JP5301460B2 - 回転装置 - Google Patents

Description

本発明は、エンジン及び圧縮技法に関する。

エンジン、ターボ、及び、タービンを稼働するために、内燃による空気の加圧及び膨張に基づき構築されるのは、今日の多くのエンジン及び圧縮技法である。膨張前の圧縮はエネルギを要求するので、それらに共通するのは低い熱効率である。多くの可動部分や、現在のエンジン及び圧縮器に組み立てられなければならない他の部分もあり、それらを複雑で高価にし、低い耐久性及び動作停止を伴う。これを回避するために、頻繁な保守が行われなければならない。

ガスタービンは、今日、最もエネルギ経済的であり且つ安全に動作するエンジンの１つである。しかしながら、圧縮プロセスには依然として多くの抵抗及びエネルギ損失があり、エンジンは複雑で高価であり、その上、部分的に装填されるときには、エネルギ経済的でなく、従って、例えば、自動車用エンジンには余り適していない。

本発明は、従来技術の問題点を解決することを目的とする。

付属の図面を参照して本発明を今や詳細に説明する。

本発明の第一実施態様の原理を概略的に示す縦断面図である。 図１に示される実施態様を通じる沈降通路における入口側を示す断面図である。 図１に示される実施態様を通じる上昇通路における出口側を示す断面図である。 既存のエネルギ利用装置への接続の一例を伴う、本発明の他の実施多様の原理を概略的に示す縦断面図である。 図４に示される実施態様を通じる沈降通路における入口側を示す断面図である。 図４に示される実施態様を通じる上昇通路における出口側を示す断面図である。

図１は、本発明の主要部分、即ち、中空シャフト１２１，１２２を備える円筒形ドラム又はディスク状構造１２０を示している。シャフト１２１，１２２は軸受内に懸架され、ディスク１２０を回転するよう配置される駆動手段（図示せず）に接続されている。その構造は、入口通路１０３を含み、入口通路には、流体（例えば、空気）が圧縮及び膨張のために供給される。入口通路はシャフト１２１の中心に配置され、外に分岐して沈降通路１０４になっている。流体は遠心力の故に外向きに沈降通路１０４内に向かって噴射される。沈降通路１０４は、可能であれば翼を備える平坦なディスク状チャンバとして、或いは、ディスクの中心部分から周辺に至るチューブ又は中空スポークとして実現され得る。図面中に示される実施態様では、翼１２３は、通路区画ディスク１０９とＵ通路構造１２０及びシャフト１２１，１２２との間にその構造を一体に結合する支持素子としても作用する。周辺では、加圧流体が噴射剤ノズル１０６及び点火プラグ１１１とそれぞれ接触するようになる。噴射剤ノズル１０６は、シャフト１２１上に配置される薬品チャンバ（図示せず）から、噴射剤通路１０２内に噴射剤を供給する。点火プラグは、シャフト１２１上のスリップリングからの導電体を通じて、並びに、接地された（図示せず）ディスク構造１２０を通じて高電圧を得る。

噴射剤ノズル１０６及び点火プラグ１１１は、前記Ｕ通路内の周辺に配置されるので、噴射剤ノズル１０６からの噴射剤は流体と一体に混合される。混合物は、噴射剤ノズル１０６の後で、点火プラグ１１１からの点火の膨張地点１０５において着火する。点火は着火後に停止する。膨張する流体は、より重い流体によって加圧され、沈降通路１０４から、さらに越えて、上昇通路１０７に至る。上昇通路は、入口通路１０３及び沈降通路１０４と同様に、径方向壁１２３を備えるディスク状チャンバ或いは複数のチューブ又は中空スポークであり得る。上昇通路１０７は、シャフト１２２の中心において出口通路１１２に接続され、さらに、流体出力を最適圧力及び質量に規制するよう構成される規制弁１１０に接続される。規制弁１１０は閉塞され（３１０ａ）或いは開放（３１０ｂ）され得る。

本発明は回転装置であり、そこでは、２つ又はそれよりも多くの径方向に配置されるＵ状通路１２０が、入口通路１０２及び出口通路１０３を備えるシャフト１２１，１２２上に或いはシャフト１２１，１２２の周りに均衡して配置される。高回転の間、流体（例えば、空気）は、その質量の故に、前記Ｕ通路の周辺に向かって外の遠心力によって加圧される。そこでは、入口通路１０３からの流体は、外に分岐して幾つかの沈降通路１０４になり、それは、通路と共に、周辺から上昇通路１０７を備える出口通路１１２に接続される。高回転で、流体は、その質量によって、沈降通路１０４内で周辺に向かって加圧される。次に、（流体が圧縮段階にあるときに）より多くの流体が沈降通路１０４に流入し、それは流体をさらに共に加圧する。それは周辺での通路内の流体の静止的な高圧力である。本発明では、回転が一定であるときには、圧力はプロセス中そこで一定であり得る。開始時には、沈降通路１０４と上昇通路１０７との間に均衡して重い密度があるが、（例えば、前記内燃による）膨張によって、周辺で並びに上昇通路１０７の上に流体通路内の膨張地点からより低い重い密度、次に、より低い重量へ流体に対して影響を及ぼすときには、流体の一部は膨張して出口通路１１２を通じて出る。次に、それは沈降通路１０４及び上昇通路１０７内の流体の間で不均衡であり、沈降通路１０４からのより重い（例えば、より冷たい）流体を周辺で加圧させ、上昇通路１０７まで越えさせ、そこで流体をさらに出口通路１１２まで加圧する。流体を膨張（例えば、内燃）する継続的な影響によって、それが周辺で膨張地点１０５を継続的に通過するとき、それは出口通路１１２に向かう継続的な移動を形成する。出口通路内の圧力規制弁（例えば、調節可能な静翼）３１０が、出力圧力を最適に規制するので、前記Ｕ通路内の流体は、出力通路に向かってそれ自体を移動するだけである。そして、上昇通路１０７内のより高い膨張（より低い重い密度）、圧力規制弁１１０の後の本発明装置からのより高い圧力の故に、並びに、沈降通路１０４に比べて上昇通路１０７内の容積を倍加することによって、理論的な圧力出し(pressure out)は、周辺での圧力の５０％である。５倍の容積膨張によって、出口内の規制弁での圧力は、周辺での通路内の流体のための圧力８０％である等である。上昇通路１０７内の流体の重心はシャフトにより近く、従って、そこでの質量の合計は、入力から（圧縮流体を伴う）周辺へのより大きな圧力差の故に、周辺と出口通路との間により少ない圧力差を備える上昇通路に比べ、重心が周辺により近い沈降通路１０４内の流体よりも低い遠心力を受け、従って、外への圧力のための前記百分率はより高い。

例えば、以下のように、沈降通路１０４内の質量の密度を増大し（容積を減少し）、上昇通路１０７内の質量の密度を減少する（容積を増大する）幾つかの方法がある。

膨張地点１０５への沈降通路１０４に関して。沈降通路内で及び／又は前で、流体は液体又は気相であり、そして、より高い密度のために冷却され得るし、並びに／或いは、流体は入口通路１０３に排出／加圧され得る。

膨張地点１０５からの上昇通路１０７に関して。流体は、例えば、同一相内で或いは１つ又はそれよりも多くの相を越えて加熱上昇され得るし、或いは、触媒及び／又は電気化学、或いは、類似物、或いは、前記例の如何なる組み合わせをも用いて、より低い密度のために分離され得る。

