JP5417698B2

JP5417698B2 - Method for producing functional film

Info

Publication number: JP5417698B2
Application number: JP2007245352A
Authority: JP
Inventors: 裕小林
Original assignee: Toppan Inc
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2007-09-21
Filing date: 2007-09-21
Publication date: 2014-02-19
Anticipated expiration: 2027-09-21
Also published as: JP2009073090A

Description

本発明は、機能性フィルムの製造方法に関し、特に、光学機能と水蒸気に対するバリア機能とを併せ持った光学膜と、優れた導電機能を有する透明導電膜とを備える機能性フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a functional film, in particular, an optical film having both a barrier function with respect to the optical function and water vapor, a method of manufacturing a functional film and a transparent conductive film having excellent conductive function.

電子デバイスに用いられる機能性フィルムに要求される機能としては、バリア機能、光学機能、導電機能などが挙げられる。従来から、このような機能性フィルムとして、バリア機能、光学機能、導電機能のうち２つあるいは３つの機能を併せ持つものがある。 Examples of functions required for functional films used in electronic devices include barrier functions, optical functions, and conductive functions. Conventionally, such functional films include those having two or three functions among a barrier function, an optical function, and a conductive function.

具体的には、基体上に、反射防止層とバリア層とが形成された機能性フィルム（例えば、特許文献１参照）や、高分子フィルムの一面に、防湿膜、耐エッチング膜、導電膜が順に積層されてなる防湿性透明導電性フィルムがある（例えば、特許文献２参照）。
また、機能性フィルムとして、第１の基材の上にガスバリア層が形成され、ガスバリア層の上に透明粘着材層を介して第２の基材が配置されている透明フィルム（例えば、特許文献３参照）や、高屈折率層及び低屈折率層のうちの少なくとも一層が、ガスバリア性スパッタ膜よりなるガスバリア性と反射防止性能と兼備するガスバリア性反射防止フィルムもある（例えば、特許文献４参照）。
特開２００５−７０６１６号公報特開２００６−４６３３号公報特開２００６−３２７０９８号公報特開２００４−２９１４６４号公報 Specifically, a functional film (for example, refer to Patent Document 1) in which an antireflection layer and a barrier layer are formed on a substrate, or a moisture-proof film, an etching-resistant film, and a conductive film on one surface of a polymer film. There exists a moisture-proof transparent conductive film laminated | stacked in order (for example, refer patent document 2).
Further, as a functional film, a transparent film in which a gas barrier layer is formed on a first substrate and a second substrate is disposed on the gas barrier layer via a transparent adhesive layer (for example, Patent Documents) 3) and a gas barrier antireflection film in which at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer has both a gas barrier property and an antireflection performance made of a gas barrier sputtered film (see, for example, Patent Document 4). ).
JP-A-2005-70616 JP 2006-4633 A JP 2006-327098 A JP 2004-291464 A

しかしながら、上述した従来の機能性フィルムは、光学機能と水蒸気に対する優れたバリア機能とを持ち、なおかつ、十分な導電機能を有するものではなかった。
また、従来の機能性フィルムは、多数の製造工程を経て製造されるため、製造工程を少なくして生産性を向上させることが要求されていた。 However, the above-described conventional functional film has an optical function and an excellent barrier function against water vapor, and does not have a sufficient conductive function.
Moreover, since the conventional functional film is manufactured through many manufacturing processes, it has been required to improve the productivity by reducing the manufacturing processes.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、光学機能と水蒸気に対するバリア機能とを有し、しかも、優れた導電機能を有する機能性フィルムを容易に製造することのできる機能性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and has a functionality capable of easily producing a functional film having an optical function and a barrier function against water vapor and having an excellent conductive function. It aims at providing the manufacturing method of a film.

本発明の機能性フィルムの製造方法は、チャンバと、前記チャンバ内において、透明な樹脂基板を搬送経路の上流から下流に、一定の搬送速度で搬送するための巻出ロールおよび巻取ロールと、前記搬送経路の途中に、成膜速度を調整するため、形成する薄膜の膜厚に応じて数および間隔の少なくとも一方が制御されて配置された複数のターゲットとを備えた成膜装置を用いて機能性フィルムを製造する方法であって、前記樹脂基板を前記搬送経路に沿って前記搬送速度で搬送しながら、前記樹脂基板上にスパッタ法により密着層を形成し、前記密着層の形成に続けて前記密着層上に、高屈折率層、低屈折率層、および表面抵抗値１０Ω／□〜５００Ω／□の透明導電膜をスパッタ法により形成して、前記樹脂基板と異なる屈折率を有し、かつ温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過度が０．１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下の光学膜を形成し、前記密着層および前記光学膜が形成された機能性フィルムを前記巻取ロールに巻き取ることを特徴とする。 The functional film manufacturing method of the present invention includes a chamber, and an unwinding roll and a winding roll for transporting a transparent resin substrate from the upstream to the downstream of the transport path at a constant transport speed in the chamber, In order to adjust the film forming speed in the middle of the transport path, a film forming apparatus provided with a plurality of targets arranged with at least one of the number and interval controlled according to the film thickness of the thin film to be formed is used. A method for producing a functional film, wherein an adhesion layer is formed on the resin substrate by a sputtering method while conveying the resin substrate along the conveyance path at the conveyance speed, and the formation of the adhesion layer is continued. A high refractive index layer, a low refractive index layer, and a transparent conductive film having a surface resistance value of 10Ω / □ to 500Ω / □ are formed on the adhesion layer by sputtering, and have a refractive index different from that of the resin substrate. ,And An optical film having a water vapor permeability of 0.1 g / m ² · day or less in an environment of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% is formed, and the functional film on which the adhesion layer and the optical film are formed is wound up. It is characterized by being wound on a roll.

本発明の機能性フィルムは、透明な樹脂基板の少なくとも一方の面に、少なくとも光学膜と透明導電膜とが備えられた機能性フィルムであって、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過度が０．１ｇ/ｍ^２・ｄａｙ以下であり、前記光学膜が、前記樹脂基板と異なる屈折率を有し、光学機能と水蒸気に対するバリア機能とを備えたものであり、前記透明導電膜が、表面抵抗値１０Ω／□〜５００Ω／□のものであり、光学膜によって光学機能と水蒸気に対する十分に高いバリア機能とが得られ、透明導電膜によって十分に高い導電機能が得られる。
このため、本発明の機能性フィルムは、電子ペーパーに代表されるような電子デバイス用の透明基板として好ましく用いることができる。
さらに、本発明の機能性フィルムは、透明導電膜が、表面抵抗値１０Ω／□〜５００Ω／□のものであるので、太陽電池用電極（およそ１０Ω/□）や、表示デバイスの電極（およそ３５〜１００Ω/□）、タッチパネル用電極（およそ２００〜５００Ω/□）、電磁波シールド（およそ１０Ω/□）、静電防止膜（数ｋΩ/□以下）などに好ましく用いることができる。 The functional film of the present invention is a functional film in which at least an optical film and a transparent conductive film are provided on at least one surface of a transparent resin substrate, and is in an environment of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%. The water vapor permeability is 0.1 g / m ² · day or less, the optical film has a refractive index different from that of the resin substrate, and has an optical function and a barrier function against water vapor. The film has a surface resistance value of 10Ω / □ to 500Ω / □, the optical function provides an optical function and a sufficiently high barrier function against water vapor, and the transparent conductive film provides a sufficiently high conductive function.
For this reason, the functional film of this invention can be preferably used as a transparent substrate for electronic devices as represented by electronic paper.
Furthermore, since the transparent conductive film of the functional film of the present invention has a surface resistance value of 10Ω / □ to 500Ω / □, the electrode for a solar cell (approximately 10Ω / □) or the electrode of a display device (approximately 35). To 100Ω / □), electrodes for touch panel (approximately 200 to 500Ω / □), electromagnetic wave shield (approximately 10Ω / □), antistatic film (several kΩ / □ or less), and the like.

また、本発明の機能性フィルムは、光学膜によって光学機能とバリア機能との２つの機能が得られるものであるので、例えば、樹脂基板上に、光学機能膜とバリア機能膜とを別々に形成した場合と比較して、少ない製造工程で容易に製造できる。 In addition, since the functional film of the present invention can obtain two functions of the optical function and the barrier function by the optical film, for example, the optical functional film and the barrier functional film are separately formed on the resin substrate. Compared with the case where it did, it can manufacture easily with few manufacturing processes.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。
「第１実施形態」
図１は、本発明の機能性フィルムの一例を示した断面図である。図１に示す機能性フィルム１０は、透明な樹脂基板１１の一方の面に、光学膜１２と透明導電膜１５とが形成されてなるものである。図１に示すように、本実施形態においては、光学膜１２が、高屈折率層１３と低屈折率層１４と透明導電膜１５と低屈折率層１６の４層からなるものとされており、透明導電膜１５が、光学膜１２の一部を構成している。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
“First Embodiment”
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the functional film of the present invention. The functional film 10 shown in FIG. 1 has an optical film 12 and a transparent conductive film 15 formed on one surface of a transparent resin substrate 11. As shown in FIG. 1, in this embodiment, the optical film 12 is composed of four layers of a high refractive index layer 13, a low refractive index layer 14, a transparent conductive film 15, and a low refractive index layer 16. The transparent conductive film 15 constitutes a part of the optical film 12.

図１に示す機能性フィルム１０は、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過度（ＷＶＴＲ）が０．１ｇ/ｍ^２・ｄａｙ以下のものである。機能性フィルム１０の水蒸気透過度が上記範囲を超えると、水蒸気に対するバリア機能が不十分となり、電子デバイス用の透明基板として機能性フィルム１０を用いることができない場合がある。 The functional film 10 shown in FIG. 1 has a water vapor transmission rate (WVTR) of 0.1 g / m ² · day or less in an environment of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%. If the water vapor permeability of the functional film 10 exceeds the above range, the barrier function against water vapor becomes insufficient, and the functional film 10 may not be used as a transparent substrate for electronic devices.

