JP2013239546A - Substrate for mounting light emitting element and light emitting device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for mounting a light emitting element, high in reflectance at a light emitting element mounting face, less in optical loss due to silver coloring when used in a light emitting device, and high in light extraction efficiency.SOLUTION: A substrate 1 for mounting a light emitting element includes: a substrate body 2; a silver reflective layer 6 formed in the substrate body 2 and comprising silver or a silver alloy as a main body; and a coating layer 7 formed so as to cover the entire face of the silver reflective layer 6 and comprising a glass ceramic sintered body comprising glass as a main body and containing ceramic powder. The coating layer substantially contains no alumina-based ceramic powder, and contains ceramic powder including one kind or more of powder of ceramic having high refractive index, the difference between the high refractive index and a refractive index of the glass being 0.4 or more.

Description

本発明は、発光素子搭載用基板および発光装置に係り、特に、光取り出し効率の高い発光素子搭載用基板、およびこれを用いた発光装置に関する。   The present invention relates to a light-emitting element mounting substrate and a light-emitting device, and more particularly to a light-emitting element mounting substrate with high light extraction efficiency and a light-emitting device using the same.

近年、発光ダイオード(LED)のような発光素子の高輝度化、白色化に伴い、照明、各種ディスプレイ、大型液晶TVのバックライト等として、発光素子を用いた発光装置が使用されている。一般に、発光素子を搭載する発光素子搭載用基板には、素子から発せられる光を効率よく反射する高反射性が求められるため、基板表面に反射層(光反射層)を施す試みがなされている。そして、反射層として、高い反射率を有する銀を主体とする反射層(以下、銀反射層と記す。)が用いられている。   2. Description of the Related Art In recent years, light emitting devices using light emitting elements have been used as lighting, various displays, backlights for large liquid crystal TVs, and the like with increasing brightness and whitening of light emitting elements such as light emitting diodes (LEDs). In general, since a light emitting element mounting substrate on which a light emitting element is mounted is required to have high reflectivity for efficiently reflecting light emitted from the element, attempts have been made to provide a reflective layer (light reflecting layer) on the substrate surface. . A reflective layer mainly composed of silver having a high reflectance (hereinafter referred to as a silver reflective layer) is used as the reflective layer.

しかし、銀は腐食されやすいため、露出状態で放置すると、銀反射層の表面で酸化や硫化が生じて反射率が低下し、十分な光取り出し効率が得られない。そこで、銀反射層の腐食を防止するため、表面を被覆層で覆う方法が提案されている。近年、封止性が高く、かつ焼成時に変形が生じにくく、表面平坦度が高い被覆層を形成できる材料として、セラミックス粉末を含有させたガラス材料が検討されている(例えば、特許文献1参照。)。被覆層を、ガラス粉末とセラミックス粉末との混合物の焼結体(以下、ガラスセラミックス焼結体ということがある。)により構成することで、表面平坦度が高められる。また、発光素子から被覆層に入射した光の反射方向を分散させることができ、配光特性のばらつきも低減できる。   However, since silver is easily corroded, if left in an exposed state, oxidation or sulfuration occurs on the surface of the silver reflection layer, the reflectance is lowered, and sufficient light extraction efficiency cannot be obtained. In order to prevent corrosion of the silver reflection layer, a method of covering the surface with a coating layer has been proposed. In recent years, a glass material containing ceramic powder has been studied as a material that can form a coating layer that has high sealing properties, is less likely to be deformed during firing, and has high surface flatness (see, for example, Patent Document 1). ). By configuring the coating layer with a sintered body of a mixture of glass powder and ceramic powder (hereinafter sometimes referred to as a glass ceramic sintered body), the surface flatness is increased. In addition, the reflection direction of light incident on the coating layer from the light emitting element can be dispersed, and variations in light distribution characteristics can be reduced.

しかしながら、銀反射層の表面にガラスセラミックス焼結体からなる被覆層を設けた構造では、銀反射層だけの場合に比べて反射率が大きく低下するという問題があった。   However, in the structure in which a coating layer made of a glass ceramic sintered body is provided on the surface of the silver reflection layer, there is a problem that the reflectance is greatly reduced as compared with the case of only the silver reflection layer.

また、銀反射層の表面に、例えば、アルミナ(Al)系セラミックス粉末を含むガラスセラミックス焼結体の被覆層を設けた場合、以下に示す理由で、被覆層に変色が生じる結果、発光装置としての光度(輝度)が低下するという問題があった。すなわち、焼成過程で、銀反射層からアルミナ系セラミックス粉末を含有する被覆層に銀イオンが拡散・移行(マイグレーション)し、移行した銀イオンが被覆層の表面から露出する現象が生じる。そして、このような被覆層の上に発光素子を搭載し、シリコーン樹脂等の封止層を形成した場合、被覆層表面に露出した高濃度の銀イオン(Ag)が、封止層に含有される白金触媒等と接触することで還元されてAgとなり、凝集してコロイド粒子化し、被覆層とシリコーン樹脂等の封止層との界面で発色する、いわゆる銀発色と呼ばれる現象が発生する。その結果、反射率が低下して発光装置としての輝度が低下するおそれがあった。 Moreover, for example, when a coating layer of a glass ceramic sintered body containing alumina (Al 2 O 3 ) ceramic powder is provided on the surface of the silver reflection layer, the coating layer is discolored for the following reason. There has been a problem that the light intensity (luminance) of the light emitting device is lowered. That is, during the firing process, silver ions diffuse and migrate from the silver reflective layer to the coating layer containing the alumina-based ceramic powder, and the transferred silver ions are exposed from the surface of the coating layer. And when a light emitting element is mounted on such a coating layer and a sealing layer such as a silicone resin is formed, high-concentration silver ions (Ag + ) exposed on the surface of the coating layer are contained in the sealing layer. Is reduced to Ag 0 by contact with a platinum catalyst, and the like, agglomerates into colloidal particles, and develops a phenomenon called so-called silver coloring that develops color at the interface between the coating layer and a sealing layer such as a silicone resin. . As a result, the reflectivity may be reduced, and the luminance as the light emitting device may be reduced.

特開2011−228672号公報JP2011-228672A

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであって、発光素子搭載面の反射率が高く、また発光装置としたときの銀発色による光の損失が少なく、光の取出し効率が高い発光素子搭載用基板と、その基板を用いた発光装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and has a high reflectance of a light emitting element mounting surface, a small light loss due to silver coloring when used as a light emitting device, and a high light extraction efficiency. It is an object to provide a light-emitting element mounting substrate and a light-emitting device using the substrate.

本発明の発光素子搭載用基板は、発光素子が搭載される搭載面を有する基板本体と、前記基板本体の前記搭載面に形成された銀または銀合金を主体とする金属層と、前記金属層の全面を覆うように形成された、ガラスを主体としセラミックス粉末を含有するガラスセラミックス焼結体で構成される被覆層を有する発光素子搭載用基板であって、前記被覆層は、アルミナ系のセラミックス粉末を実質的に含有せず、かつガラスとの屈折率の差が0.4以上の高屈折率セラミックスの粉末の1種以上を含むセラミックス粉末を含有することを特徴とする。   The substrate for mounting a light emitting element of the present invention includes a substrate body having a mounting surface on which the light emitting element is mounted, a metal layer mainly composed of silver or a silver alloy formed on the mounting surface of the substrate body, and the metal layer. A substrate for mounting a light-emitting element, which is formed so as to cover the entire surface of the substrate and has a coating layer made of a glass-ceramic sintered body mainly composed of glass and containing ceramic powder, the coating layer comprising an alumina-based ceramic A ceramic powder containing substantially no powder and containing at least one high refractive index ceramic powder having a refractive index difference of 0.4 or more from glass is contained.

本発明の発光素子搭載用基板において、前記ガラス中のAlの含有量は、酸化物基準のモル%表示で2%未満であることが好ましい。また、前記基板本体の前記搭載面において、前記金属層の上に前記被覆層が形成された領域の光反射率は、94%以上であることが好ましい。また、前記被覆層に含まれる銀の濃度は、AgOに換算して0.5質量%以下であることが好ましい。 In the light-emitting element mounting substrate of the present invention, the content of Al 2 O 3 in the glass is preferably less than 2% in terms of mol% based on oxide. Moreover, it is preferable that the light reflectance of the area | region where the said coating layer was formed on the said metal layer is 94% or more in the said mounting surface of the said board | substrate body. The concentration of the silver contained in the coating layer is preferably in terms of Ag 2 O is 0.5 wt% or less.

さらに、本発明の発光素子搭載用基板において、前記被覆層に含まれる前記高屈折率セラミックスの粉末の含有量は、0.8体積%以上20体積%以下であることが好ましい。そして、前記被覆層は、前記ガラスの粉末と前記セラミックス粉末とを含むペーストの印刷層の焼成により形成された層であり、該被覆層に含まれる前記セラミックス粉末の総含有量は、15体積%以上40体積%以下であることが好ましい。また、前記被覆層は、前記ガラスの粉末と前記セラミックス粉末とを含むグリーンシートの焼成により形成された層であり、該被覆層に含まれる前記セラミックス粉末の総含有量は、40体積%以上50体積%未満であることが好ましい。   Furthermore, in the light emitting element mounting substrate of the present invention, the content of the high refractive index ceramic powder contained in the coating layer is preferably 0.8 volume% or more and 20 volume% or less. And the said coating layer is a layer formed by baking the printing layer of the paste containing the said powder of glass and the said ceramic powder, The total content of the said ceramic powder contained in this coating layer is 15 volume% The content is preferably 40% by volume or less. The coating layer is a layer formed by firing a green sheet containing the glass powder and the ceramic powder, and the total content of the ceramic powder contained in the coating layer is 40% by volume or more and 50%. It is preferable that it is less than volume%.

本発明の発光装置は、前記本発明の発光素子搭載用基板と、この発光素子搭載用基板の前記搭載面の搭載部に搭載される発光素子とを有することを特徴とする。また、本発明の発光装置は、前記被覆層の表面の一部または全部がシリコーン樹脂により封止されてなることが好ましい。   The light emitting device of the present invention includes the light emitting element mounting substrate of the present invention and a light emitting element mounted on the mounting portion of the mounting surface of the light emitting element mounting substrate. In the light emitting device of the present invention, it is preferable that a part or all of the surface of the coating layer is sealed with a silicone resin.

本発明の発光素子搭載用基板によれば、銀または銀合金を主体とする金属層への気体または液体の侵入を抑制して酸化や硫化を防止できるうえに、金属層から被覆層への銀イオンの移行・拡散を防止して、被覆層表面での銀イオンの凝集およびコロイド粒子化を防止することができ、銀発色による反射率の低下を防ぐことができる。
さらに、被覆層が、高屈折率セラミックス粉末を含むセラミックス粉末を含有しているので、銀または銀合金を主体とする金属層の上に被覆層を形成したことによる反射率の低下を抑えて高い反射率を達成できるうえに、発光素子搭載部の平坦性が向上された発光素子搭載用基板とすることができる。さらに、基板上前記金属層とその上に設けられる被覆層とを、同時に焼成して形成できるので、工程の負荷を抑えることができる。
According to the substrate for mounting a light emitting element of the present invention, it is possible to prevent gas or liquid from entering a metal layer mainly composed of silver or a silver alloy to prevent oxidation or sulfidization, and silver from the metal layer to the coating layer. By preventing ion migration / diffusion, silver ions can be prevented from agglomerating and colloidal particles on the surface of the coating layer, and a decrease in reflectance due to silver coloring can be prevented.
Furthermore, since the coating layer contains ceramic powder including high refractive index ceramic powder, it is high by suppressing the decrease in reflectance due to the formation of the coating layer on the metal layer mainly composed of silver or silver alloy. In addition to achieving the reflectance, a light emitting element mounting substrate with improved flatness of the light emitting element mounting portion can be obtained. Furthermore, since the metal layer on the substrate and the coating layer provided thereon can be fired at the same time, the load on the process can be suppressed.

