JP5379394B2 - Optical device, method for manufacturing optical device, mold for optical device, and method for manufacturing mold for optical device - Google Patents

Optical device, method for manufacturing optical device, mold for optical device, and method for manufacturing mold for optical device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing of a mold of an optical device for manufacturing the optical device of high performance. <P>SOLUTION: The method for manufacturing of the mold for the optical device includes the first step of forming a lens-forming part of the optical device in a cavity block, and the second step of forming a plurality of recesses in the lens-forming part by irradiating the cavity block with a laser. In the second step the recess is made by irradiating the position where the recess is made with the laser several times, and the irradiating direction of the laser is changed depending on the positions of a plurality of the recesses. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、光デバイス用金型の製造方法及び光デバイスの製造方法に関する。また本発明は、そのような方法により製造された光デバイス用金型及び光デバイスに関する。   The present invention relates to an optical device mold manufacturing method and an optical device manufacturing method. The present invention also relates to an optical device mold and an optical device manufactured by such a method.

従来から、発光又は受光をさせる光デバイスとして、発光ダイオードやレーザダイオードといった発光デバイスや、フォトダイオードやフォトトランジスタといった受光デバイスなどが知られている。このような光デバイスには、発光チップからの光を外部に放射させたり、外部からの光を受光チップに集光させたりするためのレンズ部が設けられている。   Conventionally, light emitting devices such as light emitting diodes and laser diodes, and light receiving devices such as photodiodes and phototransistors are known as optical devices that emit or receive light. Such an optical device is provided with a lens unit for radiating light from the light emitting chip to the outside or condensing light from the outside on the light receiving chip.

例えば、この種の光デバイスの一例として、発光デバイスでは、所望の輝度や光拡散性を得るためにレンズ部の表面を鏡面又は梨地面とすることがある。この場合、梨地面が形成された発光デバイスを製造するための金型キャビティの梨地加工には、放電加工又はブラスト加工が用いられていた。   For example, as an example of this type of optical device, in a light emitting device, the surface of the lens unit may be a mirror surface or a satin surface in order to obtain desired luminance and light diffusibility. In this case, electric discharge machining or blasting has been used for the satin processing of the mold cavity for manufacturing the light emitting device on which the matte surface is formed.

一方、特開2006−168260号公報(特許文献1)には、レーザ加工によって導光板を製造可能な金型製造方法が開示されている。
特開2006−168260号公報
On the other hand, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-168260 (Patent Document 1) discloses a mold manufacturing method capable of manufacturing a light guide plate by laser processing.
JP 2006-168260 A

しかしながら、例えば放電加工により発光デバイス用の金型を製造する場合、その加工特性のため、ミクロ的に規則正しい均一な加工面形状を得ることは困難であり、発光チップからの光の拡散の均一性を向上させることが困難であった。また、放電加工で所望の加工面形状を得るためには放電加工を長時間行う必要があり、加工用の電極の製作をも要するため、加工の効率化を図るのが困難であった。また、ブラスト加工を用いた場合、その加工特性のため、加工時間の短縮は可能であるもののミクロ的に規則正しい均一な加工面形状を得ることは困難であった。     However, for example, when manufacturing a die for a light-emitting device by electric discharge machining, it is difficult to obtain a micro-ordered uniform processed surface shape due to its processing characteristics, and uniformity of light diffusion from the light-emitting chip It was difficult to improve. Further, in order to obtain a desired machined surface shape by electric discharge machining, it is necessary to perform electric discharge machining for a long time, and it is also necessary to manufacture an electrode for machining, so that it is difficult to improve the machining efficiency. In addition, when blasting is used, due to the processing characteristics, it is difficult to obtain a microscopically regular and uniform processed surface shape although the processing time can be shortened.

一方、特許文献1の金型製造方法では、金型表面に所定形状のドットの各々をレーザで描画して多数形成する手法であり、光拡散性を向上させるための梨地面を形成するのに適した技術ではなかった。     On the other hand, the mold manufacturing method of Patent Document 1 is a technique in which a large number of dots each having a predetermined shape are drawn by a laser on the mold surface to form a textured surface for improving light diffusibility. It was not a suitable technique.

そこで本発明は、光学特性を向上可能な光デバイスの製造方法、及び、そのような光デバイスを製造するための光デバイス用金型の製造方法を提供することを例示的目的とする。また本発明は、光を均一に拡散させる光デバイス、及び、そのような光デバイスを製造するための光デバイス用金型を提供することを例示的目的とする。     Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical device manufacturing method capable of improving optical characteristics and an optical device mold manufacturing method for manufacturing such an optical device. Another object of the present invention is to provide an optical device for uniformly diffusing light, and an optical device mold for manufacturing such an optical device.

本発明の一側面としての光デバイス用金型の製造方法は、ワークに光デバイスのレンズ部を成形するための凹形状を有するレンズ成形部をキャビティの底面を構成する部材に形成する第1のステップと、前記ワークにレーザを照射して、前記レンズ成形部に複数の凹部を形成する第2のステップとを有し、前記光デバイス用金型は、前記複数の凹部が形成された前記凹形状を有する前記レンズ成形部を有し、前記レンズ成形部を含む前記キャビティに透光性樹脂を充填して硬化させることにより、前記光デバイスの基板に実装された光チップを封止するとともに前記光デバイスのレンズ部を形成するように構成されていることを特徴とする。 An optical device mold manufacturing method according to one aspect of the present invention is a first method in which a lens molding portion having a concave shape for molding a lens portion of an optical device on a workpiece is formed on a member constituting the bottom surface of the cavity . And a second step of irradiating the workpiece with a laser to form a plurality of recesses in the lens molding portion, wherein the optical device mold includes the recesses in which the plurality of recesses are formed. The optical molding device mounted on the substrate of the optical device is sealed by filling the cavity including the lens molding portion with a translucent resin and curing the cavity. The lens portion of the optical device is formed.

本発明の他の側面としての光デバイス用金型は、前記光デバイス用金型のキャビティの底面を構成する部材に形成された、光デバイスのレンズ部を成形するための凹形状を有するレンズ成形部と、レーザを照射することにより前記レンズ成形部に形成された複数の凹部とを有し、前記光デバイス用金型は、前記複数の凹部が形成された前記凹形状を有する前記レンズ成形部を有し、前記レンズ成形部を含む前記キャビティに透光性樹脂を充填して硬化させることにより、前記光デバイスの基板に実装された光チップを封止するとともに前記光デバイスのレンズ部を形成するように構成されていることを特徴とする。 An optical device mold according to another aspect of the present invention is a lens molding having a concave shape for molding a lens portion of an optical device formed on a member constituting a bottom surface of a cavity of the optical device mold. And a plurality of concave portions formed in the lens molding portion by irradiating a laser, and the optical device mold has the concave shape in which the plurality of concave portions are formed. And sealing the optical chip mounted on the substrate of the optical device and forming the lens portion of the optical device by filling the cavity including the lens molding portion with a translucent resin and curing It is comprised so that it may do.

本発明の他の側面としての光デバイスの製造方法は、ワークに光デバイスのレンズ部を成形するためのレンズ成形部を形成する第1のステップと、前記ワークにレーザを照射して、前記レンズ成形部に複数の凹部を形成する第2のステップと、基板に光チップを実装する第3のステップと、前記第1のステップ及び前記第2のステップを経て製造された金型に透光性樹脂を充填して硬化させることにより、前記光チップを封止するとともに前記光デバイスのレンズ部を形成する第4のステップとを有する。     According to another aspect of the present invention, there is provided an optical device manufacturing method comprising: a first step of forming a lens forming portion for forming a lens portion of an optical device on a workpiece; The second step of forming a plurality of recesses in the molding part, the third step of mounting the optical chip on the substrate, and the mold manufactured through the first step and the second step are translucent. And filling and curing the resin to seal the optical chip and form a lens portion of the optical device.

本発明の他の側面としての光デバイスは、基板と、前記基板に実装された光チップと、前記光チップを封止する透光性樹脂により形成されたレンズ部とを有し、前記レンズ部は、レーザ照射により複数の凹部が設けられた金型を用いて成形され、複数の凸部を備える。     An optical device according to another aspect of the present invention includes a substrate, an optical chip mounted on the substrate, and a lens unit formed of a translucent resin that seals the optical chip, and the lens unit Is molded using a mold provided with a plurality of concave portions by laser irradiation, and has a plurality of convex portions.

本発明のその他の目的及び効果は以下の実施例において説明される。   Other objects and advantages of the present invention are illustrated in the following examples.

本発明によれば、光学特性を向上可能な光デバイスの製造方法、及び、そのような光デバイスを製造するための光デバイス用金型の製造方法を提供することができる。     ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the optical device which can improve an optical characteristic, and the manufacturing method of the metal mold | die for optical devices for manufacturing such an optical device can be provided.

また、本発明によれば、光学特性を向上可能な光デバイス、及び、そのような光デバイスを製造するための光デバイス用金型を提供することができる。     Moreover, according to this invention, the optical device which can improve an optical characteristic, and the metal mold | die for optical devices for manufacturing such an optical device can be provided.

以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in each figure, the same reference number is attached | subjected about the same member and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図1は、本実施例におけるレーザ加工装置の概略構成図である。本実施例の発光デバイス用金型は、本発明に係る光デバイス用金型の一例であって、ガルバノスキャナを備えたレーザ加工装置100を用いて大気中でワークを加工することにより製造される。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus in the present embodiment. The light emitting device mold of the present embodiment is an example of an optical device mold according to the present invention, and is manufactured by processing a workpiece in the atmosphere using a laser processing apparatus 100 equipped with a galvano scanner. .

101はレーザ発振器である。レーザ発振器101は、所定の出力のレーザビーム20を出力する。レーザ発振器101は、レーザ加工を行うため、大出力のレーザビーム20を安定して供給可能に構成されている。レーザビーム20は、レーザの媒体により一定の波長を有する。例えば、YAGレーザを用いた場合には、レーザビーム20として1064nmの赤外線を発する。ただし、本実施例のレーザは、YAGレーザに限定されるものではなく、本実施例の金型部材(本発明におけるワークに相当)を加工するために適した出力のレーザであれば、CO2レーザやYVO4レーザ等でもよい。この場合、例えば後述するように短時間の照射で金型部材の表層を溶融させて凹部を形成できる程度の出力を得ることができれば後述する他の種類のレーザを用いることもできる。   Reference numeral 101 denotes a laser oscillator. The laser oscillator 101 outputs a laser beam 20 having a predetermined output. The laser oscillator 101 is configured to stably supply a high-power laser beam 20 for performing laser processing. The laser beam 20 has a certain wavelength depending on the laser medium. For example, when a YAG laser is used, 1064 nm infrared rays are emitted as the laser beam 20. However, the laser of the present embodiment is not limited to the YAG laser, and a CO2 laser as long as it has an output suitable for processing the mold member (corresponding to the workpiece in the present invention) of the present embodiment. Or YVO4 laser or the like. In this case, for example, as will be described later, other types of lasers described later can be used as long as an output sufficient to melt the surface layer of the mold member and form the recesses can be obtained by short-time irradiation.

102はシャッターである。シャッター102は、レーザ発振器101から出力されたレーザビーム20のオン/オフを制御する。このように、シャッター102がレーザビーム20のオン/オフを制御することにより、レーザ発振器101から出力されたレーザビーム20の出力周期を制御することができる。なお、シャッター102は、オン/オフのいずれかの状態になるように、不図示の駆動部によりレーザビーム20の通過を遮らないオン位置(開位置)とその通過を遮るオフ位置(閉位置)との間で駆動される。   Reference numeral 102 denotes a shutter. The shutter 102 controls on / off of the laser beam 20 output from the laser oscillator 101. In this way, the output period of the laser beam 20 output from the laser oscillator 101 can be controlled by controlling the on / off of the laser beam 20 by the shutter 102. It should be noted that the shutter 102 is in an on / off state so that the driving unit (not shown) does not block the passage of the laser beam 20 and an off position (closed position) that blocks the passage. Driven between.

103はエキスパンダである。エキスパンダ103は、レーザ発振器101から出力されたレーザビーム20のビーム径を広げる。エキスパンダ103は、凹レンズと凸レンズとの組み合わせにより構成される。 凹レンズから入射したレーザビームは所定の倍率で拡大され、凸レンズを透過することにより平行光になる。このように、エキスパンダ103は、レーザビーム20のビーム径を、本実施例における金型部材の加工に適したビーム径に制御することができる。   Reference numeral 103 denotes an expander. The expander 103 widens the beam diameter of the laser beam 20 output from the laser oscillator 101. The expander 103 is configured by a combination of a concave lens and a convex lens. The laser beam incident from the concave lens is magnified at a predetermined magnification and becomes parallel light by passing through the convex lens. Thus, the expander 103 can control the beam diameter of the laser beam 20 to a beam diameter suitable for processing the mold member in this embodiment.

104はガルバノミラー(X軸ミラー)である。ガルバノミラー104は、金型部材の一例であるキャビティブロック110上におけるレーザの加工位置をX軸方向に移動可能に動作する。ガルバノミラー104の向きが変わることにより、キャビティブロック110上においてレーザをX軸方向に所定の速度で走査することができる。   Reference numeral 104 denotes a galvanometer mirror (X-axis mirror). The galvanometer mirror 104 operates so that the laser processing position on the cavity block 110, which is an example of a mold member, can be moved in the X-axis direction. By changing the direction of the galvanometer mirror 104, the laser can be scanned on the cavity block 110 in the X-axis direction at a predetermined speed.

105はガルバノミラー(Y軸ミラー)である。ガルバノミラー105は、キャビティブロック110上におけるレーザの加工装置をY軸方向に移動可能に動作する。ガルバノミラー105の向きが変わることにより、キャビティブロック110上においてレーザをY軸方向に走査することができる。   Reference numeral 105 denotes a galvanometer mirror (Y-axis mirror). The galvanometer mirror 105 operates so that the laser processing device on the cavity block 110 can be moved in the Y-axis direction. By changing the direction of the galvanometer mirror 105, the laser can be scanned in the Y-axis direction on the cavity block 110.

106はベンダーミラーである。ベンダーミラー106は、入射したレーザビームを反射して、レーザビームの方向を変える。このとき、レーザビームは、レーザビーム20a又はレーザビーム20b等のように、ガルバノミラー105、106の位置(角度)に依存した方向に反射する。     Reference numeral 106 denotes a vendor mirror. The bender mirror 106 reflects the incident laser beam and changes the direction of the laser beam. At this time, the laser beam is reflected in a direction depending on the position (angle) of the galvanometer mirrors 105 and 106, such as the laser beam 20a or the laser beam 20b.

