JP5248869B2 - 光学マイクロ技術化合物内のキャビティを流体材料で充填する方法 - Google Patents

Description

本発明は、壁によって規定されるマイクロメートル寸法の密封キャビティであって、機能的な流体が導入されるキャビティを含むデバイスの製造に関わる。特定の用途は、機能的な流体が特定の光学特性を持っているような「光学」デバイスに関連する。

本発明は、さらにとりわけ、そのようなキャビティをシールするための方法、および結果として得られるデバイスに関連する。

いくつかの、特に光学用途のために、幅が５０から５００ミクロンのオーダーで、深さが５から２０ミクロンのオーダーで、典型的に１から１０ミクロンの幅の壁によって規定される寸法をもったキャビティに、機能的な流体を気密な方法で封入することが必要とされる。これらのキャビティは、種々の技術を用いて、特に、基板をマイクロ機械加工することにより、または、エッチングまたはフォトリソグラフィ技術あるいは他の何らかの適切な技術を用いた層を堆積および構成することにより、得ることができる。

封入される機能的な流体は用途に依存する。それは、ジェルまたは液体の形態で導入され、それの特定の特性、例えば光学特性、屈折率、光を吸収したりまたは光を偏光したりする性能、電気のまたは光の刺激に対する応答などのような特性、のために選択された１つ以上の物質から成ることができる。

対処すべき問題は、流体を気密な方法でこれらのキャビティに保持することである。

図１に示すような溶液の存在は、予め付着された柔軟な薄膜、例えばＰＥＴ薄膜をラミネートすることによって、キャビティをシールすることから成る。この場合、薄膜の付着は壁１４の頂点１４０の上に提供される。この溶液は、ラミネーションの際にキャビティ１６に空気の泡をトラップする（捕える）危険、および、壁１４の頂点１４０の上に流体を突出させることによって機能的な流体をその中から除去し、それによってフィルム付着の付着性を妨げる危険、という重要な不利点を示す。しかも、柔軟な薄膜の付着を確実にするべき壁の頂点全体の表面積は小さい。キャビティが基板平面内で過度に大きな寸法を持っているならば、特に、例えば凸状表面の上に載置される際のように基板をスタックする必要がある場合には、この付着は十分ではない可能性がある。

特許文献１は、壁によって規定され、そして流体を含んだキャビティの上に、可塑性材料、パリレン(parylene)（ポリ−パラ−キシリレン(ploy-para-xylylene)とも言う）の低圧力堆積（または蒸着）を用いて、可塑性膜（プラスチック膜）を作ることを提案している。この材料は大気温度（環境温度）において重合し、自身の堆積表面を形作る均一な層を形成する。前記ケースのように、パリレン薄膜は、キャビティの壁の頂上の上で基板に付着するだけであり、それは可塑性薄膜の付着の問題を引き起こしうる。
欧州特許 ＥＰ １ ６７２ ３９４号明細書 フランス特許出願 ＦＲ ０６ ５０４６６号明細書

本発明の目的は、機能的な流体で充填された複数のキャビティを有するデバイスであって、該流体が気密で耐久性のある方法でキャビティに保持されるようなデバイスを提案することである。

本発明の他の目的は、効率的かつ産業的に、流体で充填されたキャビティをシールするために使われる方法を提案することである。

本発明によれば、キャビティに加えて、キャビティシール材料の付着ポイントを形成するハウジングが製造される。

これを達成するために、本発明は、材料の第１および第２の層の間で、少なくとも部分的に流体で充填された気密なキャビティを規定する、材料の第１の層、材料の第２の層および壁、材料の第１の層に強固に接続され、第２の層の材料で少なくとも部分的に充填されたハウジングを規定するブロック、を有するデバイスに関連する。