本発明の発光装置では、上記した発光素子搭載用基板を用いることで、搭載面の反射率が高く、かつ反射率が低下しにくいので、長期間高い発光輝度を維持できる。また、発光素子の傾きや損傷が抑制されるので、配向特性のばらつきのない良好な発光を得ることができる。   In the light emitting device of the present invention, by using the light emitting element mounting substrate described above, the reflectance of the mounting surface is high and the reflectance is not easily lowered, so that high emission luminance can be maintained for a long time. In addition, since the tilt and damage of the light-emitting element are suppressed, favorable light emission with no variation in alignment characteristics can be obtained.

本発明の発光素子搭載用基板の実施形態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of embodiment of the light emitting element mounting substrate of this invention. 本発明の発光装置の実施形態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of embodiment of the light-emitting device of this invention.

以下、本発明の実施の形態について説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

<発光素子搭載用基板>
図1は、本発明の発光素子搭載用基板の実施形態の一例を示す断面図である。発光素子搭載用基板1は、略平板状の基板本体2を有している。基板本体2は、一方の主面が、LED素子のような発光素子の搭載される搭載面2aとなっている。搭載面2aには、発光素子と電気的に接続される素子接続端子3が設けられている。また、基板本体2の他方の主面は、発光素子の搭載されない非搭載面2bとされており、この非搭載面2bには、外部回路と電気的に接続される外部電極端子4が設けられている。そして、基板本体2の内部には、素子接続端子3と外部電極端子4とを電気的に接続する貫通導体5が設けられている。なお、本明細書において、「略平板状の基板本体」とは、上側の主面と下側の主面、すなわち搭載面2aと非搭載面2bがともに目視レベルで平板形状と認識できるレベルの平坦面である基板本体をいう。以下同様に、略を付けた表記は、特に断らない限り、目視レベルで認識できるレベルのことをいう。
<Light emitting element mounting substrate>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a light emitting element mounting substrate of the present invention. The light emitting element mounting substrate 1 has a substantially flat substrate body 2. One main surface of the substrate body 2 is a mounting surface 2a on which a light emitting element such as an LED element is mounted. The mounting surface 2 a is provided with an element connection terminal 3 that is electrically connected to the light emitting element. The other main surface of the substrate body 2 is a non-mounting surface 2b on which no light emitting element is mounted. The non-mounting surface 2b is provided with external electrode terminals 4 that are electrically connected to an external circuit. ing. A through conductor 5 that electrically connects the element connection terminal 3 and the external electrode terminal 4 is provided inside the substrate body 2. In the present specification, the “substantially flat substrate body” means a level at which the upper main surface and the lower main surface, that is, the mounting surface 2a and the non-mounting surface 2b can be recognized as a flat plate shape at the visual level. A substrate body that is a flat surface. Similarly, the abbreviations indicate levels that can be recognized at the visual level unless otherwise specified.

さらに、基板本体2の熱抵抗を低減するために、基板本体2の内部にサーマルビア(図示を省略する。)を埋設できる。サーマルビアは、例えば、後述する発光素子の搭載部より小さい柱状のものであり、非搭載面2bから、基板本体2の厚さ方向の中間の位置まで配設するのが好ましい。このような配置とすることで、搭載面2a全体、特に搭載部の平坦度を向上でき、熱抵抗を低減し、また発光素子を搭載したときの傾きも抑制できる。   Furthermore, in order to reduce the thermal resistance of the substrate body 2, thermal vias (not shown) can be embedded in the substrate body 2. The thermal via is, for example, a columnar one that is smaller than the mounting portion of the light emitting element to be described later, and is preferably disposed from the non-mounting surface 2b to an intermediate position in the thickness direction of the substrate body 2. With this arrangement, the flatness of the entire mounting surface 2a, particularly the mounting portion, can be improved, the thermal resistance can be reduced, and the inclination when the light emitting element is mounted can be suppressed.

基板本体2の搭載面2aの略中央部には、発光素子から放射される光を反射させるための銀または銀合金を主体とする金属層である銀反射層(中央部反射層)6が設けられている。なお、この銀または銀合金を主体とする金属層は、上記したように反射層であることが好ましいが、反射層には限定されず、例えば導電機能を有する導電層であってもよい。   A silver reflecting layer (center reflecting layer) 6 which is a metal layer mainly composed of silver or silver alloy for reflecting light emitted from the light emitting element is provided at a substantially central portion of the mounting surface 2a of the substrate body 2. It has been. The metal layer mainly composed of silver or silver alloy is preferably a reflective layer as described above, but is not limited to a reflective layer, and may be a conductive layer having a conductive function, for example.

そして、前記銀反射層6の上に、その全表面(上面および側面)を覆うように被覆層7が設けられており、被覆層7の一部が、発光素子が搭載される搭載部10となっている。また、基板本体2の搭載面2aの周辺部にも、銀または銀合金を主体とする銀反射層(周辺部反射層)6が設けられており、この銀反射層6の上にもその全表面を覆うように、被覆層7が設けられている。銀反射層(中央部反射層および周辺部反射層)6の表面を覆うように設けられた被覆層7は、いずれも、ガラス粉末焼結体(以下、単にガラスというときがある。)を主体とし、アルミナ系のセラミックス粉末を実質的に含有せず、かつガラスとの屈折率の差が0.4以上の高屈折率セラミックス粉末の1種以上を含むセラミックス粉末を含有するガラスセラミックス焼結体により構成されている。なお、本明細書において「アルミナ系のセラミックス粉末」とは、化学成分としてアルミナ(Al)を50質量%以上含有するセラミックス粉末をいう。 And the coating layer 7 is provided on the said silver reflection layer 6 so that the whole surface (upper surface and side surface) may be covered, and a part of coating layer 7 is the mounting part 10 in which a light emitting element is mounted, and It has become. A silver reflection layer (peripheral reflection layer) 6 mainly composed of silver or a silver alloy is also provided on the periphery of the mounting surface 2 a of the substrate body 2, and all of the silver reflection layer 6 is also provided on the silver reflection layer 6. A covering layer 7 is provided so as to cover the surface. Each of the coating layers 7 provided so as to cover the surface of the silver reflective layer (the central reflective layer and the peripheral reflective layer) 6 is mainly a glass powder sintered body (hereinafter sometimes simply referred to as glass). And a ceramic ceramic powder containing ceramic powder containing substantially no alumina ceramic powder and containing at least one high refractive index ceramic powder having a refractive index difference of 0.4 or more from glass It is comprised by. In this specification, “alumina-based ceramic powder” refers to a ceramic powder containing 50% by mass or more of alumina (Al 2 O 3 ) as a chemical component.

このような被覆層7を銀反射層6の全表面を覆うように設けることで、銀反射層6への気体または液体の侵入を抑制して銀反射層6の酸化や硫化を防止できるうえに、銀反射層6から被覆層7への銀イオンの移行・拡散を防止して、被覆層7表面での銀イオンの凝集およびコロイド粒子化を防止することができ、銀発色による反射率の低下を防ぐことができる。
なお、被覆層7を構成するガラス粉末焼結体において、Alの含有量を酸化物基準のモル%表示で2%未満にすることで、被覆層7への銀イオンの拡散をより良好に抑制でき、被覆層7表面の反射率の低下をよりいっそう防止できる。
By providing such a covering layer 7 so as to cover the entire surface of the silver reflective layer 6, it is possible to prevent gas or liquid from entering the silver reflective layer 6 and prevent oxidation and sulfurization of the silver reflective layer 6. The silver ion migration and diffusion from the silver reflective layer 6 to the coating layer 7 can be prevented, and the aggregation and colloidalization of silver ions on the surface of the coating layer 7 can be prevented, and the reflectance is lowered due to silver coloring. Can be prevented.
Incidentally, the glass powder sintered body constituting the coating layer 7, by less than 2% content of Al 2 O 3 in mole% based on oxides, the diffusion of silver ions into the coating layer 7 more It can suppress well and can prevent the fall of the reflectance of the surface of the coating layer 7 much more.

本発明の実施形態の発光素子搭載用基板1において、基板本体2は略平板状の部材であるが、発光素子の搭載部10が一段下の位置となるように、凹部(キャビティ)が形成された部材とすることもできる。基板本体2を構成する材料は特に限定されないが、前記した被覆層7の形成工程で変形しないものが好ましく、無機材料が好ましく用いられる。無機材料の中でも、アルミナ、低温同時焼成セラミックス(Low Temperature Co−fired Ceramic。以下、LTCCと示す。)、窒化アルミニウム等は、熱伝導性、放熱性、強度、および製造コスト等の点で優れており、好ましく用いられる。特に、高反射性、製造の容易性、易加工性、経済性等の観点から、基板本体2を構成する無機材料としてはLTCCが好ましい。基板本体2を構成するガラスセラミックス焼結体の原料組成、焼結条件等については、後述する発光素子搭載用基板の製造方法において説明する。   In the light emitting element mounting substrate 1 of the embodiment of the present invention, the substrate body 2 is a substantially flat plate member, but a recess (cavity) is formed so that the light emitting element mounting portion 10 is positioned one step below. It can also be used as a member. Although the material which comprises the board | substrate body 2 is not specifically limited, The thing which does not deform | transform at the formation process of the above-mentioned coating layer 7 is preferable, and an inorganic material is used preferably. Among inorganic materials, alumina, low temperature co-fired ceramics (hereinafter referred to as LTCC), aluminum nitride, and the like are excellent in terms of thermal conductivity, heat dissipation, strength, and manufacturing cost. And is preferably used. In particular, from the viewpoints of high reflectivity, ease of manufacture, easy processability, economy, etc., LTCC is preferred as the inorganic material constituting the substrate body 2. The raw material composition, sintering conditions, and the like of the glass ceramic sintered body constituting the substrate body 2 will be described in a method for manufacturing a light emitting element mounting substrate described later.

前記した素子接続端子3、外部電極端子4および貫通導体5の構成材料は、通常発光素子搭載用基板に用いられる配線導体と同様の構成材料であれば、特に制限なく使用できる。素子接続端子3、外部電極端子4および貫通導体5の構成材料として、具体的には、銅、銀、金等の金属を主体とする導電性金属材料が挙げられる。なお、「金属を主体とする」とは、この金属材料により単なる金属層(例えば、銅の金属層、銀の金属層、金の金属層)を形成する場合には、その金属成分を70質量%以上含むことを意味する。高い反射性能を付与する金属層とする場合には、銀からなる金属材料、銀と白金からなる金属材料、または銀とパラジウムからなる金属材料が好ましく用いられる。なお、このときの銀の含有量は95質量%以上が好ましい。これらの金属材料については、後述する発光素子搭載用基板の製造方法で具体的に説明する。素子接続端子3および外部電極端子4の厚さは、5〜15μmとすることが好ましい。   The constituent material of the element connection terminal 3, the external electrode terminal 4 and the through conductor 5 described above can be used without particular limitation as long as it is the same constituent material as the wiring conductor normally used for the light emitting element mounting substrate. Specific examples of the constituent material of the element connection terminal 3, the external electrode terminal 4, and the through conductor 5 include conductive metal materials mainly composed of metals such as copper, silver, and gold. Note that “mainly comprising metal” means that when a simple metal layer (for example, a copper metal layer, a silver metal layer, or a gold metal layer) is formed from this metal material, the metal component is 70 mass. It means to contain more than%. In the case of a metal layer that imparts high reflection performance, a metal material composed of silver, a metal material composed of silver and platinum, or a metal material composed of silver and palladium is preferably used. The silver content at this time is preferably 95% by mass or more. These metal materials will be specifically described in a method for manufacturing a light emitting element mounting substrate described later. The thicknesses of the element connection terminal 3 and the external electrode terminal 4 are preferably 5 to 15 μm.