（本発明の利点）
本発明の利点は、流体出力の圧力規制１１０が、装置内で、１０３におけるよりも高い圧力出しを創成することである。周辺に向かって外への質量に対する接線加速力は、実際的には、周辺からの輸送を伴って同じ質量の接線減速力によって、閉塞された通路１０７内のシャフトまで戻される。回転装置が排気されたハウジング（図示せず）内部に配置されるとき、それは最小の回転抵抗、騒音、及び、熱損失である。装置はコンパクトであり、僅かの可動部分を備え、それはより頻度の少ない保守をもたらす。装置において、生成される出力圧力は、エネルギを生成するために使用され得る。

本発明装置からの圧力は、ターボ発電機、ターボローダ、タービン発電機、圧力モータ、推進のためのノズル又はインジェクタ、又は、類似物、又は、加圧流体を蓄積することのようなエネルギ利用装置を介して伝達され得る。

前記の接続されるエネルギ利用装置は、最適な圧力出しのための規制弁１１０の必要性がより少なく、従って、より良好なエネルギ経済を得る方法で、流動速度のために最適に調節され得る。

ターボ発電機、ターボローダ、タービン発電機、圧力モータのような前記エネルギ利用装置は、本発明装置からの流体のために接続された通路を備えて外部に据え付けられ得る。あるいは、本発明装置と同じシャフトの上に配置され得る。例えば、同じシャフトの上の軸方向タービンを使用することは、遠心圧縮気体タービン／ジェットモータのようであり、現発明装置よりもエネルギ経済で劣る。（本発明のための沈降通路１０４内の）接線加速力は、本発明におけるように、流体の（本発明のための上昇通路１０７内の）接線減速力によって戻されないので、例えば、よりエネルギを要求する圧縮である。加えて、遠心圧縮気体タービンは、接線方向により多くの摩擦を有する。これは本発明では殆ど発生せず、その場合には、流体が実際的には軸方向に並びに径方向にのみ摩擦を有し、それは流体が回転装置内の閉塞された通路１０３，１０４，１０７，１１２内でそれ自体によって移動されるときに比較的低く、通路の外側は真空内で回転する。流体は通路内の流動速度よりも比較的より一層高い周辺速度を有し、流体が通路壁のみと接触しているとき、それは外側では真空にあり、それによって、現回転装置は極めて高く一定の回転を有することができ、回転抵抗は言うに及ばず、沈降通路１０４及び上昇通路１０７内の流体で同じ密度にあり、前記流体は通路内で移動しないが、上昇通路１０７内の膨張のときには、それは回転中に直ぐに移動し、本発明のために前述されたように圧力出しを形成する。

図２は、噴射剤ノズル２０６及び点火プラグ２１１の地域における、図１に示されるＵ通路構造２２０を通じた断面図である。流体は中心にある入口通路２０３を通じて本装置内に移動し、周辺に向かって押し出され、ショベル２２３に沿って接線的に加速する。しかしながら、流体が沈降通路２０４内で加圧されるときに径方向速度は一定であることができ、その場合には、それは適切な量の噴射剤を加える噴射剤ノズル２０６と接触する。点火プラグ２１１は、噴射剤ノズル２０６との間に着火を形成し、それは膨張地点２０５内で流体膨張を開始し、次に、それは、それがさらに軸方向に加圧されて上昇通路２０７の周辺に至る前に、先ず回転方向に接線的に移動する。図面は、噴射剤通路２０２や、点火プラグ２１１への高電圧のための絶縁された導体も示している。

図３は、噴射剤ノズル３０６及び点カプラ部３１１の地域における、図１に示されるＵ通路構造３２０を通じた断面図である。流体が適切な量の噴射剤を加える噴射剤ノズル３０６と接触する。次に、点火プラグ３１１は噴射剤ノズル３０６との間に着火を形成し、それは膨張地点３０５内の流体の膨張を開始し、然る後、それは、それが周辺でさらに軸方向に加圧される前に、先ず、回転方向に接線的に移動し、次に、ショベル３２３に沿って上がり、次に、上昇通路３０７内で接線的に減速し、径方向速度は一定であることができ、流体は出口通路３１２内でさらに外に加圧され、閉塞３１０ａと開放３１０ｂとの間で規制され得る規制弁３１０に至る。図面は、噴射剤通路３０２や、点火プラグ３１１への高電圧のための絶縁された導体３０１も示している。

しかしながら、例えば、材料は流体を膨張するために高回転で高温に耐えない故に、構造がより低い温度で動作されなければならないならば、エネルギ供給は減少され得るし、且つ／或いは、熱は、入口内の熱交換通路内に、例えば、水、蒸気、又は、他の適切な冷却媒体を適切な量及び圧力で供給することによって、前記流体通路を入口から出口まで取り囲む熱交換通路を備えるＵ通路構造上で減少され得る。前記熱交換通路は、より良好な熱交換及び構造の強化の両方のために流体通路の外側に並びに熱交換通路の内側に締結される幾つかの長手壁を備え得る。壁は幾つかの適合された小さい孔又はより少ないより大きい孔で穿孔されることができ、それらはより少ない抵抗を得るために孔の中心への方向に鋭い縁部をそれぞれ有する。孔は重量を軽減すること並びに壁の間の冷却媒体の圧力を均等化することの両方のために、等距離にある。同様に、それは流体沈降通路内の対応する長手壁内に配置されることができるので、冷却媒体は、それが圧縮可能であるときには、そのさらなる圧縮のために、流体をそこで冷却し得る。それによって、水であり得る冷却媒体は、先ず、圧縮空気から、然る後、流体の膨張から熱交換によって供給されるエネルギから吸熱する。熱交換は冷却媒体を上方の上昇通路で過熱された乾燥蒸気となるよう変更し、それは水蒸気であることができ、それは熱交換沈降通路内の水よりも本質的に低い密度を有し、対応する出力圧力効果は、流体通路Ｕ通路構造のためのような熱交換Ｕ通路構造内でも達成される。

図４は、本発明の他の実施態様の原理の概略図を示しており、そこでは、４つのパイプが前記Ｕ通路構造４３１を形成し、それは径方向に、入口通路４０５及び出口通路４０９に属するシャフトに向かって、均衡して締結される。流体通路は、入口通路４０５、沈降通路４０６、上昇通路４０７、及び、出口通路４０９であり、それらは熱交換通路、即ち、入口通路４０８、沈降通路４２３、上昇通路４２４、及び、出口通路４１７によって取り囲まれている。

回転圧力生成装置は、入口シャフトの周りの軸受及びガスケット４１４を備え、流動円形軸受ハウス４１６のための可能性を伴って出口シャフト４１６に内側ガスケットのみを備える、軸受固定された排気ハウジング４１３内に封入され且つ適合されている。排気ハウジングは、さらに、回転しないタービンハウス４１５の端部の周りに適合され且つ締め付けられ、真空ポンプ４０１によって、真空がハウジング４１３内部に構築される。回転ユニットは、その規制弁４２１を介して蓄積タンク４１１から供給流体（例えば、空気）を受け取る圧力始動モータ４０３からの助けを受けて回転を開始する。圧力始動モータ４０３への圧力流体の規制によって、その駆動歯車は、本発明中のシャフトと接触するよう押される。回転速度が構築されるとき、弁４２１は閉じ、始動モータの駆動歯車は後退し、シャフト上の駆動歯車との接触が外れ、回転維持モータ４０４が定速回転のために引き継ぐ。