107は入射したレーザビームを目標位置に収束させるf−θレンズである。f−θレンズ107は、例えば入射位置の異なるレーザビーム20a、20bに生じる入射角の差を相殺し、キャビティブロック110の表面に対して常にほぼ同じ角度でレーザビームを入射させる。また、f−θレンズ107は、レーザビームの走査速度が一定になるように補正する。このとき、f−θレンズ107は、レーザビームをキャビティブロック110の表面付近における任意の深さ(すなわち表面からの距離)で収束させ、ベンダーミラー106から出力されたレーザビームの焦点位置をZ軸方向に調整する。このように、ガルバノミラー104、105やf−θレンズ107等で構成されたガルバノスキャナにより、レーザビームの焦点をキャビティブロック110の目標加工位置に合わせながら一定速度で走査することが可能になる。     Reference numeral 107 denotes an f-θ lens that converges an incident laser beam to a target position. For example, the f-θ lens 107 cancels out the difference in incident angle generated in the laser beams 20 a and 20 b having different incident positions, and always makes the laser beam incident on the surface of the cavity block 110 at substantially the same angle. The f-θ lens 107 corrects the laser beam scanning speed to be constant. At this time, the f-θ lens 107 converges the laser beam at an arbitrary depth in the vicinity of the surface of the cavity block 110 (that is, the distance from the surface), and the focal position of the laser beam output from the bender mirror 106 is Z-axis. Adjust the direction. As described above, the galvano scanner including the galvanometer mirrors 104 and 105 and the f-θ lens 107 can scan the laser beam at a constant speed while adjusting the focal point of the laser beam to the target processing position of the cavity block 110.

110はキャビティブロックである。キャビティブロック110は、レーザ加工装置100により加工されることで、発光デバイス用金型のキャビティ底面を構成する金型面が梨地面に加工される。発光デバイス用の金型は、ステンレス鋼や合金工具鋼等の金属から構成されている。また、超硬合金や金属以外の材質を用いて金型を構成することができ、例えばセラミックスを用いて金型を構成することもできる。     110 is a cavity block. The cavity block 110 is processed by the laser processing apparatus 100, whereby the mold surface constituting the cavity bottom surface of the light emitting device mold is processed into a satin surface. The metal mold | die for light emitting devices is comprised from metals, such as stainless steel and alloy tool steel. Moreover, a metal mold | die can be comprised using materials other than a cemented carbide alloy and a metal, for example, a metal mold | die can also be comprised using ceramics.

111は、キャビティブロック110上においてレーザビームが走査される走査領域である。f−θレンズ107から射出されたレーザビームは、走査領域111においてX軸方向及びY軸方向に所定の速度で走査され、キャビティブロック110の表面を加工する。     Reference numeral 111 denotes a scanning region where the laser beam is scanned on the cavity block 110. The laser beam emitted from the f-θ lens 107 is scanned at a predetermined speed in the X axis direction and the Y axis direction in the scanning region 111 to process the surface of the cavity block 110.

112はレンズ成形部である。レンズ成形部112は、レーザ加工装置100によるレーザ加工を実行する前に例えばフライス加工によって平面視円形の球面状(凹形状)に形成される。すなわち、レーザ加工装置100によるレーザ加工は、レンズ成形部112が既に形成されたキャビティブロック110に対して実施される。     Reference numeral 112 denotes a lens molding unit. The lens forming unit 112 is formed in a spherical shape (concave shape) having a circular shape in plan view by, for example, milling before performing laser processing by the laser processing apparatus 100. In other words, laser processing by the laser processing apparatus 100 is performed on the cavity block 110 on which the lens molding portion 112 has already been formed.

このように、本実施例における発光デバイス用金型の製造方法は、キャビティブロック110に発光デバイスのレンズ部を成形するためのレンズ成形部112を形成する第1のステップを有する。本実施例の製造方法はさらに、後述のように、キャビティブロック110にレーザを照射して、レンズ成形部112に複数の凹部50を形成する第2のステップを有する。     As described above, the method for manufacturing the light emitting device mold according to the present embodiment includes the first step of forming the lens molding portion 112 for molding the lens portion of the light emitting device in the cavity block 110. The manufacturing method of the present embodiment further includes a second step of irradiating the cavity block 110 with a laser to form a plurality of concave portions 50 in the lens molding portion 112, as will be described later.

また、本実施例の発光デバイス用金型は、発光デバイスのレンズ部を成形するためのレンズ成形部112、及び、レーザを照射することによりレンズ成形部112に形成された複数の凹部50を有する。     In addition, the light emitting device mold of this embodiment has a lens molding portion 112 for molding the lens portion of the light emitting device, and a plurality of concave portions 50 formed in the lens molding portion 112 by irradiating a laser. .

キャビティブロック110に形成された複数のレンズ成形部112には、後述のように梨地面に加工された後に透光性樹脂が充填されることによって複数の発光デバイスのそれぞれのレンズ部が成形されることになる。     The plurality of lens forming portions 112 formed in the cavity block 110 are processed into a satin finish as described later, and then filled with a translucent resin to form each lens portion of the plurality of light emitting devices. It will be.

なお、領域113は、キャビティブロック110上の一つのレンズ成形部及びその周辺の範囲を示している。     Note that a region 113 indicates one lens molding portion on the cavity block 110 and its peripheral range.

図2は、本実施例におけるキャビティブロックに形成されたレンズ成形部の拡大図である。図2(A)はレンズ成形部の平面図であり、図1中の領域113の拡大図に相当する。図2(B)はレンズ成形部の断面図であり、図2(A)のB−B線による切断面を示している。     FIG. 2 is an enlarged view of a lens molding portion formed in the cavity block in the present embodiment. FIG. 2A is a plan view of the lens molding portion, and corresponds to an enlarged view of a region 113 in FIG. FIG. 2B is a cross-sectional view of the lens molding portion, and shows a cut surface taken along line BB in FIG.

本図は、レーザ加工装置100によるレーザ加工前のキャビティブロック110を示している。キャビティブロック110には、上記のフライス加工によってレーザ加工前に予めレンズ成形部112が形成されている。レンズ成形部112は、後述のように、透光性樹脂が充填された後に硬化させることにより、球面状(凸形状)のレンズ部を成形する。     This figure shows the cavity block 110 before laser processing by the laser processing apparatus 100. In the cavity block 110, a lens forming portion 112 is formed in advance by the above milling before laser processing. As will be described later, the lens molding section 112 molds a spherical (convex) lens section by being cured after being filled with a translucent resin.

このため、図2(B)に示されるように、キャビティブロック110におけるレンズ成形部112の形状は球面状(凹形状)であり、キャビティブロック110の表面に球面状の窪みが形成された構造を有する。ただし、レンズ成形部112の形状は、球面状の窪みであることに限定されるものではなく、例えば、丸みのある矩形状の窪みでもよく、非球面レンズ、シリンドリカルレンズ、レンチキュラーレンズ、フレネルレンズ、トーリックレンズ又はトロイダルレンズのような各種のレンズを成形可能な凹形状であってもよい。     For this reason, as shown in FIG. 2B, the shape of the lens molding portion 112 in the cavity block 110 is spherical (concave), and a structure in which a spherical depression is formed on the surface of the cavity block 110 is used. Have. However, the shape of the lens molding portion 112 is not limited to a spherical depression, and may be, for example, a rounded depression, such as an aspherical lens, a cylindrical lens, a lenticular lens, a Fresnel lens, It may be a concave shape capable of molding various lenses such as a toric lens or a toroidal lens.

図3は、本実施例におけるレーザビームの走査方法の一例を示す図である。図3(A)はレーザビームの走査領域(走査範囲)全体を示す概略平面図であり、図3(B)は走査領域の一部(例えば一個のレンズ成形部の内部)を示す拡大平面図である。     FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a laser beam scanning method in the present embodiment. 3A is a schematic plan view showing the entire scanning region (scanning range) of the laser beam, and FIG. 3B is an enlarged plan view showing a part of the scanning region (for example, the inside of one lens molding portion). It is.

図3(A)に示されるように、本実施例のレーザ加工装置100は、走査領域111において、左から右(X軸方向)の方向に走査する。この状態を実線の走査線131で示す。具体的には、レーザ加工装置100は、ガルバノミラー104、105の角度を変化させてレーザビームをf−θレンズ107に入射させる位置を制御することにより、レーザビームの照射方向をX軸方向又はY軸方向に走査する。     As shown in FIG. 3A, the laser processing apparatus 100 of the present embodiment scans in the scanning area 111 from the left to the right (X-axis direction). This state is indicated by a solid scanning line 131. Specifically, the laser processing apparatus 100 changes the angle of the galvanometer mirrors 104 and 105 to control the position where the laser beam is incident on the f-θ lens 107, thereby changing the irradiation direction of the laser beam in the X-axis direction or Scan in the Y-axis direction.

走査線131上を走査している間に、所定位置においてレーザビームをキャビティブロック110に照射することにより、キャビティブロック110の表面が加工される。レーザビームをキャビティブロック110上に照射する場合には、レーザ加工装置100のシャッター102をオン位置(開位置)に駆動して、レーザ発振器101からのレーザビーム20を通過させて、エキスパンダ103に入射させる。     While the scanning line 131 is being scanned, the surface of the cavity block 110 is processed by irradiating the cavity block 110 with a laser beam at a predetermined position. When irradiating the cavity block 110 with the laser beam, the shutter 102 of the laser processing apparatus 100 is driven to the ON position (open position), and the laser beam 20 from the laser oscillator 101 is passed through to the expander 103. Make it incident.

レーザ加工装置100による走査が走査領域111の右端に達すると、走査方向を変化させ、右から左(−X軸方向)の方向に走査しながら戻る。より正確には、左下の方向に向けて戻るように移動させることにより、次の走査が直前の走査とは異なる位置から開始するように制御される。この状態を破線の走査線132で示す。     When the scanning by the laser processing apparatus 100 reaches the right end of the scanning region 111, the scanning direction is changed, and the scanning is returned while scanning from the right to the left (−X axis direction). More precisely, the next scan is controlled to start from a position different from the previous scan by moving it back in the lower left direction. This state is indicated by a broken scanning line 132.

本実施例のレーザ加工装置100では、走査線132上を走査している間は、シャッター102を常にオフ位置(閉位置)に駆動して、レーザビーム20を遮断する。このため、走査線132上を走査している間、レーザビームはキャビティブロック110に照射されない。走査領域111の全面における1回の走査が完了するまで、これらの動作を繰り返す。     In the laser processing apparatus 100 of the present embodiment, while scanning on the scanning line 132, the shutter 102 is always driven to the off position (closed position) to block the laser beam 20. For this reason, the laser beam is not irradiated onto the cavity block 110 while scanning the scanning line 132. These operations are repeated until one scan on the entire surface of the scan region 111 is completed.

ただし、走査線132上を走査している間、すなわち走査位置を戻す間にもキャビティブロック110を加工するように制御してもよい。このような走査方法を採用すれば、キャビティブロック110の加工時間を短縮することができる。この場合、各走査線131、132を平行に走査するとともに、各走査線131、132の端部まで走査したときには、後述する隣接する走査線131間と同一の距離だけY軸方向に微小送りする。     However, the cavity block 110 may be controlled to be processed while scanning the scanning line 132, that is, while returning the scanning position. If such a scanning method is adopted, the processing time of the cavity block 110 can be shortened. In this case, the scanning lines 131 and 132 are scanned in parallel, and when scanning is performed up to the ends of the scanning lines 131 and 132, they are finely fed in the Y-axis direction by the same distance as between adjacent scanning lines 131 described later. .

本実施例におけるレーザ加工装置100は、本願発明者が鋭意研究した結果、例えば、後述する図18に示される一例では、数千mm/sといった高速な走査速度でレーザビームをキャビティブロック110上で走査しても所望の表面性状を得ることができることが判明した。この場合、数センチ四方のキャビティブロックであれば数秒で加工を終了することができる。このように、本発明ではレーザビームを高速に走査しているため、放電加工のみならずブラスト加工よりも加工時間を短縮することができ、表面加工を極めて効率的に実行することが可能となっている。ただし、走査速度は、適宜変更して最適な速度に制御することが可能である。     The laser processing apparatus 100 according to the present embodiment has been studied by the inventors of the present application. As a result, for example, in an example shown in FIG. It has been found that the desired surface properties can be obtained even by scanning. In this case, if the cavity block is several centimeters square, the processing can be completed in a few seconds. Thus, since the laser beam is scanned at a high speed in the present invention, the machining time can be shortened as compared with the blast machining as well as the electric discharge machining, and the surface machining can be executed extremely efficiently. ing. However, the scanning speed can be appropriately changed and controlled to an optimum speed.

なお、本図では、縦3個及び横7個で計21個のレンズ成形部が形成されているが、これはキャビティブロック110の一例を示したものに過ぎない。本実施例において、キャビティブロック110に形成されるレンズ成形部の個数やそれらの配置方法については、何ら限定されるものではない。     In the drawing, there are 21 lens forming portions in total of 3 in the vertical direction and 7 in the horizontal direction, but this is only an example of the cavity block 110. In the present embodiment, the number of lens molding portions formed in the cavity block 110 and the arrangement method thereof are not limited at all.

図3(B)に示されるように、レーザ加工装置100は、キャビティブロック110の走査領域111において、走査線131のとおり左から右へ直線的に走査する。このとき、予め定められた場所においてレーザビームを照射することによりキャビティブロック110の表層を溶融させるとともに溶融部分をレーザビームの外周側に寄せるようなプロセスを発生させて照射部分を凹まして、凹部50(窪み)を形成する。このため、一つの走査線131上を走査している間に、その走査線131上に位置する複数の凹部50が順次形成されていく。     As shown in FIG. 3B, the laser processing apparatus 100 linearly scans from the left to the right as the scanning line 131 in the scanning region 111 of the cavity block 110. At this time, by irradiating the laser beam at a predetermined location, a process is performed in which the surface layer of the cavity block 110 is melted and the melted portion is brought closer to the outer peripheral side of the laser beam, the irradiated portion is recessed, and the recess 50 (Dent) is formed. For this reason, while scanning on one scanning line 131, a plurality of concave portions 50 positioned on the scanning line 131 are sequentially formed.

一つの走査線131上の走査が完了すると、走査線132として示すとおり、レーザビームの照射位置を図3における左下に向けて移動させる。このようにして、同様に、次の走査線131(本図の一つ下の走査線131)上を走査する。     When the scanning on one scanning line 131 is completed, the irradiation position of the laser beam is moved toward the lower left in FIG. In this manner, similarly, the next scanning line 131 (one scanning line 131 in the figure) is scanned.

