるコーティング処理が挙げられる。
電子線リソグラフィーには、Electron Beam Elionix ELS7500などの装置を使用することができる。また、イオンビームリソグラフィーには、Focused Ion Beam SEIKO SPI2050などの装置を使用することができる。
また、一旦パターンが形成された後は、それをマスターとしたナノインプリント技術により複製された構造を利用することもできる。
陽極酸化ポーラスアルミナ(アルマイトとも呼ばれる)を形成させる方法は公知であり、Masuda et. al., Appl. Phys. Letter, vol. 71, No. 19, 1997などに記載されている。具体的には、希硫酸やシュウ酸、リン酸などを用いてアルミニウムを陽極として電気分解することにより、アルミニウムの表面を電気化学的に酸化させ酸化アルミニウムAl2O3の多孔質酸化皮膜を生成させる。
くぼみの大きさやパターンは電流の大きさ等を変えることにより適宜調節することができる。
固定化の手法はタンパク質と基材との相互作用を利用した物理的吸着による方法であれば良いが、簡易的には、上記のようにしてナノ構造が形成された基材を、タンパク質またはタンパク質の複合体が含まれる溶液の中に浸すことにより固定化を行うことができる。タンパク質の濃度、溶媒、固定化時間はタンパク質の種類や固定化密度に応じて適宜調節できる。基材をタンパク質またはタンパク質の複合体が含まれる溶液の中に浸して一定時間おいた後、基材を取り出し、洗浄することで、基材表面のくぼみや溝のナノ構造にタンパク質またはタンパク質の複合体が固定化される。
以下に、リボソーム(タンパク質とRNAの複合体)を極微細加工基板に固定化した例を示す。
極微細加工基板は、電子ビームリソグラフィーにより作成した。基板はSi(100) P+-type(boron dope) 350micron-thick, no oxide film, <0.00099ohm-cm (Virginia Semiconductor Inc.,) を5.5mm角にカットして使用した。極微細加工の手順は以下のとおりである。
1. アセトンおよびイソプロピルアルコールによる超音波洗浄
2. レジスト「OEBR-1000」(東京応化工業)塗布。スピンコーター、500rpm:5sec., 5000rpm:40sec.。
3. ベーキング。大気中にて170℃、20分間。
4. 電子ビームリソグラフィー装置ELS-7500(Elionix)にて露光。70nmのドットマトリクス(140nmピッチ)、または100nmのラインアンドスペース(200nmピッチ)を形成した。
5. 現像。OEBR-1000専用現像液。
6. アルゴンイオンスパッタ装置にて金薄膜堆積。約5nm厚。
液中でのリボソーム固定化観察は、走査型プローブ顕微鏡SEIKO社製SPA-400、プローブはVeeco社製DNP-Sにて行った。図2がその結果である。
以下に、リゾチウムの結晶化に本方法を適用した例を示す(図3)。
本実施例に於いて、ナノ構造を持つ基板として自己組織化ナノ構造を用いた。具体的には陽極酸化ポーラスアルミナを用いた。陽極酸化ポーラスアルミナの製作は、陽極・陰極共に、高純度99.999%のアルミの板(50mm x 10mm x t1mm、株式会社ニラコ)を使用して陽極酸化処理を行った。その手順は以下のとおりである(参考文献:Masuda et. al., Appl. Phys. Letter, vol. 71, No. 19, 1997)。
2.純水にて超音波洗浄、5分間。
3.8.5%リン酸50cc、ウォーターバススターラーにより60℃に暖め、また攪拌しながら陽極アルミ板を浸し、ポーラスアルミ化した表面を除去。時間は10分間。ハニカム構造のディンプルを表面に残す。
4.純水にて超音波洗浄、5分間。
5.0.3Mシュウ酸、室温にて陽極酸化。8mAの定電流モード。10分間。
6.純水にて超音波洗浄、5分間。
7.8.5%リン酸60℃、攪拌しながら30秒間。これにより、ポーラスの穴径およびピッチを調整(穴径約20nm、ピッチ約30nm)。
8.純水にて超音波洗浄、5分間。
9.必要なサイズにカット。
本方法により製造されたリゾチウム結晶の性質を調べるために、放射光(SPring-8 BL26B2 ビームライン)を用いてX線回折測定を行った。得られた回折像は、図4(b)に示すようにモザイク性の小さな回折点が高分解能まで得られたことから、結晶中でリゾチウム分子は整然と配列・積層していることが示された。この結果は、本方法の有効性を示すものである。
本発明により、新規のバイオセンサーの開発や、タンパク質の構造解析のための2次元、3次元の結晶化の促進が可能となった。
Claims (8)
- 生体高分子の結晶化促進用基材であって、人工的に基材表面に直径3〜500nmの複数のくぼみ、または幅3〜500nmの溝であるナノパターンを設けたことを特徴とする生体高分子の結晶化促進用基材。
- シリコン、酸化アルミニウム、金属、プラスチック、またはガラスを素材とする、請求項1に記載の結晶化促進用基材。
- 前記生体高分子が、タンパク質又はタンパク質複合体である、請求項1又は2に記載の結晶化促進用基材。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の基材を用いて、前記ナノパターンに生体高分子を物理吸着により固定化する工程を含む、生体高分子の固定化方法。
- 基材表面に直径3〜500nmの複数のくぼみ、または幅3〜500nmの溝であるナノパターンを設ける工程、および前記ナノパターンに生体高分子を物理吸着により固定化する工程を含む、生体高分子の固定化方法。
- 前記ナノパターンに生体高分子を物理吸着により固定化する工程を生体高分子が結晶化する条件下で行い、生体高分子を結晶化させて基材に固定化させる、請求項4または5に記載の固定化方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の基材を用いて、前記ナノパターンに生体高分子を物理吸着により固定化する工程を含む、生体高分子の結晶化促進方法。
- 基材表面に直径3〜500nmの、直径の大きさが異なる複数種のくぼみを設ける工程、および前記くぼみに生体高分子を物理吸着により固定化する工程を含む、生体高分子の結晶化条件のスクリーニング方法。
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