JP5360675B2 - 表示素子の製造方法、及び表示素子の製造装置 - Google Patents
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Description
そこで、隔壁を基板に簡易に作る技術を提供し、高精度な駆動回路を可撓性の基板に形成する表示素子用の製造装置及び製造方法を提供する。
図1(a)は、有機EL素子50の拡大上面図であり、図1(b)及び(c)は、(a)のb−b断面図及びc−c断面図である。この実施形態では有機EL素子50はボトムコンタクト型であるが、トップコンタクト型でも適用できる。
図2は、可撓性のシート基板FBに、図1で示された有機EL素子50を製造する製造装置100の構成を示された概略図である。
供給ロールRLから送り出されたシート基板FBは、最初にシート基板FBに隔壁BAを形成する隔壁形成工程NIに入る。隔壁形成工程NIには、第1インプリントローラ10及びステージ15が設けられている。第1インプリントローラ10のローラ表面は鏡面仕上げされており、そのローラ表面にSiC、Taなどの材料で構成された微細インプリント用モールド11が取り付けられている。微細インプリント用モールド11は、薄膜トランジスタの配線用の凹凸パターンを形成している。また、微細インプリント用モールド11は、アライメントマークAM用の凹凸パターンを形成している。
シート基板FBは、さらにX軸方向に進むと電極形成工程TRに入る。電極形成工程TRでは、有機半導体を用いた薄膜トランジスタを形成する。この有機半導体を用いて薄膜トランジスタを構成すれば、印刷技術や液滴塗布法技術を活用して薄膜トランジスタを形成できる。また、有機半導体を用いた薄膜トランジスタの内、図1で示されたような電界効果型トランジスタ(FET)が特に好ましい。
有機EL素子用の製造装置100は、画素電極P上に有機EL素子の発光層IRの形成工程を引き続き行う。発光層形成工程EMでも、発光層用の液滴塗布装置20(赤色発光層用の液滴塗布装置20Re、緑色発光層用の液滴塗布装置20Gr、青色発光層用の液滴塗布装置20BL)を使用する。
続いて、緑色発光層用の液滴塗布装置20Grは、G溶液を画素電極P上に塗布する。G溶液は、ホスト材PVKに緑ドーパント材を1、2−ジクロロエタン中に溶解した溶液とする。
その後、熱処理装置BKで熱風又は遠赤外線などの放射熱などにより発光層溶液を乾燥し硬化させる。
<<実施形態1>>
次に隔壁形成工程NIの実施形態1について説明する。
図3は実施形態1の隔壁形成工程NIの拡大概念図である。図3に示された第1インプリントローラ10は、不図示のサーボモータでY軸方向に回転可能である。第1インプリントローラ10の表面はサブミクロンの表面粗さで形成されている。第1インプリントローラ10の表面に微細インプリント用モールド11が貼り付けられている。微細インプリント用モールド11は、図1で示された隔壁BAを形成するため凹凸パターンを有している。この凹凸パターンは隔壁BAを反転されたパターンであり、凸の隔壁BAに対応する微細インプリント用モールド11の領域は凹んでいる。
供給ローラ制御部94は上流供給ローラ45と下流供給ローラ46とに接続されている。ステージ制御部93はテーブル16の上下動及び水平移動を制御する。
また同時に、ステップS15において端子用ローラ10BがY軸方向に回転し、シート基板FBに走査駆動回路57の隔壁BAが形成される。
以上のような動作を繰り返す。但しステップS15の端子用ローラ10Bの回転は逆転する。
次に隔壁形成工程NIの実施形態2について図8を使って説明する。特に図3で示された隔壁形成工程NIと異なる箇所を説明し同じ箇所には同じ符号を付している。また、図8に示す第1インプリントローラ10は、図5で示された画素電極用ローラ10A及び端子用ローラ10Bが設けられている。
また、実施形態1又実施形態2においてシート基板FBに微細インプリント用モールド11を押圧して熱を与えて隔壁BAを形成する例を示したが、紫外線硬化性樹脂を塗布して微細インプリント用モールド11を押圧して紫外線を照射することで隔壁BAを形成してもよい。
11 … 微細インプリント用モールド、11P … 端部
12 … ローラ上下駆動装置
15 … 熱転写ローラ
18 … 第2インプリントローラ
20 … 液滴塗布装置
20BL … 青色発光層用の液滴塗布装置
20G … ゲート用液滴塗布装置
20Gr … 緑色発光層用の液滴塗布装置
20I … 絶縁層用の液滴塗布装置
20Re … 赤色発光層用の液滴塗布装置
20IT … ITO電極用の液滴塗布装置
20OS … 有機半導体液滴塗布装置
30 … 切断装置
41 … アライメントカメラ
44 … 上流ローラ、45 … 上流供給ローラ、46 … 下流供給ローラ、47 … 下流ローラ、48 … 駆動ローラ
50 … 有機EL素子
51 … 表示領域
55 … 信号線駆動回路、57 … 走査駆動回路
61 … 洗浄部
90 … 主制御部
91 … 第1インプリントローラ制御部
92 … カメラ制御部
93 … ステージ制御部
94 … 供給ローラ制御部
98 … 第1インプリントローラ制御部
100 … 製造装置
AM … アライメントマーク
BA … 隔壁
BF … シートバッファ領域
BK … 熱処理装置
D … ドレイン電極
FB … シート基板
G … ゲート電極、GBL ゲートバスライン
I … 絶縁層
IR … 発光層
ITO 透明電極
LL … レーザー光
OS … 有機半導体層
P … 画素電極
RL … 供給ロール
RR … ローラ
S … ソース電極、SBL ソースバスライン
Claims (20)
- 可撓性の基板上に表示素子を形成する表示素子の製造装置において、
前記可撓性の基板を第1方向に搬送する搬送部と、
前記第1方向と交差する第2方向に回転して前記可撓性の基板に前記表示素子用の隔壁を形成する第1の隔壁形成ローラ部と、を有し、