また、素子接続端子3や外部電極端子4の表面には、この層を酸化や硫化から保護し、かつボンディングワイヤ等を接続する際のはんだの濡れ性やボンディング特性を向上させるために、導電性保護層(図示を省略する。)が設けられることが好ましい。導電性保護層としては、前記導電性金属層を保護する機能を有する導電性材料で構成されていれば、特に制限されない。具体的には、ニッケルメッキ、クロムメッキ、銀メッキ、ニッケル/銀メッキ、金メッキ、ニッケル/金メッキ等からなる層が挙げられる。素子接続端子3等の形成方法についても、発光素子搭載用基板の製造方法において説明する。   Further, the surface of the element connection terminal 3 or the external electrode terminal 4 is electrically conductive in order to protect this layer from oxidation and sulfuration and to improve solder wettability and bonding characteristics when connecting a bonding wire or the like. A protective layer (not shown) is preferably provided. The conductive protective layer is not particularly limited as long as it is made of a conductive material having a function of protecting the conductive metal layer. Specific examples include layers made of nickel plating, chromium plating, silver plating, nickel / silver plating, gold plating, nickel / gold plating, and the like. A method for forming the element connection terminals 3 and the like will also be described in the method for manufacturing a light emitting element mounting substrate.

銀反射層6は、例えば、銀、銀パラジウム合金または銀白金合金等の銀合金からなる層である。銀反射層6は高反射率を有することが好ましく、特に銀層とすることが好ましい。銀反射層6は、銀または前記銀合金の粉末に、エチルセルロース等のビヒクル、必要に応じて溶剤等を添加してペースト状としたものを、スクリーン印刷等の方法により基板本体2の搭載面2aの所定の位置に印刷し、焼成することにより形成できる。   The silver reflection layer 6 is a layer made of a silver alloy such as silver, a silver palladium alloy, or a silver platinum alloy. The silver reflection layer 6 preferably has a high reflectance, and is particularly preferably a silver layer. The silver reflecting layer 6 is a paste formed by adding a vehicle such as ethyl cellulose to a powder of silver or the above silver alloy and, if necessary, a solvent or the like to form a paste, by a method such as screen printing. It can be formed by printing at a predetermined position and firing.

被覆層7は、下層の銀反射層6を酸化や硫化等の腐食から保護するための層であり、ガラスを主体としセラミックス粉末を含有するガラスセラミックス焼結体により構成されている。なお、「ガラスを主体とする」とは、ガラスが50体積%を超える割合で含有されていることをいう。被覆層7に含有されるセラミックス粉末は、アルミナ系のセラミックス粉末を実質的に含まず、ガラスとの屈折率の差が0.4以上の高屈折率セラミックス粉末の1種または2種以上を含む。   The coating layer 7 is a layer for protecting the lower silver reflection layer 6 from corrosion such as oxidation and sulfurization, and is composed of a glass ceramic sintered body mainly composed of glass and containing ceramic powder. Note that “mainly composed of glass” means that glass is contained in a proportion exceeding 50% by volume. The ceramic powder contained in the coating layer 7 is substantially free of alumina-based ceramic powder, and includes one or more of high-refractive index ceramic powders having a refractive index difference of 0.4 or more from glass. .

被覆層7を構成するガラスは、酸化物基準のモル%表示で、SiOを20〜85%、Bを0〜40%、MgO、CaO、SrOおよびBaOから選ばれる少なくとも1種を0〜50%、NaOおよびKOから選ばれる少なくとも1種を0〜16%含有するガラス粉末を焼成してなる焼結体であることが好ましい。 The glass constituting the coating layer 7 is at least one selected from the group consisting of 20 to 85% of SiO 2 , 0 to 40% of B 2 O 3 , MgO, CaO, SrO and BaO in terms of oxide-based mol%. It is preferably a sintered body obtained by firing a glass powder containing 0 to 16%, 0 to 16% of at least one selected from Na 2 O and K 2 O.

以下、前記ガラス粉末の成分について説明する。なお、以下では、特に断らない限り組成はモル%表示のものとし、単に%と表記する。   Hereinafter, the components of the glass powder will be described. In the following description, unless otherwise specified, the composition is expressed in mol%, and is simply expressed as%.

SiOはガラスのネットワークフォーマとなるものであり、化学的耐久性、とくに耐酸性を高くするために必須の成分である。SiOの含有量が20%未満であると、耐酸性が不十分となるおそれがある。一方、SiOの含有量が85%を超えると、ガラスの軟化点(Ts)やガラス転移点(Tg)が過度に高くなるおそれがある。 SiO 2 serves as a network former of glass, and is an essential component for increasing chemical durability, particularly acid resistance. If the SiO 2 content is less than 20%, the acid resistance may be insufficient. On the other hand, if the content of SiO 2 exceeds 85%, the glass softening point (Ts) and glass transition point (Tg) may be excessively high.

はガラスのネットワークフォーマとなるものであり、40%以下の範囲で添加してもよい。Bの含有量が40%を超えると、安定なガラスを得ることが難しく、また化学的耐久性が低下するおそれもある。Bの含有量は、好ましくは12%以上である。
ガラス粉末におけるAlの含有割合は、2%未満にすることが好ましい。2%未満にすることで、被覆層7への銀イオンの拡散をより良好に抑制でき、被覆層7表面での銀発色による反射率の低下をよりいっそう防止できる。
B 2 O 3 serves as a glass network former, and may be added within a range of 40% or less. When the content of B 2 O 3 exceeds 40%, it is difficult to obtain stable glass, and chemical durability may be lowered. The content of B 2 O 3 is preferably 12% or more.
The content ratio of Al 2 O 3 in the glass powder is preferably less than 2%. By making it less than 2%, the diffusion of silver ions to the coating layer 7 can be suppressed more favorably, and the decrease in reflectance due to silver coloring on the surface of the coating layer 7 can be further prevented.

MgO、CaO、SrOおよびBaOは、TsやTgを低下させると共に、ガラスの安定性を高めるために、合計した含有量が50%を超えない範囲で添加してもよい。MgO、CaO、SrO、BaOの含有量の合計が50%を超えると、耐酸性が低下するおそれがある。また、銀発色が生じやすくなるおそれがある。   MgO, CaO, SrO and BaO may be added in a range where the total content does not exceed 50% in order to lower Ts and Tg and to increase the stability of the glass. If the total content of MgO, CaO, SrO, and BaO exceeds 50%, the acid resistance may decrease. Moreover, there is a possibility that silver coloring is likely to occur.

NaO、KOは、TsやTgを低下させるために、合計した含有量が16%を超えない範囲で添加できる。NaOおよびKOの含有量の合計が16%を超えると、化学的耐久性、特に耐酸性が低下するおそれがあり、電気絶縁性も低下するおそれがある。 Na 2 O and K 2 O can be added within a range where the total content does not exceed 16% in order to lower Ts and Tg. When the total content of Na 2 O and K 2 O exceeds 16%, chemical durability, particularly acid resistance may be lowered, and electrical insulation may be lowered.

被複層7の構成成分としてAlを用いた場合、銀発色が生じやすくなるおそれがある。すなわち、ガラス中でAl3+は非架橋酸素を引きつけて4配位の[AlO]の形をとり、中心のAlは負の電荷を帯びた形になる。この電荷補償のため、正の電荷を持つAg(銀イオン)を引きつける形をとるため、銀イオンはこのような4配位アルミニウムのカウンターカチオンとして安定に存在することになり、銀反射層6からガラスを含む被覆層7への拡散・移行が進むと考えられる。したがって、Alを含有しないガラス組成とすることで、銀イオンのガラスセラミックス焼結体中への拡散を抑制でき、被覆層7表面の銀発色を防止できる。 When Al 2 O 3 is used as a constituent component of the multi-layer 7, there is a possibility that silver coloring is likely to occur. That is, in the glass, Al 3+ attracts non-bridging oxygen and takes the form of tetracoordinate [AlO 4 ], and the central Al becomes negatively charged. For this charge compensation, Ag + (silver ion) having a positive charge is attracted, so that the silver ion is stably present as such a tetracoordinate aluminum counter cation. It is considered that diffusion / migration from the glass to the coating layer 7 containing glass proceeds. Therefore, by a glass composition containing no Al 2 O 3, can suppress the diffusion of the silver ions into the glass ceramic sintered body in, it can be prevented silver coloring of the coating layer 7 surface.

なお、被覆層7の形成に用いるガラス粉末(以下、被覆層用ガラス粉末というときがある。)は、必ずしも上記成分のみからなるものに限定されず、本発明の目的を損なわない範囲で他の成分を含有できる。他の成分を含有する場合、その合計した含有量は10%以下であることが好ましい。なお、本発明の実施形態ではガラス粉末は鉛酸化物を含有していない。
また、被覆層用ガラス粉末は、上記含有比率を有するものに限定されず、これとは異なる含有比率を有するガラス粉末を用いることもできる。
The glass powder used for forming the coating layer 7 (hereinafter sometimes referred to as glass powder for the coating layer) is not necessarily limited to the one consisting only of the above components, and may be other as long as the object of the present invention is not impaired. It can contain ingredients. When other components are contained, the total content is preferably 10% or less. In the embodiment of the present invention, the glass powder does not contain lead oxide.
Moreover, the glass powder for coating layers is not limited to what has the said content rate, The glass powder which has a content rate different from this can also be used.

被覆層用ガラス粉末は、上記したようなガラス組成を有するガラスを溶融法によって製造し、乾式粉砕法や湿式粉砕法によって粉砕することにより得ることができる。湿式粉砕法の場合、溶媒として水を用いることが好ましい。粉砕は、例えばロールミル、ボールミル、ジェットミル等の粉砕機を用いて行うことができる。   The glass powder for coating layer can be obtained by producing glass having the above glass composition by a melting method and pulverizing it by a dry pulverization method or a wet pulverization method. In the case of the wet pulverization method, it is preferable to use water as a solvent. The pulverization can be performed using a pulverizer such as a roll mill, a ball mill, or a jet mill.

被覆層用ガラス粉末の50%粒径(D50)は0.5μm以上4μm以下であることが好ましい。なお、本明細書において、D50は、レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置を用いて測定したものをいう。被覆層用ガラス粉末のD50が0.5μm未満のとき、ガラス粉末が凝集しやすく、取り扱いが困難になるとともに、粉末化に要する時間が長くなりすぎるおそれもある。一方、被覆層用ガラス粉末のD50が4μmを超えると、Tsの上昇や焼結不足が発生するおそれがある。粒径の調整は、例えば粉砕後に必要に応じて分級することにより行うことができる。被覆層用ガラス粉末の最大粒径は20μm以下であることが好ましい。最大粒径が20μmを超えると、ガラス粉末の焼結性が低下し、焼結体中に未溶解成分が残留して、被覆層7の反射性を低下させるおそれがある。被覆層用ガラス粉末の最大粒径は、より好ましくは10μm以下である。 The 50% particle size (D 50 ) of the glass powder for coating layer is preferably 0.5 μm or more and 4 μm or less. In this specification, D 50 refers to a value measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus. When D 50 of the glass powder for the coating layer is less than 0.5 [mu] m, the glass powder is likely to agglomerate, handle with is difficult, fear is the time required for pulverization is too long. On the other hand, D 50 of the glass powder for the coating layer is more than 4 [mu] m, increase and insufficient sintering of Ts may occur. The particle size can be adjusted, for example, by classification as necessary after pulverization. The maximum particle size of the glass powder for coating layer is preferably 20 μm or less. When the maximum particle size exceeds 20 μm, the sinterability of the glass powder is lowered, and undissolved components remain in the sintered body, which may reduce the reflectivity of the coating layer 7. The maximum particle size of the glass powder for coating layer is more preferably 10 μm or less.

