JP5360323B1 - Viscosity agent thickness adjusting device, mounting device, and manufacturing method of substrate device - Google Patents

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Abstract

【課題】粘性剤中の異物によって回転部上の粘性剤の厚みが不均一となることを抑制し、且つ回転部の内周側又は外周側へ流れてしまう粘性剤量を低減する。
【解決手段】粘性剤をのせた回転部と、該回転部の回転方向に対して傾斜して設けられ、該粘性剤の厚さを一定にし、該粘性剤中の異物を該回転部の内周側又は外周側へ案内する案内部と、該案内部における該回転方向の下流端部に接続され、該案内部の傾斜により該粘性剤が該内周側又は外周側に流れるのを制限する制限部と、該案内部と該制限部との接続部に設けられ該異物を通過させる開口部と、を備える。
【選択図】図3
An object of the present invention is to suppress non-uniform thickness of a viscous agent on a rotating part due to foreign matter in the viscous agent and to reduce the amount of the viscous agent that flows to the inner peripheral side or outer peripheral side of the rotating part.
A rotating part on which a viscous agent is placed and an inclined part with respect to the rotation direction of the rotating part, the thickness of the viscous agent being made constant, and foreign matter in the viscous agent inside the rotating part It is connected to the guide part that guides to the peripheral side or the outer peripheral side, and the downstream end part of the guide part in the rotational direction, and the inclination of the guide part restricts the flow of the viscous agent to the inner peripheral side or the outer peripheral side. A restricting portion, and an opening provided at a connecting portion between the guide portion and the restricting portion and allowing the foreign matter to pass therethrough.
[Selection] Figure 3

Description

本発明は、粘性剤厚調整装置、搭載装置、基板装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a viscosity agent thickness adjusting device, a mounting device, and a substrate device.

特許文献1には、導電性樹脂ペーストを一定の厚さにするスキージが、テーブルの半径方向に対してテーブルの回転方向と逆方向側に傾けて設けられた構成が開示されている。   Patent Document 1 discloses a configuration in which a squeegee for making a conductive resin paste with a certain thickness is provided to be inclined in the direction opposite to the rotation direction of the table with respect to the radial direction of the table.

特開平6−112242号公報JP-A-6-112242

本発明は、粘性剤中の異物によって回転部上の粘性剤の厚みが不均一となることを抑制し、且つ回転部の内周側又は外周側へ流れてしまう粘性剤量を低減することを課題とする。   The present invention suppresses the non-uniform thickness of the viscous agent on the rotating part due to foreign matter in the viscous agent, and reduces the amount of the viscous agent that flows to the inner peripheral side or outer peripheral side of the rotating part. Let it be an issue.

請求項1の発明は、粘性剤をのせた回転部と、該回転部の回転方向に対して傾斜して設けられ、該粘性剤の厚さを一定にし、該粘性剤中の異物を該回転部の内周側又は外周側へ案内する案内部と、該案内部における該回転方向の下流端部に接続され、該案内部の傾斜により該粘性剤が該内周側又は外周側に流れるのを制限する制限部と、該案内部と該制限部との接続部に設けられ該異物を通過させる開口部と、を備える。   The invention of claim 1 is provided with a rotating part on which a viscous agent is placed, and an inclination with respect to the rotation direction of the rotating part, the thickness of the viscous agent is made constant, and foreign matter in the viscous agent is rotated. Connected to the inner peripheral side or the outer peripheral side of the part and the downstream end of the guide part in the rotational direction, and the viscous agent flows to the inner peripheral side or the outer peripheral side due to the inclination of the guide part. A restricting portion that restricts the amount of the foreign matter, and an opening that is provided at a connecting portion between the guide portion and the restricting portion and allows the foreign matter to pass therethrough.

請求項2の発明では、前記案内部は、前記異物を前記回転部の外周側へ案内し、前記制限部は、前記案内部の傾斜により前記粘性剤が外周側に流れるのを制限する。   According to a second aspect of the present invention, the guide portion guides the foreign matter to the outer peripheral side of the rotating portion, and the restricting portion restricts the viscous agent from flowing to the outer peripheral side due to the inclination of the guide portion.

請求項3の発明は、部品を位置決めする部品位置決め部と、基板を位置決めする基板位置決め部と、請求項1又は2に記載の粘性剤厚調整装置と、前記粘性剤厚調整装置の回転部にのせられた粘性剤としての接合剤を、前記基板位置決め部に位置決めされた基板に転写する転写部と、前記転写部で転写された接合剤上に、前記部品位置決め部で位置決めされた前記部品を移送する移送機構と、を備える。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a component positioning unit for positioning a component, a substrate positioning unit for positioning a substrate, the viscous agent thickness adjusting device according to claim 1 or 2, and a rotating unit of the viscous agent thickness adjusting device. A transfer unit that transfers the adhesive as a viscous agent placed on the substrate positioned on the substrate positioning unit; and the component positioned by the component positioning unit on the bonding agent transferred by the transfer unit. A transfer mechanism for transferring.

請求項4の発明は、請求項3に記載の搭載装置の前記部品位置決め部によって前記部品を位置決めする部品位置決め工程と、前記基板位置決め部によって前記基板を位置決めする基板位置決め工程と、前記粘性剤厚調整装置の回転部にのせられた接合剤を、前記転写部によって前記基板位置決め部に位置決めされた前記基板に転写する接合剤転写工程と、前記転写部で転写された接合剤上に、前記部品位置決め工程で位置決めされた前記部品を前記移送機構によって移送する移送工程と、を有する。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a component positioning step of positioning the component by the component positioning portion of the mounting apparatus according to claim 3, a substrate positioning step of positioning the substrate by the substrate positioning portion, and the viscosity agent thickness. A bonding agent transfer step of transferring the bonding agent placed on the rotating portion of the adjusting device to the substrate positioned on the substrate positioning portion by the transfer portion; and the component on the bonding agent transferred by the transfer portion. A transfer step of transferring the parts positioned in the positioning step by the transfer mechanism.

本発明の請求項1の構成によれば、本構成における開口部及び制限部を備えない場合に比べ、粘性剤中の異物によって回転部上の粘性剤の厚みが不均一となることを抑制し、且つ回転部の内周側又は外周側へ流れてしまう粘性剤量を低減できる。   According to the configuration of the first aspect of the present invention, compared with the case where the opening and the limiting portion in the present configuration are not provided, it is possible to prevent the thickness of the viscous agent on the rotating portion from becoming uneven due to the foreign matter in the viscous agent. In addition, the amount of the viscous agent that flows to the inner peripheral side or the outer peripheral side of the rotating part can be reduced.

本発明の請求項2の構成によれば、回転部における遠心力を利用して異物を効果的に移動させることができる。   According to the structure of Claim 2 of this invention, a foreign material can be moved effectively using the centrifugal force in a rotation part.

本発明の請求項3の構成によれば、本構成における粘性剤厚調整装置を備えない場合に比べ、基板に対する部品の接合不良を抑制できる。   According to the structure of Claim 3 of this invention, compared with the case where the viscosity agent thickness adjustment apparatus in this structure is not provided, the joining defect of the components with respect to a board | substrate can be suppressed.

本発明の請求項4の製造方法によれば、本製造方法における接合剤転写工程を有しない場合に比べ、基板に対する部品の接合不良を抑制できる。   According to the manufacturing method of Claim 4 of this invention, compared with the case where it does not have the bonding agent transcription | transfer process in this manufacturing method, the joining defect of the components with respect to a board | substrate can be suppressed.

本実施形態に係る製造装置の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the manufacturing apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る接合剤供給装置の構成を示す図3(A)のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line of FIG. 3 (A) which shows the structure of the bonding agent supply apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る接合剤供給装置の構成を示す図である。(A)は平面図であり、(B)は側面図である。It is a figure which shows the structure of the bonding agent supply apparatus which concerns on this embodiment. (A) is a plan view and (B) is a side view. 本実施形態に係る調整部材の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the adjustment member which concerns on this embodiment. 図4に示す調整部材のヘッド部材の構成を示す図である。(A)は正面図であり、(B)は側面図であり、(C)は底面図である。It is a figure which shows the structure of the head member of the adjustment member shown in FIG. (A) is a front view, (B) is a side view, and (C) is a bottom view. 本実施形態に係る、半導体素子のプリント配線基板への搭載に用いられるコレットの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the collet used for mounting to the printed wiring board of the semiconductor element based on this embodiment. 図6に示すコレットの側断面図である。It is a sectional side view of the collet shown in FIG. プリント配線基板に半導体素子が搭載された状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state by which the semiconductor element was mounted in the printed wiring board. 比較例に係る接合剤供給装置の構成を示す図である。(A)は平面図であり、(B)は側面図である。It is a figure which shows the structure of the bonding agent supply apparatus which concerns on a comparative example. (A) is a plan view and (B) is a side view. 変形例に係る調整部材の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the adjustment member which concerns on a modification. 変形例に係る調整部材のヘッド部材の構成を示す底面図である。It is a bottom view which shows the structure of the head member of the adjustment member which concerns on a modification.

