JP5277060B2 - Vacuum deposition equipment - Google Patents
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- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims description 34
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 85
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 83
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 67
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 55
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 55
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 55
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 55
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 21
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 20
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 6
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 6
- 239000011553 magnetic fluid Substances 0.000 description 6
- 230000036544 posture Effects 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 5
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
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Description
本発明は、有機ELパネル,有機EL照明の製造を始め、真空チャンバ内部で移動機構を持つ蒸着、CVDやスパッタ成膜を対象とし、特に大形基板に対して薄膜形成を行う真空蒸着装置に係る。 The present invention is a vacuum deposition apparatus for forming organic EL panels and organic EL lighting, and for vapor deposition having a moving mechanism inside a vacuum chamber, CVD and sputter film formation, particularly for forming a thin film on a large substrate. Related.
薄板の基板に対する薄膜形成工程で用いられる真空蒸着は、蒸着マスクを真空チャンバ内に設け、搬送されて来た基板を蒸着マスクとアライメントした後に、高真空下において材料を高温で気化させて基板に吹き付けることによって成膜するプロセスである。この成膜では、基板を回転させて成膜する方法や棒状の蒸発源(リニアソース)を基板の長手方向に対して垂直方向に基板又はリニアソースを動かして蒸着する方法などが提案されてきた。大形基板を扱う際に、リニアソースを動かして走査しながら成膜する方式では、特許文献1や特許文献2に示すように、リニアソースの駆動機構を真空チャンバ壁に取り付ける方法が提案されてきた。
Vacuum deposition used in the thin film formation process for thin substrates is performed by providing a deposition mask in a vacuum chamber, aligning the transported substrate with the deposition mask, and then evaporating the material at a high temperature under high vacuum. This is a process of forming a film by spraying. In this film formation, a method of rotating a substrate and a method of depositing a rod-shaped evaporation source (linear source) by moving the substrate or a linear source in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the substrate have been proposed. . In the method of forming a film while moving and scanning a linear source when handling a large substrate, as shown in
特許文献1では図11に示す様に、真空チャンバ1内の底面にボールねじ103やリニアガイド105を取り付け、真空チャンバ外部に設けた駆動源100からの動力によりボールねじを回転させて蒸発源2に取り付けたナット104を動かすことにより、蒸発源の往復運動を実現する例が示された。
In
特許文献2では図13に示すように、真空チャンバ1外側面にプッシュロッド109を水平移動させるためのリニアガイド105と駆動源を設け、真空シール102を介して真空チャンバの内側にプッシュロッドを出し入れできるようにしている。真空チャンバ内のプッシュロッドには、ガイドローラが取り付けられ、真空チャンバ底面に設けたガイドレール105aに沿って、プッシュロッドが往復する。蒸発源2はこのプッシュロッドの先端に取り付ける。これによって、真空チャンバの外部の駆動源100を走査し、真空チャンバ内部の蒸発源の往復運動を実現させていた。
In
真空蒸着のように10-3〜10-6Paオーダの真空度を保ち成膜するプロセス装置では、1辺が1mを越えるガラス基板を扱う場合、真空チャンバ壁のたわみの影響も考慮する必要が生じる。
基板サイズに合わせて単純に真空チャンバを大形化して行くと、真空チャンバ壁の変形も無視できない大きさ(数mm〜10mm程度以上)になることが解った。特許文献1の方式を図11と図12、特許文献2の方式を図13と図14に示す。図11と図12は真空チャンバ内が大気圧の状態、図13と図14は真空チャンバ内を真空排気時の真空チャンバ壁の変形による蒸発源の往復運動の駆動機構の影響を示したものである。
Process equipment that keeps the degree of vacuum on the order of 10 -3 to 10 -6 Pa, such as vacuum evaporation, needs to consider the influence of the deflection of the vacuum chamber wall when handling a glass substrate with a side exceeding 1 m. Arise.
It has been found that when the vacuum chamber is simply increased in size according to the substrate size, the deformation of the vacuum chamber wall becomes a size that cannot be ignored (several millimeters to 10 mm or more). The method of
両者は共にリニアガイドやボールねじなどの蒸発源移動機構を真空チャンバ壁基準に設けている。このようにすると、真空排気時に真空チャンバ壁が変形することにより、蒸発源移動機構の動きに拘束がかかり、いわゆる動きが渋くなる状態が生じる。この状態を放置すると、駆動時の振動の発生やリニアガイドやボールねじに磨耗が生じやすくなる。さらにモータ等の駆動源にも負荷が掛かり、故障しやすくなり、稼働率の低下が懸念されるといった課題があった。 In both cases, an evaporation source moving mechanism such as a linear guide or a ball screw is provided on the basis of the vacuum chamber wall. If it does in this way, when a vacuum chamber wall will deform | transform at the time of evacuation, the movement of an evaporation source moving mechanism will be restrained, and the state in which what is called movement will become awkward will arise. If this state is left unattended, vibration during driving and wear of the linear guide and ball screw are likely to occur. Furthermore, there is a problem that a driving source such as a motor is also loaded, which is liable to break down, and there is a concern that the operating rate is lowered.
一般的に、この状態を避けるために、真空チャンバをたわませないように、真空チャンバ壁の肉厚を増やす、若しくは真空チャンバ壁にリブを設けるなどの断面2次モーメントを向上させる対策が取られてきた。 In general, in order to avoid this state, measures are taken to increase the moment of inertia of the cross section, such as increasing the wall thickness of the vacuum chamber wall or providing ribs on the vacuum chamber wall so as not to bend the vacuum chamber. Has been.
大形の基板を処理する装置の場合、真空チャンバ壁を厚くして行けば真空チャンバのたわみを0.5mm以内に抑えることも可能であるが、製作は可能であっても装置重量が数100トンにもなる可能性があり、パネル生産ラインに装置を搬送することが重量面で困難になる。また、リブを設けてチャンバ壁の剛性を向上させても、リブ間隔を狭く、リブ高さを大きくしなければ、対応できず、大きさの面で搬送に支障が生じる。
なお、図15、図16において上記で説明されていない符号は、本発明の実施形態で説明したものと同一機能ものは同一のものを用いている。
In the case of an apparatus for processing large substrates, it is possible to keep the vacuum chamber deflection within 0.5 mm by increasing the thickness of the vacuum chamber wall, but the weight of the apparatus is several hundred tons even if it can be manufactured. In other words, it is difficult to transport the apparatus to the panel production line in terms of weight. Further, even if the ribs are provided to improve the rigidity of the chamber wall, the rib spacing cannot be reduced and the height of the ribs must be increased.
In FIGS. 15 and 16, the same reference numerals that are not described above are used for the same functions as those described in the embodiment of the present invention.
従って、本発明の目的は、上記に鑑みて、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せずに、蒸発源の安定したスキャン動作が行える駆動機構を備えた信頼性の高いまたは稼働率の高い真空蒸着装置を提供することである。
また、本発明の他の目的は、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せずに、安定した蒸着が可能な真空蒸着装置を提供することである。
Therefore, in view of the above, the object of the present invention is to provide a highly reliable or highly efficient vacuum deposition with a drive mechanism that can perform a stable scanning operation of the evaporation source without depending on the pressure state inside the vacuum chamber. Is to provide a device.
Another object of the present invention is to provide a vacuum deposition apparatus capable of stable deposition without depending on the pressure state inside the vacuum chamber.
さらに、本発明の他の目的は、従来の真空チャンバと比べて、軽量でまたは製作コストあるいは装置輸送コストの低減を図った真空蒸着装置を提供することである。
また、本発明の他の目的は、特に、1辺の長さが1mを超える大形基板に対して、上記3つのうち少なくとも一つを達成できる真空蒸着装置を提供することである。
Furthermore, another object of the present invention is to provide a vacuum vapor deposition apparatus that is lighter in weight or less in manufacturing cost or equipment transportation cost than a conventional vacuum chamber.
Another object of the present invention is to provide a vacuum evaporation apparatus capable of achieving at least one of the above three, particularly for a large substrate having a side length exceeding 1 m.
