JP5302433B2 - Industrial wipes - Google Patents
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Description
本発明は、エンボスを有する産業用ワイプに関する。 The present invention relates to an industrial wipe having an emboss.
産業用ワイプは、各種の産業用製品やこれに用いる部品に付着した塵・埃・水分・油分等の拭き取りに使用される。
産業用ワイプには、水分や油分等の拭き取り性能に加え、産業用ワイプから発生する紙粉(リントと呼ぶこともある)が少ないことが求められており、これらの要求に応えるべく、複数の基材紙を積層した産業用ワイプの表面に、エンボスを付与したものがある。
産業用ワイプに付与されるエンボスとしては、ピン形状エンボス、ディンプル形状エンボスが代表的であり、図4には、ピン形状エンボスがドット状に付された産業用ワイプを、図5には、ディンプル形状エンボスがドット状に付された産業用ワイプを示している。
Industrial wipes are used for wiping off dust, dirt, moisture, oil, and the like adhering to various industrial products and parts used therefor.
Industrial wipes are required to have less paper dust (sometimes referred to as lint) generated from industrial wipes in addition to wiping performance of moisture and oil, etc. Some industrial wipes on which base paper is laminated have embossed surfaces.
Typical embossing applied to industrial wipes is pin-shaped embossing and dimple-shaped embossing. FIG. 4 shows an industrial wipe in which pin-shaped embossing is applied in a dot shape, and FIG. 5 shows a dimple. Fig. 2 shows an industrial wipe with dot embossing on its shape.
ピン形状エンボスが付された産業用ワイプは、多数のピン形状エンボスにより応圧されているためプライ剥離が防止され、多数のピン形状エンボスにより形成された凹部に、塵や埃を効率よく収容することができる。しかしながら、ピン形状エンボスが付された産業用ワイプは、粘度の高いグリス等の拭き取り性能が乏しい。
一方、ディンプル形状エンボスが付された産業用ワイプは、ディンプル形状エンボスにより形成された比較的大きな口径を有する凹部に、粘度の高いグリス等を効率よく収容することができる。しかし、ディンプル形状エンボスが付された産業用ワイプは、粘度の低い水等の拭き取り性能が乏しく、また、比較的少数のディンプル形状エンボスにより応圧されているためプライ剥離が生じるおそれがある(特許文献1)。
また、ピン形状エンボス、ディンプル形状エンボスの他にも種々の形状のエンボスが提案されている(特許文献2〜4)。
On the other hand, industrial wipes with dimple-shaped embossing can efficiently accommodate high-viscosity grease or the like in a recess having a relatively large aperture formed by dimple-shaped embossing. However, industrial wipes with dimple-shaped embossing have poor wiping performance with low viscosity water and the like, and there is a risk that ply peeling will occur due to being pressured by a relatively small number of dimple-shaped embossing (patent) Reference 1).
In addition to pin-shaped embossing and dimple-shaped embossing, various shapes of embossing have been proposed (
そこで、本発明の主たる課題は、粉塵、粘度の高いグリス、粘度の低い水等の拭き取り性、吸収性に優れる産業用ワイプを提供することにある。 Accordingly, a main object of the present invention is to provide an industrial wipe excellent in wiping and absorbing properties such as dust, high viscosity grease, and low viscosity water.
上記課題を解決した本発明及び本発明に関連する参考発明は次記のとおりである。
<請求項1記載の発明>
基材紙に直線形エンボスが、格子パターン状に形成された産業用ワイプであって、
格子パターンによって囲まれるそれぞれの格子部に、六角形エンボスが、亀甲パターン状に形成され、
産業用ワイプの厚さが、1000〜1700μmであり、
六角形エンボスの長手方向長さが、幅方向長さに対し125〜200%と長く、六角形エンボスの凹部の深さが、0.8〜1.7mmであり、
六角形エンボスの長辺が、隣接する六角形エンボスの長辺に対向せず、六角形エンボスの長辺の角部が、隣接する六角形エンボスの長辺の角部にそれぞれ対向し、
格子パターンの延在方向と基材紙の横方向との交差角度が、0〜80度である
ことを特徴とする産業用ワイプ。
The present invention which solved the above problems and the reference invention related to the present invention are as follows.
<Invention of Claim 1>
An industrial wipe in which linear embossing is formed in a lattice pattern on a base paper,
Hexagonal embossing is formed in a tortoiseshell pattern on each lattice part surrounded by the lattice pattern,
The thickness of the industrial wipe is 1000-1700 μm;
The length in the longitudinal direction of the hexagonal emboss is as long as 125 to 200% of the length in the width direction, and the depth of the recess in the hexagonal emboss is 0.8 to 1.7 mm.
The long side of the hexagonal emboss does not face the long side of the adjacent hexagonal emboss, the corner of the long side of the hexagonal embossing faces the corner of the long side of the adjacent hexagonal emboss,
An industrial wipe characterized in that the crossing angle between the extending direction of the lattice pattern and the lateral direction of the base paper is 0 to 80 degrees.
