JP5321790B2 - Liquid crystal aligning agent, method for forming liquid crystal aligning film, and liquid crystal display element - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子に関する。 The present invention relates to a liquid crystal alignment agent, a method for forming a liquid crystal alignment film, and a liquid crystal display element.
従来、正の誘電異方性を有するネマチック型液晶を、液晶配向膜を有する透明電極付き基板でサンドイッチ構造にし、必要に応じて液晶分子の長軸が基板間で0〜360°連続的に捻れるようにしてなる、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、IPS(In Plane Switching)型等の液晶セルを有する液晶表示素子が知られている(特許文献1および2参照)。
このような液晶セルにおいては、液晶分子を基板面に対し所定の方向に配向させるため、基板表面に液晶配向膜を設ける必要がある。この液晶配向膜は、通常、基板表面に形成された有機膜表面をレーヨン等の布材で一方向にこする方法(ラビング法)により形成されている。しかし、液晶配向膜の形成をラビング処理により行うと、工程内でほこりや静電気が発生し易いため、配向膜表面にほこりが付着して表示不良発生の原因となるという問題があった。特にTFT(Thin Film Transistor)素子を有する基板の場合には、発生した静電気によってTFT素子の回路破壊が起こり、歩留まり低下の原因となるという問題もあった。さらに、今後ますます高精細化される液晶表示素子においては、画素の高密度化に伴い基板表面に凹凸が生じるために、均一にラビング処理を行うことが困難となりつつある。
液晶セルにおける液晶を配向させる別の手段として、基板表面に形成したポリビニルシンナメート、ポリイミド、アゾベンゼン誘導体等の感光性薄膜に偏光または非偏光の放射線を照射することにより、液晶配向能を付与する光配向法が知られている。この方法によれば、静電気やほこりを発生することなく、均一な液晶配向を実現することができる(特許文献3〜13参照)。
ところで、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型等の液晶セルにおいては、液晶配向膜は、液晶分子を基板面に対して所定の角度で傾斜配向させる、プレチルト角特性を有する必要がある。光配向法により液晶配向膜を形成する場合においては、プレチルト角は、通常、照射する放射線の基板面への入射方向を基板法線から傾斜させることにより付与される。
Conventionally, a nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy is sandwiched with a substrate with a transparent electrode having a liquid crystal alignment film, and the major axis of the liquid crystal molecules is continuously twisted between 0 and 360 ° between the substrates as necessary. There are known liquid crystal display elements having liquid crystal cells such as TN (Twisted Nematic) type, STN (Super Twisted Nematic) type, and IPS (In Plane Switching) type (see Patent Documents 1 and 2). .
In such a liquid crystal cell, it is necessary to provide a liquid crystal alignment film on the substrate surface in order to align liquid crystal molecules in a predetermined direction with respect to the substrate surface. This liquid crystal alignment film is usually formed by a method (rubbing method) in which the organic film surface formed on the substrate surface is rubbed in one direction with a cloth material such as rayon. However, when the liquid crystal alignment film is formed by a rubbing process, dust and static electricity are likely to be generated in the process, so that there is a problem that dust adheres to the alignment film surface and causes display defects. In particular, in the case of a substrate having a TFT (Thin Film Transistor) element, there has been a problem that the circuit damage of the TFT element occurs due to the generated static electricity, resulting in a decrease in yield. Furthermore, in liquid crystal display elements that will be further refined in the future, unevenness is generated on the substrate surface as the density of pixels increases, and it is becoming difficult to perform rubbing treatment uniformly.
As another means of aligning the liquid crystal in the liquid crystal cell, light that imparts liquid crystal alignment ability by irradiating polarized or non-polarized radiation to a photosensitive thin film such as polyvinyl cinnamate, polyimide, or azobenzene derivative formed on the substrate surface. Orientation methods are known. According to this method, uniform liquid crystal alignment can be realized without generating static electricity or dust (see Patent Documents 3 to 13).
By the way, in a liquid crystal cell of TN (Twisted Nematic) type, STN (Super Twisted Nematic) type or the like, the liquid crystal alignment film needs to have a pretilt angle characteristic that tilts liquid crystal molecules at a predetermined angle with respect to the substrate surface. There is. In the case of forming a liquid crystal alignment film by the photo-alignment method, the pretilt angle is usually given by tilting the incident direction of the irradiated radiation to the substrate surface from the substrate normal.
一方、上記とは別の液晶表示素子の動作モードとして、負の誘電異方性を有する液晶分子を基板に垂直に配向させる垂直(ホメオトロピック)配向モードのVA(Vertical Alignment)型液晶セルも知られている。この動作モードでは、基板間に電圧を印加して液晶分子が基板に平行な方向に向かって傾く際に、液晶分子が基板法線方向から基板面内の一方向に向かって傾くようにする必要がある。このための手段として、例えば、基板表面に突起を設ける方法、透明電極にストライプを設ける方法、ラビング配向膜を用いることにより液晶分子を基板法線方向から基板面内の一方向に向けてわずかに傾けておく(プレチルトさせる)方法等が提案されている。
前記光配向法は、垂直配向モードの液晶セルにおいて液晶分子の傾き方向を制御する方法としても有用であることが知られている。すなわち、光配向法により配向規制能およびプレチルト角発現性を付与した垂直配向膜を用いることにより、電圧印加時の液晶分子の傾き方向を均一に制御できることが知られている(特許文献11〜12および14〜16参照)。
また、光配向法により製造した液晶配向膜は、主成分である重合体の側鎖に感光性部位を有するものであるところ、従来知られている光配向性材料では、側鎖の感光性部位が液晶パネル製造工程における加熱時に熱分解が起こる可能性を払拭できず、基板やパネル製造ラインを汚染する不具合を生じることが懸念されている。
以上のように、少ない放射線照射量の光配向法により良好な液晶配向能、優れた電気特性および高い耐熱性を有する液晶配向膜を形成することができ、ポストベーク時の熱分解の問題を起こさない液晶配向剤はこれまでに知られていない。
The photo-alignment method is known to be useful as a method for controlling the tilt direction of liquid crystal molecules in a vertical alignment mode liquid crystal cell. That is, it is known that the tilt direction of liquid crystal molecules at the time of voltage application can be uniformly controlled by using a vertical alignment film provided with alignment regulating ability and pretilt angle expression by a photo-alignment method (Patent Documents 11 to 12). And 14-16).
In addition, the liquid crystal alignment film produced by the photo-alignment method has a photosensitive site in the side chain of the polymer as the main component. In the conventionally known photo-alignment materials, the photosensitive site in the side chain is used. However, there is a concern that the possibility of thermal decomposition at the time of heating in the liquid crystal panel manufacturing process cannot be wiped out and a problem of contaminating the substrate or the panel manufacturing line is caused.
As described above, a liquid crystal alignment film having good liquid crystal alignment ability, excellent electrical properties, and high heat resistance can be formed by a photo-alignment method with a small radiation dose, causing a problem of thermal decomposition during post-baking. No liquid crystal aligning agent is known so far.
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ラビング処理を行わずに偏光または非偏光の放射線照射によって少ない露光量でも良好な液晶配向能を有する液晶配向膜を与えることができ、しかもポストベーク時に熱分解の問題を起こさない液晶配向剤、該液晶配向剤を用いた耐熱性に優れる液晶配向膜の形成方法ならびに表示特性、信頼性などの諸性能に優れた液晶表示素子を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a liquid crystal alignment film having a good liquid crystal alignment ability even with a small exposure amount by irradiation with polarized or non-polarized radiation without performing a rubbing treatment. A liquid crystal aligning agent that does not cause thermal decomposition problems during post-baking, a liquid crystal aligning method that uses the liquid crystal aligning agent, a method for forming a liquid crystal aligning film that is excellent in heat resistance, and various performances such as display characteristics and reliability Is to provide.
本発明によれば本発明の上記目的および利点は、第1に、
下記式(1)または(2)
According to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are as follows.
The following formula (1) or (2)
(式(1)中、R1は水素原子、炭素数1〜40のアルキル基もしくはフルオロアルキル基または脂環構造を含む炭素数3〜40の1価の有機基であり、R2は単結合であってR3は水素原子であるか、またはR2とR3とが結合して炭素数4〜8の環を形成しており、A1は単結合、酸素原子、硫黄原子または*−COO−、*−OCO−(ただし「*」を付した結合手がR1と結合する。)であり、R4はフッ素原子またはシアノ基であり、S1はメチレン基または炭素数2〜10のアルキレン基であり、P1は水素原子またはメチル基であり、aは0または1であり、bは0〜4の整数であり、
式(2)中、R5は単結合であってR6は水素原子であるか、またはR5とR6とが結合して炭素数4〜8の環を形成しており、R7は炭素数1〜40のアルキル基もしくはフルオロアルキル基または脂環構造を含む炭素数3〜40の1価の有機基であり、R8はフッ素原子またはシアノ基であり、A2は単結合、酸素原子、硫黄原子または−COO−*、−OCO−*(ただし「*」を付した結合手がR5と結合する。)であり、S2はメチレン基または炭素数2〜10のアルキレン基であり、P2は水素原子またはメチル基であり、cは0または1であり、dは0〜4の整数である。)
で表される化合物の(共)重合体を含有する液晶配向剤によって達成される。
本発明の上記目的および利点は、第2に、
上記の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に放射線を照射する液晶配向膜の形成方法によって達成され、第3に、
上記の液晶配向剤から形成された液晶配向膜を具備する液晶表示素子によって達成される。
さらに本発明の上記目的および利点は、第4に、
上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体によって達成され、第5に、
上記式(1)または(2)で表される化合物によって達成される。
(In the formula (1), R 1 represents a hydrogen atom, a monovalent organic group having 3 to 40 carbon atoms containing an alkyl or fluoroalkyl group or a alicyclic structure having a carbon number of 1 to 40, R 2 is a single bond R 3 is a hydrogen atom, or R 2 and R 3 are bonded to form a ring having 4 to 8 carbon atoms, and A 1 is a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom or * − COO—, * —OCO— (wherein the bond marked with “*” is bonded to R 1 ), R 4 is a fluorine atom or a cyano group, and S 1 is a methylene group or a carbon number of 2 to 10 P 1 is a hydrogen atom or a methyl group, a is 0 or 1, b is an integer of 0 to 4,
In Formula (2), R 5 is a single bond and R 6 is a hydrogen atom, or R 5 and R 6 are bonded to form a ring having 4 to 8 carbon atoms, and R 7 is An alkyl group or fluoroalkyl group having 1 to 40 carbon atoms or a monovalent organic group having 3 to 40 carbon atoms including an alicyclic structure, R 8 is a fluorine atom or a cyano group, A 2 is a single bond, oxygen An atom, a sulfur atom, or —COO— * , —OCO— * (where a bond marked with “*” is bonded to R 5 ), and S 2 is a methylene group or an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms. There, P 2 is a hydrogen atom or a methyl group, c is 0 or 1, d is an integer of 0-4. )
It achieves by the liquid crystal aligning agent containing the (co) polymer of the compound represented by these.
The above objects and advantages of the present invention are secondly,
The liquid crystal aligning agent is applied to form a coating film, and is achieved by a method of forming a liquid crystal alignment film in which the coating film is irradiated with radiation. Third,
This is achieved by a liquid crystal display element comprising a liquid crystal alignment film formed from the above liquid crystal aligning agent.
Further, the above object and advantage of the present invention are fourthly.
Achieved by a (co) polymer of a compound represented by the above formula (1) or (2),
This is achieved by the compound represented by the above formula (1) or (2).
本発明の液晶配向剤は、光配向法を適用しうる液晶配向剤として従来知られている液晶配向剤と比較して、少ない放射線照射量で優れた液晶配向性および電気特性を有する液晶配向膜を形成することができ、しかもポストベーク時に熱分解の問題を起こすことがない。それゆえ、この液晶配向膜を液晶表示素子に適用した場合、液晶表示素子を従来より安価に製造でき、しかも表示特性、信頼性等の諸性能に優れるものとなる。したがって、これらの液晶表示素子は種々の装置に有効に適用でき、例えば卓上計算機、腕時計、置時計、計数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピューター、液晶テレビ等の装置に好適に用いることができる。 The liquid crystal aligning agent of the present invention is a liquid crystal aligning film having excellent liquid crystal aligning properties and electrical characteristics with a small radiation dose as compared with a liquid crystal aligning agent conventionally known as a liquid crystal aligning agent to which a photo-alignment method can be applied. In addition, there is no problem of thermal decomposition during post-baking. Therefore, when this liquid crystal alignment film is applied to a liquid crystal display element, the liquid crystal display element can be manufactured at a lower cost than before, and the various properties such as display characteristics and reliability are excellent. Therefore, these liquid crystal display elements can be effectively applied to various devices, and can be suitably used for devices such as desk calculators, watches, table clocks, counting display boards, word processors, personal computers, and liquid crystal televisions.
以下、本発明について、詳細に説明する。
本発明の液晶配向剤は、上記式(1)または(2)で表される化合物を重合して得られる重合体を含有する。
<上記式(1)または(2)で表される化合物>
上記式(1)におけるR1の炭素数1〜40のアルキル基またはフルオロアルキル基としては、炭素数1〜20のアルキル基またはフルオロアルキル基が好ましく、これらの具体例として、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ラウリル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基、4,4,4−トリフロロブチル基、4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンチル、4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロヘキシル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2−(パーフルオロブチル)エチル基、2−(パーフルオロオクチル)エチル基、2−(パーフルオロデシル)エチル基等を挙げることができる。R1の脂環式基を含む炭素数3〜40の1価の有機基としては、例えばコレステニル基、コレスタニル基、アダマンチル基等を挙げることができる。S1としては、炭素数2〜6のアルキレン基が好ましい。
上記式(1)におけるR2およびR3が結合して形成する炭素数4〜8の環とは、脂環および芳香環を含む概念であり、単環、多環または架橋環であることができる。かかる炭素数4〜8の環としては、例えばシクロヘキサン環、ベンゼン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、ノルボルネン環等を挙げることができる。
上記式(1)で表される化合物の例として、例えば下記式(1−1)〜(1−10)
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The liquid crystal aligning agent of this invention contains the polymer obtained by superposing | polymerizing the compound represented by the said Formula (1) or (2).
<Compound represented by the above formula (1) or (2)>
The alkyl group or fluoroalkyl group having 1 to 40 carbon atoms of R 1 in the above formula (1) is preferably an alkyl group or fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include, for example, methyl group, ethyl Group, n-propyl, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-lauryl group, n-dodecyl group N-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, n-eicosyl group, 4,4,4-trifluorobutyl Group, 4,4,5,5,5-pentafluoropentyl, 4,4,5,5,6,6,6-heptafluorohexyl group, 3,3,4,4,5,5,5-hepta Fluoropentyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2- (perfluorobutyl) ethyl group, 2- (perfluorooctyl) ethyl group, A 2- (perfluorodecyl) ethyl group can be exemplified. The monovalent organic group having 3 to 40 carbon atoms containing an alicyclic group R 1, may include, for example Koresuteniru group, cholestanyl group, an adamantyl group. S 1 is preferably an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.
The ring having 4 to 8 carbon atoms formed by combining R 2 and R 3 in the above formula (1) is a concept including an alicyclic ring and an aromatic ring, and may be a monocyclic ring, a polycyclic ring or a bridged ring. it can. Examples of the ring having 4 to 8 carbon atoms include a cyclohexane ring, a benzene ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, and a norbornene ring.
Examples of the compound represented by the above formula (1) include, for example, the following formulas (1-1) to (1-10):
(上式中、R1およびP1は、それぞれ、上記式(1)におけるのと同義であり、eは1〜10の整数である。)
のそれぞれで表される化合物などを挙げることができる。eは2〜6の整数であることが好ましい。
上記式(2)におけるR5およびR6が結合して形成する炭素数4〜8の環とは、脂環および芳香環を含む概念であり、単環、多環または架橋環であることができる。かかる炭素数4〜8の環としては、例えばシクロヘキサン環、ベンゼン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、ノルボルネン環等を挙げることができる。R7の炭素数1〜40のアルキル基およびフルオロアルキル基ならびに脂環構造を含む炭素数3〜40の1価の有機基については、上記式(1)におけるR1について説明したところと同様である。S2としては、炭素数2〜6のアルキレン基が好ましい。
上記式(2)で表される化合物の例として、例えば下記式(2−1)〜(2−3)
(In the above formula, R 1 and P 1 have the same meanings as in the above formula (1), and e is an integer of 1 to 10.)
And the like, and the like. It is preferable that e is an integer of 2-6.
The ring having 4 to 8 carbon atoms formed by combining R 5 and R 6 in the above formula (2) is a concept including an alicyclic ring and an aromatic ring, and may be a monocyclic ring, a polycyclic ring or a bridged ring. it can. Examples of the ring having 4 to 8 carbon atoms include a cyclohexane ring, a benzene ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, and a norbornene ring. The alkyl group having 1 to 40 carbon atoms and the fluoroalkyl group of R 7 and the monovalent organic group having 3 to 40 carbon atoms including the alicyclic structure are the same as those described for R 1 in the above formula (1). is there. S 2 is preferably an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.
Examples of the compound represented by the above formula (2) include, for example, the following formulas (2-1) to (2-3):
(上式中、R7およびP2は、それぞれ、上記式(2)におけるのと同義であり、fは1〜10の整数である。)
のそれぞれで表される化合物などを挙げることができる。fは2〜6の整数であることが好ましい。
上記式(1)または(2)で表される化合物は、有機化学の定法を適宜に組み合わせることにより合成することができる。
例えば上記式(1−1)で表される化合物の合成方法として、例えば以下の2つの合成ルートを挙げることができる。
第一の合成ルートとして、アルキルこはく酸無水物および4−アミノ桂皮酸の反応によりアルキルスクシンイミド基を有する桂皮酸誘導体を中間体として得て、これを塩化チオニルにより酸塩化物とした後、ヒドロキシエチルアクリレートと反応させる方法を挙げることができる。中間体の合成は、例えば原料化合物を酢酸中で還流する方法、トリエチルアミン等の適当な塩基触媒の存在下にトルエンまたはキシレン中で還流する方法等によることができる、酸塩化物とヒドロキシエチルアクリレートとの反応は、好ましくはトリエチルアミン等の適当な塩基存在下で行うことができる。
第二の合成ルートとしては、上記桂皮酸誘導体中間体を炭酸カリウム等の適当な塩基の存在下でブロモエタノールと反応させてエステルとした後、さらにトリエチルアミンなどの適当な塩基の存在下でアクリル酸塩化物と反応させる方法を挙げることができる。
(In the above formula, R 7 and P 2 are respectively synonymous with those in the above formula (2), and f is an integer of 1 to 10.)