このとき、キャビティブロック110上に形成される凹部50の配置としては、種々のものが考えられる。本実施例では、複数の凹部50を後述の理由で緻密(稠密)に配置する一例として凹部50は千鳥配置で形成されている。具体的には、走査線131において隣り合う凹部50の間隔を1としたとき、隣り合う走査線131同士の間隔は√3/2であり、隣り合う走査線131に位置する最近接の凹部50のX軸方向における間隔は、走査方向に1/2である。このように、複数の凹部50を千鳥配置で形成することにより、レンズ成形部112に多くの凹部50を設けることができる。     At this time, various arrangements of the recesses 50 formed on the cavity block 110 are conceivable. In the present embodiment, the recesses 50 are formed in a staggered arrangement as an example in which the plurality of recesses 50 are densely (densely) arranged for the reasons described later. Specifically, when the interval between the adjacent recesses 50 in the scan line 131 is 1, the interval between the adjacent scan lines 131 is √3 / 2, and the nearest recess 50 located in the adjacent scan line 131 is. Is ½ in the scanning direction. In this manner, by forming the plurality of concave portions 50 in a staggered arrangement, a large number of concave portions 50 can be provided in the lens molding portion 112.

ただし、複数の凹部50の配置は、図3(B)に示される配置に限定されるものではなく、他の配置方法を採用してもよい。複数の凹部50は、キャビティブロック110上を走査している間に、レーザ加工装置100のシャッター102のオン/オフを制御することにより、任意の位置に形成することができる。このため、複数の凹部50は、シャッター102を制御することにより、所望の配置で形成することが可能である。     However, the arrangement of the plurality of recesses 50 is not limited to the arrangement shown in FIG. 3B, and other arrangement methods may be adopted. The plurality of recesses 50 can be formed at arbitrary positions by controlling on / off of the shutter 102 of the laser processing apparatus 100 while scanning the cavity block 110. For this reason, the plurality of recesses 50 can be formed in a desired arrangement by controlling the shutter 102.

レーザ加工装置100は、適切なパワーを有するレーザビーム20をキャビティブロック110に照射することにより、レンズ成形部112の内部に複数の凹部50を形成する。ただし、比較的深くて大きい凹部50を形成しようとしてレーザビーム20のパワー(パルス171の振幅)を大きくすると、キャビティブロック110にクラックが生じるおそれがある。このため、レーザビーム20のパワーを大きくすることで凹部50を大きく形成することが困難な場合もある。     The laser processing apparatus 100 irradiates the cavity block 110 with the laser beam 20 having an appropriate power, thereby forming a plurality of recesses 50 in the lens molding portion 112. However, if the power of the laser beam 20 (the amplitude of the pulse 171) is increased in an attempt to form a relatively deep and large recess 50, there is a risk that cracks may occur in the cavity block 110. For this reason, it may be difficult to increase the size of the recess 50 by increasing the power of the laser beam 20.

そこで、比較的大きな凹部50を形成する場合や出力の小さいレーザを用いる場合には、レーザビーム20を1回だけ照射するのではなく、キャビティブロック110上の同位置において、レーザビーム20を複数回照射することが望ましい。このように複数回のレーザビーム照射を行う場合には、走査領域111全体の走査が終了した後、先の走査時の原点(元の位置)に戻って、前回と同様に走査領域111を走査する。例えば、2回目の走査時に、1回目の走査時におけるレーザビーム20の照射位置と同様の位置で、再度、レーザビーム20を照射する。このような複数回の走査は、必要に応じて、N回目(N≧2)まで続く。     Therefore, when the relatively large recess 50 is formed or when a laser with a small output is used, the laser beam 20 is not irradiated once but at the same position on the cavity block 110 several times. Irradiation is desirable. When laser beam irradiation is performed a plurality of times in this way, after the scanning of the entire scanning region 111 is completed, the scanning region 111 is scanned in the same manner as the previous time by returning to the origin (original position) at the previous scanning. To do. For example, during the second scanning, the laser beam 20 is irradiated again at the same position as the irradiation position of the laser beam 20 during the first scanning. Such a plurality of times of scanning continues up to the Nth time (N ≧ 2) as necessary.

このように、本実施例における発光デバイス用金型の製造方法において、前述の第2のステップは、凹部50が形成される位置にレーザを複数回照射させて凹部50を形成することが好ましい。     Thus, in the manufacturing method of the light emitting device mold in the present embodiment, it is preferable that the second step described above forms the recess 50 by irradiating the position where the recess 50 is formed with the laser a plurality of times.

図4は、本実施例におけるレーザビームの照射タイミングを示す図である。本図は、N回(N≧2)のレーザビーム照射を実施する場合の一例であり、1回目のレーザ照射、2回目のレーザ照射、…、N回目のレーザ照射における照射タイミングを示している。本図は、横軸がレーザビームの照射位置Xを示すとともに、縦軸がレーザビームの照射回数(1回目N回目)の走査時における各走査線131(Line1乃至LineM)の走査順序を示して、全体として凹部50の形成順序を示している。なお、本実施例においては、レーザビームを一定の走査速度で走査するため、本図の横軸は照射位置を示すだけでなく照射されたタイミングも示すこととなる。また、本図における「Line1」は走査領域111全体を走査するときの最初の走査線131を示し、「LineM」はこのときの最後の走査線131を示す。     FIG. 4 is a diagram showing the irradiation timing of the laser beam in the present embodiment. This figure is an example when N times (N ≧ 2) of laser beam irradiation is performed, and shows irradiation timings in the first laser irradiation, the second laser irradiation,..., The Nth laser irradiation. . In this figure, the horizontal axis represents the laser beam irradiation position X, and the vertical axis represents the scanning order of the scanning lines 131 (Line 1 to Line M) during scanning of the number of times of laser beam irradiation (first time N times). The order of forming the recesses 50 is shown as a whole. In this embodiment, since the laser beam is scanned at a constant scanning speed, the horizontal axis in this figure indicates not only the irradiation position but also the irradiation timing. In addition, “Line 1” in the drawing indicates the first scanning line 131 when scanning the entire scanning region 111, and “Line M” indicates the last scanning line 131 at this time.

図4に示されるように、各走査線の波形170には、複数のパルス171が含まれる。波形170において、パルス171は、レーザビームがキャビティブロック110に照射されたことを示している。各走査線のパルス171は、一定のパルス間隔151(パルス周期)で波形170上に現れている。このように、各走査線131における走査中、レーザビームは一定の距離間隔および時間間隔で照射されている。パルス間隔151は、上述のとおり、レーザ加工装置100のシャッター102のオン/オフ時間を制御することにより調整することができる。     As shown in FIG. 4, the waveform 170 of each scanning line includes a plurality of pulses 171. In the waveform 170, a pulse 171 indicates that the cavity block 110 is irradiated with the laser beam. The pulse 171 of each scanning line appears on the waveform 170 at a constant pulse interval 151 (pulse period). As described above, the laser beam is irradiated at a constant distance interval and time interval during scanning on each scanning line 131. As described above, the pulse interval 151 can be adjusted by controlling the on / off time of the shutter 102 of the laser processing apparatus 100.

例えば、所定の走査線131上において隣接するように形成される凹部50の間隔は、レーザビームの照射される時間的な間隔(パルス周期)と走査速度との積に相当する。ただし、必要に応じて、走査速度、オン時間又はパルス周期を変更することができる。このように、本実施例の加工方法によれば、オン時間やパルス周期等を制御することにより、キャビティブロック110上に種々の凹部(パターン)を例えば数μmから数百μm程度の範囲内で所望の大きさに簡便に形成することが可能になる。     For example, the interval between the recesses 50 formed adjacent to each other on the predetermined scanning line 131 corresponds to the product of the time interval (pulse period) irradiated with the laser beam and the scanning speed. However, the scanning speed, the on time, or the pulse period can be changed as necessary. As described above, according to the processing method of this embodiment, various recesses (patterns) are formed on the cavity block 110 within a range of, for example, about several μm to several hundred μm by controlling the on-time, the pulse period, and the like. It becomes possible to easily form a desired size.

図4に示されるように、1回目の走査中に、第1の走査線(Line1)における走査が完了すると、第2の走査線(Line2)における走査が開始する。第2の走査線に発生するパルスは、第1の走査線にて発生する隣り合う2つのパルスの間に位置する。図4に示される間隔152は、パルス間隔151の半分に相当する。以降、第3の走査線(Line3)以降の奇数番目の走査線は第1の走査線(Line1)と同位置でパルス171が現れ、第4の走査線(Line4)以降の偶数番目の走査線は第2の走査線(Line2)と同位置でパルス171が現れる。これは、最終回である第Mの走査線(LineM)における走査まで繰り返される。     As shown in FIG. 4, when the scan on the first scan line (Line 1) is completed during the first scan, the scan on the second scan line (Line 2) starts. The pulse generated in the second scanning line is located between two adjacent pulses generated in the first scanning line. The interval 152 shown in FIG. 4 corresponds to half of the pulse interval 151. Thereafter, an odd-numbered scan line after the third scan line (Line 3) has a pulse 171 appearing at the same position as the first scan line (Line 1), and an even-numbered scan line after the fourth scan line (Line 4). Shows a pulse 171 at the same position as the second scanning line (Line 2). This is repeated until the last scan on the Mth scan line (LineM).

このように、パルス171の発生位置が交互に設定されているのは、図3(B)に示されるように、複数の凹部50を千鳥配置で形成するためである。したがって、例えば、後述するように複数の凹部50を正方形配置で形成する場合(図15参照)には、第1の走査線(Line1)から第Mの走査線(LineM)まで同一の位置にパルス171が現れることになる(図15参照)。     As described above, the generation positions of the pulses 171 are alternately set in order to form the plurality of concave portions 50 in a staggered arrangement as shown in FIG. Therefore, for example, when a plurality of concave portions 50 are formed in a square arrangement as will be described later (see FIG. 15), pulses are applied to the same position from the first scanning line (Line1) to the Mth scanning line (LineM). 171 appears (see FIG. 15).

1回目の走査が完了すると、元の位置に戻り、2回目の走査が開始する。2回目の走査は、1回目の走査と同一の箇所でパルス171が現れる。すなわち、2回目の走査中におけるレーザビームの照射は、1回目の走査中におけるレーザビームの照射位置と同じ位置で行われる。そして、N回目の走査まで、同じ位置でのレーザビームの照射が行われる。このため、凹部50の形成されるそれぞれの照射位置には、レーザビームがN回照射されることになる。     When the first scan is completed, the original position is restored and the second scan is started. In the second scan, a pulse 171 appears at the same position as the first scan. That is, the laser beam irradiation during the second scanning is performed at the same position as the laser beam irradiation position during the first scanning. Then, the laser beam is irradiated at the same position until the Nth scan. For this reason, each irradiation position where the recess 50 is formed is irradiated with the laser beam N times.

図5は、複数回のレーザビーム照射を行った場合における凹部50の形成過程を説明するためのキャビティブロックの拡大断面図である。図5(A)は1回目の照射時、図5(B)は2回目の照射時、図5(C)は3回目の照射時におけるキャビティブロックの断面を示している。     FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of the cavity block for explaining the formation process of the recess 50 when the laser beam irradiation is performed a plurality of times. 5A shows a cross section of the cavity block during the first irradiation, FIG. 5B shows the second irradiation, and FIG. 5C shows the cross section of the cavity block during the third irradiation.

図5(A)に示されるように、1回目のレーザビーム181aをキャビティブロック110に照射した場合、上記プロセスによって浅い凹部50aが形成される。レーザビーム181aは、本図において矢印の方向である左から右に走査される。このため、レーザビーム181aが既に照射された左側の部分には、略同一形状の凹部50aが形成される。この場合、凹部50aとして、1回目の照射によって底部分が平面状となった浅い窪みが形成される。一方、右側の部分は、まだレーザビーム181aが照射されていないため、キャビティブロック110の表面は平面のままである。     As shown in FIG. 5A, when the cavity block 110 is irradiated with the first laser beam 181a, a shallow recess 50a is formed by the above process. The laser beam 181a is scanned from left to right, which is the direction of the arrow in the drawing. For this reason, a concave portion 50a having substantially the same shape is formed in the left portion where the laser beam 181a has already been irradiated. In this case, as the recess 50a, a shallow depression having a flat bottom portion is formed by the first irradiation. On the other hand, since the laser beam 181a is not yet irradiated on the right portion, the surface of the cavity block 110 remains flat.

図5(B)に示されるように、2回目のレーザビーム181bをキャビティブロック110に照射した場合、上記プロセスを2回発生させることで凹部50aよりも加工の進んだ凹部50bが形成される。レーザビーム181bは、1回目の走査と同様の方向に走査される。このため、レーザビーム181bが既に照射された左側の部分には、略同一形状の凹部50bが形成される。この場合、2回目の照射で形成された凹部50bは、1回目の照射で形成された凹部50aをさらにレーザ照射したものであるため、凹部50aより深く、断面形状がより球面状に近づいた窪みとなる。一方、右側の部分は、まだレーザビーム181bが照射されていないため、キャビティブロック110の表面には1回目の照射で形成された凹部50aが形成されたままの状態となっている。     As shown in FIG. 5B, when the cavity block 110 is irradiated with the second laser beam 181b, the recess 50b that is more advanced than the recess 50a is formed by generating the above process twice. The laser beam 181b is scanned in the same direction as the first scan. For this reason, a concave portion 50b having substantially the same shape is formed in the left portion where the laser beam 181b has already been irradiated. In this case, since the concave portion 50b formed by the second irradiation is obtained by further irradiating the concave portion 50a formed by the first irradiation with the laser beam, the concave portion is deeper than the concave portion 50a and has a cross-sectional shape closer to a spherical shape. It becomes. On the other hand, since the laser beam 181b has not been irradiated yet on the right side portion, the recess 50a formed by the first irradiation is still formed on the surface of the cavity block 110.

図5(C)に示されるように、3回目のレーザビーム181cをキャビティブロック110に照射した場合、上記プロセスを3回発生させることで凹部50aよりも更に加工の進んだ凹部50cが形成される。レーザビーム181cは、1、2回目の走査と同様の方向に走査される。このため、レーザビーム181cが既に照射された左側の部分には、略同一形状かつ球面状の凹部50cが形成される。この場合、3回目の照射で形成された凹部50cは、2回目の照射で形成された凹部50bをさらにレーザ照射したものであるため、略球面状の凹部50bより深い窪みとなる。一方、右側の部分は、まだレーザビーム181cが照射されていないため、キャビティブロック110の表面には2回目の照射で形成された凹部50bが形成されたままの状態となっている。     As shown in FIG. 5C, when the cavity block 110 is irradiated with the laser beam 181c for the third time, the recess 50c that is further processed than the recess 50a is formed by generating the above process three times. . The laser beam 181c is scanned in the same direction as the first and second scans. Therefore, a concave portion 50c having substantially the same shape and a spherical shape is formed in the left portion where the laser beam 181c has already been irradiated. In this case, the recess 50c formed by the third irradiation is a recess deeper than the substantially spherical recess 50b because the recess 50b formed by the second irradiation is further irradiated with laser. On the other hand, since the laser beam 181c is not yet irradiated on the right side portion, the concave portion 50b formed by the second irradiation is still formed on the surface of the cavity block 110.