機能性フィルム１０を構成する透明な樹脂基板１１としては、光学膜１２の成膜工程や後工程に耐えうる十分な強度を有し、表面の平滑性の良好なものが用いられる。透明な樹脂基板１１に用いられる材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリアリレートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、ポリイミド等を用いることができる。なお、機能性フィルム１０が表示装置の前面板として適用される場合には、透明な樹脂基板１１の材料として、透明性と耐熱性に優れたポリカーボネートやポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）を用いることが好ましい。 As the transparent resin substrate 11 constituting the functional film 10, a transparent resin substrate 11 having sufficient strength to withstand the film forming step and the subsequent step of the optical film 12 and having good surface smoothness is used. Although it does not specifically limit as a material used for the transparent resin substrate 11, For example, a polyethylene terephthalate film, a polybutylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, a polycarbonate film, a polyether sulfone film, a polysulfone film, a polyarylate film, cyclic polyolefin A film, polyimide, or the like can be used. In addition, when the functional film 10 is applied as a front plate of a display device, polycarbonate or polyethersulfone (PES) excellent in transparency and heat resistance is used as a material for the transparent resin substrate 11. preferable.

また、透明な樹脂基板１１の厚さは、機能性フィルム１０の薄型化と可撓性とを考慮して、１０〜２００μm程度とすることが好ましい。また、透明な樹脂基板１１には、周知の種々の添加剤や安定剤、具体的には帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤、易接着剤などが含有されていてもよい。また、透明な樹脂基板１１の表面には、光学膜１２との密着性を改善するために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、薬品処理などが施されていてもよい。 The thickness of the transparent resin substrate 11 is preferably about 10 to 200 μm in consideration of the thinness and flexibility of the functional film 10. Further, the transparent resin substrate 11 may contain various known additives and stabilizers, specifically, an antistatic agent, an ultraviolet ray preventing agent, a plasticizer, a lubricant, an easy-adhesive agent, and the like. The surface of the transparent resin substrate 11 may be subjected to corona treatment, low temperature plasma treatment, ion bombardment treatment, chemical treatment, or the like as pretreatment in order to improve adhesion with the optical film 12.

また、光学膜１２は、樹脂基板１１と異なる屈折率を有するものであり、機能性フィルム１０の光学特性を調整する光学機能を有しているとともに、水蒸気に対するバリア機能を有している。本実施形態の光学膜１２は、屈折率の異なる４層の薄膜を特定の膜厚で積層することにより得られたものである。光学膜１２を構成する薄膜としては、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物などの材料からなる薄膜を用いることができる。薄膜の屈折率は、使用する材料によって異なる。したがって、薄膜の材料、膜厚、積層数を調整することにより光学膜１２の光学機能を調整でき、例えば、光学膜１２を、可視光域あるいは紫外域、赤外域での反射防止膜や、反射膜、半透過膜、加飾膜等として機能するものすることができる。 The optical film 12 has a refractive index different from that of the resin substrate 11, has an optical function of adjusting the optical characteristics of the functional film 10, and has a barrier function against water vapor. The optical film 12 of this embodiment is obtained by laminating four thin films having different refractive indexes with a specific film thickness. As a thin film constituting the optical film 12, a thin film made of a material such as oxide, sulfide, fluoride, or nitride can be used. The refractive index of the thin film varies depending on the material used. Therefore, the optical function of the optical film 12 can be adjusted by adjusting the material, the film thickness, and the number of layers of the thin film. For example, the optical film 12 can be formed as an antireflection film in the visible light region, the ultraviolet region, or the infrared region, It can function as a membrane, a semipermeable membrane, a decorative membrane, or the like.

光学膜１２を構成する高屈折率層１３としては、二酸化チタン（２．４）、二酸化ジルコニウム（２．０）、硫化亜鉛（２．３）、酸化タンタル（２．１）、酸化亜鉛（２．１）、酸化インジウム（２．０）などの屈折率の高い材料が用いられる（上記括弧内の数値は屈折率を表す）。
また、光学膜１２を構成する低屈折率層１４、１６としては、酸化マグネシウム（１．６）、二酸化珪素（１．５）、フッ化マグネシウム（１．４）、フッ化カルシウム（１．３〜１．４）、フッ化セリウム（１．６）、フッ化アルミニウム（１．３）などの屈折率の低い材料が用いられる（上記括弧内の数値は屈折率を表す）。 As the high refractive index layer 13 constituting the optical film 12, titanium dioxide (2.4), zirconium dioxide (2.0), zinc sulfide (2.3), tantalum oxide (2.1), zinc oxide (2 .1), a material having a high refractive index such as indium oxide (2.0) is used (the numerical value in the parenthesis represents a refractive index).
Moreover, as the low refractive index layers 14 and 16 constituting the optical film 12, magnesium oxide (1.6), silicon dioxide (1.5), magnesium fluoride (1.4), calcium fluoride (1.3 To 1.4), a material having a low refractive index such as cerium fluoride (1.6) or aluminum fluoride (1.3) is used (the numerical value in the parenthesis represents the refractive index).

また、光学膜１２は、真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いて形成することができるが、スパッタリング法を用いて形成されたものであることが好ましい。スパッタリング法を用いて形成された光学膜１２は、緻密な薄膜となる。スパッタリング法を用い、膜厚２０ｎｍ以上の光学膜１２を形成することにより、水蒸気透過度（ＷＶＴＲ）が０．１ｇ/ｍ^２・ｄａｙ以下である優れたバリア機能を有する機能性フィルムとすることができる。 The optical film 12 can be formed using a physical vapor deposition method such as a vacuum deposition method or a sputtering method, or a chemical vapor deposition method such as a CVD method, but is formed using a sputtering method. It is preferable. The optical film 12 formed using the sputtering method is a dense thin film. By forming the optical film 12 having a film thickness of 20 nm or more by using a sputtering method, a functional film having an excellent barrier function with a water vapor transmission rate (WVTR) of 0.1 g / m ² · day or less is obtained. it can.

また、本実施形態において、光学膜１２を構成する透明導電膜１５は、高屈折率層としての機能を有し、表面抵抗値が１０Ω／□〜５００Ω／□であるものであればよく、機能性フィルム１０の目的や用途などに応じて種々の材料を使用することができ、特に限定されるものではない。透明導電膜１５の材料としては、具体的には、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）から選ばれるいずれか１種または２種もしくは３種の混合酸化物を用いることが好ましい。真空成膜により形成される酸化インジウムスズや酸化亜鉛、酸化スズからなる透明導電膜１５は、光学的に屈折率の高い材料に分類される。また、上述した透明導電膜１５を構成する材料には、添加物が加えられていてもよい。なお、透明導電膜１５は、太陽電池、電子ペーパー等の表示デバイス、タッチパネル等の電極として用いる場合には、必要に応じて電極構造に合わせパターニングされる。パターニング処理としては、エッチングによる方法やマスクによる方法が用いられる。 Moreover, in this embodiment, the transparent conductive film 15 which comprises the optical film 12 should just have a function as a high refractive index layer, and a surface resistance value is 10 ohms / square-500 ohms / square, Various materials can be used according to the purpose and application of the conductive film 10, and are not particularly limited. Specifically, the material of the transparent conductive film 15 is any one selected from indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), and tin oxide (SnO ₂ ), or two or three mixed oxides. Is preferably used. The transparent conductive film 15 made of indium tin oxide, zinc oxide, or tin oxide formed by vacuum film formation is classified as a material having an optically high refractive index. In addition, an additive may be added to the material constituting the transparent conductive film 15 described above. Note that the transparent conductive film 15 is patterned in accordance with the electrode structure as necessary when used as an electrode for a display device such as a solar cell or electronic paper, or a touch panel. As the patterning process, an etching method or a mask method is used.

また、本発明においては、透明導電膜１５の材料として、高屈折率層としての機能が得られ、容易に上記範囲の表面抵抗値とすることができ、信頼性が高く、多くの使用実績のある酸化インジウムスズを用いることが特に好ましい。透明導電膜１５として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなるものを用いる場合、酸化インジウムにドープされる酸化スズの含有比は、機能性フィルム１０に要求される導電機能などの性能に応じて任意の割合を選択できるが、ＩＴＯ薄膜を１０Ω／□〜５００Ω／□の低抵抗とするためには、酸化スズの含有比を３重量％〜２０重量％の範囲とすることが望ましい。また、透明導電膜１５の機械強度を高めるためには、酸化スズの含有比を１０重量％未満とし、ＩＴＯ薄膜を結晶化させることが望ましい。また、透明導電膜１５にフレキシブル性を持たせるためには、酸化スズの含有比を１０重量％以上とし、ＩＴＯ薄膜をアモルファス化することが望ましい。 Further, in the present invention, the material of the transparent conductive film 15 has a function as a high refractive index layer, can easily have a surface resistance value in the above range, has high reliability, and has been used in many cases. It is particularly preferred to use some indium tin oxide. When the transparent conductive film 15 is made of indium tin oxide (ITO), the content ratio of tin oxide doped in indium oxide is arbitrary depending on the performance such as the conductive function required for the functional film 10. Although the ratio can be selected, in order to make the ITO thin film have a low resistance of 10Ω / □ to 500Ω / □, the content ratio of tin oxide is preferably in the range of 3% by weight to 20% by weight. In order to increase the mechanical strength of the transparent conductive film 15, it is desirable that the content ratio of tin oxide is less than 10% by weight and the ITO thin film is crystallized. In order to give the transparent conductive film 15 flexibility, it is desirable that the tin oxide content is 10 wt% or more and the ITO thin film is made amorphous.

