JP5407677B2 - Optical compensation film and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、波長依存性等の光学特性及び基材との密着性に優れた光学補償膜、特に塗工後未延伸の状態でも光学補償機能を有する液晶表示素子用の光学補償膜及びその製造方法に関するものである。詳細にはRth(面外位相差量)を上昇させた光学補償膜であり、より薄膜の光学補償膜が期待される。 The present invention relates to an optical compensation film excellent in optical properties such as wavelength dependency and adhesion to a substrate, in particular, an optical compensation film for a liquid crystal display device having an optical compensation function even in an unstretched state after coating, and its production It is about the method. Specifically, it is an optical compensation film with an increased Rth (out-of-plane retardation), and a thinner optical compensation film is expected.
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話からコンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。 Liquid crystal displays are widely used as the most important display devices in the multimedia society, from mobile phones to computer monitors, notebook computers, and televisions. Many optical films are used in liquid crystal displays to improve display characteristics.
特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償などに大きな役割を果たしている。従来の光学補償フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィン、セルロース系樹脂の延伸フィルムが用いられている。しかしながらこれらのフィルムには延伸工程が必要となること、延伸工程での位相差の均一性を求めることが困難となる、等の課題がある。また、特に大面積のフィルムにおいては、延伸により発現する位相差の制御を行うことがよりいっそう困難となる。 In particular, the optical compensation film plays a major role in improving the contrast when viewed from the front or obliquely, compensating for the color tone, and the like. As a conventional optical compensation film, a stretched film of polycarbonate, cyclic polyolefin, or cellulose resin is used. However, these films have problems such as a need for a stretching process and difficulty in obtaining uniformity of retardation in the stretching process. In particular, in a large-area film, it becomes even more difficult to control the retardation produced by stretching.
この延伸による課題を解決する方法として、塗工(コーティング)により未延伸での光学補償機能を発現させる光学補償膜の検討がなされている。 As a method for solving the problem due to stretching, studies have been made on an optical compensation film that exhibits an uncompensated optical compensation function by coating.
アクロン大学のハリス及びチェンは、剛直棒状のポリイミド、ポリエステル、ポリアミド、ポリ(アミド−イミド)、ポリ(エステル−イミド)よりなる光学補償膜を提案しており(例えば、特許文献1,2参照。)、これらの材料は、自発的な分子配向性を有していることから塗工により延伸工程を経ることなく位相差を発現するという特徴がある。 Harris and Chen of Akron University have proposed an optical compensation film made of rigid rod-shaped polyimide, polyester, polyamide, poly (amide-imide), and poly (ester-imide) (see, for example, Patent Documents 1 and 2). ), These materials have the characteristic of expressing a phase difference without undergoing a stretching process by coating because of their spontaneous molecular orientation.
更に、ポリイミドの塗工性(溶剤への溶解性)を向上したポリイミドからなる光学補償膜(例えば、特許文献3参照。)、ディスコティック液晶化合物を偏光板の保護フィルムに塗工した偏光板(例えば、特許文献4参照。)、等が提案されている。 Furthermore, an optical compensation film made of polyimide with improved polyimide coating properties (solubility in a solvent) (see, for example, Patent Document 3), and a polarizing plate in which a protective film of a polarizing plate is coated with a discotic liquid crystal compound ( For example, see Patent Document 4).
また、フェニルマレイミド−イソブテン共重合体からなる延伸フィルム(例えば、特許文献5参照。)が提案されている。 Moreover, the stretched film (for example, refer patent document 5) which consists of a phenylmaleimide-isobutene copolymer is proposed.
また、マレイミド樹脂よりなる光学補償膜が開示されている(例えば、特許文献6参照)。 Moreover, an optical compensation film made of maleimide resin is disclosed (for example, see Patent Document 6).
しかし、特許文献1〜3において提案された方法で用いられるポリマーは、芳香族ポリマーであることから位相差の波長依存性が大きく、液晶表示素子の光学補償膜として用いた場合に色ずれなど画質低下の課題を有するものであった。 However, since the polymer used in the methods proposed in Patent Documents 1 to 3 is an aromatic polymer, the wavelength dependence of the retardation is large, and when used as an optical compensation film of a liquid crystal display element, image quality such as color shift is obtained. It had the subject of a fall.
また、特許文献4に提案されているディスコティック液晶化合物を用いる方法は、液晶化合物を均一に配向させることが必要となり塗工プロセスが煩雑化する、配向ムラが大きい等の課題を有するばかりか、該液晶化合物も芳香族化合物が主体となることから位相差の波長依存性が大きいという品質上の課題も有するものであった。 In addition, the method using the discotic liquid crystal compound proposed in Patent Document 4 not only has problems such as requiring uniform alignment of the liquid crystal compound, complicating the coating process, and large alignment unevenness. Since the liquid crystal compound is mainly composed of an aromatic compound, it also has a quality problem that the wavelength dependency of retardation is large.
特許文献5で得られる延伸フィルムは、塗工するだけでは位相差は発現しない(nx=ny=nz)。 The stretched film obtained in Patent Document 5 does not develop a phase difference only by coating (nx = ny = nz).
特許文献6には、紫外線吸収剤として、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエートなどの紫外線吸収剤を必要に応じて配合していてもよいと記載されているものの、添加することによりRth(面外位相差量)を上昇させる効果については記載されていない。 Patent Document 6 describes that, for example, an ultraviolet absorber such as benzotriazole, benzophenone, triazine, benzoate, or the like may be blended as necessary, but Rth (surface The effect of increasing the external phase difference amount) is not described.
そこで、本発明は、光学特性に優れた光学補償膜を提供することを目的とするものであり、さらに詳しくは、塗工した際に光学補償機能を発現すると共に、その位相差の波長依存性の小さく、基材との密着性に優れ、Rth(面外位相差量)を上昇させたことにより薄膜化が期待される光学補償膜を提供することを目的とするものである。 Therefore, the present invention aims to provide an optical compensation film having excellent optical characteristics. More specifically, the present invention exhibits an optical compensation function when applied, and the wavelength dependence of the phase difference. It is an object of the present invention to provide an optical compensation film that is small in size, excellent in adhesion to a substrate, and expected to be thinned by increasing Rth (out-of-plane retardation).
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の樹脂と環状炭化水素系化合物からなる塗工膜が光学補償機能を有する膜、特に液晶表示素子用の光学補償に好適な塗工型光学補償膜となることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventors have found that a coating film made of a specific resin and a cyclic hydrocarbon-based compound has an optical compensation function, particularly a coating suitable for optical compensation for a liquid crystal display element. As a result, the present invention has been completed.
即ち本発明は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の2軸をx軸、y軸とし、面外方向をz軸とし、x軸方向の屈折率をnx、y軸方向の屈折率をny、z軸方向の屈折率をnzとした際の3次元屈折率関係がnx≒ny>nzであることを特徴とする光学補償膜に関するものである。 That is, the present invention is a coating film comprising a maleimide-based resin and a cyclic hydrocarbon-based compound, and any two axes orthogonal in the plane of the coating film are defined as an x-axis and a y-axis, and an out-of-plane direction is z. The three-dimensional refractive index relationship when the refractive index in the x-axis direction is nx, the refractive index in the y-axis direction is ny, and the refractive index in the z-axis direction is nz is nx≈ny> nz. The present invention relates to an optical compensation film.
以下、本発明の光学補償膜について詳細に説明する。 Hereinafter, the optical compensation film of the present invention will be described in detail.
本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の2軸をx軸、y軸とし、面外方向をz軸とし、x軸方向の屈折率をnx、y軸方向の屈折率をny(nx,nyが異なる場合、最も小さい屈折率をnyとする)、z軸方向の屈折率をnzとした際の3次元屈折率関係がnx≒ny>nzであることを特徴とする光学補償膜である。 The optical compensation film of the present invention is a coating film comprising a maleimide resin and a cyclic hydrocarbon compound, and any two axes orthogonal in the plane of the coating film are x-axis and y-axis, and are out of plane. The direction is the z-axis, the refractive index in the x-axis direction is nx, the refractive index in the y-axis direction is ny (if nx and ny are different, the smallest refractive index is ny), and the refractive index in the z-axis direction is nz. In this optical compensation film, the three-dimensional refractive index relationship is nx≈ny> nz.
上記環状炭化水素系化合物を添加することにより、nx、nyが増大し、nzが低下するため、nx≒ny>nzの関係を強めるものであり、煩雑な延伸工程を加えることなく、環状炭化水素系化合物の添加量を変えるのみによって、より大きなRthを発現させることができる。 By adding the above cyclic hydrocarbon compound, nx and ny increase and nz decreases, so the relationship of nx≈ny> nz is strengthened, and the cyclic hydrocarbon is added without adding a complicated stretching step. Larger Rth can be expressed only by changing the addition amount of the system compound.
本発明の光学補償膜に用いるマレイミド系樹脂としては、例えばN−置換マレイミド重合体樹脂、N−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等が挙げられ、該マレイミド系樹脂を構成するN−置換マレイミド残基単位としては、例えば下記一般式(1)で示されるN−置換マレイミド残基単位を挙げることができる。 Examples of the maleimide resin used in the optical compensation film of the present invention include N-substituted maleimide polymer resin, N-substituted maleimide-maleic anhydride copolymer resin, and the like, and N-substituted resin constituting the maleimide resin. Examples of maleimide residue units include N-substituted maleimide residue units represented by the following general formula (1).