好都合には、壁とブロックはとは実質的に同じ高さを持つ。

代わりの一実施の態様によれば、いくつかのブロックの少なくとも１つの部分が壁を形成する。

代わりの一実施の態様によれば、すべてのブロックが部分的に壁を形成する。

好ましくは、ブロックの少なくとも一部がいくつかの壁の交点に位置している。

代わりの一実施の態様によれば、ブロックの少なくとも一部が壁に隣接している。

好都合には、第２の層は、ハウジングにおいて第１の層と接触する。

さらに好都合には、キャビティは所定の光学特性をもった機能的な流体で充填される。

流体は感光性または熱感応性流体、あるいは決定された光学的屈折率を持った流体でありうる。

好都合には、第２の層の材料はパリレンである。

さらに好都合には、第２の層の材料はコンフォーマルな方法で堆積される。

第１の代わりの実施の態様によれば、ハウジングは第２の層の材料で完全に充填される。

第２の代わりの実施の態様によれば、ハウジングは第２の層の材料で部分的に充填される。第２の層の材料で部分的に充填されたハウジングは、好都合には、ある材料で充填されうる。この材料は、好ましくは、機能的な流体と同じ光学的屈折率を持ち、それにより、キャビティをシールするブロックハウジング内のシール材料の堆積の後に、ブロックの存在によって引き起こされる光学的拡散の問題を制限する。パラメータを監視することを必要とせずにこの充填を容易にするために、同じ光学的屈折率を持つこの材料を、シール材料の層の上の、それぞれのブロックのハウジングに残った体積部分内に均一な層を形成するように堆積することができる。

さらに好ましくは、流体と同じ光学的屈折率を持ち、ブロックハウジングを充填する材料は、材料の第２の層の上に重ねられた材料の第３の層を形成する。

本発明は、また、壁によって分離された機能的な流体を有するキャビティが備えられたデバイスを製造するための方法であって、以下のステップ：
・ある構造の上にキャビティを規定する壁を製造するステップと、
・壁に接触する前記構造の面の上に、少なくとも１つのハウジングを規定するブロックを製造するステップと、
・機能的な流体によってキャビティを充填するステップと、
・機能的な流体で充填されたキャビティをシールし、ハウジングの内部を少なくとも部分的に占有するシール材料の連続的な層を、コンフォーマルに堆積するステップと、
を有することを特徴とする方法にも関連する。

好都合には、シール材料の連続的な層のコンフォーマルな堆積は、パリレン堆積である。このパリレン堆積はＣＶＤ堆積であり、続いて環境条件の下での重合が行なわれうる。

有利な一実施の態様によれば、ブロックは、壁と同じ方法を使って、また同時に製造される。

壁および／またはブロックは、好都合には、樹指フォトリソグラフィを用いて作られる。

代わりの実施の態様によれば、壁および／またはブロックの製造は、ポリマー層のマスクを介するエッチングを用いて行なわれる。

好都合には、キャビティの充填は、プリントヘッドを使った液滴形態での機能的な流体のジェット技術を用いて行なわれる。

キャビティをシールするブロックハウジング内のシール材料の堆積の後に、シール材料でコーティングされたハウジングの残余の体積部分が、ある材料で充填される。

キャビティをシールするブロックハウジング内のシール材料の堆積の後に、シール材料の層の上と、ブロックハウジング内の残余の体積部分とに、ある材料を堆積することができる。

好都合には、材料の堆積はスピンコーティングタイプ技術を用いて行なわれ、続いて材料の硬化が行なわれる。

壁とブロックは、基板の上に堆積された、例えば、光、またはさらに一般的には問題となっている放射、に対して透明であるか、それを吸収する材料の層を通して完全に通り抜けることもできる。

好ましい使用によれば、キャビティによって形成されたグリッド内のブロックの単位サイズと密度は変化しうる。本発明によるブロックの形状も変化しうる（円筒状の、正方形の断面など）。

好ましくは、ブロックのために選択されるこれらのパラメータにかかわらず、本発明の方法によって仕上げられたブロックが、いかなる光学的干渉をも加えない、ということが要求される。特に、それらの合計の表面積が、キャビティで覆われ、そして機能的な流体で充填された見かけの全体的な表面積の１０％、好ましくは４％を超えない、ということを確実にすることができる。

選択されたシール材料は、要求される用途に依存し、また数百ナノメートルから数ミクロンの均一な厚さを可能にする技術に従うことになる。

本発明の他の特徴および利点は、純粋に例示的目的で与えられ、決して限定的ではない、以下の説明を読み、添付の図面を参照することにより、さらに明白に現出するであろう。

本発明によるデバイスの例を図２Ｃに示す。このデバイスは、少なくとも部分的に流体１８で充填された複数のキャビティ１６を有する。それぞれのキャビティ１６は、層または基板１０、いわゆるシール層２０によって、そして横方向では壁１４および／またはブロック５０によって規定される。ブロック５０は、少なくとも部分的にシール層２０の材料で充填されたハウジング５００を規定する。このようにして、シール層と固体材料との間の接触は、従来技術によるデバイスに対して増加され、改善されたシール層の接着と、増加された前記層の機械抵抗、特に引張および／または剪断応力などに対する機械抵抗、とを得ることができる。従って、流体１８は気密で耐久性のある方法でキャビティ１６に保持される。