酸化インジウムスズは、一般的なガラスやプラスチック基材と比較して、屈折率の高い高屈折率材料に分類される。したがって、基板上にＩＴＯを形成すると、得られた機能性フィルムの透過率を低下（反射率が増大）させてしまう。そこで、従来から、基板上にＩＴＯ膜に加えて、複数の高屈折率材料と低屈折率材料とを適当な膜厚で成膜してなる光学膜を形成することにより、機能性フィルムの透過率を増大させ（反射率を低減させる）ていた。しかしながら、このようにして機能性フィルムの透過率を増大させた場合、工程数が増えてしまう問題があった。
これに対し、本実施形態においては、透明導電膜１５が高屈折率層としての機能するものであり、透明導電膜１５が光学膜１２の一部を構成しているので、光学膜１２を構成する透明導電膜１５が導電機能を有しないものであり、光学膜１２と別個に透明導電膜を設ける場合と比較して、工程数を少なくすることができる。 Indium tin oxide is classified as a high refractive index material having a high refractive index as compared with general glass and plastic substrates. Therefore, when ITO is formed on the substrate, the transmittance of the obtained functional film is reduced (the reflectance is increased). Therefore, conventionally, in addition to the ITO film, in addition to the ITO film, an optical film formed by forming a plurality of high refractive index materials and low refractive index materials with appropriate film thicknesses is used to transmit the functional film. The rate was increased (the reflectivity was reduced). However, when the transmittance of the functional film is increased in this way, there is a problem that the number of steps increases.
On the other hand, in the present embodiment, the transparent conductive film 15 functions as a high refractive index layer, and the transparent conductive film 15 constitutes a part of the optical film 12, so that the optical film 12 is constituted. The transparent conductive film 15 to be performed does not have a conductive function, and the number of steps can be reduced as compared with the case where the transparent conductive film is provided separately from the optical film 12.

また、透明導電膜１５は、真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いて形成することができるが、スパッタリング法を用いて形成されたものであることが好ましい。特に、スパッタリング法は、堆積粒子のエネルギーが高く、緻密な薄膜を形成することができるため、優れたバリア機能を有する透明導電膜１５を形成することができ、好ましい。 The transparent conductive film 15 can be formed using a physical vapor deposition method such as a vacuum deposition method or a sputtering method, or a chemical vapor deposition method such as a CVD method, but is formed using a sputtering method. It is preferable that In particular, the sputtering method is preferable because the energy of the deposited particles is high and a dense thin film can be formed, so that the transparent conductive film 15 having an excellent barrier function can be formed.

図１に示す本実施形態の機能性フィルム１０は、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過度が０．１ｇ/ｍ^２・ｄａｙ以下であり、光学膜１２が、樹脂基板１１と異なる屈折率を有し、光学機能と水蒸気に対するバリア機能とを備えたものであり、透明導電膜１５が、表面抵抗値１０Ω／□〜５００Ω／□のものであり、光学膜１２によって光学機能と水蒸気に対する十分に高いバリア機能とが得られ、透明導電膜１５によって十分に高い導電機能が得られる。
したがって、図１に示す機能性フィルム１０は、電子ペーパーなどの電子デバイス用の透明基板として好ましく用いることができる。 The functional film 10 of this embodiment shown in FIG. 1 has a water vapor permeability of 0.1 g / m ² · day or less in an environment of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%, and the optical film 12 is a resin substrate 11. The transparent conductive film 15 has a surface resistance value of 10Ω / □ to 500Ω / □, and has an optical function depending on the optical film 12. And a sufficiently high barrier function against water vapor are obtained, and a sufficiently high conductive function is obtained by the transparent conductive film 15.
Therefore, the functional film 10 shown in FIG. 1 can be preferably used as a transparent substrate for electronic devices such as electronic paper.

また、図１に示す機能性フィルム１０は、光学膜１２によって光学機能とバリア機能の２つの機能が得られるものであるので、例えば、樹脂基板上に、光学機能膜とバリア機能膜とを別々に形成した場合と比較して、少ない製造工程で容易に製造できる。 In addition, since the functional film 10 shown in FIG. 1 can obtain two functions of an optical function and a barrier function by the optical film 12, for example, the optical functional film and the barrier functional film are separately provided on a resin substrate. Compared with the case where it forms, it can manufacture easily with few manufacturing processes.

また、図１に示す機能性フィルム１０では、光学膜１２が、高屈折率層１３と低屈折率層１４と高屈折率層として機能する透明導電膜１５と低屈折率層１６とからなるものであるので、光学膜１２が、単層である場合と比較して高度な光学性能を付与することができる。 In the functional film 10 shown in FIG. 1, the optical film 12 includes a high refractive index layer 13, a low refractive index layer 14, a transparent conductive film 15 that functions as a high refractive index layer, and a low refractive index layer 16. Therefore, the optical film 12 can provide a high degree of optical performance as compared with the case where the optical film 12 is a single layer.

また、図１に示す機能性フィルム１０では、光学膜１２が複数層からなり、透明導電膜１５が高屈折率層として機能する光学膜１２の一部であるので、図１に示す機能性フィルム１０を表示デバイスの透明基板として用いた場合に表示デバイスの視認性を向上させることができる。また、透明導電膜１５が高屈折率層として機能する光学膜１２の一部であるので、透明導電膜１５によって、透過・反射色調整、あるいは意匠性の付与を行なうことが可能となる。 In the functional film 10 shown in FIG. 1, the optical film 12 is composed of a plurality of layers, and the transparent conductive film 15 is a part of the optical film 12 that functions as a high refractive index layer. When 10 is used as a transparent substrate of a display device, the visibility of the display device can be improved. Further, since the transparent conductive film 15 is a part of the optical film 12 functioning as a high refractive index layer, the transparent conductive film 15 can adjust transmission / reflection color or impart design properties.

「第２実施形態」
図２は、本発明の機能性フィルムの他の例を示した断面図である。図２に示す機能性フィルム２０は、透明な樹脂基板２１の一方の面に、表面平滑層２２を介して光学膜２３と透明導電膜２４とが形成され、他方の面に、ハードコート２５と防汚層２６とを形成してなるものである。 “Second Embodiment”
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the functional film of the present invention. The functional film 20 shown in FIG. 2 has an optical film 23 and a transparent conductive film 24 formed on one surface of a transparent resin substrate 21 via a surface smoothing layer 22, and a hard coat 25 on the other surface. The antifouling layer 26 is formed.

透明な樹脂基板２１としては、図１に示す機能性フィルム１０を構成する透明な樹脂基板１１と同様のものが用いられる。
また、透明導電膜２４としては、図１に示す機能性フィルム１０を構成する透明導電膜１５と同様のものら用いられる。 As the transparent resin substrate 21, the same thing as the transparent resin substrate 11 which comprises the functional film 10 shown in FIG. 1 is used.
Moreover, as the transparent conductive film 24, the thing similar to the transparent conductive film 15 which comprises the functional film 10 shown in FIG. 1 is used.

光学膜２３は、樹脂基板２１と異なる屈折率を有するものであり、機能性フィルム２０の光学特性を調整する光学機能を有しているとともに、水蒸気に対するバリア機能を有している。また、光学膜２３は、樹脂基板２１と屈折率の異なる１層の薄膜を特定の膜厚で積層することにより得られたものである。光学膜１２を構成する薄膜としては、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物などの材料からなる薄膜を用いることができる。薄膜の屈折率は、使用する材料によって異なる。したがって、薄膜の材料や膜厚を調整することにより光学膜２３の光学機能を調整でき、例えば、光学膜２３を、可視光域あるいは紫外域、赤外域での反射防止膜や、反射膜、半透過膜、加飾膜等として機能するものすることができる。 The optical film 23 has a refractive index different from that of the resin substrate 21, has an optical function of adjusting the optical characteristics of the functional film 20, and has a barrier function against water vapor. The optical film 23 is obtained by laminating a single thin film having a refractive index different from that of the resin substrate 21 with a specific film thickness. As a thin film constituting the optical film 12, a thin film made of a material such as oxide, sulfide, fluoride, or nitride can be used. The refractive index of the thin film varies depending on the material used. Therefore, the optical function of the optical film 23 can be adjusted by adjusting the material and film thickness of the thin film. For example, the optical film 23 can be made of an antireflection film, a reflective film, a half film in the visible light region, the ultraviolet region, or the infrared region. It can function as a permeable membrane, a decorative membrane, or the like.

また、光学膜２３は、図１に示す機能性フィルム１０を構成する光学膜１２と同様に、真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いて形成することができるが、スパッタリング法を用いて形成されたものであることが好ましい。スパッタリング法を用いて形成された光学膜２３は、緻密な薄膜となる。スパッタリング法を用い、膜厚２０ｎｍ以上の光学膜２３を形成することにより、水蒸気透過度（ＷＶＴＲ）が０．１ｇ/ｍ^２・ｄａｙ以下である優れたバリア機能を有する機能性フィルムとすることができる。 The optical film 23 is formed by a physical vapor deposition method such as a vacuum deposition method or a sputtering method, or a chemical vapor deposition method such as a CVD method, like the optical film 12 constituting the functional film 10 shown in FIG. However, it is preferably formed using a sputtering method. The optical film 23 formed by using the sputtering method is a dense thin film. By forming the optical film 23 having a film thickness of 20 nm or more by using a sputtering method, a functional film having an excellent barrier function with a water vapor transmission rate (WVTR) of 0.1 g / m ² · day or less is obtained. it can.