一般式(1)で示されるN−置換マレイミド残基単位におけるR1は、炭素数1〜18の直鎖状アルキル基,炭素数1〜18の分岐状アルキル基,炭素数1〜18の環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基であり、炭素数1〜18の直鎖状アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−ラウリル基等が挙げられ、炭素数1〜18の分岐状アルキル基としては、例えばイソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられ、炭素数1〜18の環状アルキル基としては、例えばシクロヘキシル基等が挙げられ、ハロゲン基としては、例えば塩素、臭素、フッ素、ヨウ素等の1種又は2種以上が挙げられ、特にRthが大きく、溶剤への溶解性、機械的強度に優れる光学補償膜となることから、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基等が好ましい。
R 1 in the N-substituted maleimide residue unit represented by the general formula (1) is a linear alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or cyclic having 1 to 18 carbon atoms. An alkyl group, a halogen group, an ether group, an ester group, an amide group, and examples of the linear alkyl group having 1 to 18 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a chloroethyl group, a methoxyethyl group, an n-propyl group, An n-butyl group, an n-hexyl group, an n-octyl group, an n-lauryl group, and the like can be mentioned. Examples of the branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t -Butyl group etc. are mentioned, As a C1-C18 cyclic alkyl group, a cyclohexyl group etc. are mentioned, for example, As a halogen group, one sort of chlorine, bromine, fluorine, iodine, etc., or Two or more types can be mentioned, and since it becomes an optical compensation film having particularly large Rth and excellent solubility in a solvent and mechanical strength, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n -A hexyl group, n-octyl group, etc. are preferable.
該N−置換マレイミド残基単位の具体的例示としては、例えばN−メチルマレイミド残基単位、N−エチルマレイミド残基単位、N−クロロエチルマレイミド残基単位、N−メトキシエチルマレイミド残基単位、N−n−プロピルマレイミド残基単位、N−イソプロピルマレイミド残基単位、N−n−ブチルマレイミド残基単位、N−イソブチルマレイミド残基単位、N−s−ブチルマレイミド残基単位、N−t−ブチルマレイミド残基単位、N−n−ヘキシルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−n−オクチルマレイミド残基単位、N−n−ラウリルマレイミド残基単位等の1種又は2種以上が挙げられ、特にRthが大きく、溶剤への溶解性、機械的強度に優れる光学補償膜となることから、N−n−ブチルマレイミド残基単位、N−イソブチルマレイミド残基単位、N−s−ブチルマレイミド残基単位、N−t−ブチルマレイミド残基単位、N−n−ヘキシルマレイミド残基単位、N−n−オクチルマレイミド残基単位等が好ましい。 Specific examples of the N-substituted maleimide residue unit include, for example, an N-methylmaleimide residue unit, an N-ethylmaleimide residue unit, an N-chloroethylmaleimide residue unit, an N-methoxyethylmaleimide residue unit, Nn-propylmaleimide residue unit, N-isopropylmaleimide residue unit, Nn-butylmaleimide residue unit, N-isobutylmaleimide residue unit, Ns-butylmaleimide residue unit, Nt- 1 type or 2 types, such as a butyl maleimide residue unit, a Nn-hexyl maleimide residue unit, a N-cyclohexyl maleimide residue unit, a Nn-octyl maleimide residue unit, a Nn-lauryl maleimide residue unit In particular, since the Rth is large, it becomes an optical compensation film excellent in solubility in a solvent and mechanical strength. Maleimide residue unit, N-isobutylmaleimide residue unit, Ns-butylmaleimide residue unit, Nt-butylmaleimide residue unit, Nn-hexylmaleimide residue unit, Nn-octylmaleimide residue Base units and the like are preferred.
該N−置換マレイミド重合体樹脂としては、例えばN−メチルマレイミド重合体樹脂、N−エチルマレイミド重合体樹脂、N−クロロエチルマレイミド重合体樹脂、N−メトキシエチルマレイミド重合体樹脂、N−n−プロピルマレイミド重合体樹脂、N−イソプロピルマレイミド重合体樹脂、N−n−ブチルマレイミド重合体樹脂、N−イソブチルマレイミド重合体樹脂、N−s−ブチルマレイミド重合体樹脂、N−t−ブチルマレイミド重合体樹脂、N−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂、N−シクロヘキシルマレイミド重合体樹脂、N−n−オクチルマレイミド重合体樹脂、N−n−ラウリルマレイミド重合体樹脂等を挙げることができる。 Examples of the N-substituted maleimide polymer resin include N-methylmaleimide polymer resin, N-ethylmaleimide polymer resin, N-chloroethylmaleimide polymer resin, N-methoxyethylmaleimide polymer resin, Nn- Propylmaleimide polymer resin, N-isopropylmaleimide polymer resin, Nn-butylmaleimide polymer resin, N-isobutylmaleimide polymer resin, Ns-butylmaleimide polymer resin, Nt-butylmaleimide polymer Examples thereof include resin, Nn-hexylmaleimide polymer resin, N-cyclohexylmaleimide polymer resin, Nn-octylmaleimide polymer resin, and Nn-laurylmaleimide polymer resin.
該N−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂としては、例えばN−メチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−エチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−クロロエチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−メトキシエチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−n−プロピルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−イソプロピルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−n−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−イソブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−s−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−t−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−n−ヘキシルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−シクロヘキシルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−n−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−n−ラウリルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等を挙げることができる。 Examples of the N-substituted maleimide-maleic anhydride copolymer resin include N-methylmaleimide-maleic anhydride copolymer resin, N-ethylmaleimide-maleic anhydride copolymer resin, and N-chloroethylmaleimide-anhydride. Maleic acid copolymer resin, N-methoxyethylmaleimide-maleic anhydride copolymer resin, Nn-propylmaleimide-maleic anhydride copolymer resin, N-isopropylmaleimide-maleic anhydride copolymer resin, N -N-butylmaleimide-maleic anhydride copolymer resin, N-isobutylmaleimide-maleic anhydride copolymer resin, Ns-butylmaleimide-maleic anhydride copolymer resin, Nt-butylmaleimide-anhydrous Maleic acid copolymer resin, Nn-hexylmaleimide-maleic anhydride copolymer resin, N- Black hexyl maleimide - maleic anhydride copolymer resin, N-n-octyl maleimide - maleic anhydride copolymer resin, N-n-lauryl maleimide - can be mentioned maleic anhydride copolymer resin.
その中でも、特に製膜時の成膜性に優れ、光学補償機能、耐熱性に優れた光学補償膜となることからN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂、N−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂、N−n−オクチルマレイミド重合体樹脂、N−n−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等であることが好ましく、特にN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂、N−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂等が好ましい。 Among them, the Nn-butylmaleimide polymer resin, the Nn-butylmaleimide polymer resin, and the Nn-butylmaleimide polymer resin, which are particularly excellent in film forming properties during film formation and become an optical compensation film excellent in optical compensation function and heat resistance, Nn-octylmaleimide polymer resin, Nn-octylmaleimide-maleic anhydride copolymer resin and the like are preferable, and Nn-butylmaleimide polymer resin and Nn-hexylmaleimide polymer are particularly preferable. Resins are preferred.
また、本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂は、本発明の目的を逸脱しない限りにおいてN−置換マレイミド残基単位、無水マレイン酸残基単位以外の残基単位を含有するものであってもよく、該残基単位としては、例えばスチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;アクリル酸残基単位;アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位等のアクリル酸エステル残基単位;メタクリル酸残基単位;メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位等のメタクリル酸エステル残基単位;酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基等のビニルエステル類残基;アクリロニトリル残基;メタクリロニトリル残基等の1種又は2種以上を挙げることができる。 Further, the maleimide resin constituting the optical compensation film of the present invention contains a residue unit other than the N-substituted maleimide residue unit and the maleic anhydride residue unit without departing from the object of the present invention. The residue unit may be, for example, a styrene residue unit such as a styrene residue unit or an α-methylstyrene residue unit; an acrylic acid residue unit; a methyl acrylate residue unit, or an ethyl acrylate residue. Units, acrylate residue units such as butyl acrylate residue units; methacrylic acid residue units; methacrylic acid ester residues such as methyl methacrylate residue units, ethyl methacrylate residue units, butyl methacrylate residue units Unit: vinyl ester residue such as vinyl acetate residue and vinyl propionate residue; acrylonitrile residue; one or two of methacrylonitrile residue It can be mentioned more.
また、該マレイミド系樹脂としては、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(以下、GPCと記す。)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1×103以上のものであることが好ましく、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れた光学補償膜となることから2×104以上2×105以下であることが好ましい。 Moreover, as this maleimide-type resin, the number average molecular weight (Mn) of standard polystyrene conversion obtained from the elution curve measured by gel permeation chromatography (henceforth GPC) is 1 * 10 < 3 > or more. In particular, it is preferably 2 × 10 4 or more and 2 × 10 5 or less because it becomes an optical compensation film having excellent mechanical properties and excellent moldability during film formation.
本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂の製造方法としては、該マレイミド系樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えばN−置換マレイミド類、無水マレイン酸、場合によってはN−置換マレイミド類と共重合可能な単量体を併用しラジカル重合あるいはラジカル共重合を行うことにより製造することができる。この際のN−置換マレイミド類としては、例えばN−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−クロロエチルマレイミド、N−メトキシエチルマレイミド、N−n−プロピルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、N−n−ブチルマレイミド、N−イソブチルマレイミド、N−s−ブチルマレイミド、N−t−ブチルマレイミド、N−n−ヘキシルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−n−オクチルマレイミド、N−n−ラウリルマレイミド等の1種又は2種以上が挙げられ、共重合可能な単量体としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類;アクリル酸;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸エステル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のビニルエステル類;アクリロニトリル;メタクリロニトリル等の1種又は2種以上を挙げることができる。 The maleimide resin constituting the optical compensation film of the present invention may be produced by any method as long as the maleimide resin is obtained. For example, N-substituted maleimides, maleic anhydride, and in some cases It can be produced by performing radical polymerization or radical copolymerization using a monomer copolymerizable with N-substituted maleimides. Examples of N-substituted maleimides include N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-chloroethylmaleimide, N-methoxyethylmaleimide, Nn-propylmaleimide, N-isopropylmaleimide, Nn- 1 such as butylmaleimide, N-isobutylmaleimide, Ns-butylmaleimide, Nt-butylmaleimide, Nn-hexylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, Nn-octylmaleimide, Nn-laurylmaleimide Examples of the copolymerizable monomer include styrenes such as styrene and α-methylstyrene; acrylic acid; acrylic esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, and butyl acrylate. Methacrylic acid; methyl methacrylate, methacrylate Methacrylic acid esters such as butyl methacrylate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl pivalate, vinyl laurate, vinyl stearate, etc .; acrylonitrile; one or more of methacrylonitrile, etc. Can be mentioned.