回転の開始時に、水位がその沈降通路４２３及び上昇通路４２４内で周辺から適切な距離にあるように、幾らかの水が熱交換通路４０８内に送り込まれる。同時に、弁４１９は、蓄積タンク４１１から噴射機４２２への加圧流体の供給のために開放し、噴射機は、周囲（空気）から或いは他の流体（図示せず）を供給する通路から入口通路４０５内へ、より多くの流体と共に引くよう適合される。次に、冷却流体は沈降通路４０６に加圧され、そこで、流体からの重い密度が、周辺を通じる遠心力によってさらに加圧され、そこで、その最大に加圧され、流体は噴射剤ノズル４２７とも接触し、そこで、適合量の噴射剤が、噴射剤を着火する点火プラグ４２８にさらに伝えられるべき流体と共に混合するので（噴射剤のための供給通路及び点火プラグへの高電圧のために絶縁された導体のための供給通路は図示されていないが、図１におけるようであり得る）、それは一定の圧力で周辺に亘ってさらに拡張し、上昇通路４０７を上がり、シャフト内の通路を出て非回転の流体スリップチャンバ４０９に至り、タービン４１０への通路と接続される。スリップチャンバ４０９から、拡張流体は、２つの方向に進み得る。それらの１つは、タービンへの方向であり、それは内部が図３中の３１０に類似した規制された静止翼、又は、開始時には、流体がスリップチャンバ４０９から熱交換器及び凝縮器４２０への循環通路のために他の方向に伝えられるよう閉塞される類似物を有することができ、そこでは、流体内の水分は出るので４２６、乾燥した冷たい流体が規制弁４１９を介してさらに加圧され、規制弁４１９は、蓄積タンク４２１からの蓄積流体の通路のために適合される。循環流体は適合量で噴射機４２２にさらに加圧され、それはより多くの新しい流体を入口内に引く。このようにして、圧力は装置内で蓄積し、適合された圧力弁４１９によって、蓄積タンクが装填されるとき、蓄積タンクは閉塞され、新しい部分的に循環される流体を噴射機４２２に直接的に伝えさせる。同時に、タービン４１０にある規制された静止翼は開放され、そこで、加圧流体の一部はさらにエネルギ利用されることができ、流体の残りは、タービン４１０又は類似の前述のエネルギ利用装置への流体内の圧力を維持するよう適切な量で噴射機４２２へ循環して戻る。

同時に、熱交換通路沈降通路４２３内の水は、流体が圧縮可能な相にあるときに、その沈降通路４０６内の加圧流体から加熱され、次に、流体は、熱的に圧縮されるようにもなり、次に、遠心力でさらに圧縮され、水は、その熱交換通路４２４内の周辺で、流体が燃焼中に拡張する上昇通路４０７への壁を冷却し、次に、冷たい媒体／水は蒸気に変わり、シャフトの近くで、スリップチャンバ４１７へのシャフト内の通路を出て、さらに、蒸気タービン４１８の後まで、蒸気は乾燥しており、それが低圧凝縮器４１２内で凝縮する前に、凝縮器はより多くの水４２５を供給されることができ、且つ／或いは、水は熱交換通路スリップチャンバ４０８及び新しい冷却循環に戻るよう送り込まれる（図示せず）。

Ｕ通路構造内の流体からの冷却媒体／水の加熱は、適切な規制で外に出る。水位が周辺に出るよう、拡張された蒸気は水位を熱交換上昇通路４２４で周辺に向かって押すが、水位が熱交換上昇通路４２４内でより高いことが好ましい。時々、それは入口通路４０８へのポンプ圧力を増大することによって、或いは、回転速度を増大することによって、或いは、前者からの水位がそこで低いときには熱交換沈降通路４２３内の水位を増大するようより多くの水を供給することによって遂行され得る。そして、それは、沈降通路がより充填されるときに気体を出すよう適合される装置内の入口（図示せず）にある弁であり、これは、媒体が液相にあるときには、全ての入口通路のためである。回転装置内の全ての通路への入口で、装置内の各通路のための出口での適合圧力及び周辺の圧力が入口での圧力の２倍よりも多くである状態で、それは殆ど真空であり得る。

スリップチャンバ４０９と熱交換器４２０との間に、及び／又は、蒸気スリップチャンバ４１７と蒸気タービン４１８との間に、ターボチャージャ（図示せず）を据え付けることも可能であり、そこでは、新しいターボチャージャ内の加圧流体／蒸気は、熱交換器及び凝縮器４２０を介して伝えられ得る新しい流体を圧縮し、そこでは、流体内の水分は、乾燥した冷たい新しい流体が独自のスリップチャンバ（図示せず）又は類似物を通じて入口通路４０５又は噴射機ノズル４２２のいずれかに方向付けられるようさらに加圧される前に、分離される４２６。同様に、それは軸方向タービン４１０又は蒸気タービン４１８のいずれかの上で流体タービン充電器／圧縮器に接続されることができるし、或いは、それはシャフト入口４０５に並びにシャフト入口から接続されることができ、その場合には、最後に述べたものはガスタービンのようであり、そこでは、本発明装置は、軸方向圧縮器と拡張タービンとの間にある。その場合には、燃焼室及び膨張室は、上昇通路４０７と類似する。

エネルギ利用タービン４１０，４１８は、別個の供給通路を備えて、本発明装置内の同じ出口シャフト上に据え付けられることができ、及び／又は、それはシャフト上の高圧蒸気タービンであることができ、その後の蒸気は、後加熱のために上昇通路（図示せず）によって戻され通路内に導かれ得る。それは独自のＵ通路構造内にあることができ、それは、蒸気が図４上の４１８のようであり得る低圧タービンに、さらに、凝縮器４１２に導き出される４１７前に、再び圧力及び温度の双方を増大する。

上昇通路４０７内の流体と熱交換通路４２４内の蒸気との間で等しい圧力に調節することによって、周辺とシャフトとの間の適合地点から、上昇通路４０７と熱交換通路４２４を共に１つの共通の上昇通路（図示せず）に結合することが可能である。次に、混合された蒸気及び流体は、共通の出口通路（図示せず）内に導かれ、推進のためにシャフト上に並びに／或いはノズルに直接に締結される４１８と類似する共通のタービンに至る。或いは、水凝縮器はタービンの後に出て、それが循環して本発明に戻る前に洗浄する。前記上昇通路が１つの共通通路に一体に結合される場合には、上昇通路からの物質は、先ず、共通円形通路、丸いシャフトに導かれ、そこで、異なる物質を備える上昇通路は、円形通路の周辺で接続され、その外への共通通路は、円形通路の内側でシャフト及び外に向かって接続される。

適切な量で上昇冷却通路４２４内の水／蒸気と共に炭化水素、例えば、１ｋｇの炭化水素当たり２ｋｇ又はそれよりも多くの水／蒸気を供給することによって、熱交換上昇通路４２４内で上にある水及び炭化水素は、間接的に、並びに、その間の通路壁が熱ビームの通過を許容する材料であるときには、追加的に、熱ビームによって直接的に加熱される。次に、水／炭化水素は、上昇通路４０７内の流体の熱から炭化水素−水−蒸気に転換し、熱交換通路４２４内で、炭化水素−水−蒸気の殆どは、適切な加熱によって水素及びＣＯに分離し、物質からより多くの水素を引き出してＣＯをＣＯ２に転換するために、それは熱交換通路４２４内で、都合の良い地点からクロム−鉄−酸化物触媒及び／又はニッケル触媒（図示せず）に締結され、シャフト内のその出口通路内で、スリップチャンバ４１７の内側、タービン４１８への通路、及び、第一静止翼、そこの回転翼で、前記触媒でもあり得るし、或いは、ニッケル／クロム−鉄−酸化物、又は、これを備える合金によって被覆され得る。さらに、蒸気タービン内では、都合の良い地点から、静止翼及び回転翼は、亜鉛であり或いは亜鉛で被覆され得るし、都合の良い地点から、タービンの内側の残部及び外は、銅であり得るし或いは銅で被覆され得るし、タービンハウジングの内側で、それは同じ平面で前記触媒に配置され得る。このようにして、それは都合の良い温度及び圧力を備えることができ、蒸気改良システムを形成し、それは、それが前記通路及びタービン（複数タービン）を通じて押し出されるとき、触媒作用によって炭化水素−水−蒸気から水素を出すことができ、気体が凝縮して出て、凝縮器４１２内で分離する。炭化水素−水−蒸気は、出口４１７の後で、前記の順序で幾つかの都合の良い触媒チャンバ（図示せず）を通過し、それらは内側が最も可能な表面地域を用いて前記触媒で充填され、触媒チャンバの間では、それは最適な触媒のために断熱的温度及び圧力に隣接するタービンに結合される。前記触媒チャンバを使用するならば、通路４２４，４１７及びタービン４１８内での前記触媒の必要は少ない。水素生成プロセスにおいて必要よりも多くの水を供給することで、前記水は、蒸気プロセス及び蒸気タービンの後で、凝縮４１２して水に戻され、或いは、水は、高圧タービンと低圧タービンとの間の水／蒸気のための凝縮チャンバ内で凝縮して出ることができる。そして、もしＣＯ２が臨界温度及び圧力内で影響を与えられるならば、ＣＯ２も、水凝縮器及び可能であればタービン内／の後で、同様に分離して出され得る。結果的に、清浄な水素がタービンを介して導き出され、その場合には、それは前方縁部で水素を冷却し、或いは、水素は、蓄積（図示せず）に直接的に至る。生成される水素の一部は、前記流体が拡張するための噴射剤であり得るし、それはより清浄な燃焼をもたらし、それは水／蒸気も生成する。或いは、前記蒸気改良システムは、１つ又はそれよりも多くのの前記洗浄モータ／圧縮器ユニット（図示せず）に接続される。

