JP5324082B2 - Process for producing 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of preparing a 9,9-bis(carboxyaryl)fluorene and its ester at a high yield. <P>SOLUTION: The 9,9-bis(carboxyaryl)fluorene is prepared by causing a compound represented by formula (1) to react with carbon monoxide in the presence of a transition metal catalyst, and water and/or an alcohol (in the formula, Z represents an aromatic hydrocarbon ring; R<SP>1</SP>represents a cyano group, a halogen atom or an alkyl group; R<SP>2</SP>represents a hydrocarbon group, an alkoxy group or the like; R<SP>3</SP>represents a trifluoromethyl group or the like; k is a natural number of 0 to 4; m is a natural number of 0 or greater; and n is an integer of 1 or greater). <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステルを製造する方法、ならびに耐熱性などにおいて優れた新規な9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類(9,9−ビス(カルボキシナフチル)フルオレン類など)およびそのエステルに関する。   The present invention relates to a method for producing 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof, and novel 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes (9,9-bis ( Carboxynaphthyl) fluorenes and the like) and esters thereof.

9,9−ビスフェニルフルオレン骨格などのフルオレン骨格を有する化合物は、屈折率、耐熱性などにおいて優れた機能を有しており、樹脂原料や添加剤として用いることが知られている。このようなフルオレン骨格を有する化合物の中でも、特に、フルオレンジ安息香酸[4,4’−(9−フルオレニリデン)ジベンゾイックアシッド]などのカルボキシル基を有するフルオレン骨格を有する化合物は、樹脂原料(ポリイミド、ポリエステル、アクリル樹脂の原料など)、硬化剤(エポキシ樹脂硬化剤など)などとしての用途が期待できる。   A compound having a fluorene skeleton such as a 9,9-bisphenylfluorene skeleton has an excellent function in terms of refractive index, heat resistance and the like, and is known to be used as a resin raw material or an additive. Among the compounds having such a fluorene skeleton, in particular, a compound having a fluorene skeleton having a carboxyl group such as fluorenedibenzoic acid [4,4 ′-(9-fluorenylidene) dibenzoic acid] is a resin raw material (polyimide, Polyester, acrylic resin raw materials, etc.) and curing agents (epoxy resin curing agents, etc.) can be expected.

このようなフルオレンジ安息香酸の製造方法として、特開2005−82564号公報(特許文献1)には、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンをトリフェニルホスフィンジブロミドと反応させることにより、前記化合物のヒドロキシル基をブロモ化し、次いでブチルリチウムおよびドライアイスを用いて反応させる方法が開示されている。   As a method for producing such fluorenedibenzoic acid, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-82564 (Patent Document 1) includes reacting 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene with triphenylphosphine dibromide. Discloses a method in which the hydroxyl group of the compound is brominated and then reacted with butyllithium and dry ice.

しかし、この文献の方法では、収率が40%程度と十分な値ではない点、低温での反応条件が必要であるため大量合成に向いていない点、金属含有廃液が大量に出るため環境面からも好ましくない点などから、より効率的で工業的に利用可能な製造方法の開発が望まれている。
特開2005−82564号公報(段落番号[0015]、[0018]、[0019])
However, in the method of this document, the yield is about 40%, which is not a sufficient value, the reaction conditions at low temperature are necessary, so it is not suitable for mass synthesis, and a large amount of metal-containing waste liquid comes out, so it is environmentally friendly. Therefore, the development of a more efficient and industrially usable production method is desired because it is not preferable.
JP 2005-82564 A (paragraph numbers [0015], [0018], [0019])

従って、本発明の目的は、高分子材料の原料などとして有用な9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステルを、高収率で製造する方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof useful as a raw material for polymer materials in high yield.

本発明の他の目的は、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステルを高純度で得ることができ、大量合成に適した製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a production method suitable for mass synthesis, which can obtain 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof with high purity.

本発明のさらに他の目的は、耐熱性などに優れた新規な9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステルを提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide novel 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof having excellent heat resistance and the like.

本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類をスルホン酸エステル化(例えば、トリフラート化)した化合物を用いて、一酸化炭素によるカルボニル化反応を行うと、高収率で対応するフルオレン誘導体(9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステル)が得られること、また、9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類として、アリール基が縮合多環式炭化水素基(ナフチル基など)である化合物を用いると、耐熱性などにおいて優れた新規なフルオレン誘導体が得られることを見出し、本発明を完成した。   As a result of diligent studies to achieve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention have used a compound obtained by sulfonated (for example, triflated) 9,9-bis (hydroxyaryl) fluorenes to form a carbonyl by carbon monoxide. When the reaction is carried out, the corresponding fluorene derivatives (9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof) are obtained in high yield, and 9,9-bis (hydroxyaryl) fluorenes are obtained, It has been found that when a compound whose aryl group is a condensed polycyclic hydrocarbon group (such as a naphthyl group) is used, a novel fluorene derivative excellent in heat resistance and the like can be obtained, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明の方法は、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステルから選択されたフルオレン誘導体を製造する方法であって、下記式(1)で表される化合物と一酸化炭素とを反応させるカルボニル化工程を少なくとも含む前記フルオレン誘導体の製造方法である。   That is, the method of the present invention is a method for producing a fluorene derivative selected from 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof, which comprises a compound represented by the following formula (1) and carbon monoxide. It is a manufacturing method of the said fluorene derivative which includes at least the carbonylation process made to react.

Figure 0005324082
Figure 0005324082

(式中、環Zは芳香族炭化水素環を示し、Rはシアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基、Rは、炭化水素基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基を示し、Rはハロゲン原子により置換されていてもよい炭化水素基を示す。kは0〜4の整数、mは0以上の整数、nは1以上の整数である。)
前記方法は、カルボニル化工程に先だって、下記式(1A)で表される化合物と、基RSO−に対応するスルホン酸類(例えば、トリフルオロメタンスルホン酸類)とを反応させて、前記式(1)で表される化合物を得るスルホン酸エステル化工程(例えば、トリフラート化工程)を含んでいてもよい。
(In the formula, ring Z represents an aromatic hydrocarbon ring, R 1 is a cyano group, a halogen atom or an alkyl group, R 2 is a hydrocarbon group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, An acyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group or a substituted amino group, wherein R 3 represents a hydrocarbon group optionally substituted by a halogen atom, k is an integer of 0 to 4, and m is an integer of 0 or more. , N is an integer of 1 or more.)
Prior to the carbonylation step, the method comprises reacting a compound represented by the following formula (1A) with a sulfonic acid corresponding to the group R 3 SO 3 — (for example, trifluoromethanesulfonic acid) to form the above formula ( A sulfonic acid esterification step (for example, a triflation step) for obtaining the compound represented by 1) may be included.

Figure 0005324082
Figure 0005324082

(式中、Z、R、R、k、m、nは前記と同じ。)
前記式(1)(又は前記式(1A))において、代表的には、環Zがベンゼン環又はナフタレン環であり、Rがアルキル基であり、kが0〜1であり、Rがアルキル基又はアリール基であり、mが0〜2であり、nが1〜3であってもよい。
(In the formula, Z, R 1 , R 2 , k, m, and n are the same as described above.)
In the formula (1) (or the formula (1A)), typically, the ring Z is a benzene ring or a naphthalene ring, R 1 is an alkyl group, k is 0 to 1, and R 2 is It is an alkyl group or an aryl group, m may be 0-2, and n may be 1-3.

また、前記カルボニル化工程において、通常、前記式(1)で表される化合物と一酸化炭素とを遷移金属触媒(パラジウム化合物など)の存在下で反応させてもよい。このような方法において、前記遷移金属触媒の割合は、前記式(1)で表される化合物の基RSO−(例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基)1モルに対して、例えば、0.00001〜0.1モル程度であってもよい。 In the carbonylation step, the compound represented by the formula (1) may be reacted with carbon monoxide in the presence of a transition metal catalyst (such as a palladium compound). In such a method, the ratio of the transition metal catalyst is, for example, about 0.1 per mol of the group R 3 SO 3 — (for example, trifluoromethanesulfonyloxy group) of the compound represented by the formula (1). It may be about 00001 to 0.1 mol.

また、前記カルボニル化工程において、前記式(1)で表される化合物と一酸化炭素とを水及び/又はアルコール類の存在下で反応させてもよい。水の存在化で反応させると対応するカルボン酸(9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類)が効率よく得られ、また、アルコール類の存在化で反応させると対応するエステルが効率よく得られる。   In the carbonylation step, the compound represented by the formula (1) and carbon monoxide may be reacted in the presence of water and / or alcohols. When reacted in the presence of water, the corresponding carboxylic acid (9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes) is efficiently obtained, and when reacted in the presence of alcohols, the corresponding ester is efficiently obtained. .

本発明には、下記式(A1)で表される化合物およびそのエステルから選択されたフルオレン誘導体も含まれる。   The present invention also includes a fluorene derivative selected from a compound represented by the following formula (A1) and an ester thereof.

Figure 0005324082
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(式中、環Zは縮合多環式芳香族炭化水素環を示し、R、R、k、m、nは前記と同じ。)
前記式(A1)において、環Zは、例えば、ナフタレン環であってもよい。
(In the formula, ring Z 1 represents a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring, and R 1 , R 2 , k, m, and n are the same as described above.)
In the formula (A1), the ring Z 1 may be, for example, a naphthalene ring.

なお、本明細書において、化合物名などの「類」とは、「置換基を有さない」場合と「置換基を有する」場合とを含み、「置換基を有していてもよい」ことを意味する場合がある。   In the present specification, the “class” such as a compound name includes a case of “having no substituent” and a case of “having a substituent”, and “may have a substituent”. May mean.

本発明の方法では、高分子材料の原料などとして有用な9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステルを、高収率で、製造できる。また、本発明の方法は、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステルを高純度で得ることができ、大量合成に適している。そのため、本発明の方法は、工業的にも極めて有利である。さらに、本発明では、耐熱性などに優れた新規な9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステルを提供できる。   In the method of the present invention, 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters useful as raw materials for polymer materials can be produced in high yield. Moreover, the method of the present invention can obtain 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof with high purity, and is suitable for mass synthesis. Therefore, the method of the present invention is extremely advantageous industrially. Furthermore, the present invention can provide novel 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof that are excellent in heat resistance and the like.

<フルオレン誘導体の製造方法>
本発明の方法は、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類(後述の式(A)で表される化合物)およびそのエステルから選択されたフルオレン誘導体を製造する方法であって、下記式(1)で表される化合物と一酸化炭素とを反応させるカルボニル化工程を少なくとも含む。
<Method for producing fluorene derivative>
The method of the present invention is a method for producing a fluorene derivative selected from 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes (compound represented by the following formula (A)) and esters thereof, It includes at least a carbonylation step of reacting the compound represented by 1) with carbon monoxide.

Figure 0005324082
Figure 0005324082

(式中、環Zは芳香族炭化水素環を示し、RおよびRは同一又は異なって置換基を示し、Rはハロゲン原子により置換されていてもよい炭化水素基を示す。kは0〜4の整数、mは0以上の整数、nは1以上の整数である。)
[式(1)で表される化合物]
前記式(1)において、基Rで表される置換基としては、例えば、シアノ基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子など)、炭化水素基[例えば、アルキル基、アリール基(フェニル基などのC6−10アリール基)など]などであってもよく、シアノ基又はアルキル基(特にアルキル基)である場合が多い。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基などのC1−6アルキル基(例えば、C1−4アルキル基、特にメチル基)などが例示できる。なお、kが複数(2以上)である場合、基Rは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、フルオレン(又はフルオレン骨格)を構成する2つのベンゼン環に置換する基Rは同一であってもよく、異なっていてもよい。また、フルオレンを構成するベンゼン環に対する基Rの結合位置(置換位置)は、特に限定されない。好ましい置換数kは、0〜1、特に0である。なお、フルオレンを構成する2つのベンゼン環において、置換数kは、互いに同一又は異なっていてもよい。
(In the formula, ring Z represents an aromatic hydrocarbon ring, R 1 and R 2 are the same or different and represent a substituent, and R 3 represents a hydrocarbon group which may be substituted with a halogen atom. An integer of 0 to 4, m is an integer of 0 or more, and n is an integer of 1 or more.)
[Compound represented by Formula (1)]
In the formula (1), examples of the substituent represented by the group R 1 include a cyano group, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a hydrocarbon group [for example, an alkyl group, an aryl group ( C 6-10 aryl group such as a phenyl group)] and the like], etc., and is often a cyano group or an alkyl group (particularly an alkyl group). Examples of the alkyl group include C 1-6 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a t-butyl group (for example, a C 1-4 alkyl group, particularly a methyl group). . In addition, when k is plural (two or more), the groups R 1 may be different from each other or the same. Further, the groups R 1 substituted on the two benzene rings constituting the fluorene (or fluorene skeleton) may be the same or different. Further, the bonding position (substitution position) of the group R 1 with respect to the benzene ring constituting the fluorene is not particularly limited. The preferred substitution number k is 0 to 1, in particular 0. In the two benzene rings constituting fluorene, the number of substitutions k may be the same or different from each other.

また、前記式(1)において、環Zで表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環(詳細には、少なくともベンゼン環を含む縮合多環式炭化水素環)などが挙げられる。縮合多環式芳香族炭化水素環に対応する縮合多環式芳香族炭化水素としては、縮合二環式炭化水素(例えば、インデン、ナフタレンなどのC8−20縮合二環式炭化水素、好ましくはC10−16縮合二環式炭化水素)、縮合三環式炭化水素(例えば、アントラセン、フェナントレンなど)などの縮合二乃至四環式炭化水素などが挙げられる。好ましい縮合多環式芳香族炭化水素としては、ナフタレン、アントラセンなどが挙げられ、特にナフタレンが好ましい。なお、フルオレンの9位に置換する2つの環Zは同一の又は異なる環であってもよく、通常、同一の環であってもよい。 In the formula (1), examples of the aromatic hydrocarbon ring represented by the ring Z include a benzene ring and a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring (specifically, a condensed polycyclic carbon ring including at least a benzene ring). Hydrogen ring). Examples of the condensed polycyclic aromatic hydrocarbon corresponding to the condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring include condensed bicyclic hydrocarbons (for example, C 8-20 condensed bicyclic hydrocarbons such as indene and naphthalene, preferably C 10-16 condensed bicyclic hydrocarbons) and condensed tricyclic hydrocarbons (for example, anthracene, phenanthrene, etc.) and the like, and the like. Preferable condensed polycyclic aromatic hydrocarbons include naphthalene and anthracene, and naphthalene is particularly preferable. The two rings Z substituted at the 9-position of fluorene may be the same or different rings, and may usually be the same ring.

