JP5342535B2 - Semiconductor chip test equipment - Google Patents

Semiconductor chip test equipment Download PDF

Info

Publication number
JP5342535B2
JP5342535B2 JP2010238537A JP2010238537A JP5342535B2 JP 5342535 B2 JP5342535 B2 JP 5342535B2 JP 2010238537 A JP2010238537 A JP 2010238537A JP 2010238537 A JP2010238537 A JP 2010238537A JP 5342535 B2 JP5342535 B2 JP 5342535B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
semiconductor chip
chip
fixing base
sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010238537A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012093112A (en
Inventor
和義 高山
靖 久岡
康成 白藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2010238537A priority Critical patent/JP5342535B2/en
Publication of JP2012093112A publication Critical patent/JP2012093112A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5342535B2 publication Critical patent/JP5342535B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly productive semiconductor chip testing apparatus capable of accurately and automatically accomplishing contact alignment of a semiconductor chip and a probe. <P>SOLUTION: A semiconductor chip testing apparatus comprises a probe unit 1 having six drive shafts, a probe 15 fitted to the tip of the probe unit 1, a chip fixing base 2 that attracts and fixes a semiconductor chip 17 whose electric characteristics are to be tested, a table 25 that feeds the probe 15 fitted with the chip fixing base 2 to a prescribed measuring position, a chip sensor 3 that detects the position of the semiconductor chip 17, a probe sensor 4 that detects the position of the probe 15, a measuring instrument 5 that measures the angle of inclination of the probe 15 relative to the chip fixing base 2 and the height of the chip fixing base 2, and a control device that controls the six drive shafts of the probe unit 1. <P>COPYRIGHT: (C)2012,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、半導体チップの電気的特性のテストを行う半導体チップテスト装置及び半導体チップテスト装置の操作手順に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor chip test apparatus for testing electrical characteristics of a semiconductor chip and an operation procedure of the semiconductor chip test apparatus.

半導体素子は、製造工程の様々な段階でテストすることが要求される。テストは半導体素子の電極端子にプローブを接触させて実施される。ダイシングして個々の半導体チップに分割される前のウエハにおいては、半導体素子はプローブカードを接触させてテストされる。半導体チップをパッケージにワイヤボンディングした段階ではパッケージ側の電極端子にプローブを接触させてテストされる。パッケージに半導体チップがボンディングされる前のベアチップの状態でテストが実施される場合もある。   Semiconductor devices are required to be tested at various stages of the manufacturing process. The test is performed by bringing a probe into contact with the electrode terminal of the semiconductor element. In the wafer before dicing and dividing into individual semiconductor chips, the semiconductor elements are tested by contacting a probe card. At the stage where the semiconductor chip is wire-bonded to the package, the test is performed by bringing a probe into contact with the electrode terminal on the package side. The test may be performed in a bare chip state before the semiconductor chip is bonded to the package.

従来、半導体素子をベアチップ状態でテストするためにベアチップ用ソケットを用いてテストする方法が提案されている(例えば、特許文献1及び2を参照。)。ベアチップ状態での半導体素子のテストにおいては、近年の半導体チップサイズの小型化に伴い、プローブと半導体チップとのコンタクト位置を高精度に制御することが要求されている。   Conventionally, a method of testing using a bare chip socket has been proposed in order to test a semiconductor element in a bare chip state (see, for example, Patent Documents 1 and 2). In the test of a semiconductor element in a bare chip state, it is required to control the contact position between the probe and the semiconductor chip with high accuracy as the semiconductor chip size is reduced in recent years.

特許文献1に記載されている半導体チップテストソケットにおいては、水平面内で半導体チップを二次元的に位置決めし保持するソケット受部と、半導体チップに上方から接触する複数のプローブを備えたソケット蓋部からなる半導体チップテストソケットにおいて、ソケット受部とソケット蓋部には対をなすコネクタを設け、ソケット受部側のコネクタはテスト回路に接続し、ソケット蓋部側のコネクタはプローブに接続するとともに、ソケット蓋部をソケット受部に対して上方より接近させることにより、ソケット蓋部とソケット受部の嵌合が達成され、且つコネクタの結合が達成される。この構成により、プローブのセッティング等の準備作業が容易であり、またプローブと半導体チップを正確に位置決めし無理なく接触させることができる半導体チップテストソケットを得ることができるとされる。   In a semiconductor chip test socket described in Patent Document 1, a socket receiving portion that two-dimensionally positions and holds a semiconductor chip in a horizontal plane and a socket lid portion that includes a plurality of probes that contact the semiconductor chip from above. In the semiconductor chip test socket, the socket receiving portion and the socket lid portion are provided with a pair of connectors, the socket receiving portion side connector is connected to the test circuit, the socket lid portion side connector is connected to the probe, By bringing the socket lid portion closer to the socket receiving portion from above, the fitting of the socket lid portion and the socket receiving portion is achieved, and the connector is connected. With this configuration, it is possible to obtain a semiconductor chip test socket that facilitates preparatory work such as probe setting, and that allows the probe and the semiconductor chip to be accurately positioned and brought into contact with each other without difficulty.