なお、図5では、便宜上、キャビティブロック110の表面が平面であるとして、凹部50a、50b、50cの変化を示しているが、これらの凹部に対してレンズ成形部112が十分に大きいため、凹部50a、50b、50cを球面状のレンズ成形部112に形成する場合でも、同様の変化を示す。なお、レンズ成形部112の縁部側の傾斜部であっても基本的には同様の変化を示す。     In FIG. 5, for the sake of convenience, the surface of the cavity block 110 is assumed to be a flat surface, and changes in the recesses 50a, 50b, and 50c are shown. However, since the lens molding portion 112 is sufficiently large with respect to these recesses, Even when 50a, 50b, and 50c are formed in the spherical lens molding portion 112, the same change is shown. Note that the same change is basically exhibited even in the inclined portion on the edge side of the lens molding portion 112.

図6は、複数回のレーザビーム照射を行った場合におけるキャビティブロック(走査領域111)の拡大平面図である。本図では、1回目のレーザ照射で形成された凹部50aを点線で示し、2回目のレーザ照射で形成された凹部50bを実線で示している。     FIG. 6 is an enlarged plan view of the cavity block (scanning region 111) when a plurality of laser beam irradiations are performed. In this figure, the concave portion 50a formed by the first laser irradiation is indicated by a dotted line, and the concave portion 50b formed by the second laser irradiation is indicated by a solid line.

図6に示されるように、2回目の照射で形成された凹部50bは、1回目の照射で形成された凹部50aより大きくなっている。なお、凹部50aと凹部50bとの関係は、N回目の照射で形成された凹部とN+1回目の照射で形成された凹部との関係に一般化することが可能である。     As shown in FIG. 6, the recess 50b formed by the second irradiation is larger than the recess 50a formed by the first irradiation. The relationship between the recess 50a and the recess 50b can be generalized to the relationship between the recess formed by the Nth irradiation and the recess formed by the (N + 1) th irradiation.

本実施例において複数回のレーザ照射を行う場合、常に一定のパワー(パルス振幅)でレーザ照射を行うことができる。ただし、照射回数が増えるに連れてレーザビーム20のパワー(パルス振幅)が小さくなるように制御してもよい。このような制御によれば、より効率的に深い凹部50を形成することが可能になる。     In this embodiment, when performing laser irradiation a plurality of times, laser irradiation can always be performed with a constant power (pulse amplitude). However, the power (pulse amplitude) of the laser beam 20 may be controlled to decrease as the number of irradiations increases. According to such control, it becomes possible to form the deep recessed part 50 more efficiently.

図7は、本実施例におけるレーザビーム照射の様子を示した断面図である。     FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state of laser beam irradiation in this embodiment.

図7に示されるように、レーザビーム181は、キャビティブロック110においてレンズ成形部112が形成されるとともにキャビティの壁面を構成する加工平面110aに対して常に垂直に照射される。このため、レンズ成形部112の縁部に近づく従って加工平面110aに対する傾斜が大きくなるため、この縁部側では相対的に斜めからレーザビーム181が照射されてビーム径が若干拡大した状態となる。レーザビーム181の焦点は、加工平面110aから常に一定の距離(深さ)に保持される。例えば、レーザビーム181の焦点は、加工平面110aの位置に設定される。これに代えて、レーザビーム181の焦点をレンズ成形部の底部122、又は、加工平面110aとレンズ成形部の底部122との間の位置に設定してもよい。     As shown in FIG. 7, the laser beam 181 is always irradiated perpendicularly to the processing plane 110a that forms the lens wall 112 in the cavity block 110 and forms the wall surface of the cavity. For this reason, since the inclination with respect to the processing plane 110a increases as it approaches the edge of the lens molding portion 112, the laser beam 181 is irradiated relatively obliquely on the edge side, and the beam diameter is slightly expanded. The focal point of the laser beam 181 is always maintained at a constant distance (depth) from the processing plane 110a. For example, the focal point of the laser beam 181 is set at the position of the processing plane 110a. Alternatively, the focal point of the laser beam 181 may be set at a position between the bottom portion 122 of the lens forming portion or between the processing plane 110a and the bottom portion 122 of the lens forming portion.

図8は、図7に示されるレーザビーム照射によりキャビティブロックに形成された複数の凹部の形状を概念的に示す断面図である。図8に示されるように、キャビティブロック110の表面には、レンズ成形部112に形成された複数の凹部50と、加工平面110aに形成された複数の凹部51とが形成されている。     FIG. 8 is a sectional view conceptually showing the shapes of a plurality of recesses formed in the cavity block by the laser beam irradiation shown in FIG. As shown in FIG. 8, a plurality of recesses 50 formed in the lens molding portion 112 and a plurality of recesses 51 formed in the processing plane 110 a are formed on the surface of the cavity block 110.

本願発明者が鋭意研究した結果、図7に示される方法でレーザ照射を行った場合でも、レンズ成形部112が比較的浅い球面状であるときには、図8に示されるように、均一な複数の凹部50、51を形成可能であることが確認された。これは、上記のように縁部側ではビーム径が若干拡大した状態となるが、同様に底部122においても焦点位置から一定の距離があるためビーム径が若干拡大するため、レンズ成形部112においてはビーム径が大きく変化せず、その全面に略同一の大きさの凹部50が形成されることとなる。このため、浅い球面状のレンズ成形部112にレーザ照射を行う際にはレーザビーム181の照射方向を変化させる必要はない。また、レンズ成形部の底部122と加工平面110aとの間には、一定の距離があるが、レーザビーム181の焦点位置を変化させるような制御も不要である。このため、本実施例によれば、焦点位置を変化させる制御などを行う必要がなく加工平面110aに焦点位置を合わせた状態で走査する簡便な方法により、球面状のレンズ成形部112の内部に均一な凹部を形成することができる。     As a result of intensive studies by the inventors of the present application, even when laser irradiation is performed by the method shown in FIG. 7, when the lens molding portion 112 has a relatively shallow spherical shape, as shown in FIG. It was confirmed that the recesses 50 and 51 can be formed. As described above, the beam diameter is slightly enlarged on the edge side as described above. Similarly, the bottom 122 has a certain distance from the focal position, so the beam diameter is slightly enlarged. In this case, the beam diameter does not change greatly, and the concave portions 50 having substantially the same size are formed on the entire surface. Therefore, it is not necessary to change the irradiation direction of the laser beam 181 when performing laser irradiation on the shallow spherical lens forming portion 112. In addition, although there is a certain distance between the bottom 122 of the lens molding portion and the processing plane 110a, control for changing the focal position of the laser beam 181 is not necessary. Therefore, according to the present embodiment, it is not necessary to perform control for changing the focal position and the like, and the inside of the spherical lens molding unit 112 is scanned by a simple method in which the focal position is aligned with the processing plane 110a. A uniform recess can be formed.

ただし、より均一な凹部を形成するために、レーザビームの焦点位置を制御してもよい。例えば、加工平面110a上に凹部51を形成する場合にはレーザビームの焦点位置を加工平面110aに設定し、レンズ部の底部122に凹部50を形成する場合にはレーザビームの焦点位置をレンズ部の底部122に設定する。このとき、不図示の焦点制御手段を用いてキャビティブロック110をZ方向(上下方向)に移動させることにより、レーザビームの焦点位置を変化させることができる。また、比較的深い球面状のレンズ成形部112にレーザ照射を行うときには、レンズ成形部112の縁部側においてレーザビーム181が拡大した状態となってもレーザの照射径が他の位置と同程度のサイズとするためにレーザ径を絞って縮小させるなどの方法が考えられる。     However, the focal position of the laser beam may be controlled in order to form a more uniform recess. For example, when the concave portion 51 is formed on the processing plane 110a, the focal position of the laser beam is set to the processing plane 110a, and when the concave portion 50 is formed on the bottom portion 122 of the lens unit, the focal position of the laser beam is set to the lens unit. Set to the bottom 122 of the. At this time, the focal position of the laser beam can be changed by moving the cavity block 110 in the Z direction (vertical direction) using a focus control unit (not shown). Further, when laser irradiation is performed on the relatively deep spherical lens molding portion 112, the laser irradiation diameter is approximately the same as other positions even when the laser beam 181 is expanded on the edge side of the lens molding portion 112. To reduce the size of the laser, a method of reducing the laser diameter and reducing the size can be considered.

なお、図8に示されるように、本実施例のキャビティブロック110は、レンズ成形部112に形成された凹部50と、レンズ成形部112の周辺部である加工平面110aに形成された凹部51とを備える。このように、本実施例における発光デバイス用金型の製造方法において、前述の第2のステップは、レンズ成形部112及びレンズ成形部112の周辺部にもレーザを照射することが好ましい。     As shown in FIG. 8, the cavity block 110 according to the present embodiment includes a recess 50 formed in the lens molding portion 112 and a recess 51 formed in the processing plane 110 a that is a peripheral portion of the lens molding portion 112. Is provided. Thus, in the manufacturing method of the light emitting device mold in the present embodiment, it is preferable that the second step described above irradiates the lens molding portion 112 and the peripheral portion of the lens molding portion 112 with laser.

また、本実施例のキャビティブロック110の凹部51は、レンズ成形部112の周辺部だけでなく、キャビティブロック110の全面(走査領域111の全面)に形成してもよい。この場合、前述の第2のステップは、キャビティブロック110の全面にレーザを照射することになる。     Further, the recess 51 of the cavity block 110 of this embodiment may be formed not only on the periphery of the lens molding portion 112 but also on the entire surface of the cavity block 110 (the entire surface of the scanning region 111). In this case, the above-described second step irradiates the entire surface of the cavity block 110 with a laser.

図9は、本実施例における発光デバイスの樹脂封止方法を示す断面図である。本図は樹脂封止前の状態を示しており、本実施例ではトランスファモールドにより発光チップが樹脂封止(モールド)されて発光デバイスが形成される。     FIG. 9 is a cross-sectional view showing a resin sealing method of the light emitting device in this example. This figure shows a state before resin sealing. In this embodiment, the light emitting chip is resin sealed (molded) by transfer molding to form a light emitting device.

10は、本発明における「金型」に相当し、仕上げ前のキャビティブロック110に対して、Ni、Cr、Ni合金、Cr合金、Ni−Cr合金、又は、フッ素系合金などを用いたメッキ処理等の仕上げ加工を施して発光デバイス用金型としたキャビティブロックである。キャビティブロック10における複数のレンズ成形部112の形成位置は、後述する発光チップ90の実装位置と重なり合うように略同一の位置になっている。複数の発光デバイスにおける各々のレンズ部は、キャビティブロック10に形成された複数のレンズ成形部112によってそれぞれ成形される。キャビティブロック10のレンズ成形部112には、上記のレーザ照射によって複数の凹部50が形成されている。     10 corresponds to a “die” in the present invention, and plating treatment using Ni, Cr, Ni alloy, Cr alloy, Ni—Cr alloy, fluorine-based alloy or the like is performed on the cavity block 110 before finishing. It is a cavity block which gave the finishing process of etc. and was set as the metal mold | die for light emitting devices. The formation positions of the plurality of lens forming portions 112 in the cavity block 10 are substantially the same positions so as to overlap with the mounting positions of the light emitting chips 90 described later. Each lens part in the plurality of light emitting devices is respectively molded by a plurality of lens molding parts 112 formed in the cavity block 10. A plurality of concave portions 50 are formed in the lens molding portion 112 of the cavity block 10 by the laser irradiation described above.

キャビティブロック10は、これとは別体形成された上金型11に装着されて固定される。この上金型11と下金型12とでリードフレーム80をクランプする(挟む)ことにより、キャビティブロック10とリードフレーム80との間にキャビティ214が形成される。このように、キャビティブロック10のみに複数の凹部を形成しているため、第1のステップ及び第2のステップの作業時にはキャビティブロック110のみを取り扱えばよい。したがって、より大きな上金型11ごと取り扱う必要がないため、これらのステップの作業を簡便に行うことができる。     The cavity block 10 is mounted and fixed to an upper mold 11 formed separately from the cavity block 10. By clamping (pinching) the lead frame 80 between the upper mold 11 and the lower mold 12, a cavity 214 is formed between the cavity block 10 and the lead frame 80. As described above, since the plurality of recesses are formed only in the cavity block 10, only the cavity block 110 may be handled during the operations of the first step and the second step. Therefore, since it is not necessary to handle the larger upper mold 11, the operations of these steps can be performed easily.

90は、例えば発光ダイオード(LED:Light−Emitting Diode)やレーザダイオードなどの発光チップ(発光素子)である。発光チップ90は、アノード電極(正極)及びカソード電極(負極)を備え、これらの一対の電極間に順バイアスを印加することにより特定の色の光を放出する半導体チップである。発光色は、発光チップ90に用いられる材料により異なる。発光チップ90として、例えば、赤色光を放出するAlGaAs、緑色光を放出するGaP、青色光を放出するGaNなどが用いられる。     Reference numeral 90 denotes a light emitting chip (light emitting element) such as a light emitting diode (LED) or a laser diode. The light-emitting chip 90 is a semiconductor chip that includes an anode electrode (positive electrode) and a cathode electrode (negative electrode), and emits light of a specific color by applying a forward bias between the pair of electrodes. The emission color varies depending on the material used for the light emitting chip 90. As the light emitting chip 90, for example, AlGaAs that emits red light, GaP that emits green light, GaN that emits blue light, or the like is used.

80は、本実施例における「基板」の一例としてのリードフレームである。なお、本実施例における「基板」とは、樹脂基板又はフィルム基板等の各種基板やリードフレームのように発光チップを実装可能な部材をいう。リードフレーム80は、例えば銅合金からなり、発光チップ90を実装する。最終的に、発光チップ90を実装して樹脂封止したリードフレーム80をダイシングすることにより、複数の発光デバイス(LEDパッケージ)が完成する。     Reference numeral 80 denotes a lead frame as an example of a “substrate” in the present embodiment. Note that the “substrate” in this embodiment refers to a member on which a light emitting chip can be mounted, such as various substrates such as a resin substrate or a film substrate, and a lead frame. The lead frame 80 is made of, for example, a copper alloy, and the light emitting chip 90 is mounted thereon. Finally, a plurality of light emitting devices (LED packages) are completed by dicing the lead frame 80 on which the light emitting chip 90 is mounted and resin-sealed.