また、ラジカル重合法としては、公知の重合方法で行うことが可能であり、例えば塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。 Further, as the radical polymerization method, it can be carried out by a known polymerization method, and for example, any of a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, a precipitation polymerization method, an emulsion polymerization method and the like can be adopted. .
ラジカル重合法を行う際の重合開始剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤が挙げられる。 Examples of the polymerization initiator used in the radical polymerization method include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, and dicumyl peroxide. , Organic peroxides such as t-butylperoxyacetate and t-butylperoxybenzoate; 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-butyronitrile), 2 , 2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and the like.
そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン(THF);アセトン;メチルエチルケトン;ジメチルホルムアミド;酢酸イソプロピル;水;N−メチルピロリドン等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。 And there is no restriction | limiting in particular as a solvent which can be used in a solution polymerization method, a suspension polymerization method, a precipitation polymerization method, and an emulsion polymerization method, For example, aromatic solvents, such as benzene, toluene, xylene; Methanol, ethanol, propyl alcohol, butyl alcohol Alcohol solvents such as cyclohexane, dioxane, tetrahydrofuran (THF), acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, isopropyl acetate, water, N-methylpyrrolidone, and the like, and mixed solvents thereof.
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には40〜150℃の範囲で行うことが好ましい。 Moreover, the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be suitably set according to the decomposition temperature of a polymerization initiator, and generally it is preferable to carry out in the range of 40-150 degreeC.
本発明の光学補償膜では、環状炭化水素系化合物はフィルムの3次元屈折率関係(nx≒ny>nz)を強める、すなわち、より大きなRthを発現させることを目的として添加されるものである。 In the optical compensation film of the present invention, the cyclic hydrocarbon compound is added for the purpose of strengthening the three-dimensional refractive index relationship (nx≈ny> nz) of the film, that is, expressing a larger Rth.
本発明者の研究により、マレイミド系樹脂に環状炭化水素系化合物を配合することにより、マレイミド系樹脂からなるフィルムのRthが上昇することが判明した。なお、環状炭化水素系化合物は、下記一般式(2)、(3)、(4)のいずれかを満たす化合物が好ましく、特に一般式(2)、(3)を満たす化合物が好ましく、1種類、若しくは2種類以上を組み合わせて用いることができる。 The inventors' research has revealed that the Rth of a film made of a maleimide resin is increased by blending a cyclic hydrocarbon compound with the maleimide resin. The cyclic hydrocarbon compound is preferably a compound satisfying any one of the following general formulas (2), (3), and (4), particularly preferably a compound satisfying the general formulas (2) and (3). Or two or more types can be used in combination.
一般式(2)のX1、X2、X3におけるハロゲン原子としては、例えばF、Cl、Br、I等が挙げられ、置換もしくは無置換のアミノ基としては、例えば−NH2、−NHCH3、−N(CH3)2、−NHC2H5、−N(C2H5)2、−NHC3H7、−N(C3H7)2、−NH(C4H9)、−N(C4H9)2、−NHPh等が挙げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基、s−ブトキシ基等が挙げられ、アルキル基としては炭素原子数1〜8であることが好ましく、例えばメチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数2〜8であることが好ましく、例えばビニル、アリル、1−ヘキセニル等が挙げられ、アルキニル基としては炭素原子数2〜8であることが好ましく、例えばエチニル、1−ブチニル、1−ヘキシニル等が挙げられる。
Examples of the halogen atom in X 1 , X 2 , and X 3 in the general formula (2) include F, Cl, Br, and I. Examples of the substituted or unsubstituted amino group include —NH 2 and —NHCH. 3, -N (CH 3) 2 , -NHC 2 H 5, -N (C 2 H 5) 2, -NHC 3 H 7, -N (C 3 H 7) 2, -NH (C 4 H 9) , —N (C 4 H 9 ) 2 , —NHPh and the like. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, t- A butoxy group, a s-butoxy group, etc. are mentioned, As an alkyl group, it is preferable that it is C1-C8, for example, methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl etc. are mentioned, and an alkenyl group is carbon. 2 to 8 atoms There are preferably, for example, vinyl, allyl, 1-hexenyl and the like, and the alkynyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms, for example, ethynyl, 1-butynyl, 1-hexynyl and the like.
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、芳香族炭化水素環としては、例えばベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、1,3,5−トリアジン環等が挙げられる。芳香族環の数としては、1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜8であることが特に好ましい。 In addition to the aromatic hydrocarbon ring, the aromatic ring includes an aromatic heterocyclic ring and an aromatic condensed ring. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, an oxazole ring, Examples include a thiazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, and a 1,3,5-triazine ring. The number of aromatic rings is preferably 1-20, more preferably 1-12, and particularly preferably 1-8.
芳香族複素環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましい。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族複素環の例には、例えばフラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、1,3,5−トリアジン環等が挙げられる。 The aromatic heterocycle is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring. As the hetero atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable, and a nitrogen atom is particularly preferable. Examples of the aromatic heterocycle include, for example, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, furazane ring, triazole ring, pyran ring, pyridine ring. , Pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, 1,3,5-triazine ring and the like.
芳香族縮合環の例には、例えばインデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環、チアントレン環、ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、キノリン環等が挙げられる。 Examples of the aromatic condensed ring include, for example, indene ring, naphthalene ring, azulene ring, fluorene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, acenaphthylene ring, biphenylene ring, naphthacene ring, pyrene ring, indole ring, isoindole ring, benzofuran ring, Benzothiophene ring, indolizine ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, purine ring, indazole ring, chromene ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinolidine ring, quinazoline ring, cinnoline ring, quinoxaline ring , Phthalazine ring, pteridine ring, carbazole ring, acridine ring, phenanthridine ring, xanthene ring, phenazine ring, phenothiazine ring, phenoxathiin ring, phenoxazine ring, thianthrene ring, naphthalene ring, azulene , Indole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, quinoline ring and the like.
芳香族環は、置換基を有していてもよい。ただし、置換基は、2つの芳香族環の立体配座を立体障害しないことが必要である。立体障害では、置換基の種類および位置が問題になる。置換基の種類としては、立体的に嵩高い置換基(例えば、3級アルキル基)が立体障害を起こしやすい。置換基の位置としては、芳香族環の結合に隣接する位置(ベンゼン環の場合はオルト位)が置換された場合に、立体障害が生じやすい。 The aromatic ring may have a substituent. However, the substituent is required not to sterically hinder the conformation of the two aromatic rings. In steric hindrance, the type and position of substituents are problematic. As the type of the substituent, a sterically bulky substituent (for example, a tertiary alkyl group) tends to cause steric hindrance. As the position of the substituent, steric hindrance is likely to occur when a position adjacent to the bond of the aromatic ring (ortho position in the case of a benzene ring) is substituted.
置換基の例には、例えばハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファモイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基、非芳香族性複素環基等が挙げられる。 Examples of the substituent include, for example, a halogen atom (F, Cl, Br, I), hydroxyl, carboxyl, cyano, amino, nitro, sulfo, carbamoyl, sulfamoyl, ureido, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aliphatic acyl Group, aliphatic acyloxy group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, alkoxycarbonylamino group, alkylthio group, alkylsulfonyl group, aliphatic amide group, aliphatic sulfonamido group, aliphatic substituted amino group, aliphatic substituted carbamoyl group, fatty acid Group-substituted sulfamoyl group, aliphatic substituted ureido group, non-aromatic heterocyclic group and the like.
アルキル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基(例、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基)を有していてもよい。アルキル基の(置換アルキル基を含む)例には、例えばメチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、2−ヒドロキシエチル、4−カルボキシブチル、2−メトキシエチル、2−ジエチルアミノエチル等が挙げられる。 It is preferable that the alkyl group has 1 to 8 carbon atoms. A chain alkyl group is preferable to a cyclic alkyl group, and a linear alkyl group is particularly preferable. The alkyl group may further have a substituent (eg, hydroxy, carboxy, alkoxy group, alkyl-substituted amino group). Examples of alkyl groups (including substituted alkyl groups) include methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, 2-hydroxyethyl, 4-carboxybutyl, 2-methoxyethyl, 2-diethylaminoethyl and the like. .
アルケニル基の炭素原子数は、2〜8であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、例えばビニル、アリル、1−ヘキセニル等が挙げられる。 The alkenyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. A chain alkenyl group is preferable to a cyclic alkenyl group, and a linear alkenyl group is particularly preferable. The alkenyl group may further have a substituent. Examples of alkenyl groups include vinyl, allyl, 1-hexenyl and the like.
アルキニル基の炭素原子数は、2〜8であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、例えばエチニル、1−ブチニル、1−ヘキシニル等が挙げられる。 The alkynyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. A chain alkynyl group is preferable to a cyclic alkynyl group, and a linear alkynyl group is particularly preferable. The alkynyl group may further have a substituent. Examples of alkynyl groups include ethynyl, 1-butynyl, 1-hexynyl and the like.
脂肪族アシル基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、例えばアセチル、プロパノイル、ブタノイル等が挙げられる。 The number of carbon atoms in the aliphatic acyl group is preferably 1-10. Examples of the aliphatic acyl group include acetyl, propanoyl, butanoyl and the like.
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、例えばアセトキシが挙げられる。 The number of carbon atoms in the aliphatic acyloxy group is preferably 1-10. Examples of aliphatic acyloxy groups include acetoxy, for example.
アルコキシ基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基(例、置換アルコキシ基)を有していてもよい。アルコキシ基の(置換アルコキシ基を含む)例には、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、メトキシエトキシ等が挙げられる。 The number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1-8. The alkoxy group may further have a substituent (eg, a substituted alkoxy group). Examples of alkoxy groups (including substituted alkoxy groups) include methoxy, ethoxy, butoxy, methoxyethoxy and the like.
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等が挙げられる。 The number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2-10. Examples of the alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl and the like.
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ等が挙げられる。 The number of carbon atoms of the alkoxycarbonylamino group is preferably 2-10. Examples of the alkoxycarbonylamino group include methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino and the like.
アルキルチオ基の炭素原子数は、1〜12であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等が挙げられる。 The alkylthio group preferably has 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylthio group include, for example, methylthio, ethylthio, octylthio and the like.
