JP5397037B2 - 固体撮像装置 - Google Patents

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本発明は、固体撮像装置に関する。
従来、固体撮像素子の撮像面をガラス基板等の透明基板に対向して配置し、固体撮像素子をバンプを介してガラス基板の導体パターンに電気的に接続した、いわゆるチップオンガラス(Chip on Glass)構造の固体撮像装置が知られている。このような固体撮像装置では、固体撮像素子とガラス基板との間にエポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、機械的強度を確保するとともに、固体撮像素子を覆う膜を設けることで外部からの塵の進入を防止している(例えば、特許文献1)。
特開2007−273822号公報
しかしながら、上記固体撮像装置においては、外部からの塵等の進入を防止するために、固体撮像素子を含む密閉空間内のエアの膨張・収縮を許容するための特殊な弾性膜が使用されるため、製造コストの増大を招来するという問題があった。また、当該固体撮像装置においては、固体撮像素子とガラス基板との間に形成される封止樹脂層に貫通穴を設ける必要があるが、貫通穴の位置やサイズの調整が困難である。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、固体撮像装置の製造時や使用時における内圧上昇に起因する歪みや破損を防止するとともに、受光エリア内への塵等の混入を防止することが可能な固体撮像装置を提供することを目的とする。
第1の発明の固体撮像装置は、導体パターンが形成された透光性基板と、受光領域が前記透光性基板に対向して配置され、前記導体パターンに電気的に接続される固体撮像素子と、前記固体撮像素子の前記受光領域を囲んで前記固体撮像素子と前記透光性基板との間をシールする第1のシール部と、前記第1のシール部を囲んで前記固体撮像素子と前記透光性基板との間をシールする第2のシール部と、前記透光性基板において前記第1のシール部と前記第2のシール部との間に形成される貫通穴と、を備えることを特徴とする。
第2の発明の固体撮像装置は、第1の発明の固体撮像装置において、前記第1のシール部は、前記第2のシール部より弾性係数の小さい材料により形成されていることを特徴とする。
第3の発明の固体撮像装置は、第1または第2の発明の固体撮像装置において、前記貫通穴は、前記固体撮像素子と前記導体パターンとの電気的な接続位置と、前記第1のシール部との間に形成されていることを特徴とする。
本発明では、透明基板に形成された貫通穴により、固体撮像装置の製造時や使用時の温度変化による内圧の変化を抑制するので、固体撮像装置の歪み、破損等の形状破壊を防止することができる。また、受光領域は、透明基板、固体撮像素子及びシール部材からなる防塵構造の内部に配置されるので、受光領域への塵等の混入を防止することができる。
本発明の固体撮像装置の第1の実施形態を模式的に示す平面図である。 図1の固体撮像装置のII−II線に沿う断面図である。 図1の固体撮像装置の製造工程を示す説明図である。 従来の固体撮像装置の製造時における問題点を示す説明図である。 図1の固体撮像装置にプリント基板をリフローハンダ付けしている状態を示す説明図である。 従来の固体撮像装置にプリント基板をリフローハンダ付けしている状態を示す説明図である。 本発明の固体撮像装置の第2の実施形態を模式的に示す断面図である。
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
(第1の実施形態)
図1および図2は、本発明の固体撮像装置の第1の実施形態を示している。
この固体撮像装置は、ガラス基板11、固体撮像素子13を有している。
ガラス基板11は、透明ガラスからなる。固体撮像素子13は、チップとして構成されたCCD、CMOS等の素子からなる。ガラス基板11と固体撮像素子13とは、所定間隔を置いて対向配置されている。固体撮像素子13のガラス基板11側には、ガラス基板11を通過した光を受光する受光エリア13aが形成されている。受光エリア13aは、本実施形態では固体撮像素子13の中央部に形成されている。受光エリア13aには、多数の画素、マイクロレンズ、色フィルタ等が2次元に配置されている。固体撮像素子13は、各画素に入射した光を電気信号に変換する。
ガラス基板11の固体撮像素子13に対向する側には、固体撮像素子13と電気的に接続するための導体パターン15が形成されている。導体パターン15は、固体撮像素子13の受光エリア13aへの入射光を遮らないように、受光エリア13aに対応する領域を外れた領域に形成されている。図1では、導体パターン15が片側に10個形成されているが、実際には、信号の授受等に必要な数とされる。
固体撮像素子13には、導体パターン15に対応する位置にバンプ17が設けられている。本実施形態では、バンプ17の設置箇所は、受光エリア13aの外側、すなわち、固体撮像素子13の周辺部とされる。固体撮像素子13は、バンプ17によりガラス基板11の導体パターン15にフリップチップ接続されている。フリップチップ接続は、例えばNCP(Non-Conductive Paste)工法により行われる。そして、固体撮像素子13の周辺部とガラス基板11との間が、エポキシ系の樹脂等の封止材19で封止され封止部21が形成されている。
また、図1および図2に示されるように、固体撮像素子13の受光エリア13aを囲むようにシール部23が形成されている。シール部23は、固体撮像素子13とガラス基板11との間の空間を受光エリア13aの外側でシールする。シール部23は、固体撮像素子13とガラス基板11との間にシール材25を配置して形成されている。シール部23のシール材25は、封止部21の封止材19より弾性係数の小さい材料により形成されている。従って、シール部23は、封止部21より大きく弾性変形可能である。シール材25には、例えばシリコン等の材料が使用される。
上記したように、本実施形態においては、受光エリア13aとガラス基板11とのなす空間が気密構造となるように、第1のシール部材としてのシール部23が、ガラス基板11と固体撮像素子13との間において、受光エリア13aの周囲に形成される。また、受光エリア13aを含む気密空間が内部に含まれるように、第2のシール部材としての封止部21が、ガラス基板11と固体撮像素子13との間において、シール部23の周囲に形成される。
ガラス基板11の封止部21とシール部23との間には、貫通穴27が形成されている。貫通穴27は、ガラス基板11の外側と、封止部21とシール部23との間の空間29を連通する。貫通穴27は、バンプ17が存在する封止部21とシール部23との間にそれぞれ1個ずつ形成されている。
上述した固体撮像装置は、例えば図3に示すようにして製造される。
先ず、図3(a)に示すように、例えば0.3mm〜0.8mm程度の厚さのガラス基板11を用意し、ガラス基板11に貫通穴27を形成する。貫通穴27は、例えばレーザ加工等により形成される。
次に、図3(b)に示すように、ガラス基板11に導体パターン15を形成する。導体パターン15は、フォトリソ工法、印刷工法等により形成される。
次に、図3(c)に示すように、ガラス基板11にシール部23を形成する。シール部23は、シリコン等の弾性材料からなるシール材25をガラス基板11に固着することにより行われる。固着は、例えば接着剤による接着により行われる。
次に、図3(d)に示すように、ガラス基板11に封止材19を塗布する。塗布する位置は、ガラス基板11の導体パターン15側の面で、かつ、固体撮像素子13の周辺部に対応する位置である。封止材19には、例えばエポキシ樹脂、シリコン樹脂等の接着剤が用いられる。
次に、図3(e)に示すように、バンプ17を設けた固体撮像素子13を用意し、固体撮像素子13を、バンプ17を介してガラス基板11の導体パターン15にフリップチップ接続する。固体撮像素子13をガラス基板11に押圧した状態で、封止材19を加熱すると封止材19が熱硬化する。これにより固体撮像素子13の周辺部がガラス基板11に強固に固定される。また、固体撮像素子13のバンプ17がガラス基板11の導体パターン15に強固に接続される。そして、固体撮像素子13とガラス基板11との間の空間31が、受光エリア13aの外側でシール材25によりシールされる。
上述した固体撮像装置では、ガラス基板11の封止部21とシール部23との間に貫通穴27を形成したので、図3(e)に示すように、固体撮像素子13をガラス基板11に押圧した状態で、封止材19を加熱して熱硬化する時に、封止材19が変形することを防止することができる。
すなわち、ガラス基板11に貫通穴27が形成されていない場合には、図4(a)に示すように、固体撮像素子13をガラス基板11に押圧した状態での加熱圧着時に、固体撮像素子13とガラス基板11との間の空気が矢符のように膨張し高圧になる。そして、これにより図4(b)に示すように封止材19が変形する。このように封止材19が変形すると封止部21に例えば連通穴21aが形成され固体撮像素子13の受光エリア13aにゴミ等の異物が侵入するおそれがある。また、本来、図4(c)に示すようにバンプ17を覆っている封止材19が、図4(d)に示すようにバンプ17の部分から押し出されバンプ17の接続強度が低下するおそれがある。
一方、上述した固体撮像装置では、ガラス基板11の封止部21とシール部23との間に貫通穴27を形成したので、図3(e)に示す固体撮像素子13をガラス基板11に押圧した状態での加熱圧着時に、固体撮像素子13とガラス基板11との間の空気が貫通穴27から矢符のように外部に放出される。従って、固体撮像素子13とガラス基板11との間の空気が膨張して高圧になることがなくなり、封止材19の変形あるいはバンプ17の部分からの押し出されを効果的に防止することができる。また、加熱後の冷却時等にガラス基板11の貫通穴27からゴミ等の異物が侵入した場合には、受光エリア13aはガラス基板11とシール部材23とにより気密構造とされるため、受光エリア13aへの異物の侵入が防止される。
上述した固体撮像装置では、ガラス基板11の封止部21とシール部23との間に貫通穴27を形成したので、固体撮像装置を加熱した時にその構成部材に作用する熱応力を低減することができ、また、固体撮像素子13の受光エリア13aへのゴミの侵入を防止することができる。
すなわち、上述した固体撮像装置は、例えば図5に示すように、ガラス基板11に形成される導体パターン15を、プリント基板33に形成される導体パターン35に電気的に接続して使用される。そして、例えばリフローハンダ付けにより接続しようとする場合には、例えばプリント基板33の導体パターン15に予めハンダがメッキあるいは塗布される。そして、リフロー炉内で固体撮像素子13とプリント基板33を加熱してハンダを溶融することにより導体パターン15、35が相互にハンダ付けされる。