上記目的を達成するために、蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する真空チャンバを有する真空蒸着装置において、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第1基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第2基準部材、及び一端を前記第1基準部材に固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第2基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記貫通孔と前記第1基準部材あるいは前記第2基準部材の前記固定部との間の支柱を覆い、前記真空チャンバの気密性を確保する第1気密部と、前記かご構造体を前記真空チャンバの所定位置に維持する維持手段と、前記真空チャンバ内部において前記蒸発源を移動させる前記かご構造体に設けられた移動手段と、前記移動手段を駆動する駆動源とを有することを第1の特徴とする。 In order to achieve the above object, in a vacuum deposition apparatus having a vacuum chamber for depositing a deposition material in an evaporation source on a substrate, a rigid first reference member provided inside the vacuum chamber and a rigid body provided outside the vacuum chamber A cage structure comprising a plurality of rigid reference posts, one end of which is fixed to the first reference member, and the other end is fixed to the second reference member through a through hole provided in the wall of the vacuum chamber. A first airtight portion that covers a body, a support between the through hole and the fixed portion of the first reference member or the second reference member, and ensures airtightness of the vacuum chamber; and the cage structure. Maintenance means for maintaining the vacuum chamber in a predetermined position, movement means provided in the cage structure for moving the evaporation source inside the vacuum chamber, and a drive source for driving the movement means This is the first feature.
また、上記目的を達成するために、第1の特徴に加え、前記維持手段は、前記第1又は第2基準部材と前記真空チャンバの壁との間に設けられ、前記第1又は第2基準部材と前記第1又は第2基準部材に対向する前記真空チャンバの壁との相対的な位置関係を保持する拘束手段または滑り対偶あるいは回転対偶のいずれか又はそれらの組合せによって構成させるフローティング機構を有することを第2の特徴とする。 In order to achieve the above object, in addition to the first feature, the maintaining means is provided between the first or second reference member and a wall of the vacuum chamber, and the first or second reference is provided. A floating mechanism configured by a restraining means for maintaining a relative positional relationship between a member and a wall of the vacuum chamber facing the first or second reference member, or a sliding pair, a rotating pair, or a combination thereof; This is the second feature.
さらに、上記目的を達成するために、第2の特徴に加え、前記拘束手段は、前記第1又は第2基準部材と前記真空チャンバの壁との間に設けられ、前記第1又は第2基準部材と前記第1又は第2基準部材に対向する前記真空チャンバの壁との面方向のずれを拘束する面方向拘束手段であることを第3の特徴とする。
また、上記目的を達成するために、第3の特徴に加え、前記面方向拘束は前記第1又は第2基準部材と前記対向する前記真空チャンバの壁の少なくともどちらか一方に凸部を設け、前記対応する凹部にはめ込む又は端部に突き当ててる手段であることを第4の特徴とする。
In order to achieve the above object, in addition to the second feature, the restraining means is provided between the first or second reference member and a wall of the vacuum chamber, and the first or second reference member is provided. A third feature is a surface direction restraining means for restraining a displacement in a surface direction between the member and the wall of the vacuum chamber facing the first or second reference member.
In order to achieve the above object, in addition to the third feature, the surface direction constraint is provided with a protrusion on at least one of the first or second reference member and the wall of the vacuum chamber facing the first or second reference member, A fourth feature is that the means fits into the corresponding recess or abuts against the end.
さらに、上記目的を達成するために、第1の特徴に加え、前記駆動源を前記第2基準部材に固定したことを第5の特徴とする。
また、上記目的を達成するために、第1の特徴に加え、前記蒸発源は、ノズルを有し、内部に前記蒸着材料を収める容器であるるつぼと、前記るつぼを加熱する加熱手段を持ち、るつぼの加熱により前記蒸着材料を気化させて、前記るつぼに設けた前記ノズルから気化した前記蒸着材料を噴出させることを第6の特徴とする。
Furthermore, in order to achieve the above object, in addition to the first feature, a fifth feature is that the drive source is fixed to the second reference member.
In order to achieve the above object, in addition to the first feature, the evaporation source has a nozzle, a crucible which is a container for storing the vapor deposition material therein, and a heating means for heating the crucible, A sixth feature is that the vapor deposition material is vaporized by heating the crucible, and the vapor deposition material vaporized is ejected from the nozzle provided in the crucible.
さらに、上記目的を達成するために、第1の特徴に加え、前記駆動源は真空蒸着チャンバ外部に設けられ、前記移動手段と前記駆動源の間に前記真空蒸着チャンバの気密性を確保する第2気密部を持ち、前記第2気密部を介して前記駆動源の回転動力又は直動動力を前記移動手段に伝達することを第7の特徴とする。
また、上記目的を達成するために、第1または第7の特徴に加え、前記移動手段は、前記蒸発源を前記第1基準部材に平行に移動させる移動機構と、前記移動機構と前記蒸発源とを結合する結合手段と、前記結合手段を駆動する結合駆動手段とを有することを第8の特徴とする。
Furthermore, in order to achieve the above object, in addition to the first feature, the driving source is provided outside the vacuum deposition chamber, and the airtightness of the vacuum deposition chamber is ensured between the moving means and the driving source. A seventh feature is that a second airtight portion is provided, and the rotational power or linear motion power of the drive source is transmitted to the moving means via the second airtight portion.
In order to achieve the above object, in addition to the first or seventh features, the moving means includes a moving mechanism for moving the evaporation source in parallel with the first reference member, the moving mechanism, and the evaporation source. An eighth feature is that it has coupling means for coupling the coupling means and coupling driving means for driving the coupling means.
さらに、上記目的を達成するために、第8の特徴に加え、前記移動機構は前記第1基準部材に設けられたガイドレール及び前記ガイドレールを摺動する摺動子を有し、前記結合手段は前記蒸発源、前記摺動子の少なくとも一方に固定されたナットであり、前記結合駆動手段は前記ナットを移動させる螺子であることを第9の特徴とする。 Furthermore, in order to achieve the above object, in addition to the eighth feature, the moving mechanism includes a guide rail provided on the first reference member and a slider for sliding the guide rail, and the coupling means Is a nut fixed to at least one of the evaporation source and the slider, and the coupling drive means is a screw for moving the nut.
また、上記目的を達成するために、第8の特徴に加え、前記移動機構は前記第1基準部材に設けられたガイドレール及び前記ガイドレールを摺動する摺動子を有し、前記結合手段は前記蒸発源または前記摺動子あるいは前記蒸発源と前記摺動子固定する固定部であり、前記結合駆動手段は一端を前記結合手段に固定され、他端を移動可能な移動部に固定されたプッシュロッドであり、前記第2気密部は少なくとも前記移動部と前記真空蒸着チャンバの壁との間に設け、前記真空チャンバ外に設けられた前記プッシュロッドを駆動するプッシュロッド駆動手段を有すことを第10の特徴とする。 In order to achieve the above object, in addition to the eighth feature, the moving mechanism has a guide rail provided on the first reference member and a slider for sliding the guide rail, and the coupling means Is a fixing portion for fixing the evaporation source or the slider or the evaporation source and the slider, and the coupling driving means is fixed at one end to the coupling means and fixed at the other end to a movable portion. The second airtight part is provided between at least the moving part and the wall of the vacuum deposition chamber, and has a push rod driving means for driving the push rod provided outside the vacuum chamber. This is the tenth feature.
さらに、上記目的を達成するために、第8の特徴に加え、前記移動機構は前記第1基準部材に設けられたガイドレール及び前記ガイドレールを摺動する摺動子を有し、前記結合駆動手段は内部に前記真空蒸着チャンバ外の雰囲気を有する空洞を有した前記蒸発源の移動方向に細長い非磁性体の真空隔壁と、前記真空隔壁内に設けられ、前記結合手段と磁気的に結合し前記結合手段を前記真空隔壁に沿って移動させる磁気結合駆動手段を有することを第11の特徴とする。 In order to achieve the above object, in addition to the eighth feature, the moving mechanism includes a guide rail provided on the first reference member and a slider that slides the guide rail, and the coupling drive The means is provided inside the vacuum partition, which is elongated in the moving direction of the evaporation source and has a cavity having an atmosphere outside the vacuum deposition chamber inside, and is magnetically coupled to the coupling means. An eleventh feature includes magnetic coupling driving means for moving the coupling means along the vacuum partition.