以下に、本発明に係る実施形態の一例を図面に基づき説明する。   Below, an example of an embodiment concerning the present invention is described based on a drawing.

(製造装置10)
まず、本実施形態に係る製造装置10の構成を説明する。図1は、製造装置10の構成を示す斜視図である。なお、下記のX方向、−X方向、Y方向、−Y方向、Z方向(上方)及び−Z方向(下方)は、図中に示す矢印方向である。また、特記する場合を除き、「X方向」は「X方向または−X方向」、「Y方向」は「Y方向または−Y方向」、「Z方向」は「Z方向または−Z方向」の意である。また、図中の「○」の中に「×」が記載されたものは、紙面の手前から奥へ向かう矢印を意味し、図中の「○」の中に「・」が記載されたものは、紙面の奥から手前へ向かう矢印を意味する。
(Manufacturing apparatus 10)
First, the configuration of the manufacturing apparatus 10 according to the present embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of the manufacturing apparatus 10. In addition, the following X direction, -X direction, Y direction, -Y direction, Z direction (upward) and -Z direction (downward) are arrow directions shown in the figure. Unless otherwise specified, “X direction” is “X direction or −X direction”, “Y direction” is “Y direction or −Y direction”, and “Z direction” is “Z direction or −Z direction”. I mean. In addition, “x” in “○” in the figure means an arrow from the front to the back of the page, and “•” in “○” in the figure. Means an arrow heading from the back of the page to the front.

製造装置10は、プリント配線基板装置(基板装置の一例)を製造する製造装置であり、図1に示されるように、半導体素子12(部品の一例)を供給する供給部13と、半導体素子12を位置決めする素子位置決め部20(部品位置決め部の一例)と、プリント配線基板44(基板の一例)を位置決めする基板位置決め部40と、を備えている。   The manufacturing apparatus 10 is a manufacturing apparatus that manufactures a printed wiring board device (an example of a board device). As illustrated in FIG. 1, a supply unit 13 that supplies a semiconductor element 12 (an example of a component), and the semiconductor element 12. Element positioning unit 20 (an example of a component positioning unit) and a board positioning unit 40 that positions a printed wiring board 44 (an example of a board).

製造装置10は、さらに、半導体素子12を接合するための接合剤G(粘性剤の一例)をプリント配線基板44に供給する接合剤供給装置110と、供給部13から素子位置決め部20へ半導体素子12を移送する移送装置50と、素子位置決め部20で位置決めされた半導体素子12を基板位置決め部40で位置決めされたプリント配線基板44へ移送する移送装置60(移送機構の一例)と、を備えている。   The manufacturing apparatus 10 further includes a bonding agent supply device 110 that supplies a bonding agent G (an example of a viscous agent) for bonding the semiconductor elements 12 to the printed wiring board 44, and a semiconductor element from the supply unit 13 to the element positioning unit 20. And a transfer device 60 (an example of a transfer mechanism) for transferring the semiconductor element 12 positioned by the element positioning unit 20 to the printed wiring board 44 positioned by the substrate positioning unit 40. Yes.

また、製造装置10は、製造装置10の各構成部分(供給部13、素子位置決め部20、基板位置決め部40、接合剤供給装置110、移送装置50、移送装置60)の動作(駆動)を制御する制御部90を備えている。   Further, the manufacturing apparatus 10 controls the operation (drive) of each component of the manufacturing apparatus 10 (the supply unit 13, the element positioning unit 20, the substrate positioning unit 40, the bonding agent supply device 110, the transfer device 50, and the transfer device 60). A control unit 90 is provided.

製造装置10では、半導体素子12をプリント配線基板44に搭載する搭載装置100が、素子位置決め部20と、基板位置決め部40と、接合剤供給装置110と、移送装置60と、を有して構成されている。   In the manufacturing apparatus 10, the mounting apparatus 100 for mounting the semiconductor element 12 on the printed wiring board 44 includes the element positioning unit 20, the board positioning unit 40, the bonding agent supply device 110, and the transfer device 60. Has been.

(半導体素子12)
搭載装置100(製造装置10)によってプリント配線基板44に搭載(実装)される半導体素子12としては、例えば、長尺に形成された断面四角形状の半導体素子(例えば、LEDチップ)が用いられる(図6参照)。具体的には、半導体素子12は、例えば、幅(Y方向長さ)125μm、長さ(X方向長さ)6mm、高さ(Z方向長さ)300μmとされている。さらに、半導体素子12は、断面形状が平行四辺形をしている(図7参照)。また、半導体素子12の表面(上面)には、回路パターンや発光素子等の機能部11(図8参照)が設けられている。
(Semiconductor element 12)
As the semiconductor element 12 mounted (mounted) on the printed wiring board 44 by the mounting apparatus 100 (manufacturing apparatus 10), for example, an elongated semiconductor element (for example, an LED chip) having a rectangular cross section is used (for example, LED chip). (See FIG. 6). Specifically, the semiconductor element 12 has, for example, a width (Y direction length) of 125 μm, a length (X direction length) of 6 mm, and a height (Z direction length) of 300 μm. Furthermore, the semiconductor element 12 has a parallelogram cross-sectional shape (see FIG. 7). Further, a functional part 11 (see FIG. 8) such as a circuit pattern or a light emitting element is provided on the surface (upper surface) of the semiconductor element 12.

(供給部13)
図1に示されるように、供給部13は、ウエハ14を保持する保持部15と、保持部15をX方向及びY方向へ移動させる移動機構17と、を備えている。供給部13では、保持部15が保持するウエハ14が切断されることにより、ウエハ14から複数の半導体素子12が切り出されるようになっている。また、供給部13では、移動機構17が保持部15をX方向及びY方向へ移動させることで、搭載対象の半導体素子12を移送装置50による予め定められたピックアップ位置に位置させるようになっている。
(Supply unit 13)
As shown in FIG. 1, the supply unit 13 includes a holding unit 15 that holds the wafer 14 and a moving mechanism 17 that moves the holding unit 15 in the X direction and the Y direction. In the supply unit 13, a plurality of semiconductor elements 12 are cut out from the wafer 14 by cutting the wafer 14 held by the holding unit 15. Further, in the supply unit 13, the moving mechanism 17 moves the holding unit 15 in the X direction and the Y direction, so that the semiconductor element 12 to be mounted is positioned at a predetermined pickup position by the transfer device 50. Yes.

なお、供給部13は、さらに、半導体素子12が載せられる台としてのトレイと、該トレイをX方向及びY方向へ移動させる移動機構と、該トレイへウエハ14から半導体素子12を移送する移送機構と、を有する構成であってもよい。この構成では、移送機構がウエハ14からトレイに半導体素子12を移送し、移動機構がトレイをX方向及びY方向へ移動させることで、トレイに載せられた半導体素子12を移送装置50による予め定められたピックアップ位置に位置させるようになっている。   The supply unit 13 further includes a tray on which the semiconductor element 12 is placed, a moving mechanism that moves the tray in the X direction and the Y direction, and a transfer mechanism that transfers the semiconductor element 12 from the wafer 14 to the tray. The structure which has these. In this configuration, the transfer mechanism transfers the semiconductor element 12 from the wafer 14 to the tray, and the moving mechanism moves the tray in the X direction and the Y direction, so that the semiconductor element 12 placed on the tray is predetermined by the transfer device 50. It is designed to be located at the picked-up position.