上記から、共通の上昇通路（図示せず）が流体／蒸気のために言われる場合には、これは前記蒸気改良のためにも行われ得るが、その場合には、入口４０５内の流体は、清浄な酸素でなければならず、或いは、熱交換通路４２４内の水−水素の前記混合のための噴射剤の燃焼に比例して適合された量、密度、及び、圧力で他の気体と混合されなければならない。

図５は、噴射剤ノズル５２７及び点火プラグ５２８の地域における、図４に示されるＵ通路構造５３１を通じた断面図を示している。流体は、中央の入口通路５０５を通じて装置内に移動し、周辺に向かって外に押し出され、接線方向に加速するが、流体が沈降通路５０６内で加圧されるときに、パイプ内の径方向速度は一定であることができ、沈降通路で、流体は噴射剤が適切な量で添加された噴射剤ノズル５２７と接触し、点火プラグ５２８は、噴射剤ノズル５２７の間に着火を形成し、それは流体の膨張を開始する。次に、それは、それが周辺で軸方向にさらに加圧されて上昇通路に至る前に、先ず回転方向に接線的に移動する。図面は、噴射剤通路と高電圧のための絶縁導体とを示していないが、それは図２におけるようであり得る。しかしながら、それらは各Ｕ通路構造５３１内に導き出されるに過ぎない。水のための熱交換入口通路５０８は、流体沈降通路５０６を取り囲む熱交換沈降通路５２３にさらに至る。

図６は、噴射剤ノズル６２７及び点火プラグ６２８の地域における、図４に示されるＵ通路構造６３１を通じた断面図である。流体は、噴射剤が適切な量で添加された噴射剤ノズル６２７と接触し、点火プラグ６２８は、噴射剤ノズル６２７の間に着火を形成し、それは流体の膨張を開始し、それは、それが周辺で軸方向にさらに加圧され、次に、上昇通路６０７内に上がり、次に、接線的に後退し、径方向速度が沈降通路のように一定であり得る前に、先ず回転方向に接線的に移動する。流体は、出口通路６０９内でさらに外に加圧されて規制弁（図示せず）に至り、それは図４からの３１０のようであり、それは閉塞３１０ａと開放３１０ｂとの間で規制され得る。

図４に示される本発明の実施態様は、Ｕ通路構造２通路（熱交換通路及び流体通路）を有するが、Ｕ通路構造は、様々な物質を出入れ供給するためのより多くの通路を備え得る。

図面中のＵ通路構造は、軸方向に示されているが、それらは角度の図面中に示されるような０°から開始して１８０°にまで至る如何なる種類の方向にも配置されることができ、最後に述べられた角度内で、入口から出口までの流体は、Ｕ通路構造を介してループ状に通過する。Ｕ通路構造は、周辺にある流体が回転方向に通路内に移動するよう、地域９０°内にも配置されることができ、それらがこの１８０°に配置されるとき、周辺にある流体は、回転方向の逆に移動する。

ディスク状構造を備える図１、２、及び、３からのＵ通路構造は、周辺（図示せず）で組み合わせられることができ、そこで、Ｕ通路構造は、図４、５、及び、６との組み合わせでパイプによって径方向に延長される。そこで、それぞれの通路は、より高い回転及び容量のために一体に接続される。同様に、Ｕ通路構造は、図４、５、及び、６に示されるようであることができ、或いは、より多くの円錐形状パイプを備える周辺で接続されるディスク構造１２０へのＵ通路であることができ、それは互いに外側円錐パイプ内に配置され、それは周辺で外の先端上の端部に締め付けられる。パイプと最内側パイプ内の通路との間の間隔の内側は、ディスク構造で周辺によってそれらのそれぞれの入通路／出通路に接続され、２つの円錐パイプは最外側を含み、そこで、前述の最外側は、周辺で閉塞され、最内側パイプは、周辺で開放される。次に、最内側パイプ通路は、沈降通路１０４又は上昇通路１０７のいずれかであることができ、その場合には、パイプの間の間隔は、最内側パイプであるものの逆でなければならない。そして、最内側パイプは、最内側パイプが上昇通路１０７であるときには、周辺で最外側パイプの内側側壁に配置され／取り付けられなければならない。何故ならば、流体が膨張後に周辺から上昇するとき、それはその周辺速度を維持するよう試みるので、それを備える流体は、回転方向に接線的に移動することを試みるからである。最内側パイプが沈降通路１０４であるときには、それは回転方向側に向かって、従って、前述された上昇通路のためとは逆に、最外側パイプの内側側壁上に配置され／取り付けられなければならない。周辺にある最内側パイプの端部にある開口は、半月構造として形成されてもよく、その場合には、外側凸部が凹部内側で最外側パイプに配置され／取り付けられる。最内側パイプの代わりに、それは同じ長さで隔壁内に置かれてもよく、それは軸方向にパイプの内側に向かって取り付けられ且つ締め付けられ、そこでは、沈降通路１０４は、回転方向で前記板／壁の裏側にあり、上昇通路１０７は、前記板／壁の反対側上にあり、通路はそれらの通路へのディスク構造に接続される。そのようにして、それはディスク構造で周辺に沿ってよりＵ通路構造に形成されることができるので、円錐パイプは、或いは、中央に板を備えて、約９０°においてシャフトの間にＵ通路角度を形成する。前記円錐パイプ及び板は、その構造中に、熱交換通路を含むことができ、それはＵ通路を形成するよう周辺で接続され、それは冷却媒体の出入れ供給のために周辺でディスク構造沈降／上昇熱交換通路でさらに接続される。噴射剤ノズル１０６及び点火プラグ１１１は、図１におけるように円錐パイプの周辺で接続され得る。

遠心力と接線力との間の結果として得られる力を利用するために、Ｕ通路が完全に或いは部分的に径方向長さ内にあり、回転方向の後ろ向きに曲げられならば都合が良く、それは周辺で圧力を増大する。それは同時に上昇通路の上の流体／媒体を軽くもする。何故ならば、接線遅延速度及び遠心力から結果として得られる力は、流体／媒体はその上昇通路内で上向きに加圧されるので、通路に長手方向によりも上昇通路壁に向かって作用するからである。