好ましい環Zには、ベンゼン環およびナフタレン環(特にベンゼン環)が含まれる。なお、環Zが、縮合多環式芳香族炭化水素環である場合、フルオレンの9位に置換する環Zの置換位置は、特に限定されず、例えば、フルオレンの9位に置換するナフチル基は、1−ナフチル基、2−ナフチル基などであってもよい。   Preferred ring Z includes a benzene ring and a naphthalene ring (particularly a benzene ring). In addition, when the ring Z is a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring, the substitution position of the ring Z substituted at the 9th position of fluorene is not particularly limited. For example, the naphthyl group substituted at the 9th position of fluorene is , 1-naphthyl group, 2-naphthyl group and the like.

また、前記式(1)において、Rで表される置換基としては、カルボキシル基以外の置換基(特に、非反応性置換基)、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基などのC1−20アルキル基、好ましくはC1−8アルキル基、さらに好ましくはC1−6アルキル基など)、シクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロへキシル基などのC5−10シクロアルキル基、好ましくはC5−8シクロアルキル基、さらに好ましくはC5−6シクロアルキル基など)、アリール基[例えば、フェニル基、アルキルフェニル基(メチルフェニル基(又はトリル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基など)、ジメチルフェニル基(キシリル基)など)、ナフチル基などのC6−10アリール基、好ましくはC6−8アリール基、特にフェニル基など]、アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基などのC6−10アリール−C1−4アルキル基など)などの炭化水素基;アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基などのC1−20アルコキシ基、好ましくはC1−8アルコキシ基、さらに好ましくはC1−6アルコキシ基など)、シクロアルコキシ基(シクロへキシルオキシ基などのC5−10シクロアルキルオキシ基など)、アリールオキシ基(フェノキシ基などのC6−10アリールオキシ基)、アラルキルオキシ基(例えば、ベンジルオキシ基などのC6−10アリール−C1−4アルキルオキシ基)などのエーテル基(置換ヒドロキシル基);アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基などのC1−20アルキルチオ基、好ましくはC1−8アルキルチオ基、さらに好ましくはC1−6アルキルチオ基など)、シクロアルキルチオ基(シクロへキシルチオ基などのC5−10シクロアルキルチオ基など)、アリールチオ基(チオフェノキシ基などのC6−10アリールチオ基)、アラルキルチオ基(例えば、ベンジルチオ基などのC6−10アリール−C1−4アルキルチオ基)などのチオエーテル基(置換メルカプト基);アシル基(アセチル基などのC1−6アシル基など);ヒドロキシル基;ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など);ニトロ基;シアノ基;置換アミノ基(ジアルキルアミノ基など)などが挙げられる。 In the formula (1), the substituent represented by R 2 is a substituent other than a carboxyl group (particularly a non-reactive substituent), for example, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group). Group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group, t-butyl group and the like, C 1-20 alkyl group, preferably C 1-8 alkyl group, more preferably C 1-6 alkyl group, etc.), cycloalkyl group (C 5-10 cycloalkyl group such as cyclopentyl group and cyclohexyl group, preferably C 5-8 cycloalkyl group, more preferably C 5-6 cycloalkyl group etc.), aryl group [for example, phenyl group, alkyl Phenyl group (methylphenyl group (or tolyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, etc.), dimethylphenyl group (xylyl group), etc. ), A C 6-10 aryl group such as a naphthyl group, preferably a C 6-8 aryl group, particularly a phenyl group], an aralkyl group (a C 6-10 aryl-C 1-4 alkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group). Hydrocarbon groups such as etc .; C 1-20 alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, t-butoxy group, preferably C 1-8 alkoxy group, More preferably, a C 1-6 alkoxy group), a cycloalkoxy group (C 5-10 cycloalkyloxy group such as cyclohexyloxy group), an aryloxy group (C 6-10 aryloxy group such as phenoxy group), aralkyloxy group (e.g., C 6-10 aryl -C 1-4 alkyl group such as a benzyl group), etc. Ether group (substituted hydroxyl group); an alkylthio group (methylthio group, ethylthio group, propylthio group, n- butylthio group, C 1-20 alkylthio group such as t- butylthio group, preferably a C 1-8 alkylthio group, more preferably C 1-6 alkylthio group), cycloalkylthio group (C 5-10 cycloalkylthio group such as cyclohexylthio group), arylthio group (C 6-10 arylthio group such as thiophenoxy group), aralkylthio group (for example, Thioether groups (substituted mercapto groups) such as C 6-10 aryl-C 1-4 alkylthio groups such as benzylthio groups; acyl groups (such as C 1-6 acyl groups such as acetyl groups); hydroxyl groups; halogen atoms ( Fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.); nitro ; And the like substituted amino group (such as dialkylamino group); a cyano group.

これらのうち、基Rは、炭化水素基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基であるのが好ましく、特に、好ましい基Rは、炭化水素基[例えば、アルキル基(例えば、C1−6アルキル基)など]、アルコキシ基(C1−4アルコキシ基など)、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など)などである。 Of these, the group R 2 is preferably a hydrocarbon group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, or a substituted amino group, The preferred group R 2 is a hydrocarbon group [eg, alkyl group (eg, C 1-6 alkyl group)], alkoxy group (eg, C 1-4 alkoxy group), halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine). Atoms, iodine atoms, etc.).

なお、同一の環Zにおいて、mが複数(2以上)である場合、基Rは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、2つの環Zにおいて、基Rは同一であってもよく、異なっていてもよい。また、好ましい置換数mは、0〜8、好ましくは0〜6(例えば、1〜5)、さらに好ましくは0〜4、特に0〜2(例えば、0〜1)であってもよい。なお、2つの環Zにおいて、置換数mは、互いに同一又は異なっていてもよい。 In the same ring Z, when m is plural (two or more), the groups R 2 may be different from each other or the same. In the two rings Z, the groups R 2 may be the same or different. The preferred substitution number m may be 0 to 8, preferably 0 to 6 (for example, 1 to 5), more preferably 0 to 4, particularly 0 to 2 (for example, 0 to 1). In the two rings Z, the number of substitutions m may be the same or different from each other.

前記式(1)において、基Rで表されるハロゲン原子により置換されていてもよい炭化水素基としては、例えば、炭化水素基[アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのC1−6アルキル基、好ましくはC1−4アルキル基、さらに好ましくはC1−2アルキル基)、アルケニル基(例えば、アリル基などのC2−6アルケニル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、トリル基(p−トリル基など)、キシリル基などのC6−14アリール基、好ましくはC6−10アリール基、さらに好ましくはC6−8アリール基]、ハロゲン原子が置換した(ハロゲン原子を有する)炭化水素基[前記炭化水素基に対する化合物、例えば、ハロメチル基(例えば、トリフルオロメチル基など)などのハロアルキル基]などが挙げられる。これらのうち、好ましい基Rとしては、C1−4アルキル基(メチル基など)、C6−8アリール基(トリル基など)、ハロC1−4アルキル基(トリフルオロメチル基など)などが好ましく、特にトリフルオロメチル基が好ましい。nが複数(2以上)である場合、基Rは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、2つの環Zにおいて、基Rは同一であってもよく、異なっていてもよい。 In the formula (1), examples of the hydrocarbon group optionally substituted by the halogen atom represented by the group R 3 include a hydrocarbon group [an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group). A C 1-6 alkyl group such as a group, preferably a C 1-4 alkyl group, more preferably a C 1-2 alkyl group), an alkenyl group (for example, a C 2-6 alkenyl group such as an allyl group), an aryl group (For example, a C 6-14 aryl group such as a phenyl group, a tolyl group (p-tolyl group, etc.), a xylyl group, preferably a C 6-10 aryl group, more preferably a C 6-8 aryl group], a halogen atom A substituted hydrocarbon group (having a halogen atom) [a compound for the hydrocarbon group, for example, a halo group such as a halomethyl group (for example, a trifluoromethyl group, etc.) Kill group], and the like. Among these, preferred examples of the group R 3, a C 1-4 alkyl group (such as a methyl group), (tolyl group) C 6-8 aryl group, halo C 1-4 alkyl group (E.g., a trifluoromethyl group) is preferred, particularly a trifluoromethyl group, and when n is plural (2 or more), the groups R 3 may be different from each other or the same. In the two rings Z, the radicals R 3 may be the same or different.

前記式(1)において、基RSO−(例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメチルスルホニルオキシ基)の置換数nは、1以上であればよく、例えば、1〜4、好ましくは1〜3、さらに好ましくは1〜2(特に1)であってもよい。なお、2つの環Zにおいて、置換数nは、互いに同一又は異なっていてもよい。 In the formula (1), the substitution number n of the group R 3 SO 3 — (for example, trifluoromethanesulfonyloxy group or trifluoromethylsulfonyloxy group) may be 1 or more, for example, 1 to 4, preferably It may be 1 to 3, more preferably 1 to 2 (particularly 1). In the two rings Z, the number of substitutions n may be the same or different from each other.

前記式(1)において、代表的な組み合わせとしては、環Zがベンゼン環又はナフタレン環であり、Rがアルキル基(例えば、メチル基などのC1−4アルキル基など)であり、kが0〜1(特に0)であり、Rがアルキル基(例えば、メチル基などのC1−4アルキル基)又はアリール基(例えば、フェニル基などのC6−10アリール基など)であり、mが0〜2であり、nが1〜3である組み合わせなどが含まれる。 In the formula (1), as a typical combination, the ring Z is a benzene ring or a naphthalene ring, R 1 is an alkyl group (for example, a C 1-4 alkyl group such as a methyl group), and k is 0 to 1 (particularly 0), R 2 is an alkyl group (for example, a C 1-4 alkyl group such as a methyl group) or an aryl group (for example, a C 6-10 aryl group such as a phenyl group); A combination in which m is 0 to 2 and n is 1 to 3 is included.

具体的な前記式(1)で表される化合物としては、後述の式(1A)で表される化合物[9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類]に対応するスルホン酸エステル(式(1A)で表される化合物のスルホン酸エステル)、例えば、9,9−ビス(トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アルキル−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−3−メチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1−4アルキル−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−2,6−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(ジC1−4アルキル−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アリール−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−3−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6−8アリール−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(ジトリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジトリフルオロメタンスルホニルオロキシフェニル)フルオレンなど]などの9,9−ビス(トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)フルオレン類;9,9−ビス(トリフルオロメタンスルホニルオキシナフチル)フルオレン[例えば、9,9−ビス[6−(2−トリフルオロメタンスルホニルオキシナフチル)]フルオレン(又は9,9−ビス[2−(6−トリフルオロメタンスルホニルオキシナフチル)]フルオレン)、9,9−ビス[1−(6−トリフルオロメタンスルホニルオキシナフチル)]フルオレン、9,9−ビス[1−(5−トリフルオロメタンスルホニルオキシナフチル)]フルオレンなど]などの9,9−ビス(トリフルオロメタンスルホニルオキシナフチル)フルオレン類などの9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類に対応するトリフラート(式(1A)で表される化合物のトリフラート)が含まれる。 Specific examples of the compound represented by the formula (1) include a sulfonate ester (formula (1A) corresponding to the compound [9,9-bis (hydroxyaryl) fluorenes] represented by the formula (1A) described later. ), For example, 9,9-bis (trifluoromethanesulfonyloxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4-trifluoromethanesulfonyloxyphenyl) fluorene, etc.], 9,9- 9,9-bis (C 1-4 alkyl-trifluoromethanesulfonyloxyphenyl) such as bis (alkyl-trifluoromethanesulfonyloxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4-trifluoromethanesulfonyloxy-3-methylphenyl) fluorene ) Fluorene, 9,9-bis (4-trifluoromethanesulfo) 9,9-bis (diC 1-4 alkyl-trifluoromethanesulfonyloxyphenyl) fluorene such as nyloxy-2,6-dimethylphenyl) fluorene], 9,9-bis (aryl-trifluoromethanesulfonyloxyphenyl) fluorene [For example, 9,9-bis (C 6-8 aryl-trifluoromethanesulfonyloxyphenyl) fluorene such as 9,9-bis (4-trifluoromethanesulfonyloxy-3-phenylphenyl) fluorene], 9,9- 9,9-bis (trifluoromethanesulfonyloxyphenyl) fluorenes such as bis (ditrifluoromethanesulfonyloxyphenyl) fluorene [9,9-bis (3,4-ditrifluoromethanesulfonyloxyphenyl) fluorene and the like]; 9 , -Bis (trifluoromethanesulfonyloxynaphthyl) fluorene [eg 9,9-bis [6- (2-trifluoromethanesulfonyloxynaphthyl)] fluorene (or 9,9-bis [2- (6-trifluoromethanesulfonyloxynaphthyl) )] Fluorene), 9,9-bis [1- (6-trifluoromethanesulfonyloxynaphthyl)] fluorene, 9,9-bis [1- (5-trifluoromethanesulfonyloxynaphthyl)] fluorene, etc. Triflates corresponding to 9,9-bis (hydroxyaryl) fluorenes such as 9-bis (trifluoromethanesulfonyloxynaphthyl) fluorenes (triflates of the compound represented by the formula (1A)) are included.