(移送装置50)
図1に示されるように、移送装置50は、吸引ノズル54で半導体素子12を吸引する吸引器52と、吸引器52を移動させる移動機構53と、を備えている。移送装置50では、吸引器52が、供給部13におけるピックアップ位置に位置する半導体素子12を吸引ノズル54で吸引することで半導体素子12を吸引ノズル54に保持する。そして、移送装置50では、半導体素子12を吸引ノズル54に保持した状態で、移動機構53によって吸引器52が矢印A方向に移動することで、後述の位置決め台30のプレート34上に半導体素子12を移送して、該プレート34上の仮置き位置に半導体素子12を仮置きするようになっている。なお、移送装置50の移動機構53としては、例えば、X方向、Y方向及びZ方向に移動可能な三軸ロボットが用いられる。
(Transfer device 50)
As shown in FIG. 1, the transfer device 50 includes a suction device 52 that sucks the semiconductor element 12 with the suction nozzle 54, and a moving mechanism 53 that moves the suction device 52. In the transfer device 50, the suction device 52 holds the semiconductor element 12 in the suction nozzle 54 by sucking the semiconductor element 12 located at the pickup position in the supply unit 13 with the suction nozzle 54. In the transfer device 50, the semiconductor element 12 is held on the plate 34 of the positioning table 30 to be described later by moving the suction device 52 in the arrow A direction by the moving mechanism 53 while the semiconductor element 12 is held by the suction nozzle 54. The semiconductor element 12 is temporarily placed at a temporary placement position on the plate 34. As the moving mechanism 53 of the transfer device 50, for example, a three-axis robot that can move in the X direction, the Y direction, and the Z direction is used.

(素子位置決め部20)
図1に示されるように、素子位置決め部20は、半導体素子12が載せられる台としての位置決め台30と、位置決め台30上に仮置きされた半導体素子12を予め定められた位置決め位置に位置決めする位置決め部材22と、位置決め部材22をX方向及びY方向へ移動させる移動機構29と、を備えている。
(Element positioning unit 20)
As shown in FIG. 1, the element positioning unit 20 positions a positioning table 30 as a table on which the semiconductor element 12 is placed and the semiconductor element 12 temporarily placed on the positioning table 30 at a predetermined positioning position. The positioning member 22 and a moving mechanism 29 that moves the positioning member 22 in the X direction and the Y direction are provided.

位置決め台30は、上部に開口部33を有する円筒部32と、円筒部32の開口部33に設けられたプレート34と、円筒部32の内部空間の空気を吸引して該内部空間を負圧にする吸引装置36と、を備えている。プレート34には、複数の吸引孔38が形成されている。この複数の吸引孔38は、プレート34を貫通しており、円筒部32の内部空間と通じている。   The positioning table 30 sucks the air in the internal space of the cylindrical portion 32 by sucking the internal space of the cylindrical portion 32 having the opening portion 33 in the upper portion, the plate 34 provided in the opening portion 33 of the cylindrical portion 32, and negative pressure in the internal space. A suction device 36. A plurality of suction holes 38 are formed in the plate 34. The plurality of suction holes 38 pass through the plate 34 and communicate with the internal space of the cylindrical portion 32.

位置決め部材22は、図1に示されるように、板状をしており、本体部22Aと、本体部22AからX方向に延び出た一対の爪部22Bと、を備えて構成されている。一対の爪部22Bは、その間に半導体素子12を配置可能にY方向に離れて設けられている。この一対の爪部22Bと本体部22Aとによって、位置決め部材22は、平面視(−Z方向視)にてコの字状(Uの字状)に構成されている。なお、位置決め部材22は、プレート34に吸着されて移動抵抗を受けないように、プレート34に対して非接触な状態を保って移動するようになっている。   As shown in FIG. 1, the positioning member 22 has a plate shape and includes a main body portion 22A and a pair of claw portions 22B extending from the main body portion 22A in the X direction. The pair of claw portions 22B are provided apart in the Y direction so that the semiconductor element 12 can be disposed therebetween. By the pair of claw portions 22B and the main body portion 22A, the positioning member 22 is configured in a U shape (U shape) in plan view (viewed in the −Z direction). The positioning member 22 is moved while maintaining a non-contact state with respect to the plate 34 so that the positioning member 22 is not attracted to the plate 34 and receives movement resistance.

位置決め部材22では、半導体素子12の側面12A(図6参照)の一方に対して、爪部22Bを突き当てて、半導体素子12を移動させ、予め定められた位置に半導体素子12を位置決め(位置出し)するようになっている。   In the positioning member 22, the claw portion 22B is abutted against one of the side surfaces 12A (see FIG. 6) of the semiconductor element 12 to move the semiconductor element 12, and the semiconductor element 12 is positioned (positioned) at a predetermined position. Out).

また、本実施形態では、一対の爪部22Bのいずれか一方を選択して半導体素子12の位置決めを行うようになっている。従って、位置決め部材22としては、一対の爪部22Bの一方を有さない構成であってもよい。   In the present embodiment, the semiconductor element 12 is positioned by selecting one of the pair of claw portions 22B. Therefore, the positioning member 22 may have a configuration without one of the pair of claw portions 22B.

(基板位置決め部40)
図1に示されるように、基板位置決め部40は、プリント配線基板44をX方向に搬送する一対の搬送部材(例えば、コンベア)42を備えている。一対の搬送部材42は、その間にプリント配線基板44が導入可能にY方向に離れて配置されている。
(Substrate positioning part 40)
As shown in FIG. 1, the board positioning unit 40 includes a pair of transport members (for example, conveyors) 42 that transport the printed wiring board 44 in the X direction. The pair of transport members 42 are arranged apart in the Y direction so that the printed wiring board 44 can be introduced therebetween.

基板位置決め部40では、一対の搬送部材42の間に導入されたプリント配線基板44が、一対の搬送部材42に対してX方向、Y方向、Z方向に位置決めされるようになっている。そして、一対の搬送部材42がプリント配線基板44をX方向に搬送することで、プリント配線基板44は、Y方向に位置決めされた状態で、後述のコレット70及び転写ピン142に対してX方向へ相対移動するようになっている。   In the board positioning unit 40, the printed wiring board 44 introduced between the pair of transport members 42 is positioned in the X direction, the Y direction, and the Z direction with respect to the pair of transport members 42. Then, the pair of conveying members 42 conveys the printed wiring board 44 in the X direction, so that the printed wiring board 44 is positioned in the Y direction in the X direction with respect to the collet 70 and the transfer pin 142 described later. It is designed to move relative.

(接合剤供給装置110)
接合剤供給装置110は、半導体素子12を接合するための接合剤Gをプリント配線基板44に供給する装置である。この接合剤供給装置110は、図2及び図3(A)に示されるように、接合剤Gの厚さを調整する接合剤厚調整装置120(粘性剤厚調整装置の一例)と、接合剤厚調整装置120によって厚さが調整された接合剤Gをプリント配線基板44に転写する転写部140と、を備えている。なお、図2は、図3(A)のA−A線断面図であり、図2における回転皿122は図3(A)のB−B線で切断した場合の構成を示すものである。
(Bonding agent supply device 110)
The bonding agent supply device 110 is a device that supplies a bonding agent G for bonding the semiconductor elements 12 to the printed wiring board 44. As shown in FIGS. 2 and 3A, the bonding agent supply device 110 includes a bonding agent thickness adjustment device 120 (an example of a viscosity agent thickness adjustment device) that adjusts the thickness of the bonding agent G, and a bonding agent. A transfer unit 140 that transfers the bonding agent G whose thickness is adjusted by the thickness adjusting device 120 to the printed wiring board 44. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 3A, and the rotating plate 122 in FIG. 2 shows a configuration when cut along the line BB in FIG. 3A.

接合剤厚調整装置120は、図3(A)(B)に示されるように、接合剤Gをのせた回転部の一例としての回転皿(回転板)122と、接合剤Gの厚さを調整する調整部材130と、を有している。なお、接合剤厚調整装置120によって厚さが調整される接合剤Gとしては、例えば、銀(Ag)を含むエポキシ系の接着剤が用いられる。また、接合剤Gは、例えば、ペースト状(粘度が比較的高い液状)に構成されている。   As shown in FIGS. 3 (A) and 3 (B), the bonding agent thickness adjusting device 120 adjusts the thickness of the rotating plate (rotary plate) 122 as an example of the rotating unit on which the bonding agent G is placed, and the thickness of the bonding agent G. And an adjusting member 130 to be adjusted. In addition, as the bonding agent G whose thickness is adjusted by the bonding agent thickness adjusting device 120, for example, an epoxy adhesive containing silver (Ag) is used. In addition, the bonding agent G is configured, for example, in a paste form (a liquid having a relatively high viscosity).

