JP5375628B2 - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device having a narrower frame and preventing leakage of light in a surrounding portion, in which a UV-curing resin can be cured without fail, in a manufacturing step by an ODF (one-drop-fill) method. <P>SOLUTION: A narrower frame is obtained, by forming a metal wiring line 120 at a position, in a frame portion of a display panel of the display device, the position overlapping an area where a sealing material 190 comprising a UV-curing resin is applied. A BM (black matrix) 160 for preventing leakage of light is formed on a CF-side substrate 150, however, the BM is not formed at an end portion. Consequently, in a manufacturing step, the sealing material 190 can be cured through irradiation with a UV light through the CF side substrate 150. After curing the sealing material 190, a transparent plate 200 constituted of, for example, reinforced glass provided with a decorative frame 210 being laminated, to make the strength of the display panel increase, while preventing leakage of light, at an end of the display panel where the BM 160 is not formed. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置及びその製造方法、特にOne Drop Fill(ODF)法により製造する液晶表示装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a liquid crystal display device manufactured by a One Drop Fill (ODF) method and a manufacturing method thereof.

液晶表示装置の製造方法の一つとして、One Drop Fill(ODF)法と呼ばれる方法が知られている。ODF法においてはまず、液晶層を挟持する対向する一対の基板のうち、何れか一方の基板の周縁部に紫外線(UV)硬化性樹脂から成るシール材を塗布し、また、液晶層を形成する部分に液晶分子を滴下する。その後、前記一対の基板を真空中で重ね合わせ、次に大気圧に戻してシール材及び液晶分子を押し潰した後にUV照射によって前記シール材を硬化させる。この様なシール材の硬化により、前記一対の基板の接着及び液晶分子の封止を行う。前記の様なODF法による液晶表示装置の製造方法が、例えば特許文献1に開示されている。ODF法に依れば、液晶層を形成する空間を予め形成し、その空間に液晶分子を注入する従来の製造方法と比較して、製造工程数を減らすことができる。 As one of methods for manufacturing a liquid crystal display device, a method called a One Drop Fill (ODF) method is known. In the ODF method, first, a sealing material made of an ultraviolet (UV) curable resin is applied to the periphery of one of a pair of opposing substrates sandwiching the liquid crystal layer, and the liquid crystal layer is formed. Liquid crystal molecules are dropped on the part to be touched. Thereafter, the pair of substrates are stacked in a vacuum, and then returned to atmospheric pressure to crush the sealing material and liquid crystal molecules, and then the sealing material is cured by UV irradiation. By such curing of the sealing material, the pair of substrates are bonded and the liquid crystal molecules are sealed. A method of manufacturing a liquid crystal display device by the ODF method as described above is disclosed in, for example, Patent Document 1. According to the ODF method, the number of manufacturing steps can be reduced as compared with a conventional manufacturing method in which a space for forming a liquid crystal layer is formed in advance and liquid crystal molecules are injected into the space.

特開平8−106101号公報JP-A-8-106101

液晶表示装置について、表示ができない周縁部の領域である額縁部分を狭くしたいという要求がある。このため、各画素に接続している配線の取り回し配線を額縁部分に高密度に配することが望まれる。また、額縁部分からの光漏れを防ぐため、額縁部分には遮光部を設けることが要求されている。通常、画素部分では開口を有するブラックマトリクスを、この額縁部分では全面形成することで遮光部としている。これらのため、前記ODF法による液晶表示装置の製造において、額縁部分にUV硬化性樹脂から成るシール材を塗布すると、前記配線及び遮光部の存在のため、シール材に十分にUVを照射することができず、前記一対の基板の接着及び液晶分子の封止が満足に行えないという課題がある。   There is a demand for a liquid crystal display device to narrow a frame portion, which is a peripheral region that cannot be displayed. For this reason, it is desired to arrange the wirings connected to each pixel at a high density in the frame portion. Further, in order to prevent light leakage from the frame portion, it is required to provide a light shielding portion in the frame portion. Usually, a black matrix having an opening is formed in the pixel portion, and a light shielding portion is formed by forming the entire surface in the frame portion. For these reasons, in the manufacture of the liquid crystal display device by the ODF method, when a seal material made of UV curable resin is applied to the frame portion, the seal material is sufficiently irradiated with UV due to the presence of the wiring and the light shielding portion. There is a problem that the bonding of the pair of substrates and the sealing of the liquid crystal molecules cannot be satisfactorily performed.

そこで本発明は、狭額縁化を図りつつ周縁部での光漏れがなく表示品位が良い液晶表示装置であり、ODF法を用いた製造においてUV硬化性樹脂により確実に当該液晶表示装置の周縁部での接着及び液晶分子の封止ができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention is a liquid crystal display device which has a good display quality without light leakage at the peripheral portion while narrowing the frame, and the peripheral portion of the liquid crystal display device is surely made by UV curable resin in manufacturing using the ODF method. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that can be bonded and sealed with liquid crystal molecules and a method for manufacturing the same.

前記目的を果たすため、本発明の液晶表示装置の一態様は、観察側基板と、前記観察側基板と対向する裏面側基板と、前記観察側基板と前記裏面側基板との周縁部において、前記観察側基板と前記裏面側基板とを一定の間隙を有して貼り合せるシール材と、前記観察側基板と前記裏面側基板との間隙の前記シール材に囲まれた空間に封止された液晶分子により構成される液晶層と、前記裏面側基板の前記液晶層側の面の画像を表示しない周縁部である額縁部に形成された導電線と、を具備し、前記導電線は、前記裏面側基板上に絶縁膜を介して互いに重なり合うように多層に配線されており、前記額縁部に、前記シール材と前記導電線とが観察側から見て重なり合う位置に配置されており、前記観察側基板から前記シール材までの間に遮光物がなく前記観察側基板の側から照射した紫外線光が前記シール材に到達し、前記シール材は紫外線硬化性樹脂であり、前記観察側基板には、前記シール材の上部を除いた一部の領域に遮光物が配置されており、記観察側基板の更に観察側に、透明板が配置されており、前記透明板の、前記観察側基板の前記遮光物がない部分と重なり合う位置に、遮光部材が配置されている、ことを特徴とする。 In order to achieve the above object, an aspect of the liquid crystal display device of the present invention includes: an observation side substrate; a back side substrate facing the observation side substrate; and a peripheral portion of the observation side substrate and the back side substrate. A sealing material for bonding the observation side substrate and the back side substrate with a certain gap, and a liquid crystal sealed in a space surrounded by the sealing material in the gap between the observation side substrate and the back side substrate A liquid crystal layer composed of molecules, and a conductive line formed on a frame portion that is a peripheral portion that does not display an image of the surface on the liquid crystal layer side of the back surface side substrate, and the conductive line is formed on the back surface It is wired in multiple layers so as to overlap each other via an insulating film on the side substrate, and the sealing material and the conductive wire are arranged on the frame portion at positions where they overlap each other when viewed from the observation side. Light shielding material between the substrate and the sealing material The ultraviolet light irradiated from the side of the observation side substrate reaches the sealing material without the sealing material is a UV-curable resin, the the observation-side substrate, a part of the area except the upper portion of the sealing material and the obstruction is disposed, further observation side before Symbol observation side substrate is disposed a transparent plate, the transparent plate at a position overlapping with the shielding element is not part of the observation side substrate, the light-shielding The member is arranged, It is characterized by the above-mentioned.