[式(1)で表される化合物の製造方法およびスルホン酸エステル化工程]
なお、前記式(1)で表される化合物は、特に限定されないが、通常、下記式(1A)で表される化合物と、基RSO−に対応するスルホン酸類(例えば、トリフルオロメタンスルホン酸類)とを反応させることにより得られる。そのため、本発明の製造方法は、前記カルボニル化工程に先だって、下記式(1A)で表される化合物と、基RSO−に対応するスルホン酸類(例えば、トリフルオロメタンスルホン酸類)とを反応させて、前記式(1)で表される化合物を得るスルホン酸エステル化工程(例えば、トリフラート化工程)を含んでいてもよい。すなわち、スルホン酸エステル化工程は、下記式(1A)で表される化合物のヒドロキシル基を基RSO−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ基など)に変換する工程である。
[Production method and sulfonate esterification step of compound represented by formula (1)]
In addition, the compound represented by the formula (1) is not particularly limited, but usually, a compound represented by the following formula (1A) and a sulfonic acid corresponding to the group R 3 SO 3 — (for example, trifluoromethanesulfone). It is obtained by reacting with acids). Therefore, in the production method of the present invention, prior to the carbonylation step, the compound represented by the following formula (1A) is reacted with a sulfonic acid (for example, trifluoromethanesulfonic acid) corresponding to the group R 3 SO 3 —. Then, a sulfonic acid esterification step (for example, a triflate step) for obtaining a compound represented by the formula (1) may be included. That is, the sulfonic acid esterification step is a step of converting a hydroxyl group of a compound represented by the following formula (1A) into a group R 3 SO 3 — (such as a trifluoromethanesulfonyloxy group).

Figure 0005324082
Figure 0005324082

(式中、Z、R、R、k、m、nは前記と同じ。)
(式(1A)で表される化合物)
上記式(1A)において、Z、R、R、k、m、およびnは、すべて、前記式(1)における場合に対応しており、好ましい態様なども前記と同じである。
(In the formula, Z, R 1 , R 2 , k, m, and n are the same as described above.)
(Compound represented by Formula (1A))
In the above formula (1A), Z, R 1 , R 2 , k, m, and n all correspond to the case in the above formula (1), and the preferred embodiments are the same as described above.

代表的な式(1A)で表される化合物[9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類]としては、(1)9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン類、(2)9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン類などが含まれる。   As typical compounds [9,9-bis (hydroxyaryl) fluorenes] represented by the formula (1A), (1) 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorenes, (2) 9,9- Bis (hydroxynaphthyl) fluorenes and the like are included.

(1)9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン類
9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン類には、9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類、9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)フルオレン類、9,9−ビス(トリヒドロキシフェニル)フルオレン類[例えば、9,9−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4,6−トリヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4,5−トリヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,4,5−トリヒドロキシフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(トリヒドロキシフェニル)フルオレンなど]が含まれ、通常、9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類又は9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)フルオレン類、特に9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類を好適に使用できる。
(1) 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorenes 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorenes include 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes, 9,9-bis (dihydroxyphenyl) Fluorenes, 9,9-bis (trihydroxyphenyl) fluorenes [for example, 9,9-bis (2,3,4-trihydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4,6-trihydroxy 9,9-bis (trihydroxyphenyl) such as phenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4,5-trihydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,4,5-trihydroxyphenyl) fluorene ) Fluorene, etc.], usually 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes or 9,9-bis (dihydroxy) Cyphenyl) fluorenes, particularly 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes, can be preferably used.

9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類としては、例えば、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(ビスフェノールフルオレン又は4,4’−(9−フルオレニリデン)ジフェノール)など]、置換基を有する9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン{例えば、9,9−ビス(アルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン(ビスクレゾールフルオレン)、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−ブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1−4アルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−2,6−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(ジC1−4アルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(シクロアルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C5−8シクロアルキル−モノヒドロキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アリール−ヒドロキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6−8アリール−ヒドロキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アラルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−ベンジルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6−8アリールC1−2アルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレンなど]など}などが挙げられる。 Examples of 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes include 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene (bisphenolfluorene or 4,4 ′-( 9-fluorenylidene) diphenol), etc.], 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorene having a substituent {for example, 9,9-bis (alkyl-hydroxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4-hydroxy- 3-methylphenyl) fluorene (biscresol fluorene), 9,9-bis (4-hydroxy-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-butylphenyl) fluorene, 9,9- 9,9-bis (C, such as bis (3-hydroxy-2-methylphenyl) fluorene 1-4 alkyl-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (diC 1-4 alkyl-hydroxyphenyl) fluorene such as 9,9-bis (4-hydroxy-2,6-dimethylphenyl) fluorene], 9,9-bis (C 5-8 cycloalkyl-monohydroxyphenyl) fluorene such as 9,9-bis (cycloalkyl-hydroxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4-hydroxy-3-cyclohexylphenyl) fluorene Etc.], 9,9-bis (aryl-hydroxyphenyl) fluorene [for example, 9,9-bis (C 6-8 aryl-hydroxyphenyl) such as 9,9-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) fluorene ) Fluorene etc.], 9,9-bis (aralkyl-hydroxyphenyl) fluore [For example, 9,9-bis (C 6-8 arylC 1-2 alkyl-hydroxyphenyl) fluorene such as 9,9-bis (4-hydroxy-3-benzylphenyl) fluorene] and the like} and the like. It is done.

9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)フルオレン類としては、上記9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類に対応するフルオレン類、例えば、9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニル)フルオレン(ビスカテコールフルオレン)、9,9−ビス(3,5−ジヒドロキシフェニル)フルオレンなど]、置換基を有する9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)フルオレン{例えば、9,9−ビス(アルキル−ジヒドロキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジヒドロキシ−5−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,4−ジヒドロキシ−6−メチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1−4アルキル−ジヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4−ジヒドロキシ−3,6−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(ジC1−4アルキル−ジヒドロキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アリール−ジヒドロキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(3,4−ジヒドロキシ−5−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6−8アリール−ジヒドロキシフェニル)フルオレンなど]など}などが例示できる。 As 9,9-bis (dihydroxyphenyl) fluorenes, fluorenes corresponding to the 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes, for example, 9,9-bis (dihydroxyphenyl) fluorene [9,9- Bis (3,4-dihydroxyphenyl) fluorene (biscatecholfluorene), 9,9-bis (3,5-dihydroxyphenyl) fluorene, etc.], substituted 9,9-bis (dihydroxyphenyl) fluorene {e.g. 9,9-bis (alkyl-dihydroxyphenyl) fluorene [9,9-bis (3,4-dihydroxy-5-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,4-dihydroxy-6-methylphenyl) fluorene 9,9-bis (C 1-4 alkyl-dihydroxyphenyl) fluoro Ren, 9,9-bis (2,4-dihydroxy-3,6-dimethylphenyl) fluorene such as 9,9-bis (di-C 1-4 alkyl - dihydroxyphenyl) fluorene, etc.], 9,9-bis ( Aryl-dihydroxyphenyl) fluorene [for example, 9,9-bis (C 6-8 aryl-dihydroxyphenyl) fluorene such as 9,9-bis (3,4-dihydroxy-5-phenylphenyl) fluorene, etc.] etc. Can be illustrated.

なお、ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類としては、市販品を使用してもよく、種々の合成方法、例えば、(a)塩化水素ガス及びメルカプトカルボン酸の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させる方法(文献[J. Appl. Polym. Sci., 27(9), 3289, 1982]、特開平6−145087号公報、特開平8−217713号公報)、(b)酸触媒(及びアルキルメルカプタン)の存在下、9−フルオレノンとアルキルフェノール類とを反応させる方法(特開2000−26349号公報)、(c)塩酸及びチオール類(メルカプトカルボン酸など)の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させる方法(特開2002−47227号公報)、(d)硫酸及びチオール類(メルカプトカルボン酸など)の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させ、炭化水素類と極性溶媒とで構成された晶析溶媒で晶析させてビスフェノールフルオレンを製造する方法(特開2003−221352号公報)などを利用して製造したものを使用してもよい。   As bis (monohydroxyphenyl) fluorenes, commercially available products may be used, and various synthesis methods such as (a) fluorenones and phenols in the presence of hydrogen chloride gas and mercaptocarboxylic acid are used. Method of reacting (document [J. Appl. Polym. Sci., 27 (9), 3289, 1982], JP-A-6-145087, JP-A-8-217713), (b) acid catalyst (and alkyl A method of reacting 9-fluorenone with alkylphenols in the presence of mercaptan (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-26349), (c) fluorenones and phenols in the presence of hydrochloric acid and thiols (such as mercaptocarboxylic acid) (D) in the presence of sulfuric acid and thiols (such as mercaptocarboxylic acid), A method of producing bisphenolfluorene by reacting with a diol and crystallizing with a crystallization solvent composed of a hydrocarbon and a polar solvent (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-221352). May be used.

また、9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)フルオレン類としては、市販品を使用してもよく、上記9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類の製造方法において、フェノール類の代わりに、対応する多価アルコール類(ジヒドロキシフェノール類、トリヒドロキシフェノール類)を使用することにより製造したものを使用してもよい。   In addition, as 9,9-bis (di or trihydroxyphenyl) fluorenes, commercially available products may be used, and in the method for producing 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes, instead of phenols. Moreover, you may use what was manufactured by using corresponding polyhydric alcohol (dihydroxyphenols, trihydroxyphenols).

(2)9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン類
9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン類としては、例えば、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン類{例えば、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン[例えば、9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシナフチル)]フルオレン(又は6,6−(9−フルオレニリデン)−ジ(2−ナフトール)又は9,9−ビス[2−(6−ヒドロキシナフチル)]フルオレン)、9,9−ビス[1−(6−ヒドロキシナフチル)]フルオレン(又は5,5−(9−フルオレニリデン)−ジ(2−ナフトール))、9,9−ビス[1−(5−ヒドロキシナフチル)]フルオレン(又は5,5−(9-フルオレニリデン)−ジ(1−ナフトール))など]などの置換基を有していてもよい9,9−ビス(モノヒドロキシナフチル)フルオレン}、これらの9,9−ビス(モノヒドロキシナフチル)フルオレン類に対応する9,9−ビス(ポリヒドロキシナフチル)フルオレン類(例えば、9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシナフチル)フルオレン類)などが挙げられる。
(2) 9,9-bis (hydroxynaphthyl) fluorenes As 9,9-bis (hydroxynaphthyl) fluorenes, for example, 9,9-bis (hydroxynaphthyl) fluorenes {for example, 9,9-bis ( Hydroxynaphthyl) fluorene [eg, 9,9-bis [6- (2-hydroxynaphthyl)] fluorene (or 6,6- (9-fluorenylidene) -di (2-naphthol) or 9,9-bis [2- (6-hydroxynaphthyl)] fluorene), 9,9-bis [1- (6-hydroxynaphthyl)] fluorene (or 5,5- (9-fluorenylidene) -di (2-naphthol)), 9,9- Having a substituent such as bis [1- (5-hydroxynaphthyl)] fluorene (or 5,5- (9-fluorenylidene) -di (1-naphthol)), etc.] 9,9-bis (monohydroxynaphthyl) fluorene}, and 9,9-bis (polyhydroxynaphthyl) fluorenes corresponding to these 9,9-bis (monohydroxynaphthyl) fluorenes (for example, 9 , 9-bis (di- or trihydroxynaphthyl) fluorenes).

なお、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン類は、前記9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類の製造方法において、フェノール類の代わりに、ヒドロキシナフタレン類(例えば、ナフトールなどのナフトール類、ジヒドロキシナフタレンなどのポリヒドロキシナフタレン類)を使用することにより製造できる。   In addition, 9,9-bis (hydroxynaphthyl) fluorenes are hydroxynaphthalenes (for example, naphthols such as naphthol) instead of phenols in the method for producing 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes. , Polyhydroxynaphthalenes such as dihydroxynaphthalene).

これらの9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類(式(1A)で表される化合物)は、単独で又は2種以上組みあわせてもよい。   These 9,9-bis (hydroxyaryl) fluorenes (compound represented by the formula (1A)) may be used alone or in combination of two or more.

なお、スルホン酸エステル化工程(又は基RSO−に対応するスルホン酸類との反応)において、使用する前記式(1A)で表される化合物の純度は、例えば、特に限定されないが、通常、95重量%以上、好ましくは99重量%以上であってもよい。 In the sulfonic acid esterification step (or reaction with sulfonic acids corresponding to the group R 3 SO 3 —), the purity of the compound represented by the formula (1A) used is not particularly limited. , 95% by weight or more, preferably 99% by weight or more.

また、スルホン酸エステル化工程(又は基RSO−に対応するスルホン酸類との反応)において、基RSO−に対応するスルホン酸類としては、下記式で表されるスルホン酸およびその誘導体などが含まれる。 Moreover, sulfonic acid esterification step - in (or a group R 3 SO 3 reaction of the corresponding sulfonic acids in), based on R 3 SO 3 - Examples of the sulfonic acids corresponding to, sulfonic acids and represented by the following formula Derivatives and the like are included.