回転皿122は、図2に示されるように、上面側に溝部124を有する円盤状(円柱状)に構成されている。溝部124は、図3(A)に示されるように、平面視にて円環状(リング状)に形成されている。この円環状の溝部124によって、接合剤Gが収容される収容空間(収容部)が形成されている。この収容空間は、図2に示されるように、溝部124の底壁124Aと、溝部124の外周側の溝壁124B(以下、外周壁124Bという)と、溝部124の内周側の溝壁124C(以下、内周壁124Cという)と、で囲まれた空間となっている。この収容空間に収容された接合剤Gは、外周壁124Bと内周壁124Cとの間で、溝部124の底壁124Aにのせられた状態となっている。この回転皿122は、駆動部128によって、一方向(図3(A)における時計周り方向(矢印A方向))へ回転するようになっている。   As shown in FIG. 2, the rotating plate 122 is configured in a disk shape (columnar shape) having a groove portion 124 on the upper surface side. As shown in FIG. 3A, the groove 124 is formed in an annular shape (ring shape) in plan view. An accommodation space (accommodating portion) in which the bonding agent G is accommodated is formed by the annular groove portion 124. As shown in FIG. 2, the housing space includes a bottom wall 124A of the groove 124, a groove wall 124B on the outer peripheral side of the groove 124 (hereinafter referred to as an outer peripheral wall 124B), and a groove wall 124C on the inner peripheral side of the groove 124. (Hereinafter referred to as the inner peripheral wall 124C). The bonding agent G stored in the storage space is in a state of being placed on the bottom wall 124A of the groove 124 between the outer peripheral wall 124B and the inner peripheral wall 124C. The rotating plate 122 is rotated in one direction (clockwise direction in FIG. 3A (arrow A direction)) by the drive unit 128.

転写部140は、接合剤Gを転写する転写部材としての転写ピン142と、基板位置決め部40で位置決めされたプリント配線基板44と接合剤厚調整装置120の回転皿122との間で転写ピン142を移動させる移動機構144と、を備えている。転写ピン142は、水平方向に長さを有するブロック状(直方体状)に形成されている。また、転写ピン142は、接合剤Gを付着させるための底面142Aを有している。   The transfer unit 140 includes a transfer pin 142 as a transfer member for transferring the bonding agent G, a transfer pin 142 between the printed wiring board 44 positioned by the substrate positioning unit 40 and the rotating plate 122 of the bonding agent thickness adjusting device 120. And a moving mechanism 144 for moving the. The transfer pin 142 is formed in a block shape (cuboid shape) having a length in the horizontal direction. In addition, the transfer pin 142 has a bottom surface 142A for adhering the bonding agent G.

移動機構144は、転写ピン142をY方向及び上下方向(Z方向)に移動させるようになっている。移動機構144が転写ピン142を下方向(−Z方向)に移動させることにより、転写ピン142は、溝部124の上方の開口から溝部124内に降下して、回転皿122にのせられた接合剤Gを底面142Aに付着させるようになっている。転写ピン142は、具体的には、溝部124における径方向中央部の予め定められた転写領域に降下するように設定されている。   The moving mechanism 144 moves the transfer pin 142 in the Y direction and the vertical direction (Z direction). When the moving mechanism 144 moves the transfer pin 142 downward (−Z direction), the transfer pin 142 descends into the groove 124 from the opening above the groove 124, and the bonding agent placed on the rotating dish 122. G is attached to the bottom surface 142A. Specifically, the transfer pin 142 is set so as to descend to a predetermined transfer region in the central portion in the radial direction of the groove portion 124.

また、移動機構144が転写ピン142をY方向に移動させることにより、転写ピン142がプリント配線基板44に対してY方向へ相対移動するようになっている。すなわち、本実施形態では、移動機構144によって転写ピン142がY方向に移動し、基板位置決め部40の搬送部材42によってプリント配線基板44がX方向に移動することで、転写ピン142をプリント配線基板44に対してX方向、Y方向に相対移動させるようになっている。   In addition, the transfer mechanism 142 moves the transfer pin 142 in the Y direction, so that the transfer pin 142 moves relative to the printed wiring board 44 in the Y direction. That is, in this embodiment, the transfer pin 142 is moved in the Y direction by the moving mechanism 144, and the printed wiring board 44 is moved in the X direction by the transport member 42 of the board positioning unit 40, so that the transfer pin 142 is moved to the printed wiring board. 44 is moved relative to 44 in the X and Y directions.

移動機構144が転写ピン142をプリント配線基板44に対して、X方向、Y方向に相対移動させた後、転写ピン142を下方(−Z方向)に降下させることで、転写ピン142は、底面142Aに付着させた接合剤Gをプリント配線基板44に塗布するようになっている。すなわち、転写ピン142は、回転皿122に収容された接合剤Gをプリント配線基板44に転写するようになっている。なお、移動機構144としては、例えば、Y方向及びZ方向に移動可能な二軸ロボットが用いられる。   The moving mechanism 144 moves the transfer pin 142 relative to the printed wiring board 44 in the X direction and the Y direction, and then lowers the transfer pin 142 downward (−Z direction). The bonding agent G adhered to 142A is applied to the printed wiring board 44. That is, the transfer pin 142 transfers the bonding agent G accommodated in the rotating dish 122 to the printed wiring board 44. As the moving mechanism 144, for example, a biaxial robot that can move in the Y direction and the Z direction is used.

接合剤Gの厚さを調整する調整部材130は、図3(A)(B)及び図4に示されるように、ヘッド部材131と、ヘッド部材131に連結されたアーム部材133と、を有している。   The adjustment member 130 that adjusts the thickness of the bonding agent G includes a head member 131 and an arm member 133 coupled to the head member 131, as shown in FIGS. doing.

ヘッド部材131は、図3(A)に示されるように、平面視にて回転皿122の回転方向(矢印A方向)及び半径方向(矢印Y方向)に対して傾斜して設けられた傾斜板132(案内部の一例)と、傾斜板132における回転方向の下流端部に接続され、傾斜板132の傾斜により接合剤Gが回転皿122の外周側に流れるのを制限する制限板134(制限部の一例)と、を有している。   As shown in FIG. 3A, the head member 131 is an inclined plate that is inclined with respect to the rotation direction (arrow A direction) and the radial direction (arrow Y direction) of the rotating plate 122 in plan view. 132 (an example of a guide portion) and a limiting plate 134 (restricted) that is connected to the downstream end portion of the inclined plate 132 in the rotation direction and restricts the bonding agent G from flowing to the outer peripheral side of the rotating plate 122 due to the inclination of the inclined plate 132. An example).

具体的には、傾斜板132と制限板134とは、図4及び図5(A)(B)(C)に示されるように、連結板136によって接続されている。連結板136は、傾斜板132における回転方向の下流端部と、制限板134における回転方向の下流端部とを連結している。すなわち、制限板134は、連結板136を介して、傾斜板132における回転方向の下流端部に接続されており、連結板136が、傾斜板132と制限板134とを接続する接続部をなしている。   Specifically, the inclined plate 132 and the limiting plate 134 are connected by a connecting plate 136 as shown in FIGS. 4 and 5A, 5B, and 5C. The connecting plate 136 connects the downstream end of the inclined plate 132 in the rotational direction and the downstream end of the limiting plate 134 in the rotational direction. That is, the limiting plate 134 is connected to the downstream end portion of the inclined plate 132 in the rotation direction via the connecting plate 136, and the connecting plate 136 forms a connection portion that connects the inclined plate 132 and the limiting plate 134. ing.

ヘッド部材131は、さらに、傾斜板132の上端、制限板134の上端及び連結板136の上端に接続された上板138と、傾斜板132における回転方向の上流端部に接続された側板139と、平面視にて上板138に対するアーム部材133側に設けられアーム部材133と連結される連結部137と、を有している。連結部137に形成された通し孔137Aに差し通されたネジ(図示省略)がアーム部材133にねじ止めされることで、ヘッド部材131がアーム部材133に固定されている。   The head member 131 further includes an upper plate 138 connected to the upper end of the inclined plate 132, the upper end of the limiting plate 134 and the upper end of the connecting plate 136, and a side plate 139 connected to the upstream end of the inclined plate 132 in the rotational direction. And a connecting portion 137 provided on the arm member 133 side with respect to the upper plate 138 in a plan view and connected to the arm member 133. The head member 131 is fixed to the arm member 133 by screwing a screw (not shown) inserted into the through hole 137 </ b> A formed in the connecting portion 137 to the arm member 133.