また、特許文献2に記載されている半導体チップテストソケットにおいては、ソケット受部とソケット蓋部からなる半導体チップテストソケットにおいて、ソケット受部にはプローブを取り付け、ソケット蓋部には半導体チップの位置決めステージを取り付けるとともに、位置決めステージには模擬電極パッドを形成し、ソケット受部には、プローブが半導体チップに接触するに先立って模擬電極パッドに接触し、接触圧の高まりとともに退避するパイロットプローブを設けている。この構成によると、不動側の部材であるソケット受部にプローブを取り付けるものであるから、セッティングが楽であるとともに、プローブに対する配線が断線したり、プローブが接触不良を起こしたりする可能性が少ないとされる。   Further, in the semiconductor chip test socket described in Patent Document 2, in the semiconductor chip test socket including the socket receiving portion and the socket lid portion, a probe is attached to the socket receiving portion and the semiconductor chip is positioned on the socket lid portion. In addition to attaching the stage, a simulated electrode pad is formed on the positioning stage, and a pilot probe that contacts the simulated electrode pad before the probe contacts the semiconductor chip and retracts as the contact pressure increases is provided on the socket receiving portion. ing. According to this configuration, since the probe is attached to the socket receiving portion which is a member on the stationary side, setting is easy, and there is little possibility that the wiring to the probe is disconnected or the probe causes poor contact. It is said.

特開2007−121222号公報JP 2007-121222 A 特開2007−278909号公報JP 2007-278909 A

しかしながら、上記特許文献1及び2の半導体チップテストソケットにおいて、位置決めステージによる半導体チップの位置決め、半導体チップとプローブとのコンタクト動作
といった生産に関する一連の動作を人手で行う構成となっている。また、プローブの位置決め、ならびに半導体チップとプローブの水平状態の保持についても、品種切り替えに伴うプローブの交換を行うたびに、プローブと半導体チップの位置合わせを人手によりガイド調整もしくはカメラを用いた目視調整を行う必要があり、生産性が低い。また、1つのステージに対して、1つのプローブを調整するため、インデックステーブル上にステージを複数個設置する方式には対応できない等、生産装置として拡張性が低いといった課題があった。
However, the semiconductor chip test sockets of Patent Documents 1 and 2 are configured to manually perform a series of operations relating to production such as positioning of the semiconductor chip by the positioning stage and contact operation between the semiconductor chip and the probe. Also, for probe positioning and maintaining the horizontal state of the semiconductor chip and the probe, the probe and semiconductor chip are manually aligned by manual adjustment or visual adjustment using a camera each time the probe is changed due to product changeover. The productivity is low. In addition, since one probe is adjusted for one stage, there is a problem that the expandability of the production apparatus is low, such as being incompatible with a method of installing a plurality of stages on an index table.

本発明は、上記のような課題を解決しようとするものであり、半導体チップテストソケットを使用せず、半導体チップとプローブのコンタクト位置合わせを自動で行うとともに、生産性が高く、且つ拡張性を有する半導体チップテスト装置を提供することを目的としている。   The present invention is intended to solve the above-described problems. The semiconductor chip test socket is not used, and the contact alignment between the semiconductor chip and the probe is automatically performed, and the productivity is high and the expandability is improved. It is an object of the present invention to provide a semiconductor chip test apparatus.

上記課題を解決するために、本発明の半導体チップテスト装置は、インデックステーブル上に配置され、半導体チップを固定する複数のチップ固定台と、駆動可能な6軸(X、Y、Z、θx、θy、θz)を有するプローブユニットに取り付けられ、前記半導体チップの電気特性をテストするためのプローブと、前記半導体チップの位置を計測するチップセンサと、前記プローブの位置を計測するプローブセンサと、前記複数のチップ固定台に対する前記プローブの傾斜角及び前記インデックステーブルを基準とする前記チップ固定台の高さを計測する計測器と、前記チップセンサ、前記プローブセンサ及び前記計測器から得られた計測値を基に前記半導体チップに対する前記プローブの位置を算出し、前記プローブ位置を調整する制御装置と、を備え、前記チップ固定台毎に予め前記計測器により前記プローブの傾斜角及び前記チップ固定台の高さが計測され、前記半導体チップの電気特性のテスト時に前記計測値を利用して前記プローブの位置が補正調整される操作手順を有することを特徴とするものである。 In order to solve the above problems, a semiconductor chip test apparatus according to the present invention is arranged on an index table, a plurality of chip fixing bases for fixing a semiconductor chip, and six drive axes (X, Y, Z, θx, θy, θz), a probe for testing electrical characteristics of the semiconductor chip, a chip sensor for measuring the position of the semiconductor chip, a probe sensor for measuring the position of the probe, a measuring device which measures the chip fixing base height relative to the inclination angle and the index table of the probe for a plurality of chips fixing base, the tip sensor, the probe sensor and the measuring instrument from the obtained measured values the calculated position of the probe relative to the semiconductor chip on the basis of adjusting the position of the probe control device , Wherein the inclination angle and the tip fixing base of the height of the probe in advance by the measuring instrument to the chip for each fixing stand is measured, the by using the measured value during the test of the electrical characteristics of the semiconductor chip probe It has an operation procedure in which the position of is corrected and adjusted .

