JP5381799B2 - Light-emitting element mounting substrate and light-emitting device using the substrate - Google Patents

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Description

本発明は発光素子搭載用基板およびこれを用いた発光装置に係り、特に反射率の低下を防止できる発光素子搭載用基板およびこれを用いた発光装置に関する。   The present invention relates to a light-emitting element mounting substrate and a light-emitting device using the same, and more particularly to a light-emitting element mounting substrate capable of preventing a decrease in reflectance and a light-emitting device using the same.

近年、発光ダイオード素子(発光素子)の高輝度、白色化に伴い、照明、各種ディスプレイ、大型液晶テレビのバックライト等として発光素子を用いた発光装置が使用されている。発光素子を搭載する発光素子搭載用基板には、一般に素子から発せられる光を効率よく反射する高反射性が求められる。   2. Description of the Related Art In recent years, light emitting devices using light emitting elements have been used as lighting, various displays, backlights for large liquid crystal televisions, and the like as light emitting diode elements (light emitting elements) become brighter and whiter. In general, a light emitting element mounting substrate on which a light emitting element is mounted is required to have high reflectivity for efficiently reflecting light emitted from the element.

このため、従来より、発光素子から発光する光を可能な限り前方に反射させることを目的として、基板表面に反射層を施す試みがされている。このような反射層としては、高い反射率を有する銀反射層がある。   For this reason, conventionally, an attempt has been made to apply a reflective layer to the substrate surface for the purpose of reflecting light emitted from the light emitting element as far forward as possible. As such a reflective layer, there is a silver reflective layer having a high reflectance.

しかし、銀は腐食しやすく、放置すると表面にAgSなどの化合物が生成して光反射率が低下しやすい。その対策として、銀の表面をシリコーン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂などの樹脂でコートする方法が提案されている(特許文献1参照)。しかし、この方法では樹脂中、あるいは銀導体層と樹脂の界面から水分や腐食性の気体が入り、経時的に銀導体層を腐食させてしまうため、長期信頼性を求められる製品への適用は困難であった。 However, silver is easily corroded, and if left as it is, a compound such as Ag 2 S is generated on the surface and the light reflectance is likely to be lowered. As a countermeasure, a method has been proposed in which the surface of silver is coated with a resin such as a silicone resin, an acrylic resin, an epoxy resin, or a urethane resin (see Patent Document 1). However, in this method, moisture or corrosive gas enters the resin or from the interface between the silver conductor layer and the resin, and the silver conductor layer is corroded over time. It was difficult.

そこで、銀導体層の腐食を防止するため、銀の表面をガラス層でコートする方法が提案されている(特許文献2参照)。   Therefore, in order to prevent corrosion of the silver conductor layer, a method of coating the surface of silver with a glass layer has been proposed (see Patent Document 2).

一方、セラミックス基板を銀等の導体との同時焼成で効率的に製造する方法として、低温同時焼成セラミック(Low Temperature Co-fired Ceramic)(以下、LTCCという。)が知られている。このLTCCをグリーンシートに成形し、このグリーンシートを複数層積層して焼結したものをセラミックス基板として使用することもある。この場合、グリーンシート上に金属ペーストを塗布しておくことにより、内部配線層を形成することも可能である。   On the other hand, a low temperature co-fired ceramic (hereinafter referred to as LTCC) is known as a method for efficiently producing a ceramic substrate by simultaneous firing with a conductor such as silver. The LTCC may be formed into a green sheet, and a plurality of green sheets laminated and sintered may be used as a ceramic substrate. In this case, the internal wiring layer can be formed by applying a metal paste on the green sheet.

特開2007−67116号公報JP 2007-67116 A 特開2009−231440号公報JP 2009-231440 A

特許文献2には、焼成して製造されたセラミックス(アルミナ)基板上に銀導体ペーストを塗布して銀の配線導体を形成し、さらにこの配線導体上に、ガラスペーストを塗布して焼成することによって銀の表面をガラス層でコートする方法が記載されている。しかし、この特許文献2に開示の方法では、銀導体層とガラス層の形成で焼成工程を繰り返す必要があった。   In Patent Document 2, a silver conductor paste is formed on a ceramic (alumina) substrate manufactured by firing to form a silver wiring conductor, and further, a glass paste is applied onto the wiring conductor and fired. Describes a method of coating the surface of silver with a glass layer. However, in the method disclosed in Patent Document 2, it is necessary to repeat the firing step in forming the silver conductor layer and the glass layer.

そこで、本発明者は、LTCCを用いて発光素子を搭載する基板と、給電のための内部配線層と、前記基板表面に銀等の金属で形成される反射層と、この反射層を腐食から保護するガラス層とを一括して、1回の焼成で形成することを試みた。   Therefore, the present inventor has developed a substrate on which a light emitting element is mounted using LTCC, an internal wiring layer for power feeding, a reflective layer formed of a metal such as silver on the substrate surface, and this reflective layer from corrosion. An attempt was made to form the glass layers to be protected together by firing once.

しかし、特許文献2に記載されているガラスペーストをLTCCに用いて同時焼成を行ったところ、基板に大きな変形が生じてしまった。特許文献2に記載されているガラスペースト(旭硝子製、商品名:AP5700)は結晶化温度Tcが880℃程度であり、通常のLTCCの焼成温度である800〜900℃程度の温度で焼成するとガラス層が結晶化しやすい。表面のガラス層が結晶化すると、焼成工程および焼成後の冷却工程においてセラミック基板部分とガラス層部分の収縮挙動が大きく異なる結果になる。そこで、表面のガラス層が焼成工程で結晶化し、それによって、基板が変形したものと考えている。   However, when the glass paste described in Patent Document 2 was used for LTCC and co-fired, large deformation occurred in the substrate. The glass paste (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., trade name: AP5700) described in Patent Document 2 has a crystallization temperature Tc of about 880 ° C. The layer is easy to crystallize. When the glass layer on the surface is crystallized, the shrinkage behavior of the ceramic substrate portion and the glass layer portion is greatly different in the firing step and the cooling step after firing. Therefore, it is considered that the glass layer on the surface is crystallized in the baking process, and thereby the substrate is deformed.

本発明は、焼成後に基板が変形せず、かつ反射層を腐食から防ぎ長期信頼性に優れた発光素子搭載用基板の提供を目的とする。また、この発光素子搭載用基板を用いた発光装置の提供を目的とする。   An object of the present invention is to provide a light-emitting element mounting substrate that does not deform after firing, prevents the reflective layer from corrosion, and has excellent long-term reliability. It is another object of the present invention to provide a light emitting device using this light emitting element mounting substrate.

本発明は、発光素子搭載用基板において、発光素子が搭載される搭載面を有する基板本体と、この基板本体の搭載面の一部に形成される銀を含む反射層と、この反射層上に形成されるガラス質絶縁層とを有し、前記ガラス質絶縁層は、酸化物基準のモル%表示で、SiOを30〜65%、Alを1〜%、Bを0〜40、MgO+CaO+SrO+BaOを5〜50%、ZnOを0〜15%、LiO+NaO+KOを0〜1%含有する軟化点900℃以下のガラスで形成されている。また、前記ガラス質絶縁層には、前記ガラス以外にセラミックスフィラーも含有できる。 The present invention provides a substrate for mounting a light-emitting element, a substrate body having a mounting surface on which the light-emitting element is mounted, a reflective layer containing silver formed on a part of the mounting surface of the substrate body, and on the reflective layer and a vitreous insulating layer formed, the vitreous insulating layer, as represented by mol% based on oxides, the SiO 2 30 to 65%, the Al 2 O 3 1~ 8%, B 2 O 3 the 0~40%, MgO + CaO + SrO + BaO 5-50% of ZnO 0 to 15% are formed by softening point 900 ° C. or less of the glass containing 0 to 1% of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O. In addition to the glass, the glassy insulating layer may contain a ceramic filler.

さらに、発光装置としては、上記発光素子搭載用基板と前記基板本体の搭載面に搭載される発光素子とこの発光素子を被覆する蛍光体層を備える。   Further, the light emitting device includes the light emitting element mounting substrate, a light emitting element mounted on the mounting surface of the substrate body, and a phosphor layer covering the light emitting element.

本発明の発光素子搭載用基板では、ガラス質絶縁層で銀を含む反射層を被覆することによって、反射層の酸化や硫化等の腐食を防止できるので、反射層の反射率の低下も防止できる。また、焼成後の反りも防ぐことができる。
また、本発明の発光装置によれば、反射層の腐食を長期間防止できるので、長期間反射率の高い状態を維持できる。
In the light-emitting element mounting substrate of the present invention, the reflective layer containing silver is covered with the vitreous insulating layer, so that the reflective layer can be prevented from corrosion such as oxidation and sulfurization. . Moreover, the curvature after baking can also be prevented.
Further, according to the light emitting device of the present invention, the reflection layer can be prevented from corroding for a long period of time, so that the state of high reflectance can be maintained for a long period of time.

本発明に用いられる基板の断面図の一例である。It is an example of sectional drawing of the board | substrate used for this invention. 本発明に用いられる基板に発光素子を配置した断面図の一例である。It is an example of sectional drawing which has arrange | positioned the light emitting element to the board | substrate used for this invention. 本発明の発光装置の断面図の一例である。It is an example of sectional drawing of the light-emitting device of this invention.

本発明の発光素子搭載用基板は、発光素子が搭載される搭載面を有する基板本体と、この基板本体の搭載面の一部に形成される銀を含む反射層と、この反射層上に形成されるガラス質絶縁層とを有し、前記ガラス質絶縁層は、酸化物基準のモル%表示で、SiOを30〜65%、Alを1〜10%、Bを0〜40%、MgO+CaO+SrO+BaOを5〜50%、ZnOを0〜20%、LiO+NaO+KOを0〜1%含有するガラスで形成されている。 The light emitting element mounting substrate of the present invention is formed on a substrate body having a mounting surface on which the light emitting element is mounted, a reflective layer containing silver formed on a part of the mounting surface of the substrate body, and the reflective layer. is and a vitreous insulating layer, the vitreous insulating layer is to, by mol% based on oxides, SiO 2 30 to 65%, the Al 2 O 3 1 to 10%, the B 2 O 3 It is made of glass containing 0 to 40%, MgO + CaO + SrO + BaO 5 to 50%, ZnO 0 to 20%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 1%.

基板本体は図1に示すように全体が平板状の部材や、図2に示すように発光素子搭載面が一段下の位置となるように凹部が形成された部材である。基板を構成する材質は、反射層と絶縁層とを焼き付けるため無機材料(アルミナセラミックス、窒化アルミニウムおよびLTCC等)が好ましい。特に、LTCCの場合には、基板本体、反射層および絶縁層を同時焼成によって形成でき、発光素子搭載用基板を製造するときの工程の負荷を少なくできる。さらに、LTCCで複数層積層するものを用いた場合には、給電のための内部配線層をも同時に焼成できる。   The substrate body is a flat plate member as shown in FIG. 1 or a member formed with a recess so that the light emitting element mounting surface is positioned one step lower as shown in FIG. The material constituting the substrate is preferably an inorganic material (alumina ceramics, aluminum nitride, LTCC, etc.) for baking the reflective layer and the insulating layer. In particular, in the case of LTCC, the substrate body, the reflective layer, and the insulating layer can be formed by simultaneous firing, and the load on the process when manufacturing the light emitting element mounting substrate can be reduced. Furthermore, in the case of using an LTCC in which a plurality of layers are laminated, an internal wiring layer for feeding can be fired at the same time.

反射層には反射率の高さから銀が主として用いられるが、銀パラジウム混合物や銀白金混合物等の金属も使用できる。この銀の焼結と、基板本体の焼結を一括して実施するLTCCの場合、銀を焼結させるためには銀の融点(962℃)付近に焼成温度を設定する必要がある。一方、銀の融点を超えるような温度では、銀が流動しすぎて変形してしまうため、通常は800〜900℃で焼成することが好ましい。   Silver is mainly used for the reflective layer because of its high reflectance, but metals such as a silver palladium mixture and a silver platinum mixture can also be used. In the case of LTCC in which the sintering of the silver and the sintering of the substrate body are performed together, it is necessary to set the firing temperature in the vicinity of the melting point of silver (962 ° C.) in order to sinter the silver. On the other hand, at a temperature exceeding the melting point of silver, silver is excessively fluidized and deformed, and therefore it is usually preferable to fire at 800 to 900 ° C.

ガラス質絶縁層は下層の反射層を腐食(特に、銀の酸化や硫化など)などから保護するための層であり、ガラス層またはガラスとセラミックスフィラーとの混合層(ガラス−セラミックス層)で構成される。ガラスはガラス質絶縁層を緻密にするための成分であり、反射率を低下させないように無色であることが好ましい。なお、本明細書において、単にガラスというときには、非晶質のガラスをいい、結晶質のガラスのときだけ結晶質ガラスとして表記する。   The glassy insulating layer is a layer that protects the lower reflective layer from corrosion (especially silver oxidation and sulfidation), and is composed of a glass layer or a mixed layer of glass and ceramic filler (glass-ceramic layer). Is done. Glass is a component for densifying the vitreous insulating layer, and is preferably colorless so as not to reduce the reflectance. Note that in this specification, the term “glass” simply refers to amorphous glass, and is referred to as crystalline glass only when it is crystalline glass.

ガラス質絶縁層に含まれる前記ガラスは、反射層を形成する導体(特に、反射率の高い銀で形成されたもの)と同時に焼成できることが好ましい。そして、特に銀導体と同時に焼成したときに、銀と反応せず、変色部やオープンポアなど、欠陥を生じないものが好ましい。すなわち、LTCCを用いた場合の基板本体、反射層および絶縁層を同時に焼成する場合、800〜900℃の焼成温度範囲で、結晶が析出せず焼結でき、緻密化できるガラスである。   It is preferable that the glass contained in the vitreous insulating layer can be fired simultaneously with a conductor forming the reflective layer (particularly, one made of silver having a high reflectance). And what does not produce defects, such as a discoloration part and an open pore, does not react with silver especially when baked simultaneously with a silver conductor. That is, when LTCC is used, when the substrate body, the reflective layer, and the insulating layer are fired at the same time, the glass can be sintered and densified in the firing temperature range of 800 to 900 ° C.

また、導体を被覆するガラスとしては一般に、アルカリ成分を実質的に含有しない無アルカリガラスまたは、アルカリ含有量の少ないガラスが好ましい。ガラス中にアルカリ成分が多量に含まれていると電気絶縁性が低下する恐れがあるからである。また、ガラスと銀とが反応しやすくなり、ガラス中に銀イオンが拡散しコロイドを形成するおそれもある。   Moreover, generally as a glass which coat | covers a conductor, the alkali free glass which does not contain an alkaline component substantially, or glass with little alkali content is preferable. This is because if the glass contains a large amount of alkali components, the electrical insulation property may be lowered. Further, the glass and silver are likely to react with each other, and silver ions may diffuse into the glass to form a colloid.

本発明者は種々検討した結果、焼成時にガラスがよく流動して緻密化することと、銀との反応を抑制することを両立できる無アルカリまたは低アルカリガラス組成範囲があることを見いだした。   As a result of various studies, the present inventor has found that there is an alkali-free or low-alkali glass composition range in which the glass flows and densifies well during firing and the reaction with silver can be suppressed.

本発明の発光装置において、発光素子としてはLED素子があげられる。より具体的には、放射した光で蛍光体を励起して可視光を発光させるものがあり、青色発光タイプのLED素子や紫外発光タイプのLED素子が例示される。ただし、これらに限定されるものではなく、蛍光体を励起して可視光を発光させることが可能な発光素子であれば、発光装置の用途や目的とする発光色等に応じて種々の発光素子を使用できる。   In the light emitting device of the present invention, examples of the light emitting element include an LED element. More specifically, there is one that excites a phosphor with emitted light to emit visible light, and examples include a blue light emitting type LED element and an ultraviolet light emitting type LED element. However, the light-emitting element is not limited thereto, and various light-emitting elements can be used depending on the use of the light-emitting device, the target light emission color, or the like as long as the light-emitting element can excite the phosphor and emit visible light. Can be used.

本発明の発光装置には、発光素子を被覆する蛍光体層(図3参照)が設けられることが好ましい。この蛍光体層は、シリコーン樹脂やエポキシ樹脂のような透明樹脂中に蛍光体を、混合・分散させたものである。蛍光体は、発光素子から放射された光により励起されて可視光を発光し、この可視光と発光素子から放射される光との混色によって、あるいは蛍光体から発光される可視光または可視光自体の混色によって、発光装置として所望の発光色を得るものである。蛍光体の種類は特に限定されるものではなく、目的とする発光色や発光素子から放射される光等に応じて適宜選択される。   The light emitting device of the present invention is preferably provided with a phosphor layer (see FIG. 3) covering the light emitting element. This phosphor layer is obtained by mixing and dispersing phosphors in a transparent resin such as a silicone resin or an epoxy resin. The phosphor is excited by the light emitted from the light emitting element to emit visible light, and the visible light or the visible light itself emitted from the phosphor by color mixture of the visible light and the light emitted from the light emitting element. As a light emitting device, a desired light emission color is obtained by mixing the colors. The type of the phosphor is not particularly limited, and is appropriately selected according to the target emission color, light emitted from the light emitting element, and the like.

また、蛍光体層は、直接発光素子を覆うように形成された被覆層の上に、別に蛍光体層を設けることも可能である。すなわち、蛍光体層は発光装置の発光素子が形成された側の最上層に形成されることが好ましい。   In addition, the phosphor layer can be separately provided on a coating layer formed so as to directly cover the light emitting element. That is, the phosphor layer is preferably formed on the uppermost layer on the side where the light emitting element of the light emitting device is formed.

本発明の発光装置は典型的には基板本体の表面に発光素子を電気的に接続する端子部を有し、当該端子部を除く領域がガラス質絶縁層で覆われているものである。この場合、発光素子の実装は、たとえば、発光素子を基板上にエポキシ樹脂やシリコーン樹脂で接着(ダイボンド)するとともに、発光素子上面の電極を金線等のボンディングワイヤを介して基板のパッド部に接続する方法、あるいは、LEDチップの裏面に設けられた半田バンプ、Auバンプ、Au−Sn共晶バンプ等のバンプ電極を、基板のリード端子やパッド部にフリップチップ接続する方法などにより行われる。   The light-emitting device of the present invention typically has a terminal portion for electrically connecting a light-emitting element on the surface of a substrate body, and a region excluding the terminal portion is covered with a glassy insulating layer. In this case, for example, the light-emitting element is mounted by bonding (die-bonding) the light-emitting element to the substrate with an epoxy resin or a silicone resin, and the electrode on the upper surface of the light-emitting element is attached to the pad portion of the substrate via a bonding wire such as a gold wire. The connection is performed, or a bump electrode such as a solder bump, an Au bump, or an Au—Sn eutectic bump provided on the back surface of the LED chip is flip-chip connected to a lead terminal or a pad portion of the substrate.

前記基板本体は反射層とそれを保護するガラス質絶縁層を設けることができれば特に限定されないが、以下では基板本体がLTCC基板である場合について説明する。   The substrate body is not particularly limited as long as it can be provided with a reflective layer and a glassy insulating layer that protects the reflective layer. Hereinafter, a case where the substrate body is an LTCC substrate will be described.

LTCC基板はガラス粉末とアルミナ粉末等のセラミックスフィラーとの混合物を焼成して製造される基板であり、銀導体と同時に焼成して製造することが可能な基板である。   The LTCC substrate is a substrate manufactured by baking a mixture of glass powder and ceramic filler such as alumina powder, and can be manufactured by baking simultaneously with a silver conductor.

LTCC基板に使用するガラス粉末とアルミナ粉末等のセラミックスフィラーは通常グリーンシート化して使用される。たとえば、まずガラス粉末とアルミナ粉末等をポリビニルブチラールやアクリル樹脂等の樹脂と、必要に応じてフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ブチルベンジル等の可塑剤等も添加して混合する。次に、トルエン、キシレン、ブタノール等の溶剤を添加してスラリーとし、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム上にドクターブレード法等によってこのスラリーをシート状に成形する。最後に、このシート状に成形されたものを乾燥して溶剤を除去しグリーンシートとする。これらグリーンシートには必要に応じて、銀ペーストを用いてスクリーン印刷等によって配線パターンやビアなどが形成される。   Ceramic fillers such as glass powder and alumina powder used for the LTCC substrate are usually used as green sheets. For example, first, glass powder and alumina powder are mixed with a resin such as polyvinyl butyral or acrylic resin and, if necessary, a plasticizer such as dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, or butyl benzyl phthalate. Next, a solvent such as toluene, xylene, or butanol is added to form a slurry, and this slurry is formed into a sheet on a film of polyethylene terephthalate or the like by a doctor blade method or the like. Finally, the sheet formed into a sheet is dried to remove the solvent to obtain a green sheet. On these green sheets, wiring patterns, vias, and the like are formed by screen printing using a silver paste as necessary.

LTCC基板を構成するガラスの組成は、たとえばモル%表示で、SiOが60.4%、Bが15.6%、Alが6%、CaOが15%、KOが1%、NaOが2%である。 The composition of the glass constituting the LTCC substrate is, for example, expressed in mol%, SiO 2 is 60.4%, B 2 O 3 is 15.6%, Al 2 O 3 is 6%, CaO is 15%, K 2 O Is 1% and Na 2 O is 2%.

LTCC基板の製造に用いられるガラス粉末は、溶融法によって得られたガラスを粉砕して製造される。粉砕の方法は本発明の目的を損なわないものであれば限定されず、乾式粉砕でもよいし湿式粉砕でもよい。湿式粉砕の場合には、溶媒として水を用いることが好ましい。また粉砕にはロールミル、ボールミル、ジェットミル等の粉砕機を適宜用いることができる。ガラスは粉砕後、必要に応じて乾燥され、分級される。   The glass powder used for manufacturing the LTCC substrate is manufactured by pulverizing glass obtained by a melting method. The pulverization method is not limited as long as it does not impair the object of the present invention, and dry pulverization or wet pulverization may be used. In the case of wet pulverization, it is preferable to use water as a solvent. For pulverization, a pulverizer such as a roll mill, a ball mill, or a jet mill can be appropriately used. After pulverization, the glass is dried and classified as necessary.

セラミックスフィラーの一例としてアルミナ粉末があげられる。アルミナ粉末の粒度や形状などは特に限定されない。典型的には平均粒径D50が1〜5μm程度のものが用いられる。たとえば昭和電工社製のAL−45Hが挙げられる。
ガラス粉末とアルミナ粉末の配合比率は典型的にはガラス粉末40質量%、アルミナ粉末60質量%である。なお、本明細書において50%粒径(D50)は、レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置を用いて測定したものをいう。
An example of the ceramic filler is alumina powder. The particle size and shape of the alumina powder are not particularly limited. Typically, those having an average particle diameter D50 of about 1 to 5 μm are used. An example is AL-45H manufactured by Showa Denko.
The mixing ratio of the glass powder and the alumina powder is typically 40% by mass of the glass powder and 60% by mass of the alumina powder. In the present specification, the 50% particle size (D 50 ) refers to a value measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer.

前記グリーンシートは、焼成後必要に応じて所望の形状に加工されて基板とされる。この場合、被焼成体は1枚または複数枚のグリーンシートを重ねたものである。前記焼成は典型的には850〜900℃に20〜60分間保持して行われる。より典型的な焼成温度は860〜880℃である。   The green sheet is processed into a desired shape after firing to form a substrate. In this case, the body to be fired is a laminate of one or more green sheets. The calcination is typically performed at 850 to 900 ° C. for 20 to 60 minutes. A more typical firing temperature is 860 to 880 ° C.

なお、反射層を同時に形成する場合、グリーンシートの焼成温度の上限である900℃で焼結できるが、900℃超では焼成時に銀または銀含有導体が軟化し、導体パターンやビアの形状が保持できなくなるおそれがある。好ましくは880℃以下である。より好ましくは870℃以下である。
基板表面に形成される銀を含む反射層は、反射率の観点から他の無機成分を含有しないことが好ましい。この反射層は主として、基板本体に搭載される発光素子から発せられる光を反射する。
When the reflective layer is formed at the same time, it can be sintered at 900 ° C., which is the upper limit of the green sheet firing temperature. However, if it exceeds 900 ° C., the silver or silver-containing conductor softens during firing and the shape of the conductor pattern and vias is maintained. There is a risk that it will not be possible. Preferably it is 880 degrees C or less. More preferably, it is 870 degreeC or less.
It is preferable that the reflective layer containing silver formed on the substrate surface does not contain other inorganic components from the viewpoint of reflectivity. The reflective layer mainly reflects light emitted from the light emitting element mounted on the substrate body.

次に、ガラス質絶縁層について説明する。
ガラス質絶縁層はガラス単体の層またはガラスとセラミックスフィラーとを含む層であると好ましい。
Next, the vitreous insulating layer will be described.
The glassy insulating layer is preferably a single glass layer or a layer containing glass and a ceramic filler.

ガラス質絶縁層の厚みは典型的には5〜30μmである。5μm未満であると、被覆性が不充分になるおそれがあるため5μm以上であることが好ましい。30μm超では発光素子の放熱性を阻害し発光効率が低下してしまうおそれがある。   The thickness of the glassy insulating layer is typically 5 to 30 μm. If it is less than 5 μm, the covering property may be insufficient, so that it is preferably 5 μm or more. If it exceeds 30 μm, the heat dissipation of the light emitting element may be hindered and the light emission efficiency may be reduced.

ガラス質絶縁層を形成する方法は5〜30μmの厚みの層を平坦に形成できる方法であれば特に限定されないが、典型的には、ガラス単体またはガラスとセラミックスフィラーとの混合物をペースト化してスクリーン印刷し、焼成して形成される。   The method for forming the glassy insulating layer is not particularly limited as long as the layer having a thickness of 5 to 30 μm can be formed flat. Typically, the screen is formed by pasting a single glass or a mixture of glass and ceramic filler into a screen. It is formed by printing and baking.

本発明においてガラス質絶縁層中、体積%表示でガラスを50%以上含有することが好ましい。50%未満であると、焼成時の焼結が不充分となり、被覆性を損ねるおそれがある。焼結性を向上するために70%以上含有することがより好ましい。また、セラミックスフィラーを50%以下含有する。セラミックスフィラーの含有量は典型的には5%以上である。セラミックスフィラーを含有することにより、ガラス質絶縁層の強度を高くできる場合がある。また、ガラス質絶縁層の放熱性を高くできる場合がある。   In this invention, it is preferable to contain 50% or more of glass by volume% display in a vitreous insulating layer. If it is less than 50%, sintering at the time of firing becomes insufficient, and the covering property may be impaired. In order to improve sinterability, it is more preferable to contain 70% or more. Further, it contains 50% or less of ceramic filler. The ceramic filler content is typically 5% or more. By containing a ceramic filler, the strength of the vitreous insulating layer may be increased. Moreover, the heat dissipation of a glassy insulating layer may be able to be made high.

前記セラミックスフィラーはアルミナ、シリカであることが例示されるが、反射率を損ねるような吸収をもたらさないもの(白色や透明)であれば、限定されるものではない。   The ceramic filler is exemplified by alumina and silica, but is not limited as long as it does not cause absorption that impairs the reflectance (white or transparent).

ガラス質絶縁層のガラスはTgが460〜780℃であることが好ましい。Tgはたとえば昇温速度10℃/分の条件で示差熱分析測定を行ったときに第1屈曲部のショルダーの温度として観測することができる。   The glass of the vitreous insulating layer preferably has a Tg of 460 to 780 ° C. Tg can be observed, for example, as the temperature of the shoulder of the first bent portion when differential thermal analysis measurement is performed at a temperature increase rate of 10 ° C./min.

ガラス質絶縁層のガラスは、Tsが700〜900℃であることが好ましい。ここでTsは昇温速度10℃/分の条件で1000℃まで示差熱分析測定を行ったときに第4屈曲部の温度として観測できる。   The glass of the vitreous insulating layer preferably has a Ts of 700 to 900 ° C. Here, Ts can be observed as the temperature of the fourth bent portion when differential thermal analysis measurement is performed up to 1000 ° C. under a temperature rising rate of 10 ° C./min.

ガラス質絶縁層のガラスは、焼成工程において結晶化しないものが好ましい。Tcが900℃以上のもの、またはTcが観測できないものが好ましい。Tcが900℃未満であると、焼成工程において結晶化しやすくなり、それによって基板に反りが生じるおそれがある。ここでTcは昇温速度10℃/分の条件で1000℃まで示差熱分析測定を行ったときにTgより高温で観測される発熱ピークの温度をいうものとする。   The glass of the vitreous insulating layer is preferably one that does not crystallize in the firing step. Those having Tc of 900 ° C. or higher or those in which Tc cannot be observed are preferable. When Tc is less than 900 ° C., crystallization is likely to occur in the firing step, which may cause warpage of the substrate. Here, Tc refers to the temperature of an exothermic peak observed at a temperature higher than Tg when differential thermal analysis measurement is performed up to 1000 ° C. under a temperature rising rate of 10 ° C./min.

次に本発明で使用できるガラスの組成について説明する。   Next, the composition of the glass that can be used in the present invention will be described.

酸化物基準のモル%表示でSiOを30〜65%、Alを1〜10%、Bを0〜40%、MgO+CaO+SrO+BaOを5〜50%、ZnOを0〜20%、LiO+NaO+KOを0〜1%含有するガラスである。 The SiO 2 30 to 65% by mol% based on oxides, the Al 2 O 3 1~10%, B 2 O 3 of 0~40%, MgO + CaO + SrO + BaO 5-50%, 0-20% of ZnO, It is a glass containing 0 to 1% of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O.

SiOは、ガラスの網目形成酸化物であり必須成分である。SiOの含有量が30%未満であるとガラスが不安定になるおそれがある、またはガラスの熱的安定性または化学的安定性が不十分となるおそれがある。SiOが65%超であるとガラスの軟化点(Ts)が高くなりすぎ、緻密なガラス質絶縁層が形成できないおそれがある。 SiO 2 is a glass network-forming oxide and an essential component. If the content of SiO 2 is less than 30%, the glass may become unstable, or the thermal stability or chemical stability of the glass may be insufficient. If the SiO 2 content exceeds 65%, the softening point (Ts) of the glass becomes too high, and a dense vitreous insulating layer may not be formed.

Alはガラスの安定性を高くする必須成分であり1%以上含有する。その含有量が1%未満であるとガラスが不安定になるおそれがある。好ましくは2%以上である。一方、Alの含有量が10%超であると、Tsが高くなりすぎるおそれがある。またTcが低くなり、焼成温度範囲で結晶化しやすくなるおそれがある。また銀導体の絶縁に用いて同時に焼成した時、銀発色により銀の反射率が低下しやすくなる。Alの含有量は好ましくは8%以下である。 Al 2 O 3 is an essential component that increases the stability of the glass and is contained in an amount of 1% or more. If the content is less than 1%, the glass may become unstable. Preferably it is 2% or more. On the other hand, if the content of Al 2 O 3 is more than 10%, Ts may be too high. Moreover, Tc becomes low, and there is a possibility that crystallization is likely to occur in the firing temperature range. Further, when used for insulation of a silver conductor and fired at the same time, silver reflectance tends to decrease the silver reflectance. The content of Al 2 O 3 is preferably 8% or less.