このとき、ダイシングされたリードフレームは、発光チップ90のアノード電極及びカソード電極が接続されたインナーリードとなる。発光チップ90の表面にはアノード電極が設けられ、また、発光チップ90の裏面にはカソード電極が設けられている。このため、カソード電極側である一方のインナーリードに実装された発光チップ90のアノード電極は、金等のワイヤを用いて他方のインナーリードに電気的に接続される。     At this time, the diced lead frame becomes an inner lead to which the anode electrode and the cathode electrode of the light emitting chip 90 are connected. An anode electrode is provided on the front surface of the light emitting chip 90, and a cathode electrode is provided on the back surface of the light emitting chip 90. For this reason, the anode electrode of the light emitting chip 90 mounted on one inner lead on the cathode electrode side is electrically connected to the other inner lead using a wire such as gold.

30は樹脂タブレットである。樹脂タブレット30は、熱硬化性樹脂等をタブレット(円柱)状に成形したものである。後述のように、樹脂タブレット30が金型の熱で溶融するとともに圧送されることにより、キャビティブロック10(上金型11)とリードフレーム80との間が透光性樹脂で充填される。透光性樹脂が充填された後に所定時間だけキュアすることにより、発光チップ90は樹脂封止され、発光デバイスのレンズ部が成形される。     30 is a resin tablet. The resin tablet 30 is formed by molding a thermosetting resin or the like into a tablet (column) shape. As will be described later, the resin tablet 30 is melted by the heat of the mold and is pumped to fill the space between the cavity block 10 (upper mold 11) and the lead frame 80 with a translucent resin. By curing for a predetermined time after filling with the translucent resin, the light-emitting chip 90 is resin-sealed, and the lens portion of the light-emitting device is molded.

透光性樹脂は、光を透過させる性質(透光性)を備えた熱硬化性樹脂である。例えば、透光性を備えたシリコーン樹脂が用いられるが、これに限定されるものではない。シリコーン樹脂は、紫外線や熱によって透光性が低下しにくい性質を有するため、発光チップ90を封止するために特に適して用いられる。ただし、これに限定されるものではなく、透光性樹脂として、エポキシ樹脂等の他の熱硬化性樹脂を用いることもできる。     The translucent resin is a thermosetting resin having a property of transmitting light (translucency). For example, a silicone resin having translucency is used, but is not limited thereto. Silicone resin is particularly suitable for sealing the light-emitting chip 90 because it has a property that its translucency is not easily lowered by ultraviolet rays or heat. However, it is not limited to this, Other thermosetting resins, such as an epoxy resin, can also be used as translucent resin.

また、透光性樹脂は透明色のものに限定されるものではなく、透光性を有する樹脂であれば、赤色等の着色がなされた樹脂を用いることもできる。また、発光チップ90の種類によっては発光用の蛍光材を含ませた樹脂を用いることもできる。     Further, the translucent resin is not limited to a transparent color, and a resin colored with red or the like may be used as long as it has translucency. Depending on the type of the light emitting chip 90, a resin containing a fluorescent material for light emission can also be used.

201はプランジャであり、202はポットである。樹脂封止時にはプランジャ201とともに下金型12に装着されて予熱されたポット202内に樹脂タブレット30を投入して溶融させ、プランジャ201を上動させて溶融した樹脂を圧送することにより、キャビティブロック10(上金型11)と下金型12との間が透光性樹脂で充填される。このプランジャ201は、不図示のトランスファ機構により、ポット202に沿って上下に摺動可能に構成されている。なお、樹脂タブレット30に代えて、液状の熱硬化性樹脂を不図示のディスペンサを用いて供給することもできる。     201 is a plunger and 202 is a pot. At the time of resin sealing, the resin tablet 30 is put into the pot 202 that is attached to the lower mold 12 and preheated together with the plunger 201 and melted, and the plunger 201 is moved upward to pump the melted resin, whereby the cavity block A space between 10 (upper mold 11) and lower mold 12 is filled with a translucent resin. The plunger 201 is configured to be slidable up and down along the pot 202 by a transfer mechanism (not shown). In addition, it replaces with the resin tablet 30 and can also supply liquid thermosetting resin using a dispenser not shown.

また、キャビティブロック10(上金型11)と下金型12のパーティング面を所定の厚みのリリースフィルム(図示せず)で覆ってから樹脂を供給してもよい。このとき、リリースフィルムを介して、キャビティブロック10(上金型11)と下金型12でリードフレーム80をクランプすることができる。この場合、複数の凹部50の形状に密着可能となるような薄いリリースフィルムを用いれば、レーザ照射により形成した梨地面を発光デバイスの表面に転写することが可能となる。     Alternatively, the resin may be supplied after the parting surfaces of the cavity block 10 (upper mold 11) and the lower mold 12 are covered with a release film (not shown) having a predetermined thickness. At this time, the lead frame 80 can be clamped by the cavity block 10 (upper mold 11) and the lower mold 12 via the release film. In this case, if a thin release film that can be brought into close contact with the shapes of the plurality of recesses 50 is used, the textured surface formed by laser irradiation can be transferred to the surface of the light emitting device.

プランジャ201によって樹脂が圧送されることにより、溶融した樹脂は、カル211、ランナ212及びゲート213を通ってキャビティ214へ供給される。     When the resin is pumped by the plunger 201, the molten resin is supplied to the cavity 214 through the cull 211, the runner 212, and the gate 213.

このように、本実施例における発光デバイスの製造方法は、キャビティブロック110に発光デバイスのレンズ部を成形するためのレンズ成形部112を形成する第1のステップを有する。また、本製造方法は、キャビティブロック110にレーザを照射して、レンズ成形部112に複数の凹部50を形成する第2のステップを有する。さらに本製造方法は、リードフレーム80に発光チップ90を実装する第3のステップを有する。そして、第1のステップ及び第2のステップを経て製造されたキャビティブロック10に透光性樹脂(樹脂タブレット30)を充填して硬化させることにより、発光チップ90を封止するとともに発光デバイスのレンズ部を形成する第4のステップを有する。     As described above, the light emitting device manufacturing method according to the present embodiment includes the first step of forming the lens forming portion 112 for forming the lens portion of the light emitting device in the cavity block 110. In addition, the manufacturing method includes a second step of irradiating the cavity block 110 with a laser to form a plurality of concave portions 50 in the lens molding portion 112. Further, the manufacturing method includes a third step of mounting the light emitting chip 90 on the lead frame 80. Then, the light emitting chip 90 is sealed and the lens of the light emitting device by filling the cavity block 10 manufactured through the first step and the second step with a translucent resin (resin tablet 30) and curing it. A fourth step of forming the part.

図10は、本実施例における発光デバイスの断面図である。図10(A)は球面状のレンズ部を備えた発光デバイスであり、図10(B)は平面状のレンズ部を備えた発光デバイスである。     FIG. 10 is a cross-sectional view of the light emitting device in this example. FIG. 10A illustrates a light emitting device including a spherical lens portion, and FIG. 10B illustrates a light emitting device including a planar lens portion.

図10(A)に示されるように、本実施例の発光デバイスは球面状のレンズ部65を備える。レンズ部65は、リードフレーム80に実装された発光チップ90の上方に位置している。発光チップ90からの光は、レンズ部65を通って外部へ放出される。     As shown in FIG. 10A, the light emitting device of this example includes a spherical lens portion 65. The lens unit 65 is located above the light emitting chip 90 mounted on the lead frame 80. Light from the light emitting chip 90 is emitted to the outside through the lens unit 65.

レンズ部65の表面には、発光チップ90からの光を均一に拡散させて光学特性を向上させるマイクロレンズとして機能する凸部60aが形成されている。凸部60aは、凹部50が設けられたキャビティブロック10を用いて透光性樹脂31aが封止されることによって形成される。このため、レンズ部65の凸部60aは、キャビティブロック10の凹部50の形状がそのまま反映されたものである。     On the surface of the lens portion 65, a convex portion 60a that functions as a microlens that uniformly diffuses light from the light emitting chip 90 and improves optical characteristics is formed. The convex part 60a is formed by sealing the translucent resin 31a using the cavity block 10 provided with the concave part 50. For this reason, the convex part 60a of the lens part 65 reflects the shape of the concave part 50 of the cavity block 10 as it is.

また、図10(A)に示されるように、レンズ部65の周囲の表面にも、凸部60aと同一又は類似の凸部61aが形成されている。凸部61aが形成されるのは、キャビティブロック10を製造する際、レーザ照射によりレンズ成形部の周囲に凹部51を形成したためである。発光チップ90からの光は、レンズ部65の周囲からも放出される。このため、レンズ部65の周囲にも凸部61aを形成することにより、発光チップ90からの光を漏れなく拡散させることができるため、発光チップからの光をより均一に拡散させることが可能になる。     Further, as shown in FIG. 10A, a convex portion 61a that is the same as or similar to the convex portion 60a is also formed on the surface around the lens portion 65. The convex portion 61a is formed because the concave portion 51 is formed around the lens molding portion by laser irradiation when the cavity block 10 is manufactured. Light from the light emitting chip 90 is also emitted from the periphery of the lens unit 65. For this reason, since the convex part 61a is also formed around the lens part 65, the light from the light emitting chip 90 can be diffused without leakage, so that the light from the light emitting chip can be diffused more uniformly. Become.

ただし、レンズ部65の周囲に凸部61aを形成する必要がない場合には、レンズ成形部の周囲に凹部51が形成されていない金型を用いればよい。レンズ部65の周囲に凸部61aを形成するか否かは、発光デバイスの形態や使用状況などにより適宜選択することができる。     However, when it is not necessary to form the convex portion 61a around the lens portion 65, a mold in which the concave portion 51 is not formed around the lens molding portion may be used. Whether or not the convex portion 61a is formed around the lens portion 65 can be appropriately selected depending on the form of the light emitting device, the usage situation, and the like.

また、レンズ部65の形状は、図10(A)に示されるような球面状に限定されるものではなく、他の形状を採用することもできる。例えば、球面状のレンズ部65の代わりに、図10(B)に示されるように、平面状のレンズ部67を成してもよい。     Further, the shape of the lens portion 65 is not limited to the spherical shape as shown in FIG. 10A, and other shapes may be employed. For example, instead of the spherical lens portion 65, a planar lens portion 67 may be formed as shown in FIG.

このような形態を採用する場合、レンズ部67とレンズ部の周囲における透光性樹脂31bの表面は、実質的に同一の平面となる。図10(B)に示されるように、レンズ部67の表面には凸部60bが形成され、レンズ部の周囲の表面にも凸部61bが形成されている。ただし、図10(A)に示される形態と同様に、凸部61bを形成するか否かは、発光デバイスの形態や使用状況などにより、適宜選択することができる。     When such a form is adopted, the surfaces of the lens portion 67 and the translucent resin 31b around the lens portion are substantially the same plane. As shown in FIG. 10B, a convex portion 60b is formed on the surface of the lens portion 67, and a convex portion 61b is also formed on the surface around the lens portion. However, similarly to the form shown in FIG. 10A, whether or not to form the convex portion 61b can be appropriately selected depending on the form of the light-emitting device, the usage situation, and the like.

このように、本実施例における発光デバイスは、リードフレーム80、リードフレーム80に実装された発光チップ90、及び、発光チップ90を封止する透光性樹脂31a、31bにより形成されたレンズ部65、67を有する。さらに、発光デバイスのレンズ部65、67は、レーザ照射により複数の凹部50が設けられたキャビティブロック10を用いて成形され、複数の凸部60a、60bを備えている。     As described above, the light emitting device according to the present embodiment includes the lead frame 80, the light emitting chip 90 mounted on the lead frame 80, and the lens portion 65 formed of the translucent resins 31a and 31b that seal the light emitting chip 90. , 67. Further, the lens portions 65 and 67 of the light emitting device are molded using the cavity block 10 provided with a plurality of concave portions 50 by laser irradiation, and include a plurality of convex portions 60a and 60b.

キャビティブロック110において、凹部50、51の大きさを場所によって変えることも可能である。場所によって凹部50、51の大きさの異なるキャビティブロック110(発光デバイス用金型)を用いれば、発光デバイスには、場所によって大きさの異なる凸部60a、60b、61a、61bが形成される。このため、場所によって凸部の大きさを変えることにより、発光デバイスからの光の拡散特性を制御することができ、拡散光の均一性をより向上させることが可能になる。     In the cavity block 110, the size of the recesses 50 and 51 can be changed depending on the location. If the cavity block 110 (light emitting device mold) having different sizes of the concave portions 50 and 51 depending on the location is used, the convex portions 60a, 60b, 61a and 61b having different sizes depending on the location are formed in the light emitting device. For this reason, by changing the size of the convex portion depending on the location, the diffusion characteristics of light from the light emitting device can be controlled, and the uniformity of the diffused light can be further improved.

上記実施例のキャビティブロックには、走査領域111の全てにおいてレーザビームが照射されている。しかしながら、レーザビームの照射を走査領域111中の所定領域にのみに限定することもできる。     The cavity block of the above embodiment is irradiated with a laser beam in the entire scanning region 111. However, the laser beam irradiation can be limited to a predetermined area in the scanning area 111.

図11は、キャビティブロックにおける他のレーザビーム照射箇所の他例を示す平面図である。     FIG. 11 is a plan view showing another example of other laser beam irradiation locations in the cavity block.

図11に示されるように、レーザ加工装置は、図3(A)と同様に、キャビティブロック110の走査領域111を一定の方向(本図の左から右)に向けて走査する。この走査線131を一点鎖線で示す。ただし、図11のキャビティブロックには、レンズ成形部112の内部にのみ複数の凹部50が形成されており、レンズ成形部112以外の部分には、凹部50は形成されていない。このため、図11に示されるキャビティブロックには、図8のキャビティブロックのように、加工平面110aにおける凹部51は形成されない。したがって、図11のキャビティブロックを用いて製造された発光デバイスは、図10に示される発光デバイスのように、レンズ部65、67の周囲に形成された凸部61aを有しない。     As shown in FIG. 11, the laser processing apparatus scans the scanning region 111 of the cavity block 110 in a certain direction (from left to right in the figure), as in FIG. 3A. This scanning line 131 is indicated by a one-dot chain line. However, in the cavity block of FIG. 11, a plurality of concave portions 50 are formed only inside the lens molding portion 112, and the concave portions 50 are not formed in portions other than the lens molding portion 112. For this reason, the cavity block shown in FIG. 11 is not formed with the recess 51 in the processing plane 110a unlike the cavity block of FIG. Therefore, the light emitting device manufactured using the cavity block of FIG. 11 does not have the convex portion 61a formed around the lens portions 65 and 67, unlike the light emitting device shown in FIG.