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル等が挙げられる。 The alkylsulfonyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyl group include methanesulfonyl, ethanesulfonyl and the like.
脂肪族アミド基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、例えばアセトアミドが挙げられる。 The number of carbon atoms in the aliphatic amide group is preferably 1-10. Examples of aliphatic amide groups include, for example, acetamide.
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、例えばメタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、n−オクタンスルホンアミド等が挙げられる。 The number of carbon atoms of the aliphatic sulfonamide group is preferably 1-8. Examples of the aliphatic sulfonamide group include methanesulfonamide, butanesulfonamide, n-octanesulfonamide and the like.
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、2−カルボキシエチルアミノ等が挙げられる。 The number of carbon atoms of the aliphatic substituted amino group is preferably 1-10. Examples of the aliphatic substituted amino group include dimethylamino, diethylamino, 2-carboxyethylamino and the like.
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、例えばメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。 The number of carbon atoms in the aliphatic substituted carbamoyl group is preferably 2-10. Examples of the aliphatic substituted carbamoyl group include, for example, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl and the like.
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、例えばメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル等が挙げられる。 The number of carbon atoms in the aliphatic substituted sulfamoyl group is preferably 1-8. Examples of the aliphatic substituted sulfamoyl group include, for example, methylsulfamoyl, diethylsulfamoyl and the like.
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、例えばメチルウレイドが挙げられる。 The number of carbon atoms in the aliphatic substituted ureido group is preferably 2-10. Examples of aliphatic substituted ureido groups include, for example, methylureido.
非芳香族性複素環基の例には、例えばピペリジノ、モルホリノ等が挙げられる。 Examples of non-aromatic heterocyclic groups include piperidino and morpholino.
これらの中でも一般式(2)における、X1、X2、X3としては、メルカプト基、芳香族環が好ましい。 Among these, as X 1 , X 2 and X 3 in the general formula (2), a mercapto group and an aromatic ring are preferable.
具体的な一般式(2)で示される化合物としては、例えば2,4−ジアミノ−6−ブチルアミノ−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリメルカプト−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリフェニル−1,3,5−トリアジン、2−メトキシ−4−メチル−6−(メチルアミノ)−1,3,5−トリアジン、2−アミノ−4−メトキシ−6−メチル−1,3,5−トリアジン等が挙げられ、特に2,4,6−トリメルカプト−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリフェニル−1,3,5−トリアジンが好ましい。 Specific examples of the compound represented by the general formula (2) include 2,4-diamino-6-butylamino-1,3,5-triazine, 2,4,6-trimercapto-1,3,5- Triazine, 2,4,6-triphenyl-1,3,5-triazine, 2-methoxy-4-methyl-6- (methylamino) -1,3,5-triazine, 2-amino-4-methoxy- 6-methyl-1,3,5-triazine and the like, particularly 2,4,6-trimercapto-1,3,5-triazine, 2,4,6-triphenyl-1,3,5-triazine Is preferred.
一般式(3)のX4、X5、X6におけるアルキレン基としては炭素原子数1〜8であることが好ましく、例えばメチレン、エチレン、n−ブチレン、n−ヘキシレン等が挙げられ、アルケニレン基としては炭素原子数2〜8であることが好ましく、例えばビニレン、アリレン、1−ヘキセニレン等が挙げられ、アルキニレン基としては炭素原子数2〜8であることが好ましく、例えばエチニレン、1−ブチニレン、1−ヘキシニレン等が挙げられる。
The alkylene group in X 4 , X 5 and X 6 in the general formula (3) preferably has 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include methylene, ethylene, n-butylene, n-hexylene, and the like, alkenylene group Is preferably 2 to 8 carbon atoms, for example, vinylene, arylene, 1-hexenylene, etc., and the alkynylene group preferably has 2 to 8 carbon atoms, such as ethynylene, 1-butynylene, Examples include 1-hexynylene.
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式(2)のX1、X2、X3の芳香族環が挙げられる。 The aromatic ring includes an aromatic heterocyclic ring and an aromatic condensed ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring, and examples thereof include an aromatic ring of X 1 , X 2 , and X 3 in the general formula (2).
一般式(3)のR2、R3、R4における置換もしくは無置換のアルキル基としては炭素原子数1〜8であることが好ましく、例えばメチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数2〜8であることが好ましく、例えばビニル、アリル、1−ヘキセニル等が挙げられ、アルキニル基としては炭素原子数2〜8であることが好ましく、例えばエチニル、1−ブチニル、1−ヘキシニル等が挙げられる。 The substituted or unsubstituted alkyl group in R 2 , R 3 and R 4 in the general formula (3) preferably has 1 to 8 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl and the like. The alkenyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms, such as vinyl, allyl, 1-hexenyl and the like, and the alkynyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms, such as ethynyl. , 1-butynyl, 1-hexynyl and the like.
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式(2)のX1、X2、X3の芳香族環が挙げられる。 The aromatic ring includes an aromatic heterocyclic ring and an aromatic condensed ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring, and examples thereof include an aromatic ring of X 1 , X 2 , and X 3 in the general formula (2).
具体的な一般式(3)で示される化合物としては、例えば2,4−ジアミノ−6−[2−(2−メチル−1−イミダゾリル)エチル]−1,3,5−トリアジン、6−(ジブチルアミノ)−2,4−ジメルカプト−1,3,5−トリアジン、2−(3,4−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(3−カルボキシアニリノ)−4,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリアニリニル−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ジアリルアミノ−1,3,5−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)ビニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられ、特に2,4,6−トリアニリニル−1,3,5−トリアジン、6−(ジブチルアミノ)−2,4−ジメルカプト−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ジアリルアミノ−1,3,5−トリアジンが好ましい。 Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include 2,4-diamino-6- [2- (2-methyl-1-imidazolyl) ethyl] -1,3,5-triazine, 6- ( Dibutylamino) -2,4-dimercapto-1,3,5-triazine, 2- (3,4-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- ( 3-carboxyanilino) -4,6-dichloro-1,3,5-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2, 4,6-trianilinyl-1,3,5-triazine, 2,4-diamino-6-diallylamino-1,3,5-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) vinyl] -4,6-bis (trichloromethyl -1,3,5-triazine and the like, in particular 2,4,6-trianilinyl-1,3,5-triazine, 6- (dibutylamino) -2,4-dimercapto-1,3,5-triazine 2,4-diamino-6-diallylamino-1,3,5-triazine is preferred.
一般式(4)のX7、X8、X9におけるアルキレン基としては炭素原子数1〜8であることが好ましく、例えばメチレン、エチレン、n−ブチレン、n−ヘキシレン等が挙げられ、アルケニレン基としては炭素原子数2〜8であることが好ましく、例えばビニレン、アリレン、1−ヘキセニレン等が挙げられ、アルキニレン基としては炭素原子数2〜8であることが好ましく、例えばエチニレン、1−ブチニレン、1−ヘキシニレン等が挙げられる。
The alkylene group in X 7 , X 8 and X 9 in the general formula (4) preferably has 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include methylene, ethylene, n-butylene, n-hexylene, and the like, alkenylene group Is preferably 2 to 8 carbon atoms, for example, vinylene, arylene, 1-hexenylene, etc., and the alkynylene group preferably has 2 to 8 carbon atoms, such as ethynylene, 1-butynylene, Examples include 1-hexynylene.
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式(2)のX1、X2、X3の芳香族環が挙げられる。 The aromatic ring includes an aromatic heterocyclic ring and an aromatic condensed ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring, and examples thereof include an aromatic ring of X 1 , X 2 , and X 3 in the general formula (2).
一般式(4)のR5、R6、R7における置換もしくは無置換のアルキル基としては、炭素原子数1〜8であることが好ましく、例えばメチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては、炭素原子数2〜8であることが好ましく、例えばビニル、アリル、1−ヘキセニル等が挙げられ、アルキニル基としては、炭素原子数2〜8であることが好ましく、例えばエチニル、1−ブチニル、1−ヘキシニル等が挙げられる。 The substituted or unsubstituted alkyl group in R 5 , R 6 and R 7 in the general formula (4) preferably has 1 to 8 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, etc. The alkenyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms, such as vinyl, allyl, 1-hexenyl, etc., and the alkynyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. For example, ethynyl, 1-butynyl, 1-hexynyl and the like.
芳香族環は芳香族炭化水素環に加えて、芳香族複素環、芳香族縮合環を含むものとし、例えば一般式(2)のX1、X2、X3の芳香族環が挙げられる。 The aromatic ring includes an aromatic heterocyclic ring and an aromatic condensed ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring, and examples thereof include an aromatic ring of X 1 , X 2 , and X 3 in the general formula (2).
具体的な一般式(4)で示される化合物としては、例えば1,3,5−ベンゼントリチオール、1,3,5−ベンゼントリカルボニルトリクロリド、1,3,5−トリフェニルベンゼン、N,N′′,N′′′−トリフェニル−1,3,5−ベンゼントリアミン、1,3,5−トリ(9H−カルバゾール−9−イル)ベンゼン、1,3,5−トリ−t−ブチルベンゼン、1,3,5−トリアセチルベンゼン、1,3,5−トリメトキシベンゼン、1,3,5−トリス(4−ブロモフェニル)ベンゼン等が挙げられ、特に1,3,5−トリフェニルベンゼン、N,N′′,N′′′−トリフェニル−1,3,5−ベンゼントリアミンが好ましい。 Specific examples of the compound represented by the general formula (4) include 1,3,5-benzenetrithiol, 1,3,5-benzenetricarbonyltrichloride, 1,3,5-triphenylbenzene, N, N ″, N ″ ″-triphenyl-1,3,5-benzenetriamine, 1,3,5-tri (9H-carbazol-9-yl) benzene, 1,3,5-tri-t-butyl Examples include benzene, 1,3,5-triacetylbenzene, 1,3,5-trimethoxybenzene, 1,3,5-tris (4-bromophenyl) benzene, and more particularly 1,3,5-triphenyl. Benzene, N, N ″, N ″ ″-triphenyl-1,3,5-benzenetriamine are preferred.
これらの環状炭化水素系化合物の分子量は、100〜800であることが好ましい。 The molecular weight of these cyclic hydrocarbon compounds is preferably 100 to 800.