被覆層7に含有される高屈折率セラミックスの粉末としては、例えば、チタニア粉末、ジルコニア粉末、安定化ジルコニア粉末等が挙げられる。ガラスの屈折率が1.5程度であるのに対して、チタニアの屈折率は約2.7、ジルコニアの屈折率は約2.2であり、ガラスの屈折率より0.4以上高い屈折率を有している。これらの高屈折率セラミックス粉末のD50は0.5μm以上4μm以下が好ましい。被覆層7を構成するガラスセラミックス焼結体中の高屈折率セラミックス粉末の含有量は、0.8体積%以上20体積%以下であることが好ましい。高屈折率セラミックス粉末の含有量を0.8体積%以上とすることで、被覆層7の反射率を向上させることができる。また、高屈折率セラミックス粉末の含有量を20体積%以下とすることで、均一な組成のガラスセラミックス焼結体を得ることができる。 Examples of the high refractive index ceramic powder contained in the coating layer 7 include titania powder, zirconia powder, and stabilized zirconia powder. While the refractive index of glass is about 1.5, the refractive index of titania is about 2.7 and the refractive index of zirconia is about 2.2, which is higher than the refractive index of glass by 0.4 or more. have. D 50 of these high refractive index ceramic powders is preferably 0.5 μm or more and 4 μm or less. The content of the high refractive index ceramic powder in the glass ceramic sintered body constituting the coating layer 7 is preferably 0.8 volume% or more and 20 volume% or less. The reflectance of the coating layer 7 can be improved by making content of high refractive index ceramic powder 0.8 volume% or more. Moreover, the glass ceramic sintered compact of a uniform composition can be obtained because content of high refractive index ceramic powder shall be 20 volume% or less.

被覆層7は、これらの高屈折率セラミックス粉末以外に、シリカ(SiO)やセリア(CeO)、酸化亜鉛(ZnO)等のセラミックス粉末を含有できる。これらのセラミックス粉末のD50も、高屈折率セラミックス粉末と同様に、0.5μm以上4μm以下であることが好ましい。なお、前記したように、被覆層7は、アルミナ粉末のようなアルミナ系セラミックス粉末を実質的に含まない。 The coating layer 7 can contain ceramic powders such as silica (SiO 2 ), ceria (CeO 2 ), and zinc oxide (ZnO) in addition to these high refractive index ceramic powders. D 50 of these ceramic powders is also preferably 0.5 μm or more and 4 μm or less, like the high refractive index ceramic powder. As described above, the coating layer 7 does not substantially contain an alumina ceramic powder such as an alumina powder.

被覆層7に含まれるセラミックス粉末の含有量の合計(総含有量)の好ましい範囲は、被覆層7の形成方法により異なる。被覆層7が、ガラス粉末とセラミックス粉末とを含むペーストの印刷層を焼成することにより形成された層である場合、被覆層7に含まれるセラミックス粉末の総含有量は、15体積%以上40体積%以下であることが好ましい。また、被覆層7が、ガラス粉末とセラミックス粉末とを含むグリーンシートの焼成により形成された層である場合、被覆層7に含まれるセラミックス粉末の総含有量は、40体積%以上50体積%未満であることが好ましい。いずれの形成方法による場合も、被覆層7に含まれるセラミックス粉末の総含有量が下限値以上である場合には、被覆層7の表面平坦度が向上し、放熱性が高められる。また、前記セラミックス粉末の総含有量が上限値以下である場合には、均一な組成のガラスセラミックス焼結体を得ることができる。   The preferable range of the total content (total content) of the ceramic powder contained in the coating layer 7 varies depending on the method of forming the coating layer 7. When the coating layer 7 is a layer formed by firing a printed layer of a paste containing glass powder and ceramic powder, the total content of the ceramic powder contained in the coating layer 7 is 15 volume% or more and 40 volumes. % Or less is preferable. When the coating layer 7 is a layer formed by firing a green sheet containing glass powder and ceramic powder, the total content of the ceramic powder contained in the coating layer 7 is 40% by volume or more and less than 50% by volume. It is preferable that In any of the forming methods, when the total content of the ceramic powder contained in the coating layer 7 is not less than the lower limit value, the surface flatness of the coating layer 7 is improved and the heat dissipation is improved. Moreover, when the total content of the ceramic powder is not more than the upper limit value, a glass ceramic sintered body having a uniform composition can be obtained.

被覆層7の厚さは、5〜30μmであることが好ましい。5μm未満であると、被覆性が不十分になるおそれがあるため、5μm以上であることが好ましい。30μmを超えると放熱性を阻害し、発光効率が低下してしまうおそれがある。   The thickness of the covering layer 7 is preferably 5 to 30 μm. If it is less than 5 μm, the covering property may be insufficient, and therefore it is preferably 5 μm or more. If it exceeds 30 μm, heat dissipation may be hindered and the light emission efficiency may be reduced.

被覆層7の形成方法は、5〜30μmの厚さの層を平坦に形成できる方法であれば特に限定されるものではない。例えば、ガラス粉末と前記高屈折率セラミックス粉末の1種以上を含むセラミックス粉末との混合物のペーストを、スクリーン印刷等により印刷し、焼成して形成できる。また、ガラス粉末と前記高屈折率セラミックス粉末の1種以上を含むセラミックス粉末との混合物から作製されたグリーンシートを、所定の部分に配置し焼成して形成できる。被覆層7の形成方法は、発光素子搭載用基板1の製造方法で説明する。   The method for forming the coating layer 7 is not particularly limited as long as the method can form a 5 to 30 μm thick layer. For example, a paste of a mixture of glass powder and ceramic powder containing one or more of the high refractive index ceramic powders can be printed by screen printing or the like and fired. Moreover, the green sheet produced from the mixture of glass powder and the ceramic powder containing 1 or more types of the said high refractive index ceramic powder can be arrange | positioned in a predetermined part, and can be formed by baking. The method for forming the coating layer 7 will be described in the method for manufacturing the light emitting element mounting substrate 1.

本発明の実施形態の発光素子搭載用基板1によれば、銀反射層6の全面を覆うように、ガラスセラミックス焼結体からなる被覆層7が設けられているので、銀反射層6への気体または液体の侵入を抑制して銀反射層6の酸化や硫化を防止できるうえに、被覆層7にはアルミナ系のセラミックス粉末が実質的に含有されていないので、銀反射層6から被覆層7への銀イオンの移行・拡散が防止され、被覆層7の表面または内部での銀イオンの凝集およびコロイド粒子化を防止できる。また、被覆層7には、高屈折率セラミックス粉末の1種以上が含有されているので、銀反射層6上に被覆層7を設けたことによる反射率の低下を抑えて、94%以上の高い反射率を達成できる。   According to the light emitting element mounting substrate 1 of the embodiment of the present invention, the coating layer 7 made of a glass ceramic sintered body is provided so as to cover the entire surface of the silver reflective layer 6. In addition to suppressing the intrusion of gas or liquid to prevent oxidation or sulfidation of the silver reflective layer 6, the coating layer 7 does not substantially contain alumina ceramic powder. 7 can be prevented from moving and diffusing to silver 7, and aggregation and colloidal formation of silver ions on the surface or inside of the coating layer 7 can be prevented. In addition, since the coating layer 7 contains one or more kinds of high refractive index ceramic powder, a decrease in reflectance due to the provision of the coating layer 7 on the silver reflective layer 6 is suppressed to 94% or more. High reflectivity can be achieved.

実施形態の発光素子搭載用基板1において、銀反射層6からの銀イオンの移行・拡散により、被覆層7に含有されている銀の濃度は、AgOに換算して0.5質量%以下であることが好ましく、0.2質量%以下であることがより好ましい。 In the light emitting element mounting substrate 1 of the embodiment, the concentration of silver contained in the coating layer 7 is 0.5% by mass in terms of Ag 2 O due to migration / diffusion of silver ions from the silver reflecting layer 6. Or less, more preferably 0.2% by mass or less.

さらに、実施形態の発光素子搭載用基板1によれば、銀反射層6とその上に設けられる被覆層7とを同時に焼成して形成できるので、工程の負荷を抑えることができる。   Furthermore, according to the light emitting element mounting substrate 1 of the embodiment, since the silver reflection layer 6 and the coating layer 7 provided thereon can be simultaneously fired, the load on the process can be suppressed.

<発光素子搭載用基板の製造方法>
LTCCからなる基板本体2を有する発光素子搭載用基板1は、例えば、以下に示すように、(A)基板用グリーンシート作製工程、(B)導体ペースト層形成工程、(C)積層工程、(D)反射層用銀ペースト層形成工程、(E)未焼成被覆層形成工程、および(F)焼成工程を備えた方法により製造できる。なお、製造に用いる部材については、完成品の部材と同一の符号を付して説明する。
<Method for manufacturing substrate for mounting light-emitting element>
A light emitting element mounting substrate 1 having a substrate body 2 made of LTCC includes, for example, (A) a green sheet manufacturing process for a substrate, (B) a conductor paste layer forming process, (C) a laminating process, ( It can be produced by a method comprising D) a silver paste layer forming step for a reflective layer, (E) an unfired coating layer forming step, and (F) a firing step. In addition, about the member used for manufacture, the same code | symbol as the member of a finished product is attached | subjected and demonstrated.

(A)基板用グリーンシート作製工程
まず、基板用グリーンシートを形成する。基板用グリーンシートは、基板用ガラス粉末と基板用セラミックス粉末とを含むガラスセラミックス組成物に、バインダー、必要に応じて可塑剤、溶剤等を添加してスラリーを調整し、これをドクターブレード法等によりシート状に成形し、乾燥させることで得ることができる。
(A) Substrate green sheet manufacturing process First, a substrate green sheet is formed. The green sheet for a substrate is prepared by adding a binder, and if necessary, a plasticizer, a solvent, etc., to a glass ceramic composition containing a glass powder for a substrate and a ceramic powder for a substrate, and adjusting the slurry to obtain a doctor blade method or the like. Can be obtained by molding into a sheet and drying.

基板用ガラス粉末は、必ずしも限定されるものではないものの、Tgが550℃以上700℃以下のものが好ましい。Tgが550℃未満の場合、後述する脱脂が困難となるおそれがある。一方、Tgが700℃を超える場合、収縮開始温度が高くなり、寸法精度が低下するおそれがある。   Although the glass powder for substrates is not necessarily limited, those having a Tg of 550 ° C. or more and 700 ° C. or less are preferable. When Tg is less than 550 ° C., degreasing described later may be difficult. On the other hand, when Tg exceeds 700 ° C., the shrinkage start temperature increases, and the dimensional accuracy may decrease.

このような基板用ガラス粉末としては、酸化物基準のモル%表示で、例えば、SiOを57%以上65%以下、Bを13%以上18%以下、CaOを9%以上23%以下、Alを3%以上8%以下、KOとNaOから選ばれる1種以上を合計で0.5%以上6%以下含有するものが好ましい。 Such a glass powder for a substrate is expressed in mol% on the basis of oxide, for example, SiO 2 is 57% to 65%, B 2 O 3 is 13% to 18%, CaO is 9% to 23%. Hereinafter, it is preferable to contain Al 2 O 3 in a range of 3% to 8% and one or more selected from K 2 O and Na 2 O in a total amount of 0.5% to 6%.

基板用ガラス粉末は、上記したようなガラス組成を有するガラスを溶融法によって製造し、乾式粉砕法や湿式粉砕法によって粉砕することにより得ることができる。湿式粉砕法の場合には、溶媒として水またはエチルアルコールを用いることが好ましい。粉砕は、例えばロールミル、ボールミル、ジェットミル等の粉砕機を用いて行うことができる。なお、基板用ガラス粉末は、必ずしも上記成分のみからなるものに限定されず、Tg等の諸特性を満たす範囲で他の成分を含有することもできる。他の成分を含有する場合、その合計した含有量は10%以下であることが好ましい。   The glass powder for a substrate can be obtained by producing glass having the above glass composition by a melting method and pulverizing it by a dry pulverization method or a wet pulverization method. In the case of the wet pulverization method, it is preferable to use water or ethyl alcohol as a solvent. The pulverization can be performed using a pulverizer such as a roll mill, a ball mill, or a jet mill. In addition, the glass powder for substrates is not necessarily limited to what consists only of the said component, It can also contain another component in the range with which various characteristics, such as Tg, are satisfy | filled. When other components are contained, the total content is preferably 10% or less.

基板用ガラス粉末のD50は0.5〜2μmであることが好ましい。基板用ガラス粉末のD50が0.5μm未満の場合、ガラス粉末が凝集しやすく、取り扱いが困難であるばかりでなく、均一に分散させることが困難となる。一方、基板用ガラス粉末のD50が2μmを超える場合、Tsの上昇や焼結不足が発生するおそれがある。粒径の調整は、例えば粉砕後に必要に応じて分級することにより行うことができる。 It is preferable that D 50 of the glass powder for substrate is 0.5 to 2 [mu] m. If D 50 of the glass powder for substrate is less than 0.5 [mu] m, the glass powder is likely to agglomerate, handle not only difficult, it is difficult to uniformly disperse. On the other hand, if the D 50 of the glass powder for substrate exceeds 2 [mu] m, there is a possibility that the increase and insufficient sintering of Ts occurs. The particle size can be adjusted, for example, by classification as necessary after pulverization.