傾斜板132は、余剰の接合剤Gを塞き止めると共に、傾斜板132の底面132Aが、回転皿122の接合剤Gの上面に接触することで、該接合剤Gをならして、該接合剤Gの厚さを一定にする機能を有している。傾斜板132の底面132Aと回転皿122の上面との距離(隙間)は、例えば、50μmとされており、半導体素子12の何れの辺の長さよりも短くされている。   The inclined plate 132 blocks the excess bonding agent G, and the bottom surface 132A of the inclined plate 132 comes into contact with the upper surface of the bonding agent G of the rotating plate 122, so that the bonding agent G is leveled and the bonding plate G It has a function of keeping the thickness of the agent G constant. The distance (gap) between the bottom surface 132 </ b> A of the inclined plate 132 and the top surface of the rotating dish 122 is, for example, 50 μm, and is shorter than the length of any side of the semiconductor element 12.

また、傾斜板132は、回転皿122の回転方向下流側に向かって徐々に回転皿122の外周側へずれるように傾斜しており、その傾斜により、該接合剤G中の異物を回転皿122の外周側(転写ピン142の転写領域の外側)へ移動させる(案内する)機能を有している。なお、傾斜板132の傾斜により、接合剤G中の異物だけでなく、余剰の接合剤Gも回転皿122の外周側へ流れようとする。また、「接合剤G中の異物」とは、接合剤Gに混入した異物、すなわち、接合剤Gと一緒に存在する状態の異物を意味し、接合剤Gの内部に沈んだ状態で存在する異物だけでなく、接合剤G上に載った状態で存在する(例えば、接合剤Gの表面に付着する)異物も含まれる。   In addition, the inclined plate 132 is inclined so as to gradually shift toward the outer peripheral side of the rotating dish 122 toward the downstream side in the rotation direction of the rotating dish 122, and by this inclination, the foreign matter in the bonding agent G is removed. Has a function of moving (guidance) to the outer peripheral side (outside of the transfer region of the transfer pin 142). Note that, due to the inclination of the inclined plate 132, not only the foreign matter in the bonding agent G but also the excess bonding agent G tends to flow toward the outer peripheral side of the rotating dish 122. Further, the “foreign matter in the bonding agent G” means a foreign matter mixed in the bonding agent G, that is, a foreign matter existing together with the bonding agent G, and exists in a state where it is sunk inside the bonding agent G. Not only foreign substances but also foreign substances that exist on the bonding agent G (for example, adhere to the surface of the bonding agent G) are included.

制限板134は、傾斜板132に対する回転皿122の外周側で、傾斜板132に対向しており、回転皿122の半径方向(矢印Y方向)に対する垂直方向(直交方向)に配置されている。   The limiting plate 134 is opposed to the inclined plate 132 on the outer peripheral side of the rotating plate 122 with respect to the inclined plate 132, and is arranged in a direction perpendicular to the radial direction (arrow Y direction) of the rotating plate 122.

また、連結板136には、傾斜板132によって回転皿122の外周側へ移動する異物を通過させるための開口部135が形成されている。開口部135は、回転方向の下流側に開口している。開口部135は、傾斜板132の傾斜により回転皿122の外周側へ移動する異物を通過させるようになっている。なお、傾斜板132の傾斜により、回転皿122の外周側へ流れる余剰の接合剤Gも開口部135を通過することになる。   In addition, the connecting plate 136 is formed with an opening 135 through which the foreign material moving to the outer peripheral side of the rotating dish 122 is passed by the inclined plate 132. The opening 135 opens to the downstream side in the rotation direction. The opening 135 allows foreign substances that move to the outer peripheral side of the rotating dish 122 due to the inclination of the inclined plate 132 to pass therethrough. In addition, due to the inclination of the inclined plate 132, the excessive bonding agent G flowing to the outer peripheral side of the rotating dish 122 also passes through the opening 135.

開口部135のY方向長さ(回転皿122の半径方向に沿った長さ)及びZ方向長さ(高さ)は、半導体素子12の幅(Y方向長さ)及び高さ(Z方向長さ)よりも長く、好ましくは、断面視(図7参照)における対角線dの長さよりも長くされている。すなわち、具体的には、開口部135のY方向長さ及びZ方向長さは、誤って回転皿122に落下した異物としての半導体素子12が開口部135を通過可能な長さであり、接合剤Gが回転皿122の外周側へ不必要に流れないように設定された長さとされる。具体的には、開口部135のY方向長さ及びZ方向長さは、例えば、対角線dの長さの2倍程度であることが好ましい。   The length of the opening 135 in the Y direction (the length along the radial direction of the rotating dish 122) and the length in the Z direction (height) are the width (the Y direction length) and the height (the Z direction length) of the semiconductor element 12, respectively. ), Preferably longer than the length of the diagonal line d in the cross-sectional view (see FIG. 7). Specifically, the length in the Y direction and the length in the Z direction of the opening 135 are such lengths that the semiconductor element 12 as a foreign object that has accidentally dropped onto the rotating dish 122 can pass through the opening 135. The length is set so that the agent G does not unnecessarily flow to the outer peripheral side of the rotating dish 122. Specifically, the Y-direction length and the Z-direction length of the opening 135 are preferably about twice the length of the diagonal line d, for example.

(移送装置60)
図1に示されるように、移送装置60は、半導体素子12を保持する保持具としてのコレット70と、コレット70が装着されコレット70が半導体素子12を保持するための吸引力を発生させる吸引器62と、吸引器62(コレット70)をプリント配線基板44に対して相対移動させる移動機構63と、を備えている。
(Transfer device 60)
As shown in FIG. 1, the transfer device 60 includes a collet 70 as a holder for holding the semiconductor element 12, and an aspirator that is attached with the collet 70 and generates a suction force for the collet 70 to hold the semiconductor element 12. 62 and a moving mechanism 63 for moving the suction device 62 (collet 70) relative to the printed wiring board 44.

吸引器62は、具体的には、コレット70が装着される吸引ノズル64を有している。コレット70は、図6に示されるように、コレット本体72と、吸引ノズル64と接続される接続部74と、半導体素子12の第1稜線12Eに突き当たる第1面81を有する突当部76と、半導体素子12の第2稜線12Bに突き当たる第2面82を有する突当部86と、を備えている。   Specifically, the suction device 62 has a suction nozzle 64 to which the collet 70 is attached. As shown in FIG. 6, the collet 70 includes a collet main body 72, a connection portion 74 connected to the suction nozzle 64, and an abutting portion 76 having a first surface 81 that abuts against the first ridge line 12 </ b> E of the semiconductor element 12. And an abutting portion 86 having a second surface 82 that abuts against the second ridge line 12B of the semiconductor element 12.

コレット本体72のX方向端部には、半導体素子12のX方向側の稜線に突き当たる突当部としての突当爪80が設けられている。この突当爪80が半導体素子12のX方向側の稜線に突き当たることにより、半導体素子12がX方向で位置決めされるようになっている。突当爪80は、半導体素子12のX方向側の端面に突き当たるようになっていても良い。   At the end of the collet body 72 in the X direction, an abutting claw 80 is provided as an abutting portion that abuts against the ridge line on the X direction side of the semiconductor element 12. The abutting claw 80 abuts against the ridge line on the X direction side of the semiconductor element 12 so that the semiconductor element 12 is positioned in the X direction. The abutting claw 80 may abut against the end surface of the semiconductor element 12 on the X direction side.

接続部74は、図6に示されるように、円筒状に形成されており、円筒状の吸引ノズル64に挿し込まれることで接続されるようになっている。接続部74には、吸引ノズル64と通じる接続口74Aが形成されている。第2面82と第1面81との間には、図7に示されるように、接続口74Aと通じる吸引口78が形成されている。   As shown in FIG. 6, the connecting portion 74 is formed in a cylindrical shape, and is connected by being inserted into a cylindrical suction nozzle 64. A connection port 74 </ b> A that communicates with the suction nozzle 64 is formed in the connection portion 74. As shown in FIG. 7, a suction port 78 that communicates with the connection port 74 </ b> A is formed between the second surface 82 and the first surface 81.

コレット70では、半導体素子12の上面の第2稜線12Bが第2面82に突き当たり、且つ、半導体素子12の上面の第1稜線12Eが第1面81に突き当たることにより、半導体素子12がY方向及びZ方向で位置決めされるようになっている。   In the collet 70, the second ridge line 12B on the upper surface of the semiconductor element 12 hits the second surface 82, and the first ridge line 12E on the upper surface of the semiconductor element 12 hits the first surface 81, so that the semiconductor element 12 moves in the Y direction. And positioning in the Z direction.

コレット70では、吸引器62により、吸引口78を通じて半導体素子12が吸引されて、Y方向、Z方向及びX方向で位置決めされた状態の半導体素子12が保持されるようになっている。   In the collet 70, the semiconductor element 12 is sucked by the suction device 62 through the suction port 78, and the semiconductor element 12 positioned in the Y direction, the Z direction, and the X direction is held.