以下で説明するように、ブロック５０、６０、またはそれの部分は、壁１４の一体的な部分でありうる。

シール層２０は、機能的な流体１８とは非混和性の、すなわち機能的な流体１８とは相互作用のない、溶液内において重合可能な材料から作られる。それは、環境下、加熱下、または照射下の条件において重合可能である。

好都合には、使われる材料２０は、大気温度において高度にコンフォーマルな方法、すなわち、堆積されるもの、この場合には壁１４、機能的な流体１８、およびブロック５０並びにそれのハウジング５００などの上に形状を形づくる方法で、ＣＶＤ（「化学気相蒸着法」の略語）を用いて堆積されるパリレンである。この材料は、流体の上に堆積（蒸着）することができ、その状況で、蒸気圧が堆積チャンバ圧力よりも低い。このポリマーは高性能な完全なコーティングを可能にする。処理に起因する線形で結晶性の構造は良好な光学特性をもち（パリレンは無色で透明である）、そして良好な保護特性をもつ（パリレンは不透性で、腐食的な環境、溶剤および気体に耐性をもつ）。

好ましくは、シール材料の層の厚さｅは０．２から５μｍの間である。

堆積は、前記ハウジングが材料１０の層の面１００上に開口しているか（図２Ｃ）、否か（図２Ｅ）にかかわらず、ブロック５０のハウジング５００をシール材料が完全に充填するように行なうことができる。

ブロック５０が開口する有利な実施形態（図２Ｃ、図２Ｆ）では、堆積がコンフォーマルであるので、基板１０の材料または層でシール層２０を接触部位が結びつける。それは、全体的な機械的強度にとってより一層好ましい。

キャビティ１６に置かれるブロック５０またはマイクロキャビティのサイズ、位置、および密度は、その使用に依存することになるであろう。当技術分野の当業者は、とりわけ、光学、特に眼科的な使用のために、ブロック５０が何らかの売買契約取消となるような視覚的干渉を加えない、ということを確保するであろう。

好都合には、それぞれのブロック５０は、１から２０μｍの間の外径Ｄ_ｅｘｔをもつ（図２Ｅ）。

機能的な流体１８は部分的または完全にキャビティ１６を充填することができる。機能的な流体１８の充填高さＨは、好都合には、５から２０μｍの間である（図２Ｅ）。

ブロック５０が開口する有利な実施形態では、堆積されるパリレンはマイクロキャビティ５０を完全に充填できる（図２Ｆ）。

ブロックまたはマイクロキャビティ５０は、キャビティ１６内または壁１４中に位置することができる。いくつかの形態（組み合わせでありうる）を、図３Ａから図３Ｃに示す：
・図３Ａは、それぞれのキャビティ１６（当然、それぞれのキャビティに対して複数作ることができる）内にブロック５０を作ることを示し、
・図３Ｂは、ブロック５０が壁１４の一体部分でありうることを示し、
・図３Ｃは、ブロック５０が壁１４の交点に位置できることを示す。

本発明の範囲内では、ブロックまたはマイクロキャビティ５０と、ハウジング５００とは、様々な形状を持ちうる（可能性として独立して選定される）：つまり、円形、正方形、矩形、十字形、星型、．．．などである。

光学的により低く制約された使用に対しては、連続的なチャネル５がそれぞれのキャビティ１６を取り囲むようなチャネル５を形成するブロック５０を想定することが好ましくありうる（図３Ｄ）。

キャビティが眼科的な流体で充填されるような非常に制約が厳しい使用においては、キャビティ１６の充填因子（すなわち、構造体の全体表面積に対する見かけの充填表面積の比率）は９０％を超えなければならず、好ましくは９６％から９８．５％の間でなければならない。このようにして、これらの使用に対し、表面積全体に対する見かけの表面積が１０％未満であるようなブロック５０が求められる。

図４および図５に対応する実施形態では、２μｍ厚さの壁１４がキャビティ１６を形成し、２００μｍの垂直断面をもち、見かけの表面積比は２％である（２００×２００μｍ^２に等しいキャビティ全体の表面積に対して、見かけの壁表面積が８００μｍ^２に等しい）。このようにして、好ましくは４％に等しい見かけの表面積のブロック５０、６０を製造するために、８００μｍ^２の見かけの表面積を持つことができる。