And the like, and the like. f is preferably an integer of 2 to 6.
The compound represented by the formula (1) or (2) can be synthesized by appropriately combining organic chemistry methods.
For example, as a method for synthesizing the compound represented by the above formula (1-1), for example, the following two synthesis routes can be exemplified.
As a first synthetic route, a cinnamic acid derivative having an alkyl succinimide group is obtained as an intermediate by the reaction of alkyl succinic anhydride and 4-amino cinnamic acid, and this is converted into an acid chloride with thionyl chloride, and then hydroxyethyl. The method of making it react with an acrylate can be mentioned. The intermediate can be synthesized by, for example, a method of refluxing the raw material compound in acetic acid, a method of refluxing in toluene or xylene in the presence of a suitable base catalyst such as triethylamine, and the like. This reaction can be preferably performed in the presence of a suitable base such as triethylamine.
As a second synthesis route, the cinnamic acid derivative intermediate is reacted with bromoethanol in the presence of a suitable base such as potassium carbonate to form an ester, and then acrylic acid in the presence of a suitable base such as triethylamine. The method of making it react with a chloride can be mentioned.
上記式(1−2)で表される化合物の合成は、例えばリンゴ酸エステルと、ヨウ化アルキルまたは臭化アルキルとを、酸化銀などの適当な触媒の存在下で反応させてエーテル結合を形成した後、アルカリ水で加水分解し、さらに無水酢酸で脱水閉環してアルキルエーテルを有する酸無水物とした後、上記式(1−1)で表される化合物の合成と同様にして4−アミノ桂皮酸を用いて桂皮酸誘導体中間体を経てアクリレートを付加する方法によることができる。
上記式(1−3)で表される化合物は、マレイミドに、アルキル基を有するチオールをマイケル付加し、その生成物を加水分解、脱水閉環した後、上記式(1−1)で表される化合物の合成と同様にして4−アミノ桂皮酸を用いて桂皮酸誘導体中間体を経てアクリレートを付加する方法により合成することができる。
上記式(1−4)で表される化合物は、例えば水添トリメリット酸無水物を塩化チオニルにより酸塩化物とし、次いでこれとアルコールとを、例えばトリエチルアミン等の適当な塩基存在下で反応させてエステル結合を形成して得た生成物につき、上記式(1−1)で表される化合物の合成と同様にして4−アミノ桂皮酸を用いて桂皮酸誘導体中間体を経てアクリレートを付加する方法により合成することができる。
上記式(1−5)で表される化合物は、例えばヒドロキシフタル酸を脱水して閉環した後、上記式(1−1)と同様にして4−アミノ桂皮酸を反応させた後、その反応生成物にヨウ化アルキルまたは臭化アルキルをウィリアムソン反応させて桂皮酸誘導体中間体を経てアクリレートを付加する方法により合成することができる。
Synthesis of the compound represented by the above formula (1-2) is performed by, for example, reacting malate ester with alkyl iodide or alkyl bromide in the presence of a suitable catalyst such as silver oxide to form an ether bond. And then hydrolyzing with alkaline water, dehydrating and ring-closing with acetic anhydride to obtain an acid anhydride having an alkyl ether, and then 4-amino in the same manner as the synthesis of the compound represented by the above formula (1-1). It is possible to use cinnamic acid by adding an acrylate via a cinnamic acid derivative intermediate.
The compound represented by the above formula (1-3) is represented by the above formula (1-1) after Michael addition of a thiol having an alkyl group to maleimide, hydrolysis and dehydration ring closure of the product. In the same manner as the synthesis of the compound, it can be synthesized by a method of adding acrylate through a cinnamic acid derivative intermediate using 4-aminocinnamic acid.
The compound represented by the above formula (1-4) is obtained by reacting, for example, hydrogenated trimellitic anhydride with thionyl chloride and then reacting this with alcohol in the presence of a suitable base such as triethylamine. In the same manner as the synthesis of the compound represented by the above formula (1-1), an acrylate is added to the product obtained by forming an ester bond by using 4-aminocinnamic acid via a cinnamic acid derivative intermediate. It can be synthesized by the method.
The compound represented by the above formula (1-5) is obtained by, for example, dehydrating hydroxyphthalic acid and cyclizing it, and then reacting 4-aminocinnamic acid in the same manner as in the above formula (1-1). The product can be synthesized by a method in which an alkyl iodide or alkyl bromide is subjected to a Williamson reaction and an acrylate is added via a cinnamic acid derivative intermediate.
上記式(1−6)で表される化合物は、例えば上記式(1−1)で表される化合物の合成における桂皮酸誘導体中間体とビニルブロマイドとを、炭酸カリウム等の適当な塩基の存在下で反応させることにより合成することができる。
上記式(1−7)で表される化合物は、例えば上記式(1−2)で表される化合物の合成における桂皮酸誘導体中間体とビニルブロマイドとを、炭酸カリウム等の適当な塩基の存在下で反応させることにより合成することができる。
上記式(1−8)で表される化合物は、例えば上記式(1−3)で表される化合物の合成における桂皮酸誘導体中間体とビニルブロマイドとを、炭酸カリウム等の適当な塩基の存在下で反応させることにより合成することができる。
上記式(1−9)で表される化合物は、例えば上記式(1−4)で表される化合物の合成における桂皮酸誘導体中間体とビニルブロマイドとを、炭酸カリウム等の適当な塩基の存在下で反応させることにより合成することができる。
上記式(1−10)で表される化合物は、例えば上記式(1−5)で表される化合物の合成における桂皮酸誘導体中間体とビニルブロマイドとを、炭酸カリウム等の適当な塩基の存在下で反応させることにより合成することができる。
液晶配向膜は、i線吸収を持たない方が、液晶パネルの製造工程やバックライトの照射による液晶配向性の変化が少ないことから好ましく、この観点から上記のうち、上記式(1−1)〜(1−4)、(1−6)〜(1−9)および(2−1)のそれぞれで表される化合物が好ましく、重合性の観点から上記式(1−1)〜(1−4)および(2−1)のそれぞれで表される化合物がより好ましい。
The compound represented by the above formula (1-6) is obtained by, for example, combining a cinnamic acid derivative intermediate and vinyl bromide in the synthesis of the compound represented by the above formula (1-1) with the presence of a suitable base such as potassium carbonate. It can synthesize | combine by making it react under.
The compound represented by the above formula (1-7) is obtained by, for example, combining a cinnamic acid derivative intermediate and vinyl bromide in the synthesis of the compound represented by the above formula (1-2) with the presence of a suitable base such as potassium carbonate. It can synthesize | combine by making it react under.
The compound represented by the above formula (1-8) is obtained by, for example, combining a cinnamic acid derivative intermediate and vinyl bromide in the synthesis of the compound represented by the above formula (1-3) with the presence of a suitable base such as potassium carbonate. It can synthesize | combine by making it react under.
The compound represented by the above formula (1-9) is obtained by, for example, combining a cinnamic acid derivative intermediate and vinyl bromide in the synthesis of the compound represented by the above formula (1-4) with the presence of a suitable base such as potassium carbonate. It can synthesize | combine by making it react under.
The compound represented by the above formula (1-10) is obtained by, for example, combining a cinnamic acid derivative intermediate and vinyl bromide in the synthesis of the compound represented by the above formula (1-5) with the presence of a suitable base such as potassium carbonate. It can synthesize | combine by making it react under.
The liquid crystal alignment film preferably has no i-line absorption because the change in the liquid crystal alignment due to the manufacturing process of the liquid crystal panel and the irradiation of the backlight is small. From this viewpoint, among the above, the above formula (1-1) To (1-4), (1-6) to (1-9) and (2-1) are preferred, and the above formulas (1-1) to (1- Compounds represented by each of 4) and (2-1) are more preferred.
<上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体>
本発明の液晶配向剤は、上記の如き上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体を含有する。この(共)重合体は、下記式(3)または(4)
<(Co) polymer of compound represented by formula (1) or (2)>
The liquid crystal aligning agent of this invention contains the (co) polymer of the compound represented by the said Formula (1) or (2) as mentioned above. This (co) polymer has the following formula (3) or (4)
(式(3)および(4)中、R1〜R8、A1、A2、S1、S2、P1、P2、a、b、cおよびdは、それぞれ、上記式(1)または(2)におけるのと同義である。)
で表される繰り返し単位を有する。これら繰り返し単位は、それぞれ、上記式(1)または(2)で表される化合物に由来する。
上記(共)重合体は、上記式(1)もしくは(2)で表される化合物の重合体であってもよく、または上記式(1)もしくは(2)で表される化合物と他の重合性不飽和化合物との共重合体であってもよい。
ここで使用される他の重合性不飽和化合物としては、エポキシ基を有する重合性不飽和化合物、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物類、マレイミド化合物類、不飽和芳香族化合物、共役ジエン系化合物、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸無水物およびその他の不飽和化合物を挙げることができる。
(In the formulas (3) and (4), R 1 to R 8 , A 1 , A 2 , S 1 , S 2 , P 1 , P 2 , a, b, c and d are each represented by the above formula (1). Or the same meaning as in (2).)
It has the repeating unit represented by these. These repeating units are derived from the compound represented by the above formula (1) or (2), respectively.
The (co) polymer may be a polymer of the compound represented by the above formula (1) or (2), or the compound represented by the above formula (1) or (2) and other polymerizations. It may be a copolymer with an unsaturated compound.
Other polymerizable unsaturated compounds used herein include polymerizable unsaturated compounds having an epoxy group, (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid cyclic alkyl ester, methacrylic acid aryl ester, aryl acrylate Esters, unsaturated dicarboxylic acid diesters, bicyclounsaturated compounds, maleimide compounds, unsaturated aromatic compounds, conjugated diene compounds, unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acid anhydrides and other unsaturated compounds Mention may be made of saturated compounds.
これらの具体例としては、エポキシ基を有する重合性不飽和化合物として、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等;
メタクリル酸アルキルエステルとして、例えばヒドロキシメチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、2−メタクリロキシエチルグリコサイド、4−ヒドロキシフェニルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、n−ラウリルメタクリレート、トリデシルメタクリレート、n−ステアリルメタクリレート等;
アクリル酸アルキルエステルとして、例えばメチルアクリレート、イソプロピルアクリレート等;
メタクリル酸環状アルキルエステルとして、例えばシクロヘキシルメタクリレート、2−メチルシクロヘキシルメタクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルメタクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート、コレスタニルメタクリレート等;
アクリル酸環状アルキルエステルとして、例えばシクロヘキシルアクリレート、2−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート、コレスタニルアクリレート等;
メタクリル酸アリールエステルとして、例えばフェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等;
Specific examples thereof include polymerizable unsaturated compounds having an epoxy group such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl α-ethyl acrylate, glycidyl α-n-propyl acrylate, α-n-butyl acrylic acid. Glycidyl, acrylic acid-3,4-epoxybutyl, methacrylic acid-3,4-epoxybutyl, acrylic acid-6,7-epoxyheptyl, methacrylic acid-6,7-epoxyheptyl, α-ethylacrylic acid-6 7-epoxyheptyl, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether and the like;
Examples of the methacrylic acid alkyl ester include hydroxymethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, 2-methacryloxyethylglycoside, 4 -Hydroxyphenyl methacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl methacrylate, tridecyl methacrylate, n-stearyl methacrylate and the like;
Examples of alkyl acrylate esters include methyl acrylate and isopropyl acrylate;
Examples of cyclic alkyl esters of methacrylic acid include cyclohexyl methacrylate, 2-methylcyclohexyl methacrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl methacrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ]. Decan-8-yloxyethyl methacrylate, isobornyl methacrylate, cholestanyl methacrylate, etc .;
Examples of acrylic acid cyclic alkyl esters include cyclohexyl acrylate, 2-methylcyclohexyl acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ]. Decan-8-yloxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, cholestanyl acrylate, etc .;
Examples of methacrylic acid aryl esters such as phenyl methacrylate and benzyl methacrylate;
アクリル酸アリールエステルとして、例えばフェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等;
不飽和ジカルボン酸ジエステルとして、例えばマレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等;
ビシクロ不飽和化合物類として、例えばビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジエトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−(2’−ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(ヒドロキシメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(2’−ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシメチル−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン等;
マレイミド化合物類として、例えばフェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミド、N−スクシンイミジル−3−マレイミドベンゾエート、N−スクシンイミジル−4−マレイミドブチレート、N−スクシンイミジル−6−マレイミドカプロエート、N−スクシンイミジル−3−マレイミドプロピオネート、N−(9−アクリジニル)マレイミド等;
不飽和芳香族化合物として、スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−メトキシスチレン等;
Examples of acrylic acid aryl esters such as phenyl acrylate and benzyl acrylate;
As unsaturated dicarboxylic acid diesters, for example, diethyl maleate, diethyl fumarate, diethyl itaconate, etc .;
Bicyclo unsaturated compounds include, for example, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2.1]. Hept-2-ene, 5-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2.2 .1] Hept-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5- (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2- Ene, 5,6-dihydroxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di ( 2'-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-e 5-hydroxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethyl-5- Methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene and the like;
Examples of maleimide compounds include phenylmaleimide, cyclohexylmaleimide, benzylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimidobenzoate, N-succinimidyl-4-maleimidobutyrate, N-succinimidyl-6-maleimidocaproate, N-succinimidyl-3 -Maleimidopropionate, N- (9-acridinyl) maleimide and the like;
Examples of unsaturated aromatic compounds include styrene, α-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, p-methoxystyrene, and the like;
共役ジエン系化合物として、例えば1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン等;
不飽和モノカルボン酸として、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等;
不飽和ジカルボン酸として、例えばマレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等;
不飽和ジカルボン酸無水物として、上記不飽和ジカルボン酸の各無水物;
その他の不飽和化合物として、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル等を、それぞれ挙げることができる。
他の重合性不飽和化合物としては、エポキシ基を有する重合性不飽和化合物を含むものであることが好ましい。
Examples of the conjugated diene compound include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene and the like;
As unsaturated monocarboxylic acid, for example, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid and the like;
Examples of unsaturated dicarboxylic acids include maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid and the like;
As unsaturated dicarboxylic acid anhydrides, the anhydrides of the above unsaturated dicarboxylic acids;
Examples of other unsaturated compounds include acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, vinyl acetate, and the like.
The other polymerizable unsaturated compound preferably includes a polymerizable unsaturated compound having an epoxy group.
上記重合体における上記式(1)または(2)で表される化合物の共重合割合は、全不飽和化合物に対して、好ましくは30重量%以上であり、より好ましくは50重量%以上である。上記重合体は、上記式(1)または(2)で表される化合物に由来する繰り返し単位のほか、エポキシ基を有する重合性不飽和化合物に由来する繰り返し単位をも有するものであることが好ましい。この場合、上記重合体におけるエポキシ基を有する重合性不飽和化合物の共重合割合は、好ましくは0〜70重量%であり、より好ましくは20〜60重量%である。
上記重合体につき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは、好ましくは2,000〜200,000であり、より好ましくは3,000〜50,000であり、さらに4,000〜10,000であることが好ましい。
上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体は、上記式(1)または(2)で表される化合物を含む重合性不飽和化合物を、好ましくは適当な有機溶媒中においてラジカル重合することにより合成することができる。このラジカル重合は、公知の方法に準じて行うことができる。
The copolymerization ratio of the compound represented by the formula (1) or (2) in the polymer is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more based on the total unsaturated compounds. . The polymer preferably has a repeating unit derived from a polymerizable unsaturated compound having an epoxy group in addition to a repeating unit derived from the compound represented by the formula (1) or (2). . In this case, the copolymerization ratio of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group in the polymer is preferably 0 to 70% by weight, more preferably 20 to 60% by weight.
The polystyrene-equivalent weight average molecular weight Mw measured by gel permeation chromatography for the polymer is preferably 2,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 50,000, and further 4, It is preferable that it is 000-10,000.
The (co) polymer of the compound represented by the above formula (1) or (2) is a polymerizable unsaturated compound containing the compound represented by the above formula (1) or (2), preferably a suitable organic compound. It can be synthesized by radical polymerization in a solvent. This radical polymerization can be performed according to a known method.
<その他の成分>
本発明の液晶配向剤は、上記の如き上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体を含有する。
本発明の液晶配向剤は、上記の如き上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体のほかに、本発明の効果を損なわない限り、さらに他の成分を含有していてもよい。このような他の成分としては、例えば上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体以外の重合体(以下、「他の重合体」という。)、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物(以下、「エポキシ化合物」という。)、官能性シラン化合物、界面活性剤等を挙げることができる。
上記他の重合体は、本発明の液晶配向剤の溶液特性および得られる液晶配向膜の電気特性をより改善するために使用することができる。かかる他の重合体としては、例えばポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも1種の重合体、ポリシロキサン、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
上記ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを反応させることにより得ることができる。
ポリアミック酸の合成に用いることのできるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−8−メチル−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、ビシクロ[2.2.2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、下記式(T−1)〜(T−4)
<Other ingredients>
The liquid crystal aligning agent of this invention contains the (co) polymer of the compound represented by the said Formula (1) or (2) as mentioned above.