本発明の光学補償膜におけるマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物の配合割合は、基材との密着性に優れた光学補償膜が得られることからマレイミド系樹脂100重量部に対して環状炭化水素系化合物0.01〜20重量部が好ましく、更に0.1〜10重量部が好ましく、特に1〜5重量部が好ましい。 The blending ratio of the maleimide resin and the cyclic hydrocarbon compound in the optical compensation film of the present invention is such that an optical compensation film having excellent adhesion to the substrate can be obtained, so that the cyclic carbonization is performed with respect to 100 parts by weight of the maleimide resin. The hydrogen compound is preferably 0.01 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight, and particularly preferably 1 to 5 parts by weight.
また、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物の配合方法としては、特に制限はなく、例えばマレイミド系樹脂を溶媒に溶解した溶液に環状炭化水素系化合物を添加することにより行なうことができる。その際に使用する溶媒としては、マレイミド系樹脂が溶解する溶媒であれば特に制限はなく、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等の酢酸エステル系溶剤;ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶剤;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤;四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤;N−メチルピロリドン等が挙げられ、これらは2種類以上組み合わせて用いることが出来る。 Moreover, there is no restriction | limiting in particular as a compounding method of a maleimide type resin and a cyclic hydrocarbon type compound, For example, it can carry out by adding a cyclic hydrocarbon type compound to the solution which melt | dissolved the maleimide type resin in the solvent. The solvent used in that case is not particularly limited as long as the maleimide resin can be dissolved, for example, aromatic solvents such as toluene, xylene, chlorobenzene, nitrobenzene; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc. Ketone solvents; ether solvents such as dimethyl ether, diethyl ether, methyl-t-butyl ether, tetrahydrofuran and dioxane; acetate solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid-n-propyl, isopropyl acetate and butyl acetate; hexane, Hydrocarbon solvents such as cyclohexane, octane, decane; alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol; salts such as carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, trichloroethane System solvent; dimethylformamide, amide solvents such as dimethylacetamide; N- methylpyrrolidone and the like, which may be used in combination of two or more.
本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜からなることを特徴とし、好ましい製造方法として、ガラス基板、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂製フィルム等の基材上にマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる溶液を塗工し、乾燥することにより製造する方法が挙げられ、マレイミド系樹脂としては特に上記一般式(1)で示されるマレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂であることが好ましい。 The optical compensation film of the present invention is characterized by comprising a maleimide resin and a coating film made of a cyclic hydrocarbon compound, and as a preferred production method, a glass substrate, a film made of a cellulose resin such as triacetyl cellulose, etc. Examples of the maleimide resin include a maleimide resin and a cyclic hydrocarbon compound, and a method of manufacturing the resin by drying. A maleimide resin represented by the above general formula (1) is particularly preferable. A maleimide resin composed of a base unit is preferred.
塗工方法は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物を溶媒に溶解した溶液をガラス基板、あるいはトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂製フィルム等の基材上に塗工後、加熱等により溶媒を除去する方法である。その際の塗工方法としては、例えばドクターブレード法、バーコーター法、グラビアコーター法、スロットダイコーター法、リップコーター法、コンマコーター法等が用いられる。工業的には薄膜塗工はグラビアコーター法、厚膜塗工はコンマコーター法が一般的である。 The coating method involves coating a solution obtained by dissolving a maleimide resin and a cyclic hydrocarbon compound in a solvent on a substrate such as a glass substrate or a cellulose resin film such as triacetyl cellulose, and then heating the solvent. It is a method of removing. As a coating method at that time, for example, a doctor blade method, a bar coater method, a gravure coater method, a slot die coater method, a lip coater method, a comma coater method or the like is used. In industry, the gravure coater method is generally used for thin film coating, and the comma coater method is generally used for thick film coating.
使用する溶剤については、マレイミド系樹脂が溶解する溶媒であれば特に制限はなく、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等の酢酸エステル系溶剤;ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶剤;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤;四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤;N−メチルピロリドン等が挙げられ、これらは2種類以上組み合わせて用いることが出来る。 The solvent to be used is not particularly limited as long as the maleimide resin can be dissolved. For example, aromatic solvents such as toluene, xylene, chlorobenzene and nitrobenzene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone. Ether solvents such as dimethyl ether, diethyl ether, methyl-t-butyl ether, tetrahydrofuran and dioxane; acetate solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid-n-propyl, isopropyl acetate and butyl acetate; hexane, cyclohexane and octane Hydrocarbon solvents such as decane; alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol and butanol; chlorine solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, dichloroethane and trichloroethane ; Dimethylformamide, amide solvents such as dimethylacetamide; N- methylpyrrolidone and the like, which may be used in combination of two or more.
溶液塗工においては、より容易に高い透明性を有し、且つ厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償膜が得られることから、溶液粘度10〜10000cpsとすることが好ましく、特に10〜5000cpsとすることが好ましい。 In solution coating, since an optical compensation film having higher transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness can be obtained, the solution viscosity is preferably 10 to 10000 cps, particularly 10 to 5000 cps. It is preferable that
この際のマレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる膜の塗工厚さは、塗工膜のRth(面外位相差量)により決められ、その中でも優れた表面平滑性、視野角改良を有する光学補償膜が得られることから、乾燥後0.1〜100μmが好ましく、さらに好ましくは0.5〜50μm、特に好ましくは1〜20μmである。 In this case, the coating thickness of the film composed of the maleimide resin and the cyclic hydrocarbon compound is determined by the Rth (out-of-plane retardation) of the coating film, and among them, excellent surface smoothness and improved viewing angle. Is preferably 0.1 to 100 μm after drying, more preferably 0.5 to 50 μm, and particularly preferably 1 to 20 μm.
本発明の光学補償膜は、該マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であり、特に光学補償膜として用いる際の光学補償機能に優れたものである。そして高分子よりなるフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、一般的にフィルムの3次元屈折率の制御をフィルムの延伸などにより行うが、該延伸工程には製造工程や品質の管理が複雑になったりする等の課題を有する。それに反し、本発明の光学補償膜は、マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の2軸をx軸、y軸とし、面外方向をz軸とし、x軸方向の屈折率をnx、y軸方向の屈折率をny(nx、nyが異なる場合、最も小さい屈折率をnxとする)、z軸方向の屈折率をnzとした際の3次元屈折率関係がnx≒ny>nzであることを特徴とする光学補償膜であり、未延伸の状態(未延伸膜)で膜の厚み方向の屈折率が小さくなるという特異な挙動を示すことを見出している。 The optical compensation film of the present invention is a coating film composed of the maleimide resin and a cyclic hydrocarbon compound, and is particularly excellent in the optical compensation function when used as an optical compensation film. When a film made of a polymer is used as an optical compensation film, the three-dimensional refractive index of the film is generally controlled by stretching the film. However, the stretching process may complicate the manufacturing process and quality control. There is a problem such as. On the other hand, the optical compensation film of the present invention is a coating film composed of a maleimide resin and a cyclic hydrocarbon compound, and any two axes orthogonal in the plane of the coating film are defined as an x axis and a y axis. , The out-of-plane direction is the z axis, the refractive index in the x axis direction is nx, the refractive index in the y axis direction is ny (if nx and ny are different, the smallest refractive index is nx), and the refractive index in the z axis direction Is an optical compensation film characterized in that the three-dimensional refractive index relationship is nx≈ny> nz, where the refractive index in the thickness direction of the film is small in an unstretched state (unstretched film). It has been found that it exhibits a unique behavior.
本発明の光学補償膜は、環状炭化水素系化合物を添加することにより下記一般式(5)で示されるRth(面外位相差量)が、無添加の場合と比して、好ましくは1.2倍以上、さらに好ましくは1.5倍以上に上昇させることができる。 The optical compensation film of the present invention preferably has an Rth (out-of-plane retardation amount) represented by the following general formula (5) by adding a cyclic hydrocarbon compound as compared with the case where no addition is performed. It can be increased to 2 times or more, more preferably 1.5 times or more.
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (5)
(ここで、dは光学補償膜の膜厚(nm)を示す。)
このようにこれらの環状炭化水素系化合物は、比較的少量の使用量で光学補償膜のRthを上昇させることができ、添加量に応じてRthの上昇幅を調整することができる。また比較的マレイミド系樹脂との相溶性がよいため、膜の表面に析出(ブリードアウト)しにくい。従って、このような環状炭化水素系化合物を用いることで、ブリードアウトの問題を生じることなく、光学補償膜のRthを未延伸のまま(塗工のみで)、任意の値に調整した膜を得ることができる。
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d (5)
(Here, d represents the film thickness (nm) of the optical compensation film.)
As described above, these cyclic hydrocarbon compounds can increase the Rth of the optical compensation film with a relatively small amount of use, and can adjust the increase amount of Rth according to the addition amount. Moreover, since it is relatively compatible with the maleimide resin, it is difficult to precipitate (bleed out) on the surface of the film. Therefore, by using such a cyclic hydrocarbon compound, a film in which Rth of the optical compensation film remains unstretched (by coating only) without causing a bleed-out problem is obtained. be able to.
本発明の光学補償膜のRthは、該マレイミド系樹脂と、環状炭化水素系化合物からなる塗工膜の厚み、及びマレイミド系樹脂と環状炭化水素系化合物の配合比を変えることにより、容易に制御することが可能であり、位相差フィルムとしての適応が期待できる光学補償膜となることから、Rthが50〜2000nmの範囲にあることが好ましく、さらに液晶表示素子の視野角改善効果に優れたものとなることから60〜1000nmの範囲にあることが好ましく、特に70〜300nmの範囲にあることが好ましい。 The Rth of the optical compensation film of the present invention can be easily controlled by changing the thickness of the coating film composed of the maleimide resin and the cyclic hydrocarbon compound and the blending ratio of the maleimide resin and the cyclic hydrocarbon compound. Rth is preferably in the range of 50 to 2000 nm, and further excellent in the viewing angle improvement effect of the liquid crystal display device. Therefore, it is preferably in the range of 60 to 1000 nm, particularly preferably in the range of 70 to 300 nm.