例えば中空の円筒状のブロック５０、６０を得るために適切なマスクを使って、２μｍの壁と同じ単位幅のブロック５０、６０を作り、無差別に分配することが、好都合にできる：つまり、
・図４に従ってキャビティの周りに４μｍの内径Ｄ_ｉｎｔをもつ、２８に等しい数
・図５に従ってキャビティの周りに１６μｍの内径Ｄ_ｉｎｔをもつ、４に等しい数
である。

本発明を製造するための方法を、図２Ａから図２Ｄを参照しつつ説明する。

キャビティ１６を作るために基板または材料層１０が使われる。光学用途のために、この基板１０は、好都合には透明である。それは石英ガラスプレートまたはＰＥＴ（ポリ・エチレン・テレフタレート）タイプの柔軟な薄膜でありうる。基板１０は、必要に応じて、例えば、引き続く技術ステップを実行するのに十分な機械的強度を確保するようにシリコンタイプウェーハまたはガラスプレートのようなサポートプレート（図示せず）に一時的に強固に接続することができる。アセンプリ（組み立て）は、例えば適切な接着を用いて遂行され、その状況で、接着のエネルギーは、引き続く技術的なステップおよび引き続くサポートプレートの分離を、共に両立できる。

基板１０は、使用に応じて機能的にすることができる。これは、例えば、液晶ベースのディスプレイの製造時の場合であり：金属トラックと液晶配向層が基板の上に提供される。

この基板１０は、表面上に、例えば耐衝撃性、耐引っかき性、着色機能などの特定の機能を持った１つ以上の層を有することができる。

壁１４は基板１０の表面上に作られ、機能的な流体を収容するよう意図されたキャビティ１６を規定する。また、ブロック５０は、好都合に、壁１４と同時に作られる。そして、将来的にシール層の固定ブロックを形成することを意図したハウジング５００を規定する。いくつかのブロック５０は、また、機能的な流体を収容するよう意図されたキャビティ１６のいくつかを同時に規定する役割をさせることもできる。

壁１４とブロック５０は、例えば、１つ（またはそれ以上）の適切な感光性の樹指を堆積し、そしてキャビティ１６およびハウジング５００を規定するために局所的に前記樹指を除去することにより、作ることができる。

代案として、基板の上にポリマーの層を堆積し、そして、例えば、従来的な、またはＯ_２を混入した、あるいはＳＦ_６および／またはＣＨＦ_３のようなフッ化ガスを用いない高密度ＲＩＥプラズマエッチングを用いて、マスクを介して局所的に前記層をエッチングすることができる。

キャビティ１６およびハウジング５００が、例えばエッチングを用いて前もって製造された状況で、基板１０の上にポリマー薄膜をラミネートすることもできる。

壁１４とブロック５０は、好都合には、同じ準備方法の際に同時に作られる。しかしながら、当然、壁１４とブロック５００とを（もしそれらに互換性があるならば）別個の方法を用いて、および／または連続的に、作ることができる。

図２Ｂにおいては、基板１０上に開口したハウジング５００が得られるが、特にハウジング５００がエッチングを用いて得られる時に、それはできる。そのために、ハウジングの底部に、基板１０と接触させつつ、基板とは別の、例えばブロック５０を作ったポリマーのような材料を残留させるようにする。

次に、それぞれのキャビティ１６が、例えば図３Ｂで示されるように、壁１４の頂点１４０に届くまで、機能的な流体１８で選択的に充填される。そしてハウジング５００を充填しないように注意が払われる。これは、好都合には、液滴形態、例えば５ピコリットルのオーダーの体積の液滴をスプレーするプリントヘッド（Ｔ）でのスプレージェットを行なう装備によって行なわれる。ジェットは排他的にキャビティ１６の内部を狙う。

次に、本発明によれば（図２Ｃ）、シール材料２０、好ましくはパリレン、のコンフォーマルな層の堆積が、基板１０に対面する表面、特に壁の頂点１４０、流体１８、およびハウジング５００の表面から成る面上で行なわれる。この堆積は、好ましくは、大気温度で、用途に応じて数ナノメートルから数μｍまでの均一な厚さに、気相（化学気相蒸着としてのＣＶＤ堆積）で行なわれる。コンフォーマルな堆積は、基板１０の平らな表面１００（図２における）から成るハウジングの底部５００ｂの上だけでなく、それの内壁５００ａに沿っても、シール層の堆積を可能にする。