The liquid crystal aligning agent of the present invention contains other components in addition to the (co) polymer of the compound represented by the above formula (1) or (2) as described above, as long as the effects of the present invention are not impaired. You may do it. Examples of such other components include polymers other than (co) polymers of the compounds represented by the above formula (1) or (2) (hereinafter referred to as “other polymers”) in the molecule. A compound having at least one epoxy group (hereinafter referred to as “epoxy compound”), a functional silane compound, a surfactant, and the like can be given.
Said other polymer can be used in order to improve the solution characteristic of the liquid crystal aligning agent of this invention, and the electrical property of the liquid crystal aligning film obtained. Examples of such other polymers include at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide, polysiloxane, polyamic acid ester, polyester, polyamide, cellulose derivative, polyacetal, polystyrene derivative, poly (styrene- Phenylmaleimide) derivatives, poly (meth) acrylates and the like.
The polyamic acid can be obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride with a diamine compound.
Examples of tetracarboxylic dianhydrides that can be used for the synthesis of polyamic acid include 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutane. Tetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 3,5, 6-tricarboxynorbornane-2-acetic acid dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2, 5-Dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydride) -2,5-dioxo-3-furanyl) -8-methyl-naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuranyl) -3-methyl- 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, bicyclo [2.2.2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, the following formula (T-1) ~ (T-4)
のそれぞれで表されるテトラカルボン酸二無水物等の脂肪族または脂環式テトラカルボン酸二無水物;
ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3’,4,4’−パーフルオロイソプロピリデンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオキサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、m−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルメタン二無水物、下記式(T−5)〜(T−8)
An aliphatic or alicyclic tetracarboxylic dianhydride such as tetracarboxylic dianhydride represented by each of
Pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7- Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-Tetraphenylsilane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-furantetracarboxylic dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide Dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylsulfone dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylpropane dianhydride, 3,3 ′ , 4 4′-perfluoroisopropylidenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride, p-phenylene-bis ( Triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4'-diphenyl ether dianhydride, bis (triphenylphthalic acid)- 4,4′-diphenylmethane dianhydride, the following formulas (T-5) to (T-8)
のそれぞれで表されるテトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。これらテトラカルボン酸二無水物は単独でまたは2種以上を組み合わせて使用できる。
ポリアミック酸を合成するために使用されるテトラカルボン酸二無水物は、上記のうち、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−8−メチル−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物ならびに上記式(T−1)、(T−2)および(T−5)〜(T−8)のそれぞれで表されるテトラカルボン酸二無水物よりなる群から選択される少なくとも1種を含むものであることが好ましく、これらのうちの少なくとも1種を、全テトラカルボン酸二無水物に対して、20モル%以上含むものであることがより好ましく、50モル%以上含むものであることがさらに好ましく、特に80モル%以上含むものであることが好ましい。
An aromatic tetracarboxylic dianhydride such as tetracarboxylic dianhydride represented by each of the above. These tetracarboxylic dianhydrides can be used alone or in combination of two or more.
The tetracarboxylic dianhydride used to synthesize polyamic acid is 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl among the above. ) -Naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -8 -Methyl-naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1, 2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenylsulfonetetra Carboxylic acid Water, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyl ether tetracarboxylic acid At least one selected from the group consisting of a dianhydride and a tetracarboxylic dianhydride represented by each of the above formulas (T-1), (T-2) and (T-5) to (T-8) It is preferable that it contains a seed, and it is more preferable that at least one of these is included in an amount of 20 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, based on the total tetracarboxylic dianhydride, In particular, it is preferable to contain 80 mol% or more.
ポリアミック酸の合成に用いることのできるジアミンとしては、例えばp−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、3,3−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、5−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、6−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス(4−アミノフェノキシ)プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)−10−ヒドロアントラセン、2,7−ジアミノフルオレン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、4,4’−メチレン−ビス(2−クロロアニリン)、2,2’,5,5’−テトラクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジクロロ−4,4’−ジアミノ−5,5’−ジメトキシビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’−(m−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2−ビス[4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス[(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ]−オクタフルオロビフェニル、 Examples of diamines that can be used for the synthesis of polyamic acid include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylethane, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diaminobenzanilide, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 3, 3-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 5-amino-1- (4′-aminophenyl) -1,3,3-trimethylindane, 6-amino-1- (4′-aminophenyl) -1 , 3,3-trimethylindane, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis (4-a Nophenoxy) propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4 -Aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) Benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 9,9-bis (4-aminophenyl) -10-hydroanthracene, 2,7-diaminofluorene, 9,9-bis (4-aminophenyl) Fluorene, 4,4'-methylene-bis (2-chloroaniline), 2,2 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminobipheny 2,2′-dichloro-4,4′-diamino-5,5′-dimethoxybiphenyl, 3,3′-dimethoxy-4,4′-diaminobiphenyl, 4,4 ′-(p-phenyleneisopropylidene) Bisaniline, 4,4 ′-(m-phenyleneisopropylidene) bisaniline, 2,2-bis [4- (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,4′-diamino-2 , 2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 4,4′-bis [(4-amino-2-trifluoromethyl) phenoxy] -octafluorobiphenyl,
6−(4−カルコニルオキシ)ヘキシルオキシ(2,4−ジアミノベンゼン)、6−(4’−フルオロ−4−カルコニルオキシ)ヘキシルオキシ(2,4−ジアミノベンゼン)、8−(4−カルコニルオキシ)オクチルオキシ(2,4−ジアミノベンゼン)、8−(4’−フルオロ−4−カルコニルオキシ)オクチルオキシ(2,4−ジアミノベンゼン)、1−ドデシルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、1−テトラデシルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、1−ペンタデシルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、1−ヘキサデシルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、1−オクタデシルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、1−コレステリルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、1−コレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ドデシルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)、テトラデシルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)、ペンタデシルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)、ヘキサデシルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)、オクタデシルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)、コレステリルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)、コレスタニルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)、(2,4−ジアミノフェノキシ)パルミテート、(2,4−ジアミノフェノキシ)ステアリレート、(2,4−ジアミノフェノキシ)−4−トリフルオロメチルベンゾエート、下記式(D−1)〜(D−7) 6- (4-Calconyloxy) hexyloxy (2,4-diaminobenzene), 6- (4′-fluoro-4-chalconyloxy) hexyloxy (2,4-diaminobenzene), 8- (4- Calconyloxy) octyloxy (2,4-diaminobenzene), 8- (4′-fluoro-4-calconyloxy) octyloxy (2,4-diaminobenzene), 1-dodecyloxy-2,4-diamino Benzene, 1-tetradecyloxy-2,4-diaminobenzene, 1-pentadecyloxy-2,4-diaminobenzene, 1-hexadecyloxy-2,4-diaminobenzene, 1-octadecyloxy-2,4- Diaminobenzene, 1-cholesteryloxy-2,4-diaminobenzene, 1-cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, Decyloxy (3,5-diaminobenzoyl), tetradecyloxy (3,5-diaminobenzoyl), pentadecyloxy (3,5-diaminobenzoyl), hexadecyloxy (3,5-diaminobenzoyl), octadecyloxy (3 , 5-diaminobenzoyl), cholesteryloxy (3,5-diaminobenzoyl), cholestanyloxy (3,5-diaminobenzoyl), (2,4-diaminophenoxy) palmitate, (2,4-diaminophenoxy) stearylate , (2,4-diaminophenoxy) -4-trifluoromethylbenzoate, the following formulas (D-1) to (D-7)
(式(D−4)中のyは2〜12の整数であり、式(D−5)中のzは1〜5の整数である。)
のそれぞれで表されるジアミン化合物等の芳香族ジアミン;
ジアミノテトラフェニルチオフェン等のヘテロ原子を有する芳香族ジアミン;メタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4,4−ジアミノヘプタメチレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ[6.2.1.02,7]−ウンデシレンジメチルジアミン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)等の脂肪族または脂環式ジアミン;
ジアミノヘキサメチルジシロキサン等のジアミノオルガノシロキサン等を挙げることができる。
上記芳香族ジアミンは、そのベンゼン環が1個または2個以上の炭素数1〜4のアルキル基(好ましくはメチル基)で置換されていてもよい。
これらジアミンは単独でまたは2種以上を組み合わせて使用できる。
(Y in the formula (D-4) is an integer of 2 to 12, and z in the formula (D-5) is an integer of 1 to 5.)
An aromatic diamine such as a diamine compound represented by each of
Aromatic diamines having hetero atoms such as diaminotetraphenylthiophene; metaxylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, 4,4-diaminoheptamethylenediamine, 1,4-diaminocyclohexane, isophoronediamine, tetrahydrodicyclopentadienylenediamine, hexahydro-4,7-methanoin danylenediethylenediamine, tricyclo [6.2.1.0 2,7 ] -undecylenedimethyl diamine, aliphatic or cycloaliphatic diamines such as 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine);
Examples include diaminoorganosiloxanes such as diaminohexamethyldisiloxane.
In the aromatic diamine, the benzene ring may be substituted with one or two or more alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms (preferably a methyl group).
These diamines can be used alone or in combination of two or more.
ポリアミック酸を合成するために用いられるジアミンとしては、上記のうち、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、2,7−ジアミノフルオレン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス[(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ]−オクタフルオロビフェニル、1−ヘキサデシルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、1−オクタデシルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、1−コレステリルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、1−コレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ヘキサデシルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)、オクタデシルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)、コレステリルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)、コレスタニルオキシ(3,5−ジアミノベンゾイル)および上記式(D−1)〜(D−7)のそれぞれで表される化合物よりなる群から選択される少なくとも1種を含むものであることが好ましく、これらのうちの少なくとも1種を、全ジアミンに対して、20モル%上含むものであることがより好ましく、50モル%上含むものであることがさらに好ましく、特に80モル%上含むものであることが好ましい。 Among the above, the diamine used for synthesizing the polyamic acid is p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 1,5-diaminonaphthalene, 2,7-diaminofluorene, 4,4′-diamino. Diphenyl ether, 4,4 ′-(p-phenyleneisopropylidene) bisaniline, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane 2,2-bis [4- (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 4,4 '-Bis [(4-amino-2-trifluoromethyl) phenoxy] -octafluoro Phenyl, 1-hexadecyloxy-2,4-diaminobenzene, 1-octadecyloxy-2,4-diaminobenzene, 1-cholesteryloxy-2,4-diaminobenzene, 1-cholestanyloxy-2,4-diamino Benzene, hexadecyloxy (3,5-diaminobenzoyl), octadecyloxy (3,5-diaminobenzoyl), cholesteryloxy (3,5-diaminobenzoyl), cholestanyloxy (3,5-diaminobenzoyl) and the above formula It is preferable that it contains at least one selected from the group consisting of the compounds represented by each of (D-1) to (D-7), and at least one of these is based on the total diamine. More preferably, the content is more than 20 mol%, and more than 50 mol%. But more preferably, it is preferable that in particular include over 80 mol%.
ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンの使用割合は、ジアミンに含まれるアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2〜2当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは0.3〜1.2当量となる割合である。
ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において、好ましくは−20〜150℃、より好ましくは0〜100℃の温度条件下において、好ましくは0.5〜24時間、より好ましくは2〜10時間行われる。ここで、有機溶媒としては、合成されるポリアミック酸を溶解できるものであれば特に制限はなく、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等の非プロトン系極性溶媒;m−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノール等のフェノール系溶媒を挙げることができる。有機溶媒の使用量(a)は、テトラカルボン酸二無水物およびジアミン化合物の総量(b)が反応溶液の全量(a+b)に対して好ましくは0.1〜50重量%、より好ましくは5〜30重量%となるような量である。
以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。この反応溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、または単離したポリアミック酸を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸の単離は、上記反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物を減圧下乾燥する方法、あるいは、反応溶液をエバポレーターで減圧留去する方法により行うことができる。また、このポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解し、次いで貧溶媒で析出させる方法、あるいは、エバポレーターで減圧留去する工程を1回または数回行う方法により、ポリアミック酸を精製することができる。
The proportion of tetracarboxylic dianhydride and diamine used in the polyamic acid synthesis reaction is such that the acid anhydride group of the tetracarboxylic dianhydride is 0.2 to 1 equivalent to 1 equivalent of an amino group contained in the diamine. A ratio of 2 equivalents is preferable, and a ratio of 0.3 to 1.2 equivalents is more preferable.
The polyamic acid synthesis reaction is preferably performed in an organic solvent, preferably at a temperature of −20 to 150 ° C., more preferably at a temperature of 0 to 100 ° C., preferably 0.5 to 24 hours, more preferably 2 to 10 Done for hours. Here, the organic solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the synthesized polyamic acid. For example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N, Aprotic polar solvents such as N-dimethylimidazolidinone, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide; phenolic solvents such as m-cresol, xylenol, phenol, halogenated phenol Can do. The amount (a) of the organic solvent used is such that the total amount (b) of tetracarboxylic dianhydride and diamine compound is preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably 5 to 5%, based on the total amount (a + b) of the reaction solution. The amount is 30% by weight.
As described above, a reaction solution obtained by dissolving polyamic acid is obtained. This reaction solution may be used as it is for the preparation of the liquid crystal aligning agent, may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after isolating the polyamic acid contained in the reaction solution, or the isolated polyamic acid was purified. You may use for preparation of a liquid crystal aligning agent. Polyamic acid can be isolated by pouring the reaction solution into a large amount of poor solvent to obtain a precipitate, and drying the precipitate under reduced pressure, or by distilling the reaction solution under reduced pressure using an evaporator. it can. Further, the polyamic acid can be purified by a method of dissolving the polyamic acid again in an organic solvent and then precipitating with a poor solvent, or a method of performing the step of distilling under reduced pressure with an evaporator once or several times.
上記ポリイミドは、上記の如くして得られたポリアミック酸の有するアミック酸構造を脱水閉環することにより製造することができる。このとき、アミック酸構造の全部を脱水閉環して完全にイミド化してもよく、あるいはアミック酸構造のうちの一部のみを脱水閉環してアミック酸構造とイミド構造とが併存する部分イミド化物としてもよい。
ポリアミック酸の脱水閉環は、(i)ポリアミック酸を加熱する方法により、または(ii)ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。
上記(i)のポリアミック酸を加熱する方法における反応温度は、好ましくは50〜200℃であり、より好ましくは60〜170℃である。反応温度が50℃未満では脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温度が200℃を超えると得られるイミド化重合体の分子量が低下する場合がある。ポリアミック酸を加熱する方法における反応時間は、好ましくは0.5〜48時間であり、より好ましくは2〜20時間である。
一方、上記(ii)のポリアミック酸の溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸構造単位の1モルに対して0.01〜20モルとするのが好ましい。また、脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の3級アミンを用いることができる。しかし、これらに限定されるものではない。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.01〜10モルとするのが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は好ましくは0〜180℃、より好ましくは10〜150℃であり、反応時間は好ましくは0.5〜20時間であり、より好ましくは1〜8時間である。
上記方法(i)において得られるポリイミドは、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、あるいは得られるポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。一方、上記方法(ii)においてはポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、または単離したポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除くには、例えば溶媒置換などの方法を適用することができる。ポリイミドの単離、精製は、ポリアミック酸の単離、精製方法として上記したのと同様の操作を行うことにより行うことができる。
The polyimide can be produced by dehydrating and ring-closing the amic acid structure of the polyamic acid obtained as described above. At this time, all of the amic acid structure may be dehydrated and closed to completely imidize, or only a part of the amic acid structure may be dehydrated and closed to form a partially imidized product in which the amic acid structure and the imide structure coexist. Also good.
The polyamic acid is dehydrated and closed by (i) a method of heating the polyamic acid, or (ii) dissolving the polyamic acid in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closing catalyst to this solution, and heating as necessary. By the method.
The reaction temperature in the method of heating the polyamic acid (i) is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 60 to 170 ° C. When the reaction temperature is less than 50 ° C., the dehydration ring-closing reaction does not proceed sufficiently, and when the reaction temperature exceeds 200 ° C., the molecular weight of the imidized polymer obtained may decrease. The reaction time in the method of heating the polyamic acid is preferably 0.5 to 48 hours, more preferably 2 to 20 hours.
On the other hand, in the method (ii) of adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closing catalyst to the polyamic acid solution, for example, an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride, or trifluoroacetic anhydride is used as the dehydrating agent. Can do. The amount of the dehydrating agent used is preferably 0.01 to 20 mol with respect to 1 mol of the polyamic acid structural unit. Moreover, as a dehydration ring closure catalyst, tertiary amines, such as a pyridine, a collidine, a lutidine, a triethylamine, can be used, for example. However, it is not limited to these. The amount of the dehydration ring closure catalyst used is preferably 0.01 to 10 moles per mole of the dehydrating agent used. Examples of the organic solvent used in the dehydration ring-closing reaction include the organic solvents exemplified as those used for the synthesis of polyamic acid. The reaction temperature of the dehydration ring closure reaction is preferably 0 to 180 ° C., more preferably 10 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 0.5 to 20 hours, more preferably 1 to 8 hours.
The polyimide obtained in the above method (i) may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as it is, or may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after purifying the obtained polyimide. On the other hand, in the above method (ii), a reaction solution containing polyimide is obtained. This reaction solution may be used as it is for the preparation of a liquid crystal aligning agent, or may be used for the preparation of a liquid crystal aligning agent after removing the dehydrating agent and the dehydrating ring-closing catalyst from the reaction solution. It may be used for the preparation of a liquid crystal aligning agent or may be used for the preparation of a liquid crystal aligning agent after purifying the isolated polyimide. In order to remove the dehydrating agent and the dehydrating ring-closing catalyst from the reaction solution, for example, a method such as solvent replacement can be applied. The isolation and purification of the polyimide can be performed by performing the same operation as described above as the isolation and purification method of the polyamic acid.