本発明に係る半導体チップテスト装置によれば、半導体チップとプローブとのコンタクト位置補正動作からコンタクト動作までをすべて自動で行えるため、生産性の低下を抑えることができる。また、補正値はその都度、駆動軸に付加できるため、チップ固定台が複数個ある場合にも対応が可能となる効果がある。   According to the semiconductor chip test apparatus of the present invention, since the operation from the contact position correcting operation to the contact operation between the semiconductor chip and the probe can be performed automatically, it is possible to suppress the decrease in productivity. Further, since the correction value can be added to the drive shaft each time, there is an effect that it is possible to cope with a case where there are a plurality of chip fixing bases.

実施の形態1における半導体チップテスト装置の全体構成を示す図である。1 is a diagram showing an overall configuration of a semiconductor chip test apparatus in Embodiment 1. FIG. 実施の形態1における半導体チップテスト装置のプローブユニットの構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a probe unit of the semiconductor chip test apparatus in the first embodiment. 実施の形態1における半導体チップテスト装置のプローブ治具の構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a probe jig of the semiconductor chip test apparatus in the first embodiment. 実施の形態1における半導体チップテスト装置のチップ固定台の構成を示す分解組立図である。FIG. 3 is an exploded view illustrating a configuration of a chip fixing base of the semiconductor chip test apparatus according to the first embodiment. 実施の形態1における半導体チップテスト装置のチップセンサ及びプローブセンサの構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a chip sensor and a probe sensor of the semiconductor chip test apparatus in the first embodiment. 実施の形態1における半導体チップテスト装置の計測器による計測動作を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a measurement operation by a measuring instrument of the semiconductor chip test apparatus in the first embodiment. 実施の形態1における半導体チップテスト装置のプローブ治具とチップ固定台の位置関係を示す図である。It is a figure which shows the positional relationship of the probe jig | tool of the semiconductor chip test apparatus in Embodiment 1, and a chip | tip fixing stand. 実施の形態1における半導体チップテスト装置のチップセンサによる計測動作を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a measurement operation by a chip sensor of the semiconductor chip test apparatus in the first embodiment. 実施の形態1における半導体チップテスト装置のチップセンサにより認識されたチップの位置関係を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a positional relationship of chips recognized by a chip sensor of the semiconductor chip test apparatus in the first embodiment. 実施の形態1における半導体チップテスト装置のプローブセンサによる計測動作を示す図である。6 is a diagram showing a measurement operation by a probe sensor of the semiconductor chip test apparatus in the first embodiment. FIG. 実施の形態1における半導体チップテスト装置のプローブセンサにより認識されたプローブの位置関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a positional relationship of probes recognized by a probe sensor of the semiconductor chip test apparatus in the first embodiment. 実施の形態1における半導体チップテスト装置のチップテストを示す図である。1 is a diagram showing a chip test of a semiconductor chip test apparatus in a first embodiment. 実施の形態2における半導体チップテスト装置の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the semiconductor chip test apparatus in Embodiment 2. FIG.

以下、本発明の実施の形態に係る半導体チップテスト装置について図1〜図13に基づいて説明する。   A semiconductor chip test apparatus according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

実施の形態1.
図1は、実施の形態1における半導体チップテスト装置を示す全体構成斜図である。図2は、半導体チップテスト装置のプローブユニットの構成図である。
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a perspective view showing the overall configuration of the semiconductor chip test apparatus according to the first embodiment. FIG. 2 is a configuration diagram of the probe unit of the semiconductor chip test apparatus.

図1に示すように、半導体チップテスト装置は、6軸の駆動軸を有するプローブユニット1と、プローブユニット1の先端に取り付けられたプローブ15と、電気特性をテストする半導体チップ17を吸着固定するチップ固定台2と、チップ固定台2が取り付けられ、チップ固定台2を所定の位置に送り込むテーブル24と、半導体チップ17の位置を検出するチップセンサ3と、プローブ15の位置を検出するプローブセンサ4と、チップ固定台2に対するプローブ15の傾斜角を計測する計測器5と、プローブユニット1の6軸の駆動軸を制御する制御装置6とで構成されている。   As shown in FIG. 1, the semiconductor chip test apparatus sucks and fixes a probe unit 1 having a six-axis drive shaft, a probe 15 attached to the tip of the probe unit 1, and a semiconductor chip 17 for testing electrical characteristics. A chip fixing base 2, a table 24 to which the chip fixing base 2 is attached and sending the chip fixing base 2 to a predetermined position, a chip sensor 3 for detecting the position of the semiconductor chip 17, and a probe sensor for detecting the position of the probe 15 4, a measuring instrument 5 that measures the inclination angle of the probe 15 with respect to the chip fixing base 2, and a control device 6 that controls the six driving axes of the probe unit 1.