SO
(式中、Rは前記と同じ。)
代表的なスルホン酸類としては、前記Rの項で例示の炭化水素基に対応するスルホン酸類、例えば、アルカンスルホン酸(例えば、メタンスルホン酸などのC1−4アルカンスルホン酸など)、アレーンスルホン酸(例えば、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸(p−トルエンスルホン酸など)などのC6−10アレーンスルホン酸)、ハロアルカンスルホン酸(例えば、トリフルオロメタンスルホン酸などのハロC1−4アルカンスルホン酸など)、これらの誘導体(スルホン酸無水物、スルホン酸ハライド、スルホン酸イミド、スルホン酸アミドなど)などが挙げられる。これらのスルホン酸類は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。
R 3 SO 3 H
(In the formula, R 3 is the same as above.)
Representative sulfonic acids include sulfonic acids corresponding to the hydrocarbon groups exemplified in the above R 3 , such as alkane sulfonic acids (for example, C 1-4 alkane sulfonic acids such as methanesulfonic acid), arene sulfones, and the like. Acids (eg, C 6-10 arene sulfonic acids such as benzene sulfonic acid, toluene sulfonic acid (p-toluene sulfonic acid etc.)), haloalkane sulfonic acids (eg halo C 1-4 alkane sulfonic acid such as trifluoromethane sulfonic acid) Etc.), derivatives thereof (sulfonic acid anhydride, sulfonic acid halide, sulfonic acid imide, sulfonic acid amide, etc.). These sulfonic acids may be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、特に好ましいスルホン酸類は、トリフルオロメタンスルホン酸類(基Rがトリフルオロメチル基であるスルホン酸類)である。トリフルオロメタンスルホン酸類(又はトリフラート化試薬)としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸誘導体{例えば、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸ハライド(トリフルオロメタンスルホン酸クロライドなど)、トリフルオロメタンスルホン酸イミド(例えば、N−フェニルトリフルオロメタンスルホンイミドなどのN−置換トリフルオロメタンスルホン酸イミド)、トリフルオロメタンスルホンエステル[例えば、トリフルオロメタンスルホン酸(4−ニトロフェニル)など]、トリフルオロメタンスルホン酸アミド[例えば、1−(トリフルオロメタンスルホニル)イミダゾールなど]などが挙げられる。これらのトリフルオロメタンスルホン酸類は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。これらのうち、特に、トリフルオロメタンスルホン酸無水物が好ましく用いられる。 Of these, particularly preferred sulfonic acids are trifluoromethanesulfonic acids (sulfonic acids whose group R 3 is a trifluoromethyl group). Examples of the trifluoromethanesulfonic acid (or triflating reagent) include trifluoromethanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid derivatives {eg, trifluoromethanesulfonic acid anhydride, trifluoromethanesulfonic acid halide (such as trifluoromethanesulfonic acid chloride), trifluoro L-methanesulfonic acid imide (for example, N-substituted trifluoromethanesulfonic acid imide such as N-phenyltrifluoromethanesulfonimide), trifluoromethanesulfonic acid ester [for example, trifluoromethanesulfonic acid (4-nitrophenyl), etc.], trifluoromethanesulfonic acid Amido [for example, 1- (trifluoromethanesulfonyl) imidazole etc.] etc. are mentioned. These trifluoromethanesulfonic acids may be used alone or in combination of two or more. Of these, trifluoromethanesulfonic anhydride is particularly preferably used.

スルホン酸エステル化工程(又は基RSO−に対応するスルホン酸類との反応)において、基RSO−に対応するスルホン酸類(トリフルオロメタンスルホン酸類など)の使用割合は、例えば、前記式(1A)で表される化合物(フルオレンフェノール誘導体)のヒドロキシル基1モルに対して、例えば、1〜3モル、好ましくは1.05〜2モル、さらに好ましくは1.1〜1.5モル程度であってもよい。 In - (reaction with the corresponding sulfonic acids or radical R 3 SO 3), radical R 3 SO 3 - sulfonate esterification step proportion of the corresponding sulfonic acids (trifluoromethane sulfonic acid), for example, the For example, 1 to 3 mol, preferably 1.05 to 2 mol, more preferably 1.1 to 1.5 mol, per 1 mol of the hydroxyl group of the compound represented by the formula (1A) (fluorenephenol derivative) It may be a degree.

なお、スルホン酸エステル化工程(又は基RSO−に対応するスルホン酸類との反応)は、触媒の存在下で行ってもよい。触媒としては、塩基触媒(塩基性触媒)を好適に用いることができる。塩基触媒としては、例えば、アミン類[例えば、脂肪族アミン(例えば、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン、トリベンジルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルプロパンジアミン、1−メチルピペリジン、1−エチルピペリジン、1,2,2’,6,6’−ペンタメチルピペリジン、1−メチルピロリジン、1−エチルピロリジン、4−メチルモルホリン、4−エチルモルホリン、2,6−ジメチルピペラジンなどの脂肪族第三級アミン)、芳香族アミン(例えば、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−フェニルピロリジン、N−フェニルモルホリン、1,8−ビス(ジメチルアミノ)ナフタレンなどの芳香族第3級アミンなど)、複素環式アミン(ピリジン、ルチジン、コリジン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン、4−ピロリジノピリジン、イミダゾール、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセンなど)など]、金属アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム−tert−ブトキシド、カリウム−tert−ブトキシドなど)、有機金属化合物(ブチルリチウム、フェニルリチウム、イソプロピルマグネシウムクロリド、シクロヘキシルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム1,1−ビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウム1,1−ビス(トリメチルシリル)アミド、カリウム1,1−ビス(トリメチルシリル)アミドなど)、有機酸塩(例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどの有機酸金属塩など)などの有機塩基;炭酸塩(例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなど)、炭酸水素塩(例えば、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムなど)、水酸化物(例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムなど)、水素化物(水素化ナトリウム、水素化カリウムなど)などの無機塩基などが挙げられる。 The sulfonic acid esterification step (or reaction with sulfonic acids corresponding to the group R 3 SO 3 —) may be performed in the presence of a catalyst. As the catalyst, a base catalyst (basic catalyst) can be preferably used. Examples of the base catalyst include amines [eg, aliphatic amines (eg, triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, triisopropylamine, diisopropylethylamine, dicyclohexylethylamine, diethylcyclohexylamine, tribenzylamine). N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetramethylpropanediamine, 1-methylpiperidine, 1-ethylpiperidine, 1,2,2 ′, 6,6 '-Pentamethylpiperidine, 1-methylpyrrolidine, 1-ethylpyrrolidine, 4-methylmorpholine, 4-ethylmorpholine, aliphatic tertiary amines such as 2,6-dimethylpiperazine), aromatic amines (eg, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, -Aromatic tertiary amines such as phenylpyrrolidine, N-phenylmorpholine, 1,8-bis (dimethylamino) naphthalene), heterocyclic amines (pyridine, lutidine, collidine, 4- (dimethylamino) pyridine, 4 -Pyrrolidinopyridine, imidazole, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene, etc.)], metal alkoxides (for example, sodium methoxide, sodium ethoxy) Sodium tert-butoxide, potassium tert-butoxide, etc.), organometallic compounds (butyl lithium, phenyl lithium, isopropyl magnesium chloride, cyclohexyl magnesium bromide, phenyl magnesium bromide, sodium amide, lithium diisopropyl) Pyramide, lithium 1,1-bis (trimethylsilyl) amide, sodium 1,1-bis (trimethylsilyl) amide, potassium 1,1-bis (trimethylsilyl) amide), organic acid salts (for example, sodium acetate, potassium acetate, etc.) Organic bases such as organic acid metal salts; carbonates (eg, potassium carbonate, sodium carbonate, etc.), bicarbonates (eg, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate, etc.), hydroxides (eg, potassium hydroxide, And inorganic bases such as hydride (sodium hydride, potassium hydride, etc.).

これらの触媒(塩基触媒)は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   These catalysts (base catalysts) may be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1−メチルピペリジン、1−エチルピペリジン、1,2,2’,6,6’−ペンタメチルピペリジン、1−メチルピロリジン、1−エチルピロリジン、4−メチルモルホリン、4−エチルモルホリン、2,6−ジメチルピペラジンなどの三級アミン、ピリジン、ルチジン、コリジン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン、4−ピロリジノピリジンなどの複素環アミン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水素化ナトリウムなどの無機塩基などが好ましく、特にトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン、コリジンが好ましく用いられる。   Among these, triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, triisopropylamine, diisopropylethylamine, 1-methylpiperidine, 1-ethylpiperidine, 1,2,2 ′, 6,6′-pentamethyl Tertiary amines such as piperidine, 1-methylpyrrolidine, 1-ethylpyrrolidine, 4-methylmorpholine, 4-ethylmorpholine, 2,6-dimethylpiperazine, pyridine, lutidine, collidine, 4- (dimethylamino) pyridine, 4- Preferred are heterocyclic amines such as pyrrolidinopyridine, inorganic bases such as potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium hydride, etc., especially triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, lutidine, collidine Preferably used.

触媒(塩基触媒)の使用割合は、例えば、前記式(1A)で表される化合物(フルオレンフェノール誘導体)のヒドロキシル基1モルに対して、例えば、1〜50モル当量、好ましくは1.05〜20モル当量(例えば、1.1〜10モル当量)、さらに好ましくは1.2〜2モル当量程度であってもよい。   The ratio of the catalyst (base catalyst) to be used is, for example, 1 to 50 molar equivalents, preferably 1.05 to 1 mol of the hydroxyl group of the compound represented by the formula (1A) (fluorene phenol derivative). It may be about 20 molar equivalents (for example, 1.1 to 10 molar equivalents), more preferably about 1.2 to 2 molar equivalents.

スルホン酸エステル化工程(又は基RSO−に対応するスルホン酸類との反応)は、無溶媒中で行ってもよく、溶媒中で行ってもよい。溶媒としては、反応を阻害しない溶媒であれば特に限定されず、例えば、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など)、ハロゲン系溶媒(ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロアルカン類など)、エーテル系溶媒(ジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどの環状エーテル類など)、アミド類(ジメチルホルムアミドなど)、スルホキシド類(ジメチルスルホキシドなど)、ニトリル類(アセトニトリルなど)などが挙げられる。また、前記アミン類(ピリジンなど)を溶媒として用いてもよい。これらの溶媒は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 The sulfonic acid esterification step (or reaction with sulfonic acids corresponding to the group R 3 SO 3 —) may be performed in the absence of a solvent or in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, hydrocarbon solvents (for example, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene), halogen solvents (haloalkanes such as dichloromethane and chloroform), and the like. Etc.), ether solvents (dialkyl ethers such as diethyl ether, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane), amides (such as dimethylformamide), sulfoxides (such as dimethyl sulfoxide), nitriles (acetonitrile) Etc.). The amines (such as pyridine) may be used as a solvent. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

溶媒の使用量は、例えば、前記式(1A)で表される化合物および基RSO−に対応するスルホン酸類(トリフルオロメタンスルホン酸類など)の総量1重量部に対して、0.3〜100重量部、好ましくは0.5〜50重量部、さらに好ましくは1〜30重量部程度であってもよい。 The amount of the solvent used is, for example, from 0.3 to 1 part by weight with respect to 1 part by weight of the total amount of the sulfonic acid (such as trifluoromethanesulfonic acid) corresponding to the compound represented by the formula (1A) and the group R 3 SO 3 —. It may be about 100 parts by weight, preferably 0.5 to 50 parts by weight, and more preferably about 1 to 30 parts by weight.

なお、反応温度は、−100〜200℃の範囲から選択でき、好ましくは−10〜100℃、さらに好ましくは0〜30℃程度であってもよい。また、反応時間は、特に限定されず、反応温度に応じて適宜選択できるが、通常、1〜12時間、好ましくは2〜8時間程度であってもよい。また、反応は、攪拌しながら行ってもよく、空気中又は不活性雰囲気(窒素、希ガスなど)中で行ってもよく、減圧下、常圧下又は加圧下でおこなってもよい。   In addition, reaction temperature can be selected from the range of -100-200 degreeC, Preferably it is -10-100 degreeC, More preferably, about 0-30 degreeC may be sufficient. Moreover, reaction time is not specifically limited, Although it can select suitably according to reaction temperature, Usually, 1 to 12 hours, Preferably about 2 to 8 hours may be sufficient. The reaction may be performed with stirring, may be performed in air or in an inert atmosphere (such as nitrogen or a rare gas), and may be performed under reduced pressure, normal pressure, or increased pressure.

なお、生成した化合物は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製してもよい。   The produced compound may be separated and purified by a conventional method, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc., or a separation means combining these.

[カルボニル化工程]
カルボニル化工程では、下記式(1)で表される化合物と一酸化炭素とを反応させる。一酸化炭素は、通常、反応系に気体状で存在させて用いる場合が多い。一酸化炭素の圧力は、例えば、1〜100kgf/cm、好ましくは5〜70kgf/cm、さらに好ましくは15〜50kgf/cm程度であってもよい。
[Carbonylation step]
In the carbonylation step, a compound represented by the following formula (1) is reacted with carbon monoxide. Carbon monoxide is usually used in a gaseous state in the reaction system. The pressure of carbon monoxide may be, for example, about 1 to 100 kgf / cm 2 , preferably about 5 to 70 kgf / cm 2 , and more preferably about 15 to 50 kgf / cm 2 .

カルボニル化工程は、通常、遷移金属触媒(又は遷移金属化合物)の存在下で行ってもよい。遷移金属触媒としては、例えば、パラジウム化合物[例えば、酸化パラジウム;パラジウムハライド(塩化パラジウム、臭化パラジウム、沃化パラジウムなど)、硝酸パラジウム、パラジウム有機酸塩(酢酸パラジウムなど)などのパラジウム塩;ホスフィン錯体(例えば、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、[1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン]ジクロロパラジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムなど)、ニトリル錯体(ジクロロビスベンゾニトリルパラジウム、ジクロロビスアセトニトリルパラジウムなど)などのパラジウム錯体)など]、これらのパラジウム化合物に対応する他の遷移金属化合物(例えば、ルテニウム化合物、ロジウム化合物、ニッケル化合物、白金化合物など)などが挙げられる。これらの遷移金属触媒は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。好ましい遷移金属触媒は、パラジウム化合物である。   The carbonylation step may be usually performed in the presence of a transition metal catalyst (or a transition metal compound). Examples of the transition metal catalyst include palladium compounds [eg, palladium oxide; palladium salts such as palladium halide (palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, etc.), palladium nitrate, palladium organic acid salts (palladium acetate, etc.); Complexes (for example, dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, [1,4-bis (diphenylphosphino) butane] dichloropalladium, tetrakistriphenylphosphinepalladium, etc.), nitrile complexes (dichlorobisbenzonitrilepalladium, dichlorobisacetonitrilepalladium, etc.) )) And other transition metal compounds corresponding to these palladium compounds (for example, ruthenium compounds, rhodium compounds, nickel compounds, platinum compounds, etc.) Is mentioned. These transition metal catalysts may be used alone or in combination of two or more. A preferred transition metal catalyst is a palladium compound.