このように、シール材料２０の接着は、壁の頂点１４０の上とブロック５０のハウジング５００内側に共に、すなわちそれの内壁５００ａに沿って、また底部５００ｂにおいて、成される。シール材料２０の接着は、より大きな表面積（壁全体の表面積に実質的に等しく、それに対する頂点の表面積に対して、ブロック５０のそれら５００ａと５００ｂが付加される）に製造され、それは、単に壁１４の頂点において薄膜をラミネートすることよりもずっと有効である。

本発明の代案の一実施形態では、ポリマーのような他の材料７０を、ハウジング５００内の、シール材料２０の層の表面上に、好ましくはハウジング５００内の残余の体積部分Ｖが充填されるまで堆積することができる。この代案の実施形態は、ハウジング５００内の残余の体積部分Ｖの存在が受け入れ難い光学的干渉（拡散、回折など）をもたらしうるような光学用途に対して特に有利でありうる。この場合、機能的な流体１８と同じ光学的屈折率をもった材料７０が選択されることになるであろう。

この材料７０の堆積は、残余の体積部分Ｖのみを充填するように注意を払うことによって、例えば材料ジェットプリンタなどを用いた局所的な堆積により行なうことができる（図３Ｄ）。あるいは、特に充填される体積部分が非常に小さいならば、均一な材料７０の第３の層がシール層２０の上に得られるまで、例えばスピンコート堆積および堆積された材料の硬化を用いてこれを行なうことができる（図２Ｄａ）。

例えばそれは、スピナーに適用され、また温度的に硬化させられた感光性ポリマーから成りうる。この例では、ハウジング５００の残余の体積部分Ｖを充填することを容易にし、そして、特にブロックに捕獲されうる気泡を追い出すことを容易にするために、その適用後およびポリマー硬化の前に真空を創出することができる。

それから、１つ以上の追加的な層を、用途に応じて堆積することができる。例えば光学的の用途の場合には、耐衝撃性、耐引っかき性、着色機能、耐眩光性(glare-proof)、耐汚染性などの機能を備えた層を想定できよう。

当然、これらの実施形態は専ら指針として与えられただけであって、種々の選定を、本発明による方法またはデバイスに含めるように、共に組み合わせることもありうる。

従って本発明は、特に薄膜、受光偏光薄膜（フィルム）、液晶ディスプレイスクリーンなど、の製造のための光学の分野において多用な用途を有する。さらに一般的には、例えば流体チャネル、マイクロセンサ、アクチュエータなどを製造するための、マイクロメートルを有する気密なキャビティ内に流体を封入することが要求される何らかの分野に適用できる。

フランス特許出願 ＦＲ ０６ ５０４６６号明細書（特許文献２）による方法の１つの実施形態のシールを示す。 本発明による方法の実施形態を示す。 本発明による方法の実施形態を示す。 本発明による方法の実施形態を示す。 本発明による方法の追加的な有利なステップを示す。 本発明による方法の追加的な有利なステップを示す。 本発明によるデバイスの他の実施形態を示す。 本発明によるデバイスの他の実施形態を示す。 本発明によるブロックの種々の他のレイアウトを示す。 本発明によるブロックの種々の他のレイアウトを示す。 本発明によるブロックの種々の他のレイアウトを示す。 本発明によるブロックの種々の他のレイアウトを示す。 本発明によるブロックの２つの有利な分布モードを示す。 本発明によるブロックの２つの有利な分布モードを示す。

符号の説明

５ チャネル
１０ 基板
１４ 壁
１６ キャビティ
１８ 流体
２０ シール層（シール材料）
５０、６０ ブロック（マイクロキャビティ）
７０ 材料
１００ 表面
１４０ 頂点
５００ ハウジング
５００ａ 内壁
５００ｂ 底部

Claims (26)