また、前記目的を果たすため、本発明の液晶表示装置の製造方法の一態様は、面側基板上に、絶縁膜を介して多層に配線された導電線を含む第1の構成要素を配した裏面側レイヤを形成し、前記裏面側レイヤ上の前記導電線と重なり合う位置にシール材を塗布し、前記裏面側レイヤ上の前記シール材に囲まれた位置に液晶分子を塗布し、察側基板上に、遮光物を含む第2の構成要素及び液晶層の厚さを規定するスペーサを配した観察側レイヤを形成し、前記観察側基板の前記観察側レイヤを形成した面と前記裏面側基板の前記液晶分子を塗布した面とを、前記シール材の上部を除いた一部の領域に前記遮光物が配置されるように真空中で重ね合わせ、大気圧下で前記観察側基板側から紫外線光を照射して前記シール材を硬化させ、前記観察側基板の更に観察側に、前記観察側基板の前記遮光物がない部分と重なり合う位置に遮光部材が配置されている、透明板を配置する、ことを特徴とする。 Also, to fulfill the above object, one aspect of the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention, the back surface side substrate, including a first configuration element conductive lines wired in multi-layer through the insulating film forming a back side layer which arranged, shea Lumpur material is applied to a position overlapping with the conductive lines on the back surface side layer, the liquid crystal molecules in the surrounded by the sealant position on the back side layer coated, the observation-side substrate, the second component及beauty solution to form a viewing side layer which arranged spacer that defines the thickness of the crystal layer, the viewing-side layer of the viewing-side substrate including a light shielding material The surface on which the liquid crystal molecules are applied on the back side substrate and the surface on which the liquid crystal molecules are applied are superposed in a vacuum so that the light shielding material is disposed in a part of the area excluding the upper part of the sealing material, by irradiating the observation side substrate side or Murasaki Luo light under curing the sealing material, the outlook Further observation side of the side board, the light shielding member to the shader overlaps with no portion position of the observation side substrate is disposed, to place the transparent plate, characterized in that.

本発明に依れば、狭額縁化を図りつつ周縁部での光漏れがなく表示品位が良い液晶表示装置であり、ODF法を用いた製造においてUV硬化性樹脂により確実に当該液晶表示装置の周縁部での接着及び液晶分子の封止ができる液晶表示装置及びその製造方法を提供できる。   According to the present invention, it is a liquid crystal display device that has a narrow frame and does not leak light at the peripheral portion and has a good display quality. In the manufacturing using the ODF method, the liquid crystal display device is surely made by a UV curable resin. A liquid crystal display device capable of adhering at the peripheral edge and sealing liquid crystal molecules and a method for manufacturing the same can be provided.

本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの概略を説明する為の平面図。1 is a plan view for explaining an outline of a display panel of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの周縁部の一例を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an example of a peripheral portion of the display panel of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの周縁部の別の一例を示す断面図。Sectional drawing which shows another example of the peripheral part of the display panel of the liquid crystal display device which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの製造工程の一例を説明する為の図。The figure for demonstrating an example of the manufacturing process of the display panel of the liquid crystal display device which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの図3Aの後の製造工程の一例を説明する為の図。FIG. 4 is a view for explaining an example of a manufacturing process after FIG. 3A of the display panel of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの製造工程の別の一例を説明する為の図。The figure for demonstrating another example of the manufacturing process of the display panel of the liquid crystal display device which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの周縁部の一例を示す断面図。Sectional drawing which shows an example of the peripheral part of the display panel of the liquid crystal display device which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの製造工程の一例を説明する為の図。The figure for demonstrating an example of the manufacturing process of the display panel of the liquid crystal display device which concerns on the 2nd Embodiment of this invention.

[第1の実施形態]
以下、本発明の第1の実施形態について図面を参照して説明する。本実施形態に係る液晶表示装置の、画像表示を行うために画素毎に光透過を変化させる表示パネルは主に、その上に薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;TFT)を形成する、例えばガラス等から成るTFT側基板と、その上にカラーフィルター(CF)を形成する、例えばガラス等から成るCF側基板と、TFT側基板とCF側基板の間に狭持された液晶層等により構成されている。前記TFT側基板とCF側基板とは、その周縁部をシール材によって接着され、またこのシール材によってTFT側基板とCF側基板との間から液晶層を構成する液晶分子が漏れ出さないように封止されている。更に前記CF側基板側には表示パネル全体の強度を増す為に、例えば強化ガラス等から成る透明板が貼り合わされている。
[First Embodiment]
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the liquid crystal display device according to the present embodiment, the display panel that changes light transmission for each pixel in order to perform image display mainly includes a thin film transistor (TFT) formed thereon, for example, glass. A TFT side substrate, a color filter (CF) formed thereon, a CF side substrate made of glass or the like, and a liquid crystal layer sandwiched between the TFT side substrate and the CF side substrate are formed. The periphery of the TFT side substrate and the CF side substrate is bonded with a sealing material, and the sealing material prevents the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer from leaking from between the TFT side substrate and the CF side substrate. It is sealed. Further, a transparent plate made of, for example, tempered glass is bonded to the CF side substrate side in order to increase the strength of the entire display panel.