遷移金属触媒の使用割合は、例えば、前記式(1)で表される化合物の基RSO−(例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基)1モルに対して、例えば、0.00001モル以上(例えば、0.00005〜1モル程度)、好ましくは0.0001〜0.5モル、さらに好ましくは0.0003〜0.1モル、特に0.0005〜0.05モル程度であってもよく、通常0.0001〜0.1モル程度であってもよい。 The ratio of the transition metal catalyst used is, for example, 0.00001 mol or more with respect to 1 mol of the group R 3 SO 3 — (for example, trifluoromethanesulfonyloxy group) of the compound represented by the formula (1) ( For example, about 0.00005 to 1 mol), preferably 0.0001 to 0.5 mol, more preferably 0.0003 to 0.1 mol, particularly about 0.0005 to 0.05 mol, Usually, it may be about 0.0001 to 0.1 mol.

なお、カルボニル化工程は、必要に応じて、配位性化合物の存在下で行ってもよい。このような配位性化合物は、前記遷移金属触媒との併用又は組み合わせにより(例えば、前記遷移金属触媒と錯形成して)触媒活性を高めることができる。なお、このような配位性化合物は、前記のような遷移金属錯体(例えば、パラジウムホスフィン錯体など)とともに、用いてもよいが、通常、酸化パラジウム、パラジウムハライド、パラジウム有機酸塩などの錯形成性遷移金属化合物とともに用いる場合が多い。   In addition, you may perform a carbonylation process in presence of a coordination compound as needed. Such a coordinating compound can enhance the catalytic activity in combination or combination with the transition metal catalyst (for example, complexed with the transition metal catalyst). Such a coordinating compound may be used together with the transition metal complex (for example, palladium phosphine complex) as described above, but usually complex formation of palladium oxide, palladium halide, palladium organic acid salt, etc. Often used together with a transition metal compound.

配位性化合物としては、特に限定されず、ホスフィン類[例えば、トリt−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリo−トリルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタンなど]、ニトリル類(アセトニトリル、ベンゾニトリルなど)などが挙げられる。これらの配位性化合物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   The coordination compound is not particularly limited, and phosphines [for example, tri-t-butylphosphine, tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine, trio-tolylphosphine, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1 , 3-bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, etc.], nitriles (acetonitrile, benzonitrile, etc.) and the like. These coordination compounds may be used alone or in combination of two or more.

配位性化合物の使用割合は、例えば、前記式(1)で表される化合物の基RSO−(例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基)1モルに対して、例えば、0.00001〜0.5モル、好ましくは0.0001〜0.3モル、さらに好ましくは0.001〜0.05モル程度であってもよい。 The ratio of the coordination compound used is, for example, 0.00001 to 0 with respect to 1 mol of the group R 3 SO 3 — (for example, trifluoromethanesulfonyloxy group) of the compound represented by the formula (1). It may be about 0.5 mol, preferably about 0.0001 to 0.3 mol, more preferably about 0.001 to 0.05 mol.

また、配位性化合物の使用割合は、遷移金属触媒1モルに対して、例えば、0.1〜10モル、好ましくは0.5〜8モル、さらに好ましくは1〜5モル、特に1.5〜4モル程度であってもよい。   Moreover, the usage-amount of a coordination compound is 0.1-10 mol with respect to 1 mol of transition metal catalysts, Preferably it is 0.5-8 mol, More preferably, it is 1-5 mol, Especially 1.5. About 4 mol may be sufficient.

さらに、カルボニル化工程は、塩基触媒の存在下で行ってもよい。塩基触媒としては、特に限定されず、例えば、有機塩基類[例えば、アミン類(例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミンなど)、有機酸塩(酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなど)など]、無機塩基類[例えば、水酸化物(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)、炭酸塩(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど)、炭酸水素塩(例えば、炭酸水素ナトリウムなど)など]などの前記トリフラート化工程で例示の塩基触媒などを挙げることができる。これらの塩基触媒は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   Further, the carbonylation step may be performed in the presence of a base catalyst. The base catalyst is not particularly limited and includes, for example, organic bases [eg, amines (eg, triethylamine, tributylamine, etc.), organic acid salts (eg, sodium acetate, potassium acetate, etc.)], inorganic bases [eg, Illustrated in the triflating step of hydroxide (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), carbonate (eg, sodium carbonate, potassium carbonate, etc.), bicarbonate (eg, sodium bicarbonate, etc.), etc. And the base catalyst. These base catalysts may be used alone or in combination of two or more.

塩基触媒の使用割合は、前記式(1)で表される化合物の基RSO−(例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基)1モルに対して、例えば、0.5〜10モル、好ましくは0.8〜8モル、さらに好ましくは1〜5モル程度であってもよい。 The use ratio of the base catalyst is, for example, 0.5 to 10 mol, preferably 1 mol with respect to 1 mol of the group R 3 SO 3 — (for example, trifluoromethanesulfonyloxy group) of the compound represented by the formula (1). It may be about 0.8 to 8 mol, more preferably about 1 to 5 mol.

また、カルボニル化工程は、通常、水および/またはアルコール類の存在下で行うことができる。水を反応系に存在させると、生成物として、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類(すなわち、後述の式(A)で表される化合物)、アルコール類を反応系に存在させると9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類のエステル(すなわち、後述の式(A)で表される化合物のエステル)を効率よく得ることができる。添加率を向上するという観点からは、アルコール類を用いるのが好ましい。そのため、前記9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類を得る場合であっても、後述するように、アルコール類を用いて、一旦エステルを得た後、加水分解処理して9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類を得てもよい。なお、水および/またはアルコール類は、通常、反応系に存在させるが、反応後、添加してもよい。   The carbonylation step can usually be performed in the presence of water and / or alcohols. When water is present in the reaction system, 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes (that is, a compound represented by the following formula (A)) and alcohols are present as products as the product. , 9-bis (carboxyaryl) fluorene esters (that is, esters of compounds represented by the formula (A) described later) can be obtained efficiently. From the viewpoint of improving the addition rate, alcohols are preferably used. Therefore, even in the case of obtaining the 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes, as will be described later, an alcohol is used to obtain an ester, followed by a hydrolysis treatment to obtain 9,9-bis. (Carboxyaryl) fluorenes may be obtained. Water and / or alcohols are usually present in the reaction system, but may be added after the reaction.

アルコール類としては、例えば、脂肪族アルコール[例えば、アルカノール(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、2−エチルヘキサノールなどのC1−20アルカノール、好ましくはC1−15アルカノール)、シクロアルカノール(シクロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロヘプタノールなどのC5−10シクロアルカノール)など]、芳香族アルコール(例えば、フェノール、ナフトールなどのC6−15アリールアルコールなど)、芳香脂肪族アルコール(例えば、ベンジルアルコール、フェネチルアルコールなどのC6−10アリール−C1−4アルキルアルコールなど)などが挙げられる。これらのアルコール類は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。
好ましいアルコール類は、第1級アルコール類[例えば、メタノール、エタノールなどの第1級脂肪族アルコール(例えば、第1級C1−4アルカノールなど)]などが挙げられる。
また、水とアルコール類とを組み合わせてもよい。
Examples of alcohols include aliphatic alcohols [eg, alkanols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, n-pentanol, n-hexanol, n-heptanol, C 1-20 alkanols such as n-octanol and 2-ethylhexanol, preferably C 1-15 alkanols), cycloalkanols (C 5-10 cycloalkanols such as cyclopentanol, cyclohexanol, cycloheptanol) and the like], aromatic alcohols (e.g., phenol, etc. C 6-15 aryl alcohols such as naphthol), araliphatic alcohols (e.g., benzyl alcohol, C 6-10 aryl -C 1-4 aralkyl, such as phenethyl alcohol Etc. alcohol) and the like. These alcohols may be used alone or in combination of two or more.
Preferable alcohols include primary alcohols [for example, primary aliphatic alcohols such as methanol and ethanol (for example, primary C 1-4 alkanol, etc.)] and the like.
Moreover, you may combine water and alcohol.

水および/またはアルコール類の使用割合は、例えば、前記式(1)で表される化合物の基RSO−(例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基)1モルに対して、例えば、0.8〜10モル、好ましくは1〜8モル(例えば、1〜6モル)、さらに好ましくは1.1〜5モル程度であってもよい。 The ratio of water and / or alcohol used is, for example, 0.8 with respect to 1 mol of the group R 3 SO 3 — (for example, trifluoromethanesulfonyloxy group) of the compound represented by the formula (1). It may be about 10 to 10 mol, preferably 1 to 8 mol (eg 1 to 6 mol), more preferably about 1.1 to 5 mol.

カルボニル化工程は、無溶媒中で行ってもよく、溶媒中で行ってもよい。溶媒としては、反応を阻害しない溶媒であれば特に限定されず、例えば、炭化水素系溶媒(例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など)、エーテル系溶媒(例えば、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどの環状エーテル類など)、アミド類(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなど)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシドなど)、スルホン類(例えば、スルホラン、ジメチルスルホンなど)などが挙げられる。また、前記アルコール類や水を溶媒に用いてもよい。これらの溶媒は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   The carbonylation step may be performed in the absence of a solvent or in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, hydrocarbon solvents (for example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, etc.) ), Ether solvents (eg, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, etc.), sulfoxides (eg, dimethyl sulfoxide, etc.) , Sulfones (for example, sulfolane, dimethyl sulfone, etc.). Moreover, you may use the said alcohols and water for a solvent. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

溶媒の使用量は、例えば、前記式(1)で表される化合物1重量部に対して、0.3〜50重量部、好ましくは0.5〜30重量部、さらに好ましくは1〜20重量部程度であってもよい。   The amount of the solvent used is, for example, 0.3 to 50 parts by weight, preferably 0.5 to 30 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight with respect to 1 part by weight of the compound represented by the formula (1). It may be about a part.

反応温度は、50〜250℃の範囲から選択でき、好ましくは70〜200℃、さらに好ましくは90〜150℃程度であってもよい。また、反応時間は、特に限定されず、反応温度や反応規模に応じて適宜選択できるが、通常、1〜48時間、好ましくは2〜24時間程度の範囲から選択できる。また、反応は、攪拌しながら行ってもよい。さらに、反応は、空気中又は不活性雰囲気(窒素、希ガスなど)中で行ってもよく、常圧下又は加圧下でおこなってもよい。   Reaction temperature can be selected from the range of 50-250 degreeC, Preferably it is 70-200 degreeC, More preferably, about 90-150 degreeC may be sufficient. The reaction time is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the reaction temperature and reaction scale. However, it can usually be selected from a range of about 1 to 48 hours, preferably about 2 to 24 hours. Moreover, you may perform reaction, stirring. Furthermore, the reaction may be performed in air or in an inert atmosphere (nitrogen, rare gas, etc.), or may be performed under normal pressure or under pressure.

なお、生成した化合物は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製してもよい。代表的には、反応終了後、晶析溶媒を適宜加えて再結晶などにより精製してもよい。   The produced compound may be separated and purified by a conventional method, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc., or a separation means combining these. Typically, after completion of the reaction, it may be purified by recrystallization or the like by appropriately adding a crystallization solvent.

上記のようにして、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類(すなわち、後述の式(A)で表される化合物)およびそのエステル(詳細には、前記アルコール類に対応するエステル)から選択されたフルオレン誘導体が得られる。なお、前記のように、アルコール類をカルボニル化反応系に存在させる(又はカルボニル化反応後に添加する)と前記エステルが得られ、水をカルボニル化反応系に存在させる(又はカルボニル化反応後に添加する)とカルボン酸が得られる。そのため、アルコール類を用いて前記エステルを得た場合には、必要に応じて、加水分解処理を行い、前記カルボン酸を得てもよい。   As described above, selected from 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes (that is, a compound represented by the following formula (A)) and esters thereof (specifically, esters corresponding to the alcohols). The obtained fluorene derivative is obtained. As described above, when the alcohol is present in the carbonylation reaction system (or added after the carbonylation reaction), the ester is obtained, and water is present in the carbonylation reaction system (or added after the carbonylation reaction). ) And carboxylic acid. Therefore, when the ester is obtained using alcohols, the carboxylic acid may be obtained by performing a hydrolysis treatment as necessary.

[加水分解工程]
すなわち、本発明の製造方法では、カルボニル化工程において、前記式(1)で表される化合物と一酸化炭素との反応をアルコール類の存在下で行って、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類(式(A)で表される化合物)と前記アルコール類とのエステルを得たのち、このエステルを加水分解し、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類(式(A)で表される化合物)を得る加水分解工程をさらに含んでいてもよい。
[Hydrolysis step]
That is, in the production method of the present invention, in the carbonylation step, the reaction between the compound represented by the formula (1) and carbon monoxide is performed in the presence of alcohols, and 9,9-bis (carboxyaryl) After obtaining an ester of a fluorene (compound represented by the formula (A)) and the alcohol, the ester is hydrolyzed, and 9,9-bis (carboxyaryl) fluorene (expressed by the formula (A)). The hydrolysis step to obtain a compound to be obtained may be further included.