また、上記目的を達成するために、蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する真空チャンバを有する真空蒸着装置において、前記蒸発源を前記基板に沿って移動させる移動機構、前記移動機構と前記蒸発源とを結合する結合手段、前記結合手段を駆動する結合駆動手段を具備する移動手段と、前記移動手段を駆動する前記真空チャンバの外部に設けられた駆動源と、前記移動手段と前記駆動源の間に設けられ、前記真空チャンバの気密性を確保する気密部とを有し、前記移動機構はガイドレール及び前記ガイドレールを摺動する摺動子を有し、前記結合駆動手段は内部に前記真空チャンバ外の雰囲気を有する空洞を有し前記蒸発源の移動方向に細長い非磁性体の真空隔壁と、前記真空隔壁内に設けられ、前記結合手段と磁気的に結合し前記結合手段を前記真空隔壁に沿って移動させる磁気結合駆動手段を有することを第12の特徴とする。 In order to achieve the above object, in a vacuum deposition apparatus having a vacuum chamber for depositing a deposition material in an evaporation source on a substrate, a moving mechanism for moving the evaporation source along the substrate, the moving mechanism, and the evaporation source A coupling means for coupling the coupling means, a moving means having a coupling driving means for driving the coupling means, a driving source provided outside the vacuum chamber for driving the moving means, the moving means and the driving source And an airtight portion that secures airtightness of the vacuum chamber, the moving mechanism includes a guide rail and a slider that slides on the guide rail, and the coupling driving means is disposed inside A vacuum partition made of a nonmagnetic material having a cavity having an atmosphere outside the vacuum chamber and elongated in the moving direction of the evaporation source; and provided in the vacuum partition and magnetically coupled to the coupling means and A and twelfth features by having a magnetic coupling driving means for moving along said vacuum partition wall.
さらに、上記目的を達成するために、第11または12の特徴に加え、前記磁気結合駆動手段は前記真空隔壁方向に細長く、磁気を螺旋状に施した磁気螺子であり、前記結合手段は前記真空隔壁の外側に真空隔壁に非接触で配置した磁気螺子用ナットであり、前記駆動源は前記磁気螺子を駆動することを第13の特徴とする。
また、上記目的を達成するために、第13の特徴に加え、前記真空隔壁は、前記第1基準部材に直接または間接的に固定され、一端が密閉され、他端が前記真空チャンバ外の雰囲気に開放されていることを第14の特徴とする。
Furthermore, in order to achieve the above object, in addition to the eleventh or twelfth feature, the magnetic coupling driving means is a magnetic screw elongated in the direction of the vacuum partition wall and magnetized in a spiral shape, and the coupling means is the vacuum. According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided a magnetic screw nut disposed outside the partition wall in a non-contact manner with the vacuum partition wall, wherein the drive source drives the magnetic screw.
In order to achieve the above object, in addition to the thirteenth feature, the vacuum partition is fixed directly or indirectly to the first reference member, one end is sealed, and the other end is an atmosphere outside the vacuum chamber. The fourteenth feature is that it is open to the outside.
さらに、上記目的を達成するために、第14の特徴に加え、前記真空隔壁の両端が開放されていることを第15の特徴とする。
最後に、上記目的を達成するために、第11または第12の特徴に加え、前記磁気結合駆動手段は前記真空隔壁内に設けたピストンであり、前記結合手段は前記真空隔壁の外側に真空隔壁に非接触で配置したリングであり、前記ピストン、前記リングのうち一方が磁石を持ち、他方が磁石に吸着する材料で形成されており、前記真空隔壁の両端に空圧配管を接続し、前記空圧を制御して前記ピストンを移動させることを特徴とすることを第16の特徴とする。
Furthermore, in order to achieve the above object, in addition to the fourteenth feature, the fifteenth feature is that both ends of the vacuum partition are open.
Finally, in order to achieve the above object, in addition to the eleventh or twelfth features, the magnetic coupling driving means is a piston provided in the vacuum partition, and the coupling means is disposed outside the vacuum partition. A ring arranged in a non-contact manner, wherein one of the piston and the ring has a magnet, and the other is formed of a material that adsorbs to the magnet, and pneumatic piping is connected to both ends of the vacuum partition wall, The sixteenth feature is that the piston is moved by controlling air pressure.
なお、本発明における、剛体とは外力を受けても所望以上に形状が変化しないことを示し、必ずしも、真空チャンバ壁よりも剛性が高いというわけではない。 In the present invention, the rigid body means that the shape does not change more than desired even when an external force is applied, and the rigidity is not necessarily higher than that of the vacuum chamber wall.
本発明のよれば、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せずに、蒸発源の安定したスキャン動作が行える駆動機構を備えた信頼性の高いあるいは稼働率の高い真空蒸着装置を提供することができる。
また、本発明のよれば、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せずに、安定した蒸着が可能な真空蒸着装置を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a highly reliable or highly efficient vacuum vapor deposition apparatus having a drive mechanism capable of performing a stable scan operation of an evaporation source without depending on the pressure state inside the vacuum chamber. .
In addition, according to the present invention, it is possible to provide a vacuum deposition apparatus capable of stable deposition without depending on the pressure state inside the vacuum chamber.
さらに、本発明のよれば、従来の真空チャンバと比べて、軽量でまたは製作コストあるいは装置輸送コストの低減を図った真空蒸着装置を提供することができる。
また、本発明のよれば、特に、1辺の長さが1mを超える大形基板に対して、上記3つのうち少なくとも一つを達成できる真空蒸着装置を提供することができる。
また、本発明によれば、蒸発源移動機構のミスアライメントが生じにくくなるため、蒸発源の移動時に振動よって蒸発源内部の液化した蒸着材料の液面がゆすられることに起因した蒸着材料の気化速度の変動を抑制し、安定した蒸着プロセスを実現できる真空蒸着装置を提供することができる。
Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a vacuum vapor deposition apparatus that is lighter in weight or less in manufacturing cost or apparatus transport cost than a conventional vacuum chamber.
In addition, according to the present invention, it is possible to provide a vacuum deposition apparatus that can achieve at least one of the above three, particularly for a large substrate having a side length exceeding 1 m.
Further, according to the present invention, since the misalignment of the evaporation source moving mechanism is less likely to occur, vaporization of the evaporation material due to the liquid level of the liquefied evaporation material inside the evaporation source being shaken by vibration during the movement of the evaporation source. It is possible to provide a vacuum vapor deposition apparatus capable of suppressing a fluctuation in speed and realizing a stable vapor deposition process.
以下では、有機ELディスプレイパネル又は有機EL照明の真空蒸着プロセスを例に挙げ、大形基板を対象とする真空蒸着装置に本発明を適用した実施形態について図面を用いて説明する。
本発明における第1実施形態を図1〜4を用いて説明する。第1実施形態は、図11及び図13に示した従来方式に対応したもので、従来方式にとの差を含めて第1実施形態を説明をする。
図1と図3に本実施形態の実施例とその基本構成を示す。図1及び図3に示した真空蒸着装置について真空チャンバ1内部を真空ポンプ(図示せず)によって排気した状態を図2及び図4にそれぞれ示す。
Below, the vacuum evaporation process of an organic EL display panel or organic EL illumination will be taken as an example, and an embodiment in which the present invention is applied to a vacuum evaporation apparatus for a large substrate will be described with reference to the drawings.
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The first embodiment corresponds to the conventional method shown in FIGS. 11 and 13, and the first embodiment will be described including the difference from the conventional method.
1 and 3 show an example of this embodiment and its basic configuration. FIG. 2 and FIG. 4 show a state in which the inside of the
(第1実施形態の実施例1)
まず、図1、図を用いて第1の実施例を説明する。なお、図11は従来方式の基本構成を示し、図12は図11に示した従来方式で真空排気をした状態を示す。
真空チャンバ1の内部を真空ポンプにより真空排気すると真空チャンバ壁1hは1kPaの負圧を受ける。真空チャンバ1が大型化すると、図2または図12に示すように真空チャンバ壁のたわみの問題が顕著になる。従来は一般的に真空チャンバ壁の厚みを増したり、リブを取り付けるなどのチャンバ壁の剛性を向上させることによりチャンバ壁のたわみを押さえ、そこに取り付けられてきた機構部品への悪影響を排除しようとしてきた。しかし、これらの対策は、どれも真空チャンバの重量がかさむ方向での対処となるため、真空蒸着装置をユーザのもとへ搬送する際に、搬送可能な重量を超えるケースも生じ始めた。
(Example 1 of the first embodiment)
First, the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 11 shows the basic configuration of the conventional system, and FIG. 12 shows a state in which the conventional system shown in FIG. 11 is evacuated.