また、図2に示すように、プローブユニット1は、モータにより駆動される6つの駆動軸(駆動軸X7、駆動軸Y8、駆動軸Z9、駆動軸θx10、駆動軸θy11、駆動軸θz12)と、半導体チップ17にテスト電流を供給、テストするためのプローブ15と、プローブ15を支えるプローブ治具13、プローブ治具13を固定、支持するためのプローブホルダ14から構成されている。   As shown in FIG. 2, the probe unit 1 includes six drive shafts (drive shaft X7, drive shaft Y8, drive shaft Z9, drive shaft θx10, drive shaft θy11, drive shaft θz12) driven by a motor, A probe 15 for supplying and testing a test current to the semiconductor chip 17, a probe jig 13 for supporting the probe 15, and a probe holder 14 for fixing and supporting the probe jig 13 are configured.

プローブホルダ14でのプローブ治具13の固定には、着脱作業が容易となるもの、例えばエアシリンダによるものが好ましい。図3にプローブ治具13の概略図(平面図(a)、正面図(b)、側面図(c))を示す。プローブ治具13には治具本体に所定本数の検査針を有するプローブ15が配置されている。プローブ15の検査針の配置位置と本数は、テスト対象である半導体チップ17の仕様により決定される。プローブ15は、配線基板を介し、試験装置(図示せず)に電気的に接続されている。また、プローブ治具13には、プローブホルダ14への脱着の容易性を考慮し、取手16を取り付けておくことが好ましい。   In order to fix the probe jig 13 with the probe holder 14, it is preferable to make the attachment / detachment work easy, for example, an air cylinder. FIG. 3 is a schematic view of the probe jig 13 (plan view (a), front view (b), side view (c)). In the probe jig 13, a probe 15 having a predetermined number of inspection needles is disposed on the jig body. The arrangement position and the number of inspection needles of the probe 15 are determined by the specifications of the semiconductor chip 17 to be tested. The probe 15 is electrically connected to a test apparatus (not shown) via a wiring board. In addition, it is preferable to attach a handle 16 to the probe jig 13 in consideration of ease of attachment to and removal from the probe holder 14.

図4にチップ固定台2の概略図を示す。チップ固定台2は、半導体チップ17を吸着保持する固定ブロック18から構成される。固定ブロック18は、半導体チップ17を吸着するために、所定位置に所定個数の真空吸引孔19が形成されている(図4(a))。真空吸着孔19の大きさと個数は、半導体チップ17の大きさにより、適宜最適なものが選択される。固定ブロック18には耐摩擦性の向上と耐食性を付加するために金メッキを施しておくことが望ましい。固定ブロック18に形成された真空吸引孔19は、真空ホース
(図示せず)を介して真空装置に接続されており、半導体チップ17に真空吸引力が加わり、チップ固定台2上に半導体チップ17が確実に吸着される(図4(b))。
FIG. 4 shows a schematic diagram of the chip fixing base 2. The chip fixing base 2 includes a fixing block 18 that holds the semiconductor chip 17 by suction. The fixed block 18 is formed with a predetermined number of vacuum suction holes 19 at predetermined positions in order to adsorb the semiconductor chip 17 (FIG. 4A). The optimum size and number of vacuum suction holes 19 are selected depending on the size of the semiconductor chip 17. The fixed block 18 is preferably plated with gold in order to improve friction resistance and add corrosion resistance. A vacuum suction hole 19 formed in the fixed block 18 is connected to a vacuum device via a vacuum hose (not shown), and a vacuum suction force is applied to the semiconductor chip 17 so that the semiconductor chip 17 is placed on the chip fixing base 2. Is reliably adsorbed (FIG. 4B).

図5にチップセンサ3とプローブセンサ4に用いる画像処理システムを示す。画像処理システムは、カメラ21、レンズ22及び照明23とから構成されている。カメラ21から得られた画像から半導体チップ17あるいはプローブ15の位置を認識、予め決められた位置とのずれを計測する。   FIG. 5 shows an image processing system used for the chip sensor 3 and the probe sensor 4. The image processing system includes a camera 21, a lens 22, and an illumination 23. The position of the semiconductor chip 17 or the probe 15 is recognized from the image obtained from the camera 21, and a deviation from a predetermined position is measured.

次に、実施の形態1における半導体チップテスト装置の動作について、図6から図12を参照して説明する。   Next, the operation of the semiconductor chip test apparatus in the first embodiment will be described with reference to FIGS.

まず、図6にチップ固定台2に対するプローブ治具13の傾斜角の計測時の状態を示す。駆動軸X7、駆動軸Y8、駆動軸Z9を使用し、プローブ治具13を計測器5に接触させ、所定量押し込む。計測器5には、接触式リニアゲージ等を用いる。この時、接触させる位置は、プローブ治具13内のプローブ15が突出している側の、プローブ15がない面部分で、測定箇所は3箇所、もしくは4箇所である。計測された値から算出されたプローブ治具13の傾斜角と高さが、制御装置6により所定位置と同じかどうかを判断する。異なっている場合は、所定位置とのずれを駆動軸Z9、駆動軸θx10、駆動軸θy11を駆動させて補正制御する。   First, FIG. 6 shows a state at the time of measuring the inclination angle of the probe jig 13 with respect to the chip fixing base 2. Using the drive shaft X7, the drive shaft Y8, and the drive shaft Z9, the probe jig 13 is brought into contact with the measuring instrument 5 and pushed in a predetermined amount. As the measuring instrument 5, a contact type linear gauge or the like is used. At this time, the contacting position is a surface portion where the probe 15 in the probe jig 13 protrudes, and the surface portion where the probe 15 is not present, and there are three or four measurement points. The controller 6 determines whether the tilt angle and height of the probe jig 13 calculated from the measured values are the same as the predetermined position. If they are different, the deviation from the predetermined position is corrected and controlled by driving the drive axis Z9, the drive axis θx10, and the drive axis θy11.