この様な本実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの概略の平面図を図1に示す。前記TFT側基板上には、画素電極111、画素電極111のスイッチング素子として働くTFT112、TFT112に接続されておりそれぞれ交差する様に配線されている走査線113及び信号線114等が形成されている。また、走査線113及び信号線114等の配線は、本表示パネルの周縁部においてメタル配線によって取り回されている。また、前記CF側基板上には、図示しない共通電極、カラーフィルター、ブラックマトリクス(BM)などが形成されている。そして前記透明板には、表示パネルの周縁部における不要な光漏れを防ぐため、化粧枠210が設けられている。   FIG. 1 shows a schematic plan view of the display panel of the liquid crystal display device according to this embodiment. On the TFT side substrate, there are formed a pixel electrode 111, a TFT 112 serving as a switching element of the pixel electrode 111, and a scanning line 113 and a signal line 114 which are connected to the TFT 112 and wired so as to intersect each other. . In addition, wirings such as the scanning lines 113 and the signal lines 114 are routed by metal wirings at the peripheral edge of the display panel. On the CF side substrate, a common electrode, a color filter, a black matrix (BM), etc. (not shown) are formed. The transparent plate is provided with a decorative frame 210 to prevent unnecessary light leakage at the peripheral edge of the display panel.

本表示パネルの周縁部である図1におけるA−A部分の断面を図2に示す。TFT側基板110上には、前記走査線113及び信号線114等に接続し、それらを取り回すためのメタル配線120が絶縁膜130と共に形成されている。更にその上には、ラビング処理が施された配向膜140が形成されている。尚、当該表示パネルは高精細パネルであるため配線数が多く、且つ狭額縁化を図るため、メタル配線120は、図2に示す通り2層に配線されているものとする。尚、2層に限らず、狭額縁化を図るためには3層以上の多層配線としても良い。   FIG. 2 shows a cross section of the AA portion in FIG. 1 which is the peripheral portion of the display panel. On the TFT side substrate 110, a metal wiring 120 connected to the scanning line 113, the signal line 114, and the like and around them is formed together with an insulating film 130. Further thereon, an alignment film 140 subjected to a rubbing process is formed. Since the display panel is a high-definition panel, the number of wirings is large, and the metal wiring 120 is assumed to be wired in two layers as shown in FIG. Note that the wiring is not limited to two layers, and a multilayer wiring of three or more layers may be used in order to narrow the frame.

一方、CF側基板150には、本表示パネルの周縁部まで、光漏れを防ぐためのブラックマトリクス(BM)160がパターン形成されている。ただし、このBM160は、図2に示す通り、本表示パネルの周縁部の端部、つまりメタル配線120が配線されている部分までは形成されていない。BM160上には、ラビング処理が施された配向膜180が形成されている。   On the other hand, a black matrix (BM) 160 for preventing light leakage is patterned on the CF side substrate 150 up to the peripheral edge of the display panel. However, as shown in FIG. 2, the BM 160 is not formed up to the end of the peripheral portion of the display panel, that is, the portion where the metal wiring 120 is wired. On the BM 160, an alignment film 180 subjected to a rubbing process is formed.

TFT側基板110とCF側基板150の間の周縁部の端部を含む部分における、TFT側基板110のメタル配線120が形成されている部分と、CF側基板150のBM160が形成されていない部分とが重なり合う位置には、紫外線(UV)硬化性樹脂から成るシール材190が塗布されている。そして、UV照射によるシール材190の硬化によりTFT側基板110とCF側基板150とは、一定の間隙を有して接着されている。ここで、配向膜140と配向膜180の間隔は、例えば球形の散布スペーサ230の直径により規定されている。尚、散布スペーサ230は、球形に限らず例えば円柱形状等でも良い。配向膜140と配向膜180の間に形成された間隙には液晶分子が封入され液晶層220が形成されている。この液晶層220を形成する液晶分子は、シール材190によって前記間隙に封止されている。   In the portion including the edge of the peripheral portion between the TFT side substrate 110 and the CF side substrate 150, the portion where the metal wiring 120 of the TFT side substrate 110 is formed and the portion where the BM 160 of the CF side substrate 150 is not formed A seal material 190 made of an ultraviolet (UV) curable resin is applied to a position where the two overlap each other. The TFT side substrate 110 and the CF side substrate 150 are bonded to each other with a certain gap by curing the sealing material 190 by UV irradiation. Here, the interval between the alignment film 140 and the alignment film 180 is defined by the diameter of the spherical scattering spacer 230, for example. The scattering spacer 230 is not limited to a spherical shape, and may be a cylindrical shape, for example. Liquid crystal molecules are sealed in a gap formed between the alignment film 140 and the alignment film 180 to form a liquid crystal layer 220. The liquid crystal molecules forming the liquid crystal layer 220 are sealed in the gap by a sealing material 190.

TFT側基板110及びCF側基板150の液晶層220側の面と反対側には、図示しない偏光板及びその他光学フィルムが貼り合わされている。また、CF側基板150の液晶層220側の面と反対側には、化粧枠210が施された例えば強化ガラス等から成る透明板200が貼り合わされている。この化粧枠210は、本表示パネルの周縁部の端部から、BM160と重なる位置まで形成されており、光を透過しない。 The opposite side of the liquid crystal layer 220 side of the TFT-side substrate 110 and the CF-side substrate 150, a polarizing plate and other optical films (not shown) is bonded. Further, a transparent plate 200 made of, for example, tempered glass and the like having a decorative frame 210 is bonded to the opposite side of the surface of the CF side substrate 150 on the liquid crystal layer 220 side. The decorative frame 210 is formed from the peripheral edge of the display panel to a position overlapping the BM 160 and does not transmit light.

以上の様な構成を有する本実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルでは、メタル配線120を介して、各走査線113及び信号線114に適宜電圧を印加することで、各画素電極111に電圧を印加することができる。この各画素電極111に印加する電圧によって、各画素の液晶層220に電場を形成する。この電場によって、画素毎の液晶層220を、光学的スイッチとして働かせ、表示パネル全体として画像を表示する。 In the display panel of the liquid crystal display device according to the present embodiment having the above-described configuration, each pixel line 111 is applied to each pixel electrode 111 by appropriately applying a voltage to each scanning line 113 and each signal line 114 via the metal wiring 120. A voltage can be applied. An electric field is formed in the liquid crystal layer 220 of each pixel by the voltage applied to each pixel electrode 111. This electric field causes the liquid crystal layer 220 for each pixel to function as an optical switch and display an image as the entire display panel.