(作用効果)
格子パターンによって囲まれるそれぞれの格子部に、六角形エンボスが、亀甲パターン状に形成されていることから、エンボスの角部が90度と120度の角度が混在することにより、柔軟性が高まる。
(Function and effect)
Since hexagonal embossing is formed in a tortoiseshell pattern in each lattice portion surrounded by the lattice pattern, flexibility is enhanced by mixing the corners of the embossment with 90 ° and 120 ° angles.
産業用ワイプの厚さが、1000〜1700μmであることから、粘度の低い水等の吸水量が多い。
また、六角形エンボスの長手方向長さが、幅方向長さに対し125〜200%と長く、六角形エンボスの凹部の深さが、0.8〜1.7mmであることから拭き取り性が高い。
さらに、六角形エンボスの長辺が、隣接する六角形エンボスの長辺に対向せず、六角形エンボスの長辺の角部が、隣接する六角形エンボスの長辺の角部にそれぞれ対向していることから、六角形エンボスのいわゆる鋭角部分である、六角形エンボスの長辺の角部および六角形エンボスの長辺と粉塵、グリス、水等との接触が大きく、拭き取り性が高い。
Since the industrial wipe has a thickness of 1000 to 1700 μm, it has a large amount of water absorption such as water having a low viscosity.
Moreover, since the longitudinal direction length of the hexagonal emboss is as long as 125 to 200% with respect to the length in the width direction, and the depth of the concave portion of the hexagonal emboss is 0.8 to 1.7 mm, the wiping property is high. .
Furthermore, the long side of the hexagonal emboss does not face the long side of the adjacent hexagonal embossing, and the corner of the long side of the hexagonal embossing faces the corner of the long side of the adjacent hexagonal embossing. Therefore, the contact between the corners of the long sides of the hexagonal embosses and the long sides of the hexagonal embosses, which are so-called sharp corners of the hexagonal embosses, and dust, grease, water, etc. is high, and the wiping property is high.
格子パターンの延在方向と基材紙の横方向との交差角度が、0〜80度であることから、産業用ワイプのスライド方向(横方向、縦方向)と格子パターンの鋭角部分であるエンボスとが傾斜し拭き取り性が高い。 Since the crossing angle between the extending direction of the lattice pattern and the lateral direction of the base paper is 0 to 80 degrees, the embossing which is an acute angle portion of the sliding direction of the industrial wipe (horizontal direction and vertical direction) and the lattice pattern The slope is inclined and the wiping property is high.
<請求項2記載の発明>
六角形エンボスの長手方向ピッチが4〜10mm、幅方向ピッチが2〜5mmであり、
六角形エンボスの凹部のテーパー角度が40〜65度であり、
六角形エンボスを形成した後の産業用ワイプの表面積が、六角形エンボスを形成する前の産業用ワイプの表面積に対し120〜170%である請求項1又は2記載の産業用ワイプ。
<Invention of
The longitudinal pitch of the hexagonal emboss is 4 to 10 mm, the widthwise pitch is 2 to 5 mm,
The taper angle of the recess of the hexagonal emboss is 40 to 65 degrees,
The industrial wipe according to
(作用効果)
六角形エンボスの凹部のテーパー角度が40〜65度であることから、六角形エンボスの周縁を鋭角部分に形成でき、拭き取り性が高い。
また、六角形エンボスの長手方向ピッチが4〜10mm、幅方向ピッチが2〜5mmであることから、六角形エンボスを形成した後の産業用ワイプの表面積が、六角形エンボスを形成する前の産業用ワイプの表面積に対し120〜170%と大きく、多くの粉塵、グリス、水等を拭き取ることができる。
(Function and effect)
Since the taper angle of the concave portion of the hexagonal emboss is 40 to 65 degrees, the periphery of the hexagonal emboss can be formed at an acute angle portion, and the wiping property is high.
Further, since the longitudinal pitch of the hexagonal emboss is 4 to 10 mm and the widthwise pitch is 2 to 5 mm, the surface area of the industrial wipe after forming the hexagonal emboss is the industry before forming the hexagonal emboss. It is as large as 120 to 170% of the surface area of the wiping wipe, and can wipe off a lot of dust, grease, water and the like.
<請求項4記載の発明>
基材紙が、複数の薄基材紙が積層されて形成されている請求項1〜3の何れか1項に記載の産業用ワイプ。
<Invention of
The industrial wipe according to any one of claims 1 to 3, wherein the base paper is formed by laminating a plurality of thin base papers.
(作用効果)
基材紙が、複数の薄基材紙が積層されて形成されていることから、プライ構造の産業用ワイプを構成でき、拭き取り使用時において産業用ワイプの破断するおそれを抑制することができる。
(Function and effect)
Since the base paper is formed by laminating a plurality of thin base papers, an industrial wipe having a ply structure can be formed, and the risk of the industrial wipe being broken during wiping can be suppressed.