図7にプローブ治具13とチップ固定台2との位置関係を示す。プローブ15の先端とチップ固定台2の上面とは、部品加工精度ならびに組立精度から、Δθの傾斜角度ずれが存在する。プローブ15の先端とチップ固定台2の上面との傾斜角度ずれΔθを駆動軸θx10、駆動軸θy11により補正し、また、補正時に発生するX−Y−Z軸方向のずれを駆動軸X7、駆動軸Y8、駆動軸Z9により補正制御する。   FIG. 7 shows the positional relationship between the probe jig 13 and the chip fixing base 2. There is a tilt angle deviation of Δθ between the tip of the probe 15 and the upper surface of the chip fixing base 2 due to component processing accuracy and assembly accuracy. The tilt angle deviation Δθ between the tip of the probe 15 and the upper surface of the chip fixing base 2 is corrected by the drive axis θx10 and the drive axis θy11. Correction control is performed by the axis Y8 and the drive axis Z9.

次に、図8を用いてチップセンサ3により半導体チップ17を認識、位置を計測する方法について説明する。半導体チップ17を吸着固定したチップ固定台2は、テーブル24のチップ固定台搬送軸25により、チップセンサ3の直下に移動される。その後、チップセンサ3により半導体チップ17の位置を特定する。図9にチップセンサ3にて撮像された半導体チップ17の画像例を示す。チップセンサ3により半導体チップ17の輪郭位置Bを抽出、その位置が特定され、所定の輪郭位置Aに対する角度ずれΔα、軸ずれΔx及びΔyが算出される。チップセンサ3により特定された輪郭位置Bと所定の輪郭位置Aとのずれが比較され、制御装置6により所定位置とのずれ量(Δx、Δy、Δα)に対して駆動軸X7、駆動軸Y8、駆動軸θz12で補正制御する。補正制御された後は、チップ固定台搬送軸25を駆動させて、チップ固定台2を半導体チップ17のテストを行う位置に移動させる。ここでは、半導体チップ17の位置を特定するために、半導体チップ17の輪郭を用いる方法について説明したが、半導体チップ17上に表記されたアライメントマークを利用する等、その他の方法を用いてもよい。   Next, a method for recognizing the semiconductor chip 17 by the chip sensor 3 and measuring the position will be described with reference to FIG. The chip fixing base 2 to which the semiconductor chip 17 is fixed by suction is moved directly below the chip sensor 3 by the chip fixing base conveying shaft 25 of the table 24. Thereafter, the position of the semiconductor chip 17 is specified by the chip sensor 3. FIG. 9 shows an image example of the semiconductor chip 17 imaged by the chip sensor 3. The contour position B of the semiconductor chip 17 is extracted by the chip sensor 3, the position is specified, and the angular deviation Δα and the axial deviations Δx and Δy with respect to the predetermined contour position A are calculated. The deviation between the contour position B specified by the chip sensor 3 and the predetermined contour position A is compared, and the control device 6 drives the drive axis X7 and the drive axis Y8 with respect to the deviation amounts (Δx, Δy, Δα). The correction is controlled by the drive shaft θz12. After the correction control, the chip fixing base transport shaft 25 is driven to move the chip fixing base 2 to a position where the test of the semiconductor chip 17 is performed. Here, the method of using the outline of the semiconductor chip 17 in order to specify the position of the semiconductor chip 17 has been described. However, other methods such as using an alignment mark written on the semiconductor chip 17 may be used. .