膨張地点１０５で並びに沈降通路の周辺において、それは燃焼室（図示せず）内に配置されることができ、燃焼室は、その周辺に、少なくとも１つの噴射剤ノズル１０６と少なくとも１つの点火プラグ１１１とを含む。本発明がディスク構造１２０のようであるとき、燃焼室は、上昇通路１０７の周辺への通路によって流体のための全てのＵ通路を通じてシャフトから同じ半径で、現在の円形燃焼室通路上の同じ軸方向距離で、円周に沿って位置し／取り付けられることができる。それは接線方向断面でＵ又はＶプロファイルのように見え、その場合には、先端は径方向に外向きに、上昇通路１０７の周辺の直ぐ上に位置する。燃焼室通路は、外側でショベル１２３に締め付けられ、それらの内に通過通路を備え、加えて、それは燃焼室通路の頂部から（シャフトに向かって）であり、それは、同様に軸方向に平行なショベル１２３と類似して、幾つかの径方向板の外側に取り付けられる。上昇通路１０７上の内壁と燃焼室通路上の外壁との間で、それは流体の一部のための通路であり、それは間接的に熱交換し、燃焼室通路及び地域内の他の構造上の温度を減少する。流体の残りは、燃焼室通路を冷却するために、燃焼室通路壁内に比例的に分配される多くの適合孔を通じて燃焼室通路に至り、最適な量の流体（例えば、空気）の供給のために、噴射剤は流体と共に膨張し、それが径方向上流であるとき、それは、燃焼流体が然る後に流体の残りと混合する前に、燃焼室通路内を接線方向に移動し（周辺速度を維持するよう試みる）、上昇通路１０７で上に上向きに加圧されて外にでる。燃焼室通路の前の圧力は、それが完全に或いは部分的に浮揚均衡にあるよう適合されることができるので、それは流体の流動上で浮き、特に燃焼室通路内の高温で、より少ない変形の可能性をもたらす。その場合には、流動はその最大にある。

点火プラグ１１１はＵ通路構造の周辺にあることがこれまでに説明されたが、少なくとも１つ又はそれよりも多くが、点火プラグ１１１が図面に示されている場所と出口１１２との間の都合の良い場所に配置され得る。点火プラグが前記地域内に配置され、本発明装置が回転のために作動するとき、同時に噴射剤が周辺にある噴射剤ノズル１０６から流体に供給され、流体は同時に入口１０３内に加圧される。次に、噴射剤と混合された流体は出口１１２に移動し、そこで、混合物は前記地域内の点火プラグ１０６によって着火され、然る後、規制弁１１０が、ノズル１０６と出口１１０との間の流体混合物が噴射剤に火炎速度よりも速く移動しないよう、流体の流出を規制する。このようにして、火炎は周辺で膨張地点１０５に或いは前記燃焼室通路に下がり得るが、その場合には、もし流出が増大するならば、火炎は維持される。

もし、流体が気体であるとき、圧縮温度が噴射剤のための火炎地点よりも高いならば、噴射剤は自発燃焼によっても燃焼され得る。自発燃焼のための圧縮温度が通常運転で取得可能でないならば、膨張地点１０５及び以後の前記燃焼室通路内の火炎維持に必要な自発燃焼を達成するために、噴射剤は入口での流体の調節された衝撃圧力によって着火されることができ、そこでは、火炎は維持される。その場合には、点火プラグを備える必要はより少なく、それは省略され得る。出口にある規制弁１１０は、前記衝撃圧力が動作するときに完全に或いは部分的に閉塞され得る。

噴射剤ノズル１０６は、Ｕ通路構造の周辺に配置されるとこれまで説明されたが、少なくとも１つ又はそれよりも多くは、その代わりに、既に説明された地点１０６と入口１０３との間の都合の良い場所に配置され得る。この地域内へ噴射剤ノズル（複数の噴射剤ノズル）を配置することによって、噴射剤と混合された流体のための流動速度は、通過する膨張地点１０５又は前記燃焼室で火炎速度よりも常に高くなければならない。圧縮熱からの前記自発着火で、これを達成する圧縮熱は、可能な限り周辺に近くなければならず、着火地域内の流動は、上昇通路１０７に及ぶ膨張をもたらすために、火炎速度よりも高くなければならず、その場合には、流動速度はより低くあることができ、且つ／或いは、流体混合物は、例えば、前記燃焼室で乱流に影響を及ぼす。或いは、圧縮熱が通常運転で自発着火温度よりも低いとき、燃焼は、衝撃圧力のために前述のように、前記燃焼室内で終了する。

少なくとも２つの沈降通路１０４及び均衡して、それは内部が適合量の噴射剤と混合された流体でもあることができ、それは底部（周辺）への通路を直接的に通じて燃焼室に至り、そこで、供給通路は、流体混合物が他の流体とのより良好な混合のために燃焼室通路内で装置の回転中に接線方向がもたらされるよう、燃焼室の底部で回転方向に前方に曲げられることができる。

流体、冷却媒体のための全てのＵ通路、又は、他の物質のためのＵ通路は、周辺（図示せず）でノズルと結合された１つ又はそれよりも多くの適合された出口通路を有してもよく、その場合には、スラグ物質、及び、それぞれのＵ通路からの流体、媒体、又は、他の物質の一部は、周辺でノズルを介して外に至り、適合された共通の螺旋状の拡散器に及び、それは回転しない排気されたハウジングに適合され、或いは、各Ｕ通路及びその流体、媒体、他の物質、及び、スラブ物質のための１つの螺旋状の拡散器に及ぶ。周辺にある前記出口で、それは必要時に出口を規制する弁に取り付けられる。流体が気相であり得る沈降通路では、それは入口内で或いは沈降通路内の都合の良い場所にあるノズルを通じてあり、そこでは、それは必要とされ、或いは、適合量で適合された液体−流体（例えば、水）が連続的に供給され、次に、それは気体内の熱圧縮の二重目的であり、燃焼室の外側の周辺で気体通路も洗浄する。前記液体−流体（例えば、水）が部分的に蒸発するとき、液体−流体−スラグ−物質の混合物は、周辺に沿ってノズルに輸送され、螺旋状の拡散器に出る。前記液体−流体は、強度の維持のために本発明装置を冷却もする。

周辺にある前記出口ノズルは、それらが回転方向に押す力をもたらすように配置され得る。そのようにして、それらは完全に或いは関与を伴って回転速度をもたらし得る。前記螺旋状拡散器内で、ノズルからの物質は螺旋状に外向きに噴射され、これは周辺速度と吹出し速度との間の結果として得られる方向及び物質のための方向に依存し、もし螺旋が反対に或いは回転方向に取り付けられなければならないかを決定する。前記螺旋状拡散器は、噴射効果のために適合され、それは排気されるハウジングの内側にアンダープレッシャを形成する。