When the inside of the
例えば、大形基板に対して成膜する場合、棒状の蒸発源2(リニアソース)をその長手方向に対して直角方向に動かして、成膜する場合がある。この時、図12に示すような従来の方式では、真空チャンバ壁1hが変形すると蒸発源2を紙面左右方向に移動させるリニアガイド105やボール螺子103などで構成される各直動する移動機構の部材も真空チャンバ壁と共に変形する。真空チャンバ外部に設けた駆動源であるモータ100の回転動力を、磁性流体シール102を介して真空チャンバ1内のボール螺子103に伝達し蒸発源2を動かすが、図9のように変形した場合、結合駆動手段であるボール螺子103に対する結合手段であるナット104の動きや移動機構であるリニアガイド105におけるガイドレール105aと摺動子105bの動きが共に拘束され、いわゆる「動きが渋くなる」という現象が生じてしまう。
For example, when forming a film on a large substrate, the film may be formed by moving the rod-shaped evaporation source 2 (linear source) in a direction perpendicular to the longitudinal direction. At this time, in the conventional system as shown in FIG. 12, when the
本実施例では、図1及び図2に示すように、真空チャンバ1内部と外部に跨り「かご構造体」20を設ける。かご構造体は真空チャンバ内外に、剛体の板で第1基準部材である内部ベースプレート8と、剛体の板で第2基準部材である外部ベースプレート16と支柱23とからなる。支柱23は真空チャンバ壁1hに設けた穴を通り、内部ベースプレート8と外部ベースプレート16とを剛体接続する。真空チャンバ1内の気密を保つため、支柱23の外側を囲むようにベローズ21を設け、ベローズ21の端面を真空チャンバ1外壁と外部ベースプレート16と密着させる。同様な機能を持たせるのに、ベローズ21の端面を真空チャンバ1と内部ベースプレート8に密着させても良い。
In this embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, a “car structure” 20 is provided across the inside and the outside of the
真空排気すると、かご構造体20は真空チャンバ内部に引きこまれるように力が働く。この力をフローティング機構(維持手段)9a,9bを介して真空チャンバ壁1hの紙面での下壁1hdに受け持たせる。図1において、このフローティング機構9a,9bは真空チャンバ壁1hdに対して直角方向の力を真空チャンバ壁に伝達するが、それと直交方向の成分の力や回転方向の逃がすように球面の受け9aa、9baと真空チャンバ壁1hdのに直交方向に滑るリニアガイド9bbで構成した。単にフローティングさせるとかご構造体20の位置が定まらないのでフローティング機構9aに示すように、一部にリニアガイドを設けず回転方向の力のみ逃がす構造9aaとした。
When the evacuation is performed, force is applied so that the
図1では紙面左側に、位置決め用のフローティング機構9aを設けたが、外部ベースプレート16の中央部に設けても良い。支柱23が真空チャンバ1の穴と擦れ合い、動きの妨げになら無ければ良い。
また、図1では維持手段として滑り対偶と回転対偶を有するフローティング機構9を設けたが、発塵の問題が無ければ、例えば、位置決めピン等でかご構造体20と真空チャンバ壁1hdの相対的な位置関係を保持する拘束手段でフローティング機構を構成してもよいし、拘束手段と滑り対偶や回転対偶を組合せたフローティング機構を構成してもよい。
In FIG. 1, the
In FIG. 1, the floating
他の拘束手段の例としては、真空チャンバ壁1hdと外部ベースプレート16また内部ベースプレート8の間に設け、外部ベースプレート16また内部ベースプレート8とその外部ベースプレート16また内部ベースプレート8に対向する真空チャンバ壁1hdとの面方向のすれを拘束する面方拘束手段がある。具体的な例としては、外部ベースプレート16また内部ベースプレート8と真空チャンバの壁の少なくともどちらか一方に凸部を設け、前記対応する凹部にはめ込む又は端部に突き当ててる構成としても良い。
Examples of other restraining means include a
フローティング機構9は内外のベースプレート8,16に十分剛性があるのであれば、3個以上、できるだけ間隔を広げて配置すれば特に問題ない。ベースプレート8,16の剛性があまり大きく取れない場合は、支柱23の近傍若しくは延長線上にフローティング機構9を設けることが望ましい。
蒸発源2を駆動するためのリニアガイド105やボール螺子103は、内部ベースプレート8上に設置することによって、真空チャンバの変形に無関係に、その位置関係及び形状を保持できる。また、真空装置では駆動源のモータ100を冷却の都合から真空チャンバ1の外部に設置する。このモータ100を本実施例では外部ベースプレート16に固定することにより、駆動される側とモータの位置関係は保持される。モータ100の動力を真空チャンバ1内に伝達するのに磁性流体シール102を介して真空チャンバ1内部に伝達する。磁性流体シール102が図2に示すように真空チャンバ壁1hの変形で傾く場合モータ100と磁性流体シール102の間及び、磁性流体シール102とボール螺子103の間に、軸間の変位や角度誤差を吸収するカップリング101を設けることで、スムーズな動力の伝達が可能になる。
If the inner and
By installing the
以上に示した構造を採用することにより、図1及び図2において、蒸発源2移動手段により蒸発源2を紙面左右に揺動させ、紙面上部にある蒸着マスク5と基板4に蒸気を吹き付け、基板4の所定の画素に対して、蒸着膜を形成する。
By adopting the structure shown above, in FIG. 1 and FIG. 2, the
(第1実施形態の実施例2)
次に、第1実施形態の第2の実施例を図3、図4を用いて説明する。第2の実施例は、基本的には第1の実施例と同じであるが、フローティング機構9の設置位置が異なる。第1の実施例では、フローティング機構9が真空チャンバ1の外側にある例を示したが、本実施例では、図3のように真空チャンバ1の内側にフローティング機構9を設ける。この場合、真空排気すると、図4に示すような状態になり、図2同様に真空チャンバ1壁は変形するが、かご構造体及びそのベースプレート8,16に取り付けた機構の変形は生じない。
(Example 2 of the first embodiment)
Next, a second example of the first embodiment will be described with reference to FIGS. The second embodiment is basically the same as the first embodiment, but the installation position of the floating
上述したように、本実施形態によれば、ボール螺子やリニアガイドを取り付け、真空チャンバ外部に設けた駆動源からの動力によりボールねじを回転させて蒸発源2を動かし蒸着する際において、真空チャンバの内外に跨り、大気圧との差圧を受けない剛体で構成したかご構造体と真空排気時にかご構造体に生じる真空チャンバ内部に引込む力を真空チャンバ壁に持たせる機構を設けることで、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、蒸着に必要な構成部材のたわみ、位置や姿勢の大幅な変化を抑制することができた。
As described above, according to the present embodiment, the ball chamber or the linear guide is attached, and when the
その結果、本実施形態によれば、駆動源とボール螺子等の駆動機構とのミスアライメントが生じなくなるため、蒸発源の移動手段の構成要素であるリニアガイドやボール螺子等の直動運動を安定して確実に行える、信頼性の高い真空蒸着装置を提供できる。
また、本実施形態によれば、駆動源とボール螺子等の駆動機構とのミスアライメントが生じなくなるため、駆動源及び移動手段の直動機構のメンテナンス頻度や交換頻度を長く稼働率の高い真空蒸着装置を提供することができる。
As a result, according to the present embodiment, misalignment between the drive source and the drive mechanism such as the ball screw does not occur, so that the linear motion that is a component of the evaporation source moving means and the linear motion of the ball screw is stabilized. Thus, it is possible to provide a highly reliable vacuum deposition apparatus that can be reliably performed.
Further, according to the present embodiment, since the misalignment between the drive source and the drive mechanism such as the ball screw does not occur, the vacuum evaporation with a long operation frequency and the high operation rate of the linear motion mechanism of the drive source and the moving means is long. An apparatus can be provided.
また、本実施形態によれば、機構の変形やミスアライメントが発生しないため、蒸発源の移動で振動の発生が従来方式に比べ大幅に低減され、蒸発源内部の液化した蒸着材料の液面がゆすられることもなく、蒸着材料の気化速度が安定し、成膜レートを一定に保つことができ、安定した蒸着が可能となった。 In addition, according to the present embodiment, since deformation of the mechanism and misalignment do not occur, the generation of vibration due to the movement of the evaporation source is significantly reduced compared to the conventional method, and the liquid level of the liquefied vapor deposition material inside the evaporation source is reduced. Without being shaken, the vaporization rate of the vapor deposition material was stabilized, the film formation rate was kept constant, and stable vapor deposition was possible.
さらに、本実施形態によれば、真空チャンバは圧力容器と剛体としての機能を持たせなければならなかったが、真空チャンバは圧力容器としての機能のみを持たせればよい。従って、真空排気時に真空チャンバ壁が弾性変形内でたわむことを前提できるため、従来の真空チャンバと比べて、真空チャンバの肉厚を減らし、リブなどの補強材を小形にでき、真空蒸着装置の軽量化、製作コストや装置輸送コストの低減を図ることができる。
特に、これらの効果は、1辺の長さが1mを超える大形基板に対して蒸着する真空蒸着装置においてその効果は顕著である。
Furthermore, according to the present embodiment, the vacuum chamber has to have a function as a pressure vessel and a rigid body, but the vacuum chamber only needs to have a function as a pressure vessel. Therefore, since it can be assumed that the vacuum chamber wall bends within the elastic deformation during evacuation, the thickness of the vacuum chamber can be reduced and the reinforcing material such as ribs can be made smaller compared to the conventional vacuum chamber. The weight can be reduced, and the manufacturing cost and the equipment transportation cost can be reduced.