移動機構63は、吸引器62をY方向に移動させることにより、コレット70をプリント配線基板44に対してY方向へ相対移動させるようになっている。すなわち、本実施形態では、移動機構63によって吸引器62がY方向に移動し、基板位置決め部40の搬送部材42によってプリント配線基板44がX方向に移動することで、コレット70をプリント配線基板44に対してX方向、Y方向に相対移動させるようになっている。   The moving mechanism 63 moves the collet 70 relative to the printed wiring board 44 in the Y direction by moving the suction device 62 in the Y direction. In other words, in the present embodiment, the suction device 62 is moved in the Y direction by the moving mechanism 63, and the printed wiring board 44 is moved in the X direction by the transport member 42 of the board positioning unit 40, whereby the collet 70 is moved to the printed wiring board 44. Is moved relative to the X and Y directions.

また、移動機構63は、吸引器62を上下方向(Z方向)に移動させることにより、コレット70をプリント配線基板44に対して上下方向(Z方向)へ相対移動させるようになっている。本実施形態では、コレット70をプリント配線基板44に対して、X方向、Y方向に相対移動させた後、コレット70を下方(−Z方向)に降下させることで、半導体素子12をプリント配線基板44に転写された接合剤G上に置く(搭載する)ようになっている。   Further, the moving mechanism 63 moves the collet 70 in the vertical direction (Z direction) relative to the printed wiring board 44 by moving the suction device 62 in the vertical direction (Z direction). In the present embodiment, the collet 70 is moved relative to the printed wiring board 44 in the X direction and the Y direction, and then the collet 70 is lowered downward (−Z direction), whereby the semiconductor element 12 is moved to the printed wiring board. 44 is placed (mounted) on the bonding agent G transferred to 44.

なお、移動機構63としては、例えば、Y方向及びZ方向に移動可能な二軸ロボットが用いられる。   As the moving mechanism 63, for example, a biaxial robot that can move in the Y direction and the Z direction is used.

(プリント配線基板装置の製造方法)
本実施形態に係るプリント配線基板装置の製造方法では、図1に示されるように、まず、供給部13において、移動機構17が保持部15をX方向及びY方向へ移動させることで、搭載対象の半導体素子12を予め定められたピックアップ位置に位置させる(位置調整工程)。
(Method for manufacturing printed wiring board device)
In the method for manufacturing a printed wiring board device according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, first, in the supply unit 13, the moving mechanism 17 moves the holding unit 15 in the X direction and the Y direction, thereby mounting objects. The semiconductor element 12 is positioned at a predetermined pickup position (position adjustment step).

次に、供給部13のピックアップ位置に位置する半導体素子12を、移送装置50が位置決め台30のプレート34上に移送して、プレート34上の仮置き位置に半導体素子12を仮置きする(仮置工程)。   Next, the semiconductor device 12 positioned at the pickup position of the supply unit 13 is transferred to the plate 34 of the positioning table 30 by the transfer device 50, and the semiconductor device 12 is temporarily placed at the temporary placement position on the plate 34 (temporary placement). Placing step).

次に、プレート34上の仮置き位置に仮置きされた半導体素子12を、位置決め部材22によって、プレート34上の予め定められた位置決め位置に移動させて位置決め(位置出し)する(部品位置決め工程の一例としての素子位置決め工程)。   Next, the semiconductor element 12 temporarily placed at the temporary placement position on the plate 34 is moved and positioned (positioned) by the positioning member 22 to a predetermined positioning position on the plate 34 (in the component positioning step). Element positioning step as an example).

次に、基板位置決め部40において、一対の搬送部材42がプリント配線基板44を位置決めする(基板位置決め工程)。なお、この基板位置決め工程は、素子位置決め工程の後に行う必要は無く、素子位置決め工程の前又は同時に行っても良い。   Next, in the board positioning unit 40, the pair of transport members 42 positions the printed wiring board 44 (board positioning process). This substrate positioning step does not have to be performed after the element positioning step, and may be performed before or simultaneously with the element positioning step.

次に、接合剤厚調整装置120の回転皿122にのせられた接合剤Gを、転写ピン142によって、基板位置決め部40で位置決めされたプリント配線基板44に転写する(接合剤転写工程)。   Next, the bonding agent G placed on the rotating plate 122 of the bonding agent thickness adjusting device 120 is transferred to the printed wiring board 44 positioned by the substrate positioning unit 40 by the transfer pin 142 (bonding agent transfer step).

次に、転写ピン142で転写された接合剤G上に、素子位置決め工程で位置決めされた半導体素子12を移送装置60によって移送する(移送工程)。   Next, the semiconductor element 12 positioned in the element positioning step is transferred onto the bonding agent G transferred by the transfer pin 142 by the transfer device 60 (transfer step).

なお、本移送工程では、複数の半導体素子12が、図8に示されるように、プリント配線基板44に対して千鳥状に配置される。すなわち、上記位置調整工程、仮置工程、素子位置決め工程、塗布工程、保持工程、搭載工程が、半導体素子12の数に応じて行われる。なお、本実施形態では、例えば、複数の半導体素子12をY方向一方側(図8の下側)に間隔をおいて一列に配置した後、複数の半導体素子12をY方向他方側(図8の上側)に間隔をおいて一列に配置するようになっている。すなわち、本実施形態では、例えば、
プリント配線基板44の長手方向一端44Aから数えて奇数番目にあたる搭載位置T1、T3、T5・・・に配置した後、当該一端44Aから数えて偶数番目にあたる搭載位置T2、T4・・・に配置することで、千鳥状に配置する。
In this transfer step, the plurality of semiconductor elements 12 are arranged in a staggered manner with respect to the printed wiring board 44 as shown in FIG. That is, the position adjustment process, temporary placement process, element positioning process, coating process, holding process, and mounting process are performed according to the number of semiconductor elements 12. In this embodiment, for example, after arranging a plurality of semiconductor elements 12 in a line at intervals on one side in the Y direction (lower side in FIG. 8), the plurality of semiconductor elements 12 are arranged on the other side in the Y direction (FIG. 8). Are arranged in a row at intervals. That is, in this embodiment, for example,
After being arranged at odd mounting positions T1, T3, T5... Counted from one longitudinal end 44A of the printed wiring board 44, it is arranged at even mounting positions T2, T4. So, arrange them in a staggered pattern.

次に、接合剤Gを固化させる(固化工程)。具体的には、例えば、接合剤Gを、例えば、1〜2時間、110〜120℃で加熱することで、接合剤Gを固化させる。これにより、プリント配線基板装置が製造される。   Next, the bonding agent G is solidified (solidification step). Specifically, for example, the bonding agent G is solidified by heating the bonding agent G at 110 to 120 ° C. for 1 to 2 hours, for example. Thereby, a printed wiring board device is manufactured.

(本実施形態に係る作用)
次に、本実施形態に係る作用を説明する。
(Operation according to this embodiment)
Next, the operation according to this embodiment will be described.

本実施形態では、前述のように、半導体素子12の長手方向端部同士がY方向に接近する千鳥状に配置されるため、接合剤転写工程において、転写ピン142でプリント配線基板44に接合剤Gを転写する際に、転写ピン142が、既に搭載された半導体素子12の長手方向端部に接近する。   In the present embodiment, as described above, the longitudinal ends of the semiconductor elements 12 are arranged in a zigzag shape approaching in the Y direction. Therefore, in the bonding agent transfer step, the bonding pins 142 are bonded to the printed wiring board 44 by the transfer pins 142. When transferring G, the transfer pin 142 approaches the longitudinal end of the semiconductor element 12 already mounted.