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際に色ずれの小さい液晶表示素子となることから位相差量の波長依存性が小さいものであることが好ましく、塗工膜を40度傾斜させ測定波長450nmの光で測定した位相差量(R450)と測定波長589nmの光で測定した位相差量(R589)の比で示される位相差量の波長依存性(R450/R589)が1.1以下であることが好ましく、特に1.08以下であることが好ましい。 The optical compensation film of the present invention is preferably a liquid crystal display element having a small color shift when used in a liquid crystal display element, so that the wavelength dependency of the retardation amount is preferably small, and the coating film is inclined by 40 degrees. The wavelength dependency (R450 / R589) of the phase difference indicated by the ratio of the phase difference amount (R450) measured with light having a measurement wavelength of 450 nm and the phase difference amount (R589) measured with light having a measurement wavelength of 589 nm is 1. It is preferably 1 or less, and particularly preferably 1.08 or less.
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際に画質の特性が良好なものとなることから、JIS K 7361−1(1997年版)を準拠し測定した光線透過率が85%以上であることが好ましく、特に90%以上であることが好ましい。また、JIS K 7136(2000年版)を準拠し測定したヘーズ(曇り度)が2%以下であることが好ましく、特に1%以下であることが好ましい。 Since the optical compensation film of the present invention has good image quality characteristics when used in a liquid crystal display element, the light transmittance measured according to JIS K 7361-1 (1997 edition) is 85% or more. It is preferable that it is 90% or more. Further, the haze (cloudiness) measured in accordance with JIS K 7136 (2000 version) is preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less.
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際の品質の安定性から耐熱性が高いものであることが好ましく、用いるマレイミド系樹脂のガラス転移温度が100℃以上であるものが好ましく、さらに120℃以上であるものが好ましく、特に135℃以上であるものが好ましい。 The optical compensation film of the present invention preferably has high heat resistance from the stability of quality when used in a liquid crystal display element, and preferably has a glass transition temperature of 100 ° C. or higher for the maleimide resin used, Furthermore, what is 120 degreeC or more is preferable, and what is especially 135 degreeC or more is preferable.
また、本発明の光学補償膜は熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていても良い。該酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤100重量部に対してリン系酸化防止剤を100〜500重量部混合して使用することが特に好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂100重量部に対して0.01〜10重量部が好ましく、特に0.5〜1重量部が好ましい。 Further, the optical compensation film of the present invention may contain an antioxidant in order to improve the thermal stability. Examples of the antioxidant include hindered phenol antioxidants, phosphorus antioxidants, and other antioxidants. These antioxidants may be used alone or in combination. And since an antioxidant effect | action improves synergistically, it is preferable to use together and use a hindered phenolic antioxidant and phosphorus antioxidant, for example, 100 weight part of hindered phenolic antioxidants in that case It is particularly preferable to use 100 to 500 parts by weight of a phosphorus-based antioxidant. Further, the addition amount of the antioxidant is preferably 0.01 to 10 parts by weight, particularly preferably 0.5 to 1 part by weight, with respect to 100 parts by weight of the maleimide resin constituting the optical compensation film of the present invention.
本発明の光学補償膜は、発明の主旨を越えない範囲で、その他ポリマー、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されたものであってもよい。 The optical compensation film of the present invention is blended with other polymers, polymer electrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, dyes, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants and the like within the scope of the invention. It may be.
本発明の光学補償膜は、偏光板と積層して用いることもできる。また、光学補償膜として、本発明の光学補償膜に、さらにセルロース系樹脂製フィルム等のフィルムとの積層体であっても良い。 The optical compensation film of the present invention can be used by being laminated with a polarizing plate. The optical compensation film may be a laminate of the optical compensation film of the present invention and a film such as a cellulose resin film.
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子の視野角改良フィルムや色補償フィルムなどの液晶表示素子用光学補償膜として用いることができる。 The optical compensation film of the present invention can be used as an optical compensation film for liquid crystal display elements such as a viewing angle improving film and a color compensation film for liquid crystal display elements.
本発明の光学補償膜は、塗工するだけで光学補償機能を発現するマレイミド系樹脂と環状炭化水素系化合物からなるものであり、Rth(面外位相差量)を上昇させることにより薄膜の光学補償膜が期待され、その光学補償機能の制御も容易であることから液晶表示素子、特にVA−モードの液晶テレビのコントラストや視角特性の改良に有効な光学補償膜として有用なものである。 The optical compensation film of the present invention is composed of a maleimide resin and a cyclic hydrocarbon compound that exhibit an optical compensation function only by coating. By increasing Rth (out-of-plane retardation), the optical compensation film can be used. Since a compensation film is expected and the control of its optical compensation function is easy, it is useful as an optical compensation film effective for improving the contrast and viewing angle characteristics of a liquid crystal display element, particularly a VA-mode liquid crystal television.
以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
〜数平均分子量(Mn)の測定〜
ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)(東ソー株式会社製、商品名HLC−802A)を用い、ジメチルホルムアミドを溶剤とし標準ポリスチレン換算値として求めた。
~ Measurement of number average molecular weight (Mn) ~
Using gel permeation chromatography (GPC) (manufactured by Tosoh Corporation, trade name HLC-802A), dimethylformamide was used as a solvent to obtain a standard polystyrene equivalent value.
〜ガラス転移温度の測定〜
示差走査型熱量計(セイコー電子工業(株)製、商品名DSC2000)を用い、10℃/min.の昇温速度にて測定した。
~ Measurement of glass transition temperature ~
A differential scanning calorimeter (manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd., trade name DSC2000) was used and the temperature was 10 ° C / min. It measured at the temperature increase rate of.
〜光線透過率の測定〜
透明性の一評価として、JIS K 7361−1(1997年版)に準拠して光線透過率の測定を行った。
~ Measurement of light transmittance ~
As an evaluation of transparency, light transmittance was measured in accordance with JIS K 7361-1 (1997 edition).
〜ヘーズの測定〜
透明性の一評価として、JIS K 7136(2000年版)に準拠してヘーズの測定を行った。
~ Measurement of haze ~
As an evaluation of transparency, haze was measured according to JIS K 7136 (2000 version).
〜屈折率の測定〜
JIS K 7142(1981年版)に準拠してアッベ屈折率計(アタゴ製)を用いて測定した。
~ Measurement of refractive index ~
It measured using the Abbe refractometer (product made from Atago) based on JISK7142 (1981 edition).
〜3次元屈折率の計算〜
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器(株)製、商品名KOBRA−WR)を用いて仰角を変えて測定波長589nmの光で3次元屈折率を測定した。さらに、3次元屈折率よりRth(面外位相差量)および下記式(6)で示されるRe(面内位相差量)を算出した。
~ Calculation of 3D refractive index ~
Using a sample tilt type automatic birefringence meter (trade name KOBRA-WR, manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.), the elevation angle was changed and the three-dimensional refractive index was measured with light having a measurement wavelength of 589 nm. Further, Rth (out-of-plane retardation) and Re (in-plane retardation) represented by the following formula (6) were calculated from the three-dimensional refractive index.
Re=(nx−ny)×d (6)
(ここで、dは光学補償膜の膜厚(nm)を示す。)
〜位相差量の波長依存性の測定〜
位相差量の波長依存性(R450/R589)は、塗工膜を40度傾斜させ測定波長450nmの光で測定した位相差量(R450)と測定波長589nmの光で測定した位相差量(R589)の比で示した。
Re = (nx−ny) × d (6)
(Here, d represents the film thickness (nm) of the optical compensation film.)
~ Measurement of wavelength dependence of phase difference ~
The wavelength dependence (R450 / R589) of the retardation amount is determined by tilting the coating film by 40 degrees and measuring the retardation amount (R450) measured with light having a measurement wavelength of 450 nm and the retardation amount measured with light having a measurement wavelength of 589 nm (R589). ) Ratio.
〜クロスカット法100マス試験評価〜
JIS K 5400(1999年版)に準拠して規定のカット間隔で塗工膜に対して100個の格子状パターンを切り込みを入れて、剥がれ具体を判定した。このとき、判定は100個の格子状パターンにおける良好な個数により判定した。また、粘着テープを格子状パターンの上に貼り引き剥がすことで剥がれ具合を観察した。この時の判定も同じく100個の格子状パターンにおける良好な個数により判定した。
-Cross cut method 100 mass test evaluation-
In accordance with JIS K 5400 (1999 edition), 100 lattice patterns were cut into the coated film at a specified cut interval, and the specific peeling was determined. At this time, the determination was made based on a good number of 100 lattice patterns. Moreover, the peeling condition was observed by sticking and peeling the adhesive tape on the lattice pattern. The determination at this time was also made based on the good number of 100 lattice patterns.
合成例1(N−n−ブチルマレイミド重合体樹脂の製造例)
ガラス封管中に、N−n−ブチルマレイミド32.4g、重合開始剤としてジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート0.054gを仕込み、窒素置換後、重合温度60℃、重合時間5時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し80℃にて乾燥し20gのN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は120000であった。また、ガラス転移温度(以下、Tgと称する)は185℃であった。
Synthesis Example 1 (Example of production of Nn-butylmaleimide polymer resin)
A glass sealed tube was charged with 32.4 g of Nn-butylmaleimide and 0.054 g of dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate as a polymerization initiator, and after substitution with nitrogen, a polymerization temperature of 60 ° C. and a polymerization time of 5 The radical polymerization reaction was performed under time conditions. After the reaction, chloroform was added to form a polymer solution, and the polymer was precipitated by mixing with excess methanol. The obtained polymer was filtered, washed sufficiently with methanol and dried at 80 ° C. to obtain 20 g of Nn-butylmaleimide polymer resin. The number average molecular weight of the obtained Nn-butylmaleimide polymer resin was 120,000. The glass transition temperature (hereinafter referred to as Tg) was 185 ° C.
合成例2(N−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂の製造例)
ガラス封管中に、N−n−ヘキシルマレイミド40g、重合開始剤として、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート0.05gを仕込み、窒素置換後、重合温度60℃、重合時間5時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し80℃にて乾燥し32gのN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は160000であった。また、Tgは148℃であった。
Synthesis Example 2 (Production Example of Nn-Hexylmaleimide Polymer Resin)
In a glass sealed tube, 40 g of Nn-hexylmaleimide and 0.05 g of dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate as a polymerization initiator are charged, and after nitrogen substitution, a polymerization temperature of 60 ° C. and a polymerization time of 5 hours. The radical polymerization reaction was performed under the following conditions. After the reaction, chloroform was added to form a polymer solution, and the polymer was precipitated by mixing with excess methanol. The obtained polymer was filtered, sufficiently washed with methanol, and dried at 80 ° C. to obtain 32 g of Nn-hexylmaleimide polymer resin. The number average molecular weight of the obtained Nn-hexylmaleimide polymer resin was 160000. Moreover, Tg was 148 degreeC.
比較例1
合成例1で得られたN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂を50重量部のトルエンと50重量部のメチルエチルケトンからなる混合溶剤に溶解し、13%溶液とし、コーターによりガラス基板に塗工し、室温で48時間乾燥して幅50mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。 得られた塗工膜は、光線透過率91.1%、ヘーズ0.6%であり、3次元屈折率はnx=1.51742、ny=1.51742、nz=1.51422であり、Rth=48.0m、Re=0.0nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
Comparative Example 1
The Nn-butylmaleimide polymer resin obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in a mixed solvent composed of 50 parts by weight of toluene and 50 parts by weight of methyl ethyl ketone, made into a 13% solution, and applied to a glass substrate with a coater. It dried at room temperature for 48 hours, and obtained the coating film film (coating film + glass substrate) of width 50mm and thickness 15micrometer (thickness only of a coating film). The obtained coating film has a light transmittance of 91.1%, a haze of 0.6%, a three-dimensional refractive index of nx = 1.51742, ny = 1.51742, nz = 1.51422, Rth = 48.0 m, Re = 0.0 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.05.
クロスカット法100マス試験におけるカット評価では、100個の格子パターン中100個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも100個の格子パターン中100個が良好な密着を示した。 In the cut evaluation in the cross cut method 100 mass test, 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion, and 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion even when the tape was peeled off.
実施例1
比較例1と同様の方法で作成した溶液に、さらにN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂100重量部に対し、環状炭化水素系化合物として2,4,6−トリメルカプト−1,3,5−トリアジン(一般式(2)の化合物)を1重量部添加した後、比較例1と同様の方法で幅50mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。
Example 1
The solution prepared in the same manner as in Comparative Example 1 was further added with 2,4,6-trimercapto-1,3,5-cyclic hydrocarbon compound to 100 parts by weight of Nn-butylmaleimide polymer resin. After adding 1 part by weight of triazine (compound of general formula (2)), a coating film film (coating film + glass) having a width of 50 mm and a thickness of 15 μm (thickness of the coating film only) was applied in the same manner as in Comparative Example 1. Substrate).
得られた塗工膜は、光線透過率91.0%、ヘーズ0.7%であり、3次元屈折率はnx=1.51843、ny=1.51842、nz=1.51226(nx≒ny>nz)であり、Rth=92.5m、Re=0.1nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。 The obtained coating film has a light transmittance of 91.0% and a haze of 0.7%, and the three-dimensional refractive index is nx = 1.51843, ny = 1.1.5842, nz = 1.51226 (nx≈ny > Nz), and Rth = 92.5 m and Re = 0.1 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.05.
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例1に示したN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもnx≒ny>nz傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってRthが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。 As a result, the obtained coating film had a tendency of nx≈ny> nz stronger than the coating film of only the Nn-butylmaleimide polymer resin shown in Comparative Example 1, and the cyclic hydrocarbon type It is a film in which Rth is increased by the compound. In addition, since the wavelength dependency is small, it can be said that a thin film is expected and it is more excellent as an optical compensation film.
クロスカット法100マス試験におけるカット評価では、100個の格子パターン中100個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも100個の格子パターン中100個が良好な密着を示した。 In the cut evaluation in the cross cut method 100 mass test, 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion, and 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion even when the tape was peeled off.
実施例2
2,4,6−トリメルカプト−1,3,5−トリアジンの添加量を3重量部に変更した以外は、実施例1と同様の方法で幅50mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。
Example 2
Except for changing the amount of 2,4,6-trimercapto-1,3,5-triazine added to 3 parts by weight, the width was 50 mm and the thickness was 15 μm (thickness of the coating film only) in the same manner as in Example 1. Coating film (coating film + glass substrate) was obtained.
得られた塗工膜は、光線透過率91.0%、ヘーズ0.6%であり、3次元屈折率はnx=1.51848、ny=1.51848、nz=1.51028(nx=ny>nz)であり、Rth=123.0m、Re=0nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.06であった。 The obtained coating film has a light transmittance of 91.0% and a haze of 0.6%, and the three-dimensional refractive index is nx = 1.51848, ny = 1.51848, nz = 1.51028 (nx = ny). > Nz), and Rth = 13.0 m and Re = 0 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.06.
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例1に示したN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもnx≒ny>nz傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってRthが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。 As a result, the obtained coating film had a tendency of nx≈ny> nz stronger than the coating film of only the Nn-butylmaleimide polymer resin shown in Comparative Example 1, and the cyclic hydrocarbon type It is a film in which Rth is increased by the compound. In addition, since the wavelength dependency is small, it can be said that a thin film is expected and it is more excellent as an optical compensation film.
クロスカット法100マス試験におけるカット評価では、100個の格子パターン中100個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも100個の格子パターン中100個が良好な密着を示した。 In the cut evaluation in the cross cut method 100 mass test, 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion, and 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion even when the tape was peeled off.
実施例3
環状炭化水素系化合物を6−(ジブチルアミノ)−2,4−ジメルカプト−1,3,5−トリアジン(一般式(3)の化合物)に変更した以外は、実施例1と同様の方法で幅50mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。
Example 3
Except for changing the cyclic hydrocarbon compound to 6- (dibutylamino) -2,4-dimercapto-1,3,5-triazine (compound of general formula (3)), the width is the same as in Example 1. A coating film film (coating film + glass substrate) having a thickness of 50 mm and a thickness of 15 μm (thickness only of the coating film) was obtained.
得られた塗工膜は、光線透過率91.2%、ヘーズ0.6%であり、3次元屈折率はnx=1.51828、ny=1.51827、nz=1.51187(nx≒ny>nz)であり、Rth=96.1m、Re=0.2nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。 The obtained coating film has a light transmittance of 91.2% and a haze of 0.6%, and the three-dimensional refractive indexes are nx = 1.51828, ny = 1.51827, nz = 1.51187 (nx≈ny). > Nz), and Rth = 96.1 m and Re = 0.2 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.05.
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例1に示したN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもnx≒ny>nz傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってRthが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。 As a result, the obtained coating film had a tendency of nx≈ny> nz stronger than the coating film of only the Nn-butylmaleimide polymer resin shown in Comparative Example 1, and the cyclic hydrocarbon type It is a film in which Rth is increased by the compound. In addition, since the wavelength dependency is small, it can be said that a thin film is expected and it is more excellent as an optical compensation film.
クロスカット法100マス試験におけるカット評価では、100個の格子パターン中100個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも100個の格子パターン中100個が良好な密着を示した。 In the cut evaluation in the cross cut method 100 mass test, 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion, and 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion even when the tape was peeled off.
実施例4
6−(ジブチルアミノ)−2,4−ジメルカプト−1,3,5−トリアジンの添加量を3重量部に変更した以外は、実施例3と同様の方法で幅50mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。
Example 4
The width was 50 mm and the thickness was 15 μm (coating film) in the same manner as in Example 3 except that the amount of 6- (dibutylamino) -2,4-dimercapto-1,3,5-triazine was changed to 3 parts by weight. (Thickness only) of coating film (coating film + glass substrate) was obtained.
得られた塗工膜は、光線透過率91.1%、ヘーズ0.6%であり、3次元屈折率はnx=1.51816、ny=1.51816、nz=1.51090(nx=ny>nz)であり、Rth=108.9m、Re=0nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。 The obtained coating film has a light transmittance of 91.1% and a haze of 0.6%, and the three-dimensional refractive index is nx = 1.51816, ny = 1.51816, nz = 1.51090 (nx = ny). > Nz), and Rth = 108.9 m and Re = 0 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.05.
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例1に示したN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもnx≒ny>nz傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってRthが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。 As a result, the obtained coating film had a tendency of nx≈ny> nz stronger than the coating film of only the Nn-butylmaleimide polymer resin shown in Comparative Example 1, and the cyclic hydrocarbon type It is a film in which Rth is increased by the compound. In addition, since the wavelength dependency is small, it can be said that a thin film is expected and it is more excellent as an optical compensation film.
クロスカット法100マス試験におけるカット評価では、100個の格子パターン中100個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも100個の格子パターン中100個が良好な密着を示した。 In the cut evaluation in the cross cut method 100 mass test, 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion, and 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion even when the tape was peeled off.
比較例2
合成例2で得られたN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂を30重量部のトルエンと70重量部のメチルエチルケトンからなる混合溶剤に溶解し、15%溶液とし、コーターによりガラス基板に塗工し、室温窒素気流下で24時間乾燥して幅20mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。
Comparative Example 2
The Nn-hexylmaleimide polymer resin obtained in Synthesis Example 2 was dissolved in a mixed solvent consisting of 30 parts by weight of toluene and 70 parts by weight of methyl ethyl ketone, made into a 15% solution, and applied to a glass substrate with a coater. It dried under room temperature nitrogen stream for 24 hours, and obtained the coating film film (coating film + glass substrate) of width 20mm and thickness 15micrometer (thickness only of a coating film).
得られた塗工膜は、光線透過率91.8%、ヘーズ0.6%であり、3次元屈折率はnx=1.51566、ny=1.51565、nz=1.51342であり、Rth=33.5m、Re=0.2nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.06であった。 The obtained coating film has a light transmittance of 91.8%, a haze of 0.6%, a three-dimensional refractive index of nx = 1.51566, ny = 1.515565, nz = 1.51342, and Rth. = 33.5 m, Re = 0.2 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.06.
クロスカット法100マス試験におけるカット評価では、100個の格子パターン中100個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも100個の格子パターン中100個が良好な密着を示した。 In the cut evaluation in the cross cut method 100 mass test, 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion, and 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion even when the tape was peeled off.