In particular, these effects are significant in a vacuum deposition apparatus that deposits on a large substrate having a side length exceeding 1 m.
次に、第2実施形態を説明する前に、図5及び図6を用いて、有機ELパネル製造における有機層の蒸着を例に挙げてマスク成膜を説明する。
図5に本発明の各実施形態で用いるアライメント方法を説明する。基板4はエッチング又は、パターンによるアライメントマーク25が設けられている。また、基板4のアライメントマーク25に対応する蒸着マスク5位置にアライメントマーク26が設けられている。
蒸着マスク5上のアライメントマーク26は、電鋳またはエッチングによりマスク開口パターン31形成時に同時に形成した穴パターンやレーザ又はサンドブラストなどによる掘りこみによるパターンである。基板4と蒸着マスク5を近接又は密着させた状態で、それぞれのアライメントマーク25,26をカメラ11で同時に捉え、それぞれ得られた像29、28で構成するアライメント画像27に対して画像処理を施して相対的なずれ量を割り出し、基板4又はマスク5のいずれかを動かして修正を行うものである。なお、24は撮像時の光軸である。
Next, before describing the second embodiment, mask film formation will be described with reference to FIGS. 5 and 6 by taking the vapor deposition of an organic layer in the manufacture of an organic EL panel as an example.
FIG. 5 illustrates an alignment method used in each embodiment of the present invention. The
The
図6に蒸着中のマスクと基板の関係を示す。基板4と蒸着マスク5のアライメントが完了し、所定の画素37に対して蒸着マスク5の開口部38合わせられ、蒸発源2(紙面上方,図示せず)が揺動して成膜されて行く。ディスプレイの製作では、蒸着マスク5の開口部38を通して、蒸発源2で気化した蒸着材料を所定の画素37に対して堆積して行き、有機膜42を形成する。パターン精度の高い蒸着マスク5を用いることで、画素毎に赤,緑,青の発光材料を塗り分けることも可能である。
有機膜を積層した後、アルミニウム,銀,ITO,IZOなどの導電性膜39の画素電極40を設けることで発光可能な素子が基板4上に形成される。なお、41は画素電極40の周りには他の画素電極と隔絶するバンクである。
なお、本各実施形態では、チャンバ変形により基板4とかご構造体及び蒸発源2の位置又は姿勢に微小な変化を生じる可能性はあるが、基板と蒸発源の位置関係が数mm変化しても、蒸発源2のスキャンする方向が若干ずれても、これらは成膜自体に及ぼす影響は無い。
FIG. 6 shows the relationship between the mask and the substrate during vapor deposition. The alignment of the
After the organic films are stacked, an element capable of emitting light is formed on the
In each of the embodiments, there is a possibility that a slight change may occur in the position or posture of the
上述したアライメント方法を用いた第1実施形態によれば、蒸発源2の移動機構を構成するボール螺子103やリニアガイド105などの部材の変形に起因する振動を排除できるため、蒸発源に振動を与えず円滑に動かすことが可能となる。特に、液化した後に気化する溶融系の蒸着材料では、材料を収納するるつぼ内の材料液面の大きな変動が無いため、安定した気化、ひいては安定した成膜レ−トで成膜処理可能となる。
According to the first embodiment using the alignment method described above, vibrations caused by deformation of members such as the
次に、図13、図14に示した従来技術に対応した本発明の第2実施形態の実施例を図7を用いて説明する。
図1に示す実施例1では真空チャンバ1内にボール螺子103を用いて蒸発源2を移動させる方法を示した。ボール螺子103を動力伝達機構として使用する場合、潤滑剤として揮発性が低く粘度が高い真空対応の固体潤滑剤・潤滑液又はグリースが用いられる。一般的に長尺のボール螺子には、ボールの転動面に固体潤滑剤を施すものが入手し難い。そのため、真空対応の潤滑液又はグリースを用いる方法が主流である。しかし、蒸発源2のスキャン速度が高速の場合、ボール螺子103の回転も高速になる。ボール螺子に付着する潤滑液やグリースに働く遠心力は、ボール螺子103の径に比例し、ボール螺子103の回転速度の2乗に比例するため、蒸発源2は高速駆動させる場合、真空潤滑剤の飛散防止対策が必要となる。これに対して図7に示す実施例3のように真空チャンバ1を貫通するプッシュロッド109で蒸発源を押し引きすれば、このような問題が回避できる。
Next, an example of the second embodiment of the present invention corresponding to the prior art shown in FIGS. 13 and 14 will be described with reference to FIG.
In the first embodiment shown in FIG. 1, a method of moving the
(第2実施形態の実施例)
第2実施形態の本実施例は、図7に示すように、真空チャンバ内外に1枚ずつ剛体の板である内部ベースプレート(第1基準部材)8及び外部ベースプレート(第2基準部材)16と支柱23により構成されるかご構造体及びかご構造体20に作用する真空チャンバ内部に引込む力を受けるフローティング機構9などの機構は第1実施形態と同様に有している。以下、第2実施形態の特徴部を中心に説明する。
(Example of the second embodiment)
In this example of the second embodiment, as shown in FIG. 7, an internal base plate (first reference member) 8 and an external base plate (second reference member) 16 which are rigid plates one by one inside and outside the vacuum chamber, and a support column The car structure constituted by 23 and the mechanism such as the floating
本実施例では、結合駆動手段であるプッシュロッド109をの周りをベローズ21で囲み、真空チャンバ1とプッシュロッドの終端の間に移動プレート107を設け、ベローズ21の両端を真空チャンバ壁1h及び移動プレートに固定する。プッシュロッド109は、一端を蒸発源2に固定し結合手段の役目をする固定部106に、他端を移動プレート107に接続されている。移動プレートが受ける差圧を軽減させるため、外部ベースプレート16に固定する固定プレート108を設け、移動プレートと固定プレートの間をベローズ21bで気密を保持した状態でつなぐ。この時、ベローズ21,21aで囲われている移動プレート107の部分の内側に貫通穴115を設けることにより、移動プレート107の受ける差圧を軽減させることができる。図7では外部ベースプレート16上に、プッシュロッド109の駆動機構10を設けている。図7では結合駆動手段であるボール螺子103を用いて移動プレート107を押し引きしてプッシュロッド109を動かしている。この駆動機構の駆動方式はボール螺子を用いるのに限定する必要は無く、リニアモータを直接プッシュロッド109に取り付けても良く、またラック・ピニオンを用いてプッシュロッド109を駆動しても良く、大気中で、プッシュロッドの往復直進運動が実現できれば、いずれの方法を取っても構わない。
In this embodiment, the
上述したように、第2実施形態によれば、真空チャンバ1を貫通するプッシュロッド109で蒸発源を押し引きし蒸着する際において、真空チャンバの内外に跨り、大気圧との差圧を受けない剛体で構成したかご構造体と真空排気時にかご構造体に生じる真空チャンバ内部に引込む力を真空チャンバ壁に持たせる機構を設けることで、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、蒸着に必要な構成部材のたわみ、位置や姿勢の大幅な変化を抑制することができた。
As described above, according to the second embodiment, when vapor deposition is performed by pushing and pulling the evaporation source with the
その結果、第2実施形態によれば、第1実施形態と同様に、駆動源とプッシュロッド等の駆動機構とのミスアライメントが生じなくなるため、装置信頼性が向上する。このため、蒸発源駆動機構のメンテナンス頻度を低減できるので、蒸着装置の稼働率を向上させることができる。また、蒸着源駆動機構を動作させている時の振動も小さくなるため、蒸着材料の気化の変動が小さくなるので、長期に亘り安定した蒸着プロセスが可能な真空蒸着装置を提供できる。 As a result, according to the second embodiment, as in the first embodiment, misalignment between the drive source and the drive mechanism such as a push rod does not occur, so that the device reliability is improved. For this reason, since the maintenance frequency of an evaporation source drive mechanism can be reduced, the operation rate of a vapor deposition apparatus can be improved. In addition, since the vibration when operating the evaporation source driving mechanism is reduced, the fluctuation of vaporization of the evaporation material is reduced, so that a vacuum evaporation apparatus capable of a stable evaporation process over a long period of time can be provided.