表面平滑層２２は、樹脂基板２１の一方の面に光学膜２３を成膜する前に形成されることにより、機能性フィルム２０のバリア機能を高めるとともに、透明導電膜２４の表面の平滑性を高めるものである。
表面平滑層２２を形成する材料としては、透明性と適度な硬度および機械的強度を有するもが用いられ、アクリル系樹脂、有機シリコーン系樹脂、ポリシロキサン等の樹脂材料を用いることが好ましい。 The surface smoothing layer 22 is formed before the optical film 23 is formed on one surface of the resin substrate 21, thereby enhancing the barrier function of the functional film 20 and improving the smoothness of the surface of the transparent conductive film 24. It is something to increase.
As the material for forming the surface smooth layer 22, a material having transparency, appropriate hardness, and mechanical strength is used, and it is preferable to use a resin material such as an acrylic resin, an organic silicone resin, or polysiloxane.

表面平滑層２２は、マイクログラビア、スクリーン等の各種コーティング方法を用いて塗工することによって形成することができる。なお、塗工により表面平滑層２２を形成する場合には、塗工液に樹脂フィラーや無機のフィラーを混合させることにより高硬度化・易滑化してもよい。
また、表面平滑層２２は、有機蒸着法により形成してもよい。有機蒸着法により表面平滑層２２を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、アクリレートもしくはメタクリレート又はそれらの混合樹脂溶液を、有機物蒸着装置で蒸発させてコーティングドラム上に配置された樹脂基板２１上に凝縮させた後、電子線照射装置にて電子線を照射する硬化処理を行うことにより形成することができる。なお、ここでの硬化処理では、電子線を照射する代わりに、紫外線を照射してもよい。 The surface smooth layer 22 can be formed by coating using various coating methods such as microgravure and screen. In addition, when forming the surface smooth layer 22 by application | coating, you may make high hardness and smoothness by mixing a resin filler and an inorganic filler with a coating liquid.
Further, the surface smooth layer 22 may be formed by an organic vapor deposition method. The method of forming the surface smooth layer 22 by the organic vapor deposition method is not particularly limited. For example, the resin substrate 21 disposed on the coating drum by evaporating an acrylate or methacrylate or a mixed resin solution thereof with an organic vapor deposition apparatus. It can be formed by performing the hardening process which irradiates an electron beam with an electron beam irradiation apparatus, after making it condense on. In the curing process here, ultraviolet rays may be irradiated instead of the electron beam.

ハードコート２５は、耐擦傷性、耐衝撃性を高め、機能性フィルム２０の表面の耐久性を向上させるものである。
ハードコート２５は、透明性と適度な硬度と機械的強度とを有しているものであればよく、特に限定されない。ハードコート２５を形成する材料としては、例えば、電離放射線や紫外線を照射することによって硬化された樹脂や熱硬化性の樹脂などが使用でき、特に紫外線硬化型のアクリル樹脂や有機珪素系の樹脂、熱硬化型のポリシロキサン樹脂などが好適である。また、ハードコート２５を形成する樹脂は、透明な樹脂基板２１と屈折率が同等もしくは近似していることがより好ましい。
ハードコート２５の膜厚は、十分な強度を有するものとするために３μｍ以上とすることが好ましく、透明性、塗工精度、取り扱いやすさを考慮して５〜７μｍの範囲とすることがより好ましい。 The hard coat 25 increases the scratch resistance and impact resistance and improves the durability of the surface of the functional film 20.
The hard coat 25 is not particularly limited as long as it has transparency, appropriate hardness, and mechanical strength. As a material for forming the hard coat 25, for example, a resin cured by irradiating with ionizing radiation or ultraviolet rays, a thermosetting resin, or the like can be used. In particular, an ultraviolet curable acrylic resin, an organic silicon resin, A thermosetting polysiloxane resin or the like is preferable. Further, it is more preferable that the resin forming the hard coat 25 has the same or approximate refractive index as that of the transparent resin substrate 21.
The film thickness of the hard coat 25 is preferably 3 μm or more in order to have sufficient strength, and more preferably in the range of 5 to 7 μm in consideration of transparency, coating accuracy, and ease of handling. preferable.

防汚層２６は、機能性フィルム２０の表面に汚れが付きにくくなるようにするものである。
防汚層２６は、表面の防汚性を高めるものであれば、いかなるものであっても良く、特に限定されないが、撥水性および／または撥油性を有し、表面の防汚性を高めることができるとともに、表面を保護することができるものであることが好ましい。防汚層２６を形成する材料としては、例えば、有機化合物、好ましくはフッ素含有有機化合物が適している。また、防汚層２６を形成する材料として撥水性を示す材料を用いる場合、疎水基を有する化合物を用いることが好ましく、具体的には、フルオロカーボンやパーフルオロシラン等や、これらの高分子化合物等が好適である。 The antifouling layer 26 prevents the surface of the functional film 20 from being stained.
The antifouling layer 26 is not particularly limited as long as it enhances the antifouling property of the surface, and has water repellency and / or oil repellency to enhance the antifouling property of the surface. It is preferable that the surface can be protected. As a material for forming the antifouling layer 26, for example, an organic compound, preferably a fluorine-containing organic compound is suitable. Moreover, when using the material which shows water repellency as a material which forms the pollution protection layer 26, it is preferable to use the compound which has a hydrophobic group, Specifically, fluorocarbon, perfluorosilane, etc., these high molecular compounds, etc. Is preferred.

防汚層２６の膜厚は、機能性フィルム２０を光学デバイスに用いる場合、光学機能を損なわないように５０ｎｍ以下とすることが好ましく、１０ｎｍ以下とすることがより好ましい。
防汚層２６は、材料に応じて真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法などの真空成膜プロセスや、マイクログラビア、スクリーン印刷等のウェットプロセスの各種コーティング方法を用いて形成することができる。 When the functional film 20 is used for an optical device, the film thickness of the antifouling layer 26 is preferably 50 nm or less, and more preferably 10 nm or less so as not to impair the optical function.
The antifouling layer 26 can be formed using various coating methods such as a vacuum film forming process such as a vacuum vapor deposition method and a plasma CVD method, and a wet process such as microgravure and screen printing depending on the material.

図２に示す本実施形態の機能性フィルム２０は、図１に示す機能性フィルム１０と同様に、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過度が０．１ｇ/ｍ^２・ｄａｙ以下であり、光学膜２３が、樹脂基板２１と異なる屈折率を有し、光学機能と水蒸気に対するバリア機能とを備えたものであり、透明導電膜２４が、表面抵抗値１０Ω／□〜５００Ω／□のものであり、光学膜２３によって光学機能と水蒸気に対する十分に高いバリア機能とが得られ、透明導電膜２４によって十分に高い導電機能が得られる。したがって、図２に示す機能性フィルム２０は、電子ペーパーなどの電子デバイス用の透明基板として好ましく用いることができる。
また、図２に示す機能性フィルム２０は、光学膜２３によって光学機能とバリア機能の２つの機能が得られるものであるので、少ない製造工程で容易に製造できる。 The functional film 20 of the present embodiment shown in FIG. 2 has a water vapor permeability of 0.1 g / m ² · day in an environment of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%, similarly to the functional film 10 shown in FIG. The optical film 23 has a refractive index different from that of the resin substrate 21 and has an optical function and a barrier function against water vapor. The transparent conductive film 24 has a surface resistance value of 10Ω / □ to 500Ω / The optical film 23 provides an optical function and a sufficiently high barrier function against water vapor, and the transparent conductive film 24 provides a sufficiently high conductive function. Therefore, the functional film 20 shown in FIG. 2 can be preferably used as a transparent substrate for electronic devices such as electronic paper.
Moreover, since the functional film 20 shown in FIG. 2 can obtain two functions of an optical function and a barrier function by the optical film 23, it can be easily manufactured with few manufacturing processes.

また、図２に示す機能性フィルム２０では、透明な樹脂基板２１の一方の面に、表面平滑層２２が形成され、透明な樹脂基板２１の他方の面に、ハードコート２５と防汚層２６とが形成されているので、機能性フィルム２０は、表面平滑層２２、ハードコート２５、防汚層２６それぞれの機能がさらに付与された優れたものとなる。 In the functional film 20 shown in FIG. 2, the surface smooth layer 22 is formed on one surface of the transparent resin substrate 21, and the hard coat 25 and the antifouling layer 26 are formed on the other surface of the transparent resin substrate 21. Therefore, the functional film 20 is excellent in that the functions of the surface smooth layer 22, the hard coat 25, and the antifouling layer 26 are further provided.

「第３実施形態」
図３は、本発明の積層体の一例を示した断面図である。図３に示す積層体３０は、本発明の機能性フィルムである第１の機能性フィルム３２と、第２の機能性フィルム３９とが粘着層３６を介して貼り合わされてなるものである。
第１の機能性フィルム３２は、透明な樹脂基板３１の一方の面に、密着層３３と光学膜３４と透明導電膜３５とを形成してなるものである。また、第２の機能性フィルム３９は、透明な樹脂基板３７にハードコート３８を形成してなるものである。 “Third Embodiment”
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the laminate of the present invention. The laminated body 30 shown in FIG. 3 is formed by bonding a first functional film 32 that is a functional film of the present invention and a second functional film 39 with an adhesive layer 36 interposed therebetween.
The first functional film 32 is formed by forming an adhesion layer 33, an optical film 34, and a transparent conductive film 35 on one surface of a transparent resin substrate 31. The second functional film 39 is formed by forming a hard coat 38 on a transparent resin substrate 37.