発光チップ90から放出した光は、主に、レンズ部65、67を介して外部に拡散する。このように、レンズ成形部112における拡散性を均一にするだけで十分であれば、レンズ成形部112の内部にのみ凹部50を形成すればよい。     The light emitted from the light emitting chip 90 is diffused to the outside mainly through the lens portions 65 and 67. Thus, if it is sufficient to make the diffusibility in the lens molding portion 112 uniform, the concave portion 50 may be formed only inside the lens molding portion 112.

レンズ成形部112の内部にのみ凹部50を形成するには、キャビティブロック110の走査領域111における複数のレンズ成形部112の座標を図外の記録装置に予め記憶しておく。レーザ加工装置100は、この座標に基づいて、レンズ成形部112の内部における所定の位置を走査していると判断すると、凹部50の形成位置(上記の照射位置に相当)でシャッター102をオンにして、レンズ成形部112にレーザビームを照射する。一方、レーザ加工装置100は、レンズ成形部112の外部を走査していると判断すると、シャッター102を常にオフにして、キャビティブロック110にレーザビームを照射しないように制御する。     In order to form the recess 50 only inside the lens molding unit 112, the coordinates of the plurality of lens molding units 112 in the scanning region 111 of the cavity block 110 are stored in advance in a recording device (not shown). When the laser processing apparatus 100 determines that a predetermined position in the lens molding unit 112 is scanned based on the coordinates, the laser processing apparatus 100 turns on the shutter 102 at the formation position of the recess 50 (corresponding to the irradiation position described above). Then, the lens molding unit 112 is irradiated with a laser beam. On the other hand, when the laser processing apparatus 100 determines that the outside of the lens forming unit 112 is being scanned, the laser processing apparatus 100 always controls the shutter 102 to be off so as not to irradiate the cavity block 110 with the laser beam.

上記実施例においては、レーザビームを直線的に走査する方法について説明したが、本実施例の走査方法は上記方法に限定されるものではない。例えば、レーザビームをレンズ成形部の円周方向に沿うように走査する方法や、レーザビームを放射方向に沿うように走査する方法などを採用することもできる。     In the above embodiment, the method of linearly scanning the laser beam has been described, but the scanning method of this embodiment is not limited to the above method. For example, a method of scanning the laser beam along the circumferential direction of the lens forming portion, a method of scanning the laser beam along the radiation direction, or the like can be employed.

図12は、レーザビームの他の走査方法を示す図である。図12(A)はレーザビームをレンズ成形部の円周方向に沿うように走査する方法であり、図12(B)はレーザビームをレンズ成形部の放射方向に沿うように走査する方法である。     FIG. 12 is a diagram showing another scanning method of the laser beam. FIG. 12A shows a method of scanning the laser beam along the circumferential direction of the lens forming portion, and FIG. 12B shows a method of scanning the laser beam along the emission direction of the lens forming portion. .

図12(A)の走査線131aとして表されるように、レンズ成形部と中心を同一とした大きさの異なる複数の円形の走査線131a(軌道)に沿ってレーザビームを走査することもできる。この場合、例えば、球面状のレンズ成形部112内では各走査線131a上ではf−θレンズ107から照射位置までの距離を均一にすることが可能となる。このため、その距離に応じて焦点位置を設定することによって適切な出力でレーザビームを照射することができ、球面状のレンズ成形部112の内部において複数の凹部をより均一に形成することができる。また、レーザビームをレンズ成形部112の中心部起点(終点)としてうずまき状に走査することもできる。この場合に、f−θレンズ107から照射位置までの距離に応じて焦点位置を設定することにより、球面状のレンズ成形部112の内部において複数の凹部をより均一に形成することができる。また、図12(B)の走査線131bとして表されるように、レンズ成形部112の半径に相当する走査線131bに沿って焦点位置を制御しながらレーザビームをレンズ成形部の放射方向(放射状)に走査することでも、均一な凹部を形成することができる。なお、本図では中心から円周側に向けて走査するように走査線131bを図示しているがこれに限定されず、円周側から中心に向けて走査することもできる。さらに、レンズ成形部112の直径に相当する走査線に沿って端から端まで一度に走査することもできる。     As shown as a scanning line 131a in FIG. 12A, the laser beam can be scanned along a plurality of circular scanning lines 131a (orbits) having the same center as the lens forming portion and different sizes. . In this case, for example, the distance from the f-θ lens 107 to the irradiation position can be made uniform on each scanning line 131a in the spherical lens molding portion 112. For this reason, by setting the focal position according to the distance, it is possible to irradiate the laser beam with an appropriate output, and it is possible to form a plurality of concave portions more uniformly inside the spherical lens molding portion 112. . Further, the laser beam can be scanned in a spiral manner using the center part starting point (end point) of the lens molding part 112. In this case, by setting the focal position according to the distance from the f-θ lens 107 to the irradiation position, a plurality of concave portions can be formed more uniformly inside the spherical lens molding portion 112. Further, as represented as a scanning line 131b in FIG. 12B, the laser beam is emitted in the direction of the lens forming portion (radial) while controlling the focal position along the scanning line 131b corresponding to the radius of the lens forming portion 112. ) Can also form a uniform recess. In this figure, the scanning line 131b is shown so as to scan from the center toward the circumferential side, but the present invention is not limited to this, and scanning can also be performed from the circumferential side toward the center. Furthermore, it is possible to scan from end to end along the scanning line corresponding to the diameter of the lens molding portion 112 at a time.

走査線131a、132bとして示されるレーザビームの走査は、ガルバノミラー104、105でX軸方向及びY軸方向のそれぞれにレーザビームを走査することにより制御することが可能である。また、不図示の焦点制御手段を用いてキャビティブロック110をZ軸方向に移動することにより、焦点位置をより正確に制御することができ、より均一な凹部を形成することが可能となる。     The scanning of the laser beam shown as the scanning lines 131a and 132b can be controlled by scanning the laser beam in the X axis direction and the Y axis direction with the galvanometer mirrors 104 and 105, respectively. Further, by moving the cavity block 110 in the Z-axis direction using a focus control means (not shown), the focus position can be controlled more accurately, and a more uniform recess can be formed.

このように、本実施例における発光デバイス用金型の製造方法において、前述の第2のステップは、複数の凹部の位置に応じて、レーザの照射方向を変化させることがより好ましい。     As described above, in the method for manufacturing the light emitting device mold according to the present embodiment, it is more preferable that the second step described above changes the laser irradiation direction according to the positions of the plurality of recesses.

なお、図12は、キャビティブロック110のレンズ成形部112の内部におけるレーザビームの走査状況を示すものである。レンズ成形部112の外部においては、レーザ加工装置100はレーザビームを直線的に走査する。このとき、レンズ成形部112の外部にも、レーザビームを照射することにより凹部を形成することが可能である。ただし、図11に示されるように、レンズ成形部112の外部には凹部を形成しないように制御してもよい。     FIG. 12 shows a scanning state of the laser beam inside the lens molding portion 112 of the cavity block 110. Outside the lens molding unit 112, the laser processing apparatus 100 linearly scans the laser beam. At this time, it is possible to form a concave portion outside the lens molding portion 112 by irradiating the laser beam. However, as shown in FIG. 11, it may be controlled not to form a concave portion outside the lens molding portion 112.

図13は、キャビティブロックに形成される凹部の形状の他例を示す平面図である。図13において、133aはレーザビームの走査線、135はレーザビームのパルス照射点、52はパルス照射により形成された凹部である。なお、走査線133a及びパルス照射点135は、図3(b)と同様な距離関係に設定されている。     FIG. 13 is a plan view showing another example of the shape of the recess formed in the cavity block. In FIG. 13, reference numeral 133a denotes a laser beam scanning line, 135 denotes a laser beam pulse irradiation point, and 52 denotes a concave portion formed by pulse irradiation. Note that the scanning line 133a and the pulse irradiation point 135 are set to have the same distance relationship as in FIG.

この場合、レーザビームがパルス照射点135にて照射される回数を多くしたり、パワーを大きくしたりして図6に示される凹部50bよりも大きく凹部52を形成している。このため、その点のみで見れば円形(球面状)の凹部52がキャビティブロック上に形成される。この状態を、図13の左上の凹部52(実線と破線で描かれる円)に示す。ところが、本図に示されるように、例えば照射回数を特に多く設定することにより、凹部52の半径は、パルス照射点135の間隔の半分よりも大きくなることがある。この場合、左から右に(X軸方向)向かってレーザビームを走査して、次のパルス照射を実行すると、このとき形成される凹部は、既に形成された左側の凹部の一部の領域(破線部)に影響を与え、既に形成された凹部52の一部が、後から形成された凹部52に潰されて欠けた形状となる。     In this case, the concave portion 52 is formed larger than the concave portion 50b shown in FIG. 6 by increasing the number of times the laser beam is irradiated at the pulse irradiation point 135 or increasing the power. Therefore, a circular (spherical) concave portion 52 is formed on the cavity block when viewed only from that point. This state is shown in the upper left concave portion 52 (circle drawn with a solid line and a broken line) in FIG. However, as shown in the figure, for example, when the number of times of irradiation is set to be particularly large, the radius of the recess 52 may become larger than half of the interval between the pulse irradiation points 135. In this case, when the laser beam is scanned from the left to the right (X-axis direction) and the next pulse irradiation is executed, the concave portion formed at this time is a partial region of the left concave portion already formed ( A part of the recessed part 52 that has already been formed is crushed by the recessed part 52 that is formed later and becomes a chipped shape.

また、凹部52の半径が隣り合う各走査線133aにおける直近の凹部52同士の間隔の半分よりも大きい場合、次の列(本図における下の列)の走査において形成される凹部も、上の列に既に形成された凹部の一部の領域(破線部)に影響を与え、既に形成された凹部52の一部が、次の列に形成された凹部52に潰されて欠けた形状となる。これにより、図13に示されるように、キャビティブロック110の表面は、隣り合う凹部52同士が重なり合って鱗状の凹部52が並べられたような形状となる。     In addition, when the radius of the recess 52 is larger than half of the interval between the nearest recesses 52 in each adjacent scanning line 133a, the recess formed in the next row (the lower row in the figure) A part of the recesses already formed in the row (broken line portion) is affected, and a part of the recesses 52 already formed is crushed by the recesses 52 formed in the next row and becomes a chipped shape. . As a result, as shown in FIG. 13, the surface of the cavity block 110 has a shape in which the adjacent concave portions 52 overlap with each other and the scaly concave portions 52 are arranged.

このように、凹部52の大きさよりパルス照射点135の間隔が狭いと、それぞれの凹部が形成される際に、既に形成された隣り合う凹部を変形させる。このような場合、完成した金型に形成された複数の凹部52は、完全な円形ではない。しかしながら、走査領域111の全体をマクロ的に見ると複数の凹部52は均一に形成された微細な梨地面となっている。このため、発光デバイスには均一な形状となる複数の凸部で構成された梨地面を形成することができ、発光チップからの光を均一に拡散させることができる。     Thus, when the interval between the pulse irradiation points 135 is narrower than the size of the recess 52, adjacent recesses that have already been formed are deformed when each recess is formed. In such a case, the plurality of recesses 52 formed in the completed mold are not completely circular. However, when the entire scanning region 111 is viewed macroscopically, the plurality of recesses 52 are finely ground with a uniform shape. For this reason, it is possible to form a textured surface composed of a plurality of convex portions having a uniform shape in the light emitting device, and to uniformly diffuse light from the light emitting chip.

なお、図13において、レーザビームの一回のパルス照射で凹部52を形成することができる。ただし、複数回のパルス照射で凹部52を形成してもよい。     In FIG. 13, the recess 52 can be formed by one-time laser beam irradiation. However, the recess 52 may be formed by a plurality of pulse irradiations.

図14は、キャビティブロックに凹部を千鳥配置する際の形成方法の第二形態を示す平面図である。図14において、133bはレーザビームの走査線、136はレーザビームのパルス照射点、53はパルス照射により形成された凹部である。     FIG. 14 is a plan view showing a second form of the forming method when the concave portions are arranged in a staggered manner in the cavity block. In FIG. 14, reference numeral 133b denotes a laser beam scanning line, 136 denotes a laser beam pulse irradiation point, and 53 denotes a recess formed by pulse irradiation.

レーザビームの走査線133bに従い、パルス照射点136でレーザビームのパルスが照射されることにより、キャビティブロック上に複数の凹部53が形成される。それぞれの凹部53は、X軸方向(走査方向)に隣り合う凹部の間隔を1とすると、次の走査線上における最近接の凹部との間隔は、X軸方向に1/2、Y軸方向に1/√3となる。     A plurality of recesses 53 are formed on the cavity block by irradiating a pulse of the laser beam at the pulse irradiation point 136 according to the scanning line 133b of the laser beam. Each recess 53 has an interval between adjacent recesses on the next scanning line of 1/2 in the X-axis direction and 1/2 in the Y-axis direction, where the interval between adjacent recesses in the X-axis direction (scanning direction) is 1. 1 / √3.

本図の凹部53の千鳥配置は、図3(B)の凹部50と比較して、隣り合う凹部のY軸方向における間隔が異なるが、結果的には図3(B)に示される複数の凹部50と同様に複数の凹部53が千鳥配置される。なお、図14に示される凹部53の配置は図3(B)に示される凹部50を走査方向に対して90°回転させた千鳥配置となる。この場合にも、凹部53を緻密に配置することができるため、第1のステップで形成された面を極めて少なくすることができる。このため、例えばフライス加工で形成された加工痕をレンズ成形部112から無くしてより均一な梨地面とすることができ、光をより均一に拡散させることができる。なお、図14において、それぞれ隣り合う三個の凹部53の中心点(パルス照射点136)を結ぶと、破線で示される正三角形190となる。     The staggered arrangement of the recesses 53 in this figure differs from the recesses 50 in FIG. 3B in the interval between adjacent recesses in the Y-axis direction, but as a result, the plurality of recesses 53 shown in FIG. Similar to the recesses 50, a plurality of recesses 53 are staggered. The arrangement of the recesses 53 shown in FIG. 14 is a staggered arrangement in which the recesses 50 shown in FIG. 3B are rotated by 90 ° with respect to the scanning direction. Also in this case, since the concave portions 53 can be densely arranged, the surface formed in the first step can be extremely reduced. For this reason, for example, the processing traces formed by milling can be eliminated from the lens molding portion 112 to form a more uniform textured surface, and light can be diffused more uniformly. In addition, in FIG. 14, if the center point (pulse irradiation point 136) of the three adjacent recessed parts 53 is connected, it will become the equilateral triangle 190 shown with a broken line.