基板用セラミックス粉末としては、従来からLTCC基板の製造に用いられるものを用いることができ、例えば、アルミナ粉末、ジルコニア粉末、またはアルミナ粉末とジルコニア粉末との混合物を好適に用いることができる。基板用セラミックス粉末のD50は、例えば0.5〜4μmであることが好ましい。 As the ceramic powder for the substrate, those conventionally used for the production of LTCC substrates can be used. For example, alumina powder, zirconia powder, or a mixture of alumina powder and zirconia powder can be suitably used. D 50 of the ceramic powder for substrate, for example, preferably 0.5 to 4 .mu.m.

このような基板用ガラス粉末と基板用セラミックス粉末とを、例えば、ガラス粉末が30質量%以上50質量%以下、セラミックス粉末が50質量%以上70質量%以下となるように配合し混合することにより、ガラスセラミックス組成物を得ることができる。   By mixing and mixing such glass powder for a substrate and ceramic powder for a substrate, for example, so that the glass powder is 30% by mass to 50% by mass and the ceramic powder is 50% by mass to 70% by mass. A glass ceramic composition can be obtained.

また、このガラスセラミックス組成物に、バインダー、必要に応じて可塑剤、溶剤等を添加することによりスラリーを得ることができる。バインダーとしては、例えば、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂等を好適に用いることができる。可塑剤としては、例えばフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ブチルベンジル等を用いることができる。また、溶剤としては、トルエン、キシレン、ブタノール等の芳香族系またはアルコール系の有機溶剤を用いることができる。さらに、分散剤やレベリング剤を使用することも可能である。   Moreover, a slurry can be obtained by adding a binder and, if necessary, a plasticizer, a solvent, and the like to the glass ceramic composition. As the binder, for example, polyvinyl butyral, acrylic resin and the like can be suitably used. As the plasticizer, for example, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, butyl benzyl phthalate and the like can be used. As the solvent, aromatic or alcoholic organic solvents such as toluene, xylene and butanol can be used. Furthermore, it is possible to use a dispersant or a leveling agent.

このスラリーをドクターブレード法等によりシート状に成形し、乾燥させることで、基板用グリーンシートを製造する。次いで、こうして得られた基板用グリーンシートを、打ち抜き型あるいはパンチングマシーンを使用して所定の寸法角に切断し、同時に所定位置に層間接続用のビアホールを打ち抜き形成する。さらに、必要に応じて、基板用グリーンシートの所定の位置に、サーマルビア用のホールを打ち抜き形成する。   The slurry is formed into a sheet by a doctor blade method or the like and dried to produce a green sheet for a substrate. Next, the substrate green sheet thus obtained is cut into a predetermined dimensional angle by using a punching die or a punching machine, and at the same time, via holes for interlayer connection are punched and formed at predetermined positions. Furthermore, if necessary, holes for thermal vias are punched and formed at predetermined positions on the green sheet for substrates.

(B)導体ペースト層形成工程
各基板用グリーンシートの所定の位置に導体ペースト層を形成することにより、未焼成素子接続端子3、未焼成外部電極端子4を形成する。また、前記したビアホール内に導体ペーストを充填することによって、未焼成貫通導体5を形成する。さらに、必要に応じて、前記工程で形成されたサーマルビア用のホール内に金属ペーストを充填することによって、未焼成サーマルビアを形成する。
(B) Conductive paste layer forming step By forming a conductive paste layer at a predetermined position on each substrate green sheet, the unfired element connection terminals 3 and the unfired external electrode terminals 4 are formed. Further, the unfired through conductor 5 is formed by filling the above-described via hole with a conductive paste. Furthermore, if necessary, an unfired thermal via is formed by filling a metal paste into the hole for the thermal via formed in the above step.

導体ペースト層および導体ペースト充填層の形成方法としては、導体ペーストをスクリーン印刷により塗布し、またはホール内に充填する方法が挙げられる。形成される導体ペースト層の膜厚は、最終的に得られる素子接続端子3、外部電極端子4等の膜厚が所定の膜厚となるように調整される。また、未焼成サーマルビアとなる金属ペースト充填層の形成方法としては、金属ペーストをスクリーン印刷によりホール内に充填する方法が挙げられる。   Examples of the method for forming the conductor paste layer and the conductor paste filling layer include a method in which the conductor paste is applied by screen printing or filled into a hole. The film thickness of the formed conductive paste layer is adjusted so that the film thicknesses of the finally obtained element connection terminals 3, external electrode terminals 4 and the like become predetermined film thicknesses. In addition, as a method for forming a metal paste filling layer that becomes an unfired thermal via, a method of filling a metal paste into a hole by screen printing can be given.

未焼成素子接続端子3、未焼成外部電極端子4および未焼成貫通導体5の形成に用いる導体ペーストとしては、例えば、銅、銀、金等を主体とする導体金属の粉末に、エチルセルロース等のビヒクル、必要に応じて溶剤等を添加してペースト状としたものを使用できる。なお、上記導体金属粉末としては、銀粉末、銀と白金からなる金属粉末または銀とパラジウムからなる金属粉末が好ましく用いられる。未焼成サーマルビアの形成に用いる金属ペーストとしては、前記した銀を主体とする金属粉末を、エチルセルロース等のビヒクル、および必要に応じて溶剤等を添加してペースト状としたものを使用できる。   As a conductive paste used for forming the unfired element connection terminal 3, the unfired external electrode terminal 4, and the unfired through conductor 5, a conductive metal powder mainly composed of copper, silver, gold or the like, a vehicle such as ethyl cellulose, etc. If necessary, a paste can be used by adding a solvent or the like. As the conductive metal powder, silver powder, metal powder composed of silver and platinum, or metal powder composed of silver and palladium are preferably used. As the metal paste used for forming the unfired thermal via, a paste obtained by adding the above-described metal powder mainly composed of silver to a vehicle such as ethyl cellulose and, if necessary, a solvent or the like can be used.

(C)積層工程
未焼成素子接続端子3、未焼成外部電極端子4および未焼成貫通導体5等が形成された基板用グリーンシートの複数枚を、位置合わせしつつ重ね合わせ、熱圧着により一体化する。こうして、未焼成基板本体2が得られる。
(C) Laminating process A plurality of green sheets for a substrate on which unfired element connection terminals 3, unfired external electrode terminals 4, unfired through conductors 5 and the like are formed are stacked while being aligned and integrated by thermocompression bonding. To do. Thus, the unfired substrate body 2 is obtained.

(D)反射層用銀ペースト層形成工程
未焼成基板本体2の搭載面2aの所定の位置に、反射層用銀ペーストをスクリーン印刷等の方法により印刷し、未焼成銀反射層6を形成する。反射層用銀ペーストとしては、銀、銀パラジウム合金または銀白金合金等の銀合金の粉末に、エチルセルロース等のビヒクル、必要に応じて溶剤等を添加してペースト状としたものが用いられる。
(D) Silver paste layer forming step for reflective layer The silver paste for reflective layer is printed at a predetermined position on the mounting surface 2a of the unfired substrate body 2 by a method such as screen printing to form the unfired silver reflective layer 6. . As the silver paste for the reflective layer, a paste obtained by adding a vehicle such as ethyl cellulose to a silver alloy powder such as silver, a silver palladium alloy or a silver platinum alloy, and a solvent if necessary, is used.

(E)未焼成被覆層形成工程
前記工程で未焼成基板本体2の搭載面2aに形成された未焼成銀反射層6の全面を覆うように、前記した被覆層用ガラス粉末と被覆層用セラミックス粉末との混合物に、エチルセルロース等のビヒクルと必要に応じて溶剤等を添加してペースト状とした被覆層用ガラスペーストを、スクリーン印刷等の方法により印刷し、未焼成被覆層7を形成する。
(E) Unsintered coating layer forming step The above-described glass powder for coating layer and the ceramic for coating layer so as to cover the entire surface of the unsintered silver reflecting layer 6 formed on the mounting surface 2a of the unfired substrate body 2 in the above step. A glass paste for a coating layer, which is made into a paste by adding a vehicle such as ethyl cellulose and a solvent as necessary to the mixture with the powder, is printed by a method such as screen printing to form the unfired coating layer 7.

また、未焼成被覆層7は、グリーンシートを配置することで形成することもできる。すなわち、被覆層用ガラス粉末と被覆層用セラミックス粉末とを含むガラスセラミックス組成物に、バインダー、必要に応じて可塑剤、溶剤等を添加してスラリーを調整し、これをドクターブレード法等によりシート状に成形し、乾燥させて被覆層用グリーンシートを作製する。そして、この被覆層用グリーンシートを、未焼成銀反射層6の全面を覆うように配置することで、未焼成被覆層7を形成する。   Moreover, the unbaking coating layer 7 can also be formed by disposing a green sheet. That is, a slurry is prepared by adding a binder, and, if necessary, a plasticizer, a solvent, etc. to a glass ceramic composition containing a glass powder for a coating layer and a ceramic powder for a coating layer. And then dried to produce a green sheet for a coating layer. And this green sheet for coating layers is arrange | positioned so that the whole surface of the unbaking silver reflection layer 6 may be covered, and the unbaking coating layer 7 is formed.

形成される未焼成被覆層7の厚さは、最終的に得られる被覆層7の厚さとなるように調整することが好ましい。   The thickness of the unfired coating layer 7 to be formed is preferably adjusted to be the thickness of the coating layer 7 finally obtained.

(F)焼成工程
前記(E)工程で未焼成被覆層7が形成された未焼成基板本体2に対して、必要に応じてバインダー等を脱脂後、ガラスセラミックス組成物等を焼結させるための焼成を行って発光素子搭載用基板1とする。
(F) Firing step For sintering the glass ceramic composition or the like after degreasing the binder or the like, if necessary, on the unfired substrate body 2 on which the unfired coating layer 7 is formed in the step (E). Baking is performed to obtain a light-emitting element mounting substrate 1.

脱脂は、例えば500℃以上600℃以下の温度で1時間以上10時間以下保持する。こうして、グリーンシートおよび各層に含まれる樹脂等のバインダーを分解・除去する脱脂を行う。その後、例えば、850〜900℃の温度で20分〜60分保持することにより、グリーンシートを構成するガラスセラミックス組成物を焼成する。この焼成により、基板本体2の内部および表面に形成された導体ペースト、金属ペースト、銀ペーストおよびガラスペースト等も同時に焼成され、基板本体2の所定の位置に、素子接続端子3、外部電極端子4、貫通導体5、銀反射層6および被覆層7をそれぞれ形成することができる。   Degreasing is, for example, held at a temperature of 500 ° C. to 600 ° C. for 1 hour to 10 hours. In this way, degreasing is performed to decompose and remove the binder such as resin contained in the green sheet and each layer. Then, for example, the glass ceramic composition which comprises a green sheet is baked by hold | maintaining at the temperature of 850-900 degreeC for 20 minutes-60 minutes. By this firing, conductor paste, metal paste, silver paste, glass paste, and the like formed on and inside the substrate body 2 are simultaneously fired, and the element connection terminals 3 and the external electrode terminals 4 are placed at predetermined positions on the substrate body 2. The through conductor 5, the silver reflecting layer 6 and the covering layer 7 can be formed respectively.

脱脂温度が500℃未満もしくは脱脂時間が1時間未満の場合、バインダー等を十分に除去することが困難になる。一方、脱脂温度を600℃程度、脱脂時間を10時間程度とすれば、十分にバインダー等を除去することができ、これを超えると、かえって生産性等が低下するおそれがある。   When the degreasing temperature is less than 500 ° C. or the degreasing time is less than 1 hour, it is difficult to sufficiently remove the binder and the like. On the other hand, if the degreasing temperature is about 600 ° C. and the degreasing time is about 10 hours, the binder and the like can be sufficiently removed, and if it exceeds this, the productivity may be lowered.