ここで、シール材190は、TFT側基板110とCF側基板150を貼り合せる役割を担う。更に、シール材190は、TFT側基板110とCF側基板150と共に液晶層220の液晶を封止する役割も担う。また、BM160及び化粧枠210は、光漏れによる不要な光を、CF側基板150側から観察する使用者に観察させない為の遮光部の役割を担う。また、透明板200は、本表示パネル全体の強度を増す働きを有する。   Here, the sealing material 190 plays a role of bonding the TFT side substrate 110 and the CF side substrate 150 together. Further, the sealing material 190 also serves to seal the liquid crystal of the liquid crystal layer 220 together with the TFT side substrate 110 and the CF side substrate 150. Further, the BM 160 and the decorative frame 210 serve as a light shielding unit for preventing a user who observes unnecessary light due to light leakage from the CF side substrate 150 side. Further, the transparent plate 200 has a function of increasing the strength of the entire display panel.

尚、化粧枠210が設けられなくても、メタル配線120が2層に配線されているため、TFT側基板110側に配置された図示しないバックライトの光は、メタル配線120により一部が遮られる。しかし乍、不要な光の遮光を確実に行うため、本表示パネルは化粧枠210を備えていることが必要である。   Even if the decorative frame 210 is not provided, since the metal wiring 120 is wired in two layers, a part of the light of the backlight (not shown) arranged on the TFT side substrate 110 side is blocked by the metal wiring 120. It is done. However, in order to reliably block unnecessary light, the display panel needs to include a decorative frame 210.

この様に、例えばCF側基板150は、観察側基板として機能し、例えばTFT側基板110は、裏面側基板として機能し、例えばシール材190は、観察側基板と裏面側基板の周縁部を該観察側基板と該裏面側基板を一定の間隙を有して貼り合せるシール材として機能し、例えば液晶層220は、観察側基板と裏面側基板との間隙のシール材に囲まれた空間に封止された液晶層として機能し、例えばメタル配線120は、額縁部に形成された導電線として機能し、例えば化粧枠210は、観察側基板からシール材までの間の遮光物がない部分と重なり合う位置の、観察側基板の更に観察側に配置される遮光部材として機能する。   Thus, for example, the CF side substrate 150 functions as an observation side substrate, for example, the TFT side substrate 110 functions as a back side substrate, and for example, the sealing material 190 has a peripheral portion between the observation side substrate and the back side substrate. It functions as a sealing material for bonding the observation side substrate and the back side substrate with a certain gap, and for example, the liquid crystal layer 220 is sealed in a space surrounded by the sealing material in the gap between the observation side substrate and the back side substrate. It functions as a stopped liquid crystal layer, for example, the metal wiring 120 functions as a conductive line formed in the frame portion, and the decorative frame 210, for example, overlaps a portion where there is no light shielding material between the observation side substrate and the sealing material. It functions as a light-shielding member that is positioned further on the observation side of the observation-side substrate.

尚、図2を参照して説明した表示パネルの液晶層の厚さを規定するスペーサは、例えば球形の散布スペーサ230とした。しかし乍これに限らず、液晶層の厚さを規定するスペーサは、例えば図3に示す様に柱スペーサ240でも良い。この柱スペーサ240は、例えばカラーフィルター(CF)上の共通電極と配向膜180の間で、観察側から見てBM160が形成されている位置と重なる位置等に形成されている。この柱スペーサ240が形成されている場合、柱スペーサ240が配設されている部分では、配向膜140及び配向膜180が接しており、液晶層220の厚さはこの柱スペーサ240の高さによって規定されている。   In addition, the spacer which prescribes | regulates the thickness of the liquid crystal layer of the display panel demonstrated with reference to FIG. However, the present invention is not limited to this, and the spacer that defines the thickness of the liquid crystal layer may be, for example, a column spacer 240 as shown in FIG. For example, the column spacer 240 is formed between the common electrode on the color filter (CF) and the alignment film 180 at a position overlapping the position where the BM 160 is formed as viewed from the observation side. In the case where the column spacer 240 is formed, the alignment film 140 and the alignment film 180 are in contact with each other at the portion where the column spacer 240 is disposed, and the thickness of the liquid crystal layer 220 depends on the height of the column spacer 240. It is prescribed.

次に、図2を参照して説明した構成を有する表示パネルの製造方法を図4A及び図4Bを参照して説明する。当該製造方法は、One Drop Fill(ODF)法と呼ばれる製造方法である。   Next, a method for manufacturing a display panel having the configuration described with reference to FIG. 2 will be described with reference to FIGS. 4A and 4B. The manufacturing method is a manufacturing method called an One Drop Fill (ODF) method.

TFT側基板110上には、図4A中(a)に示す工程において、前記画素電極111、TFT112、走査線113、信号線114、メタル配線120、及び絶縁膜130等を含むTFTレイヤ125を形成する。続いて、図4A中(b)に示す工程において、例えばポリイミドより成る膜を形成し、ラビング処理を施し、配向膜140を形成する。   A TFT layer 125 including the pixel electrode 111, the TFT 112, the scanning line 113, the signal line 114, the metal wiring 120, the insulating film 130, and the like is formed on the TFT side substrate 110 in the step shown in FIG. 4A. To do. Subsequently, in the step shown in FIG. 4A (b), a film made of polyimide, for example, is formed, and a rubbing process is performed to form an alignment film 140.

この様に、例えばTFTレイヤ125及び配向膜140は、裏面側基板と液晶層に挟まれる第1の構成要素である裏面側レイヤとして機能する。 Thus, for example, TFT layer 125 and an alignment film 140 functions as a back side layer which is a first component that is sandwiched between the rear substrate and the liquid crystal layer.

次に、図4A中(c)に示す工程において、配向膜140上の本表示パネルの周縁部の前記接着及び封止部分に、前記UV硬化性樹脂から成るシール材190を塗布する。次に、図4A中(d)に示す工程において、配向膜140上の液晶層220を形成する部分に、液晶分子225を滴下する。   Next, in the step shown in FIG. 4A (c), the sealing material 190 made of the UV curable resin is applied to the adhesion and sealing portion of the peripheral portion of the display panel on the alignment film 140. Next, in the step shown in FIG. 4A (d), liquid crystal molecules 225 are dropped on the portion of the alignment film 140 where the liquid crystal layer 220 is to be formed.

一方、CF側基板150上には、図4A中(e)に示す工程において、BM160、CF、及び共通電極等を含むCFレイヤ165を形成する。その後続いて、図4A中(f)に示す工程において、例えばポリイミドより成る膜を形成し、ラビング処理を施し、配向膜180を形成する。次に、図4A中(g)に示す工程において、まず、配向膜180上に散布スペーサ230を散布する。ここで、散布スペーサ230は、例えば球形をしており、その直径は液晶層220の厚さと等しく、液晶層の厚さを規定する機能を有する。続いて、散布スペーサ230を散布したCF側基板150を加熱して散布スペーサ230を固着させる。   On the other hand, on the CF side substrate 150, a CF layer 165 including the BM 160, the CF, the common electrode, and the like is formed in the step shown in FIG. 4A (e). Subsequently, in the step shown in FIG. 4A (f), a film made of, for example, polyimide is formed, and a rubbing process is performed to form an alignment film 180. Next, in the step shown in FIG. 4A (g), first, a dispersion spacer 230 is dispersed on the alignment film 180. Here, the scattering spacer 230 has, for example, a spherical shape, and the diameter thereof is equal to the thickness of the liquid crystal layer 220 and has a function of defining the thickness of the liquid crystal layer. Subsequently, the CF-side substrate 150 on which the spreading spacers 230 are spread is heated to fix the spreading spacers 230.

この様に、例えばCFレイヤ165、配向膜180、及び散布スペーサ230は、観察側基板と液晶層に挟まれる第2の構成要素及び液晶層の厚さを規定するスペーサを配した観察側レイヤとして機能する。 In this way, for example, the CF layer 165, the alignment film 180, and the scattering spacer 230 are the observation side layer in which the second component sandwiched between the observation side substrate and the liquid crystal layer and the spacer that defines the thickness of the liquid crystal layer are arranged. Function as.

続いて図4B中(h)に示す工程において、TFT側基板110の前記シール材190及び液晶分子225を塗布した面と、CF側基板150の散布スペーサ230を散布した面とを、真空中で重ね合わせる。次に、図4B中(i)に示す工程において、大気圧に戻して、シール材190及び液晶分子225を、散布スペーサ230の高さに潰す。この様にしてシール材190及び液晶層220の厚さは散布スペーサ230の高さによって規定される。そして大気圧下で、CF側基板150側からUVを照射してシール材190を硬化させる。更に、焼成してシール材190を完全に硬化させSubsequently, in the step shown in FIG. 4B (h), the surface of the TFT-side substrate 110 on which the sealing material 190 and the liquid crystal molecules 225 are applied and the surface of the CF-side substrate 150 on which the dispersion spacers 230 are dispersed are formed in a vacuum. Overlapping. Next, in the step shown in FIG. 4B (i), the pressure is returned to atmospheric pressure, and the sealing material 190 and the liquid crystal molecules 225 are crushed to the height of the scattering spacer 230. In this way, the thickness of the sealing material 190 and the liquid crystal layer 220 is defined by the height of the scattering spacer 230. Then, under atmospheric pressure, the sealing material 190 is cured by irradiating UV from the CF side substrate 150 side. Furthermore, it allows complete cure of the sealing material 190 and then fired.

その後、表示パネル毎に切断し、TFT側基板110及びCF側基板150に、図示しない偏光板及びその他光学フィルムを貼り合わせ、図4B中(j)に示す工程において、CF側基板150側の最表面に、化粧枠210が施された例えば強化ガラス等から成る透明板200を貼り合わせて、表示パネルを完成させる。 Then cut for each display panel, on the TFT side substrate 110 and the CF-side substrate 150, a polarizing plate is attached to and other optical films (not shown), in the step shown in FIG. 4B (j), the CF-side substrate 150 side A transparent panel 200 made of, for example, tempered glass with a decorative frame 210 is bonded to the outermost surface to complete the display panel.

以上の表示パネルの製造方法は、図2に示したスペーサに散布スペーサ230を用いた場合であるが、図3を参照して説明したような柱スペーサ240を用いる表示パネルの製造方法は、図4A中(f)及び(g)が異なる。即ち、図5に示す通り、(f)に示す工程において、CFレイヤ165上に柱スペーサ240を形成する。続いて図5中(g)に示す工程において、柱スペーサ240を覆う様に、例えばポリイミドより成る膜を形成し、ラビング処理を施し、配向膜180を形成する。その後は、図4Bを参照して説明したと同様に、(h)に示す工程において、前記シール材190及び液晶分子225を塗布したTFT側基板110と、柱スペーサ240及び配向膜180を形成したCF側基板150とを、真空中で重ね合わせ、以下同様の工程を実施する。   The above manufacturing method of the display panel is a case where the scattering spacer 230 is used for the spacer shown in FIG. 2, but the manufacturing method of the display panel using the column spacer 240 described with reference to FIG. In 4A, (f) and (g) are different. That is, as shown in FIG. 5, the column spacer 240 is formed on the CF layer 165 in the step shown in FIG. Subsequently, in a step shown in FIG. 5G, a film made of polyimide, for example, is formed so as to cover the column spacer 240, and a rubbing process is performed to form an alignment film 180. Thereafter, in the same manner as described with reference to FIG. 4B, in the step shown in (h), the TFT side substrate 110 coated with the sealing material 190 and the liquid crystal molecules 225, the column spacer 240, and the alignment film 180 were formed. The CF side substrate 150 is superposed in a vacuum, and thereafter the same process is performed.

この様に、例えばCFレイヤ165、配向膜180、及び柱スペーサ240は、観察側基板と液晶層に挟まれる第2の構成要素及び液晶層の厚さを規定するスペーサを配した観察側レイヤとして機能する。 Thus, for example, the CF layer 165, the alignment film 180, and the column spacer 240 are the second constituent element sandwiched between the observation side substrate and the liquid crystal layer, and the observation side layer in which the spacer that defines the thickness of the liquid crystal layer is arranged. Function as.

前記の様な構成を有する表示パネルを、前記の様な製造工程で作製することにより以下の効果が得られる。即ち、表示パネルの周縁部のシール材190による接着部分と重なる位置にメタル配線120を配線することにより、画像を表示しない額縁部分を狭くすることができる。この際、メタル配線120を2層に配線する等多層配線とすることで、更なる狭額縁化を図ることができる。   The following effects can be obtained by manufacturing the display panel having the above-described configuration through the manufacturing process as described above. That is, the frame portion that does not display an image can be narrowed by wiring the metal wiring 120 at a position overlapping the bonding portion of the peripheral portion of the display panel by the sealing material 190. In this case, the frame can be further narrowed by forming the metal wiring 120 as a multilayer wiring such as two layers.

ODF法を用いた製造工程において、前記の様にUV硬化性樹脂から成るシール材190による接着部分とメタル配線120の配線部分とが重なる位置に配置すると、シール材190を硬化させるためのUV照射を、TFT側基板110側から行えない。何故なら、本表示パネルは高精細であるためメタル配線120の本数が多く且つそれらは高密度に配線されているため、メタル配線120がTFT側基板110側から照射するUVを遮断し、UVをシール材190に到達させないためである。このことは、メタル配線120を多層配線とする場合、更に顕著となる。従って、本実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの作製においては、シール材190の硬化のためのUV照射を、CF側基板150側から行っている。このため、BM160は、シール材190と重なる位置には形成されていない。CF側基板150からシール材190までの間には、主に透明部材しかないので、CF側基板150側からシール材190に十分にUVを照射することができ、確実にシール材190を硬化させることができる。従って、確実にTFT側基板110及びCF側基板150を接着し、液晶分子225を封止することができる。   In the manufacturing process using the ODF method, UV irradiation for curing the sealing material 190 is performed when the bonding portion by the sealing material 190 made of the UV curable resin and the wiring portion of the metal wiring 120 overlap each other as described above. Cannot be performed from the TFT side substrate 110 side. This is because the display panel is high-definition and therefore has a large number of metal wirings 120 and they are wired at a high density. Therefore, the metal wiring 120 blocks UV that is irradiated from the TFT side substrate 110 side. This is to prevent the sealing material 190 from reaching. This becomes more prominent when the metal wiring 120 is a multilayer wiring. Therefore, in the production of the display panel of the liquid crystal display device according to this embodiment, UV irradiation for curing the sealing material 190 is performed from the CF side substrate 150 side. For this reason, BM160 is not formed in the position which overlaps with the sealing material 190. FIG. Since there is mainly a transparent member between the CF side substrate 150 and the sealing material 190, the sealing material 190 can be sufficiently irradiated with UV from the CF side substrate 150 side, and the sealing material 190 is reliably cured. be able to. Therefore, the TFT side substrate 110 and the CF side substrate 150 can be securely bonded and the liquid crystal molecules 225 can be sealed.

シール材190の硬化のためのUV照射を、CF側基板150側から行う際には、メタル配線120からのUV照射反射光も利用することができる。この利用は、メタル配線120が多層配線であり、メタル配線領域上にシール領域が含まれる場合により効果的である。この利用により、さらに確実にシール材190を硬化させることができる。   When UV irradiation for curing the sealing material 190 is performed from the CF side substrate 150 side, UV irradiation reflected light from the metal wiring 120 can also be used. This utilization is more effective when the metal wiring 120 is a multilayer wiring and a seal region is included on the metal wiring region. By using this, the sealing material 190 can be hardened more reliably.

前記の理由で、BM160はシール材190と重なる位置には形成されていない。このため、TFT側基板110側に配置されたバックライトからの光は、メタル配線120によって一部が遮光されるものの、シール材190が位置する当該表示パネルの周縁部で、CF側基板150側から観察する使用者に光漏れによる不要な光を観察させてしまうがある。そこで本実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルにおいては、光漏れによる不要な光を使用者に観察させない為、化粧枠210を、本表示パネルの端部からBM160と重なる位置まで配置している。 For the above reason, the BM 160 is not formed at a position overlapping the sealing material 190. For this reason, the light from the backlight disposed on the TFT side substrate 110 side is partially blocked by the metal wiring 120, but at the peripheral edge of the display panel where the sealing material 190 is located, There is a risk that the user who observes the camera will observe unnecessary light due to light leakage. Therefore, in the display panel of the liquid crystal display device according to the present embodiment, the decorative frame 210 is arranged from the end of the display panel to a position overlapping with the BM 160 in order to prevent the user from observing unnecessary light due to light leakage. .

以上の様に、本実施形態に依れば、狭額縁化を図りつつ周縁部での光漏れがなく表示品位が良い液晶表示装置を提供することができる。また、当該液晶表示装置のODF法を用いた製造において、UV硬化性樹脂により確実に当該液晶表示装置の周縁部での接着及び液晶分子の封止を実施できる製造方法を提供できる。   As described above, according to the present embodiment, it is possible to provide a liquid crystal display device having a good display quality without light leakage at the peripheral edge while achieving a narrow frame. In addition, in the production of the liquid crystal display device using the ODF method, a production method capable of reliably performing adhesion and sealing of liquid crystal molecules at the peripheral portion of the liquid crystal display device with a UV curable resin can be provided.

[第2の実施形態]
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。ここで第2の実施形態の説明では、第1の実施形態との相違点について説明し、第1の実施形態と同一の部分については同一の符号を付して、その説明は省略する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described. Here, in the description of the second embodiment, differences from the first embodiment will be described, the same portions as those in the first embodiment will be denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

図6に、第1の実施形態に係る図2に相当する、本実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの周縁部の断面図を示す。本実施形態において、第1の実施形態の場合と異なる点は主に2点ある。1点目は、第1の実施形態に係るメタル配線120の代わりに、例えば酸化インジウム錫(ITO)等の透明導電体から成る透明配線320を用いている点である。この透明配線320は、第1の実施形態の場合と同様に、例えば2層等多層に配線することによって、本表示パネルの狭額縁化を図っている。2点目は、第1の実施形態においてはシール材190が配置された位置には形成されていなかったBM160が、本実施形態においては当該表示パネルの端部まで形成されている点である。尚、液晶層220の厚さを規定するスペーサは第1の実施形態のそれと同様に、散布スペーサ230を用いても、柱スペーサ240を用いても良い。   FIG. 6 is a cross-sectional view of the peripheral portion of the display panel of the liquid crystal display device according to the present embodiment, corresponding to FIG. 2 according to the first embodiment. In the present embodiment, there are mainly two points that are different from the case of the first embodiment. The first point is that a transparent wiring 320 made of a transparent conductor such as indium tin oxide (ITO) is used instead of the metal wiring 120 according to the first embodiment. As in the case of the first embodiment, the transparent wiring 320 is designed to narrow the frame of the present display panel by wiring in multiple layers such as two layers. The second point is that the BM 160 that was not formed at the position where the sealing material 190 is arranged in the first embodiment is formed up to the end of the display panel in the present embodiment. In addition, the spacer which prescribes | regulates the thickness of the liquid crystal layer 220 may use the dispersion | distribution spacer 230 or the column spacer 240 similarly to that of 1st Embodiment.

図4には示していないが、第1の実施形態の場合と同様に、CF側基板150の液晶層220側の面と反対側に、当該表示パネル全体の強度を増加させるため、例えば強化ガラスなどから成る透明板200が貼り合わせても良い。この場合、化粧枠210はなくても良い。   Although not shown in FIG. 4, as in the case of the first embodiment, tempered glass, for example, is used to increase the strength of the entire display panel on the side opposite to the liquid crystal layer 220 side surface of the CF side substrate 150. A transparent plate 200 made of or the like may be attached. In this case, the decorative frame 210 may be omitted.

本実施形態に係る表示パネルの製造方法も第1の実施形態とほぼ同じであり、異なる点は、図4B中の(i)を参照して説明した工程である。即ち、本実施形態においては、UV照射を、図7に示す通り、TFT側基板110側から行う点が第1の実施形態と異なる。この違いは、本実施形態においては、BM160が本表示パネルの端部まで形成されているため、CF側基板150側からUVを照射してもUVはBM160に遮られ、シール材190に到達しない為である。CF側基板150側からUVを照射してもUVがシール材190に到達しない一方、透明配線320は透明であるため、TFT側基板110側からUVを照射すればUVはシール材190に到達する。そのため、図7に示す通り、本実施形態では、TFT側基板110側からUVの照射を行う。   The manufacturing method of the display panel according to this embodiment is also substantially the same as that of the first embodiment, and the difference is the process described with reference to (i) in FIG. 4B. That is, this embodiment is different from the first embodiment in that UV irradiation is performed from the TFT side substrate 110 side as shown in FIG. This difference is that, in this embodiment, the BM 160 is formed up to the end of the display panel, so that even if UV is irradiated from the CF side substrate 150 side, the UV is blocked by the BM 160 and does not reach the sealing material 190. Because of that. Even if UV is irradiated from the CF side substrate 150 side, the UV does not reach the sealing material 190, but the transparent wiring 320 is transparent. Therefore, if UV is irradiated from the TFT side substrate 110 side, the UV reaches the sealing material 190. . Therefore, as shown in FIG. 7, in this embodiment, UV irradiation is performed from the TFT side substrate 110 side.

前記の様な構成を有する表示パネルを、前記の様な製造工程で作製することにより、第1の実施形態の場合と同様に、以下の効果が得られる。即ち、表示パネルの周縁部のシール材190による接着部分と重なる位置に透明配線320を配線することにより、画像を表示しない額縁部分を狭くすることができる。この際、透明配線320を多層配線とすることで、更なる狭額縁化を図ることができる。   By manufacturing the display panel having the above-described configuration through the manufacturing process as described above, the following effects can be obtained as in the case of the first embodiment. That is, the frame portion that does not display an image can be narrowed by wiring the transparent wiring 320 at a position that overlaps the bonding portion of the peripheral portion of the display panel by the sealing material 190. At this time, the transparent wiring 320 can be a multilayer wiring so that the frame can be further narrowed.

また、ODF法による製造工程において、透明配線320に透明な導電体を用いることで、シール材190を硬化させるためのUV照射をTFT側基板110側から行っても、UVをシール材190に十分に到達させることができる。このため、確実にシール材190を硬化させて、TFT側基板110及びCF側基板150を接着し、液晶分子225を封止することができる。   In addition, by using a transparent conductor for the transparent wiring 320 in the manufacturing process by the ODF method, UV is sufficiently applied to the sealing material 190 even when UV irradiation for curing the sealing material 190 is performed from the TFT side substrate 110 side. Can be reached. For this reason, the sealing material 190 can be reliably cured, the TFT side substrate 110 and the CF side substrate 150 can be bonded, and the liquid crystal molecules 225 can be sealed.

前記の通り、シール材190を硬化させるためのUV照射を、TFT側基板110側から行えるので、第1の実施形態の場合と異なり、BM160を本表示パネルの端部まで配置することができる。このため本表示パネルの周縁部において、光漏れによる不要な光を使用者に観察させないための遮光を十分に行うことができる。   As described above, since UV irradiation for curing the sealing material 190 can be performed from the TFT side substrate 110 side, unlike the case of the first embodiment, the BM 160 can be disposed up to the end of the display panel. For this reason, light shielding for preventing the user from observing unnecessary light due to light leakage can be sufficiently performed at the peripheral edge of the display panel.

以上の様に、本実施形態に依れば、狭額縁化を図りつつ周縁部での光漏れがなく表示品位が良い液晶表示装置を提供することができる。また、当該液晶表示装置のODF法を用いた製造において、UV硬化性樹脂により確実に当該液晶表示装置の周縁部での接着及び液晶分子の封止を実施できる製造方法を提供できる。   As described above, according to the present embodiment, it is possible to provide a liquid crystal display device having a good display quality without light leakage at the peripheral edge while achieving a narrow frame. In addition, in the production of the liquid crystal display device using the ODF method, a production method capable of reliably performing adhesion and sealing of liquid crystal molecules at the peripheral portion of the liquid crystal display device with a UV curable resin can be provided.

尚、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除しても、発明が解決しようとする課題の欄で述べられた課題が解決でき、かつ、発明の効果が得られる場合には、この構成要素が削除された構成も発明として抽出され得る。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, even if some constituent elements are deleted from all the constituent elements shown in the embodiment, the problem described in the column of problems to be solved by the invention can be solved and the effect of the invention can be obtained. The configuration in which this component is deleted can also be extracted as an invention. Furthermore, constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.

110…TFT側基板、111…画素電極、112…TFT、113…走査線、114…信号線、120…メタル配線、125…TFTレイヤ、130…絶縁膜、140…配向膜、150…CF側基板、160…BM、165…CFレイヤ、180…配向膜、190…シール材、200…透明板、210…化粧枠、220…液晶層、225…液晶分子、230…散布スペーサ、240…柱スペーサ、320…透明配線。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 110 ... TFT side substrate, 111 ... Pixel electrode, 112 ... TFT, 113 ... Scanning line, 114 ... Signal line, 120 ... Metal wiring, 125 ... TFT layer, 130 ... Insulating film, 140 ... Alignment film, 150 ... CF side substrate , 160 ... BM, 165 ... CF layer, 180 ... alignment film, 190 ... sealing material, 200 ... transparent plate, 210 ... decorative frame, 220 ... liquid crystal layer, 225 ... liquid crystal molecule, 230 ... dispersion spacer, 240 ... column spacer, 320: Transparent wiring.

Claims (8)

観察側基板と、
前記観察側基板と対向する裏面側基板と、
前記観察側基板と前記裏面側基板との周縁部において、前記観察側基板と前記裏面側基板とを一定の間隙を有して貼り合せるシール材と、
前記観察側基板と前記裏面側基板との間隙の前記シール材に囲まれた空間に封止された液晶分子により構成される液晶層と、
前記裏面側基板の前記液晶層側の面の画像を表示しない周縁部である額縁部に形成された導電線と、
を具備し、
前記導電線は、前記裏面側基板上に絶縁膜を介して互いに重なり合うように多層に配線されており、
前記額縁部に、前記シール材と前記導電線とが観察側から見て重なり合う位置に配置されており、
前記観察側基板から前記シール材までの間に遮光物がなく前記観察側基板の側から照射した紫外線光が前記シール材に到達し、
前記シール材は紫外線硬化性樹脂であり、
前記観察側基板には、前記シール材の上部を除いた一部の領域に遮光物が配置されており、
記観察側基板の更に観察側に、透明板が配置されており、
前記透明板の、前記観察側基板の前記遮光物がない部分と重なり合う位置に、遮光部材が配置されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。
An observation side substrate;
A back side substrate facing the observation side substrate;
A sealing material for bonding the observation side substrate and the back side substrate with a certain gap at the periphery of the observation side substrate and the back side substrate;
A liquid crystal layer composed of liquid crystal molecules sealed in a space surrounded by the sealing material in the gap between the observation side substrate and the back side substrate;
Conductive lines formed on a frame portion that is a peripheral portion that does not display an image of the surface on the liquid crystal layer side of the back side substrate;
Comprising
The conductive lines are wired in multiple layers on the back side substrate so as to overlap each other via an insulating film,
In the frame portion, the sealing material and the conductive wire are arranged at a position where they overlap when viewed from the observation side,
UV light irradiated from the side of the observation side substrate without the light shielding material between the observation side substrate and the sealing material reaches the sealing material,
The sealing material is an ultraviolet curable resin,
In the observation side substrate, a light blocking object is disposed in a part of the area excluding the upper part of the sealing material,
Further observation side before Symbol observation side substrate is disposed a transparent plate,
A light-shielding member is disposed at a position of the transparent plate that overlaps the portion of the observation-side substrate where there is no light-shielding object.
A liquid crystal display device characterized by the above.
前記裏面側基板上に前記絶縁膜を介して互いに重なり合うように多層に配線された前記導電線は、メタル配線であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the conductive lines wired in multiple layers on the back side substrate so as to overlap each other via the insulating film are metal wirings. 前記液晶層の厚さを規定するスペーサを前記観察側基板と前記裏面側基板との間に、さらに具備し、
前記スペーサは、前記液晶層の厚さと等しい高さを有する散布スペーサであることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。
A spacer for defining the thickness of the liquid crystal layer is further provided between the observation side substrate and the back side substrate,
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the spacer is a scattering spacer having a height equal to a thickness of the liquid crystal layer.
前記液晶層の厚さを規定するスペーサを前記観察側基板と前記裏面側基板との間に、さらに具備し、
前記スペーサは、前記液晶層の厚さと等しい高さを有する柱スペーサであることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。
A spacer for defining the thickness of the liquid crystal layer is further provided between the observation side substrate and the back side substrate,
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the spacer is a column spacer having a height equal to a thickness of the liquid crystal layer.
裏面側基板上に、絶縁膜を介して多層に配線された導電線を含む第1の構成要素を配した裏面側レイヤを形成し、
前記裏面側レイヤ上の前記導電線と重なり合う位置にシール材を塗布し、
前記裏面側レイヤ上の前記シール材に囲まれた位置に液晶分子を塗布し、
観察側基板上に、遮光物を含む第2の構成要素及び液晶層の厚さを規定するスペーサを配した観察側レイヤを形成し、
前記観察側基板の前記観察側レイヤを形成した面と前記裏面側基板の前記液晶分子を塗布した面とを、前記シール材の上部を除いた一部の領域に前記遮光物が配置されるように真空中で重ね合わせ、
大気圧下で前記観察側基板側から紫外線光を照射して前記シール材を硬化させ、
前記観察側基板の更に観察側に、前記観察側基板の前記遮光物がない部分と重なり合う位置に遮光部材が配置されている、透明板を配置する、
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
On the back side substrate, a back side layer in which a first component including conductive lines wired in multiple layers via an insulating film is disposed,
Apply a sealing material at a position overlapping the conductive line on the back side layer,
Applying liquid crystal molecules to a position surrounded by the sealing material on the back side layer,
On the observation-side substrate, a second component including a light blocking object and an observation-side layer in which a spacer that defines the thickness of the liquid crystal layer is arranged are formed.
The light-shielding object is arranged in a part of the surface of the observation side substrate except the upper part of the sealing material between the surface on which the observation side layer is formed and the surface of the back side substrate on which the liquid crystal molecules are applied. In a vacuum,
Irradiate ultraviolet light from the observation side substrate side under atmospheric pressure to cure the sealing material,
Further, on the observation side of the observation side substrate, a light shielding member is arranged at a position overlapping with a portion of the observation side substrate where there is no light shielding material, a transparent plate is disposed,
A method for manufacturing a liquid crystal display device.
前記裏面側基板上に前記絶縁膜を介して多層に配線された前記導電線は、メタル配線であり、
前記観察側基板の側から照射した前記紫外線光の一部を、前記メタル配線からの反射光として前記シール材を硬化させることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置の製造方法。
The conductive lines wired in multiple layers on the back side substrate via the insulating film are metal wirings,
The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 5, wherein the sealing material is cured by using a part of the ultraviolet light irradiated from the side of the observation side substrate as reflected light from the metal wiring.
前記スペーサは、前記液晶層の厚さと等しい高さを有する散布スペーサであり、
前記観察側レイヤの形成は、
前記観察側基板上に、前記第2の構成要素である基部観察側レイヤを形成し、
前記基部観察側レイヤ上に前記散布スペーサを塗布して固着させる、
工程を含む、
ことを特徴とする請求項5又は6に記載の液晶表示装置の製造方法。
The spacer is a scattering spacer having a height equal to the thickness of the liquid crystal layer,
The formation of the observation side layer is as follows:
Forming a base observation side layer as the second component on the observation side substrate;
Apply and fix the scattering spacer on the base observation side layer,
Including steps,
A method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 5 or 6.
前記スペーサは、前記液晶層の厚さと等しい高さを有する柱スペーサであることを特徴とする請求項5又は6に記載の液晶表示装置の製造方法。   The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 5, wherein the spacer is a column spacer having a height equal to a thickness of the liquid crystal layer.
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