本発明は、２つのシャフト端部１２１，１２２を用いてこれまで説明された。シャフト端部の内側又は周囲のいずれかに入口通路１０３及び出口通路１１２を備える。しかしながら、入口地域１０３がより大きくあり得るよう、入口シャフト１２１は取り除かれ得る（図示せず）。そして、Ｕ通路構造１２０は、次に、出口シャフト１２２に締結され且つ強化され、出口シャフト１２２の反対端部で、それは入口シャフト１２１を備えない対応するＵ通路構造１２０に取り付けられ得るので、プロセスが各Ｕ通路構造１２０内のようであるとき、それは軸方向力からのより少ない抵抗でもある。次に、Ｕ通路構造のそれぞれからの出口通路１１２からの流体は、互いに向かって、内側に、或いは、出口通路１１２内のシャフト１２２の周りに進み、その後、流体は然る後にＵ通路構造の間に径方向外向きに導かれ、独自の或いは１つの共通の通路又はパイプを介してさらに利用される。軸受懸架は、少なくとも２つの軸受を備えるシャフト上であることができ、それらのそれぞれは各Ｕ通路構造に可能な限り近く配置される。且つ／或いは、両方の入口開口１０３で、それは滑り−円錐−軸受内に配置されることができ、そこで、それは気体圧力型であることができる。各入口にある滑り軸受は、端部で、固定パイプ／通路の端部に取り付けられ、それは回転しない入口通路１０３であり、それは取り付けられる調節可能なユニットで軸方向に調節可能であることができる。これは入口の両方での最適な懸架軸受のためであり、前記螺旋状拡散器入口壁内への回転装置の適切な軸方向配置のためであり、そこで、それは僅かに軸方向に縁取られる。この前記入口通路１０３の端部で、各入口にある通路／パイプは、外側に取り付けられる軸受と同じ円錐形状に形成され、或いは、その形状は、より収束的であり、それが最も狭い内側では、入口通路１０３は回転装置の開始であり、それが沈降通路での開始から前方の滑らかな通路である場合には、それは入口通路１０３内の狭い通路から沈降通路構造１０４の頂部（回転中心付近）にも収束し得る。その場合には、沈降通路１０４前に超音波速度は達成可能であり、それは最大可能な静止状圧力のために好ましく、流体がＵ通路内で通常の流動速度に減速するとき、それは流体のための流入／流出速度及び周辺速度に対して比較的低くあり得る。回転は、出口流体によって動作されることができ、それがシャフト１２２の周りで加圧されるとき、それはシャフトに最も近い上昇通路１０７から内側であることができ、上昇通路１０７から出口通路１１２への通路の通過後、静止的であり、或いは、シャフト又はＵ通路構造出口側壁に取り付けられるタービン状翼のように移動可能である。しかしながら、接線方向減速力で沈降通路１０４内の接線方向加速力の殆どを取り戻すために、出口通路１１２を可能な限りシャフトの中心に近づかせ、出口通路が図１に示されるようであるならば、より好ましい。規制弁１１０内の翼は、ショベル１２３の後にシャフトの中心に向かう流体のさらなる回転を停止することができ、さらに、規制弁１１０は、流体が通過するときに追加的に回転力を完全に或いは部分的に得るために、その翼を適合方向に設定することができる。流体が出口シャフト１１２から、Ｕ通路構造１２０から、シャフトの各端部から径方向にさらに加圧されるとき、径方向出口は、ショベルディスクを備え或いは備えない、ショベルタービンのように見え、それは出口シャフト１２２内又は上に取り付けられ、後ろ向きに曲げられるショベルを回転方向に備え、それらは調節可能であることができ、同時に、圧力規制弁１１０としても作用することができる。ショベルは、完全に或いは部分的に回転力をもたらすよう適合されることができ、然る後、流体は外向きに加圧されて螺旋状拡散器に至り、拡散器は、適合方向を有し、排気ハウジングに締結される。出口シャフトからの前記ショベル／ショベル状が正しい間隙で螺旋状拡散器開口に適合されるとき、螺旋状拡散器とシャフトとの間の締付けはラビリンス締付けを用いて行われることができ、流体が螺旋状拡散器で拡散器−円形−分離−開口を通じてタービンからの高速を有するとき、それはそこで圧力下にあり、シャフトの周りのラビリンス締付けであり、それがシャフトと拡散器との間の適度の締付けであるとき、排気ハウジング内部にアンダープレッシャを作成することもできる。ショベルタービンは、共通或いは各側から各Ｕ通路構造からの１つであることができ、いずれの場合でも、各側からの流体は、出口通路１１２内部に並びにショベルタービン入口の前に流体のための移動方向に向かう円錐状先端を備える隔壁によって互いから離れて保持されなければならない。ショベルタービンは、Ｕ通路構造に対して本質的により小さい半径である。排気ハウジングは、この場合には、入口通路と各側にある前記調節ユニットとの間に締結され且つ固定され、加えて、排気ハウジングは前記螺旋状拡散器に締結され、騒音吸収され、衝撃吸収され、且つ、固定される。

前記懸架される軸受で、それは、シャフトを備えない前記入口にある前記滑り軸受内で、ラビリンス締付けで入口通路の外側に据え付けられ、そこで、それは、最大ラビリンス円から、入口側、アンダープレッシャ側（狭小化の後）に至る通路であり、滑り／冷却媒体は、入口から直接的な或いは独自の通路内のいずれかの現在の流体であることができ、そこでは、流体は適合された量及び圧力で軸受地域の間の内側で加圧され、然る後、それはラビリンス円を通り、そこで、圧力はそれらの後に減少し、然る後、流体は前記通路内に導かれ、入口アンダープレッシャ側に至る。同様のことが装置内の全ての回転接触地域で行われることができ、そこでは、それは適切であり、前記接触／緊密地域で通る実際の流体／冷却媒体を備え得る。

入口通路は、１つのディスク構造（図示せず）の各側にも配置され得る。その場合には、入口はシャフト端部の周りにあり得るし、或いは、シャフト端部を備えない。そして、代わりに、ディスク構造の各側に前記のような円錐軸受を備える。入口通路は接続され、各入口側から各沈降通路に向かって分岐し、周辺から共通の上昇通路構造に集まり、そこでは、上昇通路構造は、周辺からの２つの沈降通路構造の間にあり、ディスク構造の中心に至り、そこで、上昇通路構造は共に各シャフト端部内の各出口通路に分岐し、或いは、出口はシャフト端部の１つの内にあるに過ぎない。シャフト端部の代わりに、それは同じ場所で出口通路／パイプであり、回転しない拡散器の形状を備え、入口通路／パイプと同様の方法でディスク構造と接触しているが、出口開口は、流体が高速で通るときに、それが前記円形に形成された縁部の外側にアンダープレッシャを創成するよう、小さい間隙を備えて取り囲む出口通路／パイプのような小さい円形縁部を有する。そして、もし少しの漏れがあるならば、それは小さい問題である。入口内の流体は、外向きに周辺への沈降通路に、内向きに上昇通路に出入りして漏れをとるので。それが１つの側の１つだけの出口通路であるとき、それは他の側で他の物質の供給のための類似の通路であり得る。供給通路が１つよりも多くであることができ、通路と同じ数でパイプと配置される場合、最内側パイプは、より多くのパイプのために隣のパイプの内側にある等であり、最内側パイプ内で、パイプ間の間隔は、現在の供給通路を形成し、それは回転装置内のそれぞれの通路とさらに結合される。もし出口通路が両方の側から導き出されるならば、前記最内側パイプは、出口通路であることができ、隣のパイプへの外側の間隔は、回転装置の１つの側で冷却装置のための入口通路であることができ、他の側には、類似の場所に、冷却媒体のための出口通路がある。冷却通路パイプは、より多くの噴射剤のような物質及び流体のための入口通路／出口通路のためにより多くのパイプによってさらに取り囲まれ得る。或いは、噴射剤は、入口で流体と混合されるよう構成される。点火プラグによる着火は、出口で前記のように行われることができ、或いは、入口からの前記衝撃圧力を用いて行われることができ、周辺での前記のように圧力着火し、上昇通路構造の両側の沈降通路構造はそれを冷却する。