<本発明に関連する参考発明>
基材紙に略六角形エンボスが、亀甲パターン状に形成された産業用ワイプであって、
産業用ワイプの厚さが、1000〜1700μmであり、
六角形エンボスの長手方向長さが、幅方向長さに対し125〜200%と長く、六角形エンボスの凹部の深さが、0.8〜1.7mmであり、
六角形エンボスの長辺が、隣接する六角形エンボスの長辺に対向せず、六角形エンボスの長辺の角部が、隣接する六角形エンボスの長辺の角部にそれぞれ対向し、
六角形エンボスの長手方向の延在方向と基材紙の横方向との交差角度が、30〜60度である
ことを特徴とする産業用ワイプ。
<Reference Invention Related to the Present Invention>
An industrial wipe in which a substantially hexagonal emboss is formed in a turtle shell pattern on a base paper,
The thickness of the industrial wipe is 1000-1700 μm;
The length in the longitudinal direction of the hexagonal emboss is as long as 125 to 200% of the length in the width direction, and the depth of the recess in the hexagonal emboss is 0.8 to 1.7 mm.
The long side of the hexagonal emboss does not face the long side of the adjacent hexagonal emboss, the corner of the long side of the hexagonal embossing faces the corner of the long side of the adjacent hexagonal emboss,
An industrial wipe characterized in that the crossing angle between the longitudinal direction of the hexagonal embossing and the lateral direction of the base paper is 30 to 60 degrees.
(作用効果)
本発明の参考発明は、産業用ワイプの厚さが、1000〜1700μmであることから、粘度の低い水等の吸水量が多い。
厚さが、1000μm以下であると吸水量が約10%少なくなってしまう。一方、産業用ワイプの厚さが、1700μm以上であると剛性が高まり、産業用ワイプを4つ折りにする際に抵抗となるおそれがある。
(Function and effect)
In the reference invention of the present invention, since the industrial wipe has a thickness of 1000 to 1700 μm, the water absorption amount of water having a low viscosity is large.
If the thickness is 1000 μm or less, the amount of water absorption is reduced by about 10%. On the other hand, if the thickness of the industrial wipe is 1700 μm or more, the rigidity is increased, which may cause resistance when the industrial wipe is folded in four.
六角形エンボスの長手方向長さが、幅方向長さに対し125〜200%と長く、六角形エンボスの凹部の深さが、0.8〜1.7mmであることから拭き取り性が高い。
特に、六角形エンボスの長手方向長さが、幅方向長さに対し125〜200%と長いことから、正六角形エンボスに比較して六角形エンボスにより形成される凹部の体積が大きく、粘度の高いグリス等に対する拭き取り性を高めることができる。
また、六角形エンボスの凹部の深さが、0.8〜1.7mmであることから、六角形エンボスの凹部に集塵された粉塵、粘度の低い水等を保持性が高い。
The length in the longitudinal direction of the hexagonal emboss is as long as 125 to 200% with respect to the length in the width direction, and the depth of the concave portion of the hexagonal emboss is 0.8 to 1.7 mm.
In particular, since the length in the longitudinal direction of the hexagonal emboss is as long as 125 to 200% of the length in the width direction, the volume of the recess formed by the hexagonal embossing is larger than that of the regular hexagonal embossing, and the viscosity is high. The wipeability with respect to grease etc. can be improved.
Moreover, since the depth of the recessed part of a hexagonal emboss is 0.8-1.7 mm, the retainability of the dust collected by the recessed part of a hexagonal embossed, water with a low viscosity, etc. is high.
六角形エンボスの長辺が、隣接する六角形エンボスの長辺に対向せず、六角形エンボスの長辺の角部が、隣接する六角形エンボスの長辺の角部にそれぞれ対向していることから、六角形エンボスのいわゆる鋭角部分である、六角形エンボスの長辺の角部および六角形エンボスの長辺と粉塵、グリス、水等との接触が大きく、拭き取り性が高い。 The long side of the hexagonal emboss is not facing the long side of the adjacent hexagonal emboss, and the corner of the long side of the hexagonal embossing is facing the corner of the long side of the adjacent hexagonal embossing. Therefore, the contact between the corners of the long side of the hexagonal embossing and the long side of the hexagonal embossing, which is a so-called acute angle part of the hexagonal embossing, and dust, grease, water, etc. is large, and the wiping property is high.
六角形エンボスの長手方向の延在方向と基材紙の横方向との交差角度が、30〜60度であることから、産業用ワイプのスライド方向(横方向、縦方向)と六角形エンボスのいわゆる鋭角部分である六角形エンボスの長辺とが傾斜し拭き取り性が高い。
なお、上記請求項2記載の発明、請求項3記載の発明は、上記参考発明についても適用でき、同様の効果を奏する。
Since the crossing angle between the longitudinal extension direction of the hexagonal embossing and the lateral direction of the base paper is 30 to 60 degrees, the sliding direction of the industrial wipe (lateral direction, vertical direction) and the hexagonal embossing The long side of the hexagonal embossing, which is a so-called acute angle portion, is inclined and the wiping property is high.
The invention according to
以上の本発明及びその参考発明によれば、粉塵、粘度の高いグリス、粘度の低い水等の拭き取り性、吸収性に優れる産業用ワイプを提供される。 According to the above-mentioned present invention and its reference invention, an industrial wipe excellent in wiping and absorbing properties such as dust, high-viscosity grease, and low-viscosity water is provided.