上述した固体撮像装置では、このようなリフローハンダ付け時に、固体撮像装置の構成部材に作用する熱応力を効果的に低減することができる。
すなわち、図6に示すように、ガラス基板11に貫通穴27が形成されていない場合には、ガラス基板11と固体撮像素子13との間の密閉空間37内の空気が膨張し、その圧力により封止部21の封止材19が破壊されるおそれがある。
しかしながら、上述した固体撮像装置では、図5に示すようにガラス基板11と固体撮像素子13との間の密閉空間29内の空気が膨張すると矢符で示すように貫通穴27から放出される。従って、空間29内の空気の圧力が高圧になることがなくなり、封止部21の封止材19が破壊されるおそれがなくなる。また、シール部23により固体撮像素子13の受光エリア13aへのゴミの侵入を防止することができる。
上述した固体撮像装置では、シール部23を、封止部21より弾性係数の小さい材料、すなわち弾性変形し易い材料により形成したので、ガラス基板11と固体撮像素子13との間を確実にシールすることができる。
すなわち、図3(e)に示すように、固体撮像素子13をガラス基板11に押圧すると、ガラス基板11に形成されるシール材25が比較的容易に弾性変形し固体撮像素子13に確実に密着する。そして、この状態で、封止材19を加熱し熱硬化すると固体撮像素子13がガラス基板11に固定される。従って、ガラス基板11と固体撮像素子13との間を確実にシールすることができる。
上述した固体撮像装置では、ガラス基板11の貫通穴27を、バンプ17が存在する位置とシール部23との間に形成したので、バンプ17の近傍の封止材19の変形あるいは押し出されを効果的に防止しバンプ17を強固に補強することができる。
すなわち、図3(e)に示すように固体撮像素子13をガラス基板11に押圧した状態での加熱圧着時に、バンプ17の近傍の空気が貫通穴27から効果的に外部に放出される。従って、バンプ17の近傍の空気が膨張して高圧になることがなくなり、バンプ17の近傍の封止材19の変形あるいはバンプ17の部分からの押し出されを効果的に防止することができる。
(第2の実施形態)
図7は、本発明の固体撮像装置の第2の実施形態を示している。なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の要素には同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、ガラス基板11の両側には、その両面に導体パターン15、37が形成されている。そして、両面の導体パターン15、37が、貫通ビア39により導通されている。貫通ビア39は、ガラス基板11に形成された貫通孔41に導電材料を充填して構成されている。
このようにガラス基板11の両面に導体パターン15を形成し、貫通ビア39により導通することにより、ガラス基板11の上面にプリント基板33を接続することができる。
そして、この実施形態では、ガラス基板11には、貫通ビア39用の貫通穴41と圧力低減用の貫通穴27とが同一の穴開け工程で形成される。従って、圧力低減用の貫通穴27を形成する工程を別途設ける必要がなくなる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(1)上述した実施形態では、透光性基板にガラス基板11を用いた例について説明したが、例えば、透光性基板に透明樹脂等の基板を用いても良い。
(2)上述した実施形態では、固体撮像素子13の対向する2辺にバンプ17を設けた例について説明したが、例えば固体撮像素子の4辺にバンプを設けても良い。そして、固体撮像素子の4辺にバンプを設ける場合には、各辺のバンプに対応して合計4箇所の貫通穴を形成するのが望ましい。
(3)上述した実施形態では、固体撮像素子13側にバンプ17を設けた例について説明したが、例えば、ガラス基板側にバンプを設けても良い。
11…ガラス基板、13…固体撮像素子、13a…受光エリア、15…導体パターン、17…バンプ、19…封止材、21…封止部、23…シール部、25…シール材、27…貫通穴。

Claims (3)

  1. 導体パターンが形成された透光性基板と、
    受光領域が前記透光性基板に対向して配置され、前記導体パターンに電気的に接続される固体撮像素子と、
    前記固体撮像素子の前記受光領域を囲んで前記固体撮像素子と前記透光性基板との間をシールする第1のシール部と、
    前記第1のシール部を囲んで前記固体撮像素子と前記透光性基板との間をシールする第2のシール部と、
    前記透光性基板において前記第1のシール部と前記第2のシール部との間に形成される貫通穴と、
    を備えることを特徴とする固体撮像装置。
  2. 請求項1記載の固体撮像装置において、
    前記第1のシール部は、前記第2のシール部より弾性係数の小さい材料により形成されていることを特徴とする固体撮像装置。
  3. 請求項1または請求項2記載の固体撮像装置において、
    前記貫通穴は、前記固体撮像素子と前記導体パターンとの電気的な接続位置と、前記第1のシール部との間に形成されていることを特徴とする固体撮像装置。
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