上記ポリシロキサンは、例えば下記式(α) The polysiloxane is, for example, the following formula (α)
(式(α)中、Xは水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシル基または炭素数6〜20のアリール基であり、Yは水酸基または炭素数1〜6のアルコキシル基である。)
で表される繰り返し単位を有するポリシロキサン、その加水分解物および加水分解縮合物よりなる群から選択される少なくとも1種であることができる。
上記ポリシロキサンは、例えばアルコキシシラン化合物およびハロゲン化シラン化合物よりなる群から選択される少なくとも1種のシラン化合物(以下、「原料シラン化合物」ともいう。)を、好ましくは適当な有機溶媒中で、水および触媒の存在下において加水分解または加水分解・縮合することにより合成することができる。
ここで使用できる原料シラン化合物としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラクロロシラン;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−n−プロポキシシラン、メチルトリ−iso−プロポキシシラン、メチルトリ−n−ブトキシシラン、メチルトリ−sec−ブトキシシラン、メチルトリ−tert−ブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−n−プロポキシシラン、エチルトリ−iso−プロポキシシラン、エチルトリ−n−ブトキシシラン、エチルトリ−sec−ブトキシシラン、エチルトリ−tert−ブトキシシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリクロロシラン;ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン;トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルクロロシラン等を挙げることができる。これらのうちテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシランまたはトリメチルエトキシシランが好ましい。
ポリシロキサンにつき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは500〜100,000であり、より好ましくは1,000〜20,000である。
(In the formula (α), X is a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and Y is a hydroxyl group or 1 carbon atom. ˜6 alkoxyl groups.)
It is at least 1 sort (s) selected from the group which consists of polysiloxane which has a repeating unit represented by these, its hydrolyzate, and a hydrolysis condensate.
The polysiloxane is, for example, at least one silane compound selected from the group consisting of an alkoxysilane compound and a halogenated silane compound (hereinafter also referred to as “raw silane compound”), preferably in a suitable organic solvent. It can be synthesized by hydrolysis or hydrolysis / condensation in the presence of water and a catalyst.
Examples of the raw material silane compound that can be used here include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, and tetra-tert-. Butoxysilane, tetrachlorosilane; methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltri-n-propoxysilane, methyltri-iso-propoxysilane, methyltri-n-butoxysilane, methyltri-sec-butoxysilane, methyltri-tert-butoxysilane , Methyltriphenoxysilane, methyltrichlorosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltri-n-propoxysilane, ethyltri-iso-propoxy Lan, ethyltri-n-butoxysilane, ethyltri-sec-butoxysilane, ethyltri-tert-butoxysilane, ethyltrichlorosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltrichlorosilane; dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, Examples include dimethyldichlorosilane; trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, and trimethylchlorosilane. Of these, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylmethoxysilane or trimethylethoxysilane are preferred.
The polysiloxane has a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography, preferably 500 to 100,000, more preferably 1,000 to 20,000.
ポリシロキサンを合成する際に、任意的に使用することのできる有機溶媒としては、例えばアルコール化合物、ケトン化合物、アミド化合物もしくはエステル化合物またはその他の非プロトン性化合物を挙げることができる。これらは単独でまたは2種以上組合せて使用できる。
上記アルコール化合物としては、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−ブタノール、i−ブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、n−ペンタノール、i−ペンタノール、2−メチルブタノール、sec−ペンタノール、t−ペンタノール、3−メトキシブタノール、n−ヘキサノール、2−メチルペンタノール、sec−ヘキサノール、2−エチルブタノール、sec−ヘプタノール、ヘプタノール−3、n−オクタノール、2−エチルヘキサノール、sec−オクタノール、n−ノニルアルコール、2,6−ジメチルヘプタノール−4、n−デカノール、sec−ウンデシルアルコール、トリメチルノニルアルコール、sec−テトラデシルアルコール、sec−ヘプタデシルアルコール、フェノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール等のモノアルコール化合物;
エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、ペンタンジオール−2,4、2−メチルペンタンジオール−2,4、ヘキサンジオール−2,5、ヘプタンジオール−2,4、2−エチルヘキサンジオール−1,3、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール等の多価アルコール化合物;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノ−2−エチルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル等の多価アルコール化合物の部分エーテル等を、それぞれ挙げることができる。これらのアルコール化合物は、1種であるいは2種以上を組合せて使用してもよい。
Examples of the organic solvent that can be optionally used when synthesizing the polysiloxane include alcohol compounds, ketone compounds, amide compounds, ester compounds, and other aprotic compounds. These can be used alone or in combination of two or more.
Examples of the alcohol compound include methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol, n-butanol, i-butanol, sec-butanol, t-butanol, n-pentanol, i-pentanol, 2-methylbutanol, sec-pentanol, t-pentanol, 3-methoxybutanol, n-hexanol, 2-methylpentanol, sec-hexanol, 2-ethylbutanol, sec-heptanol, heptanol-3, n-octanol, 2-ethylhexanol , Sec-octanol, n-nonyl alcohol, 2,6-dimethylheptanol-4, n-decanol, sec-undecyl alcohol, trimethylnonyl alcohol, sec-tetradecyl alcohol, sec-heptadecyl alcohol , Phenol, cyclohexanol, methyl cyclohexanol, 3,3,5-trimethyl cyclohexanol, benzyl alcohol, monoalcohol compounds such as diacetone alcohol;
Ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-butylene glycol, pentanediol-2,4, 2-methylpentanediol-2,4, hexanediol-2,5, heptanediol-2,4, 2- Polyhydric alcohol compounds such as ethylhexanediol-1,3, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, tripropylene glycol;
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol mono-2-ethylbutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl Ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol Monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, the partial ethers of polyhydric alcohol compound and dipropylene glycol monopropyl ether, can be mentioned, respectively. These alcohol compounds may be used alone or in combination of two or more.
上記ケトン化合物としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチル−n−ブチルケトン、ジエチルケトン、メチル−i−ブチルケトン、メチル−n−ペンチルケトン、エチル−n−ブチルケトン、メチル−n−ヘキシルケトン、ジ−i−ブチルケトン、トリメチルノナノン、シクロヘキサノン、2−ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、2,4−ペンタンジオン、アセトニルアセトン、アセトフェノン、フェンチョン等のモノケトン化合物;
アセチルアセトン、2,4−ヘキサンジオン、2,4−ヘプタンジオン、3,5−ヘプタンジオン、2,4−オクタンジオン、3,5−オクタンジオン、2,4−ノナンジオン、3,5−ノナンジオン、5−メチル−2,4−ヘキサンジオン、2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオン、1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ−2,4−ヘプタンジオン等のβ−ジケトン化合物等を、それぞれ挙げることができる。これらのケトン化合物は、1種であるいは2種以上を組合せて使用してもよい。
上記アミド化合物としては、例えばホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−エチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−エチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチルプロピオンアミド、N−メチルピロリドン、N−ホルミルモルホリン、N−ホルミルピペリジン、N−ホルミルピロリジン、N−アセチルモルホリン、N−アセチルピペリジン、N−アセチルピロリジン等を挙げることができる。これらアミド化合物は、1種であるいは2種以上を組合せて使用してもよい。
Examples of the ketone compound include acetone, methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, diethyl ketone, methyl-i-butyl ketone, methyl-n-pentyl ketone, ethyl-n-butyl ketone, and methyl-n-. Monoketone compounds such as hexyl ketone, di-i-butyl ketone, trimethylnonanone, cyclohexanone, 2-hexanone, methylcyclohexanone, 2,4-pentanedione, acetonylacetone, acetophenone, fencheon;
Acetylacetone, 2,4-hexanedione, 2,4-heptanedione, 3,5-heptanedione, 2,4-octanedione, 3,5-octanedione, 2,4-nonanedione, 3,5-nonanedione, 5 -Methyl-2,4-hexanedione, 2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedione, 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-heptanedione, etc. The β-diketone compound and the like can be mentioned respectively. These ketone compounds may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the amide compound include formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-ethylformamide, N, N-diethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, and N-ethyl. Acetamide, N, N-diethylacetamide, N-methylpropionamide, N-methylpyrrolidone, N-formylmorpholine, N-formylpiperidine, N-formylpyrrolidine, N-acetylmorpholine, N-acetylpiperidine, N-acetylpyrrolidine, etc. Can be mentioned. These amide compounds may be used alone or in combination of two or more.
上記エステル化合物としては、例えばジエチルカーボネート、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、酢酸sec−ブチル、酢酸n−ペンチル、酢酸sec−ペンチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸2−エチルブチル、酢酸2−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸n−ノニル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノプロピルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ酢酸グリコール、酢酸メトキシトリグリコール、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n−ブチル、プロピオン酸i−アミル、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジ−n−ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n−ブチル、乳酸n−アミル、マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル等を挙げることができる。これらエステル化合物は、1種であるいは2種以上を組合せて使用してもよい。 Examples of the ester compound include diethyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, diethyl carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, acetic acid. i-butyl, sec-butyl acetate, n-pentyl acetate, sec-pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methyl pentyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, benzyl acetate, cyclohexyl acetate, methylcyclohexyl acetate, acetic acid n-nonyl, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethylene acetate monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, vinegar Acid diethylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene Glycol acetate, methoxytriglycol acetate, ethyl propionate, n-butyl propionate, i-amyl propionate, diethyl oxalate, di-n-butyl oxalate, methyl lactate, ethyl lactate, n-butyl lactate, n-lactate Examples include amyl, diethyl malonate, dimethyl phthalate, and diethyl phthalate. These ester compounds may be used alone or in combination of two or more.
上記その他の非プロトン性化合物としては、例えばアセトニトリル、ジメチルスルホキシド、N,N,N’,N’−テトラエチルスルファミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、N−メチルモルホロン、N−メチルピロール、N−エチルピロール、N−メチル−Δ3−ピロリン、N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、N,N−ジメチルピペラジン、N−メチルイミダゾール、N−メチル−4−ピペリドン、N−メチル−2−ピペリドン、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジメチルテトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン等を挙げることができる。
これら溶媒のうち、多価アルコール化合物、多価アルコール化合物の部分エーテルまたはエステル化合物が特に好ましい。
ポリシロキサンの合成に際して使用する水の量としては、原料シラン化合物の有するアルコキシル基およびハロゲン原子の総量の1モルに対して、好ましくは0.5〜100モルであり、より好ましくは1〜30モルであり、さらに1〜1.5モルであることが好ましい。
Examples of the other aprotic compounds include acetonitrile, dimethyl sulfoxide, N, N, N ′, N′-tetraethylsulfamide, hexamethylphosphoric triamide, N-methylmorpholone, N-methylpyrrole, N— Ethylpyrrole, N-methyl-Δ3-pyrroline, N-methylpiperidine, N-ethylpiperidine, N, N-dimethylpiperazine, N-methylimidazole, N-methyl-4-piperidone, N-methyl-2-piperidone, N -Methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyltetrahydro-2 (1H) -pyrimidinone and the like can be mentioned.
Of these solvents, polyhydric alcohol compounds, partial ethers or ester compounds of polyhydric alcohol compounds are particularly preferred.
The amount of water used in the synthesis of the polysiloxane is preferably 0.5 to 100 mol, more preferably 1 to 30 mol, relative to 1 mol of the total amount of alkoxyl groups and halogen atoms of the starting silane compound. Furthermore, it is preferable that it is 1-1.5 mol.
ポリシロキサンの合成に際して使用できる触媒としては、例えば金属キレート化合物、有機酸、無機酸、有機塩基、アンモニア、アルカリ金属化合物等を挙げることができる。
上記金属キレート化合物としては、例えばトリエトキシ・モノ(アセチルアセトナート)チタン、トリ−n−プロポキシ・モノ(アセチルアセトナート)チタン、トリ−i−プロポキシ・モノ(アセチルアセトナート)チタン、トリ−n−ブトキシ・モノ(アセチルアセトナート)チタン、トリ−sec−ブトキシ・モノ(アセチルアセトナート)チタン、トリ−t−ブトキシ・モノ(アセチルアセトナート)チタン、ジエトキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタン、ジ−n−プロポキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタン、ジ−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタン、ジ−n−ブトキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタン、ジ−sec−ブトキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタン、ジ−t−ブトキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタン、モノエトキシ・トリス(アセチルアセトナート)チタン、モノ−n−プロポキシ・トリス(アセチルアセトナート)チタン、モノ−i−プロポキシ・トリス(アセチルアセトナート)チタン、モノ−n−ブトキシ・トリス(アセチルアセトナート)チタン、モノ−sec−ブトキシ・トリス(アセチルアセトナート)チタン、モノ−t−ブトキシ・トリス(アセチルアセトナート)チタン、テトラキス(アセチルアセトナート)チタン、トリエトキシ・モノ(エチルアセトアセテート)チタン、トリ−n−プロポキシ・モノ(エチルアセトアセテート)チタン、トリ−i−プロポキシ・モノ(エチルアセトアセテート)チタン、トリ−n−ブトキシ・モノ(エチルアセトアセテート)チタン、トリ−sec−ブトキシ・モノ(エチルアセトアセテート)チタン、トリ−t−ブトキシ・モノ(エチルアセトアセテート)チタン、ジエトキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジ−n−プロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジ−i−プロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジ−n−ブトキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジ−sec−ブトキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジ−t−ブトキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタン、モノエトキシ・トリス(エチルアセトアセテート)チタン、モノ−n−プロポキシ・トリス(エチルアセトアセテート)チタン、モノ−i−プロポキシ・トリス(エチルアセトアセテート)チタン、モノ−n−ブトキシ・トリス(エチルアセトアセテート)チタン、モノ−sec−ブトキシ・トリス(エチルアセトアセテート)チタン、モノ−t−ブトキシ・トリス(エチルアセトアセテート)チタン、テトラキス(エチルアセトアセテート)チタン、モノ(アセチルアセトナート)トリス(エチルアセトアセテート)チタン、ビス(アセチルアセトナート)ビス(エチルアセトアセテート)チタン、トリス(アセチルアセトナート)モノ(エチルアセトアセテート)チタン等のチタンキレート化合物;
Examples of the catalyst that can be used in the synthesis of the polysiloxane include metal chelate compounds, organic acids, inorganic acids, organic bases, ammonia, alkali metal compounds, and the like.
Examples of the metal chelate compound include triethoxy mono (acetylacetonato) titanium, tri-n-propoxy mono (acetylacetonato) titanium, tri-i-propoxy mono (acetylacetonato) titanium, tri-n- Butoxy mono (acetylacetonato) titanium, tri-sec-butoxy mono (acetylacetonato) titanium, tri-t-butoxy mono (acetylacetonato) titanium, diethoxybis (acetylacetonato) titanium, di- n-propoxy bis (acetylacetonato) titanium, di-i-propoxy bis (acetylacetonato) titanium, di-n-butoxy bis (acetylacetonato) titanium, di-sec-butoxy bis (acetylacetate) Natto) titanium, di-t-butoxy Su (acetylacetonato) titanium, monoethoxy-tris (acetylacetonato) titanium, mono-n-propoxy-tris (acetylacetonato) titanium, mono-i-propoxy-tris (acetylacetonato) titanium, mono-n -Butoxy-tris (acetylacetonato) titanium, mono-sec-butoxy-tris (acetylacetonato) titanium, mono-t-butoxy-tris (acetylacetonato) titanium, tetrakis (acetylacetonato) titanium, triethoxy mono (Ethyl acetoacetate) titanium, tri-n-propoxy mono (ethyl acetoacetate) titanium, tri-i-propoxy mono (ethyl acetoacetate) titanium, tri-n-butoxy mono (ethyl acetoacetate) titanium, tri -S c-butoxy mono (ethyl acetoacetate) titanium, tri-t-butoxy mono (ethyl acetoacetate) titanium, diethoxy bis (ethyl acetoacetate) titanium, di-n-propoxy bis (ethyl acetoacetate) titanium, Di-i-propoxy bis (ethyl acetoacetate) titanium, di-n-butoxy bis (ethyl acetoacetate) titanium, di-sec-butoxy bis (ethyl acetoacetate) titanium, di-t-butoxy bis ( Ethyl acetoacetate) titanium, monoethoxy tris (ethyl acetoacetate) titanium, mono-n-propoxy tris (ethyl acetoacetate) titanium, mono-i-propoxy tris (ethyl acetoacetate) titanium, mono-n-butoxy・ Tris (ethyl aceto Acetate) titanium, mono-sec-butoxy tris (ethyl acetoacetate) titanium, mono-t-butoxy tris (ethyl acetoacetate) titanium, tetrakis (ethyl acetoacetate) titanium, mono (acetylacetonate) tris (ethyl aceto) Titanium chelate compounds such as acetate) titanium, bis (acetylacetonato) bis (ethylacetoacetate) titanium, tris (acetylacetonato) mono (ethylacetoacetate) titanium;
トリエトキシ・モノ(アセチルアセトナート)ジルコニウム、トリ−n−プロポキシ・モノ(アセチルアセトナート)ジルコニウム、トリ−i−プロポキシ・モノ(アセチルアセトナート)ジルコニウム、トリ−n−ブトキシ・モノ(アセチルアセトナート)ジルコニウム、トリ−sec−ブトキシ・モノ(アセチルアセトナート)ジルコニウム、トリ−t−ブトキシ・モノ(アセチルアセトナート)ジルコニウム、ジエトキシ・ビス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、ジ−n−プロポキシ・ビス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、ジ−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、ジ−n−ブトキシ・ビス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、ジ−sec−ブトキシ・ビス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、ジ−t−ブトキシ・ビス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、モノエトキシ・トリス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、モノ−n−プロポキシ・トリス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、モノ−i−プロポキシ・トリス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、モノ−n−ブトキシ・トリス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、モノ−sec−ブトキシ・トリス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、モノ−t−ブトキシ・トリス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトナート)ジルコニウム、トリエトキシ・モノ(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、トリ−n−プロポキシ・モノ(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、トリ−i−プロポキシ・モノ(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、トリ−n−ブトキシ・モノ(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、トリ−sec−ブトキシ・モノ(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、トリ−t−ブトキシ・モノ(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、ジエトキシ・ビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、ジ−n−プロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、ジ−i−プロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、ジ−n−ブトキシ・ビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、ジ−sec−ブトキシ・ビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、ジ−t−ブトキシ・ビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、モノエトキシ・トリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、モノ−n−プロポキシ・トリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、モノ−i−プロポキシ・トリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、モノ−n−ブトキシ・トリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、モノ−sec−ブトキシ・トリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、モノ−t−ブトキシ・トリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、モノ(アセチルアセトナート)トリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、ビス(アセチルアセトナート)ビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、トリス(アセチルアセトナート)モノ(エチルアセトアセテート)ジルコニウム等のジルコニウムキレート化合物;
トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム等のアルミニウムキレート化合物等を挙げることができる。
Triethoxy mono (acetylacetonato) zirconium, tri-n-propoxy mono (acetylacetonato) zirconium, tri-i-propoxy mono (acetylacetonato) zirconium, tri-n-butoxy mono (acetylacetonate) Zirconium, tri-sec-butoxy mono (acetylacetonato) zirconium, tri-t-butoxy mono (acetylacetonato) zirconium, diethoxybis (acetylacetonato) zirconium, di-n-propoxybis (acetylacetate) Nato) zirconium, di-i-propoxy bis (acetylacetonato) zirconium, di-n-butoxy bis (acetylacetonato) zirconium, di-sec-butoxy bis (acetylacetonato) ziru Ni, di-t-butoxy bis (acetylacetonato) zirconium, monoethoxy tris (acetylacetonato) zirconium, mono-n-propoxytris (acetylacetonato) zirconium, mono-i-propoxytris (acetyl) Acetonato) zirconium, mono-n-butoxy-tris (acetylacetonato) zirconium, mono-sec-butoxy-tris (acetylacetonato) zirconium, mono-t-butoxy-tris (acetylacetonato) zirconium, tetrakis (acetyl) Acetonato) zirconium, triethoxy mono (ethyl acetoacetate) zirconium, tri-n-propoxy mono (ethyl acetoacetate) zirconium, tri-i-propoxy mono (ethyl acetate) Acetate) zirconium, tri-n-butoxy mono (ethyl acetoacetate) zirconium, tri-sec-butoxy mono (ethyl acetoacetate) zirconium, tri-t-butoxy mono (ethyl acetoacetate) zirconium, diethoxy bis ( Ethyl acetoacetate) zirconium, di-n-propoxy bis (ethyl acetoacetate) zirconium, di-i-propoxy bis (ethyl acetoacetate) zirconium, di-n-butoxy bis (ethyl acetoacetate) zirconium, di- sec-butoxy bis (ethyl acetoacetate) zirconium, di-t-butoxy bis (ethyl acetoacetate) zirconium, monoethoxy tris (ethyl acetoacetate) zirconium, mono-n- Propoxy tris (ethyl acetoacetate) zirconium, mono-i-propoxy tris (ethyl acetoacetate) zirconium, mono-n-butoxy tris (ethyl acetoacetate) zirconium, mono-sec-butoxy tris (ethyl acetoacetate) Zirconium, mono-t-butoxy-tris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium, mono (acetylacetonato) tris (ethylacetoacetate) zirconium, bis (acetylacetonato) bis (ethylacetoacetate) Zirconium chelate compounds such as zirconium and tris (acetylacetonate) mono (ethylacetoacetate) zirconium;
Examples thereof include aluminum chelate compounds such as tris (acetylacetonate) aluminum and tris (ethylacetoacetate) aluminum.