該第1の隔壁形成ローラ部は、前記第1方向に関して互いに異なる位置に配置されて、前記表示素子の前記第1方向の中央領域の隔壁を形成する第1ローラ部と、前記表示素子の前記第1方向の周辺領域の隔壁を形成する第2ローラ部とを備えることを特徴とする表示素子の製造装置。 - 前記可撓性の基板を挟んで前記第1の隔壁形成ローラ部の反対側に設けられ、前記可撓性の基板を保持するステージと、
前記搬送部が前記可撓性の基板を前記第1方向に搬送している際は、前記可撓性の基板と前記ステージとを離間させ、前記隔壁を形成する際には前記可撓性の基板と前記ステージとを当接させる第1駆動部と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の表示素子の製造装置。 - 前記第1ローラ部または前記第2ローラ部が形成する前記表示素子用の隔壁と次の隔壁との境目を検出するアライメント部を備えることを特徴とする請求項2に記載の表示素子の製造装置。
- 前記アライメント部が検出した境目に基づいて前記ステージを前記第1方向に移動させる第2駆動部を備えることを特徴とする請求項3に記載の表示素子の製造装置。
- 前記第1の隔壁形成ローラ部の表面に凹凸パターンが形成されており、この凹凸パターンのために、前記第1の隔壁形成ローラ部の回転方向にジグザグ形状または波形状で形成された前記第1方向の端部は、境目を目立たなくするように形成されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の表示素子の製造装置。
- 前記第1方向に回転して前記可撓性の基板に前記表示素子用の第2方向の両側の隔壁を形成する第2の隔壁形成ローラ部を備えることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の表示素子の製造装置。
- 前記第2の隔壁形成ローラ部がアライメントマークを形成することを特徴とする請求項6に記載の表示素子の製造装置。
- 前記隔壁は硬化性樹脂が硬化されて形成されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の表示素子の製造装置。
- 前記隔壁間の所定の位置に導電部材を塗布する塗布部を備えることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の表示素子の製造装置。
- 表示素子を可撓性の基板に形成する表示素子の製造方法において、
前記可撓性の基板を第1方向に搬送する搬送工程と、
第1の隔壁形成ローラ部を前記第1方向と交差する第2方向に回転させて前記可撓性の基板に隔壁を形成する隔壁形成工程と、を含み、
前記第1の隔壁形成ローラ部は、前記第1方向に関して互いに異なる位置に配置されて、前記表示素子の前記第1方向の中央領域の隔壁を形成する為の第1ローラ部と、前記表示素子の前記第1方向の周辺領域の隔壁を形成する為の第2ローラ部とを備え、
前記隔壁形成工程において、前記第1ローラ部と前記第2ローラ部とを前記第2方向に回転させて前記可撓性の基板に隔壁を形成することを特徴とする表示素子の製造方法。 - 前記表示素子は矩形の表示領域とその表示領域の周辺に前記第1方向及び前記第2方向に伸びる端子領域とを有し、
前記隔壁形成工程は前記可撓性の基板に前記第1方向に伸びる端子領域の隔壁とこの端子領域の隔壁の前記第2方向の外側に基準マークを形成することを特徴とする請求項10に記載の表示素子の製造方法。 - 前記隔壁形成工程の際に、前記第1ローラ部が前記第2方向に回転して1度目の隔壁を形成した後、前記搬送工程によって前記可撓性の基板を第1方向に所定距離搬送させた後、前記第1ローラ部と前記第2ローラ部のいずれか一方を前記第2方向に回転することで2度目の隔壁を形成することを特徴とする請求項10または11に記載の表示素子の製造方法。
- 前記隔壁形成工程は、隣り合う前記第2方向に伸びる端子領域の隔壁を形成する工程と前記表示領域の隔壁を形成する工程とを有することを特徴とする請求項12に記載の表示素子の製造方法。
- 前記第1ローラ部または前記第2ローラ部の表面に凹凸パターンが形成されており、この凹凸パターンの前記第1方向の端部は、境目を目立たなくするために、前記第1ローラ部または前記第2ローラ部の回転方向にジグザグ形状または波形状に形成されていることを特徴とする請求項10から請求項13のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。
- アライメント部で、前記第1ローラ部または前記第2ローラ部が形成する前記表示素子用の隔壁と次の隔壁との境目を検出することを特徴とする請求項10ないし請求項14のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。
- 前記隔壁形成工程は、第2の隔壁形成ローラ部を前記第1方向に回転して前記可撓性の基板に前記表示素子用の第2方向の両側の隔壁を形成することを特徴とする請求項10から請求項15のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。
- 前記第2の隔壁形成ローラ部がアライメントマークを形成することを特徴とする請求項16に記載の表示素子の製造方法。
- 前記可撓性の基板は、ロール状に巻かれた帯状連続基板から、前記第1方向に送り出されることを特徴とする請求項10ないし請求項17のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。
- 前記隔壁は硬化性樹脂を使って形成されることを特徴とする請求項10から請求項18のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。
- 前記隔壁間の所定の位置に導電部材を塗布する塗布工程を含むことを特徴とする請求項10から請求項19のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。
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