続いて、図10を用いてプローブセンサ4によりプローブ治具13を認識、位置を計測する方法について説明する。プローブ治具13は駆動軸X7、駆動軸Y8、駆動軸Z9により、プローブセンサ4上に移動される。その後、プローブセンサ4によりプローブ治具13の位置を特定する。図11にプローブセンサ4にて撮像されたプローブ治具13の識別マークの画像例を示す。プローブセンサ4によりプローブ治具13に設けられた一対の識別マークDの位置を抽出、その位置が特定され、一対の所定の識別マーク位置Cに対する角度ずれΔβ、軸ずれΔx及びΔyが算出される。識別マークDの一対の円の中心を結んだ線とその中点を用いて、所定の識別マーク位置Cとのずれを計測している。プローブセンサ4により特定された識別マーク位置Dと所定の識別マーク位置Cとのずれが比較され、制御装置6により所定位置とのずれ量(Δx、Δy、Δβ)に対して駆動軸X7、駆
動軸Y8、駆動軸θz12で補正制御する。補正制御された後は、プローブ治具13を半導体チップ17のテストを行う位置に戻す。ここでは、プローブ治具13の位置を特定するために、プローブ治具13に設けられた一対の識別マークを用いる方法について説明したが、プローブ15の位置を利用する等、その他の方法を用いてもよい。
Next, a method for recognizing the probe jig 13 by the probe sensor 4 and measuring the position will be described with reference to FIG. The probe jig 13 is moved onto the probe sensor 4 by the drive axis X7, the drive axis Y8, and the drive axis Z9. Thereafter, the position of the probe jig 13 is specified by the probe sensor 4. FIG. 11 shows an example of an identification mark image of the probe jig 13 imaged by the probe sensor 4. The position of the pair of identification marks D provided on the probe jig 13 is extracted by the probe sensor 4, the positions are specified, and the angle deviation Δβ, the axis deviation Δx and Δy with respect to the pair of predetermined identification mark positions C are calculated. . A deviation from a predetermined identification mark position C is measured using a line connecting the centers of a pair of circles of the identification mark D and the midpoint thereof. The deviation between the identification mark position D specified by the probe sensor 4 and the predetermined identification mark position C is compared, and the controller 6 drives the drive shaft X7 with respect to the deviation amounts (Δx, Δy, Δβ) from the predetermined position. Correction control is performed with the axis Y8 and the drive axis θz12. After the correction control, the probe jig 13 is returned to the position where the semiconductor chip 17 is tested. Here, the method of using a pair of identification marks provided on the probe jig 13 to specify the position of the probe jig 13 has been described. However, other methods such as using the position of the probe 15 are used. Also good.

最後に、図12にプローブ15により半導体チップ17がテストされている様子を示す。まず、半導体チップ17のテストを行うため、テーブル24のチップ固定台搬送軸25によりチップ固定台2がプローブ15下の所定の位置に移動される。その後、プローブ治具13の傾斜と位置、チップ固定台2との位置関係を補正した後、所定の位置から駆動軸Z9を駆動させてプローブ治具13を降下させる。半導体チップ17にプローブ15を接触させ、テスト電流を供給することで、所望のテストを実施する。テスト終了後、半導体チップ17を取り出し、一連の動作を完了する。上記一連の動作は、制御装置6により自動的に実施される。   Finally, FIG. 12 shows how the semiconductor chip 17 is tested by the probe 15. First, in order to test the semiconductor chip 17, the chip fixing base 2 is moved to a predetermined position under the probe 15 by the chip fixing base conveying shaft 25 of the table 24. Thereafter, the inclination and position of the probe jig 13 and the positional relationship with the chip fixing base 2 are corrected, and then the drive axis Z9 is driven from a predetermined position to lower the probe jig 13. A desired test is performed by bringing the probe 15 into contact with the semiconductor chip 17 and supplying a test current. After the test, the semiconductor chip 17 is taken out and a series of operations is completed. The above series of operations is automatically performed by the control device 6.

以上のように、実施の形態1では、半導体チップとプローブとのコンタクトの調整を、プローブセンサ、チップセンサ及び計測器とによって得られた計測値を基に、プローブユニットの6駆動軸をモータ駆動により補正調整することにより、円滑に短時間で正確に位置決めすることができ、半導体チップの電気特性のテストを効率よく実施することができる。   As described above, in the first embodiment, the contact between the semiconductor chip and the probe is adjusted based on the measurement values obtained by the probe sensor, the chip sensor, and the measuring instrument. By performing the correction and adjustment, the positioning can be performed smoothly and accurately in a short time, and the electrical characteristics test of the semiconductor chip can be efficiently performed.

このように、実施の形態1におけるチップテスト装置では、半導体チップとプローブとのコンタクト位置補正動作からコンタクト動作までをすべて自動で行えるため、生産性の向上を図ることができる。   As described above, in the chip test apparatus according to the first embodiment, all operations from the contact position correcting operation to the contact operation between the semiconductor chip and the probe can be automatically performed, so that productivity can be improved.

実施の形態2.
図13は、実施の形態2における半導体チップテスト装置を示す全体構成図である。
Embodiment 2. FIG.
FIG. 13 is an overall configuration diagram showing a semiconductor chip test apparatus according to the second embodiment.

図13に示すように、半導体チップテスト装置は、複数のチップ固定台2をインデックステーブル26上に配置したものである。他の構成要素は図1に示す実施の形態1と同様であるので、説明を省略する。   As shown in FIG. 13, the semiconductor chip test apparatus has a plurality of chip fixing bases 2 arranged on an index table 26. The other components are the same as those in the first embodiment shown in FIG.

次に、実施の形態2における半導体チップテスト装置の動作及びチップ固定台の傾きと高さに対するプローブ位置を補正する操作手順について、図3を参照して説明する。   Next, the operation of the semiconductor chip test apparatus according to the second embodiment and the operation procedure for correcting the probe position with respect to the inclination and height of the chip fixing base will be described with reference to FIG.