このため、例えば、既に搭載された半導体素子12が正規位置からずれた位置に搭載された場合や、転写ピン142が正規位置からずれた位置でプリント配線基板44に接合剤Gを転写した場合では、既に搭載された半導体素子12に転写ピン142が接触することがある。既に搭載された半導体素子12に転写ピン142が接触すると、当該半導体素子12の素子屑(破損した半導体素子12)や当該半導体素子12自体(以下、素子屑等112という)が転写ピン142に付着し、転写ピン142が回転皿122の接合剤Gへ当該素子屑等112を運んでしまう場合がある。このように、素子屑等112が異物として、接合剤G中に混入する場合がある。なお、回転皿122の接合剤Gに混入する異物には、素子屑等112だけでなく、例えば、製造装置の構成部品や、当該構成部品の部品屑(破損した構成部品)、その他の接合剤Gとは異質なものが含まれる。   For this reason, for example, when the already mounted semiconductor element 12 is mounted at a position shifted from the normal position, or when the bonding agent G is transferred to the printed wiring board 44 at a position where the transfer pin 142 is shifted from the normal position. The transfer pin 142 may come into contact with the semiconductor element 12 already mounted. When the transfer pin 142 comes into contact with the already mounted semiconductor element 12, the element scrap (damaged semiconductor element 12) of the semiconductor element 12 or the semiconductor element 12 itself (hereinafter referred to as element scrap 112) adheres to the transfer pin 142. Then, the transfer pin 142 may carry the element waste 112 to the bonding agent G of the rotating dish 122. Thus, element scraps 112 may be mixed into the bonding agent G as foreign matter. The foreign matters mixed in the bonding agent G of the rotating dish 122 include not only the element scraps 112 and the like, but also, for example, component parts of the manufacturing apparatus, component scraps (damaged component parts) of the component parts, and other bonding agents. Something different from G is included.

ここで、回転皿122の半径方向(矢印Y方向)に対して直交する直交板230によって接合剤Gをならす比較例(図9(A)(B)参照)では、素子屑等112が回転皿122の接合剤G中に混入すると、素子屑等112が、直交板230に引っ掛かったり、直交板230と回転皿122の底壁124Aとの間に挟まったりしやすい。   Here, in the comparative example (see FIGS. 9A and 9B) in which the bonding agent G is leveled by the orthogonal plate 230 orthogonal to the radial direction (arrow Y direction) of the rotating dish 122, the element scraps 112 are the rotating dish. If mixed in the bonding agent G 122, the element scraps 112 and the like are easily caught on the orthogonal plate 230, or are easily caught between the orthogonal plate 230 and the bottom wall 124 </ b> A of the rotating dish 122.

素子屑等112が、直交板230に引っ掛かったり、直交板230と回転皿122の底壁124Aとの間に挟まったりした場合には、直交板230と回転皿122の底壁124Aとの隙間が小さくなり、接合剤Gの厚さが正規の厚さよりも薄くなってかすれHが発生する。これにより、転写ピン142に付着される接合剤Gの量が低減し、半導体素子12に転写する接合剤Gの量が低減する。このため、半導体素子12の接合不良の原因となる。   When the element waste 112 is caught on the orthogonal plate 230 or is sandwiched between the orthogonal plate 230 and the bottom wall 124A of the rotating dish 122, a gap between the orthogonal plate 230 and the bottom wall 124A of the rotating dish 122 is formed. It becomes small and the thickness of the bonding agent G becomes thinner than the normal thickness, and the blur H is generated. Thereby, the amount of the bonding agent G attached to the transfer pin 142 is reduced, and the amount of the bonding agent G transferred to the semiconductor element 12 is reduced. For this reason, it becomes a cause of bonding failure of the semiconductor element 12.

これに対して、本実施形態では、調整部材130の傾斜板132の傾斜によって、回転皿122の接合剤G中の素子屑等112は、回転皿122の外周側へ移動する。傾斜板132によって回転皿122の外周側へ移動する素子屑等112は、開口部135を通過して、調整部材130(傾斜板132)に対する回転皿122の外周側(転写ピン142の転写領域の外側)へ移動する。これにより、素子屑等112が、調整部材130(傾斜板132)に引っ掛かったり、調整部材130(傾斜板132)と回転皿122の底壁124Aとの間に挟まったりすることが抑制される。   On the other hand, in the present embodiment, the element waste 112 in the bonding agent G of the rotating dish 122 moves to the outer peripheral side of the rotating dish 122 due to the inclination of the inclined plate 132 of the adjusting member 130. Element scraps 112 and the like 112 that move to the outer peripheral side of the rotating plate 122 by the inclined plate 132 pass through the opening 135, and the outer peripheral side of the rotating plate 122 relative to the adjustment member 130 (inclined plate 132). Move to the outside. As a result, it is possible to suppress the element scraps 112 and the like from being caught by the adjusting member 130 (inclined plate 132) or being sandwiched between the adjusting member 130 (inclined plate 132) and the bottom wall 124A of the rotating dish 122.

このため、接合剤G中の素子屑等112によって回転皿122上の接合剤Gの厚みが不均一となることが抑制される。これにより、転写ピン142に付着される接合剤G、及び、プリント配線基板44に転写される接合剤Gにおいて、厚みが不均一となることが抑制され、プリント配線基板44に対する半導体素子12の接合不良が抑制される。   For this reason, it is suppressed that the thickness of the bonding agent G on the rotating dish 122 becomes non-uniform by the element waste 112 or the like in the bonding agent G. As a result, the bonding agent G attached to the transfer pin 142 and the bonding agent G transferred to the printed wiring board 44 are prevented from having non-uniform thickness, and the semiconductor element 12 is bonded to the printed wiring board 44. Defects are suppressed.

また、調整部材130(傾斜板132)に対する回転皿122の外周側へ移動した素子屑等112は、転写ピン142の転写領域の外側に位置する。このため、接合剤G中の素子屑等112が、転写ピン142に接触せず、接合剤G中の素子屑等112が転写ピン142に再付着してプリント配線基板44に運ばれることが抑制される。   Further, the element scraps 112 moved to the outer peripheral side of the rotating plate 122 with respect to the adjustment member 130 (inclined plate 132) are located outside the transfer region of the transfer pin 142. For this reason, it is suppressed that the element waste etc. 112 in the bonding agent G does not contact the transfer pin 142 and the element waste etc. 112 in the bonding agent G reattaches to the transfer pin 142 and is carried to the printed wiring board 44. Is done.

また、本実施形態では、回転する回転皿122の外周側へ素子屑等112を移動させるので、回転皿122の遠心力を利用して、素子屑等112を効果的に回転皿122の外周側へ移動させられる。また、回転皿122の外周側へ移動した後の素子屑等112は、回転皿122の遠心力によって、内周側(転写ピン142の転写領域)へ移動することが抑制される。   Moreover, in this embodiment, since the element waste etc. 112 are moved to the outer peripheral side of the rotating rotating dish 122, the element waste etc. 112 is effectively moved to the outer peripheral side of the rotating dish 122 using the centrifugal force of the rotating dish 122. Moved to. Further, the element waste 112 after moving to the outer peripheral side of the rotating dish 122 is suppressed from moving to the inner peripheral side (transfer area of the transfer pin 142) by the centrifugal force of the rotating dish 122.

また、本実施形態では、傾斜板132の傾斜により、接合剤Gも回転皿122の外周側へ流れてしまうが、調整部材130の制限板134によって、接合剤Gの回転皿122の外周側への流れが制限される。これにより、回転皿122の外周側へ流れる接合剤量が低減される。すなわち、半導体素子12の接合に使用されない接合剤量が低減される。   In this embodiment, the bonding agent G also flows to the outer peripheral side of the rotating dish 122 due to the inclination of the inclined plate 132, but the limiting plate 134 of the adjusting member 130 moves the outer periphery of the rotating dish 122 to the bonding agent G. Flow is limited. Thereby, the amount of the bonding agent flowing toward the outer peripheral side of the rotating dish 122 is reduced. That is, the amount of bonding agent that is not used for bonding the semiconductor element 12 is reduced.

(変形例)
上記の実施形態では、調整部材130の傾斜板132が異物を回転皿122の外周側へ移動させる構成であったが、これに限られず、図10に示されるように、傾斜板132が異物を回転皿122の内周側へ移動させる構成であってもよい。図10に示す構成では、傾斜板132は、回転皿122の回転方向下流側に向かって徐々に回転皿122の内周側へずれるように傾斜しており、その傾斜により、該接合剤G中の異物を回転皿122の内周側へ移動させる機能を有している。また、制限板134は、傾斜板132に対する回転皿122の内周側で、傾斜板132に対向しており、回転皿122の半径方向に対する垂直方向(直交方向)に配置されている。
(Modification)
In the above-described embodiment, the inclined plate 132 of the adjustment member 130 is configured to move the foreign matter toward the outer peripheral side of the rotating dish 122. The structure moved to the inner peripheral side of the rotating tray 122 may be sufficient. In the configuration shown in FIG. 10, the inclined plate 132 is inclined so as to gradually shift toward the inner peripheral side of the rotating plate 122 toward the downstream side in the rotation direction of the rotating plate 122. The foreign matter is moved to the inner peripheral side of the rotating dish 122. Further, the limiting plate 134 is opposed to the inclined plate 132 on the inner peripheral side of the rotating plate 122 with respect to the inclined plate 132, and is disposed in a direction perpendicular to the radial direction (orthogonal direction) of the rotating plate 122.