上記有機酸としては、例えば酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、セバシン酸、没食子酸、酪酸、メリット酸、アラキドン酸、ミキミ酸、2−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、リノール酸、リノレイン酸、サリチル酸、安息香酸、p−アミノ安息香酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸等を挙げることができる。
上記無機酸としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸等を挙げることができる。
上記有機塩基としては、例えばピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシクロオクラン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデセン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等を挙げることができる。
上記アルカリ金属化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム等を挙げることができる。
これら触媒は、1種をあるいは2種以上を一緒に使用してもよい。
これら触媒のうち、金属キレート化合物、有機酸または無機酸が好ましく、より好ましくはチタンキレート化合物または有機酸である。
触媒の使用量は、原料シラン化合物100重量部に対して好ましくは0.001〜10重量部であり、より好ましくは0.001〜1重量である。
ポリシロキサンの合成に際して添加される水は、原料であるシラン化合物中またはシラン化合物を有機溶媒に溶解した溶液中に、断続的または連続的に添加することができる。
触媒は、原料であるシラン化合物中またはシラン化合物を有機溶媒に溶解した溶液中に予め添加しておいてもよく、あるいは添加される水中に溶解または分散させておいてもよい。
合成の際の反応温度としては、好ましくは0〜100℃であり、より好ましくは15〜80℃である。反応時間は好ましくは0.5〜24時間であり、より好ましくは1〜8時間である。
Examples of the organic acid include acetic acid, propionic acid, butanoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, oxalic acid, maleic acid, methylmalonic acid, adipic acid, sebacic acid, and gallic acid. Acid, butyric acid, meritic acid, arachidonic acid, mikimic acid, 2-ethylhexanoic acid, oleic acid, stearic acid, linoleic acid, linolenic acid, salicylic acid, benzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfone Examples include acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, formic acid, malonic acid, sulfonic acid, phthalic acid, fumaric acid, citric acid, tartaric acid and the like.
Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid, and phosphoric acid.
Examples of the organic base include pyridine, pyrrole, piperazine, pyrrolidine, piperidine, picoline, trimethylamine, triethylamine, monoethanolamine, diethanolamine, dimethylmonoethanolamine, monomethyldiethanolamine, triethanolamine, diazabicycloocrane, diazabicyclo. Nonane, diazabicycloundecene, tetramethylammonium hydroxide and the like can be mentioned.
Examples of the alkali metal compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide, calcium hydroxide and the like.
These catalysts may be used alone or in combination of two or more.
Of these catalysts, metal chelate compounds, organic acids or inorganic acids are preferred, and titanium chelate compounds or organic acids are more preferred.
The amount of the catalyst used is preferably 0.001 to 10 parts by weight, more preferably 0.001 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the raw material silane compound.
Water added during the synthesis of polysiloxane can be added intermittently or continuously in the raw material silane compound or in a solution in which the silane compound is dissolved in an organic solvent.
The catalyst may be added in advance to a raw material silane compound or a solution in which the silane compound is dissolved in an organic solvent, or may be dissolved or dispersed in the added water.
The reaction temperature during the synthesis is preferably 0 to 100 ° C, more preferably 15 to 80 ° C. The reaction time is preferably 0.5 to 24 hours, more preferably 1 to 8 hours.
本発明の液晶配向剤における上記の如き他の重合体の使用割合は、上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体100重量部に対して好ましくは10,000重量部以下であり、より好ましくは10〜10,000重量部であり、さらに好ましくは100〜5,000重量部であり、特に500〜2,000重量部であることが好ましい。 The use ratio of the other polymer as described above in the liquid crystal aligning agent of the present invention is preferably 10,000 with respect to 100 parts by weight of the (co) polymer of the compound represented by the formula (1) or (2). Or less, more preferably 10 to 10,000 parts by weight, still more preferably 100 to 5,000 parts by weight, and particularly preferably 500 to 2,000 parts by weight.
上記エポキシ化合物は、形成される液晶配向膜の基板表面に対する接着性をより向上する観点から使用することができる。かかるエポキシ化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,3,5,6−テトラグリシジル−2,4−ヘキサンジオール、1,3,5,6−テトラグリシジルオキシ−2,4−ヘキサンジオール、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N−ジグリシジル−ベンジルアミン、N,N−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサンなどを、好ましいものとして挙げることができる。本発明の液晶配向剤がエポキシ化合物を含有する場合、エポキシ基の架橋反応を効率良く起こす目的で、エポキシ化合物を1−ベンジル−2−メチルイミダゾール等の適当な塩基触媒と併用してもよい。
本発明の液晶配向剤におけるエポキシ化合物の使用割合は、重合体の合計(上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体および他の重合体の合計をいう。以下同じ。)100重量部に対して、好ましくは100重量部以下であり、より好ましくは50重量部以下である。
The said epoxy compound can be used from a viewpoint which improves the adhesiveness with respect to the substrate surface of the liquid crystal aligning film formed. Examples of such epoxy compounds include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and 1,6-hexane. Diol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3,5,6-tetraglycidyl-2,4-hexanediol, 1,3,5,6-tetraglycidyl Oxy-2,4-hexanediol, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) Preferred examples include cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, N, N-diglycidyl-benzylamine, N, N-diglycidyl-aminomethylcyclohexane and the like. it can. When the liquid crystal aligning agent of the present invention contains an epoxy compound, the epoxy compound may be used in combination with an appropriate base catalyst such as 1-benzyl-2-methylimidazole for the purpose of efficiently causing an epoxy group crosslinking reaction.
The use ratio of the epoxy compound in the liquid crystal aligning agent of the present invention refers to the total of the polymers (the total of the (co) polymer of the compound represented by the above formula (1) or (2) and other polymers). The same)) 100 parts by weight or less, preferably 100 parts by weight or less, more preferably 50 parts by weight or less.
上記官能性シラン化合物は、形成される液晶配向膜の基板との接着性をより向上する目的で使用することができる。官能性シラン化合物としては、例えば3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−アミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10−トリメトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、10−トリエトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリエトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−ビス(オキシエチレン)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ビス(オキシエチレン)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等を挙げることができ、さらに特許文献17(特開昭63−291922号公報)に記載されている、テトラカルボン酸二無水物とアミノ基を有するシラン化合物との反応物等を挙げることができる。
本発明の液晶配向剤が官能性シラン化合物を含有する場合、その含有割合としては、重合体の合計100重量部に対して、好ましくは50重量部以下であり、より好ましくは20重量部以下である。
The said functional silane compound can be used in order to improve the adhesiveness with the board | substrate of the liquid crystal aligning film formed. Examples of the functional silane compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, and N- (2-aminoethyl) -3. -Aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltri Methoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-trimethoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7 Triazadecane, 10-triethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9-triethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, N-benzyl- 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-bis (oxyethylene ) -3-Aminopropyltrimethoxysilane, N-bis (oxyethylene) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane And the patent text 17 is described in (JP 63-291922 JP) include a reaction product of a silane compound having a tetracarboxylic dianhydride and an amino group.
When the liquid crystal aligning agent of the present invention contains a functional silane compound, the content ratio is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 20 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight of the total polymer. is there.
上記界面活性剤としては、例えばノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、含フッ素界面活性剤等を挙げることができる。
本発明の液晶配向剤が界面活性剤を含有する場合、その含有割合としては、液晶配向剤の全体100重量部に対して、好ましくは10重量部以下であり、より好ましくは1重量部以下である。
Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, silicone surfactants, polyalkylene oxide surfactants, and fluorine-containing surfactants. it can.
When the liquid crystal aligning agent of this invention contains surfactant, as the content rate, Preferably it is 10 weight part or less with respect to 100 weight part of the whole liquid crystal aligning agent, More preferably, it is 1 weight part or less. is there.
<液晶配向剤>
本発明の液晶配向剤は、上述の通り、上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体を必須成分として含有し、そのほかに必要に応じて他の成分を含有するものであるが、好ましくは各成分が有機溶媒に溶解された溶液状の組成物として調製される。
本発明の液晶配向剤を調製するために使用することのできる有機溶媒としては、上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体および任意的に使用される他の成分を溶解し、これらと反応しないものが好ましい。
本発明の液晶配向剤に好ましく使用することのできる有機溶媒は、任意的に添加される他の重合体の種類により異なる。
本発明の液晶配向剤が上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体ならびにポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも1種の重合体を含有するものである場合における好ましい有機溶剤としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして上記に例示した有機溶媒を挙げることができる。このとき、本発明のポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した貧溶媒を併用してもよい。これら有機溶媒は、単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。
一方、本発明の液晶配向剤が上記式(1)または(2)で表される化合物の(共)重合体およびポリシロキサンを含有するものである場合における好ましい有機溶剤としては、例えば1−エトキシ−2−プロパノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレンブリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールモノアミルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコール、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピルセロソルブアセテート、ブチルセルソルブアセテート、メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピルカルビトール、ブチルカルビトール、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、酢酸sec−ブチル、酢酸n−ペンチル、酢酸sec−ペンチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸2−エチルブチル、酢酸2−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸n−ヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸オクチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル 等が挙げられる。この中で好ましくは、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、酢酸sec−ブチル、酢酸n−ペンチル、酢酸sec−ペンチル等を挙げることができる。
<Liquid crystal aligning agent>
As described above, the liquid crystal aligning agent of the present invention contains a (co) polymer of the compound represented by the above formula (1) or (2) as an essential component, and additionally contains other components as necessary. However, it is preferably prepared as a solution composition in which each component is dissolved in an organic solvent.
Examples of the organic solvent that can be used for preparing the liquid crystal aligning agent of the present invention include (co) polymers of the compounds represented by the above formula (1) or (2) and other optionally used compounds. Those that dissolve the components and do not react with them are preferred.
The organic solvent that can be preferably used in the liquid crystal aligning agent of the present invention varies depending on the type of other polymer that is optionally added.
The liquid crystal aligning agent of the present invention contains a (co) polymer of the compound represented by the above formula (1) or (2) and at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide. Preferred organic solvents in some cases include the organic solvents exemplified above as those used for the synthesis of polyamic acid. At this time, you may use together the poor solvent illustrated as what is used for the synthesis | combination of the polyamic acid of this invention. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
On the other hand, as a preferable organic solvent when the liquid crystal aligning agent of the present invention contains a (co) polymer of the compound represented by the above formula (1) or (2) and polysiloxane, for example, 1-ethoxy -2-propanol, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monoacetate, dipropylene glycol methyl ether, dipropylene glycol ethyl ether, dipropylene glycol propyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether , Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether Lucerosolve), ethylene glycol monoamyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, methyl carbitol, ethyl carbitol, propyl carbitol, butyl carbitol, N-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, sec-butyl acetate, n-pentyl acetate, sec-pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methylpentyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, Examples include 2-ethylhexyl acetate, benzyl acetate, n-hexyl acetate, cyclohexyl acetate, octyl acetate, amyl acetate, and isoamyl acetate. Of these, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, sec-butyl acetate, n-pentyl acetate, sec-pentyl acetate and the like can be mentioned.
本発明の液晶配向剤の調製に用いられる好ましい溶媒は、上記した有機溶媒の1種または2種以上を組み合わせて得られるものであって、下記の好ましい固形分濃度において液晶配向剤に含有される各成分が析出せず、且つ液晶配向剤の表面張力が25〜40mN/mの範囲となるものである。
本発明の液晶配向剤の固形分濃度、すなわち液晶配向剤中の溶媒以外の全成分の重量が液晶配向剤の全重量に占める割合は、粘性、揮発性等を考慮して選択されるが、好ましくは1〜10重量%の範囲である。本発明の液晶配向剤は、基板表面に塗布され、液晶配向膜となる塗膜を形成するが、固形分濃度が1重量%未満である場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得難い場合がある。一方、固形分濃度が10重量%を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得難く、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性が不足する場合がある。特に好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に採用する方法によって異なる。例えばスピンナー法による場合には1.5〜4.5重量%の範囲が特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を3〜9重量%の範囲とし、それによって溶液粘度を12〜50mPa・sの範囲とするのが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を1〜5重量%の範囲とし、それによって溶液粘度を3〜15mPa・sの範囲とするのが特に好ましい。
本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは、0℃〜200℃、より好ましくは20℃〜60℃である。
The preferable solvent used for the preparation of the liquid crystal aligning agent of the present invention is obtained by combining one or more of the above organic solvents, and is contained in the liquid crystal aligning agent at the following preferable solid content concentration. Each component does not precipitate, and the surface tension of the liquid crystal aligning agent is in the range of 25 to 40 mN / m.
The solid content concentration of the liquid crystal aligning agent of the present invention, that is, the ratio of the weight of all components other than the solvent in the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent is selected in consideration of viscosity, volatility, Preferably it is the range of 1-10 weight%. The liquid crystal aligning agent of the present invention is applied to the substrate surface to form a coating film that becomes a liquid crystal aligning film. When the solid content concentration is less than 1% by weight, the film thickness of this coating film becomes too small. In some cases, it is difficult to obtain a good liquid crystal alignment film. On the other hand, when the solid content concentration exceeds 10% by weight, it is difficult to obtain a good liquid crystal alignment film due to excessive film thickness, and the viscosity of the liquid crystal aligning agent increases, resulting in insufficient coating characteristics. There is a case. The particularly preferable range of the solid content concentration varies depending on the method employed when the liquid crystal aligning agent is applied to the substrate. For example, when the spinner method is used, the range of 1.5 to 4.5% by weight is particularly preferable. In the case of the printing method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 3 to 9% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 12 to 50 mPa · s. In the case of the inkjet method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 1 to 5% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 3 to 15 mPa · s.
The temperature for preparing the liquid crystal aligning agent of the present invention is preferably 0 ° C to 200 ° C, more preferably 20 ° C to 60 ° C.
<液晶配向膜の形成方法>
本発明の液晶配向剤は、光配向法により液晶配向膜を形成するために好適に使用することができる。
液晶配向膜を形成する方法としては、例えば基板上に本発明の液晶配向膜の塗膜を形成し、次いで該塗膜に光配向法により液晶配向能を付与する方法を挙げることができる。
まず、パターン状の透明導電膜が設けられた基板の透明導電膜側に、本発明の液晶配向剤を、例えばロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法等の適宜の塗布方法により塗布し、例えば40〜250℃の温度で0.1〜120分間加熱して塗膜を形成する。塗膜の膜厚は、溶媒除去後の厚さとして、好ましくは0.001〜1μmであり、より好ましくは0.005〜0.5μmである。
前記基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスの如きガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネートの如きプラスチックからなる透明基板等を用いることができる。
前記透明導電膜としては、SnO2からなるNESA膜、In2O3−SnO2からなるITO膜等を用いることができる。これらの透明導電膜のパターニングには、フォト・エッチング法や透明導電膜を形成する際にマスクを用いる方法等が用いられる。
液晶配向剤の塗布に際しては、基板または透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板および透明導電膜上に、予め官能性シラン化合物、チタネート等を塗布しておいてもよい。
<Method for forming liquid crystal alignment film>
The liquid crystal aligning agent of this invention can be used conveniently in order to form a liquid crystal aligning film by the photo-alignment method.