透明な樹脂基板３１、３７としては、図１に示す機能性フィルム１０を構成する透明な樹脂基板１１と同様のものが用いられる。なお、本実施形態においては、第２の機能性フィルム３９を構成する透明な樹脂基板３７に代えて、ガラス基板を用いてもよい。また、本実施形態においては、第１の機能性フィルム３２に粘着層３６を介して第２の機能性フィルム３６を貼り合わせたが、第２の機能性フィルム３９に代えて、ガラスまたは樹脂からなる透明基板を貼り合わせてもよい。 As the transparent resin substrates 31 and 37, those similar to the transparent resin substrate 11 constituting the functional film 10 shown in FIG. 1 are used. In the present embodiment, a glass substrate may be used instead of the transparent resin substrate 37 constituting the second functional film 39. In the present embodiment, the second functional film 36 is bonded to the first functional film 32 via the adhesive layer 36. However, instead of the second functional film 39, glass or resin is used. A transparent substrate may be attached.

また、光学膜３４としては、図２に示す機能性フィルム２０を構成する光学膜２３と同様のものが用いられる。
また、透明導電膜３５としては、図１に示す機能性フィルム１０を構成する透明導電膜１５と同様のものが用いられる。
ハードコート３８としては、図２に示す機能性フィルム２０を構成するハードコート２５と同様のものが用いられる。 Moreover, as the optical film 34, the thing similar to the optical film 23 which comprises the functional film 20 shown in FIG. 2 is used.
Moreover, as the transparent conductive film 35, the thing similar to the transparent conductive film 15 which comprises the functional film 10 shown in FIG. 1 is used.
As the hard coat 38, the thing similar to the hard coat 25 which comprises the functional film 20 shown in FIG. 2 is used.

密着層３３は、光学膜３４と透明な樹脂基板３１との密着性を高めるものである。
密着層３３は、密着性を高めることができるものであれば、いかなるものであってもよく、特に限定されないが、例えば、密着層３３を形成する材料として、コロイダルシリカなどを分散させた樹脂や、クロムやシリコン等の金属亜酸化物などが挙げられる。例えば、密着層３３がコロイダルシリカを分散させた樹脂からなるものである場合、密着層３３、樹脂をコーティングするウェットプロセスを用いて形成できる。また、密着層３３がクロムやシリコン等の金属亜酸化物からなるものである場合、密着層３３はスパッタリング法などの真空成膜を用いて形成できる。
なお、密着層３３の膜厚は、透明度を阻害しないように１０nm以下とすることが好ましい。 The adhesion layer 33 improves the adhesion between the optical film 34 and the transparent resin substrate 31.
The adhesion layer 33 is not particularly limited as long as it can improve the adhesion, and for example, as a material for forming the adhesion layer 33, a resin in which colloidal silica or the like is dispersed, And metal suboxides such as chromium and silicon. For example, when the adhesion layer 33 is made of a resin in which colloidal silica is dispersed, the adhesion layer 33 can be formed using a wet process for coating the resin. Further, when the adhesion layer 33 is made of a metal suboxide such as chromium or silicon, the adhesion layer 33 can be formed by vacuum film formation such as sputtering.
The film thickness of the adhesion layer 33 is preferably 10 nm or less so as not to disturb the transparency.

粘着層３６としては、例えば、アクリル系、ゴム系、ポリエステル系などの透明粘着剤を用いることができ、アクリル系の透明粘着剤を用いることが好ましい。また、粘着層３６として用いられる透明粘着剤は、熱や光で架橋させずとも粘着性を有するものであってもよいし、熱架橋タイプや光（紫外線、電子線）架橋タイプのものであってもよい。 As the adhesive layer 36, for example, an acrylic, rubber-based, or polyester-based transparent adhesive can be used, and an acrylic transparent adhesive is preferably used. The transparent adhesive used as the adhesive layer 36 may be adhesive without being crosslinked by heat or light, or may be of a thermal crosslinking type or a light (ultraviolet ray, electron beam) crosslinking type. May be.

図３に示す本実施形態の積層体３０は、第１の機能性フィルム３２が本発明の機能性フィルムであるので、第１の機能性フィルム３２が温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過度が０．１ｇ/ｍ^２・ｄａｙ以下のものであり、第１の機能性フィルム３２を構成する光学膜３４が、樹脂基板３１と異なる屈折率を有し、光学機能と水蒸気に対するバリア機能とを備えたものであり、透明導電膜３５が、表面抵抗値１０Ω／□〜５００Ω／□のものであり、光学膜３４によって光学機能と水蒸気に対する十分に高いバリア機能とが得られ、透明導電膜３５によって十分に高い導電機能が得られる。したがって、図３に示す積層体３０は、電子ペーパーなどの電子デバイス用の透明基板として好ましく用いることができる。
また、図３に示す積層体３０は、光学膜３４によって光学機能とバリア機能の２つの機能が得られるものであるので、少ない製造工程で容易に製造できる。 In the laminate 30 of the present embodiment shown in FIG. 3, the first functional film 32 is the functional film of the present invention. Therefore, the first functional film 32 is in an environment where the temperature is 40 ° C. and the relative humidity is 90%. The optical film 34 constituting the first functional film 32 has a refractive index different from that of the resin substrate 31, and has an optical function and a water vapor resistance of 0.1 g / m ² · day or less. The transparent conductive film 35 has a surface resistance value of 10Ω / □ to 500Ω / □, and the optical film 34 provides an optical function and a sufficiently high barrier function against water vapor. The transparent conductive film 35 provides a sufficiently high conductive function. Therefore, the laminate 30 shown in FIG. 3 can be preferably used as a transparent substrate for electronic devices such as electronic paper.
3 can obtain two functions of the optical function and the barrier function by the optical film 34, and can be easily manufactured with few manufacturing steps.

また、図３に示す積層体３０では、第１の機能性フィルム３２の光学膜３４と透明な樹脂基板３１との間に、密着層３３が形成されているとともに、第２の機能性フィルム３６にハードコート３８が形成されているので、積層体３０は、密着層３３とハードコート３８それぞれの機能が付与された優れたものとなる。 Further, in the laminate 30 shown in FIG. 3, an adhesion layer 33 is formed between the optical film 34 of the first functional film 32 and the transparent resin substrate 31, and the second functional film 36. Since the hard coat 38 is formed on the laminated body 30, the laminate 30 is excellent in that the functions of the adhesion layer 33 and the hard coat 38 are provided.

また、図３に示す積層体３０は、第１の機能性フィルム３２と第２の機能性フィルム３９とが貼り合わされてなる積層体であるので、工程上のハンドリングを向上させて生産性を高めたり、製品仕様を向上させて機能性を高めたりすることができる。 Moreover, since the laminated body 30 shown in FIG. 3 is a laminated body in which the first functional film 32 and the second functional film 39 are bonded together, the handling in the process is improved and the productivity is increased. Or improve product specifications and functionality.

なお、本発明の機能性フィルムおよび積層体は上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明の機能性フィルムを構成する光学膜および透明導電膜の他に、透明な樹脂基板の一方の面または両面に、保護膜が設けられていてもよい。
保護膜は、本発明の機能性フィルムまたは積層体を構成する薄膜を保護するためのものであり、薄膜を保護することができるものであればいかなるものであってもよく、特に限定されない。保護膜などを形成する材料としては、透明性と適度な硬度および機械的強度とを有するものであることが好ましく、具体的には例えば、アクリル系樹脂、有機シリコーン系樹脂、ポリシロキサン等の樹脂材料を挙げることができる。 In addition, the functional film and laminated body of this invention are not limited to embodiment mentioned above. For example, in addition to the optical film and the transparent conductive film constituting the functional film of the present invention, a protective film may be provided on one surface or both surfaces of a transparent resin substrate.
A protective film is for protecting the thin film which comprises the functional film or laminated body of this invention, and what kind of thing may be used as long as it can protect a thin film, and it is not specifically limited. The material for forming the protective film is preferably a material having transparency and appropriate hardness and mechanical strength. Specifically, for example, a resin such as an acrylic resin, an organic silicone resin, or polysiloxane is used. Materials can be mentioned.

また、保護膜は、マイクログラビア、スクリーン等の各種コーティング方法を用いて塗工することによって形成することができる。なお、塗工により保護膜を形成する場合には、塗工液に樹脂フィラーや無機のフィラーを混合させることにより高硬度化・易滑化してもよい。
また、保護膜は、有機蒸着法により形成してもよい。有機蒸着法により保護膜を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、アクリレートもしくはメタクリレート又はそれらの混合樹脂溶液を、有機物蒸着装置で蒸発させてコーティングドラム上に配置された樹脂基板上に凝縮させた後、電子線照射装置にて電子線を照射する硬化処理を行うことにより形成することができる。なお、ここでの硬化処理では、電子線を照射する代わりに、紫外線を照射してもよい。 The protective film can be formed by coating using various coating methods such as microgravure and screen. In addition, when forming a protective film by application | coating, you may make high hardness and smoothness by mixing a resin filler and an inorganic filler with a coating liquid.
The protective film may be formed by an organic vapor deposition method. The method for forming the protective film by the organic vapor deposition method is not particularly limited. For example, acrylate or methacrylate or a mixed resin solution thereof is evaporated by an organic vapor deposition apparatus and condensed on a resin substrate disposed on the coating drum. Then, it can be formed by performing a curing process of irradiating an electron beam with an electron beam irradiation apparatus. In the curing process here, ultraviolet rays may be irradiated instead of the electron beam.

このような保護層が、透明な樹脂基板の一方の面または両面に積層されてなる機能性フィルムとすることで、機能性フィルムに保護層の機能をさらに付与することが可能となる。 By making such a protective layer a functional film formed by laminating on one or both surfaces of a transparent resin substrate, the function of the protective layer can be further imparted to the functional film.