1. 材料（１０）の第１の層と、シール層を形成する材料（２０）の第２の層と、壁（１４）と、材料の第１および第２の層および前記壁によって限定され、少なくとも部分的に流体（１８）で充填された気密なキャビティ（１６）と、材料（１０）の第１の層に強固に接続され、前記第１の層に対して前記第２の層が固定されるように第２の層（２０）の材料で少なくとも部分的（Ｖ）に充填されたハウジング（５００）を規定するブロック（５０，６０）とを、有することを特徴とするデバイス（２２）。
2. 壁（１４）とブロック（５０，６０）とは実質的に同じ高さを持つことを特徴とする請求項１に記載のデバイス（２２）。
3. いくつかのブロック（５０)の少なくとも１つの部分が壁（１４）を形成することを特徴とする請求項１または２に記載のデバイス（２２）。
4. すべてのブロック（５０）が部分的に壁（１４）を形成することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のデバイス（２２）。
5. ブロック（５０）の少なくとも一部がいくつかの壁（１４）の交点に位置していることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のデバイス（２２）。
6. ブロック（５０）の少なくとも一部が壁（１４）に隣接していることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のデバイス（２２）。
7. 第２の層（２０）は、ハウジング（５００）において第１の層（１０）と接触することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載のデバイス（２２）。
8. キャビティ（１６）は所定の光学特性をもった機能的な流体（１８）で充填されることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載のデバイス。
9. 流体（１８）は感光性または熱感応性流体、あるいは決定された光学的屈折率を持った流体であることを特徴とする請求項８に記載のデバイス。
10. 第２の層（２０）の材料はパリレンであることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載のデバイス。
11. 第２の層（２０）の材料はハウジング内およびキャビティ上にコンフォーマルな方法で堆積されることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載のデバイス。
12. ハウジング（５００）は第２の層（２０）の材料で完全に充填されることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載のデバイス。
13. ハウジング（５００）は第２の層（２０）の材料で部分的に充填されることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載のデバイス。
14. 第２の層（２０）の材料で部分的に充填されたハウジングは、ある材料（７０）で充填されることを特徴とする請求項１３に記載のデバイス。
15. 材料（７０）は機能的な流体（１８）と同じ光学的屈折率を持つことを特徴とする請求項１４に記載のデバイス。
16. 機能的な流体（１８）と同じ光学的屈折率を持ち、ブロック（５０）のハウジング（５００）を充填する材料（７０）は、材料（２０）の第２の層の上に重ねられた材料の第３の層（７０）を形成することを特徴とする請求項１５に記載のデバイス。
17. 壁（１４）によって分離された機能的な流体を有するキャビティ（１６）が備えられたデバイス（２２）を製造するための方法であって、以下のステップ：
    ・ある構造（１０）の上にキャビティ（１６）を規定する壁（１４）を製造するステップと、
    ・壁（１４）に接触する前記構造の面（１００）の上に、少なくとも１つのハウジング（５００）を規定するブロック（５０）を製造するステップと、
    ・機能的な流体（１８）によってキャビティ（１６）を充填するステップと、
    ・機能的な流体（１８）で充填されたキャビティ（１６）をシールし、ハウジング（５００）の内部を少なくとも部分的に占有するシール材料（２０）の連続的な層を、前記構造（１０）に対して前記シール材料（２０）が固定されるようにコンフォーマルに堆積するステップと、
    を有することを特徴とする方法。
18. シール材料（２０）の連続的な層のコンフォーマルな堆積は、パリレン堆積であることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
19. パリレン堆積はＣＶＤ堆積であり、続いて環境条件の下での重合が行なわれることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
20. ブロック（５０）は、壁（１４）と同じ方法を使って、また同時に製造されることを特徴とする請求項１７から１９のいずれか１項に記載の方法。
21. 壁および／またはブロックは、樹指フォトリソグラフィを用いて作られることを特徴とする請求項１７から２０のいずれか１項に記載の方法。
22. 壁および／またはブロックの製造は、ポリマー層のマスクを介するエッチングを用いて行なわれることを特徴とする請求項１７から２０のいずれか１項に記載の方法。
23. キャビティ（１６）の充填は、プリントヘッド（Ｔ）を使った液滴形態での機能的な流体（１８）のジェット技術を用いて行なわれることを特徴とする請求項１７から２２のいずれか１項に記載の方法。
24. キャビティ（１６）をシールするブロック（５０）のハウジング（５００）内のシール材料（２０）の堆積の後に、シール材料（２０）でコーティングされたハウジング（５００）の残余の体積部分（Ｖ）が、ある材料（７０）で充填されることを特徴とする請求項１７から２３のいずれか１項に記載の方法。
25. キャビティ（１６）をシールするブロック（５０）のハウジング（５００）内のシール材料（２０）の堆積の後に、ある材料（７０）が、シール材料（２０）の層の上と、ブロック（５０）のハウジング（５００）内の残余の体積部分（Ｖ）と、に堆積されることを特徴とする請求項１７から２３のいずれか１項に記載の方法。
26. 材料（７０）の堆積はスピンコーティングタイプ技術を用いて行なわれ、続いて材料の硬化が行なわれることを特徴とする請求項２５に記載の方法。

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