As a method for forming the liquid crystal alignment film, for example, a method of forming a coating film of the liquid crystal alignment film of the present invention on a substrate and then imparting liquid crystal alignment ability to the coating film by a photo-alignment method can be mentioned.
First, the liquid crystal aligning agent of the present invention is applied to the transparent conductive film side of the substrate provided with the patterned transparent conductive film by an appropriate application method such as a roll coater method, a spinner method, a printing method, an ink jet method or the like. For example, the coating film is formed by heating at a temperature of 40 to 250 ° C. for 0.1 to 120 minutes. The thickness of the coating film is preferably 0.001 to 1 μm, more preferably 0.005 to 0.5 μm, as the thickness after removal of the solvent.
As the substrate, for example, a glass such as float glass or soda glass, a transparent substrate made of a plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, or polycarbonate can be used.
As the transparent conductive film, a NESA film made of SnO 2 , an ITO film made of In 2 O 3 —SnO 2, or the like can be used. For patterning these transparent conductive films, a photo-etching method or a method using a mask when forming the transparent conductive film is used.
When applying the liquid crystal aligning agent, in order to further improve the adhesion between the substrate or the transparent conductive film and the coating film, a functional silane compound, titanate or the like is previously applied on the substrate and the transparent conductive film. Also good.
次いで、前記塗膜に直線偏光もしくは部分偏光された放射線または無偏光の放射線を照射し、場合によってさらに150〜250℃の温度で好ましくは1〜120分間加熱処理を行うことにより、液晶配向能を付与する。ここで、放射線としては、例えば150nm〜800nmの波長の光を含む紫外線および可視光線を用いることができるが、300nm〜400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。用いる放射線が直線偏光または部分偏光している場合には、照射は基板面に垂直の方向から行っても、プレチルト角を付与するために斜め方向から行ってもよく、また、これらを組み合わせて行ってもよい。無偏光の放射線を照射する場合には、照射の方向は斜め方向である必要がある。
使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等を使用することができる。前記の好ましい波長領域の紫外線は、前記光源を、例えばフィルター、回折格子等と併用する手段等により得ることができる。
放射線の照射量としては、好ましくは1J/m2以上10,000J/m2未満であり、より好ましくは10〜3,000J/m2である。なお、従来知られている液晶配向剤から形成された塗膜に光配向法により液晶配向能を付与する場合、10,000J/m2以上の放射線照射量が必要であった。しかし本発明の液晶配向剤を用いると、光配向法の際の放射線照射量が3,000J/m2以下、さらに1,000J/m2以下であっても良好な液晶配向性を付与することができ、液晶表示素子の製造コストの削減に資する。
なお、本発明における「プレチルト角」とは、基板面と平行な方向からの液晶分子の傾きの角度を表す。
Next, the coating film is irradiated with linearly polarized light, partially polarized radiation or non-polarized radiation, and optionally subjected to a heat treatment at a temperature of 150 to 250 ° C., preferably for 1 to 120 minutes, thereby improving the liquid crystal alignment ability. Give. Here, as the radiation, for example, ultraviolet rays including light having a wavelength of 150 nm to 800 nm and visible light can be used, but ultraviolet rays including light having a wavelength of 300 nm to 400 nm are preferable. When the radiation used is linearly polarized or partially polarized, irradiation may be performed from a direction perpendicular to the substrate surface, or from an oblique direction to give a pretilt angle, or a combination thereof. May be. When irradiating non-polarized radiation, the direction of irradiation needs to be an oblique direction.
As a light source to be used, for example, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp, an excimer laser, or the like can be used. The ultraviolet rays in the preferable wavelength region can be obtained by means of using the light source in combination with, for example, a filter, a diffraction grating, or the like.
The irradiation dose of radiation, preferably less than 1 J / m 2 or more 10,000 J / m 2, more preferably from 10~3,000J / m 2. In addition, when providing the liquid crystal aligning ability by the photo-alignment method to the coating film formed from the conventionally known liquid crystal aligning agent, the irradiation dose of 10,000 J / m < 2 > or more was required. However, when the liquid crystal aligning agent of the present invention is used, good liquid crystal alignment is imparted even when the radiation irradiation amount in the photo-alignment method is 3,000 J / m 2 or less, and further 1,000 J / m 2 or less. This contributes to the reduction of the manufacturing cost of the liquid crystal display element.
The “pretilt angle” in the present invention represents an angle of inclination of liquid crystal molecules from a direction parallel to the substrate surface.
<液晶表示素子の製造方法>
本発明の液晶配向剤を用いて形成される液晶表示素子は、例えば以下のようにして製造することができる。
上述のようにして液晶配向膜が形成された基板を1対(2枚)準備し、これらの有する液晶配向膜を、照射した直線偏光放射線の偏光方向が所定の角度となるように対向させ、基板の間の周辺部をシール剤でシールし、液晶を注入、充填し、液晶注入口を封止して液晶セルを構成する。次いで、液晶セルを、用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで冷却して、注入時の流動配向を除去することが望ましい。
そして、その両面に、偏光板をその偏光方向がそれぞれ基板の液晶配向膜の配向容易軸と所定の角度をなすように貼り合わせることにより、液晶表示素子とする。液晶配向膜が水平配向性である場合、液晶配向膜が形成された2枚の基板における、照射した直線偏光放射線の偏光方向のなす角度およびそれぞれの基板と偏光板との角度を調整することにより、TN型またはSTN型液晶セルを有する液晶表示素子を得ることができる。一方、液晶配向膜が垂直配向性である場合には、液晶配向膜が形成された2枚の基板における配向容易軸の方向が平行となるようにセルを構成し、これに、偏光板を、その偏光方向が配向容易軸と45°の角度をなすように張り合わせることにより、VA型液晶セルを有する液晶表示素子とすることができる。
前記シール剤としては、例えばスペーサーとしての酸化アルミニウム球および硬化剤を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。
<Method for manufacturing liquid crystal display element>
The liquid crystal display element formed using the liquid crystal aligning agent of this invention can be manufactured as follows, for example.
Prepare a pair (two sheets) of substrates on which the liquid crystal alignment film is formed as described above, and make these liquid crystal alignment films face each other so that the polarization direction of the irradiated linearly polarized radiation becomes a predetermined angle. A peripheral portion between the substrates is sealed with a sealing agent, liquid crystal is injected and filled, and a liquid crystal injection port is sealed to constitute a liquid crystal cell. Next, it is desirable that the liquid crystal cell is heated to a temperature at which the liquid crystal used takes an isotropic phase, and then cooled to room temperature to remove the flow alignment during injection.
Then, a polarizing plate is bonded to both surfaces so that the polarization direction forms a predetermined angle with the alignment easy axis of the liquid crystal alignment film of the substrate, thereby obtaining a liquid crystal display element. When the liquid crystal alignment film is horizontally aligned, by adjusting the angle formed by the polarization direction of the irradiated linearly polarized radiation and the angle between each substrate and the polarizing plate in the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed A liquid crystal display element having a TN type or STN type liquid crystal cell can be obtained. On the other hand, in the case where the liquid crystal alignment film is vertically aligned, the cell is configured so that the directions of easy alignment axes of the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed are parallel, By bonding the polarization directions so as to form an angle of 45 ° with the orientation easy axis, a liquid crystal display element having a VA type liquid crystal cell can be obtained.
As the sealing agent, for example, an aluminum oxide sphere as a spacer and an epoxy resin containing a curing agent can be used.
前記液晶としては、例えばネマティック型液晶、スメクティック型液晶等を用いることができる。TN型液晶セルまたはSTN型液晶セルの場合、ネマティック型液晶のうちの正の誘電異方性を有するものが好ましく、例えばビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶等が用いられる。また前記液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネート等のコレステリック液晶;商品名C−15、CB−15(メルク社製)として販売されているようなカイラル剤;p−デシロキシベンジリデン−p−アミノ−2−メチルブチルシンナメート等の強誘電性液晶等を、さらに添加して使用することもできる。
一方、垂直配向型液晶セルの場合には、ネマティック型液晶のうちの負の誘電異方性を有するものが好ましく、例えばジシアノベンゼン系液晶、ピリダジン系液晶、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶等が用いられる。
液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「H膜」と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、またはH膜そのものからなる偏光板等を挙げることができる。
かくして製造された本発明の液晶表示素子は、表示特性、信頼性等の諸性能に優れるものである。
As the liquid crystal, for example, a nematic liquid crystal, a smectic liquid crystal, or the like can be used. In the case of a TN liquid crystal cell or STN liquid crystal cell, a nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy is preferable. For example, biphenyl liquid crystal, phenylcyclohexane liquid crystal, ester liquid crystal, terphenyl liquid crystal, biphenyl A cyclohexane liquid crystal, a pyrimidine liquid crystal, a dioxane liquid crystal, a bicyclooctane liquid crystal, a cubane liquid crystal, or the like is used. Further, for example, cholesteric liquid crystals such as cholesteryl chloride, cholesteryl nonate, cholesteryl carbonate; chiral agents such as those sold under the trade names C-15 and CB-15 (Merck); p-decyloxybenzylidene Ferroelectric liquid crystals such as -p-amino-2-methylbutylcinnamate can be further added and used.
On the other hand, in the case of a vertical alignment type liquid crystal cell, a nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy is preferable. For example, dicyanobenzene liquid crystal, pyridazine liquid crystal, Schiff base liquid crystal, azoxy liquid crystal, biphenyl type. A liquid crystal, a phenylcyclohexane type liquid crystal, or the like is used.
A polarizing plate used outside the liquid crystal cell is composed of a polarizing film called a “H film” in which polyvinyl alcohol is stretched and oriented while absorbing iodine while sandwiching it with a cellulose acetate protective film, or the H film itself. A polarizing plate etc. can be mentioned.
The liquid crystal display element of the present invention thus produced is excellent in various properties such as display characteristics and reliability.
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。
以下の実施例において重量平均分子量は、以下の条件におけるゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム:東ソー(株)製、TSKgelGRCXLII
溶剤:テトラヒドロフラン
温度:40℃
圧力:68kgf/cm2
エポキシ当量は、JIS C2105の“塩酸−メチルエチルケトン法”に準じて測定した。
溶液粘度は、各合成例で指摘した重合体溶液につき、E型粘度計を用いて25℃において測地した値である。
<上記式(1)または(2)で表される化合物の合成>
合成例1(化合物(1−1−1)の合成)
下記スキーム1
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
In the following examples, the weight average molecular weight is a polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography under the following conditions.
Column: Tosoh Co., Ltd., TSKgelGRCXLII
Solvent: Tetrahydrofuran Temperature: 40 ° C
Pressure: 68 kgf / cm 2
The epoxy equivalent was measured according to the “hydrochloric acid-methyl ethyl ketone method” of JIS C2105.
The solution viscosity is a value measured at 25 ° C. using an E-type viscometer for the polymer solution indicated in each synthesis example.
<Synthesis of the compound represented by the above formula (1) or (2)>
Synthesis Example 1 (Synthesis of Compound (1-1-1))
Scheme 1 below
に従って化合物(1−1−1)を合成した。
(化合物(1−1−1a)の合成)
還流管、窒素導入管およびディーンスターク管を備えた1Lのナスフラスコに、デシルこはく酸無水物72g、4−アミノ桂皮酸49g、トリエチルアミン70mL、トルエン500mLおよびテトラヒドロフラン200mLを仕込んで36時間還流下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を希塩酸および水で順次に洗浄を行った後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、エタノールおよびテトラヒドロフランの混合溶剤で再結晶を行うことにより、化合物(1−1−1a)の白色結晶を72g得た。
(化合物(1−1−1)の合成)
還流管および窒素導入管を備えた300mLの三口フラスコに、化合物(1−1−1a)39g、塩化チオニル200mLおよびN,N−ジメチルホルムアミド0.2mLを仕込み、80℃で1時間反応を行った。反応終了後、減圧下で塩化チオニルを除去し、残存物に塩化メチレン300mLを加えて得た有機層を水で3回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で塩化メチレンを留去し、さらにテトラヒドロフランを200mL加えた(これを、反応液1Aとする。)。
一方、滴下ロート、温度計および窒素導入管を備えた500mLの三口フラスコに、ヒドロキシエチルメタクリレート13g、トリエチルアミン10.1gおよびテトラヒドロフラン50mLを仕込んで氷冷した。ここに、上記の反応液1Aを滴下ロートで30分以上かけて滴下し、室温に戻してさらに2時間反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを500mL加え、水で3回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、溶媒を除去することにより、化合物(1−1−1)を47g得た。
合成例2(化合物(1−4−1)の合成)
下記スキーム2
The compound (1-1-1) was synthesized according to
(Synthesis of Compound (1-1-1a))
A 1 L eggplant flask equipped with a reflux tube, a nitrogen introduction tube and a Dean-Stark tube was charged with 72 g of decylsuccinic anhydride, 49 g of 4-aminocinnamic acid, 70 mL of triethylamine, 500 mL of toluene and 200 mL of tetrahydrofuran, and reacted under reflux for 36 hours. Went. After completion of the reaction, the reaction mixture was washed successively with dilute hydrochloric acid and water, dried over magnesium sulfate, concentrated, and recrystallized with a mixed solvent of ethanol and tetrahydrofuran to give compound (1-1 72 g of white crystals of -1a) were obtained.
(Synthesis of Compound (1-1-1))
A 300 mL three-necked flask equipped with a reflux tube and a nitrogen introduction tube was charged with 39 g of compound (1-1-1a), 200 mL of thionyl chloride and 0.2 mL of N, N-dimethylformamide, and reacted at 80 ° C. for 1 hour. . After completion of the reaction, thionyl chloride was removed under reduced pressure, and 300 mL of methylene chloride was added to the residue. The resulting organic layer was washed with water three times and then dried over magnesium sulfate, and then methylene chloride was distilled off under reduced pressure. Further, 200 mL of tetrahydrofuran was added (this is referred to as reaction solution 1A).
On the other hand, 13 g of hydroxyethyl methacrylate, 10.1 g of triethylamine and 50 mL of tetrahydrofuran were charged into a 500 mL three-necked flask equipped with a dropping funnel, a thermometer and a nitrogen introduction tube, and cooled with ice. The above reaction solution 1A was added dropwise with a dropping funnel over 30 minutes, and returned to room temperature for further 2 hours of reaction. After completion of the reaction, 500 mL of ethyl acetate was added to the reaction mixture, washed with water three times, dried over magnesium sulfate, concentrated, and the solvent was removed to obtain 47 g of compound (1-1-1).
Synthesis Example 2 (Synthesis of Compound (1-4-1))
Scheme 2 below
に従って化合物(1−4−1)を合成した。
(化合物(1−4−1a)の合成)
還流管を備えた2Lのナスフラスコに、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸無水物198g、塩化チオニル500mLおよびN,N−ジメチルホルムアミド2mLを仕込み、80℃で1時間還流下に反応を行った。反応終了後、減圧で塩化チオニルを除去し、残存物に塩化メチレンを加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で順次に洗浄を行った後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮、乾固した後、テトラヒドロフラン500mLを加えた。
一方、滴下ロート、温度計および窒素導入管を備えた3Lの三口フラスコに4,4−5,5,5−ペンタフルオロペンタノール178g、ピリジン160mLおよびテトラヒドロフラン1.5Lを仕込み、氷浴で冷却した。ここに、上述のように1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸無水物と塩化チオニルとの反応物を含有するテトラヒドロフラン溶液をゆっくり滴下した後、室温でさらに4時間撹拌して反応を行なった。反応終了後、酢酸エチルにより抽出を行なった。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、シリカカラムで精製することで化合物(1−4−1a)を268gを得た。
The compound (1-4-1) was synthesized according to
(Synthesis of Compound (1-4-1a))
A 2 L eggplant flask equipped with a reflux tube was charged with 198 g of 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, 500 mL of thionyl chloride and 2 mL of N, N-dimethylformamide, and reacted at 80 ° C. for 1 hour under reflux. . After completion of the reaction, thionyl chloride was removed under reduced pressure, methylene chloride was added to the residue, and the organic layer was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and water, then dried over magnesium sulfate, concentrated and dried. Thereafter, 500 mL of tetrahydrofuran was added.
On the other hand, 178 g of 4,4-5,5,5-pentafluoropentanol, 160 mL of pyridine and 1.5 L of tetrahydrofuran were charged into a 3 L three-necked flask equipped with a dropping funnel, a thermometer and a nitrogen introduction tube, and cooled in an ice bath. . A tetrahydrofuran solution containing a reaction product of 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid anhydride and thionyl chloride was slowly added dropwise as described above, and the reaction was further stirred for 4 hours at room temperature. After completion of the reaction, extraction was performed with ethyl acetate. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and purified with a silica column to obtain 268 g of compound (1-4-1a).