図15は、本実施例のキャビティブロックに形成される凹部の第三形態を示す平面図である。     FIG. 15 is a plan view showing a third form of the recess formed in the cavity block of the present embodiment.

図15において、133cはレーザビームの走査線、137はレーザビームのパルス照射点、54はパルス照射により形成された凹部である。     In FIG. 15, 133c is a laser beam scanning line, 137 is a laser beam pulse irradiation point, and 54 is a recess formed by pulse irradiation.

レーザビームの走査線133cに従い、パルス照射点137でレーザビームのパルスが照射されることにより、キャビティブロック上に複数の凹部54が形成される。それぞれの凹部54は、X軸方向(走査方向)に隣り合う凹部の間隔を1とすると、次の走査線上における最近接の凹部との間隔は、X軸方向に1、Y軸方向に1となる。     By irradiating a pulse of the laser beam at the pulse irradiation point 137 according to the scanning line 133c of the laser beam, a plurality of recesses 54 are formed on the cavity block. Each recess 54 is 1 in the X-axis direction and 1 in the Y-axis direction when the interval between the recesses adjacent to each other in the X-axis direction (scanning direction) is 1. Become.

図15において、それぞれ隣り合う四個の凹部54の中心点(パルス照射点137)を結ぶと、破線で示される正方形191となる。このように、図15の凹部54は、正方形配置となっている。     In FIG. 15, when the center points (pulse irradiation points 137) of four adjacent concave portions 54 are connected, a square 191 indicated by a broken line is formed. As described above, the recesses 54 in FIG. 15 have a square arrangement.

図16は、本実施例のキャビティブロックに形成される凹部の第四形態を示す平面図である。図16において、133dはレーザビームの走査線、138はレーザビームのパルス照射点、55はパルス照射により形成された凹部である。     FIG. 16 is a plan view showing a fourth form of the recess formed in the cavity block of the present embodiment. In FIG. 16, 133d is a laser beam scanning line, 138 is a laser beam pulse irradiation point, and 55 is a recess formed by pulse irradiation.

レーザビームの走査線133dに従い、パルス照射点138でレーザビームのパルスが照射されることにより、キャビティブロック上に複数の凹部55が形成される。それぞれの凹部55は、X軸方向(走査方向)に隣り合う凹部の間隔を1とすると、次の走査線上における最近接の凹部との間隔は、X軸方向に1/2、Y軸方向に1/2となる。     A plurality of recesses 55 are formed on the cavity block by irradiating a pulse of the laser beam at the pulse irradiation point 138 according to the scanning line 133d of the laser beam. Each recess 55 has an interval between adjacent recesses on the next scanning line of 1/2 in the X-axis direction and 1/2 in the Y-axis direction, where the interval between adjacent recesses in the X-axis direction (scanning direction) is 1. 1/2.

図16に示される複数の凹部55は正方配置である点で、図15の複数の凹部54と同様である。ただし、図16の凹部55の千鳥配置は、図15の凹部54と比較して、隣り合う凹部のY軸方向における間隔が異なる。     The plurality of recesses 55 shown in FIG. 16 are the same as the plurality of recesses 54 in FIG. However, the staggered arrangement of the recesses 55 in FIG. 16 differs from the recesses 54 in FIG. 15 in the interval between adjacent recesses in the Y-axis direction.

図16において、それぞれ隣り合う四個の凹部55の中心点(パルス照射点138)を結ぶと、破線で示される正方形192となる。このように、図16の正方形192は、図15の正方形191を45°回転させた配置となっている。     In FIG. 16, when the center points (pulse irradiation points 138) of four adjacent recesses 55 are connected, a square 192 indicated by a broken line is formed. As described above, the square 192 in FIG. 16 is arranged by rotating the square 191 in FIG. 15 by 45 °.

次に、本実施例のレーザ加工装置100によりキャビティブロック110に凹部を形成した発光デバイス用金型、及び、その金型を用いて成形された発光デバイスのレンズ部の実際の表面形状を説明する。     Next, the actual surface shape of the light emitting device mold in which the concave portion is formed in the cavity block 110 by the laser processing apparatus 100 of the present embodiment, and the lens portion of the light emitting device molded using the mold will be described. .

図17は、本実施例における発光デバイス用金型の表面形状を示す光学顕微鏡写真である。図17(A)は450倍に拡大した写真であり、図17(B)は1000倍に拡大した写真である。     FIG. 17 is an optical micrograph showing the surface shape of the light emitting device mold in this example. FIG. 17A is a photograph magnified 450 times, and FIG. 17B is a photograph magnified 1000 times.

図17の写真は、レーザビームの走査速度、レーザビームのパルス幅(オン時間)、及び、パルス周期を所定の値に設定して得られたレンズ成形部112の底部における表面形状を示すものである。なお、一例として、本図に示す例では走査速度は5000mm/sというように非常に高速な条件で形成を行っている。複数の凹部は、図3に示される走査方法を用いて、レーザビームを10回照射することにより形成されている。図17(A)、(B)に示されるように、略円形の複数の凹部は千鳥配置で均一に並んでいる。また、本図に示されるように、f−θレンズ107から照射位置までの距離(高さ)が均一でない球面状のレンズ成形部であっても、複数の凹部が均一に形成されていることがわかる。     The photograph in FIG. 17 shows the surface shape at the bottom of the lens molding portion 112 obtained by setting the scanning speed of the laser beam, the pulse width (on time) of the laser beam, and the pulse period to predetermined values. is there. As an example, in the example shown in this figure, the scanning speed is 5000 mm / s, and the formation is performed under a very high speed condition. The plurality of recesses are formed by irradiating the laser beam 10 times using the scanning method shown in FIG. As shown in FIGS. 17A and 17B, the plurality of substantially circular recesses are uniformly arranged in a staggered arrangement. In addition, as shown in this figure, a plurality of concave portions are uniformly formed even in a spherical lens molding portion where the distance (height) from the f-θ lens 107 to the irradiation position is not uniform. I understand.

図18は、本実施例における発光デバイスのレンズ部の表面形状を示す光学顕微鏡写真である。図18は、図17の発光デバイス用金型を用いて成形された発光デバイス(レンズ部)の表面形状を示している。図18(A)は450倍に拡大した写真であり、図18(B)は1000倍に拡大した写真である。図18(A)、(B)に示されるように、略円形の複数の凸部が千鳥配置で均一に並んでいる。このように、複数の凹部が均一に形成された球面状のレンズ成形部112により、発光デバイスのレンズ部に複数の凸部を均一に形成できることがわかる。     FIG. 18 is an optical micrograph showing the surface shape of the lens portion of the light emitting device in this example. FIG. 18 shows the surface shape of a light emitting device (lens portion) molded using the light emitting device mold of FIG. 18A is a photograph magnified 450 times, and FIG. 18B is a photograph magnified 1000 times. As shown in FIGS. 18A and 18B, a plurality of substantially circular convex portions are uniformly arranged in a staggered arrangement. Thus, it can be seen that the plurality of convex portions can be uniformly formed on the lens portion of the light emitting device by the spherical lens molding portion 112 in which the plurality of concave portions are uniformly formed.

本実施例によれば、レーザ加工を用いて、発光デバイス用金型に均一な凹部を形成することができる。このため、均一な光を放出させることにより、光を効率的に放出させながら均一に拡散可能な発光デバイスを提供することが可能となる。また、複数の凹部は、レーザ加工により短時間で形成することができるため、金型加工を低コストで実現することが可能である。     According to the present embodiment, uniform recesses can be formed in the light emitting device mold using laser processing. Therefore, by emitting uniform light, it is possible to provide a light emitting device that can diffuse uniformly while efficiently emitting light. In addition, since the plurality of recesses can be formed in a short time by laser processing, it is possible to realize mold processing at a low cost.

したがって、本実施例によれば、高性能な発光デバイスを低コストで提供することができる。     Therefore, according to this embodiment, a high-performance light-emitting device can be provided at a low cost.

なお、本発明は、発光デバイス及びその製造方法、並びに、発光デバイス用金型及びその金型の製造方法を含むものである。     In addition, this invention includes the light-emitting device and its manufacturing method, the metal mold | die for light-emitting devices, and the manufacturing method of the metal mold | die.

以上、本発明の実施例を具体的に説明した。ただし、本発明は、上記各実施例にて説明した事項に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更可能である。     In the above, the Example of this invention was described concretely. However, the present invention is not limited to the matters described in the above embodiments, and can be appropriately changed without departing from the technical idea of the present invention.

例えば、発光チップを封止した発光デバイス及びその製造方法について説明したが本発明はこれに限定されない。例えば、フォトダイオードやフォトトランジスタのような受光チップ(受光素子)を封止した受光デバイスについても、そのレンズ部に本発明を適用して集光性を向上させることができる。このように、本発明は各種の光デバイスに適用可能であり、発光デバイス及び受光デバイスのいずれに適用しても光学特性を向上させることができる。また、発光チップ及び受光チップのみならず他の半導体チップを一括して樹脂封止する場合にも本発明を採用することもできる。     For example, although the light emitting device in which the light emitting chip is sealed and the manufacturing method thereof have been described, the present invention is not limited to this. For example, also for a light receiving device in which a light receiving chip (light receiving element) such as a photodiode or a phototransistor is sealed, the present invention can be applied to the lens portion to improve the light collecting property. As described above, the present invention can be applied to various optical devices, and optical characteristics can be improved by applying to any of a light emitting device and a light receiving device. Further, the present invention can also be adopted when not only the light emitting chip and the light receiving chip but also other semiconductor chips are encapsulated with resin.

また、金型部材(ワーク)としてのキャビティブロック110を本体部分の上金型11とは別体に構成して、キャビティブロック110のみに複数の凹部を形成する例について説明したが本発明はこれに限定されない。例えば、キャビティブロックが上金型に組み付けられた構成や、キャビティブロック部分を別体にせずにキャビティ部が構成される上金型に複数の凹部を形成することもできる。この場合、例えばキャビティの側面のような他の面にも一括して複数の凹部を形成することができるため、効率的に複数の凹部を形成することができる。     In addition, an example in which the cavity block 110 as a mold member (work) is configured separately from the upper mold 11 of the main body portion and a plurality of recesses are formed only in the cavity block 110 has been described. It is not limited to. For example, a configuration in which the cavity block is assembled to the upper mold, or a plurality of recesses can be formed in the upper mold in which the cavity portion is configured without separating the cavity block portion. In this case, for example, a plurality of recesses can be formed collectively on another surface such as the side surface of the cavity, so that a plurality of recesses can be efficiently formed.

また、本発明の作用効果として光拡散性のような光学特性を向上させることができることを説明したが本発明はそれ以外にも有用な効果を有する。上記実施例のように複数の凹部を形成することにより、金型の表面を良好な光拡散性を有する微細な梨地面とすることが可能となっている。この場合、金型の表面を梨地面とすることによって離型性を向上させることが可能であるため、フィラーを含んだ一般的な熱硬化性樹脂の離型性向上を目的にキャビティ以外のカル、ランナ又はゲートなどを構成する金型部材に同様にして梨地面を形成してもよい。この場合、均一な凹部(換言すれば、均一な凹凸)を有する梨地面を形成することができるため、良好な離型性を得ることができる。また、この種の梨地面は一般的には放電加工によって形成されるが、本発明の方法により梨地面を形成した場合には放電加工と比較して梨地面の形成自体にかかる加工時間を極めて短くすることができる。また、放電加工に必要な電極の加工時間及び加工費用も不要となり、全体としての加工時間及び加工費用も大幅にカットすることができるため、離型性を高めた高品位の金型を極めて効率的に製造することができるという別の効果も有する。     Further, it has been described that the optical characteristics such as light diffusibility can be improved as the operational effects of the present invention, but the present invention has other useful effects. By forming a plurality of concave portions as in the above embodiment, it is possible to make the surface of the mold a fine textured surface having good light diffusibility. In this case, it is possible to improve the mold releasability by making the surface of the mold a matte surface. Therefore, in order to improve the mold releasability of a general thermosetting resin containing a filler, a cartridge other than the cavity is used. The pear ground may be formed in the same manner on the mold member constituting the runner or the gate. In this case, a satin surface having a uniform concave portion (in other words, a uniform concave and convex portion) can be formed, so that good release properties can be obtained. In addition, this type of pear ground is generally formed by electrical discharge machining. However, when the pear ground is formed by the method of the present invention, the machining time required for the pear ground formation itself is extremely small compared to electrical discharge machining. Can be shortened. In addition, the electrode machining time and machining cost required for electrical discharge machining are not required, and the machining time and machining cost as a whole can be significantly cut. Therefore, a high-quality mold with improved releasability is extremely efficient. It has another effect that it can be manufactured automatically.

さらに、上記実施例では射出成形の一形態として熱硬化性樹脂で発光チップの樹脂封止を行うトランスファモールド用の金型に本発明を適用する例について説明したが本発明はこれに限定されず、例えば、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を成形する成形方法として、圧縮成形、射出成形、押し出し成形又はブロー成形などのように成形品を金型から離型する必要のある各種成形の金型に適用することもできる。さらに、光チップ等の封止用の金型のみならず、バックライトに用いられる導光版、拡散シート又はプリズムシートのような光学部材などの成形用の金型についても本発明を採用することができる。     Furthermore, in the above embodiment, an example in which the present invention is applied to a mold for transfer molding in which a light-emitting chip is sealed with a thermosetting resin as one form of injection molding has been described, but the present invention is not limited thereto. For example, as a molding method for molding a thermosetting resin or a thermoplastic resin, various molding molds that require the molded product to be released from the mold, such as compression molding, injection molding, extrusion molding, or blow molding. It can also be applied to. Furthermore, the present invention is applied not only to a mold for sealing an optical chip or the like but also to a mold for molding an optical member such as a light guide plate, a diffusion sheet or a prism sheet used for a backlight. Can do.