また、従来の真空チャンバでは圧力容器と剛体としての機能を持たせなければならなかったが、第2実施形態によれば真空チャンバは圧力容器としての機能のみを持たせればよい。従って、真空排気時に真空チャンバ壁が弾性変形内でたわむことを前提できるため、従来の真空チャンバと比べて、真空チャンバの肉厚を減らし、リブなどの補強材を小形にでき、真空蒸着装置の軽量化、製作コストや装置輸送コストの低減を図ることができる。 Further, in the conventional vacuum chamber, the function as a pressure vessel and a rigid body had to be provided, but according to the second embodiment, the vacuum chamber need only have a function as a pressure vessel. Therefore, since it can be assumed that the vacuum chamber wall bends within the elastic deformation during evacuation, the thickness of the vacuum chamber can be reduced and the reinforcing material such as ribs can be made smaller compared to the conventional vacuum chamber. The weight can be reduced, and the manufacturing cost and the equipment transportation cost can be reduced.
さらに、第2実施形態によれば、蒸発源をプッシュロッドの押し引きで駆動し、螺子またはボール螺子を動力伝達機構に必要な真空グリース等の使用していないので、真空グリース等の周囲に飛散による成膜上の汚染を回避でき、信頼性の高い真空蒸着装置を提供できる。 Further, according to the second embodiment, the evaporation source is driven by pushing and pulling the push rod, and the screw or the ball screw is not used for the vacuum grease or the like necessary for the power transmission mechanism. Therefore, it is possible to provide a highly reliable vacuum deposition apparatus that can avoid contamination on the film formation due to the above.
最後に、結合駆動手段として真空チャンバ1内でボール螺子103やプッシュロッド109による直接駆動を用いず、真空チャンバ1内に基板4に並行に設けた真空隔壁110内に設けた磁気結合駆動手段により磁気的に結合手段と結合し、非接触で蒸発源2を間接駆動する第3実施形態を図8乃至図10を用いて説明する。
第3実施形態でも、図8乃至図10に示すように、真空チャンバ内外に1枚ずつ剛体の板である内部ベースプレート8及び図10に外部ベースプレート16と支柱23により構成されるかご構造体及びかご構造体20に作用する真空チャンバ内部に引込む力を受けるフローティング機構9などの機構は第1実施形態と同様に有している。以下、第3実施形態の特徴部を中心に説明する。
Finally, the coupling drive means does not use direct drive by the
Also in the third embodiment, as shown in FIG. 8 to FIG. 10, a car structure and a car constituted by an
(第3実施形態の実施例1、2)
まず、本実施形態は共に円筒状の薄い非磁性材の真空隔壁110の中に磁気結合駆動手段である磁気螺子111を挿入し、真空隔壁110の外側には真空隔壁110に非接触で配置した結合手段である磁気螺子用ナット112を設け、磁気螺子用ナットにより蒸発源2を移動させる実施例1及び2を図8及び図9を用いて説明する。
(Examples 1 and 2 of the third embodiment)
First, in the present embodiment, a
ステンレス鋼などの非磁性材料の真空隔壁110を真空チャンバ1に穴をあけ挿入する。図8では穴を1個所、図9では対向するチャンバ壁に1個所ずつあけている。真空隔壁110は内部ベースプレート8上に移動機構であるリニアガイド105と並行に固定する。真空隔壁110内部には、真空隔壁110と並行に磁気螺子111を設け、回転可能な状態にする。真空隔壁110の大気側は開放され、その端部には真空隔壁110内部へ通じる穴を持ったフランジ114を設ける。真空チャンバ1内の気密性を確保するため、フランジ114と真空チャンバ1との間にベローズ21を設置する。磁気螺子111を回転させるモータ100は図8のように外部ベースプレート16に設置するか、若しくは図9のようにフランジ114に固定してもどちらでも構わない。
A
図8のように、真空隔壁110が真空チャンバ1を貫通しない場合、真空隔壁110とかご構造体20は紙面左方向に差圧が掛かるが、図9のように真空隔壁110が真空チャンバ1を貫通するように設けることで、真空隔壁110に働いていた紙面横方向への力がキャンセルできる。真空隔壁の径が大きい場合は図9のような構成が好ましい。
図8及び図9の両者は真空隔壁110の端部では、フランジ114を真空チャンバ1の外側としているが、真空隔壁の長さを短縮して真空チャンバ1の内側にフランジ114を設けてもよい。この場合もベローズ21が真空チャンバの内側に入り込む形で、フランジ114と真空チャンバ1の間に設ければ同じ効果が得られる。
If the
8 and 9, the
真空隔壁110の外側には真空隔壁110に非接触で配置した磁気螺子用ナット112を設ける。磁気螺子用ナット112とリニアガイドの摺動子105b及び蒸発源2を連結する部材を設けることにより、真空チャンバ1の外部に設けたモータ100を回転させ、真空隔壁を挟んで動力を伝達し、蒸発源2を往復直進運動させることが可能となる。
A
以上説明したように、本実施例1または2によれば、筒状の真空隔壁で磁気螺子を覆い、真空隔壁の外側に非接触で磁気螺子のナットを設けることにより、磁気螺子の回転により蒸発源を動かす際にグリースを真空チャンバ内に飛散させることを防止することができる。
また、以上説明した本実施例1または2によれば、第1及び第2実施形態に比べて、真空チャンバ外部に配設する蒸発源2の移動駆動機構を小形化できる。
As described above, according to the first or second embodiment, the magnetic screw is covered with the cylindrical vacuum partition, and the nut of the magnetic screw is provided in a non-contact manner outside the vacuum partition, thereby evaporating by rotation of the magnetic screw. It is possible to prevent grease from splashing into the vacuum chamber when the source is moved.
Further, according to the first or second embodiment described above, the moving drive mechanism of the
(第3実施形態の実施例3)
次に、第3実施形態の実施例3を説明する。実施例1及び2は、磁気螺子111を蒸発源2の移動の動力伝達機構としたが、磁気螺子111を使用せずに空圧を用い簡単な機構・制御系で蒸発源2を往復移動させる例を図10に示す。
本実施例3では真空隔壁110をシリンダとし、その中に磁気結合駆動手段であるピストン117を仕込み、前記ピストン117で非接触で蒸発源2を移動させる。真空隔壁110の外部には真空隔壁110と非接触状態になるように設けられる結合手段であるリング118を設ける。このリング118とピストン117はどちらかに磁石を持ち、もう一方の部材を磁石に吸着する鉄,ニッケル,コバルトなどの材料で形成し、真空隔壁110を挟んで両者が磁力で結合するようにする。リング117はブロック119に固定され、またブロック119はリニアガイド105と蒸発源2とも接続する。
(Example 3 of the third embodiment)
Next, Example 3 of the third embodiment will be described. In the first and second embodiments, the
In the third embodiment, the
真空隔壁110の両端には空圧配管120を設ける。ピストン117の移動は空圧配管120への圧空の導入・排気を制御して行う。圧空はポンプとタンクよりなる空圧源121より供給する。空圧源121の圧空は電磁弁122によって、真空隔壁110よりなるシリンダに、対して供給・排気の制御を行う。図14では複動形の空圧回路を形成した例を示しており、真空隔壁110に接続する片側の空圧配管に圧空を接続する時、もう片側では排気を行う。電磁弁122と真空隔壁110よりなるシリンダへ接続するそれぞれの空圧配管120においては、ピストンの移動速度を調整するスピードコントローラ123を設ける。このスピードコントローラ123は排気側の空気の流れのみで効果を発揮し、空気の流れを絞って抵抗を持たせる、いわゆる排気絞りによってピストン117の移動速度を調整することで、滑らかに動かすことができる。ピストン117がストローク端に来たところで、ブロック119は、ダンパ機能を持つストッパ124と突き当たり、停止する。
図10では真空隔壁110の外部にストッパ124設けた例を示すが、真空隔壁110の内部に設けてピストン117を停止させても良い。ストローク単に来たことをセンサ125で検知し、電磁弁を切換えて、移動方向を逆方向に動かす。センサ125は真空環境化で使用できるものか、真空チャンバ外部に設置して内部をモニタできるもの、真空隔壁110に設けるものなど、いずれであっても良く、部が光学的なセンサ、静電容量型センサ、磁力センサ、リミットスイッチなど検出方式は問わない。
Although FIG. 10 shows an example in which the
蒸発源2の速度を頻繁に変更する場合や、加減速を細かく指定する場合や、複数の停止個所を設定するような場合では、圧空で駆動するのではなく、モータ駆動にした方が単純化できる場合がある。その場合は、例えば、リニアモータを真空隔壁110内部に設け、ピストン117をリニアモータで動かせば良い。
When changing the speed of the
以上説明した実施例3によれば、実施例1及び2と同様に、筒状の真空隔壁でピストンを覆い、真空隔壁の外側に非接触でリングを設けることにより、グリースを使用することがないので、安定した蒸着が可能である。
また、以上説明した実施例3によれば、蒸発源の速度がほぼ一定の場合で特に有効で、機構・制御系を単純に構成することができる。
また、本第3実施形態によれば、蒸発源の移動方法に起因する以外の効果については、第1、第2実施形態同様な効果を奏することができる。
According to the third embodiment described above, as in the first and second embodiments, the piston is covered with a cylindrical vacuum partition and a ring is provided in a non-contact manner outside the vacuum partition, so that no grease is used. Therefore, stable vapor deposition is possible.