(化合物(1−4−1b)の合成)
ディーンスターク管を備えた200mLのナスフラスコに化合物(4−5−1a)241g、4−アミノ桂皮酸109g、トリエチルアミン190mL、4−ジメチルアミノピリジン16g、トルエン1Lおよびテトラヒドロフラン2Lを仕込み、24時間還流下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を希塩酸水および水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、メタノールで再結晶することにより、化合物(1−4−1b)のを78g得た。
(化合物(1−4−1)の合成)
還流管、窒素導入管を備えた300mLの三口フラスコに、化合物(1−4−1b)50g、塩化チオニル300mLおよびN,N−ジメチルホルムアミド0.2mL仕込み、80℃で1時間反応を行った。反応終了後、減圧下で塩化チオニルを除去し、残存物に塩化メチレンを400mL加えて得た有機層を水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で塩化メチレンを留去し、テトラヒドロフランを300mL加えた(これを、反応液2Aとする。)。
一方、滴下ロート、温度計および窒素導入管を備えた500mLの三口フラスコに、ヒドロキシエチルメタクリレート13g、トリエチルアミン10.1gおよびテトラヒドロフラン50mLを仕込んで氷冷した。ここに、上記の反応液2Aを滴下ロートで30分以上かけて滴下し、室温に戻してさらに2時間反応を行った。反応終了後、酢酸エチルを700mL加えて得た有機層を水で3回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、さらに溶媒を除去することにより、化合物(1−4−1)を60g得た。
合成例3(化合物(1−5−1)の合成)
下記スキーム3
(Synthesis of Compound (1-4-1b))
A 200 mL eggplant flask equipped with a Dean-Stark tube was charged with 241 g of compound (4-5-1a), 109 g of 4-aminocinnamic acid, 190 mL of triethylamine, 16 g of 4-dimethylaminopyridine, 1 L of toluene and 2 L of tetrahydrofuran, and refluxed for 24 hours. The reaction was performed. After completion of the reaction, the reaction mixture was washed with dilute hydrochloric acid water and water. The organic layer was dried over magnesium sulfate and then recrystallized from methanol to obtain 78 g of compound (1-4-1b).
(Synthesis of Compound (1-4-1))
A 300 mL three-necked flask equipped with a reflux tube and a nitrogen introduction tube was charged with 50 g of compound (1-4-1b), 300 mL of thionyl chloride and 0.2 mL of N, N-dimethylformamide, and reacted at 80 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, thionyl chloride was removed under reduced pressure, 400 mL of methylene chloride was added to the residue, the organic layer obtained was washed three times with water and dried over magnesium sulfate, and then the methylene chloride was distilled off under reduced pressure. , Tetrahydrofuran (300 mL) was added (this is referred to as reaction solution 2A).
On the other hand, 13 g of hydroxyethyl methacrylate, 10.1 g of triethylamine and 50 mL of tetrahydrofuran were charged into a 500 mL three-necked flask equipped with a dropping funnel, a thermometer and a nitrogen introduction tube, and cooled with ice. The above reaction solution 2A was added dropwise over 30 minutes using a dropping funnel, and the reaction was continued for 2 hours after returning to room temperature. After completion of the reaction, 700 mL of ethyl acetate was added and the organic layer obtained was washed with water three times, dried over magnesium sulfate, concentrated, and the solvent was removed to obtain 60 g of compound (1-4-1). Obtained.
Synthesis Example 3 (Synthesis of Compound (1-5-1))
Scheme 3 below
に従って化合物(1−5−1)を合成した。
(化合物(1−5−1a)の合成
還流管、ディーンスターク管および窒素導入管を備えた2Lの三口フラスコに、5−ヒドロキシフタル酸90gおよびジエチルベンゼン500mLを仕込んで1時間還流を行った。続いて、ここに4−アミノ桂皮酸80gおよびテトラヒドロフラン500mLを加えて12時間還流下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を希塩酸および水で順次に洗浄し、さらに硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した後、酢酸エチルとテトラヒドロフランの混合溶剤で再結晶することにより化合物(1−5−1a)を95g得た。
(化合物(1−5−1b)の合成)
500mLのナス型フラスコに、化合物(1−5−1a)を75g、炭酸カリウム70gおよびN−メチル−2−ピロリドン150mLを仕込み、室温で1時間撹拌を行った後、4,4,4−1−ヨードブタン59gを加えて室温で24時間撹拌した。反応終了後、水を1L加えて沈殿を回収した。この沈殿につき、酢酸エチルおよびヘキサンからなる混合溶媒を溶出媒として用いてシリカカラムで精製した後、溶媒を除去することにより化合物(1−5−1b)を50g得た。
(化合物(1−5−1)の合成)
還流管および窒素導入管を備えた300mLの三口フラスコに、化合物(1−5−1b)42g、塩化チオニル200mLおよびN,N−ジメチルホルムアミド0.2mLを仕込み、80℃で1時間反応を行った。反応終了後、減圧下で塩化チオニルを除去し、残存物に塩化メチレン300mLを加えて得た有機層を水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下で塩化メチレンを留去し、テトラヒドロフランを200mL加えた(これを、反応液3Aとする。)。
一方、滴下ロート、温度計および窒素導入管を備えた500mLの三口フラスコに、ヒドロキシエチルメタクリレート13g、トリエチルアミン10.1gおよびテトラヒドロフラン50mLを仕込んで氷冷した。ここに、上記の反応液3Aを滴下ロートで30分以上かけて滴下し、室温に戻してさらに2時間反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを500mL加え、水で3回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、さらに溶媒を除去するにより、化合物(1−5−1)を50g得た。
合成例4(化合物(2−1−1)の合成)
下記スキーム4
The compound (1-5-1) was synthesized according to
(Synthesis of Compound (1-5-1a) 90 g of 5-hydroxyphthalic acid and 500 mL of diethylbenzene were charged into a 2 L three-necked flask equipped with a reflux tube, a Dean-Stark tube and a nitrogen introduction tube, and refluxed for 1 hour. Then, 80 g of 4-aminocinnamic acid and 500 mL of tetrahydrofuran were added thereto, and the reaction was carried out under reflux for 12 hours After completion of the reaction, the reaction mixture was washed successively with dilute hydrochloric acid and water, further dried over magnesium sulfate and concentrated. Then, 95g of compounds (1-5-1a) were obtained by recrystallizing with the mixed solvent of ethyl acetate and tetrahydrofuran.
(Synthesis of Compound (1-5-1b))
A 500 mL eggplant-shaped flask was charged with 75 g of compound (1-5-1a), 70 g of potassium carbonate, and 150 mL of N-methyl-2-pyrrolidone and stirred at room temperature for 1 hour, and then 4,4,4-1 -Iodobutane 59g was added and it stirred at room temperature for 24 hours. After completion of the reaction, 1 L of water was added to collect the precipitate. About this precipitation, after refine | purifying with a silica column using the mixed solvent which consists of ethyl acetate and hexane as an elution medium, 50g of compounds (1-5-1b) were obtained by removing a solvent.
(Synthesis of Compound (1-5-1))
A 300 mL three-necked flask equipped with a reflux tube and a nitrogen introduction tube was charged with 42 g of compound (1-5-1b), 200 mL of thionyl chloride and 0.2 mL of N, N-dimethylformamide, and reacted at 80 ° C. for 1 hour. . After completion of the reaction, thionyl chloride was removed under reduced pressure, and 300 mL of methylene chloride was added to the residue. The resulting organic layer was washed three times with water and dried over magnesium sulfate, and then methylene chloride was distilled off under reduced pressure. Then, 200 mL of tetrahydrofuran was added (this is referred to as reaction solution 3A).
On the other hand, 13 g of hydroxyethyl methacrylate, 10.1 g of triethylamine and 50 mL of tetrahydrofuran were charged into a 500 mL three-necked flask equipped with a dropping funnel, a thermometer and a nitrogen introduction tube, and cooled with ice. The above-mentioned reaction solution 3A was added dropwise over 30 minutes using a dropping funnel, and the reaction was continued for 2 hours after returning to room temperature. After completion of the reaction, 500 mL of ethyl acetate was added to the reaction mixture, washed with water three times, dried over magnesium sulfate, concentrated, and the solvent was removed to obtain 50 g of compound (1-5-1).
Synthesis Example 4 (Synthesis of Compound (2-1-1))
Scheme 4 below
に従って化合物(2−1−1)を合成した。
(化合物(2−1−1a)の合成)
温度計および窒素導入管を備えた300mLの三口フラスコに、4−ニトロ桂皮酸9.7g、4,4,4−トリフルオロ−1−ヨードブタン12g、炭酸カリウム14gおよび1−メチル−2−ピロリドン150mLを仕込み、50℃で1時間撹拌して反応を行なった。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮し、さらに溶媒を除去することにより、化合物(2−1−1a)を14g得た。
(化合物(2−1−1b)の合成)
温度計および窒素導入管を備えた300mLの三口フラスコに、化合物(2−1−1a)14g、塩化すず2水和物53gおよびエタノール150mLを仕込み、70℃で1時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応混合物を氷水に注ぎ、2Mの水酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルを加えた後に沈殿物を除去した。ろ液に酢酸エチルを加えて抽出して有機層を得た。この有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、さらに溶媒を除去することにより、化合物(2−1−1b)を12g得た。
(化合物(2−1−1c)の合成)
還流管および窒素導入管を備えた200mLのナスフラスコに、化合物(2−1−1b)12g、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸無水物8.7gおよび酢酸100mLを仕込み、1時間還流下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を酢酸エチルにより抽出して有機層を得た。この有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮して溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンからなる混合溶剤で再結晶を行うことにより、化合物(2−1−1c)の白色結晶を11g得た。
(化合物(2−1−1)の合成)
還流管、窒素導入管を備えた100mLの三口フラスコに、化合物(2−1−1c)9g、塩化チオニル50mLおよびN,N−ジメチルホルムアミド0.05mLを仕込み、80℃で1時間反応を行った。反応終了後、減圧下で塩化チオニルを除去し、残存物に塩化メチレン100mLを加えて得た有機層を水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で塩化メチレンを留去し、テトラヒドロフランを50mL加えた(これを、反応液4Aとする。)。
一方、滴下ロート、温度計および窒素導入管を備えた200mLの三口フラスコに、ヒドロキシエチルメタクリレート2.6g、トリエチルアミン2.0gおよびテトラヒドロフラン20mLを加えて氷冷した。ここに、上記の反応液4Aを滴下ロートで30分以上かけて滴下し、室温に戻してさらに2時間反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを100mL加えて得た有機層を水で3回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、さらに溶媒を除去することにより、化合物(2−1−1)を10g得た。
The compound (2-1-1) was synthesized according to
(Synthesis of Compound (2-1-1a))
In a 300 mL three-necked flask equipped with a thermometer and a nitrogen inlet tube, 9.7 g of 4-nitrocinnamic acid, 12 g of 4,4,4-trifluoro-1-iodobutane, 14 g of potassium carbonate and 150 mL of 1-methyl-2-pyrrolidone And stirred for 1 hour at 50 ° C. to carry out the reaction. After completion of the reaction, the reaction mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, concentrated, and the solvent was removed to obtain 14 g of compound (2-1-1a).
(Synthesis of Compound (2-1-1b))
A 300 mL three-necked flask equipped with a thermometer and a nitrogen introduction tube was charged with 14 g of compound (2-1-1a), 53 g of tin chloride dihydrate, and 150 mL of ethanol, and the reaction was performed by stirring at 70 ° C. for 1 hour. . After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into ice water, neutralized with 2M aqueous sodium hydroxide solution, and ethyl acetate was added to remove the precipitate. Ethyl acetate was added to the filtrate for extraction to obtain an organic layer. This organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, concentrated, and the solvent was removed to obtain 12 g of compound (2-1-1b).
(Synthesis of Compound (2-1-1c))
A 200 mL eggplant flask equipped with a reflux tube and a nitrogen introduction tube was charged with 12 g of compound (2-1-1b), 8.7 g of 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid anhydride and 100 mL of acetic acid, and refluxed for 1 hour. Reaction was performed. After completion of the reaction, the reaction mixture was extracted with ethyl acetate to obtain an organic layer. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, concentrated to remove the solvent, and recrystallized with a mixed solvent consisting of ethyl acetate and hexane to give white crystals of compound (2-1-1c). 11 g was obtained.
(Synthesis of Compound (2-1-1))
A 100 mL three-necked flask equipped with a reflux tube and a nitrogen introduction tube was charged with 9 g of compound (2-1-1c), 50 mL of thionyl chloride and 0.05 mL of N, N-dimethylformamide, and reacted at 80 ° C. for 1 hour. . After completion of the reaction, thionyl chloride was removed under reduced pressure, and 100 mL of methylene chloride was added to the residue. The resulting organic layer was washed three times with water and dried over magnesium sulfate, and then the methylene chloride was distilled off under reduced pressure. Then, 50 mL of tetrahydrofuran was added (this is referred to as reaction solution 4A).
Meanwhile, 2.6 g of hydroxyethyl methacrylate, 2.0 g of triethylamine and 20 mL of tetrahydrofuran were added to a 200 mL three-necked flask equipped with a dropping funnel, a thermometer and a nitrogen introduction tube, and the mixture was ice-cooled. 4 A of said reaction liquid was dripped here over 30 minutes or more with the dropping funnel, and it returned to room temperature, and also reacted for 2 hours. After completion of the reaction, 100 mL of ethyl acetate was added to the reaction mixture, and the organic layer obtained was washed three times with water, dried over magnesium sulfate, concentrated, and the solvent was removed to remove the compound (2-1-1). ) Was obtained.
<上記式(1)または(2)で表される化合物の共重合体の合成>
実施例1
撹拌機、窒素導入管および温度計を備えた100mLの三口フラスコに、化合物(1−1−1)14g、グリシジルメタクリレート6g、アゾビスイソブチロニトリル1.2g、スチレンダイマー1.2gおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40gを仕込み、窒素で系内を十分に置換した後、95℃で4時間反応を行うことにより、共重合体(CPA−1)を34重量%含有する溶液を得た。共重合体(CPA−1)の重量平均分子量Mwは5,000、エポキシ当量は170であった。
実施例2〜5
表1に示す種類および量の不飽和化合物を用いたほかは、実施例1と同様に実施して、共重合体CPA−2〜CPA−5をそれぞれ含有する溶液を得た。これら共重合体の重量平均分子量Mwを表1に示した。
なお、表1における他の不飽和化合物の略称「GMA」は、グリシジルメタクリレートを意味する。
<Synthesis of Copolymer of Compound Represented by Formula (1) or (2)>
Example 1
In a 100 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube and a thermometer, 14 g of compound (1-1-1), 6 g of glycidyl methacrylate, 1.2 g of azobisisobutyronitrile, 1.2 g of styrene dimer and propylene glycol After charging 40 g of monomethyl ether acetate and sufficiently substituting the inside of the system with nitrogen, the reaction was carried out at 95 ° C. for 4 hours to obtain a solution containing 34% by weight of the copolymer (CPA-1). The weight average molecular weight Mw of the copolymer (CPA-1) was 5,000, and the epoxy equivalent was 170.
Examples 2-5
Except having used the unsaturated compound of the kind and quantity shown in Table 1, it implemented similarly to Example 1 and obtained the solution which respectively contains copolymer CPA-2-CPA-5. The weight average molecular weight Mw of these copolymers is shown in Table 1.
In addition, the abbreviation “GMA” of other unsaturated compounds in Table 1 means glycidyl methacrylate.
<他の重合体の合成>
[ポリアミック酸の合成]
合成例5
テトラカルボン酸二無水物として1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物196g(1.0モル)およびジアミンとして2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル212g(1.0モル)をN−メチル−2−ピロリドン3,670gに溶解し、40℃で3時間反応を行うことにより、ポリアミック酸(PAA−1)を含有する溶液約4,000gを得た。この溶液の溶液粘度は160mPa・sであった。
[ポリイミドの合成]
合成例6
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物20.9g(0.093モル)ならびにジアミンとしてp−フェニレンジアミン9.2g(0.085モル)および上記式(D−6)で表される化合物4.9g(0.009モル)を、N−メチル−2−ピロリドン140gに溶解し、60℃で4時間反応を行うことによりポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、N−メチル−2−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は126mPa・sであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にN−メチル−2−ピロリドン325gを追加し、ピリジン7.4gおよび無水酢酸9.5gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなN−メチル−2−ピロリドンで溶媒置換(この溶媒置換にて脱水閉環反応に使用したピリジンおよび無水酢酸を系外に除去した。以下同じ。)することにより、イミド化率約54%のイミド化重合体(PI−1)を16.1重量%含有する溶液約200gを得た。
この溶液を少量分取し、N−メチル−2−ピロリドンを加えてイミド化重合体濃度10重量%の溶液をして測定した溶液粘度は75mPa・sであった。
<Synthesis of other polymers>
[Synthesis of polyamic acid]
Synthesis example 5
196 g (1.0 mol) of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 212 g (1, .2) of 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl as diamine. 0 mol) was dissolved in 3,670 g of N-methyl-2-pyrrolidone and reacted at 40 ° C. for 3 hours to obtain about 4,000 g of a solution containing polyamic acid (PAA-1). The solution viscosity of this solution was 160 mPa · s.
[Synthesis of polyimide]
Synthesis Example 6
20.9 g (0.093 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 9.2 g (0.085 mol) of p-phenylenediamine as diamine and the above formula (D -6) The compound represented by 4.9 g (0.009 mol) was dissolved in 140 g of N-methyl-2-pyrrolidone and reacted at 60 ° C. for 4 hours to obtain a solution containing polyamic acid. . A small amount of the obtained polyamic acid solution was taken, N-methyl-2-pyrrolidone was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by weight was 126 mPa · s.
Next, 325 g of N-methyl-2-pyrrolidone was added to the obtained polyamic acid solution, 7.4 g of pyridine and 9.5 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration cyclization reaction, the solvent in the system was replaced with new N-methyl-2-pyrrolidone (pyridine substitution and acetic anhydride used for the dehydration cyclization reaction were removed from the system by this solvent substitution, the same applies hereinafter). As a result, about 200 g of a solution containing 16.1% by weight of an imidized polymer (PI-1) having an imidization ratio of about 54% was obtained.
A small amount of this solution was collected, N-methyl-2-pyrrolidone was added to make a solution with an imidized polymer concentration of 10% by weight, and the solution viscosity was 75 mPa · s.