また、焼成は、基板本体2の緻密な構造の獲得と生産性を考慮して、800℃〜930℃の温度範囲で適宜時間を調整できる。具体的には、850℃以上900℃以下の温度で20分以上60分以下保持することが好ましく、特に860℃以上880℃以下の温度が好ましい。焼成温度が800℃未満では、基板本体2が緻密な構造のものとして得られないおそれがある。一方、焼成温度は930℃を超えると、基板本体2が変形するなど生産性等が低下するおそれがある。また、焼成温度が880℃を超えると、銀反射層6等が過度に軟化するために所定の形状を維持できなくなるおそれがある。   In addition, in the firing, the time can be appropriately adjusted in the temperature range of 800 ° C. to 930 ° C. in consideration of obtaining a dense structure of the substrate body 2 and productivity. Specifically, it is preferable to hold at a temperature of 850 ° C. or more and 900 ° C. or less for 20 minutes or more and 60 minutes or less, and a temperature of 860 ° C. or more and 880 ° C. or less is particularly preferable. If the firing temperature is less than 800 ° C., the substrate body 2 may not be obtained as a dense structure. On the other hand, when the firing temperature exceeds 930 ° C., productivity and the like may be reduced due to deformation of the substrate body 2. On the other hand, when the firing temperature exceeds 880 ° C., the silver reflective layer 6 and the like are excessively softened, so that the predetermined shape may not be maintained.

このようにして発光素子搭載用基板1が得られるが、焼成後、必要に応じて素子接続端子3および外部電極端子4の全体を被覆するように、ニッケルメッキ、クロムメッキ、銀メッキ、ニッケル/銀メッキ、金メッキ、ニッケル/金メッキ等の、通常発光素子搭載用基板1において導体保護用に用いられる導電性保護層をそれぞれ形成できる。これらのうちでも、ニッケル/金メッキが好ましく用いられる。ニッケル/金メッキは、例えば、ニッケルメッキ層はスルファミン酸ニッケル浴等を使用して、金メッキ層はシアン化金カリウム浴等を使用して、それぞれ電解メッキによって形成できる。   In this way, the light emitting element mounting substrate 1 is obtained. After firing, nickel plating, chrome plating, silver plating, nickel / nickel plating, nickel / plating so as to cover the entire element connection terminals 3 and external electrode terminals 4 as necessary. Conductive protective layers, such as silver plating, gold plating, nickel / gold plating, etc., which are usually used for conductor protection in the light emitting element mounting substrate 1 can be formed. Among these, nickel / gold plating is preferably used. For example, the nickel / gold plating can be formed by electrolytic plating using a nickel sulfamate bath for the nickel plating layer and a potassium gold cyanide bath for the nickel plating layer.

以上、本発明の発光素子搭載用基板1について説明したが、本発明の趣旨に反しない限度において、また必要に応じて、その構成を適宜変更できる。   The light emitting element mounting substrate 1 of the present invention has been described above. However, the configuration thereof can be changed as appropriate as long as it does not contradict the spirit of the present invention.

<発光装置>
次に、本発明の発光装置について説明する。本発明の発光装置20は、例えば図2に示すように、前記発光素子搭載用基板1の搭載面2aに設けられた被覆層7の搭載部10に、LED素子等の発光素子11が搭載されたものである。発光素子11は、被覆層7の上に接着剤を用いて固定され、その図示しない電極がボンディングワイヤ12によって接続端子3に電気的に接続されている。そして、発光素子11やボンディングワイヤ12を覆うように、モールド樹脂からなる封止層13が設けられて発光装置20が構成されている。
<Light emitting device>
Next, the light emitting device of the present invention will be described. In the light emitting device 20 of the present invention, for example, as shown in FIG. 2, a light emitting element 11 such as an LED element is mounted on the mounting portion 10 of the coating layer 7 provided on the mounting surface 2 a of the light emitting element mounting substrate 1. It is a thing. The light emitting element 11 is fixed on the coating layer 7 using an adhesive, and an electrode (not shown) is electrically connected to the connection terminal 3 by a bonding wire 12. And the sealing layer 13 which consists of mold resin is provided so that the light emitting element 11 and the bonding wire 12 may be covered, and the light-emitting device 20 is comprised.

封止層13を構成するモールド樹脂としては、耐光性、耐熱性の点で優れているため、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。このようなモールド樹脂に、白金、チタン等の触媒を添加することにより、モールド樹脂の速やかな硬化が可能となる。   As mold resin which comprises the sealing layer 13, since it is excellent in terms of light resistance and heat resistance, a silicone resin is preferably used. By adding a catalyst such as platinum or titanium to such a mold resin, the mold resin can be quickly cured.

封止用のモールド樹脂に蛍光体等を混合または分散させることにより、発光装置20として得られる光を、所望の発光色に適宜調整できる。すなわち、蛍光体を封止層13に混合、分散させることにより、発光素子11から放射される光によって励起された蛍光体が可視光を発光し、この可視光と発光素子11から放射される光とが混色して、発光装置20として所望の発光色を得ることができる。蛍光体の種類は特に限定されるものではなく、発光素子11から放射される光の種類や目的とする発光色に応じて適宜選択される。なお、蛍光体を配置するには、上記のようにして封止層13に混合・分散させる方法に限らず、例えば封止層13の上に蛍光体の層を設けるようにすることも可能である。   By mixing or dispersing a phosphor or the like in the sealing mold resin, the light obtained as the light emitting device 20 can be appropriately adjusted to a desired emission color. That is, by mixing and dispersing the phosphor in the sealing layer 13, the phosphor excited by the light emitted from the light emitting element 11 emits visible light, and the visible light and the light emitted from the light emitting element 11. And the desired light emission color as the light emitting device 20 can be obtained. The type of the phosphor is not particularly limited, and is appropriately selected according to the type of light emitted from the light emitting element 11 and the target emission color. The arrangement of the phosphor is not limited to the method of mixing and dispersing in the sealing layer 13 as described above. For example, a phosphor layer may be provided on the sealing layer 13. is there.

本発明の発光装置20においては、前記発光素子搭載用基板1を用いることで、搭載部10の反射率が高く、かつ反射率が低下しにくいので、長期間高い発光輝度が得られる。また、搭載部10の平坦度に優れ、熱抵抗の小さい発光素子搭載用基板1を用いることで、発光素子11の過度な温度上昇を抑制し、配向特性のばらつきのない高輝度の発光を得ることができる。   In the light emitting device 20 of the present invention, by using the light emitting element mounting substrate 1, since the reflectance of the mounting portion 10 is high and the reflectance is not easily lowered, high emission luminance can be obtained for a long time. Further, by using the light-emitting element mounting substrate 1 having excellent flatness of the mounting portion 10 and low thermal resistance, an excessive temperature rise of the light-emitting element 11 is suppressed, and high-luminance light emission without variation in alignment characteristics is obtained. be able to.

このような発光装置20は、例えば携帯電話や大型液晶ディスプレイ等のバックライト、自動車用あるいは装飾用の照明、その他の光源として好適に用いることができる。   Such a light emitting device 20 can be suitably used, for example, as a backlight for a mobile phone or a large liquid crystal display, illumination for automobiles or decoration, and other light sources.

以下、本発明の実施例について説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されない。   Examples of the present invention will be described below. The present invention is not limited to these examples.

実施例1〜3、比較例1〜3
<反射率測定用基板の製造>
被覆層用ガラスセラミックス組成物を調製した。
まず、SiO、B、Al、CaO、NaOおよびKOの各成分が表1上段に示す組成(モル%)となるように、ガラス原料を調合、混合し、この原料混合物を白金ルツボに入れて1500〜1600℃で60分間溶融させた後、溶融状態のガラスを流し出し冷却した。得られたガラスを、アルミナ製ボールミルにより20〜60時間粉砕して被覆層用ガラス粉末を得た。なお、粉砕時の溶媒にはエチルアルコールを用いた。
Examples 1-3, Comparative Examples 1-3
<Manufacture of substrate for reflectance measurement>
A glass ceramic composition for a coating layer was prepared.
First, a glass raw material is prepared and mixed so that each component of SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , CaO, Na 2 O and K 2 O has the composition (mol%) shown in the upper part of Table 1. The raw material mixture was put in a platinum crucible and melted at 1500-1600 ° C. for 60 minutes, and then the molten glass was poured out and cooled. The obtained glass was pulverized with an alumina ball mill for 20 to 60 hours to obtain a glass powder for a coating layer. In addition, ethyl alcohol was used as a solvent for pulverization.

得られた被覆層用ガラス粉末の平均粒径D50を、レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置(島津製作所社製、商品名:SALD2100)を用いて測定した。いずれの組成のガラス粉末も、D50は1〜3μmの範囲内であった。 The average particle diameter D 50 of the glass powder for the resulting coating layer, a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: SALD2100) was used for the measurement. Glass powder of any composition may, D 50 was in the range of 1 to 3 [mu] m.

次に、上記の被覆層用ガラス粉末と表1に示すセラミックス粉末とを、同表中段に示す組成(体積%)となるように配合し混合して、被覆層用ガラスセラミックス組成物を調製した。
なお、セラミックス粉末としては、以下のものを使用した。
ジルコニア(ZrO)粉末;
第一稀元素化学社製、商品名:HST−3F、D50=0.5μm
チタニア(TiO)粉末;
東洋チタニウム社製、商品名:HT1311、D50=0.6μm
シリカ(SiO)粉末;
電気化学工業社製、商品名:FB−3SDC、D50=3.4μm
アルミナ(Al)粉末;
昭和電工社製、商品名:AL−47H、D50=2.1μm
Next, the glass powder for coating layer and the ceramic powder shown in Table 1 were mixed and mixed so as to have the composition (volume%) shown in the middle part of the same table to prepare a glass ceramic composition for coating layer. .
As the ceramic powder, the following were used.
Zirconia (ZrO 2 ) powder;
1st rare element chemical company make, brand name: HST-3F, D 50 = 0.5 μm
Titania (TiO 2 ) powder;
Product name: HT1311, D 50 = 0.6 μm, manufactured by Toyo Titanium
Silica (SiO 2 ) powder;
Product name: FB-3SDC, D 50 = 3.4 μm, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.
Alumina (Al 2 O 3 ) powder;
Product name: AL-47H, D 50 = 2.1 μm, manufactured by Showa Denko

次いで、実施例1〜2および比較例1においては、得られた被覆層用ガラスセラミックス組成物50gに、有機溶剤(トルエン、キシレン、2−プロパノール、2−ブタノールを質量比4:2:2:1で混合したもの)15g、可塑剤(フタル酸ジ−2−エチルヘキシル)2.5g、バインダーとしてのポリビニルブチラール(デンカ社製、商品名:PVK#3000K)5g、さらに分散剤(ビックケミー社製、商品名:BYK180)0.5gを配合し、混合してスラリーを調製した後、このスラリーをPETフィルム上にドクターブレード法により塗布し乾燥させ、焼成後の厚さが50μmの被覆層用グリーンシートを作製した。   Subsequently, in Examples 1-2 and Comparative Example 1, 50 g of the obtained glass ceramic composition for coating layer was mixed with an organic solvent (toluene, xylene, 2-propanol, 2-butanol in a mass ratio of 4: 2: 2: 15 g, a plasticizer (di-2-ethylhexyl phthalate) 2.5 g, polyvinyl butyral (manufactured by Denka Co., Ltd., trade name: PVK # 3000K) as a binder, and a dispersant (manufactured by BYK Chemie) (Product name: BYK180) 0.5 g was mixed and mixed to prepare a slurry. The slurry was applied onto a PET film by the doctor blade method and dried, and the thickness after baking was a green sheet for a coating layer of 50 μm. Was made.