Further, according to the third embodiment described above, it is particularly effective when the speed of the evaporation source is substantially constant, and the mechanism / control system can be simply configured.
Further, according to the third embodiment, the same effects as those of the first and second embodiments can be achieved with respect to the effects other than those caused by the evaporation source moving method.
上記説明した本発明の第1及び第3実施形態において、基板、マスクの姿勢、即ち蒸発源姿勢については限定して説明をしていない。基板、マスクの姿勢としては、水平或いは垂直があり、蒸発源を重力方向に動かす場合、水平方向(重力方向と直角方向)に動かす場合又はそれ以外の姿勢で蒸発源を動かす場合があるが、本発明は、蒸発源を移動方向やかご構造体の姿勢に影響なく再現できる。 In the first and third embodiments of the present invention described above, the orientation of the substrate and the mask, that is, the evaporation source orientation is not limited. There are horizontal and vertical postures of the substrate and the mask. When the evaporation source is moved in the direction of gravity, the evaporation source may be moved in the horizontal direction (perpendicular to the direction of gravity) or in other postures. The present invention can reproduce the evaporation source without affecting the moving direction and the attitude of the car structure.
以上説明した上記第1乃至第3実施形態によれば、真空チャンバの内外に跨り、大気圧との差圧を受けない剛体で構成したかご構造体を設けたことで、かご構造体は面として大気圧との差圧を受けることが回避でき、また、フローティング機構等によりかご構造体が真空チャンバの内側に引き込まれようとする力受け持たせることが可能となった。この結果、かご構造体は、真空チャンバの変形に影響を受けることなく、構成する部材のたわみを抑え、大幅な位置や姿勢の変化も同時におさえることができた。従って、蒸発源の移動駆動機構成が真空排気前後で円滑な動きを保ち続けることが可能となり、信頼性あるいは稼働率の高い真空蒸着装置を提供できる。 According to the first to third embodiments described above, the cage structure is formed as a plane by providing the cage structure that is formed of a rigid body that does not receive a differential pressure from the atmospheric pressure, straddling the inside and outside of the vacuum chamber. It is possible to avoid receiving a differential pressure from the atmospheric pressure, and it is possible to provide a force to pull the cage structure into the vacuum chamber by a floating mechanism or the like. As a result, the cage structure was not affected by the deformation of the vacuum chamber, and it was possible to suppress the deflection of the constituent members and to suppress a significant change in position and posture at the same time. Therefore, the moving drive configuration of the evaporation source can keep a smooth movement before and after evacuation, and a vacuum deposition apparatus with high reliability or high operating rate can be provided.
また、以上説明した上記第1乃至第3実施形態によれば、真空チャンバは圧力容器と剛体としての機能を持たせなければならなかったが、真空チャンバは圧力容器としての機能のみを持たせればよい。従って、真空排気時に真空チャンバ壁が弾性変形内でたわむことを前提できるため、従来の真空チャンバと比べて、真空チャンバの肉厚を減らし、リブなどの補強材を小形にでき、軽量化、製作コストや装置輸送コストの低減を図れた真空蒸着装置を提供できる。 Further, according to the first to third embodiments described above, the vacuum chamber has to have a function as a pressure vessel and a rigid body, but if the vacuum chamber has only a function as a pressure vessel. Good. Therefore, it can be assumed that the vacuum chamber wall bends within elastic deformation during evacuation. Therefore, compared with conventional vacuum chambers, the thickness of the vacuum chamber can be reduced, and reinforcing materials such as ribs can be made smaller, lighter and manufactured. It is possible to provide a vacuum deposition apparatus that can reduce costs and apparatus transportation costs.
さらに、以上説明した上記第1乃至第3実施形態によれば、機構の変形やミスアライメントが発生しないため、蒸発源の移動で振動が発生が従来方式に比べ大幅に低減され、蒸発源内部の液化した蒸着材料の液面がゆすられることもない。従って、蒸着材料の気化速度が安定し、成膜レートを一定に保つことができるので、安定した蒸着プロセスが可能な信頼性の高い真空蒸着装置を提供できる。 Further, according to the first to third embodiments described above, since the mechanism is not deformed or misaligned, the vibration caused by the movement of the evaporation source is greatly reduced compared to the conventional method, and the inside of the evaporation source is reduced. The liquid level of the liquefied vapor deposition material is not shaken. Therefore, the vaporization rate of the vapor deposition material is stabilized and the film formation rate can be kept constant, so that a highly reliable vacuum vapor deposition apparatus capable of a stable vapor deposition process can be provided.
本発明は、大形基板を取り扱う薄膜形成工程において、真空蒸着に限らず、真空チャンバ内部で移動機構を持つCVD装置やスパッタ装置など広く適用することが可能である。実施例に示した有機ELディスプレイや有機EL照明に限らず、半導体、太陽電池、包装容器などへの成膜やコーティングに応用することができる。 The present invention can be widely applied not only to vacuum deposition but also to a CVD apparatus or a sputtering apparatus having a moving mechanism inside a vacuum chamber in a thin film forming process for handling a large substrate. The present invention is not limited to the organic EL display and organic EL illumination shown in the embodiments, and can be applied to film formation and coating on semiconductors, solar cells, packaging containers, and the like.
1…真空チャンバ 2…蒸発源 4…基板
5…マスク 8…内部ベースプレート
9…フローティング機構 10…駆動機構 11…カメラ
16…外部ベースプレート 20…かご構造体 21…ベローズ
23…支柱 24…光軸
25…基板側アライメントマーク 26…マスク側アライメントマーク
27…アライメント画像 28…基板側アライメントマーク像
29…マスク側アライメントマーク像 31…マスク開口パターン
37…画素 38…マスク開口部 40…画素電極
41…バンク 42…蒸着膜 100…モータ
101…カップリング 102…磁性流体シール 103…螺子
104…ナット 105…リニアガイド 106…固定部
107…移動プレート 108…固定プレート 109…プッシュロッド
110…真空隔壁 111…磁気螺子 112…ナット
113…軸受け 114…フランジ 115…貫通穴
117…ピストン 118…リング 119…ブロック
120…空圧配管 121…空圧源 122…電磁弁
123…スピードコントローラ 124…ストッパ 125…センサ。
1 ...
5 ...
9 ... Floating
16 ...
23 ... post 24 ... optical axis
25… Substrate
27…
29 ... Mask side
37 ...
41 ...
101 ... Coupling 102 ...
104 ...
107 ... moving
110 ...
113 ... Bearing 114 ... Flange 115 ... Through hole
117 ...
120 ...
123 ...
Claims (13)
前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第1基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体
の第2基準部材、及び一端を前記第1基準部材に固定し、前記真空チャンバの壁に設けた
貫通孔を通して他端を前記第2基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造
体と、前記貫通孔と前記第1基準部材あるいは前記第2基準部材の前記固定部との間の支
柱を覆い、前記真空チャンバの気密性を確保する第1気密部と、前記かご構造体を前記真
空チャンバの所定位置に維持する維持手段と、前記真空チャンバ内部において前記蒸発源
を移動させる前記かご構造体に設けられた移動手段と、前記移動手段を駆動する駆動源と
を有することを特徴とする真空蒸着装置。 In a vacuum deposition apparatus having a vacuum chamber for depositing a deposition material in an evaporation source on a substrate,
A rigid first reference member provided inside the vacuum chamber, a rigid second reference member provided outside the vacuum chamber, and a through hole provided on one end of the vacuum chamber, with one end fixed to the first reference member. A cage structure having a plurality of rigid columns having the other end fixed to the second reference member through a hole, and a column between the through hole and the fixed portion of the first reference member or the second reference member A first hermetic portion for ensuring airtightness of the vacuum chamber, maintenance means for maintaining the cage structure at a predetermined position of the vacuum chamber, and the cage structure for moving the evaporation source inside the vacuum chamber A vacuum vapor deposition apparatus comprising: a moving means provided on a body; and a drive source for driving the moving means.