合成例7
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物17.3g(0.077モル)ならびにジアミンとしてp−フェニレンジアミン5.9g(0.054モル)、上記式(D−6)で表される化合物4.1g(0.008モル)および上記式(D−7)で表される化合物7.7g(0.016モル)をN−メチル−2−ピロリドン140gに溶解し、60℃で4時間反応を行うことにより、ポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、N−メチル−2−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は117mPa・sであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にN−メチル−2−ピロリドン325gを追加し、ピリジン6.1gおよび無水酢酸7.9gを添加して110℃で4時間脱水閉環を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなN−メチル−2−ピロリドンで溶媒置換することにより、イミド化率約55%のイミド化重合体(PI−2)を15.4重量%含有する溶液約210gを得た。この溶液を少量分取し、N−メチル−2−ピロリドンを加えてイミド化重合体濃度10重量%の溶液をして測定した溶液粘度は109mPa・sであった。
Synthesis example 7
2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride 17.3 g (0.077 mol) as tetracarboxylic dianhydride and 5.9 g (0.054 mol) of p-phenylenediamine as diamine, the above formula (D −6) 4.1 g (0.008 mol) of the compound represented by formula (D-7) and 7.7 g (0.016 mol) of the compound represented by the above formula (D-7) are dissolved in 140 g of N-methyl-2-pyrrolidone. And the solution containing polyamic acid was obtained by reacting at 60 degreeC for 4 hours. A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected, and N-methyl-2-pyrrolidone was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by weight was 117 mPa · s.
Next, 325 g of N-methyl-2-pyrrolidone was added to the obtained polyamic acid solution, 6.1 g of pyridine and 7.9 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration ring-closing reaction, the solvent in the system is replaced with new N-methyl-2-pyrrolidone to contain 15.4% by weight of an imidized polymer (PI-2) having an imidization ratio of about 55%. About 210 g of solution was obtained. A small amount of this solution was collected, N-methyl-2-pyrrolidone was added to make a solution with an imidized polymer concentration of 10% by weight, and the solution viscosity was 109 mPa · s.
[ポリシロキサンの合成]
合成例8
冷却管を備えた200mLの三口フラスコに、テトラエトキシシラン20.8gおよび1−エトキシ−2−プロパノール28.2gを仕込み、60℃に加熱し攪拌した。ここに、容量20mLの別のフラスコに調製した、無水マレイン酸0.26gを水10.8gに溶解した無水マレイン酸水溶液を加え、60℃でさらに4時間加熱、攪拌して反応を行った。得られた反応混合物から溶剤を留去し、1−エトキシ−2−プロパノールを加えて、再度濃縮することにより、ポリシロキサンPS−1を10重量%含有する重合体溶液を得た。PS−1の重量平均分子量Mwは5,100であった。
[Synthesis of polysiloxane]
Synthesis Example 8
A 200 mL three-necked flask equipped with a condenser was charged with 20.8 g of tetraethoxysilane and 28.2 g of 1-ethoxy-2-propanol, heated to 60 ° C. and stirred. A maleic anhydride aqueous solution prepared by dissolving 0.26 g of maleic anhydride in 10.8 g of water prepared in another flask having a capacity of 20 mL was added thereto, and the reaction was performed by heating and stirring at 60 ° C. for further 4 hours. The solvent was distilled off from the resulting reaction mixture, 1-ethoxy-2-propanol was added, and the mixture was concentrated again to obtain a polymer solution containing 10% by weight of polysiloxane PS-1. The weight average molecular weight Mw of PS-1 was 5,100.
<液晶配向剤の調製>
実施例6
上記実施例1で得た共重合体(CPA−1)を含有する溶液と上記合成例5で得たポリアミック酸(PAA−1)を含有する溶液とを、これらの溶液に含有される重合体の割合が(CPA−1):(PAA−1)=100:1,000(重量比)となるように混合し、これに1−メチル−2−ピロリドンおよびブチルセロソルブを加え、溶媒組成が1−メチル−2−ピロリドン:ブチルセロソルブ=50:50(重量比)、固形分濃度が3.0重量%の溶液とした。
この溶液を孔径1μmのフィルターで濾過することにより、液晶配向剤A−1を調製した。
実施例7〜14
使用した溶液に含まれる重合体の種類および量をそれぞれ表2に記載のとおりとしたほかは実施例6と同様にして、液晶配向剤A−2〜A−9をそれぞれ調製した。
実施例15
上記実施例2で得た共重合体(CPA−2)を含有する溶液と上記合成例8で得たポリシロキサン(PS−1)を含有する溶液とを、これらの溶液に含有される重合体の割合が(CPA−2):(PS−1)=100:1,000(重量比)となるように混合し、これに1−エトキシ−2−プロパノールを加え、固形分濃度が3.0重量%の溶液とした。
この溶液を孔径1μmのフィルターで濾過することにより、液晶配向剤A−10を調製した。
<Preparation of liquid crystal aligning agent>
Example 6
A polymer containing the solution containing the copolymer (CPA-1) obtained in Example 1 and the solution containing the polyamic acid (PAA-1) obtained in Synthesis Example 5 in these solutions. So that the ratio of (CPA-1) :( PAA-1) = 100: 1,000 (weight ratio) is added, 1-methyl-2-pyrrolidone and butyl cellosolve are added thereto, and the solvent composition is 1- Methyl-2-pyrrolidone: butyl cellosolve = 50: 50 (weight ratio) and a solid content concentration of 3.0% by weight was used.
Liquid crystal aligning agent A-1 was prepared by filtering this solution with a filter having a pore diameter of 1 μm.
Examples 7-14
Liquid crystal aligning agents A-2 to A-9 were respectively prepared in the same manner as in Example 6 except that the types and amounts of the polymers contained in the used solution were as shown in Table 2.
Example 15
A polymer containing the solution containing the copolymer (CPA-2) obtained in Example 2 and the solution containing the polysiloxane (PS-1) obtained in Synthesis Example 8 in these solutions. Is mixed so that the ratio of (CPA-2) :( PS-1) = 100: 1,000 (weight ratio), 1-ethoxy-2-propanol is added thereto, and the solid content concentration is 3.0. A weight percent solution was obtained.
Liquid crystal aligning agent A-10 was prepared by filtering this solution with a filter having a pore diameter of 1 μm.
実施例16
<液晶配向膜の形成およびVA型液晶表示素子の製造>
ITO膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面上に、上記実施例6で調製した液晶配向剤A−1をスピンナーを用いて塗布し、80℃のホットプレートで1分間プレベークした後、庫内を窒素置換したオーブン中で200℃で1時間加熱して膜厚0.1μmの塗膜を形成した。次いでこの塗膜表面に、Hg−Xeランプおよびグランテーラープリズムを用いて313nmの輝線を含む偏光紫外線1,000J/m2を、基板法線から40°傾いた方向から照射して液晶配向膜とした。同じ操作を繰り返して、液晶配向膜を有する基板を1対(2枚)製造した。
上記基板のうちの1枚の液晶配向膜を有する面の外周に直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、1対の基板の液晶配向膜面を対向させ、各基板の紫外線の光軸の基板面への投影方向が逆平行となるように圧着し、150℃で1時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より基板間の間隙に、ネガ型液晶(メルク社製MLC−6608)を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを150℃で加熱してから室温まで徐冷した。次に基板の外側両面に、偏光板を、その偏光方向が互いに直交し、かつ、液晶配向膜の紫外線の光軸の基板面への射影方向と45°の角度をなすように貼り合わせることによりVA型液晶表示素子を製造した。
この液晶表示素子につき、以下の方法により評価した。評価結果は表3に示した。
Example 16
<Formation of liquid crystal alignment film and production of VA type liquid crystal display element>
On the transparent electrode surface of the glass substrate with a transparent electrode made of an ITO film, the liquid crystal aligning agent A-1 prepared in Example 6 was applied using a spinner, prebaked for 1 minute on a hot plate at 80 ° C., and then stored. The coating was heated at 200 ° C. for 1 hour in an oven purged with nitrogen to form a coating film having a thickness of 0.1 μm. Next, the surface of the coating film was irradiated with polarized ultraviolet rays of 1,000 J / m 2 containing a 313 nm emission line from a direction inclined by 40 ° from the normal to the liquid crystal alignment film using a Hg-Xe lamp and a Grand Taylor prism. did. The same operation was repeated to manufacture a pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film.
An epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm is applied to the outer periphery of the surface of the substrate having the liquid crystal alignment film by screen printing, and the liquid crystal alignment film surfaces of the pair of substrates are made to face each other. The adhesive was pressure-bonded so that the projection direction of the optical axis of the ultraviolet ray of each substrate onto the substrate surface was antiparallel, and the adhesive was thermally cured at 150 ° C. for 1 hour. Next, a negative liquid crystal (MLC-6608 manufactured by Merck & Co., Inc.) was filled into the gap between the substrates from the liquid crystal injection port, and then the liquid crystal injection port was sealed with an epoxy adhesive. Furthermore, in order to remove the flow alignment at the time of liquid crystal injection, this was heated at 150 ° C. and then gradually cooled to room temperature. Next, the polarizing plates are bonded to both the outer surfaces of the substrate so that the polarization directions thereof are orthogonal to each other and form an angle of 45 ° with the projection direction of the optical axis of the liquid crystal alignment film onto the substrate surface. A VA liquid crystal display element was manufactured.
This liquid crystal display element was evaluated by the following method. The evaluation results are shown in Table 3.
<VA型液晶表示素子の評価方法>
(1)液晶配向性の評価
上記で製造した液晶表示素子につき、5Vの電圧をON・OFF(印加・解除)したときの明暗の変化における異常ドメインの有無を偏光顕微鏡により観察し、異常ドメインのない場合を「良」とした。
(2)プレチルト角の評価
上記で製造した液晶表示素子につき、非特許文献2(T. J. Scheffer et. al. J. Appl. Phys. vo. 19, p2013(1980))に記載の方法に準拠し、He−Neレーザー光を用いる結晶回転法によりプレチルト角を測定した。
(3)電圧保持率の評価
上記で製造した液晶表示素子に、5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率を測定した。測定装置は(株)東陽テクニカ製VHR−1を使用した。
(4)焼き付きの評価
上記で製造した液晶表示素子に、直流5Vを重畳した30Hz、3Vの矩形波を60℃の環境温度で2時間印加し、直流電圧を切った直後の液晶セル内に残留した電圧をフリッカ−消去法により残留DC電圧を求めた。
(5)耐熱性の評価
実施例16において塗膜形成の際のオーブンによる加熱温度を240℃に変えた以外は同様の方法で基板上に液晶配向膜を形成し、液晶表示素子を製造した。
得られた液晶表示素子につき、液晶配向性を調べた。すなわち、均一に黒表示されていた場合に液晶配向性「良」とし、光漏れがみられた場合に液晶配向性「不良」とした。
<Evaluation method of VA type liquid crystal display element>
(1) Evaluation of liquid crystal orientation For the liquid crystal display device manufactured above, the presence or absence of abnormal domains in the change in brightness when a voltage of 5 V is turned ON / OFF (applied / released) is observed with a polarizing microscope. The case where there was no “good”
(2) Evaluation of pretilt angle The liquid crystal display device manufactured above is subjected to the method described in Non-Patent Document 2 (T. J. Scheffer et. Al. J. Appl. Phys. Vo. 19, p2013 (1980)). In conformity, the pretilt angle was measured by a crystal rotation method using He—Ne laser light.
(3) Evaluation of voltage holding ratio After the voltage of 5 V was applied to the liquid crystal display element manufactured above with a 60 microsecond application time and a 167 millisecond span, the voltage holding ratio after 167 milliseconds from the application release was obtained. It was measured. The measuring apparatus used was VHR-1 manufactured by Toyo Corporation.
(4) Evaluation of burn-in The liquid crystal display element manufactured above was applied with a 30 Hz, 3 V rectangular wave on which 5 V DC was superimposed at an ambient temperature of 60 ° C. for 2 hours, and remained in the liquid crystal cell immediately after the DC voltage was turned off. The residual DC voltage was determined by the flicker-erasing method.
(5) Evaluation of heat resistance A liquid crystal alignment film was formed on the substrate in the same manner as in Example 16 except that the heating temperature in the oven at the time of forming the coating film was changed to 240 ° C to produce a liquid crystal display element.
About the obtained liquid crystal display element, liquid crystal orientation was investigated. That is, the liquid crystal orientation was “good” when the black display was uniform, and the liquid crystal orientation was “bad” when light leakage was observed.
実施例17〜23
使用した液晶配向剤の種類を表3に記載の通りとしたほかは実施例16と同様にしてそれぞれ液晶配向膜を形成し、液晶表示素子を製造して評価した。結果を表3に示した。
実施例24
<液晶配向膜の形成およびTN配向型液晶表示素子の製造>
上記実施例12で調製した液晶配向剤A−7を、ITO膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面上にスピンナーを用いて塗布し、80℃のホットプレートで1分間プレベークした後、180℃にて1時間加熱することにより、膜厚0.1μmの塗膜を形成した。この塗膜の表面に、Hg−Xeランプおよびグランテーラープリズムを用いて、313nmの輝線を含む偏光紫外線1,000J/m2を基板法線から40°傾いた方向から照射することにより、液晶配向能を付与して液晶配向膜を形成した。
上記と同じ操作を繰り返し、液晶配向膜を透明導電膜面上に有するガラス基板を1対(2枚)製造した。
この1対の基板のそれぞれ液晶配向膜を形成した面の周囲部に、直径5.5μmの酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、偏光紫外線照射方向が直交となるように基板を重ね合わせて圧着し、150℃で1時間加熱して接着剤を熱硬化した。次いで、基板の間隙に液晶注入口よりポジ型のネマティック型液晶(メルク社製、MLC−6221、カイラル剤入り)を注入して充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを150℃で10分加熱してから室温まで徐冷した。次に、基板の外側両面に、偏光板を、その偏光方向が互いに直交し、かつ、液晶配向膜の偏光方向と平行となるように貼り合わせることにより、TN配向型液晶表示素子を製造した。
この液晶表示素子の液晶配向性、電圧保持率および焼き付きにつき、実施例16と同様にして評価した。ただし、(5)耐熱性の評価における液晶配向性については、均一に白表示されていた場合を液晶配向性「良」とした。評価結果を表3に示した。
実施例25
使用した液晶配向剤の種類を表3に記載の通りとしたほかは実施例24と同様にして液晶配向膜を形成し、液晶表示素子を製造して評価した。結果を表3に示した。
Examples 17-23
A liquid crystal alignment film was formed in the same manner as in Example 16 except that the type of the liquid crystal alignment agent used was as described in Table 3, and a liquid crystal display element was produced and evaluated. The results are shown in Table 3.
Example 24
<Formation of liquid crystal alignment film and manufacture of TN alignment type liquid crystal display element>
The liquid crystal aligning agent A-7 prepared in Example 12 was applied onto the transparent electrode surface of the glass substrate with a transparent electrode made of an ITO film using a spinner, prebaked for 1 minute on a hot plate at 80 ° C., and then 180 A coating film having a thickness of 0.1 μm was formed by heating at 0 ° C. for 1 hour. By using a Hg-Xe lamp and a Grand Taylor prism, the surface of this coating film was irradiated with polarized ultraviolet rays of 1,000 J / m 2 containing a 313 nm emission line from a direction inclined by 40 ° from the substrate normal, thereby aligning the liquid crystal. A liquid crystal alignment film was formed by imparting performance.
The same operation as above was repeated to produce a pair (two) of glass substrates having a liquid crystal alignment film on the transparent conductive film surface.
An epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm is applied by screen printing to the periphery of each surface of the pair of substrates on which the liquid crystal alignment film is formed, and then the irradiation direction of polarized ultraviolet rays becomes orthogonal. The substrates were stacked and pressure-bonded as described above, and heated at 150 ° C. for 1 hour to thermally cure the adhesive. Next, a positive nematic liquid crystal (Merck, MLC-6221, containing a chiral agent) was injected and filled into the gap between the substrates through the liquid crystal injection port, and then the liquid crystal injection port was sealed with an epoxy adhesive. Furthermore, in order to remove the flow alignment at the time of liquid crystal injection, this was heated at 150 ° C. for 10 minutes and then gradually cooled to room temperature. Next, a TN alignment type liquid crystal display element was manufactured by bonding the polarizing plates on both outer surfaces of the substrate so that the polarization directions thereof were orthogonal to each other and parallel to the polarization direction of the liquid crystal alignment film.
The liquid crystal orientation, voltage holding ratio, and image sticking of this liquid crystal display element were evaluated in the same manner as in Example 16. However, for the liquid crystal alignment in (5) heat resistance evaluation, the liquid crystal alignment “good” was defined as the case where the white display was uniformly performed. The evaluation results are shown in Table 3.
Example 25
A liquid crystal alignment film was formed in the same manner as in Example 24 except that the type of liquid crystal alignment agent used was as described in Table 3, and a liquid crystal display element was produced and evaluated. The results are shown in Table 3.
Claims (7)
式(2)中、R5は単結合であってR6は水素原子であるか、またはR5とR6とが結合して炭素数4〜8の環を形成しており、R7は炭素数1〜40のアルキル基もしくはフルオロアルキル基または脂環構造を含む炭素数3〜40の1価の有機基であり、R8はフッ素原子またはシアノ基であり、A2は単結合、酸素原子、硫黄原子または−COO−*、−OCO−*(ただし「*」を付した結合手がR5と結合する。)であり、S2はメチレン基または炭素数2〜10のアルキレン基であり、P2は水素原子またはメチル基であり、cは0または1であり、dは0〜4の整数である。)
で表される化合物の(共)重合体を含有することを特徴とする、液晶配向剤。 The following formula (1) or (2)
In Formula (2), R 5 is a single bond and R 6 is a hydrogen atom, or R 5 and R 6 are bonded to form a ring having 4 to 8 carbon atoms, and R 7 is An alkyl group or fluoroalkyl group having 1 to 40 carbon atoms or a monovalent organic group having 3 to 40 carbon atoms including an alicyclic structure, R 8 is a fluorine atom or a cyano group, A 2 is a single bond, oxygen An atom, a sulfur atom, or —COO— * , —OCO— * (where a bond marked with “*” is bonded to R 5 ), and S 2 is a methylene group or an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms. There, P 2 is a hydrogen atom or a methyl group, c is 0 or 1, d is an integer of 0-4. )
The liquid crystal aligning agent characterized by including the (co) polymer of the compound represented by these.
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Families Citing this family (9)
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