また、実施例3および比較例2〜3においては、前記被覆層用ガラスセラミックス組成物と樹脂成分とを60:40の質量比で配合し、磁器乳鉢中で1時間混練を行い、さらに三本ロールにて3回分散を行って、被覆層用ガラスペーストを調製した。ここで、樹脂成分は、エチルセルロースとαテレピネオールとを85:15の質量比で調合し分散したものを使用した。なお、被覆層用グリーンシートおよび被覆層用ガラスペーストは、同一組成のものを、後述する発光素子搭載用基板の製造においても使用した。   Moreover, in Example 3 and Comparative Examples 2-3, the glass ceramic composition for coating layers and the resin component were blended at a mass ratio of 60:40, kneaded in a porcelain mortar for 1 hour, and further three Dispersion was performed three times with a roll to prepare a glass paste for a coating layer. Here, as the resin component, ethyl cellulose and α-terpineol were prepared and dispersed at a mass ratio of 85:15. In addition, the green sheet for coating layers and the glass paste for coating layers used the thing of the same composition also in manufacture of the light emitting element mounting substrate mentioned later.

次に、基板本体用グリーンシートを製造した。まず、SiOが60.4mol%、Bが15.6mol%、Alが6mol%、CaOが15mol%、KOが1mol%、NaOが2mol%となるように原料を配合、混合し、この原料混合物を白金ルツボに入れて1600℃で60分間溶融させた後、溶融状態のガラスを流し出し冷却した。このガラスを、アルミナ製ボールミルによりエチルアルコールを溶媒として40時間粉砕して、基板本体用のガラス粉末を得た。 Next, a green sheet for a substrate body was manufactured. First, SiO 2 is 60.4mol%, B 2 O 3 is 15.6mol%, Al 2 O 3 is 6 mol%, CaO is 15mol%, K 2 O is 1 mol%, as Na 2 O is 2 mol% The raw materials were blended and mixed. The raw material mixture was put in a platinum crucible and melted at 1600 ° C. for 60 minutes, and then the molten glass was poured out and cooled. This glass was pulverized with ethyl alcohol as a solvent for 40 hours by an alumina ball mill to obtain a glass powder for a substrate body.

この基板本体用ガラス粉末が35質量%、アルミナ粉末(昭和電工社製、商品名:AL−45H)が40質量%、ジルコニア粉末(第一稀元素化学工業社製、商品名:HSY−3F−J)が25質量%となるように配合し、混合することにより基板本体用ガラスセラミックス組成物を得た。このガラスセラミックス組成物50gに、有機溶剤(トルエン、キシレン、2−プロパノール、2−ブタノールを質量比4:2:2:1で混合したもの)15g、可塑剤(フタル酸ジ−2−エチルヘキシル)2.5g、バインダーとしてのポリビニルブチラール(デンカ社製、商品名:PVK#3000K)5g、さらに分散剤(ビックケミー社製、商品名:BYK180)0.5gを配合し、混合してスラリーを調製した。   35% by mass of the glass powder for the substrate body, 40% by mass of alumina powder (manufactured by Showa Denko KK, trade name: AL-45H), zirconia powder (manufactured by Daiichi Rare Element Chemical Co., Ltd., trade name: HSY-3F- A glass ceramic composition for a substrate body was obtained by blending and mixing such that J) was 25% by mass. 50 g of this glass ceramic composition, 15 g of an organic solvent (toluene, xylene, 2-propanol, 2-butanol mixed at a mass ratio of 4: 2: 2: 1), plasticizer (di-2-ethylhexyl phthalate) 2.5 g of polyvinyl butyral (trade name: PVK # 3000K, manufactured by Denka Co., Ltd.) as a binder, 5 g, and 0.5 g of a dispersant (trade name: BYK180, manufactured by Big Chemie) were blended and mixed to prepare a slurry. .

このスラリーをPETフィルム上にドクターブレード法により塗布し乾燥させ、焼成後の厚さが0.15mmとなる基板本体用グリーンシートを製造した。なお、この基板本体用グリーンシートは、同様に製造されたものを、後述する発光素子搭載用基板の製造においても使用した。   This slurry was applied onto a PET film by a doctor blade method and dried to produce a green sheet for a substrate main body having a thickness after firing of 0.15 mm. In addition, this board | substrate main body green sheet used similarly was used also in manufacture of the light emitting element mounting substrate mentioned later.

次いで、得られた基板本体用グリーンシート6枚を重ね合わせ、熱圧着により一体化した後、片面に反射層用銀ペーストをスクリーン印刷法によって印刷した。なお、反射層銀ペーストは、銀粉末(大研化学工業社製、商品名:S400−2)とビヒクルとしてのエチルセルロースを質量比85:15の割合で配合し、固形分が85質量%となるように溶剤としてのαテレピネオールに分散した後、磁器乳鉢中で1時間混練を行い、さらに三本ロールにて3回分散を行うことにより得た。   Next, the obtained six green sheets for the substrate main body were superposed and integrated by thermocompression bonding, and then a silver paste for reflecting layer was printed on one side by a screen printing method. The reflective layer silver paste is composed of silver powder (manufactured by Daiken Chemical Industry Co., Ltd., trade name: S400-2) and ethyl cellulose as a vehicle in a mass ratio of 85:15, resulting in a solid content of 85% by mass. Thus, it disperse | distributed to (alpha) terpineol as a solvent, It knead | mixed for 1 hour in the porcelain mortar, and also obtained by disperse | distributing 3 times with a three roll.

こうして形成された銀ペースト層の上に、実施例1〜2および比較例1においては、前記した被覆層用グリーンシートを重ねて圧着し、未焼成基板を得た。また、実施例3および比較例2〜3においては、銀ペースト層の上に、前記した被覆層用ガラスペーストをスクリーン印刷法によって塗布して、未焼成基板を得た。   In Examples 1-2 and Comparative Example 1, the above-described green sheet for coating layer was stacked and pressure-bonded on the silver paste layer thus formed to obtain an unfired substrate. Moreover, in Example 3 and Comparative Examples 2-3, the above-mentioned glass paste for coating layers was apply | coated by the screen printing method on the silver paste layer, and the unbaking board | substrate was obtained.

次いで、上記で得られた未焼成基板を550℃で5時間保持して樹脂成分を分解・除去した後、870℃に30分間保持して焼成を行った。こうして、反射率測定用の基板を製造した。   Next, the unfired substrate obtained above was held at 550 ° C. for 5 hours to decompose and remove the resin component, and then held at 870 ° C. for 30 minutes for firing. In this way, a substrate for reflectance measurement was manufactured.

<反射率の測定>
こうして実施例1〜3および比較例1〜3でそれぞれ得られた反射率測定用基板において、銀反射層の上に被覆層が形成された領域の反射率を測定した。測定においては、可視光の全域(波長400〜700nm)における反射率を、オーシャンオプティクス社製の分光器USB2000と小型積分球ISP−RFを用いて測定した。リファレンスには硫酸バリウムを使用し、硫酸バリウムを塗布した面の反射率を100%として算定した。反射率の測定結果を表1に示す。
<Measurement of reflectance>
Thus, the reflectance of the area | region in which the coating layer was formed on the silver reflection layer was measured in the board | substrate for a reflectance measurement obtained in Examples 1-3 and Comparative Examples 1-3, respectively. In the measurement, the reflectance in the entire visible light region (wavelength 400 to 700 nm) was measured using a spectroscope USB2000 and a small integrating sphere ISP-RF manufactured by Ocean Optics. Barium sulfate was used as a reference, and the reflectance of the surface coated with barium sulfate was calculated as 100%. The reflectance measurement results are shown in Table 1.

Figure 2013239546
Figure 2013239546

表1から明らかなように、アルミナ粉末を含有せず、かつ高屈折率セラミックス粉末であるジルコニア(ZrO)粉末とチタニア(TiO)粉末の1種以上を含むガラスセラミックス焼結体からなる被覆層を有する実施例1〜3の基板では、被覆層が形成された領域の反射率が95%以上となっており、高い反射率を達成できることがわかる。
それに対して、比較例1および2の基板では、被覆層が高屈折率セラミックス粉末を含有するが、アルミナ粉末も含有するので、高い反射率が得られていない。また、比較例3の基板では、被覆層が高屈折率セラミックス粉末を含有しないので、反射率が十分に高くないことがわかる。
As is apparent from Table 1, the coating is composed of a glass ceramic sintered body which does not contain alumina powder and contains at least one of zirconia (ZrO 2 ) powder and titania (TiO 2 ) powder which are high refractive index ceramic powders. In the substrates of Examples 1 to 3 having layers, the reflectance of the region where the coating layer is formed is 95% or more, and it can be seen that a high reflectance can be achieved.
On the other hand, in the substrates of Comparative Examples 1 and 2, the coating layer contains a high refractive index ceramic powder, but also contains an alumina powder, so a high reflectance is not obtained. Moreover, in the board | substrate of the comparative example 3, since a coating layer does not contain high refractive index ceramic powder, it turns out that a reflectance is not high enough.

実施例4〜6、比較例4〜6
<発光素子搭載用基板の製造>
まず、導電性銀粉末(大研化学工業社製、商品名:S550)とビヒクルとしてのエチルセルロースを、質量比85:15の割合で配合し、固形分が85質量%となるように溶剤としてのαテレピネオールに分散した後、磁器乳鉢中で1時間混練を行い、さらに三本ロールにて3回分散を行って、導体ペースト(導体用銀ペースト)を調製した。
Examples 4-6, Comparative Examples 4-6
<Manufacture of light-emitting element mounting substrate>
First, conductive silver powder (manufactured by Daiken Chemical Industry Co., Ltd., trade name: S550) and ethyl cellulose as a vehicle are blended at a mass ratio of 85:15, and the solvent is used so that the solid content is 85% by mass. After being dispersed in α-terpineol, kneading was carried out for 1 hour in a porcelain mortar, and further dispersing was performed three times with three rolls to prepare a conductor paste (silver paste for conductor).

次いで、前記した反射率測定用基板の製造におけると同様に作製された基板本体用グリーンシートの未焼成貫通導体に相当する部分に、孔空け機を用いて直径0.3mmの貫通孔を形成した。そして、この貫通孔に前記導体ペーストをスクリーン印刷法により充填して未焼成貫通導体を形成するとともに、所定の位置に同じ導体ペーストをスクリーン印刷して、未焼成接続端子および未焼成外部電極端子をそれぞれ形成した。   Next, a through hole having a diameter of 0.3 mm was formed in the portion corresponding to the unfired through conductor of the green sheet for the substrate body produced in the same manner as in the production of the reflectance measurement substrate described above using a hole punch. . The through-hole is filled with the conductor paste by screen printing to form an unfired through conductor, and the same conductor paste is screen-printed at a predetermined position to form unfired connection terminals and unfired external electrode terminals. Each was formed.

次いで、前記未焼成貫通導体、未焼成接続端子等が形成された基板本体用グリーンシートの6枚を重ね合わせ、熱圧着により一体化した後、搭載面の中央部に、反射層用銀ペーストをスクリーン印刷法により印刷し、未焼成銀反射層を形成した。なお、反射層用銀ペーストは、前記実施例1〜3および比較例1〜3で使用した反射層用銀ペーストと同一組成で同様に調製されたものを使用した。   Next, after stacking 6 sheets of the green sheet for the substrate main body on which the unfired through conductors, unfired connection terminals and the like are formed and integrating them by thermocompression bonding, a silver paste for the reflective layer is applied to the central portion of the mounting surface. Printing was performed by a screen printing method to form an unsintered silver reflecting layer. In addition, the silver paste for reflective layers used what was similarly prepared by the same composition as the silver paste for reflective layers used in the said Examples 1-3 and Comparative Examples 1-3.

そして、この未焼成銀反射層の上に、実施例4〜5および比較例4においては、実施例1〜2および比較例1で使用したものと同じ被覆層用グリーンシートを重ねて圧着し、未焼成発光素子搭載用基板とした。また、実施例6および比較例5〜6においては、実施例3および比較例2〜3で使用したものと同じ被覆層用ガラスペーストをスクリーン印刷法によって塗布し、未焼成発光素子搭載用基板とした。   And on this unbaked silver reflective layer, in Examples 4-5 and Comparative Example 4, the same green sheets for coating layers as those used in Examples 1-2 and Comparative Example 1 were stacked and pressure-bonded, An unsintered light emitting element mounting substrate was obtained. In Example 6 and Comparative Examples 5 to 6, the same coating layer glass paste as that used in Example 3 and Comparative Examples 2 to 3 was applied by a screen printing method, and an unsintered light emitting element mounting substrate and did.