、前記第1又は第2基準部材と前記第1又は第2基準部材に対向する前記真空チャンバの
壁との相対的な位置関係を保持する拘束手段または滑り対偶あるいは回転対偶のいずれか
又はそれらの組合せによって構成させるフローティング機構を有することを特徴とする請
求項1に記載の真空蒸着装置。 The maintaining means is provided between the first or second reference member and a wall of the vacuum chamber, and is disposed in the vacuum chamber facing the first or second reference member and the first or second reference member. The vacuum deposition apparatus according to claim 1, further comprising: a restraining means for maintaining a relative positional relationship with the wall, or a floating mechanism configured by any one of a sliding pair, a rotating pair, or a combination thereof.
前記第1又は第2基準部材と前記第1又は第2基準部材に対向する前記真空チャンバの壁
との面方向のずれを拘束する面方向拘束手段であることを特徴とする請求項2に記載の真
空蒸着装置。 The restraining means is provided between the first or second reference member and a wall of the vacuum chamber;
The surface direction restraining means for restraining a displacement in a surface direction between the first or second reference member and a wall of the vacuum chamber facing the first or second reference member. Vacuum deposition equipment.
の少なくともどちらか一方に凸部を設け、前記対応する凹部にはめ込む又は端部に突き当ててる手段であることを特徴とする請求項3に記載の真空蒸着装置。 The surface direction restraining means is means for providing a convex portion on at least one of the first or second reference member and the wall of the vacuum chamber facing the first member, and fitting into the corresponding concave portion or hitting the end portion. The vacuum deposition apparatus according to claim 3.
装置。 The vacuum evaporation apparatus according to claim 1, wherein the driving source is fixed to the second reference member.
るつぼを加熱する加熱手段を持ち、るつぼの加熱により前記蒸着材料を気化させて、前記
るつぼに設けた前記ノズルから気化した前記蒸着材料を噴出させることを特徴とする請求
項1に記載の真空蒸着装置。 The evaporation source has a nozzle and has a crucible which is a container for storing the vapor deposition material therein, and a heating means for heating the crucible, and the vapor deposition material is vaporized by heating the crucible and provided in the crucible. The vacuum deposition apparatus according to claim 1, wherein the vapor deposition material vaporized from the nozzle is ejected.
真空蒸着チャンバの気密性を確保する第2気密部を持ち、前記第2気密部を介して前記駆
動源の回転動力又は直動動力を前記移動手段に伝達することを特徴とする請求項1に記載
の真空蒸着装置。 The drive source is provided outside the vacuum deposition chamber, and has a second hermetic portion for ensuring airtightness of the vacuum deposition chamber between the moving means and the drive source, and the drive source via the second hermetic portion. The vacuum vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein the rotational power or linear motion power is transmitted to the moving means.
移動機構と前記蒸発源とを結合する結合手段と、前記結合手段を駆動する結合駆動手段と
を有することを特徴とする請求項1または7に記載の真空蒸着装置。 The moving means includes a moving mechanism for moving the evaporation source in parallel with the first reference member, a connecting means for connecting the moving mechanism and the evaporation source, and a coupling driving means for driving the connecting means. The vacuum evaporation apparatus according to claim 1 or 7, wherein
動する摺動子を有し、前記結合手段は前記蒸発源、前記摺動子の少なくとも一方に固定さ
れたナットであり、前記結合駆動手段は前記ナットを移動させる螺子であることを特徴と
する請求項8に記載の真空蒸着装置。 The moving mechanism has a guide rail provided on the first reference member and a slider that slides on the guide rail, and the coupling means is a nut fixed to at least one of the evaporation source and the slider. The vacuum deposition apparatus according to claim 8, wherein the coupling driving means is a screw for moving the nut.
動する摺動子を有し、前記結合手段は前記蒸発源または前記摺動子あるいは前記蒸発源と
前記摺動子固定する固定部であり、前記結合駆動手段は一端を前記結合手段に固定され、
他端を移動可能な移動部に固定されたプッシュロッドであり、前記第2気密部は少なくと
も前記移動部と前記真空蒸着チャンバの壁との間に設け、前記真空チャンバ外に設けられ
た前記プッシュロッドを駆動するプッシュロッド駆動手段を有すことを特徴とする請求項
8に記載の真空蒸着装置。 The moving mechanism includes a guide rail provided on the first reference member and a slider that slides on the guide rail, and the coupling means is the evaporation source, the slider, or the evaporation source and the slide. A fixing portion for fixing the child, wherein the coupling driving means is fixed at one end to the coupling means,
The push rod is fixed to a movable part whose other end is movable, and the second hermetic part is provided at least between the movable part and the wall of the vacuum deposition chamber, and the push provided outside the vacuum chamber. 9. The vacuum evaporation apparatus according to claim 8, further comprising push rod driving means for driving the rod.
動する摺動子を有し、前記結合駆動手段は内部に前記真空蒸着チャンバ外の雰囲気を有す
る空洞を有した前記蒸発源の移動方向に細長い非磁性体の真空隔壁と、前記真空隔壁内に
設けられ、前記結合手段と磁気的に結合し前記結合手段を前記真空隔壁に沿って移動させ
る磁気結合駆動手段を有することを特徴とする請求項8に記載の真空蒸着装置。 The moving mechanism has a guide rail provided on the first reference member and a slider that slides on the guide rail, and the coupling driving means has a cavity having an atmosphere outside the vacuum deposition chamber inside. A non-magnetic vacuum partition that is elongated in the moving direction of the evaporation source, and a magnetic coupling driving unit that is provided in the vacuum partition and is magnetically coupled to the coupling unit and moves the coupling unit along the vacuum partition. The vacuum deposition apparatus according to claim 8, wherein the vacuum deposition apparatus is provided.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009100323A JP5277060B2 (en) | 2009-04-16 | 2009-04-16 | Vacuum deposition equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009100323A JP5277060B2 (en) | 2009-04-16 | 2009-04-16 | Vacuum deposition equipment |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013006037A Division JP2013122923A (en) | 2013-01-17 | 2013-01-17 | Vacuum evaporation apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010248584A JP2010248584A (en) | 2010-11-04 |
JP5277060B2 true JP5277060B2 (en) | 2013-08-28 |
Family
ID=43311234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009100323A Expired - Fee Related JP5277060B2 (en) | 2009-04-16 | 2009-04-16 | Vacuum deposition equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5277060B2 (en) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012140671A (en) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Canon Tokki Corp | Film-forming apparatus |
KR101160892B1 (en) | 2011-12-16 | 2012-06-28 | 제이윈 주식회사 | A movable deposition device |
KR101426840B1 (en) * | 2012-06-25 | 2014-08-06 | 주식회사 엠엠테크 | Treating apparatus for substrate |
KR101462595B1 (en) * | 2012-11-22 | 2014-11-18 | 주식회사 에스에프에이 | Vaccum deposition apparatus |
JP6008731B2 (en) | 2012-12-18 | 2016-10-19 | キヤノントッキ株式会社 | Deposition equipment |
KR101840976B1 (en) | 2017-07-26 | 2018-03-21 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | Moving body support apparatus, vacuum evaporation apparatus including the same and evaporation method |
KR102591646B1 (en) * | 2018-06-29 | 2023-10-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | Deposition apparatus and method of aligning magnet plate of deposition apparatus |
KR102300359B1 (en) * | 2019-08-07 | 2021-09-08 | 세메스 주식회사 | Apparatus for processing substrate and operating method thereof |
CN112853273B (en) * | 2020-12-31 | 2022-12-16 | 南京深光科技有限公司 | Flexible AMOLED mask plate surface coating equipment |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11278663A (en) * | 1998-03-26 | 1999-10-12 | Ckd Corp | Magnetic screw carrying device |
JP2004349101A (en) * | 2003-05-22 | 2004-12-09 | Seiko Epson Corp | Film forming method, film forming device, manufacturing method of organic electroluminescent device, and organic electroluminescent device |
JP4563698B2 (en) * | 2004-03-12 | 2010-10-13 | 株式会社アルバック | Vacuum deposition equipment |
JP2007220910A (en) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Nsk Ltd | Positioning apparatus for vacuum |
-
2009
- 2009-04-16 JP JP2009100323A patent/JP5277060B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010248584A (en) | 2010-11-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |