JP5401761B2 - Display substrate defect inspection method, defect inspection apparatus, and display apparatus - Google Patents

Display substrate defect inspection method, defect inspection apparatus, and display apparatus Download PDF

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Description

本発明は、走査線とデータ線との交差部分に配設された画素回路にデータ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を形成する前の表示用基板の欠陥検査方法に関し、詳しくは、表示用基板の欠陥検査を欠陥検査専用の配線を設けることなく容易に実施可能とする表示用基板の欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに表示装置に係るものである。   The present invention relates to a defect inspection method for a display substrate before forming an electro-optic element whose luminance changes according to a data signal in a pixel circuit arranged at an intersection of a scanning line and a data line. The present invention relates to a display substrate defect inspection method, a defect inspection device, and a display device, which can easily perform defect inspection of a display substrate without providing wiring dedicated for defect inspection.

液晶表示パネルや有機EL(Organic Light Emitting diode:OLED)表示パネルが大型化、高精細化するにつれ、画素や配線不良による歩留低下とそれによるコストの上昇が問題となっている。このような問題に対処するためには、表示パネルの製造工程に欠陥検査工程を設けて上記不良箇所を発見し、不良を修正することによって歩留りを向上させることが考えられる。   As liquid crystal display panels and organic EL (Organic Light Emitting Diode: OLED) display panels increase in size and definition, there is a problem of yield reduction due to pixel and wiring defects and cost increase due thereto. In order to deal with such a problem, it is conceivable to improve the yield by providing a defect inspection process in the manufacturing process of the display panel to find the defective portion and correcting the defect.

しかし、表示パネルの製造工程の最終工程において、完成した表示パネルを使用して行なう点灯試験による欠陥検査の場合には、発見される欠陥に修正不可能なものも存在することがある。このような欠陥が存在するときには、表示パネルの製造費用が無駄となる。そこで、製造工程の途中で表示パネルが未完成の状態において欠陥検査を行うことが望ましい。この場合、欠陥検査の手法として、パネル表面をCCDカメラ等で撮影し、異物や回路欠陥などをパターンマッチングにより検出する手法があるが、配線や素子が積層構造となっているときには、積層構造の内部の欠陥は検出することができない。したがって、この場合、通電による検査も必要となる。   However, in the case of a defect inspection by a lighting test performed using a completed display panel in the final process of the display panel manufacturing process, there may be a defect that cannot be corrected. When such a defect exists, the manufacturing cost of the display panel is wasted. Therefore, it is desirable to perform defect inspection while the display panel is not completed during the manufacturing process. In this case, as a defect inspection method, there is a method in which the panel surface is photographed with a CCD camera or the like, and a foreign object or a circuit defect is detected by pattern matching. Internal defects cannot be detected. Therefore, in this case, inspection by energization is also necessary.

従来の表示パネルの通電による欠陥検査方法において、データ信号に応じて輝度が制御される電気光学素子である有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「有機EL素子」という)が未実装の表示用基板の欠陥検査方法は、表示用基板の画素回路に、有機EL素子が未実装の状態においても該有機EL素子の駆動TFT(Thin Film Transistor)に対して電流経路を与えることができるスイッチ用TFTを追加し、欠陥検査時に、このスイッチ用TFTをオンさせて駆動TFTを流れる駆動電流を観測することによって欠陥を検査するようになっていた(例えば、特許文献1参照)。   In a conventional defect inspection method for energizing a display panel, an organic electroluminescence element (hereinafter referred to as an “organic EL element”), which is an electro-optical element whose luminance is controlled according to a data signal, is a defect in a display substrate that is not mounted. In the inspection method, a switching TFT capable of providing a current path to the driving TFT (Thin Film Transistor) of the organic EL element is added to the pixel circuit of the display substrate even when the organic EL element is not mounted. At the time of defect inspection, the defect is inspected by turning on the switching TFT and observing the drive current flowing through the drive TFT (for example, see Patent Document 1).

また、他の表示用基板の欠陥検査方法は、有機EL素子を駆動するドライブトランジスタのゲート・ソース間に接続される保持容量と、ドライブトランジスタのゲート・ドレイン間に形成される寄生容量とに対して電荷の書込みを行なった後、該電荷を読み出してその検出出力により欠陥を検出するようになっていた(例えば、特許文献2参照)。
特開2005−107129号公報 特許第3701924号公報
Another defect inspection method for a display substrate is that a storage capacitor connected between the gate and source of a drive transistor that drives an organic EL element and a parasitic capacitance formed between the gate and drain of the drive transistor are used. After writing the charge, the charge is read and a defect is detected by the detection output (see, for example, Patent Document 2).
JP 2005-107129 A Japanese Patent No. 3701924

しかし、このような従来の表示用基板の欠陥検査方法において、特に、特許文献1に記載の欠陥検査方法は、画素回路に欠陥検査専用のスイッチ用TFTやそれに対する配線を設ける必要があり、配線やTFT素子が混み合って新たな欠陥を発生させるおそれがある。   However, in such a conventional defect inspection method for a display substrate, in particular, the defect inspection method described in Patent Document 1 requires that a switch TFT dedicated to defect inspection and a wiring corresponding thereto be provided in the pixel circuit. In addition, there is a possibility that the TFT elements are crowded and a new defect is generated.

また、特許文献2に記載の欠陥検査方法においては、寄生容量が小さいためにノイズ等の影響を受け易く、書き込まれた電荷を正確に測定することが困難であった。特に、有機EL表示パネルの画素回路は、液晶表示パネルの画素回路に比べて複雑であるため寄生容量の発生数や発生箇所等の特定が困難であり、しかもそれらが測定結果に如何なる影響をもたらすのか予測が難しい。したがって、画素回路の欠陥の判断が困難となるおそれがあった。   Further, in the defect inspection method described in Patent Document 2, since the parasitic capacitance is small, it is easily affected by noise and the like, and it is difficult to accurately measure the written charge. In particular, since the pixel circuit of the organic EL display panel is more complicated than the pixel circuit of the liquid crystal display panel, it is difficult to specify the number of parasitic capacitances and the location where they occur, and they have any influence on the measurement results. It is difficult to predict. Therefore, it may be difficult to determine the defect of the pixel circuit.

そこで、本発明は、このような問題点に対処し、表示用基板の欠陥検査を欠陥検査専用の配線を設けることなく容易に実施可能とする表示用基板の欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに表示装置を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention addresses such problems and enables a display substrate defect inspection method, a defect inspection apparatus, and a display that can easily perform defect inspection of a display substrate without providing wiring dedicated for defect inspection. An object is to provide an apparatus.

上記目的を達成するために、第1の発明による表示用基板の欠陥検査方法は、複数種の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続し前記複数種の走査線のうち一の走査線によって駆動される書込みトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と固定電位との間に接続した内部容量とを具備した画素回路をマトリクス状に備えた表示用基板の欠陥検査方法であって、前記複数種の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、前記信号線の電位を所定値に保つと共に、前記複数種の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動し、前記内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットするリセット段階と、前記信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、前記複数種の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して前記内部容量に電荷を蓄積する書込み段階と、前記複数種の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動し、前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して読み出す読出し段階と、前記読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする判定段階と、を行うものである。   In order to achieve the above object, a display substrate defect inspection method according to a first aspect of the present invention is an electro-optic that is arranged at an intersection of a plurality of types of scanning lines and signal lines and changes in luminance according to a data signal. A pixel transistor that drives an element; a write transistor that is connected between the signal line and the pixel transistor and is driven by one of the plurality of types of scan lines; and a connection end of the pixel transistor and the write transistor; A defect inspection method for a display substrate having a pixel circuit having an internal capacitor connected between a fixed potential and a matrix, wherein the plurality of types of scanning lines are scanned in the same direction as an image display, The potential of the signal line is kept at a predetermined value, and a predetermined reset scanning signal is supplied to the plurality of types of scanning lines to turn on the write transistor, and the potential across the internal capacitor A reset stage in which the charge is reset to zero at the same level, and a write signal having a predetermined potential is supplied to the signal line, and a predetermined write scan signal is simultaneously applied to the plurality of types of scanning lines. A write stage for sequentially supplying the internal capacitors to store charges so as to exist, and supplying a predetermined read scanning signal to the plurality of types of scanning lines to drive the write transistor on, A reading step of reading out the accumulated charge amount held in the internal capacitor via the signal line, and a determination step of determining the presence or absence of a defect in the pixel circuit based on the read accumulated charge amount. Is what you do.

このような構成により、複数種の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、信号線の電位を所定値に保つと共に、複数種の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して信号線と画素トランジスタとの間に接続した書込トランジスタをオン駆動し、画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と固定電位との間に接続した内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットし、信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、複数種の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して上記内部容量に電荷を蓄積し、複数種の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して書込トランジスタをオン駆動し、上記内部容量に保持されている蓄積電荷量を信号線を介して読み出し、読み出された蓄積電荷量に基づいて表示用基板にマトリクス状に備えられた画素回路の欠陥の有無の判定をする。   With such a configuration, while scanning a plurality of types of scanning lines in the same direction as the video display, the potential of the signal lines is maintained at a predetermined value, and a predetermined reset scanning signal is supplied to the plurality of types of scanning lines. The write transistor connected between the line and the pixel transistor is turned on, and the electric potential at both ends of the internal capacitor connected between the connection end of the pixel transistor and the write transistor and the fixed potential is set to the same level to reset the charge to zero. In addition, a write signal having a predetermined potential is supplied to the signal line, and a predetermined write scan signal is sequentially supplied to a plurality of types of scanning lines so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level. Charge is stored in the capacitor, a predetermined scanning signal is supplied to a plurality of scanning lines to turn on the writing transistor, and the amount of stored charge held in the internal capacitor is calculated. Line read through to the determination of presence or absence of a defect of a pixel circuit provided in a matrix on the display substrate based on the accumulated charge amount read out.

また、第2の発明による表示用基板の欠陥検査方法は、複数種の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続し前記複数種の走査線のうち一の走査線によって駆動される書込みトランジスタと、前記画素トランジスタと固定電位との間に接続し前記複数種の走査線のうち他の走査線によって駆動されるスイッチングトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と前記画素トランジスタ及びスイッチングトランジスタの接続端との間に接続した内部容量とを具備した画素回路をマトリクス状に備えた表示用基板の欠陥検査方法であって、前記複数種の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、前記信号線の電位を所定値に保つと共に、前記複数種の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、前記内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットするリセット段階と、前記信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、前記複数種の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して前記内部容量に電荷を蓄積する書込み段階と、前記複数種の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して読み出す読出し段階と、前記読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする判定段階と、を行うものである。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a defect inspection method for a display substrate, wherein a pixel transistor is disposed at an intersection of a plurality of types of scanning lines and signal lines and drives an electro-optical element whose luminance changes according to a data signal. A write transistor connected between the signal line and the pixel transistor and driven by one of the plurality of scanning lines, and connected between the pixel transistor and a fixed potential. A pixel circuit comprising: a switching transistor driven by another scanning line among scanning lines; and an internal capacitor connected between a connection end of the pixel transistor and the writing transistor and a connection end of the pixel transistor and the switching transistor. A defect inspection method for a display substrate provided in a matrix, wherein the plurality of types of scanning lines are scanned in the same direction as an image display. The potential of the signal line is maintained at a predetermined value, and a predetermined reset scanning signal is supplied to the plurality of types of scanning lines to simultaneously turn on the writing transistor and the switching transistor. A reset stage in which the charge is reset to zero at the same level, and a write signal having a predetermined potential is supplied to the signal line, and a predetermined write scan signal is simultaneously applied to the plurality of types of scanning lines. A write stage in which charges are accumulated in the internal capacitor so as to exist at a certain timing, and a predetermined read scanning signal is supplied to the plurality of types of scanning lines to simultaneously connect the write transistor and the switching transistor. A reading step of driving on and reading the amount of accumulated charge held in the internal capacitor through the signal line; and A determining step of determining the presence or absence of a defect of the pixel circuit based on the accumulated amount of charge, and performs.

このような構成により、複数種の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、信号線の電位を所定値に保つと共に、複数種の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して、信号線と画素トランジスタとの間に接続した書込トランジスタ及び画素トランジスタと固定電位との間に接続したスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と画素トランジスタ及びスイッチングトランジスタの接続端との間に接続した内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットし、信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、複数種の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して上記内部容量に電荷を蓄積し、複数種の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、上記内部容量に保持されている蓄積電荷量を信号線を介して読み出し、読み出された蓄積電荷量に基づいて表示用基板にマトリクス状に備えられた画素回路の欠陥の有無の判定をする。   With such a configuration, while scanning a plurality of types of scanning lines in the same direction as the video display, the potential of the signal lines is maintained at a predetermined value, and a predetermined reset scanning signal is supplied to the plurality of types of scanning lines, The writing transistor connected between the signal line and the pixel transistor and the switching transistor connected between the pixel transistor and the fixed potential are simultaneously turned on, and the connection ends of the pixel transistor and the writing transistor are connected to the pixel transistor and the switching transistor. The electric potential of both ends of the internal capacitor connected to the end is set to the same level to reset the charge to zero, and a write signal having a predetermined potential is supplied to the signal line, and a predetermined write scan is applied to each of the plurality of types of scanning lines. Charge is stored in the internal capacitor by sequentially supplying signals so that there is a timing at which the potentials simultaneously become high. , Supplying a predetermined read scanning signal to a plurality of types of scanning lines to simultaneously turn on the writing transistor and the switching transistor, and reading out and reading out the accumulated charge held in the internal capacitor via the signal line Based on the stored charge amount, it is determined whether or not there is a defect in the pixel circuit provided in a matrix on the display substrate.

さらに、第3の発明による欠陥検査装置は、複数種の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続し前記複数種の走査線のうち一の走査線によって駆動される書込みトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と固定電位との間に接続した内部容量とを具備した画素回路をマトリクス状に備えた表示用基板の欠陥検査装置であって、前記複数種の走査線を映像表示と同方向又は逆方向に走査すると共に、前記複数種の走査線に対して、リセット段階に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動し、書込み段階にそれぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給し、読出し段階に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動する走査手段と、リセット段階に前記信号線の電位を所定値に保ち、書込み段階に所定電位の書込み信号を供給して前記内部容量に電荷を保持させる共に、読出し段階に前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して検出する書込み読出し手段と、前記各構成要素の駆動を制御する共に、前記書込み読出し手段で読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする制御手段と、を備えたものである。   Furthermore, a defect inspection apparatus according to a third aspect of the present invention is a pixel transistor that is disposed at an intersection of a plurality of types of scanning lines and signal lines and that drives an electro-optical element whose luminance changes according to a data signal, and the signal A write transistor connected between a line and a pixel transistor and driven by one of the plurality of scan lines, and an internal capacitor connected between a connection end of the pixel transistor and the write transistor and a fixed potential A display substrate defect inspection apparatus including a pixel circuit having a matrix shape, wherein the plurality of types of scanning lines are scanned in the same direction as or in the opposite direction to the video display, and the plurality of types of scanning lines are scanned. On the other hand, a predetermined reset scanning signal is supplied in the reset stage to turn on the write transistor, and the predetermined write scan signal has the same potential in the write stage. Are sequentially supplied so that there is a high level timing, and a scanning means for supplying a predetermined readout scanning signal in the readout stage to turn on the write transistor, and a potential of the signal line in the reset stage is predetermined. The value is maintained, and a write signal having a predetermined potential is supplied in the write stage to hold the charge in the internal capacitor, and in the read stage, the stored charge amount held in the internal capacitor is detected via the signal line. A reading unit; and a control unit that controls driving of each of the components and determines whether or not the pixel circuit is defective based on an accumulated charge amount read by the writing and reading unit. is there.

このような構成により、走査手段で複数種の走査線を映像表示と同方向又は逆方向に走査すると共に、複数種の走査線に対して、リセット段階に所定のリセット用走査信号を供給して信号線と画素トランジスタとの間に接続した書込トランジスタをオン駆動し、書込み段階にそれぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給し、読出し段階に所定の読出し用走査信号を供給して書込トランジスタをオン駆動し、書込み読出し手段でリセット段階に信号線の電位を所定値に保ち、書込み段階に所定電位の書込み信号を供給して画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と固定電位との間に接続した内部容量に電荷を保持させる共に、読出し段階に上記内部容量に保持されている蓄積電荷量を信号線を介して検出し、制御手段で上記各構成要素の駆動を制御する共に、書込み読出し手段で読み出された蓄積電荷量に基づいて表示用基板にマトリクス状に備えられた画素回路の欠陥の有無の判定をする。   With such a configuration, the scanning unit scans a plurality of types of scanning lines in the same direction or in the opposite direction to the video display, and supplies a predetermined reset scanning signal to the plurality of types of scanning lines at a reset stage. The writing transistor connected between the signal line and the pixel transistor is turned on, and a predetermined scanning signal is sequentially supplied to the writing stage so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level, and the reading stage The pixel transistor is supplied with a predetermined scanning signal to turn on the write transistor, and the write / read means maintains the signal line potential at a predetermined value at the reset stage and supplies the write signal with the predetermined potential at the write stage. In addition, the internal capacitor connected between the connection end of the write transistor and the fixed potential holds the charge, and is held in the internal capacitor in the reading stage. The accumulated charge amount is detected via a signal line, and the drive of each of the above components is controlled by the control means, and the display substrate is provided in a matrix based on the accumulated charge amount read by the writing / reading means. It is determined whether there is a defect in the pixel circuit.

また、第4の発明による欠陥検査装置は、複数種の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続し前記複数種の走査線のうち一の走査線によって駆動される書込みトランジスタと、前記画素トランジスタと固定電位との間に接続し前記複数種の走査線のうち他の走査線によって駆動されるスイッチングトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と前記画素トランジスタ及びスイッチングトランジスタの接続端との間に接続した内部容量とを具備した画素回路をマトリクス状に備えた表示用基板の欠陥検査装置であって、前記複数種の走査線を映像表示と同方向に走査すると共に、前記複数種の走査線に対して、リセット段階に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、書込み段階にそれぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給し、読出し段階に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動する走査手段と、リセット段階に前記信号線の電位を所定値に保ち、書込み段階に所定電位の書込み信号を供給して前記内部容量に電荷を保持させる共に、読出し段階に前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して検出する書込み読出し手段と、前記各構成要素の駆動を制御する共に、前記書込み読出し手段で読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする制御手段と、を備えたものである。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a defect inspection apparatus including a pixel transistor which is disposed at an intersection of a plurality of types of scanning lines and signal lines and which drives an electro-optical element whose luminance changes according to a data signal, and the signal A write transistor connected between a line and a pixel transistor and driven by one of the plurality of scan lines; and a write transistor connected between the pixel transistor and a fixed potential. A pixel circuit having a switching transistor driven by another scanning line, and an internal capacitor connected between a connection end of the pixel transistor and the write transistor and a connection end of the pixel transistor and the switching transistor is provided in a matrix. A display substrate defect inspection apparatus that scans the plurality of types of scanning lines in the same direction as the video display, and A predetermined reset scanning signal is supplied to a scanning line of a certain type at a reset stage to simultaneously turn on the write transistor and the switching transistor, and the potential of the predetermined write scan signal is simultaneously increased at a writing stage. Sequentially supplied so that there is a level timing, scanning means for supplying a predetermined readout scanning signal in the readout stage to simultaneously drive the write transistor and the switching transistor on, and the potential of the signal line in the reset stage Is maintained at a predetermined value, a write signal having a predetermined potential is supplied in the write stage to hold the charge in the internal capacitor, and the amount of accumulated charge held in the internal capacitor is detected through the signal line in the read stage. The read / write means for controlling the drive of each component and the read / write means for reading. And control means for the determination of the presence or absence of a defect of the pixel circuit based on the accumulated charge amount, those having a.

このような構成により、走査手段で複数種の走査線を映像表示と同方向に走査すると共に、複数種の走査線に対して、リセット段階に所定のリセット用走査信号を供給して信号線と画素トランジスタとの間に接続した書込トランジスタ及び画素トランジスタと固定電位との間に接続したスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、書込み段階にそれぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給し、読出し段階に所定の読出し用走査信号を供給して書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、書込み読出し手段でリセット段階に信号線の電位を所定値に保ち、書込み段階に所定電位の書込み信号を供給して画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と画素トランジスタ及びスイッチングトランジスタの接続端との間に接続した内部容量に電荷を保持させる共に、読出し段階に内部容量に保持されている蓄積電荷量を信号線を介して検出し、制御手段で上記各構成要素の駆動を制御する共に、書込み読出し手段で読み出された蓄積電荷量に基づいて表示用基板にマトリクス状に備えられた画素回路の欠陥の有無の判定をする。   With such a configuration, the scanning unit scans a plurality of types of scanning lines in the same direction as the video display, and supplies a predetermined reset scanning signal to the plurality of types of scanning lines at a reset stage. The writing transistor connected between the pixel transistor and the switching transistor connected between the pixel transistor and a fixed potential are simultaneously turned on, and a predetermined writing scanning signal is simultaneously set to the high level in the writing stage. Sequentially supplied so that the timing exists, a predetermined scanning signal is supplied to the read stage to simultaneously turn on the write transistor and the switching transistor, and the potential of the signal line is set to a predetermined value at the reset stage by the write / read means. The write transistor of a predetermined potential is supplied during the write stage to connect the pixel transistor and the write transistor. The charge is held in the internal capacitor connected between the end and the connection end of the pixel transistor and the switching transistor, and the amount of accumulated charge held in the internal capacitor is detected via the signal line in the reading stage, and the control means In addition to controlling the driving of each of the above components, it is determined whether or not there is a defect in a pixel circuit provided in a matrix on the display substrate based on the amount of accumulated charge read by the writing / reading means.

さらに、第5の発明による表示装置は、複数種の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続し前記複数種の走査線のうち一の走査線によって駆動される書込みトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と固定電位との間に接続した内部容量とを具備した画素回路を基板上にマトリクス状に備えた表示装置であって、前記複数種の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、前記信号線の電位を所定値に保つと共に、前記複数種の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動し、前記内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットし、記信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、前記複数種の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して前記内部容量に電荷を蓄積し、前記複数種の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動し、前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して読み出し、前記読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする欠陥検査装置を備えたものである。   Further, a display device according to a fifth aspect of the present invention is a pixel transistor that is disposed at an intersection of a plurality of types of scanning lines and signal lines and that drives an electro-optical element whose luminance changes according to a data signal, and the signal lines A write transistor connected between the pixel transistor and the pixel transistor and driven by one of the plurality of types of scan lines, and an internal capacitor connected between a connection end of the pixel transistor and the write transistor and a fixed potential A pixel circuit having a matrix circuit on a substrate, the potential of the signal line is kept at a predetermined value while scanning the plurality of types of scanning lines in the same direction as the video display, and A predetermined reset scanning signal is supplied to a plurality of types of scanning lines to turn on the writing transistor, the potentials at both ends of the internal capacitor are set to the same level, and the charge is reset to zero. A write signal having a predetermined potential is supplied to the signal line, and a predetermined write scan signal is sequentially supplied to the plurality of types of scanning lines so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level. Accumulate charges, supply a predetermined readout scanning signal to the plurality of types of scanning lines to drive the write transistor on, and read out the accumulated charge amount held in the internal capacitor via the signal line And a defect inspection device for determining the presence or absence of a defect in the pixel circuit based on the read accumulated charge amount.

このような構成により、欠陥検査装置で複数種の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、信号線の電位を所定値に保つと共に、複数種の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して信号線と画素トランジスタとの間に接続した書込トランジスタをオン駆動し、画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と固定電位との間に接続した内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットし、信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、複数種の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して上記内部容量に電荷を蓄積し、複数種の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して書込トランジスタをオン駆動し、上記内部容量に保持されている蓄積電荷量を信号線を介して読み出し、読み出された蓄積電荷量に基づいて基板にマトリクス状に備えられた画素回路の欠陥の有無の判定をする。   With such a configuration, the defect inspection apparatus scans a plurality of types of scanning lines in the same direction as the video display, while maintaining the potential of the signal lines at a predetermined value, and a predetermined reset scanning signal is applied to the plurality of types of scanning lines. Supply and turn on the write transistor connected between the signal line and the pixel transistor, and charge the both ends of the internal capacitor connected between the connection end of the pixel transistor and the write transistor and the fixed potential at the same level. Is reset to zero, and a write signal having a predetermined potential is supplied to the signal line, and a predetermined write scan signal is sequentially supplied to the plurality of types of scanning lines so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level. Then, electric charges are accumulated in the internal capacitor, a predetermined read scanning signal is supplied to a plurality of types of scanning lines to turn on the writing transistor, and the internal capacitance is held in the internal capacitor. It reads the amount of accumulated charge via the signal line, to the determination of the presence or absence of a defect of a pixel circuit provided in a matrix on the substrate based on the read accumulated charge amount.

そして、第6の発明による表示装置は、複数種の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続し前記複数種の走査線のうち一の走査線によって駆動される書込みトランジスタと、前記画素トランジスタと固定電位との間に接続し前記複数種の走査線のうち他の走査線によって駆動されるスイッチングトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と前記画素トランジスタ及びスイッチングトランジスタの接続端との間に接続した内部容量とを具備した画素回路を基板上にマトリクス状に備えた表示装置であって、前記複数種の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、前記信号線の電位を所定値に保つと共に、前記複数種の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、前記内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットし、前記信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、前記複数種の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して前記内部容量に電荷を蓄積し、前記複数種の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して読み出し、前記読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする欠陥検査装置を備えたものである。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a display device including a pixel transistor which is disposed at an intersection of a plurality of types of scanning lines and signal lines and which drives an electro-optical element whose luminance changes according to a data signal, and the signal lines. A write transistor connected between the pixel transistor and the pixel transistor and driven by one of the plurality of types of scanning lines, and another of the plurality of types of scanning lines connected between the pixel transistor and a fixed potential. A pixel circuit having a switching transistor driven by a scanning line, and an internal capacitor connected between a connection end of the pixel transistor and the write transistor and a connection end of the pixel transistor and the switching transistor on a substrate. A plurality of types of scanning lines are scanned in the same direction as the video display, and the potentials of the signal lines are set. While maintaining a constant value, a predetermined reset scanning signal is supplied to the plurality of types of scanning lines to simultaneously turn on the writing transistor and the switching transistor, so that the potentials at both ends of the internal capacitance are at the same level and the charge is reduced to zero. Reset and supply a write signal with a predetermined potential to the signal line, and sequentially supply a predetermined write scan signal to each of the plurality of types of scanning lines so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level. The charge stored in the internal capacitor is stored in the internal capacitor by supplying predetermined scanning signals to the plurality of types of scanning lines to simultaneously turn on the write transistor and the switching transistor. The amount is read through the signal line, and the presence or absence of a defect in the pixel circuit is determined based on the read accumulated charge amount. Recessed those having a testing device.

このような構成により、欠陥検査装置で複数種の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、信号線の電位を所定値に保つと共に、複数種の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して信号線と画素トランジスタとの間に接続した書込トランジスタ及び画素トランジスタと固定電位との間に接続したスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と画素トランジスタ及びスイッチングトランジスタの接続端との間に接続した内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットし、信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、複数種の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して上記内部容量に電荷を蓄積し、複数種の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、上記内部容量に保持されている蓄積電荷量を信号線を介して読み出し、読み出された蓄積電荷量に基づいて基板にマトリクス状に備えられた画素回路の欠陥の有無の判定をする。   With such a configuration, the defect inspection apparatus scans a plurality of types of scanning lines in the same direction as the video display, while maintaining the potential of the signal lines at a predetermined value, and a predetermined reset scanning signal is applied to the plurality of types of scanning lines. The writing transistor connected between the signal line and the pixel transistor and the switching transistor connected between the pixel transistor and the fixed potential are simultaneously turned on, and the connection end of the pixel transistor and the writing transistor, the pixel transistor and the switching are connected. The electric potential of both ends of the internal capacitor connected between the connection ends of the transistors is set to the same level to reset the charge to zero, and a write signal having a predetermined potential is supplied to the signal line. The internal capacitance is supplied by sequentially supplying the write scanning signal so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level. Charge is accumulated, a predetermined scanning signal is supplied to a plurality of types of scanning lines to simultaneously turn on the writing transistor and the switching transistor, and the amount of accumulated charge held in the internal capacitor is obtained via the signal line. Based on the read-out stored charge amount, the presence / absence of a defect in a pixel circuit provided in a matrix on the substrate is determined.

請求項1,9に係る発明によれば、複数種の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、信号線と画素トランジスタとの間に接続し複数種の走査線のうち一の走査線によって駆動される書込みトランジスタと、画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と固定電位との間に接続した内部容量とを具備した画素回路をマトリクス状に備えた表示用基板の欠陥検査を欠陥検査専用の配線を設けることなく容易に実施することができる。したがって、表示用基板が完成する前に欠陥を検出することができるので、表示用基板の製造費用を削減することができる。   According to the first and ninth aspects of the invention, the pixel transistor that drives the electro-optic element that is arranged at the intersection of the plurality of types of scanning lines and the signal line and changes the luminance according to the data signal, and the signal line A write transistor connected between the pixel transistor and the pixel transistor and driven by one of the plurality of scan lines, and an internal capacitor connected between the pixel transistor and the connection end of the write transistor and a fixed potential. The defect inspection of the display substrate having the pixel circuits arranged in a matrix can be easily performed without providing a dedicated wiring for defect inspection. Therefore, since the defect can be detected before the display substrate is completed, the manufacturing cost of the display substrate can be reduced.

また、請求項2に係る発明によれば、複数種の走査線を映像表示と同方向に走査したときには検出できない欠陥も、逆方向に走査することにより検出することができる。したがって、欠陥検査をより厳密に行なうことができる。   According to the second aspect of the present invention, defects that cannot be detected when a plurality of types of scanning lines are scanned in the same direction as the video display can be detected by scanning in the reverse direction. Therefore, the defect inspection can be performed more strictly.

さらに、請求項3に係る発明によれば、複数種の走査線を走査しながらリセット段階、書込み段階、読出し段階を実行する際に、読出し用走査信号を次の走査のリセット用走査信号として使用することができる。したがって、読出し段階と次の走査のリセット段階とを同時に実行することができ、測定時間を短縮することができる。   Furthermore, according to the invention of claim 3, when the reset stage, the write stage, and the read stage are executed while scanning a plurality of types of scanning lines, the readout scanning signal is used as a reset scanning signal for the next scan. can do. Therefore, the readout stage and the reset stage of the next scan can be performed simultaneously, and the measurement time can be shortened.

さらにまた、請求項4,10に係る発明によれば、複数種の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続し前記複数種の走査線のうち一の走査線によって駆動される書込みトランジスタと、前記画素トランジスタと固定電位との間に接続し前記複数種の走査線のうち他の走査線によって駆動されるスイッチングトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と前記画素トランジスタ及びスイッチングトランジスタの接続端との間に接続した内部容量とを具備した画素回路をマトリクス状に備えた表示用基板の欠陥検査を欠陥検査専用の配線を設けることなく容易に実施することができる。したがって、表示用基板が完成する前に欠陥を検出することができるので、表示用基板の製造費用を削減することができる。   Furthermore, according to the inventions according to claims 4 and 10, the pixel transistor that is disposed at the intersection of the plurality of types of scanning lines and the signal line and that drives the electro-optical element whose luminance changes according to the data signal, The write transistor connected between the signal line and the pixel transistor and driven by one of the plurality of types of scanning lines, and the plurality of types of scanning connected between the pixel transistor and a fixed potential. A pixel circuit including a switching transistor driven by another scanning line of the lines, and an internal capacitor connected between a connection end of the pixel transistor and the write transistor and a connection end of the pixel transistor and the switching transistor It is possible to easily carry out the defect inspection of the display substrate provided in the shape without providing a dedicated wiring for defect inspection. Therefore, since the defect can be detected before the display substrate is completed, the manufacturing cost of the display substrate can be reduced.

そして、請求項5に係る発明によれば、スイッチングトランジスタを駆動する走査線の走査信号を書込みトランジスタを駆動する走査線の走査信号とイネーブル信号とを論理演算して生成することができる。   According to the fifth aspect of the present invention, the scanning signal for the scanning line for driving the switching transistor can be generated by performing a logical operation on the scanning signal for the scanning line for driving the writing transistor and the enable signal.

また、請求項6に係る発明によれば、スイッチングトランジスタを駆動する走査線の走査信号を書込みトランジスタを駆動する走査線のn本前の走査線により生成することができる。したがって、回路構成が簡単となる。   According to the sixth aspect of the present invention, the scanning signal of the scanning line that drives the switching transistor can be generated by the scanning line n lines before the scanning line that drives the writing transistor. Therefore, the circuit configuration is simplified.

さらにまた、請求項7,12に係る発明よれば、有機エレクトロルミネッセンス表示用基板の欠陥検査を行なうことができる。   Further, according to the inventions according to claims 7 and 12, it is possible to perform a defect inspection of the organic electroluminescence display substrate.

そして、請求項8,11に係る発明によれば、欠陥の有無の判定だけでなく、不良モードも特定することができる。したがって、特定された不良モードから欠陥がリペア可能なものであれば、リペアして製造歩留を向上することができる。   According to the inventions according to claims 8 and 11, not only the determination of the presence / absence of a defect but also the failure mode can be specified. Therefore, if the defect can be repaired from the specified failure mode, it can be repaired to improve the manufacturing yield.

また、請求項13に係る発明によれば、複数種の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、信号線と画素トランジスタとの間に接続し前記複数種の走査線のうち一の走査線によって駆動される書込みトランジスタと、画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と固定電位との間に接続した内部容量とを具備した画素回路を基板上にマトリクス状に備えた表示装置に欠陥検査機能を備えることができる。   According to the thirteenth aspect of the present invention, a pixel transistor that drives an electro-optic element that is arranged at an intersection of a plurality of types of scanning lines and signal lines and whose luminance changes according to a data signal, and a signal line A write transistor connected between the pixel transistor and the pixel transistor and driven by one of the plurality of types of scan lines, and an internal capacitor connected between the connection end of the pixel transistor and the write transistor and a fixed potential. A display device provided with the pixel circuits provided in a matrix on a substrate can be provided with a defect inspection function.

さらに、請求項14に係る発明によれば、複数種の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、信号線と画素トランジスタとの間に接続し複数種の走査線のうち一の走査線によって駆動される書込みトランジスタと、画素トランジスタと固定電位との間に接続し複数種の走査線のうち他の走査線によって駆動されるスイッチングトランジスタと、画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と画素トランジスタ及びスイッチングトランジスタの接続端との間に接続した内部容量とを具備した画素回路を基板上にマトリクス状に備えた表示装置に欠陥検査機能を備えることができる。   According to the fourteenth aspect of the present invention, the pixel transistor disposed at the intersection of the plurality of types of scanning lines and the signal line and driving the electro-optical element whose luminance changes according to the data signal, and the signal line And a writing transistor connected between the pixel transistor and driven by one of the plurality of types of scanning lines, and another scanning line of the plurality of types of scanning lines connected between the pixel transistor and a fixed potential. A display device comprising a pixel circuit having a switching circuit driven by the gate electrode, a pixel circuit including a connection terminal between the pixel transistor and the writing transistor and an internal capacitor connected between the connection terminal of the pixel transistor and the switching transistor in a matrix on the substrate Can be provided with a defect inspection function.

さらにまた、請求項15に係る発明によれば、欠陥により輝度が低下してもデータ信号のレベルを上げて電気光学素子の輝度を上げることができ、欠陥を目立たなくさせることができる。   Further, according to the fifteenth aspect of the present invention, even if the luminance is lowered due to a defect, the level of the data signal can be increased to increase the luminance of the electro-optic element, and the defect can be made inconspicuous.

そして、請求項16に係る発明によれば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に欠陥検査機能を備えることができる。   According to the sixteenth aspect of the present invention, the organic electroluminescence display device can be provided with a defect inspection function.

以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明による表示用基板の欠陥検査装置の第1の実施形態を示すブロック図である。この欠陥検査装置は、走査線と信号線との交差部分に配設された画素回路にデータ信号に応じて輝度が制御される電気光学素子を形成する前の表示用基板の欠陥検査を実施可能とするもので、走査手段1と、書込み読出し手段2と、制御手段3と、電源4とを備えている。なお、以下の説明においては、表示用基板が有機EL表示用基板5である場合について述べる。   Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of a defect inspection apparatus for a display substrate according to the present invention. This defect inspection apparatus can perform a defect inspection of a display substrate before forming an electro-optic element whose luminance is controlled according to a data signal in a pixel circuit arranged at the intersection of a scanning line and a signal line The scanning means 1, the writing / reading means 2, the control means 3, and the power supply 4 are provided. In the following description, the case where the display substrate is the organic EL display substrate 5 will be described.

ここで、上記有機EL表示用基板5の画素回路6は、基板にm×nのマトリクス状に配置された多数の画素から1行分の画素を選択するための2種の走査線WS 1 ,WS 2 …WS n ,DS 1 ,DS 2 …DS n とデータ信号を供給するための信号線SG 1 ,SG 2 …SG m とが交差する部分に配設され、図2に示すように、データ信号を保持する保持容量C s 及び後述の画素トランジスタ8のバラツキを制御するためのサブ容量C sub と上記2種の走査線のうち走査線WS 1 〜WS n によって駆動されデータ信号を上記保持容量C s に保持させるN−MOS型の書込みトランジスタ7と、有機EL素子に電流を供給するN−MOS型の画素トランジスタ8と、を有して構成されている。 Here, the pixel circuit 6 of the organic EL display substrate 5 includes two types of scanning lines WS 1 , WS 1 for selecting pixels for one row from a large number of pixels arranged in a matrix of m × n on the substrate. WS 2 ... WS n , DS 1 , DS 2 ... DS n and signal lines SG 1 , SG 2 ... SG m for supplying data signals are arranged at the intersections, and as shown in FIG. A holding capacitor C s for holding a signal, a sub capacitor C sub for controlling variation of the pixel transistor 8 described later, and a data signal driven by the scanning lines WS 1 to WS n out of the two types of scanning lines. An N-MOS type write transistor 7 held at C s and an N-MOS type pixel transistor 8 for supplying a current to the organic EL element are included.

より具体的には、上記書込みトランジスタ7は、ゲートを走査線WS n に接続し、ソースを信号線SG m に接続し、ドレインを画素トランジスタ8のゲートに接続している。また、上記画素トランジスタ8は、ドレインを走査線DS n に接続しており、ソースが有機EL素子のアノードに接続されるようになっている。さらに、保持容量C s は画素トランジスタ8のゲート・ソース間に設けられ、サブ容量C sub は画素トランジスタ8のソースと走査線DS (n-1) 間に設けられている。このように上記有機EL表示用基板5の画素回路6は、上記サブ容量C sub の一端が常に所定の電位に固定されるようになっている。なお、この場合、上記走査線DS 1 〜DS n は有機EL素子に電流を流すための電源4の供給線として機能するだけでなく、欠陥検査時には上記保持容量C s 及びサブ容量C sub に蓄積された電荷の放電、及び保持容量C s 及びサブ容量C sub への電荷の書込み(蓄積)動作、並びに保持容量C s 及びサブ容量C sub に書き込まれた電荷量の読出し動作をさせる駆動信号の供給線としても機能し、走査線WS 1 〜WS n と同様にライン毎に独立している。そして、上記保持容量C s 及びサブ容量C sub が画素回路6の内部容量となる。より具体的には、保持容量C s 及びサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量が、画素回路6の内部容量となる。 More specifically, the writing transistor 7 has a gate connected to the scanning line WS n , a source connected to the signal line SG m , and a drain connected to the gate of the pixel transistor 8. Also, the pixel transistor 8 has a drain connected to the scan line DS n, so that the source is connected to the anode of the organic EL element. Further, the storage capacitor C s is provided between the gate and the source of the pixel transistor 8, and the sub capacitor C sub is provided between the source of the pixel transistor 8 and the scanning line DS (n−1) . Thus, in the pixel circuit 6 of the organic EL display substrate 5, one end of the sub-capacitor Csub is always fixed at a predetermined potential. In this case, the scanning lines DS 1 to DS n not only function as supply lines for the power source 4 for flowing current to the organic EL elements, but also accumulate in the holding capacitor C s and the sub capacitor C sub at the time of defect inspection. has been discharged electric charge, and the charge of the storage capacitor C s and the sub-capacitor C sub writing (storage) operation, and the storage capacitor C s and the sub-capacitor C sub written driving signal for the amount of charge read operation It also functions as a supply line, and is independent for each line, like the scanning lines WS 1 to WS n . The holding capacitor C s and the sub capacitor C sub are internal capacitors of the pixel circuit 6. More specifically, a combined capacitor formed by connecting a holding capacitor C s and a sub capacitor C sub in series is an internal capacitor of the pixel circuit 6.

本発明による第1の実施形態の欠陥検査装置において、上記走査手段1は、有機EL表示用基板5の2種の走査線WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n を映像表示と同方向又は逆方向に走査すると共に、走査線WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n に対して、リセット段階に所定のリセット用走査信号を供給して上記書込みトランジスタ7をオン駆動し、書込み段階に所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給し、読出し段階に所定の読出し用走査信号を供給して上記書込みトランジスタ7をオン駆動するものであり、ゲートドライバ制御回路9と、ゲートドライバIC10と、バッファ11と、複数のプローブ12とを備えている。 In the defect inspection apparatus of the first embodiment according to the present invention, the scanning means 1, two scanning lines of the organic EL display substrate 5 WS 1 ~WS n, DS 1 ~DS n image display in the same direction or In addition to scanning in the reverse direction, a predetermined reset scanning signal is supplied to the scanning lines WS 1 to WS n and DS 1 to DS n in the reset stage to drive the writing transistor 7 on, and in the writing stage Are sequentially supplied so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level, and a predetermined read scan signal is supplied in the read stage to drive the write transistor 7 on. A driver control circuit 9, a gate driver IC 10, a buffer 11, and a plurality of probes 12 are provided.

上記ゲートドライバ制御回路9は、測定対象となる走査線を選択するための制御信号、例えばクロック信号、パル幅制御信号、出力イネーブル制御信号、後述のゲートドライバIC10に備える図示省略のシフトレジスタのシフト方向制御信号等を生成してゲートドライバIC10に供給するようになっている。   The gate driver control circuit 9 is a control signal for selecting a scanning line to be measured, for example, a clock signal, a pulse width control signal, an output enable control signal, and a shift of a shift register (not shown) provided in the gate driver IC 10 described later. A direction control signal or the like is generated and supplied to the gate driver IC 10.

また、上記ゲートドライバ制御回路9の出力端には、ゲートドライバIC10が結線されている。このゲートドライバIC10は、ゲートドライバ制御回路9の制御信号によって制御されて、図3に示すように2種の走査線WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n に供給される1クロックのリセット用走査信号、2クロック分のパルス幅を有する書込み用走査信号、1クロックの読出し用走査信号を順次生成して出力するものであり、上記出力イネーブル制御信号によって制御されてリセット段階及び読出し段階には走査線DS 1 〜DS 2 にリセット用走査信号及び読出し用走査信号を出力しないように設定できるようになっている。また、上記シフト方向制御信号によって制御されて2種の走査線WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n の線順次走査を通常の映像表示を行なうときと同じ順方向(同図(a)参照)及びその逆方向(同図(b)参照)に行なわせることができるようになっている。 A gate driver IC 10 is connected to the output terminal of the gate driver control circuit 9. The gate driver IC10 is controlled by a control signal of the gate driver control circuit 9, two scan lines WS 1 to WS n as shown in FIG. 3, one clock reset supplied to DS 1 to DS n A scanning signal for writing, a writing scanning signal having a pulse width of 2 clocks, and a scanning clock for reading of 1 clock are sequentially generated and output, and controlled by the output enable control signal in the reset stage and reading stage. The scanning lines DS 1 to DS 2 can be set not to output the reset scanning signal and the readout scanning signal. Further, the shift direction control signal the two scan lines are controlled by WS 1 ~WS n, DS 1 ~DS same forward and when n line-sequential scanning of performing the normal image display (see Fig. (A) ) And in the opposite direction (see FIG. 5B).

さらに、ゲートドライバIC10の出力端には、バッファ11が結線されている。このバッファ11は、有機EL表示用基板5とゲートドライバIC10との間を中継するものであり、ゲートドライバIC10の出力電圧や出力電流に仕様との不整合が生じた場合に、電圧変換や電流の増減等を行なって仕様に合わせることができるようになっている。   Further, a buffer 11 is connected to the output terminal of the gate driver IC 10. This buffer 11 relays between the organic EL display substrate 5 and the gate driver IC 10, and when the output voltage or output current of the gate driver IC 10 is inconsistent with the specifications, voltage conversion or current It is possible to adjust to the specifications by increasing or decreasing the number.

そして、上記バッファ11の出力端には、複数のプローブ12が設けられている。この複数のプローブ12は、バッファ11から出力される上記各走査信号を有機EL表示用基板5の2種の走査線WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n に供給可能とするためのものであり、上下動し、有機EL表示用基板5の縁部に形成された2種の走査線WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n の各端子電極に対してそれぞれ接触するように2種の走査線WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n と同数備えられている。 A plurality of probes 12 are provided at the output end of the buffer 11. The plurality of probes 12 is for enabling supplying the scanning signal output from the buffer 11 two scan lines of the organic EL display substrate 5 WS 1 to WS n, the DS 1 to DS n There, it moved up and down, the organic EL display substrate 5 two scanning lines WS 1 to WS n that is formed at the edge, DS 1 to DS n two so as to contact each respective terminal electrodes of the The same number of scanning lines WS 1 to WS n and DS 1 to DS n are provided.

上記書込み読出し手段2は、リセット段階に有機EL表示用基板5の信号線SG 1 〜SG m をローレベルに保持し、書込み段階に信号線SG 1 〜SG m に対して所定電位の書込み信号Visgを供給すると共に、読出し段階に上記保持容量C s 及びサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積されている蓄積電荷量を信号線SG 1 〜SG m を介して読み出すものであり、書込み回路13と、切換スイッチ14と、読出し回路15と、複数のプローブ16と、を備えている。 The write / read means 2 holds the signal lines SG 1 to SG m of the organic EL display substrate 5 at a low level at the reset stage, and a write signal Visg having a predetermined potential with respect to the signal lines SG 1 to SG m at the write stage. And the stored charge amount stored in the combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s and the sub-capacitor C sub in series at the reading stage is read via the signal lines SG 1 to SG m , A writing circuit 13, a changeover switch 14, a reading circuit 15, and a plurality of probes 16 are provided.

上記書込み回路13は、後述の制御手段3から供給される矩形波状の書込み信号を所定レベルまで増幅するものであり、電圧増幅回路である。   The write circuit 13 amplifies a rectangular wave-like write signal supplied from the control means 3 described later to a predetermined level, and is a voltage amplification circuit.

上記書込み回路13の出力端には、切換スイッチ14が設けられている。この切換スイッチ14は、上記保持容量C s 及びサブ容量C sub に対する電荷の書込み及び該書き込まれた電荷量の読出し動作を切り換えるスイッチであり、制御手段3によって制御されて動作するようになっている。そして、この切換スイッチ14は、書込み段階には有機EL表示用基板5の信号線SG 1 〜SG m と書込み回路13とを接続させ、読出し段階には信号線SG 1 〜SG m と後述の読出し回路15とを接続させる第1のスイッチ17と、リセット段階には信号線SG 1 〜SG m を接地させ、書込み及び読出し段階には信号線SG 1 〜SG m と書込み回路13及び読出し回路15と接続させる第2のスイッチ18とを有している。 A changeover switch 14 is provided at the output end of the writing circuit 13. The change-over switch 14 is a switch for switching between the charge writing to the holding capacitor C s and the sub-capacitor C sub and the reading operation of the written charge amount, and is controlled by the control means 3 to operate. . The change-over switch 14 connects the signal lines SG 1 to SG m of the organic EL display substrate 5 and the writing circuit 13 in the writing stage, and the signal lines SG 1 to SG m and reading to be described later in the reading stage. a first switch 17 for connecting the circuit 15, to ground the signal line SG 1 to SG m is the reset phase, the write and read out the signal line SG 1 to SG m and the write circuit 13 and read circuit 15 And a second switch 18 to be connected.

上記切換スイッチ14には、読出し回路15が結線されている。この読出し回路15は、上記保持容量C s 及びサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に保持されている蓄積電荷量を信号線SG 1 〜SG m を介して読み出すものであり、積分回路19と、A/D変換器20とを有している。 A read circuit 15 is connected to the changeover switch 14. The readout circuit 15 reads out the stored charge amount held in the composite capacitor formed by connecting the storage capacitor C s and the sub-capacitor C sub in series via the signal lines SG 1 to SG m. 19 and an A / D converter 20.

ここで、上記積分回路19は、読出し段階に上記信号線SG 1 〜SG m を介して入力する電位の変化を積分して、保持容量C s 及びサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積されている電荷の総量を検出するものである。また、A/D変換器20は、上記積分回路19の出力電圧をA/D変換して後述の制御手段3において画素回路6の欠陥の有無の判定及び不良モードの特定ができるようにするためのものである。 Here, the integrating circuit 19 integrates the change of the potential input via the signal lines SG 1 to SG m in the reading stage, and the combined capacitance formed by connecting the holding capacitor C s and the sub capacitor C sub in series. The total amount of electric charge accumulated in is detected. Further, the A / D converter 20 performs A / D conversion on the output voltage of the integration circuit 19 so that the control means 3 described later can determine the presence or absence of a defect in the pixel circuit 6 and specify the failure mode. belongs to.

上記切換スイッチ14には、複数のプローブ16が結線されている。この複数のプローブ16は、書込み回路13から出力される書込み信号Vsigを有機EL表示用基板5の信号線SG 1 〜SG m に供給可能とするためのものであり、上下動し、有機EL表示用基板5の縁部に形成された信号線SG 1 〜SG m の各端子電極にそれぞれ接触するように信号線SG 1 〜SG m と同数備えられている。 A plurality of probes 16 are connected to the changeover switch 14. The plurality of probes 16 are for allowing the write signal Vsig output from the write circuit 13 to be supplied to the signal lines SG 1 to SG m of the organic EL display substrate 5 and move up and down to display the organic EL display. The same number as the signal lines SG 1 to SG m is provided so as to be in contact with the terminal electrodes of the signal lines SG 1 to SG m formed at the edge of the substrate 5.

上記走査手段1及び書込み読出し手段2には、制御手段3が結線されている。この制御手段3は、走査手段1による各種走査信号の供給を制御し、書込み読出し手段2による書込み信号の供給及び該書込み読出し手段2の書込み動作及び読出し動作を制御すると共に、書込み読出し手段2で読み出された蓄積電荷量に基づいて画素回路6の欠陥の有無の判定及び不良モードの特定をするものであり、例えばパーソナルコンピュータである。   A control means 3 is connected to the scanning means 1 and the writing / reading means 2. This control means 3 controls the supply of various scanning signals by the scanning means 1, controls the supply of write signals by the writing / reading means 2, and the writing and reading operations of the writing / reading means 2. For example, a personal computer is used to determine the presence / absence of a defect in the pixel circuit 6 and specify a failure mode based on the read accumulated charge amount.

具体的には、制御手段3は、走査手段1に対してリセット段階に走査線WS 1 〜WS n に1クロックのリセット用走査信号を供給させると共に走査線DS 1 〜DS n をローレベルに保持させ、書込み段階に2種の走査線WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n に2クロック分のパルス幅を有する書込み用走査信号を各パルスの1クロック分が互いに重なるようにタイムシフトして順次供給させ、読出し段階に走査線WS 1 〜WS n に1クロックのリセット用走査信号を供給させると共に走査線DS 1 〜DS n をローレベルに保持させるように制御する。 Specifically, the control unit 3 causes the scanning unit 1 to supply a scanning signal for resetting one clock to the scanning lines WS 1 to WS n at the reset stage and hold the scanning lines DS 1 to DS n at a low level. is, by the time shift as two scan lines WS 1 to WS n to the write step, DS 1 to DS n to one clock of each pulse of the write scan signal having a pulse width of two clocks overlap each other Control is performed so that the scanning lines WS 1 to WS n are supplied with a reset scanning signal of one clock and the scanning lines DS 1 to DS n are held at a low level while being sequentially supplied.

また、制御手段3は、書込み読出し手段2に対しては、リセット段階に切換スイッチ14を駆動して信号線SG 1 〜SG m をローレベルに保持させ、書込み段階に書込み回路13に書込み信号を供給すると共に切換スイッチ14を切換操作して信号線SG 1 〜SG m に書込み信号を供給させ、読出し段階に切換スイッチ14を切換操作して表示用基板5の保持容量C s 及びサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積された電荷量を読み出させるように制御する。 Further, the control means 3 drives the changeover switch 14 at the reset stage to hold the signal lines SG 1 to SG m at the low level, and sends a write signal to the write circuit 13 at the write stage. At the same time, the switching switch 14 is switched to supply a write signal to the signal lines SG 1 to SG m , and the switching switch 14 is switched to the reading stage to switch the holding capacitor C s and subcapacitance C sub of the display substrate 5. Are controlled so as to read out the amount of electric charge accumulated in the combined capacitor formed by serial connection .

そして、制御手段3は、上記読み出された蓄積電荷量を書込み読出し手段2から入力し、該蓄積容量と、図示省略の記憶部に予め作成して記憶されている無欠陥及び各種不良モードとそれらに対応する蓄積電荷量とを関係付けたルックアップテーブル(以下「LUT」という)の蓄積電荷量とを比較して欠陥の有無の判定及び不良モードの特定をすると共に、欠陥の発生した画素回路6のアドレス情報を例えば記憶媒体等に記憶する。   Then, the control means 3 inputs the read accumulated charge amount from the writing / reading means 2, and the accumulation capacity and the defect-free and various failure modes previously created and stored in a storage unit (not shown). Compared with the stored charge amount of a lookup table (hereinafter referred to as “LUT”) that correlates with the corresponding stored charge amount, the presence / absence of a defect is determined and the defective mode is specified, and the defective pixel is also detected. The address information of the circuit 6 is stored in, for example, a storage medium.

上記走査手段1及び書込み読出し手段2には、電源4が結線されている。この電源4は、走査手段1及び書込み読出し手段2に駆動電圧を供給する供給源となるものである。なお、上記制御手段3から上記走査手段1及び書込み読出し手段2に対して駆動電圧が供給可能であるときには、上記電源4は無くてもよい。   A power supply 4 is connected to the scanning means 1 and the writing / reading means 2. The power source 4 serves as a supply source for supplying a driving voltage to the scanning unit 1 and the writing / reading unit 2. When the drive voltage can be supplied from the control unit 3 to the scanning unit 1 and the writing / reading unit 2, the power source 4 may be omitted.

次に、このように構成された第1の実施形態の欠陥検査装置を使用して行なう欠陥検査方法を図4のフローチャートを参照して説明する。
先ず、測定対象の有機EL表示用基板5が所定位置に設置され、該有機EL表示用基板5の走査線WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n の端子電極に走査手段1の複数のプローブ12が取り付けられ、有機EL表示用基板5の信号線SG 1 〜SG n の端子電極に書込み読出し手段2の複数のプローブ16が取り付けられる。
Next, a defect inspection method performed using the defect inspection apparatus according to the first embodiment configured as described above will be described with reference to the flowchart of FIG.
First, an organic EL display substrate 5 to be measured is installed at a predetermined position, the scan line of the organic EL display substrate 5 WS 1 ~WS n, DS 1 ~DS n multiple probes of the scanning means 1 to the terminal electrode of the 12 is attached, and a plurality of probes 16 of the writing / reading means 2 are attached to the terminal electrodes of the signal lines SG 1 to SG n of the organic EL display substrate 5.

次に、電源4が投入されて、欠陥検査が開始される。
先ず、ステップS1においては、制御手段3であるパーソナルコンピュータを操作して、欠陥を検査するために有機EL表示用基板5の線順次走査方向が選択される。この場合、通常の映像表示を行なうときと同じ順方向の一方向走査と、順方向及びその逆方向の双方向走査のいずれかを選択することができる。ただし、いずれの場合にもステップS1においては、先ず、順方向走査が選択されて欠陥検査が実行される。なお、後述するように、順方向走査のみでは、検出できない不良モードがあるため、不良検出をより厳密に行なうためには双方向走査が選択される。
Next, the power supply 4 is turned on and defect inspection is started.
First, in step S1, the line sequential scanning direction of the organic EL display substrate 5 is selected in order to inspect defects by operating a personal computer which is the control means 3. In this case, it is possible to select one of the same one-way scanning in the forward direction as in normal video display and two-way scanning in the forward direction and the opposite direction. However, in any case, in step S1, first, forward scanning is selected and defect inspection is performed. As will be described later, since there is a failure mode that cannot be detected only by forward scanning, bi-directional scanning is selected to perform failure detection more strictly.

ステップS2においては、リセット段階が実行される。このリセット段階においては、制御手段3によって書込み読出し手段2の切換スイッチ14が駆動制御されて第2のスイッチ18が接地側18aに切り換えられ、信号線SG 1 〜SG n が接地される。また、制御手段3から線順次走査を順方向に行わせる指令が走査手段1に出力される。この指令を受けると、走査手段1からは、1クロックのリセット用走査信号が、例えば図3(a)に示すように、走査線DS (n-1) ,走査線WS n ,走査線DS n に対してそれぞれ1クロック分タイムシフトして供給され、表示用基板5の走査線の全ラインが順方向に走査される。このようにして、全画素回路6の保持容量C s 及びサブ容量C sub の両端がローレベルに固定されてリセットされる。 In step S2, a reset stage is executed. In this reset phase, the second switch 18 by the control means 3 changeover switch 14 of the writing reading means 2 is controlled drive is switched to the ground side 18a, the signal line SG 1 to SG n are grounded. In addition, a command to perform line sequential scanning in the forward direction is output from the control unit 3 to the scanning unit 1. When this command is received, a scanning signal for reset of one clock is sent from the scanning means 1 as shown in FIG. 3A, for example, scanning line DS (n-1) , scanning line WS n , scanning line DS n. Are supplied with a time shift of one clock, and all the scanning lines of the display substrate 5 are scanned in the forward direction. In this way, both ends of the holding capacitor C s and the sub capacitor C sub of all the pixel circuits 6 are fixed at the low level and reset.

なお、以下の説明においては、リセット段階及び後述の読出し段階には、図3に斜線を付して示しているように、走査手段1のゲートドライバIC10が有するイネーブル機能により、走査線DS 1 〜DS n の信号がゼロとされ、この走査線DS 1 〜DS n の電位がローレベルに保たれる場合について述べる。 In the following description, at the reset stage and the readout stage described later, as shown by hatching in FIG. 3, the enable function of the gate driver IC 10 of the scanning means 1 causes the scanning lines DS 1 to signal DS n is zero, description will be given of a case where the potential of the scanning line DS 1 to DS n is kept at a low level.

この場合、図5に示す期間Iにおいては、同図(a)に示すように、走査線DS (n-1) ,DS n の電位はローレベルに保持され、走査線WS n には1クロックのリセット用走査信号が供給される。これにより、図2に示す画素回路6の端子Cの電位はローレベルに固定される。また、図2に示す書込みトランジスタ7は、そのゲートに走査線WS n を通じて1クロックのリセット用信号が供給されてオンする。このとき、上述したように信号線SG 1 〜SG m は接地されているため書込みトランジスタ7のソースの電位はローレベルである。したがって、書込みトランジスタ7のドレイン、即ち端子Aの電位はローレベルに固定される(図5(b)参照)。これにより、画素回路6の保持容量C s 及びサブ容量C sub の両端の電位がローレベルに固定されてリセットが完了する。このとき、端子Bの電位は、容量結合により略ローレベルとなる。 In this case, in the period I shown in FIG. 5, as shown in FIG. 5A, the potentials of the scanning lines DS (n−1) and DS n are held at the low level, and one clock is supplied to the scanning line WS n. The reset scanning signal is supplied. As a result, the potential of the terminal C of the pixel circuit 6 shown in FIG. 2 is fixed at a low level. The write transistor 7 shown in FIG. 2, one clock of the reset signal is turned on is supplied through its gate to the scanning line WS n. At this time, since the signal lines SG 1 to SG m are grounded as described above, the potential of the source of the write transistor 7 is at a low level. Therefore, the drain of the write transistor 7, that is, the potential of the terminal A is fixed at a low level (see FIG. 5B). As a result, the potentials at both ends of the holding capacitor C s and the sub capacitor C sub of the pixel circuit 6 are fixed to the low level, and the reset is completed. At this time, the potential of the terminal B becomes substantially low level due to capacitive coupling.

ステップS2のリセット段階が終了すると、ステップS3に進む。
ステップS3においては、書込み段階が実行される。この書込み段階においては、図1に示すように、制御手段3によって書込み読出し手段2の切換スイッチ14が駆動制御されて、第1のスイッチ17が書込み側17aに切り換えられ、同時に第2のスイッチ18が書込み読出し側18bに切り換えられる。そして、制御手段3から書込み読出し手段2に供給された書込み信号が書込み読出し手段2の書込み回路13によって所定レベルまで増幅されて信号線SG 1 〜SG m に供給される。また、2種の走査線WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n には、制御手段3により制御されて走査手段1から所定のパルス幅を有する書込み用走査信号が順次供給され、有機EL表示用基板5の走査線の全ラインが順方向に走査され、全画素回路6の保持容量C s 及びサブ容量C sub に電荷が蓄積される。
When the reset phase of step S2 ends, the process proceeds to step S3.
In step S3, the writing stage is executed. In this writing stage, as shown in FIG. 1, the control means 3 drives and controls the changeover switch 14 of the writing / reading means 2 so that the first switch 17 is switched to the writing side 17a and at the same time the second switch 18 is switched. Is switched to the writing / reading side 18b. The write signal supplied from the control means 3 to the write / read means 2 is amplified to a predetermined level by the write circuit 13 of the write / read means 2 and supplied to the signal lines SG 1 to SG m . In addition, a scanning signal for writing having a predetermined pulse width is sequentially supplied from the scanning unit 1 to the two types of scanning lines WS 1 to WS n and DS 1 to DS n to control the organic EL display. All the scanning lines of the substrate 5 are scanned in the forward direction, and charges are accumulated in the holding capacitors C s and sub capacitors C sub of all the pixel circuits 6.

具体的には、この書込み段階に走査手段1から出力される書込み用走査信号は、例えば図3(a)に示すように、2クロック分のパルス幅を有する信号であり、走査線DS (n-1) ,走査線WS n ,走査線DS n に対してそれぞれ1クロック分が互いに重なるようにタイムシフトして順次供給される。 Specifically, the writing scanning signal output from the scanning unit 1 in this writing stage is a signal having a pulse width of two clocks as shown in FIG. 3A, for example, and the scanning line DS (n -1) are sequentially supplied to the scanning lines WS n and the scanning lines DS n while being time-shifted so that one clock overlaps each other.

ここで、図5に示す書込み段階の期間IIにおいては、同図(a)に示すように信号線SG m を介して書込みトランジスタ7のドレインに電位Vsigの書込み信号が供給され、走査線WS n 及び走査線DS (n-1) ,DS n の電位がローレベルにされている。したがって、有機EL表示用基板5の画素回路6に欠陥がない場合には、書込みトランジスタ7はオフしており、端子A〜Cの電位はリセット段階の電位が保たれ、いずれもローレベルとなる。 Here, in the period II of the write stage shown in FIG. 5, the write signal potential Vsig to the drain of the write transistor 7 through the signal line SG m as shown in the diagram (a) is supplied, the scan line WS n and scanning lines DS (n-1), the potential of the DS n is the low level. Therefore, when there is no defect in the pixel circuit 6 of the organic EL display substrate 5, the write transistor 7 is turned off, and the potentials of the terminals A to C are maintained at the reset stage, and all are at a low level. .

次に、期間IIIにおいては、図5(a)に示すように走査線DS (n-1) の電位がハイレベルとなるため図2に示すサブ容量C sub の端子Cに走査線DS (n-1) を通じて電源電圧Vccが印加される。これにより、同図(b)に示すように端子Cの電位は、Vccまで上昇する。このとき、同図(b)に示すように、走査線WS n の電位はローレベルであるため書込みトランジスタ7及び画素トランジスタ8はオフしており、端子A及び端子Bは浮いた状態となっている。したがって、端子A及び端子Bの電位は、保持容量C s 及びサブ容量C sub の容量結合により端子Cの電位に引っ張られて所定レベルまで上昇する。この場合、端子Aの電位が上昇すると画素トランジスタ8がオンされ、端子Bの電位は、走査線DS n のローレベルの電位に引かれて降下する。それに伴って、端子Aの電位も降下する。ここで、端子Aの電位が画素トランジスタ8のオン/オフの閾値電位を越えて降下すると、画素トランジスタ8がオフし、端子Aの電位は上昇しようとする。同時に端子Bの電位も上昇しようとする。これにより、画素トランジスタ8が再びオンして端子A,Bの電位が降下する。このような動作が繰り返されることにより、端子A,Bの電位は、画素トランジスタ8の閾値電位付近に停滞する。 Then, in the period III, 5 scan lines to the terminal C of the sub-capacitance C sub shown in Figure 2 the potential becomes high level of the scanning lines DS (n-1) as shown in (a) DS (n The power supply voltage Vcc is applied through -1) . As a result, the potential at the terminal C rises to Vcc as shown in FIG. At this time, as shown in FIG. (B), the write transistor 7 and the pixel transistor 8 for the potential of the scanning line WS n is at a low level is off, the terminal A and terminal B becomes floating state Yes. Therefore, the potentials of the terminal A and the terminal B are pulled to the potential of the terminal C by the capacitive coupling of the storage capacitor C s and the sub capacitor C sub and rise to a predetermined level. In this case, the pixel transistor 8 when the potential of the terminal A is raised is turned on, the potential of the terminal B drops are drawn to the low level of the potential of the scan line DS n. Along with this, the potential at the terminal A also drops. Here, when the potential of the terminal A drops below the on / off threshold potential of the pixel transistor 8, the pixel transistor 8 is turned off and the potential of the terminal A tends to rise. At the same time, the potential at the terminal B is going to rise. As a result, the pixel transistor 8 is turned on again, and the potentials of the terminals A and B drop. By repeating such an operation, the potentials of the terminals A and B stagnate in the vicinity of the threshold potential of the pixel transistor 8.

また、期間IVにおいては、図5(a)に示すように走査線DS (n-1) の電位がハイレベルであるため、端子Cの電位はVccが維持される(同図(b)参照)。また、走査線WS n の電位がハイレベルとなるため書込みトランジスタ7がオンし、書込み信号が信号線SG 1 〜SG m を介して端子Aに供給され、同図(b)示すように端子Aの電位がVsigまで上昇する。これにより、画素トランジスタ8がオンする。このとき、同図(a)に示すように、走査線DS n の電位はローレベルであるため、画素トランジスタ8のドレインの電位はローレベルとなっており、画素トランジスタ8のオン動作と共に端子Bの電位はローレベルまで降下する(同図(b)参照)。 In the period IV, the potential of the scanning line DS (n-1) is at a high level as shown in FIG. 5A, so that the potential of the terminal C is maintained at Vcc (see FIG. 5B). ). Further, since the potential of the scanning line WS n becomes high level, the write transistor 7 is turned on, and the write signal is supplied to the terminal A via the signal lines SG 1 to SG m, and as shown in FIG. Increases to Vsig. Thereby, the pixel transistor 8 is turned on. At this time, as shown in FIG. 6 (a), the potential of the scan line DS n is at a low level, the potential of the drain of the pixel transistor 8 is at the low level and the terminal B with the ON operation of the pixel transistor 8 The potential drops to a low level (see (b) in the figure).

さらに、期間Vにおいては、図5(a)に示すように走査線DS (n-1) の電位がローレベルとなるため、端子Cの電位はローレベルまで降下する(同図(b)参照)。また、走査線WS n の電位はハイレベルのままであるため書込みトランジスタ7のオン状態は維持され、端子Aの電位はVsigがそのまま維持される(同図(b)参照)。したがって、画素トランジスタ8はオン状態のままである。このとき、走査線DS n の電位がハイレベルに変化するので、画素トランジスタ8のドレインにはVccの電位が印加され、端子Bの電位は所定値まで上昇する(同図(b)参照)。 Further, in the period V, since the potential of the scanning line DS (n−1) is at a low level as shown in FIG. 5A, the potential of the terminal C drops to the low level (see FIG. 5B). ). The potential of the scanning line WS n on state of the write transistor 7 in which for remains high is maintained, the potential of the terminal A is Vsig is maintained (see FIG. (B)). Accordingly, the pixel transistor 8 remains on. At this time, since the potential of the scan line DS n is changed to the high level, the drain of the pixel transistor 8 is the potential of Vcc is applied, the potential of the terminal B rises to the predetermined value (see FIG. (B)).

また、期間VIにおいては、図5(a)に示すように走査線DS (n-1) の電位はローレベルであるため、端子Cの電位はローレベルのままである(同図(b)参照)。また、走査線WS n の電位はローレベルに変化するため書込みトランジスタ7がオフし、端子Aは浮いた状態となる。これにより、端子Aの電位はVsigが維持される(同図(b)参照)。したがって、画素トランジスタ8はオン状態のままとなる。このとき、走査線DS n の電位はハイレベルの状態が維持されているので、画素トランジスタ8のドレイン電位はVccのままであり、端子Bの電位は上記所定値が維持される(同図(b)参照)。 Further, in the period VI, as shown in FIG. 5A, the potential of the scanning line DS (n−1) is at the low level, so the potential of the terminal C remains at the low level (FIG. 5B). reference). The potential of the scanning line WS n is writing transistor 7 is turned off to change to the low level, the state terminal A of floating. As a result, the potential of the terminal A is maintained at Vsig (see FIG. 5B). Accordingly, the pixel transistor 8 remains on. At this time, since the potential of the scan line DS n has the high level is maintained, the drain potential of the pixel transistor 8 remains Vcc, the potential of the terminal B is the predetermined value is maintained (Fig. ( b)).

そして、期間VIIにおいては、図5(a)に示すように、走査線DS (n-1) ,走査線WS n 、走査線DS n の全ての電位がローレベルとなる。これにより、画素トランジスタ8のドレイン電位がローレベルとなるため、端子Bの電位がローレベルに向かって降下しようとする。ここで、書込みトランジスタ7はオフしているため、端子Aは浮いた状態にあり、端子Aの電位は、期間VIにおける端子AB間の電位差を維持したまま、容量結合により端子Bの電位の降下に伴って降下する(同図(b)参照)。この場合、上記端子AB間の電位差が画素トランジスタ8のオン状態を保つのに十分であれば、端子Bの電位は走査線DS n のローレベルまで降下して停止する。したがって、保持容量C s 及びサブ容量C sub に蓄積(書込み)される各電荷量QCs,QCsubは、各端子A,B,Cに最終的に保持される電位VA,VB,VCにより、QCs= Cs(VA-VB)及びQCsub= Csub(VB-VC)となる。 In the period VII, as shown in FIG. 5A, all potentials of the scanning line DS (n−1) , the scanning line WS n , and the scanning line DS n are at a low level. Thereby, since the drain potential of the pixel transistor 8 becomes low level, the potential of the terminal B tends to drop toward the low level. Here, since the writing transistor 7 is off, the terminal A is in a floating state, and the potential of the terminal A is lowered by the capacitive coupling while maintaining the potential difference between the terminals AB in the period VI. (See (b) of the same figure). In this case, the potential difference between the terminals AB is equal sufficient to maintain the ON state of the pixel transistor 8, the potential of the terminal B stops by drops to the low level of the scan line DS n. Accordingly, the charge amounts QCs and QCsub stored (written) in the holding capacitor C s and the sub capacitor C sub are determined by the potentials VA, VB, and VC finally held in the terminals A, B, and C, respectively. Cs (VA-VB) and QCsub = Csub (VB-VC).

例えば、走査線WS n により供給される信号の電位をハイレベルが25V、ローレベルが0V、走査線DS (n-1) 及びDS n により供給される信号の電位のハイレベルが25V、ローレベルが0V、信号線SG m により供給される信号の電位をハイレベルが10V、ローレベルが0Vとして、各端子A,B,Cに最終的に保持される電位をシミュレーションすると、VA=5V、VB=8V、VC=0Vとなる。したがって、画素回路6が無欠陥の場合、順方向走査により、保持容量C s 及びサブ容量C sub に蓄積される電荷量は、QCs=Cs(VA-VB)=-3Cs、QCsub =Csub(VB-VC)=8Csubである。こうして、書込み段階が終了すると、ステップS4に進む。 For example, the scanning line WS n 25V potential and high level of the signal supplied by the low level 0V, the scanning lines DS (n-1) and DS n high level 25V potential of the signal supplied by the low level There 0V, the signal line SG m 10V potential and high level of the signal supplied by, the low level is 0V, the terminals a, B, When simulating a potential that is ultimately held in C, VA = 5V, VB = 8V, VC = 0V. Therefore, when the pixel circuit 6 is defect-free, the amount of charge accumulated in the storage capacitor C s and the sub capacitor C sub by forward scanning is QCs = Cs (VA−VB) = − 3Cs, QCsub = Csub (VB -VC) = 8Csub. Thus, when the writing stage is completed, the process proceeds to step S4.

ステップS4においては、読出し段階が実行される。この読出し段階においては、図1に示すように、制御手段3によって書込み読出し手段2の切換スイッチ14が駆動制御されて、第1のスイッチ17が読出し側17bに切り換えられ、第2のスイッチ18の書込み読出し状態は維持される。また、図3(a)に示すように、走査手段1のゲートドライバIC10が有するイネーブル機能により走査線DS (n-1) ,DS n への走査手段1からの信号出力がゼロとされ、図5に示すVIII期間に走査線WS n に対してのみ1クロックの読出し用走査信号が供給される。そして、有機EL表示用基板5の走査線の全ラインが順方向に走査され、全画素回路6の各保持容量C s 及びサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積された電量が信号線SG m を介して読み出されて、制御手段3の図示省略の記憶部に保存される。 In step S4, a read stage is performed. In this reading stage, as shown in FIG. 1, the changeover switch 14 of the writing / reading means 2 is driven and controlled by the control means 3, the first switch 17 is switched to the reading side 17b, and the second switch 18 The write / read state is maintained. Further, as shown in FIG. 3A, the signal output from the scanning unit 1 to the scanning lines DS (n−1) and DS n is made zero by the enable function of the gate driver IC 10 of the scanning unit 1. 5 only one clock read scanning signal to the scanning lines WS n to VIII period shown in is supplied. Then, all the lines of the scanning lines of the organic EL display substrate 5 is scanned in the forward direction, load electropneumatic each of the storage capacitor C s and the sub-capacitance C sub is accumulated in synthesized capacitances formed by connecting in series the total pixel circuits 6 The quantity is read out via the signal line SG m and stored in a storage unit (not shown) of the control means 3.

有機EL表示用基板5の画素回路6に欠陥が無い場合は、読み出される蓄積電荷量は、保持容量C s とサブ容量C sub とが直列接続されて成る合成容量が蓄積する電荷量であり、その値は、保持容量C s が保持する電荷Cs(VA-VB)の値とサブ容量C sub が保持する電荷Csub(VB-VC)の値に依存して定まる(図26参照)。 When there is no defect in the pixel circuit 6 of the organic EL display substrate 5, the read charge amount is the charge amount that is stored in the combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s and the sub capacitor C sub in series. The value is determined depending on the value of the charge Cs (VA−VB) held by the holding capacitor C s and the value of the charge Csub (VB−VC) held by the sub capacitor C sub (see FIG. 26).

ステップS5においては、欠陥検査のための走査方向が順方向の一方向走査のみか否かが判定される。この場合、検査開始時にパーソナルコンピュータを操作して一方向走査のみが選択されていたときには、“YES”判定となってステップS6に進む。   In step S5, it is determined whether the scanning direction for defect inspection is only one-way scanning in the forward direction. In this case, when only one-way scanning is selected by operating the personal computer at the start of the inspection, the determination is “YES” and the process proceeds to step S6.

ステップS6においては、読み出された全画素回路6の各保持容量C s 及びサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量の蓄積電荷量が制御手段3の記憶部に予め記憶された例えば図26に示すLUTと比較される。 In step S6, the stored charge amount of the composite capacitor formed by connecting the read storage capacitors C s and sub capacitors C sub of all the pixel circuits 6 in series is stored in advance in the storage unit of the control means 3, for example, FIG. 26 is compared with the LUT shown in FIG.

そして、ステップS7においては、制御手段3で画素回路6に欠陥があるか否が判定される。この場合、読み出された蓄積電荷量がLUTにおける「無欠陥」の蓄積電荷量、例えば、電荷-3Csを保持した保持容量C s と電荷8Csubを保持したサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量と所定の許容値内で一致したときには、画素回路6に欠陥がなく、“NO”判定となって表示用基板5の欠陥検査は終了する。 In step S7, the control unit 3 determines whether the pixel circuit 6 is defective. In this case, the read accumulated charge amount is a “defect-free” accumulated charge amount in the LUT, for example , a storage capacitor C s holding charge −3 Cs and a sub-capacitor C sub holding charge 8 Csub are connected in series. When the amount of charge accumulated in the combined capacitance matches within a predetermined allowable value, the pixel circuit 6 has no defect, and “NO” determination is made, and the defect inspection of the display substrate 5 is completed.

一方、ステップS7において、読み出された蓄積電荷量がLUTの「無欠陥」の値と所定の許容値内で一致しなかったときには、画素回路6に欠陥が存在することを意味し、この場合は“YES”判定となってステップS8に進む。   On the other hand, if the read accumulated charge amount does not coincide with the “no defect” value of the LUT within a predetermined allowable value in step S7, it means that the pixel circuit 6 has a defect. "YES" determination, the process proceeds to step S8.

ステップS8においては、不良モードの解析が行なわれる。この解析は、読み出された蓄積電荷量と、LUTにおける各種不良モードを示す全蓄積電荷量とを比較することによって行なわれる。   In step S8, failure mode analysis is performed. This analysis is performed by comparing the read accumulated charge amount with the total accumulated charge amount indicating various failure modes in the LUT.

ステップS9においては、不良モードの特定が行なわれる。ここでは、ステップS8における不良モードの解析結果に基づいて、蓄積電荷量が所定の許容値内で一致した不良モードを、欠陥が検出された画素回路6の不良モードとして特定する。そして、欠陥が検出された各画素回路6のアドレス情報と不良モードとが例えば記憶媒体等に保存され、検査が終了する。   In step S9, the failure mode is specified. Here, based on the analysis result of the failure mode in step S8, the failure mode in which the accumulated charge amount matches within a predetermined allowable value is specified as the failure mode of the pixel circuit 6 in which the defect is detected. Then, the address information and the failure mode of each pixel circuit 6 in which a defect is detected are stored in, for example, a storage medium, and the inspection ends.

一方、欠陥検査の線順次走査方向として、双方向走査が選択されている場合には、ステップS5は、“NO”判定となってステップS10に進む。
ステップS10においては、制御手段3から逆方向走査指令が走査手段1に出力され、逆方向走査が選択される。そして、図3(b)に示すように、上記ステップS2〜S4と同様の各走査信号が2種類の走査線DS 1 〜DS n 及び走査線WS 1 〜WS n に対して逆方向に供給され、ステップS11のリセット段階、ステップS12の書込み段階及びステップS13の読み出し段階が実行される。
On the other hand, if bi-directional scanning is selected as the line sequential scanning direction for defect inspection, step S5 is “NO” and the process proceeds to step S10.
In step S10, a reverse scanning command is output from the control means 3 to the scanning means 1, and reverse scanning is selected. Then, as shown in FIG. 3 (b), the scanning signals similar to the step S2~S4 is supplied in the opposite direction to the two scanning lines DS 1 to DS n and the scan line WS 1 to WS n The reset stage in step S11, the write stage in step S12, and the read stage in step S13 are executed.

ここで、ステップS11のリセット段階においては、図6(a)に示すように、走査線DS n ,DS (n-1) の電位がローレベルに保持され、走査線WS n に1クロックのリセット用走査信号が供給される。これにより、端子Cの電位はローレベルに固定される。一方、図2に示す書込みトランジスタ7のゲートには走査線WS n を通じて1クロックのリセット用信号が供給されて書込みトランジスタ7がオンする。このとき、リセット段階においては、信号線SG 1 〜SG m は接地されているため書込みトランジスタ7のソースの電位はローレベルである(図6(b)参照)。したがって、書込みトランジスタ7のドレイン、即ち端子Aの電位はローレベルに固定される。これにより、画素回路6の保持容量C s 及びサブ容量C sub の両端の電位がローレベルに固定されてリセットが完了する。 Here, in the reset phase of the step S11, as shown in FIG. 6 (a), the scanning line DS n, the potential of the DS (n-1) is held at a low level, one clock reset to the scan line WS n A scanning signal is supplied. Thereby, the potential of the terminal C is fixed at a low level. On the other hand, the write transistor 7 to the gate is supplied with one clock of the reset signal through the scanning line WS n of the write transistor 7 shown in FIG. 2 is turned on. At this time, since the signal lines SG 1 to SG m are grounded at the reset stage, the potential of the source of the write transistor 7 is at a low level (see FIG. 6B). Therefore, the drain of the write transistor 7, that is, the potential of the terminal A is fixed at a low level. As a result, the potentials at both ends of the holding capacitor C s and the sub capacitor C sub of the pixel circuit 6 are fixed to the low level, and the reset is completed.

ステップS12の書込み段階においては、端子A〜Cの電位は、図6(b)に示すように変化する。そして、例えば上記順方向走査の場合と同じ条件でシミュレーションし、各端子A〜Cに最終的に保持される電位を求めると、端子Aが14V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、保持容量C s に書き込まれる電荷QCsは14Csとなり、サブ容量C sub の電荷QCsubは0となる。 In the writing stage of step S12, the potentials of the terminals A to C change as shown in FIG. For example, when simulation is performed under the same conditions as in the case of the forward scanning and the potentials finally held in the terminals A to C are obtained, the terminal A is 14V, the terminal B is 0V, and the terminal C is 0V. The charge QCs written to the storage capacitor C s is 14 Cs, and the charge QC sub of the sub capacitor C sub is 0.

したがって、ステップS13の読出し段階で読み出される蓄積電荷量は、電荷14Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となり、順方向走査において、無欠陥時に読み出される蓄積電荷量と異なったものとなる(図26参照)。 Therefore, accumulated charge amount to be read out by the read out in step S13, the charge amount becomes the sub-capacitance C sub of the storage capacitor C s and charge 0 holding a charge 14Cs is accumulated in synthesized capacitances formed by connecting in series, a forward direction In scanning, the accumulated charge amount is read out when there is no defect (see FIG. 26).

以下、前述と同様にしてステップS6〜S9が実行され、欠陥の有無の判定及び欠陥がある場合には、その不良モードの解析及び不良モードの特定がなされる。そして、特定された不良モードがリペア可能なものであるときには、リペア工程に回され不良箇所をリペアした後に、上記ステップS1〜S9が再度実行される。これにより、表示用基板5の製造歩留が改善される。   Thereafter, steps S6 to S9 are executed in the same manner as described above, and the presence / absence of a defect is determined and if there is a defect, the failure mode is analyzed and the failure mode is identified. Then, when the specified failure mode is one that can be repaired, the above steps S1 to S9 are executed again after being sent to the repair process to repair the defective portion. Thereby, the manufacturing yield of the display substrate 5 is improved.

図7〜図25は各種不良モードにおけるリセット段階、書込み段階及び読出し段階における端子A〜Cの電位の変化を示したものである。また、図26は各不良フォードについて、無欠陥時と同条件でシミュレーションして得られた各端子A〜Cの最終的な保持電位及び読み出される蓄積電荷量を示したものであり、制御手段3の記憶部に予め記憶されるLUTとなるものである。   7 to 25 show changes in the potentials of the terminals A to C in the reset stage, the write stage, and the read stage in various failure modes. FIG. 26 shows the final holding potential of each terminal A to C obtained by simulation under the same conditions as in the case of no defect for each defective Ford and the stored charge amount to be read. The LUT is stored in advance in the storage unit.

ここで、図7は信号線SG m と走査線DS n との間が短絡した不良モードの例を示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが16V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷16Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 Here, FIG. 7 shows an example of a failure mode between the short-circuited between the signal line SG m and the scan line DS n, shows a change in potential of the terminal A~C by forward scan. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 16V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is , the amount of electric charge sub capacitance C sub of the storage capacitor C s and charge 0 holding a charge 16Cs is accumulated in synthesized capacitances formed by connecting in series.

図8は信号線SG m と走査線DS (n-1) との間が短絡した不良モードの例を示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが7V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷7Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 Figure 8 shows an example of failure mode shorted between the signal line SG m and the scanning lines DS (n-1), it shows a change in potential of the terminal A~C by forward scan. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 7V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is , the amount of electric charge sub capacitance C sub of the storage capacitor C s and charge 0 holding a charge 7Cs is accumulated in synthesized capacitances formed by connecting in series.

図9は信号線SG m と走査線WS m との間が短絡した不良モードの例であり、書込み信号Vsigにより書込みトランジスタ7がオンする場合を示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが24V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷24Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 Figure 9 is an example of a failure mode shorted between the signal line SG m and the scan line WS m, shows a case where the write signal Vsig writing transistor 7 is turned on, by the forward scan of the pin A~C The change in potential is shown. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 24V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is The amount of charge accumulated in the combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s holding the charge 24 Cs and the sub-capacitor C sub having the charge 0 in series .

図10は信号線SG m と走査線WS m との間が短絡した不良モードの例であり、書込み信号Vsigにより書込みトランジスタ7がオンしない場合を示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが30V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷30Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 Figure 10 is an example of a failure mode is short-circuited between the signal line SG m and the scan line WS m, shows a case where write transistor 7 by the write signal Vsig is not turned on, due to the forward scanning of the terminal A~C The change in potential is shown. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 30V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is , The amount of charge accumulated in the combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s holding the charge 30 Cs and the sub-capacitor C sub having the charge 0 in series .

図11は走査線WS n と走査線DS n との間が短絡した不良モードの例であり、電源電圧Vccで書込みトランジスタ7がオンする場合を示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが8V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷8Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 FIG. 11 shows an example of a failure mode in which the scanning line WS n and the scanning line DS n are short-circuited, and shows a case where the writing transistor 7 is turned on by the power supply voltage Vcc. The change in potential is shown. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 8V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the stored charge amount to be read is , the amount of electric charge sub capacitance C sub of the storage capacitor C s and charge 0 holding a charge 8Cs is accumulated in synthesized capacitances formed by connecting in series.

図12は走査線WS n と走査線DS (n-1) との間が短絡した不良モードの例であり、電源電圧Vccで書込みトランジスタ7がオンする場合を示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが14V、端子Bが8V、端子Cが10Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷6Csを保持した保持容量C s と電荷-2Csubを保持したサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 FIG. 12 shows an example of a failure mode in which the scanning line WS n and the scanning line DS (n−1) are short-circuited, and shows a case where the writing transistor 7 is turned on by the power supply voltage Vcc. The change of the electric potential of AC is shown. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 14V for the terminal A, 8V for the terminal B, and 10V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is The amount of charge stored in a combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s holding the charge 6Cs and the sub-capacitor C sub holding the charge −2Csub in series .

図13は走査線DS n と走査線DS (n-1) との間が短絡した不良モードの例を示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが1V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 Figure 13 shows an example of a failure mode between the short-circuited between the scanning lines DS n and the scanning line DS (n-1), it shows a change in potential of the terminal A~C by forward scan. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 1V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is , the amount of electric charge sub capacitance C sub of the storage capacitor C s and charge 0 holding charges Cs are stored in the combined capacitance composed are connected in series.

図14は書込みトランジスタ7のゲート・ソース間が短絡した不良モードの例を示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが0V、端子Bが16V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷-16Csを保持した保持容量C s と電荷16Csubを保持したサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 FIG. 14 shows an example of a failure mode in which the gate and source of the write transistor 7 are short-circuited, and shows changes in the potentials of the terminals A to C due to forward scanning. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held at each of the terminals A to C is 0V for the terminal A, 16V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is The amount of charge stored in a combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s holding the charge −16 Cs and the sub capacitor C sub holding the charge 16 Csub in series .

図15は書込みトランジスタ7のソース・ドレイン間が短絡した不良モードの例を示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが0V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は0となる。   FIG. 15 shows an example of a failure mode in which the source and drain of the write transistor 7 are short-circuited, and shows changes in the potentials of the terminals A to C due to forward scanning. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 0V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is 0.

図16は画素トランジスタ8のゲート・ソース間が短絡した不良モード、又は保持容量C s がリークした不良モードの例を示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが5V、端子Bが5V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷0の保持容量C s と電荷5Csubを保持したサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 Figure 16 shows an example of a failure mode failure modes between the gate and the source are short-circuited, or the holding capacitor C s leaked pixel transistor 8 shows a change in potential of the terminal A~C by forward scan . According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 5V for the terminal A, 5V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is This is the amount of charge accumulated in a combined capacitor formed by connecting a storage capacitor C s having a charge 0 and a sub capacitor C sub holding a charge 5Csub in series .

図17は画素トランジスタ8のゲート・ドレイン間が短絡した不良モードを示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが0V、端子Bが13V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷-13Csを保持した保持容量C s と電荷13Csubを保持したサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 FIG. 17 shows a failure mode in which the gate and drain of the pixel transistor 8 are short-circuited, and shows changes in the potentials of the terminals A to C due to forward scanning. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 0V for the terminal A, 13V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is The amount of charge accumulated in the combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s holding the charge −13 Cs and the sub capacitor C sub holding the charge 13 Csub in series .

図18は画素トランジスタ8のドレイン・ソース間が短絡した不良モードを示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが-2V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷-2Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 FIG. 18 shows a failure mode in which the drain and source of the pixel transistor 8 are short-circuited, and shows changes in the potentials of the terminals A to C due to forward scanning. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held at each of the terminals A to C is -2V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the amount of stored charge to be read out. Is the amount of charge stored in a combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s holding the charge −2 Cs and the sub-capacitor C sub having the charge 0 in series .

図19は信号線SG m と書込みトランジスタ7のドレインとの間が開放した不良モードを示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが5V、端子Bが8V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷-3Csを保持した保持容量C s と電荷8Csubを保持したサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。そして、この値は、順方向走査において「無欠陥」のときに読み出される蓄積電荷量と同じである。したがって、順方向走査だけでは、上記不良モードを検出することができない。一方、図26に示すように、逆方向走査において各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが10V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷10Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。この値は、「無欠陥」の場合の逆方向走査において読み出される、電荷14Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量と異なったものである。このように、順方向走査では検出できない不良モードも逆方向走査を追加して実行すれば、容易に検出することができる。 Figure 19 shows a defect mode in which while is opened with the drain signal line SG m and the write transistor 7 shows a change in the potential of the terminal A~C by forward scan. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 5V for the terminal A, 8V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is , The amount of charge accumulated in the combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s holding the charge −3 Cs and the sub capacitor C sub holding the charge 8 Csub in series . This value is the same as the accumulated charge amount read when “no defect” in forward scanning. Therefore, the failure mode cannot be detected only by forward scanning. On the other hand, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C in the backward scanning is 10V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C. Is the amount of charge stored in the combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s holding the charge 10 Cs and the sub-capacitor C sub having the charge 0 in series . This value is the amount of charge accumulated in the combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s holding the charge 14Cs and the sub-capacitor C sub having the charge 0 , which are read out in the backward scanning in the case of “no defect”. It is different. As described above, a failure mode that cannot be detected by the forward scanning can be easily detected by additionally executing the backward scanning.

図20は走査線WS m 又は書込みトランジスタ7が開放した不良モードを示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが5V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷5Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 Figure 20 shows a defect mode scanning lines WS m or the write transistor 7 is open, shows a change in potential of the terminal A~C by forward scan. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 5V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is , the amount of electric charge sub capacitance C sub of the storage capacitor C s and charge 0 holding a charge 5Cs is accumulated in synthesized capacitances formed by connecting in series.

図21は走査線DS n 又は画素トランジスタ8が開放した不良モードを示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが13V、端子Bが0V、端子Cが-1Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷13Csを保持した保持容量C s と電荷Csubを保持したサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 Figure 21 shows a defect mode scanning lines DS n or the pixel transistor 8 is open, shows a change in potential of the terminal A~C by forward scan. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held at each of the terminals A to C is 13V for the terminal A, 0V for the terminal B, -1V for the terminal C, Is the amount of charge stored in a combined capacitor formed by connecting a holding capacitor C s holding a charge 13 Cs and a sub capacitor C sub holding a charge Csub in series .

図22は走査線DS (n-1) とサブ容量C sub との間が開放した不良モードを示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが8V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷8Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 FIG. 22 shows a failure mode in which the space between the scanning line DS (n−1) and the sub-capacitor C sub is open, and shows changes in the potentials of the terminals A to C due to forward scanning. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 8V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the stored charge amount to be read is , the amount of electric charge sub capacitance C sub of the storage capacitor C s and charge 0 holding a charge 8Cs is accumulated in synthesized capacitances formed by connecting in series.

図23はサブ容量C sub が開放した不良モードを示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが4V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷4Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 FIG. 23 shows a failure mode in which the sub-capacitor C sub is opened, and shows changes in the potentials of the terminals A to C due to forward scanning. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 4V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is The amount of charge stored in the combined capacitor formed by connecting the holding capacitor C s holding the charge 4Cs and the sub-capacitor C sub having the charge 0 in series .

図24はサブ容量C sub がリークした不良モードを示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが12V、端子Bが0V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷12Csを保持した保持容量C s と電荷0のサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 FIG. 24 shows a failure mode in which the sub capacitor C sub leaks, and shows changes in the potentials of the terminals A to C due to forward scanning. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 12V for the terminal A, 0V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge amount to be read is , the amount of electric charge sub capacitance C sub of the storage capacitor C s and charge 0 holding a charge 12Cs is accumulated in synthesized capacitances formed by connecting in series.

図25は保持容量C s が開放した不良モードを示しており、順方向走査による端子A〜Cの電位の変化を示している。これによれば、図26に示すように、各端子A〜Cに最終的に保持される電位は、端子Aが0V、端子Bが-7V、端子Cが0Vであり、読み出される蓄積電荷量は、電荷-7Csを保持した保持容量C s と電荷-7Csubを保持したサブ容量C sub が直列接続されて成る合成容量に蓄積される電荷量となる。 FIG. 25 shows a failure mode in which the storage capacitor C s is opened, and shows changes in the potentials of the terminals A to C due to forward scanning. According to this, as shown in FIG. 26, the potential finally held in each of the terminals A to C is 0V for the terminal A, -7V for the terminal B, and 0V for the terminal C, and the accumulated charge read out. Is the amount of charge stored in a combined capacitor formed by connecting a holding capacitor C s holding charge −7 Cs and a sub capacitor C sub holding charge −7 Csub in series .

このように、順方向走査及び逆方向走査により読み出された蓄積電荷量を例えば図26に示すLUTと比較することにより、読み出された蓄積電荷量と所定の許容範囲内で一致したLUTの蓄積電荷量から該当する不良モードを特定することができる。   In this way, by comparing the accumulated charge amount read by the forward scan and the reverse scan with, for example, the LUT shown in FIG. 26, the read accumulated charge amount matches the LUT within a predetermined allowable range. The corresponding failure mode can be specified from the accumulated charge amount.

なお、以上の説明において、リセット段階及び読出しには、走査線DS (n-1) ,DS n のリセット用走査信号の出力をゼロとし、走査線WS n に対してのみ1クロックのリセット用走査信号が供給される場合について述べたが、本発明はこれに限定されず、各走査線に1クロックのリセット用走査信号をそれぞれ1クロック分タイムシフトさせて順次供給してもよい。この場合、読出し段階においては、上記とは別系統により走査線WS n に対してのみ1クロックの In the above description, the reset phase and read, the scanning lines DS (n-1), the output of the reset scan signal DS n is zero, only one clock of the reset scan to the scanning lines WS n Although the case where a signal is supplied has been described, the present invention is not limited to this, and a reset scanning signal of one clock may be sequentially shifted to each scanning line by one clock and sequentially supplied. In this case, at the read stage, only one clock is supplied to the scanning line WS n by a system different from the above.

図27は本発明による表示用基板5の欠陥検査装置の第2の実施形態を示すブロック図である。第1の実施形態と異なるところは、検査対象である有機EL表示用基板5が具備する独立して制御可能な3種類の走査線DS 1 〜DS n ,WS 1 〜WS n ,AZ 1 〜AZ n に対して、それぞれリセット用走査用信号、書込み用走査信号及び読出し用走査信号を順次供給可能にしたものであり、走査手段1が上記走査線と同数のバッファ11及ぶプローブ12を有している。また、図27に示すようにゲートドライバIC10の出力がバッファ11を介して一本おきに交互に走査線WS 1 〜WS n と走査線DS 1 〜DS n に接続されるようになっている。さらに、走査線WS 1 〜WS n に向かうゲートドライバIC10の出力は途中で分岐されて論理和回路21に繋がり、走査線WS 1 〜WS n の走査信号とイネーブル信号とを論理和演算して走査線AZ 1 〜AZ n の走査信号が生成できるようになっている。したがって、走査線WS 1 〜WS n 及び走査線AZ 1 〜AZ n には、走査信号として同一のパルス信号が出力されるが(図29参照)、走査線AZ 1 〜AZ n の走査信号は、走査線WS 1 〜WS n の走査信号をイネーブル信号によってオン/オフ制御して走査線WS 1 〜WS n の走査信号と異なるものとすることができる(図30参照)。 FIG. 27 is a block diagram showing a second embodiment of the defect inspection apparatus for the display substrate 5 according to the present invention. The difference from the first embodiment is that three types of scanning lines DS 1 to DS n , WS 1 to WS n , and AZ 1 to AZ that can be independently controlled included in the organic EL display substrate 5 to be inspected are provided. The reset scanning signal, the writing scanning signal, and the reading scanning signal can be sequentially supplied to n , and the scanning means 1 has the same number of buffers 11 and probes 12 as the scanning lines. Yes. Moreover, so that the output of the gate driver IC10 is connected scan line alternately to one every other via a buffer 11 WS 1 to WS n and the scan line DS 1 to DS n as shown in FIG. 27. Further, the output of the gate driver IC 10 directed to the scanning lines WS 1 to WS n is branched in the middle and connected to the OR circuit 21, and scanning is performed by performing an OR operation on the scanning signals and enable signals of the scanning lines WS 1 to WS n. Scan signals for the lines AZ 1 to AZ n can be generated. Therefore, although the same pulse signal is output as the scanning signal to the scanning lines WS 1 to WS n and the scanning lines AZ 1 to AZ n (see FIG. 29), the scanning signals of the scanning lines AZ 1 to AZ n are: It may be a scanning signal of the scanning line WS 1 to WS n by an enable signal on / off control to differ from the scanning signal of the scanning line WS 1 to WS n that (see FIG. 30).

この第2の実施形態の欠陥検査装置で検査可能な有機EL表示用基板5の画素回路6は、データ信号を保持する保持容量C s と上記3種の走査線のうち走査線WS 1 〜WS n によって駆動されデータ信号を上記保持容量C s に保持させる書込みトランジスタ7と、有機EL素子に電流を供給する画素トランジスタ8と、走査線DS 1 〜DS n によって駆動されて画素トランジスタ8及び有機EL素子への駆動電流の供給をオン/オフして有機EL素子の発光時間を制御する第1のスイッチングトランジスタ22と、走査線AZ 1 〜AZ n によって駆動されて画素トランジスタ8のソースを固定電位に接続する第2のスイッチングトランジスタ23とを有して構成されている。そして、上記各トランジスタは、いずれも例えばN−MOS型トランジスタである。 The pixel circuit 6 of the organic EL display substrate 5 that can be inspected by the defect inspection apparatus of the second embodiment includes a storage capacitor C s that holds a data signal and the scanning lines WS 1 to WS among the three types of scanning lines. The write transistor 7 that is driven by n and holds the data signal in the holding capacitor C s , the pixel transistor 8 that supplies current to the organic EL element, and the pixel transistor 8 and the organic EL that are driven by the scanning lines DS 1 to DS n . The first switching transistor 22 for controlling the light emission time of the organic EL element by turning on / off the supply of the drive current to the element, and the source of the pixel transistor 8 driven by the scanning lines AZ 1 to AZ n to a fixed potential. And a second switching transistor 23 to be connected. Each of the transistors is, for example, an N-MOS transistor.

より具体的には、図28に示すように、上記書込みトランジスタ7は、ゲートを走査線WS n に接続し、ソースを信号線SG m に接続し、ドレインを画素トランジスタ8のゲートに接続している。また、上記画素トランジスタ8は、ドレインを第1のスイッチングトランジスタ22のソースに接続し、ソースを第2のスイッチングトランジスタ23のドレインに接続している。さらに、上記第1のスイッチングトランジスタ22は、ゲートを走査線DS n に接続し、ドレインを電源Vccに接続している。さらにまた、第2のスイッチングトランジスタ23は、ゲートを走査線AZ n に接続し、ソースを固定電位Viniに接続している。そして、上記画素トランジスタ8のゲート・ソース間に保持容量C s が設けられ、そのゲート側を端子Aとしソース側を端子Bとしている。また、有機EL素子のアノードが画素トランジスタ8のソースに接続されるようになっている。 More specifically, as shown in FIG. 28 , the write transistor 7 has a gate connected to the scanning line WS n , a source connected to the signal line SG m , and a drain connected to the gate of the pixel transistor 8. Yes. The pixel transistor 8 has a drain connected to the source of the first switching transistor 22 and a source connected to the drain of the second switching transistor 23. Furthermore, the first switching transistor 22 has a gate connected to the scanning line DS n, and a drain connected to the power supply Vcc. Furthermore, the second switching transistor 23 has a gate connected to the scanning line AZ n and a source connected to the fixed potential Vini. A holding capacitor C s is provided between the gate and the source of the pixel transistor 8, and the gate side is the terminal A and the source side is the terminal B. The anode of the organic EL element is connected to the source of the pixel transistor 8.

図30は上記第2の実施形態の欠陥検査装置において、リセット段階に各走査線に供給されるリセット用走査信号のタイミングチャートであ。同図に示すように、各走査線に供給されるリセット用走査信号は、クロック信号CLKの立ち上がりに同期してスタート信号STRをラッチして生成される。この場合、イネーブル信号AZOEは、リセット期間中オンしているため、走査線WS 1 〜WS n のリセット用走査信号とイネーブル信号AZOEとを論理和演算して生成される走査線AZ 1 〜AZ n のリセット用走査信号は、走査線WS 1 〜WS n の走査信号と同じものとなる。したがって、リセット段階においては、図28に示す画素回路6の書込みトランジスタ7が走査線WS n のリセット用走査信号によってオンされ、端子Aと信号線SG m とが電気的に繋がる。同時に、第2のスイッチングトランジスタ23が走査線AZ n のリセット用走査信号によってオンされ、端子Bが第2のスイッチングトランジスタ23を介して固定電位Viniに接続される。このとき、信号線SG m 、Vini及びVccを共通電位、例えばローレベルにしておけば、端子A,Bが共にローレベルとなり保持容量C s の電荷が0にリセットされる。次のタイミングにおいては、走査線DS n にのみリセット用走査信号が供給されるため、第1のスイッチングトランジスタ22がオンするものの、書込みトランジスタ7、画素トランジスタ8及び第2のスイッチングトランジスタ23はオフする。したがって、保持容量C s のリセット状態は維持される。 FIG. 30 is a timing chart of the reset scanning signal supplied to each scanning line in the reset stage in the defect inspection apparatus of the second embodiment. As shown in the figure, the reset scanning signal supplied to each scanning line is generated by latching the start signal STR in synchronization with the rising edge of the clock signal CLK. In this case, since the enable signal AZOE is on during the reset period, the scan lines AZ 1 to AZ n generated by performing an OR operation on the reset scan signal of the scan lines WS 1 to WS n and the enable signal AZOE. The reset scanning signal is the same as the scanning signal of the scanning lines WS 1 to WS n . Therefore, in the reset step, write transistor 7 of the pixel circuit 6 shown in FIG. 28 is turned on by the reset scan signal of the scan line WS n, and the terminal A and the signal line SG m lead to electrical. At the same time, the second switching transistor 23 is turned on by the reset scanning signal of the scanning line AZ n , and the terminal B is connected to the fixed potential Vini via the second switching transistor 23. At this time, if the signal lines SG m , Vini, and Vcc are set to a common potential, for example, low level, the terminals A and B become both low level, and the charge of the storage capacitor C s is reset to zero. In the next timing, the reset scan signal is supplied only to the scan line DS n, although the first switching transistor 22 is turned on, the writing transistor 7, the pixel transistor 8 and the second switching transistor 23 is turned off . Therefore, the reset state of the storage capacitor C s is maintained.

図31は上記第2の実施形態の欠陥検査装置において、書込み段階に各走査線に供給される書込み用走査信号のタイミングチャートであ。同図に示すように、図28に示す画素回路6の複数のトランジスタのうち、二つのトランジスタの組み合わせ(書込みトランジスタ7と第2のスイッチングトランジスタ23、書込みトランジスタ7と第1のスイッチングトランジスタ22)を同時にオンできるように、スタート信号STRのパルス幅を2クロック分として、生成される走査線WS 1 〜WS n 及び走査線DS 1 〜DS n の書込み用走査信号が2クロック分のパルス幅を有するようにしている。また、1クロック分のイネーブル信号AZOEにより走査線WS 1 〜WS n の書込み用走査信号を制御して、生成される走査線AZ 1 〜AZ n の書込み用走査信号が1クロック分のパルス幅を有するようにしている。これにより、同一の画素回路6に繋がる3種類の走査線から供給される書込み用走査信号により、先ず書込みトランジスタ7と第2のスイッチングトランジスタ23とがオンされて保持容量C s の両端に所定の電位が印加され、次に書込みトランジスタ7と第1のスイッチングトランジスタ22とがオンされて、保持容量C s に対して所定の電荷が書き込まれる(蓄積される)ことになる。この場合、画素回路6に欠陥があるときには、端子A,Bの印加電圧及び印加の順番が変化し、後述するように保持容量C s に書き込まれる蓄積電荷量が不良モードに応じて異なる。従って、この蓄積電荷量を検出することにより欠陥の有無の判定と不良モードの特定が可能となる。なお、読出し段階においては、図30のリセット用走査信号と同じ読出し用走査信号が各走査線に供給される。 FIG. 31 is a timing chart of the scanning signal for writing supplied to each scanning line in the writing stage in the defect inspection apparatus of the second embodiment. As shown in FIG. 28 , the combination of two transistors (the write transistor 7 and the second switching transistor 23, the write transistor 7 and the first switching transistor 22) among the plurality of transistors of the pixel circuit 6 shown in FIG. The pulse width of the start signal STR is set to two clocks so that the signals can be turned on simultaneously, and the write scanning signals for the generated scanning lines WS 1 to WS n and the scanning lines DS 1 to DS n have a pulse width of two clocks. I am doing so. Further, the write scanning signals for the scanning lines WS 1 to WS n are controlled by the enable signal AZOE for one clock, and the generated scanning signals for the scanning lines AZ 1 to AZ n have a pulse width for one clock. To have. As a result, the write transistor 7 and the second switching transistor 23 are first turned on by the write scan signals supplied from the three types of scan lines connected to the same pixel circuit 6, and a predetermined amount is applied to both ends of the storage capacitor C s. The potential is applied, and then the write transistor 7 and the first switching transistor 22 are turned on, and a predetermined charge is written (stored) in the storage capacitor C s . In this case, when there is a defect in the pixel circuit 6, the terminal A, and changes in the applied voltage and the order of application of B, the accumulated charge amount to be written in the storage capacitor C s as will be described later are different depending on the failure mode. Therefore, it is possible to determine the presence / absence of a defect and specify the failure mode by detecting the amount of accumulated charge. In the reading stage, the same scanning signal as the reset scanning signal in FIG. 30 is supplied to each scanning line.

図32〜34は上記第2の実施形態の欠陥検査装置に適用される他の走査信号の構成例を示した図であり、走査線AZ 1 〜AZ n がk本前(図においては2本前)の走査線WS 1 〜WS n に接続されている場合を示している。これにより、走査線の各走査信号は走査線から供給されるため、図28に示すような論理演算回路やイネーブル信号AZOEの供給が不要となり、回路構成が簡単となる。 FIGS. 32 to 34 are diagrams showing a configuration example of another scanning signal applied to the defect inspection apparatus of the second embodiment, and there are k scanning lines AZ 1 to AZ n (two in the figure). A case where the scanning lines WS 1 to WS n are connected to the previous one is shown. Thereby, since each scanning signal of the scanning line is supplied from the scanning line, it is not necessary to supply the logic operation circuit and the enable signal AZOE as shown in FIG. 28, and the circuit configuration is simplified.

図32はリセット段階において各走査線に供給されるリセット用走査信号のタイミングチャートである。同図に示すように、各走査線に供給されるリセット用走査信号は、クロック信号CLKの立ち上がりに同期してスタート信号STRをラッチして生成される1クロックのパルスであり、1クロックのシフトレジスタ動作をするようになっている。そして、走査線AZ 1 〜AZ n には2本前の走査線WS 1 〜WS n と同じリセット用走査信号が供給される。即ち、走査線AZ i には走査線WS (i-2) から信号が供給される。 FIG. 32 is a timing chart of a reset scanning signal supplied to each scanning line in the reset stage. As shown in the figure, the reset scanning signal supplied to each scanning line is a one-clock pulse generated by latching the start signal STR in synchronization with the rising edge of the clock signal CLK, and is shifted by one clock. Register operation is performed. Then, the same reset scanning signal as that of the previous two scanning lines WS 1 to WS n is supplied to the scanning lines AZ 1 to AZ n . That is, the scanning line AZ i is supplied with a signal from the scanning line WS (i−2) .

図33は書込み段階において各走査線に供給される書込み用走査信号のタイミングチャートである。同図に示すように、各走査線に供給される書込み用走査信号は、2クロック分のパルス幅を有する波形と、この波形の立ち上がりから4クロック遅れて立ち上がる1クロック分のパルス幅を有する波形とを組み合わせたスタート信号STRを使用して生成され、2クロック分のパルスと4クロック遅れて立ち上がる1クロック分のパルスを組み合わせた信号波形となっている。そして、それぞれ1クロックのシフトレジスタ動作をするようになっている。これにより、最初の2クロック分のパルスにより走査線WS 1 の走査信号と走査線DS 1 の走査信号とが同時にオンしているタイミングを作ることができる。また、次の1クロック分のパルスにより走査線WS 1 の走査信号がオンすると同時に2本前の走査線WS -2 の走査信号(即ち、走査線AZ 1 の走査信号)がオンするタイミングを作ることができる。これにより、同一の画素回路6に繋がる3種類の走査線から供給される書込み用走査信号により、先ず書込みトランジスタ7と第2のスイッチングトランジスタ23とがオンされて保持容量C s の両端に所定の電位が印加され、次に書込みトランジスタ7と第1のスイッチングトランジスタ22とがオンされて、保持容量C s に対して所定の電荷が書き込まれる(蓄積される)ことになる。 FIG. 33 is a timing chart of the writing scanning signal supplied to each scanning line in the writing stage. As shown in the figure, the write scanning signal supplied to each scanning line has a waveform having a pulse width of 2 clocks and a waveform having a pulse width of 1 clock that rises with a delay of 4 clocks from the rise of this waveform. The signal waveform is generated by using a start signal STR that is a combination of and a pulse of 2 clocks and a pulse of 1 clock that rises with a delay of 4 clocks. Each shift register operates for one clock. Accordingly, it is possible to make a timing at which the scanning signal of the scanning line WS 1 and the scanning signal of the scanning line DS 1 are simultaneously turned on by the first two clock pulses. Additionally, the following one clock pulse by the scanning signal of the scanning line WS 1 are turned on simultaneously two previous scan signal of the scanning line WS -2 (i.e., the scanning signal of the scanning lines AZ 1) make the timing is turned on be able to. As a result, the write transistor 7 and the second switching transistor 23 are first turned on by the write scan signals supplied from the three types of scan lines connected to the same pixel circuit 6, and a predetermined amount is applied to both ends of the storage capacitor C s. The potential is applied, and then the write transistor 7 and the first switching transistor 22 are turned on, and a predetermined charge is written (stored) in the storage capacitor C s .

図34は読出し段階において各走査線に供給される読出し用走査信号のタイミングチャートである。同図に示すように、各走査線に供給される読出し用走査信号は、1クロック分のパルス幅を有する波形とこの波形の立ち上がりから4クロック遅れて立ち上がる1クロック分のパルス幅を有する波形とを組み合わせたものであり、1クロックのシフトレジスタ動作をするようになっている。これにより、走査線WS 1 の走査信号がオンすると同時に2本前の走査線WS -2 の走査信号(即ち、走査線AZ 1 の走査信号)をオンさせることができ、書込みトランジスタ7と第2のスイッチングトランジスタ23とを同時にオンさせて保持容量Csに書き込まれた蓄積容量の読出しを可能としている。 FIG. 34 is a timing chart of the scanning signal for reading supplied to each scanning line in the reading stage. As shown in the figure, the scanning signal for reading supplied to each scanning line has a waveform having a pulse width of one clock and a waveform having a pulse width of one clock that rises with a delay of four clocks from the rise of this waveform. And a shift register operation of 1 clock. Accordingly, when the scanning signal of the scanning line WS 1 are turned on simultaneously two previous scan signal of the scanning line WS -2 (i.e., the scanning signal of the scanning lines AZ 1) can be turned on, the writing transistor 7 and the second The storage transistor written in the storage capacitor Cs can be read by simultaneously turning on the switching transistor 23 of the storage capacitor Cs.

図35〜図46は上記第2の実施形態の欠陥検査装置を使用した表示用基板5の欠陥検査において、画素回路6の端子A,Bの電位の変化を示した説明図であり、不良モード毎に示している。なお、このとき適用される各信号波形及びその供給タイミングは、図35(a)に示すものである。即ち、リセット段階には、各走査線に1クロックのパルス信号がクロック信号CLKの1周期分シフトして順次供給され、信号線SG m の電位Vsig、第1のスイッチングトランジスタ22のドレイン電位Vcc、第2のスイッチングトランジスタ23のソース電位Viniが共にローレベルに固定される。 FIGS. 35 to 46 are explanatory diagrams showing changes in the potentials of the terminals A and B of the pixel circuit 6 in the defect inspection of the display substrate 5 using the defect inspection apparatus of the second embodiment. Shown for each. Each signal waveform applied at this time and its supply timing are as shown in FIG. That is, the reset phase, the pulse signal of one clock to the respective scanning lines are sequentially supplied with one cycle shift of the clock signal CLK, the potential Vsig of the signal line SG m, drain potential Vcc of the first switching transistor 22, The source potential Vini of the second switching transistor 23 is both fixed at a low level.

また、書込み段階には、各走査線に2クロック分を二分割した2パルスの信号が同時にオンするタイミングが存在するようにロック信号CLKの1周期分シフトして順次供給され、信号線SG m の電位Vsig、第1のスイッチングトランジスタ22のドレイン電位Vcc、第2のスイッチングトランジスタ23のソース電位Viniがそれぞれ所定のハイレベルの電位となるようにされる。 Further, in the writing stage, each scanning line is sequentially supplied with a shift of one period of the lock signal CLK so that there is a timing at which two pulses divided into two clocks are simultaneously turned on, and the signal line SG m The potential Vsig, the drain potential Vcc of the first switching transistor 22, and the source potential Vini of the second switching transistor 23 are set to predetermined high level potentials, respectively.

そして、読出し段階には、各走査線に2クロック分を二分割した2パルスの信号が同時にオンするタイミングが存在するようにロック信号CLKの1周期分シフトして順次供給され、信号線SG m の電位Vsig、第1のスイッチングトランジスタ22のドレイン電位Vcc、第2のスイッチングトランジスタ23のソース電位Viniが共にローレベルに固定される。 Then, the read phase, two-pulse signal obtained by halving the two clocks to each of the scanning lines are sequentially supplied with one cycle shift of the lock signal CLK so that there is a timing of turning on at the same time, the signal line SG m The potential Vsig, the drain potential Vcc of the first switching transistor 22, and the source potential Vini of the second switching transistor 23 are all fixed at a low level.

なお、上記シミュレーションにおいては、ゲートドライバIC10の出力をイネーブル信号で制御して各走査線に供給される信号のパルス幅を制御する場合を想定して、2クロック分を二分割した2パルスの信号を用いて行っているが、図31,33に示すように2クロック分のパルス幅を有するものであってもよい。   In the above simulation, assuming that the output of the gate driver IC 10 is controlled by an enable signal and the pulse width of the signal supplied to each scanning line is controlled, a two-pulse signal obtained by dividing two clocks into two However, it may have a pulse width of 2 clocks as shown in FIGS.

図35は表示用基板5に欠陥が無い場合であり、画素回路6の端子A,Bに最終的に保持される電位の電位差(VA-VB)により保持容量C s に電荷が書き込まれる。ここで、例えば、各走査線WS n ,DS n ,AZ n により供給される信号の電位をハイレベルが35V、ローレベルが-5V、第1のスイッチングトランジスタ22のドレインに供給される電位Vccをハイレベルが30V、ローレベルが0V、第2のスイッチングトランジスタ23のソースに供給される電位Viniをハイレベルが0V、ローレベルが-3V、信号線SGmに供給される電位Vsigをハイレベルが20V、ローレベルが0Vとして各端子A,Bに最終的に保持される電位をシミュレーションすると、図47に示すようにVA=8V、VB=-5Vとなる。したがって、画素回路6が無欠陥の場合、保持容量C s に蓄積される電荷量は、Qs=Cs(VA-VB)=-13Csである。 FIG. 35 shows a case where the display substrate 5 is not defective, and charges are written in the storage capacitor C s by the potential difference (VA−VB) of the potential finally held at the terminals A and B of the pixel circuit 6. Here, for example, the potential of the signal supplied by each scanning line WS n , DS n , AZ n is set to the high level of 35 V, the low level of −5 V, and the potential Vcc supplied to the drain of the first switching transistor 22. The high level is 30V, the low level is 0V, the potential Vini supplied to the source of the second switching transistor 23 is 0V, the low level is -3V, and the potential Vsig supplied to the signal line SGm is 20V. When simulating the potential finally held at the terminals A and B when the low level is 0V, VA = 8V and VB = −5V are obtained as shown in FIG. Therefore, when the pixel circuit 6 is defect-free, the amount of charge accumulated in the storage capacitor C s is Qs = Cs (VA−VB) = − 13 Cs.

図36は第1のスイッチングトランジスタ22のゲートと信号線とが短絡した不良モードの例を示したものである。この場合、上述の無欠陥時と同一の条件でシミュレーションすると、端子Aには7Vの電位が、端子Bには-3Vの電位が保持され、その結果、読み出される蓄積電荷量は10Csとなる。   FIG. 36 shows an example of a failure mode in which the gate of the first switching transistor 22 and the signal line are short-circuited. In this case, if a simulation is performed under the same conditions as in the case of no defect described above, a potential of 7 V is held at the terminal A and a potential of −3 V is held at the terminal B. As a result, the amount of stored charge to be read is 10 Cs.

図37は第1のスイッチングトランジスタ22のゲートと第2のスイッチングトランジスタ23のソースとが短絡した不良モードの例を示したものである。この場合、端子Aには12Vの電位が、端子Bには-3Vの電位が保持され、その結果、読み出される蓄積電荷量は15Csとなる。   FIG. 37 shows an example of a failure mode in which the gate of the first switching transistor 22 and the source of the second switching transistor 23 are short-circuited. In this case, a potential of 12V is held at the terminal A and a potential of −3V is held at the terminal B. As a result, the stored charge amount to be read is 15 Cs.

図38は第2のスイッチングトランジスタ23のゲート・ソース間が短絡した不良モードの例を示したものである。この場合、端子Aには6Vの電位が、端子Bには6Vの電位が保持され、その結果、読み出される蓄積電荷量は0となる。   FIG. 38 shows an example of a failure mode in which the gate and source of the second switching transistor 23 are short-circuited. In this case, a potential of 6V is held at the terminal A and a potential of 6V is held at the terminal B, and as a result, the amount of stored charge to be read is zero.

図39は第2のスイッチングトランジスタ23のゲートと信号線との間が短絡した不良モードの例を示したものである。この場合、端子Aには4Vの電位が、端子Bには-3Vの電位が保持され、その結果、読み出される蓄積電荷量は7Csとなる。   FIG. 39 shows an example of a failure mode in which the gate of the second switching transistor 23 and the signal line are short-circuited. In this case, a potential of 4V is held at the terminal A and a potential of −3V is held at the terminal B. As a result, the stored charge amount to be read is 7 Cs.

図40は書込みトランジスタ7のゲートと第1のスイッチングトランジスタ22のドレインとの間が短絡した不良モードの例を示したものである。この場合、端子Aには7Vの電位が、端子Bには-5Vの電位が保持され、その結果、読み出される蓄積電荷量は12Csとなる。   FIG. 40 shows an example of a failure mode in which the gate of the write transistor 7 and the drain of the first switching transistor 22 are short-circuited. In this case, a potential of 7V is held at the terminal A and a potential of -5V is held at the terminal B. As a result, the stored charge amount to be read is 12Cs.

図41は書込みトランジスタ7のゲートと第2のスイッチングトランジスタ23のソースとの間が短絡した不良モードの例を示したものである。この場合、端子Aには12Vの電位が、端子Bには12Vの電位が保持され、その結果、読み出される蓄積電荷量は0となる。   FIG. 41 shows an example of a failure mode in which the gate of the write transistor 7 and the source of the second switching transistor 23 are short-circuited. In this case, a potential of 12V is held at the terminal A and a potential of 12V is held at the terminal B, and as a result, the amount of stored charge to be read is zero.

図42は書込みトランジスタ7のゲートと信号線との間が短絡した不良モードの例を示したものである。この場合、端子Aには12Vの電位が、端子Bには6Vの電位が保持され、その結果、読み出される蓄積電荷量は18Csとなる。   FIG. 42 shows an example of a failure mode in which the gate of the write transistor 7 and the signal line are short-circuited. In this case, a potential of 12V is held at the terminal A and a potential of 6V is held at the terminal B, and as a result, the amount of accumulated charge to be read is 18 Cs.

図43は第1のスイッチングトランジスタ22のゲートと第2のスイッチングトランジスタ23のゲートとの間が短絡した不良モードの例を示したものである。この場合、端子Aには10Vの電位が、端子Bには-5Vの電位が保持され、その結果、読み出される蓄積電荷量は15Csとなる。   FIG. 43 shows an example of a failure mode in which the gate of the first switching transistor 22 and the gate of the second switching transistor 23 are short-circuited. In this case, the terminal A holds a potential of 10 V and the terminal B holds a potential of -5 V, and as a result, the amount of stored charge to be read is 15 Cs.

図44は書込みトランジスタ7のゲートと第2のスイッチングトランジスタ23のゲートとの間が短絡した不良モードの例を示したものである。この場合、端子Aには10Vの電位が、端子Bには-5Vの電位が保持され、その結果、読み出される蓄積電荷量は15Csとなる。   FIG. 44 shows an example of a failure mode in which the gate of the write transistor 7 and the gate of the second switching transistor 23 are short-circuited. In this case, the terminal A holds a potential of 10 V and the terminal B holds a potential of -5 V, and as a result, the amount of stored charge to be read is 15 Cs.

図45は書込みトランジスタ7のゲートと第1のスイッチングトランジスタ22のゲートとの間が短絡した不良モードの例を示したものである。この場合、端子Aには2Vの電位が、端子Bには-6Vの電位が保持され、その結果、読み出される蓄積電荷量は8Csとなる。   FIG. 45 shows an example of a failure mode in which the gate of the write transistor 7 and the gate of the first switching transistor 22 are short-circuited. In this case, a potential of 2V is held at the terminal A and a potential of −6V is held at the terminal B. As a result, the stored charge amount to be read is 8 Cs.

そして、上記演算結果は、各不良モードと関連付けて図46に示すようにテーブル化され、LUTとして検査装置の制御手段3に保存される。なお、図36〜45は、一部の不良モードについて示したものであり、他の不良モードについても同様に蓄積電荷量をシミュレーションして求めることができる。したがって、これら他の不良モードも含めて蓄積電荷量を求め、それらをテーブル(LUT)化して保存しておけば、欠陥検査により読み出された蓄積電荷量と上記LUTとを比較して、所定の許容値内で一致した蓄積電荷量から不良モードを特定することができる。   Then, the calculation results are tabulated as shown in FIG. 46 in association with each failure mode, and are stored in the control means 3 of the inspection apparatus as an LUT. Note that FIGS. 36 to 45 show some defective modes, and the accumulated charge amount can be similarly obtained for other defective modes by simulating. Therefore, if the accumulated charge amount including these other failure modes is obtained and stored in a table (LUT), the accumulated charge amount read by the defect inspection is compared with the LUT, and the predetermined amount is stored. The failure mode can be specified from the accumulated charge amount that is matched within the allowable value.

本発明の第3の実施形態は、図2に示す画素回路6を基板上にマトリクス状に備えた表示装置であって、2種の走査線SW 1 〜SW n ,DS 1 〜DS n を映像表示と同方向に走査しながら、信号線SG 1 〜SG m の電位を所定値に保つと共に、2種の走査線SW 1 〜SW n ,DS 1 〜DS n に所定のリセット用走査信号を供給して書込トランジスタ7をオン駆動し、内部容量(保持容量C s 及びサブ容量C sub )の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットし、信号線SG 1 〜SG m に所定電位の書込み信号を供給すると共に、2種の走査線SW 1 〜SW n ,DS 1 〜DS n に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して上記内部容量に電荷を蓄積し、2種の走査線SW 1 〜SW n ,DS 1 〜DS n に所定の読出し用走査信号を供給して書込トランジスタ7をオン駆動し、上記内部容量に保持されている蓄積電荷量を信号線SG 1 〜SG m を介して読み出し、読み出された蓄積電荷量に基づいて画素回路6の欠陥の有無の判定をする欠陥検査装置を備えたものである。 The third embodiment of the present invention is a display device in which the pixel circuits 6 shown in FIG. 2 are provided in a matrix on a substrate, and two kinds of scanning lines SW 1 to SW n and DS 1 to DS n are displayed as images. while scanning the display in the same direction, supplied with keeping the potential of the signal line SG 1 to SG m to a predetermined value, the two scanning lines SW 1 to SW n, the DS 1 to DS n predetermined reset scanning signals Then, the write transistor 7 is turned on, the potentials at both ends of the internal capacitor (the holding capacitor C s and the sub capacitor C sub ) are set to the same level, the charge is reset to zero, and a predetermined potential is applied to the signal lines SG 1 to SG m . A write signal is supplied and a predetermined write scan signal is sequentially supplied to each of the two types of scanning lines SW 1 to SW n and DS 1 to DS n so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level. Thus, charges are accumulated in the internal capacitance, and two types of scanning lines S are stored. 1 to SW n, the write transistor 7 turns on driving by supplying a scanning signal for a predetermined read DS 1 to DS n, the accumulated charge amount signal line SG 1 to SG m held in the internal volume And a defect inspection device that determines the presence or absence of a defect in the pixel circuit 6 based on the amount of accumulated charge read out.

また、本発明の第4の実施形態は、図28に示す画素回路を基板上にマトリクス状に備えた表示装置であって、3種の走査線SW 1 〜SW n ,DS 1 〜DS n ,AZ 1 〜AZ n を映像表示と同方向に走査しながら、信号線SG 1 〜SG m の電位を所定値に保つと共に、3種の走査線SW 1 〜SW n ,DS 1 〜DS n ,AZ 1 〜AZ n に所定のリセット用走査信号を供給して書込トランジスタ8及び第2のスイッチングトランジスタ23を同時にオン駆動し、内部容量(保持容量C s )の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットし、信号線SG 1 〜SG m に所定電位の書込み信号を供給すると共に、3種の走査線SW 1 〜SW n ,DS 1 〜DS n ,AZ 1 〜AZ n に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して上記内部容量に電荷を蓄積し、3種の走査線SW 1 〜SW n ,DS 1 〜DS n ,AZ 1 〜AZ n に所定の読出し用走査信号を供給して書込トランジスタ7及び第2のスイッチングトランジスタ23を同時にオン駆動し、上記内部容量に保持されている蓄積電荷量を信号線SG 1 〜SG m を介して読み出し、読み出された蓄積電荷量に基づいて画素回路6の欠陥の有無の判定をする欠陥検査装置を備えたものである。 The fourth embodiment of the present invention is a display device in which the pixel circuit shown in FIG. 28 is provided in a matrix on a substrate, and includes three types of scanning lines SW 1 to SW n , DS 1 to DS n , While scanning AZ 1 to AZ n in the same direction as the video display, the potentials of the signal lines SG 1 to SG m are maintained at a predetermined value, and the three types of scanning lines SW 1 to SW n , DS 1 to DS n , AZ 1 is supplied to ~AZ n predetermined reset scanning signal simultaneously turns on driving the write transistor 8 and the second switching transistor 23, the charge potential across internal capacitance (holding capacitance C s) in the same level Reset to zero, supply a write signal having a predetermined potential to the signal lines SG 1 to SG m, and apply predetermined signals to the three scanning lines SW 1 to SW n , DS 1 to DS n , and AZ 1 to AZ n , respectively. The potential of the write scan signal becomes high at the same time. Sequentially supplied so that timing exists, charges are accumulated in the internal capacitors, and predetermined scanning signals are supplied to the three scanning lines SW 1 to SW n , DS 1 to DS n , and AZ 1 to AZ n Then, the write transistor 7 and the second switching transistor 23 are simultaneously turned on to read the accumulated charge amount held in the internal capacitor via the signal lines SG 1 to SG m , and the read accumulated charge amount Is provided with a defect inspection apparatus for determining the presence or absence of defects in the pixel circuit 6.

上記第3及び第4の実施形態において、上記欠陥検査装置は、画素回路6の不良モードが有機EL素子の輝度を低下させるものであるとき、有機EL素子に対応するデータ信号のレベルを上げて該有機EL素子の輝度を上げるように制御するようになっている。これにより、表示装置に欠陥部の輝度の低下を補償して均一な表示をさせることができる。   In the third and fourth embodiments, the defect inspection apparatus increases the level of the data signal corresponding to the organic EL element when the failure mode of the pixel circuit 6 reduces the luminance of the organic EL element. Control is performed to increase the luminance of the organic EL element. As a result, the display device can compensate for a decrease in the luminance of the defective portion and display a uniform display.

なお、以上の説明においては、表示用基板が有機EL表示用基板5である場合について述べたが、本発明はこれに限られず、液晶表示用基板等、電気光学素子の輝度がデータ信号に応じて変化するものであれば如何なるものであってもよい。   In the above description, the case where the display substrate is the organic EL display substrate 5 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the luminance of the electro-optical element such as a liquid crystal display substrate corresponds to the data signal. As long as it changes, it may be anything.

本発明による表示用基板の欠陥検査装置の第1の実施形態を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a first embodiment of a display substrate defect inspection apparatus according to the present invention; FIG. 上記第1の実施形態において使用される表示用基板の画素回路の一構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the example of 1 structure of the pixel circuit of the display substrate used in the said 1st Embodiment. 上記欠陥検査装置に適用される走査信号及び書込み信号の例を示すタイミングチャートで、(a)は順方向走査時、(b)は逆方向走査時のタイミングチャートである。5 is a timing chart showing examples of scanning signals and writing signals applied to the defect inspection apparatus, where (a) is a timing chart during forward scanning and (b) is a timing chart during backward scanning. 上記第1の実施形態の欠陥検査装置を使用して行なう欠陥検査方法の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the defect inspection method performed using the defect inspection apparatus of the said 1st Embodiment. 無欠陥の表示用基板の順方向走査による検査において、保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the change of the both-ends potential of a storage capacity | capacitance and a sub capacity | capacitance in the test | inspection by the forward scanning of a defect-free display board | substrate. 無欠陥の表示用基板の逆方向走査による検査において、保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the change of the both-ends potential of a storage capacity | capacitance and a sub capacity | capacitance in the test | inspection by reverse scanning of a defect-free display board | substrate. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の信号線SG m と走査線DS n との間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。In defective mode between the short-circuited between the signal line SG m of the display substrate that is applied to the first embodiment and the scanning line DS n, explanation showing changes in potential across the holding capacitor and the sub-volume by forward scan FIG. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の信号線SG m と走査線DS (n-1) との間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。In defective mode between the short-circuited in the first display substrate applied to embodiments the signal line SG m of the scanning lines DS (n-1), the potential across the storage capacitor and the sub-volume by forward scan It is explanatory drawing which shows a change. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の信号線SG m と走査線WS m との間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図であり、書込み信号により書込みトランジスタがオンする場合を示している。Description showing changes in both-end potentials of the storage capacitor and the sub-capacitance due to forward scanning in the failure mode in which the signal line SG m and the scanning line WS m of the display substrate applied to the first embodiment are short-circuited. It is a figure and shows the case where a write transistor is turned on by a write signal. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の信号線SG m と走査線WS m との間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図であり、書込み信号により書込みトランジスタがオンしない場合を示している。Description showing changes in both-end potentials of the storage capacitor and the sub-capacitance due to forward scanning in the failure mode in which the signal line SG m and the scanning line WS m of the display substrate applied to the first embodiment are short-circuited. It is a figure and shows the case where a write transistor is not turned on by a write signal. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の走査線WS n と走査線DS n との間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図であり、電源電圧で書込みトランジスタがオンする場合を示している。Description showing changes in both-end potentials of the storage capacitor and the sub-capacitance due to the forward scanning in the failure mode in which the scanning line WS n and the scanning line DS n of the display substrate applied to the first embodiment are short-circuited. It is a figure and the case where a writing transistor turns on with a power supply voltage is shown. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の走査線WS n と走査線DS (n-1) との間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図であり、電源電圧で書込みトランジスタがオンする場合を示している。In the failure mode in which the scanning line WS n and the scanning line DS (n−1) of the display substrate applied to the first embodiment are short-circuited, the potentials at both ends of the storage capacitor and the sub capacitor by the forward scanning It is explanatory drawing which shows a change, and has shown the case where a writing transistor turns on with a power supply voltage. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の走査線DS n と走査線DS (n-1) との間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。In the failure mode in which the scanning line DS n and the scanning line DS (n−1) of the display substrate applied to the first embodiment are short-circuited, the potentials at both ends of the storage capacitor and the sub-capacitor by the forward scanning are It is explanatory drawing which shows a change. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の書込みトランジスタのゲート・ソース間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing changes in potentials at both ends of a storage capacitor and a sub capacitor due to forward scanning in a failure mode in which a gate and a source of a writing transistor of a display substrate applied to the first embodiment are short-circuited. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の書込みトランジスタのソース・ドレイン間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing changes in potentials at both ends of a storage capacitor and a sub capacitor due to forward scanning in a failure mode in which a source and a drain of a writing transistor of a display substrate applied to the first embodiment are short-circuited. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の画素トランジスタのゲート・ソース間が短絡した不良モード、又は保持容量がリークした不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。In the failure mode in which the gate and the source of the pixel transistor of the display substrate applied to the first embodiment are short-circuited or in the failure mode in which the storage capacitor leaks, the potentials at both ends of the storage capacitor and the sub-capacitor by forward scanning are It is explanatory drawing which shows a change. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の画素トランジスタのゲート・ドレイン間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing changes in potentials at both ends of a storage capacitor and a sub-capacitance due to forward scanning in a failure mode in which a gate transistor and a drain of a pixel transistor of a display substrate applied to the first embodiment are short-circuited. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の画素トランジスタのドレイン・ソース間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing changes in potentials at both ends of a storage capacitor and a sub-capacitance due to forward scanning in a failure mode in which a drain and a source of a pixel transistor of a display substrate applied to the first embodiment are short-circuited. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の信号線SG m と書込みトランジスタのドレインとの間が開放した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。A defect mode while is opened with the drain signal line SG m and the write transistor of the display substrate that is applied to the first embodiment, explanation showing changes in potential across the holding capacitor and the sub-volume by forward scan FIG. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の走査線WS m 又は書込みトランジスタが開放した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。In the first embodiment the applied scanning line WS m or defective mode write transistor is open for display substrate of an explanatory view showing changes in potential across the holding capacitor and the sub-volume by forward scan. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の走査線DS n 又は画素トランジスタが開放した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。In the first embodiment the applied defect mode scanning lines DS n or the pixel transistor is open for display substrate of an explanatory view showing changes in potential across the holding capacitor and the sub-volume by forward scan. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の走査線DS (n-1) とサブ容量との間が開放した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。In the failure mode in which the space between the scanning line DS (n-1) of the display substrate and the sub-capacitor applied to the first embodiment is opened, changes in the potentials at both ends of the storage capacitor and the sub-capacitance due to the forward scanning It is explanatory drawing shown. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板のサブ容量が開放した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing changes in potentials at both ends of a storage capacitor and a sub-capacitance due to forward scanning in a failure mode in which the sub-capacitance of the display substrate applied to the first embodiment is opened. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板のサブ容量がリークした不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing changes in potentials at both ends of a storage capacitor and a sub-capacitance due to forward scanning in a failure mode in which a sub-capacitance of a display substrate applied to the first embodiment leaks. 上記第1の実施形態に適用される表示用基板の保持容量が開放した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量及びサブ容量の両端電位の変化を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing changes in potentials at both ends of a storage capacitor and a sub-capacitance due to forward scanning in a failure mode in which a storage capacitor of a display substrate applied to the first embodiment is opened. 上記第1の実施形態における欠陥の有無の判定及び不良フォードの特定に使用するルックアップテーブルである。It is a look-up table used for determination of the presence or absence of a defect and identification of a defective Ford in the first embodiment. 本発明による表示用基板の欠陥検査装置の第2の実施形態を示すブロック図である。It is a block diagram which shows 2nd Embodiment of the defect inspection apparatus of the display board | substrate by this invention. 上記第2の実施形態において使用される表示用基板の画素回路の一構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows one structural example of the pixel circuit of the display substrate used in the said 2nd Embodiment. 走査線WS n の走査信号を用いて走査線AZ n の走査信号を生成する回路の一構成例を示すブロック図である。FIG. 6 is a block diagram illustrating a configuration example of a circuit that generates a scanning signal of a scanning line AZ n using a scanning signal of a scanning line WS n . 上記第2の実施形態においてリセット段階に適用されるリセット用走査信号の一構成例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows one structural example of the scanning signal for reset applied to the reset stage in the said 2nd Embodiment. 上記第2の実施形態において書込み段階に適用される書込み用走査信号の一構成例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows one structural example of the scanning signal for a writing applied to the writing step in the said 2nd Embodiment. 上記第2の実施形態においてリセット段階に適用されるリセット用走査信号の他の構成例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the other structural example of the scanning signal for reset applied to the reset stage in the said 2nd Embodiment. 上記第2の実施形態において書込み段階に適用される書込み用走査信号の他の構成例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the other structural example of the scanning signal for a writing applied to the writing step in the said 2nd Embodiment. 上記第2の実施形態において読出し段階に適用される読出し用走査信号の一構成例を示すタイミングチャートである。10 is a timing chart illustrating an example of a configuration of a scanning signal for reading applied to a reading stage in the second embodiment. 上記第2の実施形態に適用される表示用基板の検査において、無欠陥時の保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the change of the both-ends potential of the storage capacity at the time of a defect-free in the test | inspection of the display substrate applied to the said 2nd Embodiment. 上記第2の実施形態に適用される表示用基板の第1のスイッチングトランジスタのゲートと信号線とが短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the change of the electric potential of both ends of the storage capacity by forward scanning in the failure mode in which the gate and signal line of the first switching transistor of the display substrate applied to the second embodiment are short-circuited. 上記第2の実施形態に適用される表示用基板の第1のスイッチングトランジスタのゲートと第2のスイッチングトランジスタのソースとが短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。FIG. 6 shows a change in potential at both ends of the storage capacitor due to forward scanning in a failure mode in which the gate of the first switching transistor and the source of the second switching transistor of the display substrate applied to the second embodiment are short-circuited. It is explanatory drawing. 第2のスイッチングトランジスタのゲート・ソース間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the change of the electric potential of both ends of the storage capacity by forward scanning in the failure mode where the gate and source of the second switching transistor are short-circuited. 上記第2の実施形態に適用される表示用基板の第2のスイッチングトランジスタ23のゲートと信号線との間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。Explanatory drawing which shows the change of the both-ends potential of the storage capacity by forward scanning in the failure mode in which the gate and the signal line of the second switching transistor 23 of the display substrate applied to the second embodiment are short-circuited. It is. 上記第2の実施形態に適用される表示用基板の書込みトランジスタのゲートと第1のスイッチングトランジスタのドレインとの間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。Explanation of change in potential of both ends of the storage capacitor due to forward scanning in a failure mode in which the gate of the writing transistor and the drain of the first switching transistor of the display substrate applied to the second embodiment are short-circuited FIG. 上記第2の実施形態に適用される表示用基板の書込みトランジスタのゲートと第2のスイッチングトランジスタのソースとの間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。Explanation of change in potential between both ends of the storage capacitor due to forward scanning in a failure mode in which the gate of the writing transistor and the source of the second switching transistor of the display substrate applied to the second embodiment are short-circuited FIG. 上記第2の実施形態に適用される表示用基板の書込みトランジスタのゲートと信号線との間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the change of the electric potential of both ends of the storage capacity by a forward scan in the failure mode in which the gate and signal line of the writing transistor of the display substrate applied to the second embodiment are short-circuited. 上記第2の実施形態に適用される表示用基板の第1のスイッチングトランジスタのゲートと第2のスイッチングトランジスタのゲートとの間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。In the failure mode in which the gate of the first switching transistor and the gate of the second switching transistor of the display substrate applied to the second embodiment are short-circuited, the change in the potential across the storage capacitor due to the forward scanning It is explanatory drawing which shows. 上記第2の実施形態に適用される表示用基板の書込みトランジスタのゲートと第2のスイッチングトランジスタのゲートとの間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。Explanation of change in potential at both ends of the storage capacitor due to forward scanning in a failure mode in which the gate of the writing transistor and the gate of the second switching transistor of the display substrate applied to the second embodiment are short-circuited FIG. 上記第2の実施形態に適用される表示用基板の書込みトランジスタのゲートと第1のスイッチングトランジスタのゲートとの間が短絡した不良モードにおいて、順方向走査による保持容量の両端電位の変化を示す説明図である。Explanation of change in potential of both ends of the storage capacitor due to forward scanning in a failure mode in which the gate of the writing transistor and the gate of the first switching transistor of the display substrate applied to the second embodiment are short-circuited FIG. 上記第2の実施形態における欠陥の有無の判定及び不良フォードの特定に使用するルックアップテーブルである。It is the look-up table used for determination of the presence or absence of a defect in the said 2nd Embodiment, and identification of defective Ford.

1…走査手段
2…書込み読出し手段
3…制御手段
5…有機EL表示用基板
6…画素回路
7…書込みトランジスタ
8…画素トランジスタ
22…第1のスイッチングトランジスタ
23…第2のスイッチングトランジスタ(スイッチングトランジスタ)
WS 1 〜WS n ,DS 1 〜DS n ,AZ 1 〜AZ n …走査線
SG 1 〜SG m …信号線
s …保持容量(内部容量)
sub …サブ容量(内部容量)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Scanning means 2 ... Write-out reading means 3 ... Control means 5 ... Organic EL display substrate 6 ... Pixel circuit 7 ... Write transistor 8 ... Pixel transistor 22 ... 1st switching transistor 23 ... 2nd switching transistor (switching transistor)
WS 1 to WS n , DS 1 to DS n , AZ 1 to AZ n ... Scanning line SG 1 to SG m ... Signal line C s ... holding capacity (internal capacity)
C sub ... sub capacity (internal capacity)

Claims (16)

第1、第2の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する、前記第1の走査線にドレインが接続された画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続され、前記第2の走査線にゲートが接続された書込みトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端に一端が接続され、前記画素トランジスタのソースに他端が接続された保持容量、及び、前記保持容量の他端と固定電位との間に接続されたサブ容量から成る内部容量とを具備した画素回路をマトリクス状に備えた表示用基板の欠陥検査方法であって、
前記第1、第2の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、
前記信号線の電位を所定値に保つと共に、前記第1、第2の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動し、前記内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットするリセット段階と、
前記信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、前記第1、第2の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して前記内部容量に電荷を蓄積する書込み段階と、
前記第1、第2の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動し、前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して読み出す読出し段階と、
前記読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする判定段階と、
の各処理を行う表示用基板の欠陥検査方法。
A pixel transistor disposed at the intersection of the first and second scanning lines and the signal line and driving an electro-optical element whose luminance changes in accordance with a data signal , the drain of which is connected to the first scanning line And a write transistor connected between the signal line and the pixel transistor and having a gate connected to the second scan line, and one end connected to a connection end of the pixel transistor and the write transistor, A display substrate provided in a matrix with a pixel circuit having a storage capacitor having the other end connected to the source and an internal capacitor composed of a sub-capacitor connected between the other end of the storage capacitor and a fixed potential A defect inspection method,
While scanning the first and second scanning lines in the same direction as the video display,
The potential of the signal line is maintained at a predetermined value, and a predetermined reset scanning signal is supplied to the first and second scanning lines to turn on the writing transistor, so that the potentials at both ends of the internal capacitor are at the same level. Reset stage to reset the charge to zero,
A write signal having a predetermined potential is supplied to the signal line, and a predetermined write scan signal is sequentially supplied to the first and second scan lines so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level. A write stage for accumulating electric charge in the internal capacitor;
A reading step of supplying a predetermined reading scanning signal to the first and second scanning lines to turn on the writing transistor, and reading out the accumulated charge held in the internal capacitor via the signal line When,
A determination step of determining whether there is a defect in the pixel circuit based on the read accumulated charge amount;
Defect inspection method rows cormorants display by entering the substrate each process.
前記リセット段階、書込み段階、読出し段階、判定段階の各処理を実行した後に、前記第1、第2の走査線を映像表示と逆方向に走査しながら、前記各処理を再度実行する請求項1記載の表示用基板の欠陥検査方法。 Said reset step, write step, reading out, after executing the processing of the determination step, the first, while scanning the second scanning line on the video display in the opposite direction, billed said that perform the process again Item 2. A display substrate defect inspection method according to Item 1. 前記リセット段階及び読出し段階においては、前記第1、第2の走査線のうち前記第2の走査線のみに走査信号を出力する請求項1記載の表示用基板の欠陥検査方法。 In the reset phase and the read phase, the first, second defect inspection method for a display substrate according to Motomeko 1 you output a scanning signal only to the second scan line of the scan lines. 第1、第2の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続され、前記第1の走査線にゲートが接続された書込みトランジスタと、前記画素トランジスタのソースと固定電位との間に接続され、前記第2の走査線にゲートが接続されたスイッチングトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と前記画素トランジスタのソースとの間に接続された内部容量とを具備した画素回路をマトリクス状に備えた表示用基板の欠陥検査方法であって、
前記第1、第2の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、
前記信号線の電位を所定値に保つと共に、前記第1、第2の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、前記内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットするリセット段階と、
前記信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、前記第1、第2の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して前記内部容量に電荷を蓄積する書込み段階と、
前記第1、第2の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して読み出す読出し段階と、
前記読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする判定段階と、
の各処理を行う表示用基板の欠陥検査方法。
A pixel transistor that is disposed at an intersection between the first and second scanning lines and the signal line and drives an electro-optical element whose luminance changes according to a data signal, and is connected between the signal line and the pixel transistor A write transistor having a gate connected to the first scan line; a switching transistor connected between a source of the pixel transistor and a fixed potential; and a gate connected to the second scan line ; A display substrate defect inspection method comprising a pixel circuit having a pixel circuit including a connection end of a pixel transistor and a write transistor and an internal capacitor connected between the source of the pixel transistor,
While scanning the first and second scanning lines in the same direction as the video display,
The potential of the signal line is kept at a predetermined value, and a predetermined reset scanning signal is supplied to the first and second scanning lines to simultaneously turn on the writing transistor and the switching transistor, and both ends of the internal capacitor A reset stage in which the potential is set to the same level and the charge is reset to zero; and
A write signal having a predetermined potential is supplied to the signal line, and a predetermined write scan signal is sequentially supplied to the first and second scan lines so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level. A write stage for accumulating electric charge in the internal capacitor;
A predetermined readout scanning signal is supplied to the first and second scanning lines to simultaneously turn on the writing transistor and the switching transistor, and the amount of accumulated charge held in the internal capacitor is passed through the signal line. A readout stage to read out,
A determination step of determining whether there is a defect in the pixel circuit based on the read accumulated charge amount;
Defect inspection method rows cormorants display by entering the substrate each process.
前記第2の走査線の走査信号は、前記第1の走査線の走査信号とイネーブル信号とを論理演算して生成される請求項4記載の表示用基板の欠陥検査方法。 The scanning signal of the second scan line, the first scan signal and the enable signal and the defect inspection method for a display substrate according to Motomeko 4 that will be generated by logical operation of the scanning line. 前記第2の走査線は、前記第1の走査線のn本前の走査線に接続されている請求項4記載の表示用基板の欠陥検査方法。 The second scanning line, a defect inspection method for a display substrate according to Motomeko 4 that is connected to the first n the previous scan line of the scan lines. 前記電気光学素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子である請求項1又は請求項4に記載の表示用基板の欠陥検査方法。 The electro-optical element, Ru Oh organic electroluminescence element Motomeko 1 or claim 4 defect inspection method for a display substrate according to. 前記判定段階は、前記読み出された蓄積電荷量を、無欠陥及び各種不良モードとそれらに対応する蓄積電荷量とを予め関連付けて記憶された参照テーブルと比較して欠陥の有無の判定及び不良モードの特定をする請求項1又は請求項4に記載の表示用基板の欠陥検査方法。 In the determination step, the read accumulated charge amount is compared with a reference table stored in advance in association with the defect-free and various defect modes and the corresponding accumulated charge amounts, and the presence / absence of defect is determined. defect inspection method for a display substrate according to Motomeko 1 or claim 4 you specific mode. 第1、第2の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する、前記第1の走査線にドレインが接続された画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続され、前記第2の走査線にゲートが接続された書込みトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端に一端が接続され、前記画素トランジスタのソースに他端が接続された保持容量、及び、前記保持容量の他端と固定電位との間に接続されたサブ容量から成る内部容量とを具備した画素回路をマトリクス状に備えた表示用基板の欠陥検査装置であって、
前記第1、第2の走査線を映像表示と同方向又は逆方向に走査すると共に、前記第1、第2の走査線に対して、リセット段階に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動し、書込み段階にそれぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給し、読出し段階に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動する走査手段と、
リセット段階に前記信号線の電位を所定値に保ち、書込み段階に所定電位の書込み信号を供給して前記内部容量に電荷を保持させる共に、読出し段階に前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して検出する書込み読出し手段と、
前記各構成要素の駆動を制御する共に、前記書込み読出し手段で読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする制御手段と、
を備えた表示用基板の欠陥検査装置。
A pixel transistor disposed at the intersection of the first and second scanning lines and the signal line and driving an electro-optical element whose luminance changes in accordance with a data signal , the drain of which is connected to the first scanning line And a write transistor connected between the signal line and the pixel transistor and having a gate connected to the second scan line, and one end connected to a connection end of the pixel transistor and the write transistor, A display substrate provided in a matrix with a pixel circuit having a storage capacitor having the other end connected to the source and an internal capacitor composed of a sub-capacitor connected between the other end of the storage capacitor and a fixed potential Defect inspection equipment,
The first and second scanning lines are scanned in the same direction as the video display or in the opposite direction, and a predetermined reset scanning signal is supplied to the first and second scanning lines at a reset stage. The write transistor is turned on, a predetermined write scan signal is sequentially supplied so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level in the write stage, and a predetermined read scan signal is supplied in the read stage. Scanning means for driving the writing transistor on;
In the reset stage, the potential of the signal line is kept at a predetermined value, and in the write stage, a write signal having a predetermined potential is supplied to hold the charge in the internal capacitor, and the stored charge amount held in the internal capacitor in the read stage Writing / reading means for detecting via the signal line;
Control means for controlling the driving of each of the constituent elements, and for determining the presence or absence of a defect in the pixel circuit based on the accumulated charge amount read by the writing and reading means;
Defect inspection apparatus display by entering the substrate provided with.
第1、第2の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続され、前記第1の走査線にゲートが接続された書込みトランジスタと、前記画素トランジスタのソースと固定電位との間に接続され、前記第2の走査線にゲートが接続されたスイッチングトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と前記画素トランジスタのソースとの間に接続された内部容量とを具備した画素回路をマトリクス状に備えた表示用基板の欠陥検査装置であって、
前記第1、第2の走査線を映像表示と同方向に走査すると共に、前記第1、第2の走査線に対して、リセット段階に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、書込み段階にそれぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給し、読出し段階に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動する走査手段と、
リセット段階に前記信号線の電位を所定値に保ち、書込み段階に所定電位の書込み信号を供給して前記内部容量に電荷を保持させる共に、読出し段階に前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して検出する書込み読出し手段と、
前記各構成要素の駆動を制御する共に、前記書込み読出し手段で読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする制御手段と、
を備えた表示用基板の欠陥検査装置。
A pixel transistor that is disposed at an intersection between the first and second scanning lines and the signal line and drives an electro-optical element whose luminance changes according to a data signal, and is connected between the signal line and the pixel transistor A write transistor having a gate connected to the first scan line; a switching transistor connected between a source of the pixel transistor and a fixed potential; and a gate connected to the second scan line ; A display substrate defect inspection apparatus comprising a pixel circuit having a matrix circuit and an internal capacitor connected between a connection end of a pixel transistor and a write transistor and a source of the pixel transistor,
The writing transistor scans the first and second scanning lines in the same direction as the video display, and supplies a predetermined reset scanning signal to the first and second scanning lines at a reset stage. The switching transistor is simultaneously turned on, and a predetermined scanning signal is sequentially supplied to the writing stage so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level, and a predetermined scanning signal is supplied to the reading stage. Scanning means for simultaneously turning on the write transistor and the switching transistor;
In the reset stage, the potential of the signal line is kept at a predetermined value, and in the write stage, a write signal having a predetermined potential is supplied to hold the charge in the internal capacitor, and the stored charge amount held in the internal capacitor in the read stage Writing / reading means for detecting via the signal line;
Control means for controlling the driving of each of the constituent elements, and for determining the presence or absence of a defect in the pixel circuit based on the accumulated charge amount read by the writing and reading means;
Defect inspection apparatus display by entering the substrate provided with.
前記制御手段は、無欠陥及び各種不良モードとそれらに対応する蓄積電荷量とを関連付けた参照テーブルを予め記憶する記憶部を備え、該参照テーブルの蓄積電荷量と前記書込み読出し手段により読み出された蓄積電荷量とを比較して欠陥の有無の判定及び不良モードの特定をする請求項9又は請求項10に記載の表示用基板の欠陥検査装置。 The control unit includes a storage unit that stores in advance a reference table in which the defect-free and various failure modes are associated with the stored charge amount corresponding thereto, and the stored charge amount of the reference table is read by the writing / reading unit. It was accumulated charge amount and the determination of the presence or absence of a defect by comparing and the display defect inspection device for the substrate according to Motomeko 9 or claim 10 you specific failure mode. 前記電気光学素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子である請求項9又は請求項10に記載の表示用基板の欠陥検査装置。 The electro-optical element, the display defect inspection device for the substrate according to Oh Ru請 Motomeko 9 or claim 10 in an organic electroluminescence device. 第1、第2の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する、前記第1の走査線にドレインが接続された画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続され、前記第2の走査線にゲートが接続された書込みトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端に一端が接続され、前記画素トランジスタのソースに他端が接続された保持容量、及び、前記保持容量の他端と固定電位との間に接続されたサブ容量から成る内部容量とを具備した画素回路を基板上にマトリクス状に備えた表示装置であって、
前記第1、第2の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、前記信号線の電位を所定値に保つと共に、前記第1、第2の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動し、前記内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットし、前記信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、前記第1、第2の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して前記内部容量に電荷を蓄積し、前記第1、第2の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタをオン駆動し、前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して読み出し、前記読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする欠陥検査装置を備えた表示装置。
A pixel transistor disposed at the intersection of the first and second scanning lines and the signal line and driving an electro-optical element whose luminance changes in accordance with a data signal , the drain of which is connected to the first scanning line And a write transistor connected between the signal line and the pixel transistor and having a gate connected to the second scan line, and one end connected to a connection end of the pixel transistor and the write transistor, A pixel circuit including a storage capacitor having the other end connected to the source and an internal capacitor including a sub-capacitor connected between the other end of the storage capacitor and a fixed potential is provided in a matrix on the substrate. A display device,
While the first and second scanning lines are scanned in the same direction as the video display, the potential of the signal line is maintained at a predetermined value, and a predetermined reset scanning signal is supplied to the first and second scanning lines. and the write transistor turns on driven, the potentials at both ends of the internal volume is reset to zero charge in the same level, it supplies a write signal of a predetermined potential to the signal line, the first, the second A predetermined scanning signal for scanning is sequentially supplied to the scanning lines so that there is a timing at which the potential simultaneously becomes a high level, and charges are accumulated in the internal capacitors, and the predetermined scanning lines are stored in the first and second scanning lines. The read scanning signal is supplied to turn on the write transistor, the accumulated charge held in the internal capacitor is read through the signal line, and the read charge amount is based on the read accumulated charge amount. Pixel circuit defects Viewing apparatus comprising a defect inspection apparatus for determining the presence or absence of.
第1、第2の走査線と信号線との交差部分に配設され、データ信号に応じて輝度が変化する電気光学素子を駆動する画素トランジスタと、前記信号線と画素トランジスタとの間に接続され、前記第1の走査線にゲートが接続された書込みトランジスタと、前記画素トランジスタのソースと固定電位との間に接続され、前記第2の走査線にゲートが接続されたスイッチングトランジスタと、前記画素トランジスタ及び書込みトランジスタの接続端と前記画素トランジスタのソースとの間に接続された内部容量とを具備した画素回路を基板上にマトリクス状に備えた表示装置であって、
前記第1、第2の走査線を映像表示と同方向に走査しながら、前記信号線の電位を所定値に保つと共に、前記第1、第2の走査線に所定のリセット用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、前記内部容量の両端電位を同レベルにして電荷をゼロにリセットし、前記信号線に所定電位の書込み信号を供給すると共に、前記第1、第2の走査線に、それぞれ所定の書込み用走査信号をその電位が同時にハイレベルとなるタイミングが存在するように順次供給して前記内部容量に電荷を蓄積し、前記第1、第2の走査線に所定の読出し用走査信号を供給して前記書込トランジスタ及びスイッチングトランジスタを同時にオン駆動し、前記内部容量に保持されている蓄積電荷量を前記信号線を介して読み出し、前記読み出された蓄積電荷量に基づいて前記画素回路の欠陥の有無の判定をする欠陥検査装置を備えた表示装置。
A pixel transistor that is disposed at an intersection between the first and second scanning lines and the signal line and drives an electro-optical element whose luminance changes according to a data signal, and is connected between the signal line and the pixel transistor A write transistor having a gate connected to the first scan line; a switching transistor connected between a source of the pixel transistor and a fixed potential; and a gate connected to the second scan line ; A display device comprising a pixel circuit in a matrix on a substrate, the pixel circuit having an internal capacitor connected between a connection end of a pixel transistor and a writing transistor and a source of the pixel transistor,
While the first and second scanning lines are scanned in the same direction as the video display, the potential of the signal line is maintained at a predetermined value, and a predetermined reset scanning signal is supplied to the first and second scanning lines. Then, the write transistor and the switching transistor are simultaneously turned on, the potentials at both ends of the internal capacitor are set to the same level, the charge is reset to zero, a write signal having a predetermined potential is supplied to the signal line, and the first , the second scan line, respectively accumulating charges in the inner capacity and sequentially supplied as the potential scanning signal for a given write is present timing becomes the high level at the same time, the first, the second A predetermined scanning signal is supplied to the scanning line to simultaneously turn on the writing transistor and the switching transistor, and the accumulated charge amount held in the internal capacitor is passed through the signal line. Viewing apparatus having read, a defect inspection apparatus for the determination of the presence or absence of a defect of the pixel circuit based on the read accumulated charge amount Te.
前記欠陥検査装置は、前記画素回路の不良モードが前記電気光学素子の輝度を低下させるものであるとき、前記電気光学素子に対応するデータ信号のレベルを上げて該電気光学素子の輝度を上げるように制御する請求項13又は請求項14に記載の表示装置。 The defect inspection apparatus increases the level of a data signal corresponding to the electro-optical element to increase the luminance of the electro-optical element when the defective mode of the pixel circuit reduces the luminance of the electro-optical element. the display device according to Motomeko 13 or claim 14 that controls the. 前記電気光学素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子である請求項13又は請求項14に記載の表示装置。 The electro-optical element, a display device according to Oh Ru請 Motomeko 13 or claim 14 in an organic electroluminescence element.
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