Alの銀発色挙動への関係について、さらに説明を述べる。銀発色の発生メカニズムは次のように説明できる。まず、銀を含む反射層を被覆する形で焼成するガラス質絶縁層には、焼成とともに銀がガラス質絶縁層のガラス中に拡散していく。ガラス中の銀は銀イオンの形で、通常、Agで存在すると考えられる。さらに、銀イオンがガラス中で移動し、集まるとともに、還元された場合、Agとなり、それがコロイド化すると、光吸収を引き起こす。この光吸収が、いわゆる銀発色として検知される。 A further description will be given of the relationship of Al 2 O 3 to the silver coloring behavior. The generation mechanism of silver coloring can be explained as follows. First, in the vitreous insulating layer that is fired in such a manner as to cover the reflective layer containing silver, silver diffuses into the glass of the vitreous insulating layer as it is fired. Silver in the glass is considered to be present in the form of silver ions and is usually Ag + . In addition, silver ions move and collect in the glass and, when reduced, become Ag 0 and, when colloidal, cause light absorption. This light absorption is detected as so-called silver coloring.

このメカニズムにおいて考察すると、銀が、ガラス中で銀イオンの形のままで存在するならば、光吸収は引き起こされず、銀発色は検知されない。つまり銀を銀イオンのままガラス中で留めておくことが、銀発色抑制の有効な手段であるといえる。   Considering in this mechanism, if silver is present in the glass in the form of silver ions, no light absorption is caused and no silver color is detected. That is, it can be said that keeping silver in the glass as silver ions is an effective means for suppressing silver color development.

本発明の場合、ガラスの安定性、原料の入手容易性、メッキ工程などで必要な化学耐久性の確保が容易であることから、SiOを骨格としたガラスを選定している。SiOを骨格としたガラス中のアルカリ金属成分とAlの関係については、以下のことが知られている。なお、ここで、Mはアルカリ金属原子を示す。まず、SiOを骨格としたガラスにアルカリ成分を導入していくと、アルカリ金属原子はガラス中のケイ素原子と酸素原子との結合、すなわち、Si−O−Siの架橋を壊し、Si−O:Mのイオン結合の形で入っていき、いわゆる非架橋酸素を生じていく。 In the case of the present invention, glass having SiO 2 as a skeleton is selected because it is easy to ensure stability of glass, availability of raw materials, and chemical durability required in a plating process. Regarding the relationship between the alkali metal component in the glass having SiO 2 as a skeleton and Al 2 O 3 , the following is known. Here, M represents an alkali metal atom. First, when an alkali component is introduced into a glass having a SiO 2 skeleton, alkali metal atoms break the bond between silicon atoms and oxygen atoms in the glass, that is, Si—O—Si crosslinks, and Si—O— : Enters in the form of M + ionic bonds, and generates so-called non-bridging oxygen.

ここにAlを導入すると、まず、アルミニウムイオンであるAl3+はガラス中の非架橋酸素を引きつけて、4配位構造の[AlO]の形をとり、中心のAlは負の電荷を帯びた形になる。この電荷補償のため、正の電荷を持つM(アルカリ金属イオン)を引きつける形をとる。同様の構造をとる元素としてB(ホウ素)も知られているが、Al(アルミニウム)の方がBより優先的に、この構造をとりやすいと言われている。この構造をとるとき、ガラス全体の構造中の非架橋酸素の数は減り、ガラスネットワークの構造は強くなる。 When Al 2 O 3 is introduced here, first, Al 3+ that is an aluminum ion attracts non-bridging oxygen in the glass and takes the form of [AlO 4 ] having a four-coordinate structure, and the central Al is a negative charge. It becomes a tinged shape. For this charge compensation, M + (alkali metal ion) having a positive charge is attracted. B (boron) is also known as an element having a similar structure, but it is said that Al (aluminum) preferentially takes this structure in preference to B. When this structure is adopted, the number of non-bridging oxygen in the structure of the entire glass is reduced, and the structure of the glass network is strengthened.

ここで、Ag(銀)について考察すると、Agもアルカリ金属原子と同様に、1価の価数をとり、ガラス中で、イオンとして存在するときには、Agとなり、アルカリ金属原子と同様の挙動を示すことが推察される。つまり、Al3+はガラス中の非架橋酸素を引きつけて、4配位の[AlO]の形をとり、中心のAlは負の電荷を帯びた形になる。この電荷補償のため、正の電荷を持つAg(銀イオン)を引きつける形をとる。ガラス中の銀イオンは発色の原因とはならないので、銀イオンで安定に存在できるこの構造をとる場合、銀発色は生じにくいと考えられる。 Here, considering Ag (silver), Ag also takes a monovalent valence, like an alkali metal atom, and when it exists as an ion in glass, it becomes Ag + and behaves like an alkali metal atom. It is inferred to show. That is, Al 3+ attracts non-bridging oxygen in the glass and takes the form of four-coordinate [AlO 4 ], and the central Al becomes negatively charged. For this charge compensation, Ag + (silver ions) having a positive charge is attracted. Since silver ions in the glass do not cause color development, it is considered that silver color formation is unlikely to occur when this structure that can exist stably with silver ions is adopted.

しかしAlが過剰な場合、ガラス中でAlは6配位構造をとり、いわゆる修飾元素として振る舞うことが知られている。この場合、Alは非架橋酸素を増加させる方向に振る舞うため、ガラスは隙間の多い構造をとることになる。さらに、AlがAgなどの正の電荷を持つイオンを引きつける形とはならない。つまり、銀イオンをガラス中で安定化できなくなってくる。このとき、アルカリ金属原子および銀はガラス中で移動しやすくなり、銀が集まり、コロイド化する可能性が高まると推察される。発明者はSiO含有量(%)と3倍のAl含有量(%)の和が大きすぎると銀発色が生じやすくなることを見いだした。すなわち、SiO+3×Alの値は90%以下であることが好ましい。90%超であると銀発色が生じやすくなる。 However, when Al 2 O 3 is excessive, it is known that Al has a six-coordinate structure in glass and behaves as a so-called modifying element. In this case, since Al behaves in the direction of increasing non-bridging oxygen, the glass has a structure with many gaps. Further, Al does not attract ions having positive charges such as Ag + . In other words, silver ions cannot be stabilized in the glass. At this time, it is presumed that alkali metal atoms and silver easily move in the glass, and silver is likely to collect and colloid. The inventor has found that if the sum of the SiO 2 content (%) and the triple Al 2 O 3 content (%) is too large, silver coloring tends to occur. That is, the value of SiO 2 + 3 × Al 2 O 3 is preferably 90% or less. If it exceeds 90%, silver coloring tends to occur.