「第４実施形態」
図４は、本発明の機能性フィルムの製造方法を説明するための図であって、図４（ａ）は本発明の機能性フィルムを製造する際に用いられるスパッタ装置（成膜装置）を示した概略図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）に示すスパッタ装置を用いて製造された本発明の機能性フィルムを示した断面図である。 “Fourth Embodiment”
FIG. 4 is a view for explaining the method for producing the functional film of the present invention, and FIG. 4 (a) shows a sputtering apparatus (film forming apparatus) used when the functional film of the present invention is produced. FIG. 4B is a cross-sectional view showing a functional film of the present invention manufactured using the sputtering apparatus shown in FIG.

図４（ｂ）に示す機能性フィルム５０は、透明な樹脂基板４６の一方の面に、密着層３３と光学膜５２と透明導電膜５５とが形成されてなるものである。図４に示すように、本実施形態においては、図１に示す機能性フィルム１０と同様に、光学膜５２が、高屈折率層５３と低屈折率層５４と透明導電膜５５と低屈折率層５６の４層からなるものとされており、透明導電膜５５が光学膜５２の一部を構成している。 A functional film 50 shown in FIG. 4B is obtained by forming an adhesion layer 33 , an optical film 52, and a transparent conductive film 55 on one surface of a transparent resin substrate 46. As shown in FIG. 4, in the present embodiment, like the functional film 10 shown in FIG. 1, the optical film 52 includes a high refractive index layer 53, a low refractive index layer 54, a transparent conductive film 55, and a low refractive index. The layer 56 is composed of four layers, and the transparent conductive film 55 constitutes a part of the optical film 52.

なお、図４（ｂ）に示す機能性フィルム５０を構成する透明な樹脂基板４６、光学膜５２としては、図１に示す機能性フィルム１０と同様のものが用いられている。
また、密着層３３としては、図３に示す積層体３０と同様のものが用いられている。 In addition, the thing similar to the functional film 10 shown in FIG. 1 is used as the transparent resin substrate 46 and the optical film 52 which comprise the functional film 50 shown in FIG.4 (b).
As the adhesion layer 33, the same as shown to the product Sotai 30 in FIG. 3 is used.

図４（ａ）に示すスパッタ装置４０は、チャンバ４７と、複数のロール４８と、複数のスパッタターゲット４５と、冷却ドラム４４とを備えている。
チャンバ４７内は真空とされており、チャンバ４７には、チャンバ４７内の圧力を制御するポンプなどからなる圧力調整手段（図示略）やスパッタターゲットに対してパワーを印加する手段（図示略）、チャンバ４７内にガスを供給するガス供給手段（図示略）などが備えられている。 A sputtering apparatus 40 shown in FIG. 4A includes a chamber 47, a plurality of rolls 48, a plurality of sputtering targets 45, and a cooling drum 44.
The chamber 47 is evacuated. The chamber 47 includes pressure adjusting means (not shown) including a pump for controlling the pressure in the chamber 47, means for applying power to the sputtering target (not shown), Gas supply means (not shown) for supplying gas into the chamber 47 is provided.

ロール４８は、チャンバ４７内において、透明な樹脂基板４６を支持しながら搬送経路の上流から下流に搬送するためのものである。ロール４８は、巻出ロール４１と巻取ロール４２とフリーロール４３とからなる。巻出ロール４１は、成膜前の樹脂基板４６を所定の速度で送出するものである。また、巻取ロール４２は、成膜後の樹脂基板４６を巻き取るものである。また、フリーロール４３は、樹脂基板４６を所定の経路で搬送するために巻出ロール４１と巻取ロール４２との間に配置されたものである。図４に示すスパッタ装置４０は、これらのロール４８を備えることにより、巻出ロール４１から巻取ロール４２に、いわゆるロールトゥロール搬送を行なうものとされている。 The roll 48 is for transporting from the upstream to the downstream of the transport path while supporting the transparent resin substrate 46 in the chamber 47. The roll 48 includes an unwinding roll 41, a winding roll 42, and a free roll 43. The unwinding roll 41 sends out the resin substrate 46 before film formation at a predetermined speed. The take-up roll 42 takes up the resin substrate 46 after film formation. The free roll 43 is disposed between the unwinding roll 41 and the winding roll 42 in order to transport the resin substrate 46 along a predetermined path. The sputter device 40 shown in FIG. 4 is provided with these rolls 48 so as to carry out so-called roll-to-roll conveyance from the unwinding roll 41 to the winding roll 42.

スパッタターゲット４５は、成膜される薄膜の材質に対応する材料からなるものであり、樹脂基板４６の搬送経路の途中に所定の間隔を空けて複数配置されている。図４に示すスパッタ装置４０においては、符号４５ａ、４５ｂ、４５ｃ、４５ｄ、４５ｅで示されるように、スパッタターゲット４５が５つ設けられている。なお、隣り合うスパッタターゲット４５間の間隔は、一定でもよいし、それぞれ異なっていてもよく、成膜される薄膜の材質や厚さ、成膜速度、不純物の混合されやすさなどに基づいて、適宜決定できる。また、スパッタターゲット４５の数は、特に限定されるものではなく、成膜される薄膜の数や材質、厚さ、成膜速度、不純物の混合されやすさなどに基づいて、適宜決定できる。 The sputter target 45 is made of a material corresponding to the material of the thin film to be formed, and a plurality of sputter targets 45 are arranged at a predetermined interval in the middle of the transport path of the resin substrate 46. In the sputtering apparatus 40 shown in FIG. 4, five sputter targets 45 are provided as indicated by reference numerals 45a, 45b, 45c, 45d, and 45e. Note that the spacing between adjacent sputter targets 45 may be constant or different, based on the material and thickness of the thin film to be deposited, the deposition rate, the ease with which impurities are mixed, and the like. It can be determined as appropriate. The number of sputter targets 45 is not particularly limited, and can be determined as appropriate based on the number, material, thickness, deposition rate, ease of mixing impurities, and the like of the thin films to be formed.

冷却ドラム４４は、チャンバ４７内において、搬送経路に沿って移動する透明な樹脂基板４６を冷却するものである。 The cooling drum 44 cools the transparent resin substrate 46 that moves along the transport path in the chamber 47.

このようなスパッタ装置４０を用いて、図４（ｂ）に示す機能性フィルム５０を製造するには、まず、チャンバ４７内にスパッタターゲット４５を配置して、チャンバ４７内を真空排気する。
その後、図４（ａ）に示すように、巻出ロール４１から巻き出された樹脂基板４６をフリーロール４３によって搬送経路に沿って搬送しながら、密着層３３の材質に対応するスパッタターゲット４５ａをスパッタすることにより、樹脂基板４６上に密着層３３を形成する。
次に、さらに樹脂基板４６を搬送経路に沿って搬送させながら、光学膜５２の材質に対応するスパッタターゲット４５ｂ、４５ｃ、４５ｄ、４５ｅをスパッタすることにより、密着層３３上に高屈折率層５３と低屈折率層５４と透明導電膜５５と低屈折率層５６の４層からなり、表面抵抗値１０Ω／□〜５００Ω／□の透明導電膜５５を含み、樹脂基板４６と異なる屈折率を有し、光学機能と水蒸気に対するバリア機能とを備えた光学膜５２を成膜（光学膜形成工程、透明導電膜形成工程）することで、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過度が０．１ｇ/ｍ^２・ｄａｙ以下である図４（ｂ）に示す機能性フィルム５０が形成されて巻取ロール４２に巻き取られる。 In order to manufacture the functional film 50 shown in FIG. 4B using such a sputtering apparatus 40, first, the sputtering target 45 is arranged in the chamber 47 and the inside of the chamber 47 is evacuated.
Thereafter, as shown in FIG. 4A, while the resin substrate 46 unwound from the unwinding roll 41 is transported along the transport path by the free roll 43, the sputter target 45a corresponding to the material of the adhesion layer 33 is formed. The adhesion layer 33 is formed on the resin substrate 46 by sputtering.
Next, the sputter targets 45b, 45c, 45d, and 45e corresponding to the material of the optical film 52 are sputtered while the resin substrate 46 is further transported along the transport path, whereby the high refractive index layer 53 is formed on the adhesion layer 33. The low refractive index layer 54, the transparent conductive film 55, and the low refractive index layer 56. The transparent conductive film 55 has a surface resistance of 10Ω / □ to 500Ω / □ and has a refractive index different from that of the resin substrate 46. Then, by forming an optical film 52 having an optical function and a barrier function against water vapor (an optical film forming process, a transparent conductive film forming process), water vapor permeability in an environment of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% The functional film 50 shown in FIG. 4B having a thickness of 0.1 g / m ² · day or less is formed and wound around the winding roll 42.

なお、図４（ａ）に示すスパッタ装置４０では、樹脂基板４６の搬送速度をほぼ一定とすることができるように、スパッタターゲット４５の数や間隔を制御する方法などにより、各薄膜における成膜速度を調整することが好ましい。具体的には例えば、成膜速度を遅くして成膜することが好ましい薄膜については、同じ材質の２個以上のスパッタターゲット４５を配置して、搬送経路に沿って搬送されている樹脂基板４６がスパッタターゲット４５と対向して搬送されている時間を長くする。また、成膜速度を早くして成膜できる薄膜については、１個のスパッタターゲット４５を配置して、搬送経路に沿って搬送されている樹脂基板４６がスパッタターゲット４５と対向して搬送されている時間を、上述した成膜速度を遅くして成膜することが好ましい薄膜と比較して、短くする。このようにして、樹脂基板４６がスパッタターゲット４５と対向して搬送されている時間を調整することで、各薄膜における成膜時間を調節することができ、各薄膜における成膜速度を調整できる。 In addition, in the sputtering apparatus 40 shown in FIG. 4A, the film formation on each thin film is performed by a method of controlling the number and interval of the sputtering targets 45 so that the conveyance speed of the resin substrate 46 can be made substantially constant. It is preferable to adjust the speed. Specifically, for example, for a thin film that is preferably formed at a low film formation rate, two or more sputter targets 45 made of the same material are arranged, and the resin substrate 46 is conveyed along the conveyance path. Increases the time during which the substrate is conveyed facing the sputter target 45. For a thin film that can be deposited at a high deposition rate, one sputter target 45 is arranged, and the resin substrate 46 transported along the transport path is transported opposite the sputter target 45. The time during which the film is formed is reduced as compared with a thin film that is preferably formed at a low film formation rate. In this way, by adjusting the time during which the resin substrate 46 is conveyed facing the sputter target 45, the film formation time in each thin film can be adjusted, and the film formation speed in each thin film can be adjusted.

上記の方法などを用いて各薄膜の成膜速度を調整することで、複数の材質からなる異なる厚みの複数の薄膜を有する図４（ｂ）に示す機能性フィルム５０を、樹脂基板４６の搬送速度をほぼ一定としたまま、１つのチャンバ４７内において容易に効率よく製造できる。 By adjusting the film forming speed of each thin film using the above method or the like, the functional film 50 shown in FIG. It can be manufactured easily and efficiently in one chamber 47 with the speed kept substantially constant.

また、図４（ａ）に示すスパッタ装置４０では、チャンバ４７内の各薄膜の成膜に用いられる各領域が、それぞれ各薄膜を成膜するに際して好ましい成膜条件となるように制御されている。図４（ａ）に示すスパッタ装置４０を用いて、チャンバ４７内を開放することなく、１つのチャンバ４７内において複数の材質からなる複数の薄膜を成膜する場合、各薄膜において相互に不純物が混合しないように、各薄膜の成膜に用いられる各領域間におけるコンダクタンスができる限り小さくなるようにすることが好ましい。また、必要に応じて、各薄膜の成膜に用いられる各領域間に中間室を設け、異なる薄膜が成膜される領域との間の差圧が１：１００以上となるようにして、各薄膜において相互に不純物が混合することを防止することが好ましい。 Further, in the sputtering apparatus 40 shown in FIG. 4A, each region used for forming each thin film in the chamber 47 is controlled so as to be a preferable film forming condition when forming each thin film. . When a plurality of thin films made of a plurality of materials are formed in one chamber 47 without opening the chamber 47 using the sputtering apparatus 40 shown in FIG. In order not to mix, it is preferable to make the conductance between the regions used for forming each thin film as small as possible. If necessary, an intermediate chamber is provided between the regions used for forming each thin film so that the differential pressure between the regions where different thin films are formed is 1: 100 or more. It is preferable to prevent the impurities from being mixed with each other in the thin film.

図４（ａ）に示すスパッタ装置４０は、複数のスパッタターゲット４５とロール４８とを備えることにより、巻出ロール４１から巻き出された樹脂基板４６を搬送経路に沿って搬送させながら、樹脂基板４６上に密着層３３と光学膜５２（透明導電膜５５）とを形成して機能性フィルム５０とした後、巻取ロール４２に巻き取るものとされている。よって、図４（ａ）に示すスパッタ装置４０では、チャンバ４７内を開放することなく、連続してチャンバ４７内で密着層３３および光学膜５２（透明導電膜５５）の成膜が行なわれる。したがって、図４（ｂ）に示す機能性フィルム５０を製造する際に、大気解放および真空排気の工程を複数回行う必要がなく、容易に効率よく製造できる。 A sputtering apparatus 40 shown in FIG. 4A includes a plurality of sputtering targets 45 and rolls 48, thereby allowing the resin substrate 46 unwound from the unwinding roll 41 to be transported along the transport path while the resin substrate 46 is transported. An adhesive layer 33 and an optical film 52 (transparent conductive film 55) are formed on 46 to form a functional film 50, and then wound around a winding roll 42. Therefore, in the sputtering apparatus 40 shown in FIG. 4A, the adhesion layer 33 and the optical film 52 (transparent conductive film 55) are continuously formed in the chamber 47 without opening the chamber 47. Therefore, when the functional film 50 shown in FIG. 4B is manufactured, it is not necessary to perform the steps of air release and evacuation a plurality of times, and it can be manufactured easily and efficiently.

「電子デバイス」
上述した本発明の機能性フィルムおよび積層体は、光学膜によって光学機能と水蒸気に対する十分に高いバリア機能とが得られ、透明導電膜によって十分に高い導電機能が得られるものであるので、電子ペーパーなどの種々の電子デバイスに好ましく用いることができる。
また、本発明の機能性フィルムおよび積層体は、製造工程の少ないものであるので、本発明の機能性フィルムや積層体を電子デバイスに適用することにより、容易に高品質の電子デバイスを作製できる。 "Electronic devices"
The functional film and laminate of the present invention described above can obtain an optical function and a sufficiently high barrier function against water vapor by the optical film, and a sufficiently high conductive function by the transparent conductive film. It can be preferably used for various electronic devices.
Moreover, since the functional film and laminated body of this invention have few manufacturing processes, a high quality electronic device can be easily produced by applying the functional film and laminated body of this invention to an electronic device. .

次に、実施例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではない。 EXAMPLES Next, although an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail, this invention is not limited only to these Examples.

［実施例１］
ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）からなる透明な樹脂基板上に、表１に示す層構成を表１に示す材料および膜厚で表１に示す成膜方法を用いて形成することにより、電子ペーパーの前面基板用の機能性フィルムを作製した。なお、このとき、透明導電膜（ＩＴＯ）は、電子ペーパーの電極構造にあわせパターニング処理を行っている。 [Example 1]
By forming the layer structure shown in Table 1 on the transparent resin substrate made of polyethersulfone (PES) using the film formation method shown in Table 1 with the materials and film thicknesses shown in Table 1, the electronic paper A functional film for the front substrate was produced. At this time, the transparent conductive film (ITO) is subjected to a patterning process in accordance with the electrode structure of the electronic paper.

［比較例１］
実施例１と同様の樹脂基板上に、表２に示す層構成を表２に示す材料および膜厚で表２に示す成膜方法を用いて形成することにより、電子ペーパーの前面基板用の機能性フィルムを作製した。なお、このとき、透明導電膜（ＩＴＯ）は、実施例１と同様に、電子ペーパーの電極構造にあわせパターニング処理を行っている。 [Comparative Example 1]
By forming the layer structure shown in Table 2 on the same resin substrate as in Example 1 using the material and film thickness shown in Table 2 and the film forming method shown in Table 2, the function for the front substrate of electronic paper is provided. A conductive film was prepared. At this time, the transparent conductive film (ITO) is subjected to a patterning process in accordance with the electrode structure of the electronic paper, as in Example 1.

［比較例２］
実施例１と同様の樹脂基板上に、表３に示す層構成を表３に示す材料および膜厚で表３に示す成膜方法を用いて形成することにより、電子ペーパーの前面基板用の機能性フィルムを作製した。なお、このとき、透明導電膜（ＩＴＯ）は、実施例１と同様に、電子ペーパーの電極構造にあわせパターニング処理を行っている。 [Comparative Example 2]
By forming the layer structure shown in Table 3 on the same resin substrate as in Example 1 using the material and film thickness shown in Table 3 and the film forming method shown in Table 3, the function for the front substrate of electronic paper is provided. A conductive film was prepared. At this time, the transparent conductive film (ITO) is subjected to a patterning process in accordance with the electrode structure of the electronic paper, as in Example 1.

このようにして得られた実施例１、比較例１および比較例２の機能性フィルムについて、樹脂基板の水蒸気透過度（ＷＶＴＲ）と、機能性フィルムの水蒸気透過度（ＷＶＴＲ）と、透明導電膜の表面抵抗値と、照明光源Ｄ６５、入射角度５°、視野２°のときのＣＩＥＬＡＢ色空間におけるｂ＊の数値と、色味とを調べた。その結果を表４に示す。 With respect to the functional films of Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 thus obtained, the water vapor transmission rate (WVTR) of the resin substrate, the water vapor transmission rate (WVTR) of the functional film, and the transparent conductive film The surface resistance value, the numerical value of b * in the CIELAB color space at the illumination light source D65, the incident angle of 5 °, and the visual field of 2 °, and the color were examined. The results are shown in Table 4.

また、実施例１、比較例１および比較例２の機能性フィルムを電子ペーパーの前面基板として用いた電子デバイスを作製し、温度６０℃、相対湿度９０％の環境下に１０００時間暴露する耐久性試験を行った。その結果を表４に示す。 In addition, an electronic device using the functional film of Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 as a front substrate of electronic paper was manufactured, and was exposed to an environment of 60 ° C. and 90% relative humidity for 1000 hours. A test was conducted. The results are shown in Table 4.

表４に示すように、実施例１の機能性フィルムでは、ＣＩＥＬＡＢ色空間におけるｂ＊の数値の絶対値が小さく、光学膜による光学機能によって、透過光がニュートラルで良好な色再現性を示すことが確認できた。
また、実施例１の機能性フィルムでは、表面抵抗値が良好で十分に高い導電機能が得られた。
また、実施例１の機能性フィルムは、水蒸気透過度が０．１ｇ/ｍ^２・ｄａｙ以下であり、バリア機能も良好であった。さらに、実施例１の機能性フィルムを用いた電子デバイスでは、耐久性試験による劣化は見られず、良好な耐久性を有していることが確認できた。 As shown in Table 4, in the functional film of Example 1, the absolute value of the value of b * in the CIELAB color space is small, and the transmitted light is neutral and exhibits good color reproducibility due to the optical function of the optical film. Was confirmed.
Moreover, in the functional film of Example 1, the surface resistance value was favorable and a sufficiently high conductive function was obtained.
In addition, the functional film of Example 1 had a water vapor permeability of 0.1 g / m ² · day or less and a good barrier function. Furthermore, in the electronic device using the functional film of Example 1, deterioration due to the durability test was not observed, and it was confirmed that the electronic device had good durability.

これに対し、比較例１の機能性フィルムでは、実施例１と同様に、光学膜による光学機能によって、透過光がニュートラルで良好な色再現性を示すことが確認できた。また、比較例１の機能性フィルムにおいても、表面抵抗値が良好で十分に高い導電機能が得られた。しかし、比較例１の機能性フィルムでは、水蒸気透過度が大きく、バリア機能が不十分であった。また、比較例１の機能性フィルムを用いた電子デバイスでは、耐久性試験による劣化が見られ、実施例１の電子デバイスと比較して、耐久性が劣ることが分かった。 On the other hand, in the functional film of Comparative Example 1, it was confirmed that the transmitted light was neutral and showed good color reproducibility by the optical function of the optical film as in Example 1. In addition, in the functional film of Comparative Example 1, a sufficiently high conductive function was obtained with a good surface resistance value. However, the functional film of Comparative Example 1 had a large water vapor permeability and an insufficient barrier function. Moreover, in the electronic device using the functional film of the comparative example 1, the deterioration by a durability test was seen and it turned out that durability is inferior compared with the electronic device of Example 1. FIG.

また、比較例２の機能性フィルムにおいては、表面抵抗値が良好で十分に高い導電機能が得られた。しかし、比較例２の機能性フィルムでは、光学膜がないため、光学膜による光学機能が得られず、ＣＩＥＬＡＢ色空間におけるｂ＊の数値が大きく、透過光が黄色味がかってしまうことが分かった。このため、比較例２の機能性フィルムでは、色調整用のフィルターを付与する必要があった。
また、比較例２の機能性フィルムでは、水蒸気透過度が大きく、バリア機能が不十分であった。また、比較例２の機能性フィルムを用いた電子デバイスでは、耐久性試験による劣化が見られ、実施例１の電子デバイスと比較して、耐久性が劣ることが分かった。 Moreover, in the functional film of the comparative example 2, the surface resistance value was favorable and a sufficiently high conductive function was obtained. However, in the functional film of Comparative Example 2, since there was no optical film, the optical function by the optical film was not obtained, and the value of b * in the CIELAB color space was large, and it was found that the transmitted light was yellowish. . For this reason, in the functional film of the comparative example 2, it was necessary to provide the filter for color adjustment.
Moreover, in the functional film of the comparative example 2, water vapor permeability was large and the barrier function was insufficient. Moreover, in the electronic device using the functional film of the comparative example 2, deterioration by a durability test was seen and it turned out that durability is inferior compared with the electronic device of Example 1. FIG.

［実施例２］
実施例１と同様の樹脂基板上に、表５に示す層構成を表５に示す材料および膜厚で表５に示す成膜方法を用いて形成することにより、無機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏ−ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）の前面基板用の機能性フィルムを作製した。なお、実施例２を構成する透明導電膜は、光学膜の高屈折率層としての機能が得られるものである。また、このとき、透明導電膜（ＩＴＯ）は、無機ＥＬの電極構造にあわせパターニング処理を行っている。 [Example 2]
By forming the layer structure shown in Table 5 on the same resin substrate as in Example 1 using the film formation method shown in Table 5 with the materials and film thicknesses shown in Table 5, an inorganic EL (electro-luminescence) A functional film for the front substrate was produced. In addition, the transparent conductive film which comprises Example 2 has a function as a high refractive index layer of an optical film. At this time, the transparent conductive film (ITO) is subjected to a patterning process in accordance with the inorganic EL electrode structure.

［比較例３］
実施例１と同様の樹脂基板上に、表６に示す層構成を表６に示す材料および膜厚で表６に示す成膜方法を用いて形成することにより、無機ＥＬの前面基板用の機能性フィルムを作製した。また、このとき、透明導電膜（ＩＴＯ）は、実施例２と同様に、無機ＥＬの電極構造にあわせパターニング処理を行っている。 [Comparative Example 3]
By forming the layer structure shown in Table 6 on the same resin substrate as in Example 1 using the material and film thickness shown in Table 6 and the film forming method shown in Table 6, the function for the front substrate of the inorganic EL A conductive film was prepared. At this time, the transparent conductive film (ITO) is subjected to a patterning process in accordance with the inorganic EL electrode structure, as in the second embodiment.

このようにして得られた実施例２および比較例３の機能性フィルムについて、樹脂基板の水蒸気透過度（ＷＶＴＲ）と、機能性フィルムの水蒸気透過度（ＷＶＴＲ）と、透明導電膜の表面抵抗値と、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）とを調べた。その結果を表７に示す。 For the functional films of Example 2 and Comparative Example 3 thus obtained, the water vapor transmission rate (WVTR) of the resin substrate, the water vapor transmission rate (WVTR) of the functional film, and the surface resistance value of the transparent conductive film The total light transmittance (JIS-K7105) was examined. The results are shown in Table 7.

また、実施例２および比較例３の機能性フィルムを無機ＥＬの前面基板として用いた電子デバイスを作製し、温度６０℃、相対湿度９０％の環境下に１０００時間暴露する耐久性試験を行った。その結果を表７に示す。 In addition, an electronic device using the functional film of Example 2 and Comparative Example 3 as an inorganic EL front substrate was prepared, and a durability test was performed by exposing it to an environment of 60 ° C. and 90% relative humidity for 1000 hours. . The results are shown in Table 7.

表７に示すように、実施例２の機能性フィルムでは、比較例３の機能性フィルムと比較して全光線透過率が大きく、光学膜による光学機能による透過率向上効果が確認できた。
また、実施例２の機能性フィルムでは、表面抵抗値が良好で十分に高い導電機能が得られた。
また、実施例２の機能性フィルムでは、水蒸気透過度が０．１ｇ/ｍ^２・ｄａｙ以下であり、バリア機能も良好であった。さらに、実施例２の機能性フィルムを用いた電子デバイスでは、耐久性試験による輝度の低下は見られず、良好な耐久性を有していることが確認できた。 As shown in Table 7, in the functional film of Example 2, the total light transmittance was larger than that of the functional film of Comparative Example 3, and it was confirmed that the transmittance was improved by the optical function of the optical film.
Moreover, in the functional film of Example 2, the surface resistance value was favorable and a sufficiently high conductive function was obtained.
In the functional film of Example 2, the water vapor permeability was 0.1 g / m ² · day or less, and the barrier function was also good. Furthermore, in the electronic device using the functional film of Example 2, the brightness | luminance fall by a durability test was not seen, but it has confirmed having favorable durability.

また、比較例３の機能性フィルムは、バリア機能が不十分であるため、比較例３の機能性フィルムを用いた電子デバイスでは、耐久性試験による輝度の低下が見られ、実施例２の電子デバイスと比較して、耐久性が劣ることが分かった。 In addition, since the functional film of Comparative Example 3 has an insufficient barrier function, an electronic device using the functional film of Comparative Example 3 shows a decrease in luminance due to a durability test. It was found that the durability was inferior compared to the device.

図１は、本発明の機能性フィルムの一例を示した断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the functional film of the present invention. 図２は、本発明の機能性フィルムの他の例を示した断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the functional film of the present invention. 図３は、本発明の積層体の一例を示した断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the laminate of the present invention. 図４は、本発明の機能性フィルムの製造方法を説明するための図である。FIG. 4 is a view for explaining the method for producing the functional film of the present invention.

Explanation of symbols

１０、２０、３２、３９…機能性フィルム、１１、２１、３１，３７、４６…樹脂基板、１２、２３、３４、５２…光学膜、１３…高屈折率層、１４，１６…低屈折率層、１５、２４、３５、５５…透明導電膜、２２…表面平滑層、２５、３８…ハードコート、２６…防汚層、３０…積層体、３３…密着層、３６…粘着層、４０…スパッタ装置、４１…巻出ロール、４２…巻取ロール、４３…フリーロール、４４…冷却ドラム、４５ａ、４５ｂ、４５ｃ、４５ｄ、４５ｅ…スパッタリングターゲット。 10, 20, 32, 39 ... functional film, 11, 21, 31, 37, 46 ... resin substrate, 12, 23, 34, 52 ... optical film, 13 ... high refractive index layer, 14, 16 ... low refractive index Layer, 15, 24, 35, 55 ... transparent conductive film, 22 ... surface smooth layer, 25, 38 ... hard coat, 26 ... antifouling layer, 30 ... laminate, 33 ... adhesion layer, 36 ... adhesive layer, 40 ... Sputtering device, 41 ... unwinding roll, 42 ... winding roll, 43 ... free roll, 44 ... cooling drum, 45a, 45b, 45c, 45d, 45e ... sputtering target.

Claims

A chamber, an unwinding roll and a winding roll for transporting the transparent resin substrate from the upstream to the downstream of the transport path at a constant transport speed, and a film forming speed in the middle of the transport path. In order to adjust, according to the thickness of the thin film to be formed, a method for producing a functional film using a film forming apparatus provided with a plurality of targets arranged with at least one of the number and interval being controlled ,
While transporting the resin substrate at the transport speed along the transport path,
An adhesion layer is formed on the resin substrate by sputtering,
Following the formation of the adhesion layer, a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a transparent conductive film having a surface resistance of 10Ω / □ to 500Ω / □ are formed on the adhesion layer by sputtering, and the resin substrate And an optical film having a water vapor permeability of 0.1 g / m ² · day or less in an environment having a refractive index different from that in a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%,
A method for producing a functional film, wherein the functional film on which the adhesion layer and the optical film are formed is wound on the winding roll.