実施の形態1のテーブル24をインデックステーブル26にして、複数のチップ固定台2を設けることで、インデックステーブル26を回転させ、半導体チップ17の供給、テスト、取出しのそれぞれの工程を分担させることができるため、生産性を向上できる効果がある。図13では、インデックステーブル26上にチップ固定台2を4個配置して、インデックステーブル26を回転させる例を示しているが、必要な生産能力に応じて、チップ固定台2の個数を増減させてもよい。インデックステーブル26上に配置された複数のチップ固定台2は、それぞれに固有の傾き、高さを持っているため、個別にプローブ15先端とチップ固定台2との上面のずれを補正する必要がある。そこで、各々のチップ固定台2の傾きと高さを補正する操作手順としては、予めチップ固定台毎の補正値をパラメータとして制御装置6に記憶させておくことで、半導体チップ17の電気特性のテスト時にプローブユニット1の6つのモータ駆動軸を操作することによって各チップ固定台2毎に半導体チップ17とプローブ15との最適なコンタクトを実施することが可能となる。   By using the table 24 of the first embodiment as the index table 26 and providing a plurality of chip fixing bases 2, the index table 26 can be rotated to share the steps of supplying, testing, and taking out the semiconductor chip 17. As a result, productivity can be improved. Although FIG. 13 shows an example in which four chip fixing bases 2 are arranged on the index table 26 and the index table 26 is rotated, the number of chip fixing bases 2 is increased or decreased according to the required production capacity. May be. Since the plurality of chip fixing bases 2 arranged on the index table 26 have their own inclination and height, it is necessary to individually correct the upper surface displacement between the tip of the probe 15 and the chip fixing base 2. is there. Therefore, as an operation procedure for correcting the inclination and height of each chip fixing base 2, the correction value for each chip fixing base is stored in the control device 6 as a parameter in advance so that the electrical characteristics of the semiconductor chip 17 can be corrected. By operating the six motor drive shafts of the probe unit 1 during the test, it is possible to make an optimum contact between the semiconductor chip 17 and the probe 15 for each chip fixing base 2.

なお、各チップ固定台2の高さと傾きの補正については、予めダミーの半導体チップ17を固定させた状態でプローブ治具13を駆動軸Z9で徐々に下げ、駆動軸θx10、駆動軸θy11を調整し、半導体チップ17表面にプローブ15が接触するポイントを補正値として用いる。接触したかどうかの判断は、半導体チップ17の表面につくプローブ痕で判断する。プローブ治具13は、リニアゲージによる計測で、傾き及び高さ方向の補正値を算出する。   For correction of the height and inclination of each chip fixing base 2, the probe jig 13 is gradually lowered with the drive axis Z9 in a state where the dummy semiconductor chip 17 is fixed in advance, and the drive axis θx10 and the drive axis θy11 are adjusted. The point where the probe 15 contacts the surface of the semiconductor chip 17 is used as a correction value. Whether or not the contact has occurred is determined by a probe mark on the surface of the semiconductor chip 17. The probe jig 13 calculates correction values in the inclination and height directions by measurement using a linear gauge.

このように、実施の形態2における半導体チップテスト装置及び操作手順では、実施の形態1と同様の効果を有すると共に、回転可能なインデックステーブルを利用することにより、複数のチップ固定台を回転させ、半導体チップの供給、テスト、取出しのそれぞれの工程を分担させることができるため、さらに生産性を向上できる効果がある。   As described above, the semiconductor chip test apparatus and operation procedure according to the second embodiment have the same effects as those of the first embodiment, and rotate a plurality of chip fixing bases by using a rotatable index table. Since each process of supplying, testing, and taking out semiconductor chips can be shared, there is an effect that productivity can be further improved.

なお、図において、同一符号は、同一または相当部分を示す。   In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

1 プローブユニット 2 チップ固定台
3 チップセンサ 4 プローブセンサ
5 計測器 6 制御装置
7 駆動軸X 8 駆動軸Y 9 駆動軸Z
10 駆動軸θx 11 駆動軸θy 12 駆動軸θz
13 プローブ治具 14 プローブホルダ
15 プローブ 17 半導体チップ
24 テーブル 25 チップ固定台搬送軸
26 インデックステーブル
A 半導体チップの輪郭所定位置
B 半導体チップの輪郭特定位置
C プローブ治具の識別マーク所定位置
D プローブ治具の識別マーク特定位置

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Probe unit 2 Chip fixing base 3 Chip sensor 4 Probe sensor 5 Measuring instrument 6 Control apparatus 7 Drive axis X 8 Drive axis Y 9 Drive axis Z
10 Drive axis θx 11 Drive axis θy 12 Drive axis θz
DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 Probe jig 14 Probe holder 15 Probe 17 Semiconductor chip 24 Table 25 Chip fixed base conveyance axis | shaft 26 Index table A Semiconductor chip outline predetermined position B Semiconductor chip outline specific position C Probe jig identification mark predetermined position D Probe jig Identification mark specific position

Claims (1)