BaOは必須成分ではないが、ガラスを安定化させ、Tsを下げる効果があり、少量添加させることが好ましい。具体的には3%以上含有することが好ましく、5%以上含有することがより好ましい。   BaO is not an essential component, but has the effect of stabilizing the glass and lowering Ts, and it is preferable to add a small amount. Specifically, it is preferably 3% or more, more preferably 5% or more.

MgO、CaO、SrO、ZnOはいずれも必須成分ではないが、ガラスの溶融温度を下げ、Tsを低くする成分であり、BaOとの合量で5%以上含有することが好ましく、8%以上含有することがより好ましい。5%未満であるとガラスが不安定になるおそれがある。またはTsが高くなり緻密な絶縁層の形成が困難になるおそれがある。MgO、CaO、SrO、BaO、ZnOは合計で50%まで含有できる。50%超であるとガラスが不安定になりやすく、また銀導体上にガラスを塗布して同時に焼成したときに発色しやすくなるおそれがある。好ましくは40%以下である。またMgO、CaO、SrO、BaOの含有量の合計が35%超であると結晶化しやすくなるおそれがある。   MgO, CaO, SrO and ZnO are not essential components, but are components that lower the melting temperature of the glass and lower Ts, and preferably contain 5% or more in total with BaO, and contain 8% or more. More preferably. If it is less than 5%, the glass may become unstable. Alternatively, Ts may increase and it may be difficult to form a dense insulating layer. MgO, CaO, SrO, BaO, ZnO can be contained up to 50% in total. If it exceeds 50%, the glass tends to be unstable, and there is a possibility that the color tends to develop when the glass is coated on the silver conductor and fired at the same time. Preferably it is 40% or less. Further, if the total content of MgO, CaO, SrO, and BaO exceeds 35%, crystallization may easily occur.

ZnOを含有する場合、含有量は20%以下であることが好ましい。20%超であると化学的耐久性が不十分になるおそれがある。   When ZnO is contained, the content is preferably 20% or less. If it exceeds 20%, chemical durability may be insufficient.

は必須ではないが、ガラスの安定性を増し、Tsを下げる成分であり40%まで含有することができる。40%超であると耐酸性などの化学的耐久性が不十分になるおそれがある。 B 2 O 3 is not essential, but it is a component that increases the stability of the glass and lowers Ts, and can be contained up to 40%. If it exceeds 40%, chemical durability such as acid resistance may be insufficient.

LiO、NaO、KO等のアルカリ金属酸化物を含有する場合、合計の含有量は1%以下である。無アルカリガラスであることがより好ましい。すなわち、アルカリ金属酸化物を実質的に含有しないことが好ましい。これらのアルカリ成分を含有するガラスは銀などの導体の絶縁に用いたときに電気絶縁性が不十分となるおそれがある。また、銀導体上にガラスを塗布して同時に焼成したときに、銀とガラスとの間に好ましくない反応(銀発色)が生じるおそれがある。 When an alkali metal oxide such as Li 2 O, Na 2 O, or K 2 O is contained, the total content is 1% or less. More preferably, it is alkali-free glass. That is, it is preferable not to contain an alkali metal oxide substantially. Glass containing these alkali components may have insufficient electrical insulation when used for insulation of a conductor such as silver. Further, when glass is applied onto a silver conductor and fired at the same time, an undesirable reaction (silver coloring) may occur between silver and glass.

本発明におけるガラスは本質的に上記成分を主成分とするが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。そのような成分を含有する場合、それら成分の含有量の合計は10%以下であることが好ましい。ただし、鉛酸化物は含有しない。   Although the glass in the present invention essentially contains the above components as a main component, it may contain other components as long as the object of the present invention is not impaired. When such components are contained, the total content of these components is preferably 10% or less. However, lead oxide is not contained.

本発明のガラス質絶縁層を形成した発光素子搭載用基板の反射率としては、85%以上が好ましく、88%以上がより好ましく、90%以上がさらに好ましい。   The reflectance of the light emitting element mounting substrate on which the vitreous insulating layer of the present invention is formed is preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and further preferably 90% or more.

表1に示す例1〜8についてモル%で示す組成となるようにガラス原料を調合、混合し、この混合された原料を白金ルツボに入れて1500〜1600℃で60分間溶融後、溶融ガラスを流し出し冷却した。得られたガラスをアルミナ製ボールミルで水を溶媒として20〜60時間粉砕してガラス粉末を得た。例1〜6が実施例のガラスであり、例7が比較例のガラスである。例8は例4のガラス粉末にアルミナフィラー(住友化学製AA−2)を加えた実施例である。ガラスとアルミナの体積比を表中のガラス欄およびアルミナ欄に示している。   A glass raw material was prepared and mixed so as to have the composition shown in mol% for Examples 1 to 8 shown in Table 1, and the mixed raw material was put in a platinum crucible and melted at 1500 to 1600 ° C. for 60 minutes, and then the molten glass was obtained. Sink out and cool. The obtained glass was pulverized with an alumina ball mill for 20 to 60 hours using water as a solvent to obtain glass powder. Examples 1-6 are the glass of an Example, Example 7 is the glass of a comparative example. Example 8 is an example in which an alumina filler (AA-2 manufactured by Sumitomo Chemical) was added to the glass powder of Example 4. The volume ratio of glass to alumina is shown in the glass column and alumina column in the table.

各ガラス粉末の平均粒径D50(単位:μm)を、島津製作所社製SALD2100を用いて測定した。いずれもD50=1〜3μmの範囲内であった。軟化点Ts(単位:℃)をブルカーAXS社製熱分析装置TG−DTA2000を用いて昇温速度10℃/分の条件で1000℃まで、それぞれ測定した。また、例1〜8のいずれについてもTs測定時に結晶ピークは認められなかった。 The average particle diameter D 50 (unit: μm) of each glass powder was measured using SALD2100 manufactured by Shimadzu Corporation. Were each in the range of D 50 = 1 to 3 [mu] m. The softening point Ts (unit: ° C.) was measured up to 1000 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C./min using a thermal analyzer TG-DTA2000 manufactured by Bruker AXS. In any of Examples 1 to 8, no crystal peak was observed during Ts measurement.