また、上記の実施形態では、調整部材130の開口部135は、回転方向の下流側に開口していたが、これに限られず、図11(A)に示されるように、回転皿122の外周壁124B側(回転方向(矢印A方向)に対する垂直方向)に開口する構成であってもよい。なお、開口部135は、図11(B)に示されるように、回転方向の下流側(矢印A方向側)及び回転皿122の外周壁124Bの両方に開口していてもよい。すなわち、開口部135は、回転方向の下流側及び回転皿122の外周壁124Bの少なくとも一方に開口していればよい。なお、傾斜板132が異物を回転皿122の内周側へ移動させる構成においては、開口部135は、回転方向の下流側及び回転皿122の内周壁124Cの少なくとも一方に開口される。   In the above-described embodiment, the opening 135 of the adjustment member 130 is open on the downstream side in the rotation direction. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. It may be configured to open to the wall 124B side (perpendicular to the rotation direction (arrow A direction)). As shown in FIG. 11B, the opening 135 may be open on both the downstream side in the rotational direction (arrow A direction side) and the outer peripheral wall 124 </ b> B of the rotating dish 122. In other words, the opening 135 only needs to open to at least one of the downstream side in the rotation direction and the outer peripheral wall 124 </ b> B of the rotating dish 122. In the configuration in which the inclined plate 132 moves the foreign matter to the inner peripheral side of the rotating dish 122, the opening 135 is opened on at least one of the downstream side in the rotation direction and the inner peripheral wall 124 </ b> C of the rotating dish 122.

また、上記実施形態では、案内部の一例として傾斜板132を用い、制限部として制限板134を用いた構成を説明したが、案内部及び制限部としては、板状である必要はなく、種々の形状とすることができる。   Moreover, in the said embodiment, although the inclination board 132 was used as an example of a guide part and the structure which used the restriction | limiting board 134 as a restriction | limiting part was demonstrated, as a guide part and a restriction | limiting part, it does not need to be plate-shaped and various. It can be made into the shape.

また、上記実施形態では、回転部の一例として回転皿122を用いた構成を説明したが、回転部としては、回転皿122に限られず、その形状及び構成は、種々の構成を採用することができる。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the structure using the rotation tray 122 as an example of a rotation part, as a rotation part, it is not restricted to the rotation dish 122, The shape and structure can employ | adopt various structures. it can.

さらに、上記実施形態では、連結板136を介して傾斜板132と制限板134とが接続されたヘッド部材131の構成を説明したが、調整部材130のヘッド部材131としては、連結板136を介さず、傾斜板132と制限板134とが直接、接続された構成であってもよい。   Furthermore, in the above embodiment, the configuration of the head member 131 in which the inclined plate 132 and the limiting plate 134 are connected via the connecting plate 136 has been described. However, the head member 131 of the adjustment member 130 is connected via the connecting plate 136. Instead, the inclined plate 132 and the limiting plate 134 may be directly connected.

また、上記実施形態では、粘性を有する粘性剤の一例として接合剤Gを用いた構成を説明したが、粘性剤としては接合剤Gに限られず、接合を目的としないものでもよい。すなわち、粘性剤は、粘性を有する材料であればよく、接着剤等の接合剤以外のものであってもよい。   Moreover, although the structure using the bonding agent G as an example of the viscous agent having viscosity has been described in the above embodiment, the viscosity agent is not limited to the bonding agent G, and may not be used for bonding. That is, the viscosity agent may be a material having viscosity, and may be other than a bonding agent such as an adhesive.

本発明は、上記の実施形態に限るものではなく、種々の変形、変更、改良が可能である。例えば、上記に示した変形例は、適宜、複数を組み合わせて構成しても良い。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications, changes, and improvements can be made. For example, the modification examples described above may be appropriately combined.

12 半導体素子(部品の一例)
20 素子位置決め部(部品位置決め部の一例)
40 基板位置決め部
60 移送装置(移送機構の一例)
100 搭載装置
112 素子屑等(異物の一例)
120 接合剤厚調整装置(粘性剤厚調整装置の一例)
122 回転皿(回転部の一例)
132 傾斜板(案内部の一例)
134 制限板(制限部の一例)
135 開口部
140 転写部
G 接合剤(粘性剤の一例)
12 Semiconductor elements (examples of parts)
20 Element positioning part (an example of part positioning part)
40 Substrate positioning unit 60 Transfer device (an example of a transfer mechanism)
100 mounting device 112 element scrap, etc. (an example of foreign matter)
120 Bonding agent thickness adjusting device (an example of viscosity agent adjusting device)
122 Rotating dish (an example of rotating part)
132 Inclined plate (example of guide)
134 Restriction plate (an example of restriction part)
135 Opening part 140 Transfer part G Bonding agent (an example of a viscous agent)

Claims (4)

粘性剤をのせた回転部と、
該回転部の回転方向に対して傾斜して設けられ、該粘性剤の厚さを一定にし、該粘性剤中の異物を該回転部の内周側又は外周側へ案内する案内部と、
該案内部における該回転方向の下流端部に接続され、該案内部の傾斜により該粘性剤が該内周側又は外周側に流れるのを制限する制限部と、
該案内部と該制限部との接続部に設けられ該異物を通過させる開口部と、
を備えた粘性剤厚調整装置。
A rotating part on which a viscous agent is placed;
A guide part that is provided to be inclined with respect to the rotation direction of the rotating part, makes the thickness of the viscous agent constant, and guides foreign matter in the viscous agent to the inner peripheral side or the outer peripheral side of the rotating part;
A restricting portion connected to a downstream end portion of the guide portion in the rotation direction and restricting the flow of the viscous agent to the inner peripheral side or the outer peripheral side by an inclination of the guide portion;
An opening provided at a connecting portion between the guide portion and the restricting portion and allowing the foreign matter to pass therethrough;
Viscosity agent thickness adjusting device.
前記案内部は、前記異物を前記回転部の外周側へ案内し、
前記制限部は、前記案内部の傾斜により前記粘性剤が外周側に流れるのを制限する請求項1に記載の粘性剤厚調整装置。
The guide portion guides the foreign matter to the outer peripheral side of the rotating portion,
The said restriction | limiting part is a viscous agent thickness adjustment apparatus of Claim 1 which restrict | limits that the said viscous agent flows into an outer peripheral side by the inclination of the said guide part.
部品を位置決めする部品位置決め部と、
基板を位置決めする基板位置決め部と、
請求項1又は2に記載の粘性剤厚調整装置と、
前記粘性剤厚調整装置の回転部にのせられた粘性剤としての接合剤を、前記基板位置決め部に位置決めされた基板に転写する転写部と、
前記転写部で転写された接合剤上に、前記部品位置決め部で位置決めされた前記部品を移送する移送機構と、
を備えた搭載装置。
A component positioning part for positioning the component;
A substrate positioning unit for positioning the substrate;
The viscosity agent thickness adjusting device according to claim 1 or 2,
A transfer unit that transfers a bonding agent as a viscous agent placed on the rotating unit of the viscosity agent thickness adjusting device to a substrate positioned in the substrate positioning unit;
A transfer mechanism for transferring the component positioned by the component positioning unit onto the bonding agent transferred by the transfer unit;
Mounting device equipped with.
請求項3に記載の搭載装置の前記部品位置決め部によって前記部品を位置決めする部品位置決め工程と、
前記基板位置決め部によって前記基板を位置決めする基板位置決め工程と、
前記粘性剤厚調整装置の回転部にのせられた接合剤を、前記転写部によって前記基板位置決め部に位置決めされた前記基板に転写する接合剤転写工程と、
前記転写部で転写された接合剤上に、前記部品位置決め工程で位置決めされた前記部品を前記移送機構によって移送する移送工程と、
を有する基板装置の製造方法。
A component positioning step of positioning the component by the component positioning unit of the mounting device according to claim 3;
A substrate positioning step of positioning the substrate by the substrate positioning unit;
A bonding agent transfer step of transferring the bonding agent placed on the rotating part of the viscosity agent thickness adjusting device to the substrate positioned on the substrate positioning unit by the transfer unit;
A transfer step of transferring the component positioned in the component positioning step by the transfer mechanism onto the bonding agent transferred by the transfer unit;
Manufacturing method of substrate device having
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