また、レーザ発振器については、上記のレーザ以外のレーザであってもワークを加工するために適したレーザであれば、赤外線レーザ、可視レーザ、紫外線レーザ又はX線といった各種のレーザを発振波長帯域や、連続発振、ノーマルパルス発振又はQスイッチパルス発振といった発振方法に拘わらず用いることができる。例えば、ルビーレーザやガラスなどを母材として用いた固体レーザ、GaAsやInGaAsPなどのレーザダイオードを用いた半導体レーザ、色素レーザのような液体レーザ、又は、He−Neレーザ、アルゴンイオンレーザ、各種エキシマレーザといった気体レーザなどの各種のレーザを用いることができる。     As for the laser oscillator, various lasers such as an infrared laser, a visible laser, an ultraviolet laser, and an X-ray may be used as long as the laser is suitable for processing a workpiece even if it is a laser other than the laser described above. It can be used regardless of the oscillation method such as continuous oscillation, normal pulse oscillation or Q-switch pulse oscillation. For example, a solid-state laser using a ruby laser or glass as a base material, a semiconductor laser using a laser diode such as GaAs or InGaAsP, a liquid laser such as a dye laser, a He-Ne laser, an argon ion laser, various excimers Various lasers such as a gas laser such as a laser can be used.

また、複数のレーザダイオードから出力されたレーザビームをファイバ内で増幅させるパルス発振ファイバ方式を用いて所望の出力を得るレーザ発振器を用いることもできる。この場合、上記のシャッター102によるレーザビーム20のオン/オフの制御に代えて、レーザダイオードの出力をオン/オフ制御してレーザビーム20の照射をオン/オフ制御することもできる。     It is also possible to use a laser oscillator that obtains a desired output using a pulse oscillation fiber system in which laser beams output from a plurality of laser diodes are amplified in the fiber. In this case, instead of the on / off control of the laser beam 20 by the shutter 102 described above, the output of the laser diode can be controlled on / off to control the irradiation of the laser beam 20 on / off.

さらに、レーザビーム20の出力をオン/オフ制御して複数の凹部を形成する実施例について説明したが、レーザビーム20の照射される強度をアナログ的に変化させる制御を行う構成を採用することができる。例えば、図4のパルス171の点において高いレベルとするとともに、各パルス171間を低いレベルとするように所定の波形(例えばサイン波)にレーザ発振器101の出力を制御することもできる。このような制御をした場合であっても、上記実施例と同様に複数の凹部を均一に形成することができる。また、シャッターの開放度を変化させる方法や、図4のパルス171の点にビーム径を絞って高パワーとするとともに、各パルス171間ではビーム径を大きくして低パワーとするように所定の波形状にビーム径をアナログ的に変化させるように制御することもできる。     Furthermore, although the embodiment in which the output of the laser beam 20 is turned on / off to form a plurality of recesses has been described, it is possible to adopt a configuration that performs control to change the intensity irradiated with the laser beam 20 in an analog manner. it can. For example, the output of the laser oscillator 101 can be controlled to a predetermined waveform (for example, a sine wave) so that the level is high at the point of the pulse 171 in FIG. 4 and the level between the pulses 171 is low. Even in such a case, a plurality of recesses can be formed uniformly as in the above embodiment. In addition, a method for changing the degree of opening of the shutter or a predetermined power so as to reduce the beam diameter to the point of the pulse 171 in FIG. It can also be controlled to change the beam diameter in an analog manner into a wave shape.

また、一定の走査速度でレーザビームを走査する実施例について説明したが本発明はこれに限定されず、レーザビームの走査速度を適宜変化させることもできる。例えば奇数番目の走査線と偶数番目の走査線とで走査速度を相違させたり、レンズ成形部112とそれ以外の場所とで走査速度を相違させたり、同じ位置にレーザビームを複数回照射するときには照射する回数に応じて増減させたりすることもできる。     Further, although the embodiment in which the laser beam is scanned at a constant scanning speed has been described, the present invention is not limited to this, and the scanning speed of the laser beam can be appropriately changed. For example, when the scanning speed is different between the odd-numbered scanning lines and the even-numbered scanning lines, when the scanning speed is different between the lens forming unit 112 and other places, or when the same position is irradiated with the laser beam multiple times It can be increased or decreased according to the number of times of irradiation.

また、ガルバノスキャナを用いてレーザビームを走査する例について説明したが本発明はこれに限定されない。例えば、レーザビーム自体は走査させずにサーボ機構などによりワークを動作させることでレーザビームをワーク上で相対的に走査させる構成を採用することもできる。また、X軸方向の走査とY方向の走査とをガルバノスキャナとサーボ機構とを組み合わせて実現することもできる。     Moreover, although the example which scans a laser beam using a galvano scanner was demonstrated, this invention is not limited to this. For example, it is possible to adopt a configuration in which the laser beam is scanned on the workpiece relatively by operating the workpiece by a servo mechanism or the like without scanning the laser beam itself. Also, scanning in the X-axis direction and scanning in the Y direction can be realized by combining a galvano scanner and a servo mechanism.

また、大気中でワークを加工する実施例について説明したが本発明はこれに限定されず、各種のアシストガスやシールドガス雰囲気中で加工することもできる。     Moreover, although the Example which processes a workpiece | work in air | atmosphere was demonstrated, this invention is not limited to this, It can also process in various assist gas and shield gas atmosphere.

本実施例におけるレーザ加工装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the laser processing apparatus in a present Example. 本実施例におけるキャビティブロックに形成されたレンズ成形部の拡大図である。It is an enlarged view of the lens molding part formed in the cavity block in a present Example. 本実施例におけるレーザビームの走査方法の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the scanning method of the laser beam in a present Example. 本実施例におけるレーザビームの照射タイミングを示す図である。It is a figure which shows the irradiation timing of the laser beam in a present Example. 本実施例において、複数回のレーザビーム照射を行った場合の凹部50の形成過程を説明するためのキャビティブロックの拡大断面図である。In this example, it is an enlarged cross-sectional view of a cavity block for explaining a formation process of a recess 50 when a laser beam irradiation is performed a plurality of times. 本実施例において、複数回のレーザビーム照射を行った場合のキャビティブロックの拡大平面図である。In an Example, it is an enlarged plan view of the cavity block at the time of performing multiple times of laser beam irradiation. 本実施例におけるレーザビーム照射の様子を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the mode of the laser beam irradiation in a present Example. 図7に示されるレーザビーム照射によりキャビティブロックに形成された複数の凹部の形状を概念的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows notionally the shape of the several recessed part formed in the cavity block by the laser beam irradiation shown by FIG. 本実施例における発光デバイスの樹脂封止方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the resin sealing method of the light emitting device in a present Example. 本実施例における発光デバイスの断面図である。It is sectional drawing of the light-emitting device in a present Example. キャビティブロックにおける他のレーザビーム照射箇所の他例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the other laser beam irradiation location in a cavity block. レーザビームの他の走査方法を示す図である。It is a figure which shows the other scanning method of a laser beam. キャビティブロックに形成される凹部の形状の他例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the shape of the recessed part formed in a cavity block. キャビティブロックに凹部を千鳥配置する際の形成方法の第二形態を示す平面図である。It is a top view which shows the 2nd form of the formation method at the time of carrying out staggered arrangement | positioning of the recessed part in a cavity block. 本実施例のキャビティブロックに形成される凹部の第三形態を示す平面図である。It is a top view which shows the 3rd form of the recessed part formed in the cavity block of a present Example. 本実施例のキャビティブロックに形成される凹部の第四形態を示す平面図である。It is a top view which shows the 4th form of the recessed part formed in the cavity block of a present Example. 本実施例における発光デバイス用金型の表面形状を示す光学顕微鏡写真である。It is an optical microscope photograph which shows the surface shape of the metal mold | die for light emitting devices in a present Example. 本実施例における発光デバイスのレンズ部の表面形状を示す光学顕微鏡写真である。It is an optical microscope photograph which shows the surface shape of the lens part of the light-emitting device in a present Example.

符号の説明Explanation of symbols

10、110・・・キャビティブロック
11・・・上金型
12・・・下金型
20、181・・・レーザビーム
30・・・樹脂タブレット
31a、31b・・・透光性樹脂
50、50a、50b、51・・・凹部
60a、60b・・・凸部
65、67・・・レンズ部
80・・・リードフレーム
90・・・発光チップ
100・・・レーザ加工装置
101・・・レーザ発振器
102・・・シャッター
103・・・エキスパンダ
104・・・ガルバノミラー(X軸ミラー)
105・・・ガルバノミラー(Y軸ミラー)
106・・・ベンダーミラー
107・・・f−θレンズ
110a・・・加工平面
111・・・走査領域
112・・・レンズ成形部
113・・・領域
122・・・レンズ成形部の底部
131、131a、131b、132、133a、133b、133c、133d・・・走査線
135、136、137、138・・・パルス照射点
151・・・パルス間隔
152・・・間隔
170・・・波形
171・・・パルス
201・・・プランジャ
202・・・ポット
211・・・カル
212・・・ランナ
213・・・ゲート
214・・・キャビティ
10, 110 ... cavity block 11 ... upper mold 12 ... lower mold 20, 181 ... laser beam 30 ... resin tablet 31a, 31b ... translucent resin 50, 50a, 50b, 51 ... concave portions 60a, 60b ... convex portions 65, 67 ... lens portion 80 ... lead frame 90 ... light emitting chip 100 ... laser processing apparatus 101 ... laser oscillator 102 ..Shutter 103 ... Expander 104 ... Galvano mirror (X-axis mirror)
105 ... Galvano mirror (Y-axis mirror)
106 ... bender mirror 107 ... f- [theta] lens 110a ... processing plane 111 ... scanning area 112 ... lens molding part 113 ... area 122 ... bottom part 131, 131a of the lens molding part 131b, 132, 133a, 133b, 133c, 133d ... scanning lines 135, 136, 137, 138 ... pulse irradiation points 151 ... pulse interval 152 ... interval 170 ... waveform 171 ... Pulse 201 ... plunger 202 ... pot 211 ... cal 212 ... runner 213 ... gate 214 ... cavity

Claims (8)

光デバイス用金型の製造方法であって、
ワークに光デバイスのレンズ部を成形するための凹形状を有するレンズ成形部をキャビティの底面を構成する部材に形成する第1のステップと、
前記ワークにレーザを照射して、前記レンズ成形部に複数の凹部を形成する第2のステップと、を有し、
前記光デバイス用金型は、前記複数の凹部が形成された前記凹形状を有する前記レンズ成形部を有し、前記レンズ成形部を含む前記キャビティに透光性樹脂を充填して硬化させることにより、前記光デバイスの基板に実装された光チップを封止するとともに前記光デバイスのレンズ部を形成するように構成されていることを特徴とする光デバイス用金型の製造方法。
A method of manufacturing a mold for an optical device,
A first step of forming a lens molding part having a concave shape for molding a lens part of an optical device on a workpiece on a member constituting the bottom surface of the cavity ;
A second step of irradiating the workpiece with a laser to form a plurality of recesses in the lens molding part, and
The optical device mold includes the lens molding portion having the concave shape in which the plurality of concave portions are formed, and the cavity including the lens molding portion is filled with a translucent resin and cured. A method of manufacturing a mold for an optical device, wherein the optical chip mounted on a substrate of the optical device is sealed and a lens portion of the optical device is formed.
前記第2のステップは、前記凹部が形成される位置に前記レーザを複数回照射させて該凹部を形成することを特徴とする請求項1記載の光デバイス用金型の製造方法。   2. The method of manufacturing an optical device mold according to claim 1, wherein in the second step, the recess is formed by irradiating the laser at a position where the recess is formed a plurality of times. 前記第2のステップは、前記レンズ成形部及び該レンズ成形部の周辺部に前記レーザを照射することを特徴とする請求項1又は2記載の光デバイス用金型の製造方法。   3. The method of manufacturing an optical device mold according to claim 1, wherein in the second step, the laser is irradiated to the lens molding portion and a peripheral portion of the lens molding portion. 前記第2のステップは、前記ワークの全面に前記レーザを照射することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載の光デバイス用金型の製造方法。   4. The method of manufacturing a mold for an optical device according to claim 1, wherein the second step irradiates the entire surface of the workpiece with the laser. 5. 前記第2のステップは、前記複数の凹部の位置に応じて、前記レーザの照射方向を変化させることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記載の光デバイス用金型の製造方法。   5. The method for manufacturing a mold for an optical device according to claim 1, wherein in the second step, the irradiation direction of the laser is changed according to the positions of the plurality of recesses. . 光デバイスを製造するための光デバイス用金型であって、
前記光デバイス用金型のキャビティの底面を構成する部材に形成された、前記光デバイスのレンズ部を成形するための凹形状を有するレンズ成形部と、
レーザを照射することにより前記レンズ成形部に形成された複数の凹部と、を有し、
前記光デバイス用金型は、前記複数の凹部が形成された前記凹形状を有する前記レンズ成形部を有し、前記レンズ成形部を含む前記キャビティに透光性樹脂を充填して硬化させることにより、前記光デバイスの基板に実装された光チップを封止するとともに前記光デバイスのレンズ部を形成するように構成されていることを特徴とする光デバイス用金型。
An optical device mold for manufacturing an optical device,
A lens molding part having a concave shape for molding the lens part of the optical device , formed on a member constituting the bottom surface of the cavity of the optical device mold ;
A plurality of concave portions formed in the lens molding portion by irradiating with a laser,
The optical device mold includes the lens molding portion having the concave shape in which the plurality of concave portions are formed, and the cavity including the lens molding portion is filled with a translucent resin and cured. An optical device mold characterized by being configured to seal an optical chip mounted on a substrate of the optical device and to form a lens portion of the optical device.
光デバイスの製造方法であって、
ワークに光デバイスのレンズ部を成形するためのレンズ成形部を形成する第1のステップと、
前記ワークにレーザを照射して、前記レンズ成形部に複数の凹部を形成する第2のステップと、
基板に光チップを実装する第3のステップと、
前記第1のステップ及び前記第2のステップを経て製造された金型に透光性樹脂を充填して硬化させることにより、前記光チップを封止するとともに前記光デバイスのレンズ部を形成する第4のステップと、を有することを特徴とする光デバイスの製造方法。
An optical device manufacturing method comprising:
A first step of forming a lens molding part for molding the lens part of the optical device on the workpiece;
A second step of irradiating the workpiece with a laser to form a plurality of recesses in the lens molding part;
A third step of mounting the optical chip on the substrate;
A mold manufactured through the first step and the second step is filled with a translucent resin and cured, thereby sealing the optical chip and forming a lens portion of the optical device. And a step of manufacturing the optical device.
光デバイスであって、
基板と、
前記基板に実装された光チップと、
前記光チップを封止する透光性樹脂により形成されたレンズ部と、を有し、
前記レンズ部は、レーザ照射により複数の凹部が設けられた金型を用いて成形され、複数の凸部を備えることを特徴とする光デバイス。
An optical device,
A substrate,
An optical chip mounted on the substrate;
A lens portion formed of a translucent resin that seals the optical chip,
The said lens part is shape | molded using the metal mold | die provided with the some recessed part by laser irradiation, and is provided with a some convex part.
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