インデックステーブル上に配置され、半導体チップを固定する複数のチップ固定台と、
駆動可能な6軸(X、Y、Z、θx、θy、θz)を有するプローブユニットに取り付けられ、前記半導体チップの電気特性をテストするためのプローブと、
前記半導体チップの位置を計測するチップセンサと、
前記プローブの位置を計測するプローブセンサと、
前記複数のチップ固定台に対する前記プローブの傾斜角及び前記インデックステーブルを基準とする前記チップ固定台の高さを計測する計測器と、
前記チップセンサ、前記プローブセンサ及び前記計測器から得られた計測値を基に前記半導体チップに対する前記プローブの位置を算出し、前記プローブ位置を調整する制御装置と、を備え、
前記チップ固定台毎に予め前記計測器により前記プローブの傾斜角及び前記チップ固定台の高さが計測され、前記半導体チップの電気特性のテスト時に前記計測値を利用して前記プローブの位置が補正調整される操作手順を有することを特徴とする半導体チップテスト装置。
A plurality of chip fixing bases arranged on the index table and fixing the semiconductor chips;
A probe attached to a probe unit having six axes (X, Y, Z, θx, θy, θz) that can be driven, and for testing the electrical characteristics of the semiconductor chip;
A chip sensor for measuring the position of the semiconductor chip;
A probe sensor for measuring the position of the probe;
A measuring device which measures the chip fixing base height relative to the inclination angle and the index table of the probe for the plurality of chips fixing base,
A controller that calculates the position of the probe with respect to the semiconductor chip based on the measurement values obtained from the chip sensor, the probe sensor, and the measuring instrument, and adjusts the position of the probe;
The inclination angle of the probe and the height of the chip fixing base are measured in advance by the measuring instrument for each chip fixing base, and the position of the probe is corrected by using the measured value when testing the electrical characteristics of the semiconductor chip. A semiconductor chip test apparatus characterized by having an adjusted operation procedure .
JP2010238537A 2010-10-25 2010-10-25 Semiconductor chip test equipment Active JP5342535B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010238537A JP5342535B2 (en) 2010-10-25 2010-10-25 Semiconductor chip test equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010238537A JP5342535B2 (en) 2010-10-25 2010-10-25 Semiconductor chip test equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012093112A JP2012093112A (en) 2012-05-17
JP5342535B2 true JP5342535B2 (en) 2013-11-13

Family

ID=46386615

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010238537A Active JP5342535B2 (en) 2010-10-25 2010-10-25 Semiconductor chip test equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5342535B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI658981B (en) * 2018-12-11 2019-05-11 鴻勁精密股份有限公司 Carrying mechanism of conveying device and electronic component operation equipment applied thereto
CN113848464B (en) * 2021-11-25 2022-02-15 河北圣昊光电科技有限公司 Chip double integrating sphere testing device and testing method

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04294559A (en) * 1991-03-22 1992-10-19 Tokyo Electron Ltd Probe card
JPH07147304A (en) * 1993-11-24 1995-06-06 Tokyo Electron Ltd Automatic setup probing
JPH11251379A (en) * 1998-02-27 1999-09-17 Toshiba Microelectronics Corp Wafer probing device
JP2000260852A (en) * 1999-03-11 2000-09-22 Tokyo Electron Ltd Inspection stage and device
JP2001201536A (en) * 2000-01-19 2001-07-27 Sony Corp Prober for measuring chip
JP2006308299A (en) * 2005-04-26 2006-11-09 Ueno Seiki Kk Electrode alignment device for semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012093112A (en) 2012-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6445201B1 (en) IC package testing device and method for testing IC package using the same
KR100248569B1 (en) Probe system
JP3163221B2 (en) Probe device
US10082524B2 (en) Prober in which probe head of probe card is replaced automatically
JP2007071824A (en) Method for adjusting parallelism of probe card and mounting base, inspection program storage medium, and inspection device
TW201403733A (en) System and method for adjusting the position and orientation of a feed arm associated with a wafer handling robot
CN110931367B (en) Chip mounting device and method for manufacturing semiconductor device
TWI402932B (en) Probing apparatus with multiaxial stages for testing semiconductor devices
JPH07263517A (en) Positioning apparatus for ic socket
CN114441942A (en) Flying probe testing method, system, equipment and storage medium for PCB
JPWO2016117016A1 (en) Inspection support device
JP5342535B2 (en) Semiconductor chip test equipment
JPH0370900B2 (en)
JP2007095993A (en) Method of aligning probe point with electrode of inspection body
US20040249595A1 (en) Method of calibrating a component placement machine, device suitable for carrying out such a method, and calibration component suitable for use in such a method or device
US7218097B2 (en) Wafer test equipment and method of aligning test equipment
JPH0737941A (en) Probe device
US8410803B2 (en) Test apparatus of semiconductor device and method thereof
TW202217321A (en) Position shifter for electronic component support and operating apparatus using the same
JP2018148060A (en) Test equipment of wafer level package
JP2005123293A (en) Method for inspecting probe
KR102119189B1 (en) Wafer prober
JP2002189055A (en) Characteristics measuring method of leadless semiconductor device, and its device
JPH04355943A (en) Wafer prober
JP2575074B2 (en) Wafer prober

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121009

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130528

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130604

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130710

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130730

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130809

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5342535

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250