加水分解工程では、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類と前記アルコール類とのエステルを加水分解して、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類を得る。このような加水分解工程では、通常、前記エステルに、塩基又は酸を混合して加水分解することにより行うことができる。塩基としては、加水分解できる限り特に限定されず、例えば、水酸化物(例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなど)などの無機塩基などを好適に使用できる。塩基は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。また、酸としては、特に限定されず、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸などを好適に使用できる。酸は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。なお、これらの塩基又は酸は、適当な溶媒(水など)に溶解させて加水分解に用いてもよい。   In the hydrolysis step, an ester of 9,9-bis (carboxyaryl) fluorene and the alcohol is hydrolyzed to obtain 9,9-bis (carboxyaryl) fluorene. Such a hydrolysis step can be usually carried out by mixing the ester with a base or an acid for hydrolysis. The base is not particularly limited as long as it can be hydrolyzed, and for example, an inorganic base such as a hydroxide (for example, potassium hydroxide, sodium hydroxide) can be preferably used. The bases may be used alone or in combination of two or more. Moreover, it does not specifically limit as an acid, For example, inorganic acids, such as hydrochloric acid, a sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, etc. can be used conveniently. The acids may be used alone or in combination of two or more. In addition, these bases or acids may be dissolved in an appropriate solvent (such as water) and used for hydrolysis.

塩基又は酸の使用量は、前記エステルのエステル基1モルに対して、例えば、1〜10モル当量、好ましくは1.2〜8モル当量、さらに好ましくは1.5〜5モル当量程度であってもよい。   The amount of the base or acid used is, for example, about 1 to 10 molar equivalents, preferably 1.2 to 8 molar equivalents, more preferably about 1.5 to 5 molar equivalents with respect to 1 mol of the ester group of the ester. May be.

加水分解温度は、塩基又は酸の種類などに応じて選択でき、例えば、20〜200℃、好ましくは30〜180℃、さらに好ましくは50〜150℃程度であってもよい。なお、加水分解は、適当な溶媒を用いて、還流下で行ってもよい。また、加水分解時間は、酸又は塩基の種類や加水分解温度などに応じて選択でき、例えば、2〜120時間、好ましくは5〜72時間程度であってもよい。   The hydrolysis temperature can be selected according to the type of base or acid, and may be, for example, 20 to 200 ° C, preferably 30 to 180 ° C, and more preferably about 50 to 150 ° C. In addition, you may perform a hydrolysis under reflux using a suitable solvent. The hydrolysis time can be selected according to the type of acid or base, the hydrolysis temperature, etc., and may be, for example, 2 to 120 hours, preferably about 5 to 72 hours.

加水分解後、生成した化合物は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製してもよい。代表的には、反応終了後、抽出操作を行った後、晶析溶媒を適宜加えて再結晶などにより精製してもよい。   After hydrolysis, the resulting compound may be separated and purified by a conventional method, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination means combining these. Typically, after completion of the reaction, an extraction operation may be performed, and then a crystallization solvent may be added as appropriate, and purification may be performed by recrystallization or the like.

本発明の方法では、高収率でフルオレン誘導体を得ることができる。また、本発明の方法は、高純度でフルオレン誘導体を得ることができ、大量合成も可能である。例えば、本発明の方法により得られるフルオレン誘導体(9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステル)の収率は、前記式(1)で表される化合物基準で、50モル%以上(例えば、55〜100モル%)、好ましくは60モル%以上(例えば、63〜99.99モル%)、さらに好ましくは65モル%以上(例えば、65〜99.95モル%)であってもよい。   In the method of the present invention, a fluorene derivative can be obtained with high yield. In addition, the method of the present invention can obtain a fluorene derivative with high purity, and can be synthesized in large quantities. For example, the yield of fluorene derivatives (9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof) obtained by the method of the present invention is 50 mol% or more based on the compound represented by the formula (1) ( For example, 55 to 100 mol%), preferably 60 mol% or more (for example, 63 to 99.99 mol%), more preferably 65 mol% or more (for example, 65 to 99.95 mol%) may be used. .

[フルオレン誘導体]
以上のようにして、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類[すなわち、下記式(A)で表される化合物]およびそのエステルから選択されたフルオレン誘導体が得られる。
[Fluorene derivative]
As described above, a fluorene derivative selected from 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes [ie, a compound represented by the following formula (A)] and esters thereof is obtained.

Figure 0005324082
Figure 0005324082

(式中、Z、R、R、k、m、およびnは前記と同じ。)
代表的な上記式(A)で表される化合物には、前記式(1A)で表される化合物[9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類]に対応するカルボン酸(9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類のヒドロキシ基がカルボキシ基に置換した化合物)、例えば、9,9−ビス(カルボキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−カルボキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アルキル−カルボキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−カルボキシ−3−メチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1−4アルキル−カルボキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−カルボキシ−2,6−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(ジC1−4アルキル−カルボキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アリール−カルボキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−カルボキシ−3−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6−8アリール−カルボキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(ジカルボキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレンなど]などの9,9−ビス(カルボキシフェニル)フルオレン類;9,9−ビス(カルボキシナフチル)フルオレン[例えば、9,9−ビス[6−(2−カルボキシナフチル)]フルオレン(又は9,9−ビス[2−(6−カルボキシナフチル)]フルオレン)、9,9−ビス[1−(6−カルボキシナフチル)]フルオレン、9,9−ビス[1−(5−カルボキシナフチル)]フルオレンなど]などの9,9−ビス(カルボキシナフチル)フルオレン類などが含まれる。
(In the formula, Z, R 1 , R 2 , k, m, and n are the same as described above.)
Representative compounds represented by the above formula (A) include a carboxylic acid (9,9-bis) corresponding to the compound [9,9-bis (hydroxyaryl) fluorenes] represented by the above formula (1A). (Hydroxyaryl) a compound in which the hydroxy group of fluorene is substituted with a carboxy group), for example, 9,9-bis (carboxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4-carboxyphenyl) fluorene and the like], 9,9- 9,9-bis (C 1-4 alkyl-carboxyphenyl) fluorene, such as bis (alkyl-carboxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4-carboxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis ( 4-carboxy-2,6-dimethylphenyl) fluorene such as 9,9-bis (di-C 1-4 alkyl - carboxyphenyl) full Ren, etc.], 9,9-bis (aryl - carboxyphenyl) fluorene [e.g., 9,9-bis (4-carboxy-3-phenylphenyl) fluorene such as 9,9-bis (C 6-8 aryl - carboxy 9,9-bis (carboxyphenyl) fluorenes such as 9,9-bis (dicarboxyphenyl) fluorene [9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorene, etc.]; 9 , 9-bis (carboxynaphthyl) fluorene [for example, 9,9-bis [6- (2-carboxynaphthyl)] fluorene (or 9,9-bis [2- (6-carboxynaphthyl)] fluorene), 9, 9-bis [1- (6-carboxynaphthyl)] fluorene, 9,9-bis [1- (5-carboxynaphthyl)] fluore Etc.] and the like 9,9-bis (carboxymethyl naphthyl) fluorene such as.

また、代表的なエステルとしては、前記アルコール類に対応するエステル、例えば、9,9−ビス(アルコキシカルボニルフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−メトキシカルボニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1−4アルコキシカルボニルフェニル)フルオレン]、9,9−ビス(アルキル−アルコキシカルボニルフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−メトキシカルボニル−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−メトキシカルボニル−2,6−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1−4アルキル−モノ又はジC1−4アルコキシカルボニルフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アリール−アルコキシカルボニルフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−メトキシカルボニル−3−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6−8アリール−C1−4アルコキシカルボニルフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(ジアルコキシカルボニルフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジメトキシカルボニルフェニル)フルオレンなど]などの9,9−ビス(アルコキシカルボニルフェニル)フルオレン類;9,9−ビス(アルコキシカルボニルナフチル)フルオレン[例えば、9,9−ビス[6−(2−メトキシカルボニルナフチル)]フルオレン(又は9,9−ビス[2−(6−メトキシカルボニルナフチル)]フルオレン)、9,9−ビス[1−(6−メトキシカルボニルナフチル)]フルオレン、9,9−ビス[1−(5−メトキシカルボニルナフチル)]フルオレンなど]などの9,9−ビス(アルコキシカルボニルナフチル)フルオレン類などのアルキルエステル類(例えば、C1−4アルキルエステル類)、これらのアルキルエステル類に対応するシクロアルキルエステル類などが挙げられる。 As typical esters, esters corresponding to the alcohols, for example, 9,9- such as 9,9-bis (alkoxycarbonylphenyl) fluorene [9,9-bis (4-methoxycarbonylphenyl) fluorene, etc. bis (C 1-4 alkoxycarbonyl phenyl) fluorene, 9,9-bis (alkyl - alkoxycarbonyl phenyl) fluorene [9,9-bis (4-methoxycarbonyl-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis 9,9-bis (C 1-4 alkyl-mono or diC 1-4 alkoxycarbonylphenyl) fluorene such as (4-methoxycarbonyl-2,6-dimethylphenyl) fluorene], 9,9-bis (aryl -Alkoxycarbonylphenyl) fluorene [eg 9,9-bis (4 9,9-bis such methoxycarbonyl-3-phenylphenyl) fluorene (C 6-8 aryl -C 1-4 alkoxycarbonyl phenyl) fluorene, etc.], 9,9-bis (di-alkoxycarbonyl phenyl) fluorene [9, 9,9-bis (alkoxycarbonylphenyl) fluorenes such as 9-bis (3,4-dimethoxycarbonylphenyl) fluorene]; 9,9-bis (alkoxycarbonylnaphthyl) fluorene [eg, 9,9-bis [ 6- (2-methoxycarbonylnaphthyl)] fluorene (or 9,9-bis [2- (6-methoxycarbonylnaphthyl)] fluorene), 9,9-bis [1- (6-methoxycarbonylnaphthyl)] fluorene, 9,9-bis [1- (5-methoxycarbonylnaphthyl)] fluoro Alkyl esters (eg, C 1-4 alkyl esters) such as 9,9-bis (alkoxycarbonylnaphthyl) fluorenes such as len etc., and cycloalkyl esters corresponding to these alkyl esters. .

特に、本発明では、前記式(A)で表される化合物およびそのエステルの中でも、耐熱性などの各種特性において優れた新規な化合物(下記式(A1)で表される化合物およびそのエステル)が得られる。このため、本発明には、下記式(A1)で表される化合物およびそのエステルから選択された特定のフルオレン誘導体も含まれる。   In particular, in the present invention, among the compounds represented by the formula (A) and esters thereof, novel compounds excellent in various properties such as heat resistance (compounds represented by the following formula (A1) and esters thereof) are provided. can get. Therefore, the present invention also includes a specific fluorene derivative selected from a compound represented by the following formula (A1) and an ester thereof.

Figure 0005324082
Figure 0005324082

(式中、環Zは縮合多環式芳香族炭化水素環を示し、R、R、k、m、nは前記と同じ。)
上記式(A1)において、環Zで表される縮合多環式芳香族炭化水素環としては、前記例示の環、例えば、ナフタレン環などが挙げられる。前記式(A1)において、縮合多環式炭化水素環の好ましい態様や置換位置なども前記と同様である。
(In the formula, ring Z 1 represents a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring, and R 1 , R 2 , k, m, and n are the same as described above.)
In the above formula (A1), examples of the condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring represented by the ring Z 1 include the rings exemplified above, for example, a naphthalene ring. In the formula (A1), the preferred embodiment and substitution position of the condensed polycyclic hydrocarbon ring are the same as described above.

このような式(A1)で表される化合物には、前記9,9−ビス(カルボキシナフチル)フルオレン類などが含まれる。また、前記式(A1)で表される化合物のエステルには、前記9,9−ビス(アルコキシカルボニルナフチル)フルオレン類などのアルキルエステル類、このアルキルエステル類に対応するシクロアルキルエステル類などが挙げられる。   Such a compound represented by the formula (A1) includes the 9,9-bis (carboxynaphthyl) fluorenes. Examples of the ester of the compound represented by the formula (A1) include alkyl esters such as the 9,9-bis (alkoxycarbonylnaphthyl) fluorenes, cycloalkyl esters corresponding to the alkyl esters, and the like. It is done.

本発明の方法では、高収率でフルオレン誘導体[9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類およびそのエステル]を得ることができる。また、本発明の方法で得られるフルオレン誘導体の純度は高く、本発明の方法はフルオレン誘導体を得る方法として工業的に極めて有利である。   In the method of the present invention, fluorene derivatives [9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes and esters thereof] can be obtained with high yield. Further, the purity of the fluorene derivative obtained by the method of the present invention is high, and the method of the present invention is industrially extremely advantageous as a method for obtaining a fluorene derivative.

このようなフルオレン誘導体は、樹脂原料{例えば、ポリエステル系樹脂[例えば、ポリアルキレンテレフタレート(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリC2−4アルキレンテレフタレート)、ポリエチレンナフタレートなどのポリアルキレンアリレート系樹脂;ポリアリレートなど]、液晶性ポリマー、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリベンズイミダゾール、アクリル系樹脂などのポリカルボン酸又はその誘導体(低級アルキルエステルなど)を重合成分とする樹脂のポリカルボン酸原料}、機能性材料[例えば、添加剤(レジスト用添加剤など)、試薬(医薬、農薬など)の原料又は中間体など]などとして有用である。特に、フルオレン誘導体のうち、9,9−ビス(カルボキシナフチル)フルオレン類およびそのエステルなどの特定のフルオレン誘導体は、従来のフルオレン誘導体(9,9−ビス(カルボキシフェニル)フルオレン類など)に比べて、高耐熱性、高屈折率、低線膨張性、高透明性、高炭素密度などの優れた特性を有しており、これらの特性を付与又は向上させるための化合物として有用である。 Such a fluorene derivative is a resin raw material {eg, a polyester resin [eg, polyalkylene terephthalate (poly C 2-4 alkylene terephthalate such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate), polyalkylene arylate resin such as polyethylene naphthalate; Polyarylate etc.], liquid crystalline polymer, polyamide resin, polyimide resin, polybenzimidazole, polycarboxylic acid raw material of resin having a polymerization component such as polycarboxylic acid or derivative thereof (such as lower alkyl ester)} It is useful as a functional material [for example, an additive (resist additive, etc.), a reagent (medicine, agrochemical, etc.) or an intermediate, etc.]. In particular, among fluorene derivatives, specific fluorene derivatives such as 9,9-bis (carboxynaphthyl) fluorenes and esters thereof are more difficult than conventional fluorene derivatives (such as 9,9-bis (carboxyphenyl) fluorenes). It has excellent properties such as high heat resistance, high refractive index, low linear expansion, high transparency, and high carbon density, and is useful as a compound for imparting or improving these properties.