前記入口にある滑り軸受の代わりに、それは都合の良い方法で超電導磁石（図示せず）に取り付けられ、電気は、それが回転を動かし、同時に軸受に懸架され得るような方法で接続され且つ制御される。超電導の冷却は、もしそれが入口通路内の前記狭小化の前に冷却されるならば、前記流体を用いて或いは前記流体との組み合わせで行われることができ、それは、入口内での狭小化の後、極めて低い温度を有することができ、それは気体の種類に依存し、それはその場合には流体である。或いは、それは追加を備えることができ、或いは、この目的のための冷却ヘリウムで使用されることができ、そして、それは独自の通路内のＵ通路構造を通じて再び冷却されることができ、膨張前に、出口で、ヘリウムは、出口での膨張後に凝縮が達成されるように冷却されなければならない。全てのディスク構造は、超電導磁石によって取り囲まれることができ、前記入口／出口通路／ノズルへの空間を備え、磁石は、懸架軸受、回転、及び、均衡を実行することができ、同時に、それが回転するときに並びにその内側のプロセスから、ディスク構造に作用する径方向力及び軸方向力に反作用することができ、前記磁石は、回転ユニットで周辺に向かう誘導加熱を実行するのに適合されることができ、或いは、これはマグネトロンを用いて実行されることができる。Ｕ通路構造は、周辺で、適合地域内で、非誘導材料で作成されることもでき、その構造、通路の内側の流体及び他の物質が、完全に或いは部分的に誘導可能であるとき、それらは誘導磁石及び／又はマグネトロンから直接的に加熱され得る。

入口１０３にあるショベル１２３は、軸方向に外向きにあることができ、入口内で回転方向に前方に曲げられるよう構成されることができる。出口１１２で、ショベルは軸方向に外向きでもあることができるが、回転方向に後方に曲げられる。それらは、入口の可能な最も近い中心から周辺を介して出口の可能な最も近い中心に至る、Ｕ通路構造を形成する少なくとも２つのショベルであることができる。そして、それはそれらの間にあり、均衡して配置され、周辺から様々な長さを備える対称的なより多くのより短いＵ通路であることができ、そこでは、全てのＵ通路は同じ半径距離を有する。よって、それらは周辺で同じ円内にある。周辺の外で、全てのショベルは、適合された孔、又は、同じ物質／流体を備えるＵ通路の間の通路を有することができるので、通路内の物質／流体は、それぞれの円形通路内でそれらの間で均一であり、その場合には、それは周辺で各物質／流体のために形成され、それは周辺で前記出口ノズル／弁に至ることもできる。

噴射剤のための入口通路１０２、冷却媒体のための入口通路４０８、及び、可能であれば、より多くの他の物質の供給のための通路（図示せず）は、出口シャフト１２２又は入口シャフト１２１を支え且つぴったり適合される径方向スリップチャンバから導かれることができ、出口シャフト１２２又は入口シャフト１２１は、それぞれ通路内でそれらのそれぞれの沈降通路に接続される。各物質のためのスリップチャンバ内で、それはシャフトに締結され且つ前記通路に接続される内側径方向タービンであり、そこでは、ショベルが、開放から閉塞に規制可能であり、回転方向に前方に曲げられ、それを用いて、それがスリップチャンバ内部にアンダープレッシャも形成するような方法でポンプ効果を達成し、それはシャフトでの締結の間により少ない圧力及び漏れももたらす。ショベルはが規制可能であり且つ閉塞位置にあるとき、それは同時に現在のスリップチャンバへの物質の供給のために閉塞する弁でもある。回転装置に供給される供給物質の少なくとも１つは、回転装置上での前記軸受／緊密な適合のための滑り／冷却媒体であるよう組み合わせられることができ、次に、前記滑り／冷却媒体は、軸受前に加圧されるようにも構成され、その後、滑り／冷却媒体は、将来の使用のために回転装置の内側に導かれる。或いは、独自の滑り／冷却媒体が、回転装置上の軸受／緊密な適合へ出入りする独自の通路で、その目的に使用される。

Ｕ通路構造は、あたかも沈降通路及び上昇通路が回転軸上で９０°内にあるようこれまで説明され且つ図面中に示されているが、それらは、沈降／上昇通路構造のために、或いは、通路構造の１つのために、前記のようにより小さい角度内で強化を伴って（より長手に軸方向に強化されて）取り付けられ得る。その場合には、沈降通路構造と上昇通路構造との間の角度は、周辺でより大きい。

回転装置は、異なるシステムを用いて自動均衡もし得る。１つは、２つの円形の丸いパイプ／通路。それらはそれぞれＵ通路構造の内側又は外側に、入口側及び出口側のそれぞれで外側に、回転軸と周辺との間の適合された円内に適合され、そこでは、パイプ／通路は回転軸上で芯出しされる。均衡するパイプ／通路は、適合流体で半分充填され、軌道球と類似する均衡する球で半分充填されることができ、均衡通路の断面よりも少ない寸法を備える。一定の回転で、球は均衡通路内に広がり、徐々に配置され、最適均衡で通路内に停止する。回転時に不均衡、振動、又は、類似物があるとき、均衡球は動き、次に、それは、均衡通路がＵ通路構造の各側に配置されるとき、それが本発明が先ず回転軸の周りの全ての軸で均衡するという条件にあるとき、全ての軸内の前記不均衡、振動、又は、類似物を完全に或いは部分的に停止する。

より多くのＵ通路構造が、同じシャフトの上で或いは通路を用いてだけのいずれかで、連続的な結合で共に接続されることができるので、１つのＵ通路構造からの出口生成物は、隣のＵ通路構造に加圧される等である。それは連続的な結合中の１つ又はそれよりも多くの熱交換器でもあり得る。流体及び冷却媒体の前記戻り循環は、連続的な結合中の１つ又はそれよりも多くの結合の間、或いは、連続的な結合の終了と開始との間で行われ得る。

閉塞通路を備えるＵ通路構造がこれまで説明されたが、それは周辺で開放（図示せず）されてもよく、或いは、Ｕ通路構造１２０の最大の部分は、ディスク状チャンバを形成し、ディスク状チャンバは回転せず、回転し且つ沈降通路構造１０４及び上昇通路構造１０７のそれぞれに分配され締結されるショベル１２３に締結されず、それはシャフト１２１，１２２を備える通路区画ディスク１０９にさらに締結され、且つ、回転翼の上の軸受に懸架され、回転翼は、内側にＵ通路構造を用いて、並びに、シャフト端部１２１，１２２の周りの入口１０３及び出口１１２を用いて、或いは、前記のような他の軸受システムを用いて、優勢する静止的なディスク状チャンバの最外側部分に締結される。それらの優勢な互いに締結され合う入口ショベル歯車１０４及び出口ショベル歯車１０７は、前記のように形成され得る。出口規制弁１１０の同様である。Ｕ通路構造の静止部分上の周辺の外側で、適合量で沈降通路構造１０４から流体の位置の供給のための接線方向供給通路と上昇通路１０７の周辺への燃焼室からの出口通路とを備える少なくとも１つの燃焼室であり得る。そこでは、燃焼出口通路は、周辺に向かって増大された断面積を備えて形成されるよう構成され得るので、流体は上昇通路構造１０７の周辺に加速し、燃焼室に供給される流体の一部は、燃焼室及び沈降通路の周辺への独自の通路内のその出口通路を取り囲む。燃焼室は、噴射剤のための供給通路を備える噴射剤ノズルと、噴射剤の燃焼のための着火機構とを含む。静止的外側ハウジングを備えるこのＵ通路構造は、より多くの摩擦と乱流とを含む。しかしながら、ショベル歯車は、より高い回転速度を有することができ、それは周辺に向かってより高い圧力をもたらすことができ、それは摩擦及び乱流を補償することができる。この形状を用いるならば、燃焼さえも伴わずに摩擦／乱流からの過熱を回避するために、それは連続的で最大の流動のための条件である。加熱は周辺での前記摩擦によって部分的に行われることができ、それは流体が本発明を通じて流れるときに、上昇通路内により多くの膨張を形成する。熱交換通路は、前記のような入口／出口を備える通路区画ディスク１０９の内側にＵ通路構造として構築されることができ、熱交換沈降／上昇通路から、それはショベルの内側にＵ形態を備えるより軸方向の通路であることができる。