以下に、本発明に関連する参考発明の実施形態(参考形態)と、本発明の実施形態をこの順に説明する。
『参考形態』
以下、請求項記載の本発明の基本となる参考発明の実施形態について説明する。第1実施形態の産業用ワイプ1は、六角形エンボス2によって4枚の薄基材紙が積層された4プライ構造である。図1は、産業用ワイパー1のエンボスパターンを示し、図2は、図1のA−A断面の拡大図である。
Hereinafter, an embodiment (reference embodiment) of a reference invention related to the present invention and an embodiment of the present invention will be described in this order.
Reference form
Hereinafter, embodiments of the reference invention as the basis of the present invention will be described. The industrial wipe 1 of the first embodiment has a four-ply structure in which four thin base papers are laminated with
<基材紙>
産業用ワイプ1を構成する基材紙10は、厚みが約100μmの薄基材紙を4枚積層して形成され、積層時の厚みが約400μmである。
基材紙10を積層構造にすることにより、産業用ワイプ1がプライ構造になり、拭き取り使用時において産業用ワイプ1が破断するおそれが抑制できる。
なお、積層される薄基材紙の枚数については、特に制限はないが、2〜4枚が好適である。薄基材紙の枚数が5枚以上の場合、拭き取り使用時に積層部でズレが生じ産業用ワイプ1の表面に皺が発生し、拭き取り性が低下するおそれがある。
<Base material paper>
The
By making the
In addition, there is no restriction | limiting in particular about the number of the thin base paper laminated | stacked, However, 2-4 sheets are suitable. When the number of thin base papers is 5 or more, there is a possibility that the laminated portion may be displaced during wiping use, so that wrinkles are generated on the surface of the industrial wipe 1, and the wiping property may be deteriorated.
基材紙10を形成する薄基材紙は、パルプとしてLUKP、LBKP(広葉樹クラフトパルプ)を10〜30重量%、NUKP、NBKP(針葉樹クラフトパルプ)を70〜90重量%を含有し、特に、LUKP、LBKPとしては、FSC認証されたチップから生産されたパルプを含有するのが好適である。
薄基材紙の製造は、NBKP、LUKP及びLBKP、NUKPを含む抄造原料を、既知のクレープ紙、薄葉紙の製造に基づいて抄造することができる。
NBKP、LBKP以外の構成繊維としては、ケナフパルプ、マニラ麻等の非木材パルプ、ポリエステル繊維、レーヨン繊維、アクリル繊維等の合成繊維が例示できる。
各薄基材紙の坪量(JIS P 8124:1998)は、15〜25g/m2であり、好適には18〜23g/m2である。
15g/m2以下の場合には、十分な吸液量を発言させることが困難となり、また、25g/m2以上の場合には、剛性が高まり、薄基材紙を4枚積層された基材紙10から構成される産業用ワイプ1を4つ折りにする際に大きな抵抗となるおそれがあり、特に、微細部品、部品の溝部分の拭き取りが困難になるおそれがある。
The thin base paper forming the
The production of the thin base paper can be carried out based on the production of known crepe paper and thin paper from a paper making raw material containing NBKP, LUKP, LBKP, and NUKP.
Examples of constituent fibers other than NBKP and LBKP include non-wood pulp such as kenaf pulp and manila hemp, and synthetic fibers such as polyester fiber, rayon fiber and acrylic fiber.
The basis weight (JIS P 8124: 1998) of each thin base paper is 15 to 25 g / m 2 , and preferably 18 to 23 g / m 2 .
When the amount is 15 g / m 2 or less, it is difficult to speak a sufficient liquid absorption amount. When the amount is 25 g / m 2 or more, the rigidity is increased, and the base paper in which four thin base papers are laminated. When the industrial wipe 1 composed of 10 is folded in four, there is a risk of large resistance, and in particular, it may be difficult to wipe the fine parts and the groove portions of the parts.