このようなフルオレン誘導体は、さまざまな用途に使用できる。具体的には、レジストなどの感光性樹脂、プリント配線基板、液晶配向膜、インク材料、発光材料(例えば、有機EL用発光材料など)、有機半導体、黒鉛化前駆体、ガス分離膜(例えば、COガス分離膜など)、コート剤(例えば、LED(発光ダイオード)用素子のコート剤などの光学用オーバーコート剤又はハードコート剤など)、レンズ[ピックアップレンズ(例えば、DVD(デジタル・バーサタイル・ディスク)用ピックアップレンズなど)、マイクロレンズ(例えば、液晶プロジェクター用マイクロレンズなど)、眼鏡レンズなど]、偏光膜(例えば、液晶ディスプレイ用偏光膜など)、光学フィルム又は光学シート{例えば、タッチパネル用フィルム、有機EL用フィルム、フレキシブル基板用フィルム、ディスプレイ用フィルム[例えば、PDP(プラズマディスプレイ)、LCD(液晶ディスプレイ)、VFD(真空蛍光ディスプレイ)、SED(表面伝導型電子放出素子ディスプレイ)、FED(電界放出ディスプレイ)、NED(ナノ・エミッシブ・ディスプレイ)、ブラウン管、電子ペーパーなどのディスプレイ(特に薄型ディスプレイ)用フィルムなど]など}、反射防止フィルム(又は反射防止膜、例えば、表示デバイス用反射防止フィルムなど)、燃料電池用膜、光ファイバー、光導波路、ホログラムなどの材料として好適に使用できる。 Such a fluorene derivative can be used for various applications. Specifically, a photosensitive resin such as a resist, a printed wiring board, a liquid crystal alignment film, an ink material, a light emitting material (for example, a light emitting material for organic EL), an organic semiconductor, a graphitization precursor, a gas separation film (for example, CO 2 gas separation membrane, etc.), coating agents (for example, optical overcoat agents such as coating agents for LED (light emitting diode) elements or hard coating agents), lenses [pickup lenses (eg, DVD (digital versatile tiles) Disc) pickup lens, etc.), micro lens (eg, micro lens for liquid crystal projector), spectacle lens, etc.], polarizing film (eg, polarizing film for liquid crystal display), optical film or optical sheet {eg, film for touch panel , Organic EL film, flexible substrate film, display Film [for example, PDP (plasma display), LCD (liquid crystal display), VFD (vacuum fluorescent display), SED (surface conduction electron-emitting device display), FED (field emission display), NED (nano-emissive display), Etc.}, antireflection film (or antireflection film, eg, antireflection film for display device), fuel cell membrane, optical fiber, optical waveguide, hologram It can use suitably as materials, such as.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

[実施例1]4,4’−(9−フルオレニリデン)ジベンゾイックアシッドの製造
(1)トリフレート化
DC(直流電流)スターラー、温度計、滴下ロートを備えたフラスコを窒素置換し、ピリジン309g(3.9mol)、アセトニトリル1.4L、トルエン1.2Lを入れ、攪拌下、4,4’−(9−フルオレニリデン)ジフェノール(大阪ガスケミカル(株)製)525g(1.5mol)を少量ずつ加え、完全に溶解させた。氷浴で内温を10℃に冷却後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(昭和電工(株)製)931g(3.3mol)をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温で4時間攪拌し、一夜放置した。反応溶液に、水、トルエンを加え、攪拌後、静置して水層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過除去し、ろ液を約1.5Lまで減圧濃縮した。残渣を油浴中65℃に加熱し、攪拌下、n−ヘキサン1.5Lを滴下し、1時間かけて徐々に冷却した。析出した結晶を減圧ろ過し、結晶を溶媒(トルエン:n−ヘキサン=1:2)で洗浄後、減圧下で乾燥した。収量763g、収率83%で対応するトリフレート(融点:160.0−161.5℃)を得た。
[Example 1] Production of 4,4 '-(9-fluorenylidene) dibenzoic acid (1) Triflation A flask equipped with a DC (direct current) stirrer, thermometer and dropping funnel was purged with nitrogen, and 309 g of pyridine ( 3.9 mol), 1.4 L of acetonitrile, and 1.2 L of toluene, and while stirring, 525 g (1.5 mol) of 4,4 ′-(9-fluorenylidene) diphenol (Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) was added little by little. In addition, it was completely dissolved. After cooling the internal temperature to 10 ° C. with an ice bath, 931 g (3.3 mol) of trifluoromethanesulfonic anhydride (manufactured by Showa Denko KK) was slowly added dropwise. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 4 hours and left overnight. Water and toluene were added to the reaction solution, and the mixture was stirred and allowed to stand to separate the aqueous layer. The organic layer was washed successively with water and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. Anhydrous sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to about 1.5 L. The residue was heated to 65 ° C. in an oil bath, 1.5 L of n-hexane was added dropwise with stirring, and the mixture was gradually cooled over 1 hour. The precipitated crystals were filtered under reduced pressure, washed with a solvent (toluene: n-hexane = 1: 2), and then dried under reduced pressure. The corresponding triflate (melting point: 160.0-161.5 ° C.) was obtained with a yield of 763 g and a yield of 83%.

(2)カルボニル化
ガス導入管を備えた耐圧容器に得られたトリフレート369g(0.6mol)、トルエン600ml、トリエチルアミン243g(2.4mol)、メタノール96g(3mol)、酢酸パラジウム(三津和化学薬品(株)製)270mg(1.2mmol)、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(アヅマックス(株)製)990mg(2.4mmol)を入れて密閉後、内部を窒素で2回、一酸化炭素で3回置換し、一酸化炭素で2MPaに加圧した。100℃まで徐々に昇温し、適宜一酸化炭素で加圧しながら、100℃で7時間反応させた。室温まで冷却後、脱圧、窒素置換後、容器を開け、反応液に水、トルエンを加えて攪拌後、水層を分離した。有機層を重曹水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層をセライトと活性炭を敷いたロートを通してろ過し、ろ液を減圧乾固した。残渣にトルエンを加え、油浴中65℃に加熱し、攪拌下、n−ヘキサンを滴下し、1時間かけて徐々に冷却した。析出した結晶を減圧ろ過し、結晶を溶媒(トルエン:n−ヘキサン=1:1)で洗浄後、減圧下で乾燥した。収量224g、収率86%で対応するメチルエステル(融点:181.0−183.0℃)を得た。液体クロマトグラフィーにより測定した純度は97.3%であった。
(2) Carbonylation 369 g (0.6 mol) of triflate obtained in a pressure vessel equipped with a gas introduction pipe, 600 ml of toluene, 243 g (2.4 mol) of triethylamine, 96 g (3 mol) of methanol, palladium acetate (Mitsuwa Chemical) 270 mg (1.2 mmol), 1,3-bis (diphenylphosphino) propane (manufactured by Amax Co.) 990 mg (2.4 mmol) were sealed and sealed, and the inside was twice with nitrogen. Substitution was performed 3 times with carbon oxide, and the pressure was increased to 2 MPa with carbon monoxide. The temperature was gradually raised to 100 ° C., and the mixture was reacted at 100 ° C. for 7 hours while appropriately pressurizing with carbon monoxide. After cooling to room temperature, after depressurization and replacement with nitrogen, the container was opened, water and toluene were added to the reaction solution, and the aqueous layer was separated after stirring. The organic layer was washed successively with aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer was filtered through a funnel with celite and activated carbon, and the filtrate was dried under reduced pressure. Toluene was added to the residue, heated to 65 ° C. in an oil bath, n-hexane was added dropwise with stirring, and the mixture was gradually cooled over 1 hour. The precipitated crystals were filtered under reduced pressure, washed with a solvent (toluene: n-hexane = 1: 1), and then dried under reduced pressure. The corresponding methyl ester (melting point: 181.0-183.0 ° C.) was obtained with a yield of 224 g and a yield of 86%. The purity measured by liquid chromatography was 97.3%.

(3)加水分解
DCスターラー、温度計、還流冷却器を備えたフラスコを窒素置換し、得られたメチルエステル690g(1.6mol)、テトラヒドロフラン(THF)1.5Lを入れ、攪拌下、10%水酸化ナトリウム水溶液1.7Lを加えた。5時間還流攪拌後、THFを留去した。室温に冷却し、水、トルエンを加えて攪拌後、静置して有機層を分離した。水層にトルエンを加えて攪拌後、静置して有機層を分離し、水層をセライトと活性炭を敷いたロートでろ過した。ろ液を60℃に加温し、濃塩酸470g(4.5mol)を滴下して30分熟成後、室温まで徐々に冷却した。析出した結晶を減圧ろ過し、ろ物を水で3回洗浄した。含水結晶を50℃で通風乾燥し、4,4’−(9−フルオレニリデン)ジベンゾイックアシッド(又は9,9−ビス(4−カルボキシフェニル)フルオレン、白色粉末、融点:300.0℃<)を収量651g、収率99%で得た。液体クロマトグラフィーにより測定した純度は98.1%であった。
(3) Hydrolysis A flask equipped with a DC stirrer, thermometer, and reflux condenser was replaced with nitrogen, and 690 g (1.6 mol) of the obtained methyl ester and 1.5 L of tetrahydrofuran (THF) were added, and 10% with stirring. 1.7 L of aqueous sodium hydroxide was added. After stirring at reflux for 5 hours, THF was distilled off. After cooling to room temperature, water and toluene were added and stirred, and then allowed to stand to separate the organic layer. Toluene was added to the aqueous layer and stirred, and then allowed to stand to separate the organic layer. The aqueous layer was filtered through a funnel with celite and activated carbon. The filtrate was heated to 60 ° C., 470 g (4.5 mol) of concentrated hydrochloric acid was added dropwise, and the mixture was aged for 30 minutes, and then gradually cooled to room temperature. The precipitated crystals were filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed 3 times with water. Hydrous crystals were dried by ventilation at 50 ° C., and 4,4 ′-(9-fluorenylidene) dibenzoic acid (or 9,9-bis (4-carboxyphenyl) fluorene, white powder, melting point: 300.0 ° C. <) Yield 651 g, 99% yield. The purity measured by liquid chromatography was 98.1%.

H−NMR[DMSO−d/TMS,δ値(ppm)]
7.23−7.26(d,2H),7.33−7.37(t,1H),7.43−7.49(m,2H),7.84−7.86(d,2H),7.97−7.99(d、1H)、12.46(s,2H)。
1 H-NMR [DMSO-d 6 / TMS, δ value (ppm)]
7.23-7.26 (d, 2H), 7.33-7.37 (t, 1H), 7.43-7.49 (m, 2H), 7.84-7.86 (d, 2H) ), 7.97-7.99 (d, 1H), 12.46 (s, 2H).

[実施例2]9,9−ビス(3−メチル−4−カルボキシフェニル)フルオレンの製造
(1)トリフレート化
トルエン70ml、ピリジン6.17g(78mmol)に攪拌下、9,9−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(大阪ガスケミカル(株)製)11.36g(30mmol)を少量ずつ加え、氷浴で内温を10℃に冷却後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(昭和電工(株)製)18.6g(66mmol)をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温で4時間攪拌し、一夜放置した。反応溶液に水、酢酸エチルを加え、攪拌後、静置して水層を分離した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過除去したろ液を減圧乾固し、残渣を溶媒(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で懸濁、減圧ろ過、乾燥して対応するトリフレート(融点:162.0−163.0℃)を収量17.8g、収率92%で得た。
[Example 2] Production of 9,9-bis (3-methyl-4-carboxyphenyl) fluorene (1) Triflation To 9 ml of toluene and 6.17 g (78 mmol) of pyridine, 9,9-bis (3 -Methyl-4-hydroxyphenyl) fluorene (Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) 11.36 g (30 mmol) was added little by little, the internal temperature was cooled to 10 ° C. in an ice bath, and trifluoromethanesulfonic anhydride (Showa Denko) 18.6 g (66 mmol) (manufactured by Co., Ltd.) was slowly added dropwise. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 4 hours and left overnight. Water and ethyl acetate were added to the reaction solution, and the mixture was stirred and allowed to stand to separate the aqueous layer. The organic layer was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The filtrate from which anhydrous sodium sulfate was removed by filtration was dried under reduced pressure. The residue was suspended in a solvent (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1), filtered under reduced pressure, and dried to give the corresponding triflate (melting point: 162.0). −163.0 ° C.) was obtained in a yield of 17.8 g and a yield of 92%.

(2)カルボニル化
ガス導入管を備えた耐圧容器に得られたトリフレート19.28g(30mmol)、トルエン30ml、トリエチルアミン12.14g(120mmol)、メタノール4.81g(150mmol)、酢酸パラジウム(三津和化学薬品(株)製)13mg(0.06mmol)、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(アヅマックス(株)製)50mg(0.12mmol)を入れて密閉後、内部を窒素で2回、一酸化炭素で3回置換し、一酸化炭素で0.2MPaに加圧した。100℃まで徐々に昇温し、適宜一酸化炭素で加圧しながら、100℃で8時間反応させた。室温まで冷却後、脱圧、窒素置換後、容器を開け、反応液に水、酢酸エチル水を加えて攪拌後、水層を分離した。有機層を重曹水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層をセライトと活性炭を敷いたロートを通してろ過し、ろ液を減圧乾固した。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開溶媒n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製し、収量9.46g、収率68%で対応するメチルエステル(融点:159.0−161.0℃)を得た。
(2) Carbonylation 19.28 g (30 mmol) of triflate obtained in a pressure vessel equipped with a gas introduction pipe, 30 ml of toluene, 12.14 g (120 mmol) of triethylamine, 4.81 g (150 mmol) of methanol, palladium acetate (Mitsuwa) (Chemicals Co., Ltd.) 13 mg (0.06 mmol), 1,3-bis (diphenylphosphino) propane (Azumax Co., Ltd.) 50 mg (0.12 mmol) was added and sealed, and the inside was twice with nitrogen The carbon monoxide was substituted three times, and the pressure was increased to 0.2 MPa with carbon monoxide. The temperature was gradually raised to 100 ° C., and the mixture was reacted at 100 ° C. for 8 hours while appropriately pressurizing with carbon monoxide. After cooling to room temperature, after depressurization and replacement with nitrogen, the container was opened, water and ethyl acetate water were added to the reaction solution and stirred, and then the aqueous layer was separated. The organic layer was washed successively with aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer was filtered through a funnel with celite and activated carbon, and the filtrate was dried under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography on silica gel (developing solvent n-hexane: ethyl acetate = 4: 1), yield 9.46 g, yield 68%, corresponding methyl ester (melting point: 159.0-161.0 ° C. )

(3)加水分解
得られたメチルエステル6.94g(15mmol)をTHF15mlに溶かし、攪拌下、10%水酸化ナトリウム水溶液16mlを加え、48時間還流攪拌した。反応液を室温まで冷却し、THFをロータリーエバポレーターで留去後、水、トルエンを加えて攪拌、静置して有機層を分離した。水層にトルエンを加えて攪拌後、静置して有機層を分離し、水層を60℃に加温して濃塩酸4.38g(42mmol)を滴下し、室温までゆっくりと冷却した。析出した結晶を減圧ろ過し、ろ物を水で3回洗浄した。含水結晶を50℃で通風乾燥し、9,9−ビス(3−メチル−4−カルボキシフェニル)フルオレン(融点:294.0−298.0℃)を収量6.39g、収率98%で得た。
(3) Hydrolysis 6.94 g (15 mmol) of the obtained methyl ester was dissolved in 15 ml of THF, 16 ml of 10% aqueous sodium hydroxide solution was added with stirring, and the mixture was stirred at reflux for 48 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, THF was distilled off with a rotary evaporator, water and toluene were added, and the mixture was stirred and allowed to stand to separate the organic layer. Toluene was added to the aqueous layer and stirred, and then allowed to stand to separate the organic layer. The aqueous layer was heated to 60 ° C., 4.38 g (42 mmol) of concentrated hydrochloric acid was added dropwise, and the mixture was slowly cooled to room temperature. The precipitated crystals were filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed 3 times with water. The water-containing crystals were dried by ventilation at 50 ° C. to obtain 9,9-bis (3-methyl-4-carboxyphenyl) fluorene (melting point: 294.0-298.0 ° C.) in a yield of 6.39 g and a yield of 98%. It was.

[実施例3]
9,9−ビス(6−カルボキシ−2−ナフチル)フルオレンの製造
(1)トリフレート化
トルエン150ml、アセトニトリル20ml、ピリジン10.28g(130mmol)に攪拌下、9,9−ビス(6−ヒドロキシ−2−ナフチル)フルオレン(大阪ガスケミカル(株)製)27.64g(50mmol)を少量ずつ加え、氷浴で内温を10℃に冷却後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(昭和電工(株)製)31.0g(110mmol)をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温で4時間攪拌し、一夜放置した。反応溶液に水、酢酸エチルを加え、攪拌後、静置して水層を分離した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過除去したろ液を減圧乾固し、残渣を溶媒(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で懸濁、減圧ろ過、乾燥して対応するトリフレート(融点:144.0−145.5℃)を収量27.6g、収率77%で得た。
[Example 3]
Preparation of 9,9-bis (6-carboxy-2-naphthyl) fluorene (1) Triflation 9,9-bis (6-hydroxy-) with stirring in 150 ml of toluene, 20 ml of acetonitrile and 10.28 g (130 mmol) of pyridine 2-Naphtyl) fluorene (Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) 27.64 g (50 mmol) was added little by little, the internal temperature was cooled to 10 ° C. in an ice bath, and trifluoromethanesulfonic anhydride (Showa Denko Co., Ltd.) was added. 31.0 g (110 mmol) was slowly added dropwise. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 4 hours and left overnight. Water and ethyl acetate were added to the reaction solution, and the mixture was stirred and allowed to stand to separate the aqueous layer. The organic layer was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The filtrate from which anhydrous sodium sulfate was removed by filtration was dried under reduced pressure. The residue was suspended in a solvent (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1), filtered under reduced pressure, and dried to give the corresponding triflate (melting point: 144.0). -145.5 ° C.) was obtained in a yield of 27.6 g, a yield of 77%.

(2)カルボニル化
ガス導入管を備えた耐圧容器に、得られたトリフレート21.44g(30mmol)、トルエン30ml、トリエチルアミン12.14g(120mmol)、メタノール4.81g(150mmol)、酢酸パラジウム(三津和化学薬品(株)製)13mg(0.06mmol)、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(アヅマックス(株)製)50mg(0.12mmol)を入れて密閉後、内部を窒素で2回、一酸化炭素で3回置換し、一酸化炭素で0.2MPaに加圧した。95℃まで徐々に昇温し、適宜一酸化炭素で加圧しながら、95℃で6時間反応させた。室温まで冷却後、脱圧、窒素置換後、容器を開け、反応液に水、酢酸エチル水を加えて攪拌後、水層を分離した。有機層を重曹水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層をセライトと活性炭を敷いたロートを通してろ過し、ろ液を減圧濃縮、溶媒(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)を加えて放置した。析出した結晶をろ過、溶媒(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)洗浄し、対応するメチルエステル(融点:254.0−255.0℃)を収量13.44g、収率84%で得た。
(2) Carbonylation In a pressure vessel equipped with a gas introduction tube, the obtained triflate 21.44 g (30 mmol), toluene 30 ml, triethylamine 12.14 g (120 mmol), methanol 4.81 g (150 mmol), palladium acetate (Mitsu) (Wa Chemicals Co., Ltd.) 13 mg (0.06 mmol), 1,3-bis (diphenylphosphino) propane (Azumax Co., Ltd.) 50 mg (0.12 mmol) was added and sealed, and the inside was filled with nitrogen. 1 time, and carbon monoxide was substituted 3 times, and the pressure was increased to 0.2 MPa with carbon monoxide. The temperature was gradually raised to 95 ° C., and the mixture was reacted at 95 ° C. for 6 hours while appropriately pressurizing with carbon monoxide. After cooling to room temperature, after depressurization and replacement with nitrogen, the container was opened, water and ethyl acetate water were added to the reaction solution and stirred, and then the aqueous layer was separated. The organic layer was washed successively with aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer was filtered through a funnel covered with celite and activated carbon, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and a solvent (hexane: ethyl acetate = 2: 1) was added and left standing. The precipitated crystals were filtered and washed with a solvent (hexane: ethyl acetate = 2: 1) to obtain the corresponding methyl ester (melting point: 254.0-255.0 ° C.) in a yield of 13.44 g and a yield of 84%.

(3)加水分解
メチルエステル5.35(10mmol)をTHF20mlに懸濁し、攪拌下、10%水酸化ナトリウム水溶液10mlを加え、20時間還流攪拌した。反応液を室温まで冷却し、THFをロータリーエバポレーターで留去後、水、トルエンを加えて攪拌、静置して有機層を分離した。水層にトルエンを加えて攪拌後、静置して有機層を分離し、水層を60℃に加温して濃塩酸2.92g(28mmol)を滴下し、室温までゆっくりと冷却した。析出した結晶(アモルファス)を減圧ろ過し、ろ物を水で3回洗浄した。含水結晶(アモルファス)を50℃で通風乾燥し、9,9−ビス(6−カルボキシ−2−ナフチル)フルオレン[融点:232.0−255.0℃(アモルファス)]を収量4.91g、収率97%で得た。
(3) Hydrolysis 5.35 (10 mmol) of methyl ester was suspended in 20 ml of THF, 10 ml of 10% aqueous sodium hydroxide solution was added with stirring, and the mixture was stirred at reflux for 20 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, THF was distilled off with a rotary evaporator, water and toluene were added, and the mixture was stirred and allowed to stand to separate the organic layer. Toluene was added to the aqueous layer and stirred, and then allowed to stand to separate the organic layer. The aqueous layer was heated to 60 ° C., 2.92 g (28 mmol) of concentrated hydrochloric acid was added dropwise, and the mixture was slowly cooled to room temperature. The precipitated crystals (amorphous) were filtered under reduced pressure, and the filtrate was washed with water three times. The hydrous crystal (amorphous) was dried by ventilation at 50 ° C., yielding 4.91 g of 9,9-bis (6-carboxy-2-naphthyl) fluorene [melting point: 232.0-255.0 ° C. (amorphous)]. The rate was 97%.

H−NMR[DMSO−d/TMS,δ値(ppm)]
7.35−7.40(m,2H),7.43−7.49(m,4H),7.62−7.67(m,4H),7.83(d,2H),7.90(dd,2H)8.01−8.07(m,4H),8.54(s,2H)。
1 H-NMR [DMSO-d 6 / TMS, δ value (ppm)]
7.35-7.40 (m, 2H), 7.43-7.49 (m, 4H), 7.62-7.67 (m, 4H), 7.83 (d, 2H), 7. 90 (dd, 2H) 8.01-8.07 (m, 4H), 8.54 (s, 2H).

Claims (10)

下記式(A1)で表される化合物およびその第1級脂肪族アルコールとのエステルから選択されたフルオレン誘導体。  A fluorene derivative selected from a compound represented by the following formula (A1) and an ester thereof with a primary aliphatic alcohol.
Figure 0005324082
Figure 0005324082
(式中、環Z(Wherein ring Z 1 は縮合多環式芳香族炭化水素環を示し、RRepresents a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring, R 1 はシアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基、RIs a cyano group, a halogen atom or an alkyl group, R 2 は、炭化水素基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基を示しを示す。kは0〜4の整数、mは0以上の整数、nは1以上の整数である。)Represents a hydrocarbon group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, acyl group, halogen atom, nitro group, cyano group or substituted amino group. k is an integer of 0 to 4, m is an integer of 0 or more, and n is an integer of 1 or more. )
環Z  Ring Z 1 がナフタレン環である請求項1記載のフルオレン誘導体。The fluorene derivative according to claim 1, wherein is a naphthalene ring. 請求項1記載の式(A1)で表される化合物およびその第1級脂肪族アルコールとのエステルから選択されたフルオレン誘導体を製造する方法であって、下記式(1)で表される化合物と一酸化炭素とを反応させるカルボニル化工程を少なくとも含む前記フルオレン誘導体の製造方法。
Figure 0005324082
(式中、環Zは縮合多環式芳香族炭化水素環を示し、Rはシアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基、Rは、炭化水素基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基を示し、Rはハロゲン原子により置換されていてもよい炭化水素基を示す。kは0〜4の整数、mは0以上の整数、nは1以上の整数である。)
A method for producing a fluorene derivative selected from a compound represented by the formula (A1) according to claim 1 and an ester thereof with a primary aliphatic alcohol, the compound represented by the following formula (1): A method for producing the fluorene derivative, comprising at least a carbonylation step of reacting with carbon monoxide.
Figure 0005324082
(In the formula, ring Z represents a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring, R 1 represents a cyano group, a halogen atom or an alkyl group, R 2 represents a hydrocarbon group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, An aralkyloxy group, an acyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group or a substituted amino group, R 3 represents a hydrocarbon group optionally substituted by a halogen atom, k is an integer of 0 to 4, and m is (An integer of 0 or more and n is an integer of 1 or more.)
カルボニル化工程に先だって、下記式(1A)で表される化合物と、基RSO−に対応するスルホン酸類とを反応させて、式(1)で表される化合物を得るスルホン酸エステル化工程を含む請求項記載の製造方法。
Figure 0005324082
(式中、Z、R、R、k、m、nは前記と同じ。)
Prior to the carbonylation step, a compound represented by the following formula (1A) is reacted with a sulfonic acid corresponding to the group R 3 SO 3 — to obtain a compound represented by the formula (1). The manufacturing method of Claim 3 including a process.
Figure 0005324082
(In the formula, Z, R 1 , R 2 , k, m, and n are the same as described above.)
環Zがナフタレン環であり、Rがアルキル基であり、kが0〜1であり、Rがアルキル基又はアリール基であり、mが0〜2であり、nが1〜3である請求項3又は4記載の製造方法。 A ring Z Gana Futaren ring, R 1 is an alkyl group, k is 0 to 1, R 2 is an alkyl or aryl group, m is 0 to 2, with n is 1 to 3 The manufacturing method according to claim 3 or 4 . スルホン酸類が、トリフルオロメタンスルホン酸類である請求項3〜5のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to claim 3 , wherein the sulfonic acid is trifluoromethanesulfonic acid. カルボニル化工程において、式(1)で表される化合物と一酸化炭素とを遷移金属触媒の存在下で反応させる請求項3〜6のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 3 to 6 , wherein in the carbonylation step, the compound represented by the formula (1) and carbon monoxide are reacted in the presence of a transition metal catalyst. 遷移金属触媒が、パラジウム化合物である請求項記載の製造方法。 The production method according to claim 7 , wherein the transition metal catalyst is a palladium compound. 遷移金属触媒の割合が、式(1)で表される化合物の基RSO−1モルに対して、0.00001〜0.1モルである請求項7又は8記載の製造方法。 The production method according to claim 7 or 8 , wherein the proportion of the transition metal catalyst is 0.00001 to 0.1 mol with respect to 1 mol of the group R 3 SO 3 of the compound represented by the formula (1). カルボニル化工程において、式(1)で表される化合物と一酸化炭素とを水及び/又はアルコール類の存在下で反応させる請求項3〜9のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 3 to 9 , wherein in the carbonylation step, the compound represented by the formula (1) and carbon monoxide are reacted in the presence of water and / or alcohols.
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