本発明は、流体が出口で気体であるとき加熱／冷却ポンプでもあり得る。そこでは、加圧気体は、熱交換器を通じて導かれ、それは気体から熱を取り除き、それは前にタービン又は類似物を通じて膨張するので、気体は周囲よりも一層冷たくあり得る。その場合には、冷たさが利用され得る。同様に、それは、流体が圧縮されるときに、入口の前で、熱交換器を介してそこからの熱も利用され得る。

装置の周辺で、流体／物質は前記燃焼のようなより多くの方法で膨張し得る。膨張は熱及び／又は他の化学物質からの結果である場合には、触媒、電気化学反応、又は、他のエネルギ供給は、製造プロセスの一部である。その場合には、この製造装置は、周辺に配置されることができ、そこでは、前記反応は、回転軸を取り囲むディスク状チャンバの内側で実行され、流体／物質はその周辺でディスク状反応室内に至り、そこからの加圧流体／物質は、最内側から前記反応室の回転軸に向かって出口への通路内に導かれ、加圧流体／物質エネルギは、出口通路からさらに利用される。この現在の回転−生成−ユニットは、追加的に、前記のような解決策を含み得る。

発明的装置は、液体物質のためのポンプでもあり得る。それは、それを備えて、例えば、蒸気−高圧ポンプでもあり得る。そこでは、例えば、水は周辺から上向きに上昇通路を加熱し、次に、熱湯／蒸気は、沈降通路内の冷水よりも低い密度を有し、それらの間に不均衡を作成するので、水／蒸気は利用のために高く加圧されて出される。

前記回転装置は、遠心力差エネルギ（ＣＤＥ）装置と呼ばれ得る。

発明的装置は、高回転で生じる力に抗するのに必要な強度を備える材料で製造されなければならない。構造は、前記力を制限するためにその密度に対して高い強度を有さなければならない。構造は金属で形成され得るし、或いは、セラミック材料、合成材料、ナノ技術材料、又は、それらの組み合わせから形成され得る。遠心力は、回転速度及びＵ通路構造の直径を決定し、それは使用される材料に許容される力に適合される。

図面は本発明の原理のみを例証する概略的な図面として見られるべきであり、本発明の現実の物理的な実現を必ずしも示していない。本発明は、多くの異なる材料及びその構成部材の配置を使用して実現され得る。そのような実現は当業者の能力の範囲内であるべきである。

Claims (17)

1. 膨張によって流体内に圧力を生成するための装置であって、
   当該装置は、シャフトの上に回転可能に配置されるＵ通路構造を含み、該Ｕ通路構造は、加圧流体を膨張地点に供給するための沈降通路と、膨張流体を前記膨張地点から出口通路に伝え、更にエネルギ利用装置に伝えるための上昇通路とを含み、
   前記膨張地点は、前記沈降通路と前記上昇通路との間の接合部において、当該回転する装置の周辺に配置され、
   当該装置は、前記出口通路内に配置される規制弁と、前記シャフトの周りで前記Ｕ通路構造を回転させるための手段とを更に含み、
   前記シャフトは、その内側に第一入口通路を含み、該第一入口通路は、前記Ｕ通路構造の前記シャフトから周辺にある対応する数の膨張地点に進む多数の沈降通路に分岐し、
   前記膨張地点には、多数の上昇通路が接続され、該上昇通路は、前記シャフト内の前記出口通路に集合され、
   前記第一入口通路又は前記エネルギ利用装置の前には、流体から熱を移動する少なくとも１つの熱交換器が設けられ、
   該熱交換器は、入口から出口まで前記第一入口通路、前記沈降通路、前記上昇通路、前記出口通路を取り囲み且つ当該装置を冷却するよう構成される熱交換通路を含み、該熱交換通路は、前記取り囲まれる通路の外側と前記熱交換通路の内側とに接続される、長手に穿孔される壁を含み、前記熱交換通路は、前記熱交換通路を通じる冷却媒体の流れ及び圧力を制御するよう構成されるタービンと接続されることを特徴とする、
   装置。
2. 前記Ｕ通路構造は、前記回転方向において完全に又は部分的に後向きに径方向に曲げられる、請求項１に記載の装置。
3. 当該装置は、前記膨張地点で噴射剤ノズルに噴射剤を供給するよう配置される第二入口通路を含む、請求項１に記載の装置。
4. 当該装置は、前記流体／冷却媒体又は他の物質が当該装置に供給される前に、前記流体／冷却媒体又は他の物質を加圧するよう構成されるポンプ／圧縮器を含む、請求項１に記載の装置。
5. 当該装置は、前記上昇通路内への流体の膨張のために、前記膨張地点にエネルギを供給するための手段を含む、請求項１に記載の装置。
6. 当該装置は、前記噴射剤ノズルからの噴射剤を燃焼するためにＤＣ電圧で動作するよう構成される点火プラグを含み、該点火プラグは、流体の流れ方向において前記ノズルの後に並びに上昇通路の周辺と前記出口通路との間の地域内に配置され、前記点火プラグは、ケーブルを介してＤＣ電圧が供給される、請求項３に記載の装置。
7. 当該装置は、自発燃焼によって前記噴射剤を点火するよう構成される、請求項３に記載の装置。
8. 当該装置は、膨張通路を含み、該膨張通路は、前記上昇通路構造の周辺に沿って円に配置され、且つ、熱交換のために並びに前記構造を結合するためにショベル及び径方向板に締結される、請求項１、６又は７に記載の装置。
9. 当該装置は、前記上昇通路内に１つ又はそれよりも多くの触媒を含む、請求項３に記載の装置。
10. 当該装置は、クロムと、酸化鉄と、ニッケルと、銅と、亜鉛とを少なくとも含む、触媒の連続を含む、請求項９に記載の装置。
11. 当該装置は、前記Ｕ通路構造を密閉する固定された排気チャンバを含み、該排気チャンバは、前記Ｕ通路構造を支持する前記シャフトに向かって軸受及び封止を備えて配置される、請求項１に記載の装置。
12. 当該装置は、熱交換器及び凝縮器を介して前記出口通路から前記入口通路の前に取り付けられる噴射ノズルに進む再循環通路を含む、請求項１に記載の装置。
13. 当該装置は、前記第一入口通路に加圧流体を供給するために、ターボチャージャに接続される再循環通路を含み、前記流体は、前記第一入口通路に供給される前に熱交換器内で冷却される、請求項１２に記載の装置。
14. 当該装置は、連続的に連結される多数のＵ通路構造を含む、請求項１に記載の装置。
15. 当該装置は、前記第一入口通路にショベルを含み、該ショベルは、軸方向において外向きに伸張され且つ回転方向において前向きに曲げられ、更に、前記ショベルは、前記Ｕ通路構造を介して前記出口通路に接続され、前記ショベルは、前記回転に押し力をもたらすよう、軸方向において外向きに伸張され且つ回転方向において後向きに曲げられ、開始時に、回転を開始するために、蓄積される加圧流体が、前記第一入口通路に供給される、請求項１に記載の装置。
16. 当該装置は、前記Ｕ通路構造の周辺に多数の適合される沈降出口通路を含み、該沈降出口通路は、沈降物質を取り除くよう構成され、該沈降物質は、前記Ｕ通路構造の周辺を密閉する螺旋状の拡散器内に捕捉される、請求項１に記載の装置。
17. 前記上昇通路は、前記上昇通路と熱交換上昇通路との間のある地点で前記熱交換上昇通路と接続され、前記上昇通路及び前記熱交換上昇通路内の圧力は、前記上昇通路と前記熱交換上昇通路との間で均衡される、請求項１に記載の装置。
    

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