<六角形エンボス>
基材紙10は、4枚の薄基材紙を六角形エンボス2により加圧し積層する。基材紙10に形成された六角形エンボス2は、長手方向長さ(EL)が4.5mm、幅方向長さ(EW)が3mm、深さ(ED)が1.1mm、テーパー角度(Eθ)が60度に形成されている。
また、六角形エンボス2を形成した場合、産業用ワイプ1の厚さとなる基材紙10の厚さ(T)は1195μmであり、密度は、66g/cm3である。
なお、本明細書においては、深さ(ED)とは、基材紙10の表面から六角形エンボス2の凹部3の底面までの距離をいい、テーパー角度(Eθ)とは、六角形エンボス2の凹部3の延長線と基材紙10の表面との交差する角度をいい、厚さ(T)とは、基材紙10の一方の表面から他方の表面までの距離をいう。(図2参照)
さらに、基材紙10の厚さ(T)は、尾崎製作所製のピーコックにより測定し、密度は、吸水量、引張強度の観点から30〜80g/cm3が好適である。
<Hexagonal embossing>
The
Further, when the
In this specification, the depth (ED) refers to the distance from the surface of the
Furthermore, the thickness (T) of the
六角形エンボス2の長手方向長さ(EL)については、特に制限はないが、3〜9mmが好適であり、幅方向長さ(EW)に対し、125〜200%にするのがより好適である。なお、長手方向長さ(EL)が3mm以下の場合、粘度の高いグリス等の拭き取り性が十分に確保できなくなるおそれがあり、9mm以上の場合、基材紙10が拭き取り時に破断するおそれがある。
Although there is no restriction | limiting in particular about the longitudinal direction length (EL) of the
六角形エンボス2の幅方向長さ(EW)については、特に制限はないが、2〜5mmが好適である。なお、幅方向長さ(EW)が2mm以下の場合、粘度の高いグリス等の拭き取り性が十分に確保できなくなるおそれがあり、5mm以上の場合、基材紙10が拭き取り時に破断するおそれがある。
Although there is no restriction | limiting in particular about the width direction length (EW) of the
六角形エンボス2の深さ(ED)については、特に制限はないが、0.8〜1.7mmが好適である。なお、深さ(ED)が0.8mm以下の場合、粘度の高いグリス等の拭き取り性が十分に確保できなくなるおそれがあり、1.7mm以上の場合、基材紙10が拭き取り時に破断するおそれがある。
Although there is no restriction | limiting in particular about the depth (ED) of the
六角形エンボス2のテーパー角度(Eθ)については、特に制限はないが、40〜65度が好適である。なお、テーパー角度(Eθ)が40度以下の場合、六角形エンボス2の凹部3の周縁が鈍り粘度の高いグリス等の拭き取り性が十分に確保できなくなるおそれがあり、65度以上の場合、基材紙10が拭き取り時に破断するおそれがある。
The taper angle (Eθ) of the
基材紙10の厚さ(T)については、特に制限されないが、1000〜1700μmが好適であり、1050〜1700μmがより好適であり、六角形エンボス2を形成する際の加圧により任意に設定することができる。
なお、厚さ(T)が1000μm以下の場合、吸収量が約10%少なくなり、1700μm以上の場合、剛性が高まり、産業用ワイプ1を4つ折りにする際に大きな抵抗となるおそれがあり、特に、微細部品、部品の溝部分の拭き取りが困難になるおそれがある。
The thickness (T) of the
In addition, when the thickness (T) is 1000 μm or less, the absorption amount is reduced by about 10%, and when it is 1700 μm or more, the rigidity is increased, and there is a fear that a large resistance may be caused when the industrial wipe 1 is folded in four. In particular, it may be difficult to wipe the fine parts and the groove portions of the parts.
各六角形エンボス2は、六角形エンボス2の長辺4が、隣接する六角形エンボス2の長辺4に対し長手方向にズレた位置に形成し、六角形エンボス2の長辺4の両側の角部5が、隣接する対向する六角形エンボス2の長辺4の両側の角部5にそれぞれ対向する位置に形成されている。
また、各六角形エンボス2は、隣接する六角形エンボス2に対して、長手方向ピッチ(PL)が6mm、幅方向ピッチ(PW)が3mmの位置に亀甲パターン状に形成されている。
Each
Each
六角形エンボス2の長手方向ピッチ(PL)については、特に制限はないが、4〜10mmが好適である。また、六角形エンボス2の幅方向ピッチ(PW)についても、特に制限はないが、2〜5mmが好適である。
六角形エンボス2を長手方向ピッチ(PL)が6mm、幅方向ピッチ(PW)が3mmの位置に亀甲パターン状に形成した場合、基材紙10(産業用ワイプ1)の表面積が、六角形エンボス2を形成する前の表面積に対し、144%と増加するため拭き取り性が格段に向上する。
なお、表面積は、簡易的には六角形エンボス2を引張力1000CN/25mmで六角形エンボス2の長辺4に直角方向に伸長した場合に発生する断面伸長率を2乗することによって算出でき、121%であった。
断面伸長率を2乗して算出した場合、六角形エンボスを形成した後の産業用ワイプの表面積が、六角形エンボスを形成する前の産業用ワイプの表面積に対し、拭き取り性の観点から110〜130%が好適である。
六角形エンボス2の凹部3の底部は平面とされ、六角形エンボス2の凹部3により形成された表面積が、基材紙10の表面積に対し、58%であり、六角形エンボス2の凹部3により形成された表面積が、基材紙10の表面積に対し、30〜80%が特に粘度が高いグリスの拭き取り性の観点から好適である。
Although there is no restriction | limiting in particular about the longitudinal direction pitch (PL) of the
When the
The surface area can be simply calculated by squaring the cross-sectional elongation rate generated when the
When the cross-sectional elongation rate is calculated by squaring, the surface area of the industrial wipe after forming the hexagonal emboss is 110 to 110 from the viewpoint of wiping performance with respect to the surface area of the industrial wipe before forming the hexagonal emboss. 130% is preferred.
The bottom of the recess 3 of the
亀甲パターン状に形成された六角形エンボス2の長辺4の延在方向が、基材紙10(産業用ワイプ1)の横方向に対する交差角度(θ)が45度で形成されている。
交差角度(θ)については、特に制限はないが、産業用ワイプ1を横方向あるいは縦方向にスライドさせながら拭き取りを行う際に、六角形エンボス2の鋭角部分であり長辺4がスライド方向に対し傾斜した場合、拭き取り性が高まることから30〜60度が好適である。
さらに、縦方向とは、抄造時における基材紙10流れ方向に沿う方向でありMD方向と言われ、横方向とは、縦方向と直交する方向でありCD方向と言う場合もある。
The extending direction of the
The crossing angle (θ) is not particularly limited, but when wiping while wiping the industrial wipe 1 in the horizontal direction or the vertical direction, it is an acute angle portion of the
Furthermore, the longitudinal direction is a direction along the flow direction of the
六角形エンボス2の形成方法は、例えば、一対のエンボスロール間に基材紙10を通して形成することができ、特に、六角形エンボス2を嵩高にする観点からスチールマッチエンボスを使用することが好適である。
この場合、エンボス圧が、10〜80kgf/cm2、好ましくは10〜25kgf/cm2となるようにするのが好適である。エンボス圧が10kgf/cm2以下の場合、六角形エンボス2の長辺3を含む周縁部を鋭角にすることができず拭き取り性が下がるおそれがあり、80kgf/cm2以上の場合、六角形エンボス2の形成時に基材紙10が破断するおそれがある。
一対のエンボスロールに関しては、六角形エンボス2が亀甲パターン状が付与された金属ロールと弾性ロールとの組み合せが好適である。この場合、弾性ロールは、その表面のショア硬度(Shore hardness)が、A30〜A90であるのが好適である。ショア硬度がA30以下の場合、つまり弾性ロール表面がやわらかい場合、基材紙10が破断するおそれがあり、A90以上の場合、つまり弾性ロール表面が硬い場合、六角形エンボス2が基材紙10に形成できず、基材紙10を構成する薄基材紙を積層できないおそれがある。
以上のようにして六角形エンボス2が形成された基材紙10は、既知の方法に従って、インターフォルダ等により積層し折り畳んだり、巻き取ったりして製品とする。
前述では六角形エンボスについて説明したが、五角形、七角形エンボスであっても同等の性能を持つエンボスであればよいことは言うまでもない。
The
In this case, it is suitable that the embossing pressure is 10 to 80 kgf / cm 2 , preferably 10 to 25 kgf / cm 2 . If the embossing pressure is 10 kgf / cm 2 or less, the peripheral part including the long side 3 of the
With respect to the pair of embossing rolls, a combination of a metal roll and an elastic roll with a
The
Although the hexagonal embossing has been described above, it goes without saying that even if it is a pentagonal or heptagonal embossing, any embossing having equivalent performance may be used.
『本発明の実施形態』
次ぎに、本発明の実施形態について説明する。本発明の実施形態の産業用ワイプ1は、格子パターン状に形成された直線形エンボス6,7の各格子部8に、六角形エンボス2が亀甲パターン状に形成されたものである。
図3は、本発明の実施形態の産業用ワイパー1のエンボスパターンを示している。六角形エンボス2、基材紙10については、上記参考形態と同様であるので説明は省略する。
[Embodiment of the present invention]
Next, an embodiment of the present invention will be described. In the industrial wipe 1 according to the embodiment of the present invention, hexagonal embosses 2 are formed in a tortoiseshell pattern on each lattice portion 8 of the
FIG. 3 shows an emboss pattern of the industrial wiper 1 according to the embodiment of the present invention. Since the
<直線形エンボス>
格子パターンを形成する直線形エンボス6,7は、幅(LW)が2mm、深さ(LD)が1.1mmであり、直線形エンボス6で囲まれる格子部8の対角線距離で定義されるエンボスピッチ(LP)が19mmであり、格子パターンは、基材紙10の水平方向に対し交差角度が45度である。
格子パターンとすると、粘度の低い水分等を拭き取った際には、直線形エンボス6の凹部内を水分等が拡散、吸収されながら進行するため、粘度の低い水分等の拭き取り性が高まる。
<Linear embossing>
The straight embosses 6 and 7 forming the lattice pattern have a width (LW) of 2 mm and a depth (LD) of 1.1 mm, and are defined by the diagonal distance of the lattice portion 8 surrounded by the
When the lattice pattern is used, when moisture or the like having a low viscosity is wiped off, the moisture or the like progresses while being diffused and absorbed in the recesses of the
直線形エンボス6,7の幅(LW)および深さ(LD)については、特に制限はないが、拭き取り性の観点から1〜3mmが好適である。
また、エンボスピッチ(LP)については、特に制限はないが、拭き取り性の観点から10〜30mmが好適であり、15〜25mmがより好適である。
Although there is no restriction | limiting in particular about the width | variety (LW) and depth (LD) of the
Moreover, there is no restriction | limiting in particular about emboss pitch (LP), However, 10-30 mm is suitable from a viewpoint of wiping off property, and 15-25 mm is more suitable.
直線形エンボス6,7からなる面積が、基材紙10の表面積に対して2〜40%とするのが好適であり、10〜20%がより好適である。直線形エンボス6,7の面積が、2%以下の場合、40%以上の場合には所望する拭き取り性が達成することが困難となる。
また、格子パターンは、基材紙10の水平方向に対し交差角度が45度である。すなわち、格子パターンを形成する一方の直線形エンボス6の延在方向と基材紙10の横方向の横方向に対する交差角度(Lθ1)が45度で形成され、格子パターンを形成する他方の直線形エンボス7の延在方向と基材紙10の横方向に対する交差角度(Lθ2)も同様に45度で形成されている。
交差角度(Lθ1,2)については、特に制限はないが、拭き取り性の観点から30〜60度が好適である。
The area composed of the
The lattice pattern has an intersection angle of 45 degrees with respect to the horizontal direction of the
Although there is no restriction | limiting in particular about intersection angle (L (theta) 1, 2), 30 to 60 degree | times is suitable from a viewpoint of wiping off.
本発明の実施形態の産業用ワイプ1においては、図3に示すように各格子部8に形成される六角形エンボス2は、六角形エンボス2の長辺6の延在方向が基材紙10の縦方向と平行に形成されているが、六角形エンボス2の長辺6の延在方向を基材紙10の横方向に対して30〜60度の交差角度をつけて形成しても良い。
In the industrial wipe 1 according to the embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3, the
直線形エンボス6,7及び六角形エンボス2の形成方法は、例えば、一対のエンボスロール間に基材紙10を通して形成することができ、特に、直線形エンボス6,7及び六角形エンボス2を嵩高にする観点からスチールマッチエンボスを使用することが好適である。
この場合、エンボス圧が、10〜80kgf/cm2、好ましくは10〜25kgf/cm2となるようにするのが好適である。エンボス圧が10kgf/cm2以下の場合、六角形エンボス2の長辺3を含む周縁部を鋭角にすることができず拭き取り性が下がるおそれがあり、80kgf/cm2以上の場合、直線形エンボス6,7及び六角形エンボス2の形成時に基材紙10が破断するおそれがある。
一対のエンボスロールに関しては、直線形エンボス6,7が格子パターン状に、六角形エンボス2が亀甲パターン状が付与された金属ロールと弾性ロールとの組み合せが好適である。この場合、弾性ロールは、その表面のショア硬度(Shore hardness)が、A30〜A90であるのが好適である。ショア硬度がA30以下の場合、つまり弾性ロール表面がやわらかい場合、基材紙10が破断するおそれがあり、A90以上の場合、つまり弾性ロール表面が硬い場合、直線形エンボス6,7及び六角形エンボス2が基材紙10に形成できず、基材紙10を構成する薄基材紙を積層できないおそれがある。
以上のようにして直線形エンボス6,7及び六角形エンボス2が形成された基材紙10は、既知の方法に従って、インターフォルダ等により積層し折り畳んだり、巻き取ったりして製品とする。
The method of forming the
In this case, it is suitable that the embossing pressure is 10 to 80 kgf / cm 2 , preferably 10 to 25 kgf / cm 2 . If the embossing pressure is 10 kgf / cm 2 or less, the peripheral part including the long side 3 of the
Regarding the pair of embossing rolls, a combination of a metal roll and an elastic roll in which the linear embossments 6 and 7 are provided with a lattice pattern and the
The
本発明の六角エンボスに係る効果を確認するため、吸水量、拭き取り性、引張強度について評価を行った。
参考例、比較例とも基材紙を構成する薄基材紙の坪量は坪量19.2g/m2を使用し、エンボスピッチ、エンボス深さ、テーパー角度、プライ数(薄基材紙の枚数)、密度、表面積、厚さは表1に示すとおりである。
<吸水量>
資料(寸法:横315mm×縦405mm)から10cm角に裁断し、表面と裏面を交互に4枚重ねした状態で水に3分間つけて取出し、網状の水平台の上に30秒放置した後の重量を測定し、増加重量を算出した。
なお、吸水量[g/m2]が、3000以上の場合「◎」、2500〜3000の場合「○」、2000〜2500の場合「△」、2000以下の場合「×」とした。
<拭き取り性>
表面平滑な水平台(一般に使われる実験台、天板材質:セグラン、セルロン)上に、グリス(昭和シェル石油製、名称:カートリッジグリス、型式:EP―2)を1.5gへらで均一に延ばし、試料(寸法:横315mm×縦405mm)を4つ折りにし、500gのおもりを載せた状態で水平台上を約5秒間スライド移動させた後、グリスの残存状態を目視評価した。
なお、グリスがよく拭き取れた「◎」、グリスが普通に拭き取れた「○」、グリスが拭き取れず残る「△」とした。
<引張強度>
JIS P 8113に準じて評価した。
なお、引張強度[CN/25mm]が、5000以上の場合「◎」、3500〜5000の場合「○」、2000〜3500の場合「△」、2000以下の場合「×」とした。
以上のことから、本発明に係る産業用ワイプは、吸水量、拭き取り性、引張強度に優れることが確認できた。
In order to confirm the effect relating to the hexagonal embossing of the present invention, water absorption, wiping property, and tensile strength were evaluated.
The basis weight of the thin base paper constituting the base paper in both the reference example and the comparative example uses a basis weight of 19.2 g / m 2 , emboss pitch, emboss depth, taper angle, number of plies (number of thin base paper), density Table 1 shows the surface area and thickness.
<Water absorption>
After cutting to 10 cm square from the material (dimension: 315 mm wide x 405 mm long), taking out by putting it on water for 3 minutes in a state where four sheets of the front and back surfaces are alternately stacked, and leaving it on a net-like horizontal table for 30 seconds The weight was measured and the increased weight was calculated.
In addition, it was set as "(double-circle)" when water absorption [g / m < 2 >] is 3000 or more, "(circle)" when 2500-3000, "(triangle | delta)" when 2000-2500, and "x" when 2000 or less.
<Wipeability>
On a flat surface with a smooth surface (generally used laboratory table, top plate material: Segran, Cellulon), uniformly spread grease (Showa Shell Sekiyu, name: cartridge grease, model: EP-2) with a spatula of 1.5 g. The sample (dimensions: 315 mm wide × 405 mm long) was folded in four and slid on the horizontal table for about 5 seconds with a 500 g weight placed thereon, and then the remaining state of the grease was visually evaluated.
In addition, it was set as "(double-circle)" which grease was able to wipe off well, "(circle)" which grease wiped off normally, and "(triangle | delta)" which grease did not wipe off.
<Tensile strength>
Evaluation was performed according to JIS P8113.
The tensile strength [CN / 25 mm] is “◎” when 5000 or more, “◯” when 3500 to 5000, “Δ” when 2000 to 3500, and “x” when 2000 or less.
From the above, it was confirmed that the industrial wipe according to the present invention was excellent in water absorption, wiping property and tensile strength.
本発明は、産業製品や産業製品用の部品に付着した水分、油分、塵等を拭き取る紙製品に利用可能である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for paper products that wipe off moisture, oil, dust, and the like attached to industrial products and parts for industrial products.
1…産業用ワイプ、2…六角形エンボス、3…凹部、4…長辺、5…角部、6,7…直線形エンボス、8…格子部、20…ピンエンボス、30…ディンプルエンボス
EL…長手方向長さ、EW…幅方向長さ、ED…深さ、Eθ…テーパー角度、T…厚さ
PL…長手方向ピッチ、PW…幅方向ピッチ、θ…交差角度
LW…幅、LD…深さ、LP…エンボスピッチ、Lθ1,2…交差角度
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Industrial wipe, 2 ... Hexagonal embossing, 3 ... Concave part, 4 ... Long side, 5 ... Corner | angular part, 6, 7 ... Linear embossing, 8 ... Lattice part, 20 ... Pin embossing, 30 ... Dimple embossing EL ... Longitudinal length, EW ... Width direction length, ED ... Depth, E.theta .... Taper angle, T ... Thickness PL ... Longitudinal pitch, PW ... Width direction pitch, .theta .... Intersection angle LW ... Width, LD ... Depth , LP ... emboss pitch, Lθ1,2 ... crossing angle
Claims (3)
格子パターンによって囲まれるそれぞれの格子部に、六角形エンボスが、亀甲パターン状に形成され、
産業用ワイプの厚さが、1000〜1700μmであり、
六角形エンボスの長手方向長さが、幅方向長さに対し125〜200%と長く、六角形エンボスの凹部の深さが、0.8〜1.7mmであり、
六角形エンボスの長辺が、隣接する六角形エンボスの長辺に対向せず、六角形エンボスの長辺の角部が、隣接する六角形エンボスの長辺の角部にそれぞれ対向し、
格子パターン状の延在方向と基材紙の横方向との交差角度が、0〜80度である
ことを特徴とする産業用ワイプ。 An industrial wipe in which linear embossing is formed in a lattice pattern on a base paper,
Hexagonal embossing is formed in a tortoiseshell pattern on each lattice part surrounded by the lattice pattern,
The thickness of the industrial wipe is 1000-1700 μm;
The length in the longitudinal direction of the hexagonal emboss is as long as 125 to 200% of the length in the width direction, and the depth of the recess in the hexagonal emboss is 0.8 to 1.7 mm.
The long side of the hexagonal emboss does not face the long side of the adjacent hexagonal emboss, the corner of the long side of the hexagonal embossing faces the corner of the long side of the adjacent hexagonal emboss,
An industrial wipe characterized in that the crossing angle between the extending direction of the lattice pattern and the lateral direction of the base paper is 0 to 80 degrees.
六角形エンボスの凹部のテーパー角度が40〜65度であり、
六角形エンボスを形成した後の産業用ワイプの表面積が、六角形エンボスを形成する前の産業用ワイプの表面積に対し120〜170%である請求項1記載の産業用ワイプ。 The longitudinal pitch of the hexagonal emboss is 4 to 10 mm, the widthwise pitch is 2 to 5 mm,
The taper angle of the recess of the hexagonal emboss is 40 to 65 degrees,
The industrial wipe according to claim 1, wherein the surface area of the industrial wipe after forming the hexagonal emboss is 120 to 170% of the surface area of the industrial wipe before forming the hexagonal emboss.
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