例1〜4、7については各ガラス粉末のみ、例8についてはガラス粉末にアルミナフィラーを加えた混合粉末を質量%表示で70%、樹脂を溶剤に溶融したビヒクル成分を30%としたものについて、磁器乳鉢中で1時間混練を行い、さらに三本ロールにて3回分散を行ってガラスペーストを作製した。   For Examples 1 to 4 and 7, only each glass powder was used. For Example 8, a mixed powder obtained by adding an alumina filler to glass powder was 70% by mass%, and the vehicle component obtained by melting a resin in a solvent was 30%. The mixture was kneaded in a porcelain mortar for 1 hour, and further dispersed three times with a three roll to produce a glass paste.

銀ペーストは、導電性粉末(大研化学工業社製S400−2)およびエチルセルロースを質量比85:15の割合で調合し、固形分の質量%表示濃度を85%として溶剤(αテレピネオール)に分散した後、磁器乳鉢中で1時間混練を行い、さらに三本ロールにて3回分散を行って作製した。   The silver paste is prepared by mixing conductive powder (S400-2 manufactured by Daiken Chemical Industry Co., Ltd.) and ethyl cellulose at a mass ratio of 85:15, and dispersing in a solvent (α terpineol) with a solid mass% display concentration of 85%. After that, it was kneaded in a porcelain mortar for 1 hour, and further dispersed three times with three rolls.

LTCCグリーンシートに銀ペーストを印刷し、乾燥後、ガラスペーストを銀ペースト上に印刷し、これを550℃に5時間保持して樹脂成分を分解除去した後、870℃に30分保持して焼成を行った。得られたLTCC基板の表面の反射率を測定した。反射率の測定にはオーシャンオプティクス社の分光器USB2000と小型積分球ISP−RFを用いて測定し、可視光域の400〜800nmの平均値を反射率(単位:%)として算出した。結果を表に示す。   The silver paste is printed on the LTCC green sheet, and after drying, the glass paste is printed on the silver paste. This is held at 550 ° C. for 5 hours to decompose and remove the resin component, and then held at 870 ° C. for 30 minutes and fired. Went. The reflectance of the surface of the obtained LTCC substrate was measured. The reflectance was measured using a spectroscope USB2000 and a small integrating sphere ISP-RF manufactured by Ocean Optics, and the average value of 400 to 800 nm in the visible light region was calculated as the reflectance (unit:%). The results are shown in the table.

反射率は絶縁層のない銀導体層表面が95%の反射率であることから、可能な限りそれに近い反射率が望ましい。実パッケージにLEDを載置し、光量測定した結果と、本手法による測定の反射率との相関から考慮して、反射率85%未満では効率的に発光素子からの光を反射できないので絶縁層としては好ましくないと考えた。   Since the reflectance of the silver conductor layer without an insulating layer is 95%, the reflectance is preferably as close to that as possible. Considering the correlation between the result of measuring the amount of light and placing the LED on the actual package and the reflectance of the measurement by this method, if the reflectance is less than 85%, the light from the light emitting element cannot be reflected efficiently, so the insulating layer I thought it was not preferable.

Figure 0005381799
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携帯電話や大型液晶TV等のバックライトに利用できる。   It can be used for backlights of mobile phones and large LCD TVs.

1:LTCC基板
2:導体層(反射層)
3:ガラス質絶縁層
4:ビア導体
5:封止樹脂(蛍光体層)
6:発光素子
7:ボンディングワイヤ
8:金メッキ層
1: LTCC substrate 2: Conductor layer (reflection layer)
3: Glassy insulating layer 4: Via conductor 5: Sealing resin (phosphor layer)
6: Light emitting element 7: Bonding wire 8: Gold plating layer

Claims (6)

発光素子が搭載される搭載面を有する基板本体と、この基板本体の搭載面の一部に形成される銀を含む反射層と、この反射層上に形成されるガラス質絶縁層とを有し、
前記ガラス質絶縁層は、酸化物基準のモル%表示で、SiOを30〜65%、Alを1〜%、Bを0〜40、MgO+CaO+SrO+BaOを5〜50%、ZnOを0〜15%、LiO+NaO+KOを0〜1%含有する軟化点900℃以下のガラスで形成されていることを特徴とする発光素子搭載用基板。
A substrate body having a mounting surface on which the light emitting element is mounted; a reflective layer containing silver formed on a part of the mounting surface of the substrate body; and a vitreous insulating layer formed on the reflective layer. ,
The vitreous insulating layer, as represented by mol% based on oxides, the SiO 2 30 to 65%, the Al 2 O 3 1~ 8%, B 2 O 3 of 0~40%, MgO + CaO + SrO + BaO 5-50% A substrate for mounting a light-emitting element, characterized by being formed of glass having a softening point of 900 ° C. or lower, containing 0 to 15 % of ZnO and 0 to 1% of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O.
前記ガラス質絶縁層に含まれるガラスが転移点460〜780℃、軟化点700〜900℃、結晶化点900℃以上の熱特性をもつガラスである請求項1に記載の発光素子搭載用基板。   The light emitting element mounting substrate according to claim 1, wherein the glass contained in the glassy insulating layer is a glass having thermal characteristics of a transition point of 460 to 780 ° C., a softening point of 700 to 900 ° C., and a crystallization point of 900 ° C. or more. 前記ガラス質絶縁層が前記ガラス以外にセラミックスフィラーを含有する請求項1または2に記載の発光素子搭載用基板。   The light emitting element mounting substrate according to claim 1, wherein the glassy insulating layer contains a ceramic filler in addition to the glass. 前記基板本体上に前記発光素子用の端子部が形成され、この端子部を除く領域に前記絶縁層が形成されている請求項1〜3のいずれか1項に記載の発光素子搭載用基板。   The light emitting element mounting substrate according to claim 1, wherein a terminal portion for the light emitting element is formed on the substrate body, and the insulating layer is formed in a region excluding the terminal portion. 前記基板本体が凹部を有し、この凹部の底面を発光素子搭載面とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の発光素子搭載用基板。   The light emitting element mounting substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein the substrate body has a recess, and the bottom surface of the recess is a light emitting element mounting surface. 請求項1〜5のいずれかに1項に記載の発光素子搭載用基板の前記ガラス質絶縁層上に発光素子が搭載され、前記発光素子を被覆する蛍光体層を有する発光装置。   A light-emitting device having a phosphor layer on which a light-emitting element is mounted on the glassy insulating layer of the light-emitting element mounting substrate according to claim 1.
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