実施例5
比較例2と同様の方法で作成した溶液に、さらにN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂100重量部に対し、環状炭化水素系化合物として2,4−ジアミノ−6−ジアリルアミノ−1,3,5−トリアジン(一般式(3)の化合物)を1重量部添加した後、比較例2と同様の方法で幅20mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。
Example 5
To the solution prepared in the same manner as in Comparative Example 2, 100 parts by weight of Nn-hexylmaleimide polymer resin was further added as a cyclic hydrocarbon compound, 2,4-diamino-6-diallylamino-1,3, After adding 1 part by weight of 5-triazine (compound of general formula (3)), a coating film film (coating film) having a width of 20 mm and a thickness of 15 μm (thickness only of the coating film) is obtained in the same manner as in Comparative Example 2. + Glass substrate).
得られた塗工膜は、光線透過率91.8%、ヘーズ0.5%であり、3次元屈折率はnx=1.51721、ny=1.51721、nz=1.51342(nx=ny>nz)であり、Rth=56.8m、Re=0nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.07であった。 The obtained coating film has a light transmittance of 91.8% and a haze of 0.5%, and the three-dimensional refractive index is nx = 1.51721, ny = 1.51721, nz = 1.51342 (nx = ny). > Nz), and Rth = 56.8 m and Re = 0 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.07.
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例2に示したN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもnx≒ny>nz傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってRthが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。 As a result, the obtained coating film had a tendency of nx≈ny> nz stronger than the coating film of only the Nn-hexylmaleimide polymer resin shown in Comparative Example 2, and the cyclic hydrocarbon type It is a film in which Rth is increased by the compound. In addition, since the wavelength dependency is small, it can be said that a thin film is expected and it is more excellent as an optical compensation film.
クロスカット法100マス試験におけるカット評価では、100個の格子パターン中100個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも100個の格子パターン中100個が良好な密着を示した。 In the cut evaluation in the cross cut method 100 mass test, 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion, and 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion even when the tape was peeled off.
実施例6
2,4−ジアミノ−6−ジアリルアミノ−1,3,5−トリアジンの添加量を3重量部に変更した以外は、実施例5と同様の方法で幅20mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。
Example 6
Except for changing the addition amount of 2,4-diamino-6-diallylamino-1,3,5-triazine to 3 parts by weight, the width was 20 mm and the thickness was 15 μm (only the coating film only) in the same manner as in Example 5. (Thickness) coating film film (coating film + glass substrate) was obtained.
得られた塗工膜は、光線透過率91.7%、ヘーズ0.6%であり、3次元屈折率はnx=1.51735、ny=1.51734、nz=1.51329(nx≒ny>nz)であり、Rth=60.8m、Re=0.2nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.06であった。 The obtained coating film had a light transmittance of 91.7% and a haze of 0.6%, and the three-dimensional refractive index was nx = 1.51735, ny = 1.51734, nz = 1.51329 (nx≈ny > Nz), and Rth = 60.8 m and Re = 0.2 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.06.
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例2に示したN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもnx≒ny>nz傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってRthが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。 As a result, the obtained coating film had a tendency of nx≈ny> nz stronger than the coating film of only the Nn-hexylmaleimide polymer resin shown in Comparative Example 2, and the cyclic hydrocarbon type It is a film in which Rth is increased by the compound. In addition, since the wavelength dependency is small, it can be said that a thin film is expected and it is more excellent as an optical compensation film.
クロスカット法100マス試験におけるカット評価では、100個の格子パターン中100個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも100個の格子パターン中100個が良好な密着を示した。 In the cut evaluation in the cross cut method 100 mass test, 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion, and 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion even when the tape was peeled off.
実施例7
環状炭化水素系化合物をN,N´,N´´−トリフェニル−1,3,5−ベンゼントリアミン(一般式(4)の化合物)に変更した以外は、実施例5と同様の方法で幅20mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。
Example 7
Except for changing the cyclic hydrocarbon compound to N, N ′, N ″ -triphenyl-1,3,5-benzenetriamine (compound of the general formula (4)), the width is the same as in Example 5. A coating film film (coating film + glass substrate) having a thickness of 20 mm and a thickness of 15 μm (thickness only of the coating film) was obtained.
得られた塗工膜は、光線透過率91.8%、ヘーズ0.7%であり、3次元屈折率はnx=1.51729、ny=1.51729、nz=1.51152(nx=ny>nz)であり、Rth=86.6m、Re=0nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.07であった。 The obtained coating film has a light transmittance of 91.8% and a haze of 0.7%, and the three-dimensional refractive indexes are nx = 1.51729, ny = 1.51729, nz = 1.51152 (nx = ny). > Nz), and Rth = 86.6 m and Re = 0 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.07.
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例2に示したN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもnx≒ny>nz傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってRthが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。 As a result, the obtained coating film had a tendency of nx≈ny> nz stronger than the coating film of only the Nn-hexylmaleimide polymer resin shown in Comparative Example 2, and the cyclic hydrocarbon type It is a film in which Rth is increased by the compound. In addition, since the wavelength dependency is small, it can be said that a thin film is expected and it is more excellent as an optical compensation film.
クロスカット法100マス試験におけるカット評価では、100個の格子パターン中100個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも100個の格子パターン中100個が良好な密着を示した。 In the cut evaluation in the cross cut method 100 mass test, 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion, and 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion even when the tape was peeled off.
実施例8
N,N´,N´´−トリフェニル−1,3,5−ベンゼントリアミンの添加量を3重量部に変更した以外は、実施例7と同様の方法で幅20mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。
Example 8
The width was 20 mm and the thickness was 15 μm (coating film) in the same manner as in Example 7, except that the amount of N, N ′, N ″ -triphenyl-1,3,5-benzenetriamine was changed to 3 parts by weight. (Thickness only) of coating film (coating film + glass substrate) was obtained.
得られた塗工膜は、光線透過率91.7%、ヘーズ0.8%であり、3次元屈折率はnx=1.51780、ny=1.51780、nz=1.51198(nx=ny>nz)であり、Rth=87.3m、Re=0nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.07であった。 The obtained coating film had a light transmittance of 91.7% and a haze of 0.8%, and the three-dimensional refractive index was nx = 1.51780, ny = 1.51780, nz = 1.51198 (nx = ny). > Nz), and Rth = 87.3 m and Re = 0 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.07.
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例2に示したN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもnx≒ny>nz傾向が強くなっており、環状炭化水素系化合物によってRthが上昇した膜となっている。また波長依存性が小さいことからも、薄膜化が期待され光学補償膜としてより優れたものであるといえる。 As a result, the obtained coating film had a tendency of nx≈ny> nz stronger than the coating film of only the Nn-hexylmaleimide polymer resin shown in Comparative Example 2, and the cyclic hydrocarbon type It is a film in which Rth is increased by the compound. In addition, since the wavelength dependency is small, it can be said that a thin film is expected and it is more excellent as an optical compensation film.
クロスカット法100マス試験におけるカット評価では、100個の格子パターン中100個が良好な密着を示し、更にテープ引き剥がしでも100個の格子パターン中100個が良好な密着を示した。 In the cut evaluation in the cross cut method 100 mass test, 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion, and 100 pieces out of 100 lattice patterns showed good adhesion even when the tape was peeled off.
比較例3
比較例1と同様の方法で作成した溶液に、さらにN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂100重量部に対し、環状炭化水素系化合物でなくかつ一般式(2)、(3)、(4)のいずれにも属さないトリ(2−エチルヘキシル)ホスフェートを3重量部添加した後、比較例1と同様の方法で幅50mm、厚み15μm(塗工膜のみの厚み)の塗工膜フィルム(塗工膜+ガラス基板)を得た。
Comparative Example 3
The solution prepared in the same manner as in Comparative Example 1 was further added to 100 parts by weight of Nn-butylmaleimide polymer resin, not a cyclic hydrocarbon compound, and general formulas (2), (3), (4) After adding 3 parts by weight of tri (2-ethylhexyl) phosphate not belonging to any of the above, a coating film film (coating film) having a width of 50 mm and a thickness of 15 μm (thickness of the coating film only) was applied in the same manner as in Comparative Example 1. Membrane + glass substrate).
得られた塗工膜は、光線透過率91.9%、ヘーズ0.5%であり、3次元屈折率はnx=1.51742、ny=1.51741、nz=1.51491であり、Rth=37.6m、Re=0nmであった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。 The obtained coating film had a light transmittance of 91.9% and a haze of 0.5%, and a three-dimensional refractive index of nx = 1.5742, ny = 1.57441, nz = 1.49191, Rth = 37.6 m, Re = 0 nm. Furthermore, R450 / R589 which shows the wavelength dependence of phase difference amount was 1.05.
これらの結果、得られた塗工膜は、比較例1に示したN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂のみの塗工膜よりもnx≒ny>nz傾向が小さくなっており、環状炭化水素系化合物でない化合物を用いたことによってRthが減少していることが分かる。よって、このような環状炭化水素系化合物でなくかつ一般式(2)、(3)、(4)のいずれにも属さない化合物では、マレイミド系樹脂フィルムのRthを上昇させる効果はないといえる。 As a result, the obtained coating film had a tendency of nx≈ny> nz smaller than the coating film of only the Nn-butylmaleimide polymer resin shown in Comparative Example 1, and the cyclic hydrocarbon type It can be seen that Rth is reduced by using a compound that is not a compound. Therefore, it can be said that a compound that is not such a cyclic hydrocarbon compound and does not belong to any of the general formulas (2), (3), and (4) has no effect of increasing the Rth of the maleimide resin film.
以上の光学特性の評価結果を、表1に示す。 Table 1 shows the evaluation results of the above optical characteristics.
Claims (9)
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (5)
(ここで、dは光学補償膜の膜厚(nm)を示す。) The optical compensation according to claim 1 or 2 Rth represented by the following formula when measured at a measurement wavelength 589nm of light (5) (out-of-plane retardation amount) is characterized in that in the range of 50~2000nm film.
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d (5)
(Here, d represents the film thickness (nm) of the optical compensation film.)
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