次いで、上記で得られた未焼成発光素子搭載用基板を550℃で5時間保持して樹脂成分を分解・除去した後、870℃に30分間保持して焼成を行い、発光素子搭載用基板を製造した。   Next, after the unfired light emitting element mounting substrate obtained above is held at 550 ° C. for 5 hours to decompose and remove the resin component, it is held at 870 ° C. for 30 minutes to perform firing, and the light emitting element mounting substrate is obtained. Manufactured.

<Agイオン濃度の測定>
こうして実施例4〜6および比較例4〜6でそれぞれ得られた発光素子搭載用基板の被覆層に含まれる銀イオン(Ag)の濃度(質量%)を、被覆層表面の任意の10μm×10μm領域において、Electron Probe Micro Analyzer(EPMA)を用いて二次元濃度マッピング分析で測定した。測定結果を、AgOに換算した値として表2に示す。
<Measurement of Ag ion concentration>
Thus, the concentration (mass%) of silver ions (Ag + ) contained in the coating layer of the light emitting element mounting substrate obtained in each of Examples 4 to 6 and Comparative Examples 4 to 6 was set to an arbitrary 10 μm × In the 10 μm region, measurement was performed by two-dimensional concentration mapping analysis using an Electron Probe Micro Analyzer (EPMA). The measurement results are shown in Table 2 as values converted to Ag 2 O.

<発光装置の光束量経時変化の測定>
次に、実施例4〜6および比較例4〜6で得られた各発光素子搭載用基板に、発光ダイオード(LED)素子を搭載して、図2に示す発光装置を作製した。すなわち、被覆層の搭載部上にLED素子(昭和電工社製、商品名:GQ2CR460Z)1個をダイボンド材(信越化学工業社製、商品名:KER−3000−M2)により固定し、その電極をボンディングワイヤによって素子接続端子に電気的に接続した。さらに封止剤を用いてモールド封止層を形成した。なお、封止剤としては、封止用シリコーン樹脂(信越化学工業社製、商品名:SCR−1016A)を使用した。
<Measurement of change in luminous flux of light emitting device over time>
Next, a light emitting diode (LED) element was mounted on each of the light emitting element mounting substrates obtained in Examples 4 to 6 and Comparative Examples 4 to 6 to manufacture the light emitting device shown in FIG. That is, one LED element (product name: GQ2CR460Z, manufactured by Showa Denko KK) is fixed on the mounting portion of the coating layer with a die bond material (product name: KER-3000-M2 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the electrode is fixed. It electrically connected to the element connection terminal by the bonding wire. Furthermore, the mold sealing layer was formed using the sealing agent. In addition, as the sealant, a silicone resin for sealing (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: SCR-1016A) was used.

次いで、こうして得られた発光装置に、電圧/電流発生器(アドバンテスト社製、商品名:R6243)を用いて35mAを印加し、LED素子を発光させた。そして、発光初期(0時間後)と、温度80%、湿度80%の環境で48時間放置後、および同じ環境で96時間放置後のそれぞれの時点で、発光装置から得られる光の全光束量(ルーメン)を測定した。全光束量の測定は、積分球(直径6インチ)内に発光装置を設置し、全光束測定装置(スペクトラコープ社製、商品名:SOLIDLAMBDA・CCD・LED・MONITOR・PLUS)を用いて行った。測定結果を表2に示す。
なお、表2では、実施例4〜6および比較例4〜6のそれぞれの発光初期(0時間後)における光束量の測定値を100とし、48時間後および96時間後の各光束量の測定値を、前記0時間後における光束量の測定値を基準とした相対値として表記した。
Next, 35 mA was applied to the light emitting device thus obtained using a voltage / current generator (trade name: R6243, manufactured by Advantest Co., Ltd.) to cause the LED element to emit light. The total luminous flux of light obtained from the light emitting device at the time of the initial light emission (after 0 hours), after leaving for 48 hours in an environment of 80% temperature and 80% humidity, and after leaving for 96 hours in the same environment. (Lumen) was measured. Measurement of the total luminous flux was carried out using a luminous device installed in an integrating sphere (diameter 6 inches) and using a total luminous flux measuring instrument (Spectracorp, trade name: SOLIDLAMBDA / CCD / LED / MONITOR / PLUS). . The measurement results are shown in Table 2.
In Table 2, the measured value of the luminous flux in each of Examples 4 to 6 and Comparative Examples 4 to 6 at the initial light emission (after 0 hours) is set to 100, and the luminous fluxes measured after 48 hours and 96 hours are measured. The value was expressed as a relative value based on the measured value of the luminous flux after 0 hour.

Figure 2013239546
Figure 2013239546

表2から明らかなように、アルミナ粉末を含有せず、かつ高屈折率セラミックス粉末であるジルコニア(ZrO)粉末とチタニア(TiO)粉末の1種以上を含むガラスセラミックス焼結体からなる被覆層を有する実施例4〜6の発光素子搭載用基板では、被覆層に含まれる銀イオン濃度がAgOに換算して0.5質量%以下に抑えられており、シリコーン樹脂封止後の発光装置の経時的な輝度(全光束量)の低下がほとんど生じていない。 As is apparent from Table 2, the coating is composed of a glass ceramic sintered body which does not contain alumina powder and contains at least one of zirconia (ZrO 2 ) powder and titania (TiO 2 ) powder which are high refractive index ceramic powders. In the light emitting element mounting substrates of Examples 4 to 6 having the layers, the silver ion concentration contained in the coating layer is suppressed to 0.5% by mass or less in terms of Ag 2 O, and after the silicone resin sealing There is almost no decrease in luminance (total light flux) over time of the light emitting device.

それに対して、比較例4および5の発光素子搭載用基板では、被覆層がアルミナ粉末を含有するので、被覆層に含まれる銀イオン濃度が高くなっており、銀反射層から被覆層に移行・拡散した銀(イオン)が、被覆層中に高い濃度で存在する。そして、シリコーン樹脂封止後の発光装置では、全光束量が経時的に低下しており、銀発色等により輝度が大きく低下していることがわかる。   On the other hand, in the light emitting element mounting substrates of Comparative Examples 4 and 5, since the coating layer contains alumina powder, the silver ion concentration contained in the coating layer is high, and the transition from the silver reflective layer to the coating layer is performed. Diffused silver (ions) is present in the coating layer at a high concentration. In the light emitting device after sealing with the silicone resin, it can be seen that the total luminous flux is decreased with time, and the luminance is greatly decreased due to silver coloring or the like.

さらに、比較例6の発光素子搭載用基板では、被覆層がアルミナ粉末を含有しないので、被覆層中のAg濃度は低く、シリコーン樹脂封止後の発光量の経時的低下もほとんどないが、被覆層が高屈折率セラミックス粉末を含有しないので、前記比較例3と同様に発光素子搭載用基板として十分に高い反射率は得られない。   Furthermore, in the light emitting element mounting substrate of Comparative Example 6, since the coating layer does not contain alumina powder, the Ag concentration in the coating layer is low, and the amount of light emission after sealing with the silicone resin hardly decreases with time. Since the layer does not contain high refractive index ceramic powder, a sufficiently high reflectance as a light emitting element mounting substrate cannot be obtained as in Comparative Example 3.

1…発光素子搭載用基板、2…基板本体、3…素子接続端子、4…外部電極端子、5…貫通導体、6…銀反射層、7…被覆層、10…搭載部、11…発光素子、12…ボンディングワイヤ、13…封止層、20…発光装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light emitting element mounting substrate, 2 ... Board | substrate body, 3 ... Element connection terminal, 4 ... External electrode terminal, 5 ... Through conductor, 6 ... Silver reflection layer, 7 ... Covering layer, 10 ... Mounting part, 11 ... Light emitting element , 12 ... bonding wires, 13 ... sealing layer, 20 ... light emitting device.

Claims (9)

発光素子が搭載される搭載面を有する基板本体と、
前記基板本体の前記搭載面に形成された銀または銀合金を主体とする金属層と、
前記金属層の全面を覆うように形成された、ガラスを主体としセラミックス粉末を含有するガラスセラミックス焼結体で構成される被覆層を有する発光素子搭載用基板であって、
前記被覆層は、アルミナ系のセラミックス粉末を実質的に含有せず、かつ前記ガラスとの屈折率の差が0.4以上の高屈折率セラミックスの粉末の1種以上を含むセラミックス粉末を含有することを特徴とする発光素子搭載用基板。
A substrate body having a mounting surface on which the light emitting element is mounted;
A metal layer mainly composed of silver or a silver alloy formed on the mounting surface of the substrate body;
A light-emitting element mounting substrate having a coating layer formed of a glass ceramic sintered body mainly composed of glass and containing ceramic powder, which is formed so as to cover the entire surface of the metal layer,
The coating layer substantially contains no alumina-based ceramic powder and contains ceramic powder containing at least one kind of high-refractive index ceramic powder having a refractive index difference of 0.4 or more with respect to the glass. A substrate for mounting a light-emitting element.
前記ガラス中のAlの含有量が、酸化物基準のモル%表示で2%未満である請求項1記載の発光素子搭載用基板。 2. The light-emitting element mounting substrate according to claim 1, wherein the content of Al 2 O 3 in the glass is less than 2% in terms of mol% based on oxide. 前記基板本体の前記搭載面において、前記金属層の上に前記被覆層が形成された領域の光反射率が94%以上である、請求項1または2記載の発光素子搭載用基板。   3. The light emitting element mounting substrate according to claim 1, wherein, in the mounting surface of the substrate body, a light reflectance of a region where the coating layer is formed on the metal layer is 94% or more. 前記被覆層に含まれる銀の濃度が、AgOに換算して0.5質量%以下である請求項1〜3のいずれか1項記載の発光素子搭載用基板。 The light emitting element mounting substrate according to claim 1, wherein the concentration of silver contained in the coating layer is 0.5% by mass or less in terms of Ag 2 O. 前記被覆層に含まれる前記高屈折率セラミックス粉末の含有量が、0.8体積%以上20体積%以下である請求項1〜4のいずれか1項記載の発光素子搭載用基板。   5. The light-emitting element mounting substrate according to claim 1, wherein a content of the high refractive index ceramic powder contained in the coating layer is 0.8 volume% or more and 20 volume% or less. 前記被覆層は、前記ガラスの粉末と前記セラミックス粉末とを含むペーストの印刷層の焼成により形成された層であり、該被覆層に含まれる前記セラミックス粉末の総含有量は、15体積%以上40体積%以下である請求項1〜5のいずれか1項記載の発光素子搭載用基板。   The coating layer is a layer formed by firing a printing layer of a paste containing the glass powder and the ceramic powder, and the total content of the ceramic powder contained in the coating layer is 15% by volume or more and 40%. The light emitting element mounting substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the substrate is a volume% or less. 前記被覆層は、前記ガラスの粉末と前記セラミックス粉末とを含むグリーンシートの焼成により形成された層であり、該被覆層に含まれる前記セラミックス粉末の総含有量は、40体積%以上50体積%未満である請求項1〜5のいずれか1項記載の発光素子搭載用基板。   The coating layer is a layer formed by firing a green sheet containing the glass powder and the ceramic powder, and the total content of the ceramic powder contained in the coating layer is 40% by volume or more and 50% by volume. The light emitting element mounting substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the light emitting element mounting substrate is less than. 請求項1〜7のいずれか1項記載の発光素子搭載用基板と、
前記発光素子搭載用基板の前記搭載面の搭載部に搭載される発光素子と
を有することを特徴とする発光装置。
A substrate for mounting a light emitting element according to any one of claims 1 to 7,
A light emitting device mounted on a mounting portion of the mounting surface of the light emitting element mounting substrate.
前記被覆層の表面の一部または全部がシリコーン樹脂により封止されてなる請求項8記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 8, wherein a part or all of the surface of the coating layer is sealed with a silicone resin.
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